JPH11309830A - 低反射部材およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 優れた反射防止性特性と生産性を兼ね備えた
低反射部材およびその製造方法を提供する。 【解決手段】 透明支持基体上に、該透明支持基体より
も低い屈折率を有する低屈折率層を設けた低反射部材に
おいて、該低屈折率層が、エポキシ基を２個以上有し、
屈折率が１．４５以下の含フッ素エポキシ化合物を主成
分とした光カチオン重合物により形成されることを特徴
とする低反射部材、およびその製造方法。。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は液晶ディスプレイ
（ＬＣＤ）、プラズマディスプレイ（ＰＤＰ）、陰極管
ディスプレイ（ＣＲＴ）等の画像表示装置等に好適に用
いられ、特に、外光の反射防止性に優れた低反射部材お
よびその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】プラスチックフィルムもしくはガラス等
からなる透明支持基体の最外層に、該基体よりも低屈折
率の物質からなる低屈折率層を可視光波長の１／４の光
学膜厚で形成すると、干渉により反射率が低下すること
が知られている。低反射部材の構成としては、基体の少
なくとも片面に低屈折率層のみを単層で設けるものと、
基体の少なくとも片面に高屈折率層、低屈折率層を順次
積層し、多層構成にするものとがある。良好な反射防止
機能を発現するための各層の屈折率及び膜厚について
は、公知の計算式で算出することができる。例えば、
「薄膜・光デバイス」（吉田貞史、矢嶋弘義著、東京大
学出版会）によれば、入射光が低屈折率層に垂直に入射
する場合に、光を反射せず、且つ１００％透過するため
の条件は次の関係式（１）および（２）を満たせば良い
とされている。なお、式中のｎ₁は低屈折率層の屈折
率、ｎ_Sは基体もしくは高屈折率層の屈折率、ｄ₁は低屈
折率層の厚さ、λ₀は光の波長を示す。

【０００３】 ｎ₁ ²＝ｎ_S （１） ｎ₁ｄ₁＝λ₀／４ （２）

【０００４】光の反射を１００％防止するには、前記関
係式（１）において、低屈折率層の屈折率が下層（基体
もしくは高屈折率層）の屈折率の平方根であり、且つ低
屈折率層の膜厚が前記関係式（２）において関係式
（１）で選択した低屈折率層の屈折率と光の波長から計
算される値となることが必要である。

【０００５】反射防止膜の多くは真空蒸着法やスパッタ
リング法などの真空下での成膜法によって形成されてい
る。しかしながら、基体にプラスチックフィルムを選択
した場合には基体の熱変形温度が低いため、充分に加熱
することができず、得られる反射防止膜は基体との密着
性が十分ではない。また、これらの方法を適用すること
のできる部材は比較的小型なものに限定され、しかも連
続生産には適さない上、生産コストが高いという欠点が
あった。これまでメガネレンズ等にはこの真空成膜法に
より反射防止膜が付与されていた。一方、近年において
は、ＬＣＤ、ＰＤＰ、ＣＲＴに代表される画像表示装置
（以下、これを「ディスプレイ」という。）は、テレビ
やコンピューターを始めとして、様々な分野で繁用され
ており、目覚しい発展を遂げている。このディスプレイ
の開発は、画像の高精細化、高画質化、および低価格化
に注力されており、その流れから反射防止に対する要求
も強くなっている。そこで、大面積化および連続生産が
可能であると同時に低コスト化が可能なソルベントコー
ティングにより生産される低反射部材の開発が注目され
ている。

【０００６】ソルベントコーティングによって低屈折率
層を得る手段としては、フッ素を含む材料により低屈折
率化を図る方法と、膜の表面に微粒子等を堆積させて空
孔を設け、空気の混入により低屈折率化を図る方法とに
大別される。低屈折率層を構成する材料別に分類する
と、アルコキシシラン類をゾルゲル反応により硬化させ
る方法（特開平９−２４５７５）、フッ素系有機材料を
用いる方法（特開平２−１９８０１）、低屈折率の微粒
子を用いる方法の３種に大別される。また上記３種の組
み合わせとして、フッ素系有機材料とアルコキシシラン
類を組み合わせる方法（特開平７−３３１１１５）、フ
ッ素系有機材料と低屈折微粒子を組み合わせる方法（特
開平６−２３０２０１）、アルコキシシラン類と低屈折
率微粒子を組み合わせる方法（特開平８−２１１２０
２）等が提案されているが、どの方法においても基体と
してプラスチックフィルムを選択した場合、実用上十分
な反射防止特性と生産性を備えたものは得られていな
い。

