JP2003171771A - 容器のコーティング装置 - Google Patents
容器のコーティング装置Info
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- JP2003171771A JP2003171771A JP2001374289A JP2001374289A JP2003171771A JP 2003171771 A JP2003171771 A JP 2003171771A JP 2001374289 A JP2001374289 A JP 2001374289A JP 2001374289 A JP2001374289 A JP 2001374289A JP 2003171771 A JP2003171771 A JP 2003171771A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 プラズマＣＶＤを用いて容器の成膜を行う場
合において、高周波電源の出力や真空ポンプ等を大きく
したり、数量を増加したりすることなく、コスト増大や
装置の大型化を防止して成膜処理を効率的に行うことの
できる容器のコーティング装置を提供する。 【解決手段】 プラズマＣＶＤ法によりチャンバー３４
内で合成樹脂製の容器２０の壁面に薄膜を形成する第１
の成膜処理部１４及び第２の成膜処理部１６を有する。
これら第１及び第２の成膜処理部１４、１６を順次切り
替えて用いて容器２０の壁面に薄膜を形成する。
合において、高周波電源の出力や真空ポンプ等を大きく
したり、数量を増加したりすることなく、コスト増大や
装置の大型化を防止して成膜処理を効率的に行うことの
できる容器のコーティング装置を提供する。 【解決手段】 プラズマＣＶＤ法によりチャンバー３４
内で合成樹脂製の容器２０の壁面に薄膜を形成する第１
の成膜処理部１４及び第２の成膜処理部１６を有する。
これら第１及び第２の成膜処理部１４、１６を順次切り
替えて用いて容器２０の壁面に薄膜を形成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、容器のコーティン
グ装置に関し、特に、プラズマＣＶＤ法により容器の壁
面に薄膜を形成する容器のコーティング装置に関する。
グ装置に関し、特に、プラズマＣＶＤ法により容器の壁
面に薄膜を形成する容器のコーティング装置に関する。
【０００２】
【背景技術及び発明が解決しようとする課題】現在、合
成樹脂製容器は、飲料などの包装容器として普及してい
る。
成樹脂製容器は、飲料などの包装容器として普及してい
る。
【０００３】例えばビールなどの酸化しやすい内容物の
包装容器として、高ガスバリア性が求められる。
包装容器として、高ガスバリア性が求められる。
【０００４】しかし、飲料用容器として現在最も利用さ
れている容器であるポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）製容器は、ビールに求められる高ガスバリア性を満
足することはできない。
れている容器であるポリエチレンテレフタレート（ＰＥ
Ｔ）製容器は、ビールに求められる高ガスバリア性を満
足することはできない。
【０００５】一般に、ＰＥＴ樹脂のガスバリア性を保証
するためには、容器壁を複数層構造とし、ＰＥＴ樹脂と
ガスバリア性樹脂との積層構造とした容器が製造されて
いる。
するためには、容器壁を複数層構造とし、ＰＥＴ樹脂と
ガスバリア性樹脂との積層構造とした容器が製造されて
いる。
【０００６】これに替わって、高ガスバリア性の容器を
提供する手段として最近注目されているのが、プラズマ
ＣＶＤ（化学気相成長）法によるコーティング技術であ
る。
提供する手段として最近注目されているのが、プラズマ
ＣＶＤ（化学気相成長）法によるコーティング技術であ
る。
【０００７】しかし、このプラズマＣＶＤによるコーテ
ィングは、成膜に時間を要するものであるため、一度に
多くの容器の成膜処理を行おうとすると、高周波電源の
出力や真空ポンプ等を大きくするか、数量を増加しなけ
ればならず、コストがかかる上に、装置が大型化してし
まうこととなる。
ィングは、成膜に時間を要するものであるため、一度に
多くの容器の成膜処理を行おうとすると、高周波電源の
出力や真空ポンプ等を大きくするか、数量を増加しなけ
ればならず、コストがかかる上に、装置が大型化してし
まうこととなる。
【０００８】本発明の目的は、プラズマＣＶＤを用いて
容器の成膜を行う場合において、高周波電源の出力や真
空ポンプ等を大きくしたり、数量を増加したりすること
なく、コスト増大や装置の大型化を防止して成膜処理を
