JP2003206403A5 - - Google Patents
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【特許請求の範囲】
【請求項1】 式(I)又は(II)の1以上のシランの水解物又は部分縮合物を含むBステージオルガノポリシリカ樹脂、
【化1】
【化2】
(式中、Rは水素、(C 1 〜C 8 )アルキル、アリール及び置換アリールであり;Yは任意の加水分解性基であり;aは0から2の整数であり;R 1 、R 2 、R 4 及びR 5 は独立して水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;R 3 は、(C 1 〜C 10 )アルキル、‐(CH 2 ) h ‐、‐(CH 2 ) h1 ‐E k ‐(CH 2 ) h2 ‐、‐(CH 2 ) h ‐Z、アリーレン、置換アリーレン及びアリーレンエーテルから選択され;Eは酸素及びZから選択され;ZはNR 6 、アリール及び置換アリールから選択され;R 6 は水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;b及びdはそれぞれ0から2の整数であり;cは0から6の整数であり;h、h1、h2及びkは独立して1から6の整数である;但し、R、R 1 、R 3 及びR 5 の少なくとも一つは水素ではない。);及び、
2以上の炭素及び約1から約4のpKaを有し、ポリカルボン酸及びヒドロキシ置換されたカルボン酸からなる群から選択される有機酸;
を含む安定組成物であって、反応アルコール、β‐ジケトン及び式R 10 p (M)(OR 11 ) q−p を有する金属キレート化合物(式中、R 10 はキレート剤であり;Mは金属原子であり;R 11 は(C 2 〜C 5 )アルキル又は(C 6 〜C 20 )アリールであり;qはその金属の原子価であり;及びpは1からqの整数である)を実質的に含まない組成物。
【請求項2】 式(I)又は(II)の1以上のシランの水解物又は部分縮合物を含むBステージオルガノポリシリカ樹脂、
【化3】
【化4】
(式中、Rは水素、(C 1 〜C 8 )アルキル、アリール及び置換アリールであり;Yは任意の加水分解性基であり;aは0から2の整数であり;R 1 、R 2 、R 4 及びR 5 は独立して水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;R 3 は、(C 1 〜C 10 )アルキル、‐(CH 2 ) h ‐、‐(CH 2 ) h1 ‐E k ‐(CH 2 ) h2 ‐、‐(CH 2 ) h ‐Z、アリーレン、置換アリーレン及びアリーレンエーテルから選択され;Eは酸素及びZから選択され;ZはNR 6 、アリール及び置換アリールから選択され;R 6 は水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;b及びdはそれぞれ0から2の整数であり;cは0から6の整数であり;h、h1、h2及びkは独立して1から6の整数である;但し、R、R 1 、R 3 及びR 5 の少なくとも一つは水素ではない。);
重合単位として少なくとも一つのシリル含有モノマー又はポリ(アルキレンオキシド)モノマー及び1以上の架橋剤を含むポリマーポロゲン;及び、
2以上の炭素及び約1から約4のpKaを有し、ポリカルボン酸及びヒドロキシ置換されたカルボン酸からなる群から選択される有機酸;
を含む安定組成物であって、反応アルコール、β‐ジケトン及び式R 10 p (M)(OR 11 ) q−p を有する金属キレート化合物(式中、R 10 はキレート剤であり;Mは金属原子であり;R 11 は(C 2 〜C 5 )アルキル又は(C 6 〜C 20 )アリールであり;qはその金属の原子価であり;及びpは1からqの整数である)を実質的に含まない組成物。
【請求項3】 式(I)又は(II)の1以上のシランの水解物又は部分縮合物を含むBステージオルガノポリシリカ樹脂、
【化5】
【化6】
(式中、Rは水素、(C 1 〜C 8 )アルキル、アリール及び置換アリールであり;Yは任意の加水分解性基であり;aは0から2の整数であり;R 1 、R 2 、R 4 及びR 5 は独立して水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;R 3 は、(C 1 〜C 10 )アルキル、‐(CH 2 ) h ‐、‐(CH 2 ) h1 ‐E k ‐(CH 2 ) h2 ‐、‐(CH 2 ) h ‐Z、アリーレン、置換アリーレン及びアリーレンエーテルから選択され;Eは酸素及びZから選択され;ZはNR 6 、アリール及び置換アリールから選択され;R 6 は水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;b及びdはそれぞれ0から2の整数であり;cは0から6の整数であり;h、h1、h2及びkは独立して1から6の整数である;但し、R、R 1 、R 3 及びR 5 の少なくとも一つは水素ではない。);及び、
