JP2003005826A

JP2003005826A - 管理システム及び管理方法

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Publication number: JP2003005826A
Application number: JP2001191926A
Authority: JP
Inventors: Takashi Aiuchi; 隆志愛内; Makoto Kiyota; 誠清田; Ryoichi Kamimura; 良一上村; Michio Tanaka; 道夫田中
Original assignee: Tokyo Electron Ltd
Current assignee: Tokyo Electron Ltd
Priority date: 2001-06-25
Filing date: 2001-06-25
Publication date: 2003-01-08

Abstract

(57)【要約】【課題】ベンダー側の管理者が，遠隔地にある塗布現
像処理装置を適切かつ迅速に保守管理できるようにす
る。【解決手段】工場２側に，複数の塗布現像処理装置Ｍ
１〜Ｍｎの情報を収集するＡＧＣ４を設ける。ＡＧＣ４
は，塗布現像処理装置Ｍ１〜ＭｎとＬＡＮ９によって接
続される。ベンダー６側には，ホストコンピュータ７が
設けられ，ホストコンピュータ７は，工場２側のＡＧＣ
４とインターネット８によって接続される。塗布現像処
理装置３−１には，各ユニット等の情報を蓄積するデー
タボックスが設けられ，ＡＧＣ４と通信可能とする。ホ
ストコンピュータ７からの命令により，ＡＧＣ４が定期
的に塗布現像処理装置Ｍ１の蓄積情報を収集し，ホスト
コンピュータ７に送信することによって，ベンダー６側
の管理者が詳しい情報を入手し，当該情報に基づいて塗
布現像処理装置を保守管理する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は，基板の処理装置の
管理システム及び管理方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】半導体デバイスの製造は，工場内に設置
された塗布現像処理装置，露光装置，エッチング装置等
で行われる。例えば，塗布現像処理装置には，レジスト
塗布ユニットや現像処理ユニット，加熱処理ユニット等
の複数のユニットが搭載されており，半導体デバイスの
製造における一連のフォトリソグラフィー工程が行われ
る。

【０００３】ところで，稼動中の塗布現像処理装置にト
ラブルが発生した場合には，工場側の管理者であるプロ
セス担当者等が対応し，プロセス担当者が対応できない
場合には，プロセス担当者等から塗布現像処理装置の製
造元であるベンダー側の管理者であるエンジニアに電話
等で連絡され，当該エンジニアが対処していた。ベンダ
ー側のエンジニアは，電話等の指示のみで対処できる場
合には，ベンダー側に居ながら対処していたが，通常
は，より詳しい状況を把握し，適切に対処する必要があ
るため工場側に赴いて対処していた。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら，世界一
市場化した今日では，塗布現像処理装置の販売地域は海
外等を含んだ広範囲に及び，ベンダー側のエンジニアが
工場に到着するまでに多大な時間を要する場合がある。
一方，電話やファクシミリ等のやり取りだけで対応する
場合でも，故障の症状，原因等の情報の入手に限界があ
るため，適切な対応が採れず，かえって塗布現像処理装
置が回復するまでの時間がかかることがあった。また，
同時に複数箇所で故障が発生した場合には，複数人で対
応せざるを得ず，中には経験が少なく，未熟なエンジニ
アも含まれるため，その対応の質にばらつきが生じるこ
ともあった。

【０００５】本発明は，かかる点に鑑みてなされたもの
であり，遠隔地であっても十分な情報を入手し，当該情
報に基づいて迅速かつ適切に塗布現像処理装置等の処理
装置の管理を行う管理システム及び管理方法を提供する
ことをその目的とする。

【０００６】

【課題を解決するための手段】請求項１の発明によれ
ば，基板の処理装置を管理する管理システムであって，
前記処理装置の情報を蓄積する情報蓄積手段と，前記情
報蓄積手段から前記情報を収集する情報収集装置と，イ
ンターネット又はイントラネットを介して前記情報収集
装置の前記情報を入手し，当該情報に基づいて前記処理
装置を管理する管理装置とを有することを特徴とする管
理システムが提供される。なお，前記情報には，処理装
置自体の稼動状況を示す情報，処理装置内の個々のユニ
ットの稼働状況を示す情報，前記ユニットにおける計測
情報，駆動情報及びこれらの履歴情報，処理装置とユニ
ットに使用される部材等のメンテナンス情報及び処理さ
れた基板の検査情報等が含まれる。また，前記管理に
は，前記処理装置の保守やメンテナンスも含まれる。

【０００７】このように，基板の処理装置の情報を蓄積
する情報蓄積手段と，当該情報蓄積手段の情報を収集す
る情報収集装置と，当該情報収集装置とインターネット
又はイントラネットを介して接続された管理装置を有す
ることによって，例えば遠隔地にある管理装置側の管理
者が，インターネット等を介して前記処理装置の管理に
必要な十分な情報を取得することができる。これによ
り，管理装置側の管理者が，管理装置側に居ながらにし
て，取得した情報に基づいて処理装置の管理を適切に行
うことができる。したがって，逐次処理装置の設置され
た工場側に赴く必要が無くなり，例えば処理装置のトラ
ブル等に迅速に対応することができる。また，管理装置
側の熟練した管理者が対応できることが多くなるので，
より適切な対応をすることができる。

【０００８】前記情報蓄積手段は，前記処理装置に設け
られていてもよい。また，前記処理装置は，複数の処理
ユニットを有し，前記情報蓄積手段には，前記各処理ユ
ニットの情報が蓄積されていてもよい。このように，前
記情報蓄積手段に処理装置の各処理ユニットの情報が蓄
積されることによって，管理装置側で各処理ユニットの
情報を容易に入手できるようになり，必要に応じて所定
の処理ユニットの情報を入手し，適切な管理を行うこと
ができる。なお，前記各ユニットの情報には，ユニット
の稼働状況を示す情報，ユニットにおける計測情報，駆
動情報及びこれらの履歴情報及びユニットに使用される
部材等のメンテナンス情報，処理された基板の検査情報
等が含まれる。

【０００９】前記情報収集装置は，前記管理装置の指示
により前記情報蓄積手段の情報を収集してもよい。この
ように，前記情報収集装置が管理装置の指示により情報
を収集することによって，管理装置側が必要なときに必
要な情報を取得することができる。また，管理装置側の
指示を定期的に行うようにすれば，処理装置の情報を定
期的に入手し，前記処理装置の状態を継続して監視する
ことができる。

【００１０】前記管理装置は，前記入手した情報に基づ
いて前記処理装置を診断し，不具合がある場合は，当該
不具合に応じた対処方法を提示するようにしてもよい。
なお，不具合は，全くの正常状態でないが，トラブルに
は至っていない状態である。この発明によれば，管理装
置が，前記情報収集手段から入手した情報に基づいて前
記処理装置を診断し，不具合がある場合には，前記管理
装置が前記不具合の対処方法を提示する。これにより，
管理装置が，自動的に不具合を検出し，その対処方法が
提示されるので，当該対処方法に従って処置を講じるこ
とができる。それ故，例えば未熟な管理者であっても適
切で均質な対処を行うことができる。また，トラブルに
発展する前に，不具合を検出できるので，トラブルを未
然に防止することができる。

