JP2003170421A - 密閉式ゴム混練機及びゴム混練方法 - Google Patents
密閉式ゴム混練機及びゴム混練方法Info
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Abstract
で発生する配合粉末の飛散を防止し、作業環境の向上、
混練作業の効率化を実現する。 【解決手段】 ケーシング11とエンドフレーム12に
より形成された混練室13と、混練室13内に配置さ
れ、逆回転されて、ゴム及び配合粉末を混練する一対の
ロータ14と、混練室13の上面開口13aに連通する
シリンダ15と、シリンダ15内を昇降するロッド16
の下端に取り付けられ、混練室13を加圧するフローテ
ィングウエイト17と、シリンダ15の一面15a側に
開口する原料投入口18と、原料投入口18の下縁18
aより突設した原料投入ホッパー19とを備えた密閉式
ゴム混練機10において、原料投入ホッパー19と対向
する原料投入口18の上縁18bに、粉末飛散防止用ミ
ストMを噴霧するノズル20を付設する。
Description
及びゴム混練方法に関し、詳しくは、原料投入からゴム
練りまでのゴム混練作業の効率化を図るものである。
等の混練には、従来、密閉式ゴム混練機が多用されてい
る。このような密閉式ゴム混練機において、原料である
ゴム材料やその他の配合粉末は、原料投入部を通じて混
練室内に投入された後、フローティングウエイトにより
混練室が加圧され、混練室内を回転するロータにより混
練されている。
効率の向上を図るために、種々の提案がなされており、
例えば、実開平5−93810号では、ゴム混練室の上
部にノズルにより水を散布する散水装置が設けられ、水
の散布によりゴム混練時のゴムの温度を低下させ、混練
中のゴムの加硫を防ぎ、ゴム混練作業の効率化を図って
いる密閉式ゴム混練機が提案されている。
5−93810号の密閉式ゴム混練機では、混練室内の
ゴムの温度を低下させるために、ゴム混練室の上部にノ
ズルが設けられており、混練室内の冷却には適している
ものの、このノズルでは、原料投入時の原料投入口付近
での配合粉末の飛散を防止することはできない。即ち、
配合粉末は、原料投入口から投入される際に飛散しやす
いため、原料投入口付近での飛散の抑制が重要であり、
上記ノズルでは、この飛散の抑制が不十分である。
原料を投入する際、原料中の配合粉末(カーボン、硫
黄、シリカ等)が、原料投入口付近において空気中に飛
散するため、作業環境が悪化し、ゴム混練作業の効率が
悪くなるという問題がある。さらには、配合粉末の飛散
により、原料の投入量にばらつきが生じ、練りゴムの物
性にばらつきが発生したり、配合粉末が硫黄等の場合に
は、粉塵爆発を起こす恐れもある。
置や、配合粉末の投入量の調整等が行われているが、集
塵ダクト等を補強しても投入材料が微粒子ゆえ飛散・拡
散を抑えることができなかったり、少量投入では原料投
入に時間がかかり、混練作業の効率が悪くなるという問
題がある。
のであり、原料投入時に原料投入ホッパーや原料供給部
で発生する配合粉末の飛散を防止し、作業環境の向上、
混練作業の効率化を実現する密閉式ゴム混練機及びゴム
混練方法を提供することを課題としている。
め、本発明は、ケーシングとエンドフレームにより形成
された混練室と、上記混練室内に配置され、逆回転され
て、ゴム及び配合粉末を混練する一対のロータと、上記
混練室の上面開口に連通するシリンダと、上記シリンダ
内を昇降するロッドの下端に取り付けられ、上記混練室
を加圧するフローティングウエイトと、上記シリンダの
一面側に開口する原料投入口と、上記原料投入口の下縁
より突設した原料投入ホッパーとを備え、上記原料投入
ホッパーと対向する原料投入口の上縁に、粉末飛散防止
用ミストを噴霧するノズルを付設していることを特徴と
