JP2003229914A

JP2003229914A - 保守システム

Info

Publication number: JP2003229914A
Application number: JP2002024543A
Authority: JP
Inventors: Yoshiaki Koyanagi; 義昭小柳; Katsuhiko Matsuda; 克彦松田
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2002-01-31
Filing date: 2002-01-31
Publication date: 2003-08-15

Abstract

(57)【要約】【課題】ユーザの内部情報に対するセキュリティを確
保しつつ，ベンダーによる遠隔地からの基板処理装置の
保守を行う。【解決手段】ユーザ企業Ａが基板処理事業部Ｄ１を含
む複数の事業部Ｄ１〜Ｄ４を備え，ユーザ企業Ａの内部
ネットワークＮが事業部Ｄ１〜Ｄ４毎の複数の事業部サ
ブネットワークＥ１〜Ｅ４を備え，事業部サブネットワ
ークＥ１〜Ｅ４がＷＡＮ３により互いに通信可能に接続
されている場合に，ベンダー企業Ｂの保守用コンピュー
タ２０と基板処理事業部Ｄ１の事業部サブネットワーク
Ｅ１とを専用線４で接続する。事業部サブネットワーク
Ｅ１とＷＡＮ３との結合部にファイアウォール５を設置
する。ベンダー企業Ｂと事業部サブネットワークＥ１内
の基板処理装置との間で保守に関する情報を交換し，そ
の一方でベンダー企業Ｂ側の他の事業部サブネットワー
クＥ２〜Ｅ４へのアクセスを制限する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，基板処理装置の保
守システムに関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造工程における，例
えばフォトリソグラフィー工程は，ウェハにレジスト液
を塗布するレジスト塗布ユニット，ウェハを現像処理す
る現像処理ユニット，ウェハを熱処理する熱処理ユニッ
ト，各ユニット間のウェハの搬送を行う搬送ユニット等
の複数のユニットが搭載された塗布現像処理装置で行わ
れている。

【０００３】ところで，稼動中の上記塗布現像処理装置
に不具合が発生した場合には，通常は塗布現像処理装置
のユーザー企業側のプロセス担当者が当該装置のベンダ
ー企業側のエンジニアに電話等で連絡し，当該エンジニ
アがユーザ企業側に赴いて対処していた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら，世界一
市場化した今日では，塗布現像処理装置の販売地域は海
外等を含んだ広範囲に及び，ベンダー企業のエンジニア
が当該装置が設置されている工場に到着するまでに多大
な時間を要する場合がある。また，塗布現像処理装置
は，立ち上げに時間やエネルギがかかるため，２４時間
連続稼動させることが多く，夜間にトラブル等が発生し
た場合には，エンジニアが到着するまでにさらに時間が
かかっていた。また，同時に複数箇所で故障が発生した
場合には，複数人で対応せざるを得ず，中には経験が少
なく，未熟なエンジニアも含まれるため，その対応の質
にばらつきが生じることもあった。さらに，電話等の連
絡だけでは，十分な情報を得ることができず，直ぐには
トラブルの状況を正確に把握できないため，迅速で適切
な対応を採るのは困難であった。

【０００５】かかる問題を解決するために，例えばイン
ターネット等を用いて情報を交換し，遠隔地から迅速か
つ適切に塗布現像処理装置を保守できる保守システムが
提案できる。この場合，ベンダー企業側の例えば保守用
コンピュータが，ユーザ企業内で構築されている内部ネ
ットワークにアクセスする必要がある。

【０００６】ところで，ユーザ企業が複数の事業部を有
する，例えば多角的企業である場合，内部ネットワーク
は，通常図１６に示すように各事業部を統括管理する本
部のホストコンピュータ１７０と，複数の事業部毎に構
築されたサブネットワークＸ _１〜ＸｎとがＷＡＮ（Ｗｉ
ｄｅＡｒｅａＮｅｔｗｏｒｋ）１７１によって接続
されたネットワーク形態を有している。そして，外部で
ある他の企業との通信は，専ら本部のホストコンピュー
タ１７０がファイアウォール１７２を介してインターネ
ットＩ等に接続することによって行われる。このように
内部ネットワークの出入り口を厳重に管理し，外部から
の不正なアクセスを防止している。

【０００７】このようなユーザ企業に対して，上述の保
守システムを実現するために，ユーザ企業側がベンダー
企業側の保守用コンピュータに対してホストコンピュー
タ１７０へのアクセス権を許諾した場合，ベンダー企業
の保守用コンピュータが半導体部門以外の事業部にも進
入できる可能性がでてくる。このため，ユーザ企業内の
企業情報が外部に漏れる可能性がある。特に，他の事業
部が，機密事項の多い軍需関連の軍需事業部や音楽関連
のの音楽事業部の場合，そのユーザ企業は，ベンダー企
業のアクセスを許すことにより，多大な損害を受ける可
能性がある。したがって，かかるユーザ企業がこのよう
なベンダー企業のアクセスを受諾することは考えにく
く，保守システムの実現は難しくなる。

【０００８】本発明は，かかる点に鑑みてなされたもの
であり，複数の事業部としての事業セクションを備えた
ユーザ企業等のユーザにおいて，機密情報に対するセキ
ュリティを確保しつつ，ベンダー企業等のベンダーによ
る遠隔地からの塗布現像処理装置等の基板処理装置の保
守を実現する保守システムを提供することをその目的と
する。

【０００９】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明によれ
ば，ユーザの基板処理装置を保守するための保守システ
ムであって，前記ユーザは，基板の処理を行う基板処理
事業セクションのサブネットワークとその他の事業セク
ションのサブネットワークとが，互いに通信可能に接続
された内部ネットワークを有し，前記基板処理事業セク
ションのサブネットワークは，前記基板処理装置を含
み，このシステムには，インターネット又は専用線によ
って前記基板処理事業セクションのサブネットワークに
接続され，当該基板処理事業セクションのサブネットワ
ークと前記基板処理装置の保守に関する情報を通信する
ベンダー側の保守手段と，前記保守手段が前記基板処理
事業セクションのサブネットワークを介して前記基板処
理事業セクション以外の他のサブネットワークにアクセ
スすることを制限するアクセス制限手段と，が備えられ
ていることを特徴とする保守システムが提供される。な
お，前記保守に関する情報には，ユーザ側からベンダー
側に送信される基板処理装置の情報，ベンダー側からユ
ーザ側に送信される不具合の対処策等の保守情報が含ま
れる。この基板処理装置の情報には，基板処理装置自体
の稼動状況を示す情報，基板処理装置内の個々のユニッ
トの稼働状況を示す情報，前記ユニットにおける計測情
報，駆動情報及びこれらの履歴情報，基板処理装置とユ
ニットに使用される部材等のメンテナンス情報及び処理
された基板の検査情報等が含まれる。保守情報には，基
板処理装置の設定の変更，調節，クリーニング命令，部
材の交換，ソフトウェアの交換，基板処理装置のユニッ
トの設定の変更，調節，クリーニング命令，部材の交換
等の情報が含まれる。また，「保守」には，基板処理装
置や前記ユニットの稼働状態，基板の処理状態を監視
し，必要に応じて対処する，いわゆる「管理」も含まれ
る。