【００１１】前記管理装置は，前記処理装置にトラブル
があった場合に当該トラブル情報を入手し，当該入手し
た情報に基づいて前記処理装置のトラブルの原因を特定
し，当該トラブルの対処方法を提示してもよい。本発明
によれば，トラブルが発生した際に，管理装置が自動的
に前記処理装置の情報を入手し，当該情報に基づいてト
ラブル原因を特定して，トラブル対処法を提示する。こ
れにより，トラブルに対処する管理者は，管理装置が提
示したトラブル対処法に従って当該トラブルを対処でき
る。したがって，トラブルの対処が均質かつ適切に行わ
れる。

【００１２】前記管理装置には，前記処理装置に関する
過去のトラブル情報が登録されており，前記トラブルの
原因の特定は，前記トラブル情報に基づいて行われても
よい。このように，前記トラブルの原因の特定を，前記
管理装置に登録した過去のトラブル情報に基づいて行う
ことにより，過去の経験を生かした適切な対処法が提示
される。したがって，トラブルに対して適切で均質な対
応を採ることができる。

【００１３】前記管理装置は，前記トラブルの発生を前
記処理装置のベンダー側の管理者と，前記処理装置の設
置された工場側の管理者に通知し，前記トラブルの内容
に応じて，前記ベンダー側の管理者と前記工場側の管理
者の何れが対応すべきかを判定し，当該判定結果を前記
両管理者に通知するようにしてもよい。本発明によれ
ば，例えば比較的軽度なトラブルの場合には，処理装置
により近い工場側の管理者を対応させ，比較的重度なト
ラブルで詳細な情報や専門知識，経験が必要な場合に
は，ベンダー側の管理者を対応させることができる。こ
れにより，トラブルの内容，例えばレベルに応じて対処
する者を変更し，トラブルに対してより迅速で，効率的
な対処を行うことができる。また，対処する者の判定結
果を前記両管理者に通知することによって，他方の管理
者が対処し，自身が対処を行わなくてもよいことを確認
することができる。

【００１４】前記管理装置は，前記入手した情報に基づ
いて得られた，前記処理装置を管理するための管理情報
を前記インターネット又はイントラネットを介して前記
情報収集装置に通知し，前記情報収集装置は，前記管理
情報に基づいて前記処理装置を管理するようにしてもよ
い。なお，前記管理情報には，処理装置の設定の変更，
調節，クリーニング命令，部材の交換，ソフトウェアの
交換，処理装置のユニットの設定の変更，調節，クリー
ニング命令，部材の交換等の情報が含まれる。本発明に
よれば，管理装置がインターネット等を介して管理情報
を送信し，自動的に処理装置を管理することができる。
これにより，必要のない場合には，管理者を介さず自動
で処理装置のトラブル等を解消することができる。した
がって，より迅速で均質な対応が可能となる。

【００１５】請求項９の発明によれば，基板の処理装置
を管理する管理方法であって，管理装置の指示により，
情報収集装置が前記処理装置の情報蓄積手段に蓄積され
ていた前記処理装置の情報を収集し，前記管理装置は，
インターネット又はイントラネットを介して前記情報を
入手し，当該情報に基づいて前記処理装置を管理するこ
とを特徴とする管理方法が提供される。

【００１６】このように，請求項９の発明によれば，管
理装置の指示によって，基板の処理装置の詳細な情報
が，インターネット等を通じて管理装置に送られるの
で，前記管理装置が，当該情報に基づいて前記処理装置
を迅速かつ適切に管理することができる。

【００１７】前記管理装置の指示は，定期的に行われて
もよい。このように管理装置が定期的に指示を行い，処
理装置の情報を入手することによって，処理装置の故
障，基板の不良等のトラブルが発生する前に，当該トラ
ブルの兆候を察知し，事前に対策を講じることができ
る。したがって，トラブルの発生自体を抑制し，処理装
置の管理をより好適に行うことができる。

【００１８】前記管理装置の指示は，前記処理装置のト
ラブル発生時に行われてもよい。このようにトラブル発
生時に情報収集の指示を行うことによって，トラブルの
解消に必要な情報を迅速に取得することができる。それ
故，入手した情報に基づいてトラブル等の原因を検討
し，当該トラブルに対してより適切な対応を採ることが
できる。

【００１９】前記管理装置は，前記トラブルの発生を前
記処理装置のベンダー側の管理者と，前記処理装置の設
置された工場側の管理者に通知し，前記トラブルの内容
に応じて前記ベンダー側の管理者と前記工場側の管理者
の何れが対応すべきかを判定し，当該判定結果を前記両
管理者に通知するようにしてもよい。本発明によれば，
比較的軽度で対応の容易なトラブルに対しては，処理装
置により近い工場側の管理者を対処させ，比較的重度で
詳細な解析，専門的な知識等を要するトラブルに対して
は，ベンダー側の管理者を対処させることができる。こ
れにより，トラブルの内容に応じてより適切な者が対応
できるので，より迅速かつ適切な対応が可能となる。

【００２０】

【発明の実施の形態】図１は，本実施の形態にかかる管
理システム１の概略構成図である。この管理システム１
は，ウェハＷの処理装置としての塗布現像処理装置を管
理する管理システムである。管理システム１は，例えば
ウェハメーカーの工場２側に，複数の塗布現像処理装置
Ｍ１〜Ｍｎ，情報収集装置としてのＡＧＣ４（Ａｄｖａ
ｎｃｅｄＧｒｏｕｐＣｏｍｐｕｔｅｒ）及びコンピ
ュータ５を有し，ベンダー６側に，管理装置としてのホ
ストコンピュータ７を有する。塗布現像処理装置Ｍ１〜
Ｍｎ及びＡＧＣ４は，工場２内のクリーンルームＲに設
置されており，コンピュータ５は，工場２内のクリーン
ルームＲ外に設置されている。

【００２１】工場２側のＡＧＣ４とベンダー６側のホス
トコンピュータ７とは，インターネット８を介して接続
されており，互いに通信することができる。なお，イン
ターネット８の工場２側及びベンダー６側には，それぞ
れ図示しないファイアーウォールが設けられており，各
端末を保護している。工場２側の複数の塗布現像処理装
置Ｍ１〜Ｍｎ，ＡＧＣ４及びコンピュータ５は，工場２
側で構築された，例えばＬＡＮ９によって接続されてお
り，互いに通信することができる。

【００２２】先ず，塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎの構成
について，塗布現像処理装置Ｍ１を例に採って説明す
る。塗布現像処理装置Ｍ１は，半導体ウェハＷの製造工
程におけるフォトリソグラフィー工程を連続して行う処
理装置である。図２は，塗布現像処理装置Ｍ１の構成の
概略を示す斜視図であり，図３は，塗布現像処理装置Ｍ
１の構成の概略を示す平面図である。

【００２３】例えば塗布現像処理装置Ｍ１は，図２に示
すように例えば２５枚のウェハＷをカセット単位で外部
から塗布現像処理装置Ｍ１に対して搬入出したり，カセ
ットＣに対してウェハＷを搬入出したりするカセットス
テーション２０と，ウェハＷの処理が枚葉式で行われる
各種処理ユニットを複数有する処理ステーション２１
と，この処理ステーション２１に隣接して設けられてい
る図示しない露光処理装置との間でウェハＷの受け渡し
を行うインターフェイス部２２とを一体に接続した構成
を有している。