する密閉式ゴム混練機を提供している。
は、原料投入ホッパーと対向する原料投入口の上縁に、
粉末飛散防止用ミストを噴霧するノズルを付設している
ため、原料投入により原料投入口付近で飛散している配
合粉末(カーボン、硫黄、シリカ等)に、ミストを噴霧
することができる。よって、配合粉末をミストにより混
練機内等に落とすことができ、原料中に含まれる配合粉
末の飛散を防止することができる。従って、配合粉末の
飛散・拡散、特に微粒子の飛散・拡散を抑えることがで
き、原料投入ホッパーから混練機外への配合粉末の噴出
を防止できるため、混練機の作業環境を改善できると共
に、混練作業の効率化を図ることができる。
ンダ内壁に間隔をあけて他の粉末飛散防止用ミストを噴
霧するノズルを付設していることが好ましい。これによ
り、原料投入口付近の配合粉末の飛散をより効果的に防
止することができる。
投入口より上部のシリンダ外面に隣接させて集塵ダクト
を設置していることが好ましい。このように、ミストに
より配合粉末の飛散を防止すると共に、集塵ダクトを設
けることで、配合粉末を吸引することができ、さらに効
果的に配合粉末の拡散を防止することができる。
水等の液体噴霧ノズルからなり、ミストは最大粒子径が
100μm以下、平均粒子径が15μm以下であること
が好ましい。これにより、ミストが原料に及ぼす影響を
少なくできると共に、より効果的に微粒子の飛散を抑制
することができる。なお、上記ノズルは水平面あるいは
水平面より下方側に向けてミストを噴霧するように付設
しているのが好ましい。その他、密閉式混練機の構成に
応じて、配合粉末の飛散を効果的に防止できるように種
々の方向に上記ノズルを付設することができ、ミストの
噴霧も配合粉末の飛散状況に応じて集中的あるいは均一
になるように調整することができる。
が、その他、砂糖水、石鹸水(界面活性剤水溶液)、ア
ルコール等が挙げられる。なお、ミストと共に気体成分
を噴霧することもできる。
囲内で、水分等の噴霧量を適宜調整することができ、シ
リンダの断面積等に応じて噴霧状況も適宜調整すること
ができる。上記ミストの噴霧量は20cm3/min〜
100cm3/minが好ましく、ミストの噴霧圧は
0.2MPa〜0.8MPaが好ましい。
ことができ、上記原料投入ホッパーには、原料を供給す
る原料搬送コンベアを備えていることが好ましい。これ
により、飛散が起こりにくいゴム等の材料と、飛散が起
こりやすい硫黄等の配合粉末とで原料投入口を異ならせ
たり、材料投入を分割して行うことができるため、原料
投入の効率化を図ることができる。さらに、原料投入ホ
ッパーと対向するシリンダの他面側には、もうひとつの
原料投入口が開口され、原料投入口の下縁よりカーボ
ン、フィラー投入用のスライダーを設けることもでき、
スライダーの上縁に、粉末飛散防止用ミストを噴霧する
ノズルを付設することが好ましい。
る原料を原料投入ホッパーよりフローティングウエイト
のシリンダ内に投入時及び投入後にフローティングウエ
イトを昇降作動させている工程中に、上記配合粉末にノ
ズルによりミストを噴霧して粉末飛散を防止する一方、
上記フローティングウエイトにより混練室内を圧入して
原料を混練している時にはミストの噴霧を停止している
ゴム混練方法を提供している。
やフローティングウエイトの昇降作動に伴う配合粉末の
飛散をミストにより効率良く抑えることができ、原料投
入から混練までの工程をスムーズに行うことができる。
また、フローティングウエイトが完全に下降した後も混
練り前であれば、ミストの噴霧をある程度継続すること
もできる。
参照して説明する。図1乃至図3は本発明の第1実施形
態の密閉式ゴム混練機10を示す。密閉式ゴム混練機1
0は、ケーシング11と混練ゴムを排出するエンドフレ
ーム12により形成された混練室13と、混練室13内