【０００７】例えば、アルコキシシランを用いる方法
は、高温または長時間のキュアーが必要であり、基体を
損傷したり、乾燥工程に時間がかかり製造コストがかさ
む等の問題がある。低屈折率微粒子を用いる方法は、バ
インダーの比率が多くなると屈折率が高くなり充分な反
射防止性が得られなくなり、バインダーが少ないと膜強
度が低下し、使用できなくなる。フッ素系有機材料を用
いる方法は、主に含フッ素アクリル化合物のラジカル重
合物が使用されているが、ラジカル重合系の化合物は空
気中の酸素により重合が阻害され、充分に硬化した膜が
得られず、また硬化時の体積収縮が大きく、基体との密
着性不足や剥離という問題があった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記従来技術
の有する問題点を解決するためになされたものであり、
反射防止効果を奏するための充分な低屈折率を示し、且
つ汎用溶媒によるソルベントコーティングにより作製さ
れ、薄膜状でも酸素による重合阻害を生ずることなく、
充分に硬化するような低屈折率層を有する低反射部材を
提供することを目的とする。

【０００９】

【課題を解決するための手段】関係式（１）において、
通常使用される基体もしくは高屈折率層の屈折率ｎ_Sは
１．４５〜２．１０の範囲にあり、これに適する低屈折
率層の屈折率ｎ₁は１．２０〜１．４５である。関係式
（２）において可視光領域での反射率を最低にする場
合、膜厚ｄ₁は１００ｎｍ程度が適当である。このよう
な低屈折率の薄膜を迅速に形成できる材料を種々探索し
た結果、エポキシ基を２個以上有し、かつ屈折率が１．
４５以下である含フッ素エポキシ化合物が光カチオン重
合によって迅速に薄膜状に硬化し、屈折率１．４５以下
の低屈折率層を形成することを見出し本発明を完成し
た。

【００１０】本発明によれば、透明支持基体上に、該透
明支持基体よりも低い屈折率を有する低屈折率層を設け
た低反射部材において、該低屈折率層が、エポキシ基を
２個以上有し、屈折率が１．４５以下の含フッ素エポキ
シ化合物を主成分とした光カチオン重合物により形成さ
れることを特徴とする低反射部材が提供される。

【００１１】また本発明によれば、該低反射部材におい
て、透明支持基体上と低屈折率層との間に高屈折率層を
設けたことを特徴とする低反射部材が提供される。

【００１２】また本発明によれば、含フッ素エポキシ化
合物が、下記一般式［１］

【化９】 〔式中、Ｒｆは下記式：

【化１０】 から選ばれた基を示し、ｍおよびｎは０または任意の整
数を示し、ｘは１から３６の整数を示し、ＺはＨ原子ま
たは炭素数１〜１８のフルオロアルキル基を示す〕で表
される化合物、下記一般式［２］

【００１３】

【化１１】 ［式中、Ｒｆは−（ＣＨ₂−（ＣＦ₂）_x−ＣＨ₂−または
−（ＣＦ₂）_x−を示し、ｘは１〜３６の整数を示す］、
で表される化合物、下記一般式［３］

【００１４】

【化１２】 ［式中、Ｒｆは下記基

【００１５】

【化１３】 （ただしｍおよびｎは０または任意の整数を、ｘは１〜
３６の整数を示す）から選ばれた基を示す］、で表され
る化合物、および下記一般式［４］

【００１６】

【化１４】 ［式中、Ｒｆは下記基

【００１７】

【化１５】 （ただしｍおよびｎは０または任意の整数を、ｘは１〜
３６整数を示す）から選ばれた基を示す］。で表される
化合物から選ばれた少なくとも一種であることを特徴と
する低反射部材が提供される。

【００１８】さらに本発明によれば、透明支持基体上、
もしくは高屈折率層上に設けられる該低屈折率層が、含
フッ素エポキシ化合物を塗料化する工程、塗料を塗布す
る工程、塗布物を重合、硬化させる工程により形成され
ることを特徴とする低反射部材の製造方法が提供され
る。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明をより詳細に説明す
る。本発明の低反射部材における透明支持基体として
は、例えばガラス、プラスチックフィルム、プラスチッ
ク板等が例示される。ＬＣＤ、ＣＲＴに用いる場合に
は、生産性、およびコスト、重量の点からフィルムであ
ることが望ましい。その具体例としては、ポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ、屈折率ｎ＝１．６５）、トリ
アセチルセルロース（ＴＡＣ、ｎ＝１．５０）、ポリカ
ーボネート（ＰＣ、ｎ＝１．５８）、ポリスチレン（ｎ
＝１．６０）、ポリ塩化ビニル（ｎ＝１．５３）、セロ
ファン、ポリエチレン、ポリプロピレン等の各種樹脂フ
ィルムが挙げられ、なかでもＰＥＴ、ＴＡＣ、ＰＣが好
適に使用される。透明支持基体の透明性は高いもの程好
適であり、具体的には光線透過率（ＪＩＳＣ−６７１
４）としては８０％以上、より好ましくは９０％以上が
良い。透明支持基体の厚さは、軽量化の観点から薄い方
が好ましいが、生産性を考慮すると、フィルムの場合に
は１０〜２００μｍの範囲が好適に使用される。また透
明支持基体に、コロナ処理、プラズマ処理、スパッタリ
ング処理等の表面処理や、界面活性剤、シランカップリ
ング剤等の塗布を行うことで、本発明の低屈折率層を形
成する塗料の濡れ性、および硬化後の低屈折率層との密
着性を改善することができる。また透明支持基体の屈折
率は１．４５〜１．７０が好ましい。