【００１０】本発明によれば，ベンダー側の保守手段が
ユーザ側の基板処理事業セクションのサブネットワーク
に直接アクセスできるので，インターネット又は専用線
を用いたベンダーの保守サービスが実現できる。このよ
うな保守サービスの実現により，ベンダー側のエンジニ
アがユーザ側に赴く必要がなく，迅速に基板処理装置の
保守を行うことができる。また，常に熟練したエンジニ
アが対応できるので，より的確な保守作業を行うことが
できる。さらに，２４時間フルタイムの対応が可能にな
る。また，当初から十分な情報を得ることができるの
で，迅速で適切な対応が採れる。一方で，保守手段によ
る基板処理事業セクション以外の他のサブネットワーク
へのアクセスを制限できるので，他の事業セクションの
内部情報がベンダー側に流出すること防止できる。換言
すると，本発明によれば，ユーザの内部ネットワークの
セキュリティを確保しつつ，迅速かつ的確な基板処理装
置の保守を行うことができる。

【００１１】前記基板処理事業セクションのサブネット
ワークは，前記アクセス制限手段を介して前記他の事業
セクションのサブネットワークに接続されていてもよ
い。こうすることによって，ベンダー側の保守手段であ
る例えば保守用コンピュータが前記インターネット，前
記基板処理事業セクションのサブネットワークを介して
他の事業セクションのサブネットワークにアクセスする
ことを防止できる。

【００１２】前記保守システムは，前記基板処理事業セ
クションのサブネットワークに含まれ，基板処理装置の
情報を蓄積する情報蓄積手段を備えていてもよい。この
情報蓄積手段により，基板処理装置の情報が蓄積される
と，ベンダー側のエンジニア等の管理者がその蓄積され
た情報を基に不具合等の対処策を考えることが可能にな
る。したがって，ベンダー側の管理者がより多くの情報
を基に対処策を考えることができるので，当該管理者が
不具合に対してより的確な対応を選択できる。

【００１３】前記保守システムは，前記基板処理事業セ
クションのサブネットワークに含まれ，前記情報蓄積手
段の情報を収集し前記保守手段に送信する情報収集送信
装置を備えていてもよい。これにより，ベンダー側の管
理者が前記情報蓄積手段に蓄積された情報を迅速かつ十
分に入手することができる。

【００１４】前記基板処理装置は，前記基板処理事業セ
クションの工場に設置されており，前記基板処理事業セ
クションのサブネットワークは，前記工場の工場内ネッ
トワークを備え，前記工場内ネットワークは，前記保守
手段に対して情報を通信する外部通信手段と前記基板処
理装置とを含み，さらに前記アクセス制御手段を介して
当該工場内ネットワーク以外の前記基板処理事業セクシ
ョンのサブネットワークに接続されていてもよい。かか
る場合，基板処理装置の設置された工場の工場内ネット
ワークと，それ以外の前記基板処理事業セクションのサ
ブネットワークとの間でアクセスの制限を行うことがで
きる。つまり，ベンダーの保守手段が前記インターネッ
ト等の伝送路と，前記外部通信手段を介して工場内ネッ
トワークに進入し，当該工場内ネットワークからその他
の領域の基板処理事業セクションのサブネットワークに
進入することを防止できる。この結果，保守手段による
基板処理事業セクションのサブネットワーク外の他のサ
ブネットワークへの接続も防止できる。この発明では，
メンテナンスに必要な最小単位の工場内ネットワークに
のみベンダーのアクセスを許容するので，ユーザ側の機
密情報の安全がさらに確実に保たれる。

【００１５】また，上述の基板処理装置が工場内ネット
ワークに含まれる場合の保守システムは，前記工場内ネ
ットワークに含まれ，基板処理装置の情報を蓄積する情
報蓄積手段を備えていてもよく，また，この情報蓄積手
段の情報を収集し前記保守手段に送信する情報収集送信
装置を備えていてもよい。また，前記情報蓄積手段は，
前記基板処理装置に設けられていてもよい。

【００１６】前記保守手段は，前記保守手段から送信さ
れた情報を受信し，当該受信した情報に基づいて前記基
板処理装置を制御する受信制御手段を備えていてもよ
い。また，前記アクセス制限手段は，ファイアウォール
であってもよい。かかる場合，保守手段からのアクセス
を確実に防ぐことができるので，ユーザのセキュリティ
をさらに向上できる。

【００１７】前記基板処理装置は，基板に所定の液を供
給して処理を行う液処理ユニットと，基板の熱処理を行
う熱処理ユニットと，これらのユニットに対して基板を
搬送するための搬送ユニットと，を少なくとも備え，前
記保守手段は，前記ユニットの情報を通信してもよい。
このように複数のユニットを備えた基板処理装置は，装
置の立ち上げに手間や費用がかかることから通常２４時
間連続して稼動する。それ故２４時間フルタイムの保守
が可能なインターネット等を用いた保守システムに，当
該基板処理装置を採用するメリットは大きい。また，基
板処理装置は，基板上に薄膜を形成するための薄膜形成
ユニット，基板に対してエッチング処理を行うエッチン
グユニット又は基板を洗浄する洗浄ユニットのいずれか
を備え，前記保守手段は，前記ユニットの情報を通信す
るようにしてもよい。なお，前記ユニットの情報には，
ユニットの稼働状況を示す情報，ユニットにおける計測
情報，駆動情報及びこれらの履歴情報及びユニットに使
用される部材等のメンテナンス情報，処理された基板の
検査情報等が含まれる。

【００１８】前記保守システムは，前記基板処理装置に
おける保守の必要な保守部分を撮像できる撮像手段を備
え，前記保守手段は，前記撮像手段による撮像情報を通
信するようにしてもよい。かかる場合，ベンダー側の管
理者が，不具合の発生した基板処理装置を視覚的に捉え
ることができ，より適切な対処法を選択できる。前記保
守部分には，例えば破損，故障した基板処理装置内の部
品，部材や基板処理装置内のユニットの部品，部材等が
含まれる。

【００１９】

【発明の実施の形態】図１は，本実施の形態にかかる保
守システム１のネットワーク構成を示す説明図である。
この保守システム１は，特定の内部ネットワークＮを有
するユーザ企業Ａの基板処理装置としての塗布現像処理
装置を，遠隔地のベンダー企業Ｂ側から保守するための
保守システムである。ユーザ企業Ａは，例えば企業全体
を総括管理する本部Ｃと，複数，例えば４つの事業セク
ションとしての事業部Ｄ１〜Ｄ４から構成されており，
この内事業部Ｄ１は，ウェハＷの処理を行うウェハ処理
事業部である。また，事業部Ｄ２は，軍需事業部，事業
部Ｄ３は，音楽事業部，事業部Ｄ４は，電気機器事業部
である。

【００２０】例えばユーザ企業Ａの各事業部Ｄ１〜Ｄ４
には，各事業部Ｄ１〜Ｄ４内で情報を交換するためのサ
ブネットワークとしての事業部サブネットワークＥ１〜
Ｅ４がそれぞれ構築されている。なお，この内ウェハ事
業部Ｄ１の事業部サブネットワークＥ１は，ウェハ事業
部サブネットワークである。各事業部サブネットワーク
Ｅ１〜Ｅ４は，本部Ｃのホストコンピュータ２に例えば
ＷＡＮ３を介して接続されている。つまり，本部Ｃと各
事業部サブネットワークＥ１〜Ｅ４間，各事業部サブネ
ットワークＥ１〜Ｅ４間は，通信可能になっている。し
たがって，ユーザ企業Ａの内部ネットワークＮは，各事
業部Ｄ１〜Ｄ４の事業部サブネットワークＥ１〜Ｅ４
と，ＷＡＮ３と，ホストコンピュータ２によって主に構
成されている。