に配置され互いに逆回転されてゴム及び配合粉末からな
る原料Gを混練する一対のロータ14(14A、14
B)と、混練室13の上面開口13aに連通する略円筒
状のシリンダ15と、シリンダ15内を昇降するロッド
16の下端に取り付けられ混練室13を加圧するフロー
ティングウエイト(ラムウエイト)17と、シリンダ1
5の一面15a側に開口する原料投入口18と、原料投
入口18の下縁18aより突設した原料投入ホッパー1
9とを備えている。
口18の上縁18bと、上縁18bと略同一高さ位置で
互いに対向するシリンダ内壁15bとに、間隔をあけて
粉末飛散防止用ミストMを噴霧するノズル20を付設し
ている。ノズル20は、液体噴霧ノズルとし、主に水平
面及び水平面より下方側に向けて集中的にミストを噴霧
する構成としている。
料投入口18より上部のシリンダ15外面に隣接させて
配合粉末Fを吸引する集塵ダクト21を設置していると
共に、原料投入ホッパー19には、原料Gを供給する原
料搬送コンベア22を備えている。
ータ14間に原料Gを挟み込む方向(ロータ14Aが矢
印a方向、ロータ14Bが矢印b方向)へ回転可能とさ
れており、ロータ14の回転によって原料がロータ14
の外周部を回転しながら混練される構成としている。な
お、混練時において、シリンダ15内を上限位置から下
限位置まで昇降自在であるフローティングウエイト17
が下降した位置で、原料Gの浮き上がりを防止するため
に混練室13内が加圧される構成としている。
いた、ゴム混練方法を示す。まず、ゴム及び硫黄、カー
ボン等の配合粉末Fからなる原料Gを原料投入ホッパー
19よりフローティングウエイト17が昇降するシリン
ダ15内に投入する。原料投入時に、配合粉末Fにノズ
ル20によりミストMを噴霧して粉末の飛散を防止して
いる。
ト17をシリンダ15内で下限位置まで下降させる。フ
ローティングウエイト17下降時及び、下降後10秒
間、ノズル20よりミストMを噴霧している。そして、
フローティングウエイト17をシリンダ15内で上限位
置まで上昇させる。フローティングウエイト17上昇時
には、ノズル20よりミストMを噴霧しており、上限位
置まで作動させた後にミストMの噴霧を停止している。
噴霧しながら、シリンダ15内を圧入してフローティン
グウエイト17をシリンダ15内で下限位置まで下降さ
せ、混練室13内を加圧する。下限位置まで下降後、ミ
ストMの噴霧は停止している。混練室13内が加圧され
た状態で、混練室13内の一対のロータ14が互いに逆
回転されてゴム及び配合粉末Fを混練する。なお、本実
施形態では、ミストMは常温の水とし、最大粒子径は8
0μm、平均粒子径が12μmとしている。
0は、原料投入ホッパー19と対向する原料投入口18
の上縁18bと、上縁18bと略同一高さ位置で互いに
対向するシリンダ内壁15bとに、間隔をあけて粉末飛
散防止用ミストMを噴霧するノズル20を付設してい
る。このため、原料投入により原料投入口18付近で飛
散している配合粉末F(カーボン、硫黄、シリカ等)
に、ミストMを噴霧することができる。よって、配合粉
末FをミストMにより混練機13内等に落とすことがで
き、原料中に含まれる配合粉末Fの飛散を防止すること
ができる。従って、配合粉末Fの飛散・拡散、特に微粒
子の飛散・拡散を抑えることができ、原料投入ホッパー
19から混練機外への配合粉末Fの噴出を防止できるた
め、混練機の作業環境を改善できると共に、混練作業の
効率化を図ることができる。
パー19と対向するシリンダ15の他面15c側には、
もうひとつの原料投入口18’が開口され、原料投入口
18’の下縁よりカーボン、フィラー投入用のスライダ
ー19’を設けることもできる。
ゴム混練方法の実施例、比較例について詳述する。下記
の表1に示す配合A、配合Bからなる材料について同