効率的に行うことのできる容器のコーティング装置を提
供することにある。
容器の成膜を行う場合において、高周波電源の出力や真
空ポンプ等を大きくしたり、数量を増加したりすること
なく、コスト増大や装置の大型化を防止して成膜処理を
効率的に行うことのできる容器のコーティング装置を提
供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】前記目的を達成するた
め、本発明の容器のコーティング装置は、プラズマＣＶ
Ｄ法によりチャンバー内で合成樹脂製の容器の壁面に薄
膜を形成する成膜処理部を有する容器のコーティング装
置において、前記成膜処理部を複数配置し、これら複数
の成膜処理部を順次切り替えて用いて前記容器の壁面に
薄膜を形成することを特徴とする。
め、本発明の容器のコーティング装置は、プラズマＣＶ
Ｄ法によりチャンバー内で合成樹脂製の容器の壁面に薄
膜を形成する成膜処理部を有する容器のコーティング装
置において、前記成膜処理部を複数配置し、これら複数
の成膜処理部を順次切り替えて用いて前記容器の壁面に
薄膜を形成することを特徴とする。
【００１０】本発明によれば、複数の成膜処理部を順次
切り替えて用いて成膜処理を施すことで、高周波電源や
真空ポンプを共通化し、これら高周波電源や真空ポンプ
を切り替えて用いることで、高周波電源の出力や真空ポ
ンプ等を小さくすることができ、コスト増大や装置の大
型化を防止することができ、しかも、或る成膜処理部で
成膜処理を行っている間に、他の成膜処理部で容器の搬
入や取り出しを行えば、成膜処理を効率的に行うことが
できる。
切り替えて用いて成膜処理を施すことで、高周波電源や
真空ポンプを共通化し、これら高周波電源や真空ポンプ
を切り替えて用いることで、高周波電源の出力や真空ポ
ンプ等を小さくすることができ、コスト増大や装置の大
型化を防止することができ、しかも、或る成膜処理部で
成膜処理を行っている間に、他の成膜処理部で容器の搬
入や取り出しを行えば、成膜処理を効率的に行うことが
できる。
【００１１】例えば、２つの成膜処理部を有し、一方の
成膜処理部にて成膜処理を行っている間に他方の成膜処
理部で容器の搬入出を行うというように２つの成膜処理
部を交互に切り替えて用いることで、効率良く処理を行
うことができる。
成膜処理部にて成膜処理を行っている間に他方の成膜処
理部で容器の搬入出を行うというように２つの成膜処理
部を交互に切り替えて用いることで、効率良く処理を行
うことができる。
【００１２】本発明においては、前記成膜処理部には、
複数のチャンバーが設けられ、前記各成膜処理部内の各
チャンバーは、同一円周上で等間隔に配置されるように
することができる。
複数のチャンバーが設けられ、前記各成膜処理部内の各
チャンバーは、同一円周上で等間隔に配置されるように
することができる。
【００１３】このような構成とすることにより、各成膜
処理部内の各チャンバーのキャビティ間の電磁界のバラ
ンスを取ることができ、各チャンバーの成膜状態にばら
つきが生じるのを防止することができる。
処理部内の各チャンバーのキャビティ間の電磁界のバラ
ンスを取ることができ、各チャンバーの成膜状態にばら
つきが生じるのを防止することができる。
【００１４】本発明の他の容器のコーティング装置は、
プラズマＣＶＤ法によりチャンバー内で合成樹脂製の容
器の壁面に薄膜を形成する成膜処理部を有する容器のコ
ーティング装置において、前記成膜処理部を複数（Ｎ）
配置し、前記チャンバーは、固定側チャンバー及び非固
定側チャンバーに分割形成され、前記固定側チャンバー
が前記複数の成膜処理部のそれぞれに固定配置され、前
記非固定側チャンバーが複数の成膜処理部のうち少なく
とも１つの成膜処理部を除いた数（Ｎ−１）の成膜処理
部の固定側チャンバーに対応した数とされると共に、各
成膜処理部に対し移動可能にされて各成膜処理部に対し
兼用にされていることを特徴とする。
プラズマＣＶＤ法によりチャンバー内で合成樹脂製の容
器の壁面に薄膜を形成する成膜処理部を有する容器のコ
ーティング装置において、前記成膜処理部を複数（Ｎ）
配置し、前記チャンバーは、固定側チャンバー及び非固
定側チャンバーに分割形成され、前記固定側チャンバー
が前記複数の成膜処理部のそれぞれに固定配置され、前
記非固定側チャンバーが複数の成膜処理部のうち少なく
とも１つの成膜処理部を除いた数（Ｎ−１）の成膜処理
部の固定側チャンバーに対応した数とされると共に、各
成膜処理部に対し移動可能にされて各成膜処理部に対し
兼用にされていることを特徴とする。
【００１５】本発明によれば、複数の成膜処理部を順次
切り替えて、或る成膜処理部で成膜処理を行っていると
