JP2003150104A - Method for driving el display device, and el display device and information display device - Google Patents

Method for driving el display device, and el display device and information display device

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JP2003150104A
JP2003150104A JP2001349888A JP2001349888A JP2003150104A JP 2003150104 A JP2003150104 A JP 2003150104A JP 2001349888 A JP2001349888 A JP 2001349888A JP 2001349888 A JP2001349888 A JP 2001349888A JP 2003150104 A JP2003150104 A JP 2003150104A
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JP
Japan
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pixel
current
signal line
film
gate signal
Prior art date
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Application number
JP2001349888A
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Japanese (ja)
Inventor
Hiroshi Takahara
博司 高原
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Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
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    • HELECTRICITY
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Abstract

PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an EL display device without dispersion in brightness in a display plane. SOLUTION: In each pixel, a TFT 11a1 and a TFT 11a2 for driving use are formed. The two TFT 11a share a gate terminal. The current Iw from a source signal line 18 is programmed in a capacitor 19. In a 1st firld, a TFT 11f1 is brought into ON sate, and a current Idd1 is made to flow through an EL element 15. The EL element emits light with brightness corresponding to Idd1. In a 2nd field, a TFT 11f2 is brought into ON state, and a current Idd2 is made to flow through the EL element 15. The EL element 15 emits light with brightness corresponding to Idd2. Since a program current is Iw=Idd1+Idd2, an average light emitting brightness of the EL element 15 in the two fields corresponds to a half of the program current Iw.

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明の主として自発光で画
像を表示するEL表示パネルとおよびこれらのEL表示
パネルを用いた携帯電話などの情報表示装置などに関す
るものである。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention mainly relates to an EL display panel which displays an image by self-emission, and an information display device such as a mobile phone using the EL display panel.

【0002】[0002]

【従来の技術】液晶表示パネルは、薄型で低消費電力と
いう利点から、携帯用機器等に多く採用されているた
め、ワードプロセッサやパーソナルコンピュータ、テレ
ビ(TV)などの機器や、ビデオカメラのビューファイ
ンダ、モニターなどにも用いられている。
2. Description of the Related Art Liquid crystal display panels are widely used in portable devices and the like because of their thinness and low power consumption. Therefore, devices such as word processors, personal computers, televisions (TV), and viewfinders for video cameras are used. It is also used for monitors.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、液晶表示パネ
ルは、自発光デバイスではないため、バックライトを用
いないと画像を表示できないという問題点がある。バッ
クライトを構成するためには所定の厚みが必要であるた
め、表示モジュールの厚みが厚くなるという問題があっ
た。また、液晶表示パネルでカラー表示を行うために
は、カラーフィルタを使用する必要がある。そのため、
光利用効率が低いという問題点があった。EL表示装置
にあって、
However, since the liquid crystal display panel is not a self-luminous device, there is a problem that an image cannot be displayed unless a backlight is used. Since a predetermined thickness is required to form the backlight, there is a problem that the display module becomes thick. Further, in order to perform color display on the liquid crystal display panel, it is necessary to use a color filter. for that reason,
There is a problem that the light utilization efficiency is low. In the EL display device,

【0004】[0004]

【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
本発明は、画素がマトリックス状に配置され、前記各画
素に、EL素子と、前記EL素子に電流を印加する駆動
トランジスタ素子と、前記駆動トランジスタ素子のゲー
ト端子電圧を所定期間保持するコンデンサと、前記コン
デンサの両端をショートするスイッチング素子とが形成
されていることを特徴とするEL表示装置である。
In order to solve the above-mentioned problems, according to the present invention, pixels are arranged in a matrix, and each of the pixels has an EL element, a drive transistor element for applying a current to the EL element, and An EL display device is characterized in that a capacitor that holds a gate terminal voltage of a drive transistor element for a predetermined period and a switching element that short-circuits both ends of the capacitor are formed.

【0005】[0005]

【発明の実施の形態】本明細書において各図面は理解を
容易にまたは/および作図を容易にするため、省略また
は/および拡大縮小した箇所がある。たとえば、図7の
表示パネルの断面図では封止膜73などを十分厚く図示
している。また、図1等では画素電極に信号を印加する
薄膜トランジスタ(TFT)などは省略している。ま
た、本発明の表示パネルなどでは、位相補償のためなど
の位相フィルムなどを省略していが、適時付加すること
が望ましい。以上のことは以下の図面に対しても同様で
ある。また、同一番号または、記号等を付した箇所は同
一もしくは類似の形態もしくは材料あるいは機能もしく
は動作を有する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS In the present specification, each drawing has a portion omitted or / and enlarged or reduced in order to facilitate understanding and / or drawing. For example, in the cross-sectional view of the display panel of FIG. 7, the sealing film 73 and the like are shown sufficiently thick. Further, in FIG. 1 and the like, a thin film transistor (TFT) for applying a signal to the pixel electrode is omitted. Further, in the display panel and the like of the present invention, a phase film or the like for phase compensation is omitted, but it is desirable to add it at a proper time. The above also applies to the following drawings. Further, the parts having the same numbers or symbols have the same or similar forms or materials or functions or operations.

【0006】なお、各図面等で説明した内容は特に断り
がなくとも、他の実施例等と組み合わせることができ
る。たとえば、図1の表示パネルにタッチパネルなどを
付加し、図19、図49情報表示装置とすることができ
る。また、拡大レンズを取り付けビデオカメラ(図44
参照)などのビューファインダ(図45参照)を構成す
ることもできる。また、図31、図51、図104、図
106などで説明した本発明の駆動方法は、いずれの本
発明の表示装置または表示パネルに適用することができ
る。また、本発明は各画素にTFTが形成されたアクテ
ィブマトリックス型表示パネルを主に説明するがこれに
限定するものではなく、単純マトリックス型にも適用す
ることができることはいうまでもない。
The contents described in the drawings and the like can be combined with other embodiments and the like, unless otherwise specified. For example, a touch panel or the like may be added to the display panel of FIG. 1 to provide the information display device of FIGS. 19 and 49. In addition, a video camera with a magnifying lens attached (Fig. 44)
A viewfinder (see FIG. 45) such as (see FIG. 45) can also be configured. In addition, the driving method of the present invention described with reference to FIGS. 31, 51, 104, 106, and the like can be applied to any display device or display panel of the present invention. Further, although the present invention mainly describes an active matrix type display panel in which a TFT is formed in each pixel, it is not limited to this and needless to say, it can be applied to a simple matrix type.

【0007】このように特に明細書中に例示されていな
くとも、明細書、図面中で記載あるいは説明した事項、
内容、仕様は、互いに組み合わせて請求項に記載するこ
とができる。すべての組み合わせについて明細書などで
記述することは不可能であるからである。
As described above, even if not specifically exemplified in the specification, matters described or explained in the specification and drawings,
The contents and specifications can be combined with each other and described in the claims. This is because it is impossible to describe all combinations in the specification or the like.

【0008】低消費電力でかつ高表示品質であり、更に
薄型化が可能な表示パネルとして、有機エレクトロルミ
ネッセンス(EL)素子の複数をマトリクス状に配列し
て構成される有機EL表示パネルが注目されている。
As a display panel which has low power consumption and high display quality and can be further thinned, an organic EL display panel constructed by arranging a plurality of organic electroluminescence (EL) elements in a matrix has attracted attention. ing.

【0009】有機EL表示パネルは、図4に示すよう
に、画素電極としての透明電極48が形成されたガラス
板49(アレイ基板)上に、電子輸送層、発光層、正孔
輸送層などからなる少なくとも1層の有機機能層(EL
層)47、及び金属電極(反射膜)46が積層されたも
のである。透明電極(画素電極)48の陽極(アノー
ド)にプラス、金属電極(反射電極)46の陰極(カソ
ード)にマイナスの電圧を加え、すなわち、透明電極4
8及び金属電極46間に直流を印加することにより、有
機機能層(EL層)47が発光する。良好な発光特性を
期待することのできる有機化合物を有機機能層に使用す
ることによって、EL表示パネルが実用に耐えうるもの
になっている。
As shown in FIG. 4, the organic EL display panel includes an electron transport layer, a light emitting layer, a hole transport layer, etc. on a glass plate 49 (array substrate) on which a transparent electrode 48 as a pixel electrode is formed. At least one organic functional layer (EL
A layer) 47 and a metal electrode (reflection film) 46 are laminated. A positive voltage is applied to the anode (anode) of the transparent electrode (pixel electrode) 48 and a negative voltage is applied to the cathode (cathode) of the metal electrode (reflection electrode) 46, that is, the transparent electrode 4
8 is applied between the metal electrode 46 and the metal electrode 46, the organic functional layer (EL layer) 47 emits light. By using an organic compound, which can be expected to have good light emitting characteristics, in the organic functional layer, the EL display panel can be put to practical use.

【0010】なお、カソード電極、アノード電極あるい
は反射膜は、ITO電極に誘電体多層膜からなる光学的
干渉膜を形成して構成してもよい。誘電体多層膜は低屈
折率の誘電体膜と高屈折率の誘電体膜とを交互に多層に
形成したものである。つまり、誘電体ミラーである。こ
の誘電体多層膜は有機EL構造から放射される光の色調
を良好なもの(フィルタ効果)にする機能を有する。な
お、ITOはIZOなどの他の材料でもよい。この事項
は画素電極に対しても同様である。
The cathode electrode, the anode electrode or the reflection film may be formed by forming an optical interference film made of a dielectric multilayer film on the ITO electrode. The dielectric multilayer film is formed by alternately forming a low refractive index dielectric film and a high refractive index dielectric film. That is, it is a dielectric mirror. This dielectric multilayer film has a function of improving the color tone of light emitted from the organic EL structure (filter effect). The ITO may be another material such as IZO. The same applies to the pixel electrode.

【0011】アノードあるいはカソードへ電流を供給す
る配線51,63には大きな電流が流れる。たとえば、
EL表示装置の画面サイズが40インチサイズになると
100A程度の電流が流れる。したがって、これらの配
線の抵抗値は十分低く作製する必要がある。この課題に
対して、本発明では、まず、アノードなどの配線を薄膜
で形成する。そして、この薄膜配線に電解めっき技術で
導体の厚みを厚く形成している。また、必要に応じて、
配線そのもの、あるいは配線に銅薄からなる金属配線を
付加している。
A large current flows through the wirings 51 and 63 for supplying a current to the anode or the cathode. For example,
When the screen size of the EL display device becomes 40 inches, a current of about 100 A flows. Therefore, the resistance value of these wirings must be made sufficiently low. With respect to this problem, in the present invention, first, the wiring such as the anode is formed of a thin film. Then, the conductor is formed thick on the thin film wiring by an electrolytic plating technique. Also, if necessary,
The wiring itself or metal wiring made of thin copper is added to the wiring.

【0012】また、アノードあるいはカソード配線に大
きな電流を供給するため、電流供給手段から高電圧で小
電流の電力配線で、前記アノード配線などの近傍まで配
線し、DCDCコンバータなどを用いて低電圧、高電流
に電力変換して供給している。つまり、電源から高電
圧、小電流配線で電力消費対象まで配線し、電力消費対
象の近傍で大電流、低電圧に変換する。このようなもの
として、DCDCコンバータ、トランスなどが例示され
る。
Further, in order to supply a large current to the anode or cathode wiring, a high-voltage, small-current power wiring is connected from the current supply means to the vicinity of the anode wiring or the like, and a low voltage is supplied by using a DCDC converter or the like. The power is converted into a high current and supplied. That is, the power supply is wired to the power consumption target with a high voltage, small current wiring, and converted into a large current and a low voltage near the power consumption target. As such a thing, a DCDC converter, a transformer, etc. are illustrated.

【0013】金属電極46には、リチウム、銀、アルミ
ニウム、マグネシウム、インジウム、銅または各々の合
金等の仕事関数が小さなものを用いることが好ましい。
特に、例えばAl−Li合金を用いることが好ましい。
また、透明電極48には、ITO等の仕事関数の大きな
導電性材料または金等を用いることができる。なお、金
を電極材料として用いた場合、電極は半透明の状態とな
る。なお、ITOはIZOなどの他の材料でもよい。こ
の事項は画素電極に対しても同様である。
For the metal electrode 46, it is preferable to use one having a small work function such as lithium, silver, aluminum, magnesium, indium, copper or an alloy of each.
In particular, it is preferable to use, for example, an Al-Li alloy.
For the transparent electrode 48, a conductive material having a large work function such as ITO or gold can be used. When gold is used as the electrode material, the electrode becomes semitransparent. The ITO may be another material such as IZO. The same applies to the pixel electrode.

【0014】なお、画素電極46などに薄膜を蒸着する
際は、アルゴン雰囲気中で有機EL膜を成膜するとよ
い。また、画素電極46としてのITO上にカーボン膜
を20以上50nm以下で成膜することにより、界面の
安定性が向上し、発光輝度および発光効率も良好なもの
となる。
When depositing a thin film on the pixel electrode 46 or the like, it is advisable to form an organic EL film in an argon atmosphere. In addition, by forming a carbon film on the ITO as the pixel electrode 46 with a thickness of 20 to 50 nm, the stability of the interface is improved and the emission brightness and emission efficiency are also improved.

【0015】また、EL膜は蒸着で形成することに限定
するものではなく、インクジェットで形成してもよいこ
とは言うまでもない。
Needless to say, the EL film is not limited to being formed by vapor deposition and may be formed by ink jet.

【0016】以下、本発明のEL表示パネル構造の理解
を容易とするため、まず、本発明の有機EL表示パネル
の製造方法について説明をする。
Hereinafter, in order to facilitate understanding of the structure of the EL display panel of the present invention, a method of manufacturing the organic EL display panel of the present invention will be described first.

【0017】基板49の放熱性を良くするため、サファ
イアガラスで形成してもよい。また、熱伝導性のよい薄
膜あるいは厚膜を形成したりしてもよい。たとえば、ダ
イヤモンド薄膜(DLCなど)を形成した基板を使用す
ることが例示される。もちろん、石英ガラス基板、ソー
ダガラス基板を用いてもよい。その他、アルミナなどの
セラミック基板を使用したり、銅などからなる金属板を
使用したり、絶縁膜に金属膜を蒸着あるいは塗布などの
コーティングしたりしたものを用いてもよい。画素電極
を反射型とする場合は、基板材料としては基板の表面方
向より光が出射されるから、ガラス、石英や樹脂等の透
明ないし半透明材料に加えてステンレスなどの非透過材
料を用いることもできる。この構成を図7に図示する。
カソード電極をITOなどの透明電極72で形成してい
る。
In order to improve the heat dissipation of the substrate 49, it may be made of sapphire glass. Alternatively, a thin film or a thick film having good thermal conductivity may be formed. For example, it is exemplified to use a substrate on which a diamond thin film (DLC or the like) is formed. Of course, a quartz glass substrate or a soda glass substrate may be used. Alternatively, a ceramic substrate such as alumina may be used, a metal plate made of copper or the like may be used, or a metal film may be vapor-deposited or applied on the insulating film. When the pixel electrode is of a reflective type, light is emitted from the surface direction of the substrate as the substrate material. Therefore, in addition to a transparent or translucent material such as glass, quartz or resin, a non-transmissive material such as stainless steel is used. You can also This configuration is shown in FIG.
The cathode electrode is formed of a transparent electrode 72 such as ITO.

【0018】なお、本発明の実施例では、カソードなど
を金属膜で形成するとしたが、これに限定するものでは
なく、ITO,IZOなどの透明膜で形成してもよい。
このようにEL素子15のアノードとカソードの両方の
電極を透明電極にすることにより、透明EL表示パネル
を構成できる。金属膜を使わずに透過率を約80%まで
上げることにより、文字や絵を表示しながら表示パネル
の向こう側がほとんど透けて見えるように構成できる。
In the embodiment of the present invention, the cathode and the like are formed of a metal film, but the present invention is not limited to this and may be formed of a transparent film such as ITO or IZO.
In this way, by making both the anode and cathode electrodes of the EL element 15 transparent electrodes, a transparent EL display panel can be constructed. By increasing the transmittance to about 80% without using a metal film, it is possible to display characters and pictures while allowing the other side of the display panel to be almost transparent.

【0019】基板はプラスチック基板を用いてもよいこ
とは言うまでもない。プラスチック基板はわれにくく、
また、軽量のため携帯電話の表示パネル用基板として最
適である。プラスチック基板は、芯材となるベース基板
の一方の面に補助の基板を接着剤で貼り合わせて積層基
板として用いることが好ましい。もちろん、これらの基
板321等は板に限定するものではなく、厚さ0.3m
m以下0.05mm以上のフィルムでもよい。
Needless to say, a plastic substrate may be used as the substrate. The plastic substrate is hard to break,
Also, since it is lightweight, it is optimal as a display panel substrate for mobile phones. The plastic substrate is preferably used as a laminated substrate by adhering an auxiliary substrate to one surface of a base substrate which is a core material with an adhesive. Of course, these substrates 321 and the like are not limited to plates, and have a thickness of 0.3 m.
A film of m or less and 0.05 mm or more may be used.

【0020】ベース基板の基板として、脂環式ポリオレ
フィン樹脂を用いることが好ましい。このような脂環式
ポリオレフィン樹脂として日本合成ゴム社製ARTON
の厚さ200μmの1枚板が例示される。ベース基板の
一方の面に、耐熱性、耐溶剤性または耐透湿性機能を持
つハードコート層、および耐透気性機能を持つガスバリ
ア層が形成されたポリエステル樹脂、ポリエチレン樹脂
あるいはポリエーテルスルホン樹脂などからなる補助の
基板(あるいはフィルムもしくは膜)を配置する。
An alicyclic polyolefin resin is preferably used as the base substrate. As such an alicyclic polyolefin resin, ARTON manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd.
An example is a single plate having a thickness of 200 μm. From a polyester resin, polyethylene resin or polyether sulfone resin, etc., on one surface of the base substrate, a hard coat layer having heat resistance, solvent resistance or moisture permeation resistance function and a gas barrier layer having air permeation resistance function are formed. Place an auxiliary substrate (or film or membrane) that will become.

【0021】以上のように基板49をプラスチックで構
成する場合は、基板49はベース基板と補助基板から構
成する。ベース基板の他方の面に、前述と同様にハード
コート層およびガスバリア層が形成されたポリエーテル
スルホン樹脂などからなる補助基板(あるいはフィルム
もしくは膜)を配置する。補助基板の光学的遅相軸と補
助基板の光学的遅相軸とのなす角度が90度となるよう
にすることが好ましい。なお、ベース基板と補助基板と
は接着剤もしくは粘着剤を介して貼り合わせて積層基板
とする。
When the substrate 49 is made of plastic as described above, the substrate 49 is made up of a base substrate and an auxiliary substrate. On the other surface of the base substrate, an auxiliary substrate (or film or film) made of polyethersulfone resin or the like having a hard coat layer and a gas barrier layer formed thereon is arranged as described above. It is preferable that the angle formed by the optical slow axis of the auxiliary substrate and the optical slow axis of the auxiliary substrate be 90 degrees. Note that the base substrate and the auxiliary substrate are attached to each other with an adhesive or a pressure-sensitive adhesive to form a laminated substrate.

【0022】接着剤としてはUV(紫外線)硬化型でア
クリル系の樹脂からなるものを用いることが好ましい。
また、アクリル樹脂はフッ素基を有するものを用いるこ
とが好ましい。その他、エポキシ系の接着剤あるいは粘
着剤を用いてもよい。接着剤あるいは粘着剤の屈折率は
1.47以上1.54以下のものを用いることが好まし
い。また、基板49の屈折率との屈折率差が0.03以
下となるようにすることが好ましい。特に接着剤は先に
記載いたような酸化チタンなどの光拡散材を添加し、光
散乱層として機能させることが好ましい。
As the adhesive, it is preferable to use a UV (ultraviolet) curing type acrylic resin.
Further, it is preferable to use an acrylic resin having a fluorine group. Besides, an epoxy adhesive or pressure-sensitive adhesive may be used. It is preferable to use an adhesive or pressure-sensitive adhesive having a refractive index of 1.47 or more and 1.54 or less. Further, it is preferable that the difference in refractive index from the refractive index of the substrate 49 be 0.03 or less. In particular, it is preferable that the adhesive be added with a light diffusing material such as titanium oxide as described above to function as a light scattering layer.

【0023】補助基板および補助基板をベース基板に貼
り合わせる際には、補助基板の光学的遅相軸と補助基板
の光学的遅相軸とがなす角度を45度以上120度以下
にすることが好ましい。さらに好ましくは80度以上1
00度以下することがよい。この範囲にすることによ
り、補助基板および補助基板であるポリエーテルスルホ
ン樹脂などで発生する位相差を積層基板内で完全に打ち
消すことができる。したがって、表示パネル用プラスチ
ック基板は位相差の無い等方性基板として扱うことがで
きるようになる。したがって、円偏光板を使用した構成
で、位相状態が異なることによる表示パネルのムラが発
生しない。
When the auxiliary substrate and the auxiliary substrate are attached to the base substrate, the angle formed by the optical slow axis of the auxiliary substrate and the optical slow axis of the auxiliary substrate should be 45 degrees or more and 120 degrees or less. preferable. More preferably 80 degrees or more 1
It is preferable to set it to 00 degrees or less. Within this range, the phase difference generated in the auxiliary substrate and the auxiliary substrate, such as polyethersulfone resin, can be completely canceled in the laminated substrate. Therefore, the plastic substrate for the display panel can be treated as an isotropic substrate having no phase difference. Therefore, in the configuration using the circularly polarizing plate, unevenness of the display panel due to different phase states does not occur.

【0024】この構成により、位相差を持ったフィルム
基板またはフィルム積層基板に比べて、著しく汎用性が
広がる。つまり、位相差フィルムとを組み合わせること
により直線偏光を楕円偏光に設計どおりに変換できるよ
うになるからである。基板49などに位相差があるとこ
の位相差により設計値との誤差が発生する。
With this structure, versatility is remarkably widened as compared with a film substrate or a film laminated substrate having a phase difference. That is, by combining with a retardation film, it becomes possible to convert linearly polarized light into elliptically polarized light as designed. If there is a phase difference on the substrate 49 or the like, an error from the design value occurs due to this phase difference.

【0025】ここで、ハードコート層としては、ポリエ
ステル樹脂、エポキシ系樹脂、ウレタン系樹脂またはア
クリル系樹脂等を用いることができ、ストライプ状電極
あるいは画素電極を透明導電膜の第1のアンダーコート
層とを兼ねる。
Here, as the hard coat layer, polyester resin, epoxy resin, urethane resin, acrylic resin or the like can be used, and the stripe-shaped electrodes or pixel electrodes are used as the first undercoat layer of the transparent conductive film. Also serves as.

【0026】また、ガスバリア層としては、SiO2、S
iOxなどの無機材料、またはポリビニールアルコール、
ポリイミドなどの有機材料等を用いることができる。粘
着剤、接着剤などとしては、先に記述したアクリル系の
他にエポキシ系接着剤、またはポリエステル系接着剤等
を用いることができる。なお、接着層の厚みは100μ
m以下とする。ただし、基板など表面の凹凸を平滑化す
るために10μm以上とすることが好ましい。
Further, as the gas barrier layer, SiO2, S
Inorganic materials such as iOx, or polyvinyl alcohol,
An organic material such as polyimide can be used. As the pressure-sensitive adhesive, the adhesive or the like, an epoxy-based adhesive, a polyester-based adhesive, or the like can be used in addition to the acrylic-based adhesive described above. The thickness of the adhesive layer is 100μ.
m or less. However, it is preferably 10 μm or more in order to smooth the surface irregularities of the substrate and the like.

【0027】また、基板49を構成する補助基板および
補助基板として、厚さ40μm以上400μmのものを
用いることが好ましい。また、補助基板および補助基板
の厚さを120μm以下にすることにより、ポリエーテ
ルスルホン樹脂のダイラインと呼ばれる溶融押し出し成
形時のむらまたは位相差を低く抑えることができる。好
ましくは、補助基板の厚みを50μm以上80μm以下
とする。
Further, as the auxiliary substrate and the auxiliary substrate constituting the substrate 49, it is preferable to use one having a thickness of 40 μm or more and 400 μm. Further, by setting the thickness of the auxiliary substrate and the thickness of the auxiliary substrate to 120 μm or less, it is possible to suppress unevenness or phase difference at the time of melt extrusion molding called a die line of the polyethersulfone resin. Preferably, the thickness of the auxiliary substrate is 50 μm or more and 80 μm or less.

【0028】次に、この積層基板に、透明導電膜の補助
アンダーコート層としてSiOxを形成し、必要に応じて
画素電極となるITOからなる透明導電膜をスパッタ技
術で形成する。また、必要に応じて静電気防止としてI
TO膜を形成する。このようにして製造した表示パネル
用プラスチック基板の透明導電膜は、その膜特性とし
て、シート抵抗値25Ω/□、透過率80%を実現する
ことができる。
Next, on this laminated substrate, SiOx is formed as an auxiliary undercoat layer of a transparent conductive film, and if necessary, a transparent conductive film made of ITO to be a pixel electrode is formed by a sputtering technique. In addition, if necessary, I
A TO film is formed. The transparent conductive film of the plastic substrate for a display panel manufactured as described above can realize a sheet resistance value of 25Ω / □ and a transmittance of 80% as its film characteristics.

【0029】ベース基板の厚さが50μmから100μ
mの薄い場合には、表示パネルの製造工程において、表
示パネル用プラスチック基板が熱処理によってカールし
てしまう。また、回路部品の接続においても良好な結果
は得られない。ベース基板を1枚板で厚さ200μm以
上500μm以下とした場合は、基板の変形がなく平滑
性に優れ、搬送性が良好で、透明導電膜特性も安定す
る。また、回路部品の接続も問題なく実施することがで
きる。さらに、特に厚さは250μm以上450μm以
下がよい。適度な柔軟性と平面性をもっているためと考
えられる。なお、ITOはIZOなどの他の材料でもよ
い。この事項は画素電極に対しても同様である。
The thickness of the base substrate is 50 μm to 100 μm
When m is thin, the display panel plastic substrate is curled by heat treatment in the manufacturing process of the display panel. Also, good results cannot be obtained when connecting circuit components. When the thickness of the base substrate is 200 μm or more and 500 μm or less with one plate, the substrate is not deformed, the smoothness is excellent, the transportability is good, and the transparent conductive film characteristics are stable. Moreover, the connection of the circuit components can be performed without any problem. Furthermore, the thickness is particularly preferably 250 μm or more and 450 μm or less. This is probably because it has appropriate flexibility and flatness. The ITO may be another material such as IZO. The same applies to the pixel electrode.

【0030】なお、基板49として前述のプラスチック
基板などの有機材料を使用する場合は、光変調層に接す
る面にもバリア層として無機材料からなる薄膜を形成す
ることが好ましい。この無機材料からなるバリア層は、
AIRコートと同一材料で形成することが好ましい。な
お、封止基板41も基板49と同様に技術あるいは構成
により作製できることは言うまでもない。
When an organic material such as the above-mentioned plastic substrate is used as the substrate 49, it is preferable to form a thin film made of an inorganic material as a barrier layer also on the surface in contact with the light modulation layer. The barrier layer made of this inorganic material is
It is preferable to use the same material as the AIR coat. Needless to say, the sealing substrate 41 can be manufactured by the same technique or configuration as the substrate 49.

【0031】また、バリア膜を画素電極あるいはストラ
イプ状電極上に形成する場合は、光変調層に印加される
電圧のロスを極力低減させるために低誘電率材料を使用
することが好ましい。たとえば、フッ素を添加したアモ
ルファスカーボン膜(比誘電率2.0〜2.5)が例示
される。その他、JSR社が製造販売しているLKDシ
リーズ(LKD−T200シリーズ(比誘電率2.5〜
2.7)、LKD−T400シリーズ(比誘電率2.0
〜2.2))が例示される。LKDシリーズはMSQ
(methy−silsesquioxane)をベー
スにしたスピン塗布形であり、比誘電率も2.0〜2.
7と低く好ましい。その他、ポリイミド、ウレタン、ア
クリル等の有機材料や、SiNx、SiO2などの無機材
料でもよい。これらのバリア膜材料は補助基板に用いて
もよいことは言うまでもない。
When the barrier film is formed on the pixel electrode or the stripe-shaped electrode, it is preferable to use a low dielectric constant material in order to reduce the loss of the voltage applied to the light modulation layer as much as possible. For example, an amorphous carbon film containing fluorine (relative dielectric constant of 2.0 to 2.5) is exemplified. In addition, the LKD series (LKD-T200 series (dielectric constant 2.5-
2.7), LKD-T400 series (relative permittivity 2.0
~ 2.2)) are exemplified. LKD series is MSQ
(Methy-silsesquioxane) based spin coating type, with a relative dielectric constant of 2.0-2.
It is as low as 7, which is preferable. In addition, an organic material such as polyimide, urethane, or acrylic, or an inorganic material such as SiNx or SiO2 may be used. It goes without saying that these barrier film materials may be used for the auxiliary substrate.

【0032】プラスチックで形成した基板49あるいは
41を用いることにより、割れない、軽量化できるとい
う利点を発揮できる。他に、プレス加工できるという利
点もある。つまり、プレス加工あるいは切削加工により
任意の形状の基板を作製できるのである(図25を参
照)。また、融解あるいは化学薬品処理により任意の形
状、厚みに加工することができる。たとえば、円形に形
成したり、球形(曲面など)にしたり、円錐状に加工し
たりすることが例示される。また、プレス加工により、
基板の製造と同時に、一方の基板面に凹凸252を形成
し、散乱面の形成、あるいはエンボス加工を行うことが
できる。
By using the substrate 49 or 41 made of plastic, it is possible to exert the advantages that it is not broken and the weight can be reduced. Another advantage is that it can be pressed. That is, a substrate having an arbitrary shape can be manufactured by pressing or cutting (see FIG. 25). Further, it can be processed into any shape and thickness by melting or chemical treatment. For example, it may be formed into a circular shape, a spherical shape (curved surface or the like), or a conical shape. Also, by pressing,
Simultaneously with the production of the substrate, the unevenness 252 can be formed on one substrate surface to form a scattering surface or embossing.

【0033】また、プラスチックをプレス加工すること
により形成した基板41の穴に、バックライトあるいは
カバー基板の位置決めピンを挿入できるように形成する
ことも容易である。また、基板49、41内に厚膜技術
あるいは薄膜技術で形成したコンデンサあるいは抵抗な
どの電気回路を構成してもよい。また、基板41に凹部
(図示せず)を形成し、基板49に凸部251を形成
し、この凹部と凸部とがちょうどはめ込めるように形成
することにより、基板41と基板49とをはめ込みによ
り一体化することができるように構成してもよい。
Further, it is easy to form the positioning pins of the backlight or the cover substrate into the holes of the substrate 41 formed by pressing the plastic. Further, an electric circuit such as a capacitor or a resistor formed by the thick film technique or the thin film technique may be formed in the substrates 49 and 41. Further, a recess (not shown) is formed on the substrate 41, a convex portion 251 is formed on the substrate 49, and the concave portion and the convex portion are formed so that they can be fitted into each other just by fitting the substrate 41 and the substrate 49. It may be configured so that they can be integrated.

【0034】ガラス基板を用いた場合は、画素16の周
辺部にELを蒸着する際に使用する土手を形成してい
た。土手(リブ)は樹脂材料を用いて、1.0μm以上
3.5μm以下の厚みで凸部状に形成する。さらに好ま
しくは1.5μm以上2.5μm以下の高さに形成す
る。土手この樹脂からなる土手(凸部)251を基板4
1または49の形成と同時に作製することもできる。な
お、土手材料はアクリル樹脂、ポリイミド樹脂の他、S
OG材料でもよい。土手は基板41または基板49をプ
レス加工する際に樹脂の凸部251を同時に形成するの
である(図25を参照)。これは基板41、49を樹脂
で形成することにより発生する大きな効果である。
In the case of using the glass substrate, a bank used for vapor deposition of EL was formed around the pixel 16. The bank (rib) is made of a resin material and is formed in a convex shape with a thickness of 1.0 μm or more and 3.5 μm or less. More preferably, the height is 1.5 μm or more and 2.5 μm or less. Bank Embankment (convex) 251 made of this resin on the substrate 4
It can also be produced simultaneously with the formation of 1 or 49. The bank material is acrylic resin, polyimide resin, S
It may be an OG material. The bank simultaneously forms the resin protrusions 251 when the substrate 41 or the substrate 49 is pressed (see FIG. 25). This is a great effect that occurs when the substrates 41 and 49 are made of resin.

【0035】このように樹脂部を基板と同時に形成する
ことにより製造時間を短縮できるので低コスト化が可能
である。また、基板49などの製造時に、表示領域部に
ドット状に凸部251を形成する。この凸部251は隣
接画素間に形成するとよい。この凸部251は基板41
と基板49との所定の空間を保持する。土手形状は、画
素電極を取り囲む□状の他、ストライプ状でもよい。
By thus forming the resin portion at the same time as the substrate, the manufacturing time can be shortened and the cost can be reduced. Further, when the substrate 49 and the like are manufactured, the convex portions 251 are formed in a dot shape in the display area portion. This convex portion 251 is preferably formed between adjacent pixels. The convex portion 251 is formed on the substrate 41.
And a predetermined space between the substrate 49 and the substrate 49 is maintained. The bank shape may be a square shape surrounding the pixel electrode or a stripe shape.

【0036】なお、以上の実施例では、土手として機能
する凸部251を形成するとしたが、これに限定するこ
とはない。例えば、画素部をプレス加工などにより掘り
下げる(凹部)としてもよい。なお、凹凸部252,凸
部251を形成は基板と同時に形成する他、平面な基板
を最初に形成し、その後、再加熱によりプレスして凹凸
を形成する方式も含まれる。
In the above embodiment, the convex portion 251 functioning as a bank is formed, but the present invention is not limited to this. For example, the pixel portion may be dug down (recessed portion) by pressing or the like. Note that the uneven portion 252 and the convex portion 251 are formed at the same time as the substrate, and a method of forming a flat substrate first and then pressing by reheating to form the uneven portion is also included.

【0037】また、基板41、49を直接着色すること
により、モザイク状のカラーフィルタを形成してもよ
い。基板にインクジェット印刷などの技術を用いて染
料、色素などを塗布し、浸透させる。浸透後、高温で乾
燥させ、また、表面をUV樹脂などの樹脂、酸化シリコ
ンあるいは酸化窒素などの無機材料で被覆すればよい。
また、グラビア印刷技術、オフセット印刷技術、スピン
ナーで膜を塗布し、現像する半導体パターン形成技術な
どでカラーフィルタを形成する。同様に技術を用いてカ
ラーフィルタの他、黒色もしくは暗色あるいは変調する
光の補色の関係にあるの着色によりブラックマトリック
ス(BM)を直接形成してもよい。また、基板面に画素
に対応するように凹部を形成し、この凹部にカラーフィ
ルタ、BMあるいはTFTを埋め込むように構成しても
よい。特に表面をアクリル樹脂で被膜することが好まし
い。この構成では画素電極面などが平坦化されるという
利点もある。
Alternatively, the substrates 41 and 49 may be directly colored to form a mosaic color filter. Dyes, pigments, etc. are applied to the substrate by a technique such as ink jet printing and made to penetrate. After permeation, it may be dried at a high temperature, and the surface may be coated with a resin such as a UV resin or an inorganic material such as silicon oxide or nitric oxide.
Further, a color filter is formed by a gravure printing technique, an offset printing technique, a semiconductor pattern forming technique of applying and developing a film with a spinner. Similarly, a black matrix (BM) may be directly formed by using a technique, in addition to the color filter, by coloring in a black color, a dark color, or a complementary color of modulated light. In addition, a recess may be formed on the surface of the substrate so as to correspond to the pixel, and a color filter, BM, or TFT may be embedded in the recess. In particular, it is preferable to coat the surface with an acrylic resin. This configuration also has an advantage that the pixel electrode surface and the like are flattened.

【0038】また、導電性ポリマーなどにより基板表面
の樹脂を導電化し、画素電極あるいはカソード電極を直
接に構成してもよい。さらに大きくは基板に穴を開け、
この穴にコンデンサなどの電子部品を挿入する構成も例
示される。基板が薄く構成できる利点が発揮される。
Alternatively, the resin on the substrate surface may be made conductive by a conductive polymer or the like to directly form the pixel electrode or the cathode electrode. To make it even bigger, make a hole in the board,
A configuration in which an electronic component such as a capacitor is inserted into this hole is also exemplified. The advantage is that the substrate can be made thin.

【0039】また、基板の表面を切削することにより、
自由に模様を形成したりしてもよい。また、基板41、
49の周辺部を溶かすことにより形成してもよい。ま
た、有機EL表示パネルの場合は外部からの水分の進入
を阻止するため、基板の周辺部を溶かして封止してもよ
い。
By cutting the surface of the substrate,
The pattern may be freely formed. In addition, the substrate 41,
It may be formed by melting the peripheral portion of 49. In the case of an organic EL display panel, in order to prevent moisture from entering from the outside, the peripheral portion of the substrate may be melted and sealed.

【0040】以上のように、基板を樹脂で形成すること
により、基板への穴あけ加工が容易である。また、プレ
ス加工などにより自由に基板形状を構成することができ
る。また、基板41、49に穴をあけ、この穴に導電樹
脂などを充填し、基板の表と裏とを電気的に導通させた
りすることもできる。基板41、49が多層回路基板あ
るいは両面基板として利用できる。
As described above, by forming the substrate with resin, it is easy to make a hole in the substrate. Further, the substrate shape can be freely configured by pressing or the like. It is also possible to form holes in the substrates 41 and 49 and fill the holes with a conductive resin to electrically connect the front and back of the substrates. The boards 41 and 49 can be used as a multilayer circuit board or a double-sided board.

【0041】また、導電樹脂のかわりに導電ピンなどを
挿入してもよい。形成した穴にコンデンサなどの電子部
品の端子を差し込めるように構成してもよい。また、基
板内に薄膜による回路配線、コンデンサ、コイルあるい
は抵抗を形成してもよい。つまり、基板41、49自身
を多層の配線基板としてもよい。多層化は薄い基板をは
りあわせることのより構成する。はり合わせる基板(フ
ィルム)の1枚以上を着色してもよい。
A conductive pin or the like may be inserted instead of the conductive resin. You may comprise so that the terminal of electronic components, such as a capacitor, can be inserted in the formed hole. Further, circuit wiring, a capacitor, a coil or a resistor made of a thin film may be formed in the substrate. That is, the boards 41 and 49 themselves may be multilayer wiring boards. Multi-layering consists of laminating thin substrates. One or more substrates (films) to be laminated may be colored.

【0042】また、基板材料に染料、色素を加えて基板
自身に着色を行ったり、フィルタを形成したりすること
ができる。また、製造番号を基板作製と同時に形成する
こともできる。また、表示領域以外の部分だけを着色し
たりすることにより、積載したICチップに光が照射さ
れることのより誤動作することを防止できる。
Further, the substrate itself can be colored by adding a dye or pigment to the substrate material, or a filter can be formed. Further, the serial number can be formed at the same time when the substrate is manufactured. Further, by coloring only the portion other than the display area, it is possible to prevent malfunction due to irradiation of light on the mounted IC chips.

【0043】また、基板の表示領域の半分を異なる色に
着色することもできる。これは、樹脂板加工技術(イン
ジェクション加工、コンプレクション加工など)を応用
すればよい。また、同様の加工技術を用いることのより
表示領域の半分を異なるEL層膜厚にすることもでき
る。また、表示部と回路部とを同時に形成することもで
きる。また、表示領域とドライバ積載領域との基板厚み
を変化させることも容易である。
Further, half of the display area of the substrate can be colored with different colors. For this, a resin plate processing technique (injection processing, complexion processing, etc.) may be applied. Further, by using the same processing technique, half of the display area can have different EL layer thicknesses. Further, the display portion and the circuit portion can be formed at the same time. It is also easy to change the substrate thickness between the display area and the driver loading area.

【0044】また、基板41または基板49に、画素に
対応するように、あるいは表示領域に対応するようにマ
イクロレンズを形成することもできる。また、基板4
1、49を加工することにより、回折格子を形成しても
よい。また、画素サイズよりも十分に微細な凹凸を形成
し、視野角を改善したり、視野角依存性を持たせたりす
ることができる。なお、このような任意形状の加工、微
細加工技術などはオムロン(株)が開発したマイクロレ
ンズ形成するスタンパ技術で実現できる。
It is also possible to form a microlens on the substrate 41 or the substrate 49 so as to correspond to a pixel or a display area. Also, the substrate 4
The diffraction grating may be formed by processing 1, 49. In addition, it is possible to improve the viewing angle or to provide the viewing angle dependency by forming unevenness finer than the pixel size. It should be noted that such arbitrary shape processing and fine processing technology can be realized by the stamper technology developed by OMRON Corporation for forming microlenses.

【0045】基板41、49は、ストライプ状電極(図
示せず)が形成されている。基板が空気と接する面に
は、反射防止膜(AIRコート)が形成される。基板4
1、49に偏光板などが張り付けられていない場合は基
板41、49に直接に反射防止膜(AIRコート)が形
成される。偏光板(偏光フィルム)など他の構成材料が
張り付けられている場合は、その構成材料の表面などに
反射防止膜(AIRコート)が形成される。
Striped electrodes (not shown) are formed on the substrates 41 and 49. An antireflection film (AIR coat) is formed on the surface of the substrate that comes into contact with air. Board 4
When a polarizing plate or the like is not attached to the substrates 1 and 49, the antireflection film (AIR coat) is directly formed on the substrates 41 and 49. When another constituent material such as a polarizing plate (polarizing film) is attached, an antireflection film (AIR coat) is formed on the surface of the constituent material.

【0046】なお、以上の実施例は基板41,49がプ
ラスチックで形成することを中心として説明したが、こ
れに限定するものではない。たとえば、基板41、49
がガラス基板、金属基板であっても、プレス加工、切削
加工などにより、凹凸部252、凸部252などを形成
または構成できる。また、基板への着色なども可能であ
る。したがって、説明した事項はプラスチック基板に限
定するものではない。また、基板に限定するものでもな
い。たとえば、フィルムあるいはシートでもよい。
In the above embodiments, the substrates 41 and 49 are mainly made of plastic, but the present invention is not limited to this. For example, the substrates 41, 49
Even if the substrate is a glass substrate or a metal substrate, the concavo-convex portion 252, the convex portion 252, or the like can be formed or configured by pressing, cutting, or the like. Further, it is possible to color the substrate. Therefore, the matters described are not limited to plastic substrates. Further, it is not limited to the substrate. For example, it may be a film or a sheet.

【0047】また、偏光板の表面へのごみの付着を防止
あるいは抑制するため、フッ素樹脂からなる薄膜を形成
することが有効である。また、静電防止のために親水基
を有する薄膜、導電性ポリマー膜、金属膜などの導電体
膜を塗布あるいは蒸着してもよい。
Further, in order to prevent or suppress the adhesion of dust to the surface of the polarizing plate, it is effective to form a thin film made of fluororesin. Further, in order to prevent static electricity, a thin film having a hydrophilic group, a conductive polymer film, a conductive film such as a metal film may be applied or deposited.

【0048】なお、表示パネル82の光入射面あるいは
光出射面に配置または形成する偏光板(偏光フィルム)
は直線偏光にするものに限定するものではなく、楕円偏
光となるものであってもよい。また、複数の偏光板をは
り合わせたり、偏光板と位相差板とを組み合わせたり、
もしくははり合わせたものを用いてもよい。
A polarizing plate (polarizing film) arranged or formed on the light incident surface or the light emitting surface of the display panel 82.
Is not limited to linearly polarized light, but may be elliptically polarized light. Also, a plurality of polarizing plates can be laminated together, a polarizing plate and a retardation plate can be combined,
Alternatively, a laminated product may be used.

【0049】偏光フィルムを構成する主たる材料として
はTACフィルム(トリアセチルセルロースフィルム)
が最適である。TACフィルムは、優れた光学特性、表
面平滑性および加工適性を有するからである。
TAC film (triacetyl cellulose film) is used as a main material for the polarizing film.
Is the best. This is because the TAC film has excellent optical properties, surface smoothness and processability.

【0050】AIRコートは誘電体単層膜もしくは多層
膜で形成する構成が例示される。その他、1.35〜
1.45の低屈折率の樹脂を塗布してもよい。たとえ
ば、フッ素系のアクリル樹脂などが例示される。特に屈
折率が1.37以上1.42以下のものが特性は良好で
ある。
The AIR coat is exemplified by a dielectric single layer film or a multilayer film. Others, 1.35
A resin having a low refractive index of 1.45 may be applied. For example, a fluorinated acrylic resin is exemplified. In particular, those having a refractive index of 1.37 or more and 1.42 or less have good characteristics.

【0051】また、AIRコートは3層の構成あるいは
2層構成がある。なお、3層の場合は広い可視光の波長
帯域での反射を防止するために用いられる。これをマル
チコートと呼ぶ。2層の場合は特定の可視光の波長帯域
での反射を防止するために用いられる。これをVコート
と呼ぶ。マルチコートとVコートは表示パネルの用途に
応じて使い分ける。なお、2層以上の限定するものでは
なく、1層でもよい。
The AIR coat has a three-layer structure or a two-layer structure. In the case of three layers, it is used to prevent reflection in a wide visible wavelength band. This is called a multi coat. In the case of two layers, it is used to prevent reflection in a specific visible light wavelength band. This is called a V coat. The multi coat and the V coat are used properly according to the use of the display panel. The number of layers is not limited to two or more, and one layer may be used.

【0052】マルチコートの場合は酸化アルミニウム
(Al2O3)を光学的膜厚がnd=λ/4、ジルコニウ
ム(ZrO2)をnd1=λ/2、フッ化マグネシウム
(MgF2)をnd1=λ/4積層して形成する。通常、
λとして520nmもしくはその近傍の値として薄膜は
形成される。
In the case of multi-coating, aluminum oxide (Al2O3) having an optical film thickness nd = λ / 4, zirconium (ZrO2) nd1 = λ / 2, and magnesium fluoride (MgF2) nd1 = λ / 4 are laminated. To form. Normal,
A thin film is formed with λ of 520 nm or a value in the vicinity thereof.

【0053】Vコートの場合は一酸化シリコン(Si
O)を光学的膜厚nd1=λ/4とフッ化マグネシウム
(MgF2)をnd1=λ/4、もしくは酸化イットリウ
ム(Y2O3)とフッ化マグネシウム(MgF2)をnd1
=λ/4積層して形成する。SiOは青色側に吸収帯域
があるため青色光を変調する場合はY2O3を用いた方が
よい。また、物質の安定性からもY2O3の方が安定して
いるため好ましい。また、SiO2薄膜を使用してもよ
い。もちろん、低屈折率の樹脂等を用いてAIRコート
としてもよい。たとえばフッ素等のアクリル樹脂が例示
される。これらは紫外線硬化タイプを用いることが好ま
しい。
In the case of V coat, silicon monoxide (Si
O) is an optical film thickness nd1 = λ / 4 and magnesium fluoride (MgF2) is nd1 = λ / 4, or yttrium oxide (Y2O3) and magnesium fluoride (MgF2) are nd1.
= Λ / 4 stacked layers. Since SiO has an absorption band on the blue side, it is better to use Y2O3 when modulating blue light. In addition, Y2O3 is more stable in terms of the stability of the substance, which is preferable. Alternatively, a SiO2 thin film may be used. Of course, the AIR coat may be made by using a resin having a low refractive index. For example, acrylic resin such as fluorine is exemplified. It is preferable to use an ultraviolet curing type of these.

【0054】なお、表示パネルに静電気がチャージされ
ることを防止するため、カバー基板などの導光板、表示
パネル82などの表面に親水性の樹脂を塗布しておくこ
と、あるいはパネルなどの基板材料に親水性が良好な材
料で構成しておくことが好ましい。
In order to prevent the display panel from being charged with static electricity, a hydrophilic resin is applied to the surface of the light guide plate such as the cover substrate or the display panel 82, or the substrate material of the panel or the like. It is preferable to use a material having good hydrophilicity.

【0055】1画素には複数のスイッチング素子あるい
は電流制御素子としての薄膜トランジスタ(TFT)を
形成する。形成するTFTは、同じ種類のTFTであっ
てもよいし、Pチャンネル型とNチャンネル型のTFT
というように、違う種類のTFTであってもよいが望ま
しくはスイッチングトランジスタ、駆動用トランジスタ
とも同極性のものが望ましい。またTFTの構造は、プ
レーナー型のTFTで限定されるものではなく、スタガ
ー型でも、逆スタガー型でもよく、また、セルフアライ
ン方式を用いて不純物領域(ソース、ドレイン)が形成
されたものでも、非セルフアライン方式によるものでも
よい。
A thin film transistor (TFT) as a plurality of switching elements or current control elements is formed in one pixel. The TFTs to be formed may be TFTs of the same type, or P-channel type and N-channel type TFTs.
Although different types of TFTs may be used, it is desirable that the switching transistor and the driving transistor have the same polarity. The structure of the TFT is not limited to the planar type TFT, and may be a stagger type or an inverted stagger type, or a structure in which the impurity regions (source, drain) are formed by using the self-alignment method. A non-self-aligned method may be used.

【0056】本発明のEL表示素子15は、基板上に、
ホール注入電極(画素電極)となるITO、1種以上の
有機層と、電子注入電極とが順次積層されたEL構造体
を有する。前記基板にはTFTが設けられている。
The EL display element 15 of the present invention is formed on a substrate by
It has an EL structure in which ITO serving as a hole injection electrode (pixel electrode), one or more kinds of organic layers, and an electron injection electrode are sequentially stacked. TFTs are provided on the substrate.

【0057】本発明のEL表示素子を製造するには、ま
ず、基板上にTFTのアレイを所望の形状に形成する。
そして、平坦化膜上の画素電極として透明電極であるI
TOをスパッタ法で成膜、パターニングする。その後、
有機EL層、電子注入電極等を積層する。
To manufacture the EL display element of the present invention, first, an array of TFTs is formed in a desired shape on a substrate.
Then, as a pixel electrode on the flattening film, the transparent electrode I
TO is formed into a film by a sputtering method and patterned. afterwards,
An organic EL layer, an electron injection electrode, etc. are laminated.

【0058】TFTとしては、通常の多結晶シリコンT
FTを用いればよい。TFTは、EL構造体の各画素の
端部に設けられ、その大きさは10〜30μm程度であ
る。なお、画素の大きさは20μm×20μm〜300
μm×300μm程度である。
As the TFT, an ordinary polycrystalline silicon T is used.
FT may be used. The TFT is provided at the end of each pixel of the EL structure and has a size of about 10 to 30 μm. The size of the pixel is 20 μm × 20 μm to 300 μm.
It is about μm × 300 μm.

【0059】基板上には、TFTの配線電極が設けられ
る。配線電極は抵抗が低く、ホール注入電極を電気的に
接続して抵抗値を低く抑える機能があり、一般的にはそ
の配線電極は、Al、Alおよび遷移金属(ただしTi
を除く)、Tiまたは窒化チタン(TiN)のいずれか
1種または2種以上を含有するものが使われるが、本発
明においてはこの材料に限られるものではない。EL構
造体の下地となるホール注入電極とTFTの配線電極と
を併せた全体の厚さとしては、特に制限はないが、通常
100〜1000nm程度とすればよい。
Wiring electrodes of TFTs are provided on the substrate. The wiring electrode has a low resistance and has a function of electrically connecting the hole injecting electrode to suppress the resistance value to a low level. Generally, the wiring electrode is made of Al, Al and a transition metal (however, Ti
However, a material containing one or more of Ti and titanium nitride (TiN) is used, but the present invention is not limited to this material. The total thickness of the hole injecting electrode, which is the base of the EL structure, and the wiring electrode of the TFT is not particularly limited, but is usually about 100 to 1000 nm.

【0060】TFT11の配線電極とEL構造体の有機
層との間には絶縁層を設ける。絶縁層は、SiO2等の
酸化ケイ素、窒化ケイ素などの無機系材料をスパッタや
真空蒸着で成膜したもの、SOG(スピン・オン・グラ
ス)で形成した酸化ケイ素層、フォトレジスト、ポリイ
ミド、アクリル樹脂などの樹脂系材料の塗膜など、絶縁
性を有するものであればいずれであってもよい。中でも
ポリイミドが好ましい。また、絶縁層は、配線電極を水
分や腐食から守る耐食・耐水膜の役割も果たす。
An insulating layer is provided between the wiring electrode of the TFT 11 and the organic layer of the EL structure. The insulating layer is formed by forming an inorganic material such as silicon oxide such as SiO2 or silicon nitride by sputtering or vacuum deposition, a silicon oxide layer formed by SOG (spin on glass), a photoresist, a polyimide, an acrylic resin. Any film having insulating properties such as a coating film of a resin material such as Of these, polyimide is preferable. The insulating layer also plays a role of a corrosion / water resistant film that protects the wiring electrodes from moisture and corrosion.

【0061】EL構造体の発光ピークは2つ以上であっ
てもかまわない。本発明のEL表示素子は、緑および青
色発光部は、例えば、青緑色発光のEL構造体と、緑色
透過層または青色透過層との組み合わせにより得られ
る。赤色発光部は、青緑色発光のEL構造体と、このE
L構造体の青緑発光を赤色に近い波長に変換する蛍光変
換層により得ることができる。
The EL structure may have two or more emission peaks. In the EL display element of the present invention, the green and blue light emitting portions are obtained by, for example, combining a blue green light emitting EL structure with a green transmission layer or a blue transmission layer. The red light emitting portion is composed of a blue green light emitting EL structure and this E structure.
It can be obtained by a fluorescence conversion layer that converts the blue-green emission of the L structure into a wavelength close to red.

【0062】次に、本発明のEL表示素子15を構成す
るEL構造体について説明する。本発明のEL構造体
は、透明電極である電子注入電極と、1種以上の有機層
と、ホール注入電極とを有する。有機層は、それぞれ少
なくとも1層のホール輸送層および発光層を有し、例え
ば、電子注入輸送層、発光層、正孔輸送層、正孔注入層
を順次有する。なお、ホール輸送層はなくてもよい。本
発明のEL構造体の有機層は、種々の構成とすることが
でき、電子注入・輸送層を省略したり、あるいは発光層
と一体としたり、正孔注入輸送層と発光層とを混合して
もよい。電子注入電極は、蒸着、スパッタ法等、好まし
くは蒸着法で成膜される仕事関数の小さい金属、化合物
または合金で構成される。
Next, the EL structure which constitutes the EL display element 15 of the present invention will be described. The EL structure of the present invention has an electron injection electrode which is a transparent electrode, at least one organic layer, and a hole injection electrode. The organic layer has at least one hole transport layer and at least one light emitting layer, for example, an electron injecting and transporting layer, a light emitting layer, a hole transporting layer, and a hole injecting layer in that order. The hole transport layer may be omitted. The organic layer of the EL structure of the present invention can have various constitutions, such as omitting the electron injecting / transporting layer or integrating with the light emitting layer, or by mixing the hole injecting / transporting layer and the light emitting layer. May be. The electron injection electrode is made of a metal, compound or alloy having a small work function, which is preferably formed by a vapor deposition method such as a vapor deposition method or a sputtering method.

【0063】ホール注入電極としては、ホール注入電極
側から発光した光を取り出す構造であるため、例えば、
ITO(錫ドープ酸化インジウム)、IZO(亜鉛ドー
プ酸化インジウム)、ZnO、SnO2、In2O3等が
挙げられるが、特にITO、IZOが好ましい。ホール
注入電極の厚さは、ホール注入を十分行える一定以上の
厚さを有すれば良く、通常、10〜500nm程度とする
ことが好ましい。素子の信頼性を向上させるために駆動
電圧が低いことが必要であるが、好ましいものとして、
10〜30Ω/□(膜厚50〜300nm)のITOが挙
げられる。実際に使用する場合には、ITO等のホール
注入電極界面での反射による干渉効果が、光取り出し効
率や色純度を十分に満足するように、電極の膜厚や光学
定数を設定すればよい。
Since the hole injecting electrode has a structure in which light emitted from the hole injecting electrode side is extracted, for example,
Examples thereof include ITO (tin-doped indium oxide), IZO (zinc-doped indium oxide), ZnO, SnO2, In2O3, and the like, with ITO and IZO being particularly preferable. The thickness of the hole injecting electrode may be a certain thickness or more so that hole injection can be sufficiently performed, and it is usually preferable to set the thickness to about 10 to 500 nm. A low drive voltage is required to improve the reliability of the element, but the preferable one is
Examples of the ITO include 10 to 30 Ω / □ (film thickness 50 to 300 nm). In actual use, the film thickness and optical constants of the electrodes may be set so that the interference effect due to reflection at the hole injection electrode interface such as ITO sufficiently satisfies the light extraction efficiency and color purity.

【0064】ホール注入電極は、蒸着法等によっても形
成できるが、スパッタ法により形成することが好まし
い。スパッタガスとしては、特に制限するものではな
く、Ar、He、Ne、Kr、Xe等の不活性ガス、あ
るいはこれらの混合ガスを用いればよい。
The hole injecting electrode can be formed by a vapor deposition method or the like, but is preferably formed by a sputtering method. The sputtering gas is not particularly limited, and an inert gas such as Ar, He, Ne, Kr, Xe, or a mixed gas thereof may be used.

【0065】電子注入電極は、蒸着、スパッタ法等、好
ましくは蒸着法で成膜される仕事関数の小さい金属、化
合物または合金で構成される。成膜される電子注入電極
の構成材料としては例えば、K、Li、Na、Mg、L
a、Ce、Ca、Sr、Ba、Al、Ag、In、S
n、Zn、Zr等の金属元素単体、または安定性を向上
させるためにそれらを含む2成分、3成分の合金系を用
いることが好ましい。合金系としては、例えばAg・M
g(Ag:1〜20at%)、Al・Li(Li:0.3
〜14at%)、In・Mg(Mg:50〜80at%)、
Al・Ca(Ca:5〜20at%)等が好ましい。
The electron injecting electrode is made of a metal, compound or alloy having a low work function, which is formed by vapor deposition, sputtering or the like, preferably vapor deposition. The constituent material of the electron injection electrode to be formed is, for example, K, Li, Na, Mg, L.
a, Ce, Ca, Sr, Ba, Al, Ag, In, S
It is preferable to use a simple metal element such as n, Zn, or Zr, or a two-component or three-component alloy system containing them in order to improve stability. As an alloy system, for example, Ag · M
g (Ag: 1 to 20 at%), Al.Li (Li: 0.3
˜14 at%), In.Mg (Mg: 50-80 at%),
Al.Ca (Ca: 5 to 20 at%) and the like are preferable.

【0066】電子注入電極薄膜の厚さは、電子注入を十
分行える一定以上の厚さとすれば良く、0.1nm以上、
好ましくは1nm以上とすればよい。また、その上限値に
は特に制限はないが、通常、膜厚は100〜500nm程
度とすればよい。
The thickness of the electron injecting electrode thin film may be a certain thickness or more for sufficiently injecting electrons, and is 0.1 nm or more,
The thickness is preferably 1 nm or more. The upper limit value is not particularly limited, but usually the film thickness may be about 100 to 500 nm.

【0067】正孔注入層は、ホール注入電極からの正孔
の注入を容易にする機能を有し、正孔輸送層は、正孔を
輸送する機能および電子を妨げる機能を有し、電荷注入
層、電荷輸送層とも称される。
The hole injecting layer has a function of facilitating injection of holes from the hole injecting electrode, and the hole transporting layer has a function of transporting holes and a function of hindering electrons, and injects charge. It is also called a layer or a charge transport layer.

【0068】電子注入輸送層は、発光層に用いる化合物
の電子注入輸送機能がさほど高くないときなどに設けら
れ、電子注入電極からの電子の注入を容易にする機能、
電子を輸送する機能および正孔を妨げる機能を有する。
正孔注入層、正孔輸送層および電子注入輸送層は、発光
層へ注入される正孔や電子を増大・閉じ込めさせ、再結
合領域を最適化させ、発光効率を改善する。なお、電子
注入輸送層は、注入機能を持つ層と輸送機能を持つ層と
に別個に設けてもよい。
The electron injecting and transporting layer is provided when the electron injecting and transporting function of the compound used for the light emitting layer is not so high, and the function of facilitating the injection of electrons from the electron injecting electrode,
It has a function of transporting electrons and a function of hindering holes.
The hole injection layer, the hole transport layer, and the electron injection transport layer increase and confine holes and electrons injected into the light emitting layer, optimize the recombination region, and improve the light emission efficiency. Note that the electron injecting and transporting layer may be separately provided in a layer having an injecting function and a layer having a transporting function.

【0069】発光層の厚さ、正孔注入層と正孔輸送層と
を併せた厚さおよび電子注入輸送層の厚さは特に限定さ
れず、形成方法によっても異なるが、通常、5〜100
nm程度とすることが好ましい。
The thickness of the light emitting layer, the combined thickness of the hole injecting layer and the hole transporting layer, and the thickness of the electron injecting and transporting layer are not particularly limited and may vary depending on the forming method.
It is preferably about nm.

【0070】正孔注入層、正孔輸送層の厚さおよび電子
注入輸送層の厚さは、再結合・発光領域の設計による
が、発光層の厚さと同程度もしくは1/10〜10倍程
度とすればよい。正孔注入層、正孔輸送層の厚さ、およ
び、電子注入層と電子輸送層とを分ける場合のそれぞれ
の厚さは、注入層は1nm以上、輸送層は20nm以上とす
るのが好ましい。このときの注入層、輸送層の厚さの上
限は、通常、注入層で100nm程度、輸送層で100nm
程度である。このような膜厚については注入輸送層を2
層設けるときも同じである。
The thickness of the hole injecting layer, the hole transporting layer and the thickness of the electron injecting and transporting layer are the same as the thickness of the light emitting layer or about 1/10 to 10 times, depending on the design of the recombination / light emitting region. And it is sufficient. The thicknesses of the hole injection layer and the hole transport layer, and the thicknesses of the electron injection layer and the electron transport layer when separated, are preferably 1 nm or more for the injection layer and 20 nm or more for the transport layer. At this time, the upper limit of the thickness of the injection layer and the transport layer is usually about 100 nm in the injection layer and 100 nm in the transport layer.
It is a degree. For such a film thickness, the injection and transport layer should be 2
The same applies when layers are provided.

【0071】また、組み合わせる発光層や電子注入輸送
層や正孔注入輸送層のキャリア移動度やキャリア密度
(イオン化ポテンシャル・電子親和力により決まる)を
考慮しながら、膜厚をコントロールすることで、再結合
領域・発光領域を自由に設計することが可能であり、発
光色の設計や、両電極の干渉効果による発光輝度・発光
スペクトルの制御や、発光の空間分布の制御を可能にで
きる。
The recombination can be achieved by controlling the film thickness while considering the carrier mobility and carrier density (determined by the ionization potential and electron affinity) of the light emitting layer, electron injecting and transporting layer and hole injecting and transporting layer to be combined. It is possible to freely design the area and the light emitting area, and it is possible to design the light emitting color, control the light emitting luminance and the light emitting spectrum by the interference effect of both electrodes, and control the spatial distribution of light emission.

【0072】本発明のEL素子15の発光層には、発光
機能を有する化合物である蛍光性物質を含有させる。こ
の蛍光性物質としては、例えば、特開昭63−2646
92号公報等に開示されているようなトリス(8−キノ
リノラト)アルミニウム〔Alq3〕等の金属錯体色
素、特開平6−110569号公報(フェニルアントラ
セン誘導体)、同6−114456号公報(テトラアリ
ールエテン誘導体)、特開平6−100857号公報、
同特開平2−247278号公報等に開示されているよ
うな青緑色発光材料が挙げられる。
The light emitting layer of the EL device 15 of the present invention contains a fluorescent substance which is a compound having a light emitting function. Examples of the fluorescent substance include, for example, JP-A-63-2646.
No. 92, etc., metal complex dyes such as tris (8-quinolinolato) aluminum [Alq3], JP-A-6-110569 (phenylanthracene derivative), and JP-A-6-114456 (tetraarylethene). Derivative), JP-A-6-100857,
A blue-green light emitting material such as that disclosed in JP-A-2-247278 can be used.

【0073】青色発光の有機EL素子15は、発光層の
材料に発光波長が約400nmの「DMPhen(Triphenyla
mine)」を用いるとよい。この際、発光効率を高める目
的で,電子注入層(Bathocuproine)と正孔注入層(m-M
TDATXA)にバンド・ギャップが発光層と同じ材料を採用
することが好ましい。バンド・ギャップが3.4eVと
大きいDMPhenを発光層に用いただけでは,電子は電子注
入層に,正孔は正孔注入層にとどまり,発光層で電子と
正孔の再結合が起こりにくいからである。DMPhenのよう
にアミン基を備える発光材料は構造が不安定で長寿命化
し難いという課題に対しては、DMPhen中で励起したエネ
ルギーをドーパントに移動させ,ドーパントから発光さ
せることにより解決できる。
The organic EL device 15 for blue light emission is made of a material for the light emitting layer, such as "DMPhen (Triphenyla) having an emission wavelength of about 400 nm.
mine) ”is recommended. At this time, an electron injection layer (Bathocuproine) and a hole injection layer (mM
It is preferable to use the same material as TDATXA) with the same band gap as that of the light emitting layer. If only DMPhen with a large band gap of 3.4 eV is used in the light emitting layer, the electrons remain in the electron injecting layer and the holes remain in the hole injecting layer, and recombination of electrons and holes does not easily occur in the light emitting layer. is there. The problem that the structure of the light emitting material having amine group such as DMPhen is unstable and it is difficult to prolong the life can be solved by transferring the energy excited in DMPhen to the dopant and causing the dopant to emit light.

【0074】EL材料として、りん光発光材料を用いる
ことにより発光効率を向上できる。蛍光発光材料は、そ
の外部量子効率は2〜3%程度である。蛍光発光材料は
内部量子効率(励起によるエネルギーが光に変わる効
率)が25%なのに対し,りん光発光材料は100%近
くに達するため,外部量子効率が高くなる。
The luminous efficiency can be improved by using a phosphorescent material as the EL material. The external quantum efficiency of the fluorescent light emitting material is about 2 to 3%. The fluorescent material has an internal quantum efficiency of 25% (the efficiency of energy converted into light by excitation), whereas the phosphorescent material has a quantum efficiency of nearly 100%, resulting in a high external quantum efficiency.

【0075】有機EL素子の発光層のホスト材料にはC
BPを用いるとよい。ここに赤色(R)や緑色(G)、
青色(B)のりん光発光材料をドーピングしている。ド
ーピングした材料はすべてIrを含む。R材料はBtp2Ir
(acac)、G材料は(ppy)2Ir(acac)、B材料はFIrpicを用
いると良い。
C is used as the host material of the light emitting layer of the organic EL device.
It is preferable to use BP. Red (R) and green (G),
It is doped with a blue (B) phosphorescent material. All doped materials contain Ir. R material is Btp2Ir
(acac), G material may be (ppy) 2Ir (acac), and B material may be FIrpic.

【0076】また、正孔注入層・正孔輸送層には、例え
ば、特開昭63−295695号公報、特開平2−19
1694号公報、特開平3−792号公報、特開平5−
234681号公報、特開平5−239455号公報、
特開平5−299174号公報、特開平7−12622
5号公報、特開平7−126226号公報、特開平8−
100172号公報、EP0650955A1等に記載
されている各種有機化合物を用いることができる。正孔
注入輸送層、発光層および電子注入輸送層の形成には、
均質な薄膜が形成できることから真空蒸着法を用いるこ
とが好ましい。
The hole injecting layer / hole transporting layer may be formed, for example, in JP-A-63-295695 and JP-A-2-19.
1694, JP 3-792, JP 5-
234681, JP-A-5-239455,
JP-A-5-299174 and JP-A-7-12622
Japanese Patent Laid-Open No. 5-126226, Japanese Patent Laid-Open No. 8-126226
Various organic compounds described in 100172, EP0650955A1 and the like can be used. To form the hole injecting and transporting layer, the light emitting layer and the electron injecting and transporting layer,
It is preferable to use the vacuum vapor deposition method because a uniform thin film can be formed.

【0077】以下、本発明のEL表示パネルの製造方法
および構造についてさらに詳しく説明をする。以前に説
明したように、まず、アレイ基板49に画素を駆動する
TFT11を形成する。1つの画素は4個または5個の
TFTで構成される。また、画素は電流プログラムさ
れ、プログラムされた電流がEL素子15に供給され
る。通常、電流プログラムされた値は電圧値として蓄積
容量19に保持される。このTFT11の組み合わせな
ど画素構成については後に説明をする。次にTFT11
に正孔注入電極としての画素電極を形成する。画素電極
48はフォトリソグラフィーによりパターン化する。な
お、TFT11の下層、あるいは上層にはTFT11に
光入射することにより発生するホトコンダクタ現象(以
後、ホトコンと呼ぶ)による画質劣化を防止するため
に、遮光膜を形成または配置する。
The manufacturing method and structure of the EL display panel of the present invention will be described in more detail below. As described above, first, the TFTs 11 for driving the pixels are formed on the array substrate 49. One pixel is composed of 4 or 5 TFTs. In addition, the pixel is current-programmed, and the programmed current is supplied to the EL element 15. Usually, the current programmed value is held in the storage capacitor 19 as a voltage value. The pixel configuration such as the combination of the TFTs 11 will be described later. Next, TFT11
A pixel electrode as a hole injecting electrode is formed on. The pixel electrode 48 is patterned by photolithography. A light-shielding film is formed or placed on the lower layer or the upper layer of the TFT 11 in order to prevent image quality deterioration due to a photoconductor phenomenon (hereinafter referred to as photocon) that occurs when light is incident on the TFT 11.

【0078】なお、電流プログラムとは、ソースドライ
バ回路14からプログラム電流を画素に印加し(もしく
は画素からソースドライバ回路14に吸収し)、この電
流に相当する信号値を画素に保持させるものである。こ
の保持された信号値に対応する電流をEL素子15に流
す(もしくは、EL素子15から流し込む)。つまり、
電流でプログラムし、プログラムされた電流に相当(対
応)する電流をEL素子15に流すようにするものであ
る。
In the current programming, a program current is applied from the source driver circuit 14 to the pixel (or absorbed by the source driver circuit 14 from the pixel), and a signal value corresponding to this current is held in the pixel. . A current corresponding to the held signal value is made to flow in the EL element 15 (or made to flow from the EL element 15). That is,
The current is programmed, and a current corresponding to (corresponding to) the programmed current is passed through the EL element 15.

【0079】一方、電圧プログラムとは、ソースドライ
バ回路14からプログラム電圧を画素に印加し、この電
圧に相当する信号値を画素に保持させるものである。こ
の保持された電圧に対応する電流をEL素子15に流
す。つまり、電圧でプログラムし、画素内で電圧を電流
値に変換し、プログラムされた電圧に相当(対応)する
電流をEL素子15に流すようにするものである。
On the other hand, the voltage programming is to apply a program voltage from the source driver circuit 14 to the pixel and hold a signal value corresponding to this voltage in the pixel. A current corresponding to the held voltage is passed through the EL element 15. In other words, the voltage is programmed, the voltage is converted into a current value in the pixel, and a current corresponding to (corresponding to) the programmed voltage is passed through the EL element 15.

【0080】プラスチック基板にTFTを形成するため
には、有機半導体を形成する表面を加工することで、炭
素と水素からなるペンタセン分子を利用し電子薄膜を形
成すればよい。この薄膜は、従来の結晶粒の20倍から
100倍の大きさを持つとともに、電子デバイス製造に
適した十分な半導体特性を具備する。
In order to form a TFT on a plastic substrate, an electronic thin film may be formed by processing the surface on which an organic semiconductor is formed and utilizing pentacene molecules composed of carbon and hydrogen. This thin film has a size 20 to 100 times as large as that of a conventional crystal grain, and has sufficient semiconductor characteristics suitable for electronic device manufacturing.

【0081】ペンタセンは、シリコン基板上で成長する
際に表面の不純物に付着する傾向がある。このため、成
長が不規則となり、高品質のデバイスを製造するには小
さすぎる結晶粒になる。結晶粒をより大きく成長させる
ために、まずシリコン基板の上に、シクロヘキセンと呼
ばれる分子の単一層「分子バッファ」を塗布するとよ
い。この層がシリコン上の「sticky sites(くっつきや
すい場所)」を覆うため、清浄な表面ができてペンタセ
ンが非常に大きな結晶粒にまで成長する。
Pentacene tends to adhere to surface impurities as it grows on a silicon substrate. This results in irregular growth and grain sizes that are too small to produce high quality devices. In order to grow the crystal grains larger, a single layer of molecules called cyclohexene "molecular buffer" may be applied first on a silicon substrate. This layer covers "sticky sites" on the silicon, creating a clean surface and allowing pentacene to grow to very large grains.

【0082】これらの新しい大きな結晶粒の薄膜を使う
ことにより、大型結晶粒のペンタセンを用いたフレキシ
ブルなトランジスタ(TFT)を作製することができ
る。このようなフレキシブルなトランジスタの大量生産
のために、低い温度で液状の材料を塗ることによってト
ランジスタ(TFT)を製造することができる。
By using these new thin film of large crystal grains, it is possible to manufacture a flexible transistor (TFT) using pentacene of large crystal grains. For mass production of such a flexible transistor, a transistor (TFT) can be manufactured by applying a liquid material at a low temperature.

【0083】また、基板上にゲートとなる金属薄膜と島
状に形成し、この上にアモルファスシリコン膜を蒸着あ
るいは塗布した後、加熱して半導体膜を形成してもよ
い。島状に形成した部分に半導体膜が良好に結晶化す
る。そのため、モビリティが良好となる。
Alternatively, a semiconductor thin film may be formed by forming a metal thin film to be a gate and islands on a substrate, depositing or coating an amorphous silicon film on this, and then heating. The semiconductor film is excellently crystallized in the island-shaped portion. Therefore, the mobility becomes good.

【0084】有機トランジスタ(TFT)として、静電
誘導トランジスタ(SIT)と呼ぶ構造を採用すること
が好ましい。アモルファス状態のペンタセンを使用す
る。正孔の移動度は1×10cm2/Vsと結晶化したペンタ
センよりも低い。しかし、SIT構造を採用することに
より周波数特性を高めることができる。ペンタセンの膜
厚は100以上300nmとすることが好ましい。
As the organic transistor (TFT), it is preferable to adopt a structure called a static induction transistor (SIT). Amorphous pentacene is used. The hole mobility is 1 × 10 cm 2 / Vs, which is lower than that of crystallized pentacene. However, the frequency characteristic can be improved by adopting the SIT structure. The thickness of pentacene is preferably 100 to 300 nm.

【0085】また、有機TFTとしてp型電界効果トラ
ンジスタでもよい。プラスチック基板上にTFTを形成
できる。プラスチック基板ごと折り曲げることが可能な
ので、フレキシブルなTFT型表示パネルを構成できる
ペンタセンは多結晶状態とすることが好ましい。ゲート
絶縁膜の材料にはPMMAを使用することが好ましい。
有機トランジスタの活性層にはナフタセンを使ってもよ
い。
A p-type field effect transistor may be used as the organic TFT. TFTs can be formed on a plastic substrate. Since it is possible to fold the plastic substrate together, it is preferable that pentacene, which can form a flexible TFT display panel, be in a polycrystalline state. It is preferable to use PMMA as the material of the gate insulating film.
You may use naphthacene for the active layer of an organic transistor.

【0086】洗浄時に酸素プラズマ、O2アッシャーを
使用すると、画素電極48の周辺部の平坦化膜71も同
時にアッシングされ、画素電極48の周辺部がえぐられ
てしまう。この課題を解決するために本発明では図8で
示すように画素電極48周辺部をアクリル樹脂からなる
エッジ保護膜81を形成している。エッジ保護膜81の
構成材料としては、平坦化膜71を構成するアクリル系
樹脂、ポリイミド樹脂などの有機材料と同一材料が例示
され、その他、SiO2、SiNxなどの無機材料が例示され
る。その他、Al2O3などであってもよいことは言うま
でもない。
If oxygen plasma and an O 2 asher are used during cleaning, the flattening film 71 on the peripheral portion of the pixel electrode 48 is also ashed at the same time, and the peripheral portion of the pixel electrode 48 is scooped out. In order to solve this problem, in the present invention, an edge protection film 81 made of acrylic resin is formed around the pixel electrode 48 as shown in FIG. Examples of the constituent material of the edge protection film 81 include the same materials as the organic materials such as acrylic resin and polyimide resin that form the flattening film 71, and other examples include inorganic materials such as SiO2 and SiNx. Needless to say, it may be Al2O3 or the like.

【0087】エッジ保護膜81は画素電極48のパター
ニング48後、画素電極48間を埋めるように形成す
る。もちろん、このエッジ保護膜81を2以上4μm以
下の高さに形成し、有機EL材料を塗り分ける際のメタ
ルマスクの土手3661(メタルマスクが画素電極48
と直接接しないようにするスペーサ)としてもよいこと
は言うまでもない。
The edge protection film 81 is formed so as to fill the space between the pixel electrodes 48 after the patterning 48 of the pixel electrodes 48. Of course, this edge protection film 81 is formed to a height of 2 to 4 μm and the bank 3661 of the metal mask (metal mask is the pixel electrode 48) when the organic EL materials are separately coated.
Needless to say, it may be used as a spacer so as not to come into direct contact with.

【0088】また、図366に図示するように画素電極
48を大きくすることも発光効率を向上することに有効
である。図366は画素電極48の周辺にエッジ保護膜
を兼用する土手3661を形成している。土手3661
は2以上4μm以下の高さに形成される。土手3661
は有機EL材料を塗り分ける際のメタルマスク(図示せ
ず)画素電極48と直接接しないようにするスペーサと
して機能する。
Further, enlarging the pixel electrode 48 as shown in FIG. 366 is also effective in improving the light emission efficiency. In FIG. 366, a bank 3661 which also serves as an edge protection film is formed around the pixel electrode 48. Bank 3661
Is formed to a height of 2 to 4 μm. Bank 3661
Serves as a spacer for preventing direct contact with the metal mask (not shown) pixel electrode 48 when the organic EL material is separately coated.

【0089】図366に図示する本発明では、画素電極
48に重ねて、また、土手3661に重ねて第2の画素
電極3662を形成している。第2の画素電極3662
とは、画素電極48と同一材料で形成される。もちろ
ん、材料を変化させてもよい。第2の画素電極は、画素
電極48と電気的接続が取られる。また、土手3661
に重ねて形成される。そのため、画素開口率は高くな
る。
In the present invention shown in FIG. 366, the second pixel electrode 3662 is formed so as to overlap the pixel electrode 48 and the bank 3661. Second pixel electrode 3662
Are formed of the same material as the pixel electrode 48. Of course, the material may be changed. The second pixel electrode is electrically connected to the pixel electrode 48. In addition, bank 3661
Are formed on top of each other. Therefore, the pixel aperture ratio is high.

【0090】この第2の画素電極3662の上にEL膜
(47R(赤)、47G(緑)、47B(青))が形成
される。各EL膜はわずかな隙間をあけて形成される
か、周辺部を重ねられる。重ねられた箇所はほとんど発
光しない。また、EL膜47上にカソードとなるアルミ
膜が形成される。なお、図366において、第2の電極
を反射電極とし、本来、反射膜46を透明電極としても
よい。つまり、光の上取り出しである。
An EL film (47R (red), 47G (green), 47B (blue)) is formed on the second pixel electrode 3662. Each EL film is formed with a slight gap, or the peripheral portions are overlapped. Almost no light is emitted at the overlapped portions. Further, an aluminum film serving as a cathode is formed on the EL film 47. Note that in FIG. 366, the second electrode may be a reflective electrode and the reflective film 46 may be a transparent electrode originally. In other words, it is the upper extraction of light.

【0091】図366の構成では、土手3661の斜面
を画素開口部として使用している。そのため、EL膜に
印加される電流密度を低下でき、また、発光面積が広く
なるため、効率がよくなる(画素開口率が大幅に向上す
る)。
In the configuration of FIG. 366, the slope of the bank 3661 is used as the pixel opening. Therefore, the current density applied to the EL film can be reduced, and the light emitting area is widened, so that the efficiency is improved (the pixel aperture ratio is significantly improved).

【0092】以下、その他のEL表示パネル内で発生し
た光の取り出し効率を向上させる方式について説明をす
る。図279は、従来のEL表示装置の課題を説明する
ものである。図279において、2791は光の軌跡を
図示している。
Hereinafter, other methods for improving the efficiency of extracting light generated in the EL display panel will be described. FIG. 279 illustrates a problem of the conventional EL display device. In FIG. 279, 2791 shows the locus of light.

【0093】EL膜47で発生した光は、カソード46
で反射などして、ドライバ回路12(14)が形成され
た基板49から出射する。この光2791aは基板49
と空気との界面に対し、所定の角度で入射した光は基板
49から出射する。しかし、臨界角θ以上の角度で入射
した光2791bは基板49内で全反射してしまう。こ
の全反射した光2791bは、基板49内で乱反射し、
表示コントラストを低下させる。
The light generated by the EL film 47 is emitted by the cathode 46.
The light is emitted from the substrate 49 on which the driver circuit 12 (14) is formed by being reflected. This light 2791a is transmitted to the substrate 49
Light incident at a predetermined angle on the interface between the air and the air is emitted from the substrate 49. However, the light 2791b incident at an angle equal to or greater than the critical angle θ is totally reflected inside the substrate 49. This totally reflected light 2791b is irregularly reflected in the substrate 49,
Reduces display contrast.

【0094】全反射した光2791bは損失となる。こ
の損失となる光の割合は、EL素子15が発生する全光
束量の2/3に達する。したがって、光2791bの発
生を低減することが、光利用率の向上に直結する。
The totally reflected light 2791b becomes a loss. The proportion of light that causes this loss reaches 2/3 of the total luminous flux generated by the EL element 15. Therefore, reducing the generation of the light 2791b directly leads to the improvement of the light utilization rate.

【0095】この課題を解決する構成が図280の構成
である。図7などで説明した封止膜73上に屈折シート
(光屈折部材あるいは光屈折板)を取り付けている(配
置している、あるいは形成している)。屈折シート28
01は画素16に対応するように、三角形あるいは多角
形もしくは円弧上に屈折部2801が形成されている。
この屈折部2801は全体が透明部材で構成してもよ
く、また、図280のaで示す部分(屈折部2802の
内面)に反射膜を形成してもよい。反射膜は、Al,銀
などの金属膜の他、低屈折率の誘電体膜と高屈折率の誘
電体膜とを多層に形成することにより構成した干渉膜で
もよい。また、スネルの法則による全反射領域となるよ
うに形状を設定してもよい。
The configuration for solving this problem is shown in FIG. 280. A refraction sheet (a light refraction member or a light refraction plate) is attached (arranged or formed) on the sealing film 73 described with reference to FIG. Refraction sheet 28
Reference numeral 01 denotes a refracting portion 2801 formed in a triangle, a polygon, or an arc so as to correspond to the pixel 16.
The refracting portion 2801 may be entirely made of a transparent member, or a reflective film may be formed on the portion indicated by a in FIG. 280 (the inner surface of the refracting portion 2802). The reflection film may be a metal film of Al, silver, or the like, or may be an interference film formed by forming a low refractive index dielectric film and a high refractive index dielectric film in multiple layers. Further, the shape may be set so as to be a total reflection area according to Snell's law.

【0096】また、屈折シートに屈曲部2802を形成
したものを封止膜73上に取り付ける構成だけでなく、
封止膜73に直接に、屈曲部2802を形成してもよ
い。また、光の下取り出しの場合は、基板49自身を加
工し、屈曲部2802を形成してもよい。また、封止板
の上に形成または配置してもよい。
In addition to the structure in which the bending sheet 2802 formed on the refraction sheet is mounted on the sealing film 73,
The bent portion 2802 may be formed directly on the sealing film 73. In the case of extracting light under the light, the substrate 49 itself may be processed to form the bent portion 2802. It may also be formed or arranged on the sealing plate.

【0097】また、屈曲部2802の形状は、斜面状あ
るいは、円弧状に限定するものではなく、多角形、つい
たて状でもよい。また、多数の針状の突起が密集して形
成されたものでもよい。また、屈曲部2802は画素1
6の発光部の周辺部に形成されることを基本とする。つ
まり、画素16の開口率が30%であれば、画素16の
非発光部(つまり、70%の部分)に形成する。もちろ
ん、屈曲部2802の形成位置が発光位置に重なっても
よいことはいうまでもない。
The shape of the bent portion 2802 is not limited to the slope shape or the arc shape, but may be a polygonal shape or a vertical shape. Alternatively, a large number of needle-shaped protrusions may be formed. The bent portion 2802 is the pixel 1
It is basically formed on the periphery of the light emitting portion of No. 6. That is, if the aperture ratio of the pixel 16 is 30%, it is formed in the non-light emitting portion (that is, 70% portion) of the pixel 16. Of course, it goes without saying that the formation position of the bent portion 2802 may overlap the light emission position.

【0098】なお、屈曲部2802は画素16の発光部
の周辺部に形成されることを基本とするとしたが、表示
領域21の中央部を周辺部では多少変化させることが好
ましい。表示領域21の中央部では、屈曲部2802を
画素16の発光部の周辺部にちょうど配置されるように
形成する。表示領域21の周辺部では、屈曲部2802
を画素16の発光部の中心位置から外側にずらした配置
(形成)するように形成する。このように、屈曲部28
02の形成位置を表示領域の中央部と周辺部で変化させ
ることにより、モアレの発生を抑制でき、また、色ムラ
の発生を抑制できる。
Although the bent portion 2802 is basically formed in the peripheral portion of the light emitting portion of the pixel 16, it is preferable to slightly change the central portion of the display region 21 in the peripheral portion. In the central portion of the display area 21, the bent portion 2802 is formed so as to be arranged just around the light emitting portion of the pixel 16. In the peripheral portion of the display area 21, the bent portion 2802 is formed.
Are formed so as to be displaced (formed) from the center position of the light emitting portion of the pixel 16 to the outside. In this way, the bent portion 28
By changing the formation position of 02 in the central portion and the peripheral portion of the display area, it is possible to suppress the occurrence of moire and the occurrence of color unevenness.

【0099】また、屈曲部2802の位置を画素ごとに
多少ランダムに形成することによっても、モアレの発生
を抑制でき、また、色ムラの発生を抑制できる。
Further, by forming the position of the bent portion 2802 at random for each pixel, it is possible to suppress the occurrence of moire and also suppress the occurrence of color unevenness.

【0100】また、屈曲部2802の内部をEL素子1
5で発光した光が通過し、かつ、この屈曲部2802で
屈折してパネルの前面に出射されるように構成してもよ
い。つまり、屈曲部2802はプリズムとして作用す
る。この場合は、屈曲部2802は光透過材で構成する
必要がある。
The inside of the bent portion 2802 is the EL element 1
The light emitted at 5 may pass, and may be refracted at the bent portion 2802 and emitted to the front surface of the panel. That is, the bent portion 2802 functions as a prism. In this case, the bent portion 2802 needs to be made of a light transmitting material.

【0101】屈曲部2802が光透過材料で形成した場
合、この材料を着色することは効果がある。EL素子1
5から放射する光の帯域をカットするカラーフィルタの
効果を発揮できるからである。したがって、EL表示パ
ネルの色純度が向上し、ホワイトバランスも良好とな
る。また、EL素子15が白色発光の場合は、カラーフ
ィルタを設けず、この屈曲部2802をカラーフィルタ
として活用することができる。もちろん、カラーフィル
タを別途形成し、さらに着色した屈曲部2802を形成
または配置してもよいことは言うまでもない。また、屈
曲部2802または屈折シート2801に直接に着色し
てもよい。また、屈曲部2802または屈折シート28
01を着色材料で形成してもよい。
When the bent portion 2802 is made of a light transmitting material, coloring this material is effective. EL element 1
This is because the effect of the color filter that cuts the band of the light emitted from No. 5 can be exhibited. Therefore, the color purity of the EL display panel is improved and the white balance is improved. When the EL element 15 emits white light, the bent portion 2802 can be used as a color filter without providing a color filter. Of course, it goes without saying that a color filter may be separately formed and the colored bent portion 2802 may be formed or arranged. Further, the bent portion 2802 or the refraction sheet 2801 may be colored directly. In addition, the bent portion 2802 or the refraction sheet 28
01 may be formed of a coloring material.

【0102】着色材としては、色素あるいは顔料を樹脂
中に分散したものを用いても良いし、カラーフィルタの
ようにゼラチンやカゼインを酸性染料で染色してもよ
い。フルオラン系色素を発色させて用いることもでき
る。また、RGBの3色を必要とするものではなく、任
意の1色以上を用いればよい。また、色素を用いて天然
樹脂を染色することができる。また、色素を合成樹脂中
に分散した材料を用いることができる。色素の選択の範
囲は、アゾ染料、アントラキノン染料、フタロシアニン
染料、トリフェニルメタン染料などから適切な1種、も
しくはそれらのうち2種類以上の組み合わせでも良い。
As the colorant, a colorant or a pigment in which resin is dispersed may be used, or gelatin or casein may be dyed with an acid dye like a color filter. A fluoran dye can also be used by coloring it. Further, the three colors of RGB are not required, and any one or more colors may be used. Moreover, a natural resin can be dyed using a pigment. Further, a material in which a pigment is dispersed in a synthetic resin can be used. The range of selection of the dye may be an appropriate one selected from azo dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, triphenylmethane dyes, and the like, or a combination of two or more thereof.

【0103】屈曲部2802、屈折シート2801の構
成材料はポリマー(2861)を用いることが好まし
い。ポリマー(2861)としては、製造工程の容易
さ、液晶相との分離等の点より光硬化タイプの樹脂を用
いる。具体的な例として紫外線硬化性アクリル系樹脂が
例示され、特に紫外線照射によって重合硬化するアクリ
ルモノマー、アクリルオリゴマーを含有するものが好ま
しい。中でもフッ素基を有する光硬化性アクリル樹脂は
経時変化が少なく、耐光性も良好である。
A polymer (2861) is preferably used as the constituent material of the bent portion 2802 and the refraction sheet 2801. As the polymer (2861), a photo-curing type resin is used in terms of ease of manufacturing process, separation from the liquid crystal phase, and the like. As a specific example, an ultraviolet curable acrylic resin is exemplified, and a resin containing an acrylic monomer or an acrylic oligomer which is polymerized and cured by ultraviolet irradiation is particularly preferable. Among them, the photocurable acrylic resin having a fluorine group shows little change with time and has good light resistance.

【0104】ポリマー(2861)を構成する高分子形
成モノマーとしては、2−エチルヘキシルアクリレー
ト、2−ヒドロキシエチルアクリレート、ネオペンチル
グリコールドアクリレート、ヘキサンジオールジアクリ
ート、ジエチレングリコールジアクリレート、トリプロ
ピレングリコールジアクリレート、ポリエチレングリコ
ールジアクリレート、トリメチロールプロパントリアク
リレート、ペンタエリスリトールアクリレート等々であ
る。
Examples of the polymer-forming monomer constituting the polymer (2861) include 2-ethylhexyl acrylate, 2-hydroxyethyl acrylate, neopentyl glycol acrylate, hexanediol diacrylate, diethylene glycol diacrylate, tripropylene glycol diacrylate, polyethylene. Glycol diacrylate, trimethylolpropane triacrylate, pentaerythritol acrylate and the like.

【0105】オリゴマーもしくはプレポリマーとして
は、ポリエステルアクリレート、エポキシアクリレー
ト、ポリウレタンアクリレート等が挙げられる。
Examples of the oligomer or prepolymer include polyester acrylate, epoxy acrylate and polyurethane acrylate.

【0106】また、重合を速やかに行う為に重合開始剤
を用いても良く、この例として、2−ヒドロキシ−2−
メチル−1−フェニルプロパン−1−オン(メルク社製
「ダロキュア1173」)、1−(4−イソプロピルフ
ェニル)−2−ヒドロキシ−2−メチルプロパン−1−
オン(メルク社製「ダロキュア1116」)、1−ビド
ロキシシクロヘキシルフェニルケトン(チバガイキー社
製「イルガキュア184」)、ベンジルメチルケタール
(チバガイギー社製「イルガキュア651」)等が掲げ
られる。その他に任意成分として連鎖移動剤、光増感
剤、染料、架橋剤等を適宜併用することができる。
A polymerization initiator may be used in order to carry out the polymerization rapidly, and as an example thereof, 2-hydroxy-2-
Methyl-1-phenylpropan-1-one (“Darocur 1173” manufactured by Merck), 1- (4-isopropylphenyl) -2-hydroxy-2-methylpropan-1-
On (Merck "Darocur 1116"), 1-vidroxycyclohexyl phenyl ketone (Ciba-Gaiki "Irgacure 184"), benzyl methyl ketal (Ciba-Geigy "Irgacure 651") and the like. In addition, a chain transfer agent, a photosensitizer, a dye, a cross-linking agent and the like can be appropriately used in combination as optional components.

【0107】なお、以上のポリマー(2861)に関す
る事項は、主として図286、図287、図290の製
造方法で適用される。図288の製造方法の場合は、屈
曲部2802は無機材料で形成される。もちろん、図2
88の場合であっても、ポリマーのように有機材料で形
成してもよい。
The above-mentioned matters concerning the polymer (2861) are mainly applied to the manufacturing method of FIGS. 286, 287 and 290. In the case of the manufacturing method of FIG. 288, the bent portion 2802 is made of an inorganic material. Of course, Figure 2
Even in the case of 88, it may be formed of an organic material such as a polymer.

【0108】屈曲部2802の配置は、図281に図示
するように6角形状にするとよい。もちろん、8角形以
上などでもよい。画素16の発光部の周囲に屈曲部28
02を形成する。以上のように6角形形状とすることに
より、EL表示パネルを観察した際、表示画面をみる視
点を変化させた場合でも色ムラ、色シフトの発生が非常
に少なくすることができる。また、画素16の発光位置
と屈曲部2802の位置ずれによるモアレの発生も少な
い。
The bent portion 2802 may be arranged in a hexagonal shape as shown in FIG. Of course, it may be octagonal or more. A bent portion 28 is provided around the light emitting portion of the pixel 16.
02 is formed. With the hexagonal shape as described above, when the EL display panel is observed, the occurrence of color unevenness and color shift can be extremely reduced even when the viewpoint for viewing the display screen is changed. Further, the occurrence of moire due to the displacement between the light emitting position of the pixel 16 and the position of the bent portion 2802 is small.