キレート化剤として機能することができ、ポリカルボン酸及びヒドロキシ置換されたカルボン酸からなる群から選択される有機酸;
を含む安定組成物であって、反応アルコール、β‐ジケトン及び式R 10 p (M)(OR 11 ) q−p を有する金属キレート化合物(式中、R 10 はキレート剤であり;Mは金属原子であり;R 11 は(C 2 〜C 5 )アルキル又は(C 6 〜C 20 )アリールであり;qはその金属の原子価であり;及びpは1からqの整数である)を実質的に含まない組成物。
【請求項4】 式(I)又は(II)の1以上のシランの水解物又は部分縮合物を含むBステージオルガノポリシリカ樹脂、
【化7】
【化8】
(式中、Rは水素、(C 1 〜C 8 )アルキル、アリール及び置換アリールであり;Yは任意の加水分解性基であり;aは0から2の整数であり;R 1 、R 2 、R 4 及びR 5 は独立して水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;R 3 は、(C 1 〜C 10 )アルキル、‐(CH 2 ) h ‐、‐(CH 2 ) h1 ‐E k ‐(CH 2 ) h2 ‐、‐(CH 2 ) h ‐Z、アリーレン、置換アリーレン及びアリーレンエーテルから選択され;Eは酸素及びZから選択され;ZはNR 6 、アリール及び置換アリールから選択され;R 6 は水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;b及びdはそれぞれ0から2の整数であり;cは0から6の整数であり;h、h1、h2及びkは独立して1から6の整数である;但し、R、R 1 、R 3 及びR 5 の少なくとも一つは水素ではない。);及び、
重合単位として1以上のカルボン酸‐又は無水物‐含有モノマー又は架橋剤を含むポリマーポロゲン;
を含む安定組成物であって、β‐ジケトン及び式R 10 p (M)(OR 11 ) q−p を有する金属キレート化合物(式中、R 10 はキレート剤であり;Mは金属原子であり;R 11 は(C 2 〜C 5 )アルキル又は(C 6 〜C 20 )アリールであり;qはその金属の原子価であり;及びpは1からqの整数である)を実質的に含まない安定組成物。
【請求項5】該水解物又は部分縮合物が式SiY4[式中、Yはハロ、(C1〜C6)アルコキシ又はアシルオキシである]の四官能性シランの水解物又は部分縮合物を更に含む請求項1から4のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項6】該有機酸が1から10,000ppmの量で存在する請求項1から3のいずれか一項記載の組成物。
【請求項7】a)実質的に反応アルコールを含まず、式(I)又は(II)の1以上のシランの水解物又は部分縮合物を含むBステージオルガノポリシリカ樹脂を含む組成物を提供し、
【化9】
【化10】
(式中、Rは水素、(C 1 〜C 8 )アルキル、アリール及び置換アリールであり;Yは任意の加水分解性基であり;aは0から2の整数であり;R 1 、R 2 、R 4 及びR 5 は独立して水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;R 3 は、(C 1 〜C 10 )アルキル、‐(CH 2 ) h ‐、‐(CH 2 ) h1 ‐E k ‐(CH 2 ) h2 ‐、‐(CH 2 ) h ‐Z、アリーレン、置換アリーレン及びアリーレンエーテルから選択され;Eは酸素及びZから選択され;ZはNR 6 、アリール及び置換アリールから選択され;R 6 は水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;b及びdはそれぞれ0から2の整数であり;cは0から6の整数であり;h、h1、h2及びkは独立して1から6の整数である;但し、R、R 1 、R 3 及びR 5 の少なくとも一つは水素ではない。);及び
b)少なくとも2の炭素を有し且つ約1から約4のpKaを有し、ポリカルボン酸及びヒドロキシ置換されたカルボン酸から選択される有機酸を、ゲル化を引き起こすのに充分な量より少ない量で前記Bステージオルガノポリシリカ樹脂に添加する工程を含む、Bステージオルガノポリシリカ樹脂を安定化する方法。
【請求項8】a)電子デバイス基体上に請求項2又は4に記載の安定組成物を堆積させ;b)Bステージオルガノポリシリカ樹脂を硬化してオルガノポリシリカ誘電体を形成し;及びc)ポロゲンを除去して基体上に堆積した多孔性オルガノポリシリカ物質を提供する工程を含む、多孔性オルガノポリシリカ誘電体を形成することを含む、電子デバイスを製造する方法。