【００２０】高屈折率層を必要とする場合には、該層は
前記透明支持基体の表面に直接、もしくは接着層等を介
して設けられる。高屈折率層をソルベントコーティング
で作製するには、高屈折率を有するバインダー樹脂を使
用するか、高屈折率を示す超微粒子をバインダー樹脂に
添加するか、あるいはこれらを併用することによって作
製することができる。また高屈折率を有する物質をスパ
ッタリングなどの真空成膜法により作製するのも良い。
高屈折率層の屈折率は透明支持基体よりは高く、１．５
０〜２．３０の範囲にあることが好ましい。屈折率が透
明支持基体よりも低い場合、もしくは前記範囲外の場合
には反射防止効果が損なわれる。

【００２１】バインダー樹脂の高屈折率化は、芳香環、
フッ素以外のハロゲン基、イオウなどを導入した樹脂に
よって達成される。具体的に高屈折率を有する樹脂とし
ては、ポリスチレン樹脂、ポリ（ｏ−クロロスチレン）
樹脂、ポリ（２，６−ジクロロスチレン）樹脂、ポリ
（ブロモスチレン）樹脂、ポリ（２，６−ジブロモスチ
レン）樹脂、ポリカーボネート樹脂、芳香族ポリエステ
ル樹脂、ポリサルホン樹脂、ポリエーテルサルホン樹
脂、ポリアリールサルホン樹脂、ポリ（ペンタブロモフ
ェニルメタクリレート）樹脂、フェノキシ樹脂およびそ
の臭素化物、エポキシ樹脂およびその臭素化物、などが
挙げられる。

【００２２】高屈折率を示す超微粒子としては、例え
ば、ＺｎＯ（屈折率ｎ＝１．９）、ＴｉＯ₂（ｎ＝２．
３）、ＣｅＯ₂（ｎ＝１．９５）の超微粒子があり、こ
れらを含有させることで紫外線を遮蔽しディスプレイの
劣化を保護する効果も得ることができる。またアンチモ
ンがドープされたＳｎＯ₂（ｎ＝１．９５）またはＩＴ
Ｏ（ｎ＝１．９５）の微粒子を含有させることで、帯電
防止効果が付与され、高屈折率であることのみならず埃
の付着を防止することができる。これら微粒子は単独ま
たは混合して使用することができ、その粒径としては１
〜１００ｎｍが好ましく、塗膜の透明性を損なわないた
めには５〜２０ｎｍであることがさらに望ましい。

【００２３】本発明の低反射部材において低屈折率層の
主成分となる含フッ素エポキシ化合物は、エポキシ基を
２個以上有し、屈折率が１．４５以下でなければならな
い。エポキシ基が１個の化合物を用いた場合、コーティ
ングにより得られる膜は充分な硬度を示すことが出来な
い。以上の条件を満たす含フッ素エポキシ化合物の光カ
チオン重合物はいずれも使用可能である。具体的には、
前記した一般式［１］、一般式［２］、一般式［３］お
よび一般式［４］のような含フッ素エポキシ化合物が挙
げられる。

【００２４】本発明においては、一般式［１］〜［４］
で表される含フッ素エポキシ化合物を単独でも２種以上
混合しても用いることができる。もっとも好適な含フッ
素エポキシ化合物としては、一般式［１］においてＲｆ
が下記式の基で表される含フッ素エポキシ化合物を挙げ
ることができる。これら化合物は、容易に合成すること
ができ、且つフッ素系溶媒を使用することなく、汎用溶
媒によるソルベントコーティングが可能であるという利
点を有する。本発明では、これらを単独もしくは混合す
るか、あるいは後述する他のカチオン重合性化合物を添
加して低屈折率層を構成するが、この構成成分の比率は
該含フッ素エポキシ化合物が６０重量％以上、好ましく
は７０重量％以上である。該含フッ素エポキシ化合物の
比率が６０重量％未満の場合には低屈折率層の屈折率が
１．４５以上になり反射防止効果が低減するので好まし
くない。

【化１６】 ［式中、ｘは１〜３６の整数を示し、ＺはＨ原子または
炭素原子数１〜１８のフルオロアルキル基を示す。〕。

【００２５】低屈折率層を形成する他の成分として、屈
折率調整や塗膜の硬化促進、および硬度を向上させる目
的で、上記以外のエポキシ基またはビニルエーテル基を
有するカチオン重合性化合物、またはその変性物の他、
カップリング剤等を含んでも良い。