【0109】図281は画面21の上下方向に同一色を
配置した構成(縦ストライプ構成)の実施例であった。
図282のように画素の色配置をモザイク状に形成(配
置)することにより、表示パネルを構成するドット数が
比較的少ない場合であっても画像の斜め方向の解像度が
向上する。
FIG. 281 shows an embodiment in which the same color is arranged in the vertical direction of the screen 21 (vertical stripe structure).
By forming (arranging) the color arrangement of pixels in a mosaic shape as shown in FIG. 282, the resolution in the diagonal direction of the image is improved even when the number of dots forming the display panel is relatively small.

【0110】また、図283に図示するように、1つの
画素16に複数の屈曲部2802を形成または配置して
もよい。図283の実施例では、画素16は1つの画素
電極を有しており、この1つの画素電極に対して、3つ
の屈曲部2801(2801a、2801b、2801
c)が形成(配置)されている。もちろん、1つの画素
16に複数の画素電極を有し、各画素電極に対して、そ
れぞれ屈曲部2801が形成(配置)してもよい。な
お、1つの画素電極に対して画素電極を複数に分割して
も開口率の低下はあまり生じない。画素電極の周辺部に
駆動あるいはスイッチング用のTFTなどを配置するか
らである。
Further, as shown in FIG. 283, a plurality of bent portions 2802 may be formed or arranged in one pixel 16. In the example of FIG. 283, the pixel 16 has one pixel electrode, and three bent portions 2801 (2801a, 2801b, 2801) are provided for this one pixel electrode.
c) is formed (arranged). Of course, one pixel 16 may have a plurality of pixel electrodes, and the bent portion 2801 may be formed (arranged) for each pixel electrode. Even if the pixel electrode is divided into a plurality of pixel electrodes with respect to one pixel electrode, the aperture ratio does not decrease much. This is because a driving or switching TFT or the like is arranged in the peripheral portion of the pixel electrode.

【0111】もちろん、図284に図示するように、1
つの画素284に1つの屈曲部2802を配置(形成)
してもよい。また、図285(a)に図示するように、
1つの画素に2列にかつ複数(図285(a)では2×
6個)の屈曲部2802を形成してもよい。また、図2
85(b)のように、1つの画素電極に6角形などの多
角形状の屈曲部2802を複数個(図285(b)では
3個)形成してもよい。
Of course, as shown in FIG.
Arrangement (formation) of one bent portion 2802 in one pixel 284
You may. Further, as shown in FIG. 285 (a),
One pixel has two columns and a plurality of pixels (2 × in FIG. 285 (a))
Six bent portions 2802 may be formed. Also, FIG.
As shown in FIG. 85 (b), a plurality of polygonal bent portions 2802 such as a hexagon (three in FIG. 285 (b)) may be formed in one pixel electrode.

【0112】以下、屈曲部2802(屈折シート280
1を含む場合もある)を形成する製造方法について説明
をする。
Hereinafter, the bent portion 2802 (refractive sheet 280
1 may be included) may be included) will be described.

【0113】図286は本発明の第1の実施例である。
まず、TFT11、画素16、ドライバ回路12・14
などが形成された基板49にEL膜47を形成する。形
成は、低分子EL膜を蒸着により形成してもよく、ま
た、インクジェット方式で高分子EL膜を形成してもよ
い。EL膜47上に電極を形成し、この上に封止膜73
を形成する(図286(a))。また、封止板を取り付
けても良い。これらの事項については、他の箇所で詳細
に説明するのでここでは省略する。
FIG. 286 shows the first embodiment of the present invention.
First, the TFT 11, the pixel 16, the driver circuits 12 and 14
The EL film 47 is formed on the substrate 49 on which the above are formed. For formation, a low molecular weight EL film may be formed by vapor deposition, or a high molecular weight EL film may be formed by an inkjet method. An electrode is formed on the EL film 47, and a sealing film 73 is formed on the electrode.
Are formed (FIG. 286 (a)). Moreover, you may attach a sealing plate. These items will be omitted here because they will be described in detail elsewhere.

【0114】また、以下に説明する事項以外は、本発明
の明細書で記載した製造方法が適用される。また、EL
素子15の構成、画素構成、アレイ構成、パネル構成、
駆動方法、駆動回路などに関しても以下の製造方法ある
いは製造されたパネルなどに適用されることは言うまで
もない。また、以下の製造方法で製造されたパネルなど
を用いて情報表示装置、テレビ、モニター、カメラなど
を構成できることも言うまでもない。
Further, the manufacturing method described in the specification of the present invention is applied except for the matters described below. Also, EL
Configuration of element 15, pixel configuration, array configuration, panel configuration,
It goes without saying that the driving method and driving circuit are also applied to the following manufacturing method or manufactured panel. Further, it goes without saying that an information display device, a television, a monitor, a camera, and the like can be configured using a panel manufactured by the following manufacturing method.

【0115】次に、図286(b)に示すように、未硬
化のボリマー材料(透明膜2861)を封止膜73上に
塗布する。ポリマー材料2861としては、先に説明し
た屈折部2802の材料である。なお、塗布はオフセッ
ト印刷、スクリーン印刷、ローラーによる塗布、スピン
ナーでの塗布などのいずれの方法(技術)を用いてもよ
い。
Next, as shown in FIG. 286 (b), an uncured polymer material (transparent film 2861) is applied onto the sealing film 73. The polymer material 2861 is the material of the refraction part 2802 described above. The application may be performed by any method (technology) such as offset printing, screen printing, roller application, and spinner application.

【0116】未硬化のポリマー材料2861の塗布後、
オーブンにいれて予備乾燥させる。もしくは、弱い光
(紫外線(UV)、可視光でもよい)をポリマー286
1に照射して、ポリマー材料2861の流動性を抑え
る。その後、屈折部2802の形状を形成したローラー
2862を回転させながら、透明膜2861に押し付け
る。このようにローラー2862の凹凸形状を透明膜2
861に転写する。この転写により、透明膜2862に
屈折部2801に相当する凹凸(凹部)2863が形成
させる。凹凸部2863の形成後、透明膜2861全体
にUVまたは可視光を照射し、透明膜2861を完全に
硬化させる。
After application of the uncured polymeric material 2861,
Place in oven to pre-dry. Alternatively, weak light (ultraviolet (UV) or visible light may be used) polymer 286
1 to reduce the fluidity of the polymer material 2861. After that, the roller 2862 having the shape of the bent portion 2802 is rotated and pressed against the transparent film 2861. In this way, the concavo-convex shape of the roller 2862 is changed to the transparent film 2
Transfer to 861. By this transfer, irregularities (recesses) 2863 corresponding to the refraction portions 2801 are formed on the transparent film 2862. After the uneven portion 2863 is formed, the entire transparent film 2861 is irradiated with UV or visible light to completely cure the transparent film 2861.

【0117】透明膜2861を重合させる時の温度制御
は重要である。加温は40度以上60度前後にする。紫
外線(UV)は分光分布にもよるが20から30mW/
cm2程度の強度で2秒から8秒間程度照射する。これ
らの温度および紫外線の照射条件は透明膜2861の添
加材などを考慮して定めてなければならない。条件が不
適切な場合は表面が白濁する。また、微細な凹凸状にな
る。本発明では、50℃の温度で光源に超高圧水銀灯を
用いて、透明膜2861に紫外線(基板面での照射強
度:30mW/cm2)を6秒照射し、透明膜2861
を硬化させた。
Temperature control when polymerizing the transparent film 2861 is important. The heating temperature is 40 degrees or more and about 60 degrees. Ultraviolet (UV) is 20 to 30 mW / depending on the spectral distribution
Irradiation with an intensity of about cm2 for about 2 to 8 seconds. The temperature and the irradiation conditions of ultraviolet rays must be determined in consideration of the additive material of the transparent film 2861. If the conditions are not right, the surface becomes cloudy. Moreover, it becomes a fine unevenness. In the present invention, the transparent film 2861 is irradiated with ultraviolet rays (irradiation intensity on the substrate surface: 30 mW / cm 2) for 6 seconds at a temperature of 50 ° C. by using an ultra-high pressure mercury lamp as a light source.
Was cured.

【0118】なお、ローラー2862の内部に紫外線
(UV2902)の発光源を配置し、ローラー2862
の進行にあわせて、透明膜2861にUVを照射し、順
次硬化させてもよい。また、ローラー2862と別途、
UV2902の発生源を設け、ローラー2862の進行
にあわせて、この発生源から透明膜2861にUVを照
射し、順次硬化させてもよい。また、屈曲部2802の
必要な部分に反射膜などを形成する。反射膜の構成など
については、図280で説明したので省略する。
A light source for ultraviolet rays (UV2902) is arranged inside the roller 2862, and the roller 2862 is
The UV may be irradiated to the transparent film 2861 to sequentially cure the transparent film 2861 as the process proceeds. Also, separately from the roller 2862,
A source of UV2902 may be provided, and the transparent film 2861 may be irradiated with UV from this source in accordance with the progress of the roller 2862 to be sequentially cured. Further, a reflective film or the like is formed on a required portion of the bent portion 2802. The structure of the reflective film has been described with reference to FIG.

【0119】また、図290の製造方法により、屈折部
2802を形成してもよい。図290(a)(b)は図
286(a)(b)と同一であるので説明を省略する。
図290(c)では、透明材料からなるスタンパ290
1(プレス板)を用いている。プレス板2901には、
屈折部2802と反対形状の凹凸が形成されている。プ
レス板2901は、石英ガラスなどの透明材料から形成
されている。このプレス板2901を透明膜2861に
押し付けることにより、プレス板2901の凹凸が透明
膜2861に転写される。
Further, the refraction portion 2802 may be formed by the manufacturing method shown in FIG. 290 (a) and 290 (b) are the same as FIGS. 286 (a) and 286 (b), and therefore the description thereof will be omitted.
In FIG. 290 (c), a stamper 290 made of a transparent material is used.
1 (press plate) is used. The press plate 2901 has
Concavities and convexities having a shape opposite to that of the bent portion 2802 are formed. The press plate 2901 is made of a transparent material such as quartz glass. By pressing the press plate 2901 against the transparent film 2861, the unevenness of the press plate 2901 is transferred to the transparent film 2861.

【0120】このようにプレス板2901の凹凸形状を
透明膜2861に転写する。この転写により、透明膜2
862に屈折部2801に相当する凹凸(凹部)286
3が形成させる。凹凸部2863の形成後、透明膜28
61全体に、プレス板2901を介してUVまたは可視
光2902を照射し、透明膜2861を完全に硬化させ
る。
In this way, the uneven shape of the press plate 2901 is transferred to the transparent film 2861. By this transfer, the transparent film 2
862 is an unevenness (recess) 286 corresponding to the refraction part 2801.
3 form. After forming the uneven portion 2863, the transparent film 28
The entire 61 is irradiated with UV or visible light 2902 through the press plate 2901 to completely cure the transparent film 2861.

【0121】プレス板2901の凹凸面には、オレフォ
ン系の材料などからなる離形性のよい膜を形成しておく
ことが好ましい。これらの離形性のよい薄膜を凹凸面に
形成しておくことにより透明膜2861とプレス板29
01との離形性が良好となり、製造効率が向上する。な
お、プレス板2901と透明材料2861とも温度管理
も重要である。プレス板2901は透明膜2861より
も5度から15度程度、温度を低くしておくことが好ま
しい。なお、透明膜2861の種類によっては、温度は
逆の関係にした方が離形性などは良好になる場合もあ
る。したがって、実験を十分に実施し、条件を定める必
要がある。
On the uneven surface of the press plate 2901, it is preferable to form a film having good releasability, which is made of an olephone-based material or the like. The transparent film 2861 and the press plate 29 are formed by forming these thin films having good releasability on the uneven surface.
The mold releasability from 01 is improved, and the manufacturing efficiency is improved. Note that temperature control is important for both the press plate 2901 and the transparent material 2861. It is preferable that the temperature of the press plate 2901 is lower than that of the transparent film 2861 by about 5 to 15 degrees. Depending on the type of the transparent film 2861, the releasability and the like may be better when the temperatures are reversed. Therefore, it is necessary to sufficiently carry out the experiment and determine the conditions.

【0122】また、離形フィルムとしてはシリコン樹脂
フィルム、フッ素樹脂フィルム、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン等のオレフィン系樹脂フィルムが例示され、ま
た、樹脂フィルムの表面にシリコン樹脂、フッ素樹脂を
塗布等したものが例示される。その他は紫外線を透過
し、ある程度の柔軟性を有すれば何でもよい。たとえ
ば、ガラス基板等も用いることはできる。
Examples of the release film include silicon resin films, fluororesin films, olefin resin films such as polyethylene and polypropylene, and those obtained by coating the surface of the resin film with silicon resin or fluororesin. To be done. Any other material may be used as long as it transmits ultraviolet rays and has some flexibility. For example, a glass substrate or the like can also be used.

【0123】また、290(d)で図示するように、プ
レス板2901を取り外した後、透明膜2861全体に
UV(可視光)を照射し、未硬化の樹脂成分を完全に硬
化させる。このことは、透明膜2861が熱硬化タイプ
などの場合も同様である。
Further, as shown in 290 (d), after removing the press plate 2901, the entire transparent film 2861 is irradiated with UV (visible light) to completely cure the uncured resin component. This is also the case when the transparent film 2861 is of a thermosetting type or the like.

【0124】なお、図286、図290などで説明した
製造方法では、透明膜2861は紫外線硬化タイプを用
いるとしたが、本発明はこれに限定するものではない。
たとえば、熱可塑タイプの樹脂材料、熱硬化タイプの樹
脂材料、2液を混合させることにより硬化し始める2液
タイプの常温硬化タイプなどの樹脂材料なども用いるこ
とができることは言うまでもない。以上の場合は、ポリ
マー2861は透明材料である必要はない。ポリマー材
料2861の選択範囲も広がり、エポキシ系樹脂、フェ
ノール系樹脂などを用いることができる。この場合は、
凹凸2863を形成後、加熱、放置などして屈曲部28
02を形成する。もちろん、プレス板2901を透明膜
2861に押し付けた状態で硬化させてもよい。また、
屈曲部2802の必要な部分に反射膜などを形成する。
反射膜の構成などについては、図280で説明したので
省略する。
In the manufacturing method described with reference to FIGS. 286 and 290, the transparent film 2861 is of the ultraviolet curing type, but the present invention is not limited to this.
For example, it goes without saying that a thermoplastic type resin material, a thermosetting type resin material, and a two-component type room temperature curing type resin material which begins to cure when two liquids are mixed can be used. In the above cases, polymer 2861 need not be a transparent material. The selection range of the polymer material 2861 is widened, and an epoxy resin, a phenol resin, or the like can be used. in this case,
After the unevenness 2863 is formed, the bent portion 28 is heated or left to stand.
02 is formed. Of course, the press plate 2901 may be cured while being pressed against the transparent film 2861. Also,
A reflective film or the like is formed on a required portion of the bent portion 2802.
The structure of the reflective film has been described with reference to FIG.

【0125】図287は、本発明の他の実施例である。
図287(a)までは他の実施例と同様であるので説明
を省略する。
FIG. 287 shows another embodiment of the present invention.
The process up to FIG. 287 (a) is the same as that of the other embodiments, and therefore its explanation is omitted.

【0126】図287(b)では封止膜73上に、凸部
2871を形成している。凸部2871の形成位置は屈
曲部2802形成位置に一致するようにする。つまり、
画素周辺部あるいは画素の発光部の周辺部である。液晶
表示パネルではブラックマトリックス(BM)の形成位
置である。凸部2871はSiO2、SiNxなどの無機材料
を用いて形成する。また、透明膜2861のように有機
材料を用いてもよい。凸部2871の形成方法として
は、封止膜73あるいは封止板上に無機薄膜あるいは有
機薄膜を0.5〜3μmの厚みで蒸着あるいは塗布す
る。その上にマスクを形成し、前記マスクを用いてネガ
またはポジでエッチングする(図287(b))。
In FIG. 287 (b), the convex portion 2871 is formed on the sealing film 73. The formation position of the convex portion 2871 is made to coincide with the formation position of the bent portion 2802. That is,
It is the periphery of the pixel or the periphery of the light emitting portion of the pixel. In the liquid crystal display panel, this is the position where the black matrix (BM) is formed. The convex portion 2871 is formed by using an inorganic material such as SiO2 or SiNx. Alternatively, an organic material such as the transparent film 2861 may be used. As a method of forming the convex portion 2871, an inorganic thin film or an organic thin film is vapor-deposited or applied on the sealing film 73 or the sealing plate in a thickness of 0.5 to 3 μm. A mask is formed thereover, and negative or positive etching is performed using the mask (FIG. 287 (b)).

【0127】次に、図287(c)に図示するように、
表示領域21の全体に、透明膜2861を塗布する。な
お、塗布はオフセット印刷、スクリーン印刷、ローラー
による塗布、スピンナーでの塗布などのいずれの方法
(技術)を用いてもよい。
Next, as shown in FIG. 287 (c),
A transparent film 2861 is applied to the entire display area 21. The application may be performed by any method (technology) such as offset printing, screen printing, roller application, and spinner application.

【0128】塗布する樹脂は、粘度を5cp以上40c
p以下とすることが好ましい。つまり、比較的粘度を低
下したものを用いる。透明膜2861は凸部2871に
沿って滑らかに形成される。以上のように、図287で
は凸部287と透明膜2861で屈曲部2802が形成
される。また、屈曲部2802の必要な部分に反射膜な
どを形成する。反射膜の構成などについては、図280
で説明したので省略する。
The resin to be applied has a viscosity of 5 cp or more and 40 c or more.
It is preferably p or less. That is, a material having a relatively low viscosity is used. The transparent film 2861 is smoothly formed along the convex portion 2871. As described above, in FIG. 287, the bent portion 2802 is formed by the convex portion 287 and the transparent film 2861. Further, a reflective film or the like is formed on a required portion of the bent portion 2802. For the structure of the reflective film, see FIG.
Since it has been described above, it will be omitted.

【0129】なお、図287(c)において、表示領域
21の全体に透明膜を塗布するとしたがこれに限定する
ものではなく、無機材料からなる薄膜を蒸着してもよ
い。無機材料を蒸着することにより、凸部2871の凹
凸により屈曲部2802が形成される。
Although the transparent film is applied to the entire display area 21 in FIG. 287 (c), the present invention is not limited to this, and a thin film made of an inorganic material may be deposited. The bent portion 2802 is formed by the projections and depressions of the projections 2871 by depositing an inorganic material.

【0130】図288は、本発明の他の実施例である。
図288(a)までは他の実施例と同様であるので説明
を省略する。図288(b)では封止膜73もしくは封
止蓋の上に、メタルマスク2881を配置している。メ
タルマスク2881の開口部は、封止膜73側は開口部
が広く、他面側が狭くなっている。
FIG. 288 shows another embodiment of the present invention.
The process up to FIG. 288 (a) is the same as that of the other embodiments, and therefore its explanation is omitted. In FIG. 288 (b), a metal mask 2881 is placed on the sealing film 73 or the sealing lid. The opening of the metal mask 2881 is wide on the sealing film 73 side and narrow on the other surface side.

【0131】なお、メタルマスク2881は磁性体で作
製し、基板49の裏面から磁石でメタルマスク2881
を磁力で吸着する。磁力により、メタルマスク2881
は基板と隙間なく密着する。
The metal mask 2881 is made of a magnetic material, and the metal mask 2881 is formed from the back surface of the substrate 49 with a magnet.
Is attracted by magnetic force. Magnetic mask 2881
Adheres to the substrate without any gap.

【0132】図288で説明したメタルマスク2881
は、封止膜73に直接触れないように(もしくは、極
力、封止膜73と接触しないように)するため、メタル
マスク2881の裏面に1.5〜3μmの高さの突起を
形成する。もしくは、封止膜73あるいは封止蓋の表面
に1.5〜3μmの高さの突起を形成する。この突起
は、EL膜47を蒸着などしない箇所に形成する。たと
えば、隣接した画素間である。
The metal mask 2881 described with reference to FIG. 288.
Forms a protrusion having a height of 1.5 to 3 μm on the back surface of the metal mask 2881 so as not to directly touch the sealing film 73 (or to prevent it from coming into contact with the sealing film 73 as much as possible). Alternatively, a protrusion having a height of 1.5 to 3 μm is formed on the surface of the sealing film 73 or the sealing lid. This protrusion is formed at a location where the EL film 47 is not vapor-deposited. For example, between adjacent pixels.

【0133】図288(b)で図示するようにメタルマ
スク2881を介して、SiO2、SiNxなどの無機材料を
堆積させる。堆積箇所は、屈曲部2802の形成箇所で
ある。また、無機材料のかわりに透明膜2861のよう
に有機材料を用いてもよい。以上のようにメタルマスク
2881を用いて屈曲部2802を形成することができ
る。
As shown in FIG. 288 (b), an inorganic material such as SiO2 or SiNx is deposited through a metal mask 2881. The deposition location is the location where the bent portion 2802 is formed. Further, an organic material such as the transparent film 2861 may be used instead of the inorganic material. As described above, the bent portion 2802 can be formed using the metal mask 2881.

【0134】図280は、プリズム状などの屈曲部(も
しくは光反射部)2802であった。しかし、本発明は
これに限定するものではない。たとえば、図289に図
示するように、画素16に対応してマイクロレンズ状の
屈曲部2802を形成してもよい。マイクロレンズはサ
インカーブ状にすることが好ましい。また、円弧状に形
成することが好ましいが、これに限定するものではな
く、蒲鉾状であってもよい。マイクロレンズの高さは1
5μm以上3100μm以下とすることが好ましい。
FIG. 280 shows a bent portion (or light reflecting portion) 2802 having a prism shape. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 289, a microlens-shaped bent portion 2802 may be formed corresponding to the pixel 16. It is preferable that the microlenses have a sine curve shape. Further, although it is preferable to form it in an arc shape, the shape is not limited to this, and it may be a kamaboko shape. The height of the micro lens is 1
The thickness is preferably 5 μm or more and 3100 μm or less.

【0135】マイクロレンズ基板のもとになるソーダガ
ラス基板にTiを蒸着し、フォトリングラフィで画素に
対応した円形の窓を開ける。次に1価イオンの硝酸塩の
溶融液に浸し、400度以上に加熱処理を行う。加熱
時、溶融中の陽イオンが開口窓からガラス基板内に等方
拡散しイオン交換が行われる。イオン交換されるとその
部分は屈折率分布を生じる。屈折率は1.5〜1.7で
ある。以上のようにしてマイクロレンズが作製される。
Ti is vapor-deposited on a soda glass substrate which is a base of the microlens substrate, and a circular window corresponding to a pixel is opened by photolinography. Next, it is dipped in a molten solution of nitrate of monovalent ions and heat-treated at 400 ° C. or higher. During heating, cations in the melt are isotropically diffused into the glass substrate through the opening window, and ion exchange is performed. When ion-exchanged, the portion has a refractive index profile. The refractive index is 1.5 to 1.7. The microlens is manufactured as described above.

【0136】また、マイクロレンズはスタンパ技術で形
成する。このスタンパ技術はオムロン社がマイクロレン
ズ形成の方法として採用している方式、松下電器がCD
のピックアップレンズで微小レンズの形成方式として用
いている方式などを応用する。また、図289の屈曲部
2802は回折格子で形成することもできる。他の事項
は図280を同様であるので説明を省略する。
The microlenses are formed by the stamper technique. This stamper technology is a method adopted by Omron as a method for forming microlenses, and Matsushita Electric uses a CD.
The method used as the method of forming a minute lens in the pickup lens of is applied. Further, the bent portion 2802 in FIG. 289 can also be formed by a diffraction grating. Since other matters are the same as those in FIG. 280, description thereof will be omitted.

【0137】図280の構成では封止膜73上に屈折シ
ートを取り付けている(配置している、あるいは形成し
ている)。屈折シート2801は画素16に対応するよ
うに、三角形あるいは多角形もしくは円弧上に屈折部2
801が形成されている。つまり、屈折部2801は凹
凸状であるとしたが、本発明はこれに限定するものでは
ない。たとえば、図362に図示するように、凹部を屈
折材料2802bで充填(形成)してもよい。もしく
は、凸部を屈折材料2802aで充填(形成)してもよ
い。
In the structure of FIG. 280, the refraction sheet is attached (arranged or formed) on the sealing film 73. The refraction sheet 2801 has a triangular shape, a polygonal shape, or an arc shape so as to correspond to the pixels 16.
801 is formed. That is, the refraction part 2801 is assumed to be uneven, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 362, the recess may be filled (formed) with the refractive material 2802b. Alternatively, the convex portion may be filled (formed) with the refractive material 2802a.

【0138】屈折部2802aを高屈折率材料で形成
(充填)し、屈折部2802bを低屈折率材料で形成
(充填)する。もしくは、屈折部2802aを低屈折率
材料で形成(充填)し、屈折部2802bを高屈折率材
料で形成(充填)してもよい。低屈折材料は、二弗化マ
グネシウム、二酸化シリコン、三酸化アルミニウム、二
弗化セリウム、一酸化シリコンのいずれかを選択する。
高屈折材料は、三酸化二イットリウム、二酸化ジルコニ
ウム、二酸化ハフニウム、五酸化二タンタル、二酸化セ
リウム、二酸化チタン、硫化亜鉛、ITO、IZOのい
ずれかを選択する。
The refraction part 2802a is formed (filled) with a high refractive index material, and the refraction part 2802b is formed (filled) with a low refractive index material. Alternatively, the refractive portion 2802a may be formed (filled) with a low refractive index material, and the refractive portion 2802b may be formed (filled) with a high refractive index material. The low refractive material is selected from magnesium difluoride, silicon dioxide, aluminum trioxide, cerium difluoride and silicon monoxide.
The high refractive material is selected from yttrium trioxide, zirconium dioxide, hafnium dioxide, ditantalum pentoxide, cerium dioxide, titanium dioxide, zinc sulfide, ITO, and IZO.

【0139】以上は無機材料であるが、有機材料でもよ
い。たとえば、低屈折材料としては、フッ素系のアクリ
ル樹脂が例示される。その他、液体あるいはゲルも使用
することができる。屈折率が1.3以上1.50以下の
低屈折率材料としては、純粋、シリコン、エチレングリ
コール等のゲル、エチルアルコール、メチルアルコール
などが例示され、比較的高い屈折率材料としてはサルチ
ル酸メチル等の液体が例示される。これらを充填するこ
となどにより屈折シート2801を構成する。
The above are inorganic materials, but organic materials may be used. For example, a fluorine-based acrylic resin is exemplified as the low-refractive-index material. In addition, liquid or gel can be used. Examples of the low refractive index material having a refractive index of 1.3 or more and 1.50 or less include pure, gels such as silicon and ethylene glycol, ethyl alcohol, methyl alcohol, and the like. As a relatively high refractive index material, methyl salicylate is used. Liquids such as The refraction sheet 2801 is configured by filling these.

【0140】図362のように屈折シート2801を形
成すれば、シート2801に平面状になり、この平面に
偏光板などをはりつけやすくなる。また、表面を6H以
上のUV樹脂などでコーティングすることが容易にでき
る。したがって、シート2801の表面を保護すること
ができる。なお、図363に図示するように屈折シート
2801の上下をさかさまに取り付けてもよい。このよ
うに構成すれば、屈折部2802aが機械的に傷つくこ
とを防止できる。なお、73は封止膜として機能するの
ではなく、保護シート(保護膜)として機能させてもよ
い。
When the refraction sheet 2801 is formed as shown in FIG. 362, the sheet 2801 becomes flat, and a polarizing plate or the like can be easily attached to this flat surface. Further, the surface can be easily coated with a UV resin of 6H or more. Therefore, the surface of the sheet 2801 can be protected. The refraction sheet 2801 may be mounted upside down as shown in FIG. 363. With this structure, it is possible to prevent the bending portion 2802a from being mechanically damaged. Note that 73 may function as a protective sheet (protective film) instead of functioning as a sealing film.

【0141】また、図289の実施例でも同様である。
図364に図示するように、屈折部2802aの凸部を
屈折材料2802bで充填(形成)してもよい。もしく
は、屈折部2802bの凹部を屈折材料2802aで充
填(形成)してもよい。
The same applies to the embodiment of FIG. 289.
As illustrated in FIG. 364, the convex portion of the refraction portion 2802a may be filled (formed) with the refraction material 2802b. Alternatively, the concave portion of the refraction portion 2802b may be filled (formed) with the refraction material 2802a.

【0142】また、図363と同様に、図365に図示
するように屈折シート2801の上下をさかさまに取り
付けてもよい。このように構成すれば、屈折部2802
aが機械的に傷つくことを防止できる。なお、73は封
止膜として機能するのではなく、保護シート(保護膜)
として機能させてもよい。
Further, similarly to FIG. 363, the refraction sheet 2801 may be mounted upside down as shown in FIG. 365. According to this structure, the refraction portion 2802
A can be prevented from being mechanically damaged. Note that 73 does not function as a sealing film, but a protective sheet (protective film).
May function as.

【0143】真空蒸着装置は市販の高真空蒸着装置(日
本真空技術株式会社製、EBV−6DA型)を改造した
装置を用いる。主たる排気装置は排気速度1500リッ
トル/minのターボ分子ポンプ(大阪真空株式会社
製、TC1500)であり、到達真空度は約1×10e
−6Torr以下であり、全ての蒸着は2〜3×10e
−6Torrの範囲で行う。また、全ての蒸着はタング
ステン製の抵抗加熱式蒸着ボートに直流電源(菊水電子
株式会社製、PAK10−70A)を接続して行うとよ
い。
As the vacuum vapor deposition apparatus, an apparatus obtained by modifying a commercially available high vacuum vapor deposition apparatus (EBV-6DA type manufactured by Nippon Vacuum Technology Co., Ltd.) is used. The main evacuation device is a turbo molecular pump (TC1500 manufactured by Osaka Vacuum Co., Ltd.) with an evacuation speed of 1500 liters / min, and the ultimate vacuum is about 1 × 10e.
-6 Torr or less, all vapor deposition is 2-3 × 10e
Perform in the range of -6 Torr. In addition, all vapor deposition may be performed by connecting a DC power source (PAK10-70A, manufactured by Kikusui Electronics Co., Ltd.) to a resistance heating type vapor deposition boat made of tungsten.

【0144】このようにして真空層中に配置したアレイ
基板上に、カーボン膜20〜50nmを成膜する。次
に、正孔注入層として4−(N,N−ビス(p−メチル
フェニル)アミノ)−α−フェニルスチルベンを0.3
nm/secの蒸着速度で膜厚約5nmに形成する。
A carbon film of 20 to 50 nm is formed on the array substrate thus arranged in the vacuum layer. Next, 4- (N, N-bis (p-methylphenyl) amino) -α-phenylstilbene was added as a hole injection layer to 0.3
A film thickness of about 5 nm is formed at a vapor deposition rate of nm / sec.

【0145】正孔輸送層として、N,N’−ビス(4’
−ジフェニルアミノ−4−ビフェニリル)−N,N’−
ジフェニルベンジジン(保土ヶ谷化学株式会社製)と、
4−N,N−ジフェニルアミノ−α−フェニルスチルベ
ンを、それぞれ0.3nm/sおよび0.01nm/s
の蒸着速度で共蒸着して膜厚約80nmに形成した。発
光層(電子輸送層)としてトリス(8−キノリノラト)
アルミニウム(同仁化学株式会社製)を0.3nm/se
cの蒸着速度で膜厚約40nmに形成する。
As the hole transport layer, N, N'-bis (4 '
-Diphenylamino-4-biphenylyl) -N, N'-
Diphenylbenzidine (Hodogaya Chemical Co., Ltd.),
4-N, N-diphenylamino-α-phenylstilbene was added to 0.3 nm / s and 0.01 nm / s, respectively.
Was co-deposited at a vapor deposition rate of to form a film thickness of about 80 nm. Tris (8-quinolinolato) as a light emitting layer (electron transport layer)
Aluminum (Dojindo Co., Ltd.) 0.3 nm / se
A film thickness of about 40 nm is formed at a vapor deposition rate of c.

【0146】次に、電子注入電極として、AlLi合金
(高純度化学株式会社製、Al/Li重量比99/1)
から低温でLiのみを、約0.1nm/secの蒸着速度
で膜厚約1nmに形成し、続いて、そのAlLi合金を
さらに昇温し、Liが出尽くした状態から、Alのみ
を、約1.5nm/sの蒸着速度で膜厚約100nmに
形成し、積層型の電子注入電極とした。
Next, as an electron injection electrode, an AlLi alloy (manufactured by Kojundo Chemical Co., Ltd., Al / Li weight ratio 99/1) was used.
At a low temperature, only Li was formed at a vapor deposition rate of about 0.1 nm / sec to a film thickness of about 1 nm, and then the AlLi alloy was further heated to remove Li from the state of about 1 nm. It was formed to a film thickness of about 100 nm at a vapor deposition rate of 0.5 nm / s to form a laminated electron injection electrode.

【0147】このようにして作成した有機薄膜EL素子
は、蒸着槽内を乾燥窒素でリークした後、乾燥窒素雰囲
気下で、コーニング7059ガラス製の封止フタ41を
シール接着剤(シール剤)45(アネルバ株式会社製、
商品名スーパーバックシール953−7000)で貼り
付けて表示パネルとした。なお、封止フタ41とアレイ
基板49との空間には乾燥剤55を配置する。これは、
有機EL膜は湿度に弱いためである。乾燥剤55により
シール剤45を浸透する水分を吸収し有機EL膜47の
劣化を防止する。
In the organic thin film EL element thus produced, after leaking the inside of the vapor deposition tank with dry nitrogen, the sealing lid 41 made of Corning 7059 glass was sealed with the seal adhesive (sealant) 45 under the dry nitrogen atmosphere. (Made by Anelva Co., Ltd.
A display panel was pasted with a product name Super Back Sticker 953-7000). A desiccant 55 is placed in the space between the sealing lid 41 and the array substrate 49. this is,
This is because the organic EL film is weak against humidity. The desiccant 55 absorbs the water that permeates the sealant 45 and prevents the deterioration of the organic EL film 47.

【0148】シール剤45からの水分の浸透を抑制する
ためには外部からの経路(パス)を長くすることが良好
な対策である。このため、本発明の表示パネルでは、表
示領域の周辺部に微細な凹凸43、44を形成してい
る。アレイ基板49の周辺部に形成した凸部44は少な
くとも2重に形成する。凸と凸との間隔(形成ピッチ)
は100μm以上500μm以下に形成することが好ま
しく、また、凸の高さは30μm以上300μm以下と
することが好ましい。この凸部はスタンパ技術で形成す
る。このスタンパ技術はオムロン社がマイクロレンズ形
成の方法として採用している方式、松下電器がCDのピ
ックアップレンズで微小レンズの形成方式として用いて
いる方式などを応用する。
In order to suppress the permeation of water from the sealant 45, it is a good measure to lengthen the path from the outside. Therefore, in the display panel of the present invention, fine irregularities 43 and 44 are formed in the peripheral portion of the display area. The convex portions 44 formed on the peripheral portion of the array substrate 49 are formed at least twice. Distance between protrusions (formation pitch)
Is preferably 100 μm or more and 500 μm or less, and the height of the protrusion is preferably 30 μm or more and 300 μm or less. This convex portion is formed by a stamper technique. This stamper technology applies the method adopted by Omron as a method for forming a microlens, the method used by Matsushita Electric as a method for forming a minute lens in a pickup lens of a CD, and the like.

【0149】一方、封止フタ41にも凸部43を形成す
る。凸部43の形成ピッチは凸部44の形成ピッチと同
一にする。このように凸部43と44との形成ピッチを
同一にすることにより凸部43に凸部44がちょうどは
まり込む。そのため、表示パネルの製造時に封止フタ4
1とアレイ基板49との位置ずれが発生しない。凸部4
3と44間にはシール剤45を配置する。シール剤45
は封止フタ41とアレイ基板49とを接着するととも
に、外部からの水分の浸入を防止する。
On the other hand, the convex portion 43 is also formed on the sealing lid 41. The formation pitch of the convex portions 43 is the same as the formation pitch of the convex portions 44. In this way, by forming the convex portions 43 and 44 at the same formation pitch, the convex portions 44 just fit into the convex portions 43. Therefore, at the time of manufacturing the display panel, the sealing lid 4
There is no displacement between 1 and the array substrate 49. Convex part 4
A sealant 45 is placed between 3 and 44. Sealing agent 45
Protects the sealing lid 41 and the array substrate 49 from each other and prevents moisture from entering from the outside.

【0150】シール剤45としてはUV(紫外線)硬化
型でアクリル系の樹脂からなるものを用いることが好ま
しい。また、アクリル樹脂はフッ素基を有するものを用
いることが好ましい。その他、エポキシ系の接着剤ある
いは粘着剤を用いてもよい。接着剤あるいは粘着剤の屈
折率は1.47以上1.54以下のものを用いることが
好ましい。特にシール接着剤は酸化チタンの微粉末、酸
化シリコンなどの微粉末を重量比で65%以上95%以
下の割合で添加することが好ましい。また、この微粉末
の粒子径は平均直径20μm以上100μm以下とする
ことが好ましい。微粉末の重量比が多くなるほど外部か
らの湿度の進入を抑制する効果が高くなる。しかし、あ
まりに多いと気泡などが入りやすく、かえって空間が大
きくなりシール効果が低下してしまう。
As the sealant 45, it is preferable to use a UV (ultraviolet) curing type acrylic resin. Further, it is preferable to use an acrylic resin having a fluorine group. Besides, an epoxy adhesive or pressure-sensitive adhesive may be used. It is preferable to use an adhesive or pressure-sensitive adhesive having a refractive index of 1.47 or more and 1.54 or less. Particularly, as the seal adhesive, it is preferable to add fine powder of titanium oxide, fine powder of silicon oxide or the like in a ratio of 65% or more and 95% or less by weight. The particle size of the fine powder is preferably 20 μm or more and 100 μm or less in average diameter. The larger the weight ratio of the fine powder, the higher the effect of suppressing the entry of humidity from the outside. However, if the amount is too large, bubbles and the like tend to enter, and the space becomes rather large and the sealing effect decreases.

【0151】乾燥剤の重量はシールの長さ10mmあた
り0.04g以上0.2g以下をすることが好ましい。
特にシールの長さ10mmあたり0.06g以上0.1
5g以下をすることが望ましい。乾燥剤の量がすくなす
ぎると水分防止効果が少なくすぐに有機EL層が劣化す
る。多すぎると乾燥剤がシールをする際に障害となり、
良好なシールを行うことができない。
The weight of the desiccant is preferably 0.04 g or more and 0.2 g or less per 10 mm length of the seal.
Especially, 0.06g or more per 10mm of seal length 0.1
It is desirable that the amount is 5 g or less. When the amount of the desiccant is too small, the effect of preventing moisture is small and the organic EL layer is deteriorated immediately. If it is too much, the desiccant will hinder the sealing,
A good seal cannot be made.

【0152】図4ではガラスのフタ41を用いて封止す
る構成であるが、図7のようにフィルムを用いた封止で
あってもよい。たとえば、封止フィルムとしては電解コ
ンデンサのフィルムにDLC(ダイヤモンド ライク
カーボン)を蒸着したものを用いることが例示される。
このフィルムは水分浸透性が極めて悪い(防湿)。この
フィルムを封止膜74して用いる。また、DLC膜など
を電極72の表面に直接蒸着する構成ものよいことは言
うまでもない。つまり薄膜で封止する。薄膜の膜厚はn
・d(nは薄膜の屈折率、複数の薄膜が積層されている
場合はそれらの屈折率を総合(各薄膜のn・dを計算)
にして計算する。dは薄膜の膜厚、複数の薄膜が積層さ
れている場合はそれらの屈折率を総合して計算する。)
が、EL素子15の発光主波長λ以下となるようにする
とよい。この条件を満足させることにより、EL素子1
5からの光取り出し効率が、ガラス基板で封止した場合
に比較して2倍以上になる。また、アルミニウムと銀の
合金あるいは混合物あるいは積層物を形成してもよい。
In FIG. 4, the glass lid 41 is used for sealing, but a film may be used as shown in FIG. For example, as a sealing film, a DLC (diamond-like
It is exemplified that a material obtained by vapor depositing carbon) is used.
This film has extremely poor water permeability (moisture proof). This film is used as the sealing film 74. Further, it goes without saying that a structure in which a DLC film or the like is directly vapor-deposited on the surface of the electrode 72 may be used. That is, it is sealed with a thin film. The thickness of the thin film is n
・ D (n is the refractive index of the thin film, and when multiple thin films are stacked, the total refractive index is calculated (n and d of each thin film are calculated)
And calculate. d is a film thickness of a thin film, and when a plurality of thin films are laminated, their refractive indexes are comprehensively calculated. )
However, it is preferable that the light emission main wavelength λ of the EL element 15 be equal to or less than. By satisfying this condition, the EL element 1
The light extraction efficiency from No. 5 is more than double that in the case of sealing with a glass substrate. Also, an alloy or mixture of aluminum and silver or a laminate may be formed.

【0153】以上のようにふた41を用いず、封止膜7
4で封止する構成を薄膜封止と呼ぶ。基板49側から光
を取り出す下取り出しの場合の薄膜封止は、EL膜を形
成後、EL膜上にカソードとなるアルミ電極を形成す
る。次にこのアルミ膜上に緩衝層としての樹脂層を形成
する。緩衝層としては、アクリル、エポキシなどの有機
材料が例示される。また、膜厚は1μm以上10μm以
下の厚みが適する。さらに好ましくは、膜厚は2μm以
上6μm以下の厚みが適する。この緩衝膜上の封止膜7
4を形成する。緩衝膜がないと、応力によりEL膜の構
造が崩れ、筋状に欠陥が発生する。封止膜74は前述し
たように、DLC(ダイヤモンド ライクカーボン)、
あるいは電界コンデンサの層構造(誘電体薄膜とアルミ
薄膜とを交互に多層蒸着した構造)が例示される。
As described above, without using the lid 41, the sealing film 7
The configuration of sealing with 4 is called thin film sealing. For thin film encapsulation in the case of taking out light from the substrate 49 side, after forming an EL film, an aluminum electrode to be a cathode is formed on the EL film. Next, a resin layer as a buffer layer is formed on this aluminum film. Examples of the buffer layer include organic materials such as acrylic and epoxy. Further, the film thickness is preferably 1 μm or more and 10 μm or less. More preferably, the film thickness is 2 μm or more and 6 μm or less. Sealing film 7 on this buffer film
4 is formed. Without the buffer film, the structure of the EL film collapses due to stress, causing streak-like defects. As described above, the sealing film 74 is formed of DLC (diamond-like carbon),
Alternatively, a layer structure of an electric field capacitor (a structure in which dielectric thin films and aluminum thin films are alternately deposited in multiple layers) is exemplified.

【0154】EL層側から光を取り出す上取り出しの場
合の薄膜封止は、EL膜を形成後、EL膜上にカソード
となるAg−Mg膜を20オングストローム以上300
オングストロームの膜厚で形成する。その上に、ITO
などの透明電極を形成して低抵抗化する。次にこの電極
膜上に緩衝層としての樹脂層を形成する。この緩衝膜上
に封止膜74を形成する。
In the thin film encapsulation for extracting light from the EL layer side, the Ag film is formed on the EL film and then the Ag-Mg film serving as the cathode is formed on the EL film at 20 angstroms or more 300
It is formed with a film thickness of angstrom. On top of that, ITO
A transparent electrode is formed to reduce the resistance. Next, a resin layer as a buffer layer is formed on this electrode film. The sealing film 74 is formed on this buffer film.

【0155】有機EL層47から発生した光の半分は、
反射膜46で反射され、アレイ基板49と透過して出射
される。しかし、反射膜46は外光を反射し写り込みが
発生して表示コントラストを低下させる。この対策のた
めに、アレイ基板49にλ/4板50および偏光板54
を配置している。なお、画素が反射電極の場合はEL層
47から発生した光は上方向に出射される。したがっ
て、位相板50および偏光板54は光出射側に配置する
ことはいうまでもない。なお、反射型画素は、画素電極
48を、アルミニウム、クロム、銀などで構成して得ら
れる。また、画素電極48の表面に、凸部(もしくは凹
凸部)を設けることで有機EL層との界面が広くなり発
光面積が大きくなり、また、発光効率が向上する。な
お、カソード(アノード)となる反射膜を透明電極に形
成する、あるいは反射率を30%以下に低減できる場合
は、円偏光板は不要である。写り込みが大幅に減少する
からである。また、光の干渉も低減し望ましい。
Half of the light emitted from the organic EL layer 47 is
The light is reflected by the reflection film 46, transmitted through the array substrate 49, and emitted. However, the reflection film 46 reflects external light and causes reflection, which reduces the display contrast. To prevent this, the array substrate 49 has a λ / 4 plate 50 and a polarizing plate 54.
Are arranged. When the pixel is a reflective electrode, the light generated from the EL layer 47 is emitted upward. Therefore, it goes without saying that the phase plate 50 and the polarizing plate 54 are arranged on the light emitting side. The reflective pixel is obtained by forming the pixel electrode 48 with aluminum, chromium, silver, or the like. Further, by providing the convex portion (or the concave and convex portion) on the surface of the pixel electrode 48, the interface with the organic EL layer is widened, the light emitting area is increased, and the luminous efficiency is improved. The circularly polarizing plate is not necessary when a reflective film serving as a cathode (anode) is formed on the transparent electrode or the reflectance can be reduced to 30% or less. This is because the reflection is significantly reduced. In addition, light interference is reduced, which is desirable.

【0156】また、ディスプレイ内部に2層の薄膜を形
成することによって実現する外光反射を光学干渉によっ
て打ち消すことで有機ELパネルのコントラストを向上す
ることができる。従来の円偏光板を使う場合に比べてコ
ストを低減できる。また、円偏光板が抱えていた拡散反
射の問題や、表示色の視野角依存性及び有機EL発光層の
膜厚依存性の問題を解決できる。
Further, the contrast of the organic EL panel can be improved by canceling the external light reflection realized by forming the two-layer thin film inside the display by optical interference. The cost can be reduced as compared with the case where the conventional circularly polarizing plate is used. Further, it is possible to solve the problems of diffuse reflection that the circularly polarizing plate has, the viewing angle dependence of the display color, and the film thickness dependence of the organic EL light emitting layer.

【0157】基板49と偏光板(偏光フィルム)54間
には1枚あるいは複数の位相フィルム(位相板、位相回
転手段、位相差板、位相差フィルム)が配置される。位
相フィルムとしてはポリカーボネートを使用することが
好ましい。位相フィルムは入射光を出射光に位相差を発
生させ、効率よく光変調を行うのに寄与する。
Between the substrate 49 and the polarizing plate (polarizing film) 54, one or a plurality of phase films (phase plate, phase rotating means, phase difference plate, phase difference film) are arranged. It is preferable to use polycarbonate as the phase film. The phase film generates a phase difference between the incident light and the emitted light and contributes to efficient light modulation.

【0158】その他、位相フィルムとして、ポリエステ
ル樹脂、PVA樹脂、ポリサルホン樹脂、塩化ビニール
樹脂、ゼオネックス樹脂、アクリル樹脂、ポリスチレン
樹脂等の有機樹脂板あるいは有機樹脂フィルムなどを用
いてもよい。その他、水晶などの結晶を用いてもよい。
1つの位相板の位相差は一軸方向に50nm以上350
nm以下とすることが好ましく、さらには80nm以上
220nm以下とすることが好ましい。
In addition, as the phase film, an organic resin plate or an organic resin film of polyester resin, PVA resin, polysulfone resin, vinyl chloride resin, Zeonex resin, acrylic resin, polystyrene resin or the like may be used. Alternatively, crystals such as quartz may be used.
The phase difference of one phase plate is 50 nm or more in the uniaxial direction 350
The thickness is preferably not more than nm, more preferably not less than 80 nm and not more than 220 nm.

【0159】なお、図7に図示するように位相フィルム
と偏光板とを一体化した円偏光板74(円偏光フィル
ム)を用いてもよいことはいうまでもない。
Needless to say, a circularly polarizing plate 74 (circularly polarizing film) in which a phase film and a polarizing plate are integrated as shown in FIG. 7 may be used.

【0160】位相フィルム50は染料あるいは顔料で着
色しフィルタとしての機能をもたせることが好ましい。
特に有機ELは赤(R)の純度が悪い。そのため、着色
した位相フィルム50で一定の波長範囲をカットして色
温度を調整する。カラーフィルタは、染色フィルタとし
て顔料分散タイプの樹脂で設けられるのが一般的であ
る。顔料が特定の波長帯域の光を吸収して、吸収されな
かった波長帯域の光を透過する。
The phase film 50 is preferably colored with a dye or a pigment so as to have a function as a filter.
In particular, organic EL has a poor red (R) purity. Therefore, the colored phase film 50 cuts a certain wavelength range to adjust the color temperature. The color filter is generally provided by a pigment dispersion type resin as a dyeing filter. The pigment absorbs light in a specific wavelength band and transmits light in the unabsorbed wavelength band.

【0161】以上のように位相フィルムの一部もしくは
全体を着色したり、一部もしくは全体に拡散機能をもた
せたりしてもよい。また、表面をエンボス加工したり、
反射防止のために反射防止膜を形成したりしてもよい。
また、画像表示に有効でない箇所もしくは支障のない箇
所に、遮光膜もしくは光吸収膜を形成し、表示画像の黒
レベルをひきしめたり、ハレーション防止によるコント
ラスト向上効果を発揮させたりすることが好ましい。ま
た、位相フィルムの表面に凹凸を形成することによりか
まぼこ状あるいはマトリックス状にマイクロレンズを形
成してもよい。マイクロレンズは1つの画素電極あるい
は3原色の画素にそれぞれ対応するように配置する。
As described above, a part or the whole of the phase film may be colored, or a part or the whole may have a diffusing function. You can also emboss the surface,
An antireflection film may be formed to prevent reflection.
In addition, it is preferable to form a light-shielding film or a light-absorbing film at a position that is not effective for image display or a position that does not hinder the display, thereby reducing the black level of the display image and exhibiting a contrast improving effect by preventing halation. Further, the microlenses may be formed in a semicylindrical shape or a matrix shape by forming irregularities on the surface of the phase film. The microlenses are arranged so as to correspond to one pixel electrode or pixels of three primary colors, respectively.

【0162】先にも記述したが、位相フィルムの機能は
カラーフィルタに持たせてもよい。たとえば、カラーフ
ィルタの形成時に圧延し、もしくは光重合により一定の
方向に位相差が生じるようにすることにより位相差を発
生させることができる。その他、図7の平滑化膜71を
光重合させることにより位相差を持たせてもよい。この
ように構成すれば位相フィルムを基板外に構成あるいは
配置する必要がなくなり表示パネルの構成が簡易にな
り、低コスト化が望める。なお、以上の事項は偏光板に
適用してもよいことはいうまでもない。
As described above, the color filter may have the function of the phase film. For example, the phase difference can be generated by rolling when forming the color filter or by causing the phase difference to occur in a certain direction by photopolymerization. Alternatively, the smoothing film 71 of FIG. 7 may be photopolymerized to have a phase difference. With this structure, it is not necessary to form or dispose the phase film outside the substrate, the structure of the display panel is simplified, and cost reduction can be expected. Needless to say, the above items may be applied to the polarizing plate.

【0163】偏光板(偏光フィルム)54を構成する主
たる材料としてはTACフィルム(トリアセチルセルロ
ースフィルム)が最適である。TACフィルムは、優れ
た光学特性、表面平滑性および加工適性を有するからで
ある。TACフィルムの製造については、溶液流延製膜
技術で作製することが最適である。
A TAC film (triacetyl cellulose film) is most suitable as a main material constituting the polarizing plate (polarizing film) 54. This is because the TAC film has excellent optical properties, surface smoothness and processability. For the production of TAC film, it is optimal to produce it by the solution casting film forming technique.

【0164】偏光板はヨウ素などをポリビニールアルコ
ール(PVA)樹脂に添加した樹脂フィルムのものが例
示される。一対の偏光分離手段の偏光板は入射光のうち
特定の偏光軸方向と異なる方向の偏光成分を吸収するこ
とにより偏光分離を行うので、光の利用効率が比較的悪
い。そこで、入射光のうち特定の偏光軸方向と異なる方
向の偏光成分(reflective polariz
er:リフレクティブ・ポラライザー)を反射すること
により偏光分離を行う反射偏光子を用いてもよい。この
ように構成すれば、反射偏光子により光の利用効率が高
まって、偏光板を用いた上述の例よりもより明るい表示
が可能となる。
The polarizing plate is exemplified by a resin film in which iodine or the like is added to polyvinyl alcohol (PVA) resin. The polarizing plates of the pair of polarization separation means perform polarization separation by absorbing a polarization component of the incident light in a direction different from the specific polarization axis direction, and therefore the light utilization efficiency is relatively poor. Therefore, a polarized component of the incident light in a direction different from the specific polarization axis direction (reflective polarization)
er: a reflective polarizer that reflects polarized light to separate polarized light may be used. According to this structure, the light utilization efficiency is increased by the reflective polarizer, and a brighter display can be performed as compared with the above example using the polarizing plate.

【0165】また、このような偏光板や反射偏光子以外
にも、本発明の偏光分離手段としては、例えばコレステ
リック液晶層と(1/4)λ板を組み合わせたもの、ブ
リュースターの角度を利用して反射偏光と透過偏光とに
分離するもの、ホログラムを利用するもの、偏光ビーム
スプリッタ(PBS)等を用いることも可能である。
In addition to such a polarizing plate and a reflective polarizer, as the polarized light separating means of the present invention, for example, a combination of a cholesteric liquid crystal layer and a (1/4) λ plate, the Brewster angle is used. Then, it is also possible to use one that separates the reflected polarized light and the transmitted polarized light, one that uses a hologram, and a polarized beam splitter (PBS).

【0166】図4では図示していないが、偏光板54の
表面にはAIRコートを施している。AIRコートは誘
電体単層膜もしくは多層膜で形成する構成が例示され
る。その他、1.35〜1.45の低屈折率の樹脂を塗
布してもよい。たとえば、フッ素系のアクリル樹脂など
が例示される。特に屈折率が1.37以上1.42以下
のものが特性は良好である。
Although not shown in FIG. 4, an AIR coat is applied to the surface of the polarizing plate 54. The AIR coat is exemplified by a structure formed of a dielectric single layer film or a multilayer film. In addition, a resin having a low refractive index of 1.35 to 1.45 may be applied. For example, a fluorinated acrylic resin is exemplified. In particular, those having a refractive index of 1.37 or more and 1.42 or less have good characteristics.

【0167】また、AIRコートは3層の構成あるいは
2層構成がある。なお、3層の場合は広い可視光の波長
帯域での反射を防止するために用いられ、これをマルチ
コートと呼ぶ。2層の場合は特定の可視光の波長帯域で
の反射を防止するために用いられ、これをVコートと呼
ぶ。マルチコートとVコートは表示パネルの用途に応じ
て使い分ける。なお、2層以上の限定するものではな
く、1層でもよい。
The AIR coat has a three-layer structure or a two-layer structure. In the case of three layers, it is used to prevent reflection in a wide wavelength band of visible light, and this is called multicoat. In the case of two layers, it is used to prevent reflection in a specific visible light wavelength band, and this is called a V coat. The multi coat and the V coat are used properly according to the use of the display panel. The number of layers is not limited to two or more, and one layer may be used.

【0168】マルチコートの場合は酸化アルミニウム
(Al2O3)を光学的膜厚がnd=λ/4、ジルコニ
ウム(ZrO2)をnd1=λ/2、フッ化マグネシウ
ム(MgF2)をnd1=λ/4積層して形成する。通
常、λとして520nmもしくはその近傍の値として薄
膜は形成される。Vコートの場合は一酸化シリコン(S
iO)を光学的膜厚nd1=λ/4とフッ化マグネシウ
ム(MgF2)をnd1=λ/4、もしくは酸化イット
リウム(Y2O3)とフッ化マグネシウム(MgF2)
をn d1=λ/4積層して形成する。SiOは青色側
に吸収帯域があるため青色光を変調する場合はY2O3
を用いた方がよい。また、物質の安定性からもY2O3
の方が安定しているため好ましい。また、SiO2薄膜
を使用してもよい。もちろん、低屈折率の樹脂等を用い
てAIRコートとしてもよい。たとえばフッ素等のアク
リル樹脂が例示される。これらは紫外線硬化タイプを用
いることが好ましい。
In the case of multi-coating, aluminum oxide (Al2O3) having an optical film thickness of nd = λ / 4, zirconium (ZrO2) having nd1 = λ / 2, and magnesium fluoride (MgF2) having nd1 = λ / 4 are laminated. To form. Usually, a thin film is formed with λ of 520 nm or a value in the vicinity thereof. In the case of V coat, silicon monoxide (S
iO) is an optical film thickness nd1 = λ / 4 and magnesium fluoride (MgF2) is nd1 = λ / 4, or yttrium oxide (Y2O3) and magnesium fluoride (MgF2).
Are formed by stacking n d1 = λ / 4. Since SiO has an absorption band on the blue side, Y2O3 is used to modulate blue light.
It is better to use. In addition, due to the stability of the substance, Y2O3
Is preferable because it is more stable. Alternatively, a SiO2 thin film may be used. Of course, the AIR coat may be made by using a resin having a low refractive index. For example, acrylic resin such as fluorine is exemplified. It is preferable to use an ultraviolet curing type of these.

【0169】なお、表示パネルに静電気がチャージされ
ることを防止するため、表示パネルなどの表面に親水性
の樹脂を塗布しておくことが好ましい。その他、表面反
射を防止するため、偏光板54の表面などにエンボス加
工を行ってもよい。
In order to prevent the display panel from being charged with static electricity, it is preferable to apply a hydrophilic resin to the surface of the display panel or the like. In addition, in order to prevent surface reflection, the surface of the polarizing plate 54 may be embossed.

【0170】また、画素電極48にはTFTが接続され
るとしたがこれに限定されるものではない。アクティブ
マトリックスとは、スイッチング素子として薄膜トラン
ジスタ(TFT)の他、ダイオード方式(TFD)、バ
リスタ、サイリスタ、リングダイオード、ホトダオー
ド、ホトトランジスタ、FET、MOSトランジスタ、
PLZT素子などでもよいことは言うまでもない。つま
り、スイッチ素子11、駆動素子11と構成するものは
これらのいずれでも使用することができる。
Although the TFT is connected to the pixel electrode 48, it is not limited to this. The active matrix means a thin film transistor (TFT) as a switching element, a diode type (TFD), a varistor, a thyristor, a ring diode, a photo diode, a photo transistor, an FET, a MOS transistor,
It goes without saying that a PLZT element or the like may be used. That is, any one of the switch element 11 and the drive element 11 can be used.

【0171】また、TFTはLDD(ロー ドーピング
ドレイン)構造を採用することが好ましい。なお、T
FTとは、FETなどスイッチングなどのトランジスタ
動作をするすべての素子一般を意味する。また、EL膜
の構成、パネル構造などは単純マトリックス型表示パネ
ルにも適用できることは言うまでもない。また、本明細
書ではEL素子として有機EL素子(OEL,PEL,
PLED,OLED)15を例のあげて説明するがこれ
に限定するものではなく、無機EL素子にも適用される
ことは言うまでもない。
Further, it is preferable that the TFT adopts an LDD (low doping drain) structure. In addition, T
FT generally means all elements such as FETs that perform transistor operations such as switching. Further, it goes without saying that the structure of the EL film, the panel structure and the like can be applied to the simple matrix type display panel. In addition, in this specification, an organic EL element (OEL, PEL,
PLED, OLED) 15 will be described as an example, but the present invention is not limited to this, and needless to say, it is also applied to an inorganic EL element.

【0172】まず、有機EL表示パネルに用いられるア
クティブマトリックス方式は、1.特定の画素を選択
し、必要な表示情報を与えられること。2、1フレーム
期間を通じてEL素子に電流を流すことができることと
いう2つの条件を満足させなければならない。
First, the active matrix method used for the organic EL display panel is as follows. To be able to select specific pixels and be given the necessary display information. It is necessary to satisfy the two conditions that a current can be passed through the EL element during 2 and 1 frame periods.

【0173】この2つの条件を満足させるため、図12
に示す従来の有機ELの素子構成では、第1のTFT1
1aは画素を選択するためのスイッチング用トランジス
タ、第2のTFT11bはEL素子(EL膜)15に電
流を供給するための駆動用トランジスタとする。
In order to satisfy these two conditions, FIG.
In the conventional organic EL device configuration shown in FIG.
1a is a switching transistor for selecting a pixel, and the second TFT 11b is a driving transistor for supplying a current to the EL element (EL film) 15.

【0174】ここで液晶に用いられるアクティブマトリ
ックス方式と比較すると、スイッチング用トランジスタ
11aは液晶用にも必要であるが、駆動用トランジスタ
11bはEL素子15を点灯させるために必要である。
この理由は液晶の場合は、電圧を印加することでオン状
態を保持することができるが、EL素子15の場合は、
電流を流しつづけなければ画素16の点灯状態を維持で
きないからである。
Compared with the active matrix system used for liquid crystal, the switching transistor 11a is also required for liquid crystal, but the driving transistor 11b is necessary for lighting the EL element 15.
The reason for this is that in the case of liquid crystal, the ON state can be maintained by applying a voltage, but in the case of the EL element 15,
This is because the lighting state of the pixel 16 cannot be maintained unless current is continuously supplied.

【0175】したがって、EL表示パネルでは電流を流
し続けるためにトランジスタ11bをオンさせ続けなけ
ればならない。まず、走査線、データ線が両方ともオン
になると、スイッチング用トランジスタ11aを通して
キャパシタ19に電荷が蓄積される。このキャパシタ1
9が駆動用トランジスタ11bのゲートに電圧を加え続
けるため、スイッチング用トランジスタ11aがオフに
なっても、電流供給線20から電流が流れつづけ、1フ
レーム期間にわたり画素16をオンできる。
Therefore, in the EL display panel, the transistor 11b must be kept on in order to keep the current flowing. First, when both the scanning line and the data line are turned on, charges are accumulated in the capacitor 19 through the switching transistor 11a. This capacitor 1
Since 9 continues to apply a voltage to the gate of the driving transistor 11b, even if the switching transistor 11a is turned off, current continues to flow from the current supply line 20 and the pixel 16 can be turned on for one frame period.

【0176】この構成を用いて階調を表示させる場合、
駆動用トランジスタ11bのゲート電圧として階調に応
じた電圧を印加する必要がある。したがって駆動用トラ
ンジスタ11bのオン電流のばらつきがそのまま表示に
現れる。
When displaying gradations using this configuration,
It is necessary to apply a voltage according to the gradation as the gate voltage of the driving transistor 11b. Therefore, the variation in the on-current of the driving transistor 11b appears on the display as it is.

【0177】トランジスタのオン電流は単結晶で形成さ
れたトランジスタであれば、きわめて均一であるが、安
価なガラス基板に形成することのできる形成温度が45
0度以下の低温ポリシリ技術で形成した低温多結晶トタ
ンジスタでは、そのしきい値のばらつきが±0.2V〜
0.5Vの範囲でばらつきを持つため、駆動用トランジ
スタ11bを流れるオン電流がこれに対応してばらつ
き、表示にムラが発生する。これらのムラは、しきい値
電圧のばらつきのみならず、TFTの移動度、ゲート絶
縁膜の厚みなどでも発生する。また、TFT11の劣化
によっても特性は変化する。
The on-current of a transistor is extremely uniform if it is a transistor formed of a single crystal, but the formation temperature at which it can be formed on an inexpensive glass substrate is 45.
In the low temperature polycrystalline transistor formed by the low temperature poly-silicon technique of 0 degrees or less, the variation in the threshold value is ± 0.2V to
Since there is variation in the range of 0.5 V, the on-current flowing through the driving transistor 11b varies correspondingly, and display unevenness occurs. These irregularities occur not only in the variation of the threshold voltage but also in the mobility of the TFT and the thickness of the gate insulating film. The characteristics also change due to deterioration of the TFT 11.

【0178】したがって、アナログ的に階調を表示させ
る方法では、均一な表示を得るために、デバイスの特性
を厳密に制御する必要があり、現状の低温多結晶ポリシ
リコンTFTではこのバラツキを所定範囲以内の抑える
というスペックを満足できない。この問題を解決するた
め、1画素内に4つのトランジスタをもうけて、しきい
値電圧のばらつきをコンデンサにより補償させて均一な
電流を得る方法、定電流回路を1画素ごとに形成し電流
の均一化を図る方法などが考えられる。
Therefore, in the method of displaying gray scales in an analog manner, it is necessary to strictly control the characteristics of the device in order to obtain a uniform display. In the current low temperature polycrystal polysilicon TFT, this variation is within a predetermined range. I can't satisfy the specifications to keep within. In order to solve this problem, four transistors are provided in one pixel, and the variation in threshold voltage is compensated by a capacitor to obtain a uniform current. A constant current circuit is formed for each pixel to make the current uniform. It is possible to consider a method of achieving this.

【0179】しかしながら、これらの方法は、プログラ
ムされる電流がEL素子15を通じてプログラムされる
ため電流経路が変化した場合に電源ラインに接続される
スイッチングトランジスタに対し駆動電流を制御するト
ランジスタがソースフォロワとなり駆動マージンが狭く
なる。従って駆動電圧が高くなるという課題を有する。
However, in these methods, since the programmed current is programmed through the EL element 15, the transistor controlling the drive current becomes the source follower for the switching transistor connected to the power supply line when the current path changes. The drive margin becomes narrow. Therefore, there is a problem that the driving voltage becomes high.

【0180】また、電源に接続するスイッチングトラン
ジスタをインピーダンスの低い領域で使用する必要があ
り、この動作範囲がEL素子15の特性変動により影響
を受けるという課題もある。その上、飽和領域における
電圧電流特性に、キンク電流が発生する場合、トランジ
スタのしきい値電圧の変動が発生した場合、記憶された
電流値が変動するとう課題もある。
Further, it is necessary to use the switching transistor connected to the power source in the region of low impedance, and there is also a problem that this operating range is affected by the characteristic variation of the EL element 15. In addition, when the kink current occurs in the voltage-current characteristics in the saturation region, or when the threshold voltage of the transistor changes, the stored current value also changes.

【0181】本発明のEL素子構造は、上記課題に対し
て、EL素子15に流れる電流を制御するトランジスタ
11が、ソースフォロワ構成とならず、かつそのトラン
ジスタにキンク電流があっても、キンク電流の影響を最
小に抑えることが出来て記憶される電流値の変動を小さ
くすることが出来る構成である。
In the EL device structure of the present invention, in order to solve the above problems, even if the transistor 11 for controlling the current flowing through the EL device 15 does not have the source follower configuration and the transistor has a kink current, the kink current It is possible to minimize the influence of the above and reduce the fluctuation of the stored current value.

【0182】本発明のEL素子構造は、具体的には図1
(a)に示すように単位画素が最低4つからなる複数の
トランジスタ11ならびにEL素子により形成される。
なお、画素電極はソース信号線と重なるように構成す
る。つまり、ソース信号線18上に絶縁膜あるいはアク
リル材料からなる平坦化膜を形成して絶縁し、この絶縁
膜上に画素電極を形成する。このようにソース信号線1
8上に画素電極を重ねる構成をハイアパーチャ(HA)
構造と呼ぶ。
The EL device structure of the present invention is specifically shown in FIG.
As shown in (a), the unit pixel is formed by a plurality of transistors 11 each including at least four and an EL element.
Note that the pixel electrode is formed so as to overlap with the source signal line. That is, an insulating film or a flattening film made of an acrylic material is formed on the source signal line 18 for insulation, and a pixel electrode is formed on this insulating film. In this way, the source signal line 1
High aperture (HA) with a structure in which pixel electrodes are stacked on top of 8
Call it the structure.

【0183】第1のゲート信号線(第1の走査線)17
aをアクティブ(ON電圧を印加)とすることにより第
1のトランジスタ(TFTあるいはスイッチング素子)
11aおよび第3のトランジスタ(TFTあるいはスイ
ッチング素子)11cを通して、前記EL素子15に流
すべき電流値を流し、第1のトランジスタのゲートとド
レイン間を短絡するように第2のトランジスタ11bが
第1のゲート信号線17aアクティブ(ON電圧を印
加)となることにより開くと共に、第1のトランジスタ
11aのゲートとソース間に接続されたコンデンサ(キ
ャパシタ、蓄積容量)19に、前記電流値を流すように
第1のトランジスタ11aのゲート電圧(あるいはドレ
イン電圧)を記憶する。
First gate signal line (first scanning line) 17
First transistor (TFT or switching element) by activating a (applying ON voltage)
The second transistor 11b is connected to the first transistor 11b and the third transistor (TFT or switching element) 11c so that a current value to be passed through the EL element 15 is caused to flow and the gate and drain of the first transistor are short-circuited. The gate signal line 17a is opened by being activated (applying an ON voltage), and at the same time, the current value is passed through a capacitor (capacitor, storage capacitance) 19 connected between the gate and source of the first transistor 11a. The gate voltage (or drain voltage) of the first transistor 11a is stored.

【0184】なお、第1のトランジスタ11aのソース
−ゲート間容量(コンデンサ)19は0.2pF以上の
容量とすることが好ましい。他の構成として、別途、コ
ンデンサ19を形成する構成も例示される。つまり、コ
ンデンサ電極レイヤーとゲート絶縁膜およびゲートメタ
ルから蓄積容量を形成する構成である。M3トランジス
タ11cのリークによる輝度低下を防止する観点、表示
動作を安定化させるための観点からはこのように別途コ
ンデンサを構成するほうが好ましい。なお、コンデンサ
(蓄積容量)19の大きさは、0.2pF以上2pF以
下とすることがよく、中でもコンデンサ(蓄積容量)1
9の大きさは、0.4pF以上1.2pF以下とするこ
とがよい。
Note that the source-gate capacitance (capacitor) 19 of the first transistor 11a is preferably 0.2 pF or more. As another configuration, a configuration in which the capacitor 19 is separately formed is also exemplified. That is, the storage capacitor is formed from the capacitor electrode layer, the gate insulating film, and the gate metal. From the viewpoint of preventing a decrease in luminance due to the leakage of the M3 transistor 11c and stabilizing the display operation, it is preferable to separately configure the capacitor in this way. The size of the capacitor (storage capacity) 19 is preferably 0.2 pF or more and 2 pF or less, and particularly the capacitor (storage capacity) 1
The size of 9 is preferably 0.4 pF or more and 1.2 pF or less.

【0185】なお、コンデンサ19は隣接する画素間の
非表示領域におおむね形成することがこのましい。一般
的に、フルカラー有機ELを作成する場合、有機EL層
をメタルマスクによるマスク蒸着で形成するためマスク
位置ずれによるEL層の形成位置が発生する。位置ずれ
が発生すると各色の有機EL層が重なる危険性がある。
そのため、各色の隣接する画素間の非表示領域は10μ
以上離れなければならない。この部分は発光に寄与しな
い部分となる。したがって、蓄積容量19をこの領域に
形成することは開口率向上のために有効な手段となる。
It is preferable that the capacitor 19 is generally formed in the non-display area between adjacent pixels. Generally, when forming a full-color organic EL, since the organic EL layer is formed by mask vapor deposition using a metal mask, the formation position of the EL layer occurs due to the mask position shift. When the position shift occurs, there is a risk that the organic EL layers of the respective colors overlap.
Therefore, the non-display area between adjacent pixels of each color is 10μ.
You have to leave This portion does not contribute to light emission. Therefore, forming the storage capacitor 19 in this region is an effective means for improving the aperture ratio.

【0186】なお、メタルマスク2881は磁性体で作
製し、基板49の裏面から磁石でメタルマスク2881
を磁力で吸着する。磁力により、メタルマスク2881
は基板と隙間なく密着する。以上の製造方法に関する事
項は、本発明の他の製造方法にも適用される。
The metal mask 2881 is made of a magnetic material, and the metal mask 2881 is formed from the back surface of the substrate 49 with a magnet.
Is attracted by magnetic force. Magnetic mask 2881
Adheres to the substrate without any gap. The matters regarding the above manufacturing method are also applied to the other manufacturing methods of the present invention.

【0187】次に、第1のゲート信号線17aを非アク
ティブ(OFF電圧を印加)、第2のゲート信号線17
bをアクティブとして、電流の流れる経路を前記第1の
トランジスタ11a並びにEL素子15に接続された第
4のトランジスタ11dならびに前記EL素子15を含
む経路に切り替えて、記憶した電流を前記EL素子15
に流すように動作する。
Next, the first gate signal line 17a is made inactive (OFF voltage is applied), and the second gate signal line 17 is made.
b is made active, and the path through which the current flows is switched to the path including the fourth transistor 11d connected to the first transistor 11a and the EL element 15 and the EL element 15, and the stored current is stored in the EL element 15
It works like flowing to.

【0188】この回路は1画素内に4つのトランジスタ
11を有しており、第1のトランジスタM1のゲートは
第2のトランジスタM2のソースに接続されており、第
2のトランジスタおよび第3のトランジスタM2のゲー
トは第1のゲート信号線17aに、M2のドレインはM
3のソースならびに第4のトランジスタM4のソースに
接続されM3のドレインはソース信号線18に接続され
ている。トランジスタM4のゲートは第2のゲート信号
線17bに接続され、トランジスタM4のドレインはE
L素子15のアノード電極に接続されている。
This circuit has four transistors 11 in one pixel, the gate of the first transistor M1 is connected to the source of the second transistor M2, and the second transistor and the third transistor M3 are connected. The gate of M2 is the first gate signal line 17a, and the drain of M2 is M
3 and the source of the fourth transistor M4, and the drain of M3 is connected to the source signal line 18. The gate of the transistor M4 is connected to the second gate signal line 17b, and the drain of the transistor M4 is E
It is connected to the anode electrode of the L element 15.

【0189】なお、図1ではすべてのTFTFはPチャ
ンネルで構成している。Pチャンネルは多少Nチャンネ
ルのTFTに比較してモビリティが低いが、耐圧が大き
くまた劣化も発生しにくいので好ましい。しかし、本発
明はEL素子構成をPチャンネルで構成することのみに
限定するものではない。Nチャンネルのみで構成しても
よい(図42、図43、図67などを参照)。また、N
チャンネルとPチャンネルの両方を用いて構成してもよ
い。
Note that, in FIG. 1, all TFTFs are constructed by P channels. Although the P-channel has somewhat lower mobility than the N-channel TFT, it is preferable because it has a large withstand voltage and is less likely to deteriorate. However, the present invention is not limited to the configuration of the EL device including P channels. You may comprise only N channels (refer FIG. 42, FIG. 43, FIG. 67 etc.). Also, N
It may be configured using both channels and P channels.

【0190】なお、第3および第4のトランジスタは同
一の極性で構成し、かつNチャンネルで構成し、第1お
よび第2のトランジスタはPチャンネルで構成すること
が好ましい。一般的にPチャンネルトランジスタはNチ
ャンネルトランジスタに比較して、信頼性が高い、キン
ク電流が少ないなどの特長があり、電流を制御すること
によって目的とする発光強度をえるEL素子に対して
は、第1のトランジスタ11aをPチャンネルにする効
果が大きい。
It is preferable that the third and fourth transistors have the same polarity and are N-channel, and the first and second transistors are P-channel. In general, P-channel transistors have characteristics such as higher reliability and less kink current than N-channel transistors, and for EL elements that obtain the desired emission intensity by controlling the current, The effect of making the first transistor 11a P-channel is large.

【0191】以下 、本発明のEL素子構成について図
13を用いて説明する。本発明のEL素子構成は2つの
タイミングにより制御される。第1のタイミングは必要
な電流値を記憶させるタイミングである。このタイミン
グでTFT11bならびにTFT11cがONすること
により、等価回路として図13(a)となる。ここで、
信号線より所定の電流I1が書き込まれる。これにより
TFT11aはゲートとドレインが接続された状態とな
り、このTFT11aとTFT11cを通じて電流I1
が流れる。従って、TFT11aのゲートーソースの電
圧はI1が流れるような電圧V1となる。
The EL element structure of the present invention will be described below with reference to FIG. The EL element structure of the present invention is controlled by two timings. The first timing is a timing for storing a necessary current value. When the TFT 11b and the TFT 11c are turned on at this timing, an equivalent circuit is shown in FIG. here,
A predetermined current I1 is written from the signal line. As a result, the TFT 11a is in a state in which the gate and the drain are connected, and the current I1 is passed through the TFT 11a and the TFT 11c.
Flows. Therefore, the gate-source voltage of the TFT 11a becomes the voltage V1 at which I1 flows.

【0192】第2のタイミングはTFT11aとTFT
11cが閉じ、TFT11dが開くタイミングであり、
そのときの等価回路は図13(b)となる。TFT11
aのソース−ゲート間の電圧V1は保持されたままとな
る。この場合、M1のトランジスタ11aは常に飽和領
域で動作するため、I1の電流は一定となる。
The second timing is the TFT 11a and the TFT.
11c is closed and TFT 11d is opened,
The equivalent circuit at that time is shown in FIG. TFT11
The voltage V1 between the source and gate of a remains held. In this case, since the transistor 11a of M1 always operates in the saturation region, the current of I1 is constant.

【0193】なお、トランジスタ11aのゲートとトラ
ンジスタ11cのゲートは同一のゲート信号線11aに
接続している。しかし、トランジスタ11aのゲートと
トランジスタ11cのゲートとを異なるゲート信号線1
1に接続してもよい(SA1とSA2とを個別に制御で
きるようにする)。つまり、1画素のゲート信号線は3
本となる(図1の構成は2本である)。トランジスタ1
1aのゲートのON/OFFタイミングとトランジスタ
11cのゲートのON/OFFタイミングを個別に制御
することにより、トランジスタ11のばらつきによるE
L素子15の電流値バラツキをさらに低減することがで
きる。
The gate of the transistor 11a and the gate of the transistor 11c are connected to the same gate signal line 11a. However, the gate of the transistor 11a and the gate of the transistor 11c have different gate signal lines 1
1 (SA1 and SA2 can be controlled separately). That is, the gate signal line for one pixel is 3
It becomes a book (the structure of FIG. 1 is two). Transistor 1
By individually controlling the ON / OFF timing of the gate of 1a and the ON / OFF timing of the gate of the transistor 11c, E
It is possible to further reduce the variation in the current value of the L element 15.

【0194】第1のゲート信号線17aと第2のゲート
信号線17bとを共通にし、第3および第4のトランジ
スタが異なった導電型(NチャンネルとPチャンネル)
とすると、駆動回路の簡略化、ならびに画素の開口率を
向上させることが出来る。
The first gate signal line 17a and the second gate signal line 17b are commonly used, and the third and fourth transistors have different conductivity types (N channel and P channel).
Then, the driving circuit can be simplified and the aperture ratio of the pixel can be improved.

【0195】このように構成すれば本発明の動作タイミ
ングとしては信号線からの書きこみ経路がオフになる。
すなわち所定の電流が記憶される際に、電流の流れる経
路に分岐があると正確な電流値がM1のソース−ゲート
間容量(コンデンサ)に記憶されない。TFTM3とT
FTM4を異なった導電形にすることにより、お互いの
閾値を制御することによって走査線の切り替わりのタイ
ミングで必ずM3がオフしたのちにM4がオンすること
が可能になる。
With this structure, the write path from the signal line is turned off in the operation timing of the present invention.
That is, when a predetermined current is stored, an accurate current value is not stored in the source-gate capacitance (capacitor) of M1 if there is a branch in the current flow path. TFT M3 and T
By making the FTM4s of different conductivity types, it is possible to turn on M4 after turning off M3 without fail at the timing of switching the scanning lines by controlling the threshold values of each other.

【0196】ただし、この場合お互いの閾値を正確にコ
ントロールする必要があるのでプロセスの注意が必要で
ある。なお、以上述べた回路は最低4つのトランジスタ
で実現可能であるが、より正確なタイミングのコントロ
ールあるいは後述するように、ミラー効果低減のために
トランジスタ11e(M5)を図1(b)に示すように
カスケード接続してトランジスタの総数が4以上になっ
ても動作原理は同じである。このようにトランジスタ1
1eを加えた構成とすることにより、トランジスタM3
を介してプログラムした電流がより精度よくEL素子1
5に流すことができるようになる。
However, in this case, it is necessary to control the threshold values of each other accurately, and therefore the process needs to be careful. Although the circuit described above can be realized with at least four transistors, the transistor 11e (M5) is shown in FIG. 1 (b) for more accurate timing control or for reducing the Miller effect, as will be described later. The principle of operation is the same even if the total number of transistors is 4 or more by cascade connection. Thus transistor 1
With the configuration including 1e, the transistor M3
The current programmed through the EL element 1 is more accurate.
It becomes possible to flow to 5.

【0197】図1の構成において、第1のトランジスタ
11aの飽和領域における電流値Idsが下式の条件を
満足させることがさらに好ましい。なお、下式において
λの値は、隣接する画素間において0.06以下0.0
1以上の条件を満足させる。
In the configuration of FIG. 1, it is further preferable that the current value Ids in the saturation region of the first transistor 11a satisfies the condition of the following equation. In the equation below, the value of λ is 0.06 or less between adjacent pixels 0.0
Satisfy one or more conditions.

【0198】Ids=k*(Vgs−Vth)2(1+
Vds*λ) 本発明では、トランジスタ11aの動作範囲を飽和領域
に限定するが、一般的に飽和領域におけるトランジスタ
特性は、理想的な特性より外れ、ソースードレイン間電
圧の影響を受ける。この効果をミラー効果という。
Ids = k * (Vgs-Vth) 2 (1+
Vds * λ) In the present invention, the operating range of the transistor 11a is limited to the saturation region, but in general, the transistor characteristics in the saturation region deviate from the ideal characteristics and are affected by the source-drain voltage. This effect is called the mirror effect.

【0199】隣接する画素におけるそれぞれのトランジ
スタ11aにΔVtなる閾値のシフトが発生した場合を
考える。この場合記憶される電流値は同じである。閾値
のシフトをΔLとすれば、約ΔV×λがトランジスタ1
1aの閾値が変動することによる、EL素子15の電流
値のずれに相当する。したがって、電流のずれをx
(%)以下に抑えるためには、閾値のシフトの許容量を
隣接する画素間でy(V)を許容するとして、λは0.
01×x/y以下でなければならないことが判る。
Consider a case where a threshold shift of ΔVt occurs in each transistor 11a in adjacent pixels. In this case, the stored current values are the same. If the shift of the threshold value is ΔL, about ΔV × λ is about 1
This corresponds to the deviation of the current value of the EL element 15 due to the change in the threshold value of 1a. Therefore, the deviation of the current is x
In order to suppress the threshold value to less than or equal to (%), y is set to 0.
It can be seen that it must be 01 × x / y or less.

【0200】この許容値はアプリケーションの輝度によ
り変化する。輝度が100cd/m2から1000cd/m2まで
の輝度領域においては、変動量が2%以上あれば人間は
変動した境界線を認識する。したがって、輝度(電流
量)の変動量が2%以内であることが必要である。輝度
が100cd/cm2より高い場合は隣接する画素の輝
度変化量は2%以上となる。本発明のEL表示素子を携
帯端末用ディスプレイとして用いる場合、その要求輝度
は100cd/m2程度である。実際に図1の画素構成を試
作し、閾値の変動を測定すると、隣接する画素のトラン
ジスタ11aおいては閾値の変動の最大値は0.3Vで
あることが判った。したがって、輝度の変動を2%以内
に抑えるためにはλは0.06以下でなければならな
い。しかし、0.01以下にする必要はない。人間が変
化を認識することができないからである。また、この閾
値のバラツキを達成するためにはトランジスタサイズを
十分大きくする必要があり、非現実的である。
This permissible value changes depending on the brightness of the application. In the luminance region where the luminance is 100 cd / m 2 to 1000 cd / m 2 , if the variation amount is 2% or more, a person recognizes the varied boundary line. Therefore, it is necessary that the variation amount of the brightness (current amount) is within 2%. When the brightness is higher than 100 cd / cm 2 , the brightness change amount of the adjacent pixels is 2% or more. When the EL display element of the present invention is used as a display for a mobile terminal, the required brightness is about 100 cd / m 2 . When the pixel configuration of FIG. 1 was actually prototyped and the fluctuation of the threshold value was measured, it was found that the maximum value of the fluctuation of the threshold value was 0.3 V in the transistor 11a of the adjacent pixel. Therefore, λ must be 0.06 or less in order to suppress the fluctuation of the luminance within 2%. However, it need not be 0.01 or less. This is because humans cannot recognize the change. Further, in order to achieve this variation in the threshold, it is necessary to make the transistor size sufficiently large, which is unrealistic.

【0201】また、第1のトランジスタ11aの飽和領
域における電流値Idsが下式を満足するように構成す
ることが好ましい。なお、λの変動が隣接する画素間に
おいて5%以下1%以上とする。
Further, it is preferable that the current value Ids in the saturation region of the first transistor 11a satisfies the following equation. The variation of λ is 5% or less and 1% or more between adjacent pixels.

【0202】Ids=k*(Vgs−Vth)2(1+
Vds*λ) 隣接する画素間において、たとえ閾値の変動が存在しな
い場合でも上記式のλに変動があれば、ELを流れる電
流値が変動する。変動を±2%以内に抑えるためには、
λの変動を±5%に抑えなければならない。しかし、し
かし、1%以下にする必要はない。人間が変化を認識す
ることができないからである。また、1%以下を達成す
るためにはトランジスタサイズを相当に大きくする必要
があり、非現実的である。
Ids = k * (Vgs-Vth) 2 (1+
Vds * λ) Even if there is no change in the threshold value between adjacent pixels, if there is a change in λ in the above formula, the value of the current flowing through the EL changes. To keep the fluctuation within ± 2%,
The variation of λ must be suppressed to ± 5%. However, however, it does not have to be 1% or less. This is because humans cannot recognize the change. Further, in order to achieve 1% or less, the transistor size needs to be considerably increased, which is unrealistic.

【0203】また、実験、アレイ試作および検討によれ
ば第1のトランジスタ11aのチャンネル長が10μm
以上200μm以下とすることが好ましい。さらに好ま
しくは、第1のトランジスタ11aのチャンネル長が1
5μm以上150μm以下とすることが好ましい。これ
は、チャンネル長Lを長くした場合、チャンネルに含ま
れる粒界が増えることによって電界が緩和されキンク効
果が低く抑えられるためであると考えられる。
Further, according to experiments, array trial manufactures, and studies, the channel length of the first transistor 11a is 10 μm.
It is preferable that the thickness is 200 μm or less. More preferably, the channel length of the first transistor 11a is 1
The thickness is preferably 5 μm or more and 150 μm or less. This is considered to be because when the channel length L is lengthened, the grain boundaries included in the channel increase, and the electric field is relaxed, and the kink effect is suppressed to a low level.

【0204】また、画素を構成するトランジスタ11
が、レーザー再結晶化方法(レーザアニ−ル)により形
成されたポリシリコンTFTで形成され、すべてのトラ
ンジスタにおけるチャンネルの方向がレーザーの照射方
向に対して同一の方向であることが好ましい。
Further, the transistor 11 forming the pixel
Is preferably formed of a polysilicon TFT formed by a laser recrystallization method (laser annealing), and the directions of the channels in all transistors are preferably the same as the laser irradiation direction.

【0205】本特許の発明の目的は、トランジスタ特性
のばらつきが表示に影響を与えない回路構成を提案する
ものであり、そのために4トランジスタ以上が必要であ
る。これらのトランジスタ特性により、回路定数を決定
する場合、4つのトランジスタの特性がそろわなけれ
ば、適切な回路定数を求めることが困難である。レーザ
ー照射の長軸方向に対して、チャンネル方向が水平の場
合と垂直の場合では、トランジスタ特性の閾値と移動度
が異なって形成される。なお、どちらの場合もばらつき
の程度は同じである。水平方向と、垂直方向では移動
度、閾値のあたいの平均値が異なる。したがって、画素
を構成するすべてのトランジスタのチャンネル方向は同
一であるほうが望ましい。
The object of the invention of this patent is to propose a circuit configuration in which variations in transistor characteristics do not affect the display, and therefore four or more transistors are required. When the circuit constant is determined based on these transistor characteristics, it is difficult to obtain an appropriate circuit constant unless the four transistors have the same characteristics. When the channel direction is horizontal or vertical with respect to the long-axis direction of laser irradiation, the threshold and mobility of transistor characteristics are different. The degree of variation is the same in both cases. The mobility and the average value of the thresholds are different between the horizontal direction and the vertical direction. Therefore, it is desirable that the channel directions of all the transistors forming the pixel are the same.

【0206】また、蓄積容量19の容量値をCs、第2
のトランジスタ11bのオフ電流値をIoffとした場
合、次式を満足させることが好ましい。
Further, the capacitance value of the storage capacitor 19 is set to Cs, the second
When the off-state current value of the transistor 11b is Ioff, it is preferable to satisfy the following equation.

【0207】3 < Cs/Ioff < 24 さらに好ましくは、次式を満足させることが好ましい。3 <Cs / Ioff <24 More preferably, it is preferable to satisfy the following formula.

【0208】6 < Cs/Ioff < 18 トランジスタ11bのオフ電流を5pA以下とすること
により、ELを流れる電流値の変化を2%以下に抑える
ことが可能である。これはリーク電流が増加すると、電
圧非書き込み状態においてゲート−ソース間(コンデン
サの両端)に貯えられた電荷を1フィールド間保持でき
ないためである。したがって、コンデンサ19の蓄積用
容量が大きければオフ電流の許容量も大きくなる。前記
式を満たすことによって隣接画素間の電流値の変動を2
%以下に抑えることができる。
6 <Cs / Ioff <18 By setting the off current of the transistor 11b to 5 pA or less, it is possible to suppress the change in the current value flowing through the EL to 2% or less. This is because when the leak current increases, the charge stored between the gate and the source (both ends of the capacitor) cannot be retained for one field in the voltage non-writing state. Therefore, the larger the storage capacity of the capacitor 19, the larger the allowable amount of off-current. By satisfying the above equation, the fluctuation of the current value between adjacent pixels can be reduced by 2
% Or less.

【0209】また、アクティブマトリックスを構成する
トランジスタがp−chポリシリコン薄膜トランジスタ
に構成され、トランジスタ11bがデュアルゲート以上
であるマルチゲート構造とすることが好ましい。トラン
ジスタ11bは、トランジスタ11aのソース−ドレイ
ン間のスイッチとして作用するため、できるだけON/
OFF比の高い特性が要求される。トランジスタ11b
のゲートの構造をデュアルゲート構造以上のマルチゲー
ト構造とすることによりON/OFF比の高い特性を実
現できる。
Further, it is preferable that the transistors forming the active matrix are formed of p-ch polysilicon thin film transistors, and the transistor 11b has a multi-gate structure having at least dual gates. Since the transistor 11b acts as a switch between the source and drain of the transistor 11a, it is turned on / off as much as possible.
High OFF ratio characteristics are required. Transistor 11b
A high ON / OFF ratio characteristic can be realized by adopting a multi-gate structure having a dual gate structure or more as the gate structure.

【0210】また、アクティブマトリックスを構成する
トランジスタがポリシリコン薄膜トランジスタで構成さ
れており、各トランジスタの(チャンネル幅W)*(チ
ャンネル長L)を54μm2以下とすることが好まし
い。(チャンネル幅W)*(チャンネル長L)とトラン
ジスタ特性のバラツキとは相関がある。トランジスタ特
性におけるばらつきの原因は、レーザーの照射によるエ
ネルギーのばらつきなどに起因するものが大きく、した
がってこれを吸収するためには、できるだけレーザーの
照射ピッチ(一般的には10数μm)をチャンネル内に
より多く含む構造が望ましい。各トランジスタの(チャ
ンネル幅W)*(チャンネル長L)を54μm2以下と
することによりレーザー照射に起因するばらつきがな
く、特性のそろった薄膜トランジスタを得ることができ
る。なお、あまりにもトランジスタサイズが小さくなる
と面積による特性ばらつきが発生する。したがって、各
トランジスタの(チャンネル幅W)*(チャンネル長
L)は9μm2以上となるようにする。なお、さらに好
ましくは、各トランジスタの(チャンネル幅W)*(チ
ャンネル長L)は16μm2以上45μm2以下となるよ
うにすることが好ましい。
Further, it is preferable that the transistors forming the active matrix are formed of polysilicon thin film transistors, and the (channel width W) * (channel length L) of each transistor is set to 54 μm 2 or less. There is a correlation between (channel width W) * (channel length L) and variations in transistor characteristics. The cause of the variation in transistor characteristics is largely due to the variation in energy due to laser irradiation. Therefore, in order to absorb this, the laser irradiation pitch (generally 10 and several μm) should be set as much as possible within the channel. A structure containing many is desirable. By setting the (channel width W) * (channel length L) of each transistor to 54 μm 2 or less, it is possible to obtain a thin film transistor having uniform characteristics without variations due to laser irradiation. It should be noted that if the transistor size becomes too small, the characteristics will vary depending on the area. Therefore, the (channel width W) * (channel length L) of each transistor is set to be 9 μm 2 or more. It is more preferable that the (channel width W) * (channel length L) of each transistor be 16 μm 2 or more and 45 μm 2 or less.

【0211】また、隣接する単位画素での第1のトラン
ジスタ11aの移動度変動が20%以下であるようにす
ることが好ましい。移動度が不足することによりスイッ
チングトランジスタの充電能力が劣化し、時間内に必要
な電流値を流すまでに、M1のゲート−ソース間の容量
を充電できない。従って移動のばらつきを20%以内に
抑えることにより画素間の輝度のばらつきを認知限以下
にすることができる。
Further, it is preferable that the mobility fluctuation of the first transistor 11a in the adjacent unit pixel is 20% or less. Due to the lack of mobility, the charging capacity of the switching transistor deteriorates, and the gate-source capacitance of M1 cannot be charged by the time the necessary current value is passed. Therefore, by suppressing the variation in movement within 20%, it is possible to reduce the variation in luminance between pixels to the recognition limit or less.

【0212】以上の説明は、画素構成が図1の構成とし
て説明したが、以上の事項は図21、図43、図71、
図22に図示する構成にも適用することができる。以
下、図21などの画素構成について、構成、動作などの
説明をする。
In the above description, the pixel configuration has been described as the configuration of FIG. 1, but the above items are shown in FIG. 21, FIG. 43, FIG.
It can also be applied to the configuration shown in FIG. The pixel configuration shown in FIG. 21 and the like will be described below.