【請求項9】 組成物が、β‐ジケトン及び式R 10 p (M)(OR 11 ) q−p を有する金属キレート化合物(式中、R 10 はキレート剤であり;Mは金属原子であり;R 11 は(C 2 〜C 5 )アルキル又は(C 6 〜C 20 )アリールであり;qはその金属の原子価であり;及びpは1からqの整数である)を実質的に含まない、請求項7記載の方法。
【請求項1】 式(I)又は(II)の1以上のシランの水解物又は部分縮合物を含むBステージオルガノポリシリカ樹脂、
【化1】
【化2】
(式中、Rは水素、(C 1 〜C 8 )アルキル、アリール及び置換アリールであり;Yは任意の加水分解性基であり;aは0から2の整数であり;R 1 、R 2 、R 4 及びR 5 は独立して水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;R 3 は、(C 1 〜C 10 )アルキル、‐(CH 2 ) h ‐、‐(CH 2 ) h1 ‐E k ‐(CH 2 ) h2 ‐、‐(CH 2 ) h ‐Z、アリーレン、置換アリーレン及びアリーレンエーテルから選択され;Eは酸素及びZから選択され;ZはNR 6 、アリール及び置換アリールから選択され;R 6 は水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;b及びdはそれぞれ0から2の整数であり;cは0から6の整数であり;h、h1、h2及びkは独立して1から6の整数である;但し、R、R 1 、R 3 及びR 5 の少なくとも一つは水素ではない。);及び、
2以上の炭素及び約1から約4のpKaを有し、ポリカルボン酸及びヒドロキシ置換されたカルボン酸からなる群から選択される有機酸;
を含む安定組成物であって、反応アルコール、β‐ジケトン及び式R 10 p (M)(OR 11 ) q−p を有する金属キレート化合物(式中、R 10 はキレート剤であり;Mは金属原子であり;R 11 は(C 2 〜C 5 )アルキル又は(C 6 〜C 20 )アリールであり;qはその金属の原子価であり;及びpは1からqの整数である)を実質的に含まない組成物。
【請求項2】 式(I)又は(II)の1以上のシランの水解物又は部分縮合物を含むBステージオルガノポリシリカ樹脂、
【化3】
【化4】
(式中、Rは水素、(C 1 〜C 8 )アルキル、アリール及び置換アリールであり;Yは任意の加水分解性基であり;aは0から2の整数であり;R 1 、R 2 、R 4 及びR 5 は独立して水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;R 3 は、(C 1 〜C 10 )アルキル、‐(CH 2 ) h ‐、‐(CH 2 ) h1 ‐E k ‐(CH 2 ) h2 ‐、‐(CH 2 ) h ‐Z、アリーレン、置換アリーレン及びアリーレンエーテルから選択され;Eは酸素及びZから選択され;ZはNR 6 、アリール及び置換アリールから選択され;R 6 は水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;b及びdはそれぞれ0から2の整数であり;cは0から6の整数であり;h、h1、h2及びkは独立して1から6の整数である;但し、R、R 1 、R 3 及びR 5 の少なくとも一つは水素ではない。);
重合単位として少なくとも一つのシリル含有モノマー又はポリ(アルキレンオキシド)モノマー及び1以上の架橋剤を含むポリマーポロゲン;及び、
2以上の炭素及び約1から約4のpKaを有し、ポリカルボン酸及びヒドロキシ置換されたカルボン酸からなる群から選択される有機酸;
を含む安定組成物であって、反応アルコール、β‐ジケトン及び式R 10 p (M)(OR 11 ) q−p を有する金属キレート化合物(式中、R 10 はキレート剤であり;Mは金属原子であり;R 11 は(C 2 〜C 5 )アルキル又は(C 6 〜C 20 )アリールであり;qはその金属の原子価であり;及びpは1からqの整数である)を実質的に含まない組成物。
【請求項3】 式(I)又は(II)の1以上のシランの水解物又は部分縮合物を含むBステージオルガノポリシリカ樹脂、
【化5】
【化6】
(式中、Rは水素、(C 1 〜C 8 )アルキル、アリール及び置換アリールであり;Yは任意の加水分解性基であり;aは0から2の整数であり;R 1 、R 2 、R 4 及びR 5 は独立して水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;R 3 は、(C 1 〜C 10 )アルキル、‐(CH 2 ) h ‐、‐(CH 2 ) h1 ‐E k ‐(CH 2 ) h2 ‐、‐(CH 2 ) h ‐Z、アリーレン、置換アリーレン及びアリーレンエーテルから選択され;Eは酸素及びZから選択され;ZはNR 6 、アリール及び置換アリールから選択され;R 6 は水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;b及びdはそれぞれ0から2の整数であり;cは0から6の整数であり;h、h1、h2及びkは独立して1から6の整数である;但し、R、R 1 、R 3 及びR 5 の少なくとも一つは水素ではない。);及び、
