JP2003222654A - プローブ装置 - Google Patents

プローブ装置

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JP2003222654A
JP2003222654A JP2002021048A JP2002021048A JP2003222654A JP 2003222654 A JP2003222654 A JP 2003222654A JP 2002021048 A JP2002021048 A JP 2002021048A JP 2002021048 A JP2002021048 A JP 2002021048A JP 2003222654 A JP2003222654 A JP 2003222654A
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晴彦 吉岡
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 機械的な振動を早期に減衰させることがで
き、良好な測定を高スループットで行うことができると
ともに、振動による電極パッドの損傷の発生を抑制する
ことのできるプローブ装置を提供する。 【解決手段】 プローブ装置の筐体2を構成するヘッド
プレート2aの裏面側に、ピエゾ素子からなり、機械的
な振動エネルギーを電気エネルギーに変換する板状の変
換素子30が複数設けられており、これらの変換素子3
0には、変換素子30によって変換された電気エネルギ
ーに基づく電流を減衰させて消滅させるための電気回路
31が接続されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、半導体ウエハ等の
被測定基板に形成された半導体素子に、プローブカード
に設けられたプローブ針を接触させて電気的な検査を行
うプローブ装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、例えば、半導体装置の製造分
野においては、一枚の半導体ウエハ上に形成された多数
の半導体素子について、これらを切断する前に夫々の電
気的特性を測定してその良否を検査すること等が行われ
ており、このような検査には、プローブ装置が使用され
ている。
【0003】すなわち、上記プローブ装置には、半導体
ウエハを保持するウエハ載置台が設けられており、この
ウエハ載置台は、X−Yテーブル等からなるX−Y駆動
機構、及び、Z軸駆動機構等からなる駆動機構を具備し
ている。そして、この駆動機構によって、半導体ウエハ
を保持した状態で、X−Y−Z方向に移動可能に構成さ
れている。
【0004】また、上記ウエハ載置台の上方には、半導
体素子の電極パッドに対応して多数のプローブ針が設け
られたプローブカードを保持するためのプローブカード
保持機構が設けられている。
【0005】そして、上記プローブカード保持機構に、
所定のプローブカードを設け、ウエハ載置台に、電気的
特性の検査を行う半導体ウエハを配置して、ウエハ載置
台をX−Y−Z方向に移動させることによって、プロー
ブ針と半導体素子の電極パッドとを順次接触させ、プロ
ーブ針に電気的に接続されたテスターによって、各半導
体素子の電気的特性の良否を検査するようになってい
る。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】上述したとおり、プロ
ーブ装置においては、ウエハ載置台を移動させ、プロー
ブ針と半導体素子の電極パッドとを順次接触させるよう
になっているが、このようなウエハ載置台の移動は、ス
テップ状にウエハ載置台の移動、停止を繰り返す動作と
なる。そして、このウエハ載置台が停止している間に、
半導体素子の電気的な特性の検査を行う。
【0007】しかしながら、移動させたウエハ載置台を
停止させても、かかるウエハ載置台の移動及び停止動作
を行うことによって、プローブ装置の各構成部材には、
機械的な振動が生じる。このため、機械的な振動によっ
て、電極パッドとプローブ針との接触が不安定になり、
良好な電気的特性の測定を行うことができないという問
題がある。
【0008】また、かかる問題を解決するために、ウエ
ハ載置台を停止させた後、所定のディレイタイムを設
け、かかるディレイタイムの後に測定を行うことも行わ
れているが、このようなディレイタイムが長くなると、
当然のことながら、スループットが低下するという問題
が生じる。
【0009】さらに、プローブ針と半導体素子の電極パ
ッドとが接触した状態で振動が加えられると、電極パッ
ドの表面がプローブ針によって不所望に削られ、損傷を
受けるという問題も生じる。
【0010】さらにまた、上記のような機械的振動が、
位置合せ用のカメラ等に伝わると、被写界深度が浅いよ
