CN106207005B - 用于制造显示装置的装置和制造显示装置的方法 - Google Patents

Abstract

提供一种用于制造显示装置的装置和制造显示装置的方法。所述用于制造显示装置的装置包括：卡盘单元，被配置为固定或松开包括显示区和非显示区的基底，所述基底被安置在所述卡盘单元上；对准单元，被安装为与所述卡盘单元相邻以将所述基底对准；反转单元，被连接到所述卡盘单元以反转所述卡盘单元；以及激光照射单元，被配置为向所述基底的所述非显示区照射激光。

Description

用于制造显示装置的装置和制造显示装置的方法

相关申请的交叉引用

该申请要求于2014年10月28日在韩国知识产权局递交的韩国专利申请第10-2014-0147621号的权益，其公开通过引用全部合并于此。

技术领域

一个或多个示例性实施例涉及用于制造显示装置的装置和制造显示装置的方法。

背景技术

移动电子装置已被广泛使用。作为移动电子装置，除了诸如移动电话的小型电子装置之外，平板个人计算机(PC)最近已被广泛使用。

为了支持各种功能，移动电子装置包括用于向用户提供诸如图像或图片之类的视觉信息的显示装置。最近，由于用于驱动显示装置的部件已经小型化，显示单元在电子装置中的相对重要性逐渐增加，能够从平坦状态以预定角度弯曲的显示单元结构已经被开发。

发明内容

一个或多个示例性实施例包括用于制造显示装置的装置和制造显示装置的方法。

另外的方面将部分地在随后的描述中陈述，部分地从该描述而将显而易见，或者可以通过对提出的示例性实施例的实践而被获知。

根据一个或多个示例性实施例，一种用于制造显示装置的装置，包括：卡盘单元，被配置为固定或松开包括显示区和非显示区的基底，所述基底被安置在所述卡盘单元上；对准单元，被安装为与所述卡盘单元相邻以将所述基底对准；反转单元，被连接到所述卡盘单元以反转所述卡盘单元；以及激光照射单元，被配置为向所述基底的所述非显示区照射激光。

所述装置可以进一步包括：线性驱动单元，被配置为线性移动所述卡盘单元和所述反转单元。

当所述激光照射单元向所述基底照射激光时，所述线性驱动单元可以以恒定的速度移动所述卡盘单元和所述反转单元。

所述对准单元可以包括：多个对准部分，被安装在所述卡盘单元并被设置成彼此隔开；操作升降器，被提升和降低以操作所述多个对准部分中的每个；距离控制升降器，被提升和降低以控制所述基底和所述卡盘单元之间的距离；以及驱动部分，被连接到所述操作升降器和所述距离控制升降器以提升和降低所述操作升降器和所述距离控制升降器。

所述装置可以进一步包括：基底固定单元，被形成在所述卡盘单元上以固定所述基底。

所述反转单元可以包括：托架；驱动力产生部分，被设置在所述托架中以产生驱动力；减速部分，被连接到所述驱动力产生部分以使驱动力在传送之前减速；以及旋转轴，被能旋转地安装在所述托架并被连接到所述减速部分和所述卡盘单元。

所述装置可以进一步包括：异物吸入单元，被设置在所述卡盘单元下方以吸入在所述激光照射单元照射激光时产生的异物。

所述装置可以进一步包括：室，其形成有开口，所述对准单元、所述卡盘单元和所述反转单元被安装在所述室内；以及闸阀，被配置为打开和关闭所述室的所述开口。

所述激光照射单元可以被设置在所述室的外部，并且所述室可以具有窗，由所述激光照射单元照射的激光通过所述窗被传送。

所述装置可以进一步包括：照相机单元，被设置在所述室的外部以捕获所述基底的位置。

当所述激光照射单元照射激光时，所述室的内部可以处于真空状态。

根据一个或多个示例性实施例，一种制造显示装置的方法，包括：在基底的显示区形成显示部分；将所述基底装载到室中并反转所述基底，以使所述显示部分面对所述室的底表面；以及在线性移动所述基底时，通过向所述基底的所述非显示区照射激光到来移除异物。