キレート化剤として機能することができ、ポリカルボン酸及びヒドロキシ置換されたカルボン酸からなる群から選択される有機酸;
を含む安定組成物であって、反応アルコール、β‐ジケトン及び式R 10 p (M)(OR 11 ) q−p を有する金属キレート化合物(式中、R 10 はキレート剤であり;Mは金属原子であり;R 11 は(C 2 〜C 5 )アルキル又は(C 6 〜C 20 )アリールであり;qはその金属の原子価であり;及びpは1からqの整数である)を実質的に含まない組成物。
【請求項4】 式(I)又は(II)の1以上のシランの水解物又は部分縮合物を含むBステージオルガノポリシリカ樹脂、
【化7】
【化8】
(式中、Rは水素、(C 1 〜C 8 )アルキル、アリール及び置換アリールであり;Yは任意の加水分解性基であり;aは0から2の整数であり;R 1 、R 2 、R 4 及びR 5 は独立して水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;R 3 は、(C 1 〜C 10 )アルキル、‐(CH 2 ) h ‐、‐(CH 2 ) h1 ‐E k ‐(CH 2 ) h2 ‐、‐(CH 2 ) h ‐Z、アリーレン、置換アリーレン及びアリーレンエーテルから選択され;Eは酸素及びZから選択され;ZはNR 6 、アリール及び置換アリールから選択され;R 6 は水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;b及びdはそれぞれ0から2の整数であり;cは0から6の整数であり;h、h1、h2及びkは独立して1から6の整数である;但し、R、R 1 、R 3 及びR 5 の少なくとも一つは水素ではない。);及び、
重合単位として1以上のカルボン酸‐又は無水物‐含有モノマー又は架橋剤を含むポリマーポロゲン;
を含む安定組成物であって、β‐ジケトン及び式R 10 p (M)(OR 11 ) q−p を有する金属キレート化合物(式中、R 10 はキレート剤であり;Mは金属原子であり;R 11 は(C 2 〜C 5 )アルキル又は(C 6 〜C 20 )アリールであり;qはその金属の原子価であり;及びpは1からqの整数である)を実質的に含まない安定組成物。
【請求項5】該水解物又は部分縮合物が式SiY4[式中、Yはハロ、(C1〜C6)アルコキシ又はアシルオキシである]の四官能性シランの水解物又は部分縮合物を更に含む請求項1から4のいずれか一項に記載の組成物。
【請求項6】該有機酸が1から10,000ppmの量で存在する請求項1から3のいずれか一項記載の組成物。
【請求項7】a)実質的に反応アルコールを含まず、式(I)又は(II)の1以上のシランの水解物又は部分縮合物を含むBステージオルガノポリシリカ樹脂を含む組成物を提供し、
【化9】
【化10】
(式中、Rは水素、(C 1 〜C 8 )アルキル、アリール及び置換アリールであり;Yは任意の加水分解性基であり;aは0から2の整数であり;R 1 、R 2 、R 4 及びR 5 は独立して水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;R 3 は、(C 1 〜C 10 )アルキル、‐(CH 2 ) h ‐、‐(CH 2 ) h1 ‐E k ‐(CH 2 ) h2 ‐、‐(CH 2 ) h ‐Z、アリーレン、置換アリーレン及びアリーレンエーテルから選択され;Eは酸素及びZから選択され;ZはNR 6 、アリール及び置換アリールから選択され;R 6 は水素、(C 1 〜C 6 )アルキル、アリール及び置換アリールから選択され;b及びdはそれぞれ0から2の整数であり;cは0から6の整数であり;h、h1、h2及びkは独立して1から6の整数である;但し、R、R 1 、R 3 及びR 5 の少なくとも一つは水素ではない。);及び
b)少なくとも2の炭素を有し且つ約1から約4のpKaを有し、ポリカルボン酸及びヒドロキシ置換されたカルボン酸から選択される有機酸を、ゲル化を引き起こすのに充分な量より少ない量で前記Bステージオルガノポリシリカ樹脂に添加する工程を含む、Bステージオルガノポリシリカ樹脂を安定化する方法。
【請求項8】a)電子デバイス基体上に請求項2又は4に記載の安定組成物を堆積させ;b)Bステージオルガノポリシリカ樹脂を硬化してオルガノポリシリカ誘電体を形成し;及びc)ポロゲンを除去して基体上に堆積した多孔性オルガノポリシリカ物質を提供する工程を含む、多孔性オルガノポリシリカ誘電体を形成することを含む、電子デバイスを製造する方法。