【００２１】本実施の形態の保守システム１は，ウェハ
処理事業部Ｄ１の事業部サブネットワークＥ１と外部の
ベンダー企業Ｂとを専用線４を介して接続し，当該事業
部サブネットワークＥ１とＷＡＮ３との間にベンダー企
業Ｂ側からのアクセスを制限するファイアウォール５を
設けたものである。

【００２２】かかる保守システム１をより具体的に説明
すると，図２に示すようにウェハ処理事業部Ｄ１の事業
部サブネットワークＥ１には，その事業本部Ｆに事業管
理用コンピュータ６が設置されている。この事業管理用
コンピュータ６とホストコンピュータ２とは，ＷＡＮ３
を介して接続されている。上述のファイアウォール５
は，この事業管理用コンピュータ６とＷＡＮ３との接続
部に設置されており，事業部サブネットワークＥ１側か
らＷＡＮ３側へのアクセスを制限している。

【００２３】ウェハ処理事業部Ｄ１は，後述する塗布現
像処理装置が設置された複数箇所，例えば３箇所の工場
Ｈ１〜Ｈ３を有している。また，各工場Ｈ１〜Ｈ３に
は，塗布現像処理装置の情報を収集し送信したり，受信
した情報で塗布現像処理装置を制御したりする情報収集
送信装置，受信制御手段及び外部通信手段としてのＡＧ
Ｃ（ＡｄｖａｎｃｅｄＧｒｏｕｐＣｏｎｔｒｏｌｌ
ｅｒ）１０がそれぞれ設置されている。この各ＡＧＣ１
０は，例えば事業管理用コンピュータ６にＷＡＮ１１を
介して接続されている。したがって，事業管理用コンピ
ュータ６は，ＡＧＣ１０との間で情報を通信し，例えば
各工場Ｈ１〜Ｈ３内の塗布現像処理装置を総括管理する
ことができる。また，事業管理用コンピュータ６は，工
場Ｈ１〜Ｈ３間での情報交換を行い複数の工場に渡る品
質管理等を行うことができる。

【００２４】また，各工場Ｈ１〜Ｈ３には，図３に示す
ように例えば複数の塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎが設置
されており，工場Ｈ１〜Ｈ３内には，それぞれ塗布現像
処理装置Ｍ１〜ＭｎとＡＧＣ１０とを接続するＬＡＮ
（ＬｏｃａｌＡｒｅａＮｅｔｗｏｒｋ）１５が構築
されている。また，ＬＡＮ１５には，専用線４に接続す
るための中継装置としてのルータ１６が繋がれている。
これによって，ベンダー企業Ｂ側とＡＧＣ１０との通信
が可能になる。なお，ルータ１６には，ベンダー企業Ｂ
側に対するアクセス制限を設定し，例えば後述する保守
用コンピュータ２０のアクセスだけを許容し，その他の
コンピュータからの不正なアクセスを防止する。また，
本実施の形態におけるウェハ事業部Ｄ１の事業部サブネ
ットワークＥ１は，事業管理用コンピュータ６と，ＷＡ
Ｎ１１と，ＬＡＮ１５と，塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎ
と，ＡＧＣ１０と，ルータ１６によって主に構成されて
いる。また，本実施の形態における工場内ネットワーク
は，ＬＡＮ１５と，塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎと，Ａ
ＧＣ１０と，ルータ１６とによって主に構成されてい
る。

【００２５】一方，ベンダー企業Ｂ側には，図２に示す
ようにユーザ企業Ａの各工場Ｈ１〜Ｈ３に設置された塗
布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎを保守するための保守手段と
しての保守用コンピュータ２０が備えられている。この
保守用コンピュータ２０は，例えばルータ２１によって
専用線４に接続されており，専用線４を介して，例えば
各工場Ｈ１〜Ｈ３のＡＧＣ１０と通信できる。なお，ル
ータ２１には，ユーザ企業Ａに対するアクセス制限を設
定し，例えばＡＧＣ１０のアクセスだけを許容し，その
他の不正なアクセスを防止する。

【００２６】以下，上述の塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍ
ｎ，ＡＧＣ１０，保守用コンピュータ２０，事業管理用
コンピュータ６及びファイアウォール５の構成について
詳しく説明する。

【００２７】先ず，塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎの構成
について，塗布現像処理装置Ｍ１を例に採って説明す
る。塗布現像処理装置Ｍ１は，半導体ウェハＷの製造工
程におけるフォトリソグラフィー工程を連続して行う基
板処理装置である。図４は，塗布現像処理装置Ｍ１の構
成の概略を示す斜視図であり，図５は，塗布現像処理装
置Ｍ１の構成の概略を示す平面図である。

【００２８】例えば塗布現像処理装置Ｍ１は，図４，図
５に示すように例えば２５枚のウェハＷをカセット単位
で外部から塗布現像処理装置Ｍ１に対して搬入出した
り，カセットＣに対してウェハＷを搬入出したりするカ
セットステーション３０と，ウェハＷの処理が枚葉式で
行われる各種処理ユニットを複数有する処理ステーショ
ン３１と，この処理ステーション３１に隣接して設けら
れている図示しない露光処理装置との間でウェハＷの受
け渡しを行うインターフェイス部３２とを一体に接続し
た構成を有している。

【００２９】カセットステーション３０は，図５に示す
ようにカセット載置台３３に載置されたカセットＣから
ウェハＷを搬入出し，処理ステーション３１との間でウ
ェハＷを搬送するウェハ搬送体３４を有している。ま
た，カセットステーション３０には，図４に示すように
塗布現像処理装置Ｍ１の入出力部３５，後述するコント
ロールセクション３６が設けられている。入出力部３５
は，例えばポインティングデバイスであるタッチスクリ
ーンになっており，塗布現像処理装置Ｍ１の各種設定値
を作業員によって手動で設定，変更することができる。
また，入出力部３５は，ＡＧＣ１０からの情報を画像デ
ータとして表示する表示機能を有する。

【００３０】処理ステーション３１には，図５に示すよ
うにその中心部に搬送ユニットとしての主搬送ユニット
４０が設けられており，この主搬送ユニット４０の周辺
には各種処理ユニットが多段に配置された複数の処理ユ
ニット群G1，G2，G3，G4が設けられている。例えば第１
及び第２の処理ユニット群G1，G2は，塗布現像処理装置
Ｍ１の正面側に配置され，第１の処理ユニット群Ｇ１に
は，ウェハＷに所定の処理液を供給して処理を行う液処
理ユニット，例えば図６に示すようにウェハＷにレジス
ト液を塗布するレジスト塗布ユニット４１及びウェハＷ
を現像処理する現像処理ユニット４２が下から順に２段
に設けられている。第２の処理ユニット群Ｇ２も同様
に，レジスト塗布ユニット４３及び現像処理ユニット４
４が下から順に設けられている。

