JP2003227572A - 受動マイクロバルブ - Google Patents
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Abstract
れ、システム全体が小型化される受動マイクロバルブを
提供する。 【解決手段】 本発明の受動マイクロバルブは、第1孔
部(2)を有する基板(1)を備える。上側プレート
(7a)は、基板上に実装され、基板と上側プレートの
間に形成された空間と連通する第2孔部(7b)を有す
る。閉塞部材(4)が空間内に実装され、第1位置と第
2位置の移動することができる。第1位置にある閉塞部
材により、流体が第1孔部と第2孔部の間を流れること
を可能とし、第2位置にある閉塞部材により、第2孔部
が閉塞される。
Description
システムにおける液体または気体の流れを制御する際に
利用可能な受動マイクロバルブに関する。
たは気体の流れを微小流体システム内で制御する上で利
用できるいくつかの形式の受動マイクロバルブがある。
これらの殆どのバルブは、シリコンのマイクロマシーン
技術を用いて製造される。
ば、マイクロバルブは、単結晶シリコンのバルクマイク
ロマシーン技術により製造される。このマイクロバルブ
は、開閉するために加えられる正方向または逆方向の圧
力に呼応して湾曲するシリコン製の片持ち梁(カンチレ
バー)またはプレートを備える。欧州特許出願第048
3469号によれば、表面マイクロマシーン技術を用い
た同種のカンチレバーバルブの製造方法が開示されてい
る。
ば、表面マイクロマシーン技術で形成されたバルブを有
するマイクロポンプが開示されている。カンチレバーブ
リッジが、すべての表面上において蝶番式に取り付けら
れ、フレキシブルアームにより中心部が支持されたフラ
ップまたはプレートを有する。中央プレートは、正方向
および逆方向の圧力に対して開き、そして閉じる。
内の孔部を通過して、バルブを介して外側へ流れる方向
において動作する。したがって、マイクロポンプ等への
用途において、入口バルブと出口バルブをシリコンウェ
ーハの対向する表面上に形成する必要性が生じる。ウェ
ーハの両面に精密な加工を施すことは、複雑な製造プロ
セスを強要するものであり、システム全体をさらに小型
化する上で障害となる。
259,737号、第5,759,015号、および国
際特許出願第92/01160号によれば、マイクロポ
ンプを構成するために、入力バルブと出力バルブを複合
化できる、バルクマイクロマシーン技術によるバルブが
開示されている。バルブウェーハは、キャビティウェー
ハにより包囲され、入口および出口孔部、または入口お
よび出口チャンネルを含む別のウェーハに固定される。
または表面マイクロマシーン技術を用いて形成され、独
立式(スタンドアロン式)のデバイスとして用いる場
合、あるいはマイクロポンプなどの他の微小流体デバイ
スに組み込む場合、少なくとも3つの基板を処理する必
要がある。
ブは、第1孔部を有する基板と、基板上に実装された上
側プレートとを備え、上側プレートは、基板と上側プレ
ートの間に形成された空間と連通する第2孔部を有し、
空間内に実装され、第1位置と第2位置の移動できる閉
塞部材をさらに備え、第1位置にある閉塞部材により、
流体が第1孔部と第2孔部の間を流れることを可能と
し、第2位置にある閉塞部材により、第2孔部が閉塞さ
れることを特徴とする。一般に、このマイクロバルブ
は、出力バルブとして形成され、第1孔部が出口孔部
を、第2孔部が入口孔部を構成する。
たは処理される基板の数を最小限に抑えることができ
る。これにより、全体の製造プロセスを簡略化し、シス
テム全体の小型化を実現することができる。このマイク
ロバルブは、好適には、表面マイクロマシーン技術を用
いて形成される。流体は、まずマイクロバルブおよび基
板(例えばウェーハ)内を通って流れる方向に、すなわ
ち先行技術の表面バルブとは逆の方向に流れる。本発明
の主要な利点は、マイクロポンプなどの入力および出力
バルブを組み合わせた構造体を製造する上で、両方の形
