JP2003177207A - 反射防止フィルム、該反射防止フィルムを有する偏光板及び表示装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 十分な反射防止性能を有し、かつ透過鮮明度
が良好である反射防止フィルム及び該反射防止フィルム
を用いた偏光板、表示装置を提供する。 【解決手段】 輪郭曲線要素の平均高さ（Ｒｃ）が０．
１〜３０μｍである凹凸面が形成され、該凹凸面の０．
０１ｍｍ²あたりの凸部の個数が１〜１０００である樹
脂層を有する反射防止フィルムであって、前記凹凸面の
うち反射防止フィルム面に対する傾斜角が０〜５°であ
る平行面が１５〜１００％を占め、前記平行面の１５〜
１００％が凸部に形成されていることを特徴とする反射
防止フィルム。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射防止フィル
ム、該反射防止フィルムを有する偏光板及び表示装置に
関し、特に光学ディスプレイや液晶ディスプレイの偏光
板用保護フィルムに用いられる反射防止フィルムに関す
る。

【０００２】

【従来の技術】近年、液晶ディスプレイ、プラズマディ
スプレイ、有機ＥＬディスプレイ、無機ＥＬディスプレ
イ等の各種ディスプレイの開発が進んでいる。それに伴
って、各種表示装置で用いられる偏光板の高性能化への
要求が強くなってきている。

【０００３】その一つとして、視認性向上のために偏光
板の反射防止性能を高めるため、偏光板に反射防止フィ
ルムを設ける技術が開示されている。

【０００４】特開平８−７５９０４号公報には、高屈折
率層と低屈折率層を積層することによって、反射防止性
能を有する反射防止フィルムに関する技術が開示されて
いる。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、特開平
８−７５９０４号公報に開示される反射防止フィルムで
は、十分に満足できる反射防止性能が得られなかった。

【０００６】また、反射防止フィルムには、十分な反射
防止性能を有することが重要であるが、反射防止性能を
向上させたことにより、透過鮮明度を劣化させる等の表
示画面の見やすさを低下させる事態は避ける必要があ
る。

【０００７】本発明はかかる課題に鑑みてなされたもの
であり、本発明の目的は、十分な反射防止性能を有し、
かつ透過鮮明度が良好な反射防止フィルム及び該反射防
止フィルムを用いた偏光板、表示装置を提供することで
ある。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、下記構
成により達成された。

【０００９】（１） 輪郭曲線要素の平均高さ（Ｒｃ）
が０．１〜３０μｍである凹凸面が形成され、該凹凸面
の０．０１ｍｍ²あたりの凸部の個数が１〜１０００で
ある樹脂層を有する反射防止フィルムであって、前記凹
凸面のうち反射防止フィルム面に対する傾斜角が０〜５
°である平行面が１５〜１００％を占め、前記平行面の
１５〜１００％が凸部に形成されていることを特徴とす
る反射防止フィルム。

【００１０】（２） 前記凹凸面に少なくとも１層の高
屈折率層と少なくとも１層の低屈折率層とを有する反射
防止層が形成されていることを特徴とする（１）に記載
の反射防止フィルム。

【００１１】（３） 凸部以外の平行面に形成されてい
る反射防止層の平均膜厚が、前記凸部の平行面に形成さ
れている反射防止層の平均膜厚より薄いか、若しくは凸
部以外の平行面に形成されている反射防止層の平均膜厚
と、前記凸部の平行面に形成されている反射防止層の平
均膜厚との差が、前記凸部の平行面に形成されている反
射防止層の平均膜厚の１０％以内であることを特徴とす
る（２）に記載の反射防止フィルム。

【００１２】（４） 前記平行面以外の部分に形成され
ている反射防止層の平均膜厚が、前記凸部の平行面に形
成されている反射防止層の平均膜厚より薄いか、若しく
は前記平行面以外の部分に形成されている反射防止層の
平均膜厚と前記凸部の平行面に形成されている反射防止
層の平均膜厚との差が前記凸部の平行面に形成されてい
る反射防止層の平均膜厚の１０％以内であることを特徴
とする（２）又は（３）に記載の反射防止フィルム。

【００１３】（５） 前記反射防止層は凹凸面にプラズ
マ処理を施して形成されたことを特徴とする（２）〜
（４）のいずれか１項に記載の反射防止フィルム。

【００１４】（６） （１）〜（５）のいずれか１項に
記載の反射防止フィルムを有する偏光板。

【００１５】（７） （１）〜（５）のいずれか１項に
記載の反射防止フィルムを有する表示装置。

【００１６】

【発明の実施の形態】本発明の反射防止フィルム、該反
射防止フィルムを有する偏光板及び表示装置について、
以下に図を用いて説明するが、本発明はこれに限定され
ない。また、以下の説明には用語等に対する断定的な表
現が含まれている場合があるが、本発明の好ましい例を
示すものであって、本発明の用語の意義や技術的な範囲
を限定するものではない。

【００１７】図１は本発明の反射防止フィルムを上から
見た図及び断面図である。図１において、Ａは凸部であ
る。本発明において凸部とは、凹凸面のうち突起形状部
分の表面であり、凹凸面の中心線よりも突出している領
域をいう。

【００１８】図１の反射防止フィルムは、輪郭曲線要素
の平均高さ（Ｒｃ）が５μｍである凹凸面が形成され、
０．０１ｍｍ²あたりの凸部の個数が１００である。Ｒ
ｃとは、ＪＩＳ Ｂ ０６０１に規定されるＲｃのこと
であり、触針式若しくは光学式の表面粗さ測定装置を用
いて凹凸面から求めることができる。

【００１９】凹凸面の中心線とはＪＩＳ Ｂ ０６０１
に規定される輪郭曲線の算術平均高さ（Ｒａ）で言うと
ころの中心線のことを表す。

【００２０】０．０１ｍｍ²あたりの凸部の個数は、例
えば、光学干渉式表面粗さ測定機によって、１００μｍ
×１００μｍの範囲について凸部の個数を２次元的に測
定して求めることができる。

【００２１】図１において、Ｂは凸部の平行面である。
平行面とは、凹凸面のうちで、反射防止フィルム面、偏
光板等に用いられるときは、偏光板の面に対当する面に
対しての傾斜角が０〜５°となる面のことである。即
ち、傾斜角が０°である面とは反射防止フィルム面と平
行である面ということになる。

【００２２】図１の反射防止フィルムは、凹凸面のうち
反射防止フィルム面に対する傾斜角が０°である平行面
が２５％を占めており、さらに平行面の１００％が凸部
に形成されている。尚、傾斜角が０〜５°となる領域の
面積と凹凸面の面積は、それぞれの面をフィルム面に垂
直に投影した時の面積から求める。面積測定は、前述の
光学干渉式表面粗さ測定機等によって測定した表面の凹
凸形状の測定結果から求めることができる。

【００２３】本発明の反射防止フィルムは、Ｒｃが０．
１〜３０μｍである凹凸面が形成されている。また、本
発明の反射防止フィルムは凹凸面上に複数の凸部を有
し、０．０１ｍｍ²あたりの凸部の個数が１〜１０００
である。本発明の反射防止フィルムは、平行面の総面積
が、凹凸面面積に対して１５〜１００％を占めており、
さらに、凸部に存在する平行面の面積が平行面の総面積
の１５〜１００％である。

【００２４】本発明の反射防止フィルムは、凹凸面の構
造を上記のようにすることにより、フィルム面に対して
斜めより入射してくる光に対しての反射光を低減させる
一方、透過鮮明度を悪化させないという性能を有する。
即ち、図１を用いて説明すると、本発明の反射防止フィ
ルムは、凹凸面に対して斜め方向より斜面部に入射して
くる入射光１に対しては、その反射光が１回の反射でフ
ィルム外へと反射される構造となっていないことから、
従来の平面のみの反射防止面よりも反射防止性能が高く
なる。

【００２５】さらに、本発明の反射防止フィルムは、凹
凸面でありながら凹凸面に対して傾斜角が０〜５°とな
る平行面の面積が凹凸面面積の１５〜１００％と大き
い。図１に示すように、フィルム面に対して垂直に入射
する入射光２が平行面に入射すると、その透過光が散乱
することはない。本発明は凹凸面でありながらこの平行
面の面積が大きいため透過光の散乱が少なく、表示装置
に用いた際は、バックライトの光等の透過光を散乱しに
くくなり透過鮮明度が良好となる。従って、本発明の反
射防止フィルムは、表示装置の偏光板等に用いた際に
は、反射防止性能を有し、かつ透過鮮明度を良好とする
ことができるのである。

【００２６】本発明の反射防止フィルムは、Ｒｃが１〜
１５μｍである凹凸面が形成されていることが好まし
く、これにより一層反射防止能が高くなる。

【００２７】本発明の反射防止フィルムは凹凸面の０．
０１ｍｍ²あたりの凸部の個数が５〜５００であること
が好ましく、これにより一層反射防止能が高くなる。

【００２８】本発明の反射防止フィルムは、平行面の総
面積が、凹凸面面積に対して２５〜１００％を占めてい
ることが好ましく、これにより透過鮮明度をさらに良好
とすることができる。

【００２９】本発明の反射防止フィルムは、凸部に存在
する平行面の面積が平行面の総面積の２５〜５５％であ
ることが好ましく、これにより透過鮮明度をさらに良好
にすることができる。

【００３０】本発明の反射防止フィルムは、凸部に存在
する平行面の面積が凹凸面面積に対して１０〜６０％で
あることが好ましく、これにより、透過鮮明度をさらに
良好にすることができる。