きに、他の成膜処理部で容器の搬入出を行えば、効率良
く、しかも、小さな装置で成膜処理を行うことができ、
さらには、チャンバーが分割形成されているため、各チ
ャンバーに対する容器の出し入れのストロークを短くし
て、容器の出し入れをスムーズに行うことができ、ま
た、チャンバーが、例えば上下に分割されている場合に
は、装置の全高を低くすることができる。
切り替えて、或る成膜処理部で成膜処理を行っていると
きに、他の成膜処理部で容器の搬入出を行えば、効率良
く、しかも、小さな装置で成膜処理を行うことができ、
さらには、チャンバーが分割形成されているため、各チ
ャンバーに対する容器の出し入れのストロークを短くし
て、容器の出し入れをスムーズに行うことができ、ま
た、チャンバーが、例えば上下に分割されている場合に
は、装置の全高を低くすることができる。
【００１６】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て、図面を参照して説明する。
て、図面を参照して説明する。
【００１７】図１〜図７は、本発明の一実施の形態に係
る容器のコーティング装置を示す図である。
る容器のコーティング装置を示す図である。
【００１８】このコーティング装置１０は、プラズマＣ
ＶＤ法により合成樹脂製の、例えばＰＥＴ製の容器２０
の外壁面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）や、
酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）等の薄膜を形成するもので、図
１に示すように、機台１２のほぼ中央位置に２つの成膜
処理部、すなわち第１の成膜処理部１４及び第２の成膜
処理部１６が併設され、第１の成膜処理部１４の一方の
側方位置に容器２０の搬入部３０、他方の側方に搬出部
３２が配設されている。
ＶＤ法により合成樹脂製の、例えばＰＥＴ製の容器２０
の外壁面にＤＬＣ（ダイヤモンドライクカーボン）や、
酸化ケイ素（ＳｉＯｘ）等の薄膜を形成するもので、図
１に示すように、機台１２のほぼ中央位置に２つの成膜
処理部、すなわち第１の成膜処理部１４及び第２の成膜
処理部１６が併設され、第１の成膜処理部１４の一方の
側方位置に容器２０の搬入部３０、他方の側方に搬出部
３２が配設されている。
【００１９】この容器２０は、例えばビールなどの酸化
しやすい内容物の包装容器として用いられるもので、図
４及び図５に示すように、開口部２２と、この開口部２
２に続く胴部２６と、この胴部２６を閉塞する底部２８
とを有するものとされている。
しやすい内容物の包装容器として用いられるもので、図
４及び図５に示すように、開口部２２と、この開口部２
２に続く胴部２６と、この胴部２６を閉塞する底部２８
とを有するものとされている。
【００２０】第１の成膜処理部１４及び第２の成膜処理
部１６は、それぞれ複数、例えば４つのチャンバー３４
を用いて４つの容器２０に対して同時に成膜処理を行う
ようになっている。
部１６は、それぞれ複数、例えば４つのチャンバー３４
を用いて４つの容器２０に対して同時に成膜処理を行う
ようになっている。
【００２１】このチャンバー３４は、容器２０を倒立状
態で収容するもので、図３〜図６にも示すように、高さ
方向のほぼ中央位置で非固定側の上チャンバー３６及び
固定側の下チャンバー３８に分割形成されている。
態で収容するもので、図３〜図６にも示すように、高さ
方向のほぼ中央位置で非固定側の上チャンバー３６及び
固定側の下チャンバー３８に分割形成されている。
【００２２】下チャンバー３８は、２組あり、第１の成
膜処理部１４及び第２の成膜処理部１６にそれぞれ４つ
ずつ固定された状態となっている。
膜処理部１４及び第２の成膜処理部１６にそれぞれ４つ
ずつ固定された状態となっている。
【００２３】また、第１の成膜処理部１４及び第２の成
膜処理部１６では、それぞれ下チャンバー３８が同一円
周上で等間隔で配置された状態となっている。
膜処理部１６では、それぞれ下チャンバー３８が同一円
周上で等間隔で配置された状態となっている。
【００２４】上チャンバー３６は、１組あり、下チャン
バー３８に対応して４つ同一円周上で等間隔に配置さ
れ、この４つの上チャンバー３６が第１の成膜処理部１
４及び第２の成膜処理部１６上を移動可能にされて、第
１の成膜処理部１４及び第２の成膜処理部１６に対し兼
用にされた状態となっている。
バー３８に対応して４つ同一円周上で等間隔に配置さ
れ、この４つの上チャンバー３６が第１の成膜処理部１
４及び第２の成膜処理部１６上を移動可能にされて、第
１の成膜処理部１４及び第２の成膜処理部１６に対し兼
用にされた状態となっている。