【００３１】処理ステーション３１の第３の処理ユニッ
ト群G3は，図５に示すようにカセットステーション３０
に隣接して配置されている。第３の処理ユニット群Ｇ３
には，図７に示すように例えばウェハＷを冷却処理する
クーリングユニット５０，レジスト液とウェハＷとの定
着性を高めるためのアドヒージョンユニット５１，ウェ
ハＷの受け渡しを行うためのエクステンションユニット
５２，レジスト液中の溶剤を蒸発させるためのプリベー
キングユニット５３とが下から順に例えば４段に積み重
ねられている。

【００３２】第４の処理ユニット群G4は，インターフェ
イス部３２に隣接して配置されている。第４の処理ユニ
ット群Ｇ４には，例えばクーリングユニット５４，載置
したウェハＷを自然冷却させるエクステンション・クー
リングユニット５５，エクステンションユニット５６，
露光後の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキ
ングユニット５７，現像処理後の加熱処理を行うポスト
ベーキングユニット５８が下から順に例えば５段に積み
重ねられている。なお，上述のクーリングユニット５
０，５４，プリベーキングユニット５３，エクステンシ
ョン・クーリングユニット５５，ポストエクスポージャ
ーベーキングユニット５７及びポストベーキングユニッ
ト５８は，熱処理系の熱処理ユニットである。

【００３３】インターフェイス部３２には，図５に示す
ように例えばウェハ搬送体５９と周辺露光ユニット６０
が設けられている。ウェハ搬送体５９は，第４の処理装
置群G4に属するエクステンション・クーリングユニット
５５，エクステンションユニット５６，周辺露光ユニッ
ト６０及び図示しない露光処理装置に対してアクセスし
て，各々に対してウェハＷを搬送できるように構成され
ている。周辺露光ユニット６０は，ウェハＷの露光処理
前にウェハＷの外周を露光するものであり，露光のため
の光を照射する照射部やウェハＷの位置を認識するＣＣ
Ｄセンサ等を有している。

【００３４】上述したコントロールセクション３６は，
図８に示すようにコントロールボックス８０と，コント
ロールボックス８０で授受されている情報を蓄積する情
報蓄積手段としてのデータボックス８１を有している。

【００３５】コントロールボックス８０は，図示しない
制御部等を備え，塗布現像処理装置Ｍ１本体や上述した
塗布現像処理装置Ｍ１内の各種ユニット，すなわち主搬
送ユニット４０及び各処理ユニット４１〜４４，５０〜
５８，６０等を制御するものであり，設定された塗布現
像処理のプロセスフローやレシピ等に基づいて主にウェ
ハＷ処理のレシピ管理，ウェハＷの搬送管理等を行う。

【００３６】コントロールボックス８０は，例えば図示
しない情報線によって入出力部３５に接続されており，
作業員等により入力部３５に入力された信号は，コント
ロールボックス８０に出力され，各種制御の設定値とし
て認識される。コントロールボックス８０は，ＬＡＮ１
５によってＡＧＣ１０に接続されており，ＡＧＣ１０が
コントロールボックス８０に対して指示信号を出力し，
ＡＧＣ１０によってもコントロールボックス８０の設定
値を変更等できるようになっている

【００３７】また，コントロールボックス８０は，予め
設定されている設定値，パラメータ値等に基づいて各ユ
ニットの駆動部等を制御することができ，また，各ユニ
ットのセンサ等の検出情報を入手し，当該検出情報に基
づいて各ユニットを制御することができる。

【００３８】コントロールボックス８０には，例えば塗
布現像処理装置Ｍ１の不具合の発生を検知するアラーム
機能が設けられている。不具合には，例えばウェハＷの
処理環境に関する数値がしきい値を越えた場合，塗布現
像処理装置Ｍ１や各ユニットが故障した場合，塗布現像
処理装置Ｍ１や各ユニットが停止した場合，ウェハＷが
破損，落下した場合等が含まれる。コントロールボック
ス８０は，このアラーム機能により不具合を検出する
と，その不具合に関するアラーム情報を例えばＡＧＣ１
０に送信できる。アラーム情報には，例えば不具合の種
類，内容例えばレベル，不具合を起こしたユニット番
号，部材番号等が含まれる。なお，アラーム情報の送信
は，図示しない通信部で行ってもよいし，後述するデー
タボックス８１の通信部９３により行ってもよい。

【００３９】データボックス８１は，コントロールボッ
クス８０と接続されており，コントロールボックス８０
の情報を入手できる。また，データボックス８１は，Ｌ
ＡＮ１５に接続されており，データボックス８１で蓄積
されている所定の情報をＬＡＮ１５を介してＡＧＣ１０
に出力できる。

【００４０】データボックス８１は，具体的には図９に
示すように，例えば蓄積部９０，記憶部９１，制御部９
２及び通信部９３とから構成される。蓄積部９０は，コ
ントロールボックス８０からデータボックス８１内に入
力された情報を蓄積する複数の蓄積領域を有し，当該情
報は，例えば種類に応じて塗布現像処理装置Ｍ１全体に
関する情報や各ユニットの情報毎に分けて蓄積できる。

【００４１】蓄積部９０には，例えば塗布現像処理装置
Ｍ１全体に関する情報として，ウェハＷのレシピに関す
るステップ・タイムチャートデータ及びウェハＷの搬送
タクトデータ及び塗布現像処理装置Ｍ１内の温度，湿
度，風速，圧力トレースデータ等が蓄積され，主搬送ユ
ニット４０に関する情報として移動パルス累積データ及
び移動速度データ，レジスト塗布ユニット４１，４２の
情報としてウェハＷの回転速度トレースデータ，レジス
ト液をウェハＷに向けて吐出するためのレジスト液吐出
ノズルの搬送データ，レジスト液の吐出流量データ，レ
ジスト塗布ユニット４１，４２のケーシング内の温湿度
トレースデータ，塗布時にウェハＷを収容するカップ内
の風速データ，カップ自体の温度データ及びウェハＷを
保持するスピンチャックの上下移動速度データ等が蓄積
される。

【００４２】また，蓄積部９０には，プリベーキングユ
ニット５３，ポストエクスポージャーベーキングユニッ
ト５７及びポストベーキングユニット５８等の加熱系の
ユニットやクーリングユニット５０，５４，エクステン
ションクーリングユニット５５等の冷却系のユニットに
関する情報として，ウェハＷを載置するプレートの温度
トレースデータ，ウェハＷの上方を覆うカバーの上下移
動速度データ，加熱系及び冷却系のユニット内の温度，
湿度，風速トレースデータ及びウェハＷを昇降させる昇
降ピンの移動速度データ等が蓄積される。特に，加熱系
のユニットであって，熱板に気体を吹き付けて冷却する
機能を有するものについては，当該気体の温度，流量，
湿度のデータ等を蓄積してもよい。

【００４３】さらに，周辺露光ユニット６０に関する情
報として，照度トレースデータ及びＣＣＤセンサによる
ウェハＷの位置データ等が蓄積され，また，その他の情
報として，塗布現像処理装置Ｍ１内で使用される全処理
液の温度トレースデータ，各処理液の貯留されたタンク
圧のトレースデータ，各ユニットの排気圧トレースデー
タ，全気体系の圧力トレースデータ，処理ウェハに対す
るセンサ等の供給電力トレースデータ，処理ウェハの状
態に関するデータ，各種画像データ及び上記データの各
種Ｌｏｇ等が蓄積部９０に蓄積される。