【００３１】図２は、本発明の比較例の反射防止フィル
ムの上から見た図及び断面図である。図２に示される反
射防止フィルムは、Ｒｃが５μｍである凹凸面が形成さ
れ、０．０１ｍｍ²あたりの凸部の個数が１００であり
図１に示される反射防止フィルムと同じであるが、平行
面は０％である。即ち、図２に示される反射防止フィル
ムは、凹凸面に対して斜め方向より入射してくる光のう
ち平行面以外で入射する光は、その光をそのまま反射せ
ずに反射防止フィルム内へと反射させる構造となってい
ることから従来の平面の反射防止面より反射防止性能が
高くなるが、平行面がないことから、反射防止フィルム
面に対して垂直の光を散乱させて透過鮮明度を低下させ
てしまう。

【００３２】本発明の反射防止フィルムは、上記のよう
な微細な凹凸面を形成する必要があることから、凹凸面
は紫外線等の活性エネルギー線照射により硬化する活性
エネルギー線硬化樹脂若しくは熱硬化樹脂で形成された
樹脂層であることが好ましい。これらの樹脂は、凹凸面
を形成するために、凹凸形状を有する型（金属ロールや
樹脂の型）に流し込んで紫外線等の照射により樹脂を固
めることで容易に微細な凹凸面を形成することができ
る。あるいは集束イオンビーム加工装置等により直接凹
凸面を加工形成することもできる。

【００３３】活性エネルギー線硬化樹脂とは紫外線や電
子線のような活性エネルギー線照射により架橋反応等を
経て硬化する樹脂である。活性エネルギー線硬化樹脂と
しては紫外線硬化性樹脂や電子線硬化性樹脂等が代表的
なものとして挙げられるが、紫外線や電子線以外の活性
エネルギー線照射によって硬化する樹脂でもよい。

【００３４】紫外線硬化性樹脂としては、例えば、紫外
線硬化型アクリルウレタン系樹脂、紫外線硬化型ポリエ
ステルアクリレート系樹脂、紫外線硬化型エポキシアク
リレート系樹脂、紫外線硬化型ポリオールアクリレート
系樹脂、または紫外線硬化型エポキシ樹脂等を挙げるこ
とができる。

【００３５】紫外線硬化型アクリルウレタン系樹脂は、
一般にポリエステルポリオールにイソシアネートモノマ
ー、またはプレポリマーを反応させて得られた生成物に
更に２−ヒドロキシエチルアクリレート、２−ヒドロキ
シエチルメタクリレート（以下アクリレートにはメタク
リレートを包含するものとしてアクリレートのみを表示
する）、２−ヒドロキシプロピルアクリレート等の水酸
基を有するアクリレート系のモノマーを反応させること
によって容易に得ることができる。例えば、特開昭５９
−１５１１１０号に記載の、ユニディック１７−８０６
（大日本インキ（株）製）１００部とコロネートＬ（日
本ポリウレタン（株）製）１部との混合物等が好ましく
用いられる。

【００３６】紫外線硬化型ポリエステルアクリレート系
樹脂は、一般にポリエステル末端の水酸基やカルボキシ
ル基に２−ヒドロキシエチルアクリレート、グリシジル
アクリレート、アクリル酸のようなのモノマーを反応さ
せることによって容易に得ることができる（例えば、特
開昭５９−１５１１１２号）。

【００３７】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹脂
は、エポキシ樹脂の末端の水酸基にアクリル酸、アクリ
ル酸クロライド、グリシジルアクリレートのようなモノ
マーを反応させて得られる。

【００３８】紫外線硬化型ポリオールアクリレート系樹
脂としては、エチレングリコール（メタ）アクリレー
ト、ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリレート、
グリセリントリ（メタ）アクリレート、トリメチロール
プロパントリアクリレート、ペンタエリスリトールトリ
アクリレート、ペンタエリスリトールテトラアクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタアクリレート、ジペ
ンタエリスリトールヘキサアクリレート、アルキル変性
ジペンタエリスリトールペンタアクリレート等を挙げる
ことができる。

【００３９】紫外線硬化型エポキシアクリレート系樹
脂、紫外線硬化型エポキシ樹脂の例として、有用に用い
られるエポキシ系活性エネルギー線反応性化合物を示
す。

【００４０】（ａ）ビスフェノールＡのグリシジルエー
テル（この化合物はエピクロルヒドリンとビスフェノー
ルＡとの反応により、重合度の異なる混合物として得ら
れる） （ｂ）ビスフェノールＡ等のフェノール性ＯＨを２個有
する化合物に、エピクロルヒドリン、エチレンオキサイ
ド及び／またはプロピレンオキサイドを反応させ末端に
グリシジルエーテル基を有する化合物 （ｃ）４，４′−メチレンビスフェノールのグリシジル
エーテル （ｄ）ノボラック樹脂またはレゾール樹脂のフェノール
フォルムアルデヒド樹脂のエポキシ化合物 （ｅ）脂環式エポキシドを有する化合物、例えば、ビス
（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）オキザレー
ト、ビス（３，４−エポキシシクロヘキシルメチル）ア
ジペート、ビス（３，４−エポキシ−６−シクロヘキシ
ルメチル）アジペート、ビス（３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチルピメレート）、３，４−エポキシシクロ
ヘキシルメチル−３，４−エポキシシクロヘキサンカル
ボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチルシクロヘ
キシルメチル−３′，４′−エポキシシクロヘキサンカ
ルボキシレート、３，４−エポキシ−１−メチル−シク
ロヘキシルメチル−３′，４′−エポキシ−１′−メチ
ルシクロヘキサンカルボキシレート、３，４−エポキシ
−６−メチル−シクロヘキシルメチル−３′，４′−エ
ポキシ−６′−メチル−１′−シクロヘキサンカルボキ
シレート、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル−
５′，５′−スピロ−３″，４″−エポキシ）シクロヘ
キサン−メタ−ジオキサン （ｆ）２塩基酸のジグリシジルエーテル、例えば、ジグ
リシジルオキザレート、ジグリシジルアジペート、ジグ
リシジルテトラヒドロフタレート、ジグリシジルヘキサ
ヒドロフタレート、ジグリシジルフタレート （ｇ）グリコールのジグリシジルエーテル、例えば、エ
チレングリコールジグリシジルエーテル、ジエチレング
リコールジグリシジルエーテル、プロピレングリコール
ジグリシジルエーテル、ポリエチレングリコールジグリ
シジルエーテル、ポリプロピレングリコールジグリシジ
ルエーテル、コポリ（エチレングリコール−プロピレン
グリコール）ジグリシジルエーテル、１，４−ブタンジ
オールジグリシジルエーテル、１，６−ヘキサンジオー
ルジグリシジルエーテル （ｈ）ポリマー酸のグリシジルエステル、例えば、ポリ
アクリル酸ポリグリシジルエステル、ポリエステルジグ
リシジルエステル （ｉ）多価アルコールのグリシジルエーテル、例えば、
グリセリントリグリシジルエーテル、トリメチロールプ
ロパントリグリシジルエーテル、ペンタエリスリトール
ジグリシジルエーテル、ペンタエリスリトールトリグリ
シジルエーテル、ペンタエリスリトールテトラグリシジ
ルエーテル、グルコーストリグリシジルエーテル （ｊ）２−フルオロアルキル−１，２−ジオールのジグ
リシジルエーテルとしては、前記低屈折率物質のフッ素
含有樹脂のフッ素含有エポキシ化合物に挙げた化合物例
と同様のもの （ｋ）含フッ素アルカン末端ジオールグリシジルエーテ
ルとしては、上記低屈折率物質のフッ素含有樹脂のフッ
素含有エポキシ化合物等を挙げることができる。

【００４１】上記エポキシ化合物の分子量は、平均分子
量として２０００以下で、好ましくは１０００以下であ
る。

【００４２】上記のエポキシ化合物を活性エネルギー線
により硬化する場合、より硬度を上げるためには、
（ｈ）または（ｉ）の多官能のエポキシ基を有する化合
物を混合して用いると効果的である。

【００４３】エポキシ系活性エネルギー線反応性化合物
をカチオン重合させる光重合開始剤または光増感剤は、
活性エネルギー線照射によりカチオン重合開始物質を放
出することが可能な化合物であり、特に好ましくは、照
射によりカチオン重合開始能のあるルイス酸を放出する
オニウム塩の一群の複塩である。

【００４４】活性エネルギー線反応性化合物エポキシ樹
脂は、ラジカル重合によるのではなく、カチオン重合に
より重合、架橋構造または網目構造を形成する。ラジカ
ル重合と異なり反応系中の酸素に影響を受けないため好
ましい活性エネルギー線反応性樹脂である。

【００４５】本発明に有用な活性エネルギー線反応性エ
ポキシ樹脂は、活性エネルギー線照射によりカチオン重
合を開始させる物質を放出する光重合開始剤または光増
感剤により重合する。光重合開始剤としては、光照射に
よりカチオン重合を開始させるルイス酸を放出するオニ
ウム塩の複塩の一群が特に好ましい。

【００４６】かかる代表的なものは下記一般式（ａ）で
表される化合物である。 一般式（ａ） 〔（Ｒ¹）_a（Ｒ²）_b（Ｒ³）_c（Ｒ⁴）_dＺ〕^w＋〔Ｍｅ
Ｘ_v〕^w− 式中、カチオンはオニウムであり、ＺはＳ、Ｓｅ、Ｔ
ｅ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、Ｂｉ、Ｏ、ハロゲン（例えばＩ、
Ｂｒ、Ｃｌ）、またはＮ＝Ｎ（ジアゾ）であり、Ｒ¹、
Ｒ²、Ｒ³、Ｒ⁴は同一であっても異なっていてもよい有
機の基である。ａ、ｂ、ｃ、ｄはそれぞれ０〜３の整数
であって、ａ＋ｂ＋ｃ＋ｄはＺの価数に等しい。Ｍｅは
ハロゲン化物錯体の中心原子である金属または半金属
（ｍｅｔａｌｌｏｉｄ）であり、Ｂ、Ｐ、Ａｓ、Ｓｂ、
Ｆｅ、Ｓｎ、Ｂｉ、Ａｌ、Ｃａ、Ｉｎ、Ｔｉ、Ｚｎ、Ｓ
ｃ、Ｖ、Ｃｒ、Ｍｎ、Ｃｏ等である。Ｘはハロゲンであ
り、ｗはハロゲン化錯体イオンの正味の電荷であり、ｖ
はハロゲン化錯体イオン中のハロゲン原子の数である。