式のバルブを同じ基板表面上に形成できる点にある。バ
ルブを使用する殆どの場合において、2マ枚の基板だけ
を処理すればよい。
流れる流体フローは、先行技術によるデザインとは反対
方向に流れ、集積化されたシステムにおいては、極めて
重要なことである。
に実装することができる。例えば、カンチレバー式に、
閉塞部材をフレキシブルアーム上に支持してもよい。し
かし、好適には、一連の(通常4つの)フレキシブルア
ームを用いて、閉塞部材を支持する。都合のよいこと
に、閉塞部材とアームは、フレキシブルダイアフラムと
して構成される
孔部を閉塞するまで物理的に移動できないように、閉塞
部材を構成することができる。このとき、マイクロバル
ブは、第1孔部に向かう閉塞部材の移動を規制するため
の少なくとも1つのストップ部材をさらに有する。この
ストップ部材は、閉塞部材上に形成することもできる
が、好適には、基板上に形成される。
マイクロマシーン技術を用いて、シリコンまたはガリウ
ム砒素等の一般的な半導体材料、ガラス、ポリアミド、
クォーツ、セラミック、プラスチック、または金属を用
いて製造することができる。好適な実施形態において
は、基板は単結晶シリコンウェーハからなり、上側プレ
ートおよび閉塞部材の一方または両方は、多結晶質シリ
コンで形成される。
ポンプまたはマルチチャンネルアナライザ等の微小流体
デバイスを含む広範な用途において用いることができ
る。
ンプチャンバを形成するために基板の上方に配置された
フレキシブルなダイアフラムと、基板の1つの表面上に
実装され、フレキシブルなダイアフラムに面し、基板内
を貫通して延びる各開口部を介して連通する入力および
出力マイクロバルブとを備え、少なくとも1つのマイク
ロバルブが本発明にしたがって構成され、ダイアフラム
を湾曲させ、流体をポンプ方向でマイクロポンプを介し
て流すためのアクチュエータをさらに備える。
イクロバルブ、マイクロポンプ、およびマイクロバルブ
の製造方法に関するいくつかの具体例について、以下説
明する。
物は、フレキシブルなアームにより支持された可動式バ
ルブプレートを有する。このバルブプレートは、液体ま
たは気体の流速が増大または低減するように、加えられ
た圧力に呼応して移動する。
るマイクロバルブの断面図である。基板層(基板プレー
ト)1は、図2aにおいて、流体が流れ出るための外向
きに傾斜する出口孔部2を有する。第2の層(第2プレ
ート)3は、図2bにおいて、複数のフレキシブルな支
持アーム5を含む可動式バルブプレートまたは閉塞部材
4からなり、第2層の外側端部は基板層1に固定されて
いる。バルブ動作時、流体は、これらの支持アーム5の
周囲にあるホール6を通過して流れる。最上層(上側プ
レート)7aには、図2cに示すように、流体の流れを
可能にするための入口孔部7bを含むバルブ閉塞ブリッ
ジが形成される。上側プレート7aおよび基板プレート
1は、両者の間にバルブチャンバを構成する。
プレート4は、図3aに示すように下方向へ湾曲し、流
体は、ブリッジ7a上の入口孔部7bを通って流れるこ
とができる。そして流体は、支持アーム5の周囲にある
ホール6を通過し、最終的には出口孔部2を通過して流
れ出る。正方向の高い圧力が加わったとき、バルブプレ
ート4が出口孔部2を完全に塞いで、流れが堰き止めら
れることを防止するために、複数のピラー(柱部)9が
基板プレート1上に形成される。逆方向の圧力が加わっ
たとき、バルブプレート4は、図3bに示すように、バ
ルブブリッジ7aに向かって持ち上げられ、これに対し
て押圧される。こうして入口孔部7bは塞がれ、流れが
止まる。
いて、入口孔部7b、出口孔部2、および/またはバル
ブプレート4は、円形形状を有していてもよい。製造方
法に依存するが、下部犠牲層を除去しやすくするため
に、フレキシブル支持アーム5に孔部を設けることが好
ましい。バルブプレート4は、剛性を増大させるため
に、フレキシブル支持アーム5より厚くなるように形成
される。
シリコンウェーハである。必要ならば、数多くのバルブ