うな場合はフォーカスを行えなくなるという問題が生
じ、また、フォーカスできたとしても画像がブレて位置
合せが行えなくなるという問題が生じる。このため、い
ずれにしても、振動が収束するまで、位置合せが行えな
くなり、スループットに悪影響を与えるという問題があ
る。
【0011】このような機械的な振動の問題は、近年、
半導体ウエハが12インチ径等に大口径化されることに
よってウエハ載置台の構成部材等も大型化し、その重量
が増大することから、特に顕著になる傾向にある。
【0012】本発明は、かかる従来の事情に対処してな
されたもので、機械的な振動を早期に減衰させることが
でき、良好な測定を高スループットで行うことができる
とともに、振動による電極パッドの損傷の発生を抑制す
ることのできるプローブ装置を提供しようとするもので
ある。
【0013】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するた
め、請求項1の発明は、半導体素子が形成された被処理
基板が載置される載置台と、前記半導体素子の電極パッ
ドに対応して複数のプローブ針が設けられたプローブカ
ードを保持するプローブカード保持機構と、前記載置台
を移動させ、前記電極パッドに前記プローブ針を順次接
触させる駆動機構とを具備したプローブ装置であって、
当該プローブ装置の構成部材に生じる機械的な振動エネ
ルギーを電気エネルギーに変換する変換素子と、前記変
換素子によって変換された電気エネルギーに基づく電流
を消滅させる電気回路とを有する振動減衰機構を具備し
たことを特徴とする。
【0014】請求項2の発明は、請求項1記載のプロー
ブ装置において、前記変換素子が、複数設けられたこと
を特徴とする。
【0015】請求項3の発明は、請求項1又は2記載の
プローブ装置において、前記変換素子が、ピエゾ素子で
あることを特徴とする。
【0016】請求項4の発明は、請求項1〜3いずれか
1記載のプローブ装置において、前記変換素子が、前記
プローブカード保持機構が固定された板状部材に設けら
れていることを特徴とする。
【0017】請求項5の発明は、請求項1〜4いずれか
1記載のプローブ装置において、前記変換素子が、前記
被処理基板を撮像して位置合せを行うための位置合せ用
カメラが支持された支持部材に設けられていることを特
徴とする。
【0018】請求項6の発明は、請求項1〜5いずれか
1記載のプローブ装置において、前記電気回路が、LR
直列回路から構成されていることを特徴とする。
【0019】
【発明の実施の形態】以下、本発明の詳細を、実施の形
態について図面を参照して説明する。
【0020】図1,2は、本発明の一実施形態のプロー
ブ装置の構成を示すもので、図1はプローブ装置全体の
外観構成を示すものであり、図2はプローブ装置の要部
断面概略構成を示すものである。
【0021】これらの図に示すように、プローブ装置
は、その外装体である筐体2を具備しており、筐体2の
上面にはヘッドプレート2aが設けられている。このヘ
ッドプレート2aには、インサートリング21が設けら
れており、インサートリング21には、図示しないプロ
ーブカード保持機構が設けられ、このプローブカード保
持機構によって、図2に示すプローブカード4が着脱自
在に保持されている。
【0022】なお、筐体2内には、半導体ウエハを収容
したウエハカセット、これらのウエハ載置台とウエハカ
セットとの間で半導体ウエハWを搬送するための搬送機
構(いずれも図示せず)等も収納されている。
【0023】また、図1において、3は、プローブカー
ド4をインサートリング21と筐体2の外部との間で搬
送するためのトレー、23は、トレー3を不使用時に覆
うカバー、24はプローブ装置を操作するための画面を
表示するためのディスプレイ装置である。
【0024】上記トレー3は、使用時には水平な状態
で、筐体2内と外部との間で水平に回動しかつ昇降でき
るよう構成されており、不使用時には図1に示すよう
に、縦に倒れて筐体2の正面側と平行な状態とされるよ
うに構成されている。
【0025】また、図2に示すように、筐体2の底部に
は、プローバベース2bが設けられており、プローバベ
ース2bとヘッドプレート2aとの間には、筐体2の側
面部を構成する側壁構成部材2cが設けられている。
【0026】上記筐体2の中には、X−Y方向への駆動
機構として、X−Yステージ5が設けられており、X−
Yステージ5の上にZ軸駆動機構6を介して、ウエハ載
置台(チャックトップ)7が設けられている。このウエ
ハ載置台7上には、半導体ウエハWが載置され、この半
導体ウエハWが、図示しない真空チャックによって吸着
保持されるようになっている。
【0027】また、ウエハ載置台7の上方には、筐体2
の両側側壁部の間に掛け渡されるように支持部材8が設
けられており、この支持部材には、半導体ウエハWを撮