【0213】EL素子15に流す電流を設定する時、T
FT11aに流す信号電流をIw、その結果TFT11
aに生ずるゲートーソース間電圧をVgsとする。書き
込み時はTFT11dによってTFT11aのゲート・
ドレイン間が短絡されているので、TFT11aは飽和
領域で動作する。よって、Iwは、以下の式で与えられ
る。
When setting the current flowing through the EL element 15, T
The signal current flowing in the FT11a is Iw, and as a result, the TFT11
The gate-source voltage generated in a is Vgs. At the time of writing, the gate of the TFT 11a is controlled by the TFT 11d.
Since the drains are short-circuited, the TFT 11a operates in the saturation region. Therefore, Iw is given by the following formula.

【0214】 Iw=μ1・Cox1・W1/L1/2(Vgs−Vth1)2 … (1) ここで、Coxは単位面積当たりのゲート容量であり、
Cox=ε0・εr/dで与えられる。VthはTFT
の閾値、μはキャリアの移動度、Wはチャンネル幅、L
はチャンネル長、ε0は真空の移動度、εrはゲート絶
縁膜の比誘電率を示し、dはゲート絶縁膜の厚みであ
る。
Iw = μ1 · Cox1 · W1 / L1 / 2 (Vgs−Vth1) 2 (1) Here, Cox is the gate capacitance per unit area,
It is given by Cox = ε0 · εr / d. Vth is TFT
Threshold, μ is carrier mobility, W is channel width, L
Is the channel length, ε0 is the mobility of vacuum, εr is the relative dielectric constant of the gate insulating film, and d is the thickness of the gate insulating film.

【0215】EL素子15に流れる電流をIddとする
と、Iddは、EL素子15と直列に接続されるTFT
1bによって電流レベルが制御される。本発明では、そ
のゲートーソース間電圧が(1)式のVgsに一致する
ので、TFT1bが飽和領域で動作すると仮定すれば、
以下の式が成り立つ。
When the current flowing through the EL element 15 is Idd, Idd is the TFT connected in series with the EL element 15.
The current level is controlled by 1b. In the present invention, since the gate-source voltage thereof matches Vgs of the equation (1), assuming that the TFT 1b operates in the saturation region,
The following formula holds.

【0216】 Idrv=μ2・Cox2・W2/L2/2(Vgs−Vth2)2 … ( 2) 絶縁ゲート電界効果型の薄膜トランジスタ(TFT)が
飽和領域で動作するための条件は、Vdsをドレイン・
ソース間電圧として、一般に以下の式で与えられる。
Idrv = μ2 · Cox2 · W2 / L2 / 2 (Vgs-Vth2) 2 (2) The condition for the insulated gate field effect thin film transistor (TFT) to operate in the saturation region is that Vds is drained.
The voltage between sources is generally given by the following formula.

【0217】 |Vds|>|Vgs−Vth| … (3) ここで、TFT11aとTFT11bは、小さな画素内
部に近接して形成されるため、大略μ1=μ2及びCo
x1=Cox2であり、特に工夫を凝らさない限り、V
th1=Vth2と考えられる。すると、このとき
(1)式及び(2)式から容易に以下の式が導かれる。
| Vds |> | Vgs−Vth | (3) Since the TFT 11a and the TFT 11b are formed close to each other inside a small pixel, approximately μ1 = μ2 and Co
x1 = Cox2, and V is V unless otherwise devised.
It is considered that th1 = Vth2. Then, at this time, the following equations are easily derived from the equations (1) and (2).

【0218】 Idrv/Iw=(W2/L2)/(W1/L1) … (4) ここで注意すべき点は、(1)式及び(2)式におい
て、μ、Cox,Vthの値自体は、画素毎、製品毎、
あるいは製造ロット毎にばらつくのが普通であるが、
(4)式はこれらのパラメータを含まないので、Idr
v/Iwの値はこれらのばらつきに依存しないというこ
とである。
Idrv / Iw = (W2 / L2) / (W1 / L1) (4) The point to be noted here is that the values of μ, Cox, and Vth in equations (1) and (2) are , Per pixel, per product,
Or it is usually different for each production lot,
Since Equation (4) does not include these parameters, Idr
This means that the value of v / Iw does not depend on these variations.

【0219】仮にW1=W2,L1=L2と設計すれ
ば、Idrv/Iw=1、すなわちIwとIdrvが同
一の値となる。すなわちTFTの特性ばらつきによら
ず、EL素子15に流れる駆動電流Iddは、正確に信
号電流Iwと同一になるので、結果としてEL素子15
の発光輝度を正確に制御できる。
If W1 = W2 and L1 = L2 are designed, Idrv / Iw = 1, that is, Iw and Idrv have the same value. That is, the drive current Idd flowing through the EL element 15 is exactly the same as the signal current Iw regardless of the characteristic variation of the TFT.
The emission brightness of can be accurately controlled.

【0220】以上の様に、変換用TFT11aのVth
1と駆動用TFT11bのVth2は基本的に同一であ
る為、両TFTお互いにの共通電位にあるゲートに対し
てカットオフレベルの信号電圧が印加されると、TFT
11a及びTFT11b共に非導通状態になるはずであ
る。ところが、実際には画素内でもパラメータのばらつ
きなどの要因により、Vth1よりもVth2が低くな
ってしまうことがある。この時には、駆動用TFT11
bにサブスレッショルドレベルのリーク電流が流れる
為、EL素子15は微発光を呈する。この微発光により
画面のコントラストが低下し表示特性が損なわれる。
As described above, Vth of the conversion TFT 11a
1 and Vth2 of the driving TFT 11b are basically the same, so that when a cutoff level signal voltage is applied to the gates of both TFTs having a common potential, the TFTs
Both 11a and TFT 11b should be in a non-conducting state. However, in reality, Vth2 may be lower than Vth1 due to factors such as parameter variations within a pixel. At this time, the driving TFT 11
Since a subthreshold level leak current flows in b, the EL element 15 emits a slight amount of light. This slight light emission lowers the contrast of the screen and impairs the display characteristics.

【0221】本発明では特に、駆動用TFT11bの閾
電圧Vth2が画素内で対応する変換用TFT11aの
閾電圧Vth1より低くならない様に設定している。例
えば、TFT11bのゲート長L2をTFT11aのゲ
ート長L1よりも長くして、これらの薄膜トランジスタ
のプロセスパラメータが変動しても、Vth2がVth
1よりも低くならない様にする。これにより、微少な電
流リークを抑制することが可能である。以上の事項は図
1のTFT11aとTFT11dの関係にも適用され
る。
In the present invention, particularly, the threshold voltage Vth2 of the driving TFT 11b is set so as not to become lower than the threshold voltage Vth1 of the corresponding conversion TFT 11a in the pixel. For example, if the gate length L2 of the TFT 11b is made longer than the gate length L1 of the TFT 11a, and Vth2 is Vth2 even if the process parameters of these thin film transistors change.
It should not be lower than 1. This makes it possible to suppress a minute current leak. The above items also apply to the relationship between the TFT 11a and the TFT 11d in FIG.

【0222】図21に示すように、信号電流が流れる変
換用トランジスタTFT11a、EL素子15等からな
る発光素子に流れる駆動電流を制御する駆動用トランジ
スタTFT11bの他、第1の走査線scanA(S
A)の制御によって画素回路とデータ線dataとを接
続もしくは遮断する取込用トランジスタTFT11c、
第2の走査線scanB(SB)の制御によって書き込
み期間中にTFT1111aのゲート・ドレインを短絡
するスイッチ用トランジスタTFT11d,TFT11
aのゲートーソース間電圧を書き込み終了後も保持する
ための容量C19および発光素子としてのEL素子15
などから構成される。したがって、ゲート信号線は各画
素2本であることから、以前に説明した図1、図2、図
3などで説明した本発明の明細書全体の構成、機能、動
作などが適用することができる。
As shown in FIG. 21, in addition to the driving transistor TFT11b for controlling the driving current flowing through the light emitting element including the converting transistor TFT11a through which the signal current flows and the EL element 15, the first scanning line scanA (S).
Incorporating transistor TFT11c for connecting or disconnecting the pixel circuit and the data line data under the control of A),
Switching transistors TFT11d and TFT11 that short-circuit the gate and drain of the TFT 1111a during the writing period by controlling the second scanning line scanB (SB).
A capacitor C19 for holding the gate-source voltage of a after writing is completed and an EL element 15 as a light emitting element.
Etc. Therefore, since each pixel has two gate signal lines, the configuration, functions, operations, etc. of the entire specification of the present invention described with reference to FIGS. 1, 2, and 3 described above can be applied. .

【0223】図21でTFT11cはNチャンネルMO
S(NMOS)、その他のトランジスタはPチャンネル
MOS(PMOS)で構成しているが、これは一例であ
って、必ずしもこの通りである必要はない。容量Cは、
その一方の端子をTFT11aのゲートに接続され、他
方の端子はVdd(電源電位)に接続されているが、V
ddに限らず任意の一定電位でも良い。EL素子15の
カソード(陰極)は接地電位に接続されている。したが
って、以上の事項は図1などにも適用されることは言う
までもない。
In FIG. 21, the TFT 11c is an N channel MO.
The S (NMOS) and the other transistors are P-channel MOS (PMOS), but this is an example, and it is not always necessary. The capacity C is
One terminal thereof is connected to the gate of the TFT 11a and the other terminal is connected to Vdd (power supply potential).
Not limited to dd, any constant potential may be used. The cathode (cathode) of the EL element 15 is connected to the ground potential. Therefore, it goes without saying that the above items also apply to FIG.

【0224】EL素子15の端子電圧は温度によっても
変化する。通常、温度が低い時は高く、温度が高くなる
につれ、低くなる。この傾向はリニアの関係にある。し
たがって、Vdd電圧を外部温度によって(正確にはE
L素子15の温度によって)調整することが好ましい。
温度センサで外部温度を検出し、Vdd電圧発生部のフ
ィードバックをかけてVdd電圧を変化させる。Vdd
電圧は摂氏10℃の変化で、2%以上8%以下変化する
ようにすることが好ましい。中でも3%以上6%以下と
することが好ましい。
The terminal voltage of the EL element 15 also changes with temperature. Usually, it is high when the temperature is low, and becomes low when the temperature is high. This tendency has a linear relationship. Therefore, the Vdd voltage depends on the external temperature (to be exact, E
It is preferable to adjust (by the temperature of the L element 15).
The temperature sensor detects the external temperature and the Vdd voltage is changed by feeding back the Vdd voltage generator. Vdd
The voltage is preferably changed by 2% or more and 8% or less with a change of 10 ° C. Above all, it is preferably 3% or more and 6% or less.

【0225】なお、図1などのVdd電圧はTFT11
のオフ電圧よりも低くすることが好ましい。具体的に
は、Vgh(ゲートのオフ電圧)は少なくともVdd−
0.5(V)よりの高くするべきである。これよりも低
いとTFTのオフリークが発生し、レーザーアニ−ルの
ショットムラが目立つようになる。また、Vdd+4
(V)よりも低くすべきである。あまりにも高いと逆に
オフリーク量が増加する。したがって、ゲートのオフ電
圧(図1ではVgh、つまり、電源電圧に近い電圧側)
は、電源電圧(図1ではVdd)は、よりも−0.5
(V)以上+4(V)以下とすべきである。さらに好ま
しくは、電源電圧(図1ではVdd)は、よりも0
(V)以上+2(V)以下とすべきである。つまり、ゲ
ート信号線に印加するTFTのオフ電圧は、十分オフに
なるようにする。TFTがnチャンネルの場合は、Vg
lがオフ電圧となる。したがって、VglはGND電圧
に対して−4(V)以上0.5(V)以下の範囲となる
ようにする。さらに好ましくは−2(V)以上0(V)
以下の範囲することが好ましい。
It should be noted that the Vdd voltage in FIG.
It is preferable to lower the off-voltage. Specifically, Vgh (gate off-voltage) is at least Vdd-.
Should be higher than 0.5 (V). If it is lower than this, off-leakage of the TFT occurs and the shot unevenness of the laser anneal becomes conspicuous. Also, Vdd + 4
Should be lower than (V). If it is too high, on the contrary, the amount of off leak increases. Therefore, the gate off voltage (Vgh in FIG. 1, that is, the voltage side close to the power supply voltage)
Is less than the power supply voltage (Vdd in FIG. 1) by -0.5.
It should be above (V) and below +4 (V). More preferably, the power supply voltage (Vdd in FIG. 1) is more than 0.
It should be above (V) and below +2 (V). That is, the off-voltage of the TFT applied to the gate signal line is set to be sufficiently off. If the TFT has n channels, Vg
l is the off voltage. Therefore, Vgl is set within the range of -4 (V) or more and 0.5 (V) or less with respect to the GND voltage. More preferably -2 (V) or more and 0 (V)
The following range is preferable.

【0226】以上の事項は、図1の電流プログラムの画
素構成について述べたが、これに限定するものではな
く、図54、図67、図103などの電圧プログラムの
画素構成にも適用できることは言うまでもない。なお、
電圧プログラムのVtオフセットキャンセルは、R、
G、Bごとに個別に補償することが好ましい。
The above items have been described with respect to the pixel configuration of the current program of FIG. 1, but the present invention is not limited to this, and it is needless to say that they can be applied to the pixel configurations of the voltage program of FIGS. 54, 67, 103 and the like. Yes. In addition,
Vt offset cancellation of voltage program is R,
It is preferable to compensate G and B individually.

【0227】図21の構成は、走査線scanA及びs
canBを順次選択する走査線駆動回路と、輝度情報に
応じた電流レベルを有する信号電流Iwを生成して逐次
データ線dataに供給する電流源CSを含むデータ線
駆動回路と、各走査線scanA,scanB及び各デ
ータ線dataの交差部に配されていると共に、駆動電
流の供給を受けて発光する電流駆動型のEL素子15を
含む複数の画素とを備えている。
The configuration of FIG. 21 has the scan lines scanA and scanS.
scan line drive circuit that sequentially selects canB, a data line drive circuit that includes a current source CS that generates a signal current Iw having a current level according to luminance information and sequentially supplies it to the data line data, and each scan line scanA, The plurality of pixels are provided at the intersections of scanB and each data line data, and include a current-driven EL element 15 that emits light when supplied with a drive current.

【0228】特徴事項として、図21に示した画素構成
は、当該走査線scanAが選択された時当該データ線
dataから信号電流Iwを取り込む受入部と、取り込
んだ信号電流Iwの電流レベルを一旦電圧レベルに変換
して保持する変換部と、保持された電圧レベルに応じた
電流レベルを有する駆動電流を当該発光素子OLED1
5(他に、EL,OEL,PEL,PLEDと略称する
場合がある)に流す駆動部とからなる。具体的には、前
記受入部は取込用トランジスタTFT11cからなる。
As a characteristic feature, the pixel configuration shown in FIG. 21 has a receiving portion for taking in the signal current Iw from the data line data when the scanning line scanA is selected, and a current level of the taken signal current Iw. A conversion unit that converts the voltage into a level and holds the level, and a drive current having a current level according to the held voltage level, the light emitting element OLED
5 (otherwise, it may be abbreviated as EL, OEL, PEL, PLED). Specifically, the receiving part is composed of a take-in transistor TFT11c.

【0229】前記変換部は、ゲート、ソース、ドレイン
及びチャネルを備えた変換用薄膜トランジスタTFT1
1aと、そのゲートに接続した容量Cとを含んでいる。
変換用薄膜トランジスタTFT11a、受入部によって
取り込まれた信号電流Iwをチャネルに流して変換され
た電圧レベルをゲートに発生させ、容量C19ートに生
じた電圧レベルを保持する。
The conversion section includes a conversion thin film transistor TFT1 having a gate, a source, a drain and a channel.
1a and a capacitor C connected to its gate.
The conversion thin film transistor TFT11a and the signal current Iw taken in by the receiving part are caused to flow in the channel to generate the converted voltage level in the gate, and the voltage level generated in the capacitor C19 is held.

【0230】更に前記変換部は、変換用薄膜トランジス
タTFT11aドレインとゲートとの間に挿入されたス
イッチ用薄膜トランジスタTFT11dを含んでいる。
スイッチング用薄膜トランジスタTFT11dは、信号
電流Iwの電流レベルを電圧レベルに変換する時に導通
し、変換用薄膜トランジスタTFT11aのドレインと
ゲートを電気的に接続してソースを基準とする電圧レベ
ルをTFT11aのゲートに生ぜしめる。又、スイッチ
用薄膜トランジスタTFT11dは、電圧レベルを容量
Cに保持する時に遮断され、変換用薄膜トランジスタT
FT11aのゲート及びこれに接続した容量C19をT
FT11aのドレインから切り離す。
Further, the conversion part includes a switching thin film transistor TFT11d inserted between the drain and the gate of the conversion thin film transistor TFT11a.
The switching thin film transistor TFT11d becomes conductive when converting the current level of the signal current Iw into a voltage level, electrically connects the drain and gate of the converting thin film transistor TFT11a, and generates a voltage level with the source as a reference at the gate of the TFT11a. Close. Also, the switching thin film transistor TFT11d is cut off when the voltage level is held in the capacitor C, and the conversion thin film transistor T11d is cut off.
The gate of FT11a and the capacitor C19 connected to this are T
Separate from the drain of FT11a.

【0231】また、前記駆動部は、ゲート、ドレイン、
ソース及びチャネルを備えた駆動用薄膜トランジスタT
FT11bを含んでいる。駆動用薄膜トランジスタTF
Tbは、容量C19に保持された電圧レベルをゲートに
受け入れそれに応じた電流レベルを有する駆動電流はチ
ャネルを介してEL素子15に流す。変換用薄膜トラン
ジスタTFT11aのゲートと駆動用薄膜トランジスタ
TFT11bのゲートとが直接に接続されてカレントミ
ラー回路を構成し、信号電流Iwの電流レベルと駆動電
流の電流レベルとが比例関係となる様にしている。
Further, the driving unit includes a gate, a drain,
Driving thin film transistor T having source and channel
FT11b is included. Driving thin film transistor TF
Tb receives the voltage level held in the capacitor C19 at its gate and causes a drive current having a corresponding current level to flow through the EL element 15 through the channel. The gate of the conversion thin film transistor TFT11a and the gate of the driving thin film transistor TFT11b are directly connected to form a current mirror circuit, and the current level of the signal current Iw and the current level of the driving current have a proportional relationship.

【0232】駆動用薄膜トランジスタTFT11bは飽
和領域で動作し、そのゲートに印加された電圧レベルと
閾電圧との差に応じた駆動電流をEL素子15に流す。
The driving thin film transistor TFT11b operates in a saturation region, and a driving current corresponding to the difference between the voltage level applied to its gate and the threshold voltage is passed through the EL element 15.

【0233】駆動用薄膜トランジスタTFT11bは、
その閾電圧が画素内で対応する変換用薄膜トランジスタ
TFT11aの閾電圧より低くならない様に設定されて
いる。具体的には、TFT11bは、そのゲート長がT
FT11Aのゲート長より短くならない様に設定されて
いる。あるいは、TFT11bは、そのゲート絶縁膜が
画素内で対応するTFT11aのゲート絶縁膜より薄く
ならないように設定しても良い。
The driving thin film transistor TFT11b is
The threshold voltage is set so as not to be lower than the threshold voltage of the corresponding conversion thin film transistor TFT11a in the pixel. Specifically, the TFT 11b has a gate length of T
It is set so as not to be shorter than the gate length of FT11A. Alternatively, the TFT 11b may be set so that its gate insulating film is not thinner than the corresponding gate insulating film of the TFT 11a in the pixel.

【0234】あるいは、TFT11bは、そのチャネル
に注入される不純物濃度を調整して、閾電圧が画素内で
対応するTFT11aの閾電圧より低くならない様に設
定してもよい。仮に、TFT11aとTFT11bの閾
電圧が同一となる様に設定した場合、共通接続された両
薄膜トランジスタのゲートにカットオフレベルの信号電
圧が印加されると、TFT11a及びTFT11bは両
方共オフ状態になるはずである。ところが、実際には画
素内にも僅かながらプロセスパラメータのばらつきがあ
り、TFT11aの閾電圧よりTFT11bの閾電圧が
低くなる場合がある。
Alternatively, the TFT 11b may be set by adjusting the concentration of impurities implanted in its channel so that the threshold voltage does not become lower than the threshold voltage of the corresponding TFT 11a in the pixel. If the threshold voltages of the TFT 11a and the TFT 11b are set to be the same, and if a cutoff level signal voltage is applied to the gates of both commonly connected thin film transistors, both of the TFTs 11a and 11b should be turned off. Is. However, in reality, there is a slight variation in the process parameters within the pixel, and the threshold voltage of the TFT 11b may be lower than the threshold voltage of the TFT 11a.

【0235】この時には、カットオフレベル以下の信号
電圧でもサブスレッショルドレベルの微弱電流が駆動用
TFT11bに流れる為、EL素子15は微発光し画面
のコントラスト低下が現れる。そこで、TFT11bの
ゲート長をTFT11aのゲート長よりも長くしてい
る。これにより、薄膜トランジスタのプロセスパラメー
タが画素内で変動しても、TFT11bの閾電圧がTF
T11aの閾電圧よりも低くならない様にする。
At this time, a weak current of sub-threshold level flows through the driving TFT 11b even if the signal voltage is lower than the cutoff level, so that the EL element 15 slightly emits light and the contrast of the screen deteriorates. Therefore, the gate length of the TFT 11b is made longer than that of the TFT 11a. As a result, even if the process parameters of the thin film transistor vary within the pixel, the threshold voltage of the TFT 11b remains TF.
Make sure that it does not fall below the threshold voltage of T11a.

【0236】ゲート長Lが比較的短い短チャネル効果領
域Aでは、ゲート長Lの増加に伴いVthが上昇する。
一方、ゲート長Lが比較的大きな抑制領域Bではゲート
長Lに関わらずVthはほぼ一定である。この特性を利
用して、TFT11bのゲート長をTFT11aのゲー
ト長よりも長くしている。例えば、TFT11aのゲー
ト長が7μmの場合、TFT11bのゲート長を10μ
m程度にする。
In the short channel effect region A having a relatively short gate length L, Vth rises as the gate length L increases.
On the other hand, in the suppression region B having a relatively large gate length L, Vth is almost constant regardless of the gate length L. By utilizing this characteristic, the gate length of the TFT 11b is made longer than that of the TFT 11a. For example, when the gate length of the TFT 11a is 7 μm, the gate length of the TFT 11b is 10 μm.
Set to about m.

【0237】TFT11aのゲート長が短チャネル効果
領域Aに属する一方、TFT11bのゲート長が抑制領
域Bに属する様にしても良い。これにより、TFT11
bにおける短チャネル効果を抑制することができるとと
もに、プロセスパラメータの変動による閾電圧低減を抑
制可能である。以上により、TFT11bに流れるサブ
スレッショルドレベルのリーク電流を抑制してEL素子
15の微発光を抑え、コントラスト改善に寄与可能であ
る。
The gate length of the TFT 11a may belong to the short channel effect region A, while the gate length of the TFT 11b may belong to the suppression region B. As a result, the TFT 11
It is possible to suppress the short channel effect in b and to suppress the threshold voltage reduction due to the change of the process parameter. As described above, it is possible to suppress the sub-threshold level leak current flowing in the TFT 11b, suppress the slight light emission of the EL element 15, and contribute to the improvement of contrast.

【0238】図21に示した画素回路の駆動方法を簡潔
に説明する。先ず、書き込み時には第1の走査線sca
nA、第2の走査線scanBを選択状態とする。両走
査線が選択された状態でデータ線dataに電流源CS
を接続することにより、TFT11aに輝度情報に応じ
た信号電流Iwが流れる。電流源CSは輝度情報に応じ
て制御される可変電流源である。このとき、TFT11
aのゲート・ドレイン間はTFT11dによって電気的
に短絡されているので(3)式が成立し、TFT11a
は飽和領域で動作する。従って、そのゲートーソース間
には(1)式で与えられる電圧Vgsが生ずる。
A method of driving the pixel circuit shown in FIG. 21 will be briefly described. First, at the time of writing, the first scanning line sca
The nA and the second scanning line scanB are brought into the selected state. When both scanning lines are selected, the current source CS is applied to the data line data.
By connecting with, the signal current Iw according to the luminance information flows through the TFT 11a. The current source CS is a variable current source controlled according to the brightness information. At this time, the TFT 11
Since the gate-drain of a is electrically short-circuited by the TFT 11d, the equation (3) holds, and the TFT 11a
Operates in the saturation region. Therefore, the voltage Vgs given by the equation (1) is generated between the gate and the source.

【0239】次に、scanA,scanBを非選択状
態とする。詳しくは、まずscanBを低レベルとして
TFT11dをoff状態とする。これによってVgs
が容量C19によって保持される。次にscanAを高
レベルにしてoff状態とすることにより、画素回路と
データ線dataとが電気的に遮断されるので、その後
はデータ線dataを介して別の画素への書き込みを行
うことができる。ここで、電流源CSが信号電流の電流
レベルとして出力するデータは、scanBが非選択と
なる時点では有効である必要があるが、その後は任意の
レベル(例えば次の画素の書き込みデータ)とされて良
い。
Next, scanA and scanB are brought into a non-selected state. Specifically, first, scanB is set to a low level to turn off the TFT 11d. This makes Vgs
Is held by the capacitor C19. Next, by setting scanA to a high level and turning it off, the pixel circuit and the data line data are electrically cut off, and thereafter, writing to another pixel can be performed via the data line data. . Here, the data output as the current level of the signal current by the current source CS needs to be valid at the time when scanB becomes unselected, but thereafter it is set to an arbitrary level (for example, write data of the next pixel). Good.

【0240】TFT11bはTFT11aとゲート及び
ソースが共通接続されており、かつ共に小さな画素内部
に近接して形成されているので、TFT11bが飽和領
域で動作していれば、TFT11bを流れる電流は
(2)式で与えられ、これがすなわちEL素子15に流
れる駆動電流Iddとなる。TFT11bを飽和領域で
動作させるには、EL素子15での電圧降下を考慮して
もなお(3)式が成立するよう、十分な電源電位をVd
dに与えれば良い。
The TFT 11b has a gate and a source commonly connected to the TFT 11a, and both are formed close to the inside of a small pixel. Therefore, if the TFT 11b operates in the saturation region, the current flowing through the TFT 11b is (2 ), Which is the drive current Idd flowing through the EL element 15. In order to operate the TFT 11b in the saturation region, a sufficient power supply potential is set to Vd so that the formula (3) is still satisfied even if the voltage drop in the EL element 15 is taken into consideration.
It should be given to d.

【0241】なお、図1(b)などと同様に、インピー
ダンスを増大させるためなどを目的として、図22に図
示するように、TFT11e、11fを付加しても良い
ことはいうまでもない。このようにTFT11e,11
fを付加することによりより良好な電流駆動を実現でき
る。他の事項は図1で説明しているで省略する。
Needless to say, TFTs 11e and 11f may be added as shown in FIG. 22 for the purpose of increasing the impedance as in the case of FIG. 1B. In this way, the TFTs 11e, 11
Better current drive can be realized by adding f. The other items have been described with reference to FIG.

【0242】このようにして作製した図1、図21など
で説明したEL表示素子に直流電圧を印加し、10mA/c
m2の一定電流密度で連続駆動させた。EL構造体は、
7.0V、200cd/cm2の緑色(発光極大波長λmax=4
60nm)の発光が確認できた。青色発光部は、輝度10
0cd/cm2で、色座標がx=0.129,y=0.10
5、緑色発光部は、輝度200cd/cm2で、色座標がx
=0.340,y=0.625、赤色発光部は、輝度1
00cd/cm2で、色座標がx=0.649,y=0.3
38の発光色が得られた。
A DC voltage was applied to the EL display element manufactured as described above with reference to FIGS.
It was continuously driven at a constant current density of m2. The EL structure is
7.0V, 200cd / cm2 green (Maximum emission wavelength λmax = 4
The emission of 60 nm) was confirmed. The blue light emitting portion has a brightness of 10
At 0 cd / cm 2, color coordinates are x = 0.129, y = 0.10.
5. The green light emitting part has a brightness of 200 cd / cm2 and a color coordinate of x.
= 0.340, y = 0.625, the red light emitting portion has a brightness of 1
At 00 cd / cm2, the color coordinates are x = 0.649, y = 0.3
38 emission colors were obtained.

【0243】以降、図1、図21、図43、図71、図
22などを用いた表示装置、表示モジュール、情報表示
装置およびその駆動回路と駆動方法などについて説明を
する。
Hereinafter, a display device, a display module, an information display device and a driving circuit and a driving method thereof, which are shown in FIGS. 1, 21, 43, 71 and 22, will be described.

【0244】フルカラー有機EL表示パネルでは,開口
率の向上が重要な開発課題になる。開口率を高めると光
の利用効率が上がり,高輝度化や長寿命化につながるた
めである。開口率を高めるためには,有機EL層からの
光を遮るTFTの面積を小さくすればよい。低温多結晶
Si−TFTはアモルファスシリコンに比較して10−
100倍の性能を持ち,電流の供給能力が高いため、T
FTの大きさを非常に小さくできる。したがって、有機
EL表示パネルでは、画素トランジスタ、周辺駆動回路
を低温ポリシリコン技術で作製することが好ましい。も
ちろん、アモルファスシリコン技術で形成してもよいが
画素開口率はかなり小さくなってしまう。
In a full-color organic EL display panel, improvement of the aperture ratio is an important development issue. This is because increasing the aperture ratio increases the light use efficiency, which leads to higher brightness and longer life. In order to increase the aperture ratio, the area of the TFT that blocks the light from the organic EL layer may be reduced. Low temperature polycrystalline Si-TFT is 10-
Since it has 100 times the performance and high current supply capability, T
The size of FT can be made very small. Therefore, in the organic EL display panel, it is preferable to manufacture the pixel transistor and the peripheral drive circuit by the low temperature polysilicon technique. Of course, it may be formed by the amorphous silicon technique, but the pixel aperture ratio becomes considerably small.

【0245】ゲートドライバ12あるいはソースドライ
バ14などの駆動回路をガラス基板46上に形成するこ
とにより、電流駆動の有機EL表示パネルで特に問題に
なる抵抗を下げることができる。TCPの接続抵抗がな
くなるうえに,TCP接続の場合に比べて電極からの引
き出し線が2〜3mm短くなり配線抵抗が小さくなる。
さらに、TCP接続のための工程がなくなる,材料コス
トが下がるという利点があるとする。
By forming a driving circuit such as the gate driver 12 or the source driver 14 on the glass substrate 46, it is possible to reduce the resistance which is a particular problem in a current driven organic EL display panel. In addition to eliminating the connection resistance of TCP, the lead wire from the electrode is shortened by 2 to 3 mm and the wiring resistance is reduced as compared with the case of TCP connection.
Furthermore, there is an advantage that the process for TCP connection is eliminated and the material cost is reduced.

【0246】次に、本発明のEL表示パネルあるいはE
L表示装置について説明をする。図2はEL表示装置の
回路を中心とした説明図である。画素16がマトリック
ス状に配置または形成されている。各画素16には各画
素の電流プログラムを行う電流を出力するソースドライ
バ14が接続されている。ソースドライバ14の出力段
は映像信号のビット数に対応したカレントミラー回路が
形成されている。たとえば、64階調であれば、63個
のカレントミラー回路が各ソース信号線に形成され、こ
れらのカレントミラー回路の個数を選択することにより
所望の電流をソース信号線18に印加できるように構成
されている。
Next, the EL display panel or E of the present invention is used.
The L display device will be described. FIG. 2 is an explanatory diagram centering on the circuit of the EL display device. The pixels 16 are arranged or formed in a matrix. A source driver 14 that outputs a current for performing a current program of each pixel is connected to each pixel 16. At the output stage of the source driver 14, a current mirror circuit corresponding to the number of bits of the video signal is formed. For example, in the case of 64 gradations, 63 current mirror circuits are formed in each source signal line, and a desired current can be applied to the source signal line 18 by selecting the number of these current mirror circuits. Has been done.

【0247】なお、1つのカレントミラー回路の最小出
力電流は10nA以上50nAにしている。特にカレン
トミラー回路の最小出力電流は15nA以上35nAに
することがよい。ドライバIC14内のカレントミラー
回路を構成するトランジスタの精度を確保するためであ
る。
The minimum output current of one current mirror circuit is set to 10 nA or more and 50 nA. In particular, the minimum output current of the current mirror circuit should be 15 nA or more and 35 nA. This is to ensure the accuracy of the transistors forming the current mirror circuit in the driver IC 14.

【0248】また、ソース信号線18の電荷を強制的に
放出または充電するプリチャージあるいはディスチャー
ジ回路を内蔵する。ソース信号線18の電荷を強制的に
放出または充電するプリチャージあるいはディスチャー
ジ回路の電圧(電流)出力値は、R、G、Bで独立に設
定できるように構成することが好ましい。EL素子15
の閾値がRGBでことなるからである。
Further, a precharge or discharge circuit for forcibly releasing or charging the electric charge of the source signal line 18 is incorporated. It is preferable that the voltage (current) output value of the precharge or discharge circuit for forcibly discharging or charging the charge of the source signal line 18 can be set independently by R, G, and B. EL element 15
This is because the threshold value of is different for RGB.

【0249】以上に説明した画素構成、アレイ構成、パ
ネル構成などは、以下に説明する構成、方法、装置に適
用されることは言うまでもない。また、以下に説明する
構成、方法、装置は、すでに説明した画素構成、アレイ
構成、パネル構成などが適用されることは言うまでもな
い。
It goes without saying that the pixel configuration, array configuration, panel configuration, etc. described above are applied to the configurations, methods, and devices described below. Further, it goes without saying that the pixel configuration, array configuration, panel configuration, etc. already described are applied to the configurations, methods, and devices described below.

【0250】有機EL素子は大きな温度依存性特性(温
特)があることが知られている。この温特による発光輝
度変化を調整するため、カレントミラー回路に出力電流
を変化させるサーミスタあるいはポジスタなどの非直線
素子を付加し、温特による変化を前記サーミスタなどで
調整することによりアナログ的に基準電流を作成する。
It is known that the organic EL element has a large temperature dependence characteristic (temperature characteristic). In order to adjust the change in emission brightness due to this temperature characteristic, a non-linear element such as a thermistor or posistor that changes the output current is added to the current mirror circuit, and the change due to the temperature characteristic is adjusted with the thermistor etc. Create an electric current.

【0251】この場合は、選択するEL材料で一義的に
決定されるから、マイコンなどのソフト制御する必要が
ない場合が多い。つまり、液晶材料により、一定のシフ
ト量などに固定しておいてもよい。重要なのは発光色材
料により温特が異なっている点であり、発光色(R,
G,B)ごとに最適な温特補償を行う必要がある点であ
る。
In this case, since it is uniquely determined by the EL material to be selected, it is often unnecessary to control the software such as a microcomputer. That is, the liquid crystal material may be fixed at a fixed shift amount or the like. What is important is that the temperature characteristics differ depending on the luminescent color material, and the luminescent color (R,
That is, it is necessary to perform optimum temperature compensation for each of G and B).

【0252】R、G、Bの各EL素子の温特は一定範囲
内にする必要がある。R、G、BのEL素子15の温特
はない事が好ましいのはいうまでもない。少なくとも
R,G,Bの温特方向が同一方向か、もしくは変化しな
いようにする。また、変化は各色摂氏10℃の変化で、
2%以上8%以下変化するようにすることが好ましい。
中でも3%以上6%以下とすることが好ましい。
The temperature characteristics of the R, G and B EL elements must be within a certain range. It goes without saying that it is preferable that the R, G and B EL elements 15 have no temperature characteristics. At least the R, G, and B temperature characteristic directions should be the same direction or should not change. Also, the change is a change of 10 degrees Celsius for each color,
It is preferable to change it by 2% or more and 8% or less.
Above all, it is preferably 3% or more and 6% or less.

【0253】また、温特補償はマイコンでおこなっても
よい。温度センサでEL表示パネルの温度を測定し、測
定した温度によりマイコン(図示せず)などで変化させ
る。また、切り替え時に基準電流などをマイコン制御な
どにより自動的に切り替えてもよいし、また、特定のメ
ニュー表示を表示できるように制御してもよい。また、
マウスなどを用いて切り替えできるように構成できる。
また、EL表示装置の表示画面をタッチパネルにし、か
つメニューを表示して特定箇所を押さえることにより切
り替えできるように構成してもよい。
The temperature compensation may be performed by a microcomputer. The temperature of the EL display panel is measured by the temperature sensor, and the temperature is changed by a microcomputer (not shown) or the like. Further, at the time of switching, the reference current or the like may be automatically switched by microcomputer control or the like, or may be controlled so that a specific menu display can be displayed. Also,
It can be configured to be switchable using a mouse or the like.
Further, the display screen of the EL display device may be a touch panel, and a menu may be displayed to switch the display screen by pressing a specific portion.

【0254】本発明ではソースドライバは半導体シリコ
ンチップで形成し、ガラスオンチップ(COG)技術で
基板46のソース信号線18の端子と接続されている。
ソース信号線18などの信号線の配線はクロム、アルミ
ニウム、銀などの金属配線が用いられる。細い配線幅で
低抵抗の配線が得られるからである。配線は画素が反射
型の場合は画素の反射膜を構成する材料で、反射膜と同
時に形成することが好ましい。工程が簡略できるからで
ある。
In the present invention, the source driver is formed of a semiconductor silicon chip and is connected to the terminal of the source signal line 18 of the substrate 46 by the glass on chip (COG) technique.
Wiring for signal lines such as the source signal line 18 is made of metal such as chromium, aluminum, and silver. This is because a low resistance wiring can be obtained with a narrow wiring width. When the pixel is of a reflective type, the wiring is a material forming a reflective film of the pixel, and is preferably formed at the same time as the reflective film. This is because the process can be simplified.

【0255】本発明はCOG技術に限定するものではな
く、チップオンフィルム(COF)技術に前述のドライ
バIC14などを積載し、表示パネルの信号線と接続し
た構成としてもよい。また、ドライブICは電源IC1
02を別途作製し、3チップ構成としてもよい。
The present invention is not limited to the COG technique, and the driver IC 14 described above may be mounted on the chip-on-film (COF) technique and connected to the signal line of the display panel. The drive IC is a power supply IC1
02 may be separately manufactured to have a three-chip configuration.

【0256】また、TCFテープを用いてもよい。TC
Fテープ向けフィルムは,ポリイミドフィルムと銅(C
u)箔を,接着剤を使わずに熱圧着することができる。
接着剤を使わずにポリイミドフィルムにCuを付けるT
CPテープ向けフィルムにはこのほか,Cu箔の上に溶
解したポリイミドを重ねてキャスト成型する方式と,ポ
リイミドフィルム上にスパッタリングで形成した金属膜
の上にCuをメッキや蒸着で付ける方式がある。これら
のいずれでもよいが、接着剤を使わずにポリイミドフィ
ルムにCuを付けるTCPテープを用いる方法が最も好まし
い。30μm以下のリード・ピッチには、接着剤を使わ
ないCuはり積層板で対応する。接着剤を使わないCuは
り積層板のうち、Cu層をメッキや蒸着で形成する方法は
Cu層の薄型化に適しているため,リード・ピッチの微細
化に有利である。
Also, TCF tape may be used. TC
Films for F tape are polyimide film and copper (C
u) The foil can be thermocompressed without the use of adhesives.
Attach Cu to polyimide film without using adhesive T
In addition to the above, for the CP tape film, there are a method in which molten polyimide is superposed on a Cu foil and cast molding, and a method in which Cu is plated or deposited on a metal film formed by sputtering on the polyimide film. Although any of these may be used, the method of using a TCP tape in which Cu is attached to a polyimide film without using an adhesive is most preferable. For a lead pitch of 30 μm or less, a Cu beam laminated plate that does not use an adhesive is used. Among the Cu beam laminates that do not use adhesive, the method of forming the Cu layer by plating or vapor deposition is
Since it is suitable for thinning the Cu layer, it is advantageous for miniaturizing the lead pitch.

【0257】一方、ゲートドライバ回路12は低温ポリ
シリコン技術で形成している。つまり、画素のTFTと
同一のプロセスで形成している。これは、ソースドライ
バ14に比較して内部の構造が容易で、動作周波数も低
いためである。したがって、低温ポリシリ技術で形成し
ても容易に形成することができ、また、狭額縁化を実現
できる。もちろん、ゲートドライバ12をシリコンチッ
プで形成し、COG技術などを用いて基板46上に実装
してもよいことは言うまでもない。また、画素TFTな
どのスイッチング素子、ゲートドライバなどは高温ポリ
シリコン技術で形成してもよく、有機材料で形成(有機
TFT)してもよい。
On the other hand, the gate driver circuit 12 is formed by the low temperature polysilicon technique. That is, it is formed in the same process as the pixel TFT. This is because the internal structure is easier and the operating frequency is lower than that of the source driver 14. Therefore, it can be easily formed even if it is formed by the low-temperature poly-silicon technique, and a narrow frame can be realized. Of course, it goes without saying that the gate driver 12 may be formed of a silicon chip and mounted on the substrate 46 using COG technology or the like. Further, switching elements such as pixel TFTs, gate drivers, etc. may be formed by a high temperature polysilicon technique or may be formed by an organic material (organic TFT).

【0258】ゲートドライバ12はゲート信号線17a
用のシフトレジスタ22aと、ゲート信号線17b用の
シフトレジスタ22bとを内蔵する。各シフトレジスタ
22は正相と負相のクロック信号(CLKxP、CLK
xN)、スタートパルス(STx)で制御される。その
他、ゲート信号線の出力、非出力を制御するイネーブル
(ENABL)信号、シフト方向を上下逆転するアップ
ダウン(UPDWM)信号を付加することが好ましい。
他に、スタートパルスがシフトレジスタにシフトされ、
そして出力されていることを確認する出力端子などを設
けることが好ましい。なお、シフトレジスタのシフトタ
イミングはコントロールIC(図示せず)からの制御信
号で制御される。また、外部データのレベルシフトを行
うレベルシフト回路を内蔵する。また、検査回路を内蔵
する。
The gate driver 12 has a gate signal line 17a.
And a shift register 22b for the gate signal line 17b. Each shift register 22 has positive and negative phase clock signals (CLKxP, CLK).
xN) and start pulse (STx). In addition, it is preferable to add an enable (ENABL) signal that controls output and non-output of the gate signal line and an up-down (UPDWM) signal that vertically reverses the shift direction.
Besides, the start pulse is shifted to the shift register,
Then, it is preferable to provide an output terminal or the like for confirming that the data is being output. The shift timing of the shift register is controlled by a control signal from a control IC (not shown). In addition, it has a built-in level shift circuit that shifts the level of external data. It also has a built-in inspection circuit.

【0259】シフトレジスタ22のバッファ容量は小さ
いため、直接にはゲート信号線17を駆動することがで
きない。そのため、シフトレジスタ22の出力とゲート
信号線17を駆動する出力ゲート24間には少なくとも
2つ以上のインバータ回路23が形成されている。
Since the buffer capacity of the shift register 22 is small, the gate signal line 17 cannot be directly driven. Therefore, at least two inverter circuits 23 are formed between the output of the shift register 22 and the output gate 24 that drives the gate signal line 17.

【0260】ソースドライバ14を低温ポリシリなどの
ポリシリ技術で基板46上に直接形成する場合も同様で
あり、ソース信号線を駆動するトランスファーゲートな
どのアナログスイッチのゲートとソースドライバのシフ
トレジスタ間には複数のインバータ回路が形成される。
以下の事項(シフトレジスタの出力と、信号線を駆動す
る出力段(出力ゲートあるいはトランスファーゲートな
どの出力段間に配置されるインバータ回路に関する事
項)は、ソースドライブおよびゲートドライブ回路に共
通の事項である。たとえば、図2ではソースドライバ1
4の出力が直接ソース信号線18に接続されているよう
に図示したが、実際には、ソースドライバのシフトレジ
スタの出力は多段のインバータ回路が接続されて、イン
バータの出力がトランスファーゲートなどのアナログス
イッチのゲートに接続されている。
The same applies to the case where the source driver 14 is directly formed on the substrate 46 by a polysilicon technique such as low temperature polysilicon, and between the gate of an analog switch such as a transfer gate for driving the source signal line and the shift register of the source driver. A plurality of inverter circuits are formed.
The following items (the output of the shift register and the output stage that drives the signal line (the items related to the inverter circuit placed between the output stages such as the output gate or the transfer gate) are common to the source drive and gate drive circuits. For example, in FIG.
Although the output of 4 is directly connected to the source signal line 18, the output of the shift register of the source driver is actually connected to a multi-stage inverter circuit so that the output of the inverter is an analog such as a transfer gate. It is connected to the gate of the switch.

【0261】インバータ回路23はPチャンネルのMO
SトランジスタとNチャンネルのMOSトランジスタか
ら構成される。先にも説明したようにゲートドライバ回
路12のシフトレジスタ回路22の出力端にはインバー
タ回路23が多段に接続されており、その最終出力が出
力ゲート24に接続されている。なお、インバータ回路
23はPチャンネルのみで構成してもよい。ただし、こ
の場合は、インバータではなく単なるゲート回路として
構成してもよい。
The inverter circuit 23 is a P-channel MO
It is composed of an S-transistor and an N-channel MOS transistor. As described above, the inverter circuit 23 is connected to the output terminal of the shift register circuit 22 of the gate driver circuit 12 in multiple stages, and the final output thereof is connected to the output gate 24. The inverter circuit 23 may be composed of only P channels. However, in this case, it may be configured as a simple gate circuit instead of the inverter.

【0262】各インバータ回路23を構成するPチャン
ネルまたはNチャンネルのTFTのチャンネル幅をW、
チャンネル長をL(ダブルゲート以上の場合は構成する
チャンネルの幅もしくはチャンネル長を加算する)と
し、シストレジスタに近いインバータの次数を1、表示
側に近いインバータの次数をN(N段目)とする。
The channel width of the P-channel or N-channel TFT constituting each inverter circuit 23 is W,
The channel length is L (when the width is more than double gate, the width or channel length of the channel to be added is added), the order of the inverter near the register is 1 and the order of the inverter near the display side is N (Nth stage). To do.

【0263】インバータ回路23の接続段数が多いと接
続されているインバータ23の特性差が多重(積み重な
り)され、シフトレジスタ22から出力ゲート24まで
の伝達時間に差が生じる(遅延時間バラツキ)。たとえ
ば、極端な場合では、図2において出力ゲート24aは
1.0μsec後(シフトレジスタからパルスが出力さ
れてから起算して)にオンしている(出力電圧が切り替
わっている)のに、出力ゲート24bは1.5μsec
後(シフトレジスタからパルスが出力されてから起算し
て)にオンしている(出力電圧が切り替わっている)と
いう状態が生じる。
When the number of connected stages of the inverter circuit 23 is large, the characteristic difference of the connected inverters 23 is multiplexed (stacked), and a difference occurs in the transmission time from the shift register 22 to the output gate 24 (delay time variation). For example, in an extreme case, in FIG. 2, the output gate 24a is turned on (the output voltage is switched) after 1.0 μsec (starting counting after the pulse is output from the shift register), but the output gate 24a is turned on. 24b is 1.5 μsec
After that (after the pulse is output from the shift register and counting is started), the state of being on (the output voltage is switched) occurs.

【0264】したがって、シフトレジスタ22と出力ゲ
ート24間に作製するインバータ回路23数は少ない方
がよいが、出力ゲート24を構成するTFTのチャンネ
ルのゲート幅Wは非常に大きい。また、シストレジスタ
22の出力段のゲート駆動能力は小さい。そのため、シ
フトレジスタを構成するゲート回路(NAND回路な
ど)で直接に出力ゲート24を駆動することは不可能で
ある。そのため、インバータを多段接続する必要がある
が、たとえば、図2のインバータ23dのW4/L4
(Pチャンネルのチャンネル幅/Pチャンネルのチャン
ネル長)の大きさと、インバータ23cのW3/L3の
大きさの比が大きいと遅延時間が長くなり、また、イン
バータの特性がバラツキも大きくなる。
Therefore, it is preferable that the number of inverter circuits 23 formed between the shift register 22 and the output gate 24 is small, but the gate width W of the channel of the TFT forming the output gate 24 is very large. Further, the gate drive capability of the output stage of the sist register 22 is small. Therefore, it is impossible to directly drive the output gate 24 by the gate circuit (NAND circuit or the like) that constitutes the shift register. Therefore, it is necessary to connect the inverters in multiple stages. For example, W4 / L4 of the inverter 23d in FIG.
If the ratio of (the channel width of the P channel / the channel length of the P channel) and the size of the W3 / L3 of the inverter 23c is large, the delay time becomes long and the characteristics of the inverter also vary greatly.

【0265】図3に遅延時間バラツキ(点線で示す)と
遅延時間比(実線で示す)の関係を示す。横軸は(Wn-
1/Ln-1)/(Wn/Ln)で示す。たとえば、図2でイ
ンバータ23dとインバータ23cのLが同一で2W3
=W4であれば(W3/L3)/(W4/L4)=0.
5である。図3のグラフにおいて遅延時間比は(Wn-1
/Ln-1)/(Wn/Ln)=0.5のときを1とし、遅
延同様に時間バラツキも1としている。
FIG. 3 shows the relationship between delay time variation (shown by the dotted line) and delay time ratio (shown by the solid line). The horizontal axis is (Wn-
It is shown as 1 / Ln-1) / (Wn / Ln). For example, in FIG. 2, the inverter 23d and the inverter 23c have the same L and 2W3.
= W4, (W3 / L3) / (W4 / L4) = 0.
It is 5. In the graph of FIG. 3, the delay time ratio is (Wn-1
/Ln-1)/(Wn/Ln)=0.5 is set to 1 and time variation is set to 1 as well as delay.

【0266】図3では(Wn-1/Ln-1)/(Wn/Ln)
が大きくなるほどインバータ23の接続段数が多くなり
遅延時間バラツキが大きくなることを示しており、ま
た、(Wn-1/Ln-1)/(Wn/Ln)が小さくなるほど
インバータ23から次段へのインバータ23への遅延時
間が長くなることを示している。このグラフから遅延時
間比および遅延時間バラツキを2以内にすることが設計
上有利である。したがって、次式の条件を満足させれば
よい。
In FIG. 3, (Wn-1 / Ln-1) / (Wn / Ln)
It is shown that the larger the number of connected inverters 23, the greater the number of connected stages of the inverter 23 and the greater the variation in delay time. It shows that the delay time to the inverter 23 becomes long. From this graph, it is advantageous in design that the delay time ratio and the delay time variation are within 2. Therefore, it suffices to satisfy the condition of the following equation.

【0267】0.25 ≦(Wn-1/Ln-1)/(Wn/
Ln) ≦0.75 また、各インバータ23のPチャンネルのW/L比(W
p/Lp)とnチャンネルのW/L比(Ws/Ls)とは以
下の関係を満足させる必要がある。
0.25 ≤ (Wn-1 / Ln-1) / (Wn /
Ln) ≤ 0.75 Further, the W / L ratio (W of the P channel of each inverter 23 (W
The p / Lp) and the n-channel W / L ratio (Ws / Ls) must satisfy the following relationship.

【0268】0.4 ≦(Ws/Ls)/(Wp/Lp)
≦0.8 さらに、シフトレジスタの出力端から出力ゲート(ある
いはトランスファーゲート)間に形成するインバータ2
3の段数nは次式を満足させると遅延時間のバラツキも
少なく良好である。
0.4 ≦ (Ws / Ls) / (Wp / Lp)
≦ 0.8 Furthermore, the inverter 2 formed between the output end of the shift register and the output gate (or transfer gate)
When the number of stages n of 3 satisfies the following equation, there is little variation in delay time and it is good.

【0269】3 ≦ n ≦ 8 モビリティμにも課題がある。nチャンネルトランジス
タのモビリティμnは小さいとTGおよびインバータの
サイズが大きくなり、消費電力等が大きくなる。また、
ドライバの形成面積が大きくなる。そのため、パネルサ
イズが大きくなってしまう。一方、大きいとトランジス
タの特性劣化をひきおこしやすい。そのため、モビリテ
ィμnは以下の範囲がよい。
3 ≤ n ≤ 8 Mobility μ also has a problem. If the mobility μn of the n-channel transistor is small, the sizes of the TG and the inverter are large, and the power consumption and the like are large. Also,
The driver formation area is increased. Therefore, the panel size becomes large. On the other hand, if it is large, the characteristics of the transistor are likely to deteriorate. Therefore, the mobility μn is preferably in the following range.

【0270】50 ≦ μn ≦ 150 また、シフトレジスタ22内のクロック信号のスルーレ
ートは、500V/μsec以下にする。スルーレート
が高いとnチャンネルトランジスタの劣化が激しい。
50 ≤ μn ≤ 150 The slew rate of the clock signal in the shift register 22 is set to 500 V / μsec or less. If the slew rate is high, the deterioration of the n-channel transistor is severe.

【0271】なお、図2でシフトレジスタの出力にはイ
ンバータ23を多段に接続するとしたが、NAND回路
でもよい。NAND回路でもインバータを構成すること
ができるからである。つまり、インバータ23の接続段
数とはゲートの接続段数と考えればよい。この場合もい
ままで説明したW/L比等の関係が適用される。また、
以上の図2、図3などで説明した事項は図60、図7
4、図84などにも適用される。
Although the inverter 23 is connected to the output of the shift register in multiple stages in FIG. 2, it may be a NAND circuit. This is because a NAND circuit can also form an inverter. That is, the connection stage number of the inverter 23 may be considered as the gate connection stage number. Also in this case, the relationship such as the W / L ratio explained so far is applied. Also,
The matters described with reference to FIGS. 2 and 3 above are shown in FIGS.
4, FIG. 84 and the like.

【0272】また、図2などにおいて画素のスイッチン
グトランジスタがPチャンネルの時は、最終段のインバ
ータからの出力は、オン電圧はVglがゲート信号線1
7に印加され、オフ電圧はVghがゲート信号線17に
印加される。逆に画素のスイッチングトランジスタがN
チャンネルの時は、最終段のインバータからの出力は、
オフ電圧はVglがゲート信号線17に印加され、オン
電圧はVghがゲート信号線17に印加される。
Further, in FIG. 2 and the like, when the pixel switching transistor is a P channel, the output from the final stage inverter has an ON voltage Vgl of the gate signal line 1
7, and the off voltage Vgh is applied to the gate signal line 17. Conversely, the pixel switching transistor is N
In case of channel, the output from the last inverter is
The off voltage Vgl is applied to the gate signal line 17, and the on voltage Vgh is applied to the gate signal line 17.

【0273】以上の実施例では、ゲートドライバを高温
ポリシリコンあるいは低温ポリシリコン技術などで画素
16と同時に作製するとしたが、これに限定するもので
はない。たとえば、図26に図示するように、別途、半
導体チップで作製したソースドライバIC14、ゲート
ドライバIC12を表示パネル82に積載してもよい。
In the above embodiments, the gate driver is made at the same time as the pixel 16 by the high temperature polysilicon or the low temperature polysilicon technique, but the invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 26, the source driver IC 14 and the gate driver IC 12 made of semiconductor chips may be separately mounted on the display panel 82.

【0274】また、表示パネル82を携帯電話などの情
報表示装置に使用する場合、ドライバIC14、15を
図26に示すように表示パネルの一辺に実装することが
好ましい(なお、このように一辺にドライバICを実装
する形態を3辺フリー構成(構造)と呼ぶ。従来は、表
示領域のX辺にゲートドライバIC12が実装され、Y
辺にソースドライバIC14が実装されていた)。画面
21の中心線が表示装置の中心になるように設計し易
く、また、ドライバICの実装も容易となるからであ
る。なお、ゲートドライバ回路を高温ポリシリコンある
いは低温ポリシリコン技術などで3辺フリーの構成で作
製してもよい(つまり、図26の14と12のうち、少
なくとも一方をポリシリコン技術で基板49に直接形成
する)。
When the display panel 82 is used for an information display device such as a mobile phone, it is preferable to mount the driver ICs 14 and 15 on one side of the display panel as shown in FIG. A configuration in which the driver IC is mounted is called a three-side free configuration (structure), and conventionally, the gate driver IC 12 is mounted on the X side of the display area, and Y is used.
The source driver IC 14 was mounted on the side). This is because it is easy to design so that the center line of the screen 21 becomes the center of the display device, and also the mounting of the driver IC becomes easy. Note that the gate driver circuit may be formed in a structure with three sides free by high-temperature polysilicon or low-temperature polysilicon technology (that is, at least one of 14 and 12 in FIG. 26 is directly formed on the substrate 49 by polysilicon technology). Form).

【0275】なお、3辺フリー構成とは、基板49に直
接ICを積載あるいは形成した構成だけでなく、IC1
4,12などを取り付けたフィルム(TCP,TAB技
術など)を基板49の一辺(もしくはほぼ一辺)にはり
つけた構成も含む。つまり、2辺にICが実装あるいは
取り付けられていない構成、配置あるいはそれに類似す
るすべてを意味する。
The three-side free structure is not limited to the structure in which the ICs are directly mounted or formed on the substrate 49, and the IC1
It also includes a structure in which a film (TCP, TAB technology, etc.) to which 4, 12, etc. are attached is attached to one side (or almost one side) of the substrate 49. That is, it means a configuration, an arrangement or the like in which ICs are not mounted or attached on two sides.

【0276】図26のようにゲートドライバ12をソー
スドライバ14の横に配置すると、ゲート信号線17は
辺Cの沿って形成し、画面表示領域21まで形成する必
要がある(図27等参照)。
When the gate driver 12 is arranged beside the source driver 14 as shown in FIG. 26, the gate signal line 17 must be formed along the side C and up to the screen display area 21 (see FIG. 27 etc.). .

【0277】なお、C辺に形成するゲート信号線17の
ピッチは5μm以上12μm以下にする。5μm未満で
は隣接ゲート信号線に寄生容量の影響によりノイズが乗
ってしまう。実験によれば7μ以下で寄生容量の影響が
顕著に発生する。さらに5μm未満では表示画面にビー
ト状などの画像ノイズが激しく発生する。特にノイズの
発生は画面の左右で異なり、このビート状などの画像ノ
イズを低減することは困難である。また、低減12μm
を越えると表示パネルの額縁幅Dが大きくなりすぎ実用
的でない。
The pitch of the gate signal lines 17 formed on the C side is 5 μm or more and 12 μm or less. When the thickness is less than 5 μm, noise is added to the adjacent gate signal line due to the influence of parasitic capacitance. According to the experiment, the effect of the parasitic capacitance remarkably occurs at 7 μm or less. Further, if it is less than 5 μm, image noise such as beats is intensely generated on the display screen. In particular, the generation of noise differs between the left and right of the screen, and it is difficult to reduce this image noise such as beats. Also, reduction of 12 μm
If it exceeds, the frame width D of the display panel becomes too large to be practical.

【0278】前述の画像ノイズを低減するためには、ゲ
ート信号線17を形成した部分の下層あるいは上層に、
グラントパターン(一定電圧に電圧固定あるいは全体と
して安定した電位に設定されている導電パターン)を配
置することにより低減できる。また、別途設けたシール
ド板(シールド箔(一定電圧に電圧固定あるいは全体と
して安定した電位に設定されている導電パターン))を
ゲート信号線17上に配置すればよい。
In order to reduce the above-mentioned image noise, in the lower layer or upper layer of the portion where the gate signal line 17 is formed,
This can be reduced by arranging a grant pattern (a conductive pattern in which the voltage is fixed to a constant voltage or is set to a stable potential as a whole). Further, a separately provided shield plate (shield foil (conducting pattern in which voltage is fixed to a constant voltage or set to a stable potential as a whole)) may be arranged on the gate signal line 17.

【0279】図26のC辺のゲート信号線17はITO
電極で形成してもよいが、低抵抗化するため、ITOと
金属薄膜とを積層して形成することが好ましい。また、
金属膜で形成することが好ましい。ITOと積層する場
合は、ITO上にチタン膜を形成し、その上にアルミニ
ウムあるいはアルミニウムとモリブデンの合金薄膜を形
成する。もしくはITO上にクロム膜を形成する。金属
膜の場合は、アルミニウム薄膜、クロム薄膜で形成す
る。以上の事項は本発明の他の実施例でも同様である。
The gate signal line 17 on the C side in FIG. 26 is made of ITO.
Although it may be formed of an electrode, it is preferably formed by stacking ITO and a metal thin film in order to reduce the resistance. Also,
It is preferably formed of a metal film. In the case of stacking with ITO, a titanium film is formed on ITO, and aluminum or an aluminum-molybdenum alloy thin film is formed thereon. Alternatively, a chrome film is formed on ITO. In the case of a metal film, it is formed of an aluminum thin film or a chromium thin film. The above matters also apply to other embodiments of the present invention.

【0280】なお、図27などにおいて、配線17など
は表示領域の片側に配置するとしたがこれに限定するも
のではなく、両方に配置してもよい。たとえば、ゲート
信号線17aを表示領域21の右側に配置(形成)し、
ゲート信号線17bを表示領域21の左側に配置(形
成)してもよい。以上の事項は他の実施例でも同様であ
る。
Note that, in FIG. 27 and the like, the wiring 17 and the like are arranged on one side of the display area, but the invention is not limited to this and may be arranged on both sides. For example, by arranging (forming) the gate signal line 17a on the right side of the display area 21,
The gate signal line 17b may be arranged (formed) on the left side of the display area 21. The above matters are the same in other embodiments.

【0281】図30ではソースドライバIC14とゲー
トドライバIC12とを1チップ化(1チップドライバ
IC14a)している。1チップ化すれば、表示パネル
82へのICチップの実装が1個で済む。したがって、
実装コストも低減できる。また、1チップドライバIC
内で使用する各種電圧も同時に発生することができる。
In FIG. 30, the source driver IC 14 and the gate driver IC 12 are integrated into one chip (one-chip driver IC 14a). With one chip, only one IC chip needs to be mounted on the display panel 82. Therefore,
The mounting cost can also be reduced. 1-chip driver IC
Various voltages used within can also be generated at the same time.

【0282】なお、ソースドライバIC14、ゲートド
ライバIC12、1チップドライバIC14aはシリコ
ンなどの半導体ウェハで作製し、表示パネル82に実装
するとしたがこれに限定するものではなく、低温ポリシ
リコン技術、高温ポリシリコン技術により表示パネル8
2に直接形成してもよいことは言うまでもない。
The source driver IC 14, the gate driver IC 12, and the one-chip driver IC 14a are made of a semiconductor wafer such as silicon and mounted on the display panel 82, but the present invention is not limited to this. Display panel 8 by silicon technology
It goes without saying that it may be directly formed on the second layer.

【0283】図28では、ソースドライバIC14の両
端にゲートドライバIC12a、15bを実装する(あ
るいは形成する)としたがこれに限定するのもではな
い。たとえば、図26に示すように、ソースドライバI
C14に隣接した一方の側に1つのゲートドライバIC
12を配置してもよい。なお、図26などにおいて太い
実線で図示した箇所はゲート信号線17が並列して形成
した箇所を示している。したがって、bの部分(画面下
部)は走査信号線の本数分のゲート信号線17が並列し
て形成され、aの部分(画面上部)はゲート信号線17
が1本形成されている。
In FIG. 28, the gate driver ICs 12a and 15b are mounted (or formed) on both ends of the source driver IC 14, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 26, the source driver I
One gate driver IC on one side adjacent to C14
12 may be arranged. Note that, in FIG. 26 and the like, a thick solid line portion indicates a portion where the gate signal lines 17 are formed in parallel. Therefore, the gate signal lines 17 corresponding to the number of scanning signal lines are formed in parallel in the portion b (the lower portion of the screen), and the gate signal line 17 is formed in the portion a (the upper portion of the screen).
Is formed.

【0284】なお、図28のように2つのゲートドライ
バ12a、12bを使用すると図28のC辺に並列して
形成するゲート信号線17aの本数が走査線数の1/2
となる(画面の左右にゲート信号線数の1/2づつ配置
できるからである)。したがって、額縁が画面の左右で
均等になるという特徴があることは言うまでもない。
When two gate drivers 12a and 12b are used as shown in FIG. 28, the number of gate signal lines 17a formed in parallel with the side C of FIG. 28 is ½ of the number of scanning lines.
(1/2 of the number of gate signal lines can be arranged on the left and right of the screen). Therefore, it goes without saying that there is a feature that the frame is even on the left and right of the screen.

【0285】本発明はゲート信号線17の走査方向と、
画面分割にも特徴がある。たとえば、図28ではゲート
ドライバ12aが画面上部のゲート信号線17bと接続
されている。また、ゲートドライバ12bが画面下部の
ゲート信号線17aと接続されている。ゲート信号線1
7の走査方向も矢印Aで示すように画面の上部から下部
の方向である。なお、ソース信号線18は画面上部と画
面下部で共通である。
The present invention relates to the scanning direction of the gate signal line 17,
There is also a feature in screen division. For example, in FIG. 28, the gate driver 12a is connected to the gate signal line 17b at the top of the screen. Further, the gate driver 12b is connected to the gate signal line 17a at the bottom of the screen. Gate signal line 1
The scanning direction of 7 is also from the upper part to the lower part of the screen as shown by arrow A. The source signal line 18 is common to the upper part of the screen and the lower part of the screen.

【0286】図29ではゲートドライバ12aが画面上
部の隣接したゲート信号線17と異なるように接続され
ている。ゲートドライバ12aは奇数番目のゲート信号
線bと接続されている。また、ゲートドライバ12bは
偶数番目のゲート信号線17aと接続されている。ゲー
ト信号線の走査方向は、ゲート信号線17bは画面上部
から下部の方向である(矢印A)。ゲート信号線17a
は画面下部から上部の方向である(矢印B)。このよう
にゲート信号線17をゲートドライバIC12と接続す
ることにより、また、ゲート信号線の走査方法を所定の
方向とすることにより、画面21に輝度傾斜が発生せ
ず、フリッカの発生も抑制することができる。
In FIG. 29, the gate driver 12a is connected differently from the adjacent gate signal line 17 at the top of the screen. The gate driver 12a is connected to the odd-numbered gate signal line b. The gate driver 12b is connected to the even-numbered gate signal lines 17a. Regarding the scanning direction of the gate signal line, the gate signal line 17b is from the upper part to the lower part of the screen (arrow A). Gate signal line 17a
Is from the bottom to the top of the screen (arrow B). By connecting the gate signal line 17 to the gate driver IC 12 in this way and by setting the scanning method of the gate signal line in a predetermined direction, no luminance inclination occurs on the screen 21 and flicker is also suppressed. be able to.

【0287】なお、ソース信号線18は画面上部と画面
下部で共通である。ただし、画面の上下で分割してもよ
いことは言うまでもない。以上の事項は他の実施例にも
適用される。
The source signal line 18 is common to the upper part of the screen and the lower part of the screen. However, it goes without saying that the screen may be divided at the top and bottom. The above items also apply to other embodiments.

【0288】図30ではゲートドライバ12aが画面上
部のゲート信号線17bと接続されている。また、ゲー
トドライバ12bが画面下部のゲート信号線17aと接
続されている。ゲート信号線17bの走査方向は矢印A
で示すように画面の上部から下部の方向である。ゲート
信号線17aの走査方向は矢印Bで示すように画面の下
部から上部の方向である。なお、ソース信号線18は画
面上部と画面下部で共通である。このようにゲート信号
線17をゲートドライバIC12と接続することによ
り、また、ゲート信号線の走査方法を所定の方向とする
ことにより、画面21に輝度傾斜が発生せず、フリッカ
の発生も抑制することができる。
In FIG. 30, the gate driver 12a is connected to the gate signal line 17b at the top of the screen. Further, the gate driver 12b is connected to the gate signal line 17a at the bottom of the screen. The scanning direction of the gate signal line 17b is arrow A.
The direction is from the top of the screen to the bottom as shown in. The scanning direction of the gate signal line 17a is from the bottom to the top of the screen as shown by arrow B. The source signal line 18 is common to the upper part of the screen and the lower part of the screen. By connecting the gate signal line 17 to the gate driver IC 12 in this way and by setting the scanning method of the gate signal line in a predetermined direction, no luminance inclination occurs on the screen 21 and flicker is also suppressed. be able to.

【0289】また、図30では、ソースドライバIC1
4とゲートドライバIC12とを1チップ化(1チップ
ドライバIC14a)している。1チップ化すれば、表
示パネル82へのICチップの実装が1個で済む。した
がって、実装コストも低減できる。また、1チップドラ
イバIC内で使用する各種電圧も同時に発生することが
できる。1チップドライバIC14aはシリコンなどの
半導体ウェハで作製し、表示パネル82に実装するとし
たがこれに限定するものではなく、低温ポリシリコン技
術、高温ポリシリコン技術により表示パネル82に直接
形成してもよいことは言うまでもない。また、画面の上
部を駆動するドライバICを表示画面の上辺に配置し、
画面の下部を駆動するドライバICを表示画面の下辺に
配置してもよいことは言うまでもない(つまり、実装I
Cは2チップとなる)。以上の事項は他の本発明の実施
例にも適用される。
Further, in FIG. 30, the source driver IC1
4 and the gate driver IC 12 are integrated into one chip (one chip driver IC 14a). With one chip, only one IC chip needs to be mounted on the display panel 82. Therefore, the mounting cost can be reduced. Further, various voltages used in the one-chip driver IC can be generated at the same time. The one-chip driver IC 14a is made of a semiconductor wafer such as silicon and mounted on the display panel 82. However, the invention is not limited to this. The one-chip driver IC 14a may be directly formed on the display panel 82 by a low temperature polysilicon technique or a high temperature polysilicon technique. Needless to say. In addition, a driver IC that drives the upper part of the screen is arranged on the upper side of the display screen,
It goes without saying that the driver IC that drives the lower part of the screen may be arranged on the lower side of the display screen (that is, the mounting I
C has 2 chips). The above items also apply to other embodiments of the present invention.

【0290】図28および図30では画面を中央部で分
割するように表現したが、これに限定するものではな
い。たとえば、図28の場合は、表示画面21aを小さ
くし、表示画面21bを大きくしてよい。表示画面21
aをパーシャル表示領域とする(図110参照)。パー
シャル表示領域は主として時刻表示や日付表示を行う。
また、パーシャル表示領域は低消費電力モードで使用す
る。図28および図30ではゲート信号線17bで表示
領域21aを表示し、ゲート信号線17aで表示領域2
1bを表示する。
In FIGS. 28 and 30, the screen is divided at the central portion, but the present invention is not limited to this. For example, in the case of FIG. 28, the display screen 21a may be made smaller and the display screen 21b may be made larger. Display screen 21
Let a be a partial display area (see FIG. 110). The partial display area mainly displays time and date.
The partial display area is used in the low power consumption mode. 28 and 30, the display area 21a is displayed by the gate signal line 17b, and the display area 2 is displayed by the gate signal line 17a.
Display 1b.

【0291】また、図110などでは、図111で図示
するように、表示領域21aを3辺フリーの構成とし、
表示領域21bを従来のソースドライバ14とゲートド
ライバ12とを別個の辺に配置する構成としてもよい。
つまり、ゲート信号線17aとソース信号線18aは1
チップドライバIC14aから出力する。
Also, in FIG. 110 and the like, as shown in FIG. 111, the display area 21a has a structure with three sides free,
The display area 21b may be configured such that the conventional source driver 14 and the gate driver 12 are arranged on separate sides.
That is, the gate signal line 17a and the source signal line 18a are 1
It is output from the chip driver IC 14a.

【0292】また、図114に図示するように表示領域
21を21aと21bの2つの領域に分割し、それぞれ
の領域に対応するソースドライバIC14、ゲートドラ
イバ12を配置してもよい。図114では各ソースドラ
イバ14から出力する映像信号の書き込み時間が他の実
施例と比較して2倍になるので、十分に画素に信号を書
き込むことができる。また、図113に図示するように
表示領域21は1つにして画面の上下に各1つのソース
ドライバIC14を配置してもよい。このことは、ゲー
トドライバIC12に対しても同様に適用できる。
Further, as shown in FIG. 114, the display area 21 may be divided into two areas 21a and 21b, and the source driver IC 14 and the gate driver 12 corresponding to each area may be arranged. In FIG. 114, the writing time of the video signal output from each source driver 14 is twice as long as that of the other embodiments, so that the signal can be sufficiently written in the pixel. Further, as shown in FIG. 113, one display area 21 may be provided, and one source driver IC 14 may be arranged above and below the screen. This can be similarly applied to the gate driver IC 12.

【0293】なお、以上の実施例はゲート信号線17を
平行に形成し、画素領域まで配線する構成であったが、
これに限定するものではなく、図112に図示するよう
にソース信号線18を1辺に平行に配線するように構成
してもよいことは言うまでもない。
In the above embodiment, the gate signal lines 17 are formed in parallel and are wired up to the pixel region.
It is needless to say that the present invention is not limited to this, and the source signal line 18 may be wired in parallel to one side as shown in FIG.

【0294】図110、図111、図114などにおい
て、表示領域21aと21bでフレームレート(駆動周
波数または単位時間(1秒間)あたりの画面書き換え回
数)を変化させたりすることも低消費電力化に有効な手
段である。また、表示領域21aと21bで表示色数ま
たは表示色を変化させるのも低消費電力化に有効であ
る。
In FIGS. 110, 111, 114, etc., it is possible to reduce the power consumption by changing the frame rate (driving frequency or the number of screen rewritings per unit time (1 second)) in the display areas 21a and 21b. It is an effective means. Further, changing the number of display colors or the display colors in the display areas 21a and 21b is also effective in reducing power consumption.

【0295】図1で図示した構成ではEL素子15のカ
ソードはVs1電位に接続されている。しかし、各色を
構成する有機ELの駆動電圧が異なるという問題があ
る。たとえば、単位平方センチメートルあたり0.01
(A)の電流を流した場合、青(B)ではEL素子の端
子電圧は5(V)であるが、緑(G)および赤(R)で
は9(V)である。つまり、端子電圧が、BとG、Rで
異なる。したがって、BとG、Rでは保持するトランジ
スタ11c11dのソース−ドレイン電圧(SD電圧)
が異なる。そのため、各色でトランジスタのソース−ド
レイン電圧(SD電圧)間オフリーク電流が異なること
になる。オフリーク電流が発生し、かつオフリーク特性
が各色で異なると、色バランスのずれた状態でフリッカ
が発生する、発光色に相関してガンマ特性がずれるとい
う複雑な表示状態をなる。
In the structure shown in FIG. 1, the cathode of the EL element 15 is connected to the Vs1 potential. However, there is a problem in that the driving voltage of the organic EL that constitutes each color is different. For example, 0.01 per square centimeter
When the current of (A) is passed, the terminal voltage of the EL element is 5 (V) in blue (B), but is 9 (V) in green (G) and red (R). That is, the terminal voltage differs between B, G, and R. Therefore, in B, G, and R, the source-drain voltage (SD voltage) of the transistor 11c11d held by
Is different. Therefore, the off-leakage current between the source-drain voltage (SD voltage) of the transistor is different for each color. When an off-leakage current is generated and the off-leakage characteristics are different for each color, flicker occurs in a state where the color balance is deviated, and the gamma characteristic shifts in correlation with the emission color, resulting in a complicated display state.

【0296】この課題に対応するため、本発明では図5
に図示するように、少なくともR、G、B色のうち、1
つのカソード電極の電位を他色のカソード電極の電位と
異ならせるように構成している。具体的には図5では、
Bをカソード電極53aとし、GとRをカソード電極5
3bとしている。なお、図5はガラス面から光を取り出
す下取り出しを想定しているが、上取り出しの場合もあ
る。この場合はカソードとアノードは逆転した構成にな
る場合がある。
In order to address this problem, the present invention is shown in FIG.
As shown in, at least one of R, G, and B colors is
The potential of one cathode electrode is different from the potential of another color cathode electrode. Specifically, in FIG.
B is the cathode electrode 53a, and G and R are the cathode electrode 5
3b. Note that, although FIG. 5 assumes lower extraction for extracting light from the glass surface, it may also be upper extraction. In this case, the cathode and the anode may be reversed.

【0297】R、G、BのEL素子15の端子電圧は極
力一致させることが好ましいことは言うまでもない。少
なくとも、白ピーク輝度を表示しており、色温度が60
00K以上9000K以下の範囲で、R、G、BのEL
素子の端子電圧は10(V)以下となるように材料ある
いは構造選定をする必要がある。また、R、G、Bのの
うち、EL素子の最大の端子電圧と最小の端子電圧との
差は、2.5(V)以内にする必要がある。さらに好ま
しくは1.5(V)以下にする必要がある。なお、以上
の実施例では、色はRGBとしたがこれに限定するもの
ではない。このことは後に説明する。
It goes without saying that it is preferable that the terminal voltages of the R, G, and B EL elements 15 are made to match as much as possible. At least the white peak brightness is displayed and the color temperature is 60
EL of R, G, B in the range from 00K to 9000K
It is necessary to select the material or structure so that the terminal voltage of the device is 10 (V) or less. Further, among R, G, and B, the difference between the maximum terminal voltage and the minimum terminal voltage of the EL element needs to be within 2.5 (V). More preferably, it should be 1.5 (V) or less. Although the colors are RGB in the above embodiments, the colors are not limited to these. This will be explained later.

【0298】また、色ムラの補正も必要である。これ
は、各色のEL材料を塗り分けるため、膜厚のバラツ
キ、特性のバラツキによって発生する。これを補正する
ため、30%70%の輝度で白ラスター表示を行い、表
示領域21内の各色の面内分布を測定する。面内分布は
少なくとも30画素に1ポイントずつは測定する。この
測定データをメモリからなるテーブルに保存し、この保
存されたデータを使用して、入力画像データを補正して
表示画面21に表示するように構成する。
It is also necessary to correct color unevenness. This is caused by variations in film thickness and characteristics because EL materials of different colors are applied separately. To correct this, white raster display is performed at a luminance of 30% and 70%, and the in-plane distribution of each color in the display area 21 is measured. The in-plane distribution is measured at least every 30 pixels. The measurement data is stored in a table composed of a memory, and the stored data is used to correct the input image data and display it on the display screen 21.

【0299】なお、画素は、R、G、Bの3原色とした
がこれに限定するものではなく、シアン、イエロー、マ
ゼンダの3色でもよい。また、Bとイエローの2色でも
よい。もちろん、単色でもよい。また、R、G、B、シ
アン、イエロー、マゼンダの6色でもよい。R、G、
B、シアン、マゼンダの5色でもよい。これらはナチュ
ラルカラーとして色再現範囲が拡大し良好な表示を実現
できる。その他、R、G、B、白の4色でもよい。R、
G、B、シアン、イエロー、マゼンダ、黒、白の7色で
もよいまた、白色発光の画素を表示領域21全体に形成
(作製)し、RGBなどのカラーフィルタで3原色表示
としてもよい。この場合は、EL層に各色の発光材料を
積層して形成すればよい。また、1画素をBとイエロー
のように塗り分けても良い。以上のように本発明のEL
表示装置は、RGBの3原色でカラー表示を行うものに
限定されるものではない。
Note that the pixels are the three primary colors of R, G, and B, but the present invention is not limited to this, and three colors of cyan, yellow, and magenta may be used. Also, two colors of B and yellow may be used. Of course, it may be a single color. Further, six colors of R, G, B, cyan, yellow and magenta may be used. R, G,
Five colors of B, cyan and magenta may be used. These are natural colors with a wide color reproduction range and good display. In addition, four colors of R, G, B, and white may be used. R,
Seven colors of G, B, cyan, yellow, magenta, black, and white may be used. Alternatively, white emission pixels may be formed (produced) in the entire display region 21 and a three primary color display may be performed using a color filter such as RGB. In this case, light emitting materials of respective colors may be stacked on the EL layer. Alternatively, one pixel may be painted separately such as B and yellow. As described above, the EL of the present invention
The display device is not limited to one that performs color display with the three primary colors of RGB.

【0300】有機EL表示パネルのカラー化には主に三
つの方式があり,色変換方式はこのうちの一つである。
発光層として青色のみの単層を形成すればよく,フルカ
ラー化に必要な残りの緑色と赤色は,青色光から色変換
によって作り出す。したがって、RGBの各層を塗り分
ける必要がない、RGBの各色の有機EL材料をそろえ
る必要がないという利点がある。色変換方式は、塗り分
け方式のようは歩留まり低下がない。本発明のELパネ
ルなどはこのいずれの方式でも適用される。
There are mainly three methods for colorizing the organic EL display panel, and the color conversion method is one of them.
It is only necessary to form a single layer of blue as the light emitting layer, and the remaining green and red required for full colorization are created by color conversion from blue light. Therefore, there are advantages that it is not necessary to separately paint each layer of RGB, and it is not necessary to prepare organic EL materials of each color of RGB. The color conversion method does not reduce the yield unlike the color-coding method. The EL panel and the like of the present invention are applicable in any of these systems.

【0301】また、図168に図示するように、3原色
の他に、白色発光の画素16Wを形成してもよい。白色
発光の画素16Wは、R,G,B発光の構造を積層する
ことのより作製(形成または構成)することにより実現
できる。1組の画素は、RGBの3原色と、白色発光の
画素16Wからなる。白色発光の画素を形成することに
より、白色のピーク輝度が表現しやすくなる。したがっ
て、輝き感のある画像表示実現できる。
Also, as shown in FIG. 168, pixels 16W that emit white light in addition to the three primary colors may be formed. The white light emitting pixel 16W can be realized by manufacturing (forming or configuring) by stacking R, G, and B light emitting structures. One set of pixels is composed of three primary colors of RGB and a pixel 16W that emits white light. By forming the pixels that emit white light, the white peak luminance can be easily expressed. Therefore, it is possible to realize a bright image display.

【0302】RGBなどの3原色を1組の画素をする場
合であっても、図169に図示するように、各色の画素
電極の面積は異ならせることが好ましい。もちろん、各
色の発光効率がバランスよく、色純度もバランスがよけ
れば、同一面積でもかまわない。しかし、1つまたは複
数の色のバランスが悪ければ、画素電極(発光面積)を
調整することが好ましい。各色の電極面積は電流密度を
基準に決定すればよい。つまり、色温度が6000K
(ケルビン)以上9000K以下の範囲で、ホワイトバ
ランスを調整した時、各色の電流密度の差が±30%以
内となるようにする。さらに好ましくは±15%以内と
なるようにする。たとえば、電流密度が100A/平方
メーターをすれば、3原色がいずれも70A/平方メー
ター以上130A/平方メーター以下となるようにす
る。さらに好ましくは、3原色がいずれも85A/平方
メーター以上115A/平方メーター以下となるように
する。
Even when one set of pixels of three primary colors such as RGB is formed, it is preferable that the area of the pixel electrode of each color be different as shown in FIG. Of course, the same area may be used as long as the luminous efficiency of each color is well balanced and the color purity is well balanced. However, if the balance of one or more colors is poor, it is preferable to adjust the pixel electrode (light emitting area). The electrode area for each color may be determined based on the current density. In other words, the color temperature is 6000K
When the white balance is adjusted in the range of (Kelvin) or more and 9000K or less, the difference between the current densities of the respective colors should be within ± 30%. It is more preferably within ± 15%. For example, if the current density is 100 A / square meter, all three primary colors should be 70 A / square meter or more and 130 A / square meter or less. More preferably, all three primary colors are set to 85 A / square meter or more and 115 A / square meter or less.

【0303】また、図170に図示するように、隣接し
た画素行で、3原色の配置が異なるように配置すること
が好ましい。たとえば、偶数行目が、左からR、G、B
の配置であれば、奇数行目はB、G、Rの配置とする。
このように配置することにより、少ない画素数でも、画
像の斜め方向の解像度が改善される。さらに、1行目を
左からR、G、B、R、G、Bの配置とし、2行目を
G、B、R、G、B、Rの配置とし、3行目をB、R、
G、B、R、Gの配置とするように、3画素行以上で、
画素配置を異ならせてもよい。
Further, as shown in FIG. 170, it is preferable to arrange the adjacent three pixel rows so that the arrangement of the three primary colors is different. For example, even-numbered rows are R, G, B from the left.
In this arrangement, the odd-numbered rows have B, G, and R arrangements.
By arranging in this way, the resolution in the diagonal direction of the image is improved even with a small number of pixels. Further, the first row is the arrangement of R, G, B, R, G, B from the left, the second row is the arrangement of G, B, R, G, B, R, and the third row is B, R,
In order to arrange G, B, R, and G, in three or more pixel rows,
The pixel arrangement may be different.

【0304】カソード電極53aは、各色の有機ELを
塗り分けたメタルマスク技術を用いて形成する。メタル
マスクを用いるのは、有機ELが水に弱くエッチングな
どを行うことができないからである。メタルマスク(図
示せず)を用いて、カソード電極53aを蒸着し、同時
にコンタクトホール52aで接続を取る。コンタクトホ
ール52aによりBカソード配線51aと電気的接続を
取ることができる。
The cathode electrode 53a is formed by using a metal mask technique in which organic ELs of different colors are separately applied. The metal mask is used because the organic EL is weak in water and cannot be etched. Using a metal mask (not shown), the cathode electrode 53a is vapor-deposited, and at the same time, the contact hole 52a is connected. The contact hole 52a can be electrically connected to the B cathode wiring 51a.

【0305】カソード電極53bも同様に、各色の有機
ELを塗り分けたメタルマスク技術を用いて形成する。
メタルマスク(図示せず)を用いて、カソード電極53
bを蒸着し、同時にコンタクトホール52bで接続を取
る。コンタクトホール52bによりRGカソード配線5
1bと電気的接続を取ることができる。なお、カソード
電極のアルミ膜厚は70nm以上200nm以下となる
ように形成するとよい。
Similarly, the cathode electrode 53b is also formed by using a metal mask technique in which organic EL of each color is separately applied.
Using a metal mask (not shown), the cathode electrode 53
b is vapor-deposited, and at the same time, connection is made at the contact hole 52b. RG cathode wiring 5 through the contact hole 52b
An electrical connection can be made with 1b. The cathode electrode may be formed to have an aluminum film thickness of 70 nm or more and 200 nm or less.

【0306】以上の構成により、カソード電極51aと
51bには異なる電圧を印加することができるから、図
1のVdd電圧が各色共通であっても、RGBのうち、
少なくとも1色のELに印加する電圧を変化させること
ができる。なお、図5ではRGでは同一のカソード電極
53bとしたがこれに限定するものではなく、RとGで
異なるカソード電極となるように構成してもよい。
With the above structure, different voltages can be applied to the cathode electrodes 51a and 51b. Therefore, even if the Vdd voltage in FIG.
The voltage applied to at least one color EL can be changed. In FIG. 5, the same cathode electrode 53b is used for RG, but the present invention is not limited to this, and R and G may be different cathode electrodes.

【0307】以上のように構成することにより、各色で
トランジスタのソース−ドレイン電圧(SD電圧)間の
オフリーク電流が発生、キンク現象を防止することがで
きる。したがって、フリッカが発生なく、発光色に相関
してガンマ特性がずれるということもなく、良好な画像
表示を実現できる。
With the above structure, it is possible to prevent the off-leakage current between the source-drain voltage (SD voltage) of the transistor and the kink phenomenon for each color. Therefore, flicker does not occur, the gamma characteristic does not shift in correlation with the emission color, and good image display can be realized.

【0308】また、図1のVs1をカソード電圧とし、
このカソード電圧を各色で異なるようにするとしたがこ
れに限定するものではなく、アノード電圧Vddを各色
で異なるように構成してもよいことは言うまでもない。
たとえば、Rの画素のVddを電圧8(V)にし、Gを
6(V)、Bを10(V)とする構成である。これらの
アノード電圧、カソード電圧は±1(V)の範囲で調整
できるように構成することが好ましい。
Also, let Vs1 in FIG. 1 be the cathode voltage,
The cathode voltage is set to be different for each color, but the present invention is not limited to this, and it goes without saying that the anode voltage Vdd may be set to be different for each color.
For example, the Vdd of the R pixel is set to 8 (V), G is set to 6 (V), and B is set to 10 (V). It is preferable that these anode voltage and cathode voltage can be adjusted within a range of ± 1 (V).

【0309】パネルサイズが2インチ程度であっても、
Vddと接続されるアノードからは100mA近く電流
が出力される。そのため、アノード配線20(電流供給
線)の低抵抗化は必須である。この課題に対応するた
め、本発明では図6で図示するようにアノード63配線
を表示領域の上側と下側から供給している(両端給
電)。以上のように両端給電することにより画面の上下
での輝度傾斜の発生がなくなる。
Even if the panel size is about 2 inches,
A current of nearly 100 mA is output from the anode connected to Vdd. Therefore, it is essential to reduce the resistance of the anode wiring 20 (current supply line). In order to cope with this problem, in the present invention, the anode 63 wiring is supplied from the upper side and the lower side of the display area as shown in FIG. 6 (power supply at both ends). By supplying power to both ends as described above, the occurrence of a brightness gradient at the top and bottom of the screen is eliminated.

【0310】発光輝度を高めるためには画素48を粗面
化するとよい。この構成を図7に示す。まず、画素電極
48を形成する箇所にスタンパ技術を用いて微細な凹凸
を形成する。画素が反射型の場合は、スパッタリング法
で約200nmのアルミニウムの金属薄膜を形成して画
素電極48を形成する。画素電極48が有機ELと接す
る箇所には凸部が設けられ、粗面化される。なお、単純
マトリックス型表示パネルの場合は、画像電極48はス
トライプ状電極状とする。また、凸部は凸状だけに限定
するものではなく、凹状でもよい。また、凹と凸とを同
時に形成してもよい。
In order to increase the emission brightness, the pixel 48 may be roughened. This structure is shown in FIG. First, fine unevenness is formed in a place where the pixel electrode 48 is formed by using a stamper technique. When the pixel is a reflection type, a pixel electrode 48 is formed by forming a metal thin film of aluminum having a thickness of about 200 nm by a sputtering method. A convex portion is provided at a position where the pixel electrode 48 is in contact with the organic EL and is roughened. In the case of a simple matrix type display panel, the image electrode 48 has a striped electrode shape. Further, the convex portion is not limited to the convex shape and may be a concave shape. Moreover, you may form a concave and a convex simultaneously.

【0311】突起の大きさは直径4μm程度にして隣接
間距離の平均値を10μm、20μm、40μmにし
て、それぞれ突起の単位面積密度を1000から120
0個/平方ミリメートル、100から120個/mm
2、600から800個/平方ミリメートルとして輝度
測定を行った。すると、突起の単位面積密度が大きくな
るほど発光輝度が強くなることがわかった。したがっ
て、画素電極48上の突起の単位面積密度を変えること
で、画素電極の表面状態を変えて発光輝度を調整できる
ことがわかった。検討によれば、突起の単位面積密度を
800個/平方ミリメートル以下100個/平方ミリメ
ートル以下で良好な結果を得ることができた。
The size of the protrusions is about 4 μm and the average value of the distance between adjacent portions is 10 μm, 20 μm, 40 μm, and the unit area density of the protrusions is 1000 to 120 μm.
0 / square millimeter, 100 to 120 / mm
The luminance was measured at 2,600 to 800 pieces / square millimeter. Then, it was found that the larger the unit area density of the protrusions, the stronger the emission brightness. Therefore, it was found that by changing the unit area density of the protrusions on the pixel electrode 48, the surface state of the pixel electrode can be changed to adjust the emission brightness. According to the examination, good results could be obtained when the unit area density of the protrusions was 800 / square millimeter or less and 100 / square millimeter or less.

【0312】有機ELは自己発光素子である。この発光
による光がスイッチング素子としてのTFTに入射する
とホトコンダクタ現象(ホトコン)が発生する。ホトコ
ンとは、光励起によりTFTなどのスイッチング素子の
オフ時でのリーク(オフリーク)が増える現象を言う。
The organic EL is a self-luminous element. When the light generated by this light emission enters a TFT as a switching element, a photoconductor phenomenon (photocon) occurs. The photocon refers to a phenomenon in which a leak (off leak) when a switching element such as a TFT is turned off increases due to photoexcitation.

【0313】この課題に対処するため、本発明では図9
に示すようにゲートドライバ12(場合によってはソー
スドライバ14)の下層、画素トランジスタ11の下層
の遮光膜91を形成している。遮光膜91はクロムなど
の金属薄膜で形成し、その膜厚は50nm以上150n
m以下にする。膜厚が薄いと遮光効果が乏しく、厚いと
凹凸が発生して上層のTFT11A1のパターニングが
困難になる。
In order to cope with this problem, the present invention is shown in FIG.
As shown in FIG. 5, a light shielding film 91 under the gate driver 12 (source driver 14 in some cases) and under the pixel transistor 11 is formed. The light-shielding film 91 is formed of a metal thin film such as chromium and has a film thickness of 50 nm or more and 150 n or less.
m or less. If the film thickness is thin, the light-shielding effect is poor, and if it is thick, irregularities occur and patterning of the upper TFT 11A1 becomes difficult.

【0314】遮光膜91上に20以上100nm以下の
無機材料からなる平滑化膜71aを形成する。この遮光
膜91のレイヤーを用いて蓄積容量19の一方の電極を
形成してもよい。この場合、平滑膜71aは極力薄く作
り蓄積容量の容量値を大きくすることが好ましい。また
遮光膜91をアルミで形成し、陽極酸化技術を用いて酸
化シリコン膜を遮光膜91の表面に形成し、この酸化シ
リコン膜を蓄積容量19の誘電体膜として用いてもよ
い。平滑化膜71b上にはハイアパーチャ(HA)構造
の画素電極が形成される。
A smoothing film 71a made of an inorganic material having a thickness of 20 to 100 nm is formed on the light shielding film 91. One layer of the storage capacitor 19 may be formed using the layer of the light shielding film 91. In this case, it is preferable that the smoothing film 71a be made as thin as possible to increase the capacitance value of the storage capacitor. Alternatively, the light shielding film 91 may be formed of aluminum, a silicon oxide film may be formed on the surface of the light shielding film 91 by using an anodic oxidation technique, and this silicon oxide film may be used as the dielectric film of the storage capacitor 19. A pixel electrode having a high aperture (HA) structure is formed on the smoothing film 71b.

【0315】ドライバ回路12などは裏面だけでなく、
表面からの光の進入も抑制するべきである。ホトコンの
影響により誤動作するからである。したがって、本発明
では、カソード電極が金属膜の場合は、ドライバ12な
どの表面にもカソード電極を形成し、この電極を遮光膜
として用いている。
The driver circuit 12 and the like are not limited to the back surface,
Ingress of light from the surface should also be suppressed. This is because a malfunction occurs due to the influence of photo control. Therefore, in the present invention, when the cathode electrode is a metal film, the cathode electrode is also formed on the surface of the driver 12 or the like, and this electrode is used as a light shielding film.