をこのウェーハ上に同時に形成してもよい。こうした技
術によれば、他の流体構成部品を同時に形成して、複数
のシステムまたは複合的なシステムを各シリコンウェー
ハ上に形成することができる。
小流体システム11の一部として、流体チャンネル内に
組み込まれた状態が図示されている。3層の基板が用い
られているが、そのうち2層だけにパターン形成されて
いる。上側基板12は、ガラス、シリコン、または他の
適当な材料で構成されていてもよいが、その底面に形成
された入口チャンネルまたは凹部13を有する。中間基
板14は、一般には、シリコンウェーハであるが、マイ
クロバルブ10を有し、その底面に形成された流体チャ
ンネル(出口チャンネル)15をさらに有する。下側チ
ャンネル16は、シリコンまたはガラスからなるが、出
口チャンネル15を包囲する。(すなわち、図4に示す
基板14は、図1に示す基板プレート1の機能を果た
す。)作動時において、流体は、入口チャンネル13を
介して、バルブ10を通り、出口チャンネル15から流
れ出ることができる。反対方向の圧力が加えられたと
き、このバルブは閉じ、流体の流れを抑制または阻止す
る。
する方法の一例を図5に示す。マイクロポンプ20は、
シリコンまたはガラス製の下側基板21を有し、下側基
板21が中間基板22を支持し、さらに中間基板22が
上側基板23を支持する。中間基板22は、入力開口部
および出力開口部26,27とそれぞれ流体連通する入
口および出口チャンネル24,25を有する。中間基板
22には、同様に、入力バルブ28が形成され、この入
力バルブ28は、図1に示すマイクロバルブの第2プレ
ート3と同様の形態を有していてもよく、入力開口部2
6を塞ぐように湾曲することができる。加えて、中間基
板22には、図1に示すマイクロバルブと同様の構造を
有する出力バルブ29が形成されている。
イアフラム31と中間基板22との間に形成される。上
側基板23は、ダイアフラム31を形成した後に、中間
基板22に固定される。この製造方法において、3つの
基板を必要とするが、パターン加工する必要がある基板
は2つだけである。
ム31を湾曲させる手段が必要となる。すなわち、圧
電、熱、または他の形態によるアクチュエータ32を用
いて、これを実現することができる。ダイアフラム31
が下方へ湾曲すると、ポンプチャンバ30内の圧力が増
加し、出力バルブ29が開き、流体が出口チャンネル2
5に流れる。ダイアフラム31が元の位置に戻るか、上
方へ湾曲すると、ポンプチャンバ30内の圧力が減少
し、出力バルブ29が閉じ、入力バルブ28が開き、そ
の結果、ポンプチャンバが入口チャンネル24から流れ
込む流体で充填される。
ルブ構造体は、表面およびバルクマイクロマシーン技術
の組み合わせを用いて製造することができる。マイクロ
バルブの製造を可能とするための1つの方法について以
下説明するが、当業者ならば択一的な製造方法の可能性
を認識することができる。
所酸化法(LOCOS)および化学機械的研磨法(CM
P)を用いて、表面マイクロマシーン法の利用に際し
て、合理的に平坦な表面を維持することを支援する。
は、シリコン基板ウェーハ40上に(通常、100nm
の厚みを有する)酸化シリコン層41と、(通常、10
0nmの厚みを有する)窒化シリコン層42とを被膜す
ることから始まる。そして、これらの層は、標準的なフ
ォトリソグラフィ技術を用いてパターン形成され、露出
されたシリコンは、図6において、4つの突出したピラ
ー9を含む凹部43が形成されるように、通常1.5μ
mの深さまでエッチングされる。次に、図7に示すよう
に、標準的なLOCOS技術を用いて、これを熱酸化し
て、酸化シリコンからなる凹状層44を形成する。
すように、(通常、1μmの厚みを有する)酸化シリコ
ン層45が積層され、バルブの周囲に相当する領域にお
いてシリコンウェーハが露出するようにエッチングを行
う。次に、(通常、3μmの厚みを有する)多結晶質シ
リコン層46を積層する。これは、図9に示すように、
表面を平坦化するために研磨される。ウェーハの裏面上