【００２５】具体的には、図３に示すように、下チャン
バー３８を固定したベースプレート４０の上面で、第１
の成膜処理部１４から第２の成膜処理部１６にわたって
一対のレール４２を配設し、このレール４２に移動架４
４を載置支持させている。
バー３８を固定したベースプレート４０の上面で、第１
の成膜処理部１４から第２の成膜処理部１６にわたって
一対のレール４２を配設し、このレール４２に移動架４
４を載置支持させている。
【００２６】この移動架４４は、レール４２と係合する
スライドプレート４６上に上端を固定板４８にて連結し
た４本のガイドロッド５０を立設し、このガイドロッド
５０に可動板５２を昇降可能に取り付け、この可動板５
２の下面側に１組の上チャンバー３６を固定した状態と
なっている。
スライドプレート４６上に上端を固定板４８にて連結し
た４本のガイドロッド５０を立設し、このガイドロッド
５０に可動板５２を昇降可能に取り付け、この可動板５
２の下面側に１組の上チャンバー３６を固定した状態と
なっている。
【００２７】スライドプレート４６は、レール４２に沿
って配設したロッドレスシリンダ５４に固定され、この
ロッドレスシリンダ５４に固定したスライドプレート４
６が第１の成膜処理部１４及び第２の成膜処理部１６間
を移動できるようになっている。
って配設したロッドレスシリンダ５４に固定され、この
ロッドレスシリンダ５４に固定したスライドプレート４
６が第１の成膜処理部１４及び第２の成膜処理部１６間
を移動できるようになっている。
【００２８】可動板５２は、図６にも示すように、スラ
イドプレート４６に立設したシリンダ５６のシリンダロ
ッド５８に連結され、シリンダ５６の駆動により昇降可
能にされている。
イドプレート４６に立設したシリンダ５６のシリンダロ
ッド５８に連結され、シリンダ５６の駆動により昇降可
能にされている。
【００２９】また、下チャンバー３８には、図３〜図６
にも示すように、その中心位置に内部電極６０が設けら
れるとともに、真空吸引路６２に接続され、図１に示す
ように、機台１２内のドライポンプ６４及びメカニカル
ブースターポンプ６６によりチャンバー３４内が真空吸
引されるようになっている。
にも示すように、その中心位置に内部電極６０が設けら
れるとともに、真空吸引路６２に接続され、図１に示す
ように、機台１２内のドライポンプ６４及びメカニカル
ブースターポンプ６６によりチャンバー３４内が真空吸
引されるようになっている。
【００３０】また、内部電極６０は、図１に示す機台１
２内のマッチングボックス６８及び高周波電源７０に、
図５に示す金属板１１４を介して接続されている。
２内のマッチングボックス６８及び高周波電源７０に、
図５に示す金属板１１４を介して接続されている。
【００３１】また、外部電極としてのチャンバー３４も
同様に金属板１１６を介して互いに連結されている。
同様に金属板１１６を介して互いに連結されている。
【００３２】このように、内部電極６０及び外部電極と
してのチャンバー３４をそれぞれ金属板１１４、１１６
を介して連結することで、構造が簡単になり、各電極間
の差もなくすことができる。
してのチャンバー３４をそれぞれ金属板１１４、１１６
を介して連結することで、構造が簡単になり、各電極間
の差もなくすことができる。
【００３３】容器２０の搬入部３０は、図１及び図２に
示すように、搬入用のベルトコンベア７２と、整列機構
７４と、受渡し機構７６とを有する。
示すように、搬入用のベルトコンベア７２と、整列機構
７４と、受渡し機構７６とを有する。
【００３４】このベルトコンベア７２には、ガイド７８
が設けられ、容器２０を２列に案内するようになってい
る。
が設けられ、容器２０を２列に案内するようになってい
る。
【００３５】整列機構７４は、第１のシリンダ９６及び
第１のストッパ１０４、第２のシリンダ９８及び第２の
ストッパ１０６、第３のシリンダ１００及び第３のスト
ッパ１０８、第４のシリンダ１０２及び第４のストッパ
１１０、第５のストッパ１１２等を有し、密着状態で搬
入されてきた容器を第１の成膜処理部１４及び第２の成
膜処理部１６におけるチャンバー３４のピッチに整列し
うるようになっている。
第１のストッパ１０４、第２のシリンダ９８及び第２の
ストッパ１０６、第３のシリンダ１００及び第３のスト
ッパ１０８、第４のシリンダ１０２及び第４のストッパ
１１０、第５のストッパ１１２等を有し、密着状態で搬
入されてきた容器を第１の成膜処理部１４及び第２の成
膜処理部１６におけるチャンバー３４のピッチに整列し
うるようになっている。
【００３６】受渡し機構７６は、容器２０の胴部２６を
把持する４つの把持部材８０がフレーム８２に開閉可能