【0316】しかし、ドライバ12の上にカソード電極
を形成すると、このカソード電極からの電界によるドラ
イバの誤動作あるいはカソード電極とドライバ回路の電
気的接触が発生する可能性がある。この課題に対処する
ため、本発明ではドライバ回路12などの上に少なくと
も1層、好ましくは複数層の有機EL膜を画素電極上の
有機EL膜形成と同時に形成する。
However, when the cathode electrode is formed on the driver 12, there is a possibility that the electric field from the cathode electrode may cause a malfunction of the driver or an electrical contact between the cathode electrode and the driver circuit. In order to cope with this problem, in the present invention, at least one layer, preferably a plurality of layers of organic EL film is formed on the driver circuit 12 and the like at the same time when the organic EL film is formed on the pixel electrode.

【0317】基本的に有機EL膜は絶縁物であるから、
ドライバ上に有機EL膜を形成することにより、カソー
ドとドライバ間が隔離される。したがって、前述の課題
を解消することができる。
Since the organic EL film is basically an insulator,
By forming the organic EL film on the driver, the cathode and the driver are isolated from each other. Therefore, the above-mentioned problem can be solved.

【0318】画素の1つ以上のTFT11の端子間ある
いはTFT11と信号線とが短絡すると、EL素子15
が常時、点灯する輝点となる場合がある。この輝点は視
覚的にめだつので黒点化(非点灯)する必要がある。輝
点に対しては、該当画素16を検出し、コンデンサ19
にレーザー光を照射してコンデンサの端子間を短絡させ
る。したがって、コンデンサ19には電荷を保持できな
くなるので、TFT11aは電流を流さなくすることが
できる。
If a short circuit occurs between terminals of one or more TFTs 11 of a pixel or between a TFT 11 and a signal line, the EL element 15
May always be a bright spot that lights up. Since these bright spots are visually unnoticeable, it is necessary to turn them into black dots (not lit). For the bright spot, the corresponding pixel 16 is detected and the capacitor 19
Irradiate a laser beam on to short-circuit between the terminals of the capacitor. Therefore, the electric charge cannot be retained in the capacitor 19, so that the TFT 11a can stop the flow of current.

【0319】なお、レーザー光を照射する位置にあた
る。カソード膜を除去しておくことが望ましい。レーザ
ー照射により、コンデンサ19の端子電極とカソード膜
とがショートすることを防止するためである。
It should be noted that the position corresponds to the position where laser light is emitted. It is desirable to remove the cathode film. This is to prevent a short circuit between the terminal electrode of the capacitor 19 and the cathode film due to laser irradiation.

【0320】また、図175に図示する構造も例示され
る。図175は光をガラス基板49側から取り出す下取
り出し構造の例である。図175においても、ゲートド
ライバ12(場合によってはソースドライバ14)の下
層、画素トランジスタ11の下層の遮光膜を形成してい
る。遮光膜はクロムなどの金属薄膜で形成し、その膜厚
は50nm以上150nm以下にする。膜厚が薄いと遮
光効果が乏しく、厚いと凹凸が発生して上層のTFT1
1A1のパターニングが困難になる。
The structure shown in FIG. 175 is also illustrated. FIG. 175 shows an example of a lower extraction structure for extracting light from the glass substrate 49 side. Also in FIG. 175, the light shielding film below the gate driver 12 (source driver 14 in some cases) and below the pixel transistor 11 is formed. The light-shielding film is formed of a metal thin film such as chromium and has a film thickness of 50 nm or more and 150 nm or less. If the film thickness is thin, the light-shielding effect is poor, and if it is thick, unevenness occurs and the upper TFT1
Patterning of 1A1 becomes difficult.

【0321】遮光膜上に、TFT11、ドライバ回路1
2(14)を形成する。ドライバ回路12(14)など
は裏面だけでなく、表面からの光の進入も抑制するべき
である。ホトコンの影響により誤動作するからである。
したがって、本発明では、カソード電極46を遮光膜と
して用いている。
The TFT 11 and the driver circuit 1 are provided on the light-shielding film.
2 (14) is formed. The driver circuit 12 (14) and the like should prevent light from entering not only from the back surface but also from the front surface. This is because a malfunction occurs due to the influence of photo control.
Therefore, in the present invention, the cathode electrode 46 is used as a light shielding film.

【0322】しかし、ドライバ12(14)の上にカソ
ード電極を形成すると、このカソード電極からの電界に
よるドライバの誤動作あるいはカソード電極とドライバ
回路の電気的接触が発生する可能性がある。この課題に
対処するため、本発明ではドライバ回路12などの上に
少なくとも1層、好ましくは複数層の有機EL膜を画素
電極上の有機EL膜形成と同時に形成する。
However, if the cathode electrode is formed on the driver 12 (14), the electric field from the cathode electrode may cause the driver to malfunction or the cathode electrode and the driver circuit to electrically contact with each other. In order to cope with this problem, in the present invention, at least one layer, preferably a plurality of layers of organic EL film is formed on the driver circuit 12 and the like at the same time when the organic EL film is formed on the pixel electrode.

【0323】一方、カソード(もしくはアノード)電極
が透明電極の場合、画素電極を反射タイプとし共通電極
を透明電極(ITO,IZOなど)にする光上取り出し
の構造(ガラス基板49側から光を取り出すのは下取出
し、EL膜蒸着面から光を取り出すのが上取り出し)の
場合は、透明電極のシート抵抗値が問題となる。透明電
極は高抵抗であるが、有機ELのカソードには高い電流
密度で電流を流す必要がある。しがたって、ITO膜の
単層でカソード電極を形成すると発熱により加熱状態と
なったり、表示画面に極度の輝度傾斜が発生したりす
る。
On the other hand, when the cathode (or anode) electrode is a transparent electrode, the pixel electrode is of a reflection type, and the common electrode is a transparent electrode (ITO, IZO, etc.), which is a light extraction structure (light is extracted from the glass substrate 49 side). In the case of the lower extraction and the upper extraction of extracting light from the EL film deposition surface), the sheet resistance value of the transparent electrode becomes a problem. Although the transparent electrode has a high resistance, it is necessary to pass a current with a high current density to the cathode of the organic EL. Therefore, if the cathode electrode is formed of a single layer of the ITO film, heat is generated due to heat generation, or an extreme brightness gradient occurs on the display screen.

【0324】この課題に対応するため、カソード電極の
表面に金属薄膜からなる低抵抗化配線92を形成してい
る。低抵抗化配線92は液晶表示パネルのブラックマト
リックス(BM)と同様の構成(クロムまたはアルミ材
料で50nm〜200nmの膜厚)で、かつ同様の位置
(画素電極間、ドライバ12の上など)である。しか
し、有機ELではBMを形成する必要はないから機能は
全く異なる。なお、低抵抗化配線92は透明電極72の
表面に限定するものではなく、裏面(有機EL膜と接す
る面)に形成してもよい。また、BM状に形成した金属
膜として、Mg・Ag、Mg・Li、Al・Liなどの
合金あるいは積層構造体など、アルミニウム、マグネシ
ウム、インジウム、銅または各々の合金等を用いてもよ
い。なお、BM上には腐食などを防止するため、さらに
ITO,IZO膜を積層し、また、SiNx、SiO2
などの無機薄膜、あるいはポリイミドなどの有機薄膜を
形成する。
In order to address this problem, the resistance lowering wiring 92 made of a metal thin film is formed on the surface of the cathode electrode. The low resistance wiring 92 has the same structure as the black matrix (BM) of the liquid crystal display panel (film thickness of 50 nm to 200 nm made of chromium or aluminum material), and at the same position (between the pixel electrodes, on the driver 12, etc.). is there. However, in the organic EL, it is not necessary to form the BM, so that the function is completely different. The low resistance wiring 92 is not limited to the front surface of the transparent electrode 72, but may be formed on the back surface (the surface in contact with the organic EL film). As the BM-shaped metal film, an alloy such as Mg.Ag, Mg.Li, or Al.Li or a laminated structure such as aluminum, magnesium, indium, copper, or an alloy of each may be used. In addition, in order to prevent corrosion and the like on the BM, ITO and IZO films are further stacked, and SiNx and SiO2 are also stacked.
An inorganic thin film such as or an organic thin film such as polyimide is formed.

【0325】また、EL膜の蒸着面から光を取り出す場
合(上取り出し)の場合は、有機EL膜47上のMg−
Al膜を形成し、その上にITO、IZO膜を形成する
ことが好ましい。また、有機EL膜47上のMg−Al
膜を形成し、その上にブラックマトリックス(液晶表示
パネルのようなブラックマトリックス)を形成すること
が好ましい。このブラックマトリックスはクロム、A
l、Ag、Au、Cuなどで形成し、この上に、SiO
2、SiNxなどの無機絶縁膜、ポリエステル、アクリ
ルなどの有機絶縁膜からなる保護膜を形成することが好
ましい。さらに、この保護膜上に、反射防止膜(AIR
コート)を形成する。
When light is to be extracted from the vapor deposition surface of the EL film (upper extraction), Mg-on the organic EL film 47 is used.
It is preferable to form an Al film and then form an ITO or IZO film thereon. In addition, Mg-Al on the organic EL film 47
It is preferable to form a film and form a black matrix (black matrix such as a liquid crystal display panel) on the film. This black matrix is chrome, A
l, Ag, Au, Cu, etc., and SiO
2. It is preferable to form a protective film made of an inorganic insulating film such as SiNx or an organic insulating film such as polyester or acrylic. Further, an antireflection film (AIR
Coat).

【0326】AIRコートは3層の構成あるいは2層構
成がある。3層構成の場合は酸化アルミニウム(Al2
O3)を光学的膜厚がnd=λ/4、ジルコニウム(Zr
O2)をnd1=λ/2、フッ化マグネシウム(MgF
2)をnd1=λ/4積層して形成する。通常、λとし
て520nmもしくはその近傍の値として薄膜は形成さ
れる。
The AIR coat has a three-layer structure or a two-layer structure. Aluminum oxide (Al2
O3) has an optical film thickness of nd = λ / 4 and zirconium (Zr
O2) is nd1 = λ / 2, magnesium fluoride (MgF
2) is formed by stacking nd1 = λ / 4. Usually, a thin film is formed with λ of 520 nm or a value in the vicinity thereof.

【0327】2層構成の場合は一酸化シリコン(Si
O)を光学的膜厚nd1=λ/4とフッ化マグネシウム
(MgF2)をnd1=λ/4、もしくは酸化イットリウ
ム(Y2O3)とフッ化マグネシウム(MgF2)をnd1
=λ/4積層して形成する。
In the case of a two-layer structure, silicon monoxide (Si
O) is an optical film thickness nd1 = λ / 4 and magnesium fluoride (MgF2) is nd1 = λ / 4, or yttrium oxide (Y2O3) and magnesium fluoride (MgF2) are nd1.
= Λ / 4 stacked layers.

【0328】1層の場合は、フッ化マグネシウム(Mg
F2)をnd1=λ/2積層して形成する。
For a single layer, magnesium fluoride (Mg
F2) is formed by stacking nd1 = λ / 2.

【0329】なお、下取り出しの場合であっても、カソ
ード電極46の金属膜の透過率を高くすることは効果が
ある。基板49側から表示画像を見る構成であっても、
金属膜46の透過率を高いため、写り込みが減少するか
らである。写り込みが減少すれば、円偏光板74は不要
となる。したがって、上取り出しよりも光取り出し効率
が向上する場合がある。金属膜46の透過率は、60%
以上90%以下にすることが好ましい。特に70%以上
90%以下にすることが好ましい。60%以下であると
カソード電極のシート抵抗値が低くなる。しかし、写り
込みが大きくなる。逆に90%以上ではカソード電極の
シート抵抗値が高くなる。したがって、表示画像の輝度
傾斜が大きくなる。
Even in the case of the bottom extraction, it is effective to increase the transmittance of the metal film of the cathode electrode 46. Even if the display image is viewed from the substrate 49 side,
This is because the high transmissivity of the metal film 46 reduces the reflection. If the reflection is reduced, the circularly polarizing plate 74 becomes unnecessary. Therefore, the light extraction efficiency may be improved as compared with the upper extraction. The transmittance of the metal film 46 is 60%
It is preferably not less than 90%. In particular, it is preferably 70% or more and 90% or less. If it is 60% or less, the sheet resistance value of the cathode electrode becomes low. However, the reflection becomes large. On the contrary, when it is 90% or more, the sheet resistance value of the cathode electrode becomes high. Therefore, the brightness gradient of the display image becomes large.

【0330】金属膜46の透過率を高くするにはAl膜
を薄く形成する。厚みは20nm以上100nm以下に
形成する。その上にITO、IZO膜を形成することが
好ましい。また、Al膜46上にブラックマトリックス
を形成することが好ましい。このブラックマトリックス
はクロム、Al、Ag、Au、Cuなどで形成し、この
上に、SiO2、SiNxなどの無機絶縁膜、ポリエス
テル、アクリルなどの有機絶縁膜からなる保護膜176
1を形成することが好ましい。さらに、この保護膜17
61上に、反射防止膜(AIRコート)を形成すること
が好ましい。
To increase the transmittance of the metal film 46, the Al film is thinly formed. The thickness is 20 nm or more and 100 nm or less. It is preferable to form an ITO or IZO film on it. Further, it is preferable to form a black matrix on the Al film 46. This black matrix is formed of chromium, Al, Ag, Au, Cu or the like, and a protective film 176 made of an inorganic insulating film such as SiO2 or SiNx, or an organic insulating film such as polyester or acrylic is formed on the black matrix.
1 is preferably formed. Furthermore, this protective film 17
It is preferable to form an antireflection film (AIR coat) on 61.

【0331】図176に図示するように、画素電極48
を円弧状にすることにより、EL膜47の発光面積が広
くなる。したがって、電流密度が小さくなり、EL素子
47の高寿命化を実現できる。また、EL素子15の端
子電圧も低下するので電力効率も向上する。
As shown in FIG. 176, the pixel electrode 48
The circular arc shape increases the light emitting area of the EL film 47. Therefore, the current density is reduced and the life of the EL element 47 can be extended. Moreover, since the terminal voltage of the EL element 15 is also reduced, the power efficiency is improved.

【0332】図176では平滑化膜71を円弧状に形成
し、この円弧状の平滑化膜にTFT11のドレイン端子
とコンタクトをとるコンタクトホールを形成する。この
コンタクトホールでITOからなる透明電極48とドレ
イン端子とを電気的に接続する。
In FIG. 176, the smoothing film 71 is formed in an arc shape, and a contact hole for making contact with the drain terminal of the TFT 11 is formed in this arc shape smoothing film. The transparent electrode 48 made of ITO is electrically connected to the drain terminal through this contact hole.

【0333】画素電極48上に50nm以上150nm
以下のカーボン膜を薄く蒸着し、この上にEL膜47を
形成する。EL膜47は単色の場合は全面に、RGBの
場合はメタルマスクを用いて塗り分ける(図177
(f)参照)。
50 nm or more and 150 nm on the pixel electrode 48
The following carbon film is vapor-deposited thinly, and the EL film 47 is formed thereon. The EL film 47 is separately applied on the entire surface in the case of a single color and by using a metal mask in the case of RGB (FIG. 177).
(See (f)).

【0334】EL膜47の形成後、カソード電極となる
Al膜46を形成する(図177(g))。さらに、A
l膜46上に保護膜1761を形成する(図177
(h))。
After forming the EL film 47, an Al film 46 to be a cathode electrode is formed (FIG. 177 (g)). Furthermore, A
A protective film 1761 is formed on the I film 46 (FIG. 177).
(H)).

【0335】なお、EL膜47または画素電極48は、
円弧状に限定するものではなく、三角錐状、円錐状、サ
インカーブ状でもよく、また、これらを組み合わせた構
造でもよい。また、1画素に微細な円弧上、三角錐状、
円錐状、サインカーブ状が形成されたり、これらが組み
合わされたり、もしくは、ランダムな凹凸が形成された
構成であっても良い。また、図176では凸状の円弧状
であるが、凹状の円弧状であってもよい。以上の事項
は、三角錐状、円錐状、サインカーブ状でもよく、ま
た、これらを組み合わせた構造でも同様である。
The EL film 47 or the pixel electrode 48 is
The shape is not limited to the arc shape, but may be a triangular pyramid shape, a conical shape, a sine curve shape, or a structure in which these are combined. In addition, a minute arc on one pixel, triangular pyramid shape,
A conical shape, a sine curve shape, a combination of these shapes, or random irregularities may be formed. Further, although it is a convex arc shape in FIG. 176, it may be a concave arc shape. The above matters may be in the shape of a triangular pyramid, the shape of a cone, the shape of a sine curve, or the structure in which these are combined.

【0336】図177は図176で説明したEL表示パ
ネルの製造方法の説明図である。図177(a)で図示
するようにアレイ基板49上にTFT11、ゲートドラ
イバ回路12などを形成する。
FIG. 177 is an explanatory diagram of a method of manufacturing the EL display panel described in FIG. As illustrated in FIG. 177 (a), the TFT 11, the gate driver circuit 12 and the like are formed on the array substrate 49.

【0337】次に、図177(b)に図示するように基
板49上にアクリル樹脂などの有機材料からなる平滑化
膜71を塗布する。なお、平滑化膜71はSOGなどの
無機材料であってもよい。膜厚は1.5μm以上3μm
以下にすることが好ましい。次に前記平滑化膜71上に
マスク1771を形成する。マスク1771は金属材料
で形成し、形成位置は画素16に対応するようにする。
次にエッチングを行う。エッチングはウエットエッチン
グ、O2プラズマなどの乾式エッチングのいずれでもよ
い。マスク1771の間から、平滑化膜71がエッチン
グされる。したがって、図1771(c)に図示するよ
うに、平滑化膜71は円弧状となる。
Next, as shown in FIG. 177 (b), a smoothing film 71 made of an organic material such as acrylic resin is applied on the substrate 49. The smoothing film 71 may be an inorganic material such as SOG. The film thickness is 1.5 μm or more and 3 μm
The following is preferable. Next, a mask 1771 is formed on the smoothing film 71. The mask 1771 is formed of a metal material, and its formation position corresponds to the pixel 16.
Next, etching is performed. The etching may be either wet etching or dry etching such as O2 plasma. The smoothing film 71 is etched from between the masks 1771. Therefore, as shown in FIG. 1771 (c), the smoothing film 71 has an arc shape.

【0338】さらに、図177(d)に図示するよう
に、平滑化膜71にマスク(図示せず)を形成して、コ
ンタクトホール1772を形成する。もしくは、図17
7(b)のエッチング工程でコンタクトホール1772
も同時に形成する。
Further, as shown in FIG. 177 (d), a mask (not shown) is formed on the smoothing film 71 to form a contact hole 1772. Alternatively, FIG.
Contact hole 1772 is formed in the etching process of FIG.
Is also formed at the same time.

【0339】次に図177(e)に図示するように、I
TO、IZOなどの透明電極で画素電極48を形成す
る。画素電極48とTFT11とは、画素コンタクト部
1751で接続をとる。このコンタクトホールでITO
からなる透明電極48とドレイン端子とを電気的に接続
する。
Next, as shown in FIG. 177 (e), I
The pixel electrode 48 is formed of a transparent electrode such as TO or IZO. The pixel electrode 48 and the TFT 11 are connected by the pixel contact portion 1751. This contact hole is ITO
The transparent electrode 48 and the drain terminal are electrically connected.

【0340】画素電極48上に50nm以上150nm
以下のカーボン膜を薄く蒸着し、この上にEL膜47を
形成する。EL膜47は単色の場合は全面に、RGBの
場合はメタルマスクを用いて塗り分ける(図177
(f)参照)。EL膜47の形成後、カソード電極とな
るAl膜46を形成する(図177(g))。さらに、
Al膜46上に保護膜1761を形成する(図177
(h))。
50 nm or more and 150 nm on the pixel electrode 48
The following carbon film is vapor-deposited thinly, and the EL film 47 is formed thereon. The EL film 47 is separately applied on the entire surface in the case of a single color and by using a metal mask in the case of RGB (FIG. 177).
(See (f)). After forming the EL film 47, an Al film 46 to be a cathode electrode is formed (FIG. 177 (g)). further,
A protective film 1761 is formed on the Al film 46 (FIG. 177).
(H)).

【0341】金属膜46の透過率を高くするにはAl膜
46を薄く形成する。厚みは20nm以上100nm以
下に形成する。その上にITO、IZO膜を形成するこ
とが好ましい。また、Al膜46上にブラックマトリッ
クスを形成することが好ましい。このブラックマトリッ
クスはクロム、Al、Ag、Au、Cuなどで形成し、
この上に、SiO2、SiNxなどの無機絶縁膜、ポリ
エステル、アクリルなどの有機絶縁膜からなる保護膜1
761を形成することが好ましい。さらに、この保護膜
1761上に、反射防止膜(AIRコート)を形成する
ことが好ましい。なお、保護膜1761の最小膜厚は1
μm以上にする。
To increase the transmittance of the metal film 46, the Al film 46 is formed thin. The thickness is 20 nm or more and 100 nm or less. It is preferable to form an ITO or IZO film on it. Further, it is preferable to form a black matrix on the Al film 46. This black matrix is made of chromium, Al, Ag, Au, Cu, etc.,
On top of this, a protective film 1 made of an inorganic insulating film such as SiO2 or SiNx and an organic insulating film such as polyester or acrylic
It is preferable to form 761. Further, it is preferable to form an antireflection film (AIR coat) on the protective film 1761. The minimum film thickness of the protective film 1761 is 1
It should be at least μm.

【0342】保護膜1761は、フィルムを用いた保護
層であってもよい。たとえば、保護層としては電解コン
デンサのフィルムにDLC(ダイヤモンド ライク カ
ーボン)を蒸着したものを用いることが例示される。こ
のフィルムは水分浸透性が極めて悪い(防湿)。このフ
ィルムを保護層1761して用いる。
The protective film 1761 may be a protective layer using a film. For example, as the protective layer, it is exemplified to use a film of an electrolytic capacitor on which DLC (diamond-like carbon) is vapor-deposited. This film has extremely poor water permeability (moisture proof). This film is used as the protective layer 1761.

【0343】保護層1761の膜厚はn・d(nは薄膜
の屈折率、複数の薄膜が積層されている場合はそれらの
屈折率を総合(各薄膜のn・dを計算)にして計算す
る。dは薄膜の膜厚、複数の薄膜が積層されている場合
はそれらの屈折率を総合して計算する。)が、EL素子
15の発光主波長λ以下となるようにするとよい。
The film thickness of the protective layer 1761 is calculated by n · d (n is the refractive index of a thin film, and when a plurality of thin films are laminated, the refractive indices thereof are totaled (the n / d of each thin film is calculated). D is a film thickness of a thin film, and when a plurality of thin films are laminated, the refractive index thereof is comprehensively calculated.) It is preferable that the light emission main wavelength λ of the EL element 15 is equal to or less than that.

【0344】図178はパネル化した構成図(断面図)
である。なお、他の図面でも同様であるが、本明細書に
おいて各図面は理解を容易にまたは/および作図を容易
にするため、省略または/および拡大縮小している。図
178の表示パネルの断面図においても平滑化膜71な
どを十分に厚く図示している。しかし、基板49も板厚
は、非常に薄く図示している。また、TFTなどは省略
して図示している。
FIG. 178 shows a panelized construction (cross-sectional view).
Is. Although the same applies to other drawings, in the present specification, each drawing is omitted or / and enlarged or reduced for easy understanding and / or drawing. Also in the cross-sectional view of the display panel of FIG. 178, the smoothing film 71 and the like are shown sufficiently thick. However, the thickness of the substrate 49 is also very thin. Further, TFTs and the like are omitted in the drawing.

【0345】図178において、封止板41と、基板4
9間にはスペーサ1781を配置し、保護膜1761ま
たは反射膜46もしくはEL膜47と封止板41とが直
接に接しないように構成されている。乾燥剤は表示領域
の周辺部に配置または充填されている。スペーサは円筒
状のものまたは球状のものを用いる。高さは、10μm
以上100μm以下にすることが好ましい。また、保護
膜1761を加工することによりスペーサとすることも
できる。つまり、保護膜1761の一部または全部を突
起状あるいは柱上あるいはストライプ状に加工あるいは
形成することのよりスペーサの機能を持たせる。なお、
スペーサ1781を乾燥剤とする構成も好ましい。
In FIG. 178, the sealing plate 41 and the substrate 4
A spacer 1781 is arranged between the nine plates so that the protective film 1761 or the reflective film 46 or the EL film 47 and the sealing plate 41 are not in direct contact with each other. The desiccant is arranged or filled in the peripheral portion of the display area. A cylindrical or spherical spacer is used. Height is 10 μm
It is preferably 100 μm or less. Further, the protective film 1761 can be processed to serve as a spacer. That is, a part or the whole of the protective film 1761 is processed or formed into a projection shape, a pillar shape, or a stripe shape so that the protection film 1761 has a function of a spacer. In addition,
A configuration in which the spacer 1781 is used as a desiccant is also preferable.

【0346】図21に示す画素はTFT11bとTFT
11aとがカレントミラーの関係である。このカレント
ミラーの関係の11bと11aとの特性(閾値Vt、S
値、モビリティμなど)が一致していなければならな
い。また、図1の画素においても、各TFTの特性が一
致していることが好ましいことは言うまでもない。
The pixels shown in FIG. 21 are the TFT 11b and the TFT.
11a is a current mirror relationship. Characteristics of the current mirror relationship between 11b and 11a (threshold values Vt, S
Value, mobility μ, etc.) must match. Needless to say, it is preferable that the TFTs in the pixel of FIG. 1 have the same characteristics.

【0347】画素16のTFT11を構成する半導体膜
は、低温ポリシリコン技術において、レーザーアニ−ル
により形成するのが一般的である。このレーザーアニ−
ルの条件のバラツキがTFT11特性のバラツキとな
る。しかし、1画素16内のTFT11の特性が一致し
ていれば、図1、図21、図22、図43、図71など
の電流プログラムを行う方式では、所定の電流がEL素
子15に流れるように駆動することができる。この点
は、電圧プログラムにない利点である。
The semiconductor film forming the TFT 11 of the pixel 16 is generally formed by laser annealing in the low temperature polysilicon technique. This laser animation
The variations in the conditions of the above-mentioned conditions cause variations in the characteristics of the TFT 11. However, if the characteristics of the TFTs 11 in one pixel 16 are the same, a predetermined current may flow through the EL element 15 in the method of performing current programming shown in FIGS. 1, 21, 22, 43, and 71. Can be driven to. This is an advantage over voltage programming.

【0348】この課題に対して、本発明では図23に示
すように、アニ−ルの時のレーザー照射スポット23を
ソース信号線18に平行に照射する。また、1画素列に
一致するようにレーザー照射スポット23を移動させ
る。もちろん、1画素列に限定するものではなく、たと
えば、図23のRGBを1画素16という単位でレーザ
ーを照射してもよい(この場合は、3画素列ということ
になる)。
To address this problem, in the present invention, as shown in FIG. 23, the laser irradiation spot 23 at the time of annealing is irradiated in parallel to the source signal line 18. Further, the laser irradiation spot 23 is moved so as to coincide with one pixel column. Of course, the number of pixels is not limited to one pixel row, and for example, RGB in FIG. 23 may be irradiated with a laser in units of one pixel 16 (in this case, three pixel rows).

【0349】特に、画素はRGBの3画素で正方形の形
状となるように作製されている。したがって、R、G、
Bの各画素は縦長の画素形状となる。そのため、画素1
6内に形成されるTFT11の配置は、図23に図示す
るように縦方向に配置される(TFT11a,11
b)。したがって、レーザー照射スポット23を縦長に
してアニ−ルすることにより、1画素内ではTFT11
の特性バラツキが発生しないようにすることができる。
In particular, the pixel is made up of three RGB pixels and has a square shape. Therefore, R, G,
Each pixel of B has a vertically long pixel shape. Therefore, pixel 1
The TFTs 11 formed in 6 are arranged in the vertical direction as shown in FIG. 23 (TFTs 11a, 11).
b). Therefore, when the laser irradiation spot 23 is vertically elongated and annealed, the TFT 11 is formed within one pixel.
It is possible to prevent the characteristic variations of the above from occurring.

【0350】一般的にレーザー照射スポット23の長さ
は10インチというように固定値である。このレーザー
照射スポット23を移動させるのであるから、1つのレ
ーザー照射スポット23を移動できる範囲内におさまる
ようにパネルを配置する必要がある(つまり、パネルの
表示領域21の中央部でレーザー照射スポット23が重
ならないよういする)。
Generally, the length of the laser irradiation spot 23 is a fixed value such as 10 inches. Since this laser irradiation spot 23 is moved, it is necessary to arrange the panel so that one laser irradiation spot 23 is placed within the movable range (that is, the laser irradiation spot 23 is located at the center of the display area 21 of the panel). Do not overlap).

【0351】図24の構成では、レーザー照射スポット
23の長さの範囲内に3つのパネルが縦に配置されるよ
うに形成されている。レーザー照射スポット23を照射
するアニ−ル装置はガラス基板241の位置決めマーカ
242a,24abを認識してレーザー照射スポット2
3を移動させる。位置決めマーカ242の認識はパター
ン認識装置で行う。アニ−ル装置(図示せず)は位置決
めマーカ242を認識し、画素列の位置をわりだす。そ
して、ちょうど、画素列位置に重なるようにレーザー照
射スポット23を照射してアニ−ルを順次行う。
In the structure shown in FIG. 24, three panels are vertically arranged within the length of the laser irradiation spot 23. The annealing device that irradiates the laser irradiation spot 23 recognizes the positioning markers 242a and 24ab on the glass substrate 241 and recognizes the laser irradiation spot 2.
Move 3 The recognition of the positioning marker 242 is performed by the pattern recognition device. An anneal device (not shown) recognizes the positioning marker 242 and determines the position of the pixel row. Then, the laser irradiation spot 23 is irradiated so as to exactly overlap the pixel row position, and annealing is sequentially performed.

【0352】図23、図24で説明したレーザーアニ−
ル方法(ソース信号線18に平行にライン状のレーザー
スポットを照射する方式)は、有機ELパネルの電流プ
ログラム方式の時に特に採用することが好ましい。なぜ
ならば、ソース信号線に平行方向にTFT11の特性が
一致しているためである(縦方向に隣接した画素TFT
の特性が近似している)。そのため、電流駆動時にソー
ス信号線の電圧レベルの変化が少なく、電流書き込み不
足が発生しにくい(たとえば、白ラスター表示であれ
ば、隣接した各画素のTFT11aに流す電流はほぼ同
一のため、ソースドライバIC14から出力する電流振
幅の変化が少ない)。
The laser annealing described with reference to FIGS. 23 and 24.
It is preferable that the method (method of irradiating a linear laser spot in parallel with the source signal line 18) is particularly adopted in the current program method of the organic EL panel. This is because the characteristics of the TFT 11 match in the direction parallel to the source signal line (pixel TFTs that are vertically adjacent to each other).
Are similar in characteristics). Therefore, the change in the voltage level of the source signal line is small during current driving, and insufficient current writing is less likely to occur (for example, in the case of white raster display, the currents flowing to the TFTs 11a of adjacent pixels are almost the same, so the source driver The change in the amplitude of the current output from the IC 14 is small).

【0353】また、図87、図88などで説明する複数
の画素行を同時書き込みする方式で均一が画像表示(主
としてTFT特性のばらつきに起因する表示ムラが発生
しにくいからである)を実現できる。図87などは複数
画素行同時に選択するから、隣接した画素のTFTが均
一であれば、縦方向のTFT特性ムラはドライバ回路1
4で吸収できる。
Further, it is possible to realize uniform image display (because display unevenness is not likely to occur mainly due to variations in TFT characteristics) by the method of simultaneously writing a plurality of pixel rows described with reference to FIGS. 87 and 88. . In FIG. 87 and the like, since a plurality of pixel rows are selected at the same time, if the TFTs of adjacent pixels are uniform, the TFT characteristic unevenness in the vertical direction will be
Can be absorbed by 4.

【0354】図1に示すように、ゲート信号線17aは
行選択期間に導通状態(ここでは図1のトランジスタ1
1がpチャネルトランジスタであるためローレベルで導
通となる)となり、ゲート信号線17bは非選択期間時
に導通状態とする。
As shown in FIG. 1, the gate signal line 17a is rendered conductive during the row selection period (here, the transistor 1 of FIG.
Since 1 is a p-channel transistor, it becomes conductive at a low level), and the gate signal line 17b becomes conductive during the non-selection period.

【0355】ソース信号線の状態が階調0表示状態であ
ったときに、階調1に対する電流値を印加し、行選択期
間を75μ秒で動作させると、図55(a)に示すよう
にソース信号線18の寄生容量が増加するとEL素子1
5に出力される電流値が減少する。
When the current value for gradation 1 is applied and the row selection period is operated for 75 μs when the source signal line is in the gradation 0 display state, as shown in FIG. 55 (a). When the parasitic capacitance of the source signal line 18 increases, the EL element 1
The current value output to 5 decreases.

【0356】図55(b)は(a)に比べ階調1に対す
る電流値を10倍流した場合であり、ソース信号線18
の寄生容量の増加に対しEL素子15に出力される電流
値の減少割合は小さくなる。
FIG. 55B shows the case where the current value for gradation 1 is made to flow ten times as much as that in FIG.
The decrease rate of the current value output to the EL element 15 becomes smaller with respect to the increase of the parasitic capacitance of.

【0357】所定電流値に対し10%程度のばらつきは
人間の目にとって輝度の差として観測できないことか
ら、10%程度の低下を認めるとすると許容されるソー
ス容量は(a)では2pF以下、8(b)では25pF
以下である。
Since a variation of about 10% with respect to the predetermined current value cannot be observed as a difference in brightness for human eyes, if the reduction of about 10% is allowed, the allowable source capacitance is 2 pF or less in (a), 8 25pF in (b)
It is the following.

【0358】ソース信号線18の電流値変化に要する時
間tは浮遊容量の大きさをC、ソース信号線の電圧を
V、ソース信号線に流れる電流をIとするとt=C・V
/Iであるため電流値を10倍大きくできることは電流
値変化に要する時間が10分の1近くまで短くできる。
またはソース容量が10倍になっても所定の電流値に変
化できるということを示す。従って、短い水平走査期間
内に所定の電流値を書きこむためには電流値を増加させ
ることが有効である。
The time t required to change the current value of the source signal line 18 is t = C · V, where C is the size of the stray capacitance, V is the voltage of the source signal line, and I is the current flowing through the source signal line.
Since / I, the current value can be increased ten times, and the time required to change the current value can be shortened to nearly one tenth.
Alternatively, it indicates that the current value can be changed to a predetermined current value even if the source capacitance is increased 10 times. Therefore, it is effective to increase the current value in order to write a predetermined current value within a short horizontal scanning period.

【0359】入力電流を10倍にすると出力電流も10
倍となり、ELの輝度が10倍となるため所定の輝度を
得るために、図1のトランジスタ17dの導通期間を従
来の10分の1とし、発光期間を10分の1とすること
で、所定輝度を表示するようにした。
If the input current is multiplied by 10, the output current is also increased by 10.
Since the brightness of EL becomes 10 times, the conductive period of the transistor 17d in FIG. 1 is set to 1/10 and the light emission period is set to 1/10 of the conventional one in order to obtain a predetermined brightness. Displayed the brightness.

【0360】つまり、ソース信号線18の寄生容量の充
放電を十分に行い、所定の電流値を画素16のTFT1
1aにプログラムを行うためには、ソースドライバ14
から比較的大きな電流を出力する必要がある。しかし、
このように大きな電流をソース信号線18に流すとこの
電流値が画素にプログラムされてしまい、所定の電流に
対し大きな電流がEL素子15に流れる。たとえば、1
0倍の電流でプログラムすれば、当然、10倍の電流が
EL素子15に流れ、EL素子15は10倍の輝度で発
光する。所定の発光輝度にするためには、EL素子15
に流れる時間を1/10にすればよい。このように駆動
することにより、ソース信号線18の寄生容量を十分に
充放電できるし、所定の発光輝度を得ることができる。
That is, the parasitic capacitance of the source signal line 18 is sufficiently charged and discharged, and the predetermined current value is set to the TFT1 of the pixel 16.
To program 1a, source driver 14
It is necessary to output a relatively large current from the. But,
When such a large current is passed through the source signal line 18, this current value is programmed in the pixel, and a large current flows through the EL element 15 with respect to a predetermined current. For example, 1
If programming is performed with a current of 0 times, naturally, a current of 10 times flows through the EL element 15, and the EL element 15 emits light with a brightness of 10 times. In order to obtain a predetermined emission brightness, the EL element 15
It suffices to reduce the time for flowing to 1/10. By driving in this way, the parasitic capacitance of the source signal line 18 can be sufficiently charged and discharged, and a predetermined light emission luminance can be obtained.

【0361】なお、10倍の電流値を画素のTFT11
a(正確にはコンデンサ19の端子電圧を設定してい
る)に書き込み、EL素子15のオン時間を1/10に
するとしたがこれは一例である。場合によっては、10
倍の電流値を画素のTFT11aに書き込み、EL素子
15のオン時間を1/5にしてもよい。逆に10倍の電
流値を画素のTFT11aに書き込み、EL素子15の
オン時間を2倍にする場合もあるであろう。本発明は、
画素への書き込み電流を所定値以外の値にし、EL素子
15に流れる電流を間欠状態にして駆動することに特徴
がある。本明細書では説明を容易にするため、N倍の電
流値を画素のTFT11に書き込み、EL素子15のオ
ン時間を1/N倍にするとして説明する。しかし、これ
に限定するものではなく、N1倍の電流値を画素のTF
T11に書き込み、EL素子15のオン時間を1/N2
倍(N1とN2とは異なる)でもよいことは言うまでも
ない。なお、間欠する間隔は等間隔に限定するものでは
ない。たとえば、ランダムでもよい(全体として、表示
期間もしくは非表示期間が所定値(一定割合)となれば
よい)。また、RGBで異なっていてもよい。つまり、
白(ホワイト)バランスが最適になるように、R、G、
B表示期間もしくは非表示期間が所定値(一定割合)と
なるように調整(設定)すればよい。
A ten times larger current value is applied to the pixel TFT 11.
It is assumed that the ON time of the EL element 15 is set to 1/10 by writing in a (correctly, the terminal voltage of the capacitor 19 is set), but this is an example. In some cases, 10
A double current value may be written in the TFT 11a of the pixel, and the ON time of the EL element 15 may be reduced to 1/5. On the contrary, there may be a case where a 10 times larger current value is written in the pixel TFT 11a to double the ON time of the EL element 15. The present invention is
It is characterized in that the write current to the pixel is set to a value other than a predetermined value and the current flowing in the EL element 15 is driven in an intermittent state. In this specification, for ease of explanation, it is assumed that an N times larger current value is written in the TFT 11 of the pixel and the ON time of the EL element 15 is made 1 / N times larger. However, the present invention is not limited to this, and the N1 times the current value is applied to the pixel TF.
Write to T11 and set the ON time of EL element 15 to 1 / N2
It goes without saying that it may be doubled (different from N1 and N2). The intermittent intervals are not limited to equal intervals. For example, it may be random (as a whole, the display period or the non-display period has a predetermined value (constant rate)). Further, it may be different for RGB. That is,
For optimal white balance, R, G,
The B display period or the non-display period may be adjusted (set) to be a predetermined value (constant rate).

【0362】また、説明を容易にするため、1/Nを1
F(1フィールドまたは1フレーム)を基準にしてこの
1Fを1/Nにするとして説明する。しかし、1画素行
が選択され、電流値がプログラムされる時間(通常、1
水平走査期間(1H))があるし、また、走査状態によ
っては誤差も生じる。したがって、以上の説明はあくま
でも説明を容易にするための便宜状の問題だけであり、
これに限定するものではない。
Also, for ease of explanation, 1 / N is 1
It is assumed that 1F is set to 1 / N based on F (1 field or 1 frame). However, when one pixel row is selected and the current value is programmed (typically 1
There is a horizontal scanning period (1H), and an error occurs depending on the scanning state. Therefore, the above explanation is only a matter of convenience for facilitating the explanation,
It is not limited to this.

【0363】有機(無機)EL表示装置は、CRTのよ
うに電子銃で線表示の集合として画像を表示するディス
プレイとは表示方法が基本的に異なる点にも課題があ
る。つまり、EL表示装置では、1F(1フィールドあ
るいは1フレーム)の期間の間は、画素に書き込んだ電
流(電圧)を保持する。そのため、動画表示を行うと表
示画像の輪郭ぼけが発生するという課題が発生する。
Another problem is that the organic (inorganic) EL display device is basically different in display method from a display such as a CRT which displays an image as a set of line displays by an electron gun. That is, the EL display device holds the current (voltage) written in the pixel for a period of 1F (one field or one frame). Therefore, when a moving image is displayed, the problem occurs that the outline of the displayed image is blurred.

【0364】本発明では、1F/Nの期間の間だけ、E
L素子15に電流をながし、他の期間(1F(N−1)
/N)は電流を流さない。この駆動方式を実施し画面の
一点を観測した場合を考える。この表示状態では1Fご
とに画像データ表示、黒表示(非点灯)が繰り返し表示
される。つまり、画像データ表示状態が時間的に飛び飛
び表示(間欠表示)状態となる。動画データ表示を、こ
の間欠表示状態でみると画像の輪郭ぼけがなくなり良好
な表示状態を実現できる。つまり、CRTに近い動画表
示を実現することができる。また、間欠表示を実現する
が、回路のメインクロックは従来と変わらない。したが
って、回路の消費電力が増加することもない。
In the present invention, E only during the period of 1 F / N
A current is passed through the L element 15 for another period (1F (N-1)
/ N) does not pass an electric current. Consider the case where this driving method is implemented and one point on the screen is observed. In this display state, image data display and black display (non-lighting) are repeatedly displayed for each 1F. That is, the image data display state becomes a temporally intermittent display (intermittent display) state. When the moving image data display is viewed in this intermittent display state, the outline of the image is not blurred and a good display state can be realized. That is, it is possible to realize moving image display close to that of a CRT. Although the intermittent display is realized, the main clock of the circuit is the same as the conventional one. Therefore, the power consumption of the circuit does not increase.

【0365】液晶表示パネルの場合は、光変調をする画
像データ(電圧)は液晶層に保持される。したがって、
黒挿入表示を実施しようとすると液晶層に印加している
データを書き換える必要がある。そのため、ソースドラ
イバIC14の動作クロックを高くし、画像データを黒
表示データとを交互にソース信号線18に印加する必要
がある。したがって、黒挿入(黒表示などの間欠表示)
を実現しょうとすると回路のメインクロックをあげる必
要がある。また、時間軸伸張を実施するための画像メモ
リも必要になる。
In the case of a liquid crystal display panel, image data (voltage) for light modulation is held in the liquid crystal layer. Therefore,
In order to perform black insertion display, it is necessary to rewrite the data applied to the liquid crystal layer. Therefore, it is necessary to increase the operation clock of the source driver IC 14 and apply the image data and the black display data to the source signal line 18 alternately. Therefore, black insertion (intermittent display such as black display)
In order to realize, it is necessary to raise the main clock of the circuit. Also, an image memory for performing the time axis expansion is required.

【0366】図1、図43、図44、図53、図54、
図67から図78などに示す本発明のEL表示パネルの
画素構成では、画像データはコンデンサ19に保持され
ている。このコンデンサ19の端子電圧に対応する電流
をEL素子15に流す。したがって、画像データは液晶
表示パネルのように光変調層に保持されているのではな
い。
FIGS. 1, 43, 44, 53, 54,
In the pixel configuration of the EL display panel of the present invention shown in FIGS. 67 to 78 and the like, image data is held in the capacitor 19. A current corresponding to the terminal voltage of the capacitor 19 is passed through the EL element 15. Therefore, the image data is not held in the light modulation layer like the liquid crystal display panel.

【0367】本発明はスイッチングのTFT11d、あ
るいはTFT11eなどをオンオフさせるだけでEL素
子15に流す電流を制御する。つまり、EL素子15に
流れる電流Iwをオフしても、画像データはそのままコ
ンデンサ19の保持されている。したがって、次のタイ
ミングでスイッチング素子11dなどをオンさせ、EL
素子15に電流を流せば、その流れる電流は前に流れて
いた電流値と同一である。本発明では黒挿入(黒表示な
どの間欠表示)を実現しょうとすると際においても回路
のメインクロックをあげる必要がない。また、時間軸伸
張を実施する必要もないための画像メモリも不要であ
る。また、有機EL素子15は電流を印加してから発光
するまでの時間が短く高速応答である。そのため、動画
表示に適し、さらに間欠表示を実施することのより従来
のデータ保持型の表示パネル(液晶表示パネル、ELパ
ネルなど)の問題である動画表示の問題を解決できる。
In the present invention, the current flowing through the EL element 15 is controlled only by turning on / off the switching TFT 11d or TFT 11e. That is, even if the current Iw flowing through the EL element 15 is turned off, the image data is still held in the capacitor 19. Therefore, at the next timing, the switching element 11d etc. is turned on, and the EL
If a current is passed through the element 15, the current that flows is the same as the value of the current that was flowing before. In the present invention, when black insertion (intermittent display such as black display) is to be realized, it is not necessary to raise the main clock of the circuit. Also, an image memory is unnecessary because it is not necessary to perform time-axis expansion. In addition, the organic EL element 15 has a short time from applying a current to emitting light and has a high-speed response. Therefore, it is suitable for displaying moving images, and by implementing intermittent display, it is possible to solve the problem of displaying moving images, which is a problem of conventional data-holding type display panels (liquid crystal display panels, EL panels, etc.).

【0368】たとえば、図33に示すようにゲート信号
線17bは従来導通期間が1F(電流プログラム時間を
0とした時、通常プログラム時間は1Hであり、EL表
示装置の画素行数は少なくとも100行以上であるの
で、1Fとしても誤差は1%以下である)とし、N=1
0とするとすれば、図55によると、最も変化に時間の
かかる階調0から階調1へもソース容量が20pF程度
であれば75μ秒程度で変化できる。これは、2型程度
のEL表示装置であればフレーム周波数が60Hzで駆
動できることを示している。
For example, as shown in FIG. 33, the gate signal line 17b has a conventional conduction period of 1F (normal programming time is 1H when the current programming time is 0), and the number of pixel rows of the EL display device is at least 100 rows. Since the above is the case, the error is 1% or less even with 1F), and N = 1.
If 0 is set, according to FIG. 55, it is possible to change from gradation 0 to gradation 1, which takes the longest time to change, to gradation 1 in about 75 μsec if the source capacitance is about 20 pF. This indicates that an EL display device of about 2 type can be driven at a frame frequency of 60 Hz.

【0369】更に大型の表示装置でソース容量が大きく
なる場合はソース電流を10倍以上にしてやればよい。
一般にソース電流値をN倍にした場合、ゲート信号線1
7b(TFT11d)の導通期間を1F/Nとすればよ
い。これによりテレビ、モニター用の表示装置などにも
適用が可能である。
In the case of a large-sized display device having a large source capacitance, the source current may be increased 10 times or more.
Generally, when the source current value is multiplied by N, the gate signal line 1
The conduction period of 7b (TFT 11d) may be 1 F / N. As a result, it can be applied to display devices for televisions and monitors.

【0370】以下、図面を参照しながら、さらに詳しく
説明をする。まず、図1の寄生容量404は、ソース信
号線間の結合容量、ドライブIC14のバッファ出力容
量、ゲート信号線17とソース信号線18とのクロス容
量などにより発生する。この容量404は通常10pF
以上となる。電圧駆動の場合は、ドライバIV14から
は低インピーダンスで電圧がソース信号線18に印加さ
れるため、寄生容量が多少大きくとも駆動では問題とな
らない。
A more detailed description will be given below with reference to the drawings. First, the parasitic capacitance 404 in FIG. 1 is generated by the coupling capacitance between the source signal lines, the buffer output capacitance of the drive IC 14, the cross capacitance between the gate signal line 17 and the source signal line 18, and the like. This capacitance 404 is usually 10 pF
That is all. In the case of voltage driving, since a voltage is applied to the source signal line 18 from the driver IV14 with low impedance, there is no problem in driving even if the parasitic capacitance is somewhat large.

【0371】しかし、電流駆動では特に黒レベルの画像
表示では5nA以下の微小電流で画素のコンデンサ19
をプログラムする必要がある。したがって、寄生容量4
04が所定値以上の大きさで発生すると、1画素行にプ
ログラムする時間(通常、1H以内、ただし、2画素行
を同時に書き込む場合もあるので1H以内に限定される
ものではない。)内に寄生容量を充放電することができ
ない。1H期間で充放電できなれば、画素への書き込み
不足となり、解像度が全くでない。
However, in the current drive, particularly in the image display of the black level, the pixel capacitor 19 is supplied with a minute current of 5 nA or less.
Need to be programmed. Therefore, the parasitic capacitance 4
When 04 occurs with a magnitude equal to or larger than a predetermined value, it is not limited to within 1H (usually within 1H, but since 2 pixel rows may be written at the same time, it is within 1H). The parasitic capacitance cannot be charged or discharged. If charging / discharging cannot be performed in the 1H period, writing to the pixel becomes insufficient, and the resolution is not at all.

【0372】図1の画素構成の場合、図13(a)に示
すように、電流プログラム時は、プログラム電流I1が
ソース信号線18に流れる。この電流I1がTFT11
aを流れ、I1を流す電流が保持されるように、コンデ
ンサ19のV1が設定(プログラム)される。このと
き、TFT11dはオープン状態(オフ状態)である。
In the case of the pixel configuration of FIG. 1, as shown in FIG. 13A, the program current I1 flows through the source signal line 18 during current programming. This current I1 is the TFT 11
V1 of the capacitor 19 is set (programmed) so that the current flowing through a and flowing through I1 is retained. At this time, the TFT 11d is in the open state (off state).

【0373】次に、EL素子15に電流を流す期間は図
13(b)のようにTFT11が動作する。つまり、ゲ
ート信号線17aにオフ電圧(Vgh)が印加され、T
FT11a,11cがオフする。一方、ゲート信号線1
7bにオン電圧(Vgl)が印加され、TFT11dが
オンする。
Next, the TFT 11 operates as shown in FIG. 13B during the period in which the current flows through the EL element 15. That is, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17a, and T
The FTs 11a and 11c are turned off. On the other hand, the gate signal line 1
An on-voltage (Vgl) is applied to 7b, and the TFT 11d is turned on.

【0374】今、電流I1が本来流す電流(所定値)の
N倍であるとすると、図13(b)のEL素子15に流
れる電流もI1となる。したがって、所定値の10倍の
輝度でEL素子15は発光する。
Now, assuming that the current I1 is N times the current (predetermined value) originally flowing, the current flowing through the EL element 15 in FIG. 13B is also I1. Therefore, the EL element 15 emits light with a brightness 10 times the predetermined value.

【0375】そこで、TFT11dを本来オンする時間
(約1F)の1/Nの期間だけオンさせ、他の期間(N
−1)/N期間はオフさせれば、1F全体の平均輝度は
所定の輝度となる。この表示状態は、CRTが電子銃で
画面を走査しているのと近似する。異なる点は、画像を
表示している範囲が画面全体の1/N(全画面を1とす
る)が点灯している点である(CRTでは、点灯してい
る範囲は1画素行(厳密には1画素である)。
Therefore, the TFT 11d is turned on for a period of 1 / N of the originally on time (about 1F) and the other period (N
If it is turned off during the -1) / N period, the average brightness of the entire 1F becomes a predetermined brightness. This display state is similar to that of a CRT scanning the screen with an electron gun. The difference is that 1 / N of the entire screen (where the entire screen is 1) lights up in the range where the image is displayed (in the CRT, the range where the light is illuminated is 1 pixel row (strictly speaking). Is 1 pixel).

【0376】本発明では、この1/Nの画像表示領域が
図31(a1)に示すように画面21の上から下に移動
する。本発明では、1F/Nの期間の間だけ、EL素子
15に電流が流れ、他の期間(1F・(N−1)/N)
は電流を流れない。したがって、画像は間欠表示とな
る。しかし、人間の目には残像により画像が保持された
状態となるので、全画面が均一に表示されているように
見える。
In the present invention, this 1 / N image display area moves from the top to the bottom of the screen 21 as shown in FIG. 31 (a1). In the present invention, the current flows through the EL element 15 only during the period of 1F / N, and the other period (1F · (N−1) / N)
Does not flow current. Therefore, the image is displayed intermittently. However, since the image is held by the afterimage in human eyes, the entire screen appears to be displayed uniformly.

【0377】この表示状態では1Fごとに画像データ表
示、黒表示(非点灯)が繰り返し表示される。つまり、
画像データ表示状態が時間的に飛び飛び表示(間欠表
示)状態となる。液晶表示パネル(本発明以外のEL表
示パネル)では、1Fの期間、画素にデータが保持され
ているため、動画表示の場合は画像データが変化しても
その変化に追従することができず、動画ボケとなってい
た(画像の輪郭ボケ)。しかし、本発明では画像を間欠
表示するため、画像の輪郭ぼけがなくなり良好な表示状
態を実現できる。つまり、CRTに近い動画表示を実現
することができる。
In this display state, image data display and black display (non-lighting) are repeatedly displayed for each 1F. That is,
The image data display state becomes a temporally intermittent display (intermittent display) state. In the liquid crystal display panel (EL display panel other than the present invention), data is held in the pixel for the period of 1F, and therefore, in the case of moving image display, even if the image data changes, the change cannot be followed, The image was blurred (outlined image). However, in the present invention, since the image is displayed intermittently, the outline of the image is not blurred and a good display state can be realized. That is, it is possible to realize moving image display close to that of a CRT.

【0378】また、EL表示装置では黒表示は完全に非
点灯であるから、液晶表示パネルを間欠表示した場合の
ように、コントラスト低下もない。また、図13に示す
ようにTFT11dをオンオフ操作するだけで、間欠表
示を実現することができる。これは、コンデンサ19に
画像データがメモリ(アナログ値であるから階調数は無
限大)されているためである。つまり、各画素16に、
画像データは1Fの期間中は保持されている。この保持
されている画像データに相当する電流をEL素子15に
流すか否かをTFT11dの制御により実現しているの
である。
Further, in the EL display device, the black display is completely non-lighted, so that the contrast is not lowered unlike the case where the liquid crystal display panel is intermittently displayed. Further, as shown in FIG. 13, the intermittent display can be realized only by turning on / off the TFT 11d. This is because the image data is stored in the capacitor 19 (the number of gradations is infinite because it is an analog value). That is, for each pixel 16,
The image data is held for the period of 1F. Whether or not a current corresponding to the held image data is passed through the EL element 15 is realized by controlling the TFT 11d.

【0379】コンデンサ19の端子電圧を維持すること
は重要である。1フィールド(フレーム)期間でコンデ
ンサ19の端子電圧が変化(充放電)すると、画面輝度
が変化し、フレームレートが低下した時にちらつき(フ
リッカなど)が発生するからである。TFT11aが1
フレーム(1フィールド)期間でEL素子15に流す電
流は、少なくとも65%以下に低下しないようにする必
要がある。この65%とは、画素16に書き込み、EL
素子15に流す電流の最初が100%とした時、次のフ
レーム(フィールド)で前記画素16に書き込む直前の
EL素子15に流す電流が65%以上とすることであ
る。
It is important to maintain the terminal voltage of the capacitor 19. This is because if the terminal voltage of the capacitor 19 changes (charges and discharges) in one field (frame) period, the screen brightness changes and flicker (such as flicker) occurs when the frame rate decreases. TFT 11a is 1
The current flowing through the EL element 15 during the frame (one field) period needs to be kept at least 65% or less. The 65% means that the pixel 16 is written, and EL
This means that, when the current flowing through the element 15 is 100% at the beginning, the current flowing through the EL element 15 immediately before writing to the pixel 16 in the next frame (field) is 65% or more.

【0380】したがって、間欠表示を実現する場合とし
ない場合では、1画素を構成するTFT11の個数に変
化はない。つまり、画素構成はそのままで、ソース信号
線18の寄生容量404の影響と除去し、良好な電流プ
ログラムを実現している。その上、CRTに近い動画表
示を実現しているのである。
Therefore, the number of TFTs 11 constituting one pixel does not change between the case where the intermittent display is realized and the case where it is not realized. That is, with the pixel configuration unchanged, the influence of the parasitic capacitance 404 of the source signal line 18 is eliminated to realize a good current program. In addition, a moving image display similar to a CRT is realized.

【0381】また、ゲートドライバ回路12の動作クロ
ックはソースドライバ回路14の動作クロックに比較し
て十分に遅いため、回路のメインクロックが高くなると
いうことはない。また、Nの値の変更も容易である。
Since the operating clock of the gate driver circuit 12 is sufficiently slow as compared with the operating clock of the source driver circuit 14, the main clock of the circuit does not become high. Moreover, the value of N can be easily changed.

【0382】画像表示方向(画像書き込み方向)は図1
04に図示するように、1フィールド目では画面の上か
ら下方向とし(図104(a))、つぎの第2フィール
ド目では画面の下から上方向(図104(b))として
もよい。つまり、図104(a)と図104(b)とを
交互に繰り返す。
The image display direction (image writing direction) is shown in FIG.
As illustrated in FIG. 04, the first field may be in the downward direction from the screen (FIG. 104 (a)), and the second field may be in the downward direction from the screen to the upward direction (FIG. 104 (b)). That is, FIG. 104 (a) and FIG. 104 (b) are alternately repeated.

【0383】さらに、図105に図示するように、1フ
ィールド目では画面の上から下方向とし(図105
(a))、一旦全画面を黒表示(非表示)312とした
後(図105(b))、つぎの第2フィールド目では画
面の下から上方向(図105(c))としてもよい。ま
た、一旦全画面を黒表示(非表示)312としてもよい
(図105(d))。つまり、図105(a)から図1
05(d)の状態を交互に繰り返す。
Further, as shown in FIG. 105, in the first field, the screen is directed from the top to the bottom (see FIG.
(A)), once the entire screen is black-displayed (non-displayed) 312 (FIG. 105 (b)), then the second field may be changed from the bottom to the top of the screen (FIG. 105 (c)). . Alternatively, the entire screen may be temporarily displayed in black (non-display) 312 (FIG. 105 (d)). That is, from FIG. 105 (a) to FIG.
The state of 05 (d) is alternately repeated.

【0384】なお、図104、図105などにおいて、
画面の書き込み方法を画面の上から下あるいは下から上
としたが、これに限定するものではない。画面の書き込
み方向は絶えず、画面の上から下あるいは下から上と固
定し、非表示領域312の動作方向を1フィールド目で
は画面の上から下方向とし、つぎの第2フィールド目で
は画面の下から上方向としてもよい。以上の事項は他の
本発明の実施例でも同様である。
In FIGS. 104 and 105, etc.
Although the screen writing method is set to be from top to bottom or bottom to top of the screen, it is not limited to this. The writing direction of the screen is constantly fixed from the top to the bottom of the screen or from the bottom to the top, and the operation direction of the non-display area 312 is from the top to the bottom of the screen in the first field and below the screen in the second field. It may be upward from. The above matters also apply to other embodiments of the present invention.

【0385】図31(a)は画像表示領域311を1/
Nとし、非表示領域(非点灯領域、黒表示領域)312
を(N−1)/Nとしている(ただし、これは理想状態
の場合である。現実にはコンデンサ19、TFT11a
のソース−ゲート(SG)容量による突き抜けがあるの
で異なる)。つまり、画像表示領域311を1つにした
場合である。画像表示領域311は矢印に示すように、
画面の上から下方向に移動する(図31(a1)→図3
1(a2)→図31(a3)→図31(a1)→)。た
だし、この画像表示領域311の移動は画面の上から下
方向に移動することに限定するものではなく、画面の下
から上方向に移動するとしてもよい。また、1フレーム
目(1フィールド目)は画面の上から下方向に移動さ
せ、次の2フレーム目(2フィールド目)は画面の下か
ら上方向に移動するように走査(操作)してもよいこと
はいうまでもない。また、画面の右から左、あるいは画
面の左から右に走査(操作)してもよい。
In FIG. 31 (a), the image display area 311 is
N, non-display area (non-lighting area, black display area) 312
Is set to (N-1) / N (however, this is the case of an ideal state. In reality, the capacitor 19 and the TFT 11a are
(There is a penetration due to the source-gate (SG) capacitance of the above, which is different). That is, this is the case where the number of image display areas 311 is one. The image display area 311 is, as indicated by the arrow,
Move from the top to the bottom of the screen (Fig. 31 (a1) → Fig. 3
1 (a2) → FIG. 31 (a3) → FIG. 31 (a1) →). However, the movement of the image display area 311 is not limited to the movement from the top to the bottom of the screen, and the movement from the bottom to the top of the screen may be performed. Also, even if the first frame (first field) is moved (moved) downwards from the top of the screen, the next second frame (second field) is moved upwards from the bottom of the screen. It goes without saying that it is good. Further, scanning (operation) may be performed from right to left of the screen or from left to right of the screen.

【0386】図33は動作タイミング波形である。先に
も記載したように、1Fの期間で1画面が表示されると
し、1Hの期間で電流プログラムされるとしている。図
33(a)は図1(a)(b)において、ゲート信号線
17aのタイミング波形を示す。また、図33(b)
は、ゲート信号線17bのタイミング波形を示す。基本
的にはゲート信号線17bがVglとなった時にTFT
11dが導通し(期間は1F/N)、EL素子15にピ
ーク電流が所定値I1のN倍の電流が流れ、EL素子は
所定輝度BのN倍の輝度(N・B)で発光する。1F/
(N−1)/Nの期間はTFT11dがオフ状態とな
る。
FIG. 33 shows operation timing waveforms. As described above, it is assumed that one screen is displayed in the period of 1F and current programming is performed in the period of 1H. FIG. 33A shows a timing waveform of the gate signal line 17a in FIGS. 1A and 1B. Also, FIG. 33 (b)
Shows a timing waveform of the gate signal line 17b. Basically, when the gate signal line 17b becomes Vgl, the TFT
11d becomes conductive (1F / N for a period), a current whose peak current is N times the predetermined value I1 flows in the EL element 15, and the EL element emits light at a brightness (N · B) N times the predetermined brightness B. 1F /
The TFT 11d is turned off during the period of (N-1) / N.

【0387】このゲート信号線の制御は図2のようにゲ
ートドライバ12内の2つのシフトレジスタ(22a,
22b)を制御することにより容易に実現できる。シフ
トレジスタ22aはゲート信号線17aの制御データを
保持(走査)し、シフトレジスタ22bはゲート信号線
17bの制御データを保持(走査)すればよいからであ
る。
Control of this gate signal line is performed by controlling two shift registers (22a, 22a) in the gate driver 12 as shown in FIG.
22b) can be easily realized. This is because the shift register 22a may hold (scan) the control data of the gate signal line 17a, and the shift register 22b may hold (scan) the control data of the gate signal line 17b.

【0388】図56はゲート信号線17bの波形を示
す。図56(a)を第1画素行目のゲート信号線17b
の電圧波形とすると、図56(b)を第1画素行目に隣
接した第2画素行目のゲート信号線17bの電圧波形を
示す。同様に、図56(c)は次の第3画素行目のゲー
ト信号線17bの電圧波形、図56(d)は第4画素行
目のゲート信号線17bの電圧波形を示す。
FIG. 56 shows the waveform of the gate signal line 17b. FIG. 56A shows the gate signal line 17b of the first pixel row.
56B shows the voltage waveform of the gate signal line 17b of the second pixel row adjacent to the first pixel row. Similarly, FIG. 56C shows the voltage waveform of the gate signal line 17b in the next third pixel row, and FIG. 56D shows the voltage waveform of the gate signal line 17b in the fourth pixel row.

【0389】以上のように、各画素行で、ゲート信号線
17bの波形を同一にし、1Hの間隔でシフトさせて印
加していく。このように走査することにより、EL素子
15が点灯している時間を1F/Nに規定しながら、順
次、点灯する画素行をシフトさせることができる。この
ように、各画素行で、ゲート信号線17bの波形を同一
にし、シフトさせていることを実現することは容易であ
る。図2のシフトレジスタ22a,22bに印加するデ
ータであるST1,ST2を制御すればよいからであ
る。たとえば、入力ST2がLレベルの時、ゲート信号
線17bにVglが出力され、入力ST2がHレベルの
時、ゲート信号線17bにVghが出力されるとすれ
ば、シフトレジスタ17bに印加するST2を1F/N
の期間だけLレベルで入力し、他の期間はHレベルにす
る。この入力されたST2を1Hに同期したクロックC
LK2でシフトしていくだけである。
As described above, the waveforms of the gate signal lines 17b are made the same in each pixel row, and they are applied while being shifted at intervals of 1H. By scanning in this manner, it is possible to sequentially shift the pixel rows to be lit, while defining the lighting time of the EL element 15 to 1 F / N. In this way, it is easy to realize that the gate signal lines 17b have the same waveform and are shifted in each pixel row. This is because it is sufficient to control ST1 and ST2 which are the data applied to the shift registers 22a and 22b in FIG. For example, if Vgl is output to the gate signal line 17b when the input ST2 is at the L level and Vgh is output to the gate signal line 17b when the input ST2 is at the H level, then ST2 applied to the shift register 17b is 1F / N
Input at the L level only for the period of, and set to the H level for the other periods. A clock C that synchronizes this input ST2 with 1H.
It just shifts in LK2.

【0390】同様に図33(a)に示すゲート信号線1
7aの波形の作成も容易である。図2のシフトレジスタ
22aの入力データであるST1を制御すればよいから
である。たとえば、入力ST1がLレベルの時、ゲート
信号線17aにVglが出力され、入力ST1がHレベ
ルの時、ゲート信号線17aにVghが出力されるとす
れば、シフトレジスタ17aに印加するST1を1Hの
期間だけLレベルで入力し、他の期間はHレベルにす
る。この入力されたST1を1Hに同期したクロックC
LK1でシフトしていくだけである。
Similarly, the gate signal line 1 shown in FIG.
It is easy to create the waveform of 7a. This is because ST1 which is the input data of the shift register 22a in FIG. 2 may be controlled. For example, if Vgl is output to the gate signal line 17a when the input ST1 is at the L level and Vgh is output to the gate signal line 17a when the input ST1 is at the H level, then ST1 applied to the shift register 17a is Input at the L level only for the period of 1H, and set to the H level for the other periods. A clock C that synchronizes this input ST1 with 1H.
It just shifts in LK1.

【0391】図31(b)は画像表示領域311を1/
(2N)とし、2つの画像表示領域311a、311b
を矢印に示すように、画面の上から下方向に移動した例
である(図31(b1)→図31(b2)→図31(b
3)→図31(b1)→)。ただし、この画像表示領域
311a,311bの移動は画面の画面の上から下方向
に移動することに限定するものではなく、画面の下から
上方向に移動するとしてもよい。また、1フレーム目
(1フィールド目)は画面の上から下方向に移動させ、
次の2フレーム目(2フィールド目)は画面の下から上
方向に移動するように走査(操作)してもよいことはい
うまでもない。また、画面の右から左、あるいは画面の
左から右に走査(操作)してもよい。また、この画像表
示領域311aを画面の上から下方向に移動させ、画像
表示領域311bは画面の下から上方向に移動させても
よい。
In FIG. 31B, the image display area 311 is
(2N), and two image display areas 311a and 311b
Is an example of moving from the top to the bottom of the screen as shown by the arrow (FIG. 31 (b1) → FIG. 31 (b2) → FIG. 31 (b).
3) → FIG. 31 (b1) →). However, the movement of the image display areas 311a and 311b is not limited to moving from the top of the screen to the bottom of the screen, and may be moved from the bottom of the screen to the top. In addition, the first frame (first field) is moved from the top of the screen downwards,
It goes without saying that the next second frame (second field) may be scanned (operated) so as to move upward from the bottom of the screen. Further, scanning (operation) may be performed from right to left of the screen or from left to right of the screen. Further, the image display area 311a may be moved downward from the top of the screen, and the image display area 311b may be moved upward from the bottom of the screen.

【0392】さらに、図31(c)は画像表示領域31
1を1/(3N)とし、3つの画像表示領域311a、
311bを矢印に示すように、画面の上から下方向に移
動した例である(図31(c1)→図31(c2)→図
31(c3)→図31(c1)→)。
Further, FIG. 31C shows the image display area 31.
1 is set to 1 / (3N), and three image display areas 311a,
This is an example in which 311b is moved downward from the top of the screen as shown by the arrow (FIG. 31 (c1) → FIG. 31 (c2) → FIG. 31 (c3) → FIG. 31 (c1) →).

【0393】図31(b)(c)に示すように、画像表
示領域311を複数に分割すればするほど、画像表示全
体のフレームレート(1秒間に画面を書く回数、たとえ
ば、フレームレート60とは、1秒間に60回画面を書
き換える)を低下させることができる。フレームレート
を低下させれば、その分、回路の動作クロックを低下さ
せることができるから消費電力を小さくできる。
As shown in FIGS. 31 (b) and 31 (c), the more the image display area 311 is divided, the more the frame rate of the entire image display (the number of times the screen is written per second, for example, the frame rate 60). Rewrites the screen 60 times per second). If the frame rate is reduced, the operating clock of the circuit can be reduced accordingly, and the power consumption can be reduced.

【0394】つまり、EL素子15の発光期間が短くな
り、かつ見かけ上の瞬時輝度が高くなり、その上、画像
表示領域311と非点灯領域312とが高速にくりかえ
されるため、フリッカが低減する。したがって、フレー
ムレートを低減することができる。
That is, the light emitting period of the EL element 15 is shortened, the apparent instantaneous brightness is increased, and the image display area 311 and the non-lighted area 312 are repeated at high speed, so that flicker is reduced. Therefore, the frame rate can be reduced.

【0395】以上のように1フレーム(1フィールド)
内に点灯する回数を増やし、フリッカを低減させること
ができる。点灯回数を増やすことでEL素子の点灯にお
いては周波数成分が高くなることから人間の目に観測さ
れにくくなる。例えば1回あたりの点灯期間を7分の1
にして1フレームに7回点灯させると、フレーム周波数
が30Hzにおいてもフリッカのない表示が実現でき
た。
[0395] As described above, one frame (one field)
Flicker can be reduced by increasing the number of times of lighting. When the number of times of lighting is increased, the frequency component becomes high when the EL element is turned on, which makes it difficult for human eyes to observe. For example, one lighting period is 1/7
When the light was turned on seven times in one frame, a display without flicker could be realized even at a frame frequency of 30 Hz.

【0396】TFT11dのオンオフを制御することに
より、画像の輝度を調整(可変)することができる。た
とえば、図31(a)の場合(画像表示領域311が1
つの場合)は、非点灯領域312の面積を変化させるこ
とにより、画面21の明るさが変化する(図32(a
1)より図32(a2)が暗く、図32(a2)より図
32(a3)が暗い)。
The brightness of the image can be adjusted (varied) by controlling the on / off of the TFT 11d. For example, in the case of FIG. 31A (the image display area 311 is 1
In the two cases, the brightness of the screen 21 changes by changing the area of the non-lighted area 312 (see FIG.
32 (a2) is darker than 1), and FIG. 32 (a3) is darker than FIG. 32 (a2).

【0397】同様に、図31(b)の場合(画像表示領
域311が2つの場合)は、図32(b1)より図32
(b2)が暗く、図32(b2)より図32(b3)の
方が画面21の表示輝度が暗くなる。また、図31
(c)の場合(画像表示領域311が3つの場合つま
り、3以上)も同様である(図32(c1)より図32
(c2)が暗く、図32(c2)より図32(c3)の
方が暗くなる。)。
Similarly, in the case of FIG. 31 (b) (when there are two image display areas 311), FIG.
(B2) is dark, and the display brightness of the screen 21 is darker in FIG. 32 (b3) than in FIG. 32 (b2). In addition, FIG.
The same applies to the case of (c) (when there are three image display areas 311; that is, three or more) (from FIG. 32 (c1) to FIG. 32).
32 (c2) is dark, and FIG. 32 (c3) is darker than FIG. 32 (c2). ).

【0398】なお、図31では画像表示領域311は画
面21上を走査するとしたが、これに限定するものでは
なく、図32(c1)(c2)に図示するように、1フ
レーム(1フィールド)目は全画面を非点灯状態312
とし、次の2フレーム(2フィールド)目は全画面を画
像表示状態311としてもよい。つまり、全画面を画像
表示状態と非点灯状態とを交互に繰り返す。ただし、画
像表示時間と、非点灯時間とを等時間に限定するもので
はない。たとえば、画像表示時間を1F/4とし、非点
灯時間を3F/4としてもよい。このように画像表示時
間と、非点灯時間との割合を変化させることによっても
画像の表示輝度を変化(調整)することができる。
Although it is assumed that the image display area 311 scans the screen 21 in FIG. 31, the present invention is not limited to this, and one frame (one field) as shown in FIGS. 32 (c1) and (c2). The eyes are in a non-illuminated state on the full screen 312
In the next second frame (2nd field), the entire screen may be in the image display state 311. That is, the entire screen is alternately switched between the image display state and the non-lighting state. However, the image display time and the non-lighting time are not limited to the equal time. For example, the image display time may be 1F / 4 and the non-lighting time may be 3F / 4. In this way, the display brightness of the image can be changed (adjusted) by changing the ratio between the image display time and the non-lighting time.

【0399】いずれにせよ、図34に示すように、Nの
値を変化させることにより、画像の表示輝度Bはリニア
に変化させることができる。また、Nの値を制御するだ
けで容易に画像の明るさを可変できる。
In any case, as shown in FIG. 34, the display brightness B of the image can be linearly changed by changing the value of N. Further, the brightness of the image can be easily changed only by controlling the value of N.

【0400】図35は、本発明の表示輝度を調整(制
御)する回路のブロック図である。フレームメモリ(フ
ィールドメモリ)354には、外部から入力された映像
データが蓄積される。CPU353は蓄積された映像デ
ータを用いて演算をする。演算は、映像データの最大輝
度、最適輝度、平均輝度、輝度分布のうち少なくとも1
つ以上を用いる。また、連続する映像データの各フレー
ムの最大輝度、最適輝度、平均輝度、輝度分布およびそ
の変化割合も考慮する。
FIG. 35 is a block diagram of a circuit for adjusting (controlling) the display brightness according to the present invention. The frame memory (field memory) 354 stores video data input from the outside. The CPU 353 calculates using the accumulated video data. The calculation is at least one of the maximum brightness, the optimum brightness, the average brightness, and the brightness distribution of the video data.
Use one or more. In addition, the maximum brightness, the optimum brightness, the average brightness, the brightness distribution and the rate of change thereof of each frame of continuous video data are also considered.

【0401】演算した結果は輝度メモリ352にストア
される。輝度メモリ352は画像の明るさを補正したデ
ータである。たとえば、海岸などの明るい画面では画像
の平均輝度を明るく補正し、その画像データ内で比較的
暗い部分があるときは、実際値よりも暗い画像データに
変換する。また、夜の画面などでは、画像が全体的に暗
いため、比較的明るい部分をより明るく補正する。
The calculated result is stored in the luminance memory 352. The brightness memory 352 is data in which the brightness of the image is corrected. For example, on a bright screen such as a beach, the average brightness of the image is corrected to be bright, and if there is a relatively dark portion in the image data, it is converted to image data that is darker than the actual value. Further, on a screen at night, etc., since the image is entirely dark, a relatively bright part is corrected to be brighter.

【0402】カウンタ回路351は図34のN値をいく
らにするかをカウントする回路である。ゲート信号線1
7bの波形においてN値をリアルタイムで変化させる。
N値は時間であるから、カウンタでカウントすることに
より容易に変化させることができ、画像の明るさを変更
できる。
The counter circuit 351 is a circuit for counting the N value in FIG. Gate signal line 1
In the waveform of 7b, the N value is changed in real time.
Since the N value is time, it can be easily changed by counting with the counter, and the brightness of the image can be changed.

【0403】切り替え回路355は画素16のTFT1
1をオンさせる電圧Vglとオフさせる電圧Vgh(画
素TFT11がPチャンネルの場合、Nチャンネルでは
その逆である)を切り替える回路である。つまり、カウ
ンタ回路351の出力に基づき、図33(b)に示す1
F/Nの期間を変化させる。したがって、画像21の明
るさをリアルタイムで容易に可変することができる。
The switching circuit 355 is the TFT 1 of the pixel 16.
It is a circuit for switching a voltage Vgl for turning on 1 and a voltage Vgh for turning off (in the case where the pixel TFT 11 is a P channel, the reverse is true for the N channel). That is, based on the output of the counter circuit 351, 1 shown in FIG.
Change the F / N period. Therefore, the brightness of the image 21 can be easily changed in real time.

【0404】映像信号データに応じて表示輝度をリアル
タイムに制御する。このように制御することにより明る
さ表現のダイナミックレンジを実質上3倍以上に拡大す
ることができる。また、EL表示装置はELに電流を流
さない時は完全に黒表示(非点灯)となるから、画像表
示の黒浮きも発生しない。つまり、コントラストも高く
なる。特に電流プログラムの場合は、黒表示には、画素
にプログラムする電流値が10nAと小さい。そのた
め、寄生容量404を十分充放電できず、完全な黒表示
を実現することが難しい。また、ゲート信号線17に印
加されたパルスによりソース信号線18に電力が供給さ
れ(突き抜け電圧)、黒浮きが発生する。
The display brightness is controlled in real time according to the video signal data. By controlling in this way, the dynamic range of brightness expression can be substantially expanded to three times or more. In addition, since the EL display device is completely in black display (non-lighting) when no current is applied to the EL, black floating in image display does not occur. That is, the contrast is also high. Especially in the case of current programming, the current value programmed in the pixel is as small as 10 nA for black display. Therefore, the parasitic capacitance 404 cannot be sufficiently charged and discharged, and it is difficult to realize perfect black display. Further, the pulse applied to the gate signal line 17 supplies electric power to the source signal line 18 (piercing voltage), and black floating occurs.

【0405】本発明は強制的にTFT11dをオフに
し、EL素子15に電流を供給することを停止する。し
たがって、EL素子15は完全に非点灯状態となる。そ
のため、良好なコントラストを実現できる。また、ソー
ス信号線18に印加するデータの出力タイミングと、ゲ
ート信号線17a、17bのタイミングを調整する必要
がある。特に、画素行を選択するゲート信号線17aの
Vgl(図1のTFT11b、11cをオンさせる電
圧)の出力は、1Hよりも短くなるようにすることが好
ましい。このことは図252などでも説明する。
In the present invention, the TFT 11d is forcibly turned off, and the supply of current to the EL element 15 is stopped. Therefore, the EL element 15 is completely turned off. Therefore, good contrast can be realized. Further, it is necessary to adjust the output timing of the data applied to the source signal line 18 and the timing of the gate signal lines 17a and 17b. In particular, the output of Vgl (voltage for turning on the TFTs 11b and 11c in FIG. 1) of the gate signal line 17a that selects a pixel row is preferably set to be shorter than 1H. This will be described with reference to FIG.

【0406】なお、図35において、映像信号の映像デ
ータに基づき、リアルタイムで画像の明るさを変化させ
るとしたが、これに限定するものではない。たとえば、
ユーザーが明るさ調整スイッチを押すことにより、ある
いは明るさ調整ボリウムを回す。この変化を検出してカ
ウンタ回路351のカウンタ値を可変して、表示画像2
1の輝度(あるいはコントラスト、もしくはダイナミッ
クレンジ)を変化させてもよい。また、外光などの明る
さをホトセンサで検出し、この検出したデータに基づ
き、表示画像21の明るさなどを自動的に変化させても
よい。また、表示する画像の内容、データにより手動
で、あるいは自動的に変化させるように構成してもよ
い。
Although the brightness of the image is changed in real time based on the video data of the video signal in FIG. 35, the invention is not limited to this. For example,
The user presses the brightness adjustment switch or turns the brightness adjustment volume. This change is detected, the counter value of the counter circuit 351 is changed, and the display image 2
The brightness of 1 (or contrast or dynamic range) may be changed. Alternatively, the brightness of external light or the like may be detected by a photo sensor, and the brightness of the display image 21 may be automatically changed based on the detected data. Further, it may be configured to change manually or automatically depending on the content and data of the image to be displayed.

【0407】明るさ調整は、EL素子15側のTFT
(図1ではTFT11d)をオンオフさせることにより
実現できる。この場合は、ソースドライブIC14から
出力するプログラム電流(電圧:電圧プログラム方式の
場合)は固定値である(プログラム電流は変化させな
い)。したがって、ソースドライバICの回路構成を簡
略化できる。つまり、表示画面の明るさに対応して出力
電流(電圧)などを変化させる必要がない。たとえば、
従来の液晶表示パネルでは64階調表示のときは、最大
明るさの64階調目を使用する。これより、明るさ調整
で輝度を下げる時は、32階調目までなどを使用する。
このように回路を構成すると、画面輝度が暗いときには
階調表示数が少なくなる。
[0407] The brightness is adjusted by the TFT on the EL element 15 side.
This can be realized by turning on and off (TFT 11d in FIG. 1). In this case, the program current (voltage: in the case of the voltage programming method) output from the source drive IC 14 is a fixed value (the program current is not changed). Therefore, the circuit configuration of the source driver IC can be simplified. That is, it is not necessary to change the output current (voltage) or the like in accordance with the brightness of the display screen. For example,
In the conventional liquid crystal display panel, when displaying 64 gradations, the 64th gradation having the maximum brightness is used. From this, when lowering the brightness by adjusting the brightness, up to the 32nd gradation is used.
If the circuit is configured in this way, the number of gradations displayed decreases when the screen brightness is dark.

【0408】しかし、EL素子15側のTFT11をオ
ンオフさせる(EL素子15に流れる電流を間欠表示さ
せる)方式では、オフ期間の調整により明るさを自由に
調整できる。その際、本発明による明るさ調整は、ガン
マ調整、リニアリティは明るさを変化させても保持でき
る。電源電圧Vddも固定値であるから構成上も有利で
ある。
However, in the method of turning on / off the TFT 11 on the EL element 15 side (intermittingly displaying the current flowing through the EL element 15), the brightness can be freely adjusted by adjusting the off period. In that case, the brightness adjustment according to the present invention can be held by gamma adjustment, and the linearity can be held even if the brightness is changed. The power supply voltage Vdd also has a fixed value, which is advantageous in terms of configuration.

【0409】また、TFT11dを画面の上から下方向
に、ガウス分布となるようにオンオフ状態を制御するこ
とにより容易に画面の輝度をガウス分布させることがで
きる。制御もほとんど演算が不要である。この方法につ
いては後ほど説明をする。
By controlling the on / off state of the TFT 11d from the top to the bottom of the screen so that it has a Gaussian distribution, the brightness of the screen can be easily Gaussian distributed. Almost no control is required for control. This method will be described later.

【0410】なお、EL素子15をオンオフする周期は
0.5msec以上にする必要がある。この周期が短い
と、人間の目の残像特性により完全な黒表示状態となら
ず、画像がぼやけたようになり、あたかも解像度が低下
したようになる。また、データ保持型の表示パネルの表
示状態となる。しかし、オンオフ周期を100msec
以上になると、点滅状態に見える。したがって、EL素
子のオンオフ周期は0.5μsec以上100msec
以下にすべきである。さらに好ましくは、オンオフ周期
を2msec以上30msec以下にすべきである。さ
らに好ましくは、オンオフ周期を3msec以上20m
sec以下にすべきである。
The period for turning on / off the EL element 15 must be 0.5 msec or more. When this cycle is short, the image is not completely displayed in black due to the afterimage characteristic of human eyes, and the image becomes blurry and the resolution is lowered. Further, the display state of the data holding type display panel is set. However, the on / off cycle is 100 msec.
When it is above, it looks like blinking. Therefore, the ON / OFF cycle of the EL element is 0.5 μsec or more and 100 msec.
Should be: More preferably, the on / off period should be 2 msec or more and 30 msec or less. More preferably, the on / off cycle is 3 msec or more and 20 m
It should be less than sec.

【0411】黒画面1312の分割数は、1つにすると
良好な動画表示を実現できるが、画面のちらつきが見え
やすくなる。したがって、黒挿入部を複数に分割するこ
とが好ましい。しかし、分割数をあまりに多くすると動
画ボケが発生する。分割数は1以上8以下とすべきであ
る。さらに好ましくは1以上5以下とすることが好まし
い。
If the number of divisions of the black screen 1312 is set to one, a good moving image display can be realized, but flicker on the screen is easily visible. Therefore, it is preferable to divide the black insertion part into a plurality of parts. However, if the number of divisions is too large, moving image blur occurs. The number of divisions should be 1 or more and 8 or less. More preferably, it is 1 or more and 5 or less.

【0412】なお、黒画面の分割数は静止画と動画で変
更できるように構成することが好ましい。分割数とは、
N=4では、75%が黒画面であり、25%が画像表示
である。このとき、75%の黒表示部を75%の黒帯状
態で画面の上下方向に走査するのが分割数1である。2
5%の黒画面と25/3%の表示画面の3ブロックで走
査するのが分割数3である。静止画は分割数を多くす
る。動画は分割数を少なくする。切り替えは入力画像に
応じて自動的(動画検出など)に行っても良く、ユーザ
ーが手動で行ってもよい。また、表示装置の映像などに
入力コンセントに対応して切り替ええするように構成す
ればよい。
It is preferable that the number of divisions of the black screen can be changed between the still image and the moving image. What is the number of divisions?
When N = 4, 75% is a black screen and 25% is an image display. At this time, the number of divisions 1 is to scan 75% of the black display portion in the vertical direction of the screen with the black band state of 75%. Two
The number of divisions is 3 when scanning is performed with 3 blocks of a 5% black screen and a 25/3% display screen. For still images, increase the number of divisions. For movies, reduce the number of divisions. The switching may be performed automatically (moving image detection or the like) according to the input image, or may be performed manually by the user. Further, it may be configured such that the image of the display device or the like can be switched according to the input outlet.

【0413】たとえば、携帯電話などにおいて、壁紙表
示、入力画面では、分割数を10以上とする(極端には
1Hごとにオンオフしてもよい)。NTSCの動画を表
示するときは、分割数を1以上5以下とする。なお、分
割数は3以上の多段階に切り替えできるように構成する
ことが好ましい。たとえば、分割数なし、2、4、8な
どである。
For example, on a mobile phone or the like, the number of divisions is set to 10 or more on the wallpaper display and input screen (extremely, it may be turned on and off every 1H). When displaying an NTSC video, the number of divisions should be 1 or more and 5 or less. It is preferable that the number of divisions can be switched in multiple stages of 3 or more. For example, there are no division numbers, such as 2, 4, 8 and the like.

【0414】また、全表示画面に対する黒画面の割合
は、全画面の面積を1とした時、0.2以上0.9以下
(Nで表示すれば1.2以上9以下)とすることが好ま
しい。また、特に0.25以上0.6以下(Nで表示す
れば1.25以上6以下)とすることが好ましい。0.
20以下であると動画表示での改善効果が低い。0.9
以上であると、表示部分の輝度が高くなり、表示部分が
上下に移動することが視覚的に認識されやすくなる。
Further, the ratio of the black screen to the entire display screen is 0.2 or more and 0.9 or less (1.2 or more and 9 or less when displayed by N) when the area of the entire screen is 1. preferable. In addition, it is particularly preferably 0.25 or more and 0.6 or less (when displayed by N, 1.25 or more and 6 or less). 0.
If it is 20 or less, the effect of improving the moving image display is low. 0.9
If it is above, the brightness of a display part will become high and it will become easy to be visually recognized that a display part moves up and down.

【0415】また、1秒あたりのフレーム数は、10以
上100以下(10Hz以上100Hz以下)が好まし
い。さらには12以上65以下(12Hz以上65Hz
以下)が好ましい。フレーム数が少ないと、画面のちら
つきが目立つようになり、あまりにもフレーム数が多い
と、ドライバ回路14などからの書き込みが苦しくなり
解像度が劣化する。
The number of frames per second is preferably 10 or more and 100 or less (10 Hz or more and 100 Hz or less). Furthermore, 12 or more and 65 or less (12 Hz or more and 65 Hz
The following) are preferable. If the number of frames is small, flicker on the screen becomes noticeable, and if the number of frames is too large, writing from the driver circuit 14 or the like becomes difficult and the resolution deteriorates.

【0416】いずれにせよ、本発明では、ゲート信号線
17の制御により画像の明るさを変化させることができ
る。ただし、画像の明るさはソース信号線18に印加す
る電流(電圧)を変化させて行ってもよいことは言うま
でもない。また、先に説明した(図33、図35などを
用いて)ゲート信号線17の制御と、ソース信号線18
に印加する電流(電圧)を変化させることを組み合わせ
て行ってもよいことは言うまでもない。
In any case, according to the present invention, the brightness of the image can be changed by controlling the gate signal line 17. However, it goes without saying that the brightness of the image may be changed by changing the current (voltage) applied to the source signal line 18. In addition, the control of the gate signal line 17 and the source signal line 18 described above (using FIG. 33, FIG. 35, etc.)
It goes without saying that changing the current (voltage) to be applied may be performed in combination.

【0417】なお、以上の事項は、図54、図67、図
103などの電圧プログラムの画素構成でも適用できる
ことは言うまでもない。たとえば、図67ではTFT1
1eをオンオフ制御すればよい。
It goes without saying that the above items can be applied to the pixel configuration of the voltage program shown in FIGS. 54, 67, 103, and the like. For example, in FIG. 67, TFT1
It is sufficient to control ON / OFF of 1e.

【0418】ゲート信号線17bの1F/Nの期間だ
け、Vglにする時刻は図36に図示するように、1F
(1Fに限定するものではない。単位期間でよい。)の
期間のうち、どの時刻でもよい。単位時間にうち、所定
の期間だけEL素子15をオンさせることにより、所定
の平均輝度を得るものだからである。ただし、図36
(a)のプログラム期間(1H)後、すぐにゲート信号
線17bをVglにしてEL素子15を発光させる方が
よい。図1のコンデンサ19の保持率特性の影響を受け
にくくなるからである。また、1F/Nの期間は図36
(b)において、A,Bの記号と矢印で示すように、位
置を変化させるように構成してもよい。この変化も容易
に実現できる。図2においてSTに印加するデータのタ
イミング(1FのいつにLレベルにするか)を調整ある
いは可変できるように構成しておけばよいからである。
As shown in FIG. 36, the time for setting Vgl is 1F only for the period of 1F / N of the gate signal line 17b.
(It is not limited to 1F. It may be a unit period.) Any time may be used. This is because a predetermined average luminance is obtained by turning on the EL element 15 for a predetermined period in a unit time. However, in FIG.
It is better to immediately set the gate signal line 17b to Vgl to cause the EL element 15 to emit light after the program period (1H) in (a). This is because the capacitor 19 in FIG. 1 is less likely to be affected by the holding ratio characteristic. The period of 1F / N is shown in FIG.
In (b), the positions may be changed as indicated by the symbols A and B and the arrow. This change can be easily realized. This is because the timing of data to be applied to ST in FIG. 2 (when the L level is set at 1F) can be adjusted or varied.

【0419】また、図37に図示するように、ゲート信
号線17bをVglにする期間(1F/N)を複数に分
割(分割数K)してもよい。つまり、Vglにする期間
は1F/(K/N)の期間をK回実施する。このように
制御すれば、画像表示状態は図31(b)(K=2)、
図31(c)(K=3)をなる。このように点灯させる
画像部(画像表示部311)を複数に分割することによ
りフリッカの発生を抑制でき、低フレームレートの画像
表示を実現できる。また、この画像の分割数も可変でき
るように構成することが好ましい。たとえば、ユーザー
が明るさ調整スイッチを押すことにより、あるいは明る
さ調整ボリウムを回すことにより、この変化を検出して
Kの値を変更する。表示する画像の内容、データにより
手動で、あるいは自動的に変化させるように構成しても
よい。
Further, as shown in FIG. 37, the period (1 F / N) in which the gate signal line 17b is set to Vgl may be divided into a plurality of portions (the number of divisions K). In other words, the period of 1 V / (K / N) is performed K times for the period of Vgl. With such control, the image display state is as shown in FIG. 31 (b) (K = 2),
FIG. 31C (K = 3) is obtained. By thus dividing the image part (image display part 311) to be turned on into a plurality of parts, it is possible to suppress the occurrence of flicker and realize image display at a low frame rate. Further, it is preferable that the number of divisions of this image be variable. For example, when the user presses the brightness adjustment switch or turns the brightness adjustment volume, this change is detected and the value of K is changed. It may be configured to change manually or automatically depending on the content and data of the image to be displayed.

【0420】このようにKの値(画像表示部311の分
割数)を変化させることも容易に実現できる。図2にお
いてSTに印加するデータのタイミング(1Fのいつに
Lレベルにするか)を調整あるいは可変できるように構
成しておけばよいからである。
Thus, the value of K (the number of divisions of the image display unit 311) can be easily changed. This is because the timing of data to be applied to ST in FIG. 2 (when the L level is set at 1F) can be adjusted or varied.

【0421】なお、図37では、ゲート信号線17bを
Vglにする期間(1F/N)を複数に分割(分割数
K)し、Vglにする期間は1F/(K/N)の期間を
K回実施するとしたがこれ限定するものではない。1F
/(K/N)の期間をL(L≠K)回実施してもよい。
つまり、本発明は、EL素子15に流す期間(時間)を
制御することにより画像21を表示するものである。し
たがって、1F/(K/N)の期間をL(L≠K)回実
施することは本発明の技術的思想に含まれる。また、L
の値を変化させることにより、画像21の輝度をデジタ
ル的に変更することができる。たとえば、L=2とL=
3では50%の輝度(コントラスト)変化をなる。これ
らの制御も図2、図35、図60、図74などの回路構
成で容易に実現できる。
In FIG. 37, the period (1F / N) in which the gate signal line 17b is set to Vgl is divided into a plurality (division number K), and the period of 1F / (K / N) is set to K in the period of Vgl. It is said that it is carried out once, but it is not limited to this. 1F
The period of / (K / N) may be performed L (L ≠ K) times.
That is, the present invention displays the image 21 by controlling the period (time) of flowing into the EL element 15. Therefore, performing the period of 1F / (K / N) L (L ≠ K) times is included in the technical idea of the present invention. Also, L
The brightness of the image 21 can be digitally changed by changing the value of. For example, L = 2 and L =
In No. 3, there is a 50% change in brightness (contrast). These controls can also be easily realized with the circuit configurations shown in FIG. 2, FIG. 35, FIG. 60, FIG.