に形成されるすべての多結晶質シリコンが除去される。
つの支持アーム5の製造方法を示す。これらの製造は、
平坦な表面を維持するために、LOCOS法を用いて行
われる。図9に示すウェーハに酸化シリコン層47と、
窒化シリコン層48を被膜し、後にこれらの層にパター
ンを形成する。多結晶質シリコン層46の約1/2から
約2/3の厚みに達するまで、露出した多結晶質シリコ
ン領域がエッチングされる。エッチングして形成された
凹部内に残存する多結晶質シリコンを消費するために、
酸化シリコン層50を熱成長させる。酸化シリコン層5
0の表面は、多結晶質シリコン層46の上面とほぼ同じ
高さにある。窒化シリコン層48は実質的に除去され
る。
コン層51が積層され、第1の多結晶質シリコン層46
が露出するようにエッチングされる。図12において、
(通常、2.5μmの厚みを有する)第2の多結晶質シ
リコン層52が積層され、入口孔部7bを含む閉塞バル
ブブリッジを形成するようにエッチングされる。多結晶
質シリコンは、裏面において、プラズマエッチングによ
り除去される。
シリコン層53が第2の多結晶質シリコン層52上(マ
イクロバルブ表面)および酸化シリコン層41上(マイ
クロバルブ裏面)に積層される。マイクロバルブ表面上
の窒化シリコン層は、多結晶質バルブ構造体を保護する
機能を有する。マイクロバルブ裏面にある窒化シリコン
層にはパターンが形成され、図13に示すような孔部2
を形成するために、シリコン基板40が水酸化カリウム
溶液を用いてエッチングされる。最後に、酸化層が濃縮
フッ酸溶液(HF)を用いて除去して、バルブ構造体を
形成する。
デザインによるマイクロバルブが有する一般的なフロー
特性を図14および図15に示す。消イオン水をバルブ
に流したとき、正方向および逆方向の流れを測定した結
果について評価した。図14は、マイクロバルブの支持
アームの長さが400μmおよび500μmである場合
のマイクロバルブの正方向における流速−圧力特性を示
す。同様に、マイクロバルブの逆方向における流速−圧
力特性を図15に示す。これらの特定のデバイスに関し
て、正方向の流速は、逆方向の流速よりも約10倍速
い。
的な断面図である。
クロバルブを構成する主要な3つの層を示す平面図であ
る。
であるが、圧力が加えられる方向が異なるときのマイク
ロバルブを示す。
イクロバルブの概略的な断面図である。
クロバルブの概略的な断面図である。
段階を示す。
段階を示す。
段階を示す。
段階を示す。
つの段階を示す。
つの段階を示す。
つの段階を示す。
つの段階を示す。
れた試験結果を示すグラフである。
れた試験結果を示すグラフである。
の層(第2プレート)、4…可動式バルブプレート(閉
塞部材)、5…フレキシブルな支持アーム、6…ホー
ル、7a…最上層(上側プレート、ブリッジ)、7b…
入口孔部、9…ピラー(柱部)、10…マイクロバル
ブ、11…微小流体システム、12…上側基板、14…
中間基板、15…流体チャンネル(出口チャンネル)、
16…下側チャンネル、20…マイクロポンプ、21…
下側基板、22…中間基板、23…上側基板、24…入
口チャンネル、25…出口チャンネル、26…入力開口
部、27…出力開口部、28…入力バルブ、29…出力
バルブ、30…ポンプチャンバ、31…ダイアフラム、
32…アクチュエータ、40…シリコン基板ウェーハ、
41…酸化シリコン層、42…窒化シリコン層、43…
凹部、44…凹状層、45…酸化シリコン層、46…多
結晶質シリコン層、47…酸化シリコン層、48…窒化
シリコン層、50…酸化シリコン層、51…酸化シリコ
ン層、52…第2の多結晶質シリコン層、53…窒化シ
リコン層。
Claims (9)
- 【請求項1】 受動マイクロバルブであって、 第1孔部を有する基板と、 基板上に実装された上側プレートとを備え、 上側プレートは、基板と上側プレートの間に形成された
空間と連通する第2孔部を有し、 空間内に実装され、第1位置と第2位置の移動できる閉