【００４４】記憶部９１には，例えばコントロールボッ
クス８０から受け取った情報をその種類に応じて分別
し，蓄積部９０の所定の蓄積領域に蓄積させる情報蓄積
プログラム，当蓄積領域から所定の情報を取り出し，Ａ
ＧＣ１０に送信する情報送信プログラム等が記憶されて
いる。なお，記憶部９１には，例えばＲＡＭやＲＯＭ等
が用いられる。

【００４５】制御部９２は，コントロールボックス８０
から情報を受け取ると，記憶部９１から情報蓄積プログ
ラムを読み出して実行する。また，例えばＡＧＣ１０か
らの蓄積情報返信信号に従って，記憶部９１から情報送
信プログラムを読み出し実行する。なお，制御部９２に
は，例えばＣＰＵ等が用いられる。

【００４６】通信部９３は，ＬＡＮ１５に接続されてお
り，ＡＧＣ１０との間で，信号化された情報を送受信す
ることができる。したがって，ＡＧＣ１０からの指示信
号を受信し，当該指示信号によって読み出された所定の
情報をＡＧＣ１０に送信することができる。なお，通信
部９３には，例えばＬＡＮカード，モデム等が用いられ
る。また，通信部９３による通信には，例えば一般的な
通信プロトコルＴＣＰ／ＩＰが用いられる。

【００４７】次にＡＧＣ１０の構成について説明する。
ＡＧＣ１０は，工場Ｈ１内の各塗布現像処理装置Ｍ１〜
Ｍｎに蓄積された情報を収集し，ベンダー企業Ｂ側に送
信するものであり，また，ベンダー企業Ｂ側からの保守
に関する情報を受信し，塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎに
提供し，塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎを保守，制御する
ものである。ＡＧＣ１０は，例えば図１０に示すように
通信部１００，記憶部１０１及び制御部１０２から主に
構成される。例えば通信部１００にはモデム，記憶部１
０１にはＲＡＭ，制御部１０２にはＣＰＵ等が用いられ
る。

【００４８】通信部１００は，ＬＡＮ１５及びＷＡＮ１
１に接続されており，ＡＧＣ１０は，塗布現像処理装置
Ｍ１〜Ｍｎと，事業管理用コンピュータ６との間で情報
を通信できる。また，ＡＧＣ１０は，ルータ１６，専用
線４を介してベンダー企業Ｂ側の保守用コンピュータ２
０と通信でき，不具合を判断する上で必要となる塗布現
像処理装置Ｍ１〜Ｍｎの蓄積情報等を保守用コンピュー
タ２０に送信したり，また保守用コンピュータ２０から
の保守するための保守情報を受信したりできる。なお，
通信には，例えば一般的な通信プロトコルＴＣＰ／ＩＰ
が用いられる。

【００４９】記憶部１０１には，例えばＡＧＣ１０で受
信した信号，情報を選択し，場合によっては保存して，
所定の信号，情報を送信する情報信号送受信プログラム
が記憶されている。制御部１０２は，ＡＧＣ１０で信号
の受信すると前記情報信号送受信プログラムを読み出し
て実行する。したがって，塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎ
からの例えばアラーム情報を受信し，当該情報に基づい
て塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎに蓄積情報返信信号を送
信し，さらに，それによって返信された蓄積情報を受信
して保守用コンピュータ２０に送信することができる。
また，例えばベンダー企業Ｂ側から送信される塗布現像
処理装置Ｍ１〜Ｍｎを保守するための保守情報を受信
し，この保守情報に基づいて各塗布現像処理装置Ｍ１〜
Ｍｎに制御情報を送信することもできる。

【００５０】次に，ベンダー企業Ｂ側の保守用コンピュ
ータ２０の構成について説明する。保守用コンピュータ
２０は，遠隔地から塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎの蓄積
情報等を入手し，またユーザ企業Ａ側に対し塗布現像処
理装置Ｍ１〜Ｍｎの保守情報を提供するものである。な
お，この保守情報は，具体的には塗布現像処理装置Ｍ１
〜Ｍｎ自体及び各ユニットの設定の変更，調節，クリー
ニング命令，部材の交換，ソフトウェアの交換等の情報
である。

【００５１】保守用コンピュータ２０は，例えば図１１
に示すように通信部１１０，入力部１１１，制御部１１
２，記憶部１１３及び表示部１１４等で主に構成されて
いる。通信部１１０は，ルータ２１を介して専用線４に
接続されており，この通信部１１０は，ＡＧＣ１０に対
して情報を送受信する。入力部１１１は，ベンダー企業
Ｂ側の管理者が，例えば入手した蓄積情報等を基に案出
した不具合等に対する対処法である保守情報を入力する
ためのものである。入力部１１１には，例えばカーソル
キーや数字入力等を備えたキーボードやマウス等のポイ
ンティングデバイスが用いられ，キーボードにおいて押
下されたキーの押下信号やマウスの位置信号を制御部１
１２に出力することができる。

【００５２】制御部１１２は，保守用コンピュータ２０
全体を制御するものであり，例えばＡＧＣ１０や入力部
１１１等からの各種信号に従って，記憶部１１３に記憶
された各種プログラムを読み出し，実行する。また，当
該プログラムの実行により導出された結果を記憶部１１
３の所定領域に格納したり，表示部１１４に表示させた
りできる。なお，制御部１１２には，例えばＣＰＵ等が
用いられる。

【００５３】記憶部１１３には，例えば入手した塗布現
像処理装置Ｍ１〜Ｍｎに関する蓄積情報等を表示部１１
４に表示してベンダー企業Ｂ側の管理者に通知する情報
表示プログラム等が記憶されている。なお，記憶部１１
３は，例えばフラッシュＲＯＭ等の半導体メモリで構成
される。

【００５４】表示部１１４は，例えばこの保守用コンピ
ュータ２０が入手した蓄積情報等をベンダー企業Ｂ側の
管理者等に表示するものであり，表示部１１４には，例
えばドットマトリクスタイプのカラー液晶表示セル若し
くはＣＲＴ（ＣａｔｈｏｄｅＲａｙＴｕｂｅ）等が用
いられる。

【００５５】事業管理用コンピュータ６は，図３に示す
ように通信部１２０を備え，この通信部１２０によっ
て，各工場Ｈ１〜Ｈ３に対して必要な情報を送受信でき
る。したがって，事業管理用コンピュータ６は，例えば
各工場Ｈ１〜Ｈ３のウェハＷの品質管理，発注管理等を
総括管理することができる。また，事業管理用コンピュ
ータ６は，通信装置１２０によってＷＡＮ３を介して本
部Ｃのホストコンピュータ２及び他の事業部サブネット
ワークＥ２〜Ｅ４に対してもアクセスでき，ユーザ企業
Ａ内で必要な情報を交換することができる。なお，事業
管理用コンピュータ６は，その他制御部，記憶部（図示
せず）等の一般的な構成を備えている。

【００５６】ところで，上述したように事業管理用コン
ピュータ６がＷＡＮ３に対して接続されているため，こ
のままでは，ベンダー企業Ｂの保守用コンピュータ２０
までが，ＷＡＮ３を通じてユーザ企業Ａのホストコンピ
ュータ２や他の事業部サブネットワークＥ２〜Ｅ４にア
クセスする可能性が残る。そこで，例えば事業管理用コ
ンピュータ６の通信部１２０は，図２，図３に示すよう
にファイアウォール５を介してＷＡＮ３に接続される。