【００４７】上記一般式（ａ）の陰イオン〔ＭｅＸ_v〕^w
−の具体例としては、テトラフルオロボレート（ＢＦ₄
−）、テトラフルオロホスフェート（ＰＦ₄−）、テト
ラフルオロアンチモネート（ＳｂＦ₄−）、テトラフル
オロアルセネート（ＡｓＦ₄−）、テトラクロロアンチ
モネート（ＳｂＣｌ₄−）等を挙げることができる。

【００４８】また、その他の陰イオンとしては過塩素酸
イオン（ＣｌＯ₄−）、トリフルオロメチル亜硫酸イオ
ン（ＣＦ₃ＳＯ₃−）、フルオロスルホン酸イオン（ＦＳ
Ｏ₃−）、トルエンスルホン酸イオン、トリニトロベン
ゼン酸陰イオン等を挙げることができる。

【００４９】このようなオニウム塩の中でも特に芳香族
オニウム塩をカチオン重合開始剤として使用するのが有
効であり、中でも特開昭５０−１５１９９６号、同５０
−１５８６８０号等に記載の芳香族ハロニウム塩、特開
昭５０−１５１９９７号、同５２−３０８９９号、同５
９−５５４２０号、同５５−１２５１０５号等に記載の
ＶＩＡ族芳香族オニウム塩、特開昭５６−８４２８号、
同５６−１４９４０２号、同５７−１９２４２９号等に
記載のオキソスルホキソニウム塩、特公昭４９−１７０
４０号等に記載の芳香族ジアゾニウム塩、米国特許第
４，１３９，６５５号等に記載のチオピリリュム塩等が
好ましい。また、アルミニウム錯体や光分解性けい素化
合物系重合開始剤等を挙げることができる。上記カチオ
ン重合開始剤と、ベンゾフェノン、ベンゾインイソプロ
ピルエーテル、チオキサントン等の光増感剤を併用する
ことができる。

【００５０】また、エポキシアクリレート基を有する活
性エネルギー線反応性化合物の場合は、ｎ−ブチルアミ
ン、トリエチルアミン、トリ−ｎ−ブチルホスフィン等
の光増感剤を用いることができる。この活性エネルギー
線反応性化合物に用いられる光増感剤や光開始剤は、紫
外線反応性化合物１００質量部に対して０．１質量部〜
１５質量部で光反応を開始するには十分であり、好まし
くは１質量部〜１０質量部である。この増感剤は近紫外
線領域から可視光線領域に吸収極大のあるものが好まし
い。

【００５１】本発明に有用な活性エネルギー線硬化樹脂
組成物において、重合開始剤は、一般的には、活性エネ
ルギー線硬化性エポキシ樹脂（プレポリマー）１００質
量部に対して０．１質量部〜１５質量部の使用が好まし
く、更に好ましくは、１質量部〜１０質量部の範囲の添
加が好ましい。

【００５２】また、エポキシ樹脂を上記ウレタンアクリ
レート型樹脂、ポリエーテルアクリレート型樹脂等と併
用することもでき、この場合、活性エネルギー線ラジカ
ル重合開始剤と活性エネルギー線カチオン重合開始剤を
併用することが好ましい。

【００５３】また、本発明には、オキセタン化合物を用
いることもできる。用いられるオキセタン化合物は、酸
素または硫黄を含む３員環のオキセタン環を有する化合
物である。中でも酸素を含むオキセタン環を有する化合
物が好ましい。オキセタン環は、ハロゲン原子、ハロア
ルキル基、アリールアルキル基、アルコキシル基、アリ
ルオキシ基、アセトキシ基で置換されていてもよい。具
体的には、３，３−ビス（クロルメチル）オキセタン、
３，３−ビス（ヨードメチル）オキセタン、３，３−ビ
ス（メトキシメチル）オキセタン、３，３−ビス（フェ
ノキシメチル）オキセタン、３−メチル−３クロルメチ
ルオキセタン、３，３−ビス（アセトキシメチル）オキ
セタン、３，３−ビス（フルオロメチル）オキセタン、
３，３−ビス（ブロモメチル）オキセタン、３，３−ジ
メチルオキセタン等が挙げられる。尚、本発明ではモノ
マー、オリゴマー、ポリマーのいずれであってもよい。

【００５４】本発明の反射防止フィルムは、支持体を有
していてもよく、支持体としては、製造が容易であるこ
と、反射防止性能を有する凹凸面を有する樹脂層との接
着性が良好である、光学的に等方性である、光学的に透
明であること等が好ましい要件として挙げられる。上記
の性質を有していれば特に限定はないが、例えば、セル
ロースエステル系フィルム、ポリエステル系フィルム、
ポリカーボネート系フィルム、ポリアリレート系フィル
ム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンも含む）系フ
ィルム、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナ
フタレート等のポリエステルフィルム、ポリエチレンフ
ィルム、ポリプロピレンフィルム、セロファン、セルロ
ースジアセテートフィルム、セルロースアセテートブチ
レートフィルム、ポリ塩化ビニリデンフィルム、ポリビ
ニルアルコールフィルム、エチレンビニルアルコールフ
ィルム、シンジオタクティックポリスチレン系フィル
ム，ポリカーボネートフィルム、ノルボルネン樹脂系フ
ィルム、ポリメチルペンテンフィルム、ポリエーテルケ
トンフィルム、ポリエーテルケトンイミドフィルム、ポ
リアミドフィルム、フッ素樹脂フィルム、ナイロンフィ
ルム、ポリメチルメタクリレートフィルムまたはアクリ
ルフィルム等を挙げることができる。中でも、セルロー
ストリアセテートフィルム、ポリカーボネートフィル
ム、ポリスルホン（ポリエーテルスルホンを含む）が好
ましく、本発明においては、特にセルローストリアセテ
ートフィルム（例えばコニカタック 製品名ＫＣ８ＵＸ
２ＭＷ、ＫＣ４ＵＸ２ＭＷ （コニカ（株）製）が好ま
しく用いられる。）またはセルロースアセテートプロピ
オネートフィルムが、製造上、コスト面、透明性、等方
性、接着性等の観点から好ましく用いられる。また、本
発明の反射防止フィルムは、製造技術を工夫することに
よっては、支持体としてガラスを用いることも可能であ
る。

【００５５】図１において、Ｃは反射防止層である。図
１に示される反射防止フィルムは、凹凸面に１層の高屈
折率層と１層の低屈折率層と１層の中屈折率層とを有す
る反射防止層を設けている。ここで高屈折率層は、反射
防止フィルムの材質よりも屈折率の高い材質を用いた層
のことを指し、低屈折率層は、反射防止フィルムの材質
よりも屈折率の低い材質を用いた層のことを指し、中屈
折率層は、反射防止フィルムの材質よりも屈折率が高
く、高屈折率層よりも屈折率の低い層のことを指す。

【００５６】本発明の反射防止フィルムは、凹凸面に少
なくとも一層の高屈折率層と少なくとも１層の低屈折率
層を有する反射防止層を有していることが好ましく、こ
れにより、反射防止性能をより向上させることができ
る。特に好ましくは、３層以上の屈折率層から構成され
る反射防止層であり、反射防止フィルム側から屈折率の
異なる３層を、中屈折率層／高屈折率層／低屈折率層の
順に積層されているものが好ましく用いられる。また、
高屈折層／低屈折層／高屈折層／低屈折層の順に積層さ
れている反射防止層も好ましく用いられる。高屈折率層
の屈折率は波長５５０ｎｍで１．９〜２．５が好まし
く、特に好ましくは、２．０〜２．４であり、低屈折層
の屈折率は波長５５０ｎｍで１．３〜１．５が好まし
い。

【００５７】本発明の反射防止フィルムに反射防止層を
形成する方法は、塗布、蒸着、スパッタ、ＣＶＤ等の方
法で、反射防止層を形成することができるが、特に、プ
ラズマ処理方法を用いて反射防止層を形成するのが好ま
しい。これにより、凹凸面であっても膜厚を均一に形成
することが可能となることから、反射防止性能をより向
上させることができる。

【００５８】プラズマ処理方法は、相対する電極間に、
１ｋＨｚ以上、より好ましくは１００ｋＨｚを越えた高
周波電源で、１Ｗ／ｃｍ²以上の電力を供給し、反応ガ
スを励起してプラズマを発生させるのプラズマ放電処理
装置を用いるが好ましい。このようなハイパワーの電力
を印加することによって、緻密で、膜厚均一性の高い高
機能性の積層を、生産効率高く得ることが出来る。本発
明において、相対する電極間に印加する高周波電源の周
波数は、好ましくは１５０ＭＨｚ以下である。また、高
周波電源の周波数としては、好ましくは２００ｋＨｚ以
上、さらに好ましくは８００ｋＨｚ以上である。また、
相対する電極間に供給する電力は、好ましくは１．２Ｗ
／ｃｍ²以上であり、好ましくは５０Ｗ／ｃｍ²以下、さ
らに好ましくは２０Ｗ／ｃｍ²以下である。尚、相対す
る電極における電圧の印加面積（／ｃｍ²）は、放電が
起こる範囲の面積のことを指す。相対する電極間に印加
する高周波電圧は、断続的なパルス波であっても、連続
したサイン波であっても構わないが、本発明の効果を高
く得るためには、連続したサイン波であることが好まし
い。本発明に形成される反射防止層を形成するための放
電部は１層当たり１つであっても複数であってもよい。