【００２４】カセットステーション２０は，図３に示す
ようにカセット載置台２３に載置されたカセットＣから
ウェハＷを搬入出し，処理ステーション２１との間でウ
ェハＷを搬送するウェハ搬送体２４を有している。ま
た，カセットステーション２０には，図２に示すように
塗布現像処理装置Ｍ１の入力部２５，後述するコントロ
ールセクション２６が設けられている。入力部２５は，
例えばポインティングデバイスであるタッチスクリーン
になっており，塗布現像処理装置Ｍ１の各種設定値を設
定，変更することができる。

【００２５】処理ステーション２１には，図３に示すよ
うにその中心部に主搬送ユニット３０が設けられてお
り，この主搬送ユニット３０の周辺には各種処理ユニッ
トが多段に配置された複数の処理ユニット群G1，G2，G
3，G4が設けられている。例えば第１及び第２の処理ユ
ニット群G1，G2は，塗布現像処理装置Ｍ１の正面側に配
置され，第１の処理ユニット群Ｇ１には，図４に示すよ
うにウェハＷにレジスト液を塗布するレジスト塗布ユニ
ット３１及びウェハＷを現像処理する現像処理ユニット
３２が下から順に２段に設けられている。第２の処理ユ
ニット群Ｇ２も同様に，レジスト塗布ユニット３３及び
現像処理ユニット３４が下から順に設けられている。

【００２６】例えば，レジスト塗布ユニット３１は，図
５に示すようにケーシング３１ａ内にウェハＷを吸着保
持し，回転させるためのスピンチャック４０，スピンチ
ャック４０に保持されたウェハＷの外方を取り囲む略筒
状のカップ４１，ウェハＷの上方からレジスト液を吐出
するレジスト吐出ノズル４２，ケーシング３１ａ内に清
浄な気体を供給する供給管４３，ケーシング３１ａ内の
温度及び湿度を検出する温湿度センサ４４等を有する。

【００２７】スピンチャック４０には，スピンチャック
４０を回転させる駆動部４５が設けられている。レジス
ト吐出ノズル４２は，レジスト液供給管４６に接続され
ており，レジスト液供給管４６には，レジスト液の吐出
流量を調節する調節弁４７が設けられている。また，供
給管４３には，供給する気体の湿度，温度を調節する温
湿度調節部４８が設けられている。これらの駆動部４
５，調節弁４７，温湿度調節部４８等は，後述する第２
制御部８１によって制御されている。温湿度調節部４８
は，温湿度センサ４４の検出値に基づいて第２制御部８
１によって制御される。

【００２８】一方，処理ステーション２１の第３の処理
ユニット群G3は，図３に示すようにカセットステーショ
ン２０に隣接して配置されている。第３の処理ユニット
群Ｇ３には，例えば図６に示すようにウェハＷを冷却処
理するクーリングユニット６０，レジスト液とウェハＷ
との定着性を高めるためのアドヒージョンユニット６
１，ウェハＷの受け渡しを行うためのエクステンション
ユニット６２，レジスト液中の溶剤を蒸発させるための
プリベーキングユニット６３が下から順に例えば４段に
積み重ねられている。

【００２９】第４の処理ユニット群G4は，インターフェ
イス部２２に隣接して配置されている。第４の処理ユニ
ット群Ｇ４には，例えばクーリングユニット６４，載置
したウェハＷを自然冷却させるエクステンション・クー
リングユニット６５，エクステンションユニット６６，
露光後の加熱処理を行うポストエクスポージャーベーキ
ングユニット６７，現像処理後の加熱処理を行うポスト
ベーキングユニット６８が下から順に例えば５段に積み
重ねられている。

【００３０】インターフェイス部２２には，図３に示す
ように例えばウェハ搬送体６９と周辺露光ユニット７０
が設けられている。ウェハ搬送体６９は，第４の処理装
置群G4に属するエクステンション・クーリングユニット
６５，エクステンションユニット６６，周辺露光ユニッ
ト７０及び図示しない露光処理装置に対してアクセスし
て，各々に対してウェハＷを搬送できるように構成され
ている。周辺露光ユニット７０は，ウェハＷの露光処理
前にウェハＷの外周を露光するものであり，露光のため
の光を照射する照射部やウェハＷの位置を認識するＣＣ
Ｄセンサ等を有している。

【００３１】次に，上述したコントロールセクション２
６について詳しく説明する。コントロールセクション２
６は，図７に示すように第１制御部８０と第２制御部８
１からなるコントロールボックス８２と，第１制御部８
０と第２の制御部８１間で授受される信号を蓄積する情
報蓄積手段としてのデータボックス８３を有している。

【００３２】第１制御部８０は，塗布現像処理システム
Ｍ１本体の全体を制御するものであり，設定された塗布
現像処理のプロセスフローやレシピ等に基づいて主にウ
ェハＷ処理のレシピ管理，ウェハＷの搬送管理等を行
う。第１制御部８０は，図示しない情報線によって入力
部２５に接続されており，作業員等により入力部２５に
入力された位置信号は，第１制御部８０に出力され，設
定値として認識される。第１制御部８０は，情報線８４
及びＬＡＮ９によってＡＧＣ４に接続されており，ＡＧ
Ｃ４が第１制御部８０に対して指示信号を出力し，ＡＧ
Ｃ４によっても第１制御部８０の設定値を変更等できる
ようになっている。また，第１制御部８０は，情報線８
５によってＨＵＢ８６に接続されており，ＨＵＢ８６に
は，第２制御部８１に接続された情報線８７が接続され
ている。したがって，第１制御部８０と第２制御部８１
との間では，信号の授受が可能であり，第１制御部８０
で受けた指示信号を情報線８５，８７を介して第２制御
部に出力することができる。

【００３３】第２制御部８１は，上述した塗布現像処理
装置Ｍ１内の各種ユニット，すなわち主搬送ユニット３
０及び各処理ユニット３０〜３４，６０〜６８，７０等
を制御するものであり，第２制御部８１と各ユニットと
は，情報線８８によって接続されている。これによっ
て，第２制御部８１は，予め設定されている設定値，パ
ラメータ値等に基づいて各ユニットの駆動部等を制御す
ることができ，また，各ユニットのセンサ等の検出情報
を入手し，当該検出情報に基づいて各ユニットを制御す
ることができる。

【００３４】データボックス８３は，ＨＵＢ８６と情報
線８９によって接続されており，第１制御部８０及び第
２制御部８１からの信号を入力することができる。ま
た，データボックス８３は，情報線９０によって情報線
８４とＬＡＮ９とを接続するＨＵＢ９１に接続されてお
り，データボックス８３の蓄積されている所定の情報を
情報線９０及びＬＡＮを介してＡＧＣ４に出力できる。

【００３５】データボックス８３は，図８に示すように
蓄積部１００，記憶部１０１，制御部１０２及び通信部
１０３とから構成される。蓄積部１００は，第１制御部
８０及び第２制御部８１からデータボックス８３内に入
力された信号を蓄積する複数の蓄積領域を有し，当該信
号は，例えば信号の意味する情報の種類に応じて塗布現
像処理装置Ｍ１全体に関する情報や各ユニットの情報毎
等に分けて蓄積できる。