【００５７】ファイアウォール５は，例えばパスワード
による認証に加えて，アクセスを許可するコンピュータ
を予め登録することにより，登録されていないコンピュ
ータからのアクセスを制限する。例えばファイアウォー
ル５に，ウェハ処理事業部Ｄ１の事業部サブネットワー
クＥ１内の例えばＡＧＣ１０，事業管理用コンピュータ
６をアクセス許可コンピュータとして登録し，ベンダー
企業Ｂの保守用コンピュータ２０をその登録から除外す
る。こうすることにより，図１２に示すように保守用コ
ンピュータ２０による，ＷＡＮ３側のホストコンピュー
タ２や他の事業部サブネットワークＥ２〜Ｅ４へのアク
セスが制限され，ホストコンピュータ２や他の事業部サ
ブネットワークＥ２〜Ｅ４の重要な企業情報が外部に漏
れることを防止できる。なお，ファイアーウォール５の
方式は，パケットフィルタリング方式，アプリケーショ
ンゲートウェイ方式，トランスポートゲートウェイ方式
等のいずれの方式を採用してもよい。

【００５８】次に，以上のように構成された保守システ
ム１の動作について説明する。先ず，保守システム１を
構成する塗布現像処理装置Ｍ１で行われるフォトリソグ
ラフィー工程について説明する。

【００５９】先ず，カセットステーション３０のカセッ
トＣから未処理のウェハＷが１枚取り出され，第３の処
理装置群G3に属するエクステンションユニット５２に搬
送される。次いでウェハＷは，主搬送ユニット４０によ
ってアドヒージョンユニット５１に搬入され，アドヒー
ジョン処理が施される。アドヒージョン処理終了後，ウ
ェハＷは，クーリングユニット５０に搬送され，所定温
度に冷却された後，例えばレジスト塗布ユニット４１に
搬送される。

【００６０】レジスト塗布ユニット４１においてレジス
ト膜が形成されたウェハＷは，主搬送ユニット４０によ
ってプリべーキングユニット５３，エクステンション・
クーリングユニット５５に順次搬送され，さらにウェハ
搬送体５９によって周辺露光ユニット６０，露光処理装
置（図示せず）に順次搬送され，各ユニット等で所定の
処理が施される。そして露光処理の終了したウェハＷ
は，ウェハ搬送体５９によりエクステンションユニット
５６に搬送され，その後，主搬送ユニット４０によって
ポストエクスポージャーベーキングユニット５７，クー
リングユニット５４，現像処理ユニット４２，ポストベ
ーキングユニット５８及びクーリングユニット５０に順
次搬送され，各装置において所定の処理が施される。そ
の後，ウェハＷは，エクステンションユニット５２を介
してカセットＣに戻され，一連のフォトリソグラフィー
工程が終了する。

【００６１】このような一連の塗布現像処理は，上述し
たようにコントロールセクション３６のコントロールボ
ックス８０により制御される。このとき，コントロール
ボックス８０の制御信号が，データボックス８１に出力
され，上述した各ユニット等の情報が，蓄積部９０の例
えばユニット毎に分けられた各蓄積領域に格納される。
なお，他の塗布現像処理装置Ｍ２〜Ｍｎにおいても同様
に，塗布現像処理装置Ｍ２〜Ｍｎ毎に各種情報が蓄積さ
れる。

【００６２】次いで，保守システム１全体の保守プロセ
スについて説明する。図１３は，保守システム１のプロ
トコルフローである。

【００６３】例えば工場Ｈ１の塗布現像処理装置Ｍ１の
レジスト塗布ユニット４１に不具合が発生した場合，塗
布現像処理装置Ｍ１からＡＧＣ１０にアラーム情報が送
信される。当該アラーム情報を受けたＡＧＣ１０は，不
具合の発生したユニット等を確認し，ＡＧＣ１０から塗
布現像処理装置Ｍ１のデータボックス８１に対して蓄積
情報返信信号が送信される。このときＡＧＣ１０は，ア
ラーム情報を専用線４を介してベンダー企業Ｂ側の保守
用コンピュータ２０に送信するようにしてもよい。

【００６４】データボックス８１が前記蓄積情報返信信
号を受信すると，データボックス８１の情報送信プログ
ラムが実行され，蓄積部９０の所定の蓄積領域に格納さ
れているレジスト塗布ユニット４１に関する情報が読み
出される。そして，通信部９３からＡＧＣ１０にその蓄
積情報が返信される。

【００６５】ＡＧＣ１０に収集された前記蓄積情報は，
工場Ｈ１に直接引かれた専用線４を介してベンダー企業
Ｂ側の保守用コンピュータ２０に送信される。保守用コ
ンピュータ２０で受信した前記蓄積情報は，例えば記憶
部１１３に記憶され，これと同時に所定の方式で表示部
１１４に表示される。そして，ベンダー企業Ｂ側の管理
者が当該表示部１１４に表示された，例えばレジスト塗
布ユニット４１の温度及び湿度等の状態を診断し，不具
合の原因を特定する。

【００６６】不具合が原因が特定されると，ベンダー企
業Ｂの管理者によって不具合の対処法に基づいた保守情
報が入力部１１１に入力され，当該保守情報が通信部１
１０からＡＧＣ１０に送信される。このとき，保守用コ
ンピュータ２０がＡＧＣ１０にアクセスされる。なお，
蓄積情報に基づく診断は，以前発生した不具合に関する
不具合情報を基に保守用コンピュータ２０が自動的に行
ってもよい。このとき，例えば保守用コンピュータ２０
の記憶部１１３に予め過去の不具合情報と，その対処法
である保守情報を登録しておいてもよい。

【００６７】一方，保守情報を受信したＡＧＣ１０は，
当該保守情報に基づいて塗布現像処理装置Ｍ１を制御す
る。例えばＡＧＣ１０からＬＡＮ１５を介してコントロ
ールボックス８０に制御情報が送信され，当該コントロ
ールボックス８０によってレジスト塗布ユニット４１の
設定等が変更される。これによって，不具合が解消され
る。また，設定変更等によって自動的に不具合を解消で
きない場合には，例えば，部品の交換，部品の追加，ク
リーニング，ソフトウェアの変更等の保守情報を塗布現
像処理装置Ｍ１の入出力部３５に表示させ，工場Ｈ２側
の管理者に通知するようにしてもよい。また，当該通知
は，例えば電話，ファクシミリ，Ｅメール等を併用して
行ってもよい。

【００６８】このように，ベンダー企業Ｂ側の保守用コ
ンピュータ２０とユーザ企業ＡのＡＧＣ１０間の情報の
授受により，塗布現像処理装置Ｍ１の保守が行われる。
この際，ベンダー企業Ｂ側がユーザ企業Ａの事業部サブ
ネットワークＥ１に進入することになるが，ファイアウ
ォール５により，ベンダー企業Ｂ側による事業部サブネ
ットワークＥ１以外の内部ネットワークＮへのアクセス
は，拒否されている。