【００５９】図８は、本発明において、プラズマ処理方
法に用いられるプラズマ放電処理装置の一例を示す図で
ある。回転電極１１０とそれに対向して配置された複数
の対向電極１１１を有し、図示されていない元巻きロー
ルまたは前工程から搬送されて来る基材フィルムＦがガ
イドロール１２０、ニップロール１２２を経て回転電極
１１０に導かれ、基材フィルムＦは回転電極１１０に接
した状態で回転電極１１０の回転と同期しながら移送さ
れ、大気圧もしくはその近傍の圧力下にある放電部１５
０に反応ガス発生装置１３１で調製された反応ガスＧが
給気管１３０から供給され、対向電極１１１に対向して
いる基材フィルム面に薄膜が形成される。それぞれの対
向電極１１１の間に図１では省略されているが、反応ガ
スＧを導入する給気管１３０は複数設けられており、基
材フィルムＦの幅手で均一な濃度、流量で反応ガスＧを
供給出来るようになっている。回転電極１１０と対向電
極１１１には、プラズマ放電を発生させるための電圧を
印加出来る電源１８０が電圧供給手段１８１、１８２を
介して接続されている。また、回転電極１１０、対向電
極１１１、放電部１５０はプラズマ放電処理容器１９０
で覆われ、外界と遮断されている。処理に使用された排
ガスＧ′は処理室の上部にあるガス排気口１４０から排
出される。排ガスは回収され不純物成分（異物、揮発分
副生成物等）を除去精製した後、再利用される。あるい
は図では省略されているが、対向電極１１１の間に設け
られたガス排気口から排気することも出来る。プラズマ
放電処理された基材フィルムＦはニップロール１２３及
びガイドロール１２１を経て次工程または図示してない
巻き取りロールへ搬送される。プラズマ放電処理容器の
出入り部分のニップロール１２２及び１２３のところに
は外界との仕切板１２４及び１２５が設けられており、
外界からニップロール１２２と共に基材フィルムＦに同
伴して来る空気を遮断し、また出口においても、内部に
空気が侵入するのを防止することが望ましい。プラズマ
放電処理容器１９０内は圧力を高くすることが好まし
く、外に対して＋０．１ｋＰａ以上、更には０．３〜１
０ｋＰａ圧力を高くすることが好ましい。

【００６０】この同伴される空気は、プラズマ放電処理
容器１９０内の気体の全体積に対し、１体積％以下に抑
えることが好ましく、０．１体積％以下に抑えることが
より好ましい。前記ニップロール１２２により、それを
達成することが可能である。又、ニップロールは、多段
に設けることでさらにその効果を高めることができ、さ
らにフィルム面に処理室内と同じ組成のガス（希ガス
等）を吹きつけることも有効である。これによって付着
していた異物を除去することもできる。なお、図示して
ないが、必要に応じて、回転電極１１０及び対向電極１
１１は温度調節のための温度制御された媒体を循環する
ようになっている。

【００６１】電源１８０より対向電極１１１に印加され
る電圧の値は適宜決定されるが、例えば、電圧が０．５
〜１０ｋＶ程度で、電源周波数は１００ｋＨｚを越えて
１５０ＭＨｚ以下に調整される。ここで電圧の印加法に
関しては、連続モードと呼ばれる連続サイン波状の連続
発振モードとパルスモードと呼ばれるＯＮ／ＯＦＦを断
続的に行う断続発振モードのどちらを採用しても良いが
連続モードの方がより緻密で良質な薄膜が得られる。相
対する電極間に電圧を印加する電源としては、特に限定
はないが、パール工業製高周波電源（２００ｋＨｚ）、
パール工業製高周波電源（８００ｋＨｚ）、日本電子製
高周波電源（１３．５６ＭＨｚ）、パール工業製高周波
電源（１５０ＭＨｚ）等が使用出来る。

【００６２】放電部１５０の電極間隙は、電極の母材に
設置した固体誘電体（図示してない）の厚さ、印加電圧
や周波数、プラズマを利用する目的等を考慮して決定さ
れる。上記電極の一方に固体誘電体を設置した場合の固
体誘電体と電極の最短距離、上記電極の双方に固体誘電
体を設置した場合の固体誘電体同士の距離としては、何
れの場合も均一な放電を行う観点から０．５ｍｍ〜２０
ｍｍが好ましく、更に好ましくは０．５〜５ｍｍであ
り、特に好ましくは１ｍｍ±０．５ｍｍである。

【００６３】プラズマ放電処理容器１９０はパイレック
ス（Ｒ）ガラス製あるいはプラスティック製の処理容器
等が好ましく用いられるが、電極との絶縁がとれれば金
属製を用いることも可能である。例えば、アルミまた
は、ステンレスのフレームの内面にポリイミド樹脂等を
張り付けても良く、該金属フレームにセラミックス溶射
を行い絶縁性をとっても良い。

【００６４】また、放電プラズマ処理時の基材フィルム
への影響を最小限に抑制するために、放電プラズマ処理
時の基材フィルムの温度を常温（１５℃〜２５℃）以
上、２００℃未満の温度に調整することが好ましく、更
に好ましくは５０℃以上、１５０℃未満に調整すること
であり、更に好ましくは６０℃以上、１２０℃未満に調
整することである。上記の温度範囲に調整する為、必要
に応じて電極、基材フィルムは冷却手段で冷却あるいは
加熱しながら放電プラズマ処理される。

【００６５】本発明においては、上記の放電プラズマ処
理が大気圧または大気圧近傍で行われるが、ここで大気
圧近傍とは、２０ｋＰａ〜２００ｋＰａの圧力を表す
が、本発明に記載の効果を好ましく得るためには９０〜
１１０ｋＰａ、特に９３ｋＰａ〜１０４ｋＰａが好まし
い。

【００６６】図１に示される反射防止フィルムの凸部の
平行面に形成されている反射防止層の平均膜厚と平行面
以外の部分（図１ではＤ）に形成される反射防止層の平
均膜厚との差を凸部の平行面に形成される反射防止層の
平均膜厚の１０％以内としている。

【００６７】本発明の反射防止フィルムは、平行面以外
の部分に形成されている反射防止層の平均膜厚と、凸部
の平行面に形成されている反射防止層の平均膜厚との差
が、平行面に形成されている反射防止層の平均膜厚の１
０％以内とするか、又は、平行面以外の部分に形成され
ている反射防止層の平均膜厚が、凸部の平行面に形成さ
れている反射防止層の平均膜厚より薄いことが好まし
い。さらに好ましくは、平行面以外の部分に形成されて
いる反射防止層の平均膜厚が、凸部の平行面に形成され
ている反射防止層の平均膜厚に対して、５０〜１１０％
である。特に好ましくは８５〜１１０％である。これに
より、反射防止性能をより向上させることができる。こ
のとき、反射防止層の各層（低屈折率層、高屈折率層）
の平均膜厚についても、上述の関係を有していることが
好ましい。

【００６８】大気圧プラズマ処理装置を用いるとこのよ
うな凹凸面上にも、均一な薄膜を積層することができる
ため好ましく用いられる。このとき、反応ガスの供給を
フィルム面に平行にしたり、流量速度を制御する、ある
いはエッジング等と組み合わせる等で凸部に形成される
平行面を選択的に厚くしたりすることが可能となる。プ
ラズマ処理によるエッジングはアルゴン、ヘリウム等の
希ガスと酸素、オゾンあるいはＣＦ₄等のフッ化化合物
を含有する反応ガスを導入しながらプラズマ処理するこ
とによって行うことができる。

【００６９】反射防止層の平均膜厚は、反射防止層の断
面を作製し、透過電子顕微鏡（Ｔｒａｎｓｍｉｓｓｉｏ
ｎ Ｅｌｅｃｔｏｒｏｎ Ｍｉｃｒｏｓｃｏｐｅ：以
下、ＴＥＭと称す）で観察を行うことによって求めるこ
とができる。

【００７０】断面の作製は、具体的には反射防止層を基
材と共に電子顕微鏡観察前処理用のエポキシ包埋樹脂に
包埋し、ダイヤモンドナイフを装着したウルトラミクロ
トームにより、厚さ約８０ｎｍの超薄切片を作製する
か、集束イオンビーム（Ｆｏｃｕｓｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅ
ａｍ：ＦＩＢ）加工装置により、反射防止層表面にＧａ
イオンビームを集束走査し、厚さ約１００ｎｍの薄片化
した断面を切り出すことで得られる。ＴＥＭによる観察
は倍率として５０，０００乃至５００，０００倍にて明
視野像を観察し、画像はフィルム、イメージングプレー
ト、ＣＣＤカメラなどに記録する。ＴＥＭの加速電圧と
しては、８０ないし４００ｋＶが好ましく、特に好まし
くは８０ないし２００ｋＶである。その他、電子顕微鏡
観察技法、および試料作成技法の詳細については「日本
電子顕微鏡学会関東支部編／医学・生物学電子顕微鏡観
察法」（丸善）、「日本電子顕微鏡学会関東支部編／電
子顕微鏡生物試料作成法」（丸善）、「電子顕微鏡Ｑ＆
Ａ」（アグネ承風社）をそれぞれ参考にすることができ
る。適当な媒体に記録されたＴＥＭ画像は、画像１枚を
少なくとも１０２４画素×１０２４画素、好ましくは２
０４８画素×２０４８画素以上に分解し、コンピュータ
による画像処理を行なうことが好ましい。画像処理技術
の詳細は「田中弘編 画像処理応用技術（工業調査
会）」を参考にすることができ、画像処理プログラムま
たは装置としては上記操作が可能なものであれば特に限
定はされないが、一例としてＭＥＤＩＡ ＣＹＢＥＲＮ
ＥＴＩＣＳ社（ＵＳＡ）製画像解析ソフトＩｍａｇｅ−
Ｐｒｏ ＰＬＵＳが挙げられる。画像処理を行なうため
には、フィルムに記録されたアナログ画像はスキャナな
どでデジタル画像に変換し、シェーディング補正、コン
トラスト・エッジ強調などを必要に応じ施すことが好ま
しい。その後、ヒストグラムを作成し、２値化処理によ
って、積層体界面に相当する箇所を抽出し、界面間の幅
（Ｔｈｉｃｋｎｅｓｓ）を計測する。同様にして少なく
とも各部分について２０箇所について求めた値から平均
膜厚を算出する。

