CN101584035A - 基板处理装置和基板处理方法 - Google Patents

基板处理装置和基板处理方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101584035A
CN101584035A CNA2007800496039A CN200780049603A CN101584035A CN 101584035 A CN101584035 A CN 101584035A CN A2007800496039 A CNA2007800496039 A CN A2007800496039A CN 200780049603 A CN200780049603 A CN 200780049603A CN 101584035 A CN101584035 A CN 101584035A
Authority
CN
China
Prior art keywords
mark
substrate
mentioned
image pickup
pickup part
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2007800496039A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101584035B (zh
Inventor
森井浩二郎
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Sharp Corp
Original Assignee
Sharp Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Sharp Corp filed Critical Sharp Corp
Publication of CN101584035A publication Critical patent/CN101584035A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101584035B publication Critical patent/CN101584035B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H—ELECTRICITY
    • H01—ELECTRIC ELEMENTS
    • H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
    • H01L21/67—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere
    • H01L21/68—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment
    • H01L21/681—Apparatus specially adapted for handling semiconductor or electric solid state devices during manufacture or treatment thereof; Apparatus specially adapted for handling wafers during manufacture or treatment of semiconductor or electric solid state devices or components ; Apparatus not specifically provided for elsewhere for positioning, orientation or alignment using optical controlling means
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/1303—Apparatus specially adapted to the manufacture of LCDs
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/133354—Arrangements for aligning or assembling substrates
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02F—OPTICAL DEVICES OR ARRANGEMENTS FOR THE CONTROL OF LIGHT BY MODIFICATION OF THE OPTICAL PROPERTIES OF THE MEDIA OF THE ELEMENTS INVOLVED THEREIN; NON-LINEAR OPTICS; FREQUENCY-CHANGING OF LIGHT; OPTICAL LOGIC ELEMENTS; OPTICAL ANALOGUE/DIGITAL CONVERTERS
    • G02F1/00—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics
    • G02F1/01—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour 
    • G02F1/13—Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
    • G02F1/133—Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333—Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1335—Structural association of cells with optical devices, e.g. polarisers or reflectors
    • G02F1/133509—Filters, e.g. light shielding masks
    • G02F1/133514—Colour filters
    • G02F1/133516—Methods for their manufacture, e.g. printing, electro-deposition or photolithography

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Nonlinear Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • Crystallography & Structural Chemistry (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Computer Hardware Design (AREA)
  • Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
  • Power Engineering (AREA)
  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)
  • Liquid Crystal (AREA)
  • Devices For Indicating Variable Information By Combining Individual Elements (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Abstract

本基板处理装置根据载放在基板载放台(1)的载放面上的第一基板的第一标记和第二标记的位置，使将第一标记与第二标记连接的线的方向与台架(2)的能移动的方向一致，使在将第一标记与第二标记连接的线的方向与上述移动方向一致的状态下的第一标记的位置和第三标记的位置存储在存储部中，在基板载放台(1)的载放面上载放第二基板后，针对第二基板，使将第二基板上的第一标记与第三标记连接的线的方向与根据存储部中存储的信息计算得到的将第一基板上的第一标记与第二基板上的第三标记连接的线的方向一致。