当激光被照射到所述基底的非显示区时，所述室可以处于真空状态。

激光可以从所述室的外部被照射到所述室内。

当激光被照射时，所述基底可以以恒定的速度被线性移动。

所述方法可以进一步包括将所述基底对准。

所述方法可以进一步包括将密封剂涂覆于所述基底的所述非显示区以及用封装基底密封所得到的结构。

这些一般和具体的实施例可以通过使用系统、方法、计算机程序，或系统、方法和计算机程序的组合来实施。

附图说明

从结合附图对示例性实施例进行的以下描述，这些和/或其它方面将变得显而易见并更易于理解，附图中：

图1是根据一个示例性实施例的显示装置制造装置的局部透视图；

图2是图1所示的部分A的放大透视图；

图3是示出基底被安置在图2所示的基底对准单元上的状态的主视图；

图4是图3所示的基底对准单元的侧视图；

图5是示出图1所示的显示装置制造装置的控制流程的框图；

图6是由图1所示的显示装置制造装置制造的显示装置的示意图；和

图7是图6所示的显示装置的局部剖视图。

具体实施方式

现在将详细参考在附图中示出其示例的示例性实施例，其中相同的附图标记指代相同的元件。在这点上，本示例性实施例可以具有不同的形式，并且不应被解释为限于在本文中陈述的描述。因此，下面仅通过参考图描述示例性实施例来解释本说明书的方面。如本文所使用的，用语“和/或”包括一个或多个相关联的所列项目的任意和所有组合。当诸如“中的至少一个”的表述在一列元件之后时，其修饰整列元件，而不是修饰该列的单个元件。

发明构思可以包括各种实施例和变型，其示例性实施例被示出在图中，并且将在本文中被详细描述。发明构思及其实现方法的效果和特征将从结合附图对示例性实施例的以下描述变得显而易见。然而，发明构思不限于下面描述的示例性实施例，而是可以以各种方式来体现。

在下文中，将参考附图详细描述示例性实施例。在以下描述中，相同的附图标记表示相同的元件，其重复描述将被省略。

将理解，尽管在本文中可以使用用语“第一”、“第二”等来描述各部件，但是这些部件不应该受这些用语的限制。这些用语仅被用于将一个部件和另一部件区分开。

如本文所使用的，单数形式的“一”、“一个”和“该”意在也包括复数形式，除非上下文另外明确指出。

进一步将理解，本文使用的用语“包含”、“包括”和“具有”明确说明存在所述特征或部件，但不排除存在或增加一个或多个其它特征或部件。

将理解，当层、区域或部件被称为“被形成在”另一层、区域或部件“上”时，它可以被直接或间接地形成在另一层、区域或部件上。也就是说，例如，可以存在中间层、区域或部件。

为了便于描述，图中元件的尺寸可能被夸大。换言之，由于为了便于描述而任意示出图中元件的尺寸和厚度，所以以下实施例不限于此。

在以下示例中，x轴、y轴和z轴不限于直角坐标系的三个轴，可以以更广泛的含义进行解释。例如，x轴、y轴和z轴可以彼此垂直，或者可以表示彼此不垂直的不同方向。

当某个实施例可以不同地实施时，具体的过程顺序可以和所描述的顺序不同地进行。例如，两个连续描述的过程可以基本上同时进行，或者以和所描述的顺序相反的顺序进行。

图1是根据一示例性实施例的显示装置制造装置的局部透视图。图2是图1所示的部分A的放大透视图。图3是示出基底被安置在图2所示的基底对准单元上的状态的主视图。图4是图3所示的基底对准单元的侧视图。图5是示出图1所示的显示装置制造装置的控制流程的框图。

参见图1至图5，显示装置制造装置100可以包括室111、闸阀112、对准单元120、卡盘单元130、反转单元140、激光照射单元150、线性驱动单元160、基底固定单元130a、异物吸入单元170和照相机单元180。