像して位置合せを行うためのブリッヂカメラ9が配置さ
れている。支持部材8の両端部には、レール10が設け
られており、支持部材8をこれらのレール10に沿って
図中紙面に垂直方向に移動させることにより、ブリッヂ
カメラ9を、ウエハ載置台7の上方の撮像位置と、ウエ
ハ載置台7の上方から退避した退避位置に配置させるよ
う構成されている。
【0028】さらに、本実施の形態においては、ヘッド
プレート2aの裏面側に、ピエゾ素子からなり、機械的
な振動エネルギーを電気エネルギーに変換する板状の変
換素子30が複数設けられている。また、これらの変換
素子30には、図3に示すように、変換素子30によっ
て変換された電気エネルギーに基づいて発生する電流を
消滅させるための電気回路31が接続されている。
【0029】上記電気回路31は、コイル等からなるイ
ンダクタンス成分31aと、可変抵抗からなる抵抗成分
31bから構成されるLR直列回路となっており、変換
素子30で生じた電流の振動を短時間で減衰させて電流
を短時間で消滅させることができるようになっている。
なお、上記インダクタンス成分31a及び抵抗成分31
bの値は、変換素子30によって変換された電気エネル
ギーに基づいて発生する電流の振動数等により適宜選択
する必要がある。
【0030】以上のとおり、本実施の形態においては、
上記変換素子30と電気回路31とによって、機械的な
振動のエネルギーを電気的エネルギーに変換して消滅さ
せ、ヘッドプレート2aに発生する機械的な振動を短時
間で減衰させることのできる振動減衰機構が構成されて
いる。
【0031】上記変換素子30は方向性を有するもので
あり、ヘッドプレート2aに発生する機械的な振動を効
率良く減衰させるためには、変換素子30のヘッドプレ
ート2aにおける配置位置及び配置方向を、ヘッドプレ
ート2aに発生する機械的な振動の方向によって適宜設
定する必要がある。
【0032】ここで、ヘッドプレート2aは、その四隅
が図示しない柱状部材によって支持される構造となって
いる場合が多いことから、この四隅を支点としてヘッド
プレート2aの中央部側が撓むように振動する場合が多
い。
【0033】このため、例えば、図4に示すように、ヘ
ッドプレート2aの四隅に、変換素子30を夫々(合計
4つ)配置したり、また、図5に示すようにヘッドプレ
ート2aの四隅とこれらの間に合計8つ変換素子30を
配置する構成とすることができる。なお、変換素子30
のヘッドプレート2aに対する固定方法としては、両側
端部をねじ止め等により固定するか、貼着する等の方法
を使用することができる。
【0034】勿論、変換素子30の配列、及び個数は、
上記以外の配列、及び個数とすることも可能であり、ヘ
ッドプレート2aに発生する機械的振動が効率良く変換
素子30に伝わり、変換素子30によってこの機械的振
動のエネルギーが効率良く電気エネルギーに変換される
ようにすれば、変換素子30の配列、及び個数はどのよ
うにしても良い。
【0035】また、電気回路31は、例えば、図6に示
すように、インダクタンス成分31aとして、2個のオ
ペアンプを用いた構成とすることもできる。このような
構成とすると、大きなインダクタンスを比較的小さな回
路で実現することができ、また、インダクタンスを可変
とすることができる。
【0036】上記構成のプローブ装置では、図示しない
搬送装置によって半導体ウエハWを搬送し、ウエハ載置
台7上に載置して、真空チャックによりこの半導体ウエ
ハWをウエハ載置台7上に吸着する。
【0037】この後、X−Yステージ5及びZ軸駆動機
構6によって、ウエハ載置台7をX−Y−Z方向に移動
させることにより、ウエハ載置台7上の半導体ウエハW
に形成された多数の半導体素子の電極パッドに、プロー
ブカード4に設けられたプローブ針4aを順次接触させ
て、半導体素子との電気的導通を得、プローブ針4aと
電気的に接続されたテスターにより、各半導体素子の電
気的特性の測定が行われる。
【0038】この際に、上記のX−Yステージ5及びZ
軸駆動機構6の駆動によるウエハ載置台7の移動によ
り、筐体2等が機械的に振動し、プローブカード4が支
持されたヘッドプレート2aも機械的に振動する。
【0039】しかしながら、上述した変換素子30によ
って、このような機械的な振動エネルギーは、電気エネ
ルギーに変換され、この電気エネルギーに基づく電流
は、電気回路31によって直ちに減衰され、消滅させら
れるので、ヘッドプレート2aの機械的な振動は、変換
素子30と電気回路31から構成される振動減衰機構に
よってそのエネルギーが吸収され、直ちに減衰される。
【0040】したがって、X−Yステージ5及びZ軸駆
動機構6を駆動し、ウエハ載置台7を移動させて、半導
体ウエハWに形成された半導体素子の電極パッドにプロ
ーブ針4a接触させた後、ディレイタイムを長くとるこ