【００７１】本発明の反射防止フィルムは、上述したよ
うに、液晶、有機ＥＬ等の表示装置の偏光板に用いると
非常に有用である。

【００７２】また、本発明の反射防止フィルムは、偏光
板と一体となっていてもよい。即ち凹凸を有する樹脂層
が偏光板であってもよい。

【００７３】図３は、本発明の他の反射防止フィルムの
上から見た図及び断面図である。尚、図３以降の説明に
おいては、前述の図１で説明したことと重なる部分の説
明については省略することとする。

【００７４】図３に示される反射防止フィルムは、図１
に示される反射防止フィルムの凸部の平行面の反射防止
フィルムに対する傾斜角を０°から３°へと変更したも
のである。本発明の反射防止フィルムは、平行面の総面
積が凹凸面面積に対して１５〜１００％を占めていれば
よく、図３に示すような反射防止フィルムも本発明の効
果を有する。

【００７５】図４は、本発明の他の反射防止フィルムを
上から見た図及び断面図である。Ｅは凸部の平行面以外
の平行面である。

【００７６】図４に示される反射防止フィルムは、図１
に示される反射防止フィルムにおいて、凸部以外にも水
平面を設けた反射防止フィルムであり、Ｒｃが１０μｍ
である凹凸面が形成され、０．０１ｍｍ²あたりの凸部
の個数が３０であり、凹凸面のうち反射防止フィルム面
に対する傾斜角が０°である平行面が６７％を占めてお
り、さらに平行面の総面積の１７％は凸部に形成されて
いる。

【００７７】本発明の反射防止フィルムは、平行面の総
面積が凹凸面面積に対して、１５〜１００％を占めてお
り、平行面の総面積のうち１５〜１００％が凸部に形成
されていればよく、この範囲を満たしてるのであれば図
４のように凸部以外の部分に平行面を有していても本発
明の効果を有する。

【００７８】また、図４に示される反射防止フィルム
は、Ｂに形成される反射防止層の平均膜厚と、Ｅに形成
されている反射防止層の平均膜厚との差を、Ｂに形成さ
れる反射防止層の平均膜厚の１０％以内としている。

【００７９】本発明の反射防止フィルムは、凸部の平行
面以外の平行面に形成されている反射防止層の平均膜厚
と、凸部の平行面に形成されている反射防止層の平均膜
厚との差を、凸部の平行面に形成されている反射防止層
の平均膜厚の１０％以内とするか、又は、凸部の平行面
以外の平行面に形成されている反射防止層の平均膜厚が
凸部の平行面に形成されている反射防止層の平均膜厚よ
り薄いことが好ましい。さらに好ましくは、凸部の平行
面以外の平行面に形成されている反射防止層の平均膜厚
が、凸部の平行面に形成されている反射防止層の平均膜
厚に対して、５０〜１１０％である。特に好ましくは８
５〜１１０％である。これにより、反射防止性能をより
向上させることができる。このとき、反射防止層の各層
（低屈折層、高屈折層等）の平均膜厚についても上述の
関係を有していることが好ましい。

【００８０】図５は、本発明の他の反射防止フィルムの
上から見た図及び断面図である。図５に示される反射防
止フィルムは、図４に示される反射防止フィルムの平行
面の反射防止フィルムに対する傾斜角を０°から３°へ
と変更したものである。本発明の反射防止フィルムは、
平行面の総面積が凹凸面面積に対して１５〜１００％を
占めていればよいので、図５に示すような反射防止フィ
ルムも本発明の効果を有する。

【００８１】図６は、本発明の他の反射防止フィルムの
斜視図及び断面図である。図６に示される反射防止フィ
ルムは、Ｒｃが１μｍである凹凸面が形成され、０．０
１ｍｍ²あたりの凸部の個数が５００である。尚、図６
に示される反射防止フィルムは凸部Ａ１と凸部Ａ２のよ
うに凸部が接している構造をしているが、このような構
造であっても本発明の効果を有することができる。

【００８２】さらに図６に示される反射防止フィルム
は、斜面部Ｄの傾斜角が反射防止フィルム面に対して直
角となっていることから、平行面の総面積が凹凸面面積
に対して１００％を占めている。従って、図６に示され
る反射防止フィルムは、図１、３〜５に示される反射防
止フィルムと同様に、フィルム面に対して斜めより入射
してくる光に対しての反射光を低減させる性能を有し、
さらに図６に示される反射防止フィルムは、平行面の総
面積が凹凸面面積に対して１００％となっていることか
ら、反射防止フィルム面に対して垂直光の散乱を極めて
低く抑えることができ透過鮮明度が顕著に優れている。

【００８３】図７は、本発明の他の反射防止フィルムの
斜視図及び断面図である。図７に示される反射防止フィ
ルムも、図６に示される反射防止フィルムと同様に、反
射防止フィルムに対する斜面部Ｄの傾斜角が直角となっ
ており、平面部の総面積が凹凸面面積に対して１００％
となっていることになるから、図６に示される反射防止
フィルムと同様の効果を得ることができる。

【００８４】さらに図７に示される反射防止フィルム
は、Ａ３、Ａ４のように凸部の高さがランダムに不均一
となっている。これにより、このフィルムを表示装置等
に用いた場合に画面のモアレを防止することができる。
また、図１、図３〜６に示した本発明の反射防止フィル
ムについても同様に、凸部の平行面の高さをランダムに
不均一とすることで表示装置等に用いた場合に画面のモ
アレを防止することができる。

【００８５】

【実施例】以下実施例によって本発明を説明するが、本
発明はこれに限定されるものではない。

【００８６】 実施例１ （セルロースエステルフィルム１の作製） 〈酸化けい素分散液Ａの調製〉 アエロジルＲ９７２Ｖ（日本アエロジル（株）製） １ｋｇ エタノール ９ｋｇ 以上をディゾルバで３０分間撹拌混合した後、マントン
ゴーリン型高圧分散装置を用いて分散を行い、酸化けい
素分散液Ａを調製した。

【００８７】 〈添加液Ｂの調製〉 セルローストリアセテート（アセチル基の置換度２．８８） ６ｋｇ メチレンクロライド １４０ｋｇ 以上を密閉容器に投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶
解し、濾過した。これに１０ｋｇの上記酸化けい素分散
液Ａを撹拌しながら加えて、さらに３０分間撹拌した
後、濾過し、添加液Ｂを調製した。

【００８８】 〈ドープＣの調製〉 メチレンクロライド ４４０ｋｇ エタノール ３５ｋｇ セルローストリアセテート（アセチル基の置換度２．８８） １００ｋｇ トリフェニルホスフェート ９ｋｇ エチルフタリルエチルグリコレート ２ｋｇ チヌビン３２６（チバスペシャルティケミカルズ社製） ０．１ｋｇ 上記の溶剤を密閉容器に投入し、攪拌しながら残りの素
材を投入し、加熱、撹拌しながら完全に溶解し、混合し
た。ドープを流延する温度まで下げて一晩静置し、脱泡
操作を施した後、溶液を安積濾紙（株）製の安積濾紙Ｎ
ｏ．２４４を使用して濾過した。更に上記溶液に添加液
Ｂを３ｋｇ添加し、インラインミキサー（東レ（株）製
静止型管内混合機Ｈｉ−Ｍｉｘｅｒ、ＳＷＪ）で１０分
間混合し、濾過し、ドープＣを調製した。

【００８９】ドープＣを濾過した後、ベルト流延装置を
用い、３５℃のドープを３５℃のステンレスバンド支持
体上に均一に流延した。その後、支持体上で乾燥させた
後、ステンレスバンド支持体上からフィルムを剥離し
た。このときのフィルムの残留溶媒量は８０％であっ
た。ステンレスバンド支持体から剥離した後、８０℃に
維持された乾燥ゾーンで１分間乾燥させた後、２軸延伸
テンターを用いて、残留溶媒量３〜１０質量％であると
きに１００℃の雰囲気下で長手方向に１．０３倍、幅方
向に１．１倍に延伸し、幅把持を解放して、多数のロー
ルで搬送させながら１２５℃の乾燥ゾーンで乾燥を終了
させ、フィルム両端に幅１０ｍｍ、高さ１０μｍのナー
リング加工を施して、膜厚８０μｍのセルロースエステ
ルフィルム１を作製した。フィルム幅は１３００ｍｍ、
巻き取り長は１５００ｍとした。面内リターデーション
Ｒ₀は幅手で±１ｎｍ以内であった。