室111可以具有开口，基底211可以通过该开口被装载到室111中或从室111中卸下。闸阀112可被安装在开口处，以打开和关闭开口，以便装载或卸下基底211。

室111在其底表面可以具有窗111a。窗111a可以由透明材料形成，以传送光或激光。

卡盘单元130可以被配置为固定或松开基底211。卡盘单元130可以包括固定地安装在反转单元140的主体部分131。主体部分131可具有被形成在其中的空间，并且卡盘板132可以被设置在该空间中。

另外，卡盘单元130可以包括安装在主体部分131以固定或松开基底211的卡盘板132。卡盘板132可以是静电卡盘。详细地，卡盘板132可以是静电电荷(ESC)卡盘。另外，可以提供多个卡盘板132，并且该多个卡盘板132可被设置为彼此隔开。

基底固定单元130a可以被形成在卡盘单元130上以固定基底211。在一实施例中，基底固定单元130a可以被安装在主体部分131。基底固定单元130a可以被安装为从主体部分131伸出。当不向卡盘板132供电或者其中发生故障时，基底固定单元130a可以通过物理力固定基底211。例如，基底固定单元130a可通过压住基底211的两侧来固定基底211。作为另一示例，基底固定单元130a可以通过粘附来固定基底211。作为另一示例，基底固定单元130a可以通过形成为插入基底211的侧部来固定基底211。为了便于描述，以下描述将集中在基底固定单元130a通过物理力固定基底211的情况。

对准单元120可以被安装为与卡盘单元130相邻以将基底211对准。对准单元120可以在基底211被安置在其上之后被预对准。对准单元120可以包括安装在卡盘单元130并被设置为彼此隔开的多个对准部分121。对准部分121可以包括由操作升降器122操作的传递部分121a以及被连接到传递部分121a以推压基底211的边缘的辊部分121b。传递部分121a可以由多个连杆形成，以在操作升降器122被提升并附着到其时将操作升降器122的力传递到辊部分121b。另外，辊部分121b可以包括被设置成彼此隔开的多个辊。因此，当传递部分121a的力被施加到辊部分121b时，辊部分121b可以通过使多个辊彼此接近并推压基底211的边缘来将基底211对准。

另外，对准单元120可以包括操作升降器122，其可以被提升和降低以操作多个对准部分121中的每个。可以提供多个操作升降器122，并且该多个操作升降器122可被安装为分别对应于多个对准部分121。另外，操作升降器122可包括当驱动部分124操作时被提升和降低的升降器主体部分122a以及被连接到升降器主体部分122a以接触传递部分121a的接触部分122b。

当驱动部分124操作时，升降器主体部分122a可以被提升和降低。当升降器主体部分122a被提升和降低时，接触部分122b可以接触并推压传递部分121a，或者可以与传递部分121a分离。

对准单元120可以包括距离控制升降器123，该距离控制升降器123可被提升和降低，以控制基底211和卡盘单元130之间的距离。距离控制升降器123可被设置为穿过卡盘单元130。另外，可以提供多个距离控制升降器123，并且该多个距离控制升降器123可被设置成彼此隔开。

对准单元120可以包括驱动部分124，该驱动部分124被连接到操作升降器122和距离控制升降器123以提升和降低操作升降器122和距离控制升降器123。驱动部分124可以包括电动机、通过皮带或齿轮被连接到电动机以旋转的滚珠螺杆、和被连接到滚珠螺杆并根据电动机的旋转被提升和降低的升/降框架。升/降框架可以被连接到操作升降器122和距离控制升降器123。

驱动部分124不限于此，在其它示例性实施例中，驱动部分124可以包括被连接到操作升降器122和距离控制升降器123的汽缸、电动机和齿轮单元。

反转单元140可以包括托架141，托架141被固定地安装在线性驱动单元160并具有形成在其中的空间以使卡盘单元130被枢转地安装。反转单元140可以包括固定地安装在托架141以产生驱动力的驱动力产生部分142。另外，反转单元140可以包括连接到驱动力产生部分142以使驱动力在传送之前减速的减速部分143。减速部分143可减小由驱动力产生部分142产生的驱动力的旋转频率，并使驱动力的扭矩在向外部传送之前增加。在一实施例中，反转单元140可以包括设置在托架141中以产生驱动力的驱动力产生部分142。