量、混練りを行った。
混練装置を用い、上記同様のゴム混練方法により、ミス
トを噴霧し混練を行った。
混練装置と同様の混練性能を有する混錬機を用い、ミス
ト噴霧を行わずに通常の混練を行った。
比較例の方法により混練りを行い、混練に要した時間を
測定した。測定結果を下記の表2に示す。
練機を用い、本発明のゴム混練方法によりミストを噴霧
して混練りを行った実施例では、硫黄等の配合粉末の飛
散が発生せず、材料の投入をスムーズに行えた。このた
め、いずれの配合においても混練時間が比較例に比べ短
く、効率良く混練作業を行えることが確認できた。一
方、ミストの噴霧を行わなかった比較例では、投入した
配合粉末の飛散を防止することができず、少量ずつ材料
の投入を行ったため、混練時間が長くなった。
の密閉式ゴム混練機によれば、原料投入ホッパーと対向
する原料投入口の上縁に、粉末飛散防止用ミストを噴霧
するノズルを付設しているため、原料投入により原料投
入口付近で飛散している配合粉末(カーボン、硫黄、シ
リカ等)に、ミストを噴霧することができる。よって、
配合粉末をミストにより混練機内等に落とすことがで
き、原料中に含まれる配合粉末の飛散を防止することが
できる。従って、配合粉末の飛散・拡散、特に微粒子の
飛散・拡散を抑えることができ、原料投入ホッパーから
混練機外への配合粉末の噴出を防止できるため、混練機
の作業環境を改善できると共に、混練作業の効率化を図
ることができる。
リンダ内への原料投入作業やフローティングウエイトの
昇降作動に伴う配合粉末の飛散をミストにより効率良く
抑えることができ、原料投入から混練までの工程をスム
ーズに行うことができる。
共に、硫黄等による粉塵爆発も防止することができる。
また、配合粉末の飛散量が低減かつ安定されるため、混
練ゴムの物性安定性も向上することができると共に、配
合粉末の投入時間が早くなるため、混練サイクルの短縮
が図れ、混練効率を向上することができる。
る。
図である。
る。
る。
Claims (5)
- 【請求項1】 ケーシングとエンドフレームにより形成
された混練室と、 上記混練室内に配置され、逆回転されて、ゴム及び配合
粉末を混練する一対のロータと、 上記混練室の上面開口に連通するシリンダと、 上記シリンダ内を昇降するロッドの下端に取り付けら
れ、上記混練室を加圧するフローティングウエイトと、 上記シリンダの一面側に開口する原料投入口と、 上記原料投入口の下縁より突設した原料投入ホッパーと
を備え、 上記原料投入ホッパーと対向する原料投入口の上縁に、
粉末飛散防止用ミストを噴霧するノズルを付設している
ことを特徴とする密閉式ゴム混練機。 - 【請求項2】 上記ノズルと略同一高さ位置のシリンダ
内壁に間隔をあけて他の粉末飛散防止用ミストを噴霧す
るノズルを付設している請求項1に記載の密閉式ゴム混
練機。 - 【請求項3】 上記原料投入ホッパーの上方で、上記原
料投入口より上部のシリンダ外面に隣接させて集塵ダク
トを設置している請求項1または請求項2に記載の密閉
式ゴム混練機。 - 【請求項4】 上記配合粉末にミストを噴霧するノズル
は水等の液体噴霧ノズルからなり、ミストは最大粒子径
が100μm以下、平均粒子径が15μm以下である請
求項1乃至請求項3のいずれか1項に記載の密閉式ゴム
混練機。 - 【請求項5】 ゴム及び配合粉末からなる原料を原料投
入ホッパーよりフローティングウエイトのシリンダ内に
投入時及び投入後にフローティングウエイトを昇降作動
させている工程中に、上記配合粉末にノズルによりミス
トを噴霧して粉末飛散を防止する一方、上記フローティ
ングウエイトにより混練室内を圧入して原料を混練して
いる時にはミストの噴霧を停止しているゴム混練方法。
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