となく、直ぐに電気的測定を開始することができ、スル
ープットの向上を図ることができる。
【0041】また、プローブ針4aが電極パッドに接触
した状態で生じる機械的振動を抑制することができるの
で、機械的振動によって電極パッドに損傷が発生するこ
とを抑制することができる。
【0042】上記の実施形態では、ピエゾ素子からなる
変換素子30を、ヘッドプレート2aに配置した場合に
ついて説明したが、前述したブリッヂカメラ9が配置さ
れている支持部材8は、その両端がレール10を介して
筐体2に支持されており、ある程度重量のあるブリッヂ
カメラ9が設けられていることから、この支持部材8も
機械的な振動を起こし易い構造となっている。
【0043】そして、支持部材8が振動すると、支持部
材8に支持されたブリッヂカメラ9が振動するため、例
えば、半導体ウエハWの表面等をブリッヂカメラ9で撮
像した際に、被写界深度の問題でフォーカスできなくな
ったり、フォーカスできても画像がブレるので、振動が
収束するまでは、位置合せを行うことができないという
問題が生じる。
【0044】このため、上記支持部材8にも、前述した
ヘッドプレート2aと同様に、変換素子30と電気回路
31とからなる振動減衰機構を設けることが好ましい。
【0045】この場合、例えば、図7に示すように、支
持部材8の両端部と中央部に合計3つの変換素子30を
設けたり、図8に示すように、支持部材8の両端部に合
計2つの変換素子30を設けたり、図9に示すように、
支持部材8の中央部のみに変換素子30を設ける等の構
成とすることができる。
【0046】勿論、変換素子30の配列、及び個数は、
上記以外の配列、及び個数とすることも可能であり、支
持部材8に発生する機械的振動が効率良く変換素子30
に伝わり、変換素子30によってこの機械的振動のエネ
ルギーが効率良く電気エネルギーに変換されるようにす
れば、変換素子30の配列、及び個数はどのようにして
も良い。
【0047】上記のように、ブリッヂカメラ9を支持す
る支持部材8に、変換素子30と電気回路31とからな
る振動減衰機構を設けることによって、ブリッヂカメラ
9の振動を抑制して、位置合せが困難になる状態を回避
することができ、効率良く短時間で位置合せを行うこと
が可能となる。
【0048】なお、上記実施形態では、変換素子30と
電気回路31とからなる振動減衰機構を、ヘッドプレー
ト2aに配置した場合と、ブリッヂカメラ9を支持する
支持部材8に配置した場合について説明したが、本発明
は、かかる場合に限定されるものではなく、これらの部
位以外の部位に上記振動減衰機構を設けても良いことは
勿論である。また、変換素子30の形状や、電気回路3
1の構成等は、適宜変更可能であることも勿論である。
【0049】
【発明の効果】以上説明したとおり、本発明によれば、
機械的な振動を早期に減衰させることができ、良好な測
定を高スループットで行うことができるとともに、振動
による電極パッドの損傷の発生を抑制することのできる
プローブ装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のプローブ装置の一実施形態の全体の外
観構成を示す図。
【図2】図1のプローブ装置の縦断面構成を模式的に示
す図。
【図3】図1のプローブ装置の要部概略構成を示す図。
【図4】図1のプローブ装置の要部概略構成を示す図。
【図5】図1のプローブ装置の要部概略構成を示す図。
【図6】図3の電気回路の他の構成例を示す図。
【図7】ブリッヂカメラの支持部材に変換素子を配置し
た例を示す図。
【図8】ブリッヂカメラの支持部材に変換素子を配置し
た他の例を示す図。
【図9】ブリッヂカメラの支持部材に変換素子を配置し
たさらに他の例を示す図。
【符号の説明】
W……半導体ウエハ、2……筐体、2a……ヘッドプレ
ート、4……プローブカード、5……X−Yテーブル、
6……Z軸駆動機構、7……ウエハ載置台、8……支持
部材、9……ブリッヂカメラ、30……変換素子、31
……電気回路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 吉岡 晴彦 東京都港区赤坂五丁目3番6号 TBS放 送センター 東京エレクトロン株式会社内 (72)発明者 藤田 隆史 神奈川県川崎市多摩区生田6−7−4 Fターム(参考) 2G003 AA10 AG04 AH04 AH07 2G011 AA17 AC21 2G132 AF01 AF06 AL03 AL09 3J048 AC07 AD20 EA07 EA13 4M106 AA01 BA01 DD03 DD30

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体素子が形成された被処理基板が載
    置される載置台と、 前記半導体素子の電極パッドに対応して複数のプローブ