反转单元140可以被连接到卡盘单元130以反转卡盘单元130。反转单元140可以包括旋转轴145，旋转轴145被固定地安装在卡盘单元130并被能旋转地安装在托架141。旋转轴145可以被连接到减速部分143。因此，当驱动力产生部分142操作时，旋转轴145可以被旋转。

传感器单元130b可被安装在反转单元140上。可以提供多个传感器单元130b，并且该多个传感器单元130b中的每个可被设置在基底211的边缘部分上。多个传感器单元130b中的每个可检测基底211的边缘部分，以确定基底211是否已到达正常位置。

激光照射单元150可以被安装在室111的外部。激光照射单元150可以被设置成照射基底211的非显示区(未示出)。另外，激光照射单元150可通过窗111a向基底211照射激光。

可以提供多个激光照射单元150，每个激光照射单元150可以照射线性激光。另外，多个激光照射单元150可以被设置为对应于基底211的非显示区。

线性驱动单元160可被连接到卡盘单元130和反转单元140。线性驱动单元160可以线性移动卡盘单元130和反转单元140。

线性驱动单元160可以包括连接到卡盘单元130的连杆部分161以及配置为改变连杆部分161的长度的线性驱动部分162。另外，线性驱动单元160可以包括线性引导部分163，线性引导部分163被配置成引导卡盘单元130和反转单元140的线性运动或者线性地移动卡盘单元130和反转单元140。

连杆部分161可包括连接到卡盘单元130和反转单元140中的至少一个的第一连杆161a以及能旋转地安装的第二连杆161b。另外，线性驱动部分162可以包括连接到第二连杆161b以改变第二连杆161b的位置的机械臂、电动机或汽缸。为了便于描述，以下描述将集中在线性驱动部分162包括机械臂的情况。

线性引导部分163可以被形成为各种形状。例如，线性引导部分163可包括一般的线性电动机。作为另一示例，线性引导部分163可以包括滚珠螺杆、沿滚珠螺杆移动的块、使滚珠螺杆旋转的电动机以及引导反转单元140的线性运动引导件。作为另一示例，线性引导部分163可以包括连接到反转单元140以具有可变长度的汽缸以及对反转单元140的线性运动进行引导的线性运动引导件。为了便于描述，以下描述将集中在线性引导部分163包括线性运动引导件的情况。

异物吸入单元170可以被设置在激光照射单元150被设置的部分。异物吸入单元170可以被设置在卡盘单元130下方，以吸入在激光照射单元150照射激光时产生的异物。

异物吸入单元170可以包括配置成吸入异物的喷嘴171、连接到喷嘴171的异物引导管172以及安装在异物引导管172的异物吸入泵173。喷嘴171可被形成为各种形状。例如，喷嘴171可被形成为圆形形状(环形形状)或椭圆形形状。作为另一示例，喷嘴171可被形成为直线形状。作为另一示例，喷嘴171可被形成为多边形形状。当喷嘴171被形成为圆形形状、椭圆形形状或多边形形状时，喷嘴171的中心部分可以被形成为传送激光，并且其外周部分可以被形成为吸入异物。

类似于激光照射单元150，照相机单元180可被设置在外部。照相机单元180可拍摄基底211，以检测基底211的位置。

除了上述部件，显示装置制造装置100可以包括控制各个部件的控制单元190以及控制室111的内部压力的压力控制单元113。控制单元190可以是一般的个人计算机(PC)、笔记本电脑或便携式终端，控制单元190和各个部件之间的通信可以通过线进行或者无线地进行。另外，压力控制单元113可以包括被连接到室111的连接管113a以及被安装在连接管113a的真空泵113b。

关于显示装置制造装置100的操作，每层可以被形成在基底211上，然后显示部分(未示出)可以被形成在基底211上。显示部分被形成在其中的区域可以被定义为显示区(未示出)，显示部分未被形成在其中的区域可被定义为非显示区。