【００２６】具体的にエポキシ基またはビニルエーテル
基を有するカチオン重合性の化合物としては、３−パー
フルオロヘキシル−１，２−エポキシプロパン、３−
（１Ｈ，１Ｈ，５Ｈ−パーフルオロペンチルオキシ）−
１，２−エポキシプロパン、ビニルシクロヘキセンジオ
キサイド、リモネンジオキサイド、３，４−エポキシシ
クロヘキシルメチル３’，４’−エポキシシクロヘキサ
ンカルボキシレート、ビス−（６−メチル−３，４−エ
ポキシシクロヘキシル）アジペート、エチレングリコー
ルジグリシジルエーテル、グリセリンジグリシジルエー
テル、ペンタエリスリトールテトラグリシジルエーテ
ル、２−（３，４−エポキシシクロヘキシル）エチルト
リメトキシシラン、ジエチレングリコールジビニルエー
テル、ポリエチレングリコールジビニルエーテル、１，
４−シクロヘキサンジメタノールジビニルエーテル等の
単官能含フッ素エポキシ類、脂環式エポキシ類、直鎖状
エポキシ類、単糖類ポリグリシジルエーテル類、ビニル
エーテル類を単独または複数を混合して用いても良い。
しかしこれらに限定されるものではない。

【００２７】本発明における低屈折率層の重合、硬化に
よる形成には光重合開始剤の添加が必須である。光重合
開始剤としては、紫外線照射により酸を発生するもので
あれば使用できる。一般的には、ＡｒＮ₂ ⁺Ｚ^-、（Ｒ）₃
Ｓ⁺Ｚ^-、（Ｒ）₂Ｉ⁺Ｚ^-（但し、Ａｒはアリール基、Ｒ
はアリール基または炭素数１〜２０のアルキル基、Ｚ−
はＢＦ₄ ^-、ＰＦ₆ ^-、ＡｓＦ₆ ^-、ＳｂＦ₆ ^-のような非求核
性の陰イオンである。）で表されるジアゾニウム塩、ス
ルホニウム塩、ヨードニウム塩などのオニウム塩や有機
金属系化合物等が好適に使用される。具体例としては、
ビス（４−ジフェニルスルホニオフェニル）スルフィド
ビスヘキサフルオロホスフェート、（４−フェニルチ
オフェニル）ジフェニルスルホニウム ヘキサフルオロ
ホスフェート、（４−メトキシフェニル）ジフェニルス
ルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、トリフェ
ニルスルホニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
（４−メトキシフェニル）フェニルヨードニウム ヘキ
サフルオロアンチモネート、ビス（４−ｔ−ブチルフェ
ニル）ヨードニウム ヘキサフルオロアンチモネート、
（２，４−シクロペンタジエン−１−イル）[（１−メ
チルエチル）ベンゼン]−Ｆｅ−ヘキサフルオロホスフ
ェートなどが挙げられるがこれに限定されるものではな
い。

【００２８】上記、光重合開始剤は、含フッ素エポキシ
化合物を主成分とするカチオン重合性成分１００重量部
に対して、１〜２０重量部、好ましくは５〜１５重量部
程度配合することが適当である。この配合量が１重量部
に満たない場合は、前記化合物の紫外線重合性が劣るよ
うになり、２０重量部を超えて配合した場合には、増量
効果が認められず不経済であるとともに、光重合開始剤
により屈折率が上昇する、塗膜が着色する等の光学特性
の低下、及び塗膜強度の低下をきたすので好ましくな
い。

【００２９】本発明の低反射部材は以下の塗料調製、塗
工、乾燥、および重合、硬化のプロセスにより作製され
る。塗料は、任意の溶媒に前記カチオン重合性の化合物
と光重合開始剤を溶解させ、必要に応じて基体との密着
力を向上させるためのシランカップリング剤などの各種
添加剤を任意量添加し、これを充分に混合することによ
って調製できる。この場合、目的とする塗工膜厚を得る
ために溶液濃度を、通常０．１〜５０重量％程度、好ま
しくは０．５〜３０重量％程度に調製する。溶媒として
は、メタノール、エタノール、１−プロパノール、ブタ
ノール、２−プロパノール、エチレングリコール、エチ
レングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコー
ルモノエチルエーテルなどの１価または多価アルコール
類、ベンゼン、トルエン、キシレン等の芳香族化合物、
アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ンなどのケトン類、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロ
ピル、酢酸ブチルなどのエステル類、クロロホルム、塩
化メチレン、トリクロロエチレンなどのハロゲン化炭化
水素類などが用いられるがこれに限定されるものではな
い。この場合、上記溶媒は単独、もしくは混合して用い
ることが出来る。