【0422】また、画像の表示領域311を分割する
時、ゲート信号線17bをVglにする期間は同一期間
に限定するものではない。たとえば、図38に示すよう
にVglにする期間がt1とt2のように複数の期間と
してもよい。
When dividing the image display area 311, the period during which the gate signal line 17b is set to Vgl is not limited to the same period. For example, as shown in FIG. 38, the period for which Vgl is set may be a plurality of periods such as t1 and t2.

【0423】以上の実施例は、EL素子15に流れる電
流を遮断し、また、EL素子に流れる電流を接続するこ
とにより、表示画面21をオンオフ(点灯、非点灯)す
るものであった。つまり、コンデンサ19に保持された
電荷によりTFT11aに複数回、略同一電流を流すも
のである。本発明はこれに限定するものではない。たと
えば、コンデンサ19に保持された電荷を充放電させる
ことにより、表示画面21をオンオフ(点灯、非点灯)
する方式でもよい。
In the above-mentioned embodiments, the display screen 21 is turned on / off (lit or unlit) by cutting off the current flowing through the EL element 15 and connecting the current flowing through the EL element. That is, substantially the same current is caused to flow through the TFT 11a a plurality of times by the electric charge held in the capacitor 19. The present invention is not limited to this. For example, by charging / discharging the charge held in the capacitor 19, the display screen 21 is turned on / off (lighted, non-lighted).
The method of doing may be used.

【0424】図303は、その実施例である。図1の画
素構成において、コンデンサ19の両端に、スイッチン
グ素子をしてのTFT11eが配置または形成されてい
る。TFT11eのゲート端子に接続されたゲート信号
線17eにオン電圧(Vgl)を印加することによりT
FT11eがオンし、コンデンサ19の両端を短絡す
る。したがって、Vg電圧はVdd電圧となり、TFT
11aは電流と流すことができなくなる。
FIG. 303 shows an example thereof. In the pixel configuration of FIG. 1, the TFTs 11e serving as switching elements are arranged or formed at both ends of the capacitor 19. By applying an on-voltage (Vgl) to the gate signal line 17e connected to the gate terminal of the TFT 11e, T
The FT 11e turns on and shorts both ends of the capacitor 19. Therefore, the Vg voltage becomes the Vdd voltage, and the TFT
11a cannot flow current.

【0425】もちろん、TFT11aのドレイン(D)
−ゲート(G)端子間にスイッチング素子を配置または
形成し、TFT11aのドレイン(D)−ゲート(G)
端子間を短絡してもTFT11aは電流を流さないよう
にすることができる。したがって、この構成でもよいこ
とは言うまでもない。たとえば、図1のTFT11bの
ゲート端子と、TFT11cのゲート端子を個別に制御
できるように構成し、TFT11bをオンさせて、TF
T11aのドレイン(D)−ゲート(G)端子間を短絡
する構成である。この方式は図21、図43、図71、
図22にも適用できる。図21、図43、図71、図2
2において、ゲート信号線17bにオン電圧(Vgh)
を印加し、TFT11dをオンさせて、TFT11aの
ドレイン(D)−ゲート(G)端子間を短絡する構成で
ある。
Of course, the drain (D) of the TFT 11a
-A switching element is arranged or formed between the gate (G) terminals, and the drain (D) -gate (G) of the TFT 11a.
Even if the terminals are short-circuited, the TFT 11a can be prevented from flowing a current. Therefore, it goes without saying that this configuration is also acceptable. For example, the gate terminal of the TFT 11b in FIG. 1 and the gate terminal of the TFT 11c can be individually controlled, and the TFT 11b is turned on to turn on the TF.
The configuration is such that the drain (D) -gate (G) terminal of T11a is short-circuited. This method is shown in FIG. 21, FIG. 43, FIG.
It can also be applied to FIG. 21, FIG. 43, FIG. 71, FIG.
2, the gate signal line 17b is turned on (Vgh)
Is applied to turn on the TFT 11d to short-circuit the drain (D) -gate (G) terminals of the TFT 11a.

【0426】もちろん、以上の構成(駆動用TFT11
の保持電荷を充放電させる方式、ドレイン(D)−ゲー
ト(G)端子間を短絡する方式など)は、図54、図6
7、図68、図103などの電圧駆動の画素構成にも適
用できることは言うまでもない。
Of course, the above configuration (driving TFT 11
54 and FIG. 6 for the method of charging / discharging the retained charge of FIG. 6 and the method of short-circuiting the drain (D) -gate (G) terminals
It goes without saying that the present invention can also be applied to voltage-driven pixel configurations such as 7, 7, 68, and 103.

【0427】なお、TFT11eはTFTなどのスイッ
チング素子に限定するものではない。コンデンサ19の
両端の電荷を充放電できるものであれはいずれのもので
もよい。たとえば、MIM、TFD(薄膜ダイオー
ド)、サイリスタ、バリスタなどでもよい。また、コン
デンサ19の両端を充放電させるものに限定するもので
はなく、EL素子15に電流を流す駆動用素子の端子電
圧Vgを強制的に電流オフ方向にシフトできるものでも
よい。たとえば、コンデンサなどを用いて、突き抜け電
圧によりVg電圧をシフトできるように構成してもよ
い。
The TFT 11e is not limited to the switching element such as TFT. Any capacitor may be used as long as it can charge and discharge the electric charge at both ends of the capacitor 19. For example, MIM, TFD (thin film diode), thyristor, varistor, etc. may be used. The capacitor 19 is not limited to the one that charges and discharges both ends of the capacitor 19, and may be one that can forcibly shift the terminal voltage Vg of the driving element for flowing a current to the EL element 15 in the current off direction. For example, a capacitor or the like may be used so that the Vg voltage can be shifted by the penetration voltage.

【0428】図303の構成では、TFT11eの動作
によりコンデンサ19の電荷を放電するため、EL素子
15に再度電流を流すことができない。しかし、TFT
11eをオンさせるまでの時間間隔を制御(調整)する
ことのより、表示画面21の輝度調整を容易に実施でき
る。また、R、G、BごとにTFT11eをオンさせる
までの時間間隔を制御(調整)することのより、表示画
面21の色調整を容易に実施できる。図303の構成
は、逆バイアス電圧方式、図87などのN倍パルス駆
動、またガウス分布駆動、ブロック駆動など、本明細書
記載の他の実施例と組み合わせることができることはい
うまでもない。また、他の構成、動作はすでに説明をし
ているので省略する。以上の事項は他の本発明に関して
も同様である。
In the configuration of FIG. 303, the electric charge of the capacitor 19 is discharged by the operation of the TFT 11e, so that the current cannot flow again to the EL element 15. However, TFT
By controlling (adjusting) the time interval until 11e is turned on, the brightness of the display screen 21 can be easily adjusted. Further, by controlling (adjusting) the time interval until the TFT 11e is turned on for each of R, G, and B, color adjustment of the display screen 21 can be easily performed. It goes without saying that the configuration of FIG. 303 can be combined with other embodiments described in this specification, such as the reverse bias voltage method, N-fold pulse driving as shown in FIG. 87, Gaussian distribution driving, block driving, and the like. Since the other configurations and operations have already been described, they will be omitted. The above matters also apply to other present inventions.

【0429】また、図303ではTFT11eをオンさ
せることにより、TFT11aに流れる電流を遮断する
方式であった。しかし、TFT11aをNチャンネルに
することなどにより、駆動用TFT11aに流れる電流
を増加させるように制御することも可能である。つま
り、TFT11eの動作することにより、画面21が白
表示(白ラスター)にするということができる(画面を
白画面で消去する)。また、RGBの画素うち、少なく
とも1色のTFT11eの動作することにより、画面2
1がRまたはGまたはB表示にするということができる
(画面をRまたはGまたはB色を強く表示する)。な
お、TFT11eはPチャンネルでもNチャンネルでも
よいことは言うまでもない。また、TFT11eをオン
オフさせることにより、PWM変調も実施することがで
きる。以上の事項は、本明細書の他の実施例にも適用で
きることは言うまでもない。
In FIG. 303, the TFT 11e is turned on to interrupt the current flowing in the TFT 11a. However, it is also possible to control so as to increase the current flowing through the driving TFT 11a by making the TFT 11a an N channel. That is, it can be said that the screen 21 is displayed in white (white raster) by operating the TFT 11e (the screen is erased with a white screen). In addition, by operating the TFT 11e of at least one color of the RGB pixels, the screen 2
It can be said that 1 displays R, G, or B (the screen strongly displays R, G, or B colors). Needless to say, the TFT 11e may be P channel or N channel. Moreover, PWM modulation can also be implemented by turning on / off the TFT 11e. It goes without saying that the above items can be applied to other embodiments of the present specification.

【0430】図303構成は、コンデンサ19の電荷を
完全に放電する方式である。したがって、コンデンサ1
9に保持された電荷(画像データ)は消去されてしま
う。図304の構成は、コンデンサ19を複数(実施例
では2つ)のコンデンサ19a、19bに分離し、一方
のコンデンサ(実施例では19b)の両端にTFT11
eを形成または配置している。
The structure shown in FIG. 303 is a system in which the electric charge of the capacitor 19 is completely discharged. Therefore, the capacitor 1
The charge (image data) held in 9 is erased. In the configuration of FIG. 304, the capacitor 19 is separated into a plurality of (two in the embodiment) capacitors 19a and 19b, and the TFT 11 is provided at both ends of one capacitor (19b in the embodiment).
e is formed or arranged.

【0431】図304は、その実施例である。TFT1
1eのゲート端子に接続されたゲート信号線17eにオ
ン電圧(Vgl)を印加することによりTFT11eが
オンし、コンデンサ19bの両端を短絡する。したがっ
て、Vg電圧はよりVdd電圧に近くなり、TFT11
aが流す電流を少なく(制限する)する。
FIG. 304 shows an example thereof. TFT1
By applying an on-voltage (Vgl) to the gate signal line 17e connected to the gate terminal of 1e, the TFT 11e is turned on, and both ends of the capacitor 19b are short-circuited. Therefore, the Vg voltage becomes closer to the Vdd voltage, and the TFT 11
The current flowing by a is reduced (limited).

【0432】したがって、図304の構成では、TFT
11aが流す電流が完全に遮断されることはない(もち
ろん、完全に遮断するように、コンデンサ19a、19
bの定数を設定することはできる)。図303の構成で
は、TFT11eの動作によりコンデンサ19の電荷を
放電するため、EL素子15に再度電流を流すことがで
きない。しかし、図304の構成では、TFT11eを
オフすると、以前よりは表示輝度は低いが画像を再び表
示することができる。また、TFT11eをオンさせる
までの時間間隔を制御(調整)することのより、表示画
面21の輝度調整をきめこまやかに調整(変更)に実施
できる。
Therefore, in the configuration of FIG. 304, the TFT
The current supplied by 11a is not completely cut off (of course, the capacitors 19a, 19
b can be set to a constant). In the configuration of FIG. 303, the electric charge of the capacitor 19 is discharged by the operation of the TFT 11e, so that the current cannot flow again to the EL element 15. However, in the configuration of FIG. 304, when the TFT 11e is turned off, an image can be displayed again although the display brightness is lower than before. Further, by controlling (adjusting) the time interval until the TFT 11e is turned on, the brightness adjustment of the display screen 21 can be finely and finely adjusted (changed).

【0433】また、パネルごとに固体差(製造バラツキ
が発生した場合など)にあっても、製造された表示パネ
ルごとにTFTeをオンさせる、あるいはオフさせるこ
とにより表示輝度のバラツキを調整することができる。
この場合は、TFT11eは常時オンあるいは常時オフ
の場合がある。また、R、G、BごとにTFT11eを
オンさせるまでの時間間隔を制御(調整)することのよ
り、表示画面21の色調整を決めこまやかに容易に調整
する。画素構成としては図294などで説明する構成を
採用すればよい。また、図304などの構成について
も、逆バイアス電圧方式など、本明細書記載の他の実施
例と組み合わせることができることはいうまでもない。
また、他の構成、動作はすでに説明をしているので省略
する。以上の事項は他の本発明に関しても同様である。
Further, even if there are individual differences among the panels (such as when manufacturing variations occur), it is possible to adjust the variation in the display brightness by turning on or off the TFTe for each manufactured display panel. it can.
In this case, the TFT 11e may be always on or off. Further, by controlling (adjusting) the time interval until the TFT 11e is turned on for each of R, G, and B, the color adjustment of the display screen 21 is decided and easily adjusted. As the pixel configuration, the configuration described with reference to FIG. 294 or the like may be adopted. Needless to say, the configuration shown in FIG. 304 and the like can be combined with other embodiments described in this specification, such as the reverse bias voltage method.
Since the other configurations and operations have already been described, they will be omitted. The above matters also apply to other present inventions.

【0434】なお、図304ではコンデンサ19a、1
9bの2つとしたがこれに限定するものではない。3個
以上のコンデンサを形成し、各コンデンサの電荷を充放
電できるようにTFTなどのスイッチング素子を配置し
てもよい。この構成では、他段階で表示画面21の明る
さを変化することができる。また、RGBの色バランス
も多段階で調整(変更)することができる。
In FIG. 304, the capacitors 19a, 1
Two of 9b are used, but the number is not limited to this. It is also possible to form three or more capacitors and arrange switching elements such as TFTs so that the electric charge of each capacitor can be charged and discharged. With this configuration, the brightness of the display screen 21 can be changed at another stage. Also, the RGB color balance can be adjusted (changed) in multiple stages.

【0435】また、図304ではTFT11eをオンさ
せることにより、TFT11aに流れる電流を減少させ
る方式であった。しかし、TFT11aをNチャンネル
にすることなどにより、駆動用TFT11aに流れる電
流を増加させるように制御することも可能である。つま
り、TFT11eの動作することにより、画面21の輝
度を高くすることができる。また、RGBの画素うち、
少なくとも1色のTFT11eの動作することにより、
画面21の色をRまたはGまたはB色を増加させること
ができる(画面をRまたはGまたはB色を強く表示す
る。なお、RとBというように複数色の場合もある)。
Further, in FIG. 304, the current flowing through the TFT 11a is reduced by turning on the TFT 11e. However, it is also possible to control so as to increase the current flowing through the driving TFT 11a by making the TFT 11a an N channel. That is, the brightness of the screen 21 can be increased by operating the TFT 11e. Also, of the RGB pixels,
By operating at least one color TFT 11e,
The colors of the screen 21 can be increased to R, G, or B colors (the screen is strongly displayed in R, G, or B colors, and there may be a plurality of colors such as R and B).

【0436】また、図304ではTFT11aのゲート
(G)端子とソース(S)端子間に1つのコンデンサ1
9aを形成した構成であったが、これに限定するもので
はない。TFT11aのゲート(G)端子とソース
(S)端子間に複数のコンデンサ19aを直列または並
列に形成した構成でもよい。このコンデンサのうち、少
なくとも1つのコンデンサの両端にショート用のスイッ
チングTFT11eを形成し、TFT11eをオンさせ
ることにより、TFT11aに流れる電流を減少させて
もよい。以上の事項はカレントミラーの画素構成あるい
は電圧駆動の画素構成にも適用されることは言うまでも
ない。
Also, in FIG. 304, one capacitor 1 is provided between the gate (G) terminal and the source (S) terminal of the TFT 11a.
9a is formed, but the present invention is not limited to this. A configuration may be used in which a plurality of capacitors 19a are formed in series or in parallel between the gate (G) terminal and the source (S) terminal of the TFT 11a. A switching TFT 11e for short circuit may be formed at both ends of at least one of the capacitors, and the TFT 11e may be turned on to reduce the current flowing through the TFT 11a. It goes without saying that the above items also apply to the pixel configuration of the current mirror or the pixel configuration of the voltage drive.

【0437】図305は図21、図43、図71などで
説明したカレントミラーの画素構成において、保持用の
コンデンサ19の両端をショートするTFT11eを形
成(配置)した構成である。動作などは、図303など
と同様であるので説明を省略する。図305についても
同様である。動作などは図304で説明あるいは図30
4の説明から容易に類推できるので説明を省略する。
FIG. 305 shows the pixel configuration of the current mirror described with reference to FIGS. 21, 43, 71, etc., in which the TFT 11e for short-circuiting both ends of the holding capacitor 19 is formed (arranged). The operation and the like are the same as those in FIG. The same applies to FIG. 305. The operation is explained in FIG. 304 or in FIG.
Since it can be easily inferred from the description of 4, the description is omitted.

【0438】図307は画素が2TFT構成の電圧駆動
の実施例である。図307の構成も図303などで説明
した電流駆動方式と動作は同一である。保持用のコンデ
ンサ19の両端にTFT11eを形成(配置)してい
る。図307の構成でも先に説明した構成と同様に、T
FT11eの動作によりコンデンサ19の電荷を放電す
るため、EL素子15に再度電流を流すことができな
い。しかし、TFT11eをオンさせるまでの時間間隔
を制御(調整)することのより、表示画面21の輝度調
整を容易に実施できる。また、R、G、BごとにTFT
11eをオンさせるまでの時間間隔を制御(調整)する
ことのより、表示画面21の色調整を容易に実施でき
る。
FIG. 307 shows an example of voltage driving in which the pixel has a 2-TFT structure. The configuration of FIG. 307 also has the same operation as the current driving method described in FIG. TFTs 11e are formed (arranged) at both ends of the holding capacitor 19. In the configuration of FIG. 307, as in the configuration described above, T
Since the electric charge of the capacitor 19 is discharged by the operation of the FT 11e, the current cannot flow through the EL element 15 again. However, the brightness of the display screen 21 can be easily adjusted by controlling (adjusting) the time interval until the TFT 11e is turned on. In addition, a TFT is provided for each of R, G, and B.
By controlling (adjusting) the time interval until 11e is turned on, the color adjustment of the display screen 21 can be easily performed.

【0439】また、図307の構成についても、TFT
11aをNチャンネルにすることなどにより、TFT1
1eをオンさせることにより、駆動用TFT11aに流
れる電流を増加させるように制御することも可能であ
る。つまり、TFT11eの動作することにより、画面
21が白表示(白ラスター)にするということができる
(画面を白画面で消去する)。また、RGBの画素う
ち、少なくとも1色のTFT11eの動作することによ
り、画面21がRまたはGまたはB表示にするというこ
ともできる(画面をRまたはGまたはB色を強く表示す
る)。
Also, with the configuration of FIG.
By changing 11a to N channel, TFT1
It is also possible to control to increase the current flowing through the driving TFT 11a by turning on 1e. That is, it can be said that the screen 21 is displayed in white (white raster) by operating the TFT 11e (the screen is erased with a white screen). Further, it is possible to display the screen 21 in R, G, or B by operating the TFT 11e of at least one color of the RGB pixels (the screen is strongly displayed in R, G, or B colors).

【0440】図308は図67、図68の電圧プログラ
ム(駆動)の画素構成に図303の技術的概念を適用し
た実施例である。図308の構成も図303などで説明
した電流駆動方式と動作は同一である。つまり、保持用
のコンデンサ19の両端にTFT11eを形成し、TF
T11eの動作によりコンデンサ19の電荷を放電す
る。したがって、黒表示となる。TFT11eをオンさ
せるまでの時間間隔を制御(調整)することのより、表
示画面21の輝度調整を容易に実施できし、また、R、
G、BごとにTFT11eをオンさせるまでの時間間隔
を制御(調整)することのより、表示画面21の色調整
を容易に実施できる。他の事項についても先の実施例と
同様であるので説明を省略する。
FIG. 308 shows an embodiment in which the technical concept of FIG. 303 is applied to the pixel configuration of the voltage program (drive) of FIGS. 67 and 68. The configuration of FIG. 308 is also the same in operation as the current driving method described in FIG. That is, the TFT 11e is formed at both ends of the holding capacitor 19 and
The electric charge of the capacitor 19 is discharged by the operation of T11e. Therefore, black is displayed. By controlling (adjusting) the time interval until the TFT 11e is turned on, the brightness of the display screen 21 can be easily adjusted, and R,
By controlling (adjusting) the time interval until the TFT 11e is turned on for each of G and B, the color adjustment of the display screen 21 can be easily performed. The other matters are the same as those in the above-described embodiment, and thus the description thereof will be omitted.

【0441】図33では、隣接した画素行を順次点灯
(表示)させるように図示したが、本発明はこれに限定
するものではない。図39に図示するようにインターレ
ース走査してもよい。
In FIG. 33, adjacent pixel rows are illustrated as being sequentially turned on (displayed), but the present invention is not limited to this. Interlaced scanning may be performed as shown in FIG.

【0442】インターレース走査とは第1フィールドで
は奇数画素行に画像を書き込み(図39(a)書き込み
画素行391)、次の第2フィールドでは偶数画素行に
画像を書き込み(図39(b)書き込み画素行391)
画像表示方法である。書き込まない画素行は前のフィー
ルドの画像データを保持している(保持画素行39
2)。このようにEL表示装置でインターレース走査を
することにより、フリッカを減少させえることができ
る。
Interlaced scanning means that an image is written in an odd pixel row in the first field (write pixel row 391 in FIG. 39 (a)), and an image is written in an even pixel row in the next second field (write in FIG. 39 (b)). Pixel row 391)
This is an image display method. The pixel row that is not written holds the image data of the previous field (holding pixel row 39
2). By performing interlaced scanning with the EL display device in this manner, flicker can be reduced.

【0443】図39の駆動では、すべての(あるいは複
数の)偶数画素行のゲート信号線17bを共通にでき、
また、すべての(あるいは複数の)奇数画素行のゲート
信号線17bを共通にできる。したがって、ゲート信号
線17の引き回し数を大幅に削減できる。また、全画面
を表示状態311と非表示状態312を交互に表示する
場合は、すべてのゲート信号線17bを共通にできる。
これらの構成は図27などの3辺フリーの構成で特に有
効である。
In the driving of FIG. 39, the gate signal lines 17b of all (or a plurality of) even pixel rows can be made common,
Moreover, the gate signal lines 17b of all (or a plurality of) odd-numbered pixel rows can be made common. Therefore, the number of wirings of the gate signal line 17 can be significantly reduced. When the display state 311 and the non-display state 312 are alternately displayed on the entire screen, all the gate signal lines 17b can be shared.
These configurations are particularly effective in the configuration with three sides free as shown in FIG.

【0444】なお、インターレース走査は、第1フィー
ルドでは奇数画素行に画像を書き込み、次の第2フィー
ルドでは偶数画素行に画像を書き込むとしたが、これに
限定するものではない。たとえば、第1フィールドでは
2画素行とばしで2画素行ずつ画像を書き込み、次の第
2フィールドでは第1フィールドで書き込まなかった2
画素行ごとに画像を書き込んでもよい。また、3画素行
ずつあるいは4画素行ずつでもよい。また、第1フィー
ルドでは画面の2行目から2画素行ずつ画像を書き込み
(図106(a)を参照)、次の第2フィールドでは1
行目から2画素行ごとに画像を書き込んでもよい(図1
06(b)を参照)。また、図106に図示するように
書き込んでいる画素行あるいは書き込む画素行を非表示
領域312となるように制御してもよい。また、第1の
フィールドでは画面の上から下に向かって画像を書き込
み、第2のフィールドでは画面の下から上に向かって画
像を書き込んでもよい。これらもすべてインターレース
走査の概念に含まれる。
In the interlaced scanning, the image is written in the odd pixel row in the first field and the image is written in the even pixel row in the next second field, but the invention is not limited to this. For example, in the first field, an image is written every two pixel rows by skipping two pixel rows, and in the next second field, an image is not written in the first field.
An image may be written for each pixel row. Further, it may be three pixel rows or four pixel rows. Further, in the first field, an image is written by 2 pixel rows from the second row of the screen (see FIG. 106A), and in the next second field, 1 is written.
An image may be written every two pixel rows from the second row (see FIG. 1).
06 (b)). Further, as shown in FIG. 106, the writing pixel row or the writing pixel row may be controlled to be the non-display area 312. Further, in the first field, the image may be written from the top to the bottom of the screen, and in the second field, the image may be written from the bottom to the top of the screen. These are all included in the concept of interlaced scanning.

【0445】インターレース走査も図33、図56で説
明した方法を実施することで容易に実現できる。点灯さ
せない表示領域312に該当する画素行は図1(a)に
示すTFT11dをオフさせればよいからである。
Interlaced scanning can also be easily realized by implementing the method described with reference to FIGS. 33 and 56. This is because the TFT 11d shown in FIG. 1A may be turned off for the pixel row corresponding to the display area 312 that is not illuminated.

【0446】また、当然のことながら、図50に図示す
るように黒表示領域312とインターレース走査とを組
み合わせることができる。図50(a)では、書き込み
画素行391と保持画素行392からなる走査領域50
1を順次シフトさせる。なお、図50(a)では第1行
目から画像を書き込んでいる。図50(b)でも同様
に、書き込み画素行391と保持画素行392からなる
走査領域501を順次シフトさせる。なお、図50
(b)では第2行目から画像を書き込んでいる。
Naturally, it is possible to combine the black display area 312 and the interlaced scanning as shown in FIG. In FIG. 50A, the scanning region 50 including the writing pixel row 391 and the holding pixel row 392.
1 is sequentially shifted. Note that in FIG. 50A, the image is written from the first line. Similarly in FIG. 50B, the scanning region 501 including the writing pixel row 391 and the holding pixel row 392 is sequentially shifted. Note that FIG.
In (b), the image is written from the second line.

【0447】飛び越し走査(インターレース走査など)
を応用すると、画素16の駆動TFT11のバラツキを
抑制することできる。図322は隣接した画素行の駆動
TFTT11aが近接して形成(配置)されている。つ
まり、画素16aのTFT11a1と画素16bのTF
T11a2とが近接して配置されている。また、画素1
6aを制御するゲート信号線17a1と画素16bを制
御するゲート信号線17a2も近接して配置されてい
る。ゲート信号線17a1とゲート信号線17a2が近
接して配置されているのは、画素16aと画素16bと
を線対称の配置とするためである。
Interlaced scanning (interlaced scanning, etc.)
By applying, it is possible to suppress the variation of the driving TFT 11 of the pixel 16. In FIG. 322, the drive TFTs T11a of adjacent pixel rows are formed (arranged) close to each other. That is, the TFT 11a1 of the pixel 16a and the TF of the pixel 16b
T11a2 is arranged in close proximity. Also, pixel 1
The gate signal line 17a1 for controlling 6a and the gate signal line 17a2 for controlling the pixel 16b are also arranged close to each other. The gate signal line 17a1 and the gate signal line 17a2 are arranged close to each other because the pixels 16a and 16b are arranged in line symmetry.

【0448】図322のように、画素16aを含む画素
行のTFT11a1と、画素16bを含む画素行のTF
T11a2とを近接して配置することにより、TFT1
1a2とTFT11a1の特性が近似する。以下、図3
20の画素配置構成を利用した駆動方法について図32
3、図324を用いて説明をする。
As shown in FIG. 322, the TFT 11a1 in the pixel row including the pixel 16a and the TF in the pixel row including the pixel 16b.
By placing T11a2 close to each other, the TFT1
The characteristics of 1a2 and TFT 11a1 are similar. Below, FIG.
FIG. 32 shows a driving method using 20 pixel arrangement configurations.
3 and FIG. 324.

【0449】図323はソース信号線18に流れる電流
を増大させる他の実施例の説明図である。2画素行を同
時に選択し、2画素行をあわせた電流でソース信号線1
8の寄生容量404などを充放電し電流書き込み不足を
大幅に改善する方式である。ただし、2画素行を同時に
選択するため、1画素あたりの駆動する電流をソース信
号線18に流す電流(プログラム電流)の1/2に減少
させることができる。したがって、EL素子15に流れ
る電流を減少させることができるため、EL素子15の
劣化が少ない。ここで、説明を容易にするため、一例と
して、N=2として説明する(ソース信号線に流す電流
を2倍にする)。なお、類似の駆動方法については図8
7、図88などで説明する。したがって、これらの方法
も参照されたい。
FIG. 323 is an illustration of another embodiment for increasing the current flowing through the source signal line 18. Two pixel rows are selected at the same time, and the source signal line 1 is generated with the combined current of the two pixel rows.
This is a method of charging and discharging the parasitic capacitance 404 and the like of No. 8 and significantly remedying the insufficient current writing. However, since two pixel rows are selected at the same time, the driving current per pixel can be reduced to 1/2 of the current (program current) flowing through the source signal line 18. Therefore, since the current flowing through the EL element 15 can be reduced, the EL element 15 is less deteriorated. Here, for ease of explanation, as an example, N = 2 will be described (the current flowing through the source signal line is doubled). A similar driving method is shown in FIG.
7, FIG. 88 and the like. Therefore, see also these methods.

【0450】図323(a)は表示画像21への書き込
み状態を図示している。図323(a)において、87
1(871a、871b)は書き込み画素行である。つ
まり、2画素を書き込んでいる。ソース信号線18には
画素に書き込む電流の2倍のプログラム電流Iwを印加
する。したがって、画素行が2行であるから1画素に書
き込まれる電流は1倍(所定値)となる。図323
(a)の状態は、画素16aと画素16bがそれぞれ1
画素行選択されていることになる。つまり、近接した画
素の駆動TFT11a1、11a2が動作するように電
流プログラムされていることになる(図1の画素構成を
想定している)。ソース信号線18に流す電流Iwはこ
の近接して配置された駆動用TFT11a1、駆動用T
FT11a2から供給される。
FIG. 323 (a) shows the state of writing to the display image 21. In FIG. 323 (a), 87
1 (871a, 871b) is a writing pixel row. That is, 2 pixels are written. The source signal line 18 is applied with a program current Iw that is twice the current written in the pixel. Therefore, since the number of pixel rows is two, the current written in one pixel is 1 time (predetermined value). FIG. 323
In the state of (a), the pixel 16a and the pixel 16b are 1
It means that the pixel row is selected. That is, the drive TFTs 11a1 and 11a2 of the adjacent pixels are current-programmed to operate (assuming the pixel configuration of FIG. 1). The current Iw flowing through the source signal line 18 is the driving TFT 11a1 and the driving T which are arranged close to each other.
Supplied from FT11a2.

【0451】駆動用TFT11a1と駆動用TFT11
a2は近接して形成されているため、その特性はほぼ一
致している。したがって、ソース信号線18に流れるプ
ログラム電流Iwが2(μA)とすれば、駆動用TFT
11a1と駆動用TFT11a2は、それぞれ、1(μ
A)づつ電流を供給する。
Driving TFT 11a1 and driving TFT 11
Since a2 is formed close to each other, its characteristics are almost the same. Therefore, if the program current Iw flowing through the source signal line 18 is 2 (μA), the driving TFT
11a1 and the driving TFT 11a2 are 1 (μ
A) Supply current one by one.

【0452】以上のことから、ソース信号線18に所定
値の2倍のプログラム電流Iwを流せば、正確に画素に
所定値の電流がプログラムされる。なお、ソース信号線
18に流す電流は2倍(N=2)としたがこれに限定す
るものではない。2倍としたのはあくまでも理解を容易
にするためである。実駆動では、非点灯領域312を表
示面積の1/2をするため、プログラム電流は4倍とし
ている。
From the above, by supplying the program current Iw twice the predetermined value to the source signal line 18, the current of the predetermined value is accurately programmed in the pixel. Although the current passed through the source signal line 18 is doubled (N = 2), it is not limited to this. The reason for doubling is to make it easy to understand. In actual driving, since the non-lighted area 312 is half the display area, the program current is set to 4 times.

【0453】図322の画素構成においては、2フィー
ルドで1画面を書き換える(1フレーム=2フィール
ド)。第1フィールドでは偶数ラインを書き換え、第2
フィールドでは奇数ラインを書き換えるとして説明をす
る。図323では偶数ラインを書き換えているとして説
明し、図324では奇数ラインを書き換えているとして
説明をする。
In the pixel configuration shown in FIG. 322, one screen is rewritten with two fields (1 frame = 2 fields). In the first field, the even lines are rewritten
In the field, it is assumed that the odd line is rewritten. In FIG. 323, it is described that the even lines are rewritten, and in FIG. 324, the odd lines are described as rewritten.

【0454】図323において、871(871a、8
71b)は書き込み画素行であり、2画素を書き込んで
いる。ソース信号線18には奇数画素に書き込む電流の
2倍のプログラム電流Iwを印加する。そのため、書き
込み画素行871aと871bは同一表示となる。そこ
で、図323(b)に図示するように奇数ラインに該当
する画素のEL素子15を非点灯状態とする(図1にお
いて、ゲート信号線17bにオフ電圧を印加し、駆動用
TFT11aからの電流がEL素子15に流れないよう
にする)。以上の動作を2画素号ずつシフトしながら画
像データを画素に書き込んでいく。1フィールドの走査
が終了すると、図323(c)に図示するように、偶数
ラインはすべて非点灯312となり、奇数ラインが点灯
311となる。
In FIG. 323, 871 (871a, 81)
71b) is a writing pixel row in which two pixels are written. The source signal line 18 is applied with a program current Iw that is twice as large as the current written in the odd pixel. Therefore, the writing pixel rows 871a and 871b have the same display. Therefore, as shown in FIG. 323 (b), the EL elements 15 of the pixels corresponding to the odd-numbered lines are brought into a non-lighting state (in FIG. 1, an off voltage is applied to the gate signal line 17b and a current from the driving TFT 11a is applied. Are prevented from flowing into the EL element 15). The image data is written in the pixels while shifting the above operation by two pixel units. When scanning of one field is completed, as shown in FIG. 323 (c), all even lines are turned off 312 and odd lines are turned on 311.

【0455】図324は第2フィールドの画像データ書
き込み状態を図示している。図324(a)において、
871(871a、871b)は書き込み画素行であ
り、2画素を書き込んでいる。ソース信号線18には奇
数画素に書き込む電流の2倍のプログラム電流Iwを印
加する。そのため、書き込み画素行871aと871b
は同一表示となる。第1フィールドと同様に図324
(b)に図示するように偶数ラインに該当する画素のE
L素子15を非点灯状態とする。以上の動作を2画素号
ずつシフトしながら画像データを画素に書き込んでい
く。1フィールドの走査が終了すると、図324(c)
に図示するように、奇数ライン(奇数番目の画素行)は
すべて非点灯312となり、偶数ライン(偶数番目の画
素行)が点灯311となる。
FIG. 324 shows the state of writing image data in the second field. In FIG. 324 (a),
871 (871a, 871b) is a writing pixel row, and 2 pixels are written. The source signal line 18 is applied with a program current Iw that is twice as large as the current written in the odd pixel. Therefore, the write pixel rows 871a and 871b
Are the same display. As in the first field, FIG.
As shown in (b), E of pixels corresponding to even lines
The L element 15 is turned off. The image data is written in the pixels while shifting the above operation by two pixel units. When scanning of one field is completed, FIG. 324 (c)
As shown in the figure, all the odd lines (odd-numbered pixel rows) are non-lighting 312, and the even-numbered lines (even-numbered pixel rows) are lighting 311.

【0456】以上のように、図323と図324の駆動
を交互に繰り返すことにより1フレーム(2フィール
ド)で1画面が書き換えられる。また、図322のよう
に、2画素行をペアにすることにより、2画素行の駆動
用TFT11aを近接させ、特性バラツキが発生するこ
とを抑制している。したがって、均一な画像表示を実現
できる。
As described above, one screen is rewritten in one frame (two fields) by alternately repeating the driving in FIGS. 323 and 324. In addition, as shown in FIG. 322, by forming a pair of two pixel rows, the driving TFTs 11a of the two pixel rows are brought close to each other, and the occurrence of characteristic variations is suppressed. Therefore, a uniform image display can be realized.

【0457】なお、図322の画素配置、駆動方法は、
図1の画素構成のみに限定されるものではない。たとえ
ば、図21、図43、図71、図22のカレントミラー
の画素構成、図54、図67、図68、図103などの
電圧プログラム方式の画素構成にも適用できることは言
うまでもない。
Note that the pixel arrangement and driving method of FIG. 322 are
It is not limited to the pixel configuration of FIG. For example, it is needless to say that the present invention can be applied to the pixel configurations of the current mirror shown in FIGS. 21, 43, 71 and 22, and the voltage programmed pixel configurations shown in FIGS. 54, 67, 68 and 103.

【0458】図21、図43、図71の画素構成では、
ゲート信号線17aにオン電圧(Vgl)を印加するこ
とにより、コンデンサ19にソース信号線18に印加し
た電流値がプログラムされる。図40に図示するよう
に、ソース信号線18にはソースドライバIC14内の
電流源403から映像信号に該当するデータが印加され
る。プログラムされた電流は、カレントミラー効率が1
の時、前記電流がTFT11bに流れ、この電流がEL
素子15に印加される。この関係(タイミング波形な
ど)は図33に図示した事項を流用でき、あるいは類似
するので説明を要さないであろう。ただし、電流プログ
ラムを行う際、TFT11cとTFT11dのオンある
いはオフタイミングを個別に制御する必要がある場合が
ある。この場合は、TFT11cとTFT11dをオン
オフさせるゲート端子を別のゲート信号線17とする必
要があることはいうまでもない。
In the pixel configurations shown in FIGS. 21, 43 and 71,
By applying the on-voltage (Vgl) to the gate signal line 17a, the current value applied to the source signal line 18 is programmed in the capacitor 19. As shown in FIG. 40, the data corresponding to the video signal is applied to the source signal line 18 from the current source 403 in the source driver IC 14. The programmed current has a current mirror efficiency of 1
At this time, the current flows into the TFT 11b, and this current is EL
It is applied to the element 15. As for this relationship (timing waveform, etc.), the matters illustrated in FIG. 33 can be used or similar, and thus need not be described. However, when performing the current program, it may be necessary to individually control the on or off timing of the TFT 11c and the TFT 11d. In this case, it goes without saying that the gate terminal for turning on / off the TFT 11c and the TFT 11d needs to be another gate signal line 17.

【0459】図31などの表示方法を実施するために
は、EL素子15に流す電流を遮断する必要がある。こ
の遮断を目的として図40に図示するようにTFT11
eを付加する。TFT11eのゲート端子をVglにす
ることによりEL素子15に電流が印加され、TFT1
1eのゲート端子をVghにすることによりEL素子1
5への電流が遮断(非点灯状態)状態となる。
In order to implement the display method shown in FIG. 31 or the like, it is necessary to cut off the current flowing through the EL element 15. For the purpose of blocking this, as shown in FIG.
e is added. By setting the gate terminal of the TFT 11e to Vgl, a current is applied to the EL element 15,
EL element 1 by changing the gate terminal of 1e to Vgh
The current to 5 is cut off (non-lighting state).

【0460】したがって、図33などで説明したゲート
信号線17a,17bの信号波形を印加することによ
り、図31などで説明した画像表示を実現できる。
Therefore, by applying the signal waveforms of the gate signal lines 17a and 17b described in FIG. 33 and the like, the image display described in FIG. 31 and the like can be realized.

【0461】非画像表示領域311と画像表示領域31
2は図61に図示するように奇数画素行と偶数画素行と
をフレーム(フィールド)ごとに切り替えてもよい。図
61(a)が奇数画素行を表示し、偶数画素行を非表示
とすれば、次のフィーム(フィールド)(図61(b)
を参照)では奇数画素行を非示し、偶数画素行を表示に
する。
Non-image display area 311 and image display area 31
2, the odd pixel row and the even pixel row may be switched for each frame (field) as shown in FIG. When the odd pixel rows are displayed and the even pixel rows are hidden in FIG. 61A, the next frame (field) (FIG. 61B) is displayed.
In (), the odd pixel rows are not shown, and the even pixel rows are displayed.

【0462】このように、1画素行ごとに非表示領域と
表示領域とを繰り返すように表示すれば、フリッカの発
生が大幅に抑制される。
As described above, if the non-display area and the display area are repeated for each pixel row, the occurrence of flicker can be significantly suppressed.

【0463】なお、図61において、1画素行ごとに非
表示画素行と表示画素行にするとしたがこれに限定する
ものではなく、2画素行ごとあるいはそれ以上の画素行
ごとに非表示画素行と表示画素行にするとしてもよい。
In FIG. 61, the non-display pixel row and the display pixel row are set for each one pixel row, but the present invention is not limited to this, and the non-display pixel row may be set for every two or more pixel rows. May be set to the display pixel row.

【0464】たとえば、2行ごとであれば、第1フィー
ルド(フレーム)では、1画素行目と2画素行目が表示
画素行とし、3画素行目と4画素行目を非表示画素行と
する。5画素行目と6画素行目が表示画素行である。第
1フィールドの次の第2フィールド(フレーム)では、
1画素行目と2画素行目が非表示画素行とし、3画素行
目と4画素行目を表示画素行とする。5画素行目と6画
素行目が非表示画素行である。また、次の第3フィール
ド(フレーム)では、1画素行目と2画素行目が表示画
素行とし、3画素行目と4画素行目を非表示画素行とす
る。5画素行目と6画素行目が表示画素行である。
For example, if every two rows, in the first field (frame), the first pixel row and the second pixel row are the display pixel rows, and the third pixel row and the fourth pixel row are the non-display pixel rows. To do. The 5th pixel row and the 6th pixel row are display pixel rows. In the second field (frame) next to the first field,
The first pixel row and the second pixel row are non-display pixel rows, and the third pixel row and the fourth pixel row are display pixel rows. The 5th pixel row and the 6th pixel row are non-display pixel rows. In the next third field (frame), the first pixel row and the second pixel row are the display pixel rows, and the third pixel row and the fourth pixel row are the non-display pixel rows. The 5th pixel row and the 6th pixel row are display pixel rows.

【0465】なお、本明細書でフィールドとフレームの
文言は同義に使用したり、分離したりしている。一般的
にNTSCのインターレース駆動では、1フレームは2
フィールドで構成される。しかし、プログレッシブ駆動
では1フレームは1フィールドである。このように映像
の信号の世界ではフィールドとフレームは使い分けてい
る。しかし、本発明では表示パネルに表示する画像がプ
ログレッシブでもインターレースでもどちらでも適用で
きる。そのため、どちらでもよいという表現としてい
る。フィールドでもフレームでも概念的には1つも画面
を書き終える時間の単位である。
In the present specification, the terms field and frame are used synonymously or separated. Generally, in NTSC interlaced drive, one frame is 2
Composed of fields. However, in progressive driving, one frame is one field. In this way, fields and frames are used properly in the world of video signals. However, according to the present invention, the image displayed on the display panel may be either progressive or interlaced. Therefore, it is said that either one is acceptable. Conceptually, a field or frame is a unit of time for finishing writing one screen.

【0466】図62の表示方法も有効である。ここで説
明を容易にするため、図62(a)が第1フィールド
(第1フレーム)、図62(b)が第2フィールド(第
2フレーム)、図62(c)が第3フィールド(第3フ
レーム)、図62(d)が第4フィールド(第4フレー
ム)とする。
The display method of FIG. 62 is also effective. For ease of explanation, FIG. 62A shows a first field (first frame), FIG. 62B shows a second field (second frame), and FIG. 62C shows a third field (first frame). 62 (d) is the fourth field (fourth frame).

【0467】第1フィールド(フレーム)では、1画素
行目と2画素行目が非表示画素行とし、3画素行目と4
画素行目を表示画素行とする。5画素行目と6画素行目
が表示画素行である。第2フィールド(フレーム)で
は、奇数画素行目が表示画素行とし、偶数画素行目を非
表示画素行とする。第3フィールド(フレーム)では、
1画素行目と2画素行目が表示画素行とし、3画素行目
と4画素行目を非表示画素行とする。第4フィールド
(フレーム)では、奇数画素行目が非表示画素行とし、
偶数画素行目を表示画素行とする。以後、第1フィール
ド(第1フレーム)の表示状態から順次繰り返す。
In the first field (frame), the first pixel row and the second pixel row are non-display pixel rows, and the third pixel row and the fourth pixel row are
The pixel row is the display pixel row. The 5th pixel row and the 6th pixel row are display pixel rows. In the second field (frame), the odd pixel rows are the display pixel rows and the even pixel rows are the non-display pixel rows. In the third field (frame),
The first pixel row and the second pixel row are display pixel rows, and the third pixel row and the fourth pixel row are non-display pixel rows. In the fourth field (frame), the odd pixel rows are non-display pixel rows,
Let the even pixel rows be the display pixel rows. Thereafter, the display state of the first field (first frame) is sequentially repeated.

【0468】図62の駆動方法では、4フィールド(フ
レーム)で1ループとしている。このように複数フィー
ルド(複数フレーム)で画像表示を行うことにより、図
61よりもフリッカの発生は抑制されることが多い。
In the driving method shown in FIG. 62, one loop is composed of 4 fields (frames). By thus displaying an image in a plurality of fields (a plurality of frames), the occurrence of flicker is often suppressed more than in FIG.

【0469】なお、図62の実施例では、第1フィール
ド(フレーム)では、2画素行目ずつ非表示画素行と
し、第2フィールド(フレーム)では、1画素行目ずつ
非表示画素行としたがこれに限定するものではない。第
1フィールド(フレーム)では、2画素行目ずつ非表示
画素行とし、第2フィールド(フレーム)では、1画素
行目ずつ非表示画素行としたがこれに限定するものでは
ない。第1フィールド(フレーム)では、4画素行目ず
つ非表示画素行とし、第2フィールド(フレーム)で
は、2画素行目ずつ非表示画素行とし、第3フィールド
(フレーム)では、1画素行目ずつ非表示画素行とし、
第4フィールド(フレーム)では、4画素行目ずつ非表
示画素行とし、第5フィールド(フレーム)では、2画
素行目ずつ非表示画素行とし、第6フィールド(フレー
ム)では、画素行目ずつ非表示画素行としてもよい。
In the embodiment of FIG. 62, in the first field (frame), non-display pixel rows are set every two pixel rows, and in the second field (frame), every one pixel row is set as non-display pixel rows. However, it is not limited to this. In the first field (frame), the non-display pixel rows are set every two pixel rows, and in the second field (frame), the non-display pixel rows are set every one pixel row, but the present invention is not limited to this. In the first field (frame), non-display pixel rows are set every 4 pixel rows, in the second field (frame), every 2 pixel rows are set as non-display pixel rows, and in the third field (frame), 1 pixel row Each as a non-display pixel row,
In the 4th field (frame), non-display pixel rows are set every 4 pixel rows, in the 5th field (frame), 2 pixel rows are set as non-display pixel rows, and in the 6th field (frame), each pixel row is set as non-display pixel rows. It may be a non-display pixel row.

【0470】本発明の駆動方法は、表示効果(アニメー
ション効果など)を実現することも容易である。図63
は表示領域が図63(a)→図63(b)→図63
(c)→図63(d)と順次現れる表示方法である。ゆ
っくりと非表示領域312をスクロールしていくことに
よりアニメーション効果を実現できる。これらの制御も
図2、図60、図74などの回路構成で容易に実現でき
る。つまり、映像として黒表示状態を書き込まず、ゲー
ト信号線17bなどの制御によりアニメーション効果を
容易に実現できるのである。
With the driving method of the present invention, it is easy to realize a display effect (animation effect, etc.). Fig. 63
The display area is as shown in FIG. 63 (a) → FIG. 63 (b) → FIG. 63.
This is a display method that appears in sequence from (c) to FIG. 63 (d). An animation effect can be realized by slowly scrolling the non-display area 312. These controls can also be easily realized with the circuit configurations shown in FIG. 2, FIG. 60, FIG. That is, the animation effect can be easily realized by controlling the gate signal line 17b without writing the black display state as an image.

【0471】液晶表示パネルなどの画素に1フィールド
(1フレーム)期間データを保持する表示パネルは動画
ボケが発生するという課題がある。CRTなどは電子銃
により一瞬表示されるだけであるので動画ボケの問題は
発生しない。
A display panel which holds data for one field (one frame) period in a pixel of a liquid crystal display panel or the like has a problem that a moving image blur occurs. Since the CRT or the like is only displayed for a moment by the electron gun, the problem of moving image blur does not occur.

【0472】この課題を解決するのに有効手段が黒挿入
である。本発明は動画表示を極めたCRTに近くする黒
挿入方式を容易に実現できる。
Black insertion is an effective means for solving this problem. The present invention can easily realize a black insertion method that approximates a CRT that displays a moving image.

【0473】図64は画面の上から下にFという文字が
移動するところを示している。ただし、文字をFとした
のは作図を容易にするためである。図64に図示するよ
うに画像表示(図64(a)(c)(e))の間に非表
示状態(図64(b)(d)(f))を挿入している。
したがって、画像は飛び飛びの表示となる。そのため。
動画ボケが発生せず、良好な動画表示を実現できる。
FIG. 64 shows that the letter F moves from the top to the bottom of the screen. However, the letter F is used to facilitate drawing. As shown in FIG. 64, a non-display state (FIGS. 64 (b) (d) (f)) is inserted between image displays (FIGS. 64 (a) (c) (e)).
Therefore, the image is displayed in a scattered manner. for that reason.
Good moving image display can be realized without moving image blurring.

【0474】この用に全画面を非表示領域とするには図
60の回路構成を採用すればよい。図2との差異は、E
NBL端子601を具備する点である。ENBL端子6
01はゲート信号線17の形成されたOR回路602の
一端子に接続されている。ENBL端子をLレベルとす
ることにより、すべてのゲート信号線17bにはVgh
レベルが出力され、EL素子15に電流を供給するTF
T11dまたは11eがオフ状態となり、全画面が非表
示領域312となる。ENBL端子がHレベルの時は、
通常動作が実施される。
To make the entire screen a non-display area for this purpose, the circuit configuration of FIG. 60 may be adopted. The difference from FIG. 2 is E
The point is that an NBL terminal 601 is provided. ENBL terminal 6
01 is connected to one terminal of the OR circuit 602 in which the gate signal line 17 is formed. By setting the ENBL terminal to the L level, Vgh is applied to all the gate signal lines 17b.
TF that outputs the level and supplies current to the EL element 15
T11d or 11e is turned off, and the entire screen becomes the non-display area 312. When the ENBL terminal is at H level,
Normal operation is performed.

【0475】なお、図2、図60、図74、図84で
は、ST端子に入力されたデータをクロックで順次シフ
トしていく(シリアル動作)として説明したが、これに
限定するものではない。たとえば、各ゲート信号線のオ
ンオフ状態を一度に決定するパラレル入力であってもよ
い(すべてのゲート信号線のオンフフロジックがコント
ローラかゲート信号線17の本数分、一度に出力され決
定される構成などが該当する)。
In FIG. 2, FIG. 60, FIG. 74, and FIG. 84, the data input to the ST terminal is sequentially shifted by the clock (serial operation), but the present invention is not limited to this. For example, a parallel input that determines the on / off state of each gate signal line at a time may be used (a configuration in which the on / off logic of all gate signal lines is output and determined at one time for the number of controllers or gate signal lines 17). And so on).

【0476】図64の実施例は、動画表示であったが、
R,G,Bごとにフラッシュイングさせるなどのアニメ
ーション効果の実施も容易である(図65参照)。図6
5において、図65(a)は赤色表示311Rの画像、
図65(b)は緑色表示311Gの画像、図65(c)
は青色表示311Bの画像である。図65(a)の赤色
表示311Rの画像、図65(b)は緑色表示311G
の画像、図65(c)は青色表示311Bの画像のそれ
ぞれの間に非表示状態(図65(b)(d)(f))を
挿入している。この動作を図65(a)から図65
(f)をゆっくりと実施すれば、R,G,Bの画像がフ
ラッシュイングしているように表示することができる。
In the embodiment shown in FIG. 64, a moving image is displayed.
It is also easy to implement an animation effect such as flashing for each R, G, B (see FIG. 65). Figure 6
65, (a) is an image of red display 311R,
65 (b) is an image of green display 311G, FIG. 65 (c).
Is an image of blue display 311B. Image of red display 311R in FIG. 65 (a), green display 311G in FIG. 65 (b)
In FIG. 65 (c), the non-display state (FIGS. 65 (b) (d) (f)) is inserted between the blue display 311B images. This operation is shown in FIG.
If (f) is slowly performed, the R, G, and B images can be displayed as if they were flashing.

【0477】図64の実施例は、動画表示であったが、
異なる画像をごとにフラッシュイングさせるなどのアニ
メーション効果の実施も容易である(図66参照)。図
66において、図66(a)は第1画像311a、図6
6(b)は第2画像311b、図66(c)は第3画像
311Bである。図66(a)は第1画像311a、図
66(b)の第2画像311b、図66(c)の第3画
像311Bのそれぞれの間に非表示状態(図66(b)
(d)(f))を挿入している。この動作を図66
(a)から図66(f)をゆっくりと実施すれば、第
1、第2、第3の画像がフラッシュイングしているよう
に表示することができる。
In the embodiment shown in FIG. 64, the moving image is displayed.
It is easy to implement an animation effect such as flashing different images one by one (see FIG. 66). In FIG. 66, FIG. 66 (a) shows the first image 311a and FIG.
6 (b) is the second image 311b, and FIG. 66 (c) is the third image 311B. 66 (a) is a non-display state between the first image 311a, the second image 311b of FIG. 66 (b), and the third image 311B of FIG. 66 (c) (FIG. 66 (b)).
(D) and (f) are inserted. This operation is shown in FIG.
If (a) to FIG. 66 (f) are slowly carried out, it is possible to display the first, second, and third images as if they were flashing.

【0478】以上の実施例は、概念的にはソース信号線
18に所定値に対しN倍の電流を流し、EL素子15に
は1/Nの期間だけN倍の電流を流して所望の輝度を得
る方法(構成)であった。この方法(構成)により、寄
生容量404の存在による書き込み不測の課題を解決し
た。
In the above embodiment, conceptually, the source signal line 18 is supplied with a current N times as large as the predetermined value, and the EL element 15 is supplied with a current N times for a period of 1 / N to obtain a desired luminance. Was a method (configuration) for obtaining By this method (configuration), the problem of unexpected writing due to the presence of the parasitic capacitance 404 was solved.

【0479】なお、N倍する駆動方法は、1倍(従来の
駆動方式)よりも発光効率が向上する。これは、図1の
TFT11b(コンデンサ19側)の突き抜け電圧の影
響である。N倍にする方が、この突き抜け電圧の影響を
軽減できる。N倍数は1.5倍以上8倍以下が適切であ
る。これ以上であると、ELの発光効率が低下してしま
うから、全体として効率は低下する。好ましくは、N倍
は2倍以上6倍以下が好ましい。また、N倍するとは、
発光期間を1/Nにするということである。しがたっ
て、Nが2倍以上6倍以下にするとは、発光期間を1/
2以上1/6以下にすることが好ましい(通常の明るさ
の時)ということになる。
The N-fold driving method improves the luminous efficiency more than the 1-fold driving method (conventional driving method). This is due to the penetration voltage of the TFT 11b (on the side of the capacitor 19) of FIG. The effect of this punch-through voltage can be reduced by multiplying it by N times. It is suitable that the N multiple is 1.5 times or more and 8 times or less. If it is more than this, the luminous efficiency of EL is lowered, and the efficiency is lowered as a whole. Preferably, N times is 2 times or more and 6 times or less. Also, to multiply by N means
That is, the light emitting period is set to 1 / N. Therefore, if N is set to 2 times or more and 6 times or less, the light emitting period is 1 /
It is preferable to set it to 2 or more and 1/6 or less (at normal brightness).

【0480】なお、本発明はTFT11dをオフさせ、
EL素子15への電流を遮断した後、再び、TFT11
dをオンさせることにより、EL素子15に先と同様に
電流を流すことができる。本発明はこの原理をうまく応
用して、たとえば、1/Nの期間に電流を流し、所定の
輝度を得ている。このように駆動できるのは、流す電流
値が画素16ごとにコンデンサ19に保持されているか
らである。つまり、本発明は、EL素子15に流す電流
値を保持するとEL表示パネルの特有の画素構成をうま
く応用しているということができる。
According to the present invention, the TFT 11d is turned off,
After cutting off the current to the EL element 15, the TFT 11 is turned on again.
By turning on d, a current can be passed through the EL element 15 as before. The present invention successfully applies this principle, for example, by passing a current in a period of 1 / N to obtain a predetermined brightness. This driving can be performed because the current value to be supplied is held in the capacitor 19 for each pixel 16. That is, it can be said that the present invention successfully applies the specific pixel configuration of the EL display panel when the value of the current passed through the EL element 15 is held.

【0481】図69の構成は、駆動TFT11a対し、
駆動能力が(N−1)倍のTFT11anを形成するこ
とにより、寄生容量404の存在による書き込み不足の
課題を解決する方法である。
The configuration shown in FIG. 69 corresponds to the drive TFT 11a.
This is a method of solving the problem of insufficient writing due to the presence of the parasitic capacitance 404 by forming the TFT 11an having a driving capacity of (N-1) times.

【0482】図69と図1(a)との差異は、駆動TF
T11aの他に、N−1倍駆動のTFT11an−1と
スイッチング用TFT11fを追加した点である。図1
と図69との差異を中心に説明する。TFT11an−
1としたのは、TFT11an−1とTFT11aとの
電流が加算されればN倍になるように構成している。簡
単には、TFT11an−1のチャンネル幅W2はTF
T11aのチャンネル幅W1のN−1倍にしている。た
とえば、N=10であれば、TFT11aのチャンネル
幅W1が1とすれば、TFT11an−1のチャンネル
幅W2は9倍である。したがって、理論的には、TFT
11aが1の電流を流せばTFT11an−1は9倍の
電流を流す能力がある。
The difference between FIG. 69 and FIG. 1A is the drive TF.
In addition to T11a, a TFT-1an-1 driven N-1 times and a switching TFT 11f are added. Figure 1
69 will be mainly described. TFT11an-
The reason for setting 1 is that the currents of the TFT 11an-1 and the TFT 11a are multiplied by N when multiplied. Simply, the channel width W2 of TFT11an-1 is TF.
It is N-1 times the channel width W1 of T11a. For example, if N = 10 and the channel width W1 of the TFT 11a is 1, the channel width W2 of the TFT 11an-1 is 9 times. Therefore, theoretically, the TFT
If 11a passes a current of 1, TFT 11an-1 has the ability to flow a current 9 times.

【0483】なお、図69ではTFT11an−1の駆
動電流をN−1としたのは、図69の構成では、N倍の
電流をソース信号線18に流す時、EL素子15に電流
を流すTFT11aの1倍の電流が加算されるからであ
る。図71の構成ではEL素子15に電流を流すTFT
11bの電流はソース信号線18に流れることはないか
らTFT11nは駆動電流をN倍にする必要がある。
In FIG. 69, the driving current of the TFT 11an-1 is set to N−1. In the configuration of FIG. 69, the TFT 11a that allows current to flow through the EL element 15 when an N times larger current is passed through the source signal line 18 is used. This is because a current that is 1 times the current is added. In the configuration shown in FIG. 71, a TFT that allows a current to flow through the EL element 15
Since the current of 11b does not flow to the source signal line 18, the driving current of the TFT 11n needs to be N times.

【0484】ここで説明を容易にするため、TFT11
aはI1なる電流を流すとし、TFT11an−1はI
n−1の電流を流すものとする。また、I1 + In
−1=Iw(この場合は、IwはEL素子15に流す電
流I1のN倍とする)とする。
For ease of explanation, the TFT 11
The current of I1 is supplied to a, and the TFT 11an-1 is I
A current of n-1 shall flow. In addition, I1 + In
−1 = Iw (in this case, Iw is N times the current I1 flowing through the EL element 15).

【0485】電流プログラム期間にはゲート信号線17
aがVglの電圧が印加され、TFT11b、11f、
11cがオン状態となる。また、ゲート信号線17bは
Vghの電圧が印加され、TFT11dはオフ状態であ
る。したがって、プログラム電流Iwに相当する電圧が
コンデンサ19にプログラムされる。つまり、I1+
In−1 =Iw(この場合は、IwはEL素子15に
流す電流I1のN倍とする)なる電流がソース信号線1
8に流れる。
The gate signal line 17 is supplied during the current program period.
When a voltage of Vgl is applied to a, TFTs 11b, 11f,
11c is turned on. Further, the gate signal line 17b is applied with a voltage of Vgh, and the TFT 11d is in the off state. Therefore, the voltage corresponding to the program current Iw is programmed in the capacitor 19. That is, I1 +
In-1 = Iw (in this case, Iw is N times the current I1 flowing through the EL element 15), and the current is the source signal line 1
It flows to 8.

【0486】つぎにEL素子15に電流を流す期間では
ゲート信号線17aがVghの電圧が印加され、TFT
11b、11f、11cがオフ状態となる。したがっ
て、ソース信号線18と画素16とは切り離される。ま
た、ゲート信号線17bはVglの電圧が印加され、T
FT11dはオン状態となる。したがって、プログラム
電流Iwの1/Nに対応する電流I1がEL素子15に
流れる。
Next, during the period in which a current is passed through the EL element 15, the gate signal line 17a is applied with a voltage of Vgh and the TFT
11b, 11f and 11c are turned off. Therefore, the source signal line 18 and the pixel 16 are separated. Further, a voltage of Vgl is applied to the gate signal line 17b,
The FT 11d is turned on. Therefore, the current I1 corresponding to 1 / N of the program current Iw flows through the EL element 15.

【0487】以上のように駆動することにより、ソース
信号線18には所望値の電流(EL素子に流す電流)の
N倍の電流を流すことができる。したがって、寄生容量
(浮遊容量)404の影響が除外され、十分にコンデン
サ19に電流プログラムを行うことができる。一方、E
L素子15には所望値に電流を印加することができる。
By driving as described above, the source signal line 18 can be supplied with a current N times as large as the desired value of current (current flowing through the EL element). Therefore, the influence of the parasitic capacitance (stray capacitance) 404 is excluded, and the current programming of the capacitor 19 can be sufficiently performed. On the other hand, E
A current can be applied to the L element 15 at a desired value.

【0488】図69ではN−1の電流能力があるTFT
11an−1と1個を画素に作製するとしたがこれに限
定するものではない。図70に示すように複数個のTF
T(図70ではTFT11n1〜TFT11n6)を作
製してもよい。動作は図69と同様であるので説明を省
略する。
In FIG. 69, a TFT having N-1 current capability
Although it has been stated that 11an-1 and one pixel are formed in the pixel, the invention is not limited to this. As shown in FIG. 70, a plurality of TFs
T (TFT 11n1 to TFT 11n6 in FIG. 70) may be manufactured. The operation is the same as that in FIG. 69, and therefore its explanation is omitted.

【0489】図69の構成は、駆動TFT11a対し、
駆動能力が(N−1)倍のTFT11anを形成するこ
とにより、寄生容量404の存在による書き込み不足の
課題を解決する方法である。
The structure shown in FIG. 69 corresponds to the driving TFT 11a.
This is a method of solving the problem of insufficient writing due to the presence of the parasitic capacitance 404 by forming the TFT 11an having a driving capacity of (N-1) times.

【0490】図21、図43、図71に図示したカレン
トミラー方式においても図69の構成を展開することが
できる。図71に図示するように、N倍の駆動能力を有
するTFT11nを形成すればよい。ただし、カレント
ミラー構成では切り替えようのTFT11fは必要がな
い。
The configuration of FIG. 69 can be expanded also in the current mirror system shown in FIGS. 21, 43, and 71. As shown in FIG. 71, a TFT 11n having N times the driving capability may be formed. However, in the current mirror configuration, the switching TFT 11f is not necessary.

【0491】図71において、TFT11nのチャンネ
ル幅W2とTFT11bのチャンネル幅W1との比は、
N:1としている。ここで説明を容易にするため、TF
T11bはI1なる電流を流すとし、TFT11nはI
nの電流を流すものとする。また、In =Iw(この
場合は、IwはEL素子15に流す電流I1のN倍とす
る)とする。
In FIG. 71, the ratio of the channel width W2 of the TFT 11n to the channel width W1 of the TFT 11b is
N: 1. For ease of explanation here, TF
It is assumed that the current I1 flows through T11b and the TFT 11n receives I
It is assumed that a current of n flows. Further, In 2 = Iw (in this case, Iw is N times the current I1 flowing through the EL element 15).

【0492】電流プログラム期間にはゲート信号線17
aがVglの電圧が印加され、TFT11c、11dが
オン状態となる。したがって、プログラム電流Iwに相
当する電圧がコンデンサ19にプログラムされる。つま
り、In =Iw(この場合は、IwはEL素子15に
流す電流I1のN倍とする)なる電流がソース信号線1
8に流れる。なお、TFT11cとTFT11dとは少
しタイミングをずらせてオンオフ状態を制御することが
好ましい。この場合は、TFT11cを制御するゲート
信号線とTFT11dを制御するゲート信号線とを別個
にし、独立制御をする必要がある。
In the current program period, the gate signal line 17
A voltage of Vgl is applied to a, and the TFTs 11c and 11d are turned on. Therefore, the voltage corresponding to the program current Iw is programmed in the capacitor 19. In other words, the current that is In 2 = Iw (in this case, Iw is N times the current I1 flowing through the EL element 15) is the source signal line 1
It flows to 8. It is preferable that the TFT 11c and the TFT 11d be controlled in ON / OFF state by slightly shifting the timing. In this case, it is necessary to separate the gate signal line for controlling the TFT 11c and the gate signal line for controlling the TFT 11d and perform independent control.

【0493】つぎにEL素子15に電流を流す期間では
ゲート信号線17aがVghの電圧が印加され、TFT
11c、11dがオフ状態となる。したがって、ソース
信号線18と画素16とは切り離される。したがって、
プログラム電流Iwの1/Nに対応する電流I1がEL
素子15に流れる。
Next, in the period in which a current is passed through the EL element 15, the gate signal line 17a is applied with a voltage of Vgh, and the TFT
11c and 11d are turned off. Therefore, the source signal line 18 and the pixel 16 are separated. Therefore,
The current I1 corresponding to 1 / N of the program current Iw is EL
It flows to the element 15.

【0494】以上のように駆動することにより、ソース
信号線18には所望値の電流(EL素子に流す電流)の
N倍の電流を流すことができる。したがって、寄生容量
(浮遊容量)404の影響が除外され、十分にコンデン
サ19に電流プログラムを行うことができる。一方、E
L素子15には所望値に電流を印加することができる。
By driving as described above, the source signal line 18 can be supplied with N times as much current as the desired value (current flowing through the EL element). Therefore, the influence of the parasitic capacitance (stray capacitance) 404 is excluded, and the current programming of the capacitor 19 can be sufficiently performed. On the other hand, E
A current can be applied to the L element 15 at a desired value.

【0495】なお、ゲート信号線17bとTFT11e
は図40で説明したように、図30などの非画像表示あ
るいは1/N期間だけEL素子15に電流を流すように
制御するために設けたものである。したがって、図71
の構成において、さらにN倍の電流を流し、EL素子1
5に流す電流を1/N期間のパルス駆動することによ
り、寄生容量404による書き込み不足の問題は全くな
くなる。また、黒挿入表示を容易に実現でき、良好な動
画表示を実現できる。
It should be noted that the gate signal line 17b and the TFT 11e
As described with reference to FIG. 40, is provided for non-image display as shown in FIG. 30 or for controlling so that a current flows through the EL element 15 only for 1 / N period. Therefore, FIG.
In this configuration, an EL element 1 is supplied with a current N times larger.
By pulse-driving the current flowing in 5 for the 1 / N period, the problem of insufficient writing due to the parasitic capacitance 404 is completely eliminated. Further, black insertion display can be easily realized, and good moving image display can be realized.

【0496】図71の構成は非常に有効である。たとえ
ば、図1のみの構成で、N=10を実現しようとする
と、所望値よりも10倍高いパルス状の電流をEL素子
15に印加する必要がある。この場合、EL素子15の
端子電圧が高くなることから、Vdd電圧を高く設計す
る必要がでる。また、EL素子15が劣化する可能性も
ある。
The configuration of FIG. 71 is very effective. For example, in order to realize N = 10 with only the configuration of FIG. 1, it is necessary to apply a pulsed current 10 times higher than a desired value to the EL element 15. In this case, since the terminal voltage of the EL element 15 becomes high, it is necessary to design the Vdd voltage high. In addition, the EL element 15 may deteriorate.

【0497】しかし、図71の構成では、TFT11n
のチャンネル幅W2をTFT11bの5倍とし、2倍高
い電流でプログラムすれば、5×2=10となる。した
がって、EL素子15には2倍の電流を1/2の期間だ
け印加すれば実現できる。したがって、EL素子15が
劣化する問題もなくなるし、Vdd電圧をほとんど高く
する必要がない。
However, in the configuration of FIG. 71, the TFT 11n
If the channel width W2 is set to 5 times that of the TFT 11b and programming is performed with a current twice as high, then 5 × 2 = 10. Therefore, it can be realized by applying a double current to the EL element 15 only for 1/2 period. Therefore, the problem of deterioration of the EL element 15 is eliminated, and it is not necessary to increase the Vdd voltage.

【0498】逆にTFT11nだけでN=10を実現し
ようとすると、図71の構成では、TFT11nのチャ
ンネル幅W2をTFT11bの10倍とする必要があ
る。10倍にするとTFT11nの形成面積が、画素の
面積のほとんどを占有する。したがって、画素開口率が
極めて小さくなるか、もしくは実現不可能になる。しか
し、図71の構成では、TFT11nのチャンネル幅W
2をTFT11bの5倍とするだけで済むので十分な画
素開口率を実現することができる。
On the contrary, in order to realize N = 10 only by the TFT 11n, in the configuration of FIG. 71, the channel width W2 of the TFT 11n needs to be 10 times that of the TFT 11b. When it is multiplied by 10, the formation area of the TFT 11n occupies most of the pixel area. Therefore, the pixel aperture ratio becomes extremely small or unrealizable. However, in the configuration of FIG. 71, the channel width W of the TFT 11n is
Since it is only necessary to set 2 to 5 times the TFT 11b, it is possible to realize a sufficient pixel aperture ratio.

【0499】N=10の実現方法は数多くある。TFT
11nのチャンネル幅W2をTFT11bの2倍とし、
5倍高い電流をEL素子15に1/5の期間印加する方
法、TFT11nのチャンネル幅W2をTFT11bの
4倍とし、2.5倍高い電流をEL素子15に1/2.
5の期間印加する方法などである。つまり、TFT11
nの設計(チャンネル幅W2)とEL素子に流す電流と
その期間とを考慮して掛算が10となるようにすればよ
いからである。したがって、Nの値は自由に設計するこ
とができる。
There are many ways to realize N = 10. TFT
The channel width W2 of 11n is twice that of the TFT 11b,
A 5 times higher current is applied to the EL element 15 for a 1/5 period, the channel width W2 of the TFT 11n is set to 4 times that of the TFT 11b, and a 2.5 times higher current is applied to the EL element 15 by 1/2.
For example, a method of applying the voltage for 5 periods is used. That is, the TFT 11
This is because the multiplication should be 10 in consideration of the design of n (channel width W2), the current flowing through the EL element and the period thereof. Therefore, the value of N can be freely designed.

【0500】図71ではNの電流能力があるTFT11
nと1個を画素に作製するとしたがこれに限定するもの
ではない。図72に示すように複数個のTFT(図72
ではTFT11n1〜TFT11n5)を作製してもよ
い。動作は図71と同様であるので説明を省略する。
In FIG. 71, the TFT 11 having N current capability
Although it has been stated that n and one pixel are formed in the pixel, the invention is not limited to this. As shown in FIG. 72, a plurality of TFTs (see FIG.
Then, TFT 11n1 to TFT 11n5) may be manufactured. The operation is the same as that in FIG. 71, so the description thereof will be omitted.

【0501】N=10の実現方法は数多くあるのは、図
69の構成でも同様である。TFT11an−1のチャ
ンネル幅W2をTFT11aの4倍とし、2倍高い電流
をEL素子15に1/2の期間印加する方法、TFT1
1an−1のチャンネル幅W2をTFT11abの2倍
とし、5倍高い電流をEL素子15に1/5の期間印加
する方法などである。つまり、TFT11an−1の設
計(チャンネル幅W2)とEL素子に流す電流とその期
間とを考慮して掛算が10となるようにすればよいから
である。したがって、Nの値は自由に設計することがで
きる。
There are many ways to realize N = 10, also in the configuration of FIG. A method in which the channel width W2 of the TFT 11an-1 is set to be four times as large as that of the TFT 11a and a current twice as high is applied to the EL element 15 for a half period, TFT1
For example, the channel width W2 of 1an-1 is set to be twice that of the TFT 11ab, and a five times higher current is applied to the EL element 15 for ⅕ period. That is, the multiplication should be 10 in consideration of the design of the TFT 11an-1 (channel width W2), the current flowing through the EL element and the period thereof. Therefore, the value of N can be freely designed.

【0502】以上に説明した事項は、図69、図70、
図75、図82、図83においても適用できることは明
らかである。つまり、本発明はチャンネル幅が大きい駆
動TFTを各画素に形成し、ソース信号線18を駆動す
る電流を増大させる。かつ、図31などで説明したEL
素子15に流す電流を増大するとともに、EL素子15
に流す電流を所定の期間とする方法あるいは構成であ
る。
The matters explained above are shown in FIG. 69, FIG. 70,
Obviously, the same can be applied to FIGS. 75, 82, and 83. That is, according to the present invention, a driving TFT having a large channel width is formed in each pixel to increase the current for driving the source signal line 18. Moreover, the EL described in FIG.
In addition to increasing the current flowing through the element 15, the EL element 15
It is a method or a configuration in which the current flowing through the device is set for a predetermined period.

【0503】また、TFT11dあるいはTFT11e
のオンオフを制御することにより、図30、図31など
で説明した表示を実現できる。この表示により、動画表
示を改善でき、また、明るさを調整することができる。
したがって、本発明ではEL素子にN倍あるいはNに比
例した電流をEL素子15に印加するとしたが、これに
限定するものではない。所定の1倍あるいはそれ以下の
電流をEL素子15に流す構成でもよい。この場合で
も、動画表示を改善でき、また、明るさを容易に調整す
ることができるという効果を発揮できるからである。
Also, the TFT 11d or the TFT 11e
The display described with reference to FIGS. 30, 31 and the like can be realized by controlling the on / off of. With this display, the moving image display can be improved and the brightness can be adjusted.
Therefore, in the present invention, the EL element 15 is applied with a current N times or a current proportional to N, but the present invention is not limited to this. The EL element 15 may be configured to flow a current of a predetermined value or less. Even in this case, it is possible to improve the display of the moving image and to easily adjust the brightness.

【0504】図1および図69も同様であるが、TFT
11dをオン状態にする際、抵抗値を高くすることによ
りTFT11aのキンク現象による特性バラツキを抑制
できる。このことは図1(b)の構成で説明をした。図
1(b)のTFT11eを配置し、TFT11eのゲー
ト端子にVbb電圧(Vgl < Vbb < Vg
h)を印加することにより、TFT11aに流れる電流
のバラツキが減少するのである。
The same applies to FIGS. 1 and 69, but the TFT
When 11d is turned on, by increasing the resistance value, characteristic variation due to the kink phenomenon of the TFT 11a can be suppressed. This has been described with the configuration of FIG. The TFT 11e of FIG. 1B is arranged, and a Vbb voltage (Vgl <Vbb <Vg is applied to the gate terminal of the TFT 11e.
By applying h), variations in the current flowing through the TFT 11a are reduced.

【0505】したがって、図1および図69の画素構成
においても、ゲート信号線17bにVbb電圧を印加し
てTFT11dをオンさせることが好ましい。つまり、
TFT11dはオフ状態ではVghが印加され、オン状
態ではVbbを印加するのである。
Therefore, also in the pixel configurations of FIGS. 1 and 69, it is preferable to apply the Vbb voltage to the gate signal line 17b to turn on the TFT 11d. That is,
Vgh is applied to the TFT 11d in the off state, and Vbb is applied in the on state.

【0506】この制御は容易である。図74のように回
路構成すればよいからである。シフトレジスタ22bの
出力段のインバータはVghとVbbを電源とすれば、
オフ状態ではゲート信号線17bにVghが印加され、
オン状態ではゲート信号線17bにVbbが印加できる
からである。
This control is easy. This is because the circuit configuration may be as shown in FIG. If the output stage inverter of the shift register 22b uses Vgh and Vbb as power sources,
In the off state, Vgh is applied to the gate signal line 17b,
This is because Vbb can be applied to the gate signal line 17b in the on state.

【0507】なお、ゲート信号線17のオンオフ制御
は、シフトレジスタ22が保持するデータに基づくとし
た。しかし、ゲート信号線17のオンオフ制御はシフト
レジスタ22による制御に限定するものではなく、シフ
トレジスタ22を設けず、各ゲート信号線17を独自に
制御する方式でもよい。たとえば、オン電圧を出力する
任意のゲート信号線17をマルチプレクサ回路で選択し
てもよい。また、すべてのゲート信号線をパラレルで引
き出し、それぞれのゲート信号線に自由にオン電圧また
はオフ電圧を印加できるように構成してもよい。このよ
うに、シフトレジスタ22の保持データによらず、任意
のゲート信号線17を選択できるように構成することの
より、図31、図32、図87、図88、図198、図
201、図215、図218、図220、図221など
の表示画面21のオンオフあるいは輝度分布の強弱処理
が容易となる。
The on / off control of the gate signal line 17 is based on the data held by the shift register 22. However, the on / off control of the gate signal line 17 is not limited to the control by the shift register 22, and a method of independently controlling each gate signal line 17 without providing the shift register 22 may be used. For example, an arbitrary gate signal line 17 that outputs an ON voltage may be selected by a multiplexer circuit. Further, all gate signal lines may be drawn out in parallel, and an ON voltage or an OFF voltage may be freely applied to each gate signal line. As described above, by arranging such that the arbitrary gate signal line 17 can be selected regardless of the data held in the shift register 22, FIG. 31, FIG. 32, FIG. 87, FIG. 88, FIG. 198, FIG. 201, FIG. 215, FIG. 218, FIG. 220, FIG. 221, etc., it is easy to turn on / off the display screen 21 or process intensity of the luminance distribution.

【0508】なお、図1(b)と同様に、図75に図示
するように、別途、Vbb電圧を印加するTFT11e
を形成または配置してもよいことは言うまでもない。こ
の事項はカレントミラー構成でも同様である。たとえ
ば、図76に図示するようにVbb電圧を印加するTF
T11fを別途形成または配置してもよい。図54の画
素構成でも同様である。図77に図示するようにVbb
電圧を印加するTFT11fを別途形成または配置して
もよい。
Note that, similarly to FIG. 1B, as shown in FIG. 75, a TFT 11e for separately applying a Vbb voltage is applied.
It goes without saying that may be formed or arranged. The same applies to the current mirror configuration. For example, as shown in FIG. 76, a TF that applies a Vbb voltage.
The T11f may be separately formed or arranged. The same applies to the pixel configuration of FIG. As shown in FIG. 77, Vbb
The TFT 11f for applying a voltage may be separately formed or arranged.

【0509】なお、図78においては、駆動TFT11
aはTFT11a1とTFT11a2の複数に分離し、
ゲート端子をカスケードに接続することにより、キンク
現象を抑制でき、また、特性ばらつきも抑制できる。こ
のことは図1のTFT11a、図21、図43、図71
のTFT11b、図69のTFT11a、図71のTF
T11bなどについても同様である(駆動用TFTの構
成として採用することが好ましい)。
78, the driving TFT 11
a is divided into a plurality of TFTs 11a1 and TFTs 11a2,
By connecting the gate terminals in a cascade, it is possible to suppress the kink phenomenon and also suppress variations in characteristics. This is because the TFT 11a of FIG. 1, FIG. 21, FIG. 43, and FIG.
TFT 11b, TFT 11a in FIG. 69, TF in FIG. 71
The same applies to T11b and the like (preferably adopted as the structure of the driving TFT).

【0510】図70よび図72においてTFT11nな
どを複数に分割するとした。他の構成として、図73に
図示するように分割したTFT11n1、TFT11n
2を駆動電流向上用として動作させるか否かをゲート信
号線17cに印加する電位(VghまたはVhl)で制
御すればよい。TFT11f2をオフ状態にすれば、ソ
ース信号線18に流れる電流はTFT11n1、TFT
11n2が動作している場合の1/2となる。これらの
制御は表示パネルの画像表示データおよび消費電力の観
点から決定すると良い。
70 and 72, the TFT 11n is divided into a plurality of parts. As another configuration, the TFT 11n1 and the TFT 11n divided as shown in FIG.
Whether or not 2 is operated for improving the drive current may be controlled by the potential (Vgh or Vhl) applied to the gate signal line 17c. When the TFT 11f2 is turned off, the current flowing through the source signal line 18 is
It is 1/2 that when 11n2 is operating. These controls may be determined from the viewpoint of image display data of the display panel and power consumption.

【0511】図75と図82の差異は、スイッチングT
FT11fのゲート端子をゲート信号線17cに接続し
た点である。つまり、TFT11fのオンオフ状態をゲ
ート信号線17aの電位状態に影響されず、独自制御を
実現できる点にある。
The difference between FIG. 75 and FIG. 82 is that the switching T
This is the point where the gate terminal of the FT 11f is connected to the gate signal line 17c. That is, the on / off state of the TFT 11f is not affected by the potential state of the gate signal line 17a, and independent control can be realized.

【0512】TFT11fがたえずオフ状態では、TF
T11nは画素からは切り離された状態である。したが
って、図1(a)の画素構成となる。ゲート信号線17
cとゲート信号線17aとをロジック的にショートして
使用すれば図75の構成となる。
When the TFT 11f is constantly off, TF
T11n is in a state of being separated from the pixel. Therefore, the pixel configuration shown in FIG. Gate signal line 17
If c and the gate signal line 17a are logically short-circuited and used, the configuration shown in FIG. 75 is obtained.

【0513】図75の問題点はTFT11nとTFT1
1aのVtなどの特性ずれが画素ごとに発生している
と、画素ごとにEL素子15に流れる電流にばらつきが
でるという点である。電流にばらつきが発生すると白ラ
スターなどの均一表示でも表示画像にざらつき感が出て
しまう。その点、図1の構成ではこの問題は発生しな
い。
The problem of FIG. 75 is that TFT 11n and TFT 1
If a characteristic deviation such as Vt of 1a occurs in each pixel, the current flowing through the EL element 15 varies from pixel to pixel. If the currents vary, the displayed image will appear grainy even in a uniform display such as white raster. In that respect, this problem does not occur in the configuration of FIG.

【0514】したがって、表示パネルの画面サイズが小
さく、寄生容量404の影響が少ない時はTFT11f
をたえずオフ状態で使用する。表示パネルの画面サイズ
が大きく、寄生容量404の影響がTFT11aの動作
のみでは解消できない時は、ゲート信号線17cをゲー
ト信号線17aのロジックとショートし、図75の画素
構成を実現して駆動を行う。
Therefore, when the screen size of the display panel is small and the influence of the parasitic capacitance 404 is small, the TFT 11f
Always use in the off state. When the screen size of the display panel is large and the influence of the parasitic capacitance 404 cannot be eliminated only by the operation of the TFT 11a, the gate signal line 17c is short-circuited with the logic of the gate signal line 17a to realize the pixel configuration of FIG. To do.

【0515】図84に図82の画素構成を駆動する回路
ブロックを示す。ゲート信号線17cを駆動するシフト
レジスタ22cを形成し、ゲート信号線17cを駆動す
る。図1の画素構成で駆動する時は、ST3のデータを
たえずLとし、ゲート信号線17cにはたえず、Vgh
の電圧が出力されるように制御する。図82の構成で使
用する場合は、シフトレジスタ22cと22aのデータ
入力状態(タイミング、ロジックなど)を同一にすれば
よい。
FIG. 84 shows a circuit block for driving the pixel configuration of FIG. A shift register 22c that drives the gate signal line 17c is formed, and the gate signal line 17c is driven. When driving with the pixel configuration of FIG. 1, the data of ST3 is always set to L and the gate signal line 17c is always set to Vgh.
It controls so that the voltage of is output. When used in the configuration of FIG. 82, the data input states (timing, logic, etc.) of the shift registers 22c and 22a may be the same.

【0516】図82の構成は、カレントミラーの構成で
も実現できる。図83にその画素構成を示す。図83に
図示するように、分割したTFT11a1、TFT11
nを駆動電流向上用として動作させるか否かをゲート信
号線17cに印加する電位(VghまたはVhl)で制
御すればよい。TFT11fをオフ状態にすれば、ソー
ス信号線18に流れる電流はTFT11aのみが動作す
る。
The structure shown in FIG. 82 can also be realized by a current mirror structure. FIG. 83 shows the pixel structure. As shown in FIG. 83, the divided TFT 11a1 and TFT 11 are divided.
Whether or not n is operated for improving the drive current may be controlled by the potential (Vgh or Vhl) applied to the gate signal line 17c. When the TFT 11f is turned off, the current flowing through the source signal line 18 operates only in the TFT 11a.

【0517】図82は、スイッチングTFT11fのゲ
ート端子をゲート信号線17cに接続した点である。つ
まり、TFT11fのオンオフ状態をゲート信号線17
aの電位状態に影響されず、独自制御を実現できる点に
ある。
FIG. 82 shows that the gate terminal of the switching TFT 11f is connected to the gate signal line 17c. That is, the on / off state of the TFT 11f is changed to the gate signal line 17
The point is that independent control can be realized without being affected by the potential state of a.

【0518】TFT11fがたえずオフ状態では、TF
T11nは画素からは切り離された状態である。ゲート
信号線17cとゲート信号線17aとをロジック的にシ
ョートして使用すれば図75の構成となる。
When the TFT 11f is constantly off, TF
T11n is in a state of being separated from the pixel. If the gate signal line 17c and the gate signal line 17a are logically short-circuited and used, the configuration shown in FIG. 75 is obtained.

【0519】したがって、図82の画素構成と同様に、
表示パネルの画面サイズが小さく、寄生容量404の影
響が少ない時はTFT11fをたえずオフ状態で使用す
る。表示パネルの画面サイズが大きく、寄生容量404
の影響がTFT11aの動作のみでは解消できない時
は、ゲート信号線17cをゲート信号線17aのロジッ
クとショートし、駆動電流を増大させて駆動する。図8
3の画素構成においても、図84の回路ブロックを適用
することができる。
Therefore, similar to the pixel configuration of FIG.
When the screen size of the display panel is small and the influence of the parasitic capacitance 404 is small, the TFT 11f is constantly used in the off state. The screen size of the display panel is large and the parasitic capacitance 404
When the influence of 1 cannot be eliminated only by the operation of the TFT 11a, the gate signal line 17c is short-circuited with the logic of the gate signal line 17a, and the drive current is increased to drive. Figure 8
The circuit block of FIG. 84 can also be applied to the pixel configuration of FIG.

【0520】なお、図84の構成ではゲート信号線17
cを制御するシフトレジスタ22cを新規に形成し、動
作させた。しかし、この構成に限定するものではない。
ゲート信号線17cの制御ロジックは容易である。スイ
ッチングTFT11fのゲート端子にVglまたはVg
h電圧を印加するだけであるからである。TFT11n
を動作させない時は、表示領域21内の全TFT11f
のゲート端子にVhg電圧を印加すればよい。TFT1
1nを動作させる場合は、ゲート信号線17aの電位を
ゲート信号線17cに印加すればよい。したがって、図
84のように別途シフトレジスタ22cを使用する必要
はない。つまり、シフトレジスタ22aのデータをその
ままゲート信号線17cに出力するか、すべてのゲート
信号線17cの電位がVghとなるようにゲート回路を
付加すればよいからである。
In the structure of FIG. 84, the gate signal line 17
A shift register 22c for controlling c was newly formed and operated. However, the configuration is not limited to this.
The control logic of the gate signal line 17c is easy. Vgl or Vg at the gate terminal of the switching TFT 11f
This is because only the h voltage is applied. TFT 11n
All TFTs 11f in the display area 21 when not operating
The Vhg voltage may be applied to the gate terminal of the. TFT1
When operating 1n, the potential of the gate signal line 17a may be applied to the gate signal line 17c. Therefore, it is not necessary to separately use the shift register 22c as shown in FIG. That is, the data of the shift register 22a may be output to the gate signal line 17c as it is, or a gate circuit may be added so that the potentials of all the gate signal lines 17c become Vgh.

【0521】以下に本発明の駆動方法について説明をす
る。ソース信号線18に流す電流をN倍することによ
り、寄生容量404の影響がなくなり、解像度のある良
好な画像表示を実現できる。
The driving method of the present invention will be described below. By multiplying the current flowing through the source signal line 18 by N times, the influence of the parasitic capacitance 404 is eliminated, and good image display with high resolution can be realized.

【0522】図87はソース信号線に流れる電流を増大
させる他の実施例の説明図である。基本的に複数の画素
行を同時に選択し、複数の画素行をあわせた電流でソー
ス信号線の寄生容量などを充放電し電流書き込み不足を
大幅に改善する方式である。ただし、複数の画素行を同
時に選択するため、1画素あたりの駆動する電流を減少
させることができる。したがって、EL素子15に流れ
る電流を減少させることができる。ここで、説明を容易
にするため、一例として、N=10として説明する(ソ
ース信号線に流す電流を10倍にする)。
FIG. 87 is an explanatory diagram of another embodiment for increasing the current flowing through the source signal line. Basically, this is a method in which a plurality of pixel rows are selected at the same time, and the currents of the plurality of pixel rows are combined to charge and discharge the parasitic capacitance of the source signal line and the like, thereby significantly reducing the insufficient current writing. However, since a plurality of pixel rows are selected at the same time, the driving current per pixel can be reduced. Therefore, the current flowing through the EL element 15 can be reduced. Here, in order to facilitate the description, N = 10 will be described as an example (the current flowing through the source signal line is multiplied by 10).

【0523】図87などで説明する本発明は、画素行は
同時にK画素行を選択する。ソースドライバICからは
所定電流のN倍電流をソース信号線18に印加する。各
画素にはEL素子に流す電流のN/K倍の電流がプログ
ラムされる。EL素子を所定発光輝度とするために、E
L素子に流れる時間を1フレームのK/N時間にする。
このように駆動することにより、ソース信号線18の寄
生容量を十分に充放電でき、良好な解像度を所定の発光
輝度を得ることができる。
In the present invention described with reference to FIG. 87 and the like, K pixel rows are simultaneously selected as pixel rows. The source driver IC applies N times the predetermined current to the source signal line 18. A current that is N / K times the current flowing through the EL element is programmed in each pixel. In order to make the EL element have a predetermined emission brightness, E
The time to flow to the L element is set to K / N time for one frame.
By driving in this way, the parasitic capacitance of the source signal line 18 can be sufficiently charged and discharged, and good resolution and predetermined light emission luminance can be obtained.

【0524】つまり、1フレームのK/Nの期間の間だ
け、EL素子に電流を流し、他の期間(1F(N−1)
K/N)は電流を流さない。この表示状態では1Fごと
に画像データ表示、黒表示(非点灯)が繰り返し表示さ
れる。つまり、画像データ表示状態が時間的に飛び飛び
表示(間欠表示)状態となる。したがって、画像の輪郭
ぼけがなくなり良好な動画表示を実現できる。また、ソ
ース信号線18にはN倍の電流で駆動するため、寄生容
量の影響をうけず、高精細表示パネルにも対応できる。
That is, the current is passed through the EL element only during the K / N period of one frame, and the other period (1F (N-1)).
K / N) does not carry current. In this display state, image data display and black display (non-lighting) are repeatedly displayed for each 1F. That is, the image data display state becomes a temporally intermittent display (intermittent display) state. Therefore, the outline of the image is not blurred and a good moving image can be displayed. Further, since the source signal line 18 is driven by a current N times larger, it is not affected by parasitic capacitance and can be applied to a high-definition display panel.

【0525】まず、理解を容易にするため、以前に説明
した1画素行を選択し、N倍の電流をプログラムする方
式について、駆動波形などを参照しながら説明をする。
図134はその説明図である。なお、説明図では画面を
横長に図示しているがこれに限定するものではなく、縦
長でもよいし、円形などの他の形状でもよい。
First, in order to facilitate understanding, a method of selecting one pixel row and programming an N-fold current as described above will be described with reference to drive waveforms and the like.
FIG. 134 is an explanatory diagram thereof. Although the screen is illustrated as being horizontally long in the explanatory view, it is not limited to this and may be vertically long or may have another shape such as a circle.

【0526】図134(a)は表示画像21への書き込
み状態を図示している。図134(a)において、87
1は書き込み画素行である。なお、図134(a)では
1H期間に書き込む画素行は1行である。また、以下の
実施例では図1の画素構成を例にあげて説明するがこれ
に限定するのもではなく、図21、図43、図71など
のカレントミラーの画素構成であってもよい。また、図
54、図67、図68、図103などの電圧プログラム
方式の画素構成にも適用できることはいうまでもない。
FIG. 134 (a) shows the state of writing to the display image 21. In FIG. 134 (a), 87
Reference numeral 1 is a writing pixel row. Note that in FIG. 134A, the number of pixel rows written in the 1H period is one. Further, in the following embodiments, the pixel configuration of FIG. 1 will be described as an example, but the present invention is not limited to this, and the pixel configuration of the current mirror shown in FIGS. 21, 43 and 71 may be used. Further, it goes without saying that the present invention can also be applied to the pixel configurations of the voltage programming method shown in FIGS. 54, 67, 68, 103 and the like.

【0527】図134(a)において、ゲート信号線1
7aが選択されるとソース信号線18に流れる電流がT
FT11aにプログラムされる。この時、ゲート信号線
17bはオフ電圧が印加されEL素子15には電流が流
れない。これは、EL素子側にTFT11dがオン状態
であると、ソース信号線18からEL素子15の容量成
分が見え、この容量に影響されてコンデンサ19に十分
に正確な電流プログラムができなくなるためである。し
たがって、図134(b)で示すように電流を書き込ま
れている画素行は非点灯状態312となる。他の画素行
のTFT11dはオン状態となっており、点灯状態31
1である。なお、図21、図43、図71などに示すカ
レントミラーの画素構成では電流プログラムを行うTF
T11aに電流が流れる状態であっても、ソース信号線
18からはEL素子15は見えない。したがって、図1
34(b)のように非点灯状態とする必要がない。つま
り、図134(b)のように書き込み画素行を非点灯3
12とすることは発明の必須条件ではない。
In FIG. 134 (a), the gate signal line 1
When 7a is selected, the current flowing through the source signal line 18 becomes T
It is programmed into FT11a. At this time, an off voltage is applied to the gate signal line 17b, and no current flows in the EL element 15. This is because when the TFT 11d is in the ON state on the EL element side, the capacitance component of the EL element 15 can be seen from the source signal line 18 and is affected by this capacitance so that the capacitor 19 cannot perform sufficiently accurate current programming. . Therefore, as shown in FIG. 134 (b), the pixel row to which the current is written is in the non-lighting state 312. The TFTs 11d of the other pixel rows are in the ON state, and the lighting state 31
It is 1. In addition, in the pixel configuration of the current mirror shown in FIGS.
The EL element 15 cannot be seen from the source signal line 18 even when a current flows through T11a. Therefore, FIG.
It is not necessary to set the non-lighting state as in 34 (b). That is, as shown in FIG. 134 (b), the writing pixel row is turned off 3
Setting 12 is not an essential condition of the invention.