に取り付けられ、このフレーム８２が回転アーム８４を
介して昇降、水平回転用のボールねじ・スプライン８６
に取り付けられている。
把持する４つの把持部材８０がフレーム８２に開閉可能
に取り付けられ、このフレーム８２が回転アーム８４を
介して昇降、水平回転用のボールねじ・スプライン８６
に取り付けられている。
【００３７】なお、９４は把持部材８０の開閉シリンダ
である。
である。
【００３８】また、回転アーム８４とフレーム８２との
間には、回転アクチュエータ８８が取り付けられ、フレ
ーム８２を上下反転し得るようにしている。
間には、回転アクチュエータ８８が取り付けられ、フレ
ーム８２を上下反転し得るようにしている。
【００３９】なお、ボールねじ・スプライン８６は、機
台１２内で、回転用モータ９０及び昇降用モータ９２に
接続されている。
台１２内で、回転用モータ９０及び昇降用モータ９２に
接続されている。
【００４０】そして、フレーム８２が整列機構７４の上
方に位置する状態で、昇降用モータ９２によりボールね
じ・スプライン８６を下降させ、開閉シリンダ９４によ
り把持部材８０を閉じることで、把持部材８０によって
整列機構７４位置にある容器２０の胴部２６が把持され
ることとなる。
方に位置する状態で、昇降用モータ９２によりボールね
じ・スプライン８６を下降させ、開閉シリンダ９４によ
り把持部材８０を閉じることで、把持部材８０によって
整列機構７４位置にある容器２０の胴部２６が把持され
ることとなる。
【００４１】次に、この状態で、昇降用モータ９２によ
りボールねじ・スプライン８６を上昇させ、回転アクチ
ュエータ８８によりフレーム８２を反転させ、その状態
で、回転用モータ９０によりボールねじ・スプライン８
６を、例えば、図７にも示すように、時計方向に９０度
回転させ、その位置で昇降用モータ９２によりボールね
じ・スプライン８６を下降させ、開閉シリンダ９４によ
り把持部材８０を開くと容器２０が倒立状態で第１の成
膜処理部１４の下チャンバー３８内に搬入されることと
なる。
りボールねじ・スプライン８６を上昇させ、回転アクチ
ュエータ８８によりフレーム８２を反転させ、その状態
で、回転用モータ９０によりボールねじ・スプライン８
６を、例えば、図７にも示すように、時計方向に９０度
回転させ、その位置で昇降用モータ９２によりボールね
じ・スプライン８６を下降させ、開閉シリンダ９４によ
り把持部材８０を開くと容器２０が倒立状態で第１の成
膜処理部１４の下チャンバー３８内に搬入されることと
なる。
【００４２】また、同様にして図１の実線の状態から回
転アーム８４を反時計方向に１８０度回転させること
で、第２の成膜処理部１６内への容器の搬入が行われる
こととなる。
転アーム８４を反時計方向に１８０度回転させること
で、第２の成膜処理部１６内への容器の搬入が行われる
こととなる。
【００４３】容器２０の搬出部３２は、受渡し機構７６
と、搬出用ベルトコンベア７２とを有しており、搬入部
３０とは整列機構７４が存在しないだけで他は搬入部３
０とほぼ同様の構成となっているので搬入部３０と同一
符号を付すにとどめ、説明は省略する。
と、搬出用ベルトコンベア７２とを有しており、搬入部
３０とは整列機構７４が存在しないだけで他は搬入部３
０とほぼ同様の構成となっているので搬入部３０と同一
符号を付すにとどめ、説明は省略する。
【００４４】この搬出部３２における受渡し機構７６
は、搬入部３０における受渡し機構７６と反対に反時計
方向に９０度回転アーム８４を回転させることで図１の
実線の状態から第１の成膜処理部１４側への移動が行
え、逆に時計方向に１８０度回転回転させることで第２
の成膜処理部１６への移動を行うことができるようにな
っている。
は、搬入部３０における受渡し機構７６と反対に反時計
方向に９０度回転アーム８４を回転させることで図１の
実線の状態から第１の成膜処理部１４側への移動が行
え、逆に時計方向に１８０度回転回転させることで第２
の成膜処理部１６への移動を行うことができるようにな
っている。
【００４５】次に、このような容器のコーティング装置
１０の動作状態について説明する。
１０の動作状態について説明する。
【００４６】まず、搬入部３０において、ベルトコンベ
ア７２上に容器２０が供給されてくると、第２のシリン
ダ９８が第２のストッパ１０６を突出させて先頭の容器
２０の移動を停止させるとともに、第１のシリンダ９６
が第１のストッパ１０４を突出させて３個目以降の容器
２０の移動を停止させる。
ア７２上に容器２０が供給されてくると、第２のシリン
ダ９８が第２のストッパ１０６を突出させて先頭の容器
２０の移動を停止させるとともに、第１のシリンダ９６