Description

基板处理装置和基板处理方法
技术领域
本发明涉及处理基板的基板处理装置，涉及例如使用激光来加工基板、或者使用等离子来加工基板的基板处理装置。本发明尤其涉及适合在大型玻璃基板上生成滤色片时使用、或者在对大型玻璃基板上生成的滤色片进行修复时使用的基板处理装置。
另外，本发明涉及处理基板的基板处理方法，涉及例如使用激光来加工基板、或者使用等离子来加工基板的基板处理方法。本发明尤其涉及适合在大型玻璃基板上生成滤色片时使用、或者在对大型玻璃基板上生成的滤色片进行修复时使用的基板处理方法。
背景技术
在液晶显示器、有机EL显示器等显示设备中，像素被高精细地配置在大面积基板上。此处，在这些显示设备中，基板尺寸在逐年增大，例如，使用一边达数米的大面积基板的情况也在增加。
针对这样的基板，例如在生成像素图案后对部分像素进行加工和修复时，需要使处理装置在基板上移动，对相应的像素精确地进行加工和修复，为此，需要使载放有基板的基板载放台准确地旋转来对齐基板，以使处理装置的移动方向与基板的像素的方向准确地对齐。
作为这样的基板的对齐方法，有日本专利特开平2-283097号公报中记载的技术方案。
在该基板的对齐方法中，利用单个照相机对设置在基板上的两个基准依次进行观察，测定位置数据，并根据观察得到的位置数据、针对各个基准予以存储的理论上的位置数据来求出修正量。
根据上述基板的对齐方法，只需将观察得到的位置数据与所存储的理论上的位置数据加以比较就能进行基板的对齐，因此能迅速地进行基板的对齐。
发明的公开
发明所要解决的技术问题
然而，本发明者发现，上述以往的方法虽能迅速地进行基板的对齐，但有时会因以下所示的原因而无法准确地进行基板的对齐。
即，当像素以2维状态排列在基板上的X方向和Y方向上，处理装置的照相机能在两个移动方向(以下设为X’方向和Y’方向)上移动，照相机根据X’方向的移动量和Y’方向的移动量之和而2维地自由移动时，X方向有时与X’方向和Y’方向中的任一个均不一致。
另外，如图11所示，像素的排列方向即X方向和Y方向通常正交，但如图12所示，有时像素的排列方向即X方向和Y方向不正交。进一步说明的话，即在生成高精细的显示设备时，需要在使照相机的移动方向的一个方向与基板的像素的排列方向的一个方向准确对齐的基础上(例如使上述X方向、上述X’方向准确地对齐的基础上)考虑上述X方向与上述Y方向的正交度、上述X’方向与上述Y’方向的正交度，但存在这样的问题：例如在通过曝光来形成像素图案时，上述X方向与上述Y方向的正交度(像素图案偏差)对每个所使用的掩膜而言均不同。
因此，在变更掩膜时，所存储的理论上的位置数据变得不准确，无法准确地进行基板的对齐。
因此，本发明的目的在于提供一种能准确且迅速地进行基板的对齐的基板处理装置和基板处理方法。
解决技术问题所采用的技术方案
为了解决上述技术问题，本发明的基板处理装置的特征在于，包括：基板载放台、处理部、相对位置变动装置、摄像部保持部件、摄像部、存储部、以及控制装置，上述基板载放台具有载放基板的载放面，上述处理部对上述载放面上的上述基板进行处理，上述相对位置变动装置使上述载放面上的上述基板相对于上述处理部的相对位置变动，上述摄像部保持部件相对于上述载放面以能朝第一方向移动的形态安装在上述基板载放台上，且具有相对于上述载放面在上述载放面的法线方向上相对并沿第二方向延伸的相对部，上述摄像部安装在上述相对部上，并能对在载放于上述载放面的上述基板上形成的第一标记、第二标记和第三标记进行摄像，上述存储部能存储上述基板上的上述第一标记的位置、上述基板上的上述第三标记的位置，上述控制装置进行第一控制、第二控制、第三控制，在上述第一控制中，上述控制装置根据来自上述摄像部的信号，使上述相对位置变动装置变动上述相对位置，以使将上述第一标记与上述第二标记连接的线的方向与上述第一方向一致，在上述第二控制中，上述控制装置根据来自上述摄像部的信号，使在将上述第一标记与上述第二标记连接的线的方向与上述第一方向一致后的状态下的上述第一标记与上述第三标记的位置存储在上述存储部中，在上述第三控制中，上述控制装置根据来自对上述第一标记和上述第三标记的位置被上述存储部存储的上述基板以外的其它上述基板进行摄像的上述摄像部的信号，使上述相对位置变动装置变动上述其它基板相对于上述处理部的相对位置，以使上述其它基板上将上述第一标记与上述第三标记连接的线的方向与根据上述存储部中存储的上述第一标记和上述第三标记的位置计算得到的将上述第一标记与上述第三标记连接的线的方向一致。
根据本发明，例如在上述第一标记和上述第三标记的位置被上述存储部存储的上述基板与上述其它基板为同一批次、也就是使用同一掩膜进行制造时，针对上述其它基板，上述摄像部只需对上述第一标记和上述第三标记的位置进行拍摄就能准确地进行基板的对准。因此，针对上述其它基板，能特别迅速地进行基板的对准。
另外，一实施方式中，在上述第三控制中，上述控制装置使上述相对位置变动装置变动上述其它基板相对于上述处理部的相对位置，以使上述其它基板上将上述第一标记与上述第三标记连接的线的中点与根据上述存储部中存储的上述第一标记和上述第三标记的位置计算得到的将上述第一标记与上述第三标记连接的线的中点一致。
根据上述实施方式，能使上述其它基板的中心与上述第一标记和上述第三标记的位置被上述存储部存储的上述基板的中心一致，能容易地进行上述其它基板的对准。
另外，一实施方式中，上述控制装置计算上述其它基板上的上述第一标记与上述第三标记间的距离和根据上述存储部中存储的上述第一标记和上述第三标记的位置计算得到的上述第一标记与上述第三标记间的距离的比值。
根据上述实施方式，相对于作为对准基准的基板，能计算出期望进行对准的基板(上述其它基板)的膨胀度或收缩度。因此，在任何温度下，都能针对上述其它基板精密地进行基板的对准。
一实施方式中，上述摄像部具有：以不能移动的形态固定在上述摄像部保持部件上的第一照相机和第二照相机、相对于上述摄像部保持部件以能朝上述第二方向移动的形态安装在上述摄像部保持部件上的移动照相机，上述控制装置在上述第三控制中根据来自对上述其它基板的上述第三标记进行摄像的上述第一照相机的信号、来自对上述其它基板的上述第一标记摄像的上述第二照相机的信号，来确定将上述其它基板上的上述第一标记与上述第三标记连接的线的方向。
根据上述实施方式，在对上述其它基板进行摄像时，对上述其它基板进行摄像的照相机(第一照相机和第二照相机)不朝上述第二方向移动。因此，能进行迅速地其它基板的对准。
另外，一实施方式中，上述摄像部具有：以不能移动的形态固定在上述摄像部保持部件上的第一照相机和第二照相机、相对于上述摄像部保持部件以能朝上述第二方向移动的形态安装在上述摄像部保持部件上的移动照相机，上述控制装置在上述第一控制中根据上述移动照相机摄像得到的上述第一标记和上述第二标记的位置来确定将上述第一标记与上述第二标记连接的线的方向，在上述第二控制中使上述移动照相机摄像得到的上述第一标记和上述第二标记的位置存储在上述存储部中。
根据上述实施方式，上述第一控制和上述第二控制仅通过上述移动照相机的摄像来进行，因此，例如通过使上述移动照相机的灵敏度成为高灵敏度，能精密地观察成为对准基准的基板的位置。
另外，一实施方式中，在上述摄像部保持部件上，将液滴朝基板排出的液滴排出部相对于上述摄像部保持部件以能朝上述第二方向移动或不能朝上述第二方向移动的形态安装。
根据上述实施方式，通过针对上述其它基板进行的对准，能对上述其它基板的期望位置准确地排出液滴。