【００９０】（フィルム１の作製）図１に示す反射防止
フィルムの凹凸面（Ｒｃ５μｍ、凸部個数１００個／
０．０１ｍｍ²、凹凸面に占める平行面面積２５％、う
ち凸部に形成されている面積１００％）を形成する型と
してポリエチレンテレフタレート製のマット賦型フィル
ム１に紫外線硬化樹脂としてウレタンアクリレート（Ｅ
ＸＧ：大日精化製）を膜厚１０μｍ／ｄｒｙになるよう
にグラビアリバース法により塗工し、溶剤を乾燥した。
その後、セルロースエステルフィルム１と前記塗工した
マット賦型フィルム１の塗工面とが合わさるようにラミ
ネートし、１６０Ｗの紫外線照射装置の下を通過させ、
樹脂を硬化させた。次いで、マット賦型フィルム１を剥
離した。

【００９１】さらに、図８の大気圧プラズマ処理装置を
用いて凹凸面に反射防止層として中屈折率層、高屈折率
層、低屈折率層の３層を設けてフィルム１を作製した。

【００９２】図８の大気圧プラズマ処理装置において、
ロール電極には、冷却水による冷却機能を有するステン
レス製ジャケットロール母材（冷却機能は図８には図示
していない）を用いた。これにセラミック溶射によりア
ルミナを１ｍｍ被覆し、その上にテトラメトキシシラン
を酢酸エチルで希釈した溶液を塗布乾燥後、紫外線照射
により硬化させて封孔処理を行いＲｍａｘ１μｍの誘電
体を有するロール電極を製作しアース（接地）した。一
方、対向電極としては、中空のステンレスパイプに対
し、上記同様の誘電体を同条件にて被覆し、相対する電
極群とし、第１のプラズマ放電処理装置を中屈折率層用
に、第２のそれを高屈折率層用に、更に第３のそれを低
屈折率層用として、それぞれ必要な膜厚が各々得られる
ように調整した。また、第１，２及び３のプラズマ放電
処理装置の電源は、日本電子製高周波電源を使用し、連
続周波数を１３．５６ＭＨｚとし、１５Ｗ／ｃｍ²の電
力を供給した。但し、ロール電極は、ドライブを用いて
基材フィルムの搬送に同期して回転させた。なお、電極
間隙は１．１ｍｍ、反応ガスの圧力を１０３ｋＰａとし
て行った。

【００９３】プラズマ放電処理に用いた反応ガスの組成
を以下に記す。 （酸化錫層（中屈折率層）形成用反応ガス） ヘリウム ９８．７体積％ 酸素ガス １体積％ テトラブチル錫蒸気 ０．３体積％ （酸化チタン層（高屈折率層）形成用反応ガス） ヘリウム ９８．７体積％ 酸素ガス １体積％ テトライソプロポキシチタン蒸気 ０．３体積％ （酸化珪素層（低屈折率層）形成用反応ガス） ヘリウム ９８．７体積％ 酸素ガス １体積％ テトラエトキシシラン蒸気 ０．３体積％ 連続的に大気圧プラズマ処理して、順に酸化錫層（中屈
折率層：屈折率１．７、膜厚６７ｎｍ）、酸化チタン層
（高屈折率層：屈折率２．１４、膜厚１１０ｎｍ）、酸
化珪素層（低屈折率層：屈折率１．４４、膜厚８７ｎ
ｍ）の３層を設けた。尚、屈折率は５５０ｎｍの光に対
する値であり、膜厚は凸部の平行面における平均膜厚で
ある。また、炭素含有量は、酸化珪素層０．３質量％、
酸化チタン層０．４％質量、酸化錫層０．５質量％であ
った。

【００９４】（フィルム２の作製）図２に示す反射防止
フィルムの凹凸面を形成する型としてポリエチレンテレ
フタレート製のマット賦型フィルム２（Ｒｃ５μｍ、凸
部個数１００個／０．０１ｍｍ²、凹凸面に占める平行
面面積０％、うち凸部に形成されている面積０％である
凹凸面を形成するための賦型）をマット賦型フィルム１
の代わりに用いた以外は、フィルム１の作製法と同様に
してフィルム２を作製した。

【００９５】（フィルム３の作製）図３に示す反射防止
フィルムの凹凸面を形成する型としてポリエチレンテレ
フタレート製のマット賦型フィルム３（Ｒｃ２μｍ、凸
部個数２００個／０．０１ｍｍ²、凹凸面に占める平行
面面積２５％、うち凸部に形成されている面積１００％
である凹凸面を形成するための賦型）をマット賦型フィ
ルム１の代わりに用いて膜厚を５μｍ／ｄｒｙとした以
外は、フィルム１の作製法と同様にしてフィルム３を作
製した。

【００９６】（フィルム４の作製）図４に示す反射防止
フィルムの凹凸面を形成する型としてポリエチレンテレ
フタレート製のマット賦型フィルム４（Ｒｃ１０μｍ、
凸部個数３０個／０．０１ｍｍ²、凹凸面に占める平行
面面積６７％、うち凸部に形成されている面積１７％で
ある凹凸面を形成するための賦型）をマット賦型フィル
ム１の代わりに用いて膜厚を２０μｍ／ｄｒｙとした以
外は、フィルム１の作製法と同様にしてフィルム４を作
製した。

【００９７】（フィルム５の作製）図５に示す反射防止
フィルムの凹凸面を形成する型としてポリエチレンテレ
フタレート製のマット賦型フィルム５（Ｒｃ１５μｍ、
凸部個数１０個／０．０１ｍｍ²、凹凸面に占める平行
面面積６７％、うち凸部に形成されている面積１７％で
ある凹凸面を形成するための賦型）をマット賦型フィル
ム１の代わりに用いて膜厚を１５μｍ／ｄｒｙとした以
外は、フィルム１の作製法と同様にしてフィルム５を作
製した。

【００９８】（フィルム６の作製）図６に示す反射防止
フィルムの凹凸面を形成する型としてポリエチレンテレ
フタレート製のマット賦型フィルム６（Ｒｃ１μｍ、凸
部個数５００個／０．０１ｍｍ²、凹凸面に占める平行
面面積１００％、うち凸部に形成されている面積５０％
である凹凸面を形成するための賦型）をマット賦型フィ
ルム１の代わりに用いて膜厚を３μｍ／ｄｒｙとした以
外は、フィルム１の作製法と同様にしてフィルム６を作
製した。

【００９９】（フィルム７の作製）図７に示す反射防止
フィルムの凹凸面を形成する型としてポリエチレンテレ
フタレート製のマット賦型フィルム７（Ｒｃ５μｍ、凸
部個数６０個／０．０１ｍｍ²、凹凸面に占める平行面
面積１００％、うち凸部に形成されている面積３３％で
ある凹凸面を形成するための賦型）をマット賦型フィル
ム１の代わりに用いて膜厚を１０μｍ／ｄｒｙとした以
外は、フィルム１の作製法と同様にしてフィルム７を作
製した。

【０１００】（フィルム８の作製）平面を形成する型と
してポリエチレンテレフタレート製のマット賦型フィル
ム８（Ｒｃ０、凸部個数０個／０．０１ｍｍ²、凹凸面
に占める平行面面積１００％である面を形成するための
賦型）をマット賦型フィルム１の代わりに用いて膜厚を
５μｍとした以外は、フィルム１の作製法と同様にして
フィルム８を作製した。

【０１０１】フィルム１〜８それぞれの凹凸面について
の輪郭曲線要素の平均高さＲｃ、凸部の個数、凹凸面に
占める平行面の面積、うち凸部に形成されている平行面
の面積の確認は以下のようにして行った。 〈輪郭曲線要素の平均高さＲｃの測定〉試料は２５℃、
６５％ＲＨ環境下で樹脂フィルム同士が重ね合わされな
い条件で２４時間調湿したのち、該環境下で測定した。
ここで示す重ね合わされない条件とはたとえばフィルム
エッジ部分を高くした状態で巻き取る方法やフィルムと
フィルムの間に紙をはさんで重ねる方法、厚紙等で枠を
作製しその四隅を固定する方法のいずれかである。

【０１０２】試料固定方法は試料を試料台に固定したと
きのたるみ、ゆがみなどを除去するため、試料を数ｃｍ
×数ｃｍの大きさに切り取り、ガラス板に両面テープを
用いて固定した。

【０１０３】測定装置はＷＹＫＯ社製 ＲＳＴＰＬＵＳ
非接触三次元微小表面形状測定システム（光学干渉式表
面粗さ測定装置）を用いた。

【０１０４】ＶＳＩモードにおいて対物レンズ４０倍、
中間レンズ１．０倍を用いた。測定条件の詳細について
は下記のように設定した。

【０１０５】Ｓｃａｎ ｄｅｐｔｈ：４０μｍ Ｍｏｄ ｔｈｒｅｓｈ：２．０％ Ｓｃａｎ ｂａｃｋ：１５．０μｍ Ｒｅｓｏｌｕｔｉｏｎ：３６８×２３８ｆｕｌｌ ｖｉ
ｅｗ Ｓｃａｎ ｓｐｅｅｄ：ＨＩＧＨ 解析時はＴｅｒｍ ｒｅｍｏｖａｌをｔｉｌｔ ｏｎｌ
ｙ（傾斜補正）で補正し、ＦｉｌｔｅｒｉｎｇはＭｅｄ
ｉａｎ Ｓｍｏｏｔｈｉｎｇで行った。

【０１０６】結果の解析方法はプロファイルを３次元で
表示し、１４９．７μｍ×１１１．２μｍ測定視野内に
おいて、Ｒａを求めた。

【０１０７】更に測定により得られた凹凸のデータ（輪
郭曲線要素）から、輪郭曲線要素の平均高さＲｃを求め
た。輪郭曲線要素の平均高さＲｃはＪＩＳ Ｂ０６０１
により規定され、下記の式より求められる。