【請求項9】 組成物が、β‐ジケトン及び式R 10 p (M)(OR 11 ) q−p を有する金属キレート化合物(式中、R 10 はキレート剤であり;Mは金属原子であり;R 11 は(C 2 〜C 5 )アルキル又は(C 6 〜C 20 )アリールであり;qはその金属の原子価であり;及びpは1からqの整数である)を実質的に含まない、請求項7記載の方法。
本組成物が、式(II)の化合物の水解物又は部分縮合物であるBステージオルガノポリシリカ樹脂を含むとき、斯かる組成物は、β‐ジケトン及び式R10 p(M)(OR11)q−p、を有する金属キレート化合物の組み合わせを実質的に含まないことが好ましい。ここで、R10はキレート剤であり;Mは金属原子であり;R11は(C2〜C5)アルキル又は(C6〜C20)アリールであり;qはその金属の原子価であり;及びpは1からqの整数である。ここで使用される「実質的に含まない」とは0.5ミリモル未満、好ましくは0.1ミリモル未満の金属キレートが存在することを意味する。斯かる組成物は、β‐ジケトン及び金属キレートのそのような組み合わせを含まないことが好ましい。特に式(II)のオルガノポリシリカ樹脂を含む好適な組成物は、上記金属キレートを単独でも実質的に含まない。他の好適な組成物は、実質的にβ‐ジケトンを含まない、即ち、本組成物は、組成物の総重量を基準にして1重量%未満、好ましくは0.5重量%未満、及びより好ましくは0.1重量%未満でβ‐ジケトンを含有する。斯かる組成物は、β‐ジケトンを単独でも含まないのが更に好ましい。
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WO2009044960A1 (en) * | 2007-10-02 | 2009-04-09 | Cheil Industries Inc. | Gap-filling composition with excellent shelf life by end-capping |
KR20100108552A (ko) * | 2007-12-14 | 2010-10-07 | 디에스엠 아이피 어셋츠 비.브이. | 보호 촉매에 의한 졸-겔 방법 |
JP2011040634A (ja) * | 2009-08-13 | 2011-02-24 | Ulvac Japan Ltd | 多孔質膜の前駆体組成物、多孔質膜及びその作製方法、並びに半導体装置 |
CN102666731B (zh) * | 2009-12-04 | 2014-12-31 | 道康宁公司 | 硅倍半氧烷树脂的稳定化 |
JP2011165804A (ja) * | 2010-02-08 | 2011-08-25 | Fujifilm Corp | 半導体装置および半導体素子用基板の製造方法 |
EP2355141A3 (en) * | 2010-02-08 | 2017-09-20 | Fujifilm Corporation | Semiconductor device, method for producing the semiconductor device, substrate for semiconductor element and method for producing the substrate |
JP2015189856A (ja) * | 2014-03-28 | 2015-11-02 | 株式会社Adeka | ケイ素含有組成物 |
WO2017217175A1 (ja) * | 2016-06-17 | 2017-12-21 | 東レ・ファインケミカル株式会社 | シリコーン重合体組成物 |
Family Cites Families (22)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB1115051A (en) * | 1964-05-27 | 1968-05-22 | Owens Illinois Inc | Siloxane resins |
US3909424A (en) * | 1974-06-24 | 1975-09-30 | Dow Corning | Lubricant compositions |
US3986997A (en) * | 1974-06-25 | 1976-10-19 | Dow Corning Corporation | Pigment-free coating compositions |
US4177175A (en) * | 1977-12-23 | 1979-12-04 | Dow Corning Corporation | Organothiol-containing siloxane resins as adhesion promoters for siloxane resins |