另外，本发明的基板处理装置的特征在于，包括：基板载放台、处理部、相对位置变动装置、摄像部保持部件、摄像部、存储部、以及控制装置，上述基板载放台具有载放基板的载放面，上述处理部对上述载放面上的上述基板进行处理，上述相对位置变动装置使上述载放面上的上述基板相对于上述处理部的相对位置变动，上述摄像部保持部件相对于上述载放面以能朝第一方向移动的形态安装在上述基板载放台上，且具有相对于上述载放面在上述载放面的法线方向上相对并沿第二方向延伸的相对部，上述摄像部安装在上述相对部上，并能对在载放于上述载放面的上述基板上形成的第一标记、第二标记、第三标记和第四标记进行摄像，上述存储部能存储上述基板上的上述第三标记的位置、上述基板上的上述第四标记的位置，上述控制装置进行第一控制、第二控制和第三控制，在上述第一控制中，上述控制装置根据来自上述摄像部的信号，使上述相对位置变动装置变动上述相对位置，以使将上述第一标记与上述第二标记连接的线的方向与上述第一方向一致，在上述第二控制中，上述控制装置根据来自上述摄像部的信号，使在将上述第一标记与上述第二标记连接的线的方向与上述第一方向一致后的状态下的上述第三标记和上述第四标记的位置存储在上述存储部中，在上述第三控制中，上述控制装置根据来自对上述第三标记和上述第四标记的位置被上述存储部存储的上述基板以外的其它上述基板进行摄像的上述摄像部的信号，使上述相对位置变动装置变动上述其它基板相对于上述处理部的相对位置，以使上述其它基板上将上述第三标记与上述第四标记连接的线的方向与根据上述存储部中存储的上述第三标记和上述第四标记的位置计算得到的将上述第三标记与上述第四标记连接的线的方向一致。
根据本发明，在基板上有四个以上的标记时，能迅速且精密地进行上述其它基板的对准。
另外，一实施方式中，在上述第三控制中，上述控制装置使上述其它基板相对于上述处理部的相对位置变动上述相对位置变动装置，以使上述其它基板上将上述第三标记与上述第四标记连接的线的中点与根据上述存储部中存储的上述第三标记和上述第四标记的位置计算得到的将上述第三标记与上述第四标记连接的线的中点一致。
根据上述实施方式，在基板上有四个以上的标记时，能准确地使上述其它基板的中心与作为基准的基板的中心一致。
另外，一实施方式中，上述控制装置计算上述其它基板上的上述第三标记与上述第四标记间的距离和根据上述存储部中存储的上述第三标记和上述第四标记的位置计算得到的上述第三标记与上述第四标记间的距离的比值。
根据上述实施方式，在基板上有四个以上的标记时，相对于作为对准基准的基板，能计算出期望进行对准的基板(上述其它基板)的膨胀度或收缩度。因此，在任何温度下，都能针对上述其它基板精密地进行基板的对准。
另外，一实施方式中，上述摄像部具有：以不能移动的形态固定在上述摄像部保持部件上的第一照相机和第二照相机、相对于上述摄像部保持部件以能朝上述第二方向移动的形态安装在上述摄像部保持部件上的移动照相机，上述控制装置在上述第三控制中根据来自对上述其它基板的上述第三标记进行摄像的上述第一照相机的信号、来自对上述其它基板的上述第一标记进行摄像的上述第二照相机的信号，来确定将上述其它基板上的上述第一标记与上述第三标记连接的线的方向。
根据上述实施方式，上述在基板上有四个以上的标记时，在对上述其它基板进行摄像时，对上述其它基板进行摄像的照相机(第一照相机和第二照相机)不朝上述第二方向移动。因此，能进行迅速地其它基板的对准。
另外，一实施方式中，上述摄像部具有：以不能移动的形态固定在上述摄像部保持部件上的第一照相机和第二照相机、相对于上述摄像部保持部件以能朝上述第二方向移动的形态安装在上述摄像部保持部件上的移动照相机，上述控制装置在上述第一控制中根据上述移动照相机摄像得到的上述第一标记和上述第二标记的位置来确定将上述第一标记与上述第二标记连接的线的方向，在上述第二控制中使上述移动照相机摄像得到的上述第三标记和上述第四标记的位置存储在上述存储部中。
根据上述实施方式，上述在基板上有四个以上的标记时，上述第一控制和上述第二控制仅通过上述移动照相机的摄像来进行，因此，通过使上述移动照相机的灵敏度成为高灵敏度，能精密地观察成为对准基准的基板的位置。
另外，一实施方式中，在上述摄像部保持部件上，将液滴朝基板排出的液滴排出部相对于上述摄像部保持部件以能朝上述第二方向移动或不能朝上述第二方向移动的形态安装。
根据上述实施方式，在基板上有四个以上的标记时，通过针对上述其它基板进行的对准，能对上述其它基板的期望位置准确地排出液滴。
另外，本发明的基板处理方法的特征在于，在基板载放台的载放面上载放第一基板后，根据上述第一基板上的第一标记和第二标记的位置，使将上述第一标记与上述第二标记连接的线的方向与相对于上述载放面以能朝第一方向移动的形态安装在上述基板载放台上并沿第二方向延伸的摄像部保持部件的上述第一方向一致，使在将上述第一标记与上述第二标记连接的线的方向与上述第一方向一致的状态下的上述第一基板上的上述第一标记的位置和上述第三标记的位置存储在存储部中，在上述基板载放台的载放面上载放第二基板后，使将上述第二基板上的第一标记与上述第三标记连接的线的方向与根据上述存储部中存储的上述第一基板上的上述第一标记的位置和上述第三标记的位置计算得到的将上述第一基板上的上述第一标记与上述第三标记连接的线的方向一致。
根据本发明，能迅速且精密地进行第二基板的对准。
另外，一实施方式中，在上述基板载放台的载放面上载放上述第二基板后，使将上述第二基板上的第一标记与上述第三标记连接的线的中点与根据上述存储部中存储的上述第一基板上的上述第一标记的位置和上述第三标记的位置计算得到的将上述第一基板上的上述第一标记与上述第三标记连接的线的中点一致。
根据上述实施方式，能使第二基板的中心与成为对准基准的第一基板的中心对应。
另外，一实施方式中，计算上述第二基板上的上述第一标记与上述第三标记间的距离和根据上述存储部中存储的上述第一基板上的上述第一标记的位置和上述第三标记的位置计算得到的上述第一基板上的上述第一标记与上述第三标记间的距离的比值。
根据上述实施方式，能在对准中反映基板的膨胀或收缩的效果。
另外，本发明的基板处理方法的特征在于，在基板载放台的载放面上载放第一基板后，根据上述第一基板上的第一标记和第二标记的位置，使将上述第一标记与上述第二标记连接的线的方向与相对于上述载放面以能朝第一方向移动的形态安装在上述基板载放台上并沿第二方向延伸的摄像部保持部件的上述第一方向一致，使在将上述第一标记与上述第二标记连接的线的方向与上述第一方向一致的状态下的上述第一基板上的第三标记的位置和上述第四标记的位置存储在存储部中，在上述基板载放台的载放面上载放第二基板后，使将上述第二基板上的第三标记与上述第四标记连接的线的方向与根据上述存储部中存储的上述第一基板上的上述第三标记的位置和上述第四标记的位置计算得到的将上述第一基板上的上述第三标记与上述第四标记连接的线的方向一致。
根据本发明，在基板上存在四个以上的标记时，能精密且迅速地进行基板的对准。
另外，一实施方式中，在上述基板载放台的载放面上载放上述第二基板后，使将上述第二基板上的第三标记与上述第四标记连接的线的中点与根据上述存储部中存储的上述第一基板上的上述第三标记的位置和上述第四标记的位置计算得到的将上述第一基板上的上述第三标记与上述第四标记连接的线的中点一致。
根据上述实施方式，在基板上存在四个以上的标记时，能使第二基板的中心与作为基准的第一基板的中心一致。
另外，一实施方式中，计算上述第二基板上的上述第三标记与上述第四标记间的距离和根据上述存储部中存储的上述第一基板上的上述第三标记的位置和上述第四标记的位置计算得到的上述第一基板上的上述第三标记与上述第四标记间的距离的比值。
根据上述实施方式，在基板上存在四个以上的标记时，能在第二基板的对准中准确地反映第二基板相对于作为基准的第一基板的膨胀、收缩的程度。
发明效果
根据本发明的基板处理方法和基板处理装置，能准确且迅速地进行基板的对准。
附图说明
图1是本发明的第一实施方式的基板处理装置的立体图。
图2是表示基板的与基板载放台侧相反的一侧的上表面的图。
图3是表示基板刚被载放在基板载放台上后、基板与基板载放台的位置关系的一例的图。
图4是表示观察第一标记的状态的第二照相机的图。
图5是表示找到第二标记并进行观察的第二照相机的图。