【０１０８】

【数１】

【０１０９】ｍは測定範囲内のＸ、Ｙそれぞれの方向の
測定ポイント数を示す。また試料を固定している両面テ
ープ及びガラス板の形状による影響を考慮し、解析時に
はｔｉｌｔ ｏｎｌｙ（傾斜補正）で補正した。 〈凸部の個数の測定〉ＷＹＫＯ社製 ＲＳＴＰＬＵＳ非
接触三次元微小表面形状測定システム（光学干渉式表面
粗さ測定装置）を用いて求めた。結果の解析方法はプロ
ファイルを３次元で表示し、１４９．７μｍ×１１１．
２μｍ測定視野内において、Ｒａを求め、中心線より突
出している部分をカウントし、０．０１ｍｍ²の凸部の
個数を求めた。 〈凹凸面に占める平行面の面積、凸部に形成されている
平行面の面積の測定〉ＷＹＫＯ社製 ＲＳＴＰＬＵＳ非
接触三次元微小表面形状測定システム（光学干渉式表面
粗さ測定装置）を用いて求めた。このとき凹凸面の凹凸
の高低に準じて色分けして表示して、平行部に該当する
部分の面積、凸部での平行面に該当する面積を求めた。 〈反射防止層の膜厚測定〉凹凸面に形成された反射防止
層の平均膜厚は、反射防止層の断面を作製し、透過型電
子顕微鏡（ＴＥＭ）で観察を行うことによって求めた。

【０１１０】断面の作製は、反射防止層を基材と共に電
子顕微鏡観察前処理用のエポキシ包埋樹脂に包埋し、集
束イオンビーム（Ｆｏｃｕｓｅｄ Ｉｏｎ Ｂｅａｍ：
ＦＩＢ）加工装置により、反射防止層表面にＧａイオン
ビームを集束走査し、厚さ約１００ｎｍの薄片化した断
面を切り出した。ＴＥＭによる観察は倍率として５０，
０００乃至５００，０００倍にて明視野像を観察、記録
した。少なくとも凸部等各２０箇所について求めた値か
ら平均膜厚を算出した。フィルム１〜８については、凹
凸面の膜厚はどの部分であってもほぼ同じ膜厚であり、
各部分（平行面以外の部分、凸部以外の平行面）の平均
膜厚と凸部の平行面の反射防止層の平均膜厚との差が凸
部の平行面の反射防止層の平均膜厚の１０％以内であっ
た。

【０１１１】

【表１】

【０１１２】（フィルム１〜８の評価）得られたフィル
ム１〜８について下記の評価を行った。

【０１１３】《斜め方向の反射率評価》変角測色計 Ｇ
Ｃ２０００（日本電色工業株式会社製）を用いて、視野
２度で、投光角３０°、受光角３０°として斜め方向の
反射スペクトルを測定し４５０〜６５０ｎｍの平均反射
率を求めた。

【０１１４】《鮮明度》フィルム１〜８について透過鮮
明度を測定した。測定方法は、写像性測定機ＩＣＭ−１
ＤＰ（スガ試験機（株）製）を用い、ＪＩＳ Ｋ−７１
０５−１９８１の透過鮮明度の測定に準じた。

【０１１５】透過鮮明度（％）＝幅０．１２５ｍｍ、
０．５ｍｍ、１．０ｍｍ、２．０ｍｍの４種類の光学く
しのトータル値とした。

【０１１６】《光沢度》フィルム１〜８について光沢度
を測定した。測定方法はＪＩＳＫ７１０５を準用し、測
定器は東京電色工業（株）製Ｔ−２６００ＤＡ型を使用
した（６０度光沢）。

【０１１７】結果を表２に示す。

【０１１８】

【表２】

【０１１９】表２の結果より、本発明の反射防止フィル
ムは、反射防止性能に優れていることが分かった。さら
に本発明の反射防止フィルムは透過鮮明度が高いことが
分かった。さらに、本発明の反射防止フィルムは、光沢
度が低いことが確認された。 （偏光板１〜８の作製）厚さ１２０μｍの長尺のポリビ
ニルアルコールフィルムを、一軸延伸（温度１１０℃、
延伸倍率５倍）した。これをヨウ素０．０７５ｇ、ヨウ
化カリウム５ｇ、水１００ｇの比率からなる水溶液に６
０秒間浸漬し、次いでヨウ化カリウム６ｇ、ホウ酸７．
５ｇ、水１００ｇの比率からなる６８℃の水溶液に浸漬
した。これを水洗、乾燥し長尺の偏光膜を得た。

【０１２０】次いで、下記工程１〜５に従って、偏光膜
とフィルム１とを貼り合わせて偏光板１を作製した。

【０１２１】工程１：長尺のセルロースエステルフィル
ム１とフィルム１を２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶
液に６０℃で９０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させ
た。フィルム１の反射防止層を設けた面にはあらかじめ
剥離性の保護フィルム（ＰＥＴ製）を張り付けてアルカ
リから保護した。

【０１２２】同様に長尺のセルロースエステルフィルム
１を２ｍｏｌ／Ｌの水酸化ナトリウム溶液に６０℃で９
０秒間浸漬し、次いで水洗、乾燥させた。

【０１２３】工程２：前述の長尺の偏光膜を固形分２質
量％のポリビニルアルコール接着剤槽中に１〜２秒間浸
漬した。

【０１２４】工程３：工程２で偏光膜に付着した過剰の
接着剤を軽く取り除き、それを工程１でアルカリ処理し
たセルロースエステルフィルム１とフィルム１で挟み込
んで、積層配置した。

【０１２５】工程４：２つの回転するローラにて２０〜
３０Ｎ／ｃｍ²の圧力で約２ｍ／ｍｉｎの速度で張り合
わせた。このとき気泡が入らないように注意して実施し
た。

【０１２６】工程５：８０℃の乾燥機中にて工程４で作
製した試料を３分間乾燥処理し、本発明の偏光板１を作
製した。

【０１２７】偏光板１の作製法において、フィルム１を
フィルム２〜８に代えた以外は同様にしてそれぞれ偏光
板２〜８を作製した。 （偏光板１〜８の評価）得られた偏光板１〜８について
下記の評価を行った。

【０１２８】《蛍光灯写り込み評価》市販の液晶表示パ
ネル（ＮＥＣ製 カラー液晶ディスプレイ Ｍｕｌｔｉ
Ｓｙｎｃ ＬＣＤ１５２５Ｊ：型名 ＬＡ−１５２９Ｈ
Ｍ）の最表面の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方
向を合わせた偏光板１〜８を各々張り付けた。

【０１２９】上記のようにして得られた液晶パネルを床
から７５ｃｍの高さの机上に配置し、床から３ｍの高さ
の天井部に昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ−
Ｘ松下電器産業（株）製）４０Ｗ×２本を１セットとし
て１．５ｍ間隔で１０セット配置した。このとき評価者
が液晶パネル表示面正面にいるときに、評価者の頭上よ
り後方に向けて天井部に前記蛍光灯がくるように配置し
た。液晶パネルは机に対する垂直方向から３０°傾けて
蛍光灯が写り込むようにして画面の見易さ（視認性）を
下記のようにランク評価した。 Ａ：もっとも近い蛍光灯の写りこみから気にならず、フ
ォントの大きさ８の文字も鮮明にはっきりと読める Ｂ：近くの蛍光灯の写りこみはやや気になるが、遠くは
気にならず、フォントの大きさ８の文字もなんとかと読
める Ｃ：蛍光灯の写りこみは気にならないが、フォントの大
きさ８の文字を読むのは困難である Ｄ：蛍光灯の写りこみがかなり気になり、写り込みの部
分はフォントの大きさ８の文字を読むことはできない 結果を表３に示す。

【０１３０】

【表３】

【０１３１】表３の結果より、本発明の反射防止フィル
ムを用いた偏光板は、蛍光灯の写り込みが気にならない
ことが分かった。

【０１３２】実施例２ （フィルム４ａの作製）実施例１で作成したフィルム４
の中屈折率層、高屈折率層、低屈折率層を高屈折率層
（屈折率２．２、膜厚１５ｎｍ）／低屈折率層（屈折率
１．４６、膜厚２８ｎｍ）、高屈折率層（屈折率２．
２、膜厚１０２ｎｍ）／低屈折率層（屈折率１．４６、
膜厚８５ｎｍ 屈折率は５５０ｎｍの光に対する屈折
率）の４層構成とした以外は同様にしてフィルム４ａを
作製した。フィルム４ａの反射防止層の平均膜厚につい
ては、実施例１で述べた平均膜厚の求め方と同様にして
求め、凸部の平行面の反射防止層の平均膜厚を基準膜厚
としたときの凸部以外の平行面の反射防止層の平均膜厚
及び平行面以外の部分の反射防止膜の平均膜厚との関係
について表４に示す。 （フィルム４ｂの作製）フィルム４ａの作製において反
射防止層の各層を作製するごとに、プラズマ処理でエッ
チングを行って、凸部の平行面の反射防止層の平均膜厚
と他の部分の反射防止層の平均膜厚との関係を表４に示
すようにした以外はフィルム４ａの作製の方法と同様に
してフィルム４ｂを作製した。 （フィルム４ｃの作製）フィルム４ａの作製において反
射防止層の各層を作製するごとに、プラズマ処理でエッ
チングを行って、凸部の平行面の反射防止層の平均膜厚
と他の部分の反射防止層の平均膜厚との関係を表４に示
すようにした以外はフィルム４ａの作製の方法と同様に
してフィルム４ｃを作製した。 （フィルム４ｄの作製）プラズマ処理の反応ガスを下記
のように変更し、放電部における反応ガスの供給角度を
凹凸面に対して水平とし、電極間距離を２ｍｍに変更し
た以外はフィルム４ａと同様にして各屈折率層を形成し
て、凸部の平行面の反射防止層の平均膜厚と他の部分の
反射防止層の平均膜厚との関係を表４に示すようにして
フィルム４ｄを得た。 （酸化チタン層（高屈折率層）形成用反応ガス） ヘリウム ９９．４体積％ 酸素 ０．５体積％ テトライソプロポキシチタン蒸気 ０．１体積％ （酸化珪素層（低屈折率層）形成用反応ガス） ヘリウム ９９．４体積％ 酸素 ０．５体積％ テトラエトキシシラン蒸気 ０．１体積％ （フィルム４ｅの作製）ガス供給量をフィルム４ｄの作
製時のガス供給量の１．２倍とし、さらに電極間距離を
２．２ｍｍに変更した以外は、フィルム４ｄの作製の方
法と同様にしてフィルム４ｅを作製した。フィルム４ｅ
の凸部の平行面の反射防止層の平均膜厚と他の部分の反
射防止層の平均膜厚との関係は表４に示すようになっ
た。