塞部材をさらに備え、 第1位置にある閉塞部材により、流体が第1孔部と第2
孔部の間を流れることを可能とし、 第2位置にある閉塞部材により、第2孔部が閉塞される
ことを特徴とする受動マイクロバルブ。 - 【請求項2】 請求項1に記載の受動マイクロバルブで
あって、 閉塞部材は、少なくとも1つのフレキシブルアームによ
り支持されることを特徴とする受動マイクロバルブ。 - 【請求項3】 請求項1または2に記載の受動マイクロ
バルブであって、 閉塞部材は、フレキシブルなダイアフラムの一部を構成
することを特徴とする受動マイクロバルブ。 - 【請求項4】 請求項1ないし3のいずれか一に記載の
受動マイクロバルブであって、 第2孔部に向かって閉塞部材が移動することを規制する
ための少なくとも1つのストップ部材をさらに有するこ
とを特徴とする受動マイクロバルブ。 - 【請求項5】 請求項4に記載の受動マイクロバルブで
あって、 ストップ部材は、基板上に設けられることを特徴とする
受動マイクロバルブ。 - 【請求項6】 請求項1ないし5のいずれか一に記載の
受動マイクロバルブであって、 基板は、単結晶シリコン、ガリウム砒素、ガラス、クォ
ーツ、セラミック、金属またはプラスチックからなるウ
ェーハを含むことを特徴とする受動マイクロバルブ。 - 【請求項7】 請求項1ないし5のいずれか一に記載の
受動マイクロバルブであって、 上側プレートおよび/または閉塞部材は、多結晶質シリ
コン、金属、ポリアミド、ガラス、またはプラスチック
を用いて構成されることを特徴とする受動マイクロバル
ブ。 - 【請求項8】 微小流体デバイスであって、 基板の同一平面上に形成された複数のマイクロバルブを
備え、 各マイクロバルブは、基板内を貫通して延びる各開口部
を介して連通し、 少なくとも1つのマイクロバルブが、請求項1ないし7
のいずれか一に記載されたように構成されたことを特徴
とする受動マイクロバルブ。 - 【請求項9】 マイクロポンプであって、 基板と、 ポンプチャンバを形成するために基板の上方に配置され
たフレキシブルなダイアフラムと、 基板の1つの表面上に実装され、フレキシブルなダイア
フラムに面し、基板内を貫通して延びる各開口部を介し
て連通する入力および出力マイクロバルブとを備え、 少なくとも1つのマイクロバルブが、請求項1ないし7
のいずれか一に記載されたように構成され、 ダイアフラムを湾曲させ、流体をポンプ方向でマイクロ
ポンプを介して流すためのアクチュエータをさらに備え
たことを特徴とするマイクロポンプ。
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GBGB0123054.9A GB0123054D0 (en) | 2001-09-25 | 2001-09-25 | Passive microvalve |
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Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
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JP2003227572A5 JP2003227572A5 (ja) | 2005-11-10 |
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Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2002279388A Pending JP2003227572A (ja) | 2001-09-25 | 2002-09-25 | 受動マイクロバルブ |
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GB (1) | GB0123054D0 (ja) |
Cited By (5)
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