在将显示部分(特别是有机发光器件)形成在基底211上之后，基底211可通过机械臂(未图示)被供应到显示装置制造装置100。

当基底211如上那样被供应时，控制单元190可以打开闸阀112。在这种情况下，室111的内部可以处于大气状态。

当基底211被装载到室111内时，基底211被反转，以使显示部分(未示出)面对室111的底表面。并且控制单元190可以控制驱动部分124，以提升操作升降器122和距离控制升降器123。在这种情况下，操作升降器122可接触并操作对准部分121，并且距离控制升降器123可以支撑基底211。

当操作升降器122接触对准部分121时，接触部分122b可以推压传递部分121a。在这种情况下，传递部分121a可以通过移动辊部分121b并使辊彼此接近来推压基底211的边缘部分。特别地，每个对准部分121可以被安装在基底211的边缘部分，以推压基底211的边缘部分，由此将基底211对准。

此后，控制单元190可以控制驱动部分124，以降低操作升降器122和距离控制升降器123。在这种情况下，基底211可以被安置在卡盘板132上。

在上述操作期间，传感器单元130b可以检测基底211的边缘部分，并向控制单元190传送检测结果值。在这种情况下，基于传感器单元130b的检测结果值，控制单元190可确定基底211的位置是否被对准。

当确定基底211的位置被对准时，控制单元190可以向卡盘板132供电，以将基底211固定到卡盘板132。由于通过卡盘板132固定基底211的方法与通过一般的静电卡盘固定基底的方法相同或相似，所以其详细描述将被省略。

当上述操作完成时，控制单元190可以操作驱动力产生部分142，以旋转卡盘板132。在这种情况下，由驱动力产生部分142产生的驱动力可以通过减速部分143被传递到旋转轴145，并且旋转轴145可被旋转，以旋转卡盘板132。

在这种情况下，为了得到卡盘板132的旋转半径，控制单元190可以控制驱动部分124以将操作升降器122和距离控制升降器123降低到卡盘单元130之下。

在卡盘板132旋转期间或之后，控制单元190可以操作线性驱动单元160，以将基底211移动到设置激光照射单元150的地方。在这种情况下，照相机单元180可以捕获基底211的图像，并将所捕获的图像传送到控制单元190。

基于所捕获的基底211的图像，控制单元190可以确定激光照射单元150和基底211的位置是否对应于预定位置。基于确定结果，控制单元190可以操作线性驱动单元160，以改变基底211的位置，以将基底211和激光照射单元150对准。

当上述操作完成时，激光照射单元150可以向非显示区照射激光,并且当激光照射单元150照射激光时，室111的内部处于真空状态。在这种情况下，当所述激光照射单元150向基底211照射激光时，控制单元190可以控制线性驱动单元160以恒定的速度移动卡盘单元130和反转单元140，由此以恒定的速度(匀速)移动基底211。

当如上那样照射激光时，可以移除在有机发光器件的沉积中被沉积在非显示区中的有机材料。在这种情况下，控制单元190可以操作异物吸入泵173以排出由于激光照射产生的颗粒或气体。

此后，当上述操作完成时，基底211可以被移动到初始位置，被反转，并且通过机械臂等从室111移出。此外，当上述操作完成时，密封剂可被涂覆到基底211的非显示区，并且显示部分可以由封装基底(未示出)密封。

因此，显示装置制造装置100可以通过简单的结构快速并准确地移除有机材料。

另外，通过使在移除有机材料的过程中由照射激光产生的诸如颗粒的异物落下，或者通过将异物通过异物吸入单元170排出到外部，显示装置制造装置100可以使在移除有机材料的过程中产生的对显示部分和基底211的污染最小。

此外，通过从涂覆密封剂的部分有效地移除诸如有机材料的异物，显示装置制造装置100可以增加密封剂的粘合力和封装基底的密封力。

图6是由图1中示出的显示装置制造装置制造的显示装置的示意图。图7是图6中示出的显示装置的局部剖视图。

参见图6和图7，显示装置200可以包括基底211和显示部分E。另外，显示装置200可以包括形成在显示部分E上的封装基底212。由于封装基底212和一般的显示装置中使用的封装基底相同或相似，所以其详细描述将被省略。

显示装置200可以包括形成在基底211和封装基底212之间的密封剂213。由于密封剂213与附接基底211和封装基底212以密封显示部分E的一般的密封剂相同或相似，所以其详细说明将被省略。