【0528】図135はゲート信号線17に印加する電
圧波形である。電圧波形はオフ電圧をVgh(Hレベ
ル)とし、オン電圧をVgl(Lレベル)としている。
図135の下段に選択している画素行の番号を記載して
いる。また、(1)(2)とは選択している画素行番号
を示している。
FIG. 135 shows a voltage waveform applied to the gate signal line 17. In the voltage waveform, the off voltage is Vgh (H level) and the on voltage is Vgl (L level).
The number of the selected pixel row is described in the lower part of FIG. Further, (1) and (2) indicate the selected pixel row number.

【0529】図135において、ゲート信号線17a
(1)が選択され(Vgl電圧)、選択された画素行の
TFT11aからソースドライバ14に向かってソース
信号線18にプログラム電流が流れる。このプログラム
電流は所定値のN倍(説明を容易にするため、N=10
として説明する。もちろん、所定値とは画像を表示する
データ電流であるから、白ラスター表示などでない限り
固定値ではない。)である。したがって、コンデンサ1
9には10倍に電流がTFT11aに流れるようにプロ
グラムされる。画素行(1)が選択されている時は、図
1の画素構成ではゲート信号線17b(1)はオフ電圧
(Vgh)が印加され、EL素子15には電流が流れな
い。
In FIG. 135, the gate signal line 17a
(1) is selected (Vgl voltage), and a program current flows from the TFT 11a of the selected pixel row toward the source driver 14 in the source signal line 18. This program current is N times the predetermined value (for simplicity, N = 10
As described below. Of course, since the predetermined value is a data current for displaying an image, it is not a fixed value unless it is a white raster display or the like. ). Therefore, the capacitor 1
9 is programmed so that a 10 times larger current flows through the TFT 11a. When the pixel row (1) is selected, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b (1) in the pixel configuration of FIG. 1, and no current flows in the EL element 15.

【0530】1H後には、ゲート信号線17a(2)が
選択され(Vgl電圧)、選択された画素行のTFT1
1aからソースドライバ14に向かってソース信号線1
8にプログラム電流が流れる。このプログラム電流は所
定値のN倍(説明を容易にするため、N=10として説
明する)である。したがって、コンデンサ19には10
倍に電流がTFT11aに流れるようにプログラムされ
る。画素行(2)が選択されている時は、図1の画素構
成ではゲート信号線17b(2)はオフ電圧(Vgh)
が印加され、EL素子15には電流が流れない。しか
し、先の画素行(1)のゲート信号線17a(1)には
オフ電圧(Vgh)が印加され、ゲート信号線17b
(1)にはオン電圧(Vgl)が印加されるため、点灯
状態となっている。
After 1H, the gate signal line 17a (2) is selected (Vgl voltage), and the TFT1 of the selected pixel row is selected.
Source signal line 1 from 1a toward source driver 14
A program current flows through 8. This program current is N times the predetermined value (for ease of explanation, N = 10 will be described). Therefore, the capacitor 19 has 10
It is programmed so that a double current flows through the TFT 11a. When the pixel row (2) is selected, the gate signal line 17b (2) is turned off (Vgh) in the pixel configuration of FIG.
Is applied, and no current flows through the EL element 15. However, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17a (1) of the preceding pixel row (1), and the gate signal line 17b
Since the on-voltage (Vgl) is applied to (1), it is in a lighting state.

【0531】次の1H後には、ゲート信号線17a
(3)が選択され、ゲート信号線17b(3)はオフ電
圧(Vgh)が印加され、画素行(3)のEL素子15
には電流が流れない。しかし、先の画素行(1)(2)
のゲート信号線17a(1)(2)にはオフ電圧(Vg
h)が印加され、ゲート信号線17b(1)(2)には
オン電圧(Vgl)が印加されるため、点灯状態となっ
ている。
[0531] After the next 1H, the gate signal line 17a
(3) is selected, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b (3), and the EL element 15 of the pixel row (3) is selected.
No current flows through. However, the previous pixel row (1) (2)
To the gate signal lines 17a (1) (2) of the off voltage (Vg
h) is applied and the on-voltage (Vgl) is applied to the gate signal lines 17b (1) (2), so that the gate signal lines 17b (1) (17) are in a lighting state.

【0532】以上の動作を1Hの同期信号に同期して画
像を表示していく。しかし、図135の駆動方式では、
EL素子15には10倍の電流が流れる。したがって、
表示画面21は約10倍の輝度で表示される。もちろ
ん、この状態で所定の輝度表示を行うためには、プログ
ラム電流を1/10にしておけばよいことは言うまでも
ない。しかし、1/10の電流であれば寄生容量などに
より書き込み不足が発生するため、高い電流でプログラ
ムし、黒画面312挿入により所定の輝度を得るのは本
発明の基本的な主旨である。
An image is displayed by synchronizing the above operation with the 1H synchronization signal. However, in the driving method of FIG.
A ten times larger current flows through the EL element 15. Therefore,
The display screen 21 is displayed with a brightness of about 10 times. Needless to say, in order to display a predetermined brightness in this state, the program current may be set to 1/10. However, if the current is 1/10, writing shortage occurs due to parasitic capacitance and the like. Therefore, it is the basic gist of the present invention to program with a high current and obtain a predetermined brightness by inserting the black screen 312.

【0533】しかし、図134の方法も本発明の範疇で
ある。つまり、所定電流よりも高い電流がEL素子15
に流れるようにし、ソース信号線18の寄生容量を十分
に充放電するという概念である。つまり、EL素子15
にN倍の電流を流さなくともよい。たとえば、EL素子
15に並列に電流経路を形成し(ダミーのEL素子を形
成し、このEL素子は遮光膜を形成して発光させないな
ど)、ダミーEL素子とEL素子15に分流して電流を
流しても良い。たとえば、信号電流が0.2μAのと
き、プログラム電流を2.2μAとして、TFT11a
には2.2μAを流す。この電流のうち、信号電流0.
2μAをEL素子15に流して、2μAをダミーのEL
素子に流す。
However, the method of FIG. 134 is also within the scope of the present invention. That is, a current higher than the predetermined current is applied to the EL element 15
This is the concept that the parasitic capacitance of the source signal line 18 is sufficiently charged / discharged by allowing the current to flow to. That is, the EL element 15
It is not necessary to supply N times the current. For example, a current path is formed in parallel with the EL element 15 (a dummy EL element is formed, and this EL element is formed with a light-shielding film so as not to emit light), and the current is divided into the dummy EL element and the EL element 15. You can wash it. For example, when the signal current is 0.2 μA, the program current is 2.2 μA, and the TFT 11a
Flow 2.2 μA. Of this current, the signal current 0.
Flow 2μA to EL element 15 and 2μA to dummy EL
Flow to the element.

【0534】以上のように構成することにより、ソース
信号線18に流す電流をN倍に増加させることにより、
駆動TFT11aにN倍の電流が流れるようにプログラ
ムすることができ、かつ、電流EL素子15には、N倍
よりは十分小さい電流をながることができることにな
る。以上の方法では、図136などに図示するように、
非点灯領域312を設けることなく、図134のように
ほぼあるいは完全に全表示領域21を画像表示領域31
1とすることができる。
With the above configuration, the current flowing through the source signal line 18 is increased N times,
It is possible to program the driving TFT 11a so that N times the current flows, and to flow a current sufficiently smaller than the N times the current EL element 15. In the above method, as shown in FIG.
Without providing the non-lighting area 312, the entire display area 21 is almost or completely replaced with the image display area 31 as shown in FIG.
It can be 1.

【0535】しかし、ダミーEL素子などを形成すると
いうような細工をしなければ、プログラムされた電流は
理論的にはすべてEL素子15に流れる。したがって、
図134では表示画面はN倍の輝度で発光する。これを
所定輝度で発光させるには図136に図示するように非
点灯表示領域312を設ければよい。図136はその方
式の説明図である。
However, theoretically, all programmed currents flow through the EL element 15 unless the dummy EL element or the like is formed. Therefore,
In FIG. 134, the display screen emits light with N times the brightness. In order to emit light with a predetermined brightness, a non-lighting display area 312 may be provided as shown in FIG. 136. FIG. 136 is an explanatory diagram of the method.

【0536】図136(a)は表示画像21への書き込
み状態を図示している。図136(a)において、87
1aは書き込み画素行である。ドライバIC14から各
ソース信号線18にプログラム電流が供給される。な
お、図136などでは1H期間に書き込む画素行は1行
である。しかし、何ら1Hに限定するのものではなく、
0.5H期間でも、2H期間でもよい。また、ソース信
号線18にプログラム電流を書き込むとしたが、本発明
は電流プログラム方式に限定するものではなく、ソース
信号線18に書き込まれるのは電圧である電圧プログラ
ム方式でもよい。
FIG. 136 (a) shows the state of writing to the display image 21. In FIG. 136 (a), 87
Reference numeral 1a is a writing pixel row. A program current is supplied from the driver IC 14 to each source signal line 18. Note that in FIG. 136 and the like, one pixel row is written in the 1H period. However, it is not limited to 1H at all,
The period may be 0.5H or 2H. Further, although the programming current is written in the source signal line 18, the present invention is not limited to the current programming method, and a voltage programming method in which the voltage is written in the source signal line 18 may be used.

【0537】図136(a)において、図134と同様
に、ゲート信号線17aが選択されるとソース信号線1
8に流れる電流がTFT11aにプログラムされる。こ
の時、ゲート信号線17bはオフ電圧が印加されEL素
子15には電流が流れない。これは、EL素子側にTF
T11dがオン状態であると、ソース信号線18からE
L素子15の容量成分が見え、この容量に影響されてコ
ンデンサ19に十分に正確な電流プログラムができなく
なるためである。したがって、図1の構成を例にすれ
ば、図136(b)で示すように電流を書き込まれてい
る画素行は非点灯領域312となる。
In FIG. 136 (a), when the gate signal line 17a is selected, the source signal line 1 is selected as in the case of FIG.
The current flowing in 8 is programmed in the TFT 11a. At this time, an off voltage is applied to the gate signal line 17b, and no current flows in the EL element 15. This is TF on the EL element side
When T11d is in the ON state, the signal from the source signal line 18 to E
This is because the capacitance component of the L element 15 is visible and affected by this capacitance, a sufficiently accurate current program cannot be performed in the capacitor 19. Therefore, if the configuration of FIG. 1 is taken as an example, the pixel row in which the current is written becomes the non-lighting area 312 as shown in FIG. 136 (b).

【0538】今、N(ここでは、先に述べたようにN=
10とする)倍の電流でプログラムしたとすれば、画面
の輝度は10倍になる。したがって、表示領域21の9
0%の範囲を非点灯領域312とすればよい。したがっ
て、画像表示領域の水平走査線がQCIFの220本
(S=220)とすれば、22本と表示領域311と
し、220−22=198本を非表示領域312とすれ
ばよい。一般的に述べれば、水平走査線(画素行数)を
Sとすれば、S/Nの領域を表示領域311とし、この
表示領域311をN倍の輝度で発光させる。そして、こ
の表示領域311を画面の上下方向に走査する。したが
って、S(N−1)/Nの領域は非点灯領域312とす
る。この非点灯領域は黒表示(非発光)である。また、
この非発光部312はTFT11dをオフさせることに
より実現する。なお、N倍の輝度で点灯させるとした
が、当然のことながら明るさ調整、ガンマ調整によりN
倍の値と調整することは言うまでもない。
Now, N (here, N =
If programmed with 10 times the current, the brightness of the screen will be 10 times. Therefore, 9 of the display area 21
The 0% range may be the non-lighting area 312. Therefore, if the horizontal scanning lines of the image display area are 220 lines (S = 220) of QCIF, 22 lines and the display region 311 can be set, and 220-22 = 198 lines can be set as the non-display region 312. Generally speaking, if the horizontal scanning line (the number of pixel rows) is S, the S / N area is the display area 311 and this display area 311 is made to emit light with N times the brightness. Then, the display area 311 is scanned in the vertical direction of the screen. Therefore, the area of S (N-1) / N is the non-lighting area 312. This non-lighting area is black display (non-light emission). Also,
The non-light emitting portion 312 is realized by turning off the TFT 11d. Although it is assumed that the light is turned on with N times the brightness, it goes without saying that the brightness is adjusted by the brightness adjustment and the gamma adjustment.
It goes without saying that the value should be doubled.

【0539】また、先の実施例で、10倍の電流でプロ
グラムしたとすれば、画面の輝度は10倍になり、表示
領域21の90%の範囲を非点灯領域312とすればよ
いとした。しかし、これは、RGBの画素を共通に非点
灯領域312とすることに限定するものではない。例え
ば、Rの画素は、1/8を非点灯領域312とし、Gの
画素は、1/6を非点灯領域312とし、Bの画素は、
1/10を非点灯領域312と、それぞれの色により変
化させてもよい。また、RGBの色で個別に非点灯領域
312(あるいは点灯領域311)を調整できるように
してもよい。これらを実現するためには、R、G、Bで
個別のゲート信号線17bが必要になる。しかし、以上
のRGBの個別調整を可能にすることにより、ホワイト
バランスを調整することが可能になり、各階調において
色のバランス調整が容易になる。
If programming is performed with a current of 10 times in the previous embodiment, the brightness of the screen is increased by 10 times, and 90% of the display area 21 should be the non-lighting area 312. . However, this is not limited to the case where the RGB pixels are commonly used as the non-lighting area 312. For example, 1/8 of the R pixel is the non-lighting area 312, 1/6 of the G pixel is the non-lighting area 312, and B pixel is
You may change 1/10 with the non-lighting area | region 312, and each color. Further, the non-lighting area 312 (or the lighting area 311) may be individually adjusted with RGB colors. In order to realize these, separate gate signal lines 17b are required for R, G, and B. However, by enabling the individual RGB adjustments described above, it becomes possible to adjust the white balance, which facilitates color balance adjustment for each gradation.

【0540】図136(b)に図示するように、書き込
み画素行871aを含む画素行が非点灯領域312と
し、書き込み画素行871aよりも上画面のS/Nの範
囲を表示領域311とする(書き込み走査が画面の上か
ら下方向の場合、画面を下から上に走査する場合は、そ
の逆となる)。画像表示状態は、表示領域311が帯状
になって、画面の上から下に移動する。
As shown in FIG. 136 (b), the pixel row including the write pixel row 871a is the non-lighting area 312, and the S / N range of the screen above the write pixel row 871a is the display area 311 ( If the write scan is from top to bottom of the screen, and vice versa if the screen is to be scanned from bottom to top). In the image display state, the display area 311 becomes a band and moves from the top to the bottom of the screen.

【0541】図137はゲート信号線17に印加する電
圧波形である。電圧波形はオフ電圧をVgh(Hレベ
ル)とし、オン電圧をVgl(Lレベル)としている。
図137の下段に選択している画素行の番号を記載して
いる。また、(1)(2)(3)…・とは選択している
画素行番号を示している。
FIG. 137 shows the voltage waveform applied to the gate signal line 17. In the voltage waveform, the off voltage is Vgh (H level) and the on voltage is Vgl (L level).
The number of the selected pixel row is described in the lower part of FIG. 137. Further, (1), (2), (3), ... Show the selected pixel row numbers.

【0542】図137において、ゲート信号線17a
(1)が選択され(Vgl電圧)、選択された画素行の
TFT11aからソースドライバ14に向かってソース
信号線18にプログラム電流が流れる。このプログラム
電流は所定値のN倍(説明を容易にするため、N=10
として説明する。もちろん、所定値とは画像を表示する
データ電流であるから、白ラスター表示などでない限り
固定値ではない。)である。
In FIG. 137, the gate signal line 17a
(1) is selected (Vgl voltage), and a program current flows from the TFT 11a of the selected pixel row toward the source driver 14 in the source signal line 18. This program current is N times the predetermined value (for simplicity, N = 10
As described below. Of course, since the predetermined value is a data current for displaying an image, it is not a fixed value unless it is a white raster display or the like. ).

【0543】したがって、コンデンサ19には10倍に
電流がTFT11aに流れるようにプログラムされる。
画素行(1)が選択されている時は、図1の画素構成で
はゲート信号線17b(1)はオフ電圧(Vgh)が印
加され、EL素子15には電流が流れない。
Therefore, the capacitor 19 is programmed so that a 10 times larger current flows through the TFT 11a.
When the pixel row (1) is selected, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b (1) in the pixel configuration of FIG. 1, and no current flows in the EL element 15.

【0544】1H(もちろん1Hに限定するものではな
い。説明を容易にするためである。)後には、ゲート信
号線17a(2)が選択され(Vgl電圧)、選択され
た画素行のTFT11aからソースドライバ14に向か
ってソース信号線18にプログラム電流が流れる。この
プログラム電流は所定値のN倍(説明を容易にするた
め、N=10として説明する)である。したがって、コ
ンデンサ19には10倍に電流がTFT11aに流れる
ようにプログラムされる。この時には、ゲート信号線1
7b(1)はVgl電圧(オン電圧)が印加される。こ
のオン電圧が印加される期間は、図136の実施例によ
れば、S/Nの期間である。その後、ゲート信号線17
b(1)はVgh(オフ電圧)が印加されて、画素行
(1)のEL素子15には電流が流れない。
After 1H (not limited to 1H, of course, for ease of explanation), the gate signal line 17a (2) is selected (Vgl voltage), and the TFT 11a of the selected pixel row is selected. A program current flows through the source signal line 18 toward the source driver 14. This program current is N times the predetermined value (for ease of explanation, N = 10 will be described). Therefore, the capacitor 19 is programmed so that 10 times the current flows through the TFT 11a. At this time, the gate signal line 1
The Vgl voltage (ON voltage) is applied to 7b (1). According to the embodiment of FIG. 136, the period in which the ON voltage is applied is the S / N period. After that, the gate signal line 17
Vgh (off voltage) is applied to b (1), and no current flows in the EL element 15 of the pixel row (1).

【0545】画素行(2)が選択されている時は、図1
の画素構成ではゲート信号線17b(2)はオフ電圧
(Vgh)が印加され、EL素子15には電流が流れな
い。しかし、先の画素行(1)のゲート信号線17a
(1)にはオフ電圧(Vgh)が印加され、ゲート信号
線17b(1)にはオン電圧(Vgl)が印加されるた
め、点灯状態となっている。このオン電圧が印加される
期間は、図136の実施例によれば、S/Nの期間であ
る。その後、ゲート信号線17b(2)はVgh(オフ
電圧)が印加されて、画素行(2)のEL素子15には
電流が流れない。
When the pixel row (2) is selected, as shown in FIG.
In the pixel configuration, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b (2), and no current flows in the EL element 15. However, the gate signal line 17a of the previous pixel row (1)
Since the off voltage (Vgh) is applied to (1) and the on voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b (1), it is in a lighting state. According to the embodiment of FIG. 136, the period in which the ON voltage is applied is the S / N period. After that, Vgh (off voltage) is applied to the gate signal line 17b (2), and no current flows in the EL element 15 of the pixel row (2).

【0546】次の1H後には、ゲート信号線17a
(3)が選択され、ゲート信号線17b(3)はオフ電
圧(Vgh)が印加され、画素行(3)のEL素子15
には電流が流れない。しかし、先の画素行(1)(2)
のゲート信号線17a(1)(2)にはオフ電圧(Vg
h)が印加され、ゲート信号線17b(1)(2)には
オン電圧(Vgl)が印加されるため、点灯状態となっ
ている。以上の動作が繰り返されて、図136の表示状
態が実現される。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(3) is selected, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b (3), and the EL element 15 of the pixel row (3) is selected.
No current flows through. However, the previous pixel row (1) (2)
To the gate signal lines 17a (1) (2) of the off voltage (Vg
h) is applied and the on-voltage (Vgl) is applied to the gate signal lines 17b (1) (2), so that the gate signal lines 17b (1) (17) are in a lighting state. By repeating the above operation, the display state of FIG. 136 is realized.

【0547】図136の表示では、1つの表示領域31
1が画面の上から下方向に移動する。フレームレートが
低いと、表示領域311が移動するのが視覚的に認識さ
れる。特に、まぶたを閉じた時、あるいは顔を上下に移
動させた時などに認識されやすくなる。
In the display of FIG. 136, one display area 31
1 moves downward from the top of the screen. When the frame rate is low, it is visually recognized that the display area 311 moves. In particular, it becomes easy to be recognized when the eyelids are closed or when the face is moved up and down.

【0548】この課題に対しては、図138に図示する
ように、表示領域311を複数に分割するとよい。図1
38(b)は、非表示領域312を5つに分割してい
る。この5つを加えた部分がS(N−1)/Nの面積と
なれば、図136の明るさと同等になる。逆に表示領域
311から見れば、表示領域(点灯領域)311は6つ
に分割しているが、この6つに分割された領域を加えた
部分がS/Nと略一致するように構成(駆動)すれば、
図136の表示輝度と同等となる。
To address this problem, the display area 311 may be divided into a plurality of areas, as shown in FIG. Figure 1
38 (b) divides the non-display area 312 into five. If the area obtained by adding these five areas has an area of S (N-1) / N, the brightness is equivalent to that in FIG. On the contrary, when viewed from the display area 311, the display area (lighting area) 311 is divided into six parts, and the part including the areas divided into six parts is configured to substantially match the S / N ( Drive)
The display brightness is equivalent to that of FIG.

【0549】なお、図138(b)にも図示するよう
に、分割された表示領域311は等しくする必要はな
い。また、分割された非表示領域312も等しくする必
要はない。
As shown in FIG. 138 (b), it is not necessary that the divided display areas 311 be the same. Further, it is not necessary to make the divided non-display areas 312 equal.

【0550】以上のように、表示領域311を複数に分
割することにより画面のちらつきは減少する。したがっ
て、フリッカの発生はなく、良好な画像表示を実現でき
る。なお、分割はもっと細かくしてもよい。しかし、分
割すればするほど動画表示性能は低下する。
As described above, the flicker on the screen is reduced by dividing the display area 311 into a plurality of areas. Therefore, flicker does not occur and good image display can be realized. The division may be finer. However, the more divided it is, the lower the moving image display performance becomes.

【0551】図139はゲート信号線17に印加する電
圧波形である。図139と図137の差異は、ゲート信
号線17bの動作である。ゲート信号線17bは画面を
分割する個数に対応して、その個数分だけオンオフ(V
glとVgh)動作する。他の点は図137と同一であ
るので説明を省略する。
FIG. 139 shows a voltage waveform applied to the gate signal line 17. The difference between FIG. 139 and FIG. 137 is the operation of the gate signal line 17b. The gate signal lines 17b are turned on / off by the number corresponding to the number of divided screens (V
gl and Vgh) work. Since the other points are the same as those in FIG. 137, the description thereof will be omitted.

【0552】以上の実施例では、同時に選択する画素行
は1画素行であった。図88は複数画素行を同時に選択
する方法である。図88では説明を容易にするために、
5画素行と同時に選択するとして説明するが、これに限
定するのもではなく、2画素以上であればよい。ただ
し、同時に選択する画素行が増加すると、駆動TFT1
1aのバラツキ吸収効果が低減する。
In the above embodiments, the pixel row selected simultaneously is one pixel row. FIG. 88 shows a method of simultaneously selecting a plurality of pixel rows. In FIG. 88, for ease of explanation,
Although description is made assuming that selection is performed simultaneously with five pixel rows, the present invention is not limited to this, and it is sufficient if the number of pixels is two or more. However, if the number of pixel rows selected at the same time increases, the driving TFT1
The variation absorption effect of 1a is reduced.

【0553】なお、以下の実施例においても図1の電流
プログラムの画素構成を例示して説明をするがこれに限
定するものではない。図21、図43、図71のカレン
トミラーでも有効であることは言うまでもない。同時に
選択される画素行がおおくなることにより、ソース信号
線の寄生容量404などの充放電が容易になるからであ
る。また、図54、図67、図68、図103などの電
圧プログラムの画素構成でも有効である。同時に選択さ
れる画素行が増加することにより、隣接した画素行を予
備充電でき、高精細表示パネルにも対応できるようにな
るからである。
In the following embodiments, the pixel configuration of the current program shown in FIG. 1 will be described as an example, but the present invention is not limited to this. It goes without saying that the current mirrors shown in FIGS. 21, 43, and 71 are also effective. This is because the number of pixel rows selected at the same time becomes large, which facilitates charging and discharging of the parasitic capacitance 404 of the source signal line. In addition, the pixel configurations of the voltage program shown in FIGS. 54, 67, 68, 103, etc. are also effective. This is because, by increasing the number of pixel rows selected at the same time, the adjacent pixel rows can be precharged and can be applied to a high-definition display panel.

【0554】なお、ここでも、説明を容易にするため
に、ソースドライバIC14からソース信号線18に流
す電流(もしくは、ソースドライバIC14がソース信
号線18から吸い込む電流、駆動TFT11aがソース
信号線18に流し込む電流)は所定値の10倍(N=1
0)として説明をする。
Also, here, for ease of explanation, the current flowing from the source driver IC 14 to the source signal line 18 (or the current drawn by the source driver IC 14 from the source signal line 18, the driving TFT 11a to the source signal line 18). The current flowing in is 10 times the predetermined value (N = 1
0) will be described.

【0555】したがって、同時に選択する画素行が5画
素行(K=5)であれば、5つの駆動TFT11aが動
作する。つまり、1画素あたり、10/5=2倍の電流
がTFT11aに流れる。同時に選択する画素行が2画
素行であれば、2つの駆動TFT11aが動作する。つ
まり、1画素あたり、10/2=5倍の電流がTFT1
1aに流れる。
Therefore, if the pixel rows selected at the same time are five pixel rows (K = 5), the five driving TFTs 11a operate. That is, a current of 10/5 = 2 times per pixel flows through the TFT 11a. If the pixel rows selected at the same time are two pixel rows, the two drive TFTs 11a operate. In other words, a current of 10/2 = 5 times per pixel is applied to the TFT1.
It flows to 1a.

【0556】同時に選択する画素行が5画素行(K=
5)であれば、5つのTFT11aのプログラム電流を
加えたものとなる。たとえば、書き込み画素行871a
に、本来、書き込む電流Idとし、N=10とすれば、
ソース信号線18には、Id×10の電流を流す。書き
込み画素行871aと隣接した画素行871b(871
bはソース信号線18への電流量を増加させるため、補
助的に用いる画素行である。したがって、画像を書き込
む画素(行)が871aであり、871aに書き込むた
めに補助的に用いるのが画素(行)が871bであ
る)。
Pixel rows selected at the same time are 5 pixel rows (K =
In case of 5), the program currents of the five TFTs 11a are added. For example, write pixel row 871a
Then, originally, if the write current Id is set and N = 10,
A current of Id × 10 is passed through the source signal line 18. The pixel row 871b (871b) adjacent to the write pixel row 871a
Reference numeral b is a pixel row that is used supplementarily to increase the amount of current to the source signal line 18. Therefore, the pixel (row) in which the image is written is 871a, and the pixel (row) that is additionally used for writing in the 871a is 871b).

【0557】理想的には、5画素のTFT11aが、そ
れぞれId×2の電流をソース信号線18に流す。そし
て、各画素16のコンデンサ19には、2倍の電流がプ
ログラムされる。しかし、現実には、5画素の各TFT
11は特性がずれているから、各画素のコンデンサ19
にプログラムされる電流にバラツキが発生する。たとえ
ば、画素(行)871aには、1.8倍、4つの画素
(行)871bには、2.2倍、2.0倍、1.6倍、
2.4倍の電流がプログラムされる。この例では、書き
込み画素行871aには1.8倍の電流がプログラムさ
れる。したがって、(2.0−1.8)/2.0=10
%の誤差がでる。しかし、これらを加算した電流は10
倍と規定値に保たれる。
Ideally, the TFTs 11a of the five pixels each supply a current of Id × 2 to the source signal line 18. Then, the capacitor 19 of each pixel 16 is programmed with a double current. However, in reality, each TFT of 5 pixels
Since the characteristics of 11 are deviated, the capacitor 19 of each pixel is
Variations occur in the programmed current. For example, the pixel (row) 871a has 1.8 times, and the four pixels (row) 871b have 2.2 times, 2.0 times, 1.6 times,
2.4 times the current is programmed. In this example, the write pixel row 871a is programmed with 1.8 times the current. Therefore, (2.0-1.8) /2.0=10
There is an error of%. However, the total current is 10
Doubled and kept at the specified value.

【0558】つまり、ソース信号線18にはソースドラ
イバ14からプログラムされた電流が規定どおり流れ
る。しかし、選択された画素には特性バラツキの応じた
電流が流れる。したがって、各画素のTFT11aの特
性バラツキが大きいほど、目標とするプログラム電流が
設定値からはずれる。しかし、隣接したTFT11aは
ほぼ特性が一致しているから、図88などのように同時
に選択する画素行を増加させても均一表示を実現でき
る。
That is, the current programmed from the source driver 14 flows through the source signal line 18 as specified. However, a current corresponding to the characteristic variation flows in the selected pixel. Therefore, the larger the characteristic variation of the TFT 11a of each pixel, the more the target program current deviates from the set value. However, since the characteristics of the adjacent TFTs 11a are almost the same, uniform display can be realized even if the pixel rows selected at the same time are increased as shown in FIG.

【0559】なお、図87、図88などの実施例は、低
温ポリシリコン技術でTFT11を形成して表示パネル
よりも、アモルファスシリコン技術でTFT11を形成
した表示パネルに有効である。アモルファスシリコンの
TFT11では、隣接したTFTの特性がほぼ一致して
いるからである。したがって、加算した電流で駆動して
も個々のTFTの駆動電流はほぼ目標値となっている。
The embodiments shown in FIGS. 87 and 88 are more effective for the display panel in which the TFT 11 is formed by the amorphous silicon technique than the display panel in which the TFT 11 is formed by the low temperature polysilicon technique. This is because the characteristics of the adjacent TFTs of the amorphous silicon TFT 11 are substantially the same. Therefore, even if the TFTs are driven by the added current, the drive current of each TFT is almost the target value.

【0560】図88において、書き込み画素(行)87
1aの画像データでK行(K=5)同時に書き込む。し
たがって、K行の範囲(871a、871b)は同一表
示となる。このように同一表示にすると当然のことなが
ら解像度が低下する。これを対策するために、図88
(b)に図示するように書き込み画素行871の部分を
非点灯表示312とするのである。したがって、解像度
低下は発生しない。
In FIG. 88, the writing pixel (row) 87
K rows (K = 5) are simultaneously written with the image data of 1a. Therefore, the ranges of K rows (871a, 871b) are displayed in the same manner. When the same display is performed in this way, the resolution naturally lowers. To prevent this, FIG.
As shown in (b), the write pixel row 871 is set to the non-lighting display 312. Therefore, the resolution is not reduced.

【0561】次の1H後は、1画素行シフトした位置を
書き込み画素行871aとして同一動作を行う。非点灯
領域312も1画素(行)シフトされる。したがって、
先の1Hで電流プログラムされた画素(行)が表示され
る。
After the next 1H, the same operation is performed with the position shifted by one pixel row as the write pixel row 871a. The non-lighted area 312 is also shifted by one pixel (row). Therefore,
Pixels (rows) that have been current programmed at the previous 1H are displayed.

【0562】以上のように、本来の表示データと異なる
電流データを書き込まれた871bは表示されない。以
上の動作を1行づつシフトしていくと完全な画像表示を
実現できる。また、補助的に用いている画素行871b
の効果で、寄生容量404の充放電も十分1H期間内に
実現できる。
As described above, the 871b to which the current data different from the original display data is written is not displayed. A complete image display can be realized by shifting the above operation line by line. In addition, the pixel row 871b that is used as an auxiliary
By the effect, the charging and discharging of the parasitic capacitance 404 can be realized sufficiently within 1H period.

【0563】図140は、図88の駆動方法を実現する
ための駆動波形の説明図である。図135と同様に、電
圧波形はオフ電圧をVgh(Hレベル)とし、オン電圧
をVgl(Lレベル)としている。また、図140の下
段に選択している画素行の番号を記載している。また、
(1)(2)(3)・・・(6)とは選択している画素
行番号を示している。したがって、行数はQCIF表示
パネルの場合は220本であり、VGAパネルでは48
0本である。
FIG. 140 is an explanatory diagram of drive waveforms for realizing the drive method of FIG. 88. Similar to FIG. 135, the voltage waveform has an off voltage of Vgh (H level) and an on voltage of Vgl (L level). In addition, the number of the selected pixel row is described in the lower part of FIG. 140. Also,
(1), (2), (3), ... (6) represent the selected pixel row numbers. Therefore, the number of lines is 220 for the QCIF display panel and 48 for the VGA panel.
It is 0.

【0564】図140において、ゲート信号線17a
(1)が選択され(Vgl電圧)、選択された画素行の
TFT11aからソースドライバ14に向かってソース
信号線18にプログラム電流が流れる。ここでは説明を
容易にするため、まず、書き込み画素行871aが画素
行(1)番目であるとして説明する。
In FIG. 140, the gate signal line 17a
(1) is selected (Vgl voltage), and a program current flows from the TFT 11a of the selected pixel row toward the source driver 14 in the source signal line 18. Here, for ease of explanation, the write pixel row 871a is first described as the pixel row (1) th.

【0565】また、ソース信号線18に流れるプログラ
ム電流は所定値のN倍(説明を容易にするため、N=1
0として説明する。もちろん、所定値とは画像を表示す
るデータ電流であるから、白ラスター表示などでない限
り固定値ではない。)である。また、5画素行が同時に
選択(K=5)として説明をする。したがって、理想的
には1つの画素のコンデンサ19には2倍に電流がTF
T11aに流れるようにプログラムされる。
The program current flowing through the source signal line 18 is N times the predetermined value (N = 1 for the sake of simplicity).
It will be described as 0. Of course, since the predetermined value is a data current for displaying an image, it is not a fixed value unless it is a white raster display or the like. ). Also, description will be made assuming that five pixel rows are simultaneously selected (K = 5). Therefore, ideally, the capacitor 19 of one pixel has twice the current TF.
It is programmed to flow to T11a.

【0566】書き込み画素行が(1)画素行目である
時、図140で図示したように、ゲート信号線17aは
(1)(2)(3)(4)(5)が選択されている。つ
まり、画素行(1)(2)(3)(4)(5)のスイッ
チングTFT11b、TFT11cがオン状態である。
また、ゲート信号線17bはゲート信号線17aの逆位
相となっている。したがって、画素行(1)(2)
(3)(4)(5)のスイッチングTFT11dがオフ
状態であり、対応する画素行のEL素子15には電流が
流れていない。つまり、非点灯状態312である。
When the writing pixel row is the (1) th pixel row, (1), (2), (3), (4) and (5) are selected as the gate signal lines 17a as shown in FIG. . That is, the switching TFTs 11b and 11c of the pixel rows (1), (2), (3), (4) and (5) are in the ON state.
Further, the gate signal line 17b has a phase opposite to that of the gate signal line 17a. Therefore, pixel row (1) (2)
The switching TFTs 11d of (3), (4), and (5) are in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312.

【0567】理想的には、5画素のTFT11aが、そ
れぞれId×2の電流をソース信号線18に流す。そし
て、各画素16のコンデンサ19には、2倍の電流がプ
ログラムされる。ここでは、理解を容易にするため、各
TFT11aは特性(Vt、S値)が一致しているとし
て説明をする。
Ideally, each of the TFTs 11a of the five pixels supplies a current of Id × 2 to the source signal line 18. Then, the capacitor 19 of each pixel 16 is programmed with a double current. Here, in order to facilitate understanding, the description will be made assuming that the characteristics (Vt, S value) of each TFT 11a match.

【0568】同時に選択する画素行が5画素行(K=
5)であるから、5つの駆動TFT11aが動作する。
つまり、1画素あたり、10/5=2倍の電流がTFT
11aに流れる。ソース信号線18には、5つのTFT
11aのプログラム電流を加えた電流が流れる。たとえ
ば、書き込み画素行871aに、本来、書き込む電流I
dとし、ソース信号線18には、Id×10の電流を流
す。書き込み画素行(1)より以降に画像データを書き
込む書き込み画素行871bソース信号線18への電流
量を増加させるため、補助的に用いる画素行である。し
かし、書き込み画素行871bは後に正規の画像データ
が書き込まれるので問題がない。
[0568] The pixel rows selected simultaneously are 5 pixel rows (K =
Since it is 5), the five driving TFTs 11a operate.
In other words, 10/5 = twice the current per pixel
It flows to 11a. The source signal line 18 has five TFTs.
A current added with the program current of 11a flows. For example, the current I originally written in the write pixel row 871a is
and a current of Id × 10 is passed through the source signal line 18. A write pixel row 871b for writing image data after the write pixel row (1) is an auxiliary pixel row used to increase the amount of current to the source signal line 18. However, since normal image data is written in the writing pixel row 871b later, there is no problem.

【0569】したがって、画素行871bは、1H期間
の間は871aと同一表示である。そのため、書き込み
画素行871aと電流を増加させるために選択した画素
行871bとを少なくとも非表示状態312とするので
ある。ただし、図21、図43、図71のようなカレン
トミラーの画素構成、図68などの電圧プログラム方式
の画素構成では、場合によっては表示状態としてもよ
い。
Therefore, the pixel row 871b displays the same as 871a during the 1H period. Therefore, the write pixel row 871a and the pixel row 871b selected to increase the current are at least in the non-display state 312. However, in the pixel configuration of the current mirror as shown in FIGS. 21, 43 and 71 and the pixel configuration of the voltage programming method as shown in FIG. 68, the display state may be set in some cases.

【0570】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(1)は非選択となり、ゲート信号線17bにはオン電
圧(Vgl)が印加される。また、同時に、ゲート信号
線17a(6)が選択され(Vgl電圧)、選択された
画素行(6)のTFT11aからソースドライバ14に
向かってソース信号線18にプログラム電流が流れる。
このように動作することのより、画素行(1)には正規
の画像データが保持される。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(1) is not selected, and the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b. At the same time, the gate signal line 17a (6) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the TFT 11a of the selected pixel row (6) to the source driver 14 in the source signal line 18.
By operating in this way, regular image data is held in the pixel row (1).

【0571】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(2)は非選択となり、ゲート信号線17bにはオン電
圧(Vgl)が印加される。また、同時に、ゲート信号
線17a(7)が選択され(Vgl電圧)、選択された
画素行(7)のTFT11aからソースドライバ14に
向かってソース信号線18にプログラム電流が流れる。
このように動作することのより、画素行(2)には正規
の画像データが保持される。以上の動作と1画素行づつ
シフトしながら走査することにより1画面が書き換えら
れる。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(2) is not selected, and the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b. At the same time, the gate signal line 17a (7) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the TFT 11a of the selected pixel row (7) to the source driver 14 in the source signal line 18.
By operating in this way, regular image data is held in the pixel row (2). One screen is rewritten by the above operation and scanning while shifting by one pixel row.

【0572】図134と同様であるが、図140の駆動
方法では、各画素には2倍の電流(電圧)でプログラム
を行うため、各画素のEL素子15の発光輝度は理想的
には2倍となる。したがって、表示画面の輝度は所定値
よりも2倍となる。
Although it is similar to FIG. 134, in the driving method of FIG. 140, each pixel is programmed with a double current (voltage). Therefore, the emission brightness of the EL element 15 of each pixel is ideally 2 Doubled. Therefore, the brightness of the display screen is twice the predetermined value.

【0573】これを所定の輝度とするためには、図87
に図示するように、書き込み画素行871を含み、かつ
表示領域21の1/2の範囲を非表示領域312とすれ
ばよい。このことは図137などを用いて説明したので
説明を省略する。
In order to set this to a predetermined brightness, FIG.
As shown in FIG. 7, the non-display area 312 may include a half of the display area 21 including the write pixel row 871. Since this has been described with reference to FIG. 137 and the like, description will be omitted.

【0574】表示画面21に占める黒表示領域(非表示
領域)312の面積を大きくするほど動画表示性能が向
上する。したがって、図141に図示するように非表示
領域311を少なくし、非表示領域312の面積を大き
くすればよい。
The larger the area of the black display area (non-display area) 312 in the display screen 21, the higher the moving image display performance. Therefore, as shown in FIG. 141, the non-display area 311 may be reduced and the area of the non-display area 312 may be increased.

【0575】図87のように、各画素にプログラムする
電流が2倍で点灯領域311の面積が表示画面21の1
/2であれば、所定の表示輝度を得ることができる。し
かし、図141のように点灯領域311が表示画面21
の1/2よりも小さい場合は、画面は暗くなる。所定輝
度を得るためには、各画素にプログラムする電流を大き
くすればよい。たとえば、表示領域(点灯領域)311
が表示画面21の面積の1/5であり、同時に選択する
画素行が5本(K=5)であれば、1画素行にプログラ
ムする電流(電圧)は所定値の5倍にすればよい。ソー
ス信号線18に流れる電流は5×5画素行=25倍とな
る。
As shown in FIG. 87, the current to be programmed in each pixel is doubled and the area of the lighting region 311 is 1 of the display screen 21.
If it is / 2, a predetermined display brightness can be obtained. However, as shown in FIG. 141, the lighting area 311 is displayed on the display screen 21.
If it is smaller than ½ of, the screen becomes dark. In order to obtain a predetermined brightness, the current programmed in each pixel may be increased. For example, the display area (lighting area) 311
Is ⅕ of the area of the display screen 21, and if five pixel rows (K = 5) are selected at the same time, the current (voltage) to be programmed in one pixel row may be five times the predetermined value. . The current flowing through the source signal line 18 is 5 × 5 pixel rows = 25 times.

【0576】いずれにせよ、本発明の実施例ではソース
信号線18に流す電流(電圧)を変化させることにより
プログラム電流(電圧)を調整することができる。つま
り、ソースドライバ14の基準電流(電圧)を調整する
だけでソース信号線18に流れる電流を調整できる。2
画素行を同時にオンさせるか、5画素行を同時にオンさ
せるか、または1画素行のみを選択するかは、図2など
に図示するゲートドライバ12のシフトレジスタ22に
印加するST*端子へのデータで設定できる。したがっ
て、ソースドライバ14の仕様は、選択する画素数には
左右されない。また、画面の明るさもゲート信号線17
bのオンオフで調整することができるから、画面21の
明るさ調整でソースドライバ14からの出力電流を変化
させることはない。したがって、EL素子15のガンマ
特性は1つの電流に対して決定すればよい。そのため、
ソースドライバ14の構成は極めて容易であり、汎用性
の高いものとなる。以上の事項は、他の本発明の実施例
にも適用できることは言うまでもない。
In any case, in the embodiment of the present invention, the program current (voltage) can be adjusted by changing the current (voltage) supplied to the source signal line 18. That is, the current flowing through the source signal line 18 can be adjusted only by adjusting the reference current (voltage) of the source driver 14. Two
Whether the pixel rows are turned on at the same time, the 5 pixel rows are turned on at the same time, or only one pixel row is selected depends on the data to the ST * terminal applied to the shift register 22 of the gate driver 12 shown in FIG. Can be set with. Therefore, the specifications of the source driver 14 do not depend on the number of pixels to be selected. Also, the brightness of the screen depends on the gate signal line 17
Since it can be adjusted by turning on / off b, the output current from the source driver 14 is not changed by adjusting the brightness of the screen 21. Therefore, the gamma characteristic of the EL element 15 may be determined for one current. for that reason,
The configuration of the source driver 14 is extremely easy and highly versatile. It goes without saying that the above items can be applied to other embodiments of the present invention.

【0577】以上の実施例は、1画素行ごとに1本の選
択画素行を配置(形成)する構成であった。本発明は、
これに限定するものではなく、複数の画素行で1本の選
択ゲート信号線を配置(形成)してもよい。
In the above-mentioned embodiments, one selected pixel row is arranged (formed) for each pixel row. The present invention is
The present invention is not limited to this, and one selection gate signal line may be arranged (formed) in a plurality of pixel rows.

【0578】図294はその実施例である。なお、説明
を容易にするため、画素構成は図1の場合を主として例
示して説明をする。図294では画素行の選択ゲート信
号線17aは3つの画素(16R、16G、16B)を
同時に選択する。Rの記号とは赤色の画素関連を意味
し、Gの記号とは緑色の画素関連を意味し、Bの記号と
は青色の画素関連を意味するものとする。
FIG. 294 is an example thereof. For ease of explanation, the pixel configuration will be described mainly by exemplifying the case of FIG. In FIG. 294, the selection gate signal line 17a in the pixel row simultaneously selects three pixels (16R, 16G, 16B). The R symbol means a red pixel relation, the G symbol means a green pixel relation, and the B symbol means a blue pixel relation.

【0579】したがって、ゲート信号線17aの選択に
より、画素16R、画素16Gおよび画素16Bが同時
に選択されデータ書き込み状態となる。画素16Rはソ
ース信号線18Rからデータをコンデンサ19Rに書き
込み、画素16Gはソース信号線18Gからデータをコ
ンデンサ19Gに書き込む。画素16Bはソース信号線
18Bからデータをコンデンサ19Bに書き込む。
Therefore, the pixel 16R, the pixel 16G and the pixel 16B are simultaneously selected by the selection of the gate signal line 17a to be in the data writing state. The pixel 16R writes data from the source signal line 18R to the capacitor 19R, and the pixel 16G writes data from the source signal line 18G to the capacitor 19G. The pixel 16B writes data from the source signal line 18B to the capacitor 19B.

【0580】画素16RのTFT11dはゲート信号線
17bRに接続されている。また、画素16GのTFT
11dはゲート信号線17bGに接続され、画素16B
のTFT11dはゲート信号線17bBに接続されてい
る。したがって、画素16RのEL素子15R、画素1
6GのEL素子15G、画素16BのEL素子15Bは
別個にオンオフ制御することができる。つまり、EL素
子15R、EL素子15G、EL素子15Bはそれぞれ
のゲート信号線17bR、17bG、17bBを制御す
ることにより、点灯時間、点灯周期を個別に制御可能で
ある。
The TFT 11d of the pixel 16R is connected to the gate signal line 17bR. In addition, the TFT of the pixel 16G
11d is connected to the gate signal line 17bG, and is connected to the pixel 16B.
The TFT 11d is connected to the gate signal line 17bB. Therefore, the EL element 15R of the pixel 16R and the pixel 1
The 6G EL element 15G and the pixel 16B EL element 15B can be controlled to be turned on and off separately. That is, the EL element 15R, the EL element 15G, and the EL element 15B can individually control the lighting time and the lighting cycle by controlling the respective gate signal lines 17bR, 17bG, and 17bB.

【0581】この動作を実現するためには、図2の構成
において、ゲート信号線17aを走査するシフトレジス
タ22と、ゲート信号線17bRを走査するシフトレジ
スタ22と、ゲート信号線17bGを走査するシフトレ
ジスタ22と、ゲート信号線17bBを走査するシフト
レジスタ22の4つを形成(配置)することが適切であ
る。
To realize this operation, in the configuration of FIG. 2, a shift register 22 for scanning the gate signal line 17a, a shift register 22 for scanning the gate signal line 17bR, and a shift for scanning the gate signal line 17bG. It is appropriate to form (arrange) four registers 22 and a shift register 22 that scans the gate signal line 17bB.

【0582】図295は画素16の配置を図示してい
る。図295では画素は横ストライブ状に形成している
(なお、従来の構成では、一般的に縦ストライプ状であ
る)。横ストライプ状に画素を配置することにより、ゲ
ート信号線17とスイッチング素子11との接続が容易
になり、また、画素レイアウトも容易になる。また、高
分子材料のEL素子では、インクジェットによる作製も
容易になる。
FIG. 295 shows the arrangement of the pixels 16. In FIG. 295, the pixels are formed in a horizontal stripe shape (note that the conventional configuration is generally a vertical stripe shape). By arranging the pixels in a horizontal stripe shape, the connection between the gate signal line 17 and the switching element 11 becomes easy, and the pixel layout becomes easy. In addition, an EL element made of a polymer material can be easily manufactured by inkjet.

【0583】なお、図294、図295で、画素は横ス
トライブ状に形成するとしたが、従来と同様に縦ストラ
イプ状であってもよいことは言うまでもない。また、以
降説明する、あるいは説明をした逆バイアス電圧印加方
式、ブロック駆動方式、Vbb電圧での制御方式、RG
Bそれぞれの電圧を別個にする構成、TFT11bの突
き抜け電圧を利用する方式、図241の方式、ダミー画
素行を付加する構成など本明細書で説明した他の実施例
などと組み合わせることが適切であることは言うまでも
ない。
Although the pixels are formed in the horizontal stripes in FIGS. 294 and 295, it goes without saying that the pixels may be formed in the vertical stripes as in the conventional case. In addition, a reverse bias voltage applying method, a block driving method, a Vbb voltage control method, an RG, which will be described below or have been described.
It is appropriate to combine with the other embodiments described in this specification such as a configuration in which each voltage of B is separated, a system using the punch-through voltage of the TFT 11b, the system of FIG. 241, a configuration of adding a dummy pixel row, and the like. Needless to say.

【0584】図296は、図294の画素構成の動作波
形である。なお、説明を容易にするため、1画素行(も
ちろん、RGBでカウントするのであれば、3画素行と
いうことになる)を選択するとして説明をする。ただ
し、図87、図88、図142などで説明したように複
数の画素行を同時に選択する駆動方法も実現できること
は言うまでもない。また、図252で説明したように、
1H期間の範囲であってもゲート信号線のタイミング制
御を行う必要があるが、ここでは説明を容易にするた
め、ゲート信号線17aによる画素行の選択は1H期間
であるとして説明をする。以上の事項は、本明細書で説
明した他の駆動方法、パネル構成においても適用され
る。
FIG. 296 shows operation waveforms of the pixel configuration of FIG. 294. Note that, for ease of explanation, description will be made assuming that one pixel row (of course, if counting with RGB, this means three pixel rows) is selected. However, it goes without saying that a driving method of simultaneously selecting a plurality of pixel rows can be realized as described with reference to FIGS. 87, 88, 142, and the like. In addition, as described in FIG. 252,
Although it is necessary to control the timing of the gate signal line even within the range of the 1H period, here, in order to facilitate the description, it is assumed that the selection of the pixel row by the gate signal line 17a is in the 1H period. The above items also apply to other driving methods and panel configurations described in this specification.

【0585】図296において、書き込み画素行が
(1)画素行目である時、ゲート信号線17aは画素1
6プロック(これを1画素行と考える方が理解は容易に
なる)が選択している(図294もあわせて参照のこ
と)。つまり、画素16R、画素16G、画素16Bが
選択されている。したがって、画素行(1)の16R、
画素行(1)の16Gおよび画素行(1)の16Bのス
イッチングTFT11b、TFT11cがオン状態であ
る。
In FIG. 296, when the write pixel row is the (1) th pixel row, the gate signal line 17a is set to the pixel 1
6 blocks (it is easier to understand if this is considered as one pixel row) are selected (see also FIG. 294). That is, the pixel 16R, the pixel 16G, and the pixel 16B are selected. Therefore, 16R of pixel row (1),
The switching TFT 11b and the TFT 11c of 16G of the pixel row (1) and 16B of the pixel row (1) are in the ON state.

【0586】画素行(1)の画素16Rはソース信号線
18Rからの画像データをコンデンサ19Rに書き込
む。また、画素行(1)の画素16Gはソース信号線1
8Gからの画像データをコンデンサ19Gに書き込み、
画素行(1)の画素16Bはソース信号線18Bからの
画像データをコンデンサ19Bに書き込む。
The pixel 16R in the pixel row (1) writes the image data from the source signal line 18R in the capacitor 19R. In addition, the pixel 16G in the pixel row (1) has the source signal line 1
Write the image data from 8G to the capacitor 19G,
The pixel 16B in the pixel row (1) writes the image data from the source signal line 18B in the capacitor 19B.

【0587】なお、説明を容易にするため、図296で
は、各画素にはN倍(N=2)の電流がEL素子15に
流れるようにプログラムするとし、1フレーム(1フィ
ールド)の1/Nの期間にEL素子15に電流が流れる
として説明をする。ただし、本明細書で説明するとお
り、他の実施例を実施してもよいことは言うまでもな
い。また、N値を大きくすることにより、ソース信号線
18の寄生容量404の影響を無視できるようになり、
画素16に画像データを書き込みやすくなることは言う
までもない。つまり、N=2に限定するものではない。
また、Nは整数に限定するものではなく、2.5などの
ような値でも実現できることはいうまでもない。また、
ゲート信号線17aの選択時間も1Hに限定するもので
はなく、2H以上でもよい。
Note that, in order to facilitate the explanation, in FIG. 296, it is assumed that each pixel is programmed so that N times (N = 2) current flows in the EL element 15, and 1 / frame of 1 frame (1 field) is assumed. It is assumed that a current flows through the EL element 15 during the N period. However, it goes without saying that other embodiments may be implemented, as described herein. Also, by increasing the N value, the influence of the parasitic capacitance 404 of the source signal line 18 can be ignored.
It goes without saying that the image data can be easily written in the pixel 16. That is, it is not limited to N = 2.
Further, it goes without saying that N is not limited to an integer and can be realized with a value such as 2.5. Also,
The selection time of the gate signal line 17a is not limited to 1H and may be 2H or more.

【0588】画素行(1)のゲート信号線17bR、ゲ
ート信号線17bGおよびゲート信号線17bBは、ゲ
ート信号線17aの逆位相となっている。したがって、
少なくとも画素行(1)の画素16R、画素16Gおよ
び画素16BのスイッチングTFT11dがオフ状態で
あり、対応する画素行のEL素子(15R、15G、1
5B)には電流が流れていない。つまり、非点灯状態3
12である。
The gate signal line 17bR, the gate signal line 17bG and the gate signal line 17bB in the pixel row (1) are in the opposite phase to the gate signal line 17a. Therefore,
At least the switching TFT 11d of the pixel 16R, the pixel 16G, and the pixel 16B of the pixel row (1) is in the off state, and the EL elements (15R, 15G, 1
No current is flowing in 5B). That is, non-lighting state 3
Twelve.

【0589】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(1)は非選択となり、ゲート信号線17bにはオン電
圧(Vgl)が印加される。また、同時に、ゲート信号
線17a(2)が選択され(Vgl電圧)、選択された
画素行(2)の画素16R、画素16Gおよび画素16
BのTFT11aからソースドライバ14に向かってソ
ース信号線18(それぞれ、18R、18G、18B)
にプログラム電流が流れる。このように動作することに
より、画素行(1)の画素16R、画素16Gおよび画
素16Bには画像データが保持される。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(1) is not selected, and the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b. At the same time, the gate signal line 17a (2) is selected (Vgl voltage), and the pixels 16R, 16G and 16 of the selected pixel row (2) are selected.
Source signal lines 18 (18R, 18G, and 18B, respectively) from the TFT 11a of B to the source driver 14
The program current flows to. By operating in this way, the image data is held in the pixels 16R, 16G, and 16B of the pixel row (1).

【0590】さらに次の、1H後には、ゲート信号線1
7a(2)は非選択となり、ゲート信号線17b(2)
にはオン電圧(Vgl)が印加される。また、同時に、
ゲート信号線17a(3)が選択され(Vgl電圧)、
選択された画素行(3)のTFT11aからソースドラ
イバ14に向かってソース信号線18にプログラム電流
が流れる。このように動作することのより、画素行
(2)に画像データが保持される。以上の動作を1画素
行づつシフトしながら走査することにより1画面が書き
換えられる。
After the next 1H, the gate signal line 1
7a (2) becomes non-selected, and gate signal line 17b (2)
Is applied with an on-voltage (Vgl). At the same time,
The gate signal line 17a (3) is selected (Vgl voltage),
A program current flows through the source signal line 18 from the TFT 11a of the selected pixel row (3) toward the source driver 14. By operating in this way, the image data is held in the pixel row (2). One screen is rewritten by scanning the above operation while shifting it by one pixel row.

【0591】次に、図296のゲート信号線17bの動
作を主に説明をする。画素16Rにはゲート信号線17
bRが接続されている。画素16Gにはゲート信号線1
7bGが接続されている。また、画素16Bにはゲート
信号線17bBが接続されている。したがって、画素1
6Rはゲート信号線17bRでEL素子15Rに流れる
電流をオンオフ制御することができる。同様に、画素1
6Gはゲート信号線17bGでEL素子15Gに流れる
電流をオンオフ制御することができ、画素16Bはゲー
ト信号線17bBでEL素子15Bに流れる電流をオン
オフ制御することができる。
Next, the operation of the gate signal line 17b shown in FIG. 296 will be mainly described. The gate signal line 17 is provided in the pixel 16R.
bR is connected. The gate signal line 1 is provided for the pixel 16G.
7bG is connected. A gate signal line 17bB is connected to the pixel 16B. Therefore, pixel 1
6R can control on / off the current flowing through the EL element 15R by the gate signal line 17bR. Similarly, pixel 1
6G can control on / off the current flowing through the EL element 15G by the gate signal line 17bG, and the pixel 16B can control on / off current flowing through the EL element 15B by the gate signal line 17bB.

【0592】図296では、ゲート信号線17bR、ゲ
ート信号線17bGおよびゲート信号線17bBは各画
素行において、同一波形にしている。したがって、EL
素子15R、15Gおよび15Bは同時にオンオフ(点
灯、非点灯)される。なお、図296は4HごとにEL
素子15をオンし、またオフさせているがこれに限定す
るものではない。1Hごとや、それ以上でもよい。ま
た、原理的には1H以下の周期でEL素子15をオンオ
フさせてもよい。
In FIG. 296, the gate signal line 17bR, the gate signal line 17bG, and the gate signal line 17bB have the same waveform in each pixel row. Therefore, EL
The elements 15R, 15G and 15B are simultaneously turned on / off (lighted and non-lighted). In addition, FIG. 296 shows that EL is set every 4H.
The element 15 is turned on and off, but is not limited to this. It may be every 1H or more. In principle, the EL element 15 may be turned on / off at a cycle of 1H or less.

【0593】ただし、オンオフ周期をあまりにも速くす
ると動画表示で動画ボケが発生する。したがって、EL
素子15がオンし、消灯して次にオンするまでの間隔は
0.5msec以上にする必要がある。この周期が短い
と、人間の目の残像特性により完全な黒表示状態となら
ず、画像がぼやけたようになり、あたかも解像度が低下
したようになる。また、データ保持型の表示パネルの表
示状態となる。しかし、オンオフ周期を100msec
以上になると、点滅状態に見える。したがって、EL素
子のオンオフ周期は0.5μsec以上100msec
以下にすべきである。さらに好ましくは、オンオフ周期
を2msec以上30msec以下にすべきである。さ
らに好ましくは、オンオフ周期を3msec以上20m
sec以下にすべきである。
[0593] However, if the on / off cycle is too fast, moving image blur occurs in the moving image display. Therefore, EL
It is necessary that the interval between turning on, turning off the light, and turning on the device 15 be 0.5 msec or more. When this cycle is short, the image is not completely displayed in black due to the afterimage characteristic of human eyes, and the image becomes blurry and the resolution is lowered. Further, the display state of the data holding type display panel is set. However, the on / off cycle is 100 msec.
When it is above, it looks like blinking. Therefore, the ON / OFF cycle of the EL element is 0.5 μsec or more and 100 msec.
Should be: More preferably, the on / off period should be 2 msec or more and 30 msec or less. More preferably, the on / off cycle is 3 msec or more and 20 m
It should be less than sec.

【0594】以上の関係から、1フレーム(1フィール
ド)に要する時間と、ゲート信号線17bに印加する信
号(Vgh、Vgl)の周期あるいは回数から画面をオ
ンオフさせる黒画面312の挿入数が決定される。黒画
面312を1つにすると良好な動画表示を実現できる
が、画面のちらつきが見えやすくなる。したがって、黒
312挿入部を複数に分割することが好ましい。しか
し、分割数をあまりに多くすると動画ボケが発生する。
分割数は1以上8以下とすべきである。さらに好ましく
は1以上5以下とすることが好ましい。
From the above relationship, the number of black screens 312 for turning on / off the screen is determined from the time required for one frame (one field) and the cycle or number of signals (Vgh, Vgl) applied to the gate signal line 17b. It Although a good moving image display can be realized by using only one black screen 312, flicker on the screen is easily visible. Therefore, it is preferable to divide the black 312 insertion part into a plurality of parts. However, if the number of divisions is too large, moving image blur occurs.
The number of divisions should be 1 or more and 8 or less. More preferably, it is 1 or more and 5 or less.

【0595】なお、本発明は、TFT11dをオフし、
EL素子15に流れる電流を遮断しても、再び、TFT
11dをオンすると、先に流れていた電流と同一の電流
をEL素子15に流すことができる。これは、流す電流
値が、画素のコンデンサ19にメモリ(アナログメモ
リ)されているからである。この事項は、本発明の大き
な特徴である。つまり、EL素子15に流す電流をオン
オフさせる制御を自由にできるからである。
According to the present invention, the TFT 11d is turned off,
Even if the current flowing through the EL element 15 is cut off, the
When 11d is turned on, the same current as the previously flowing current can be passed through the EL element 15. This is because the current value to be passed is stored in the capacitor 19 of the pixel (analog memory). This matter is a great feature of the present invention. That is, it is possible to freely control the on / off of the current flowing through the EL element 15.

【0596】図296では、ゲート信号線17bR、ゲ
ート信号線17bGおよびゲート信号線17bBは各画
素行において、同一波形にしている。また、画素行の選
択は1Hごとに選択画素行を順次シストしている。した
がって、EL素子15R、15Gおよび15Bの発光位
置は、画面21の上から下へ高速に移動していく。ま
た、このオンオフ制御と黒画面312の挿入割合および
黒画面312の挿入個数は、図2などで説明したシフト
レジスタ22へのSTデータを制御することにより容易
に実現できる。もちろん、ゲート信号線17bに印加す
るVghデータの制御をパラレル制御してもよいことは
言うまでもない。
In FIG. 296, the gate signal line 17bR, the gate signal line 17bG, and the gate signal line 17bB have the same waveform in each pixel row. In addition, the pixel rows are selected by sequentially shifting the selected pixel rows every 1H. Therefore, the light emitting positions of the EL elements 15R, 15G, and 15B move from the top to the bottom of the screen 21 at high speed. The on / off control, the black screen 312 insertion ratio, and the number of black screens 312 inserted can be easily realized by controlling the ST data to the shift register 22 described with reference to FIG. Needless to say, the Vgh data applied to the gate signal line 17b may be controlled in parallel.

【0597】また、ゲート信号線17に印加する信号は
周期的な信号としたが、これに限定するものではなく、
非周期的な信号でもよい。ただし、EL素子15をオン
またはオフする時間の総和が異なると画面の明るさが変
化してしまう。また、色バランスのずれが発生する。し
たがって、1フレーム(1フィールド)の期間におい
て、EL素子15をオンまたはオフする時間の総和を一
定値にする必要がある。特殊な場合として、2フレーム
(2フィールド)以上の期間でEL素子15をオンまた
はオフする時間の総和を一定値にしても良い場合があ
る。1フレーム(フィールド)が非常に高速である場合
と、FSC(フレームシーケンシャルコントロール)駆
動の場合である。
Although the signal applied to the gate signal line 17 is a periodic signal, it is not limited to this.
It may be an aperiodic signal. However, the brightness of the screen changes if the total time of turning on or off the EL element 15 is different. In addition, a color balance shift occurs. Therefore, in one frame (one field) period, it is necessary to set the sum of the times when the EL element 15 is turned on or off to a constant value. As a special case, there is a case where the total sum of the times when the EL element 15 is turned on or off in a period of two frames (two fields) or more may be set to a constant value. There are cases where one frame (field) is very high speed and cases where FSC (frame sequential control) driving is performed.

【0598】図296では、ゲート信号線17bR、ゲ
ート信号線17bGおよびゲート信号線17bBは各画
素行において、同一波形にしている。また、画素行の選
択は1Hごとに選択画素行を順次シストしている。図2
97では、ゲート信号線17bRに印加する波形は2H
周期で変化させ、ゲート信号線17bGに印加する波形
は3H周期で変化させ、ゲート信号線17bBに印加す
る波形は4H周期で変化させている。他の事項は、図2
96と同様であるので説明を省略する。
In FIG. 296, the gate signal line 17bR, the gate signal line 17bG, and the gate signal line 17bB have the same waveform in each pixel row. In addition, the pixel rows are selected by sequentially shifting the selected pixel rows every 1H. Figure 2
In 97, the waveform applied to the gate signal line 17bR is 2H.
The waveform applied to the gate signal line 17bG is changed in a cycle of 3H, and the waveform applied to the gate signal line 17bB is changed in a cycle of 4H. Other matters are shown in Figure 2.
The description is omitted because it is the same as 96.

【0599】なお、図297では、ゲート信号線17b
Rに印加する波形は2H周期で変化させ、ゲート信号線
17bGに印加する波形は3H周期で変化させ、ゲート
信号線17bBに印加する波形は4H周期で変化させて
いるとしたが、これは作図を容易にするためであって、
2H、3Hなどに限定されるものではない。少なくと
も、画素16Rに接続されたゲート信号線16bRと、
画素16Gに接続されたゲート信号線16bGと、画素
16Bに接続されたゲート信号線16bBのうち1つ以
上のゲート信号線17bに印加する信号波形を他のゲー
ト信号線17bとを異ならせたものである。
Note that in FIG. 297, the gate signal line 17b
The waveform applied to R is changed in a 2H cycle, the waveform applied to the gate signal line 17bG is changed in a 3H cycle, and the waveform applied to the gate signal line 17bB is changed in a 4H cycle. To facilitate
It is not limited to 2H, 3H and the like. At least a gate signal line 16bR connected to the pixel 16R,
A gate signal line 16bG connected to the pixel 16G and a signal waveform applied to one or more gate signal lines 17b of the gate signal lines 16bB connected to the pixel 16B are different from those of the other gate signal lines 17b. Is.

【0600】図297のように駆動すると、EL素子1
5R、15Gおよび15Bの発光位置は、画面21の上
から下へ高速に移動していく。この際、EL素子15R
のオンオフ(点灯、非点灯)周期と、EL素子15Gの
オンオフ(点灯、非点灯)周期と、EL素子15Bのオ
ンオフ(点灯、非点灯)周期とが異なる。EL素子15
の点灯周期を異ならせることにより、フリッカの発生が
目立ちにくくなる。
When driven as shown in FIG. 297, the EL element 1
The light emission positions of 5R, 15G, and 15B move from the top of the screen 21 to the bottom at high speed. At this time, the EL element 15R
The ON / OFF (lighting / non-lighting) cycle, the EL element 15G ON / OFF (lighting / non-lighting) cycle, and the EL element 15B ON / OFF (lighting / non-lighting) cycle are different. EL element 15
The occurrence of flicker becomes less noticeable by changing the lighting cycle of.

【0601】また、このオンオフ制御と黒画面312の
挿入割合および黒画面312の挿入個数は、図2などで
説明したシフトレジスタ22へのSTデータを制御する
ことにより容易に実現できる。もちろん、ゲート信号線
17bに印加する信号(Vgh、Vgl)データの制御
をパラレル制御してもよいことは言うまでもない。
The ON / OFF control, the black screen 312 insertion ratio, and the number of black screens 312 inserted can be easily realized by controlling the ST data to the shift register 22 described with reference to FIG. Of course, it goes without saying that the control of the signal (Vgh, Vgl) data applied to the gate signal line 17b may be controlled in parallel.

【0602】図298では、ゲート信号線17bRに印
加するVgl期間を他のゲート信号線17bよりも短く
している。したがって、ゲート信号線17bRに接続さ
れたEL素子15Rの点灯時間は長くなる(画素16R
のTFT11dがオンする期間が長くなる)。したがっ
て、表示画面21のRの発光輝度が強くなる。
In FIG. 298, the Vgl period applied to the gate signal line 17bR is set shorter than that of the other gate signal lines 17b. Therefore, the lighting time of the EL element 15R connected to the gate signal line 17bR becomes longer (pixel 16R
The TFT 11d is turned on for a longer period). Therefore, the R emission brightness of the display screen 21 becomes strong.

【0603】以上のように、ゲート信号線17bR、ゲ
ート信号線17bG、ゲート信号線17bBに印加する
信号を個別に制御することにより、画面21の色バラン
ス、フリッカの発生を抑制できる。つまり、EL素子1
5をオンさせる時間、タイミング、周期を制御すること
により、画面21の色バランス、フリッカの発生を抑制
できる。
As described above, by individually controlling the signals applied to the gate signal line 17bR, the gate signal line 17bG, and the gate signal line 17bB, the color balance of the screen 21 and the occurrence of flicker can be suppressed. That is, the EL element 1
By controlling the time, timing, and cycle of turning on 5, the color balance of the screen 21 and the occurrence of flicker can be suppressed.

【0604】なお、図298では、ゲート信号線17b
Gに印加する波形は3H周期で変化させ、ゲート信号線
17bBに印加する波形は4H周期で変化させていると
したが、これは作図を容易にするためであって、2H、
3Hなどに限定されるものではない。少なくとも、画素
16Rに接続されたゲート信号線16bRと、画素16
Gに接続されたゲート信号線16bGと、画素16Bに
接続されたゲート信号線16bBのうち1つ以上のゲー
ト信号線17bに印加する信号波形のうち、TFT11
dをオンさせる(もしくはオフさせる)信号の印加時間
を他のゲート信号線17bとを異ならせたものである。
In FIG. 298, the gate signal line 17b
The waveform applied to G is changed in a 3H cycle, and the waveform applied to the gate signal line 17bB is changed in a 4H cycle. This is for facilitating the drawing.
It is not limited to 3H or the like. At least the gate signal line 16bR connected to the pixel 16R and the pixel 16R
Of the signal waveforms applied to the gate signal line 16bG connected to G and one or more of the gate signal lines 17bB connected to the pixel 16B, the TFT 11
The application time of the signal for turning on (or turning off) d is different from that of the other gate signal lines 17b.

【0605】図298のように駆動すると、EL素子1
5R、15Gおよび15Bの発光位置は、画面21の上
から下へ高速に移動していく。この際、EL素子15R
のオン(点灯)時間と、EL素子15Gのオン(点灯)
時間と、EL素子15Bのオン(点灯)時間を異ならせ
ることができる。したがって、画面の色バランス調整が
可能となり、また、フリッカの発生が目立ちにくくな
る。このような色バランス調整は、ユーザーが画面21
をみながら、調整できるように構成しておくことが好ま
しい。この調整は容易である。図2などのシフトレジス
タ22に入力するSTデータのオン個数を増加あるいは
減少させればよいからである。また、このオンオフ制御
と黒画面312の挿入割合および黒画面312の挿入個
数は、図2などで説明したシフトレジスタ22へのST
データを制御することにより容易に実現できる。もちろ
ん、ゲート信号線17bに印加する信号(Vgh、Vg
l)データの制御をパラレル制御してもよいことは言う
までもない。
When driven as shown in FIG. 298, the EL element 1
The light emission positions of 5R, 15G, and 15B move from the top of the screen 21 to the bottom at high speed. At this time, the EL element 15R
ON (lighting) time and EL element 15G ON (lighting)
The time and the ON (lighting) time of the EL element 15B can be different. Therefore, the color balance of the screen can be adjusted, and the occurrence of flicker is less noticeable. This kind of color balance adjustment is performed by the user on the screen 21.
It is preferable to be configured so that adjustment can be performed while watching. This adjustment is easy. This is because the ON number of ST data input to the shift register 22 shown in FIG. 2 and the like may be increased or decreased. Further, this on / off control, the insertion ratio of the black screen 312, and the number of black screens 312 to be inserted are set in the ST to the shift register 22 described with reference to FIG.
This can be easily achieved by controlling the data. Of course, the signals (Vgh, Vg applied to the gate signal line 17b)
l) It goes without saying that the data control may be controlled in parallel.

【0606】なお、図294から図298は画素構成が
図1の場合を例示して説明をした。しかし、以上の実施
例は、他の画素構成であっても適用できることは言うま
でもない。たとえば、図21、図43、図71、図2
2、図54、図68、図103などである。つまり、図
294から図298で説明した技術的思想は他の構成に
おいても適用できる。たとえば、図360は画素がカレ
ントミラーの構成(図21、図43などを参照のこと)
の場合の実施例である。また、図361は、図54など
で図示した電圧プログラムの画素構成の実施例である。
Note that FIGS. 294 to 298 have been described by exemplifying the case where the pixel configuration is FIG. However, it goes without saying that the above embodiment can be applied to other pixel configurations. For example, FIG. 21, FIG. 43, FIG. 71, FIG.
2, FIG. 54, FIG. 68, FIG. 103, etc. That is, the technical idea described in FIGS. 294 to 298 can be applied to other configurations. For example, in FIG. 360, the pixel has a current mirror structure (see FIGS. 21 and 43, etc.).
It is an example in the case of. Also, FIG. 361 shows an example of the pixel configuration of the voltage program illustrated in FIG. 54 and the like.

【0607】図88、図87、図140などで説明した
駆動方法は、同時に複数画素行を選択する駆動方式であ
った。この駆動方式では以下の点で注意が必要である。
結論から言えば、表示に寄与しない画素(行)(ダミー
画素(行))を設ける(形成する)ことが好ましいこと
である。以上の理由などについて以下に説明をする。
The driving method described with reference to FIGS. 88, 87, 140, etc. is a driving method of simultaneously selecting a plurality of pixel rows. In this drive system, attention must be paid to the following points.
From the conclusion, it is preferable to provide (form) pixels (rows) (dummy pixels (rows)) that do not contribute to display. The above reasons will be described below.

【0608】図246は、同時に2画素行を選択する駆
動方式の説明図である。図246において、画素16
a、16bが選択されている状態を図示している。画素
16aのTFT11aと画素16bのTFT11aはそ
れぞれ、電流Iddをソース信号線18に流す。
FIG. 246 is an explanatory diagram of a driving method for simultaneously selecting two pixel rows. In FIG. 246, the pixel 16
The state where a and 16b are selected is illustrated. The TFT 11a of the pixel 16a and the TFT 11a of the pixel 16b respectively supply the current Idd to the source signal line 18.

【0609】ここで説明を容易にするため、各画素のT
FT11aが流す電流はバラツキがないとし、2×Id
d=Iwとする。つまり、ソースドライバ回路14はソ
ース信号線18からの電流Iwを吸収し、この電流Iw
を2等分した電流が各画素のコンデンサ19にプログラ
ムされる。たとえば、Idd=15nAであれば、Iw
=30nAである。
For ease of explanation, the T of each pixel is
There is no variation in the current flowing through the FT 11a, and 2 × Id
Let d = Iw. That is, the source driver circuit 14 absorbs the current Iw from the source signal line 18, and the current Iw is absorbed.
Is divided into two equal parts and a current is programmed in the capacitor 19 of each pixel. For example, if Idd = 15 nA, Iw
= 30 nA.

【0610】図247(a)に図示するように、2本の
書き込み画素行871(871a、871b)が選択さ
れ、画面21の上辺から下辺に順次選択されていく。し
かし、図871(b)のように、画面の下辺までくると
書き込み画素行871aは存在するが、871bはなく
なる。つまり、選択する画素行が1本しかなくなる。そ
のため、ソース信号線18に印加された電流Iwは、す
べて画素行871aに書き込まれる。したがって、Iw
=Iddとなり、図247(a)の画素行871aに比
較して、2倍の電流が画素にプログラムされてしまう。
As shown in FIG. 247 (a), two write pixel rows 871 (871a, 871b) are selected and sequentially selected from the upper side to the lower side of the screen 21. However, as shown in FIG. 871 (b), when reaching the lower side of the screen, the writing pixel row 871a exists but the writing pixel row 871b disappears. That is, only one pixel row is selected. Therefore, all the current Iw applied to the source signal line 18 is written in the pixel row 871a. Therefore, Iw
= Idd, so that twice the current is programmed in the pixel as compared with the pixel row 871a in FIG. 247 (a).

【0611】この課題に対して、本発明は、図247
(b)に図示するように画面21の下辺にダミー画素行
2471を形成(配置)している。したがって、選択画
素行が画面21の下辺まで選択された場合は、画面21
の最終画素行とダミー画素行2471が選択される。そ
のため、図247(b)の書き込み画素行には、規定ど
おりのIdd=Iw/2の電流が書き込まれる。
To solve this problem, the present invention is shown in FIG.
As shown in (b), a dummy pixel row 2471 is formed (arranged) on the lower side of the screen 21. Therefore, when the selected pixel row is selected up to the lower side of the screen 21, the screen 21
The last pixel row and the dummy pixel row 2471 are selected. Therefore, the current of Idd = Iw / 2 as specified is written in the writing pixel row in FIG. 247 (b).

【0612】図248は図247(b)の状態を示して
いる。図248で明らかのように、選択画素行が画面2
1の下辺の画素16b行まで選択された場合は、画面2
1の最終画素行2471が選択される。また、図249
に図示するように、画素行2471を形成(配置)す
る。しかし、ダミー画素行2471は表示領域21外に
配置する。つまり、ダミー画素行2471は点灯しな
い、あるいは点灯させない、もしくは点灯しても表示と
して見えないように構成する。
FIG. 248 shows the state of FIG. 247 (b). As is clear from FIG. 248, the selected pixel row is displayed on the screen 2
When the pixel 16b on the lower side of 1 is selected, the screen 2
The last pixel row 2471 of 1 is selected. Also, FIG.
A pixel row 2471 is formed (arranged) as shown in FIG. However, the dummy pixel row 2471 is arranged outside the display area 21. That is, the dummy pixel row 2471 is not illuminated, is not illuminated, or is invisible even when illuminated.

【0613】なお、図248、図249のようにダミー
画素行2471を形成(配置)する構成であっても、図
179で説明したように点灯制御線1791でゲート信
号線17bなどを共通にし、ブロック点灯駆動を実施し
たりできることはいうまでもない。また、逆バイアス駆
動とも組み合わせることができることも言うまでもない
(図250を参照のこと)。
Even if the dummy pixel row 2471 is formed (arranged) as shown in FIGS. 248 and 249, the gate signal line 17b and the like are shared by the lighting control line 1791 as described with reference to FIG. 179. It goes without saying that the block lighting drive can be carried out. Needless to say, it can be combined with reverse bias driving (see FIG. 250).

【0614】図247では、画面21の下辺にダミー画
素(行)2471を設ける(形成する、配置する)とし
たが、これに限定するものではない。たとえば、図25
1(a)に図示するように、画面の下辺から上辺に走査
する(上下逆転走査)する場合は、図251(b)に図
示するように画面21の上辺にもダミー画素行2471
を形成すべきである。つまり、画面21の上辺を下辺の
それぞれにダミー画素行2471を形成(配置)する
(図254を参照のこと)。以上のように構成すること
により、画面の上下反転走査にも対応できるようにな
る。
In FIG. 247, dummy pixels (rows) 2471 are provided (formed or arranged) on the lower side of the screen 21, but the invention is not limited to this. For example, in FIG.
As shown in FIG. 1A, when scanning is performed from the bottom side to the top side of the screen (vertical upside-down scanning), dummy pixel rows 2471 are also provided on the top side of the screen 21 as shown in FIG.
Should be formed. That is, the dummy pixel rows 2471 are formed (arranged) on the upper side and the lower side of the screen 21, respectively (see FIG. 254). With the above configuration, it is possible to support upside down scanning of the screen.

【0615】以上の実施例は、2画素行を同時選択する
場合であった。本発明はこれに限定するものではなく、
たとえば、5画素行を同時選択する方式でもよい。
The above-mentioned embodiment is a case where two pixel rows are simultaneously selected. The present invention is not limited to this,
For example, a method of simultaneously selecting 5 pixel rows may be used.

【0616】図255は5画素行を同時に選択する駆動
方法の説明図である。図255に図示するように、画面
の上下辺に4画素分のダミー画素行2471を形成して
いる。
FIG. 255 is an explanatory diagram of a driving method for simultaneously selecting 5 pixel rows. As shown in FIG. 255, four pixel dummy pixel rows 2471 are formed on the upper and lower sides of the screen.

【0617】図271は図255の表示パネルの駆動方
法の説明図である。ソースドライバ回路14からはIw
=5×Iddの電流が出力(あるいは吸収)するとして
説明する。電流Iddは各画素に書き込まれる電流(プ
ログラムされる電流)である。なお、Iddは、表示画
像によって異なるのは言うまでもない。
FIG. 271 is an explanatory diagram of a driving method of the display panel of FIG. 255. Iw from the source driver circuit 14
The description will be made assuming that a current of 5 × Idd is output (or absorbed). The current Idd is a current written in each pixel (programmed current). Needless to say, Idd varies depending on the displayed image.

【0618】5画素行を同時に選択する駆動方式では、
ソースドライバ回路14は画素に書き込む電流Iddの
5倍の電流と出力する。図271(a)では、画面21
の1番上の画素のみが選択されている。しかし、この状
態ではIw=5×Iddであるから、所定値の5倍の電
流が書き込み画素行871に書き込まれてしまう。
In the driving system in which 5 pixel rows are selected at the same time,
The source driver circuit 14 outputs a current which is 5 times the current Idd written in the pixel. In FIG. 271 (a), the screen 21
Only the uppermost pixel is selected. However, since Iw = 5 × Idd in this state, a current which is five times the predetermined value is written in the write pixel row 871.

【0619】この課題に対して、本発明では、図271
(a)に図示するように、4画素行のダミー画素行24
71aを同時に選択する。つまり、4本のダミー画素行
2471aと1本の表示領域の書き込み画素行871が
同時選択される。したがって、Iw=5×Iddとなる
から、図271(a)で選択した画素行871には所定
の電流Iddがプログラムされる。
To solve this problem, according to the present invention, FIG.
As shown in (a), four dummy pixel rows 24
71a are selected at the same time. That is, the four dummy pixel rows 2471a and the write pixel row 871 in one display area are simultaneously selected. Therefore, since Iw = 5 × Idd, a predetermined current Idd is programmed in the pixel row 871 selected in FIG. 271 (a).

【0620】図271(b)では、表示領域21の2本
の書き込み画素行871が選択され、ダミー画素行24
71aは1本が選択されず、3本が選択される。したが
って、選択された画素行は計5本となる。そのため、I
w=5×Iddとなるから、図271(b)で選択した
2本の画素行871には所定の電流Iddがプログラム
される。
In FIG. 271 (b), two write pixel rows 871 in the display area 21 are selected and the dummy pixel row 24 is selected.
One of 71a is not selected, but three are selected. Therefore, the total number of selected pixel rows is five. Therefore, I
Since w = 5 × Idd, a predetermined current Idd is programmed in the two pixel rows 871 selected in FIG. 271 (b).

【0621】同様に、図271(c)では、表示領域2
1の3本の書き込み画素行871が選択され、ダミー画
素行2471aは2本が選択されず、2本が選択され
る。したがって、選択された画素行は計5本となる。そ
のため、Iw=5×Iddとなるから、図271(c)
で選択した2本の画素行871には所定の電流Iddが
プログラムされる。
Similarly, in FIG. 271 (c), the display area 2
Three write pixel rows 871 of 1 are selected, two dummy pixel rows 2471a are not selected, and two dummy pixel rows 2471a are selected. Therefore, the total number of selected pixel rows is five. Therefore, since Iw = 5 × Idd, FIG. 271 (c).
A predetermined current Idd is programmed in the two pixel rows 871 selected in.

【0622】以上のように、図271(d)では、表示
領域21の4本の書き込み画素行871が選択され、ダ
ミー画素行2471aは3本が選択されず、1本が選択
される。また、図271(e)では、表示領域21の5
本の書き込み画素行871が選択され、ダミー画素行2
471aは選択されない。以上、5本の画素行は順次選
択されていく(図271(f)(g)(h))。画面2
1の下辺に到達すると、ダミー画素行2471bの選択
本数が1Hごとに増加する。
As described above, in FIG. 271 (d), four write pixel rows 871 in the display area 21 are selected, and three dummy pixel rows 2471a are not selected, but one is selected. Also, in FIG. 271 (e), 5 of the display area 21 is displayed.
The writing pixel row 871 of the book is selected, and the dummy pixel row 2 is selected.
471a is not selected. As described above, the five pixel rows are sequentially selected (FIGS. 271 (f) (g) (h)). Screen 2
When the lower side of 1 is reached, the number of selected dummy pixel rows 2471b increases every 1H.

【0623】以上のように駆動することにより、同時選
択する画素行が増加しても、画面21の上辺あるいは下
辺を選択する際、ダミー画素行2471を含めた画素行
を一定値とすることができる、そのため、ソースドライ
バ回路14が出力する電流値は画像データの同時選択画
素行倍に固定することができる。したがって、ソースド
ライバ回路14の構成が容易になり、また、各画素には
目標の所定電流(電圧)が書き込まれる。
By driving as described above, even if the number of pixel rows to be selected simultaneously increases, when selecting the upper side or the lower side of the screen 21, the pixel rows including the dummy pixel row 2471 can be set to a constant value. Therefore, the current value output by the source driver circuit 14 can be fixed to the number of pixel rows of the image data selected simultaneously. Therefore, the configuration of the source driver circuit 14 is simplified, and a target predetermined current (voltage) is written in each pixel.

【0624】以上のように、5画素行を同時に選択する
駆動方式では、画面の1辺に5−1=4本のダミー画素
行を形成すればよい。つまり、同時に選択する(画素行
数−1)本以上のダミー画素行を形成あるいは配置すれ
ばよい。
As described above, in the driving method in which five pixel rows are simultaneously selected, 5-1 = 4 dummy pixel rows may be formed on one side of the screen. That is, it is only necessary to form or arrange dummy pixel rows of (number of pixel rows-1) or more selected simultaneously.

【0625】また、以上の実施例は、2画素行を同時選
択する実施例と、5画素行を同時選択する実施例であっ
た。本発明はこれに限定するものではなく、3画素行あ
るいはそれ以上の画素行を同時に選択してもよい。
Further, the above embodiments are the embodiments in which two pixel rows are simultaneously selected and the one in which five pixel rows are simultaneously selected. The present invention is not limited to this, and three pixel rows or more pixel rows may be simultaneously selected.

【0626】また、以上の実施例では、隣接した画素行
を同時選択するとして説明したがこれに限定するもので
はない。たとえば、1画素行おきに選択してもよいし、
ランダムに選択してもよい。
Further, in the above embodiments, it was explained that adjacent pixel rows are simultaneously selected, but the present invention is not limited to this. For example, you may select every other pixel row,
You may choose at random.

【0627】以上の実施例では、複数の画素行を選択す
る際、画面21の走査の最初あるいは最後の部分でダミ
ー画素行2471を選択し、ソースドライバ回路14に
流れる電流Iwを一定値とするものである。もちろん、
本発明はダミー画素行を形成あるいは配置するものであ
るであって、ソースドライバ回路14に流れる電流を一
定値にすることに限定されるものではない。
In the above embodiments, when selecting a plurality of pixel rows, the dummy pixel row 2471 is selected at the beginning or the end of the scanning of the screen 21, and the current Iw flowing through the source driver circuit 14 is set to a constant value. It is a thing. of course,
The present invention forms or arranges dummy pixel rows, and is not limited to making the current flowing through the source driver circuit 14 a constant value.

【0628】図272は、書き込み画素行871aが選
択されていない期間に、ダミー画素行2471aをオン
させる駆動方法である。また、書き込み画素行871a
は1画素行としているがこれに限定するものではなく、
図271などのように複数画素行であってもよいことは
言うまでもない。このような駆動を行う場合として、ア
レイ基板49に直接にゲートドライバ回路12を形成
(ゲートドライバ内蔵構成)する場合が例示される。
FIG. 272 shows a driving method in which the dummy pixel row 2471a is turned on while the write pixel row 871a is not selected. Also, the writing pixel row 871a
Is one pixel row, but is not limited to this,
It goes without saying that a plurality of pixel rows may be used as in FIG. As a case of performing such driving, a case of forming the gate driver circuit 12 directly on the array substrate 49 (configuration having a built-in gate driver) is exemplified.

【0629】ゲートドライバ内蔵構成では、複雑な回路
を形成することが歩留まりあるいは形成面積の観点から
困難である。そのため、極力簡略化した回路構成で、ゲ
ートドライバ回路12を形成する。回路構成を簡略化す
るため、形成されたゲートドライバ回路12はその動作
に制約がある場合が発生する。
With the structure with a built-in gate driver, it is difficult to form a complicated circuit from the viewpoint of yield or formation area. Therefore, the gate driver circuit 12 is formed with a circuit configuration that is as simple as possible. In order to simplify the circuit configuration, the operation of the formed gate driver circuit 12 may be restricted.

【0630】たとえば、ゲートドライバ回路12のシフ
トレジスタ22にデータ(ST)を入れても、2−3ク
ロック(クロックは1Hとする)後でないと、ゲート信
号線17aにオン信号(Vgl)が出力しないことが例
示される。ただし、ゲート信号線17a(1)にオンデ
ータが出力された後は、以後、1Hのクロックに同期し
てオンデータ位置は順次シフトされる。
For example, even if data (ST) is input to the shift register 22 of the gate driver circuit 12, the ON signal (Vgl) is output to the gate signal line 17a only after 2-3 clocks (clock is set to 1H). It is illustrated that it does not. However, after the ON data is output to the gate signal line 17a (1), the ON data position is sequentially shifted in synchronization with the 1H clock.

【0631】以上のように、2−3クロック後でない
と、ゲート信号線17a(1)が選択されないとなる
と、2−3クロックの間、いずれの画素行も選択されな
いことになる。この期間は、ソースドライバ回路14の
出力は0(電流の入出力はない)状態とすることが好ま
しい。しかし、ソースドライバ回路14の出力段は定電
流回路で構成されている。そのため、流れる電流を完全
に0とすることが困難である。ソース信号線18に電流
が流れると(ソース信号線18の電荷をソースドライバ
回路14が吸収する)、ソース信号線18の電位を低下
させる。ソース信号線18の電位が低下すると、各画素
16のコンデンサ19の電位も低下する場合がある。コ
ンデンサ19の電位が低下すると、TFT11aのゲー
ト端子の電位を低下させる方向になるため、TFT11
aが電流をより流す方向となる。この状態が顕著に現れ
るのが、画面が黒表示状態の場合である。各画素のTF
T11aが電流を流すことにより、黒浮きが発生するか
らである。
As described above, if the gate signal line 17a (1) is not selected after 2-3 clocks, no pixel row is selected for 2-3 clocks. During this period, the output of the source driver circuit 14 is preferably set to 0 (no current input / output). However, the output stage of the source driver circuit 14 is composed of a constant current circuit. Therefore, it is difficult to completely set the flowing current to zero. When a current flows through the source signal line 18 (the source driver circuit 14 absorbs the electric charge of the source signal line 18), the potential of the source signal line 18 is lowered. When the potential of the source signal line 18 decreases, the potential of the capacitor 19 of each pixel 16 may also decrease. When the potential of the capacitor 19 decreases, the potential of the gate terminal of the TFT 11a tends to decrease.
a is the direction in which the current flows more. This state remarkably appears when the screen is in the black display state. TF of each pixel
This is because the T11a causes a black float when a current flows.

【0632】この課題に対しては、表示領域21のいず
れのゲート信号線17が選択されていない場合(状
態)、ダミー画素行2471を選択し、電流がソース信
号線に流れるように駆動する。つまり、ダミー画素行2
471のスイッチングTFT11をオンさせ、また、駆
動用TFT11aのインピーダンスを低下させる。した
がって、ソースドライバ回路14に流れ込む電流は、ダ
ミー画素行2471のTFT11aから供給されるよう
に構成しておく。
To address this problem, when none of the gate signal lines 17 in the display region 21 is selected (state), the dummy pixel row 2471 is selected and driven so that the current flows through the source signal line. That is, dummy pixel row 2
The switching TFT 11 of 471 is turned on, and the impedance of the driving TFT 11a is lowered. Therefore, the current flowing into the source driver circuit 14 is configured to be supplied from the TFT 11a of the dummy pixel row 2471.

【0633】また、重要なのは、表示領域21のいずれ
の画素行も選択されない状態では、ソースドライバ回路
14の出力段回路は、極力、電流オフの状態とすること
である。
Also, what is important is that the output stage circuit of the source driver circuit 14 is turned off as much as possible in a state where no pixel row in the display region 21 is selected.

【0634】図272(a1)では、ゲートドライバ内
蔵回路12のシフトレジスタ22にスタート信号が印加
されたことを想定している。図272(a2)は、図2
72(a1)に比較して1H後である。同様に、図27
2(a3)はさらに1H後であり、図272(a4)は
さらに1H後である。
In FIG. 272 (a1), it is assumed that the start signal is applied to the shift register 22 of the gate driver built-in circuit 12. 272 (a2) corresponds to FIG.
This is 1H after 72 (a1). Similarly, FIG.
2 (a3) is after 1H, and FIG. 272 (a4) is after 1H.

【0635】図272(a)では、最初の2H期間は表
示領域21のいずれのゲート信号線も選択されず、3H
後の、図272(a3)で初めて画素行(1)が選択さ
れ、以降、図272(a4)で1画素行シフトされ、画
素行(2)が選択されたところを示している。
In FIG. 272 (a), none of the gate signal lines in the display area 21 is selected in the first 2H period, and the 3H period is not used.
The subsequent pixel row (1) is first selected in FIG. 272 (a3), and then shifted by one pixel row in FIG. 272 (a4), and the pixel row (2) is selected.

【0636】図272(a1)(a2)では、いずれの
画素行も選択されていない。その対策として、ダミー画
素行2471aを選択し、ソース信号線18の電位を変
化させないように、ダミー画素行2471aにTFT1
1aから電流を供給している。
In FIG. 272 (a1) (272), no pixel row is selected. As a countermeasure, the dummy pixel row 2471a is selected, and the TFT1 is set in the dummy pixel row 2471a so as not to change the potential of the source signal line 18.
The current is supplied from 1a.