【００３６】蓄積部１００には，例えば塗布現像処理装
置Ｍ１全体に関する情報として，ウェハＷのレシピに関
するステップ・タイムチャートデータ及びウェハＷの搬
送タクトデータ及び塗布現像処理装置Ｍ１内の温度，湿
度，風速，圧力トレースデータ等が蓄積され，主搬送ユ
ニット３０に関する情報として移動パルス累積データ及
び移動速度データ，レジスト塗布ユニット３１の情報と
してウェハＷの回転速度トレースデータ，レジスト吐出
ノズル４２の搬送データ，レジスト液の吐出流量デー
タ，ケーシング３１ａ内の温湿度トレースデータ，カッ
プ４１内の風速データ，カップ４１自体の温度データ及
びスピンチャックの上下移動速度データ等が蓄積され
る。

【００３７】また，蓄積部１００には，プリベーキング
ユニット６３等の加熱系のユニット及びクーリングユニ
ット６０等の冷却系のユニットに関する情報として，ウ
ェハＷを載置するプレートの温度トレースデータ，ウェ
ハＷの上方を覆うカバーの上下移動速度データ，加熱系
及び冷却系のユニット内の温度，湿度，風速トレースデ
ータ及びウェハＷの昇降ピンの移動速度データ等が蓄積
される。特に，加熱系のユニットであって，熱板に気体
を吹き付けて冷却する機能を有するものについては，当
該気体の温度，流量，湿度のデータ等を蓄積してもよ
い。

【００３８】さらに，周辺露光ユニット７０に関する情
報として，照度トレースデータ及びＣＣＤセンサによる
ウェハＷの位置データ等が蓄積され，また，その他の情
報として，塗布現像処理装置Ｍ１内で使用される全処理
液の温度トレースデータ，各処理液の貯留されたタンク
圧のトレースデータ，各ユニットの排気圧トレースデー
タ，全気体系の圧力トレースデータ，処理ウェハに対す
るセンサ等の供給電力トレースデータ，処理ウェハの状
態に関するデータ，各種画像データ及び上記データの各
種Ｌｏｇ等が蓄積部１００に蓄積される。

【００３９】記憶部１０１には，第１制御部８０及び第
２制御部８１から受け取った信号をその種類に応じて分
別し，蓄積部１００の所定の蓄積領域に蓄積させる信号
蓄積プログラム，当蓄積領域から所定の情報を取り出
し，ＡＧＣ４に送信する信号送信プログラム等が記憶さ
れている。なお，記憶部１０１には，例えばＲＡＭやＲ
ＯＭ等が用いられる。

【００４０】制御部１０２は，第１制御部８０及び第２
制御部８１から信号を受け取ると，記憶部１０１から信
号蓄積プログラムを読み出して実行する。また，例えば
ＡＧＣ４からの蓄積情報返信信号に従って，記憶部１０
１から信号送信プログラムを読み出し実行する。なお，
制御部１０２には，例えばＣＰＵ等が用いられる。

【００４１】通信部１０３は，情報線９０を介してＬＡ
Ｎ９に接続されていおり，ＡＧＣ４との間で，信号化さ
れた情報を送受信することができる。したがって，ＡＧ
Ｃ４からの指示信号を受信し，当該指示信号によって読
み出された所定の情報をＡＧＣ４に送信することができ
る。なお，通信部１０３には，例えばＬＡＮカード，モ
デム等が用いられる。また，通信部１０３による通信に
は，例えば一般的な通信プロトコルＴＣＰ／ＩＰが用い
られる。

【００４２】次にＡＧＣ４について説明する。ＡＧＣ４
は，工場２内の各塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎの情報を
収集し，ベンダー６側に送信するものであり，また，ベ
ンダー６側等からの管理情報を塗布現像処理装置Ｍ１〜
Ｍｎに供給し，塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎを管理，制
御するものである。ＡＧＣ４は，例えば図９に示すよう
に通信部１１０，記憶部１１１及び制御部１１２とから
構成される。例えば通信部１１０にはモデム，記憶部１
１１にはＲＡＭ，制御部１１２にはＣＰＵ等が用いられ
る。

【００４３】通信部１１０は，ＬＡＮ９に接続されてお
り，工場２内のコンピュータ５との間で各種信号を通信
できる。また，通信部１１０は，インターネット８に連
通されており，ベンダー６側のホストコンピュータ７と
の間で通信できる。なお，通信には，例えば一般的な通
信プロトコルＴＣＰ／ＩＰが用いられる。

【００４４】記憶部１１１には，例えばＡＧＣ４で受信
した信号を選択し，場合によっては保存して，送信する
信号処理プログラムが記憶されている。制御部１１２
は，ＡＧＣ４で信号の受信すると前記信号処理プログラ
ムを読み出して実行する。したがって，ホストコンピュ
ータ７からの情報収集信号を受信し，当該情報収集信号
に基づいて塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎに蓄積情報返信
信号を送信し，さらに，それによって返信された蓄積情
報を受信してホストコンピュータ７及びコンピュータ５
に送信することができる。また，例えばベンダー６側
で，前記蓄積情報に基づいて案出された塗布現像処理装
置Ｍ１〜Ｍｎを管理するための管理情報を受信し，この
管理情報に基づいて各塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎを管
理することもできる。

【００４５】工場２側のコンピュータ５は，工場２側の
プロセス担当者等の管理者が塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍ
ｎを管理するためのものであり，例えば一般的な汎用の
ＰＣ（ＰｅａｓｏｎａｌＣｏｍｐｕｔｅｒ）と同様の
構成を有する。

【００４６】次にベンダー６側のホストコンピュータ７
について説明する。ホストコンピュータ７は，遠隔地か
ら工場２側の塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎを管理するも
のである。ホストコンピュータ７は，例えば図１０に示
すように通信部１２０，入力部１２１，制御部１２２，
記憶部１２３及び表示部１２４を有している。

【００４７】通信部１２０は，インターネット８と接続
されており，通信部１２０は，インターネット８を介し
てＡＧＣ４に情報収集信号を送信できる。また，ＡＧＣ
４から送信される塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎの蓄積情
報を受信できる。さらに，収得した蓄積情報に基づいて
導出された管理情報を，インターネット８，ＡＧＣ４を
介して塗布現像処理装置Ｍ１等に供給することができ
る。

【００４８】入力部１２１は，必要に応じてベンダー６
側の管理者が，収集すべき情報の種類，タイミングの設
定，不具合に対する対処法等の管理情報等を入力するた
めのものである。入力部１２１には，例えばカーソルキ
ーや数字入力等を備えたキーボードやマウス等のポイン
ティングデバイスが用いられ，キーボードにおいて押下
されたキーの押下信号やマウスの位置信号を制御部１２
２に出力することができる。

【００４９】制御部１２２は，ホストコンピュータ７全
体を制御するものであり，ＡＧＣ４や入力部１２１等か
らの各種信号に従って，記憶部１２３に記憶されたプロ
グラムを読み出し，実行する。また，当該プログラムの
実行により導出された結果を記憶部１２３の所定領域に
格納したり，表示部１２４に出力させたりできる。な
お，制御部１２２には，例えばＣＰＵ等が用いられる。