【００６９】以上の実施の形態で記載した保守システム
１では，保守用コンピュータ２０とウェハ処理事業部Ｄ
１の事業部サブネットワークＥ１とを直接専用線４で繋
ぎ，当該事業部サブネットＥ１と，他の事業部サブネッ
トワークＥ２〜Ｅ４に接続するＷＡＮ３との間にファイ
アウォール５を備えるようにしたので，ユーザ企業Ａの
ように複数の事業部を有する企業であっても，安心して
この保守システム１を採用できる。特に，ユーザ企業Ａ
のように，他の事業部に軍需事業部Ｄ２，音楽事業部Ｄ
３等の多くの秘密を抱える事業部を有する企業にとっ
て，多大なメリットがある。

【００７０】このように保守システム１を採用できれ
ば，専用線４により十分な情報を入手することができる
ので，ベンダー企業Ｂの管理者が現地に赴かずに遠隔地
から塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎを保守できる。これに
より，ベンダー企業Ｂ側の管理者は，不具合に対して迅
速に対応できる。また，ベンダー企業Ｂ側の管理者が同
じ場所に居ながらにして複数の工場Ｈ１〜Ｈ３の保守を
行うことが可能であり，常に熟練の管理者が保守を行う
ことが可能であり，メンテナンスの質が高く維持され
る。さらに，ユーザ企業Ａは，２４時間いつでもメンテ
ナンスを受けることができる。

【００７１】工場Ｈ１側にＡＧＣ１０を設け，ＡＧＣ１
０と複数の塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎとを接続して，
塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎの情報を収集するようにし
たので，ベンダー企業Ｂ側の保守用コンピュータ２０が
ＡＧＣ１０にアクセスして，複数の塗布現像処理装置Ｍ
１〜Ｍｎの情報を容易に取得することができる。また，
データボックス８０に過去及び現在の塗布現像処理装置
Ｍ１〜Ｍｎに関する情報を蓄積するようにしたので，ベ
ンダー企業Ｂ側がその蓄積情報を入手し，より的確な対
処法を案出することができる。

【００７２】なお，以上の実施の形態では，ファイアウ
ォール５を事業部サブネットワークＥ１とＷＡＮ３との
間に設置したが，図１４に示すように各工場Ｈ１〜Ｈ３
のＬＡＮ１５とそれらに接続されたＷＡＮ１１との間に
ファイアウォール１５０を設置するようにしてもよい。
かかる場合，ベンダー企業Ｂの進入できる範囲が狭くな
るので，ユーザ企業Ｂは，より安心して保守システム１
を採用できる。

【００７３】また，以上の実施の形態では，専用線４で
保守用コンピュータ２０と工場Ｈ１〜Ｈ３のＬＡＮ１５
を接続していたが，インターネットを介して接続しても
よい。このとき，当該インターネットとＬＡＮ１５との
間に別途ファイアウォールを設置し，第３者によるＬＡ
Ｎ１５内へのアクセスを制限するのが好ましい。

【００７４】上述の実施の形態では，ベンダー企業Ｂ側
に送られる情報が蓄積情報であったが，例えば塗布現像
処理装置に撮像手段を取付け，故障，破損等により保守
の必要なユニット，部材等の保守部分の画像データをベ
ンダー企業Ｂ側に送信するようにしてもよい。かかる場
合，例えば，図１５に示すように塗布現像処理装置Ｋ１
の正面側に，保守部分を撮像する撮像手段としてのＣＣ
Ｄカメラ１６０が設けられる。このＣＣＤカメラ１６０
は，例えば巻き取り自在なコード１６１によって塗布現
像処理装置Ｋ１に取り付けられ，塗布現像処理装置Ｋ１
の周囲を移動自在である。ＣＣＤカメラ１６０で撮像さ
れた撮像情報は，例えばコントロールボックス８０を介
してデータボックス８１に出力され，データボックス８
１に格納される。そして，不具合の発生時又はベンダー
企業Ｂ側からの要求があった時に，ベンダー企業Ｂ側の
保守用コンピュータ２０にその撮像情報が送信され，例
えば保守用コンピュータ２０の表示部１１４にその画像
が表示される。

【００７５】この例では，ベンダー企業Ｂ側の管理者
が，不具合のあった保守部分の視覚的な情報を得ること
ができるので，より適切な不具合の対応策を考え，ユー
ザ企業Ａ側に提案することができる。なお，コード１６
１に代えてＣＣＤカメラに無線送信器を取付け，撮像情
報を無線で塗布現像処理装置Ｋ１に送信するようにして
もよい。また，ＣＣＤカメラに，情報記憶媒体に撮像情
報を記憶する記憶手段を設け，撮像情報を当該情報記憶
媒体によって塗布現像処理装置Ｋ１に提供するようにし
てもよい。

【００７６】前記保守システム１の保守プロセスでは，
不具合が発生してから塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎの蓄
積情報をベンダー企業Ｂ側に送信していたが，予め所定
の間隔，タイミングで蓄積情報をベンダー企業Ｂ側に送
信し，定期的にベンダー企業Ｂ側の管理者に診断を仰ぐ
ようにしてもよい。この場合，不具合が発生する前に，
専門家であるベンダー企業Ｂ側の管理者が不具合の前兆
を発見し，事前に対処することができる。このとき，送
信される蓄積情報の種類等は，任意に選択できる。

【００７７】以上の実施の形態で記載した保守システム
は，塗布現像処理装置Ｍ１等を保守するものであった
が，半導体製造工程で用いられる他の基板処理装置，例
えば露光装置，エッチング装置，薄膜形成装置，洗浄装
置，検査装置，拡散装置等を保守するものであってもよ
い。

【００７８】例えば基板処理装置がエッチング装置の場
合，例えば液相中でウェハＷをエッチング処理するウェ
ットエッチングユニット，気相中でウェハＷをエッチン
グするドライエッチングユニットのいずれかを備えてい
る。ウェットエッチングユニット，ドライエッチングユ
ニットには，ユニット内を減圧してエッチング処理を行
うものがあり，かかるユニットと保守用コンピュータ２
０との間で通信される情報には，例えばユニット内の減
圧度に関するデータ等が含まれる。また，ドライエッチ
ングユニットには，反応性のプラズマを利用したものが
あり，このユニットから通信される情報には，例えばプ
ラズマ発生のために電極に印可される高周波のデータ等
が含まれる。

【００７９】また，基板処理装置が洗浄装置の場合，例
えば洗浄液の貯留される洗浄槽を有する洗浄ユニット等
を備えている。そして，この洗浄装置又は洗浄ユニット
と保守用コンピュータ２０との間で通信される情報に
は，洗浄液の温度，洗浄槽内の洗浄液の汚れ度のデータ
等が含まれる。

【００８０】さらに，基板処理装置が薄膜形成装置の場
合，例えば真空内で薄膜の成分をウェハＷ上に蒸着させ
る真空蒸着ユニット，スパッタ現象を利用してウェハＷ
上に薄膜を形成するスパッタリングユニット，薄膜材料
を構成する元素等からなる化合物ガスをウェハＷ上に供
給し，当該化合物ガスのウェハＷ表面等での化学反応に
より薄膜を形成するＣＶＤユニット，ウェハＷの結晶性
を受け継いで単結晶層を成長させて，ウェハＷ上に薄膜
を形成するエピタキシャル成長ユニットのいずれがのユ
ニットを備えている。そして，この薄膜形成装置又は前
記ユニットと保守用コンピュータ２０との間で通信され
る情報には，例えば，前記ユニットにおける処理温度，
処理湿度等のデータが含まれる。なお，本実施の形態に
おける薄膜形成ユニットは，真空蒸着ユニット，スパッ
タリングユニット，ＣＶＤユニット，エピタキシャル成
長ユニットのいずれかに相当する。