显示装置200可以包括设置在基底211和封装基底212之间的吸气剂214。由于吸气剂214与吸入水分或氧气的一般材料相同或相似，所以其详细说明将被省略。

显示装置200可以包括显示部分E被形成在其中的显示区DA以及显示部分E未被形成在其中的非显示区NDA。

显示部分E可以被形成在基底211上。显示部分E可包括薄膜晶体管TFT。钝化层270可以被形成为覆盖薄膜晶体管TFT，并且有机发光器件280可以被形成在钝化层270上。

基底211可以由玻璃材料形成。然而，示例性实施例不限于此，并且基底211也可以由塑料材料或者诸如不锈钢(SUS)或钛(Ti)的金属材料形成。另外，基底211可以由聚酰亚胺(PI)形成。为了便于描述，以下描述将集中在基底211由玻璃材料形成的情况。

缓冲层220可以被形成在基底211上。缓冲层220可以由有机化合物和/或诸如SiO_x(x≥1)或SiN_x(x≥1)的无机化合物形成。

以预定图案布置的有源层230可被形成在缓冲层220上，然后有源层230可由栅绝缘层240覆盖。有源层230可以包括源区231、漏区233和设置在源区231和漏区233之间的沟道区232。

有源层230可以包括各种材料。例如，有源层230可以包括诸如非晶硅或晶体硅的无机半导体材料。作为另一示例，有源层230可以包括氧化物半导体材料。作为另一示例，有源层230可以包括有机半导体材料。为了便于描述，以下描述将集中在有源层230由非晶硅形成的情况。

有源层230可通过在缓冲层220上形成非晶硅层、将非晶硅层晶化为多晶硅层、并图案化多晶硅层而形成。取决于TFT的类型，诸如驱动TFT(未示出)和开关TFT(未示出)，有源层230的源区231和漏区233可以被掺杂有掺杂剂。

对应于有源层230的栅电极250和覆盖栅电极250的层间绝缘层260可以被形成在栅绝缘层240上。

接触孔H1可以被形成在层间绝缘层260和栅绝缘层240中，然后源电极271和漏电极272可以被形成在层间绝缘层260上，以分别接触源区231和漏区233。

钝化层270可以被形成在所得到的薄膜晶体管TFT上，有机发光器件280的像素电极281可以被形成在钝化层270上。像素电极281通过形成在钝化层270中的通孔H2接触薄膜晶体管TFT的漏电极272。钝化层270可以包括由无机材料和/或有机材料形成的单层或者两层或更多层。钝化层270可以被形成为平坦化层，以便不管下层的曲率如何均具有被平坦化的顶表面，或者沿着下层的弯曲部分可以被形成为弯曲的。另外，钝化层270可以由透明绝缘体形成，以实现共振效应。

在像素电极281被形成在钝化层270上之后，像素限定层290可以由有机材料和/或无机材料形成，以覆盖像素电极281和钝化层270，并且可以被开口以暴露像素电极281。

然后，中间层282和相对电极283可以被至少形成在像素电极281上。

像素电极281可以用作阳极电极，相对电极283可以用作阴极电极。此外，像素电极281可以用作阴极电极，相对电极283可以用作阳极电极。

像素电极281和相对电极283可通过中间层282被绝缘，不同极性的电压可以被施加到中间层282，以使有机发射层发射光。

中间层282可以包括有机发射层。作为另一示例，中间层282可以包括有机发射层，并且可以进一步包括空穴注入层(HIL)、空穴传输层(HTL)、电子传输层(ETL)和电子注入层(EIL)中的至少一个。

单位像素P可以包括可以发射不同颜色光的多个子像素R、G和B。例如，多个子像素R、G和B可以包括发射红色光、绿色光和蓝色光的子像素R、G和B，或者发射红色光、绿色光、蓝色光和白色光的子像素(未示出)。

多个子像素R、G和B可以包括中间层282，中间层282包括发射不同颜色的光的有机发射层。例如，多个子像素R、G和B可以包括中间层282，中间层282包括发射红色光、绿色光和蓝色光的有机发射层。