【００３０】上記調製した塗料は、塗工または印刷手法
により透明基体の片面もしくは両面に設けることができ
る。具体的には、エアドクターコーティング、ブレード
コーティング、ワイヤードクターコーティング、ナイフ
コーティング、リバースコーティング、トランスファロ
ールコーティング、グラビアロールコーティング、マイ
クログラビアコーティング、キスコーティング、キャス
トコーティング、スプレーコーティング、スロットオリ
フィスコーティング、カレンダーコーティング、電着コ
ーティング、ディップコーティング、ダイコーティング
等の塗工手法や、フレキソ印刷等の凸版印刷、ダイレク
トグラビア印刷、オフセットグラビア印刷等の凹版印
刷、オフセット印刷等の平版印刷、スクリーン印刷等の
孔版印刷等の印刷手法を挙げることができる。

【００３１】塗膜の乾燥、および重合、硬化は、加熱乾
燥により溶媒を揮発せしめた後に、紫外線を照射して塗
膜を重合、硬化させるか、紫外線照射後に加熱乾燥する
ことで行われる。また加熱と紫外線照射を同時に行って
も良い。照射する紫外線としては、超高圧水銀灯、高圧
水銀灯、低圧水銀灯、カーボンアーク、キセノンアー
ク、メタルハライドランプ、無電極ＵＶ、パルスＵＶ等
の光源から発せられる紫外線が利用できる。尚、本発明
の低反射部材では低屈折率層を設けた反対側の基体上
に、他の部材との接着のために接着剤や粘着剤層を設け
ることもできる。

【００３２】以上説明してきたように、本発明により提
供される低反射部材は、低屈折率層にエポキシ基を２個
以上含有し、屈折率が１．４５以下の含フッ素エポキシ
化合物を主成分としているため、得られる低屈折率層も
屈折率が１．４５以下となり優れた反射防止効果を奏す
るようになる。このソルベントコーティングにより作製
される低屈折率層は、紫外線照射により光カチオン重合
を起こすので、短時間での重合、硬化が可能で、薄膜状
でも酸素により重合を阻害されることがない。

【実施例】以下、本発明について合成例および実施例を
示すことによりさらに具体的に説明する。尚、以下の各
例において「部」は「重量部」を意味するものである。

【００３３】＜合成例１＞１，３−ジヒドロキシヘキサ
フルオロイソプロピルベンゼン８１．０３ｇ（２００ｍ
ｍｏｌ）とエピクロロヒドリン１８５ｇ（２０００ｍｍ
ｏｌ）を混合し、水酸化ナトリウム１６．２７ｇ（４０
６．７ｍｍｏｌ）と水４０ｍｌを加え、撹拌下で加熱還
流させた。１３０℃で３時間反応後、自然冷却し、生成
した塩化ナトリウムを吸引濾過により除去した。得られ
た濾液をクロロホルム−水により抽出し、有機層を乾
燥、濾過、濃縮することにより、含フッ素エポキシ化合
物ＦＥＰ−１を９５．７ｇ得た。なお、合成例、実施例
で示すＦＥＰ−１等の含フッ素エポキシ化合物およびＰ
Ｉ−１等の光重合開始剤の化学式を一括して後記した。

【００３４】＜合成例２＞２，２，３，３，４，４，
５，５，６，６，７，７−ドデカフルオロ−１，８−オ
クタンジオール３．６２ｇ（１０ｍｍｏｌ）とエピクロ
ロヒドリン９．３ｇ（１００ｍｍｏｌ）を混合し、水酸
化ナトリウム０．８４ｇ（２１ｍｍｏｌ）と水２ｍｌを
加え、撹拌下で加熱還流させた。１００℃で６時間反応
後、生成した塩化ナトリウムを吸引濾過により除去し、
減圧下に余剰のエピクロロヒドリンを留去し、含フッ素
エポキシ化合物ＦＥＰ−３を４．６７ｇ得た。

【００３５】＜実施例１＞膜厚１００μｍ、光線透過率
８８％の易接着処理されたＰＥＴフィルム（商品名：メ
リネックス７０５、アイ・シー・アイ・ジャパン社製、
屈折率１．６５）上に、下記配合の低屈折率層塗料をマ
イクログラビアコーティング方式にて塗工し、１００℃
で１分間乾燥後、出力１２０Ｗ／ｃｍの集光型高圧水銀
灯１灯を用いて、照射距離（ランプ中心から塗工面まで
の距離）１０ｃｍ、処理速度（塗工基体側の水銀灯に対
する速度）５ｍ／分で紫外線照射を行い、塗工膜を重
合、硬化させた。これにより厚さ１００ｎｍ、屈折率
１．４４の低屈折率層を作製した。この塗工品の表面タ
ック性、表面反射率は表１に示す通りであった。 [低屈折率層塗料の配合] ・ 含フッ素エポキシ化合物：ＦＥＰ−１ １００部 ・ 光重合開始剤：ＰＩ−１ １０部 ・ 溶媒：メチルイソブチル １１０００部