图6是表示将第一标记与第二标记连接的直线与GanY方向一致的状态的图。
图7是用虚线来表示找到第四标记并进行观察的移动照相机的图。
图8是表示校准动作中存储的基板的位置的图。
图9是表示用第一照相机观察第四标记并用第二照相机观察第三标记的状态的图。
图10是表示与通过校准而记住的位置关系对应地在X、Y、θ方向上移动后的基板载放台的图。
图11是表示一个排列方向即X方向与另一个排列方向即Y方向正交的多个像素的图。
图12是表示一个排列方向即X方向未与另一个排列方向即Y方向正交的多个像素的图。
图13A是表示墨水排出动作过程中的、基板上的图案与喷嘴的关系的示意图。
图13B是表示墨水排出动作过程中的、基板上的图案与喷嘴的关系的示意图。
图13C是表示墨水排出动作过程中的、基板上的图案与喷嘴的关系的示意图。
图13D是表示墨水排出动作过程中的、基板上的图案与喷嘴的关系的示意图。
图14是进行基板的校准动作过程中的第二实施方式的基板处理装置的示意图。
图15是表示进行基板的对准动作过程中的第二实施方式的基板处理装置的示意图。
具体实施方式
以下，根据图示的形态对本发明进行详细说明。
(第一实施方式)
图1是本发明的第一实施方式的基板处理装置的立体图。
该基板处理装置包括：基板载放台1、作为摄像部保持部件的台架2、台架移动机构3、提升移动机构5、第一照相机6、第二照相机7、移动照相机8、以及作为控制装置的微型计算机(下面称为微机)4。上述第一照相机6、第二照相机7和移动照相机8构成了摄像部。另外，微型计算机4具有存储信息的存储部(未图示)。
上述基板载放台1具有载放基板10的载放面。上述载放面由平坦性较好的石平台(由花岗岩形成的石平台)形成。基板10以不能移动的形态固定在上述载放面上，且从载放面松开。详细而言，在基板载放台1的上述载放面上形成有多个未图示的微小的孔，这些孔全部都与未图示的吸引+送风机构连接。通过利用上述控制装置进行吸引+送风控制，在基板载放台1上吸附固定基板10，或者将吸附固定在基板载放台1上的基板10松开。
在上述基板载放台中内置有未图示的θ旋转机构。上述θ旋转机构使基板载放台1的载放面绕该载放面的中心自由旋转。由此，能使载放在上述载放面上的基板10绕上述载放面的中心自由旋转。虽不进行详细说明，但基板处理装置在与基板载放台1的载放面侧相反的一侧具有未图示的消振机构，能抑制振动。
上述台架2呈门型形状。载放面呈大致矩形形状。台架2以横跨基板载放台1的载放面的一个方向的形态设置。台架2的与基板载放台1侧相反的一侧的面呈大致矩形形状(以下，在台架2的与基板载放台1侧相反的一侧的面上，将台架2的横跨基板载放台1的方向(相当于第二方向)称为GanX方向)。提升移动机构5有两个，设置在门型的台架2上。提升移动机构5相对于台架移动机构3始终不接触，能朝第一方向(下面称为GanY方向)移动。上述台架2通过提升移动机构5朝GanY方向的移动而相对于载放面朝GanY方向移动。详细而言，台架2通过台架移动机构3上的磁性直线尺(未图示)与提升移动机构5之间的线性电动机控制，能朝GanY方向自由移动。
在台架2上设置有作为处理部的喷墨头(未图示)、第一照相机6、第二照相机7和移动照相机8。上述喷墨能朝基板10排出墨水。上述喷墨头根据来自控制装置的信号使台架2的下侧面适当地朝GanX方向移动，在适当时刻朝基板10上排出墨水。安装有上述喷墨头的台架2能朝GanY方向移动，因此喷墨能自由地在2维平面上移动。
另外，第一实施方式中，喷墨头能在台架上朝GanX轴方向移动，但在本发明中，喷墨头只要能在基板的被排出区域的GanX轴方向上的任意位置排出，则可采用任何结构。例如，既可将固定设置的多个喷墨头排列设置并适当选择进行排出的喷墨头，也可使用以覆盖被排出区域的形态固定设置的较长的喷墨头。
处理部相对于被吸附在载放面上的基板10的相对位置能自由地在3维空间内移动。即，本实施方式中，如上所述，基板载放台1能以基板载放台1的中心为中心在θ方向上旋转，作为处理部的喷墨头能自由地在2维平面内移动。此处，喷墨头进行移动的2维平面与基板载放台1所进行移动的2维平面彼此平行。由此，处理部相对于被吸附固定在基板载放台1上的基板10的相对位置能自由地在3维空间内移动。上述θ旋转机构和台架2构成了相对位置变动装置。
本实施方式中采用的是这样的结构：基板载放台1在θ方向上旋转，且作为处理部的喷墨头自由地在XY平面内移动，但在本发明中也可采用这样的结构：基板载放台能在θ方向上旋转并能自由地在XY平面内移动，且处理部(例如喷墨头)能自由地在XY平面移动。在本发明中也可采用这样的结构：在保持基板载放台不移动的情况下仅使处理部在2维空间中移动，从而使处理部相对于吸附固定在基板载放台上的基板的相对位置自由地变动。另外，在本发明中也可采用这样的结构：在保持处理部不移动的情况下仅使基板载放台在2维空间中移动，从而使处理部相对于吸附固定在基板载放台上的基板的相对位置自由地变动。
上述第一照相机6、第二照相机7和移动照相机8对基板进行观察。第一照相机6和第二照相机7固定设置在台架2上，对基板10进行观察拍摄。由第一照相机6和第二照相机7观察拍摄得到的基板10的图像被送往微机4。另一方面，上述移动照相机8设置成能朝GanX方向在台架2上移动，对基板10进行观察拍摄。安装有移动照相机8的台架2能朝GanY方向移动，因此移动照相机8能自由地在2维平面上移动。由移动照相机8观察拍摄得到的基板10的图像被送往微机4。
上述微机4进行台架2的移动控制、台架2上的移动照相机8的移动控制、台架2上的喷墨头的排出控制、基板载放台1的旋转控制以及来自照相机6、7、8的图像的分析。
第一照相机6和第二照相机7的观察位置和喷墨头的液滴排出位置在喷墨头安装后预先进行计测调整。
在上述喷墨的与基板载放台1的载放面的平行面上粘接有喷嘴板。喷嘴板具有多个喷嘴孔。喷嘴孔的直径设定为10～20μm。作为喷墨，使用的是在压电体基板上形成有多个作为墨水室的槽的喷墨。喷墨在其间壁侧面的一部分上形成电极，在间壁的两侧面之间施加电场，使间壁自身剪切变形来产生排出能量。
在基板载放台1上装设有基板10状态下，喷墨头的喷嘴板的底面即液滴排出面与基板10的上表面之间被预先调整为0.5～1mm。该装置在台架2朝GanY方向移动的同时排出墨水。在喷墨头朝着基板载放台1上的基板10排出液滴的过程中，基板10被基板载放台1准确地固定。台架2有时会因两个提升移动机构的移动速度的微小偏差而相对于原来状态偏斜(台架偏差)。该偏差几乎不会变动，但在变动时，如后面所述，需要对排出位置进行修正。
上述基板10为大型的玻璃基板。即，第一实施方式的基板处理装置处理大型的玻璃基板。当然，本发明能处理的基板不局限于大型玻璃基板，当然，本发明所处理的基板的材质、大小或厚度等不受限定。
在上述基板10上，如图11所示，容纳液滴的多个区域11规则地排列。即，形成有规则的基板图案。具有上述规则性的区域11用树脂形成。不过，基板上表面的具有规则性的区域也可用金属或玻璃材料形成。上述区域11相对于涂布液具有拒液性。
如上面使用图12说明的那样，基板图案有时因图案形成时的误差(掩膜设置、基板设置、光学系统等产生的误差)、掩膜本身的误差而偏离理想的配置。即，与图11不同，如图12所示，基板图案的排列的一个方向与另一个方向有时不正交。
图2是表示基板10的与基板载放台1侧相反的一侧的上表面的图。
如图2所示，在基板10的上表面形成有四个标记、即第一至第四标记31、32、33、34。第一至第四标记31、32、33、34为基板的对准基准，其通过与基板图案(区域11的排列)相同的生成方法，在基板图案形成时与基板图案同时且一体地形成在基板10上。由于第一至第四标记31、32、33、34与基板图案一体形成，因此标记31、32、33、34相对于基板图案的相对位置在相同温度下在多个基板上始终一定。当然，标记31、32、33、34相对于基板图案的相对位置会受到温度变化时基板10的收缩和基板10的膨胀的影响。