【0637】以上のように、ダミー画素行2471aか
ら電流を供給することにより黒浮きがなく、良好な画像
表示を実現できる。また、画面のホワイトバランスなど
の変化も発生しない。
As described above, by supplying the current from the dummy pixel row 2471a, it is possible to realize good image display without blackening. Also, the white balance of the screen does not change.

【0638】なお、図272(a)では、ソースドライ
バ回路14に近い側のダミー画素行2471aを選択す
るとしたがこれに限定するものではない。たとえば、図
272(b)のように、ソースドライバ14から遠い側
のダミー画素行2471bを選択してもよい。また、ダ
ミー画素行2417aと2471bの両方を選択しても
よい。
In FIG. 272 (a), the dummy pixel row 2471a closer to the source driver circuit 14 is selected, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 272 (b), the dummy pixel row 2471b on the side far from the source driver 14 may be selected. Further, both the dummy pixel rows 2417a and 2471b may be selected.

【0639】また、図272(b)の駆動方式は、図2
72(a)と動作は同様である。図272(b1)で、
ゲートドライバ内蔵回路12のシフトレジスタ22にス
タート信号が印加され、図272(b2)は、図272
(b1)に比較して1H後である。同様に、図272
(b3)はさらに1H後であり、図272(b4)はさ
らに1H後である。
Further, the driving method of FIG. 272 (b) is the same as that of FIG.
The operation is the same as 72 (a). In FIG. 272 (b1),
A start signal is applied to the shift register 22 of the circuit 12 with a built-in gate driver, and FIG.
This is 1H later than (b1). Similarly, FIG.
(B3) is after 1H, and FIG. 272 (b4) is after 1H.

【0640】図272(b)の図272(a)と同様
に、最初の2H期間は表示領域21のいずれのゲート信
号線も選択されず、3H後の、図272(b3)で初め
て画素行(1)が選択され、以降、図272(b4)で
1画素行シフトされ、画素行(2)が選択されたところ
を示している。図272(b)のように、ソースドライ
バ回路14から遠い方のダミー画素行2471bを選択
するほうが、ソース信号線18の電位が安定化しやす
い。この状態を図253に示している。
As in the case of FIG. 272 (a) of FIG. 272 (b), no gate signal line in the display area 21 is selected in the first 2H period, and the first pixel row in FIG. 272 (b3) after 3H. FIG. 272 (b4) shows that the pixel row (2) is selected by shifting the pixel row by 1 pixel row after (1) is selected. As shown in FIG. 272 (b), it is easier to stabilize the potential of the source signal line 18 by selecting the dummy pixel row 2471b farther from the source driver circuit 14. This state is shown in FIG.

【0641】なお、図272の実施例では、選択する画
素行は1本であったが、これに限定するものではない。
たとえば、図271のように複数の画素行を選択する駆
動方式にも適用することができることは言うまでもな
い。なお、複数の画素行を選択する駆動方式において、
表示領域21の画素行が全く選択されていないときに発
生する黒浮きあるいは画質変化問題を解決することを目
的とするのであれば、図271のように複数のダミー画
素行2471を形成する必要はない。図272に図示す
るように、1本のダミー画素行2471であってもよ
い。この1本のダミー画素行でソース信号線18の電位
などを安定化することが可能であるからである。
Although the number of pixel rows to be selected is one in the embodiment of FIG. 272, this is not restrictive.
For example, it goes without saying that the present invention can also be applied to a driving method for selecting a plurality of pixel rows as shown in FIG. In addition, in the driving method for selecting a plurality of pixel rows,
For the purpose of solving the problem of black floating or image quality change that occurs when no pixel row in the display area 21 is selected, it is not necessary to form a plurality of dummy pixel rows 2471 as shown in FIG. Absent. As shown in FIG. 272, there may be one dummy pixel row 2471. This is because the potential of the source signal line 18 and the like can be stabilized with this one dummy pixel row.

【0642】また、ダミー画素行2471aと2471
bとは、画面21の走査方向(たとえば、図247と図
251)によって、選択するダミー画素行2471を変
化させてもよい。
Also, dummy pixel rows 2471a and 2471
The b may change the dummy pixel row 2471 to be selected depending on the scanning direction of the screen 21 (for example, FIGS. 247 and 251).

【0643】図272では、1フレーム(もしくは1フ
ィールド)の期間のうち、表示領域21のいずれの画素
行も選択されていない状態において、ダミー画素行24
71を選択するというものであった。しかし、実駆動状
態において、1水平走査期間に画素行が選択されていな
い場合がある。
In FIG. 272, during the period of one frame (or one field), the dummy pixel row 24 is selected in a state where no pixel row in the display area 21 is selected.
It was to select 71. However, in the actual driving state, the pixel row may not be selected in one horizontal scanning period.

【0644】図252はこの状態を説明するための動作
波形図である。本発明の表示装置では、1H(1水平走
査期間)のクロックで画素行が選択され、かつ選択され
た画素行が順次シフトしていく。しかし、1Hの期間に
おいても、所定の期間に画素行が選択されている。
FIG. 252 is an operation waveform diagram for explaining this state. In the display device of the present invention, a pixel row is selected with a clock of 1H (1 horizontal scanning period), and the selected pixel row is sequentially shifted. However, even in the 1H period, the pixel row is selected in the predetermined period.

【0645】基本的に選択される画素行のゲート信号線
17bは1Hの全期間の間、オフ電圧(Vgh)が印加
されている。図252では画素行番号1の時、画素行
(1)のゲート信号線17bにオフ電圧が印加される。
また、画素行番号2の時、画素行(2)のゲート信号線
17bにオフ電圧が印加される。
Basically, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b of the selected pixel row for the entire period of 1H. In FIG. 252, when the pixel row number is 1, the off voltage is applied to the gate signal line 17b of the pixel row (1).
Further, when the pixel row number is 2, the off voltage is applied to the gate signal line 17b of the pixel row (2).

【0646】一方、ゲート信号線17aは1Hよりも短
い期間に選択電圧(Vgl)が印加されている。したが
って、画素行番号1の時、aの期間およびbの期間は画
素行(1)は非選択である。以上のように非選択の期間
を発生させるのは、ゲート信号線17bが変化するタイ
ミングとゲート信号線17aが変化するタイミングが一
致すると、突き抜け電圧が発生しやすいためである。突
き抜け電圧が発生すると、コンデンサ19に所望の電圧
(電流)が保持されなくなり、EL素子15の発光輝度
にバラツキが発生するからである。
On the other hand, the selection voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17a in a period shorter than 1H. Therefore, when the pixel row number is 1, the pixel row (1) is not selected in the periods a and b. The reason why the non-selected period is generated as described above is that the punch-through voltage is likely to occur when the timing of changing the gate signal line 17b and the timing of changing the gate signal line 17a coincide with each other. This is because when the punch-through voltage is generated, the desired voltage (current) is not retained in the capacitor 19 and the emission brightness of the EL element 15 varies.

【0647】少なくとも、図252に示すaの期間は確
保することが好ましい。bの期間は場合によっては0で
もよい。これは、EL素子15をオンオフ制御するタイ
ミングを考慮して決定すればよい。基本的には、ゲート
信号線17bがVglからVgh(つまり、非選択状
態)に変化したタイミングから、少なくとも、1Hの1
/64の時間以上1Hの1/8の時間以下経過してか
ら、ゲート信号線17aを選択することが好ましい。さ
らに、好ましくは、1Hの1/32の時間以上1Hの1
/8の時間以下経過してから、ゲート信号線17aを選
択することが好ましい。もしくは、ゲート信号線17b
がVglからVgh(つまり、非選択状態)に変化した
タイミングから、少なくとも、0.5μsec以上20
μsec以下経過してから、ゲート信号線17aを選択
することが好ましい。さらに、好ましくは、1μsec
以上10μsec以下経過してから、ゲート信号線17
aを選択することが好ましい。また、このaの期間また
はbの期間に図52などで説明したプリチャージ(ディ
スチャージ)電圧を印加するように構成するとさらに好
ましい。
At least the period a shown in FIG. 252 is preferably secured. The period of b may be 0 in some cases. This may be determined in consideration of the timing of ON / OFF control of the EL element 15. Basically, from the timing when the gate signal line 17b changes from Vgl to Vgh (that is, non-selected state), at least 1H of 1
It is preferable to select the gate signal line 17a after a time of / 64 or more and a time of 1/8 or less of 1H has elapsed. Further, preferably, 1 / H of 1H or more for 1/32 time of 1H or more
It is preferable to select the gate signal line 17a after a time of / 8 or less has elapsed. Alternatively, the gate signal line 17b
From the timing when Vgl changes to Vgh (that is, the non-selected state), at least 0.5 μsec or more 20
It is preferable to select the gate signal line 17a after a lapse of μsec or less. Furthermore, preferably 1 μsec
After a lapse of 10 μsec or less, the gate signal line 17
It is preferable to select a. Further, it is more preferable to apply the precharge (discharge) voltage described in FIG. 52 or the like during the period a or the period b.

【0648】ゲート信号線17aが選択されている期間
は、図252に図示する切り替え信号CSWがVghと
なる。この切り替え信号CSWのVglレベルで、ソー
スドライバ14の出力段はオフ状態となるように制御さ
れる。また、この切り替え信号CSWのVglレベル
で、図272で説明したダミー画素行2471が選択さ
れるように制御される。以上のように構成あるいは動作
させることにより、黒浮きがなく、良好な画像表示を実
現できる。また、画面のホワイトバランスなどの変化も
発生しないようにすることができる。
[0648] While the gate signal line 17a is being selected, the switching signal CSW shown in Fig. 252 is Vgh. The output stage of the source driver 14 is controlled to be turned off by the Vgl level of the switching signal CSW. The dummy pixel row 2471 described with reference to FIG. 272 is controlled to be selected by the Vgl level of the switching signal CSW. By configuring or operating as described above, good image display can be realized without blackening. Further, it is possible to prevent a change in the white balance of the screen from occurring.

【0649】なお、図253において、ダミー画素24
71はEL素子15、TFT11dを形成しているよう
に図示したが、基本的にダミー画素2471はソース信
号線18に流す電流を供給する(画素構成によっては、
ソース信号線18から電流を吸収する)ものである。し
たがって、EL素子15は必要がない。逆にEL素子1
5などが形成されていると、EL素子15が点灯して問
題をなる。
In FIG. 253, the dummy pixel 24
Although the reference numeral 71 is shown as forming the EL element 15 and the TFT 11d, the dummy pixel 2471 basically supplies a current to the source signal line 18 (depending on the pixel configuration,
The current is absorbed from the source signal line 18). Therefore, the EL element 15 is not necessary. On the contrary, EL element 1
When 5 and the like are formed, the EL element 15 lights up, which causes a problem.

【0650】本発明は、ダミー画素2471は図258
に図示するように、EL素子15などを形成していな
い。突き抜け電圧発生用のコンデンサ19bは付加して
もしなくともよい。ただし、表示領域21の画素に突き
抜け電圧発生用のコンデンサ19bが形成されている場
合は、ダミー画素2471にも形成しておくことが好ま
しい。ダミー画素2471のTFT11aが流す電流を
表示領域21の画素16のTFT11aが流す電流と等
しくするためである。
According to the present invention, the dummy pixel 2471 is shown in FIG.
As shown in the figure, the EL element 15 and the like are not formed. The capacitor 19b for generating the punch-through voltage may or may not be added. However, in the case where the pixel 19 in the display area 21 for forming the punch-through voltage is formed, it is preferable that the dummy pixel 2471 is also formed. This is because the current flowing through the TFT 11a of the dummy pixel 2471 is made equal to the current flowing through the TFT 11a of the pixel 16 in the display area 21.

【0651】図258は図1の画素構成の場合である。
図21、図43、図71のカレントミラーの画素構成で
は、図259に図示するように、ダミー画素2471で
は、駆動用TFT11b、EL素子15を削除する。図
54、図67、図103などの電圧プログラムの画素構
成の場合は、図260に図示するように、スイッチング
用のTFT11bとコンデンサ19aで構成する。電圧
プログラム方式では、画素の駆動用TFTからソース信
号線18に電流を供給することがないからである。
FIG. 258 shows the case of the pixel configuration of FIG.
In the pixel configuration of the current mirror shown in FIGS. 21, 43, and 71, as shown in FIG. 259, in the dummy pixel 2471, the driving TFT 11b and the EL element 15 are deleted. In the case of the pixel configuration of the voltage program shown in FIGS. 54, 67, 103, etc., as shown in FIG. 260, the switching TFT 11b and the capacitor 19a are used. This is because in the voltage programming method, no current is supplied from the pixel driving TFT to the source signal line 18.

【0652】図258、図259などに図示するダミー
画素2471は、発光する必要がない。そのため、図2
56に図示するようにダミー画素2471の画素電極4
8にはEL膜を形成しない。図256に図示するように
画素電極48には絶縁膜2561を形成して、絶縁状態
とする。もしくは、図257に図示するように、ダミー
画素2471の画素電極48とカソード46の金属膜と
を電気的に短絡状態にする。このように構成することに
より、画素電極48の電位が安定する。
The dummy pixel 2471 shown in FIGS. 258 and 259 does not need to emit light. Therefore,
As shown in 56, the pixel electrode 4 of the dummy pixel 2471
No EL film is formed on No. 8. As shown in FIG. 256, an insulating film 2561 is formed on the pixel electrode 48 to bring it into an insulating state. Alternatively, as shown in FIG. 257, the pixel electrode 48 of the dummy pixel 2471 and the metal film of the cathode 46 are electrically short-circuited. With this configuration, the potential of the pixel electrode 48 is stable.

【0653】図136と同様に、図141のように1つ
の表示領域311が画面の上から下方向に移動すると、
フレームレートが低いと、表示領域311が移動するの
が視覚的に認識される。特に、まぶたを閉じた時、ある
いは顔を上下に移動させた時などに認識されやすくな
る。
Similar to FIG. 136, when one display area 311 moves downward from the top of the screen as shown in FIG. 141,
When the frame rate is low, it is visually recognized that the display area 311 moves. In particular, it becomes easy to be recognized when the eyelids are closed or when the face is moved up and down.

【0654】この課題に対しては、図142に図示する
ように、表示領域311を複数に分割するとよい。図1
42(b)は、非表示領域312を3つに分割してい
る。この3つを加えた部分がS(N−1)/Nの面積と
なれば、図141の明るさと同等になる。
To solve this problem, the display area 311 may be divided into a plurality of areas, as shown in FIG. Figure 1
42 (b) divides the non-display area 312 into three. If the area obtained by adding these three has an area of S (N-1) / N, the brightness becomes equivalent to that in FIG.

【0655】図143はゲート信号線17に印加する電
圧波形である。図140と図143の差異は、基本的に
はゲート信号線17bの動作である。ゲート信号線17
bは画面を分割する個数に対応して、その個数分だけオ
ンオフ(VglとVgh)動作する。他の点は図140
とほぼ同一あるいは類推できるので説明を省略する。
FIG. 143 shows the voltage waveform applied to the gate signal line 17. The difference between FIG. 140 and FIG. 143 is basically the operation of the gate signal line 17b. Gate signal line 17
b corresponds to the number of divided screens and is turned on / off (Vgl and Vgh) by that number. Other points are shown in FIG.
The description is omitted because it is almost the same as or can be inferred.

【0656】なお、図142(b)にも図示するよう
に、非点灯表示領域312の走査方向は画面の上から下
方向のみに限定されるものではない。画面の下から上方
向に走査してもよい。また、上から下への走査方向と、
下から上方向への走査方向とを、交互にあるいはランダ
ムに走査してもよい。また、分割数をフレームごとに、
あるいは表示画面21の所定位置で変化させてもよいこ
とは言うまでもない。
As shown in FIG. 142 (b), the scanning direction of the non-lighted display area 312 is not limited to the top to bottom direction of the screen. Scanning may be performed from the bottom of the screen upward. Also, the scanning direction from top to bottom,
The scanning direction from the bottom to the top may be scanned alternately or randomly. Also, the number of divisions for each frame,
Alternatively, it goes without saying that it may be changed at a predetermined position on the display screen 21.

【0657】以上のように、表示領域311を複数に分
割することにより画面のちらつきは減少する。したがっ
て、フリッカの発生はなく、良好な画像表示を実現でき
る。なお、分割はもっと細かくしてもよい。しかし、分
割すればするほどフリッカは軽減する。特にEL素子1
5の応答性は速いため、5μsecよりも小さい時間でオ
ンオフしても、表示輝度の低下はない。
As described above, the flicker on the screen is reduced by dividing the display area 311 into a plurality of areas. Therefore, flicker does not occur and good image display can be realized. The division may be finer. However, the more divided it is, the more the flicker is reduced. Especially EL element 1
Since the response of No. 5 is fast, the display brightness does not decrease even if it is turned on / off in a time less than 5 μsec.

【0658】本発明の駆動方法において、EL素子15
のオンオフは、ゲート信号線17bに印加する信号のオ
ンオフで制御できる。そのため、クロック周波数はKH
zオーダーの低周波数で制御が可能である。また、黒画
面挿入(非表示領域312挿入)を実現するのには、画
像メモリなどを必要としない。したがって、低コストで
本発明の駆動回路あるいは方法を実現できる。
In the driving method of the present invention, the EL element 15
ON / OFF can be controlled by turning on / off a signal applied to the gate signal line 17b. Therefore, the clock frequency is KH
It can be controlled at a low frequency of z order. Further, an image memory or the like is not required to realize the black screen insertion (non-display area 312 insertion). Therefore, the drive circuit or method of the present invention can be realized at low cost.

【0659】図144は同時に選択する画素行が2画素
行の場合である。検討した結果によると、低温ポリシリ
コン技術で形成した表示パネルでは、2画素行を同時に
選択する方法は表示均一性が実用的であった。これは、
隣接した画素の駆動用TFT11aの特性が極めて一致
しているためと推定される。また、レーザーアニ−ルす
る際に、ストライプ状のレーザーの照射方向はソース信
号線18と平行に照射することで良好な結果が得られ
た。
FIG. 144 shows a case where the pixel rows selected simultaneously are two pixel rows. According to the examination result, in the display panel formed by the low temperature polysilicon technology, the display uniformity was practical in the method of simultaneously selecting two pixel rows. this is,
It is estimated that the characteristics of the driving TFTs 11a of the adjacent pixels are extremely matched. Further, when performing laser annealing, good results were obtained by irradiating the stripe-shaped laser in the direction parallel to the source signal line 18.

【0660】図144において、書き込み画素行が
(1)画素行目である時、ゲート信号線17aは(1)
(2)が選択されている(図145を参照のこと)。つ
まり、画素行(1)(2)のスイッチングTFT11
b、TFT11cがオン状態である。また、ゲート信号
線17bはゲート信号線17aの逆位相となっている。
したがって、少なくとも画素行(1)(2)のスイッチ
ングTFT11dがオフ状態であり、対応する画素行の
EL素子15には電流が流れていない。つまり、非点灯
状態312である。なお、図144では、フリッカの発
生を低減するため、表示領域311を5分割している。
In FIG. 144, when the write pixel row is the (1) pixel row, the gate signal line 17a is (1).
(2) is selected (see FIG. 145). That is, the switching TFTs 11 in the pixel rows (1) and (2)
b, the TFT 11c is in the ON state. Further, the gate signal line 17b has a phase opposite to that of the gate signal line 17a.
Therefore, at least the switching TFTs 11d of the pixel rows (1) and (2) are in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312. In FIG. 144, the display area 311 is divided into five in order to reduce the occurrence of flicker.

【0661】理想的には、2画素(行)のTFT11a
が、それぞれId×5(N=10の場合)の電流をソー
ス信号線18に流す。そして、各画素16のコンデンサ
19には、5倍の電流がプログラムされる。
Ideally, the TFT 11a of two pixels (rows)
Respectively, a current of Id × 5 (when N = 10) is supplied to the source signal line 18. Then, the capacitor 19 of each pixel 16 is programmed with five times the current.

【0662】同時に選択する画素行が2画素行(K=
2)であるから、2つの駆動TFT11aが動作する。
つまり、1画素あたり、10/2=5倍の電流がTFT
11aに流れる。ソース信号線18には、2つのTFT
11aのプログラム電流を加えた電流が流れる。
[0662] Two pixel rows (K =
Since it is 2), the two drive TFTs 11a operate.
In other words, 10/2 = 5 times the current per pixel is applied to the TFT.
It flows to 11a. The source signal line 18 has two TFTs.
A current added with the program current of 11a flows.

【0663】たとえば、書き込み画素行871aに、本
来、書き込む電流Idとし、ソース信号線18には、I
d×10の電流を流す。書き込み画素行871bは後に
正規の画像データが書き込まれるので問題がない。画素
行871bは、1H期間の間は871aと同一表示であ
る。そのため、書き込み画素行871aと電流を増加さ
せるために選択した画素行871bとを少なくとも非表
示状態312とするのである。
For example, the current Id originally written in the write pixel row 871a is set to I in the source signal line 18.
A current of d × 10 is passed. There is no problem in the writing pixel row 871b because the regular image data is written later. The pixel row 871b displays the same as the 871a during the 1H period. Therefore, the write pixel row 871a and the pixel row 871b selected to increase the current are at least in the non-display state 312.

【0664】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(1)は非選択となり、ゲート信号線17bにはオン電
圧(Vgl)が印加される。また、同時に、ゲート信号
線17a(3)が選択され(Vgl電圧)、選択された
画素行(3)のTFT11aからソースドライバ14に
向かってソース信号線18にプログラム電流が流れる。
このように動作することのより、画素行(1)には正規
の画像データが保持される。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(1) is not selected, and the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b. At the same time, the gate signal line 17a (3) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the TFT 11a of the selected pixel row (3) to the source driver 14 in the source signal line 18.
By operating in this way, regular image data is held in the pixel row (1).

【0665】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(2)は非選択となり、ゲート信号線17bにはオン電
圧(Vgl)が印加される。また、同時に、ゲート信号
線17a(4)が選択され(Vgl電圧)、選択された
画素行(4)のTFT11aからソースドライバ14に
向かってソース信号線18にプログラム電流が流れる。
このように動作することのより、画素行(2)には正規
の画像データが保持される。以上の動作と1画素行づつ
シフトしながら走査することにより1画面が書き換えら
れる。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(2) is not selected, and the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b. At the same time, the gate signal line 17a (4) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the TFT 11a of the selected pixel row (4) to the source driver 14 in the source signal line 18.
By operating in this way, regular image data is held in the pixel row (2). One screen is rewritten by the above operation and scanning while shifting by one pixel row.

【0666】図40と同様であるが、図149の駆動方
法では、各画素には5倍の電流(電圧)でプログラムを
行うため、各画素のEL素子15の発光輝度は理想的に
は5倍となる。したがって、表示領域311の輝度は所
定値よりも5倍となる。これを所定の輝度とするために
は、図87に図示するように、書き込み画素行871を
含み、かつ表示画面1の1/5の範囲を非表示領域31
2とすればよい。このことは図137などを用いて説明
したので説明を省略する。
Although it is similar to FIG. 40, in the driving method of FIG. 149, since the programming is performed with a current (voltage) of 5 times for each pixel, the emission luminance of the EL element 15 of each pixel is ideally 5 Doubled. Therefore, the brightness of the display area 311 is five times higher than the predetermined value. In order to make this a predetermined brightness, as shown in FIG. 87, the non-display area 31 includes the writing pixel row 871 and covers a range of 1/5 of the display screen 1.
It should be 2. Since this has been described with reference to FIG. 137 and the like, description will be omitted.

【0667】表示画面21に占める黒表示領域(非表示
領域)312の面積を大きくするほど動画表示性能が向
上する。したがって、図141に図示するように非表示
領域311を少なくし、非表示領域312の面積を大き
くすればよい。
[0667] The larger the area of the black display area (non-display area) 312 in the display screen 21, the higher the moving image display performance. Therefore, as shown in FIG. 141, the non-display area 311 may be reduced and the area of the non-display area 312 may be increased.

【0668】複数本の画素行を同時に選択する駆動方法
では、同時に選択する画素行数が増加するほど、TFT
11aの特性バラツキを吸収することが困難になる。し
かし、選択本数が低下すると、1画素にプログラムする
電流が大きくなり、EL素子15に大きな電流を流すこ
とになる。EL素子15に流す電流が大きいとEL素子
15が劣化しやすくなる。
In the driving method in which a plurality of pixel rows are selected at the same time, the TFT increases as the number of pixel rows selected simultaneously increases.
It becomes difficult to absorb the characteristic variation of 11a. However, if the number of selected pixels decreases, the current programmed for one pixel increases, and a large current flows through the EL element 15. If the current passed through the EL element 15 is large, the EL element 15 is likely to deteriorate.

【0669】図146はこの課題を解決するものであ
る。図146の基本概念は、1/2H(水平走査期間の
1/2)は図88で説明したように、複数の画素行を同
時に選択し、その後の1/2H(水平走査期間の1/
2)は図134で説明したように、1画素行を選択する
方法を組み合わせたものである。このようにくみあわせ
ることにより、TFT11aの特性バラツキを吸収しよ
り、高速にかつ面内均一性を良好にすることができる。
FIG. 146 solves this problem. The basic concept of FIG. 146 is that 1 / 2H (1/2 of the horizontal scanning period) selects a plurality of pixel rows at the same time as described in FIG. 88, and then 1 / 2H (1 / the horizontal scanning period).
2) is a combination of the methods for selecting one pixel row as described in FIG. By combining in this way, it is possible to absorb the characteristic variations of the TFT 11a and to improve the in-plane uniformity at high speed.

【0670】図146において、説明を容易にするた
め、第1の期間では5画素行を同時に選択し、第2の期
間では1画素行を選択するとして説明をする。
In FIG. 146, for ease of explanation, it is assumed that 5 pixel rows are simultaneously selected in the first period and 1 pixel row is selected in the second period.

【0671】まず、第1の期間では、図146(a1)
に図示するように、5画素行を同時に選択をする。この
動作は図88を用いて説明した。ソース信号線に流す電
流は所定値の25倍とする。したがって、各画素16の
TFT11aには5倍の電流がプログラムされる。25
倍の電流であるから、寄生容量404は極めて短期間に
充放電される。したがって、ソース信号線の電位は、短
時間で目標の電位となり、各画素16のコンデンサ19
の端子電圧も5倍電流を流すようにプログラムされる。
この25倍電流の印加時間は1/2H(1水平走査期間
の1/2)とする。
First, in the first period, FIG. 146 (a1)
As shown in FIG. 5, 5 pixel rows are simultaneously selected. This operation has been described with reference to FIG. The current passed through the source signal line is 25 times the predetermined value. Therefore, the TFT 11a of each pixel 16 is programmed with 5 times the current. 25
Since the current is double, the parasitic capacitance 404 is charged and discharged in a very short time. Therefore, the potential of the source signal line becomes the target potential in a short time, and the capacitor 19 of each pixel 16
The terminal voltage of is also programmed to flow 5 times the current.
The application time of this 25-fold current is 1 / 2H (1/2 of one horizontal scanning period).

【0672】当然のことながら、書き込み画素行の5画
素行は同一画像データが書き込まれるから、表示しない
ようにTFT11はオフ状態とされる。したがって、表
示状態は図146(a2)となる。
As a matter of course, since the same image data is written in the writing pixel row of five pixel rows, the TFT 11 is turned off so as not to display. Therefore, the display state is as shown in FIG. 146 (a2).

【0673】次の1/2H期間は、1画素行を選択し、
電流(電圧)プログラムを行う。この状態を図146
(b1)に図示している。書き込み画素行871aは先
と同様に5倍の電流を流すように電流(電圧)プログラ
ムされる。図146(a1)と図146(b1)とで各
画素に流す電流を同一にするのは、プログラムされたコ
ンデンサ19の端子電圧の変化を小さくして、より高速
に目標の電流を流せるようにするためである。
In the next 1 / 2H period, one pixel row is selected,
Perform current (voltage) programming. This state is shown in FIG.
It is illustrated in (b1). The write pixel row 871a is current (voltage) programmed so as to flow 5 times as much current as before. In FIG. 146 (a1) and FIG. 146 (b1), the same current is supplied to each pixel so that the change in the terminal voltage of the programmed capacitor 19 can be made small so that the target current can flow faster. This is because

【0674】つまり、図146(a1)で、複数の画素
に電流を流し、高速に概略の電流が流れる値まで近づけ
る。この第1の段階では、複数のTFT11aでプログ
ラムしているため、目標値に対してTFTのバラツキに
よる誤差が発生している。次の第2の段階で、データを
書き込みかつ保持する画素行のみを選択して、概略の目
標値から、所定の目標値まで完全なプログラムを行うの
である。
That is, in FIG. 146 (a1), a current is caused to flow through a plurality of pixels, and the values are brought close to a value at which an approximate current flows at high speed. In the first stage, since programming is performed by a plurality of TFTs 11a, an error occurs due to the variation of the TFTs with respect to the target value. In the next second step, only the pixel row in which data is written and held is selected, and complete programming is performed from a rough target value to a predetermined target value.

【0675】なお、非点灯領域312を画面の上から下
方向に走査し、また、書き込み画素行871aを画面の
上から下方向に走査することは図87、図88、図13
4などの実施例と同様であるので説明を省略する。
It is to be noted that scanning the non-lighted area 312 from the top of the screen to the bottom and scanning the write pixel row 871a from the top to the bottom of the screen are shown in FIGS.
The description is omitted because it is the same as the fourth embodiment.

【0676】図147は図146の駆動方法を実現する
ための駆動波形である。図146でわかるように、1H
(1水平走査期間)は2つのフェーズで構成されてい
る。この2つのフェーズはISEL信号で切り替える。
ISEL信号は図148に図示している。
FIG. 147 shows drive waveforms for realizing the drive method of FIG. 146. As shown in FIG. 146, 1H
(1 horizontal scanning period) is composed of two phases. These two phases are switched by the ISEL signal.
The ISEL signal is illustrated in Figure 148.

【0677】まず、ISEL信号について説明をしてお
く。図148において、電流出力回路1222は122
2aと1222bの2つから構成されている。それぞれ
の電流出力回路1222は、8ビットの階調データをD
A変換するDA回路1226とオペンアンプ1224な
どから構成される。この電流出力回路1222の回路動
作については以前に説明したので省略する。146の実
施例では、電流出力回路1222aは25倍の電流を出
力するように構成されている。一方、電流出力回路12
22bは5倍の電流を出力するように構成されている。
電流出力回路1222aと1221bの出力はISEL
信号によりスイッチ回路1223が制御され、ソース信
号線18に印加される。
First, the ISEL signal will be described. In FIG. 148, the current output circuit 1222 includes 122
2a and 1222b. Each current output circuit 1222 outputs 8-bit gradation data to D
A DA circuit 1226 for A conversion and an open amplifier 1224 are included. The circuit operation of the current output circuit 1222 has been described above, and will be omitted. In the embodiment of 146, the current output circuit 1222a is configured to output 25 times the current. On the other hand, the current output circuit 12
22b is configured to output 5 times the current.
The outputs of the current output circuits 1222a and 1221b are ISEL.
The switch circuit 1223 is controlled by the signal and applied to the source signal line 18.

【0678】ISEL信号は、Lレベルの時、25倍電
流を出力する電流出力回路1222aが選択されてソー
ス信号線18からの電流をソースドライバIC14が吸
収する。Hレベルの時、5倍電流を出力する電流出力回
路1222bが選択されてソース信号線18からの電流
をソースドライバIC14が吸収する。25倍、5倍な
どの電流の大きさ変更は容易である。抵抗1228の値
を変化させるだけで済むからである。また、抵抗122
8をボリウムとすること、あるいは複数の抵抗とアナロ
グスイッチに接続しておき、選択することにより容易に
変更することができる。
When the ISEL signal is at the L level, the current output circuit 1222a that outputs 25 times the current is selected so that the source driver IC 14 absorbs the current from the source signal line 18. At the H level, the current output circuit 1222b that outputs a quintuple current is selected and the source driver IC 14 absorbs the current from the source signal line 18. It is easy to change the magnitude of the current such as 25 times or 5 times. This is because it is sufficient to change the value of the resistor 1228. Also, the resistor 122
It can be easily changed by setting 8 as a volume or by connecting to a plurality of resistors and an analog switch and selecting.

【0679】図147に示すように書き込み画素行が
(1)画素行目である時(図147の画素行番号1の欄
を参照)、ゲート信号線17aは(1)(2)(3)
(4)(5)が選択されている。つまり、画素行(1)
(2)(3)(4)(5)のスイッチングTFT11
b、TFT11cがオン状態である。また、ISELが
Lレベルであるから、25倍電流を出力する電流出力回
路1222aが選択され、ソース信号線18と接続され
ている。また、ゲート信号線17bには、オフ電圧(V
gh)が印加されている。したがって、画素行(1)
(2)(3)(4)(5)のスイッチングTFT11d
がオフ状態であり、対応する画素行のEL素子15には
電流が流れていない。つまり、非点灯状態312であ
る。
As shown in FIG. 147, when the writing pixel row is the (1) th pixel row (see the column of pixel row number 1 in FIG. 147), the gate signal line 17a is (1) (2) (3).
(4) and (5) are selected. That is, pixel row (1)
(2) (3) (4) (5) switching TFT11
b, the TFT 11c is in the ON state. Since ISEL is at L level, the current output circuit 1222a that outputs 25 times the current is selected and connected to the source signal line 18. Further, the gate signal line 17b has an off voltage (V
gh) is being applied. Therefore, pixel row (1)
(2) (3) (4) (5) switching TFT 11d
Is in an off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312.

【0680】理想的には、5画素のTFT11aが、そ
れぞれId×2の電流をソース信号線18に流す。そし
て、各画素16のコンデンサ19には、5倍の電流がプ
ログラムされる。ここでは、理解を容易にするため、各
TFT11aは特性(Vt、S値)が一致しているとし
て説明をする。
Ideally, the TFTs 11a of the five pixels each supply a current of Id × 2 to the source signal line 18. Then, the capacitor 19 of each pixel 16 is programmed with five times the current. Here, in order to facilitate understanding, the description will be made assuming that the characteristics (Vt, S value) of each TFT 11a match.

【0681】同時に選択する画素行が5画素行(K=
5)であるから、5つの駆動TFT11aが動作する。
つまり、1画素あたり、25/5=5倍の電流がTFT
11aに流れる。ソース信号線18には、5つのTFT
11aのプログラム電流を加えた電流が流れる。たとえ
ば、書き込み画素行871aに、本来、書き込む電流I
dとし、ソース信号線18には、Id×25の電流を流
す。書き込み画素行(1)より以降に画像データを書き
込む書き込み画素行871bソース信号線18への電流
量を増加させるため、補助的に用いる画素行である。し
かし、書き込み画素行871bは後に正規の画像データ
が書き込まれるので問題がない。
The number of pixel rows selected simultaneously is 5 pixel rows (K =
Since it is 5), the five driving TFTs 11a operate.
In other words, 25/5 = 5 times the current per pixel is applied to the TFT.
It flows to 11a. The source signal line 18 has five TFTs.
A current added with the program current of 11a flows. For example, the current I originally written in the write pixel row 871a is
and a current of Id × 25 is passed through the source signal line 18. A write pixel row 871b for writing image data after the write pixel row (1) is an auxiliary pixel row used to increase the amount of current to the source signal line 18. However, since normal image data is written in the writing pixel row 871b later, there is no problem.

【0682】したがって、画素行871bは、1H期間
の間は871aと同一表示である。そのため、書き込み
画素行871aと電流を増加させるために選択した画素
行871bとを少なくとも非表示状態312とするので
ある。
Therefore, the pixel row 871b displays the same as 871a during the 1H period. Therefore, the write pixel row 871a and the pixel row 871b selected to increase the current are at least in the non-display state 312.

【0683】次の1/2H(水平走査期間の1/2)で
は、書き込み画素行871aのみを選択する。つまり、
(1)画素行目のみを選択する。図147で明らかなよ
うに、ゲート信号線17a(1)のみが、オン電圧(V
gl)が印加され、ゲート信号線17a(2)(3)
(4)(5)はオフ(Vgh)が印加されている。した
がって、画素行(1)のTFT11aは動作状態(ソー
ス信号線18に電流を供給している状態)であるが、画
素行(2)(3)(4)(5)のスイッチングTFT1
1b、TFT11cがオフ状態である。つまり、非選択
状態である。また、ISELがHレベルであるから、5
倍電流を出力する電流出力回路1222bが選択され、
この電流出力回路1222bとソース信号線18とが接
続されている。また、ゲート信号線17bの状態は先の
1/2Hの状態と変化がなく、オフ電圧(Vgh)が印
加されている。したがって、画素行(1)(2)(3)
(4)(5)のスイッチングTFT11dがオフ状態で
あり、対応する画素行のEL素子15には電流が流れて
いない。つまり、非点灯状態312である。
In the next 1 / 2H (1/2 of the horizontal scanning period), only the write pixel row 871a is selected. That is,
(1) Only the pixel row is selected. As is clear from FIG. 147, only the gate signal line 17a (1) is turned on (V
gl) is applied to the gate signal lines 17a (2) (3)
In (4) and (5), off (Vgh) is applied. Therefore, although the TFT 11a of the pixel row (1) is in an operating state (a state in which current is supplied to the source signal line 18), the switching TFT 1 of the pixel rows (2) (3) (4) (5)
1b and the TFT 11c are in the off state. That is, it is in a non-selected state. Also, since ISEL is at H level, 5
The current output circuit 1222b that outputs double current is selected,
The current output circuit 1222b and the source signal line 18 are connected. The state of the gate signal line 17b does not change from the previous 1 / 2H state, and the off voltage (Vgh) is applied. Therefore, pixel rows (1) (2) (3)
(4) The switching TFT 11d of (5) is in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312.

【0684】以上のことから、画素行(1)のTFT1
1aが、それぞれId×5の電流をソース信号線18に
流す。そして、各画素行(1)のコンデンサ19には、
5倍の電流がプログラムされる。
From the above, the TFT1 of the pixel row (1) is
1a sends a current of Id × 5 to the source signal line 18. Then, in the capacitor 19 of each pixel row (1),
Five times the current is programmed.

【0685】次の水平走査期間では1画素行、書き込み
画素行がシフトする。つまり、今度は書き込み画素行が
(2)である。最初の1/2Hの期間では、図147に
示すように書き込み画素行が(2)画素行目である時、
ゲート信号線17aは(2)(3)(4)(5)(6)
が選択されている。つまり、画素行(2)(3)(4)
(5)(6)のスイッチングTFT11b、TFT11
cがオン状態である。また、ISELがLレベルである
から、25倍電流を出力する電流出力回路1222aが
選択され、ソース信号線18と接続されている。また、
ゲート信号線17bには、オフ電圧(Vgh)が印加さ
れている。したがって、画素行(2)(3)(4)
(5)(6)のスイッチングTFT11dがオフ状態で
あり、対応する画素行のEL素子15には電流が流れて
いない。つまり、非点灯状態312である。一方、画素
行(1)のゲート信号線17b(1)はVgl電圧が印
加されているから、TFT11dはオン状態であり、画
素行(1)のEL素子15は点灯する。
In the next horizontal scanning period, one pixel row and the writing pixel row are shifted. That is, the write pixel row is (2) this time. In the first 1 / 2H period, when the writing pixel row is the (2) th pixel row as shown in FIG. 147,
The gate signal line 17a is (2) (3) (4) (5) (6)
Is selected. That is, pixel rows (2) (3) (4)
(5) Switching TFT 11b and TFT 11 of (6)
c is in the on state. Since ISEL is at L level, the current output circuit 1222a that outputs 25 times the current is selected and connected to the source signal line 18. Also,
An off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b. Therefore, pixel rows (2) (3) (4)
(5) The switching TFT 11d of (6) is in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312. On the other hand, since the Vgl voltage is applied to the gate signal line 17b (1) of the pixel row (1), the TFT 11d is in the ON state and the EL element 15 of the pixel row (1) is turned on.

【0686】同時に選択する画素行が5画素行(K=
5)であるから、5つの駆動TFT11aが動作する。
つまり、1画素あたり、25/5=5倍の電流がTFT
11aに流れる。ソース信号線18には、5つのTFT
11aのプログラム電流を加えた電流が流れる。
[0686] The pixel rows selected at the same time are five pixel rows (K =
Since it is 5), the five driving TFTs 11a operate.
In other words, 25/5 = 5 times the current per pixel is applied to the TFT.
It flows to 11a. The source signal line 18 has five TFTs.
A current added with the program current of 11a flows.

【0687】次の1/2H(水平走査期間の1/2)で
は、書き込み画素行871aのみを選択する。つまり、
(2)画素行目のみを選択する。図147で明らかなよ
うに、ゲート信号線17a(2)のみが、オン電圧(V
gl)が印加され、ゲート信号線17a(3)(4)
(5)(6)はオフ(Vgh)が印加されている。した
がって、画素行(1)(2)のTFT11aは動作状態
(画素行(1)はEL素子15に電流を流し、画素行
(2)はソース信号線18に電流を供給している状態)
であるが、画素行(3)(4)(5)(6)のスイッチ
ングTFT11b、TFT11cがオフ状態である。つ
まり、非選択状態である。また、ISELがHレベルで
あるから、5倍電流を出力する電流出力回路1222b
が選択され、この電流出力回路1222bとソース信号
線18とが接続されている。また、ゲート信号線17b
の状態は先の1/2Hの状態と変化がなく、オフ電圧
(Vgh)が印加されている。したがって、画素行
(2)(3)(4)(5)(6)のスイッチングTFT
11dがオフ状態であり、対応する画素行のEL素子1
5には電流が流れていない。つまり、非点灯状態312
である。
In the next 1 / 2H (1/2 of the horizontal scanning period), only the write pixel row 871a is selected. That is,
(2) Only the pixel row is selected. As is clear from FIG. 147, only the gate signal line 17a (2) is turned on (V
gl) is applied to the gate signal lines 17a (3) (4)
In (5) and (6), off (Vgh) is applied. Therefore, the TFTs 11a of the pixel rows (1) and (2) are in an operating state (the pixel row (1) supplies a current to the EL element 15 and the pixel row (2) supplies a current to the source signal line 18).
However, the switching TFTs 11b and 11c of the pixel rows (3), (4), (5) and (6) are in the off state. That is, it is in a non-selected state. Further, since ISEL is at the H level, the current output circuit 1222b that outputs 5 times the current
Is selected, and the current output circuit 1222b and the source signal line 18 are connected. Also, the gate signal line 17b
The state is the same as the previous 1 / 2H state, and the off voltage (Vgh) is applied. Therefore, the switching TFTs of the pixel rows (2) (3) (4) (5) (6)
11d is in the off state, and the EL element 1 of the corresponding pixel row
No current is flowing in 5. That is, the unlit state 312
Is.

【0688】以上のことから、画素行(2)のTFT1
1aが、それぞれId×5の電流をソース信号線18に
流す。そして、各画素行(2)のコンデンサ19には、
5倍の電流がプログラムされる。以上の動作を順次、実
施することにより1画面を表示することができる。
[0688] From the above, the TFT1 of the pixel row (2) is
1a sends a current of Id × 5 to the source signal line 18. Then, in the capacitor 19 of each pixel row (2),
Five times the current is programmed. One screen can be displayed by sequentially performing the above operation.

【0689】図146で説明した駆動方法は、第1の期
間でG画素行(Gは2以上)を選択し、各画素行にはN
倍の電流を流すようにプログラムする。第1の期間後の
第2の期間ではB画素行(BはGよりも小さく、1以
上)を選択し、画素にはN倍の電流を流すようにプログ
ラムする方式である。
In the driving method described in FIG. 146, G pixel rows (G is 2 or more) are selected in the first period, and N pixel rows are selected.
Program to flow double the current. In the second period after the first period, a B pixel row (B is smaller than G and is 1 or more) is selected, and programming is performed so that N times the current flows through the pixel.

【0690】しかし、他の方策もある。第1の期間でG
画素行(Gは2以上)を選択し、各画素行の総和電流が
N倍の電流となるようにプログラムする。第1の期間後
の第2の期間ではB画素行(BはGよりも小さく、1以
上)を選択し、選択された画素行の総和の電流(ただ
し、選択画素行が1の時は、1画素行の電流)がN倍と
なるようにプログラムする方式である。たとえば、図1
46(a1)において、5画素行を同時に選択し、各画
素のTFT11aには2倍の電流を流す。したがって、
ソース信号線18には5×2倍=10倍の電流が流れ
る。次の第2の期間では図146(b1)において、1
画素行を選択する。この1画素のTFT11aには10
倍の電流を流す。
However, there are other measures. G in the first period
Pixel rows (G is 2 or more) are selected and programmed so that the total current of each pixel row is N times the current. In the second period after the first period, B pixel rows (B is smaller than G and is 1 or more) are selected, and the total current of the selected pixel rows (however, when the selected pixel row is 1, This is a method of programming so that the current of one pixel row) becomes N times. For example, in Figure 1.
In 46 (a1), 5 pixel rows are simultaneously selected, and a double current is applied to the TFT 11a of each pixel. Therefore,
A current of 5 × 2 times = 10 times flows through the source signal line 18. In the following second period, in FIG. 146 (b1), 1
Select a pixel row. This one pixel TFT 11a has 10
Apply double the current.

【0691】この方式であれば、図148のように複数
の電流出力回路1222は必要でない。したがって、ソ
ースドライバIC14は各ソース信号線に、1つの電流
出力回路1222で構成できる。
With this method, a plurality of current output circuits 1222 as shown in FIG. 148 are not necessary. Therefore, the source driver IC 14 can be configured with one current output circuit 1222 for each source signal line.

【0692】つまり、この方式では、ソース信号線18
の電流を流すソースドライバIC14の出力電流は一定
値(当然、画像データにより、この一定値は変化する。
この場合は、1H期間の間、選択画素数によらず、一定
という意味である)である。したがって、ソースドライ
バIC14の構成は容易になる。
In other words, in this system, the source signal line 18
The output current of the source driver IC 14 that passes the current is a constant value (of course, this constant value changes depending on the image data).
In this case, it means that it is constant regardless of the number of selected pixels during the 1H period). Therefore, the configuration of the source driver IC 14 becomes easy.

【0693】なお、図146において、複数の画素行を
同時に選択する期間を1/2Hとし、1画素行を選択す
る期間を1/2Hとしたがこれに限定するものではな
い。複数の画素行を同時に選択する期間を1/4Hと
し、1画素行を選択する期間を3/4Hとしてもよい。
また、複数の画素行を同時に選択する期間と、1画素行
を選択する期間とを加えた期間は1Hとしたがこれに限
定するものではない。たとえば、2H期間でも、1.5
H期間であっても良い。
In FIG. 146, the period for simultaneously selecting a plurality of pixel rows is 1 / 2H and the period for selecting one pixel row is 1 / 2H, but the invention is not limited to this. The period for simultaneously selecting a plurality of pixel rows may be set to 1 / 4H, and the period for selecting one pixel row may be set to 3 / 4H.
Further, the period including the period for simultaneously selecting a plurality of pixel rows and the period for selecting one pixel row is set to 1H, but is not limited to this. For example, even in the 2H period, 1.5
It may be H period.

【0694】また、図146において、5画素行を同時
に選択する期間を1/2Hとし、次の第2の期間では2
画素行を同時に選択するとしてもよい。この場合でも実
用上、支障のない画像表示を実現できる。
Also, in FIG. 146, the period for simultaneously selecting five pixel rows is set to 1 / 2H, and 2H is set in the next second period.
The pixel rows may be selected at the same time. Even in this case, it is possible to realize image display without any trouble in practical use.

【0695】また、図146において、5画素行を同時
に選択する第1の期間を1/2Hとし、1画素行を選択
する第2の期間を1/2Hとする2段階としたがこれに
限定するものではない。たとえば、第1の段階は、5画
素行を同時に選択し、第2の期間は前記5画素行のう
ち、2画素行を選択し、最後に、1画素行を選択する3
つの段階としてもよい。つまり、複数の段階で画素行に
画像データを書き込んでも良い。
Also, in FIG. 146, there are two stages in which the first period for simultaneously selecting five pixel rows is 1 / 2H and the second period for selecting one pixel row is 1 / 2H, but the present invention is not limited to this. Not something to do. For example, in the first stage, 5 pixel rows are simultaneously selected, in the second period, 2 pixel rows are selected from the 5 pixel rows, and finally, 1 pixel row is selected.
It may be one stage. That is, the image data may be written in the pixel rows in a plurality of stages.

【0696】図148では、各ソース信号線18に2つ
の電流出力回路1222を設けるとした。これは、図1
46の第1の実施例である、第1の期間に25倍の電流
を出力することと、第2の期間に5倍の電流を出力する
ためである。
In FIG. 148, each source signal line 18 is provided with two current output circuits 1222. This is
This is to output 25 times the current in the first period and output 5 times the current in the second period, which is the first embodiment of No. 46.

【0697】これを1つの電流出力回路1222で実現
するには、図149の回路構成を採用するとよい。DA
回路1224はリファレンス電圧(Iref)の大きさ
を最大値としてデジタル−アナログ変換をする。たとえ
ば、Iref電圧が5(V)であれば、5(V)を25
6分割したものが最小値としてアナログ出力される。つ
まり、アナログ出力の最大値は5(V)−1ビットのア
ナログ値であり、最小値は0(V)であり、最小分解能
は5(V)/256である(入力が8ビット仕様の
時)。Iref電圧が2.5(V)であれば、2.5
(V)を256分割したものが最小値としてアナログ出
力される。つまり、アナログ出力の最大値は2.5
(V)−1ビットのアナログ値であり、最小値は0
(V)であり、最小分解能は2.5(V)/256であ
る(入力が8ビット仕様の時)。
To realize this with one current output circuit 1222, the circuit configuration of FIG. 149 may be adopted. DA
The circuit 1224 performs digital-analog conversion with the magnitude of the reference voltage (Iref) as the maximum value. For example, if the Iref voltage is 5 (V), 5 (V) is 25
The value divided into 6 is output as an analog value as the minimum value. That is, the maximum value of the analog output is a 5 (V) -1 bit analog value, the minimum value is 0 (V), and the minimum resolution is 5 (V) / 256 (when the input is the 8-bit specification. ). If the Iref voltage is 2.5 (V), 2.5
A value obtained by dividing (V) into 256 is output as an analog value as the minimum value. In other words, the maximum value of analog output is 2.5
(V) -1 bit analog value, minimum value is 0
(V), and the minimum resolution is 2.5 (V) / 256 (when the input is 8-bit specification).

【0698】つまり、Irefをダイナミックに切り替
えることにより1つの電流出力回路1222で出力電流
値を変更することができる。図149はその実現回路で
ある。
That is, the output current value can be changed by one current output circuit 1222 by dynamically switching Iref. FIG. 149 shows a realizing circuit thereof.

【0699】図149において、Vi電圧を4分割する
抵抗RIが設けられている。この分圧された電圧がスイ
ッチ回路1223に入力され、1つの電圧が選択されて
Iref電圧となる。このIref電圧がDAコンバー
タ1224に入力されている。したがって、前半の1/
2Hの期間のIref電圧と、後半の1/2Hの期間の
Iref電圧とをすべてのソース信号線18に接続され
た電流出力回路1222を切り替えることのより、出力
電流の倍率を変更することができる。
In FIG. 149, a resistor RI that divides the Vi voltage into four is provided. The divided voltage is input to the switch circuit 1223, and one voltage is selected and becomes the Iref voltage. This Iref voltage is input to the DA converter 1224. Therefore, the first half
By switching the current output circuits 1222 connected to all the source signal lines 18 between the Iref voltage in the 2H period and the Iref voltage in the latter half of the 1 / 2H period, the scaling factor of the output current can be changed. .

【0700】もちろん、図150に図示するようにIr
ef電圧を複数のDA回路1224の選択により発生さ
せてもよいことは言うまでもない。
Of course, as shown in FIG.
It goes without saying that the ef voltage may be generated by selecting a plurality of DA circuits 1224.

【0701】図148の場合も点灯表示領域311は図
151に図示するように1つとしてもよい。また、図1
52に図示するように、複数の点灯表示領域311に分
割してもよい。
Also in the case of FIG. 148, the number of lighting display areas 311 may be one as shown in FIG. 151. Also, FIG.
As shown in 52, it may be divided into a plurality of lighting display areas 311.

【0702】図153に図示するように、書き込み画素
行が(1)画素行目である時、ゲート信号線17aは
(1)(2)(3)(4)(5)が選択されている。つ
まり、画素行(1)(2)(3)(4)(5)のスイッ
チングTFT11b、TFT11cがオン状態である。
また、ISELがLレベルであるから、25倍電流を出
力する電流出力回路1222aが選択され、ソース信号
線18と接続されている。また、ゲート信号線17bに
は、オフ電圧(Vgh)が印加されている。したがっ
て、画素行(1)(2)(3)(4)(5)のスイッチ
ングTFT11dがオフ状態であり、対応する画素行の
EL素子15には電流が流れていない。つまり、非点灯
状態312である。
As shown in FIG. 153, when the write pixel row is the (1) pixel row, (1), (2), (3), (4) and (5) are selected as the gate signal lines 17a. . That is, the switching TFTs 11b and 11c of the pixel rows (1), (2), (3), (4) and (5) are in the ON state.
Since ISEL is at L level, the current output circuit 1222a that outputs 25 times the current is selected and connected to the source signal line 18. Further, an off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b. Therefore, the switching TFTs 11d of the pixel rows (1), (2), (3), (4), and (5) are in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312.

【0703】同時に選択する画素行が5画素行(K=
5)であるから、5つの駆動TFT11aが動作する。
つまり、1画素あたり、25/5=5倍の電流がTFT
11aに流れる。ソース信号線18には、5つのTFT
11aのプログラム電流を加えた電流が流れる。たとえ
ば、書き込み画素行871aに、本来、書き込む電流I
dとし、ソース信号線18には、Id×25の電流を流
す。書き込み画素行(1)より以降に画像データを書き
込む書き込み画素行871bソース信号線18への電流
量を増加させるため、補助的に用いる画素行である。し
かし、書き込み画素行871bは後に正規の画像データ
が書き込まれるので問題がない。
There are five pixel rows (K =
Since it is 5), the five driving TFTs 11a operate.
In other words, 25/5 = 5 times the current per pixel is applied to the TFT.
It flows to 11a. The source signal line 18 has five TFTs.
A current added with the program current of 11a flows. For example, the current I originally written in the write pixel row 871a is
and a current of Id × 25 is passed through the source signal line 18. A write pixel row 871b for writing image data after the write pixel row (1) is an auxiliary pixel row used to increase the amount of current to the source signal line 18. However, since normal image data is written in the writing pixel row 871b later, there is no problem.

【0704】したがって、画素行871bは、1H期間
の間は871aと同一表示である。そのため、書き込み
画素行871aと電流を増加させるために選択した画素
行871bとを少なくとも非表示状態312とするので
ある。
Therefore, the pixel row 871b displays the same as 871a during the 1H period. Therefore, the write pixel row 871a and the pixel row 871b selected to increase the current are at least in the non-display state 312.

【0705】次の1/2H(水平走査期間の1/2)で
は、書き込み画素行871aのみを選択する。つまり、
(1)画素行目のみを選択する。ゲート信号線17a
(1)のみが、オン電圧(Vgl)が印加され、ゲート
信号線17a(2)(3)(4)(5)はオフ(Vg
h)が印加されている。したがって、画素行(1)のT
FT11aは動作状態(ソース信号線18に電流を供給
している状態)であるが、画素行(2)(3)(4)
(5)のスイッチングTFT11b、TFT11cがオ
フ状態である。つまり、非選択状態である。また、IS
ELがHレベルであるから、5倍電流を出力する電流出
力回路1222bが選択され、この電流出力回路122
2bとソース信号線18とが接続されている。また、ゲ
ート信号線17bの状態は先の1/2Hの状態と変化が
なく、オフ電圧(Vgh)が印加されている。したがっ
て、画素行(1)(2)(3)(4)(5)のスイッチ
ングTFT11dがオフ状態であり、対応する画素行の
EL素子15には電流が流れていない。つまり、非点灯
状態312である。
In the next 1 / 2H (1/2 of the horizontal scanning period), only the write pixel row 871a is selected. That is,
(1) Only the pixel row is selected. Gate signal line 17a
Only (1) is applied with the on-voltage (Vgl), and the gate signal lines 17a (2) (3) (4) (5) are turned off (Vg).
h) is being applied. Therefore, T of pixel row (1)
The FT 11a is in an operating state (a state in which current is supplied to the source signal line 18), but the pixel rows (2) (3) (4)
The switching TFT 11b and the TFT 11c of (5) are in the off state. That is, it is in a non-selected state. Also, IS
Since EL is at the H level, the current output circuit 1222b that outputs 5 times the current is selected.
2b and the source signal line 18 are connected. The state of the gate signal line 17b does not change from the previous 1 / 2H state, and the off voltage (Vgh) is applied. Therefore, the switching TFTs 11d of the pixel rows (1), (2), (3), (4), and (5) are in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312.

【0706】以上のことから、画素行(1)のTFT1
1aが、それぞれId×5の電流をソース信号線18に
流す。そして、各画素行(1)のコンデンサ19には、
5倍の電流がプログラムされる。
From the above, the TFT1 of the pixel row (1) is
1a sends a current of Id × 5 to the source signal line 18. Then, in the capacitor 19 of each pixel row (1),
Five times the current is programmed.

【0707】次の水平走査期間では1画素行、書き込み
画素行がシフトする。つまり、今度は書き込み画素行が
(2)である。最初の1/2Hの期間では、(2)画素
行目である時、ゲート信号線17aは(2)(3)
(4)(5)(6)が選択されている。つまり、画素行
(2)(3)(4)(5)(6)のスイッチングTFT
11b、TFT11cがオン状態である。また、ISE
LがLレベルであるから、25倍電流を出力する電流出
力回路1222aが選択され、ソース信号線18と接続
されている。また、ゲート信号線17bには、オフ電圧
(Vgh)が印加されている。したがって、画素行
(2)(3)(4)(5)(6)のスイッチングTFT
11dがオフ状態であり、対応する画素行のEL素子1
5には電流が流れていない。つまり、非点灯状態312
である。一方、画素行(1)のゲート信号線17b
(1)はVgl電圧が印加されているから、TFT11
dはオン状態であり、画素行(1)のEL素子15は点
灯する。
In the next horizontal scanning period, one pixel row and the writing pixel row are shifted. That is, the write pixel row is (2) this time. In the first 1 / 2H period, the gate signal line 17a is (2) (3) when it is the (2) th pixel row.
(4), (5) and (6) are selected. That is, the switching TFTs of the pixel rows (2) (3) (4) (5) (6)
11b and the TFT 11c are on. Also, ISE
Since L is at L level, the current output circuit 1222a that outputs 25 times the current is selected and connected to the source signal line 18. Further, an off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b. Therefore, the switching TFTs of the pixel rows (2) (3) (4) (5) (6)
11d is in the off state, and the EL element 1 of the corresponding pixel row
No current is flowing in 5. That is, the unlit state 312
Is. On the other hand, the gate signal line 17b of the pixel row (1)
In (1), since the Vgl voltage is applied, the TFT 11
d is in the ON state, and the EL element 15 of the pixel row (1) is lit.

【0708】同時に選択する画素行が5画素行(K=
5)であるから、5つの駆動TFT11aが動作する。
つまり、1画素あたり、25/5=5倍の電流がTFT
11aに流れる。ソース信号線18には、5つのTFT
11aのプログラム電流を加えた電流が流れる。
There are five pixel rows (K =
Since it is 5), the five driving TFTs 11a operate.
In other words, 25/5 = 5 times the current per pixel is applied to the TFT.
It flows to 11a. The source signal line 18 has five TFTs.
A current added with the program current of 11a flows.

【0709】次の1/2H(水平走査期間の1/2)で
は、書き込み画素行871aのみを選択する。つまり、
(2)画素行目のみを選択する。ゲート信号線17a
(2)のみが、オン電圧(Vgl)が印加され、ゲート
信号線17a(3)(4)(5)(6)はオフ(Vg
h)が印加されている。したがって、画素行(1)
(2)のTFT11aは動作状態(画素行(1)はEL
素子15に電流を流し、画素行(2)はソース信号線1
8に電流を供給している状態)であるが、画素行(3)
(4)(5)(6)のスイッチングTFT11b、TF
T11cがオフ状態である。つまり、非選択状態であ
る。また、ISELがHレベルであるから、5倍電流を
出力する電流出力回路1222bが選択され、この電流
出力回路1222bとソース信号線18とが接続されて
いる。また、ゲート信号線17bの状態は先の1/2H
の状態と変化がなく、オフ電圧(Vgh)が印加されて
いる。したがって、画素行(2)(3)(4)(5)
(6)のスイッチングTFT11dがオフ状態であり、
対応する画素行のEL素子15には電流が流れていな
い。つまり、非点灯状態312である。
In the next 1 / 2H (1/2 of the horizontal scanning period), only the write pixel row 871a is selected. That is,
(2) Only the pixel row is selected. Gate signal line 17a
Only (2) is applied with the ON voltage (Vgl), and the gate signal lines 17a (3) (4) (5) (6) are turned off (Vg).
h) is being applied. Therefore, pixel row (1)
The TFT 11a of (2) is in the operating state (the pixel row (1) is EL
A current is passed through the element 15 and the pixel row (2) is connected to the source signal line 1
8 is a state in which a current is supplied to the pixel row (3)
(4) Switching TFTs 11b and TFs of (5) and (6)
T11c is in the off state. That is, it is in a non-selected state. Further, since ISEL is at the H level, the current output circuit 1222b that outputs a quintuple current is selected, and this current output circuit 1222b and the source signal line 18 are connected. The state of the gate signal line 17b is 1 / 2H.
The off voltage (Vgh) is applied without any change from the state. Therefore, pixel rows (2) (3) (4) (5)
The switching TFT 11d of (6) is in the off state,
No current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312.

【0710】以上のことから、画素行(2)のTFT1
1aが、それぞれId×5の電流をソース信号線18に
流す。そして、各画素行(2)のコンデンサ19には、
5倍の電流がプログラムされる。以上の動作を順次、実
施することにより1画面を表示することができる。
From the above, the TFT1 of the pixel row (2) is
1a sends a current of Id × 5 to the source signal line 18. Then, in the capacitor 19 of each pixel row (2),
Five times the current is programmed. One screen can be displayed by sequentially performing the above operation.

【0711】以上の説明でも明らかであるが、以上の動
作は、図147と同一である。差異は、ゲート信号線1
7bの動作である。ゲート信号線17bは画面を分割す
る個数に対応して、その個数分だけオンオフ(Vglと
Vgh)動作する。
As is apparent from the above description, the above operation is the same as in FIG. 147. The difference is the gate signal line 1
This is the operation of 7b. The gate signal lines 17b are turned on / off (Vgl and Vgh) by the number corresponding to the number of divided screens.

【0712】なお、図152にも図示するように、非点
灯表示領域312の走査方向は画面の上から下方向のみ
に限定されるものではない。画面の下から上方向に走査
してもよい。また、上から下への走査方向と、下から上
方向への走査方向とを、交互にあるいはランダムに走査
してもよい。また、分割数をフレームごとに、あるいは
表示画面21の所定位置で変化させてもよいことは言う
までもない。
As shown in FIG. 152, the scanning direction of the non-lighted display area 312 is not limited to the top to bottom direction of the screen. Scanning may be performed from the bottom of the screen upward. Further, the scanning direction from the upper side to the lower side and the scanning direction from the lower side to the upper side may be alternately or randomly scanned. It goes without saying that the number of divisions may be changed for each frame or at a predetermined position on the display screen 21.

【0713】以上のように、表示領域311を複数に分
割することにより画面のちらつきは減少する。したがっ
て、フリッカの発生はなく、良好な画像表示を実現でき
る。なお、分割はもっと細かくしてもよい。しかし、分
割すればするほどフリッカは軽減する。特にEL素子1
5の応答性は速いため、5μsecよりも小さい時間でオ
ンオフしても、表示輝度の低下はない。
As described above, the flicker on the screen is reduced by dividing the display area 311 into a plurality of areas. Therefore, flicker does not occur and good image display can be realized. The division may be finer. However, the more divided it is, the more the flicker is reduced. Especially EL element 1
Since the response of No. 5 is fast, the display brightness does not decrease even if it is turned on / off in a time less than 5 μsec.

【0714】図153の実施例も、第1の期間でG画素
行(Gは2以上)を選択し、各画素行にはN倍の電流を
流すようにプログラムし、第1の期間後の第2の期間で
はB画素行(BはGよりも小さく、1以上)を選択し、
画素にはN倍の電流を流すようにプログラムする方式と
した。しかし、図147と同様に、他の方策もある。つ
まり、第1の期間でG画素行(Gは2以上)を選択し、
各画素行の総和電流がN倍の電流となるようにプログラ
ムする。第1の期間後の第2の期間ではB画素行(Bは
Gよりも小さく、1以上)を選択し、選択された画素行
の総和の電流(ただし、選択画素行が1の時は、1画素
行の電流)がN倍となるようにプログラムする方式であ
る。
Also in the embodiment shown in FIG. 153, G pixel rows (G is 2 or more) are selected in the first period, and programming is performed so that N times the current flows in each pixel row, and after the first period. In the second period, B pixel rows (B is smaller than G and is 1 or more) are selected,
The pixel is programmed so as to flow N times the current. However, similar to FIG. 147, there are other measures. That is, in the first period, G pixel rows (G is 2 or more) are selected,
It is programmed so that the total current of each pixel row is N times the current. In the second period after the first period, B pixel rows (B is smaller than G and is 1 or more) are selected, and the total current of the selected pixel rows (however, when the selected pixel row is 1, This is a method of programming so that the current of one pixel row) becomes N times.

【0715】以上の実施例は順次走査で画像を表示する
方法であった。つまり、テレビ信号でいえば、ノンイン
ターレース駆動(プログレッシブ駆動)である。本発明
はインターレース駆動にも有効である。図154はイン
ターレース駆動の説明図である。
The above embodiments are methods of displaying an image by progressive scanning. That is, in terms of television signals, non-interlaced drive (progressive drive) is used. The present invention is also effective for interlaced driving. FIG. 154 is an explanatory diagram of interlaced driving.

【0716】なお、インターレース駆動は通常2フィー
ルドで1フレームである。図154も2フィールドで1
フレーム(1画面)として説明した。しかし、これはN
TSCのテレビ信号の場合であって、携帯電話などの画
像表示では必ずしも2フィールド=1フレームの原則を
守る必要はない。
The interlaced drive is normally 2 fields and 1 frame. Figure 154 is also 1 in 2 fields
It has been described as a frame (one screen). But this is N
In the case of a TSC television signal, it is not always necessary to follow the principle of 2 fields = 1 frame in the image display of a mobile phone or the like.

【0717】たとえば、4フィールドで1フレームとし
てもよい。第1フィールドは4Y−3(Yは、0以上の
整数)画素行を書き込み、第2フィールドは4Y−2
(Yは、0以上の整数)画素行を書き込む。第3フィー
ルドは4Y−1(Yは、0以上の整数)画素行を書き込
み、第4フィールドは4Y(Yは、0以上の整数)画素
行を書き込む方式である。つまり、インターレース駆動
とは、複数のフィールドで1フレーム(1画面)を構成
する方法である。
For example, one frame may consist of four fields. The first field writes 4Y-3 (Y is an integer of 0 or more) pixel rows, and the second field writes 4Y-2.
(Y is an integer of 0 or more) A pixel row is written. In the third field, 4Y-1 (Y is an integer of 0 or more) pixel rows are written, and in the fourth field, 4Y (Y is an integer of 0 or more) pixel rows are written. That is, the interlaced drive is a method of forming one frame (one screen) with a plurality of fields.

【0718】図154(a)は第1フィールドであり、
偶数画素行を書き込む。図154(b)は第2フィール
ドである、奇数画素行を書き込む。図155は図154
の駆動方法を実現するための駆動波形である。なお、奇
数フィールドと偶数フィールドは便宜上のものである。
図154ではまず、奇数画素行から画像を書き込むとし
て説明する。
FIG. 154 (a) shows the first field,
Write even pixel rows. In FIG. 154 (b), odd pixel rows, which are the second field, are written. FIG. 155 shows FIG.
3 is a drive waveform for realizing the drive method of FIG. The odd field and the even field are for convenience.
In FIG. 154, it is assumed that an image is written from odd-numbered pixel rows.

【0719】図154において、ゲート信号線17a
(1)が選択され(Vgl電圧)、選択された画素行の
TFT11aからソースドライバ14に向かってソース
信号線18にプログラム電流が流れる。ここでは説明を
容易にするため、まず、書き込み画素行871aが画素
行(1)番目であるとして説明する。
In FIG. 154, the gate signal line 17a
(1) is selected (Vgl voltage), and a program current flows from the TFT 11a of the selected pixel row toward the source driver 14 in the source signal line 18. Here, for ease of explanation, the write pixel row 871a is first described as the pixel row (1) th.

【0720】また、ソース信号線18に流れるプログラ
ム電流は所定値のN倍(説明を容易にするため、いまま
での実施例と同様にN=10として説明する。なお、N
=10に限定するものではない。もちろん、所定値とは
画像を表示するデータ電流であるから、白ラスター表示
などでない限り固定値ではない。)である。
Also, the program current flowing through the source signal line 18 is N times the predetermined value (for the sake of simplicity, the description will be made assuming that N = 10 as in the above embodiments.
It is not limited to = 10. Of course, since the predetermined value is a data current for displaying an image, it is not a fixed value unless it is a white raster display or the like. ).

【0721】書き込み画素行が(1)画素行目である
時、ゲート信号線17a(1)にはVgl電圧が印加さ
れている。スイッチングTFT11b、TFT11cが
オン状態である。また、ゲート信号線17b(1)に
は、Vgh電圧が印加されている。したがって、画素行
(1)のスイッチングTFT11dがオフ状態であり、
対応する画素行のEL素子15には電流が流れていな
い。つまり、非点灯状態312である。
When the write pixel row is the (1) th pixel row, the Vgl voltage is applied to the gate signal line 17a (1). The switching TFT 11b and the TFT 11c are on. The Vgh voltage is applied to the gate signal line 17b (1). Therefore, the switching TFT 11d of the pixel row (1) is in the off state,
No current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312.

【0722】次の1Hには、書き込み画素行は(3)画
素行目である。ゲート信号線17a(3)にはVgl電
圧が印加されている。スイッチングTFT11b、TF
T11cがオン状態である。また、ゲート信号線17b
(3)には、Vgh電圧が印加されている。したがっ
て、画素行(3)のスイッチングTFT11dがオフ状
態であり、対応する画素行のEL素子15には電流が流
れていない。つまり、非点灯状態312である。ゲート
信号線17b(1)にはVgl電圧が印加されている。
スイッチングTFT11dはオン状態である。したがっ
て、画素行(1)のスイッチングTFT11dがオン状
態であり、対応する画素行のEL素子15が発光する。
In the next 1H, the writing pixel row is the (3) th pixel row. The Vgl voltage is applied to the gate signal line 17a (3). Switching TFT 11b, TF
T11c is in the on state. Also, the gate signal line 17b
The Vgh voltage is applied to (3). Therefore, the switching TFT 11d of the pixel row (3) is in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312. The Vgl voltage is applied to the gate signal line 17b (1).
The switching TFT 11d is in the on state. Therefore, the switching TFT 11d of the pixel row (1) is in the ON state, and the EL element 15 of the corresponding pixel row emits light.

【0723】次の1Hには、書き込み画素行は(5)画
素行目である。ゲート信号線17a(5)にはVgl電
圧が印加されている。スイッチングTFT11b、TF
T11cがオン状態である。また、ゲート信号線17b
(5)には、Vgh電圧が印加されている。したがっ
て、画素行(5)のスイッチングTFT11dがオフ状
態であり、対応する画素行のEL素子15には電流が流
れていない。つまり、非点灯状態312である。ゲート
信号線17b(3)にはVgl電圧が印加されている。
スイッチングTFT11dはオン状態である。したがっ
て、画素行(3)のスイッチングTFT11dがオン状
態であり、対応する画素行のEL素子15が発光する。
At the next 1H, the writing pixel row is the (5) th pixel row. The Vgl voltage is applied to the gate signal line 17a (5). Switching TFT 11b, TF
T11c is in the on state. Also, the gate signal line 17b
The Vgh voltage is applied to (5). Therefore, the switching TFT 11d of the pixel row (5) is in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312. The Vgl voltage is applied to the gate signal line 17b (3).
The switching TFT 11d is in the on state. Therefore, the switching TFT 11d of the pixel row (3) is in the ON state, and the EL element 15 of the corresponding pixel row emits light.

【0724】以上のように、第1フィールドでは、奇数
画素行が順次選択されて、画像データがかきこまれてい
く。
As described above, in the first field, the odd-numbered pixel rows are sequentially selected and the image data is written in.

【0725】第2フィールドでは、(2)画素行目か
ら、順次画像データが書き込まれる。ゲート信号線17
a(2)にはVgl電圧が印加されている。スイッチン
グTFT11b、TFT11cがオン状態である。ま
た、ゲート信号線17b(2)には、Vgh電圧が印加
されている。したがって、画素行(2)のスイッチング
TFT11dがオフ状態であり、対応する画素行のEL
素子15には電流が流れていない。つまり、非点灯状態
312である。
In the second field, image data is sequentially written from (2) pixel row. Gate signal line 17
The Vgl voltage is applied to a (2). The switching TFT 11b and the TFT 11c are on. Further, the Vgh voltage is applied to the gate signal line 17b (2). Therefore, the switching TFT 11d of the pixel row (2) is in the off state, and the EL of the corresponding pixel row is
No current is flowing through the element 15. That is, the non-lighting state 312.

【0726】次の1Hには、書き込み画素行は(4)画
素行目である。ゲート信号線17a(4)にはVgl電
圧が印加されている。スイッチングTFT11b、TF
T11cがオン状態である。また、ゲート信号線17b
(4)には、Vgh電圧が印加されている。したがっ
て、画素行(4)のスイッチングTFT11dがオフ状
態であり、対応する画素行のEL素子15には電流が流
れていない。つまり、非点灯状態312である。ゲート
信号線17b(3)にはVgl電圧が印加されている。
スイッチングTFT11dはオン状態である。したがっ
て、画素行(3)のスイッチングTFT11dがオン状
態であり、対応する画素行のEL素子15が発光する。
At the next 1H, the writing pixel row is the (4) th pixel row. The Vgl voltage is applied to the gate signal line 17a (4). Switching TFT 11b, TF
T11c is in the on state. Also, the gate signal line 17b
The Vgh voltage is applied to (4). Therefore, the switching TFT 11d of the pixel row (4) is in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312. The Vgl voltage is applied to the gate signal line 17b (3).
The switching TFT 11d is in the on state. Therefore, the switching TFT 11d of the pixel row (3) is in the ON state, and the EL element 15 of the corresponding pixel row emits light.

【0727】次の1Hには、書き込み画素行は(6)画
素行目である。ゲート信号線17a(6)にはVgl電
圧が印加されている。スイッチングTFT11b、TF
T11cがオン状態である。また、ゲート信号線17b
(6)には、Vgh電圧が印加されている。したがっ
て、画素行(6)のスイッチングTFT11dがオフ状
態であり、対応する画素行のEL素子15には電流が流
れていない。つまり、非点灯状態312である。ゲート
信号線17b(4)にはVgl電圧が印加されている。
スイッチングTFT11dはオン状態である。したがっ
て、画素行(4)のスイッチングTFT11dがオン状
態であり、対応する画素行のEL素子15が発光する。
In the next 1H, the writing pixel row is the (6) th pixel row. The Vgl voltage is applied to the gate signal line 17a (6). Switching TFT 11b, TF
T11c is in the on state. Also, the gate signal line 17b
The Vgh voltage is applied to (6). Therefore, the switching TFT 11d of the pixel row (6) is in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312. The Vgl voltage is applied to the gate signal line 17b (4).
The switching TFT 11d is in the on state. Therefore, the switching TFT 11d of the pixel row (4) is in the ON state, and the EL element 15 of the corresponding pixel row emits light.

【0728】以上のように、第2フィールドでは、偶数
画素行が順次選択されて、画像データがかきこまれてい
く。この第1フィールドと第2フィールドで1枚の画像
表示が完成する。また、第2フィールドにおいて、偶数
画素行を書く時は、奇数画素行はすべて非点灯表示31
2としている。第1フィールドでは、奇数画素行を書く
時は、偶数画素行はすべて非点灯表示312としてい
る。
As described above, in the second field, the even-numbered pixel rows are sequentially selected and the image data is written. One image display is completed in the first field and the second field. In the second field, when writing even pixel rows, all odd pixel rows are not illuminated 31
2 In the first field, when writing the odd pixel rows, all the even pixel rows are set to the non-lighting display 312.

【0729】しかし、図154の駆動方法で、ソース信
号線18に10倍電流(N=10)を流し、TFT11
aに電流プログラムをすると、奇数画素行あるいは偶数
画素行を交互に表示するという処理を実施しても、表示
輝度は所定輝度の10/2=5倍の輝度となる。したが
って、表示輝度を1倍とするには、N=2で駆動する必
要がある。しかし、N=2で駆動するとソース信号線1
8に書き込む電流値が小さく寄生容量404を十分に充
放電できない。したがって、コンデンサ19に書き込み
不足が発生し、解像度が低下する。
However, with the driving method shown in FIG. 154, a 10-fold current (N = 10) is passed through the source signal line 18, and the TFT 11
When the current program is applied to a, the display brightness becomes 10/2 = 5 times the predetermined brightness even if the processing of alternately displaying the odd pixel rows or the even pixel rows is performed. Therefore, it is necessary to drive with N = 2 in order to increase the display brightness by one. However, when driven with N = 2, the source signal line 1
The current value written in 8 is small and the parasitic capacitance 404 cannot be sufficiently charged / discharged. Therefore, insufficient writing occurs in the capacitor 19 and the resolution decreases.

【0730】これと解決するためには図156に図示す
るように、奇数画素行あるいは偶数画素行だけでなく、
表示画面21の一部を非点灯領域312aとすればよ
い。図156では図156(a)→図156(b)→図
156(c)→図156(a)と走査される。図156
(b)でわかるように、書き込み画素行871aの上側
(画面の上から下方向に走査しているとき)に所定の範
囲で表示領域を形成する。ただし、表示領域は奇数画素
行あるいは偶数画素行であるため、1画素行ごとにな
る。非点灯領域312aは連続した非点灯領域にする。
In order to solve this, as shown in FIG. 156, not only the odd pixel rows or the even pixel rows but
A part of the display screen 21 may be the non-lighted area 312a. In FIG. 156, scanning is performed in the order of FIG. 156 (a) → FIG. 156 (b) → FIG. 156 (c) → FIG. 156 (a). FIG. 156
As can be seen from (b), a display area is formed in a predetermined range on the upper side (when scanning is performed from the top to the bottom of the screen) of the write pixel row 871a. However, since the display area is an odd-numbered pixel row or an even-numbered pixel row, it becomes every one pixel row. The non-lighting area 312a is a continuous non-lighting area.

【0731】しかし、図156の駆動方法のように、表
示領域を表示画面に一部に固めて走査すると、フリッカ
が発生しやすくなる。ただし、フレームレートが80H
z以上の場合は、図156の表示状態(表示領域311
を1つにした場合)であってもフリッカの発生はないこ
とに注意を要する。つまり、フレームレートを80Hz
以上にすれば、点灯領域311を分割する必要がないの
である。
However, if the display area is partially fixed on the display screen and scanned as in the driving method shown in FIG. 156, flicker is likely to occur. However, the frame rate is 80H
If z or more, the display state of FIG. 156 (display area 311
Note that flicker does not occur even when the number is set to one). In other words, the frame rate is 80Hz
With the above, it is not necessary to divide the lighting region 311.

【0732】フレームレートが低い場合は図157に図
示するように分割すればよい。このことは以前に説明し
た。したがって、図157はあえて説明を要さないであ
ろう。ただし、図157は作図を容易にするため、分割
した領域として、非点灯領域312bと点灯領域311
のペアで作図した。しかし、これに限定されるものでは
なく、分割した領域に複数の非点灯領域312bと複数
の点灯領域311が存在することは言うまでもない。
If the frame rate is low, it may be divided as shown in FIG. This was explained earlier. Therefore, FIG. 157 will not need explanation. However, in FIG. 157, in order to facilitate drawing, the non-lighted area 312b and the lighted area 311 are divided into areas.
It was drawn with a pair of. However, the present invention is not limited to this, and it goes without saying that a plurality of non-lighting areas 312b and a plurality of lighting areas 311 exist in the divided area.

【0733】駆動方式には多種多様な構成が考えられ
る。図158において、書き込み画素行が(1)画素行
目である時、ゲート信号線17aは(1)(G)が選択
されている。つまり、画素行(1)(G)のスイッチン
グTFT11b、TFT11cがオン状態である。ま
た、ゲート信号線17bにはVgh電圧が印加されてい
る。したがって、少なくとも画素行(1)(G)のスイ
ッチングTFT11dがオフ状態であり、対応する画素
行のEL素子15には電流が流れていない。つまり、非
点灯状態312である。
A wide variety of configurations can be considered for the drive system. In FIG. 158, when the writing pixel row is the (1) th pixel row, (1) (G) is selected as the gate signal line 17a. That is, the switching TFTs 11b and 11c of the pixel row (1) (G) are in the ON state. Further, the Vgh voltage is applied to the gate signal line 17b. Therefore, at least the switching TFT 11d of the pixel row (1) (G) is in the OFF state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312.

【0734】同時に選択する画素行が2画素行(K=
2)であるから、2つの駆動TFT11aが動作する。
つまり、1画素あたり、10/2=5倍の電流がTFT
11aに流れる。ソース信号線18には、2つのTFT
11aのプログラム電流を加えた電流が流れる。
There are two pixel rows (K =
Since it is 2), the two drive TFTs 11a operate.
In other words, 10/2 = 5 times the current per pixel is applied to the TFT.
It flows to 11a. The source signal line 18 has two TFTs.
A current added with the program current of 11a flows.

【0735】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(G)は非選択となり、ゲート信号線17bにはオン電
圧(Vgl)が印加される。また、同時に、ゲート信号
線17a(2)が選択され(Vgl電圧)、選択された
画素行(2)のTFT11aからソースドライバ14に
向かってソース信号線18にプログラム電流が流れる。
このように動作することのより、画素行(G)には正規
の画像データが保持される。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(G) is not selected, and the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b. At the same time, the gate signal line 17a (2) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the TFT 11a of the selected pixel row (2) to the source driver 14 in the source signal line 18.
By operating in this way, regular image data is held in the pixel row (G).

【0736】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(1)は非選択となり、ゲート信号線17bにはオン電
圧(Vgl)が印加される。また、同時に、ゲート信号
線17a(3)が選択され(Vgl電圧)、選択された
画素行(3)のTFT11aからソースドライバ14に
向かってソース信号線18にプログラム電流が流れる。
このように動作することのより、画素行(1)には正規
の画像データが保持される。以上の動作と1画素行づつ
シフトしながら走査することにより1画面が書き換えら
れる。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(1) is not selected, and the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b. At the same time, the gate signal line 17a (3) is selected (Vgl voltage), and the program current flows from the TFT 11a of the selected pixel row (3) to the source driver 14 in the source signal line 18.
By operating in this way, regular image data is held in the pixel row (1). One screen is rewritten by the above operation and scanning while shifting by one pixel row.

【0737】フリッカが発生しやすい場合は、図160
に図示するように非点灯領域312あるいは点灯領域3
11を複数に分割すればよい。このことは以前に説明し
た。したがって、図157はあえて説明を要さないであ
ろう。
If flicker is likely to occur, refer to FIG.
As shown in FIG.
11 may be divided into a plurality. This was explained earlier. Therefore, FIG. 157 will not need explanation.

【0738】図161は擬似インターレース駆動であ
る。擬似インターレース駆動とは、第1F(第1フィー
ルド)は奇数画素行と偶数画素行の2画素(複数画素)
行を同時に選択して、選択した画素行が重なることなく
画像データを書き込む。次の第2Fは第1画素行を除い
て、偶数画素行と奇数画素行の2画素(複数画素)行を
同時に選択して、選択した画素行が重なることなく画像
データを書き込む方式である。
FIG. 161 shows the pseudo interlace drive. Pseudo interlaced driving means that the first F (first field) has two pixels (plural pixels) of an odd pixel row and an even pixel row.
Rows are selected at the same time and image data is written without overlapping the selected pixel rows. The next 2F is a method of simultaneously selecting two pixel rows (a plurality of pixel rows) of an even pixel row and an odd pixel row except the first pixel row, and writing image data without overlapping the selected pixel rows.

【0739】図161(a1)(a2)(a3)は第1
フィールドであり、図161(b1)(b2)(b3)
は第2フィールドである。第1フィールドは図161
(a1)→図161(a2)→図161(a3)→と順
次書き込み画素行871を2画素行ペアで映像データを
書き込む。したがって、2画素行は同一画像表示であ
り、この表示状態が1フィールドの期間保持される。ま
た、第1フィールドでは奇数画素行の画像データを該当
奇数画素行と次の偶数画素行に表示する。つまり、第1
行目の画像データは第1画素行と第2画素行に表示し、
第3行目の画像データは第3画素行と第4画素行に表示
し、第5行目の画像データは第5画素行と第6画素行に
表示し、第7行目の画像データは第7画素行と第8画素
行に表示する。以下、同様である。
FIG. 161 (a1) (a2) (a3) shows the first
161 (b1) (b2) (b3)
Is the second field. The first field is shown in FIG.
(A1) → FIG. 161 (a2) → FIG. 161 (a3) → Sequentially writing video data is written in a pair of two pixel row 871. Therefore, two pixel rows display the same image, and this display state is held for one field period. In the first field, the image data of the odd pixel row is displayed on the odd pixel row and the next even pixel row. That is, the first
The image data of the row is displayed on the first pixel row and the second pixel row,
The image data on the third row is displayed on the third pixel row and the fourth pixel row, the image data on the fifth row is displayed on the fifth pixel row and the sixth pixel row, and the image data on the seventh row is The 7th pixel row and the 8th pixel row are displayed. The same applies hereinafter.

【0740】第2フィールドは図161(b1)→図1
61(b2)→図161(b3)→と順次書き込み画素
行871を2画素行ペアで映像データを書き込む。した
がって、2画素行は同一画像表示であり、この表示状態
が1フィールドの期間保持される。また、第2ィールド
では偶数画素行の画像データを該当偶数画素行と次の奇
数画素行に表示する。つまり、第2行目の画像データは
第2画素行と第3画素行に表示し、第4行目の画像デー
タは第4画素行と第5画素行に表示し、第6行目の画像
データは第6画素行と第7画素行に表示し、第8行目の
画像データは第8画素行と第9画素行に表示する。以
下、同様である。
The second field is shown in FIG. 161 (b1) → FIG.
61 (b2) → FIG. 161 (b3) → in sequence The video data is written in the writing pixel row 871 in pairs of two pixel rows. Therefore, two pixel rows display the same image, and this display state is held for one field period. In the second field, the image data of the even pixel row is displayed on the corresponding even pixel row and the next odd pixel row. That is, the image data of the second row is displayed on the second pixel row and the third pixel row, the image data of the fourth row is displayed on the fourth pixel row and the fifth pixel row, and the image of the sixth row is displayed. The data is displayed on the sixth pixel row and the seventh pixel row, and the image data on the eighth row is displayed on the eighth pixel row and the ninth pixel row. The same applies hereinafter.

【0741】なお、図161(a1)の第1画素行は第
1フィールドの状態が保持されたままにする。また、第
1フィールドでは奇数画像データを書き込み、第2フィ
ールドでは偶数画像データを書き込むとしたが、逆でも
よい。つまり、第1フィールドでは偶数画像データを書
き込み、第2フィールドでは奇数画像データを書き込む
としてもよい。
Note that the first pixel row in FIG. 161 (a1) maintains the state of the first field. Also, although odd-numbered image data is written in the first field and even-numbered image data is written in the second field, they may be reversed. That is, even image data may be written in the first field and odd image data may be written in the second field.

【0742】以上のように画像表示をすれば、人間の目
が2フィールドの表示画像を残像で加え合わさって見え
るとした場合、1フレーム(2フィールド)が終了した
時点で、第1画素行は、第1フィールドの表示画像であ
る。また、第2画素行は、第1フィールドの第1画素行
の画像データと第2フィールドの第2画素行の画像デー
タとが加えられたものになる。第3画素行は、第1フィ
ールドの第3画素行の画像データと第2フィールドの第
2画素行の画像データとが加えられたものになる。ま
た、第4画素行は、第1フィールドの第3画素行の画像
データと第2フィールドの第4画素行の画像データとが
加えられたものになる。第5画素行は、第1フィールド
の第5画素行の画像データと第2フィールドの第4画素
行の画像データとが加えられたものになる。以下、同様
である。
With the image display as described above, assuming that the human eye looks at the display image of two fields by adding afterimages, the first pixel line is not displayed at the end of one frame (two fields). , A display image of the first field. Further, the second pixel row is a combination of the image data of the first pixel row of the first field and the image data of the second pixel row of the second field. The third pixel row is a combination of the image data of the third pixel row of the first field and the image data of the second pixel row of the second field. Further, the fourth pixel row is a combination of the image data of the third pixel row of the first field and the image data of the fourth pixel row of the second field. The fifth pixel row is a combination of the image data of the fifth pixel row of the first field and the image data of the fourth pixel row of the second field. The same applies hereinafter.

【0743】以上のように、各画素行は、2つのフィー
ルドの画像が重ね合わさったものとなるため、表示画像
の輪郭が滑らかになる。とくに動画表示では若干の動画
ボケが発生するが、ほぼ静止画では良好な解像度が得ら
れる(ように認識される)。
As described above, since each pixel row is formed by superimposing the images of two fields, the contour of the display image is smooth. In particular, some moving image blur occurs in moving image display, but good resolution is obtained (recognized as) for almost still images.

【0744】図162は図161の表示方法を実現する
ための駆動波形である。図面の上位置は第1フィールド
(1F)の駆動波形であり、図面の下面は第2フィール
ド(2F)の駆動波形である。
FIG. 162 shows drive waveforms for realizing the display method of FIG. The upper position of the drawing is the driving waveform of the first field (1F), and the lower position of the drawing is the driving waveform of the second field (2F).

【0745】第1フィールド(1F)において、まず、
第1画素行と第2画素行のゲート信号線17a(1)
(2)が選択される。ソース信号線18には10倍(N
=10)の駆動電流が流れる。したがって、画素行
(1)(2)の駆動TFT11aにはそれぞれ5倍の電
流でプログラムされる。この時、第1画素行と第2画素
行のゲート信号線17b(1)(2)にはVgh電圧が
印加され、TFT11dはオフ状態である。したがっ
て、第1画素行と第2画素行のEL素子15は点灯しな
い。
In the first field (1F), first,
Gate signal line 17a (1) of the first pixel row and the second pixel row
(2) is selected. The source signal line 18 has 10 times (N
= 10) drive current flows. Therefore, the driving TFTs 11a of the pixel rows (1) and (2) are programmed with a current of 5 times each. At this time, the Vgh voltage is applied to the gate signal lines 17b (1) (2) of the first pixel row and the second pixel row, and the TFT 11d is in the off state. Therefore, the EL elements 15 of the first pixel row and the second pixel row do not light up.

【0746】2H後(偶数画素行または奇数画素行ずつ
画像データを書き込むから、2Hとなる)、第3画素行
と第4画素行のゲート信号線17a(3)(4)が選択
される。ソース信号線18には10倍(N=10)の駆
動電流が流れる。したがって、画素行(3)(4)の駆
動TFT11aにはそれぞれ5倍の電流でプログラムさ
れる。この時、第3画素行と第4画素行のゲート信号線
17b(3)(4)にはVgh電圧が印加され、TFT
11dはオフ状態である。したがって、第3画素行と第
4画素行のEL素子15は点灯しない。
After 2H (because image data is written for each even-numbered pixel row or odd-numbered pixel row, it becomes 2H), the gate signal lines 17a (3) (4) of the third pixel row and the fourth pixel row are selected. A drive current 10 times (N = 10) flows through the source signal line 18. Therefore, the driving TFTs 11a of the pixel rows (3) and (4) are programmed with a current of 5 times each. At this time, the Vgh voltage is applied to the gate signal lines 17b (3) (4) of the third pixel row and the fourth pixel row, and
11d is in the off state. Therefore, the EL elements 15 of the third pixel row and the fourth pixel row do not light up.

【0747】一方、ゲート信号線17b(1)(2)に
は、Vgl電圧が印加される。したがって、第1画素行
と第2画素行のTFT11dはオンし、EL素子15は
点灯する。
On the other hand, the Vgl voltage is applied to the gate signal lines 17b (1) (2). Therefore, the TFTs 11d of the first pixel row and the second pixel row are turned on, and the EL element 15 is turned on.

【0748】さらに、2H後、第5画素行と第6画素行
のゲート信号線17a(5)(6)が選択される。ソー
ス信号線18には10倍(N=10)の駆動電流が流れ
る。したがって、画素行(5)(6)の駆動TFT11
aにはそれぞれ5倍の電流でプログラムされる。この
時、第5画素行と第6画素行のゲート信号線17b
(5)(6)にはVgh電圧が印加され、TFT11d
はオフ状態である。したがって、第5画素行と第6画素
行のEL素子15は点灯しない。
Further, after 2H, the gate signal lines 17a (5) (6) of the fifth pixel row and the sixth pixel row are selected. A drive current 10 times (N = 10) flows through the source signal line 18. Therefore, the driving TFTs 11 of the pixel rows (5) and (6) are
Each a is programmed with 5 times the current. At this time, the gate signal lines 17b of the fifth pixel row and the sixth pixel row
(5) The Vgh voltage is applied to (6), and the TFT 11d
Is off. Therefore, the EL elements 15 of the fifth pixel row and the sixth pixel row do not light up.

【0749】一方、ゲート信号線17b(1)(2)
(3)(4)には、Vgl電圧が印加される。したがっ
て、第1画素行、第2画素行、第3画素行および第4画
素行のTFT11dはオンし、EL素子15は点灯す
る。以上の動作を画面の最終奇数画素行まで実施し、1
画面を表示する。
On the other hand, the gate signal lines 17b (1) (2)
The Vgl voltage is applied to (3) and (4). Therefore, the TFTs 11d of the first pixel row, the second pixel row, the third pixel row, and the fourth pixel row are turned on, and the EL element 15 is turned on. Perform the above operation up to the last odd pixel row of the screen, and
Display the screen.