【００３６】＜実施例２〜４＞実施例２〜４については
低屈折率層塗料の重合成分と光重合開始剤だけを変更
し、塗工及び重合、硬化の工程については実施例１と同
様にして作製した。低屈折率層の材料組成、及び塗工品
の表面タック性、表面反射率は表１に示す通りであっ
た。

【００３７】＜実施例５＞実施例５については下記配合
からなる低屈折率層塗料に変更し、塗工及び重合、硬化
の工程については実施例１と同様にして作製した。低屈
折率層の材料組成、及び塗工品の表面タック性、表面反
射率は表１に示す通りであった。 [低屈折率層塗料の配合] ・ 含フッ素エポキシ化合物：ＦＥＰ−１ ９０部 ・ 単官能含フッ素エポキシ化合物：Ｅ−５４４４（ダイキン工業社製） １０部 ・ 光重合開始剤：ＰＩ−１ １０部 ・ 溶媒：メチルイソブチルケトン １１０００部

【００３８】＜実施例６＞実施例６については下記配合
からなる低屈折率層塗料に変更し、塗工及び重合、硬化
の工程については実施例１と同様にして作製した。低屈
折率層の材料組成、及び塗工品の表面タック性、表面反
射率は表１に示す通りであった。 [低屈折率層塗料の配合] ・ 含フッ素エポキシ化合物：ＦＥＰ−１ ９０部 ・ 多官能エポキシ化合物：エポライト１００ＭＦ（共栄社化学社製）１０部 ・ 単官能含フッ素エポキシ化合物：Ｅ−５４４４（ダイキン工業社製） １０部 ・ 光重合開始剤：ＰＩ−２ １０部 ・ 溶媒：メチルイソブチルケトン １１０００部

【００３９】＜実施例７＞膜厚８０μｍ、光線透過率９
３％のけん化処理されたＴＡＣ（商品名：富士タックＵ
ＶＤ８０、富士写真フィルム社製、屈折率１．４９）上
に、下記配合からなる高屈折率層塗料をマイクログラビ
アコーティング方式にて塗工し、１００℃で２分間加熱
することにより厚さ８０ｎｍ、屈折率１．６３の高屈折
率層を作製した。さらにその上面に下記配合からなる低
屈折率層塗料をマイクログラビアコーティング方式にて
塗工し、１００℃で１分間乾燥後、出力１２０Ｗ／ｃｍ
の集光型高圧水銀灯１灯を用いて、照射距離（ランプ中
心から塗工面までの距離）１０ｃｍ、処理速度（塗工基
体側の水銀灯に対する速度）５ｍ／分で紫外線照射を行
い、塗工膜を重合、硬化させた。これにより厚さ１００
ｎｍ、屈折率１．４１の低屈折率層を作製した。この塗
工品の表面タック性、表面反射率は表２に示す通りであ
った。

【００４０】 [高屈折率層塗料の配合] ・ 臭素化フェノキシ樹脂：フェノナートＹＰＢ−４３Ｃ（東都化成社製） １０部 ・ 溶媒：１，１，２，２−テトラクロロエチレン ９９０部 [低屈折率層塗料の配合] ・ 含フッ素エポキシ化合物：ＦＥＰ−４ １００部 ・ 光重合開始剤：ＰＩ−３ １０部 ・ 溶媒：メチルイソブチルケト １１０００部

【００４１】＜実施例８〜１０＞実施例８〜１０につい
ては高屈折率層は実施例７と同様にして作製し、低屈折
率層の重合成分と光重合開始剤だけを変更して、塗工及
び重合、硬化の工程については実施例７と同様にして作
製した。低屈折率層塗料の材料組成、及びこれら塗工品
の表面タック性、表面反射率は表２に示す通りであっ
た。

【００４２】＜実施例１１＞ＰＥＴフィルム（商品名：
メリネックス７０５、アイ・シー・アイ・ジャパン社
製、屈折率１．６５）を使用し、この基体の片面に高屈
折率層としてＺｒＯ₂（屈折率１．９５）の膜をスパッ
タリング法により作製した。膜厚は２６０ｎｍとなるよ
うに調整した。次に、下記配合からなる低屈折率層塗料
を高屈折率層の上面にマイクログラビアコーティング方
式にて塗工し、１００℃で１分間乾燥後、出力１２０Ｗ
／ｃｍの集光型高圧水銀灯１灯を用いて、照射距離（ラ
ンプ中心から塗工面までの距離）１０ｃｍ、処理速度
（塗工基体側の水銀灯に対する速度）５ｍ／分で紫外線
照射を行い、塗工膜を重合、硬化させた。これにより厚
さ９０ｎｍ、屈折率１．４１の低屈折率層を作製した。
この塗工品の表面タック性、表面反射率は表３に示す通
りであった。 [低屈折率層塗料の配合] ・ 含フッ素エポキシ化合物：ＦＥＰ−４ １００部 ・ 光重合開始剤：ＰＩ−３ １０部 ・ 溶媒：メチルイソブチルケトン １１０００部