将第一标记31与第二标记32连接的方向定义为基板10的一个方向，以下，该方向与基板图案的一个方向(将其作为Y方向)平行。另一方面，将第三标记33与第四标记34连接的方向定义为基板10的另一个方向，该方向与基板图案的另一个方向(将其作为X方向)平行。
将第一标记31与第二标记32连接的直线和将第三标记33与第四标记34连接的直线所成的角度因标记形成时的误差而不限于90度(不一定正交)。产生误差的原因与上面说明的基板图案产生误差的原因相同。
将第一标记31与第二标记32连接的直线与将第三标记33与第四标记34连接的直线所成的角度不一定与装置坐标系统所成的角度、即GanX和GanY所成的角度一致。换言之，将第一标记31与第二标记32连接的直线和将第三标记33与第四标记34连接的直线所成的角度与台架移动方向和台架的延伸方向所成的角度不一致。
当然，各标记31、32、33、34的配置位置不限定于基板10的端部(参照图2)。将标记配置在基板的端部时较为理想，但只要满足将第一标记与第二标记连接的方向平行于基板图案的Y方向、且将第三标记与第四标记连接的方向平行于基板图案的X方向的条件，则可将第一至第四标记配置在基板的任何部位。此外，标记不必是四个，也可用一个标记来实现多个标记的作用。例如，标记1和标记3也可以是同一个标记。
即使产生图案偏差和台架偏差中的至少一方时，也必须将墨水准确地涂布在目标位置上。因此，必须进行基板10的对准、即基板10的对齐。详细而言，必须根据以下的六个条件((1)～(6))来进行基板10的对齐。
(1)台架2与基板载放台1的正交性不清楚。(2)台架2具有直线性(GanX方向和GanY方向分别朝向一个方向)。(3)基板载放台1具有直线性(X方向和Y方向分别朝向一个方向)。(4)基板图案(单元(区域11)的排列)的正交性不清楚。(5)上述基板图案(单元的排列)的正交性至少在同一批(同一掩膜)中不变化。(6)基板图案(单元的排列)具有直线性。
在上述条件下，与现有例中说明的装置相比，如以下所示，第一实施方式的基板处理装置能准确且迅速地进行基板10的对齐(对准)。第一实施方式中，通过两阶段的动作、即基板10的校准动作和基板10的对准动作来实现上述功能。
以下，对第一实施方式的基板10的对齐(对准)进行说明。
未图示的搬运机器人将基板10载放在基板载放台1上。这一动作是通过图1中预先使台架2位于图中左侧的左端后从图中右侧将基板10朝基板载放台1上载放来进行的。将所载放的基板10立即抽气吸附在基板载放台1上，将其固定在基板载放台1上。详细而言，在基板载放台1形成有多个贯穿孔，在贯穿孔的与载放面侧相反的一侧的开口上连接有吸引空气或吹出空气的装置。将基板10载放在基板载放台1的载放面上之后，通过吸引上述贯穿孔内的空气，将基板10吸附在载放面上。将基板10载放在基板载放台1上进行吸附时，不进行任何对准作业。即，在基板10的载放时刻，在基板载放台1上将基板10相对于基板10的期望的配置位置以机械精度进行定位。
图3是表示基板10刚被载放在基板载放台1上后、基板10与基板载放台1的位置关系的一例的图。另外，从图3到以下的图10中，标记31、32、33、34有时会因台架2、照相机6、7、8而处于看不到的位置，但为了方便说明，因此始终示出标记31、32、33、34的位置。如图3所示，将基板10载放到基板载放台1上时，基板10以相对于期望的配置位置在XY方向和θ方向上错开的状态载放。
接着，进行校准动作。在校准动作中，针对同一批次、即用同一掩膜生成的多个基板10中的一个基板，如下所示地在上述控制装置中存储第一至第四标记31、32、33、34的位置。
首先，如图4所示，使用第二照相机7对第一标记31进行观察，将观察得到的图像发送给控制装置，记住位置。接着一边使台架2移动一边用第二照相机7对基板10进行观察，用第二照相机7来寻找第二标记32，如图5所示，用第二照相机7找到并对第二标记32进行观察，将观察得到的图像发送给控制装置，记住位置。
之后，控制装置运算第一标记31和第二标记32的位置，求出基板10在θ方向上的偏差量(将第一标记31与第二标记32连接的直线的方向与GanY方向的θ偏差量)。
使基板10旋转由控制装置求出的上述θ方向上的偏差量，如图6所示，使得将第一标记31与第二标记32连接的直线与GanY方向一致。根据第一标记31和第二标记32的位置来估计(根据第一标记31、第二标记32、第三标记33的设计上的位置关系来估计)第三标记33的位置，适当移动台架2和移动照相机8，使移动照相机8移动到上述估计得到的位置。然后，用移动照相机8对第三标记33观察，进行观察拍摄，并将拍摄得到的图像发送给控制装置，记住第三标记33的位置。
接着，一边使移动照相机8朝GanX方向移动一边用移动照相机8对基板10进行观察，用移动照相机8来寻找第四标记34。然后，在图7中虚线所示的移动照相机8的位置上，用移动照相机8找到第四标记34并进行观察，将观察得到的图像发送给控制装置，记住第四标记34的位置。
根据第三标记33的位置和第四标记34的位置，求出将第三标记33与第四标记43连接的直线的方向(基板图案的X方向)相对于GanX方向的倾斜度，进行台架2倾斜度的修正。例如，若第三标记33与第四标记34之间的距离在GanX方向上为+1000mm、在GanY方向上为+1mm，则进行GanX方向+1000、GanY方向+1的修正。另外，为了进行以下说明的基板的膨胀的修正，求出第三标记33与第四标记34的中点的位置以及第三标记33与第四标记34之间的距离(该距离设为L0)，将其存储在上述存储部内。
像第一实施方式那样使用移动照相机8来拍摄第三标记33和第四标记34时，与用两个不同的固定照相机来拍摄第三标记和第四标记时相比，能高精度地测定第三标记33与第四标记34间的距离。
使台架2移动，用第二照相机7来观察第三标记33，并利用第一照相机来观察第四标记34，将第三标记33和第四标记34的位置存储在微机4的存储部内。将该存储的位置作为之后的对准的基准位置。
另外，第一实施方式中使用了移动照相机8，但既可省略移动照相机而用两个固定照相机来观察第三和第四标记，也可根据第一照相机和第二照相机的坐标来求出第三标记和第四标记4的位置关系。这种情况下不需要移动照相机，因此能削减基板处理装置的制造成本。
也可用三个不同的固定照相机来观察第一标记和第二标记、第三标记、第四标记。这种情况下，用第一照相机来拍摄第一标记和第二标记，用第二照相机来拍摄第三标记，并用第三照相机来观察第四标记。这种情况下，与用两个固定照相机来拍摄四个的第一至第四标记时相比，当然能提高第一至第四标记的配置位置的自由度。
接着，对基板的对准动作进行说明。
首先，利用上述搬运机器人，将与校准中使用的基板相同批的其它基板10载放在基板载放台1的载放面上。此时，如上所述，基板10的位置相对于正确的位置在XY方向和θ方向上存在偏差。
接着，使用第一照相机6和第二照相机7，对第三标记33和第四标记34进行观察。如果需要，可使台架2移动，以成为如图9所示的状态，能同时观察第三标记33和第四标记34。由于仅是移动成能同时观察的状态，因此台架的移动距离较短。
将上述校准动作中记住的第三标记33至第四标记34的距离与此次得到的距离的差异视为基板膨胀。另外，如图10所示，使基板载放台1在θ方向上移动并使台架2沿XY方向移动，以使第三标记33和第四标记34与通过校准而记住的位置关系对应。
例如，在使基板载放台1在θ方向上旋转，以使将第三标记33与第四标记34连接的直线所成的角度成为图8中记住的角度、即通过上述校准动作而记住的角度后，使台架2沿XY方向移动，以使第三标记33与第四标记34的中点的位置成为图8中记住的第三标记33与第四标记34的中点的位置。由此，即使存在基板膨胀时，也能使标记1和标记2与台架移动方向一致。