【００５０】記憶部１２３には，例えば塗布現像処理装
置Ｍ１の蓄積情報を収集するための情報収集信号を定期
的に送信する情報収集信号送信プログラム，入手した蓄
積情報を表示部１２４に表示してベンダー６側の管理者
等に通知する蓄積情報表示プログラム，蓄積情報から導
出された対処法等の管理情報を工場２側に送信する管理
情報送信プログラム等が記憶されている。なお，記憶部
１２３は，例えばフラッシュＲＯＭ等の半導体メモリで
構成される。

【００５１】表示部１２４は，前記蓄積情報等をベンダ
ー６側の管理者等に表示するものであり，表示部１２４
には，例えばドットマトリクスタイプのカラー液晶表示
セル若しくはＣＲＴ（ＣａｔｈｏｄｅＲａｙＴｕｂ
ｅ）等が用いられる。

【００５２】次に，以上のように構成された管理システ
ム１の動作について説明する。先ず，管理システム１を
構成する塗布現像処理装置Ｍ１の情報蓄積プロセスにつ
いて，塗布現像処理装置Ｍ１で行われるフォトリソグラ
フィー工程のプロセスと共に説明する。

【００５３】塗布現像処理装置Ｍ１においては，カセッ
トステーション２０のカセットＣから未処理のウェハＷ
が１枚取り出され，第３の処理装置群G3に属するエクス
テンションユニット６２に搬送される。次いでウェハＷ
は，主搬送ユニット３０によってアドヒージョンユニッ
ト６１に搬入され，アドヒージョン処理が施される。ア
ドヒージョン処理終了後，ウェハＷは，クーリングユニ
ット６０に搬送され，所定温度に冷却された後，例えば
レジスト塗布ユニット３１に搬送される。

【００５４】レジスト塗布ユニット３１内には，所定温
度，湿度に調節された気体が供給管４３から供給され，
レジスト塗布ユニット３１内は，所定の温度，湿度に調
節される。このときの温度，湿度の調節は，温湿度セン
サ４４によってケーシング３１ａ内の温度と湿度が検出
され，コントロールセクション２６の第２制御部８１が
当該検出値に基づき温湿度調節部４８を制御することに
よって行われる。

【００５５】一方，レジスト塗布ユニット３１に搬送さ
れたウェハＷは，スピンチャック４０に吸着保持され，
駆動部４５によって所定の回転速度で回転される。レジ
スト吐出ノズル４２に所定流量のレジスト液が供給さ
れ，レジスト吐出ノズル４２からウェハＷの中心にレジ
スト液が吐出される。これにより，レジスト液がウェハ
Ｗ表面全面に拡散され，ウェハＷ上に所定膜厚のレジス
ト膜が形成される。

【００５６】レジスト塗布ユニット３１においてレジス
ト膜が形成されたウェハＷは，主搬送ユニット３０によ
ってプリべーキング６３，エクステンション・クーリン
グユニット６５に順次搬送され，さらにウェハ搬送体６
９によって周辺露光ユニット７０，露光処理装置（図示
せず）に順次搬送され，各ユニット等で所定の処理が施
される。そして露光処理の終了したウェハＷは，ウェハ
搬送体６９によりエクステンションユニット６６に搬送
され，その後，主搬送ユニット３０によってポストエク
スポージャーベーキングユニット６７，クーリングユニ
ット６４，現像処理ユニット３２，ポストベーキングユ
ニット６８及びクーリングユニット６０に順次搬送さ
れ，各装置において所定の処理が施される。その後，ウ
ェハＷは，エクステンションユニット６２を介してカセ
ットＣに戻され，一連のフォトリソグラフィー工程が終
了する。

【００５７】このような一連の塗布現像処理は上述した
ように，コントロールセクション２６のコントロールボ
ックス８２により制御される。このとき，コントロール
ボックス８２の第１制御部８０と第２制御部８１の制御
信号が，情報線８９を介してデータボックス８３に出力
され，上述した各ユニット等の情報が，蓄積部１００の
各々の蓄積領域に格納される。例えばレジスト塗布ユニ
ット３１に関しては，レジスト塗布ユニット３１内の温
湿度トレースデータ，ウェハＷの回転速度トレースデー
タ，レジスト液の吐出流量トレースデータ等が蓄積部１
００のレジスト塗布ユニット３１のための蓄積領域に格
納される。なお，他の塗布現像処理装置Ｍ２〜Ｍｎにお
いても同様に，塗布現像処理装置Ｍ２〜Ｍｎ毎に各種情
報が蓄積される。

【００５８】次いで，このように各ユニット等の情報が
蓄積された塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎを有する管理シ
ステム１全体のプロセスについて説明する。図１１は，
管理システム１のプロトコルフローである。

【００５９】管理システム１による管理が行われる前
に，予めベンダー６側の管理者によって，例えば情報収
集の対象となる塗布現像処理装置の識別番号，情報収集
信号の出力時間間隔，情報収集の対象となるユニット等
の名称，さらには当該ユニット内の詳細な情報名称等が
入力部１２１に入力される。なお，これらの設定は，必
要に応じて変更することができる。以下，塗布現像処理
装置Ｍ１のレジスト塗布ユニット３１の所定の情報を，
例えば１０分間隔で収集して管理する場合を説明する。

【００６０】塗布現像処理装置Ｍ１の稼動中に，ホスト
コンピュータ７の制御部１２２において情報収集信号送
信プログラムが実行され，情報収集信号がインターネッ
ト８を介して１０分間隔でＡＧＣ４に送信される。

【００６１】情報収集信号を受信したＡＧＣ４は，当該
情報収集信号から塗布現像処理装置の識別番号，ユニッ
ト名等を確認し，ＡＧＣ４から塗布現像処理装置Ｍ１の
データボックス８３に対して蓄積情報返信信号が送信さ
れる。

【００６２】データボックス８３が前記蓄積情報返信信
号を受信すると，データボックス８３の信号送信プログ
ラムが実行され，蓄積部１００の所定の蓄積領域に格納
されているレジスト塗布ユニット３１の情報，例えば温
湿度トレースデータ，ウェハＷの回転速度トレースデー
タ，レジスト液の吐出流量トレースデータ等が読み出さ
れる。そして，通信部１０３からＡＧＣ４に前記レジス
ト塗布ユニット３１の蓄積情報が返信される。

【００６３】ＡＧＣ４に収集された前記蓄積情報は，Ａ
ＧＣ４から例えば工場２側のコンピュータ５とベンダー
６側のホストコンピュータ７に送信される。

【００６４】インターネット８を介してホストコンピュ
ータ７で受信した前記蓄積情報は，例えば記憶部１２３
に記憶され，これと同時に所定の方式で表示部１２４に
表示される。例えば，図１２に示すようにレジスト塗布
ユニット３１の温度と湿度の所定期間のトレースデータ
が表示される。そして，ベンダー６側の管理者が当該表
示部１２４に表示されたレジスト塗布ユニット３１の温
度及び湿度の状態を診断し，不具合の有無を判定する。
例えば，温度，湿度の上限値よりも小さい不具合上限値
と，下限値よりも大きい不具合下限値とを設定してお
き，前記トレースデータが当該不具合上限値と不具合下
限値とを越える場合には，不具合があると判定される。