【００４３】＜実施例１２〜１４＞実施例１２〜１４に
ついては高屈折率層は実施例１１と同様にして作製し、
低屈折率層の重合成分と光重合開始剤だけを変更して、
塗工及び重合、硬化の工程については実施例１１と同様
にして作製した。低屈折率層塗料の組成、及びこれら塗
工品の表面タック性、表面反射率は表３に示す通りであ
った。

【００４４】＜比較例１＞低屈折率層の重合成分として
含フッ素エポキシ化合物に替わり、フッ素を含んでいな
い脂環式エポキシ化合物であるサイラキュアーＵＶＲ−
６１１０（ユニオン・カーバイド社製）を使用したこと
以外は実施例１に従って塗膜を作製した。材料組成、及
びこの塗工品の表面タック性、表面反射率は表１に示す
通りであった。

【００４５】＜比較例２＞低屈折率層の重合成分として
エポキシ基を１個だけ有する含フッ素エポキシ化合物：
Ｅ−５４４４（ダイキン工業社製、屈折率１．３５）を
使用したこと以外は実施例１に従って塗膜を作製した。
材料組成、及びこの塗工品の表面タック性、表面反射率
は表１に示す通りであった。

【００４６】＜比較例３＞低屈折率層の重合成分として
エポキシ基を２つ有する含フッ素エポキシ化合物：ＢＩ
Ｓ−ＡＦ−Ｇ（セントラルガラス社製、屈折率１．５
１）を使用したこと以外は実施例１に従って塗膜を作製
した。材料組成、及びこの塗工品の表面タック性、表面
反射率は表１に示す通りであった。

【００４７】＜比較例４＞比較例４については下記配合
からなる低屈折率層塗料に変更し、塗工及び重合、硬化
の工程については実施例１と同様にして作製した。低屈
折率層の材料組成、及び塗工品の表面タック性、表面反
射率は表１に示す通りであった。 [低屈折率層塗料の配合] ・ 含フッ素エポキシ化合物：ＦＥＰ−１ ５０部 ・ 単官能含フッ素エポキシ化合物：Ｅ−５４４４（ダイキン工業社製） ５０部 ・ 光重合開始剤：ＰＩ−１ １０部 ・ 溶媒：メチルイソブチルケトン １１０００部

【００４８】＜比較例５＞比較例５については下記配合
からなる低屈折率層塗料に変更し、塗工及び重合、硬化
の工程については実施例１と同様にして作製した。低屈
折率層の材料組成、及び塗工品の表面タック性、表面反
射率は表１に示す通りであった。 [低屈折率層塗料の配合] ・ 含フッ素エポキシ化合物：ＦＥＰ−１ ５０部 ・ 多官能エポキシ化合物：エポライト１００ＭＦ（共栄社化学社製）２０部 ・ 単官能含フッ素エポキシ化合物：Ｅ−５４４４（ダイキン工業社製） ３０部 ・ 光重合開始剤：ＰＩ−２ １０部 ・ 溶媒：メチルイソブチルケトン １１０００部

【００４９】＜比較例６＞比較例６については下記配合
からなる低屈折率層塗料に変更し、塗工及び重合、硬化
の工程については実施例１と同様にして作製した。低屈
折率層の材料組成、及び塗工品の表面タック性、表面反
射率は表１に示す通りであった。 [低屈折率層塗料の配合] ・ 含フッ素エポキシ化合物：ＦＥＰ−１ ５０部 ・ 脂環式エポキシ化合物：ＵＶＲ−６１１０（ユニオン・カーバイド社製） ５０部 ・ 光重合開始剤：ＰＩ−１ １０部 ・ 溶媒：メチルイソブチルケトン １１０００部

【００５０】＜比較例７＞易接着処理のみのＰＥＴフィ
ルム（商品名：メリネックス７０５、アイ・シー・アイ
・ジャパン社製）の表面反射率を表１に示した。

【００５１】＜比較例８＞比較例８については下記配合
からなる低屈折率層塗料に変更し、塗工及び重合、硬化
の工程については実施例９と同様にして作製した。材料
組成、及び塗工品の表面タック性、表面反射率は表２に
示す通りであった。 [低屈折率層塗料の配合] ・ 含フッ素メタクリル酸エステル：ＦＭ−１０８（共栄社化学社製）８０部 ・ 多官能アクリル酸エステル：ＰＥ−４Ａ（共栄社化学社製） ２０部 ・ 光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバガイギー社製） ５部