US4324712A (en) * | 1978-11-30 | 1982-04-13 | General Electric Company | Silicone resin coating composition |
US4223121A (en) * | 1978-12-04 | 1980-09-16 | Owens-Illinois, Inc. | Organopolysiloxane resins of increased hardness |
US4349609A (en) * | 1979-06-21 | 1982-09-14 | Fujitsu Limited | Electronic device having multilayer wiring structure |
JP2624254B2 (ja) * | 1987-05-22 | 1997-06-25 | 東京応化工業株式会社 | シリカ系被膜の膜質改善方法 |
TW492989B (en) * | 1993-03-19 | 2002-07-01 | Dow Corning | Stabilization of hydrogen silsesquioxane resin solutions |
US5895794A (en) * | 1993-08-30 | 1999-04-20 | Dow Corning Corporation | Shelf stable cross-linked emulsions with optimum consistency and handling without the use of thickeners |
DE19515540A1 (de) * | 1995-04-27 | 1996-10-31 | Wacker Chemie Gmbh | Stabilisierung von reaktiven Organopolysiloxanharzen |
KR19980015230A (ko) * | 1996-08-20 | 1998-05-25 | 이웅열 | 압출형 도포장치 |
US6020410A (en) * | 1996-10-29 | 2000-02-01 | Alliedsignal Inc. | Stable solution of a silsesquioxane or siloxane resin and a silicone solvent |
US5895263A (en) * | 1996-12-19 | 1999-04-20 | International Business Machines Corporation | Process for manufacture of integrated circuit device |
US5973095A (en) * | 1997-04-21 | 1999-10-26 | Alliedsignal, Inc. | Synthesis of hydrogensilsesquioxane and organohydridosiloxane resins |
US6015457A (en) * | 1997-04-21 | 2000-01-18 | Alliedsignal Inc. | Stable inorganic polymers |
JP3812104B2 (ja) * | 1997-12-02 | 2006-08-23 | Jsr株式会社 | 膜形成用組成物 |
US6231989B1 (en) * | 1998-11-20 | 2001-05-15 | Dow Corning Corporation | Method of forming coatings |
JP4305587B2 (ja) * | 1999-04-27 | 2009-07-29 | Jsr株式会社 | 半導体装置用の層間絶縁膜形成用材料 |
JP2001040283A (ja) * | 1999-07-29 | 2001-02-13 | Jsr Corp | 膜形成用組成物の製造方法、膜形成用組成物および絶縁膜形成用材料 |
US6420441B1 (en) * | 1999-10-01 | 2002-07-16 | Shipley Company, L.L.C. | Porous materials |
US6271273B1 (en) * | 2000-07-14 | 2001-08-07 | Shipley Company, L.L.C. | Porous materials |
-
2002
- 2002-07-12 US US10/194,851 patent/US6852367B2/en not_active Expired - Lifetime
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