が第１のストッパ１０４を突出させて３個目以降の容器
２０の移動を停止させる。
【００４７】この状態で第２のシリンダ９８が第２のス
トッパ１０６を引っ込めて、第１のストッパ１０４より
前にある２個の容器２０を移動させる。
トッパ１０６を引っ込めて、第１のストッパ１０４より
前にある２個の容器２０を移動させる。
【００４８】この状態で第４のシリンダ１０２が第４の
ストッパ１１０を突出させ、先頭の容器２０の移動を阻
止するとともに、第３のシリンダ１００が第３のストッ
パ１０８を突出させて、先頭から２番目の容器２０の移
動を阻止する。
ストッパ１１０を突出させ、先頭の容器２０の移動を阻
止するとともに、第３のシリンダ１００が第３のストッ
パ１０８を突出させて、先頭から２番目の容器２０の移
動を阻止する。
【００４９】次いで、第４のシリンダ１０２が第４のス
トッパ１１０を引っ込めて先頭の容器２０を移動させ、
この先頭の容器２０が第５のストッパ１１２に当接した
状態で、第１の成膜処理部１４及び第２の成膜処理部１
６のピッチに４つの容器２０が整列させられる状態とな
る。
トッパ１１０を引っ込めて先頭の容器２０を移動させ、
この先頭の容器２０が第５のストッパ１１２に当接した
状態で、第１の成膜処理部１４及び第２の成膜処理部１
６のピッチに４つの容器２０が整列させられる状態とな
る。
【００５０】このとき、搬入部３０の受渡し機構７６
は、把持部材８０を整列機構７４の上方位置で待機させ
た状態となっている。
は、把持部材８０を整列機構７４の上方位置で待機させ
た状態となっている。
【００５１】また、移動架４４は、例えば、ロッドレス
シリンダ５４により第２の成膜処理部１６側に位置し、
上チャンバー３６はシリンダー５６により第２の成膜処
理部１６の下チャンバー３８上方に位置する状態となっ
ている。
シリンダ５４により第２の成膜処理部１６側に位置し、
上チャンバー３６はシリンダー５６により第２の成膜処
理部１６の下チャンバー３８上方に位置する状態となっ
ている。
【００５２】この状態で、昇降用モータ９２によりボー
ルねじ・スプライン８６を下降させ、把持部材８０を下
降させると、把持部材８０は整列機構７４によって整列
された４つの容器２０を把持可能な状態となる。
ルねじ・スプライン８６を下降させ、把持部材８０を下
降させると、把持部材８０は整列機構７４によって整列
された４つの容器２０を把持可能な状態となる。
【００５３】この状態で開閉シリンダ９４により把持部
材８０を閉じると、把持部材８０が容器２０の胴部２６
を把持する状態となる。
材８０を閉じると、把持部材８０が容器２０の胴部２６
を把持する状態となる。
【００５４】次に、昇降用モータ９２によりボールねじ
・スプライン８６を上昇させると搬入用のベルトコンベ
ア７２上からの容器２０の取り出しが行われることとな
る。
・スプライン８６を上昇させると搬入用のベルトコンベ
ア７２上からの容器２０の取り出しが行われることとな
る。
【００５５】次に、この状態で、回転アクチュエータ８
８によりフレーム８２を反転させると、容器２０が倒立
状態となる。
８によりフレーム８２を反転させると、容器２０が倒立
状態となる。
【００５６】次いで、この状態から回転用モータ９０に
てボールねじ・スプライン８６を時計方向に９０度回転
させると、フレーム８２は、第１の成膜処理部１４の上
方に移動することとなる。
てボールねじ・スプライン８６を時計方向に９０度回転
させると、フレーム８２は、第１の成膜処理部１４の上
方に移動することとなる。
【００５７】次に、昇降用モータ９２によりボールねじ
・スプライン８６を下降させ、容器２０を第１の成膜処
理部１４の下チャンバー３８内に挿入する。
・スプライン８６を下降させ、容器２０を第１の成膜処
理部１４の下チャンバー３８内に挿入する。
【００５８】その後、開閉シリンダ９４により把持部材
８０を開放して、昇降モータ９２によりボールねじ・ス
プライン８６を上昇させると、第１の成膜処理部１４へ
の容器２０の搬入が終了することとなり、この状態で回
転用モータ９０により回転アーム８４を反時計方向に９
０度回転させれば、次の容器２０の取り出し待機状態と
なる。
８０を開放して、昇降モータ９２によりボールねじ・ス
プライン８６を上昇させると、第１の成膜処理部１４へ
の容器２０の搬入が終了することとなり、この状態で回
転用モータ９０により回転アーム８４を反時計方向に９
０度回転させれば、次の容器２０の取り出し待機状態と
なる。
【００５９】次に、ロッドレスシリンダ５４により移動
架４４を第２の成膜部１６側から第１の成膜処理部１４
側へと移動させ、シリンダ５６により可動板５２を下降
させ、下チャンバー３８と上チャンバー３６とを密着さ