在上述校准动作中使用的基板10、在基板的对准动作中使用的基板10是用同一掩膜(同一批次)生成的，因此，此时对于基板10而言，GanY方向与基板图案的Y方向成为同一个方向。
另外，像下面那样对基板10的膨胀进行修正。在对准动作中，求出第三标记33与第四标记34之间的距离(该距离设为L1)。将距离L1与校准动作中求出的第三标记33与第四标记34之间的距离L0之比、即L1/L0(＝α)作为对基板膨胀的修正值。例如，若目标排出位置离开基准的设计距离为(XA，YA)，则将相对于基准(α·XA，α·YA)的位置作为基板膨胀修正后的目标排出位置。
根据第一实施方式，在基板10的对准动作中，能在几乎不驱动台架且不使用移动照相机8的情况下使GanY方向与基板图案的Y方向对齐成同一个方向，与每次观测四个标记的位置的情况相比，能特别迅速且容易地进行基板的对准。另外，能容易地对基板的膨胀进行修正，能精密地进行基板的对准。
第一实施方式的发明是在进行上述基板的对准后对基板10上的期望位置准确地排出墨水。接着对该动作进行说明。
图13A～图13D是表示液滴排出部的墨水排出动作过程中的、基板上的图案81、82、83与喷墨头的喷嘴84、85、86的关系的示意图。
在图13A～图13D中，为了简略，以图案81、82、83、喷嘴84、85、86均为三个的结构进行说明，当然，也可用四个以上的喷嘴对许多图案排出墨水。当然也可使一个或两个喷嘴朝GanX方向适当移动来对许多图案排出墨水。虽然未图示，但喷嘴84、85、86的排出面与基板载放台的基板的载放面平行。与台架的位置无关，基板载放台的上述载放面与上述排出面的间隔始终一定。在本例中，台架的移动方向即GanY方向与图案81、82、83的Y方向一致，相对于台架的延伸方向即GanX方向，图案81、82、83的X方向倾斜。另外，喷嘴84、85、86位于沿GanX方向延伸的同一直线上。
通过上述基板对准动作，台架的移动方向即GanY方向与基板的图案的Y方向处于一致的状态。
使台架2朝图13A中箭头a所示的GanY方向移动，喷嘴84、85、86也朝GanY方向移动。
当第一个喷嘴84到达第一个图案81上方时，控制装置将信号发送给喷墨头，以从第一个喷嘴84排出墨水。由此，如图13B所示，第一个喷嘴84将墨水朝第一个图案81排出。
接着，台架继续朝GanY方向移动，当第二个喷嘴85到达第二个图案82的上方时，控制装置将信号发送给喷墨头，以从第二个喷嘴85排出墨水。由此，如图13C所示，第二个喷嘴85将墨水朝第二个图案82排出。
接着，台架继续朝GanY方向移动，当第三个喷嘴86到达第三个图案83的上方时，控制装置将信号发送给喷墨头，以从第三个喷嘴86排出墨水。由此，如图13D所示，第三个喷嘴86将墨水朝第三个图案83排出。
这样，只要图案的Y轴方向与台架的移动方向(GanY方向)一致，并知道图案的X轴方向与台架的延伸方向(GanX方向)的偏差角度，则只需修正排出时刻就能对准确的位置排出液滴。
根据上述第一实施方式的基板处理装置，在基板对准动作中，只需使第四标记34相对于第三标记33的的方向与基板校准动作时存储在控制装置内的第四标记34相对于第三标记33的的方向一致，并使第三标记33与第四标记34的中点与基板校准动作时存储在控制装置内的第三标记33和第四标记34的位置的中点一致，就能精密地确定基板10相对于基板载放台的位置，针对同一批中第二块以后的基板10，不用查看确定Y方向的第一和第二标记31、32就能准确地进行基板的对准。因此，与以往的对所有基板都要进行X方向和Y方向的观察的装置相比，能特别快速地进行基板的对准。
另外，根据上述第一实施方式的基板处理装置，在基板对准动作中，只需计算出第三标记33与第四标记34的距离就能准确地计算出基板10的膨胀或收缩的程度，因此能精密地进行基板的对准。
另外，上述第一实施方式的基板处理装置在基板对准动作中，通过使第三标记33和第四标记34的方向及中间点与在基板校准动作中存储的第三标记33和第四标记34的方向及中间点一致来进行基板的对准。不过，在本发明中，在基板对准动作中也可通过使第一标记31和第二标记32的方向及中间点与在基板校准动作中存储的第一标记31和第二标记32的方向及中间点一致来进行基板的对准。
另外，上述第一实施方式的基板处理装置是在进行基板的对准后根据基板的对准对基板排出墨水。不过，本发明的基板处理装置也可以是在进行基板的对准后，根据该基板的对准对基板使用激光或等离子来刮削基板上的期望部位或者除去基板上的异物的装置。
(第二实施方式)
图14是进行基板41的校准动作过程中的第二实施方式的基板处理装置的示意图。图15是表示进行基板41的对准动作过程中的第二实施方式的基板处理装置的示意图。在图14中省略了第一照相机76和第二照相机77的图示。
第二实施方式的基板处理装置与第一实施方式的基板处理装置的不同之处在于：不是使用四个标记，而是使用基板41的三个标记、即第一标记51、第二标记52和第三标记53来进行基板41的对准，以及在基板41的校准中使用的照相机仅是移动照相机78等。
对第二实施方式的基板处理装置中与第一实施方式的基板处理装置的构成部相同的构成部标注相同的符号标记并省略说明。另外，省略第二实施方式的基板处理装置的与第一实施方式的基板处理装置共有的作用效果和变形例的说明，仅对与第一实施方式的基板处理装置不同的结构进行说明。
以下，依次说明第二实施方式的基板处理装置的基板校准动作、基板对准动作。
首先，像下面那样进行基板校准动作。首先，用移动照相机78来观察第一标记51，并将观察得到的图像输出给控制装置(未图示)，在控制装置中存储第一标记51的位置。接着，使台架42朝GanY方向移动，用移动照相机78来观察第二标记52，并将观察得到的图像输出给控制装置，在控制装置中存储第二标记52的位置。
之后，使基板载放台旋转，以使将第一标记51与第二标记52连接的直线的方向与台架42的移动方向即GanY方向一致。
接着，用移动照相机78来观察第三标记53，并将观察得到的图像输出给作为控制装置的微机，在控制装置的存储部内存储第三标记53的位置。之后，根据第一标记51的位置与第三标记53的位置的相对距离的差值，计算出包含基板41的正交度偏差和基板载放台的正交度偏差两者的偏差量。另外，还测定第一标记51的位置与第三标记53的中点的位置、第一标记51的位置与第三标记53间的距离，将其存储在上述存储部内。
此处，所谓基板41的正交度偏差，是指基板图案的X方向与Y方向偏离正交的偏差量，即是指在基板41的2维平面内多个墨水排出区域的排列的一个方向与多个墨水排出区域的排列的另一个方向偏离正交的偏差量。
另外，台架42相对于基板载放台以横跨基板载放台的一个方向的形态配置，但台架42的延伸方向不一定与该基板载放台的一个方向一致。所谓基板载放台的正交度偏差，是指基板载放台的另一个方向与台架42的延伸方向偏离正交的偏差量。
当然，基板41的正交度偏差对于用同一掩膜生成的基板、即同一批生成的基板而言不变化。当然，基板载放台的正交度偏差也不变化。
接着，像下面那样进行基板对准动作。
通过移动台架42，用固定在台架42的规定位置上的第一照相机76对第三标记53进行观察，将观察得到的图像输出给控制装置，在控制装置中存储第三标记53的位置。与此同时，用固定在台架42的规定位置上的第二照相机77对第一标记51进行观察，将观察得到的图像输出给控制装置，在控制装置中存储第一标记51的位置。
之后，旋转和平行移动基板载放台，以使第一标记51和第三标记53的方向及中间点与在基板校准动作中存储的第一标记51和第三标记53的方向及中间点一致。这样进行基板对准动作。另外，通过测定第一标记51与第三标记53间的距离，与第一实施方式同样地进行基板41的膨胀的修正。第二实施方式也与第一实施方式一样，与以往相比，能大幅度减少基板对准动作中基板载放台的移动量，高速地进行基板对准动作。另外，能准确地检测基板41的膨胀，能准确地进行每块基板41的基板对准动作。