【０１３３】尚フィルム４ａ〜４ｅについて凸部の平行
面の反射防止層の平均膜厚、凸部以外の平行面の反射防
止層の平均膜厚、平行面以外の反射防止層の平均膜厚の
確認は実施例１と同様に断面の電子顕微鏡観察（ＴＥ
Ｍ）によって行った。 （フィルム４ａ〜４ｅの評価）フィルム４ａ〜４ｅにつ
いて実施例１で行った斜め方向からの反射率測定を行っ
た。

【０１３４】結果を表４に示す。

【０１３５】

【表４】

【０１３６】表４の結果より、低屈折層、高屈折層を有
する反射防止層を設け、平行面以外の部分の反射防止層
の平均膜厚と平行面の反射防止層の平均膜厚との差を凸
部の平行面の平均膜厚の１０％以内とするか、若しくは
平行面以外の部分の反射防止層の平均膜厚を、平行面の
反射防止層の平均膜厚より薄くすることで、反射防止性
能が向上することが分かった。また、凸部以外の平行面
の反射防止層の平均膜厚と凸部の平行面の反射防止層の
平均膜厚との差を凸部の平行面の反射防止層の平均膜厚
の１０％以内とするか、若しくは凸部以外の平行面の反
射防止層の平均膜厚を凸部の平行面の反射防止層の平均
膜厚より薄くすることで、反射防止性能が向上すること
が分かった。 （偏光板４ａ〜４ｅの作製）実施例１の偏光板１の作製
において、フィルム１の代わりにフィルム４ａ〜４ｅを
それぞれ用いて偏光板４ａ〜４ｅを作製した。 （偏光板４ａ〜４ｅの評価）得られた偏光板４ａ〜４ｅ
について下記の評価を行った。 《蛍光灯写り込み評価》市販の液晶表示パネル（ＮＥＣ
製 カラー液晶ディスプレイ ＭｕｌｔｉＳｙｎｃ Ｌ
ＣＤ１５２５Ｊ：型名 ＬＡ−１５２９ＨＭ）の最表面
の偏光板を注意深く剥離し、ここに偏光方向を合わせた
偏光板４ａ〜４ｅを各々張り付けた。

【０１３７】上記のようにして得られた液晶パネルを床
から７５ｃｍの高さの机上に配置し、床から３ｍの高さ
の天井部に昼色光直管蛍光灯（ＦＬＲ４０Ｓ・Ｄ／Ｍ−
Ｘ松下電器産業（株）製）４０Ｗ×２本を１セットとし
て１．５ｍ間隔で１０セット配置した。このとき評価者
が液晶パネル表示面正面にいるときに、評価者の頭上よ
り後方に向けて天井部に前記蛍光灯がくるように配置し
た。液晶パネルは机に対する垂直方向から３０°傾けて
蛍光灯が写り込むようにして画面の見易さ（視認性）を
下記のようにランク評価した。 Ａ：もっとも近い蛍光灯の写りこみから気にならない。 Ｂ：遠くの蛍光灯の写りこみは気にならない。 Ｃ：蛍光灯の写りこみはやや気になる。 Ｄ：蛍光灯の写りこみがかなり気になる。

【０１３８】結果を表５に示す

【０１３９】

【表５】

【０１４０】表５の結果より、低屈折層、高屈折層を有
する積層を設け、平行面以外の部分の反射防止層の平均
膜厚と平行面の反射防止層の平均膜厚との差を凸部の平
行面の平均膜厚の１０％以内とするか、若しくは平行面
以外の部分の反射防止層の平均膜厚を、平行面の反射防
止層の平均膜厚より薄くすることで、反射防止フィルム
を偏光板に用いたときに蛍光灯の写り込みが気にならな
いことが分かった。また、凸部以外の平行面の反射防止
層の平均膜厚と凸部の平行面の反射防止層の平均膜厚と
の差を凸部の平行面の反射防止層の平均膜厚の１０％以
内とするか、若しくは凸部以外の平行面の反射防止層の
平均膜厚を凸部の平行面の反射防止層の平均膜厚より薄
くすることで、反射防止フィルムを偏光板に用いた時に
蛍光灯の写り込みが気にならないことが分かった。

【０１４１】

【発明の効果】本発明によって、十分な反射防止性能を
有し、かつ透過鮮明度の良好な反射防止フィルム及び該
反射防止フィルムを用いた偏光板、表示装置を提供する
ことができた。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の反射防止フィルムの上から見た図
（イ）及び断面図（ロ）である。

【図２】本発明の比較例の反射防止フィルムの上から見
た図（イ）及び断面図（ロ）である。

【図３】本発明の他の反射防止フィルムの上から見た図
（イ）及び断面図（ロ）である。

【図４】本発明の他の反射防止フィルムの上から見た図
（イ）及び断面図（ロ）である。

【図５】本発明の他の反射防止フィルムの上から見た図
（イ）及び断面図（ロ）である。

【図６】本発明の他の反射防止フィルムの斜視図（イ）
及び断面図（ロ）である。

【図７】本発明の他の反射防止フィルムの斜視図（イ）
及び断面図（ロ）である。

【図８】プラズマ放電処理装置の一例を示す図である。

【符号の説明】

Ａ，Ａ１，Ａ２，Ａ３，Ａ４ 凸部 Ｂ 凸部の平行面 Ｃ 反射防止層 Ｄ 斜面部 Ｅ 凸部の平行面以外の平行面 １１０ 回転電極 １１１ 対向電極 １２０、１２１ ガイドロール １２２、１２３ ニップロール １２４、１２５ 仕切板 １３０ 給気管 １３１ 反応ガス発生装置 １４０ ガス排気口 １５０ 放電部 １８０ 電源 １８１、１８２ 電圧供給手段 １９０ プラズマ放電処理容器

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA02 BA27 BB20 BB33 BB43 BB51 BB63 BB65 BC03 BC09 BC14 BC22 2H091 FA08 FA37 FD07 FD14 GA07 GA16 GA17 LA03 LA11 LA12 LA13 LA16 2K009 AA05 AA06 AA07 AA12 BB11 BB28 CC03 CC24 CC33 CC34 CC35 DD02 DD04 DD05 DD09 4F100 AK01A AK41 AR00B AR00C BA03 BA07 BA10A BA10B BA10C BA26 DD07A EJ61A GB41 JN01 JN06 JN06B JN06C JN18B JN18C YY00A

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 輪郭曲線要素の平均高さ（Ｒｃ）が０．
   １〜３０μｍである凹凸面が形成され、該凹凸面の０．
   ０１ｍｍ²あたりの凸部の個数が１〜１０００である樹
   脂層を有する反射防止フィルムであって、前記凹凸面の
   うち反射防止フィルム面に対する傾斜角が０〜５°であ
   る平行面が１５〜１００％を占め、前記平行面の１５〜
   １００％が凸部に形成されていることを特徴とする反射
   防止フィルム。
2. 【請求項２】 前記凹凸面に少なくとも１層の高屈折率
   層と少なくとも１層の低屈折率層とを有する反射防止層
   が形成されていることを特徴とする請求項１に記載の反
   射防止フィルム。
3. 【請求項３】 凸部以外の平行面に形成されている反射
   防止層の平均膜厚が、前記凸部の平行面に形成されてい
   る反射防止層の平均膜厚より薄いか、若しくは凸部以外
   の平行面に形成されている反射防止層の平均膜厚と、前
   記凸部の平行面に形成されている反射防止層の平均膜厚
   との差が、前記凸部の平行面に形成されている反射防止
   層の平均膜厚の１０％以内であることを特徴とする請求
   項２に記載の反射防止フィルム。
4. 【請求項４】 前記平行面以外の部分に形成されている
   反射防止層の平均膜厚が、前記凸部の平行面に形成され
   ている反射防止層の平均膜厚より薄いか、若しくは前記
   平行面以外の部分に形成されている反射防止層の平均膜
   厚と前記凸部の平行面に形成されている反射防止層の平
   均膜厚との差が前記凸部の平行面に形成されている反射
   防止層の平均膜厚の１０％以内であることを特徴とする
   請求項２又は３に記載の反射防止フィルム。
5. 【請求項５】 前記反射防止層は凹凸面にプラズマ処理
   を施して形成されたことを特徴とする請求項２〜４のい
   ずれか１項に記載の反射防止フィルム。
6. 【請求項６】 請求項１〜５のいずれか１項に記載の反
   射防止フィルムを有する偏光板。
7. 【請求項７】 請求項１〜５のいずれか１項に記載の反
   射防止フィルムを有する表示装置。