せる。
架４４を第２の成膜部１６側から第１の成膜処理部１４
側へと移動させ、シリンダ５６により可動板５２を下降
させ、下チャンバー３８と上チャンバー３６とを密着さ
せる。
【００６０】次いで、この状態で、ドライポンプ６４及
びメカニカルブースターポンプ６６を用いて、チャンバ
ー３４内を真空引きし、チャンバー３４内にガスを供給
するとともに、高周波電源７０及びマッチングボックス
６８を通して電源を内部電極６０及びチャンバー３４に
供給して高周波を発生させ、プラズマＣＶＤにより第１
の成膜処理部１４内の容器に対して成膜処理を行う。
びメカニカルブースターポンプ６６を用いて、チャンバ
ー３４内を真空引きし、チャンバー３４内にガスを供給
するとともに、高周波電源７０及びマッチングボックス
６８を通して電源を内部電極６０及びチャンバー３４に
供給して高周波を発生させ、プラズマＣＶＤにより第１
の成膜処理部１４内の容器に対して成膜処理を行う。
【００６１】ここで、チャンバー３４内に供給されるガ
スとしては、炭化水素系のガス、例えば、アセチレン、
メタン、エタン、エチレン、トルエン、ベンゼン、プロ
ピレン、ビニルアセチレン、メチルアセチレンなどを用
いる。
スとしては、炭化水素系のガス、例えば、アセチレン、
メタン、エタン、エチレン、トルエン、ベンゼン、プロ
ピレン、ビニルアセチレン、メチルアセチレンなどを用
いる。
【００６２】また、ケイ素系のガス、例えば、モノシラ
ン、ジシセン、四フッ化ケイ素などを用いてもよい。
ン、ジシセン、四フッ化ケイ素などを用いてもよい。
【００６３】この間に、搬入部３０の受渡し機構７６を
用いて、次の容器２０を第２の成膜処理部１６内の下チ
ャンバー３８に搬入する。
用いて、次の容器２０を第２の成膜処理部１６内の下チ
ャンバー３８に搬入する。
【００６４】第１の成膜処理部１４による成膜処理が終
了した時点で上チャンバー３６を上昇させ、第２の成膜
処理部１６側に移動させ、上チャンバー３６を第２の成
膜処理部１６の下チャンバー３８に対して密着させ、第
２の成膜処理部１６における成膜処理を行う。
了した時点で上チャンバー３６を上昇させ、第２の成膜
処理部１６側に移動させ、上チャンバー３６を第２の成
膜処理部１６の下チャンバー３８に対して密着させ、第
２の成膜処理部１６における成膜処理を行う。
【００６５】この間に搬出部３２側の受渡し機構７６を
用いて、第１の成膜処理部１４における成膜処理を終了
した容器２０を取り出し、搬出用のベルトコンベア７２
上へと正立状態で受渡し、外部へと搬送する。
用いて、第１の成膜処理部１４における成膜処理を終了
した容器２０を取り出し、搬出用のベルトコンベア７２
上へと正立状態で受渡し、外部へと搬送する。
【００６６】このように、第１の成膜処理部１４または
第２の成膜処理部１６の一方で成膜処理を行っている際
に、他方の第１の成膜処理部１４または第２の成膜処理
部１６で容器２０の取り出し、搬入を行えば、効率良く
交互に成膜処理を行うことができる。
第２の成膜処理部１６の一方で成膜処理を行っている際
に、他方の第１の成膜処理部１４または第２の成膜処理
部１６で容器２０の取り出し、搬入を行えば、効率良く
交互に成膜処理を行うことができる。
【００６７】また、成膜処理は、この第１の成膜処理部
１４または第２の成膜処理部１６の一方のみで行われる
ため、真空ポンプや高周波電源出力を大きくしたり、数
量を増加したりする必要がなく、コスト削減及び装置の
大型化を防止することができる。
１４または第２の成膜処理部１６の一方のみで行われる
ため、真空ポンプや高周波電源出力を大きくしたり、数
量を増加したりする必要がなく、コスト削減及び装置の
大型化を防止することができる。
【００６８】さらに、チャンバー３４は上チャンバー３
４及び下チャンバー３８に分割形成されているため、容
器２０の挿入や取り出しが容易で、装置の全高を低くす
ることが可能である。
４及び下チャンバー３８に分割形成されているため、容
器２０の挿入や取り出しが容易で、装置の全高を低くす
ることが可能である。
【００６９】また、複数のチャンバー３４は、同一円周
上で等間隔に配設されているため、チャンバー３４のキ
ャビティ間の電磁界のバランスを取ることができる。
上で等間隔に配設されているため、チャンバー３４のキ
ャビティ間の電磁界のバランスを取ることができる。
【００７０】本発明は、前記実施の形態に限定されるも
のではなく、本発明の要旨の範囲内において種々の形態
に変形可能である。
のではなく、本発明の要旨の範囲内において種々の形態
に変形可能である。
【００７１】例えば、前記実施の形態では、内容物とし
てビールを充填する容器について説明したが、この例に