Claims (18)

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：
基板载放台，该基板载放台具有载放基板的载放面；
处理部，该处理部对所述载放面上的所述基板进行处理；
相对位置变动装置，该相对位置变动装置使所述载放面上的所述基板相对于所述处理部的相对位置变动；
摄像部保持部件，该摄像部保持部件以能相对于所述载放面沿第一方向移动的形态安装在所述基板载放台上，且具有相对于所述载放面在所述载放面的法线方向上相对并沿第二方向延伸的相对部；
摄像部，该摄像部安装在所述相对部上，并能对在载放于所述载放面的所述基板上形成的第一标记、第二标记和第三标记进行摄像；
存储部，该存储部能存储所述基板上的所述第一标记的位置、所述基板上的所述第三标记的位置；
控制装置，该控制装置进行第一控制、第二控制和第三控制，在所述第一控制中，所述控制装置根据来自所述摄像部的信号，使所述相对位置变动装置变动所述相对位置，以使将所述第一标记与所述第二标记连接的线的方向与所述第一方向一致，在所述第二控制中，所述控制装置根据来自所述摄像部的信号，使在将所述第一标记与所述第二标记连接的线的方向与所述第一方向一致后的状态下的所述第一标记与所述第三标记的位置存储在所述存储部中，在所述第三控制中，所述控制装置根据来自对所述第一标记和所述第三标记的位置被所述存储部存储的所述基板以外的其它所述基板进行摄像的所述摄像部的信号，使所述相对位置变动装置变动所述其它基板相对于所述处理部的相对位置，以使所述其它基板上将所述第一标记与所述第三标记连接的线的方向与根据所述存储部中存储的所述第一标记与所述第三标记的位置计算得到的将所述第一标记与所述第三标记连接的线的方向一致。
2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，在所述第三控制中，所述控制装置使所述相对位置变动装置变动所述其它基板相对于所述处理部的相对位置，以使所述其它基板上将所述第一标记与所述第三标记连接的线的中点与根据所述存储部中存储的所述第一标记和所述第三标记的位置计算得到的将所述第一标记与所述第三标记连接的线的中点一致。
3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述控制装置计算所述其它基板上的所述第一标记与所述第三标记间的距离和根据所述存储部中存储的所述第一标记和所述第三标记的位置计算得到的所述第一标记与所述第三标记间的距离的比值。
4.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述摄像部具有：以不能移动的形态固定在所述摄像部保持部件上的第一照相机和第二照相机、以能相对于所述摄像部保持部件沿所述第二方向移动的形态安装在所述摄像部保持部件上的移动照相机，
在所述第三控制中，所述控制装置根据来自对所述其它基板的所述第三标记进行摄像的所述第一照相机的信号、来自对所述其它基板的所述第一标记进行摄像的所述第二照相机的信号，来确定将所述其它基板上的所述第一标记与所述第三标记连接的线的方向。
5.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，
所述摄像部具有：以不能移动的形态固定在所述摄像部保持部件上的第一照相机和第二照相机、以能相对于所述摄像部保持部件沿所述第二方向移动的形态安装在所述摄像部保持部件上的移动照相机，
在所述第一控制中，所述控制装置根据所述移动照相机摄像得到的所述第一标记和所述第二标记的位置来确定将所述第一标记与所述第二标记连接的线的方向，在所述第二控制中，所述控制装置使所述移动照相机摄像得到的所述第一标记和所述第二标记的位置存储在所述存储部中。
6.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，在所述摄像部保持部件上，将液滴朝基板排出的液滴排出部以相对于所述摄像部保持部件能沿所述第二方向移动或不能沿所述第二方向移动的形态安装。
7.一种基板处理装置，其特征在于，包括：
基板载放台，该基板载放台具有载放基板的载放面；
处理部，该处理部对所述载放面上的所述基板进行处理；
相对位置变动装置，该相对位置变动装置使所述载放面上的所述基板相对于所述处理部的相对位置变动；
摄像部保持部件，该摄像部保持部件以能相对于所述载放面沿第一方向移动的形态安装在所述基板载放台上，且具有相对于所述载放面在所述载放面的法线方向上相对并沿第二方向延伸的相对部；
摄像部，该摄像部安装在所述相对部上，并能对在载放于所述载放面的所述基板上形成的第一标记、第二标记、第三标记和第四标记进行摄像；
存储部，该存储部能存储所述基板上的所述第三标记的位置、所述基板上的所述第四标记的位置；
控制装置，该控制装置进行第一控制、第二控制和第三控制，在所述第一控制中，所述控制装置根据来自所述摄像部的信号，使所述相对位置变动装置变动所述相对位置，以使将所述第一标记与所述第二标记连接的线的方向与所述第一方向一致，在所述第二控制中，所述控制装置根据来自所述摄像部的信号，使在将所述第一标记与所述第二标记连接的线的方向与所述第一方向一致后的状态下的所述第三标记与所述第四标记的位置存储在所述存储部中，在所述第三控制中，所述控制装置根据来自对所述第三标记和所述第四标记的位置被所述存储部存储的所述基板以外的其它所述基板进行摄像的所述摄像部的信号，使所述相对位置变动装置变动所述其它基板相对于所述处理部的相对位置，以使所述其它基板上将所述第三标记与所述第四标记连接的线的方向与根据所述存储部中存储的所述第三标记和所述第四标记的位置计算得到的将所述第三标记与所述第四标记连接的线的方向一致。
8.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，在所述第三控制中，所述控制装置使所述相对位置变动装置变动所述其它基板相对于所述处理部的相对位置，以使所述其它基板上将所述第三标记与所述第四标记连接的线的中点与根据所述存储部中存储的所述第三标记和所述第四标记的位置计算得到的将所述第三标记与所述第四标记连接的线的中点一致。
9.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述控制装置计算所述其它基板上的所述第三标记与所述第四标记间的距离和根据所述存储部中存储的所述第三标记和所述第四标记的位置计算得到的所述第三标记与所述第四标记间的距离的比值。
10.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，
所述摄像部具有：以不能移动的形态固定在所述摄像部保持部件上的第一照相机和第二照相机、以能相对于所述摄像部保持部件沿所述第二方向移动的形态安装在所述摄像部保持部件上的移动照相机，
在所述第三控制中，所述控制装置根据来自对所述其它基板的所述第四标记进行摄像的所述第一照相机的信号、来自对所述其它基板的所述第三标记进行摄像的所述第二照相机的信号，来确定将所述其它基板上的所述第三标记与所述第四标记连接的线的方向。
11.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，
所述摄像部具有：以不能移动的形态固定在所述摄像部保持部件上的第一照相机和第二照相机、以能相对于所述摄像部保持部件沿所述第二方向移动的形态安装在所述摄像部保持部件上的移动照相机，
在所述第一控制中，所述控制装置根据所述移动照相机摄像得到的所述第一标记和所述第二标记的位置来确定将所述第一标记与所述第二标记连接的线的方向，在所述第二控制中，所述控制装置使所述移动照相机摄像得到的所述第三标记和所述第四标记的位置存储在所述存储部中。
12.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，在所述摄像部保持部件上，将液滴朝基板排出的液滴排出部以相对于所述摄像部保持部件能沿所述第二方向移动或不能沿所述第二方向移动的形态安装。
13.一种基板处理方法，其特征在于，
在基板载放台的载放面上载放第一基板后，根据所述第一基板上的第一标记和第二标记的位置，使将所述第一标记与所述第二标记连接的线的方向与以能相对于所述载放面沿第一方向移动的形态安装在所述基板载放台上并沿第二方向延伸的摄像部保持部件的所述第一方向一致，
使在将所述第一标记与所述第二标记连接的线的方向与所述第一方向一致的状态下的所述第一基板上的所述第一标记的位置和所述第三标记的位置存储在存储部中，
在所述基板载放台的载放面上载放第二基板后，使将所述第二基板上的第一标记与所述第三标记连接的线的方向与根据所述存储部中存储的所述第一基板上的所述第一标记的位置和所述第三标记的位置计算得到的将所述第一基板上的所述第一标记与所述第三标记连接的线的方向一致。
14.如权利要求13所述的基板处理方法，其特征在于，在所述基板载放台的载放面上载放所述第二基板后，使将所述第二基板上的第一标记与所述第三标记连接的线的中点与根据所述存储部中存储的所述第一基板上的所述第一标记的位置和所述第三标记的位置计算得到的将所述第一基板上的所述第一标记与所述第三标记连接的线的中点一致。
15.如权利要求13所述的基板处理方法，其特征在于，计算所述第二基板上的所述第一标记与所述第三标记间的距离和根据所述存储部中存储的所述第一基板上的所述第一标记的位置和所述第三标记的位置计算得到的所述第一基板上的所述第一标记与所述第三标记间的距离的比值。
16.一种基板处理方法，其特征在于，
在基板载放台的载放面上载放第一基板后，根据所述第一基板上的第一标记和第二标记的位置，使将所述第一标记与所述第二标记连接的线的方向与以能相对于所述载放面沿第一方向移动的形态安装在所述基板载放台上并沿第二方向延伸的摄像部保持部件的所述第一方向一致，
使在将所述第一标记与所述第二标记连接的线的方向与所述第一方向一致的状态下的所述第一基板上的第三标记的位置和所述第四标记的位置存储在存储部中，
在所述基板载放台的载放面上载放第二基板后，使将所述第二基板上的第三标记与所述第四标记连接的线的方向与根据所述存储部中存储的所述第一基板上的所述第三标记的位置和所述第四标记的位置计算得到的将所述第一基板上的所述第三标记与所述第四标记连接的线的方向一致。
17.如权利要求16所述的基板处理方法，其特征在于，在所述基板载放台的载放面上载放所述第二基板后，使将所述第二基板上的第三标记与所述第四标记连接的线的中点与根据所述存储部中存储的所述第一基板上的所述第三标记的位置和所述第四标记的位置计算得到的将所述第一基板上的所述第三标记与所述第四标记连接的线的中点一致。
18.如权利要求16所述的基板处理方法，其特征在于，计算所述第二基板上的所述第三标记与所述第四标记间的距离和根据所述存储部中存储的所述第一基板上的所述第三标记的位置和所述第四标记的位置计算得到的所述第一基板上的所述第三标记与所述第四标记间的距离的比值。
CN2007800496039A 2006-12-05 2007-12-04 基板处理装置和基板处理方法 Expired - Fee Related CN101584035B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP327976/2006 2006-12-05
JP2006327976A JP4250184B2 (ja) 2006-12-05 2006-12-05 基板処理装置
PCT/JP2007/073399 WO2008069203A1 (ja) 2006-12-05 2007-12-04 基板処理装置および基板処理方法