    針が設けられたプローブカードを保持するプローブカー
    ド保持機構と、 前記載置台を移動させ、前記電極パッドに前記プローブ
    針を順次接触させる駆動機構とを具備したプローブ装置
    であって、 当該プローブ装置の構成部材に生じる機械的な振動エネ
    ルギーを電気エネルギーに変換する変換素子と、前記変
    換素子によって変換された電気エネルギーに基づく電流
    を消滅させる電気回路とを有する振動減衰機構を具備し
    たことを特徴とするプローブ装置。
  2. 【請求項2】 請求項1記載のプローブ装置において、 前記変換素子が、複数設けられたことを特徴とするプロ
    ーブ装置。
  3. 【請求項3】 請求項1又は2記載のプローブ装置にお
    いて、 前記変換素子が、ピエゾ素子であることを特徴とするプ
    ローブ装置。
  4. 【請求項4】 請求項1〜3いずれか1記載のプローブ
    装置において、 前記変換素子が、前記プローブカード保持機構が固定さ
    れた板状部材に設けられていることを特徴とするプロー
    ブ装置。
  5. 【請求項5】 請求項1〜4いずれか1記載のプローブ
    装置において、 前記変換素子が、前記被処理基板を撮像して位置合せを
    行うための位置合せ用カメラが支持された支持部材に設
    けられていることを特徴とするプローブ装置。
  6. 【請求項6】 請求項1〜5いずれか1記載のプローブ
    装置において、 前記電気回路が、LR直列回路から構成されていること
    を特徴とするプローブ装置。
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WO (1) WO2003065441A1 (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006029361A (ja) * 2004-07-12 2006-02-02 Toyota Motor Corp 圧電素子と電気装置が重合された圧電式振動抑制装置
JP2007227899A (ja) * 2006-01-13 2007-09-06 King Yuan Electronics Co Ltd Zifコネクタつきプローブカード、その組立方法、ウェハテストシステム、及びそれを導入したウェハテスト方法
WO2008050518A1 (fr) * 2006-10-20 2008-05-02 Panasonic Corporation Dispositif de sondeur

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5914613A (en) 1996-08-08 1999-06-22 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system with local contact scrub
US6256882B1 (en) 1998-07-14 2001-07-10 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
DE20114544U1 (de) 2000-12-04 2002-02-21 Cascade Microtech Inc Wafersonde
WO2003052435A1 (en) 2001-08-21 2003-06-26 Cascade Microtech, Inc. Membrane probing system
US7057404B2 (en) 2003-05-23 2006-06-06 Sharp Laboratories Of America, Inc. Shielded probe for testing a device under test
WO2005065258A2 (en) 2003-12-24 2005-07-21 Cascade Microtech, Inc. Active wafer probe
WO2006031646A2 (en) 2004-09-13 2006-03-23 Cascade Microtech, Inc. Double sided probing structures
US7265534B2 (en) * 2004-10-20 2007-09-04 Freescale Semiconductor, Inc. Test system for device characterization
US7656172B2 (en) 2005-01-31 2010-02-02 Cascade Microtech, Inc. System for testing semiconductors