【００６５】不具合ありと判定された場合には，管理者
がトラブルの発生を回避するための対処法，例えば温
度，湿度の設定変更を工場２側の管理者であるプロセス
担当者や技術者に連絡する。この連絡手段は，例えば電
話，ファクシミリ，Ｅメール等が用いられる。また，イ
ンターネット８を介してベンダー６側の管理者が不具合
を直接治癒できるような場合には，ベンダー６側の管理
者がその対処法に基づいた管理情報をＡＧＣ４に送信す
る。当該管理情報を受信したＡＧＣ４は，ＬＡＮ９を介
して第１制御部８０に当該管理情報を送信し，第２制御
部８１を介してレジスト塗布ユニット３１の設定等が変
更される。これによって，不具合が解消し，トラブルが
回避できるとともに，ウェハＷがより好ましい温度，湿
度で処理される。また，不具合時の他の対処法として，
部品の交換，部品の追加，クリーニング，ソフトウェア
の変更等が行われる。

【００６６】一方，不具合が無いと判定された場合に
は，そのまま放置し，引き続き他の情報に関する診断を
行う。このとき，不具合が無かった事実を工場２側の管
理者に通知するようにしてもよい。

【００６７】以上の実施の形態で記載した管理システム
１によれば，インターネット８を介して十分な情報を入
手することができるので，ベンダー６側の管理者が現地
に赴かずに遠隔地から工場２側の塗布現像処理装置Ｍ１
〜Ｍｎを適切に管理することができる。これにより，ベ
ンダー６側の管理者が工場２側に赴く必要が無く，不具
合に対して迅速に対応できる。また，塗布現像処理装置
Ｍ１〜Ｍｎの情報を定期的に入手し，診断するようにし
たので，トラブルが発生する前にトラブルの前兆である
不具合を発見し，事前に対処することができる。

【００６８】工場２側にＡＧＣ４を設け，ＡＧＣ４と複
数の塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎとを接続して，塗布現
像処理装置Ｍ１〜Ｍｎの情報を収集するようにしたの
で，ベンダー６側のホストコンピュータ７とＡＧＣ４と
を接続することによって，複数の塗布現像処理装置Ｍ１
〜Ｍｎの情報を容易に取得することができる。

【００６９】以上の実施の形態では，レジスト塗布ユニ
ット３１の情報を収集する例について記載したが，当然
に塗布現像処理装置Ｍ１の他の蓄積情報について収集し
てもよい。また，収集する蓄積情報の種類，数，タイミ
ング及び蓄積期間等は，任意に選択できる。

【００７０】以上の実施の形態において，ベンダー６側
の管理者が工場２側の管理者に対処法等を提供するだけ
では，不具合が解消されない場合等には，ベンダー６側
の管理者が工場２に赴く必要がある。かかる場合に，例
えば工場２側のＬＡＮ９に接続でき，ＡＧＣ４と通信で
きるＰＣ（Ｐｅｒｓｏｎａｌｃｏｍｐｕｔｅｒ）を用
いてベンダー６側の管理者が対処するようにしてもよ
い。なお，ＰＣには，一般的な機能を有するものが用い
られる。

【００７１】この場合，工場２側に赴いたベンダー６側
の管理者が，先ずクリーンルームＲ外においてＰＣをＬ
ＡＮ９に接続し，ＡＧＣ４と通信できるようにする。そ
して，ベンダー６側の管理者が，既に得ている情報と現
地で得た情報等を参考にしてＰＣに不具合に対処するた
めの管理情報を入力し，当該管理情報がＡＧＣ４に送信
される。ＡＧＣ４に送信された管理情報は，ＡＧＣ４に
より塗布現像処理装置Ｍ１に送信され，例えば第２制御
部８１によって不具合のあるレジスト塗布ユニット３１
の設定等が修正される。

【００７２】このように，ベンダー６側の管理者等が工
場２側に赴いて対処する場合においても，ＰＣを用いて
クリーンルームＲ外から対処することにより，管理者等
がクリーンルームＲ内に入る必要が無くなり，クリーン
ルームＲ内の清浄雰囲気が維持される。また，管理者等
が逐次クリーンスーツ等に着替える必要が無くなり，手
間が省けるうえ，不具合に迅速に対応できる。

【００７３】以上の実施の形態では，塗布現像処理装置
Ｍ１〜Ｍｎの状態をベンダー６側の管理者が診断してい
たが，可能な場合にホストコンピュータ７が自動で診断
してもよい。例えばホストコンピュータ７の記憶部１２
３に，以前発生したトラブルの前兆を示す症状等に関す
る不具合情報と，当該不具合の対処法とを登録する。ま
た，記憶部１２３には，入手した塗布現像処理装置Ｍ１
〜Ｍｎの蓄積情報と前記不具合情報とを比較し，前記不
具合情報の中に蓄積情報に合致するものがある場合に
は，不具合があると判定し，さらに当該不具合の対処法
を提示する自動診断プログラムが設けられる。

【００７４】図１３は，自動診断プログラムを有するホ
ストコンピュータ７の動作を示す図である。ホストコン
ピュータ７が蓄積情報を受信する（Ｓ１）と，自動診断
プログラムが実行され，自動で塗布現像処理装置Ｍ１〜
Ｍｎの状態が診断される。すなわち，入手した蓄積情報
と登録されている不具合情報とが比較され（Ｓ２），不
具合情報の中に，蓄積情報に基づく塗布現像処理装置Ｍ
１〜Ｍｎの症状と一致するものがある場合には，不具合
があると判定され，その対処法が例えば表示部１２４に
表示される（Ｓ３）。その後，例えばベンダー６側の管
理者によって工場２側のプロセス担当者，技術者に連絡
され，当該プロセス担当者等によって対処される（Ｓ
４）。

【００７５】一方，不具合情報の中に蓄積情報と一致す
るものがなく，不具合が無いと判定された場合には，例
えば表示部１２４によって蓄積情報が管理者に通知さ
れ，例えば管理者によって再度診断される（Ｓ５）。こ
のとき，管理者によって初めて不具合があると診断され
た場合には，当該蓄積情報を記憶部１２３に登録（Ｓ
６）し，不具合情報が更新される。管理者によって不具
合がある判定された後は，上述したように工場２側の管
理者等に連絡され対処（Ｓ７）される。

【００７６】このようにホストコンピュータ７が自動で
診断し，その対処法を提示することによって，管理者等
が不具合に対して過去の経験に基づいた均質で適切な措
置を採ることができる。また，新しい不具合が起きたと
きに，その都度不具合情報が更新されるので，ホストコ
ンピュータ７の自動診断機能が向上される。

【００７７】なお，ホストコンピュータ７が自動で対処
法を提示した後は，ホストコンピュータ７自らがインタ
ーネット８を介して工場２側のコンピュータ５にその情
報を送信し，工場２側の管理者に通知してもよい。ま
た，ホストコンピュータ７が，提示した対処法に関する
管理情報をＡＧＣ４に送信し，ＡＧＣ４が塗布現像処理
装置Ｍ１〜Ｍｎに管理情報を送信することによって，自
動的に対処してもよい。かかる場合は，管理者が対処す
る必要が無く，自動でトラブル等が回避される。

【００７８】以上の実施の形態では，各塗布現像処理装
置Ｍ１〜Ｍｎの情報を定期的に収集しているのみであっ
たが，塗布現像処理装置Ｍ１〜Ｍｎにおけるトラブル発
生に応じて当該トラブル情報を収集するようにしてもよ
い。