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101584035A true CN101584035A (zh) 2009-11-18
CN101584035B CN101584035B (zh) 2011-06-15

Family

ID=39492089

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007800496039A Expired - Fee Related CN101584035B (zh) 2006-12-05 2007-12-04 基板处理装置和基板处理方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US8265787B2 (zh)
JP (1) JP4250184B2 (zh)
CN (1) CN101584035B (zh)
WO (1) WO2008069203A1 (zh)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106207005A (zh) * 2014-10-28 2016-12-07 三星显示有限公司 用于制造显示装置的装置和制造显示装置的方法
CN112964639A (zh) * 2021-02-24 2021-06-15 福莱盈电子股份有限公司 Lcm检测方法和设备

Families Citing this family (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5556661B2 (ja) * 2008-09-18 2014-07-23 コニカミノルタ株式会社 インクジェット描画装置
US9151698B2 (en) * 2010-04-23 2015-10-06 Siemens Aktiengesellschaft Testing system for examining turbine blades
KR20140101612A (ko) * 2013-02-12 2014-08-20 삼성디스플레이 주식회사 결정화 검사장치 및 결정화 검사방법
CN103935138B (zh) * 2014-04-11 2016-01-27 京东方科技集团股份有限公司 一种打码系统、方法及装置
JP6710603B2 (ja) * 2016-08-05 2020-06-17 東京エレクトロン株式会社 基板載置方法及び基板載置装置
KR102510910B1 (ko) * 2020-12-21 2023-03-15 세메스 주식회사 메인터넌스 유닛 및 이를 구비하는 기판 처리 장치

Family Cites Families (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0834346B2 (ja) 1989-01-17 1996-03-29 三洋電機株式会社 スクリーン印刷機
JP3113212B2 (ja) * 1996-05-09 2000-11-27 富士通株式会社 プラズマディスプレイパネルの蛍光体層形成装置および蛍光体塗布方法
JP2000267253A (ja) * 1999-03-12 2000-09-29 Seiko Epson Corp 露光マスクの形成方法および液晶装置の製造方法
JP2002200543A (ja) * 2000-12-27 2002-07-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd シート状薄板部材のアライメント方法およびその装置
JP2003059808A (ja) * 2001-08-20 2003-02-28 Nikon Corp 露光方法及びデバイス製造方法
JP4333074B2 (ja) * 2002-03-07 2009-09-16 東レ株式会社 塗布装置および塗布方法ならびにプラズマディスプレイ部材の製造装置および製造方法
JP4322092B2 (ja) * 2002-11-13 2009-08-26 富士機械製造株式会社 電子部品実装装置における校正方法および装置
JP4111160B2 (ja) * 2004-03-26 2008-07-02 松下電器産業株式会社 電子部品搭載装置および電子部品搭載方法
JP2005288412A (ja) * 2004-04-05 2005-10-20 Seiko Epson Corp 液滴吐出装置、及び液滴吐出方法

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106207005A (zh) * 2014-10-28 2016-12-07 三星显示有限公司 用于制造显示装置的装置和制造显示装置的方法
CN106207005B (zh) * 2014-10-28 2019-12-13 三星显示有限公司 用于制造显示装置的装置和制造显示装置的方法
CN112964639A (zh) * 2021-02-24 2021-06-15 福莱盈电子股份有限公司 Lcm检测方法和设备
CN112964639B (zh) * 2021-02-24 2021-12-28 福莱盈电子股份有限公司 Lcm检测方法和设备

Also Published As

Publication number Publication date
US20100017015A1 (en) 2010-01-21
CN101584035B (zh) 2011-06-15
JP2008139741A (ja) 2008-06-19
US8265787B2 (en) 2012-09-11
WO2008069203A1 (ja) 2008-06-12
JP4250184B2 (ja) 2009-04-08

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101584035B (zh) 基板处理装置和基板处理方法
TWI627887B (zh) 用於自動調整點膠機之點膠單元的方法與裝置
CN108136764B (zh) 电子设备用的转印装置以及电子设备用的转印方法
JP4652351B2 (ja) 基板支持装置、基板支持方法
JP2008147293A (ja) 基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法
CN108807224A (zh) 用于将部件安装在基板上的设备和方法
JP2008539437A (ja) 透明基板の寸法変化を測定するための方法及び装置
TW200845282A (en) Method of calibrating x-y positioning of positioning tool and device with such positioning tool
WO2016080235A1 (ja) 蒸着装置、蒸着方法、及び、有機エレクトロルミネッセンス素子の製造方法
JP2016205957A (ja) Ｘ−ｙ基板検査装置の可動ヘッド位置補正方法およびｘ−ｙ基板検査装置
KR20200125397A (ko) 얼라인먼트 장치, 성막 장치, 얼라인먼트 방법, 성막 방법 및 전자 디바이스의 제조 방법
TWI639366B (zh) 電子零件之安裝方法
JP2020010017A (ja) 素子取付装置のこう正方法
KR100722452B1 (ko) 구동용 회로기판 본딩장치 및 그 방법
CN102914951A (zh) 用于光刻设备的预对准装置
JP4530224B2 (ja) 塗布装置および塗布方法
JP5268576B2 (ja) ペースト塗布方法及び装置
CN110494587B (zh) 用于处理基板的方法、用于真空处理的设备和真空处理系统
JP2009229258A (ja) 基板搬送装置及び基板検査装置
US20220223451A1 (en) Systems and methods for transferring devices or patterns to a substrate
JP2008147292A (ja) 基板支持装置、基板支持方法、基板加工装置、基板加工方法、表示装置構成部材の製造方法
JP6985901B2 (ja) 部品実装機および実装ライン
JP2009082838A (ja) ヘッド取付装置、ヘッド取付方法、基板加工装置、ヘッド位置決め方法
CN111543125B (zh) 安装精度测定用芯片及安装精度测定用套件
JP2007144375A (ja) 塗布装置および塗布方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20110615

Termination date: 20151204

EXPY Termination of patent right or utility model