【００８１】また，前記複数種類の基板処理装置，例え
ば薄膜形成ユニットを備える装置，洗浄ユニットを備え
る装置又はエッチングユニットを備える装置等が一の保
守システム内に含まれていてもよい。

【００８２】以上の実施の形態で記載したベンダー企業
側の保守用コンピュータは，一箇所でなくても複数箇所
に設けられていてもよい。また，本発明は，基板の塗布
現像処理装置に適用されたが，ウェハ以外の基板，例え
ばＬＣＤ基板，フォトマスク用のマスクレチクル基板処
理装置においても適用できる。

【００８３】また，前記ユーザ企業Ａの事業部の数，工
場の数等は，これに限られない。内部ネットワークＮの
形態もこれに限られない。また，保守システム１は，ユ
ーザ企業Ａとベンダー企業Ｂ間で保守情報を送受信する
保守システムであったが，本発明は，処理された基板の
検査情報を収集し，その検査情報に基づいて基板処理装
置を保守する保守システムにも適用できる。

【００８４】

【発明の効果】本発明によれば，ユーザの内部情報に対
するセキュリティを確保できるので，インターネット等
を用いたベンダー側からの保守，管理が可能となり，迅
速かつ的確な基板処理装置の保守管理が実現できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態にかかる保守システムのネットワー
ク構成を示す説明図である。

【図２】図１の保守システムの概略構成図である。

【図３】ウェハ処理事業部の工場内ネットワークの構成
を示す説明図である。

【図４】保守システムを構成する塗布現像処理装置の概
略を示す斜視図である。

【図５】図５の塗布現像処理装置の構成の概略を示す平
面図である。

【図６】図４の塗布現像処理装置の正面図である。

【図７】図４の塗布現像処理装置の背面図である。

【図８】コントロールセクションの構成を示すブロック
図である。

【図９】データボックスの構成を示すブロック図であ
る。

【図１０】ＡＧＣの構成を示す説明図である。

【図１１】保守用コンピュータの構成を示す説明図であ
る。

【図１２】ファイアウォールの作用を模式的に示す説明
図である。

【図１３】保守システムのプロトコルフローである。

【図１４】ファイアーウォールの設置場所を変えた保守
システムの他の構成例を示す説明図である。

【図１５】ＣＣＤカメラを取り付けた場合の塗布現像処
理装置の構成の概略を示す斜視図である。

【図１６】一般的な企業内の内部ネットワークの構成を
示す説明図である。

【符号の説明】

１保守システム２ホストコンピュータ３ＷＡＮ５ファイアウォール４専用線１０ＡＧＣ２０保守用コンピュータＡユーザ企業Ｂベンダー企業Ｄ１〜Ｄ４事業部Ｅ１〜Ｅ４事業部サブネットワークＮ内部ネットワークＭ１〜Ｍｎ塗布現像処理装置Ｗウェハ

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続きＦターム(参考） 5B089 GA12 GA23 GB02 HA01 HA06 JA35 JB22 5K030 GA11 GA15 HC01 HC13 HD06 JT06

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】ユーザの基板処理装置を保守するための
保守システムであって，前記ユーザは，基板の処理を行
う基板処理事業セクションのサブネットワークとその他
の事業セクションのサブネットワークとが，互いに通信
可能に接続された内部ネットワークを有し，前記基板処
理事業セクションのサブネットワークは，前記基板処理
装置を含み，このシステムには，インターネット又は専
用線によって前記基板処理事業セクションのサブネット
ワークに接続され，当該基板処理事業セクションのサブ
ネットワークと前記基板処理装置の保守に関する情報を
通信するベンダー側の保守手段と，前記保守手段が前記
基板処理事業セクションのサブネットワークを介して前
記基板処理事業セクション以外の他のサブネットワーク
にアクセスすることを制限するアクセス制限手段と，が
備えられていることを特徴とする，保守システム。
【請求項２】前記基板処理事業セクションのサブネッ
トワークは，前記アクセス制限手段を介して前記他の事
業セクションのサブネットワークに接続されていること
を特徴とする，請求項１に記載の保守システム。
【請求項３】前記基板処理事業セクションのサブネッ
トワークに含まれ，基板処理装置の情報を蓄積する情報
蓄積手段を備えたことを特徴とする，請求項１又は２の
いずれかに記載の保守システム。
【請求項４】前記基板処理事業セクションのサブネッ
トワークに含まれ，前記情報蓄積手段の情報を収集し前
記保守手段に送信する情報収集送信装置を備えたことを
特徴とする，請求項３に記載の保守システム。
【請求項５】前記基板処理装置は，前記基板処理事業
セクションの工場に設置されており，前記基板処理事業
セクションのサブネットワークは，前記工場の工場内ネ
ットワークを備え，前記工場内ネットワークは，前記保
守手段に対して情報を通信する外部通信手段と前記基板
処理装置とを含み，さらに前記アクセス制御手段を介し
て当該工場内ネットワーク以外の前記基板処理事業セク
ションのサブネットワークに接続されていることを特徴
とする，請求項１に記載の保守システム。
【請求項６】前記工場内ネットワークに含まれ，基板
処理装置の情報を蓄積する情報蓄積手段を備えたことを
特徴とする，請求項５に記載の保守システム。
【請求項７】前記工場内ネットワークに含まれ，前記
情報蓄積手段の情報を収集し前記保守手段に送信する情
報収集送信装置を備えたことを特徴とする，請求項６に
記載の保守システム。
【請求項８】前記情報蓄積手段は，前記基板処理装置
に設けられていることを特徴とする，請求項３，４，６
又は７のいずれかに記載の保守システム。
【請求項９】前記保守手段から送信された情報を受信
し，当該受信した情報に基づいて前記基板処理装置を制
御する受信制御手段を備えたことを特徴とする，請求項
１，２，３，４，５，６，７又は８のいずれかに記載の
保守システム。
【請求項１０】前記アクセス制限手段は，ファイアウ
ォールであることを特徴とする，請求項１，２，３，
４，５，６，７，８又は９のいずれかに記載の保守シス
テム。
【請求項１１】前記基板処理装置は，基板に所定の液
を供給して処理を行う液処理ユニットと，基板の熱処理
を行う熱処理ユニットと，これらのユニットに対して基
板を搬送するための搬送ユニットと，を少なくとも備
え，前記保守手段は，前記ユニットの情報を通信するこ
とを特徴とする，請求項１，２，３，４，５，６，７，
８，９又は１０のいずれかに記載の保守システム。
【請求項１２】前記基板処理装置は，基板上に薄膜を
形成するための薄膜形成ユニット，基板に対してエッチ
ング処理を行うエッチングユニット又は基板を洗浄する
洗浄ユニットのいずれかを備え，前記保守手段は，前記
ユニットの情報を通信することを特徴とする，請求項
１，２，３，４，５，６，７，８，９又は１０のいずれ
かに記載の保守システム。
【請求項１３】前記基板処理装置における保守の必要
な保守部分を撮像できる撮像手段を備え，前記保守手段
は，前記撮像手段による撮像情報を通信することを特徴
とする，請求項１，２，３，４，５，６，７，８，９，
１０，１１又は１２のいずれかに記載の保守システム。