在形成有机发光器件280之后，显示装置制造装置100可以通过激光从非显示区NDA移除诸如有机材料的异物。

因此，通过从非显示区NDA有效地移除诸如有机材料的异物、向非显示区NDA涂覆密封剂213、然后由封装基底212密封所得到的结构，显示装置200的寿命可以增加。

如上所述，根据上述示例性实施例中的一个或多个，显示装置的电特性可以被改进。

应当理解，本文所描述的示例性实施例应当仅以描述性的含义被考虑，而不应当被用于限制的目的。对每个示例性实施例中的特征或方面的描述通常应当被认为可用于其它示例性实施例中的其它类似特征或方面。

尽管已经参考图描述了一个或多个示例性实施例，但是本领域普通技术人员将会理解，在不脱离由以下权利要求书限定的发明构思的精神和范围的情况下，可以进行形式和细节上的各种改变。

Claims (17)

1.一种用于制造显示装置的装置，该装置包括：

卡盘单元，被配置为固定或松开包括显示区和非显示区的基底，所述基底被安置在所述卡盘单元上；

对准单元，被安装为与所述卡盘单元相邻以将所述基底对准；

反转单元，被连接到所述卡盘单元以反转所述卡盘单元；和

激光照射单元，被配置为从下方向所述基底的所述非显示区照射激光。

2.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：线性驱动单元，被配置为线性移动所述卡盘单元和所述反转单元。

3.根据权利要求2所述的装置，其中当所述激光照射单元向所述基底照射激光时，所述线性驱动单元以恒定的速度移动所述卡盘单元和所述反转单元。

4.根据权利要求1所述的装置，其中所述对准单元包括：

多个对准部分，被安装在所述卡盘单元并被设置成彼此隔开；

操作升降器，被提升和降低以操作所述多个对准部分中的每个；

距离控制升降器，被提升和降低以控制所述基底和所述卡盘单元之间的距离；和

驱动部分，被连接到所述操作升降器和所述距离控制升降器以提升和降低所述操作升降器和所述距离控制升降器。

5.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：基底固定单元，被形成在所述卡盘单元上以固定所述基底。

6.根据权利要求1所述的装置，其中所述反转单元包括：

托架；

驱动力产生部分，被设置在所述托架中以产生驱动力；

减速部分，被连接到所述驱动力产生部分以使所述驱动力在传送之前减速；和

旋转轴，被能旋转地安装在所述托架并被连接到所述减速部分和所述卡盘单元。

7.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：异物吸入单元，被设置在所述卡盘单元下方以吸入在所述激光照射单元照射激光时产生的异物。

8.根据权利要求1所述的装置，进一步包括：

室，其形成有开口，所述对准单元、所述卡盘单元和所述反转单元被安装在所述室内；和

闸阀，被配置为打开和关闭所述室的所述开口。

9.根据权利要求8所述的装置，其中

所述激光照射单元被设置在所述室的外部，并且

所述室具有窗，由所述激光照射单元照射的激光通过所述窗被传送。

10.根据权利要求9所述的装置，进一步包括：照相机单元，被设置在所述室的外部以捕获所述基底的位置。

11.根据权利要求8所述的装置，其中当所述激光照射单元照射激光时，所述室的内部处于真空状态。

12.一种制造显示装置的方法，该方法包括：

在基底的显示区中形成显示部分；

将所述基底装载到室中并反转所述基底，以使所述显示部分面对所述室的底表面；和

在线性移动所述基底时，通过从下方向所述基底的非显示区照射激光来移除异物。

13.根据权利要求12所述的方法，其中当激光被照射到所述基底的所述非显示区时，所述室处于真空状态。

14.根据权利要求12所述的方法，其中激光从所述室的外部被照射到所述室内。

15.根据权利要求12所述的方法，其中当激光被照射时，所述基底以恒定的速度被线性移动。

16.根据权利要求12所述的方法，进一步包括将所述基底对准。

17.根据权利要求12所述的方法，进一步包括将密封剂涂覆于所述基底的所述非显示区以及用封装基底密封所得到的结构。