US7535247B2 (en) 2005-01-31 2009-05-19 Cascade Microtech, Inc. Interface for testing semiconductors
US7764072B2 (en) 2006-06-12 2010-07-27 Cascade Microtech, Inc. Differential signal probing system
US7403028B2 (en) 2006-06-12 2008-07-22 Cascade Microtech, Inc. Test structure and probe for differential signals
US7723999B2 (en) 2006-06-12 2010-05-25 Cascade Microtech, Inc. Calibration structures for differential signal probing
US7750657B2 (en) * 2007-03-15 2010-07-06 Applied Materials Inc. Polishing head testing with movable pedestal
US7876114B2 (en) 2007-08-08 2011-01-25 Cascade Microtech, Inc. Differential waveguide probe
US7888957B2 (en) 2008-10-06 2011-02-15 Cascade Microtech, Inc. Probing apparatus with impedance optimized interface
WO2010059247A2 (en) 2008-11-21 2010-05-27 Cascade Microtech, Inc. Replaceable coupon for a probing apparatus

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP3208734B2 (ja) * 1990-08-20 2001-09-17 東京エレクトロン株式会社 プローブ装置
JPH05149379A (ja) 1991-11-29 1993-06-15 Takenaka Komuten Co Ltd アクテイブ除振装置
JPH0669321A (ja) * 1992-08-19 1994-03-11 Tokyo Electron Yamanashi Kk プローブ装置
US5642056A (en) * 1993-12-22 1997-06-24 Tokyo Electron Limited Probe apparatus for correcting the probe card posture before testing
JPH1082204A (ja) 1996-09-10 1998-03-31 Mitsubishi Steel Mfg Co Ltd 摩擦力制御型制振装置
US5814733A (en) * 1996-09-12 1998-09-29 Motorola, Inc. Method of characterizing dynamics of a workpiece handling system
JPH11304837A (ja) * 1998-04-27 1999-11-05 Yokogawa Electric Corp プローブ装置
JP4588816B2 (ja) 1999-06-15 2010-12-01 特許機器株式会社 圧電制振ユニットおよびこれを用いた制振構造
DE19952943C2 (de) 1999-11-03 2003-07-03 Infineon Technologies Ag Nadelkarten-Justageeinrichtung zur Planarisierung von Nadelsätzen einer Nadelkarte

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006029361A (ja) * 2004-07-12 2006-02-02 Toyota Motor Corp 圧電素子と電気装置が重合された圧電式振動抑制装置
JP2007227899A (ja) * 2006-01-13 2007-09-06 King Yuan Electronics Co Ltd Zifコネクタつきプローブカード、その組立方法、ウェハテストシステム、及びそれを導入したウェハテスト方法
WO2008050518A1 (fr) * 2006-10-20 2008-05-02 Panasonic Corporation Dispositif de sondeur

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