【００５２】＜比較例９＞けん化処理のみのTACフィル
ム（商品名：富士タックＵＶＤ８０、富士写真フィルム
社製）の表面反射率を表２に示した。

【００５３】＜比較例１０＞比較例１０については下記
配合からなる低屈折率層塗料に変更し、塗工及び重合、
硬化の工程については実施例１４と同様にして作製し
た。材料組成、及び塗工品の表面タック性、表面反射率
は表３に示す通りであった。 [低屈折率層塗料の配合] ・ 含フッ素メタクリル酸エステル：ＦＭ−１０８（共栄社化学社製）８０部 ・ 多官能アクリル酸エステル：ＰＥ−４Ａ（共栄社化学社製） ２０部 ・ 光重合開始剤：イルガキュア１８４（チバガイギー社製） ５部

【００５４】屈折率測定：各層を構成する組成物の重
合、硬化後の屈折率は、ガラス板上に５μｍの厚さで重
合させ、この重合膜をガラス板より剥離し、アッベ屈折
計（アタゴ社製）を用いて屈折率を測定した。結果を表
１、２、３に示す。尚、表３においてスパッタリング法
により作製した高屈折率層についてはエリプソメーター
（溝尻工学社製）にて測定した。 表面タック性：重合、硬化させた塗工膜を指触により３
段階で評価した。未硬化…×、半硬化でベタつく…△、
タックフリー…○とした。結果を表１、２、３に示す。 分光反射率：５°正反射測定装置のついた分光光度計
（島津製作所：ＵＶ−３１００）により５５０ｎｍにお
ける反射率を測定した。但し、塗布面を測定面とし、裏
面は反射を遮るためにスチールウールで荒らし、黒色マ
ジックで着色した。結果を表１、２および３に示す。

【００５５】

【表１】

【００５６】

【表２】

【００５７】

【表３】

【００５８】実施例で用いた含フッ素エポキシ化合物の
構造を以下に示す。

【化１７】

【００５９】実施例で用いた光重合開始剤の構造式を以
下に示す。

【化１８】

【００６０】

【発明の効果】本発明によれば、基体との密着性に優
れ、十分に硬化し、かつ反射防止効果を奏するに十分な
低屈折率を示し、その上大面積化、連続生産が可能な低
反射部材およびその製造方法が提供される。

Claims (8)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明支持基体上に、該透明支持基体より
   も低い屈折率を有する低屈折率層を設けた低反射部材に
   おいて、該低屈折率層が、エポキシ基を２個以上有し、
   屈折率が１．４５以下の含フッ素エポキシ化合物を主成
   分とした光カチオン重合物により形成されることを特徴
   とする低反射部材。
2. 【請求項２】 該低反射部材において、透明支持基体と
   低屈折率層との間に高屈折率層を設けることを特徴とす
   る請求項１記載の低反射部材。
3. 【請求項３】 含フッ素エポキシ化合物が、下記一般式
   ［１］で表される化合物であることを特徴とする請求項
   １または２記載の低反射部材、 【化１】 〔式中、Ｒｆは下記式： 【化２】 から選ばれた基を示し、ｍおよびｎは０、または任意の
   整数を示し、ｘは１から３６の整数を示し、ＺはＨ原子
   または炭素数１〜１８のフルオロアルキル基を示す〕。
4. 【請求項４】 Ｒｆは下記式： 【化３】 ［式中、ｘおよびＺは請求項３記載と同義である］から
   選ばれた基であることを特徴とする請求項３記載の低反
   射部材。
5. 【請求項５】 含フッ素エポキシ化合物が、下記一般式
   ［２］で表される化合物であることを特徴とする請求項
   １または２記載の低反射部材、 【化４】 ［式中、Ｒｆは−（ＣＨ₂−（ＣＦ₂）_x−ＣＨ₂−または
   −（ＣＦ₂）_x−を示し、ｘは１〜３６の整数を示す］。
6. 【請求項６】 含フッ素エポキシ化合物が、下記一般式
   ［３］で表される化合物であることを特徴とする請求項
   １または２記載の低反射部材、 【化５】 ［式中、Ｒｆは下記基 【化６】 （ただしｍおよびｎは０または任意の整数を、ｘは１〜
   ３６整数を示す）から選ばれた基を示す］。
7. 【請求項７】 含フッ素エポキシ化合物が、下記一般式
   ［４］で表される化合物であることを特徴とする請求項
   １または２記載の低反射部材、 【化７】 ［式中、Ｒｆは下記基 【化８】 （ただしｍおよびｎは０または任意の整数を，ｘは１〜
   ３６の整数を示す）から選ばれた基を示す］。
8. 【請求項８】 透明支持基体上、もしくは高屈折率層上
   に設けられる低屈折率層が、含フッ素エポキシ化合物を
   塗料化する工程、塗料を塗布する工程、塗布物を重合、
   硬化させる工程により形成されることを特徴とする請求
   項１または２記載の低反射部材の製造方法。