【００７９】この場合，例えば塗布現像処理装置Ｍ１〜
Ｍｎにトラブルの発生を検知するアラーム機能が設けら
れる。そして，例えばＡＧＣ４に，前記トラブルに関す
るアラーム情報をベンダー６側に通知する通知手段が設
けられる。通知手段は，例えばインターネット８を用い
てホストコンピュータ７にアラーム情報を通知する通信
装置である。以下，かかる管理プロセスについて，図１
４のプロトコルフローに従って説明する。なお，トラブ
ルには，例えばウェハＷの処理環境に関する数値がしき
い値を越えた場合，塗布現像処理装置やユニットが故障
した場合，ウェハＷが破損，落下した場合等が含まれ
る。

【００８０】例えば塗布現像処理装置Ｍ１にトラブルが
発生すると，アラーム機能によりトラブルが検出され，
当該トラブルのアラーム情報がＡＧＣ４からベンダー６
側のホストコンピュータ７及び工場２側のコンピュータ
５に通知される。アラーム情報を受けたホストコンピュ
ータ７は，当該アラーム情報に基づいて，例えばトラブ
ルが発生した塗布現像処理装置，ユニット等を特定し，
当該ユニットの情報を入手するための情報収集信号をＡ
ＧＣ４に向けて発信する。

【００８１】前記情報収集信号はＡＧＣ４で受信され，
その後，ＡＧＣ４から塗布現像処理装置Ｍ１のデータボ
ックス８３にトラブル情報返信信号が送信される。蓄積
情報返信信号を受け取ったデータボックス８３では，ト
ラブルの発生したユニットの蓄積情報が読み出され，そ
の蓄積情報がトラブル情報としてＡＧＣ４に返信され
る。ＡＧＣ４に返信されたトラブル情報は，さらにＡＧ
Ｃ４によってインターネット８を介してホストコンピュ
ータ７に送信される。ホストコンピュータ７で前記トラ
ブル情報を受信すると，当該トラブル情報が表示部１２
４に表示され，ベンダー６側の管理者に通知される。

【００８２】その後の対処は，上述した定期的に蓄積情
報を収集する場合と同様であり，ベンダー６側の管理者
が対処法を決定し，工場２側のプロセス担当者，技術者
に通知してもよいし，ホストコンピュータ７が自動で対
処法を提示し，その提示に従ってプロセス担当者等が対
処してもよい。また，可能な場合にはホストコンピュー
タ７が自動で対処法に関する管理情報をＡＧＣ４側の送
信し，自動でトラブルに対処してもよい。

【００８３】また，トラブル情報を入手したホストコン
ピュータ７が，トラブルの内容若しくはレベルに応じて
工場２側の管理者のみで対処するのか，若しくはベンダ
ー６側の管理者の判断を必要とするのかを判定し，その
判定結果を両管理者に通知するようにしてもよい。例え
ば，トラブルをその内容に応じて予め２段階のレベルに
分けておき，レベル１が，工場２側の管理者のみで対処
するものとし，レベル２が，ベンダー６側の管理者の判
断を受けてから対処するものと設定しておく。そして，
ホストコンピュータ７にトラブル情報が入力されると，
ホストコンピュータ７により当該トラブルのレベルが認
定され，レベル１に認定された場合には，工場２側の管
理者が対処するという判定が下され，レベル２の場合に
は，ベンダー６側の管理者の判断が必要であるという判
定が下される。当該判定結果は，前記両管理者に通知さ
れる。これによって，例えば，比較的軽度なトラブルの
場合には，ベンダー６側の管理者の判断を待つことなく
工場２側の管理者のみで迅速に対応することができる。
また，比較的重度なトラブルで工場２側の管理者だけで
は十分な対処ができない場合には，専門知識を有するベ
ンダー６側の管理者の判断を得ることができるので，よ
り適切な対応を採ることができる。

【００８４】なお，上述したベンダー６側の管理者や工
場２側の管理者等へのアラーム情報の通知は，他の手
段，例えば電話，ファクシミリ，Ｅメール等で行っても
よい。

【００８５】前記実施の形態では，ホストコンピュータ
７がトラブルのレベルに応じてベンダー６側の管理者の
判断が必要か否かを判定していたが，例えばアラームを
検出した工場２側において，予め設定しておいたアラー
ムレベルに基づいて当該トラブルに対処すべき者を判定
し，当該判定された者にトラブル情報を送信するように
してもよい。

【００８６】例えば，工場２側のＡＧＣ４に，想定され
る多種のトラブルをアラームレベル１〜３に分類して設
定しておく。例えば比較的重度のトラブルであって，ベ
ンダー６側の管理者が対処すべきトラブルをアラームレ
ベル１とし，比較的軽度なトラブルであって，工場２側
の管理者が対応できる可能性のあるトラブルはアラーム
レベル２とし，工場２側の管理者が確実に対処できるト
ラブルをアラームレベル３とする。

【００８７】具体的には，アラームレベル１には，例え
ば搬送系のトラブルとして，ウェハＷの搬送装置の実際
の位置と制御系が認識している搬送装置の位置とが相異
している時のメカニカルリミットエラー，搬送に関連す
る制御系に異常がある場合の搬送系システムエラー，搬
送装置の初期化動作が実行できない場合の搬送装置初期
化動作不可エラー等が含まれる。アラームレベル２に
は，搬送装置の停止命令を解除できない場合の搬送装置
ポーズ解除エラー，搬送装置が移動できない時の搬送ア
ーム移動不可エラー，ウェハＷが搬送装置からはみ出て
いる時のウェハはみ出しエラー，搬送装置内の駆動ベル
トが動作中に切れた場合のベルト切断エラー等が含まれ
る。アラームレベル３には，エリアセンサが所定の検出
物を検知した際のエリアセンサ検知エラー，あるべきカ
セット内にウェハＷが無い時の空カセット検知エラー等
が含まれる。なお，搬送装置には，上記実施の形態で記
載した主搬送ユニット３０，ウェハ搬送体６９等を含
む。

【００８８】そして，塗布現像処理装置Ｍ１でトラブル
が発生し，アラームが発せられると，ＡＧＣ４において
アラームレベルが認定され，アラームレベル１の場合に
は，そのアラームのトラブル情報がベンダー６側のホス
トコンピュータ７にのみ送信され，ベンダー６側の管理
者に通知される。トラブル情報を入手したベンダー６側
の管理者は，当該トラブル情報に基づいてトラブルに適
切に対処する。なお，対処方法は，上述したように電話
等で工場２側の作業員に指示を与えてもよいし，インタ
ーネット８を介して管理情報を送信し，トラブルを解消
してもよい。

【００８９】アラームレベル２と認定された場合には，
トラブル情報が，例えば工場２側のコンピュータ５に送
信され，工場２側の管理者によって対処される。そし
て，それでもアラームが解消されない場合にのみ，当該
トラブル情報がベンダー６側のホストコンピュータ７に
送信され，ベンダー６側の管理者によって対処される。

【００９０】アラームレベル３と認定された場合には，
例えばトラブル情報が工場２側のコンピュータ５にのみ
送信られ，工場２側の管理者によって対処される。この
とき，トラブル情報が送信された旨をベンダー６側に通
知してもよい。