限らず、ケチャップやマヨネーズなどの酸化しやすい内
容物を充填する容器としても用いることができる。
てビールを充填する容器について説明したが、この例に
限らず、ケチャップやマヨネーズなどの酸化しやすい内
容物を充填する容器としても用いることができる。
【００７２】また、前記実施の形態では、外側成膜の装
置について説明したが、公知の方法で、内部電極に高周
波電源を接続し、容器内部にガスを供給することで、内
側成膜とすることもできる。
置について説明したが、公知の方法で、内部電極に高周
波電源を接続し、容器内部にガスを供給することで、内
側成膜とすることもできる。
【００７３】さらに、前記実施の形態では、２つの成膜
処理部を設けているが、３つ以上の成膜処理部を順次切
り替えて用いるようにしてもよい。
処理部を設けているが、３つ以上の成膜処理部を順次切
り替えて用いるようにしてもよい。
【図１】本発明の一実施の形態に係る容器のコーティン
グ装置を示す平面図である。
グ装置を示す平面図である。
【図２】図１の移動架を省略した正面図である。
【図３】（１）は上チャンバー組み合わせ前の移動架の
状態を示す正面図で、（２）は上チャンバーを組み合わ
せた状態の移動架の正面図である。
状態を示す正面図で、（２）は上チャンバーを組み合わ
せた状態の移動架の正面図である。
【図４】図３（１）の状態の下チャンバーの拡大図であ
る。
る。
【図５】図３（２）の状態の拡大図である。
【図６】搬入部の受渡し機構による容器の受渡しと移動
架の動作状態を示す側面図である。
架の動作状態を示す側面図である。
【図７】受渡し機構の動作状態を示す平面図である。
１０ コーティング装置
１４ 第１の成膜処理部
１６ 第２の成膜処理部
２０ 容器
２２ ネック部
３０ 搬入部
３２ 搬出部
３４ チャンバー
３６ 上チャンバー
３８ 下チャンバー
４２ レール
４４ 移動架
５４ ロッドレスシリンダ
５６ シリンダ
６０ 内部電極
７６ 受渡し機構
８０ 把持部材
８６ ボールねじ・スプライン
９０ 回転用モータ
９２ 昇降用モータ
Claims (3)
- 【請求項１】 プラズマＣＶＤ法によりチャンバー内で
合成樹脂製の容器の壁面に薄膜を形成する成膜処理部を
有する容器のコーティング装置において、 前記成膜処理部を複数配置し、 これら複数の成膜処理部を順次切り替えて用いて前記容
器の壁面に薄膜を形成することを特徴とする容器のコー
ティング装置。 - 【請求項２】 請求項１において、 前記成膜処理部には、複数のチャンバーが設けられ、 前記各成膜処理部内の各チャンバーは、同一円周上で等
間隔に配置されていることを特徴とする容器のコーティ
ング装置。 - 【請求項３】 プラズマＣＶＤ法によりチャンバー内で
合成樹脂製の容器の壁面に薄膜を形成する成膜処理部を
有する容器のコーティング装置において、 前記成膜処理部を複数（Ｎ）配置し、 前記チャンバーは、固定側チャンバー及び非固定側チャ
ンバーに分割形成され、 前記固定側チャンバーが前記複数の成膜処理部のそれぞ
れに固定配置され、 前記非固定側チャンバーが複数の成膜処理部のうち少な
くとも１つの成膜処理部を除いた数（Ｎ−１）の成膜処
理部の固定側チャンバーに対応した数とされると共に、
各成膜処理部に対し移動可能にされて各成膜処理部に対
し兼用にされていることを特徴とする容器のコーティン
グ装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001374289A JP4067817B2 (ja) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | 容器のコーティング装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001374289A JP4067817B2 (ja) | 2001-12-07 | 2001-12-07 | 容器のコーティング装置 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003171771A true JP2003171771A (ja) | 2003-06-20 |
| JP4067817B2 JP4067817B2 (ja) | 2008-03-26 |
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| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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