【００９１】このように，アラームレベルの内容に応じ
てトラブル情報の送信先を変えることによって，そのト
ラブルの種類にあった者に優先的に対応させることがで
きる。また，比較的軽度のトラブルを，ベンダー６側を
介さずに工場２側のみで対処させることもできるので当
該トラブルをより迅速に解消できる。また，工場２側で
対処できないトラブルに対しては，インターネット８に
よってベンダー６側にトラブル情報が送信されるので，
より専門的知識を有するベンダー６側の管理者によって
適切な対処することができる。なお，アラームレベル
は，１〜３に限られず任意に選択できる。

【００９２】以上で記載した実施の形態は，塗布現像処
理装置に関する管理システムであったが，ウェハの処理
装置は，他の処理装置，例えば露光装置，エッチング装
置，検査装置等であってもよい。また，塗布現像処理装
置のみの管理システムであったが，前記複数種類の処理
装置が含まれていてもよい。さらに，複数箇所の工場を
管理するようにしてもよい。またベンダー側の管理装置
も一箇所でなくても複数箇所に設けられていてもよい。
本発明は，ウェハの処理装置に適用されたが，ウェハ以
外の基板，例えばＬＣＤ基板，フォトマスク用のマスク
レチクル基板の処理装置においても適用できる。

【００９３】また，以上で記載した管理システムは，ト
ラブルや不具合のための情報を収集し管理する管理シス
テムであったが，本発明は，基板の処理装置のメンテナ
ンスを行うための情報を収集し管理する管理システムに
も適用でき，また処理された基板の検査情報を収集し，
その検査情報に基づいて基板の処理装置を管理する管理
システムにも適用できる。

【００９４】

【発明の効果】本発明によれば，遠隔地であっても十分
な情報を入手し，当該情報に基づいて，迅速かつ適切に
基板の処理装置の保守管理を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】実施の形態にかかる管理システムの概略構成図
である。

【図２】管理システムを構成する塗布現像処理装置の概
略を示す斜視図である。

【図３】図２の塗布現像処理装置の構成の概略を示す平
面図である。

【図４】図２の塗布現像処理装置の正面図である。

【図５】レジスト塗布ユニットの構成の概略を示す縦断
面の説明図である。

【図６】図２の塗布現像処理装置の背面図である。

【図７】コントロールセクションの構成を示すブロック
図である。

【図８】データボックスの構成を示すブロック図であ
る。

【図９】ＡＧＣの構成を示す説明図である。

【図１０】ホストコンピュータの構成を示す説明図であ
る。

【図１１】管理システムのプロトコルフローである。

【図１２】表示部に表示される蓄積情報の表示例を示す
説明図である。

【図１３】自動診断プログラムを有するホストコンピュ
ータの動作を示すフローである。

【図１４】管理システムの他のプロトコルフローであ
る。

【符号の説明】

１管理システム２工場Ｍ１〜Ｍｎ塗布現像処理装置４ＡＧＣ６ベンダー８インターネット９ＬＡＮ７ホストコンピュータ３１レジスト塗布ユニット８３データボックスＲクリーンルームＷウェハ

フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号ＦＩテーマコート゛(参考）Ｈ０１Ｌ 21/027 Ｈ０１Ｌ 21/30 ５６２５０２Ｇ (72)発明者上村良一東京都港区赤坂五丁目３番６号ＴＢＳ放送センター東京エレクトロン株式会社内 (72)発明者田中道夫東京都港区赤坂五丁目３番６号ＴＢＳ放送センター東京エレクトロン株式会社内Ｆターム(参考） 5F046 AA28 5H223 AA05 BB01 CC08 DD03 DD05 DD07 DD09 EE06

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】基板の処理装置を管理する管理システム
であって，前記処理装置の情報を蓄積する情報蓄積手段
と，前記情報蓄積手段から前記情報を収集する情報収集
装置と，インターネット又はイントラネットを介して前
記情報収集装置の前記情報を入手し，当該情報に基づい
て前記処理装置を管理する管理装置とを有することを特
徴とする，管理システム。
【請求項２】前記情報蓄積手段は，前記処理装置に設
けられていることを特徴とする，請求項１に記載の管理
システム。
【請求項３】前記処理装置は，複数の処理ユニットを
有し，前記情報蓄積手段には，前記各処理ユニットの情
報が蓄積されることを特徴とする，請求項１又は２のい
ずれかに記載の管理システム。
【請求項４】前記情報収集装置は，前記管理装置の指
示により前記情報蓄積手段の情報を収集することを特徴
とする，請求項１，２又は３のいずれかに記載の管理シ
ステム。
【請求項５】前記管理装置は，前記入手した情報に基
づいて前記処理装置を診断し，不具合がある場合は，そ
の不具合に応じた対処方法を提示することを特徴とす
る，請求項１，２，３又は４のいずれかに記載の管理シ
ステム。
【請求項６】前記管理装置は，前記処理装置にトラブ
ルがあった場合に前記処理装置の情報を収集し，当該情
報に基づいて前記処理装置のトラブルの原因を特定し，
前記トラブルの対処方法を提示することを特徴とする，
請求項１，２，３，４又は５のいずれかに記載の管理シ
ステム。
【請求項７】前記管理装置には，前記処理装置に関す
る過去のトラブル情報が登録されており，前記トラブル
の原因の特定は，前記トラブル情報に基づいて行われる
ことを特徴とする，請求項６に記載の管理システム。
【請求項８】前記管理装置は，前記トラブルの発生を
前記処理装置のベンダー側の管理者と，前記処理装置の
設置された工場側の管理者に通知し，前記トラブルの内
容に応じて，前記ベンダー側の管理者と前記工場側の管
理者の何れが対応すべきかを判定し，当該判定結果を前
記両管理者に通知することを特徴とする，請求項６又は
７のいずれかに記載の管理システム。
【請求項９】前記管理装置は，前記入手した情報に基
づいて得られた，前記処理装置を管理するための管理情
報を前記インターネット又はイントラネットを介して前
記情報収集装置に通知し，前記情報収集装置は，前記管
理情報に基づいて前記処理装置を管理することを特徴と
する，請求項１，２，３，４，５，６，７又は８のいず
れかに記載の管理システム。
【請求項１０】基板の処理装置を管理する管理方法で
あって，管理装置の指示により，情報収集装置が前記処
理装置の情報蓄積手段に蓄積されていた前記処理装置の
情報を収集し，前記管理装置は，インターネット又はイ
ントラネットを介して前記情報を入手し，当該情報に基
づいて前記処理装置を管理することを特徴とする，管理
方法。
【請求項１１】前記管理装置の指示は，定期的に行わ
れることを特徴とする，請求項１０に記載の管理方法。
【請求項１２】前記管理装置の指示は，前記処理装置
のトラブル発生時に行われることを特徴とする，請求項
１０又は１１のいずれかに記載の管理方法。
【請求項１３】前記管理装置は，前記トラブルの発生
を前記処理装置のベンダー側の管理者と，前記処理装置
の設置された工場側の管理者に通知し，前記トラブルの
内容に応じて前記ベンダー側の管理者と前記工場側の管
理者の何れが対応すべきかを判定し，当該判定結果を前
記両管理者に通知することを特徴とする，請求項１２に
記載の管理方法。