【0750】第2フィールド(2F)においては、第1
画素行は選択せず、第1フィールドの状態を保持させ
る。つぎに、第2画素行と第3画素行のゲート信号線1
7a(2)(3)が選択される。ソース信号線18には
10倍(N=10)の駆動電流が流れる。したがって、
画素行(2)(3)の駆動TFT11aにはそれぞれ5
倍の電流でプログラムされる。この時、第2画素行と第
3画素行のゲート信号線17b(2)(3)にはVgh
電圧が印加され、TFT11dはオフ状態である。した
がって、第2画素行と第3画素行のEL素子15は点灯
しない。
[0750] In the second field (2F), the first
The pixel row is not selected and the state of the first field is retained. Next, the gate signal line 1 of the second pixel row and the third pixel row
7a (2) (3) is selected. A drive current 10 times (N = 10) flows through the source signal line 18. Therefore,
The driving TFTs 11a in the pixel rows (2) and (3) each have 5
Programmed with double the current. At this time, Vgh is applied to the gate signal lines 17b (2) (3) of the second pixel row and the third pixel row.
A voltage is applied and the TFT 11d is in the off state. Therefore, the EL elements 15 of the second pixel row and the third pixel row do not light up.

【0751】2H後、第4画素行と第5画素行のゲート
信号線17a(4)(5)が選択される。ソース信号線
18には10倍(N=10)の駆動電流が流れる。した
がって、画素行(4)(5)の駆動TFT11aにはそ
れぞれ5倍の電流でプログラムされる。この時、第4画
素行と第5画素行のゲート信号線17b(4)(5)に
はVgh電圧が印加され、TFT11dはオフ状態であ
る。したがって、第4画素行と第5画素行のEL素子1
5は点灯しない。
After 2H, the gate signal lines 17a (4) (5) of the fourth pixel row and the fifth pixel row are selected. A drive current 10 times (N = 10) flows through the source signal line 18. Therefore, the driving TFTs 11a of the pixel rows (4) and (5) are programmed with a current of 5 times. At this time, the Vgh voltage is applied to the gate signal lines 17b (4) (5) of the fourth pixel row and the fifth pixel row, and the TFT 11d is in the off state. Therefore, the EL elements 1 of the fourth pixel row and the fifth pixel row
5 does not light.

【0752】一方、ゲート信号線17b(2)(3)に
は、Vgl電圧が印加される。したがって、第1画素
行、第2画素行と第3画素行のTFT11dはオンし、
EL素子15は点灯する。
On the other hand, the Vgl voltage is applied to the gate signal lines 17b (2) (3). Therefore, the TFTs 11d of the first pixel row, the second pixel row and the third pixel row are turned on,
The EL element 15 lights up.

【0753】さらに、2H後、第6画素行と第7画素行
のゲート信号線17a(6)(7)が選択される。ソー
ス信号線18には10倍(N=10)の駆動電流が流れ
る。したがって、画素行(6)(7)の駆動TFT11
aにはそれぞれ5倍の電流でプログラムされる。この
時、第6画素行と第7画素行のゲート信号線17b
(6)(7)にはVgh電圧が印加され、TFT11d
はオフ状態である。したがって、第6画素行と第7画素
行のEL素子15は点灯しない。
Further, after 2H, the gate signal lines 17a (6) (7) of the sixth pixel row and the seventh pixel row are selected. A drive current 10 times (N = 10) flows through the source signal line 18. Therefore, the driving TFTs 11 of the pixel rows (6) and (7) are
Each a is programmed with 5 times the current. At this time, the gate signal lines 17b of the sixth pixel row and the seventh pixel row
(6) The Vgh voltage is applied to (7), and the TFT 11d
Is off. Therefore, the EL elements 15 of the sixth pixel row and the seventh pixel row do not light up.

【0754】一方、ゲート信号線17b(1)(2)
(3)(4)(5)には、Vgl電圧が印加される。し
たがって、第1画素行、第2画素行、第3画素行、第4
画素行および第5画素行のTFT11dはオンし、EL
素子15は点灯する。以上の動作を画面の最終偶数画素
行まで実施し、1画面を表示する。
On the other hand, gate signal lines 17b (1) (2)
The Vgl voltage is applied to (3), (4) and (5). Therefore, the first pixel row, the second pixel row, the third pixel row, the fourth pixel row
The TFTs 11d of the pixel row and the fifth pixel row are turned on, and the EL
The element 15 lights up. The above operation is performed up to the last even pixel row of the screen, and one screen is displayed.

【0755】以上の実施例は、2フィールドで1画面を
表示するものであった。図163は2フィールド以上で
1画面を表示するものである。図163(a)が第1フ
ィールド、図163(b)が第2フィールド、図163
(c)が第3フィールドである。
In the above embodiments, one screen is displayed with two fields. In FIG. 163, one screen is displayed with two or more fields. FIG. 163 (a) is the first field, FIG. 163 (b) is the second field, and FIG.
(C) is the third field.

【0756】第1フィールドでは、4Y−3(Yは1以
上の整数)画素行と4Y−2画素行とが書き込み画素行
871である。2画素行ずつ画像データを書き込む。第
2フィールドでは、4Y−1画素行と4Y画素行とが書
き込み画素行871である。先のフィールドを同様に2
画素行ずつ画像データを書き込む。第3フィールドで
は、4Y−2画素行と4Y−1画素行とが書き込み画素
行871である。2画素行ずつ画像データを書き込む。
以上のように3Fで書き込むことのより、各画素データ
は複数のフィールドの画像データで補間される。
In the first field, 4Y-3 (Y is an integer of 1 or more) pixel rows and 4Y-2 pixel rows are write pixel rows 871. Image data is written every two pixel rows. In the second field, the 4Y-1 pixel row and the 4Y pixel row are the write pixel row 871. The previous field is also 2
Image data is written pixel by pixel. In the third field, 4Y-2 pixel rows and 4Y-1 pixel rows are write pixel rows 871. Image data is written every two pixel rows.
By writing in 3F as described above, each pixel data is interpolated with image data of a plurality of fields.

【0757】図163は3フィールドで1画面の実施例
であったが、それ以上のフィールドを用いて画像表示を
実現してもよい。たとえば、4フィールドの場合は、第
1フィールドでは、4Y−3(Yは1以上の整数)画素
行と4Y−2画素行とが書き込み画素行871である。
2画素行ずつ画像データを書き込む。第2フィールドで
は、4Y−1画素行と4Y画素行とが書き込み画素行8
71である。第3フィールドでは、4Y−2画素行と4
Y−1画素行とが書き込み画素行871である。先と同
様に2画素行ずつ画像データを書き込む。第4フィール
ドでは、4Y−3画素行と4Y画素行とが書き込み画素
行871である。先のフィールドを同様に2画素行ずつ
画像データを書き込む。以上のように4フィールドで書
き込むことのより、各画素データは複数のフィールドの
画像データで補間される。
Although FIG. 163 shows an example in which one screen is composed of three fields, image display may be realized by using more fields. For example, in the case of four fields, in the first field, 4Y-3 (Y is an integer of 1 or more) pixel rows and 4Y-2 pixel rows are the write pixel rows 871.
Image data is written every two pixel rows. In the second field, 4Y-1 pixel rows and 4Y pixel rows are write pixel rows 8
71. In the third field, 4Y-2 pixel rows and 4
The Y-1 pixel row is the write pixel row 871. Similarly to the above, the image data is written every two pixel rows. In the fourth field, the 4Y-3 pixel row and the 4Y pixel row are the write pixel row 871. Similarly, the image data is written every two pixel rows in the previous field. By writing in 4 fields as described above, each pixel data is interpolated by image data of a plurality of fields.

【0758】以上の実施例は、主として図1の画素構成
を例示して説明したが、本発明の駆動方式は、図21、
図43、図71、図76などの他の電流プログラム画素
構成に対しても有効である。
Although the above embodiments have been described mainly by exemplifying the pixel configuration of FIG. 1, the driving method of the present invention is as shown in FIG.
It is also effective for other current programmed pixel configurations such as those in FIGS. 43, 71, and 76.

【0759】図164は図76の画素構成の駆動方法の
説明図である。なお、ここでも、説明を容易にするため
に、ソースドライバIC14からソース信号線18に流
す電流(もしくは、ソースドライバIC14がソース信
号線18から吸い込む電流、駆動TFT11aがソース
信号線18に流し込む電流)は所定値の10倍(N=1
0)として説明をする。また、TFT11aとTFT1
1bのカレント倍率は1:1(カレント倍率1)である
として説明をする。
FIG. 164 is an explanatory diagram of a driving method of the pixel configuration of FIG. Here, for ease of explanation, the current flowing from the source driver IC 14 to the source signal line 18 (or the current absorbed by the source driver IC 14 from the source signal line 18 and the current flowing from the drive TFT 11a to the source signal line 18). Is 10 times the predetermined value (N = 1
0) will be described. In addition, TFT11a and TFT1
It is assumed that the current magnification of 1b is 1: 1 (current magnification of 1).

【0760】したがって、同時に選択する画素行が5画
素行(K=5)であれば、5つの駆動TFT11aが動
作する。カレント倍率1であるから、TFT11bにも
TFT11aと同一の電流が流れる。つまり、1画素あ
たり、10/5=2倍の電流がTFT11aに流れる。
画素16のTFT11aにプログラムされる電流は所定
値の2倍であるから、ELに流れる電流も2倍である。
したがって、図87のように10倍の電流を流す場合に
比較してEL素子15の劣化は少なくなる。一方、ソー
ス信号線18に流れる電流は10倍であるから、図87
と同様の寄生容量404の充放電が可能である。このこ
とは、図88においても同様である。
Therefore, if the pixel rows selected at the same time are five pixel rows (K = 5), the five driving TFTs 11a operate. Since the current magnification is 1, the same current as that of the TFT 11a also flows through the TFT 11b. That is, a current of 10/5 = 2 times per pixel flows through the TFT 11a.
Since the current programmed in the TFT 11a of the pixel 16 is twice the predetermined value, the current flowing in the EL is also doubled.
Therefore, the EL element 15 is less deteriorated as compared with the case where a 10 times larger current is passed as shown in FIG. On the other hand, since the current flowing through the source signal line 18 is 10 times, FIG.
It is possible to charge and discharge the parasitic capacitance 404 in the same manner as. This also applies to FIG. 88.

【0761】カレント倍率が2であれば、TFT11b
がEL素子15に流す電流は1倍となる。したがって、
所定輝度を得られる所定電流をEL素子15に流すこと
ができる。つまり、図21、図43、図71、図76の
画素構成では、カレント倍率(TFT11aとTFT1
1bとの電流比率)と、ソース信号線18に流す電流
(プログラム電流)とを、設計(調整)することによ
り、汎用度の高い表示パネルの駆動設計が可能である。
If the current magnification is 2, the TFT 11b
The current flowing through the EL element 15 is 1 time. Therefore,
A predetermined current capable of obtaining a predetermined brightness can be passed through the EL element 15. That is, in the pixel configurations of FIGS. 21, 43, 71, and 76, the current magnification (TFT 11a and TFT 1
By designing (adjusting) the current ratio to 1b) and the current (programming current) flowing in the source signal line 18, it is possible to design a display panel with high versatility.

【0762】同時に選択する画素行が5画素行(K=
5)であれば、5つのTFT11aのプログラム電流を
加えたものとなる。たとえば、書き込み画素行871a
に、本来、書き込む電流Idとし、N=10とすれば、
ソース信号線18には、Id×10の電流を流す。書き
込み画素行871aと隣接した画素行871b(871
bはソース信号線18への電流量を増加させるため、補
助的に用いる画素行である。したがって、画像を書き込
む画素(行)が871aであり、871aに書き込むた
めに補助的に用いるのが画素(行)が871bであ
る)。
There are five pixel rows (K =
In case of 5), the program currents of the five TFTs 11a are added. For example, write pixel row 871a
Then, originally, if the write current Id is set and N = 10,
A current of Id × 10 is passed through the source signal line 18. The pixel row 871b (871b) adjacent to the write pixel row 871a
Reference numeral b is a pixel row that is used supplementarily to increase the amount of current to the source signal line 18. Therefore, the pixel (row) in which the image is written is 871a, and the pixel (row) that is additionally used for writing in the 871a is 871b).

【0763】図164において、書き込み画素(行)8
71aの画像データでK行(K=5)同時に書き込む。
したがって、K行の範囲(871a、871b)は同一
表示となる。このように同一表示にすると当然のことな
がら解像度が低下する。これを対策するために、図88
(b)に図示するように書き込み画素行871bの部分
を非点灯表示312とするのである。したがって、解像
度低下は発生しない。
In FIG. 164, the writing pixel (row) 8
K lines (K = 5) are simultaneously written with the image data of 71a.
Therefore, the ranges of K rows (871a, 871b) are displayed in the same manner. When the same display is performed in this way, the resolution naturally lowers. To prevent this, FIG.
As shown in (b), the write pixel row 871b is set to the non-lighting display 312. Therefore, the resolution is not reduced.

【0764】図164(a)に図示する871aは表示
状態にしているが、この画素はプログラム中であるた
め、画素への電流書き込み状態で変化する。したがっ
て、非表示領域312としてもよい。
Although 871a shown in FIG. 164 (a) is in the display state, since this pixel is being programmed, it changes in the state of writing current to the pixel. Therefore, it may be the non-display area 312.

【0765】次の1H後は、1画素行シフトした画素行
を書き込み画素行871aとして同一動作を行う。非点
灯領域312も1画素(行)シフトされる。以上のよう
に、本来の表示データと異なる電流データを書き込まれ
た871bは表示されない。以上の動作を1行づつシフ
トしていくと完全な画像表示を実現できる。また、補助
的に用いている画素行871bの効果で、寄生容量40
4の充放電も十分1H期間内に実現できる。
After the next 1H, the pixel row shifted by one pixel row is set as the write pixel row 871a and the same operation is performed. The non-lighted area 312 is also shifted by one pixel (row). As described above, the 871b to which the current data different from the original display data is written is not displayed. A complete image display can be realized by shifting the above operation line by line. Also, due to the effect of the pixel row 871b used as an auxiliary, the parasitic capacitance 40
The charge / discharge of No. 4 can also be realized sufficiently within 1H period.

【0766】図165は、図164の駆動方法を実現す
るための駆動波形の説明図である。電圧波形はオフ電圧
をVgh(Hレベル)とし、オン電圧をVgl(Lレベ
ル)としている。また、図165の下段に選択している
画素行の番号を記載している。また、(1)(2)
(3)・・・(11)とは選択している画素行番号を示
している。したがって、画素行数はVGAパネルでは4
80本であり、XGAパネルでは768である。
FIG. 165 is an explanatory diagram of drive waveforms for realizing the drive method of FIG. In the voltage waveform, the off voltage is Vgh (H level) and the on voltage is Vgl (L level). In addition, the number of the selected pixel row is described in the lower part of FIG. 165. Also, (1) (2)
(3) ... (11) indicate the selected pixel row number. Therefore, the number of pixel rows is 4 in the VGA panel.
The number is 80 and the XGA panel is 768.

【0767】図165において、ゲート信号線17a
(1)とゲート信号線17b(1)が選択され(Vgl
電圧)、選択された画素行のTFT11aからソースド
ライバ14に向かってソース信号線18にプログラム電
流が流れる。また、ソース信号線18に流れるプログラ
ム電流は所定値のN倍(説明を容易にするため、N=1
0として説明する。もちろん、所定値とは画像を表示す
るデータ電流であるから、白ラスター表示などでない限
り固定値ではない。)である。また、5画素行が同時に
選択(K=5)として説明をする。したがって、理想的
には1つの画素のコンデンサ19には2倍に電流がTF
T11aに流れるようにプログラムされる。
In FIG. 165, the gate signal line 17a
(1) and the gate signal line 17b (1) are selected (Vgl
Voltage), a program current flows from the TFT 11a of the selected pixel row toward the source driver 14 to the source signal line 18. Further, the program current flowing through the source signal line 18 is N times the predetermined value (for the sake of simplicity, N = 1.
It will be described as 0. Of course, since the predetermined value is a data current for displaying an image, it is not a fixed value unless it is a white raster display or the like. ). Also, description will be made assuming that five pixel rows are simultaneously selected (K = 5). Therefore, ideally, the capacitor 19 of one pixel has twice the current TF.
It is programmed to flow to T11a.

【0768】基本的には、ゲート信号線17aと17b
とは同一位相であるから、共通化することが可能であ
る。しかし、厳密には、画素行を選択し、非選択とする
際、まず、TFT11dがオフし、次にTFT11cが
オフするように制御することが好ましい。したがって、
ゲート信号線17aとゲート信号線17bとは分離して
おくことが好ましい。
Basically, the gate signal lines 17a and 17b
Since and have the same phase, they can be shared. However, strictly speaking, when selecting and deselecting a pixel row, it is preferable to control so that the TFT 11d is first turned off and then the TFT 11c is turned off. Therefore,
It is preferable to separate the gate signal line 17a and the gate signal line 17b.

【0769】書き込み画素行が(1)画素行目である
時、図164で図示したように、ゲート信号線17a、
17bにはVgl電圧が印加されている。したがって、
画素行(1)(2)(3)(4)(5)が選択されてい
る。つまり、画素行(1)(2)(3)(4)(5)の
スイッチングTFT11c、TFT11dがオン状態で
ある。また、ゲート信号線17bはゲート信号線17b
の逆位相となっている。したがって、画素行(2)
(3)(4)(5)のスイッチングTFT11dがオフ
状態であり、対応する画素行のEL素子15には電流が
流れていない。つまり、非点灯状態312である。
When the write pixel row is the (1) th pixel row, as shown in FIG. 164, the gate signal line 17a,
The Vgl voltage is applied to 17b. Therefore,
Pixel rows (1), (2), (3), (4), and (5) are selected. That is, the switching TFTs 11c and 11d of the pixel rows (1) (2) (3) (4) (5) are in the ON state. The gate signal line 17b is the gate signal line 17b.
It is the opposite phase of. Therefore, pixel row (2)
The switching TFTs 11d of (3), (4), and (5) are in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312.

【0770】理想的には、5画素のTFT11aが、そ
れぞれId×2の電流をソース信号線18に流す。そし
て、各画素16のコンデンサ19には、2倍の電流がプ
ログラムされる。ここでは、理解を容易にするため、各
TFT11aは特性(Vt、S値)が一致しているとし
て説明をする。
Ideally, the TFTs 11a of the five pixels each supply a current of Id × 2 to the source signal line 18. Then, the capacitor 19 of each pixel 16 is programmed with a double current. Here, in order to facilitate understanding, the description will be made assuming that the characteristics (Vt, S value) of each TFT 11a match.

【0771】同時に選択する画素行が5画素行(K=
5)であるから、5つの駆動TFT11aが動作する。
つまり、1画素あたり、10/5=2倍の電流がTFT
11aに流れる。ソース信号線18には、5つのTFT
11aのプログラム電流を加えた電流が流れる。たとえ
ば、書き込み画素行871aに、本来、書き込む電流I
dとし、ソース信号線18には、Id×10の電流を流
す。
The pixel rows selected at the same time are five pixel rows (K =
Since it is 5), the five driving TFTs 11a operate.
In other words, 10/5 = twice the current per pixel
It flows to 11a. The source signal line 18 has five TFTs.
A current added with the program current of 11a flows. For example, the current I originally written in the write pixel row 871a is
and a current of Id × 10 is passed through the source signal line 18.

【0772】書き込み画素行(1)より以降に画像デー
タを書き込む4つの書き込み画素行871bは、ソース
信号線18への電流量を増加させるため、補助的に用い
る画素行である。しかし、書き込み画素行871bは後
に正規の画像データが書き込まれるので問題がない。
The four write pixel rows 871b for writing image data after the write pixel row (1) are auxiliary pixel rows used to increase the amount of current to the source signal line 18. However, since normal image data is written in the writing pixel row 871b later, there is no problem.

【0773】したがって、画素行871bは、1H期間
の間は871aと同一表示である。そのため、電流を増
加させるために選択した画素行871bとを少なくとも
非表示状態312とするのである。
Therefore, the pixel row 871b displays the same as 871a during the 1H period. Therefore, the pixel row 871b selected for increasing the current is at least in the non-display state 312.

【0774】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(1)、17b(1)は非選択となり(画素行番号6の
位置)、画素に書き込むデータが確定する。また、同時
に、ゲート信号線17a(6)が選択され(画素番号2
の位置)、選択された画素行(6)のTFT11aから
ソースドライバ14に向かってソース信号線18にプロ
グラム電流が流れる。このように動作することのより、
画素行(1)には正規の画像データが保持される。
After the next 1H, the gate signal line 17a
(1) and 17b (1) are not selected (position of pixel row number 6), and the data to be written in the pixel is fixed. At the same time, the gate signal line 17a (6) is selected (pixel number 2
Position), the program current flows from the TFT 11a of the selected pixel row (6) toward the source driver 14 to the source signal line 18. Rather than working this way,
Regular image data is held in the pixel row (1).

【0775】次の、1H後には、ゲート信号線17a
(2)、17b(2)は非選択となる。また、ゲート信
号線17a(7)が選択され(Vgl電圧)、選択され
た画素行(7)のTFT11aからソースドライバ14
に向かってソース信号線18にプログラム電流が流れ
る。このように動作することのより、画素行(2)には
正規の画像データが保持される。以上の動作と1画素行
づつシフトしながら走査することにより1画面が書き換
えられる。
Next, after 1H, the gate signal line 17a
(2) and 17b (2) are not selected. Further, the gate signal line 17a (7) is selected (Vgl voltage), and the TFT 11a to the source driver 14 of the selected pixel row (7) are selected.
A program current flows through the source signal line 18 toward the. By operating in this way, regular image data is held in the pixel row (2). One screen is rewritten by the above operation and scanning while shifting by one pixel row.

【0776】図134と同様であるが、図140の駆動
方法では、各画素には2倍の電流(電圧)でプログラム
を行うため、各画素のEL素子15の発光輝度は理想的
には2倍となる。したがって、表示画面の輝度は所定値
よりも2倍となる。
Although it is similar to FIG. 134, in the driving method of FIG. 140, since the programming is performed with a double current (voltage) in each pixel, the emission brightness of the EL element 15 of each pixel is ideally 2 Doubled. Therefore, the brightness of the display screen is twice the predetermined value.

【0777】これを所定の輝度とするためには、図87
に図示するように、書き込み画素行871を含み、かつ
表示領域21の1/2の範囲を非表示領域312とすれ
ばよい。このことは図137などを用いて説明したので
説明を省略する。なお、図146の駆動方式も図43、
図71、図164、図76、図54、図67、図68、
図103などにも適用できることはいうまでもない。説
明は以前におこなっているので省略する。
[0777] In order to make this a predetermined brightness,
As shown in FIG. 7, the non-display area 312 may include a half of the display area 21 including the write pixel row 871. Since this has been described with reference to FIG. 137 and the like, description will be omitted. The driving method of FIG. 146 is also shown in FIG.
71, 164, 76, 54, 67, 68,
It goes without saying that it can be applied to FIG. 103 and the like. Since the explanation has been given before, it will be omitted.

【0778】表示画面21に占める黒表示領域(非表示
領域)312の面積を大きくするほど動画表示性能が向
上する。したがって、図141に図示するように非表示
領域311を少なくし、非表示領域312の面積を大き
くすればよい。
The larger the area of the black display area (non-display area) 312 in the display screen 21, the higher the moving image display performance. Therefore, as shown in FIG. 141, the non-display area 311 may be reduced and the area of the non-display area 312 may be increased.

【0779】本発明の実施例ではソース信号線18に流
す電流(電圧)を変化させることによりプログラム電流
(電圧)を調整することができる。つまり、ソースドラ
イバ14の基準電流(電圧)を調整するだけでソース信
号線18に流れる電流を調整できる。2画素行を同時に
オンさせるか、5画素行を同時にオンさせるか、または
1画素行のみを選択するかは、図2などに図示するゲー
トドライバ12のシフトレジスタ22に印加するST*
端子へのデータで設定できる。したがって、ソースドラ
イバ14の仕様は、選択する画素数には左右されない。
In the embodiment of the present invention, the program current (voltage) can be adjusted by changing the current (voltage) supplied to the source signal line 18. That is, the current flowing through the source signal line 18 can be adjusted only by adjusting the reference current (voltage) of the source driver 14. ST * to be applied to the shift register 22 of the gate driver 12 shown in FIG. 2 and the like indicates whether to turn on two pixel rows at the same time, turn on five pixel rows at the same time, or select only one pixel row.
It can be set by data to the terminal. Therefore, the specifications of the source driver 14 do not depend on the number of pixels to be selected.

【0780】また、画面の明るさもゲート信号線17c
のオンオフで調整することができるから、画面21の明
るさ調整でソースドライバ14からの出力電流を変化さ
せることはない。したがって、EL素子15のガンマ特
性は1つの電流に対して決定すればよい。そのため、ソ
ースドライバ14の構成は極めて容易であり、汎用性の
高いものとなる。以上の事項は、他の本発明の実施例に
も適用できることは言うまでもない。
[0780] Also, the screen brightness is determined by the gate signal line 17c.
The output current from the source driver 14 is not changed by adjusting the brightness of the screen 21. Therefore, the gamma characteristic of the EL element 15 may be determined for one current. Therefore, the configuration of the source driver 14 is extremely easy and highly versatile. It goes without saying that the above items can be applied to other embodiments of the present invention.

【0781】図136と同様に、図164のように1つ
の表示領域311が画面の上から下方向に移動すると、
フレームレートが低いと、表示領域311が移動するの
が視覚的に認識される。特に、まぶたを閉じた時、ある
いは顔を上下に移動させた時などに認識されやすくな
る。この課題に対しては、図142に図示するように、
表示領域311を複数に分割するとよい。
Similarly to FIG. 136, when one display area 311 moves downward from the top of the screen as shown in FIG.
When the frame rate is low, it is visually recognized that the display area 311 moves. In particular, it becomes easy to be recognized when the eyelids are closed or when the face is moved up and down. To solve this problem, as shown in FIG.
The display area 311 may be divided into a plurality of parts.

【0782】なお、図142(b)にも図示するよう
に、非点灯表示領域312の走査方向は画面の上から下
方向のみに限定されるものではない。画面の下から上方
向に走査してもよい。また、上から下への走査方向と、
下から上方向への走査方向とを、交互にあるいはランダ
ムに走査してもよい。また、分割数をフレームごとに、
あるいは表示画面21の所定位置で変化させてもよいこ
とは言うまでもない。
As shown in FIG. 142 (b), the scanning direction of the non-lighted display area 312 is not limited to the top to bottom direction of the screen. Scanning may be performed from the bottom of the screen upward. Also, the scanning direction from top to bottom,
The scanning direction from the bottom to the top may be scanned alternately or randomly. Also, the number of divisions for each frame,
Alternatively, it goes without saying that it may be changed at a predetermined position on the display screen 21.

【0783】以上のように、表示領域311を複数に分
割することにより画面のちらつきは減少する。したがっ
て、フリッカの発生はなく、良好な画像表示を実現でき
る。なお、分割はもっと細かくしてもよい。しかし、分
割すればするほどフリッカは軽減する。特にEL素子1
5の応答性は速いため、5μsecよりも小さい時間でオ
ンオフしても、表示輝度の低下はない。
As described above, the flicker on the screen is reduced by dividing the display area 311 into a plurality of areas. Therefore, flicker does not occur and good image display can be realized. The division may be finer. However, the more divided it is, the more the flicker is reduced. Especially EL element 1
Since the response of No. 5 is fast, the display brightness does not decrease even if it is turned on / off in a time less than 5 μsec.

【0784】図87、図88は図1、図76、図21、
図43、図71のような電流プログラム方式の画素構成
を例示して説明したが、これに限定するものではない。
たとえば、図54、図68、図103などの電圧プログ
ラム方式の画素構成でも有効である。複数画素行に同時
に電圧を印加する方式とすることにより、画素を予備充
することができるため、SXGA以上の高精細表示パネ
ルにも対応できるようになる。また、電駆動回路、信号
処理回路が簡略化され、また、良好な黒表示を実現でき
るからである。
87, 88 are FIGS. 1, 76, 21,
The pixel configuration of the current programming method as shown in FIGS. 43 and 71 has been described as an example, but the present invention is not limited to this.
For example, the voltage programming type pixel configurations shown in FIGS. 54, 68, and 103 are also effective. By applying a voltage to a plurality of pixel rows at the same time, the pixels can be preliminarily filled, so that a high-definition display panel of SXGA or higher can be supported. Moreover, the electric drive circuit and the signal processing circuit are simplified, and good black display can be realized.

【0785】電圧プログラムの適用例として図54の画
素構成を例示して説明をする。なお、図166、図16
7はその駆動波形である。図166、図167において
5画素行を非点灯領域312にするとして説明をする
が、これに限定するものではない。単に説明を容易にす
るためである。たとえば、2画素行を同時選択してもよ
く、10画素行でもよい。また、1画素行を非点灯領域
312としてもよい。このことは図54、図67、図6
8、図103などに対しても同様である。
As an application example of the voltage program, the pixel configuration of FIG. 54 will be exemplified and described. Note that FIG. 166 and FIG.
Reference numeral 7 is the drive waveform. In FIG. 166 and FIG. 167, the description is given assuming that the 5 pixel rows are the non-lighting area 312, but the present invention is not limited to this. This is simply for ease of explanation. For example, two pixel rows may be simultaneously selected or ten pixel rows may be selected. Further, one pixel row may be the non-lighting area 312. This is shown in FIG. 54, FIG. 67, and FIG.
The same applies to FIG.

【0786】また、図54、図67、図68、図103
などで図示した電圧プログラムの画素構成に対して、図
144、図146、図151、図152、図154、図
163などで説明した駆動方式を適用することができる
ことはいうまでもない。また、N倍の電流がEL素子1
5に流れるように駆動し、非点灯領域312を形成する
という駆動方式も適用することができることは言うまで
もない。しかし、図166、図167では説明が複雑に
なるのであえて説明しない。
Also, FIG. 54, FIG. 67, FIG. 68, FIG.
It goes without saying that the driving method described with reference to FIGS. 144, 146, 151, 152, 154, 163 and the like can be applied to the pixel configuration of the voltage program illustrated in FIG. In addition, N times the current is EL element 1
It goes without saying that a driving method in which the non-lighted area 312 is formed by driving so as to flow in No. 5 can also be applied. However, since the description is complicated in FIGS. 166 and 167, it will not be described.

【0787】図167に示すように書き込み画素行が
(1)画素行目である時、ゲート信号線17aは(1)
(2)(3)(4)(5)が選択されている(画素行番
号5の位置)。つまり、画素行(1)(2)(3)
(4)(5)のスイッチングTFT11bがオン状態で
ある。ゲート信号線17bには、オフ電圧(Vgh)が
印加されている。したがって、画素行(1)(2)
(3)(4)(5)のスイッチングTFT11dがオフ
状態であり、対応する画素行のEL素子15には電流が
流れていない。つまり、非点灯状態312である。した
がって、画素行(1)には5Hの期間、電圧が予備充電
されていることになる。
As shown in FIG. 167, when the writing pixel row is the (1) pixel row, the gate signal line 17a is (1).
(2), (3), (4), and (5) are selected (position of pixel row number 5). That is, pixel rows (1) (2) (3)
(4) The switching TFT 11b of (5) is on. An off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b. Therefore, pixel row (1) (2)
The switching TFTs 11d of (3), (4), and (5) are in the off state, and no current flows in the EL element 15 of the corresponding pixel row. That is, the non-lighting state 312. Therefore, the pixel row (1) is precharged with the voltage for a period of 5H.

【0788】予備充電されている画素行は、5H期間の
間は他の4画素行と同一表示である。そのため、書き込
みを行っている画素行を少なくとも非表示状態312と
するのである。特に映像信号では隣接した画素では映像
データが近似している。そのため、予備充電を行えば、
正規の画像データの書き込みが楽になる。
[0788] The pre-charged pixel row has the same display as the other four pixel rows during the 5H period. Therefore, at least the pixel row in which writing is performed is set to the non-display state 312. Particularly in the video signal, the video data is similar in the adjacent pixels. Therefore, if you perform preliminary charging,
Writing regular image data is easy.

【0789】したがって、本発明は、複数の画素行に画
像データを書き込み、正規の画像データが書き込まれる
までは非表示状態312とする方法である。ただし、1
画素行の選択であっても、この画素行の画像データを書
き込んでいるときは表示が不安定であるので、非表示と
することも本発明の概念である。また、EL素子15に
流れる電流を所定値よりも大きくし、非点灯領域312
を形成することにより所定輝度にする。この表示方法で
良好な動画を実現するのも本発明の効果である。
Therefore, the present invention is a method of writing image data in a plurality of pixel rows and keeping the non-display state 312 until the regular image data is written. However, 1
Even if a pixel row is selected, the display is unstable when the image data of this pixel row is being written, so that it is also a concept of the present invention to make it non-display. Further, the current flowing through the EL element 15 is set to be larger than a predetermined value, and the non-lighted area 312
To form a predetermined brightness. It is also an effect of the present invention to realize a good moving image by this display method.

【0790】次の1Hでは、(2)画素行目の画像デー
タを確定させる。図167で明らかなように、ゲート信
号線17a(1)とゲート信号線17b(1)にオフ電
圧(Vgl:TFT11bがnチャンネルのため)が印
加される(画素行番号6)。ゲート信号線17a(6)
とゲート信号線17b(6)にはオン(Vgh:TFT
11bがnチャンネルのため)が印加される。したがっ
て、画素行(2)のTFT11aへの画像データは保持
される。
At the next 1H, (2) the image data of the pixel row is fixed. As is apparent from FIG. 167, the off voltage (Vgl: since the TFT 11b is the n channel) is applied to the gate signal line 17a (1) and the gate signal line 17b (1) (pixel row number 6). Gate signal line 17a (6)
And the gate signal line 17b (6) is turned on (Vgh: TFT
11b is n channel). Therefore, the image data to the TFT 11a of the pixel row (2) is held.

【0791】以上のように水平走査期間に同期して、1
画素行、書き込み画素行がシフトする。以上の動作を順
次、実施することにより1画面を表示することができ
る。
As described above, 1 is synchronized with the horizontal scanning period.
The pixel row and the writing pixel row are shifted. One screen can be displayed by sequentially performing the above operation.

【0792】図166は図54の画素構成において、ゲ
ート信号線17bのタイミングを1Hシフトした方式で
ある。図166で明らかであるが、確定する画素を表示
状態とするものである。
FIG. 166 shows a system in which the timing of the gate signal line 17b is shifted by 1H in the pixel configuration of FIG. As is clear from FIG. 166, the pixels to be set are brought into the display state.

【0793】たとえば、画素行(1)は5Hの期間、画
像データが書き込まれている(画素行番号1−5の期
間)。つまり、画素行(1)のゲート信号線17aは選
択状態である(TFT11bがnチャンネルのため、V
ghが印加されている)。5Hの時には、ゲート信号線
17b(1)にはオン電圧(Vgl:TFT11dがP
チャンネルのため)が印加されているため、EL素子1
5には電流が流れている。したがって、EL素子15は
点灯状態である。この点が図167と異なっている。図
167では非点灯領域312としていた。他の点は、図
167と同様であるので説明を省略する。
For example, in the pixel row (1), the image data is written for the period of 5H (the period of the pixel row numbers 1-5). That is, the gate signal line 17a of the pixel row (1) is in a selected state (since the TFT 11b is an n channel, V
gh is applied). At the time of 5H, the gate signal line 17b (1) has an on-voltage (Vgl: TFT 11d is P
(Because of the channel) is applied, so EL element 1
Current is flowing through 5. Therefore, the EL element 15 is in a lighting state. This point is different from FIG. 167. In FIG. 167, the non-lighting area 312 is used. The other points are similar to those of FIG. 167, and thus the description thereof is omitted.

【0794】なお、以上の複数の画素行を同時にオンさ
せて画像データを書き込む本発明の実施例において、表
示領域21の最上辺あるいは最下辺はあるいはその両方
の画素行は同時にオンさせる隣接した画素行がない。こ
の課題に対しては、表示領域21の最上辺あるいは最下
辺はあるいはその両方に、ダミーの画素行を形成あるい
は配置すればよい。
In the embodiment of the present invention in which a plurality of pixel rows are simultaneously turned on to write image data, the uppermost side or the lowermost side of the display area 21 or both pixel rows are turned on at the same time. There is no line. To solve this problem, dummy pixel rows may be formed or arranged on the uppermost side and / or the lowermost side of the display area 21.

【0795】たとえば、図139で説明した5画素行を
同時に選択する駆動方式では、画面の下辺に4本の画素
行を形成する。もちろん上下反転駆動を実施する場合
は、画面の上辺にも4本のダミー画素行を設ける。ダミ
ー画素行は、EL素子15を形成しない。したがって、
発光はしない。もちろんEL素子15を形成しても発光
しないようにするか、遮光して表示されないようにす
る。その他、図1では1画素のTFT11d以外を形成
しておいてもよい。ダミー画素行は1画素行以上形成す
る。
For example, in the driving method for simultaneously selecting 5 pixel rows described with reference to FIG. 139, 4 pixel rows are formed on the lower side of the screen. Of course, when the upside-down driving is performed, four dummy pixel rows are also provided on the upper side of the screen. The EL element 15 is not formed in the dummy pixel row. Therefore,
Does not emit light. Of course, even if the EL element 15 is formed, it does not emit light or is shielded from light so as not to be displayed. In addition, in FIG. 1, other than the TFT 11d for one pixel may be formed. One or more dummy pixel rows are formed.

【0796】また、隣接した画素行を同時にオンさせる
としたが、これに限定するものではない。たとえば、複
数の画素行をオンさせるタイミングが異なっていても良
い。また、1行目を3行目の2画素行というように離れ
ていてもその効果は発揮される。極端には、2画素行を
選択する場合、1画素行を固定して(たとえば、画面の
一番下の画素行あるいは、ダミー画素行)オンさせ、他
の1画素行を走査して順次オンさせてもよい。
Although it has been stated that adjacent pixel rows are turned on at the same time, the present invention is not limited to this. For example, the timing of turning on a plurality of pixel rows may be different. Further, the effect is exhibited even if the first row is separated from the third row to the second pixel row. In the extreme, when selecting two pixel rows, one pixel row is fixed (for example, the pixel row at the bottom of the screen or a dummy pixel row) and turned on, and another one pixel row is scanned and sequentially turned on. You may let me.

【0797】以上の実施例は、基本的には、EL素子1
5に電流を流す駆動用TFTは1画素に1つであり、ま
た、1フィールド(1フレーム)で目標の輝度を表示す
るものであった。しかし、本発明はこれに限定されな
い。以下、その実施例について説明をする。
The above embodiment is basically the same as EL element 1
The number of driving TFTs for supplying a current to 5 is one for each pixel, and the target luminance is displayed in one field (one frame). However, the present invention is not limited to this. Hereinafter, the example will be described.

【0798】図309は、図1の電流プログラムの画素
構成を基本としている。図1と図309の差異は、図3
09が駆動用TFTとしてTFT11a1とTFT11
a2の2つを1つの画素内に形成(作製)されている点
である。また、TFT11a1とEL素子15との電流
経路をオンオフ(切断、接続)するスイッチングTFT
1f1が形成(配置)されている。さらに、TFT11
a2とEL素子15との電流経路をオンオフ(切断、接
続)するスイッチングTFT1f2が形成(配置)され
ている。このTFT11f1のゲート(G)端子にはゲ
ート信号線17f1が接続されており、このゲート信号
線17f1にVgh電圧を印加することによりTFT1
1f1がオンする(Vgl電圧を印加することによりT
FT11f1がオフする)。同様に、このTFT11f
2のゲート(G)端子にはゲート信号線17f2が接続
されており、このゲート信号線17f2にVgh電圧を
印加することによりTFT11f2がオンする(Vgl
電圧を印加することによりTFT11f2がオフす
る)。もちろん、各ゲート信号線17は画素行で共通で
ある。他の、動作などは、図1で説明した動作と同一あ
るいは類似であり、また、構成も同一あるいは類似であ
るため説明を省略する。
FIG. 309 is based on the pixel configuration of the current program shown in FIG. The difference between FIG. 1 and FIG. 309 is that FIG.
09 is a driving TFT, and is a TFT 11a1 and a TFT 11
The point is that two a2 are formed (produced) in one pixel. A switching TFT that turns on / off (disconnects or connects) the current path between the TFT 11a1 and the EL element 15.
1f1 is formed (arranged). Furthermore, the TFT 11
A switching TFT 1f2 that turns on / off (disconnects or connects) the current path between the a2 and the EL element 15 is formed (disposed). A gate signal line 17f1 is connected to the gate (G) terminal of the TFT 11f1. By applying a Vgh voltage to the gate signal line 17f1, the TFT 1f1 is connected to the TFT 1f1.
1f1 turns on (by applying Vgl voltage, T1
FT11f1 turns off). Similarly, this TFT 11f
The gate signal line 17f2 is connected to the gate (G) terminal of No. 2 and the TFT 11f2 is turned on by applying a Vgh voltage to this gate signal line 17f2 (Vgl).
The TFT 11f2 is turned off by applying a voltage). Of course, each gate signal line 17 is common to the pixel rows. The other operations are the same as or similar to the operations described in FIG. 1, and the configurations are also the same or similar, and thus the description thereof will be omitted.

【0799】以下、図310、図311は図309の画
素構成の動作の説明図である。図310、図311にお
いて、スイッチングTFT11はスイッチの記号で図示
している。
310 and 311 are explanatory views of the operation of the pixel configuration of FIG. 309. In FIGS. 310 and 311, the switching TFT 11 is shown by a switch symbol.

【0800】図309の構成では2フレーム(2フィー
ルド)で、EL素子15に流れる電流を所定値とする。
ここでは、説明を容易にするため、2フレームの期間で
EL素子15に流れる電流を所定値とするとして説明を
する。また、プログラムする電流はIw=10(μA)
とし(なお、これは、仮の設定である。現実には1.2
(μA)など画像に応じた電流がプログラムされる)、
プログラムされた電流Iwに応じた電流がEL素子15
に流れるものとする。
In the configuration of FIG. 309, the current flowing through the EL element 15 is set to a predetermined value in 2 frames (2 fields).
Here, in order to facilitate the description, it is assumed that the current flowing through the EL element 15 has a predetermined value in the period of two frames. The programmed current is Iw = 10 (μA)
(Note that this is a temporary setting. In reality, 1.2
(A current such as (μA) is programmed according to the image),
The EL element 15 has a current corresponding to the programmed current Iw.
Flow to.

【0801】基本的には、第1フレームで、ソースドラ
イバ14にプログラム電流Iw=10(μA)を吸い込
む。この電流Iwは、画素に2つの駆動TFTの両方か
ら供給する。第1フレームでは、第1番目の駆動TFT
11aを選択し、この電流をEL素子15に流す。EL
素子15は、この第1の駆動TFT11aの電流に応じ
て発光する。第2フレームでも第1フレームと同様に、
ソースドライバ14にプログラム電流Iw=10(μ
A)を吸い込む。この電流Iwは、画素に2つの駆動T
FTの両方から供給する。
Basically, in the first frame, the source driver 14 draws the program current Iw = 10 (μA). This current Iw is supplied to the pixel from both of the two driving TFTs. In the first frame, the first drive TFT
11a is selected and this current is passed through the EL element 15. EL
The element 15 emits light according to the current of the first driving TFT 11a. In the second frame, as in the first frame,
Program current Iw = 10 (μ
Inhale A). This current Iw causes two driving T
Supply from both FT.

【0802】第2フレームでは、第2番目の駆動TFT
11aを選択し、この電流をEL素子15に流す。EL
素子15は、この第2の駆動TFT11aの電流に応じ
て発光する。したがって、2フレーム期間を平均すれ
ば、EL素子15は第1の駆動TFT11aと第2の駆
動TFT11aが流す平均電流に応じた輝度で発光する
ことになる。プログラム電流Iw=10(μA)であれ
ば、10/2=5(μA)の輝度で発光する。したがっ
て、2つの駆動TFT11の特性がずれていても、同一
プログラム電流Iwを流して、2つの駆動TFTを電流
プログラムする。かつ、この2つの駆動TFTを2フレ
ーム期間で1回ずつEL素子15に電流を流すのである
から、2フレーム期間では正確にプログラムされた電流
をEL素子に流すことができる。
In the second frame, the second drive TFT
11a is selected and this current is passed through the EL element 15. EL
The element 15 emits light according to the current of the second driving TFT 11a. Therefore, when the two frame periods are averaged, the EL element 15 emits light with the brightness according to the average currents flowing through the first driving TFT 11a and the second driving TFT 11a. If the program current Iw = 10 (μA), light is emitted with a brightness of 10/2 = 5 (μA). Therefore, even if the characteristics of the two drive TFTs 11 are deviated, the same program current Iw is passed to current-program the two drive TFTs. In addition, since current is passed through the EL element 15 once in each of the two driving TFTs in the two frame periods, an accurately programmed current can be passed in the EL element in the two frame periods.

【0803】なお、以上の説明では、2フレームで画素
の駆動TFT特性バラツキによらず、目標の輝度を得る
として説明をした。しかし、動画などの映像を表示する
場合はこの必要はない。単に、機械的に2つの駆動TF
T11aを交互にEL素子15に流すだけでよい。正確
には2フレーム期間でEL素子15に流した電流の和が
プログラム電流と一致するというのが本実施例である。
しかし、動画ではたえず、画像が変化している。したが
って、動画では表示状態がずれても視覚的に認識されな
いからである。なお、静止画では、画像の動きがないの
で、画像表示にみだれがでることはない。以下、さらに
詳細に説明をする。
In the above description, it has been explained that the target luminance is obtained in two frames regardless of the variation in the driving TFT characteristics of the pixels. However, this is not necessary when displaying an image such as a moving image. Simply mechanically two drive TFs
It suffices to flow T11a alternately to the EL element 15. To be precise, in the present embodiment, the sum of the currents passed through the EL element 15 in the two frame periods matches the program current.
However, in the video, the image is constantly changing. Therefore, even if the display state of the moving image is shifted, it is not visually recognized. It should be noted that in a still image, since there is no movement of the image, the image display does not have a droop. The details will be described below.

【0804】図310は該当画素が選択され、電流プロ
グラムが行われている状態である。ゲート信号線17a
にオン電圧(Vgl)が印加され、TFT11b、TF
T11cがオンする。TFT1aからソースドライバ
(図示せず)14に向かってプログラム電流Iwが流れ
る。この時、TFT11dはオフ状態である(ゲート信
号線17bにはオフ電圧(Vgh)が印加されてい
る)。ゲート信号線17f1、ゲート信号線17f2に
もオン電圧(Vgl)が印加され、TFT11f1、T
FT11f2はオン状態である。
FIG. 310 shows a state in which the corresponding pixel is selected and current programming is being performed. Gate signal line 17a
ON voltage (Vgl) is applied to the TFT 11b, TF
T11c turns on. A program current Iw flows from the TFT 1a toward the source driver (not shown) 14. At this time, the TFT 11d is in the off state (the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b). The on-voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17f1 and the gate signal line 17f2, and the TFTs 11f1 and T
FT11f2 is on.

【0805】プログラム電流Iwは駆動用TFT11a
1とTFT11a2から供給される。TFT11a1が
供給する電流をIa1、TFT11a2が供給する電流
をIa2とすると、プログラム電流Iw=Ia1+Ia
2である。
[0805] The program current Iw is the driving TFT 11a.
1 and the TFT 11a2. If the current supplied by the TFT 11a1 is Ia1 and the current supplied by the TFT 11a2 is Ia2, the program current Iw = Ia1 + Ia
It is 2.

【0806】本来、TFT11a1とTFT11a2は
隣接して形成されているため、ほとんど特性ずれがない
はずである。しかし、低温ポリシリコン技術で形成した
場合なとは、Vt電圧などが異なる。したがって、駆動
TFT11a1、TFT11a2のゲート端子を共通に
して、このゲート端子に同一電圧を印加しても駆動TF
T11a1とTFT11a2が流す電流が異なる。こと
では説明を容易にするため、TFT11a1とTFT1
1a2とは、3:7の差があるとして説明をする。つま
り、プログラム電流Iw=10(μA)とすると、TF
T11a1は3(μA)の電流を供給し、TFT11a
2は7(μA)の電流を供給するとする。つまり、プロ
グラム電流Iw=Ia1+Ia2=3(μA)+7(μ
A)=10(μA)である。
Originally, since the TFT 11a1 and the TFT 11a2 are formed adjacent to each other, there should be almost no characteristic deviation. However, the Vt voltage and the like are different from those formed by the low temperature polysilicon technology. Therefore, even if the gate terminals of the driving TFT 11a1 and the TFT 11a2 are made common and the same voltage is applied to this gate terminal, the driving TF
The currents flowing through T11a1 and TFT11a2 are different. In order to facilitate the explanation, the TFT 11a1 and the TFT 1
It is assumed that there is a 3: 7 difference from 1a2. That is, assuming that the program current Iw = 10 (μA), TF
T11a1 supplies a current of 3 (μA), and TFT11a
2 supplies a current of 7 (μA). That is, the program current Iw = Ia1 + Ia2 = 3 (μA) +7 (μ
A) = 10 (μA).

【0807】画素が非選択状態になると、図311
(a)の状態となる。ゲート信号線17aにオフ電圧
(Vgh)が印加され、TFT11b、TFT11cが
オフする。同時に、ゲート信号線17bにはオン電圧
(Vgh)が印加され、TFT11dがオンする。ゲー
ト信号線17f1にはオン電圧(Vgl)が印加されT
FT11f1がオンする。また、ゲート信号線17f2
には、オフ電圧(Vgh)が印加され、TFT11f2
はオフ状態である。
When the pixel is in the non-selected state, FIG.
The state of (a) is obtained. The off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17a, and the TFT 11b and the TFT 11c are turned off. At the same time, the ON voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b, and the TFT 11d is turned on. An on-voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17f1 and T
FT11f1 turns on. In addition, the gate signal line 17f2
OFF voltage (Vgh) is applied to the TFT 11f2.
Is off.

【0808】したがって、駆動TFT11a1からの電
流Idd1がEL素子15に流れる。この電流は、TF
T11a1とTFT11a2の特性が同一であるなら
ば、Idd1=Iw/2=5(μA)である。しかし、
現実にはTFT11a1とTFT11a2の特性はずれ
ている。ここでは説明を容易にするため、TFT11a
1のIdd1=3(μA)として説明をする。したがっ
て、第1フレームではEL素子15は3(μA)の電流
で発光する。
Therefore, the current Idd1 from the drive TFT 11a1 flows through the EL element 15. This current is TF
If the characteristics of T11a1 and TFT 11a2 are the same, then Idd1 = Iw / 2 = 5 (μA). But,
In reality, the characteristics of the TFT 11a1 and the TFT 11a2 are deviated. Here, for ease of explanation, the TFT 11a is
1 will be described as Idd1 = 3 (μA). Therefore, in the first frame, the EL element 15 emits light with a current of 3 (μA).

【0809】第1フレームの次の第2フレームでは、再
度、図310で説明した動作が行われる。つまり、該当
画素が選択され、電流プログラムが行われている状態で
ある。第1フレームと同様に、ゲート信号線17aにオ
ン電圧(Vgl)が印加され、TFT11b、TFT1
1cがオンする。TFT1aからソースドライバ(図示
せず)14に向かってプログラム電流Iw=10(μ
A)が流れる。ゲート信号線17f1、ゲート信号線1
7f2にもオン電圧(Vgl)が印加され、TFT11
f1、TFT11f2はオン状態である。また、プログ
ラム電流Iwについても第1フレームと同様に駆動用T
FT11a1とTFT11a2から供給される。
In the second frame following the first frame, the operation described in FIG. 310 is performed again. That is, the corresponding pixel is selected and the current program is being performed. As in the first frame, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17a, and the TFT 11b and the TFT 1
1c turns on. Program current Iw = 10 (μ) from the TFT 1 a toward the source driver (not shown) 14.
A) flows. Gate signal line 17f1, gate signal line 1
The on-voltage (Vgl) is applied also to 7f2, and the TFT 11
The f1 and the TFT 11f2 are in the ON state. In addition, as for the program current Iw, the driving T is the same as in the first frame.
It is supplied from the FT 11a1 and the TFT 11a2.

【0810】画素が非選択状態になると、第2フレーム
では図311(b)の状態となる。ゲート信号線17a
にオフ電圧(Vgh)が印加され、TFT11b、TF
T11cがオフする。同時に、ゲート信号線17bには
オン電圧(Vgh)が印加され、TFT11dがオンす
る。ゲート信号線17f1にはオフ電圧(Vgh)が印
加されTFT11f1がオフする。また、ゲート信号線
17f2には、オン電圧(Vgl)が印加され、TFT
11f2はオンする。
When the pixel is in the non-selected state, the state shown in FIG. 311 (b) is obtained in the second frame. Gate signal line 17a
OFF voltage (Vgh) is applied to the TFT 11b, TF
T11c turns off. At the same time, the ON voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b, and the TFT 11d is turned on. An off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17f1 to turn off the TFT 11f1. Further, an ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17f2, and the TFT
11f2 turns on.

【0811】したがって、今度は、駆動TFT11a2
からの電流Idd2がEL素子15に流れる。この電流
は、TFT11a1とTFT11a2の特性が同一であ
るならば、Idd1=Iw/2=5(μA)であるとい
う点は第1フレームの説明で説明した。しかし、現実に
はTFT11a1とTFT11a2の特性はずれてい
る。ここでは説明を容易にするため、TFT11a2の
Idd2=7(μA)として説明をする。したがって、
第2フレームではEL素子15は7(μA)の電流で発
光する。
Therefore, this time, the driving TFT 11a2
A current Idd2 from the element flows into the EL element 15. It has been described in the description of the first frame that this current is Idd1 = Iw / 2 = 5 (μA) if the characteristics of the TFT 11a1 and the TFT 11a2 are the same. However, the characteristics of the TFT 11a1 and the TFT 11a2 are actually different from each other. Here, in order to facilitate the description, Idd2 of the TFT 11a2 will be described as 7 (μA). Therefore,
In the second frame, the EL element 15 emits light with a current of 7 (μA).

【0812】以上の状態を表示状態で図示すれは図31
2の状態となる。図312(a)が第1フレームであ
り、図312(b)が第2フレームの状態である。つま
り、第1フレームでは書き込み画素行871が選択さ
れ、ソース信号線18には10(μA)の電流が流れ
る。そして、画素16には電流プログラムされ、TFT
11a1によりEL素子15に3(μA)の電流が流さ
れる。
[0812] FIG. 31 shows the above state in the display state.
It becomes the state of 2. FIG. 312 (a) shows the first frame, and FIG. 312 (b) shows the second frame. That is, the write pixel row 871 is selected in the first frame, and a current of 10 (μA) flows through the source signal line 18. Then, the pixel 16 is current-programmed and the TFT
A current of 3 (μA) is passed through the EL element 15 by 11a1.

【0813】図312(b)に図示するように、第2フ
レームでは書き込み画素行871が選択され、ソース信
号線18には10(μA)の電流が流れる。そして、画
素16には電流プログラムされ、TFT11a2により
EL素子15に7(μA)の電流が流される。したがっ
て、2フレームを平均すれば、(3(μA)+7(μ
A))/2=5(μA)となり、プログラム電流Iw=
10(μA)の1/2の電流がEL素子15に流れる。
As shown in FIG. 312 (b), the write pixel row 871 is selected in the second frame, and a current of 10 (μA) flows through the source signal line 18. Then, a current is programmed in the pixel 16, and a current of 7 (μA) is caused to flow through the EL element 15 by the TFT 11a2. Therefore, if two frames are averaged, (3 (μA) +7 (μ
A)) / 2 = 5 (μA), and the program current Iw =
A half current of 10 (μA) flows through the EL element 15.

【0814】以上の駆動方法によれば、画素に形成され
た2つの駆動用TFT11aの特性のバラツキが発生し
ていてもEL素子15に流れる平均電流にはバラツキは
発生しない。つまり、正確にプログラム電流Iwに比例
(あるいは同一)した電流がEL素子15に流れる。し
たがって、均一画像表示を実現できる。
According to the above driving method, even if the characteristics of the two driving TFTs 11a formed in the pixel vary, the average current flowing through the EL element 15 does not vary. That is, a current accurately proportional to (or the same as) the program current Iw flows through the EL element 15. Therefore, uniform image display can be realized.

【0815】なお、以上の説明では、1フレームごとに
EL素子15に電流を供給する駆動用TFT11a1と
TFT11a2を切り替え、かつ、2フレーム期間は、
同一電流で画素に電流プログラムするとして説明をし
て。しかし、動画などの映像を表示する場合はこの必要
はない。ソース信号線18に印加するプログラム電流は
画素に応じてフレームごとに変化させ、2つの駆動TF
T11a1とTFT11a2とを切り替えて交互にEL
素子15に流すだけでよい。動画ではたえず、画像が変
化している。したがって、動画では表示状態がずれても
視覚的に認識されないからである。なお、静止画では、
画像の動きがないので、ソース信号線18に流れる電流
はフレームごとに変化することはない。つまり、少なく
とも2フレームでは一定である。
In the above description, the driving TFTs 11a1 and 11a2 for supplying the current to the EL element 15 are switched every frame, and the two frame periods are
It is explained that the pixels are current-programmed with the same current. However, this is not necessary when displaying an image such as a moving image. The program current applied to the source signal line 18 is changed for each frame according to the pixel, and two drive TFs are used.
Switching between T11a1 and TFT11a2 to alternate EL
It suffices to flow it to the element 15. In the video, the image is constantly changing. Therefore, even if the display state of the moving image is shifted, it is not visually recognized. In addition, in the still image,
Since there is no image movement, the current flowing through the source signal line 18 does not change for each frame. That is, it is constant in at least two frames.

【0816】なお、以上の場合も、ソース信号線18に
は、実際にELに流す電流の2倍(もちろん、2フレー
ムを平均した電流の2倍である)を流している。したが
って、ソース信号線18に寄生容量404が存在しても
書き込み不足は軽減される。また、図309などの実施
例は、ソース信号線18に流す電流の1/2の電流をE
L素子15に流すという技術的思想である。この技術的
思想は、図87、図88などで説明した、N倍の電流を
ソース信号線18に流し、1/Nの電流をEL素子15
に流す方法と同一である。
In the above case as well, the source signal line 18 is supplied with twice the current actually applied to the EL (which is, of course, twice the average of two frames). Therefore, even if the parasitic capacitance 404 exists on the source signal line 18, insufficient writing is reduced. Also, in the embodiment shown in FIG. 309, the current half of the current flowing through the source signal line 18 is E
The technical idea is to pass the light to the L element 15. The technical idea is that the N times larger current is passed through the source signal line 18 and the 1 / N current is explained in FIG.
It is the same as the method of flowing into.

【0817】なお、1画素に形成される駆動用TFTは
図309のように2個に限定されるものではない。3個
以上でもよい。ただし、これらのTFTを制御するため
には各TFT11aの電流をオンオフ(切断、接続)す
るスイッチングTFTをゲート信号線17が必要とな
る。もちろん、前記ゲート信号線17は1画素行で共通
である。以上の事項は以下の実施例あるいは他の実施例
においても適用されることは言うまでもない。
The number of driving TFTs formed in one pixel is not limited to two as shown in FIG. 309. It may be three or more. However, in order to control these TFTs, the gate signal line 17 needs a switching TFT that turns on / off (disconnects or connects) the current of each TFT 11a. Of course, the gate signal line 17 is common to one pixel row. Needless to say, the above items are also applied to the following embodiments and other embodiments.

【0818】以上の実施例は、図1の画素構成の場合で
あった。図21、図43、図71、図22の画素構成に
おいても、先に説明をした技術的思想は適用される。図
313はその実施例である。
The above embodiment is the case of the pixel configuration of FIG. The technical ideas described above are applied to the pixel configurations of FIGS. 21, 43, 71, and 22. FIG. 313 is an example thereof.

【0819】動作は図308と同様である。第1フレー
ムで、ソースドライバ14にプログラム電流Iw=10
(μA)を吸い込む。この電流Iwは、駆動TFT11
aから供給する。第1フレームでは、第1番目の駆動T
FT11b1を選択し、この電流をEL素子15に流
す。EL素子15は、この第1の駆動TFT11b1の
電流に応じて発光する。
The operation is similar to that of FIG. 308. In the first frame, the source driver 14 has a program current Iw = 10.
Inhale (μA). This current Iw is the driving TFT 11
Supply from a. In the first frame, the first drive T
FT11b1 is selected and this current is passed through the EL element 15. The EL element 15 emits light according to the current of the first drive TFT 11b1.

【0820】第2フレームでも第1フレームと同様に、
ソースドライバ14にプログラム電流Iw=10(μ
A)を吸い込む。第2フレームでは、第2番目の駆動T
FT11b2を選択し、この電流をEL素子15に流
す。EL素子15は、この第2の駆動TFT11b2の
電流に応じて発光する。したがって、2フレーム期間を
平均すれば、EL素子15は第1の駆動TFT11b1
と第2の駆動TFT11b2が流す平均電流に応じた輝
度で発光することになる。プログラム電流Iw=10
(μA)であれば、10/2=5(μA)の輝度で発光
する。したがって、2つの駆動TFT11b1、TFT
11b2の特性がずれていても、同一プログラム電流I
wを流して、カレントミラーの関係を保ってTFTを電
流プログラムする。かつ、この2つのFT11bを2フ
レーム期間で1回ずつEL素子15に電流を流すのであ
るから、2フレーム期間では正確にプログラムされた電
流をEL素子に流すことができる。
In the second frame, as in the first frame,
Program current Iw = 10 (μ
Inhale A). In the second frame, the second drive T
FT11b2 is selected and this current is passed through the EL element 15. The EL element 15 emits light according to the current of the second drive TFT 11b2. Therefore, if the two frame periods are averaged, the EL element 15 becomes the first drive TFT 11b1.
Thus, the second drive TFT 11b2 emits light with a brightness corresponding to the average current. Program current Iw = 10
If it is (μA), light is emitted with a brightness of 10/2 = 5 (μA). Therefore, the two driving TFTs 11b1 and TFTs
Even if the characteristics of 11b2 are deviated, the same program current I
By flowing w, the TFT is current-programmed while maintaining the relationship of the current mirror. In addition, since the current is passed through the EL element 15 once in each of the two FTs 11b in the two-frame period, the correctly programmed current can be passed through the EL element in the two-frame period.

【0821】図314は図313において、該当画素が
選択され、電流プログラムが行われている状態である。
ゲート信号線17aにオン電圧(Vgl)が印加され、
TFT11c、TFT11dがオンする。TFT11a
からソースドライバ(図示せず)14に向かってプログ
ラム電流Iwが流れる。ゲート信号線17f1、ゲート
信号線17f2にもオフ電圧(Vgh)が印加され、T
FT11f1、TFT11f2はオフ状態である(な
お、カレントミラーの場合は、ゲート信号線17f1、
ゲート信号線17f2にもオン電圧(Vgl)を印加
し、TFT11f1、TFT11f2をオン状態として
もよい)。プログラム電流Iwは駆動用TFT11aか
ら供給される。
FIG. 314 shows a state in which the corresponding pixel is selected and current programming is being performed in FIG. 313.
An on-voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17a,
The TFT 11c and the TFT 11d are turned on. TFT11a
A program current Iw flows from the source driver 14 to the source driver (not shown). The off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17f1 and the gate signal line 17f2 as well.
The FT 11f1 and the TFT 11f2 are in the off state (note that in the case of a current mirror, the gate signal line 17f1,
The ON voltage (Vgl) may be applied to the gate signal line 17f2 to turn on the TFTs 11f1 and 11f2). The program current Iw is supplied from the driving TFT 11a.

【0822】本来、TFT11b1とTFT11b2は
隣接して形成されているため、ほとんど特性ずれがない
はずである。しかし、低温ポリシリコン技術で形成した
場合なとは、Vt電圧などが異なる。したがって、駆動
TFT11b1、TFT11b2のゲート(G)端子を
共通にして、このゲート(G)端子に同一電圧を印加し
ても駆動TFT11b1とTFT11b2がTFT11
aと構成するカレント倍率が異なり、EL素子15に流
す電流が異なる。ここでは説明を容易にするため、TF
T11b1とTFT11b2とは、3:7の差があり、
TFT11aとTFT11bとのカレント倍率を2:1
として説明をする。つまり、プログラム電流Iw=10
(μA)とすると、TFT11b1は3(μA)の電流
を供給し、TFT11b2は7(μA)の電流を供給す
るとする。つまり、プログラム電流Iw=Ib1+Ib
2=3(μA)+7(μA)=10(μA)である。
Originally, since the TFT 11b1 and the TFT 11b2 are formed adjacent to each other, there should be almost no characteristic deviation. However, the Vt voltage and the like are different from those formed by the low temperature polysilicon technology. Therefore, even if the gate (G) terminals of the driving TFT 11b1 and the TFT 11b2 are made common and the same voltage is applied to the gate (G) terminal, the driving TFT 11b1 and the TFT 11b2 are not connected to each other.
The current multiplication factor is different from that of a, and the current flowing through the EL element 15 is different. Here, for ease of explanation, TF
There is a 3: 7 difference between T11b1 and TFT11b2,
The current ratio between the TFT 11a and the TFT 11b is 2: 1.
Will be explained. That is, the program current Iw = 10
(ΜA), the TFT 11b1 supplies a current of 3 (μA), and the TFT 11b2 supplies a current of 7 (μA). That is, the program current Iw = Ib1 + Ib
2 = 3 (μA) +7 (μA) = 10 (μA).

【0823】画素が非選択状態になると、図315
(a)の状態(第1フレーム)となる。ゲート信号線1
7aにオフ電圧(Vgh)が印加され、TFT11c、
TFT11dがオフする。同時に、ゲート信号線17f
1にはオン電圧(Vgl)が印加されTFT11f1が
オンする。また、ゲート信号線17f2には、オフ電圧
(Vgh)が印加され、TFT11f2はオフ状態であ
る。
When the pixel is in the non-selected state, the state shown in FIG.
The state (a) (first frame) is obtained. Gate signal line 1
The off voltage (Vgh) is applied to 7a, the TFT 11c,
The TFT 11d turns off. At the same time, the gate signal line 17f
An on-voltage (Vgl) is applied to 1 to turn on the TFT 11f1. Further, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17f2, and the TFT 11f2 is in the off state.

【0824】したがって、駆動TFT11b1からの電
流Idd1がEL素子15に流れる。この電流は、TF
T11b1とTFT11b2の特性が同一であるなら
ば、Idd1=Iw/2=5(μA)である。しかし、
現実にはTFT11b1とTFT11b2の特性はずれ
ている。ここでは説明を容易にするため、TFT11b
1のIdd1=3(μA)として説明をする。したがっ
て、第1フレームではEL素子15は3(μA)の電流
で発光する。
Therefore, the current Idd1 from the drive TFT 11b1 flows through the EL element 15. This current is TF
If the characteristics of T11b1 and TFT 11b2 are the same, Idd1 = Iw / 2 = 5 (μA). But,
In reality, the characteristics of the TFT 11b1 and the TFT 11b2 are deviated. Here, for ease of explanation, the TFT 11b is
1 will be described as Idd1 = 3 (μA). Therefore, in the first frame, the EL element 15 emits light with a current of 3 (μA).

【0825】第1フレームの次の第2フレームでは、再
度、図314で説明した動作が行われる。つまり、該当
画素が選択され、電流プログラムが行われている状態で
ある。第1フレームと同様に、ゲート信号線17aにオ
ン電圧(Vgl)が印加され、TFT11c、TFT1
1dがオンする。TFT11aからソースドライバ(図
示せず)14に向かってプログラム電流Iw=10(μ
A)が流れる。
In the second frame following the first frame, the operation described in FIG. 314 is performed again. That is, the corresponding pixel is selected and the current program is being performed. Similarly to the first frame, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17a, and the TFT 11c and the TFT 1
1d turns on. A program current Iw = 10 (μ) from the TFT 11a toward the source driver (not shown) 14.
A) flows.

【0826】画素が非選択状態になると、第2フレーム
では図315(b)の状態となる。ゲート信号線17a
にオフ電圧(Vgh)が印加され、TFT11c、TF
T11dがオフする。ゲート信号線17f1にはオフ電
圧(Vgh)が印加されTFT11f1がオフする。ま
た、ゲート信号線17f2には、オン電圧(Vgl)が
印加され、TFT11f2はオンする。
When the pixel is in the non-selected state, the state shown in FIG. 315 (b) is obtained in the second frame. Gate signal line 17a
OFF voltage (Vgh) is applied to the TFT 11c, TF
T11d turns off. An off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17f1 to turn off the TFT 11f1. Further, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17f2, and the TFT 11f2 is turned on.

【0827】したがって、今度は、駆動TFT11b2
からの電流Idd2がEL素子15に流れる。この電流
は、TFT11b1とTFT11b2の特性が同一であ
るならば、Idd1=Iw/2=5(μA)であるとい
う点は第1フレームの説明で説明した。しかし、現実に
はTFT11b1とTFT11b2の特性はずれてい
る。ここでは説明を容易にするため、TFT11b2の
Idd2=7(μA)として説明をする。したがって、
第2フレームではEL素子15は7(μA)の電流で発
光する。
Therefore, this time, the driving TFT 11b2 is
A current Idd2 from the element flows into the EL element 15. It has been described in the description of the first frame that this current is Idd1 = Iw / 2 = 5 (μA) if the characteristics of the TFT 11b1 and the TFT 11b2 are the same. However, the characteristics of the TFT 11b1 and the TFT 11b2 are actually different from each other. Here, in order to facilitate the description, Idd2 of the TFT 11b2 will be described as 7 (μA). Therefore,
In the second frame, the EL element 15 emits light with a current of 7 (μA).

【0828】以上の状態を表示状態で図示すれば、図3
12の状態となる。図312(a)が第1フレームであ
り、図312(b)が第2フレームの状態である。つま
り、第1フレームでは書き込み画素行871が選択さ
れ、ソース信号線18には10(μA)の電流が流れ
る。そして、画素16には電流プログラムされ、TFT
11a1によりEL素子15に3(μA)の電流が流さ
れる。
The above-mentioned state is shown in FIG.
There are 12 states. FIG. 312 (a) shows the first frame, and FIG. 312 (b) shows the second frame. That is, the write pixel row 871 is selected in the first frame, and a current of 10 (μA) flows through the source signal line 18. Then, the pixel 16 is current-programmed and the TFT
A current of 3 (μA) is passed through the EL element 15 by 11a1.

【0829】図312(b)に図示するように、第2フ
レームでは書き込み画素行871が選択され、ソース信
号線18には10(μA)の電流が流れる。そして、画
素16には電流プログラムされ、TFT11a2により
EL素子15に7(μA)の電流が流される。したがっ
て、2フレームを平均すれば、(3(μA)+7(μ
A))/2=5(μA)となり、プログラム電流Iw=
10(μA)の1/2の電流がEL素子15に流れる。
As shown in FIG. 312 (b), the write pixel row 871 is selected in the second frame, and a current of 10 (μA) flows through the source signal line 18. Then, a current is programmed in the pixel 16, and a current of 7 (μA) is caused to flow through the EL element 15 by the TFT 11a2. Therefore, if two frames are averaged, (3 (μA) +7 (μ
A)) / 2 = 5 (μA), and the program current Iw =
A half current of 10 (μA) flows through the EL element 15.

【0830】以上の駆動方法によれば、画素に形成され
た2つの駆動用TFT11aの特性のバラツキが発生し
ていてもEL素子15に流れる平均電流にはバラツキは
発生しない。つまり、正確にプログラム電流Iwに比例
(あるいは同一)した電流がEL素子15に流れる。し
たがって、均一画像表示を実現できる。
According to the above driving method, even if the characteristics of the two driving TFTs 11a formed in the pixel vary, the average current flowing through the EL element 15 does not vary. That is, a current accurately proportional to (or the same as) the program current Iw flows through the EL element 15. Therefore, uniform image display can be realized.

【0831】なお、図313では、プログラム電流Iw
を供給するTFTをTFT11aとし、1画素1個と
し、EL素子15に電流を流すTFTをTFT1b1、
TFT11b2の2個としている。また、TFT11b
1とTFT1b2とをフレームごとに交互に切り替えて
EL素子15に流す。しかし、本発明はこれに限定する
ものではない。たとえば、プログラム電流Iwを供給す
るTFTをTFT11a1とTFT11a2の1画素2
個とし、EL素子15に電流を流すTFTをTFT1b
の1個としてもよい。カレントミラーの関係にあるから
である。
Note that in FIG. 313, the program current Iw
The TFT that supplies the electric current is TFT 11a, and one pixel is one, and the TFT that supplies a current to the EL element 15 is the TFT 1b1.
There are two TFTs 11b2. In addition, the TFT 11b
1 and the TFT 1b2 are alternately switched for each frame to flow to the EL element 15. However, the present invention is not limited to this. For example, a TFT that supplies the program current Iw is a pixel 2 of the TFT 11a1 and the TFT 11a2.
The individual TFTs are used as TFTs 1b
It may be one. This is because there is a current mirror relationship.

【0832】この場合も動作は図308と類似である。
第1フレームで、ソースドライバ14にプログラム電流
Iw=10(μA)を吸い込む。この電流Iwは、2つ
のTFT11a1、TFT11a2とから供給する。第
1フレームでは、第1番目のTFT11a1を選択し、
このTFT11a1とTFT1bとでカレントミラーの
関係を保ち、TFT11bの電流をEL素子15に流
す。EL素子15は、このTFT11bの電流に応じて
発光する。
In this case also, the operation is similar to that in FIG.
In the first frame, the source driver 14 draws the program current Iw = 10 (μA). This current Iw is supplied from the two TFTs 11a1 and 11a2. In the first frame, the first TFT 11a1 is selected,
The TFT 11a1 and the TFT 1b maintain a current mirror relationship, and the current of the TFT 11b is passed through the EL element 15. The EL element 15 emits light according to the current of the TFT 11b.

【0833】第2フレームで、ソースドライバ14にプ
ログラム電流Iw=10(μA)を吸い込む。この電流
Iwは、2つのTFT11a1、TFT11a2とから
供給する。第2フレームでは、第2番目のTFT11a
2を選択し、このTFT11a2とTFT1bとでカレ
ントミラーの関係を保ち、TFT11bの電流をEL素
子15に流す。EL素子15は、このTFT11bの電
流に応じて発光する。
In the second frame, the program current Iw = 10 (μA) is drawn into the source driver 14. This current Iw is supplied from the two TFTs 11a1 and 11a2. In the second frame, the second TFT 11a
2 is selected, the current mirror relationship is maintained between the TFT 11a2 and the TFT 1b, and the current of the TFT 11b is passed through the EL element 15. The EL element 15 emits light according to the current of the TFT 11b.

【0834】以上の動作でEL素子15には2フレーム
を平均すると(2フレームトータルでは)、バラツキの
ない電流(正確にプログラム電流Iwに対応した電流)
をながすことができる。
With the above operation, when averaging two frames in the EL element 15 (total of two frames), there is no variation in current (correctly corresponding to the program current Iw).
You can

【0835】以上の実施例は、画素構成が電流プログラ
ムの場合であるが、図316に図示するように電圧プロ
グラムの画素構成でも、複数の駆動TFTの特性バラツ
キを吸収し面内均一表示を実現できることは言うまでも
ない。EL素子15に電流を流す駆動用TFT11a1
と電流をオンオフするスイッチングTFT11f1が形
成されている。また、EL素子15に電流を流す駆動用
TFT11a2と電流をオンオフするスイッチングTF
T11f2が形成されている。
In the above-mentioned embodiment, the pixel configuration is the current programming, but as shown in FIG. 316, the voltage programming pixel configuration also absorbs the characteristic variations of a plurality of driving TFTs and realizes the in-plane uniform display. It goes without saying that you can do it. Driving TFT 11a1 for passing a current through the EL element 15
A switching TFT 11f1 for turning on and off the current is formed. Further, the driving TFT 11a2 for supplying a current to the EL element 15 and the switching TF for turning on / off the current.
T11f2 is formed.

【0836】動作は図308などを電流でプログラムす
ることと電圧でプログラムすることの差異を除けばほぼ
同様である。図317に図示するように第1フレーム
で、ソースドライバ14からプログラム電圧が出力さ
れ、コンデンサ19に電圧がプログラムされる。第1フ
レームでは、図318(a)に図示するように第1番目
の駆動TFT11b1を選択し、この電流をEL素子1
5に流す。EL素子15は、この第1の駆動TFT11
b1の電流に応じて発光する。
The operation is almost the same except for programming in FIG. 308 with current and voltage. As illustrated in FIG. 317, in the first frame, the source driver 14 outputs the program voltage, and the capacitor 19 is programmed with the voltage. In the first frame, as shown in FIG. 318 (a), the first drive TFT 11b1 is selected, and this current is supplied to the EL element 1
Flush to 5. The EL element 15 is the first drive TFT 11
It emits light according to the current of b1.

【0837】第2フレームでも第1フレームと同様に、
ソースドライバ14からプログラム電圧が出力され、コ
ンデンサ19に電圧が保持される。第2フレームでは、
第2番目の駆動TFT11b2を選択し、この電流をE
L素子15に流す。EL素子15は、この第2の駆動T
FT11b2の電流に応じて発光する。したがって、E
L素子15は2つの駆動TFT11aの出力する電流を
平均した明るさで点灯する。
In the second frame, as in the first frame,
The program voltage is output from the source driver 14, and the voltage is held in the capacitor 19. In the second frame,
Select the second drive TFT 11b2 and set this current to E
Flow to L element 15. The EL element 15 uses the second drive T
It emits light according to the current of the FT 11b2. Therefore, E
The L element 15 lights up with the brightness obtained by averaging the currents output from the two driving TFTs 11a.

【0838】図68で図示した電圧プログラムの画素構
成でも同様である(図319を参照のこと)。EL素子
15に電流を流す駆動用TFT11a1と電流をオンオ
フするスイッチングTFT11f1が形成されている。
また、EL素子15に電流を流す駆動用TFT11a2
と電流をオンオフするスイッチングTFT11f2が形
成されている。動作も図316と同様であるので説明を
省略する。図320に図示するように、図309に逆バ
イアス電圧印加用のTFT11gを付加してもよいこと
は言うまでもない。
The same applies to the pixel configuration of the voltage program shown in FIG. 68 (see FIG. 319). A driving TFT 11a1 for supplying a current to the EL element 15 and a switching TFT 11f1 for turning on / off the current are formed.
In addition, the driving TFT 11a2 that allows a current to flow through the EL element 15
A switching TFT 11f2 for turning on and off the current is formed. The operation is also similar to that of FIG. 316, and thus the description is omitted. As shown in FIG. 320, needless to say, a TFT 11g for applying a reverse bias voltage may be added to FIG. 309.

【0839】図1、図21、図43、図71、図40、
図69、図70、図71などの電流プログラム方式で共
通の事項であるが、電流プログラム方式で黒表示が困難
という問題点がある(もちろん図87、88などの本発
明を実施すれば大幅に改善できる。しかし、されに、以
下の実施例と組み合わせることは有効である。もちろ
ん、図87、88の実施例と組合さず、以下の実施例を
単独で実施しても良いことはいうまでもない)。たとえ
ば、EL素子15に流す白ピーク電流が2μAであって
も、64階調表示では1階調目は2μA/64≒30n
Aである。この微小な電流でソース信号線18などの寄
生容量(浮遊容量)404を1H期間に充放電すること
はなかなか困難である。なお、画素16はマトリックス
状に形成または配置されているが、図面では説明を容易
にするために、1画素のみを図示している。
FIG. 1, FIG. 21, FIG. 43, FIG. 71, FIG.
69, 70, 71 and the like are common to the current program method, but there is a problem that black display is difficult in the current program method (of course, if the present invention shown in FIGS. However, it is effective to combine the following embodiments with each other, and it goes without saying that the following embodiments may be implemented independently without being combined with the embodiments of FIGS. Nor). For example, even if the white peak current flowing through the EL element 15 is 2 μA, in the case of 64-gradation display, the first gradation is 2 μA / 64≈30 n.
It is A. It is quite difficult to charge / discharge the parasitic capacitance (stray capacitance) 404 of the source signal line 18 or the like with this minute current during the 1H period. Although the pixels 16 are formed or arranged in a matrix, only one pixel is shown in the drawings for ease of explanation.

【0840】この課題に対応するため、本発明ではソー
ス信号線18に黒レベルの電圧(電流)を書き込むため
の電圧源401を形成または配置している。具体的には
電圧源401とはDCDCコンバータで所定電圧を発生
させ、この電圧をアナログスイッチなどから構成される
電源切り替え手段403で印加できるように構成してい
る。
To address this problem, in the present invention, the voltage source 401 for writing the black level voltage (current) to the source signal line 18 is formed or arranged. Specifically, the voltage source 401 is configured so that a predetermined voltage is generated by a DC / DC converter, and this voltage can be applied by the power source switching means 403 including an analog switch or the like.

【0841】具体的なソース信号線18に印加する信号
波形を図57に示す。電流プログラムを行う1H期間の
最初のt2の期間に駆動用TFT11b(図1などでは
TFT11a)をオフまたはほぼ黒表示にする電圧(V
b)をソース信号線18に印加する。この電圧は電圧源
401で発生し、切り替え手段403によりソース信号
線18に印加する。
FIG. 57 shows a concrete signal waveform applied to the source signal line 18. The voltage (V which turns off the driving TFT 11b (TFT 11a in FIG. 1 etc.) or displays almost black during the first t2 period of the 1H period in which current programming is performed.
b) is applied to the source signal line 18. This voltage is generated by the voltage source 401 and applied to the source signal line 18 by the switching means 403.

【0842】プログラム期間ではTFT11c、11d
がオン状態であるから、ソース信号線18に印加された
電圧Vbはコンデンサ19の端子電圧、つまり、TFT
11bのゲート端子電圧となる。したがって、1H期間
の最初に画素は黒表示(非点灯状態)となる。
[0842] In the program period, the TFTs 11c and 11d are
Is on, the voltage Vb applied to the source signal line 18 is the terminal voltage of the capacitor 19, that is, the TFT.
It becomes the gate terminal voltage of 11b. Therefore, the pixel is in black display (non-lighting state) at the beginning of the 1H period.

【0843】本来、表示する画像が黒表示では、そのま
ま、コンデンサ19の端子電圧が保持される。実際に表
示される画像が白表示ではVb電圧印加後に白表示の電
圧Vw(なお、電流プログラムの場合はIwと表現すべ
きである)が印加されて、この電圧(電流)がコンデン
サ19に保持されて1H期間が終了する。なお、ここで
は説明を容易にするため、実際に表示される画像が白表
示であるから白表示の電圧Vw(電流Iw)を印加する
とした。しかし、当然のことながら、自然画の場合は、
コンデンサ19に保持される電圧はVbからVw間の電
圧(電流)である。
Originally, when the displayed image is black, the terminal voltage of the capacitor 19 is maintained as it is. When the image to be actually displayed is white display, the voltage Vw for white display (which should be expressed as Iw in the case of current programming) is applied after the Vb voltage is applied, and this voltage (current) is held in the capacitor 19. Then, the 1H period ends. Here, for ease of explanation, it is assumed that the voltage Vw (current Iw) for white display is applied because the image actually displayed is white display. But of course, in the case of natural paintings,
The voltage held in the capacitor 19 is a voltage (current) between Vb and Vw.

【0844】図57に図示するようにソース信号線18
に信号を印加し、また、ゲート信号線17a,17bを
駆動することにより、良好な黒表示を実現でき、また、
図31などの画像表示を実施できる。
As shown in FIG. 57, the source signal line 18
A good black display can be realized by applying a signal to the gate line and driving the gate signal lines 17a and 17b.
An image display such as FIG. 31 can be performed.

【0845】図1の画素構成でも図57の信号波形を印
加することにより良好な黒表示を実現できる。電流プロ
グラムを行う1H期間の最初のt2の期間に駆動用TF
T11aをオフまたはほぼ黒表示にする電圧(Vb)を
ソース信号線18に印加する。この電圧は電圧源401
で発生し、切り替え手段403によりソース信号線18
に印加する。
Even with the pixel configuration of FIG. 1, good black display can be realized by applying the signal waveform of FIG. Driving TF in the first t2 period of the 1H period in which current programming is performed.
A voltage (Vb) for turning off T11a or displaying almost black is applied to the source signal line 18. This voltage is the voltage source 401
And the source signal line 18 is generated by the switching means 403.
Apply to.

【0846】プログラム期間ではTFT11b、11c
がオン状態であるから、ソース信号線18に印加された
電圧Vbはコンデンサ19の端子電圧、つまり、TFT
11aのゲート端子電圧となる。したがって、1H期間
の最初に画素は黒表示(非点灯状態)となる。
[0847] In the program period, the TFTs 11b and 11c are
Is on, the voltage Vb applied to the source signal line 18 is the terminal voltage of the capacitor 19, that is, the TFT.
It becomes the gate terminal voltage of 11a. Therefore, the pixel is in black display (non-lighting state) at the beginning of the 1H period.

【0847】先に説明したように表示する画像が黒表示
では、そのまま、コンデンサ19の端子電圧が保持され
る。実際に表示される画像が白表示ではVb電圧印加後
に白表示の電圧Vw(なお、電流プログラムの場合はI
wと表現すべきである)が印加されて、この電圧(電
流)がコンデンサ19に保持されて1H期間が終了す
る。
As described above, when the image displayed is black, the terminal voltage of the capacitor 19 is maintained as it is. When the image actually displayed is white display, the voltage Vb for white display is applied after the Vb voltage is applied (in the case of the current program, I
(which should be expressed as w) is applied, this voltage (current) is held in the capacitor 19, and the 1H period ends.

【0848】図40などで図示した電圧源401(プリ
チャージ回路)は低温ポリシリコン技術などで、基板4
9上に直接形成してもよいことは言うまでもない。な
お、EL素子15はR、G、Bで素子構成、材料が異な
るので光の発生が生じる電圧(電流)が異なる(立ち上
がり電圧(電流))場合が多い。この特性に対応するた
め、R、G、Bでプリチャージ電圧を個別に設定できる
ように構成することが好ましい。少なくとも3原色のう
ち1色は変化できるようにすることが好ましい。
The voltage source 401 (pre-charge circuit) shown in FIG. 40 and the like is formed on the substrate 4 by low temperature polysilicon technology or the like.
Needless to say, it may be directly formed on the substrate 9. Since the EL element 15 has different element configurations and materials for R, G, and B, the voltage (current) at which light is generated is often different (rising voltage (current)). In order to deal with this characteristic, it is preferable that the precharge voltage can be set individually for R, G, and B. It is preferable that at least one of the three primary colors can be changed.

【0849】なお、Vbを印加するプリチャージ時間t
2は、1μ秒以上にする必要がある。また、Vbを印加
するプリチャージ時間t2は1Hの1%以上10%以下
にすることが好ましい。さらに好ましくは1Hの2%以
上8%以下にすることが好ましい。
The precharge time t for applying Vb is
2 must be 1 microsecond or more. The precharge time t2 for applying Vb is preferably 1% or more and 10% or less of 1H. More preferably, it is 2% or more and 8% or less of 1H.

【0850】また、表示画像21の内容(明るさ、精細
度など)で、プリチャージする電圧を変化できるように
構成しておくことが好ましい。たとえば、ユーザーが調
整スイッチを押すことにより、あるいは調整ボリウムを
回すことにより、この変化を検出しプリチャ−ジ電圧
(電流)の値を変更する。表示する画像の内容、データ
により自動的に変化させるように構成してもよい。たと
えば、ホトセンサで外部の外光の強さを検出し、検出さ
れた値で、プリチャージ(ディスチャージ)電圧(電
流)を調整する。他に、画像の種類(パソコン画像、昼
の画面、星空など)に応じて、プリチャージ(ディスチ
ャージ)電圧(電流)を調整する。調整は画像の平均明
るさ、最大輝度、最小輝度、動画、静止画、輝度分布を
考慮して決定する。
Further, it is preferable that the voltage to be precharged can be changed depending on the content (brightness, definition, etc.) of the display image 21. For example, when the user pushes the adjustment switch or turns the adjustment volume, this change is detected and the value of the precharge voltage (current) is changed. You may comprise so that it may change automatically according to the content and data of the image to display. For example, the intensity of external light is detected by a photo sensor, and the precharge (discharge) voltage (current) is adjusted by the detected value. In addition, the precharge (discharge) voltage (current) is adjusted according to the type of image (computer image, daytime screen, starry sky, etc.). The adjustment is determined in consideration of the average brightness of the image, the maximum brightness, the minimum brightness, the moving image, the still image, and the brightness distribution.

【0851】図40などではプリチャージ回路などを簡
易に説明した。さらに、図122などを用いてさらに詳
しく説明する。なお、ディスチャージとプリチャージは
単に電位の印加方向であるので、以降は、ディスチャー
ジとプリチャージを同義としてプリチャージとして説明
する。
[0851] The precharge circuit and the like have been briefly described with reference to FIG. Further, a more detailed description will be given with reference to FIG. Since the discharge and the precharge are simply in the direction of applying the potential, hereinafter, the discharge and the precharge are synonymously described as the precharge.

【0852】図122は電流駆動と電圧駆動とを組み合
わせた回路構成である。切り替え回路1223は表示領
域のあるソース信号線18に接続されている。切り替え
回路1223はアナログスイッチから構成される。切り
替え回路1223のa端子に電圧が印加され(プリチャ
ージ電圧)、b端子に画素にプログラムするプログラム
電流が印加される。
FIG. 122 shows a circuit configuration in which current driving and voltage driving are combined. The switching circuit 1223 is connected to the source signal line 18 having a display area. The switching circuit 1223 is composed of an analog switch. A voltage is applied to the terminal a of the switching circuit 1223 (precharge voltage), and a program current for programming the pixel is applied to the terminal b.

【0853】電流出力回路1222は8ビット(256
階調)のIDATAが入力され、このIDATAがDA
コンバータ1226でDA変換されてアナログ電圧とな
る。このアナログ電圧がバイポーラトランジスタ(もし
くはFET)1227のベース端子に印加され、オペア
ンプ1224bと抵抗1228の作用で、電流出力に変
換される。なお、トランジスタ1227とオペアンプ1
224などによる電圧−電流変換回路は一般的なもの
で、当該技術分野の技術者のとって公知であるのでこれ
以上の説明は要さないであろう。
The current output circuit 1222 has 8 bits (256
Gradation) IDATA is input, and this IDATA is DA
DA conversion is performed by the converter 1226 to obtain an analog voltage. This analog voltage is applied to the base terminal of the bipolar transistor (or FET) 1227, and is converted into a current output by the action of the operational amplifier 1224b and the resistor 1228. The transistor 1227 and the operational amplifier 1
The voltage-to-current conversion circuit according to 224 or the like is general and well known to those skilled in the art, so that further explanation will be unnecessary.

【0854】一方、電圧出力回路1221はボリウムV
R1225とオペアンプ1224aによるバッファ回路
から構成される。ボリウム1225は全ソース信号線に
共通のものである。このボリウム1225を調整するこ
とにより、プリチャージ電圧Vbが決定される。
On the other hand, the voltage output circuit 1221 has a volume V
It is composed of a buffer circuit including an R1225 and an operational amplifier 1224a. The volume 1225 is common to all source signal lines. By adjusting the volume 1225, the precharge voltage Vb is determined.

【0855】1水平走査期間(1H)の最初のプリチャ
ージ電圧Vbが印加される。この時、すべてのソース信
号線に接続された切り替え回路1223は端子aと接続
されている。したがって、すべてのソース信号線18は
プリチャージ電圧Vbに設定される。その後、切り替え
回路1223は端子bに切り替えられ、画像に対応した
電流データ(256階調)がソース信号線18に印加さ
れる。この電流データが各画素16に書き込まれ、各画
素のEL素子15に電流が流れて発光する。
The first precharge voltage Vb in one horizontal scanning period (1H) is applied. At this time, the switching circuit 1223 connected to all the source signal lines is connected to the terminal a. Therefore, all the source signal lines 18 are set to the precharge voltage Vb. After that, the switching circuit 1223 is switched to the terminal b, and the current data (256 gradations) corresponding to the image is applied to the source signal line 18. This current data is written in each pixel 16, and a current flows through the EL element 15 of each pixel to emit light.

【0856】図122では、プリチャージ電圧Vbは固
定値であった。図123は、プリチャ−ジ電圧を256
値(8ビット)とれるようにした回路構成図である。図
123において、電圧出力回路1221は、8ビットの
VDATAが入力されDAコンバータ1226aでアナ
ログ電圧に変換される。変換されたアナログ電圧はオペ
アンプ1224cの−端子に入力され、VR1225の
基準電圧に対して所定の電圧に調整できるように構成さ
れている。
In FIG. 122, the precharge voltage Vb has a fixed value. FIG. 123 shows a precharge voltage of 256.
FIG. 7 is a circuit configuration diagram that allows a value (8 bits) to be taken. In FIG. 123, the voltage output circuit 1221 receives 8-bit VDATA and is converted into an analog voltage by the DA converter 1226a. The converted analog voltage is input to the-terminal of the operational amplifier 1224c, and is configured so that it can be adjusted to a predetermined voltage with respect to the reference voltage of the VR1225.

【0857】オペアンプ1224cの出力はバッファア
ンプ1224aを介して、切り替え回路1223aのa
端子に印加される。一方、切り替え回路1223aのb
端子には電流出力が印加されている。
The output of the operational amplifier 1224c is passed through the buffer amplifier 1224a to a of the switching circuit 1223a.
Applied to the terminals. On the other hand, b of the switching circuit 1223a
Current output is applied to the terminals.

【0858】VDATAはIDATAに対応する電圧で
ある。1水平走査期間(1H)の最初の1〜10μsec
(1Hの1/100以上1/5以下の期間であることが
好ましい)の期間にVDATAに対応したプリチャージ
電圧Vbが印加される。この時、すべてのソース信号線
に接続された切り替え回路1223は端子aと接続され
ている。したがって、各ソース信号線18はVDATA
に対応するプリチャージ電圧Vbに設定される。図12
2との差異は、各ソース信号線にプリチャージ電圧Vb
を設定できることである。つまり、各ソース信号線18
にそれぞれIDATAをDA変換するDAコンバータ
と、VDATAをDA変換するDAコンバータを具備し
ている。ただし、各ソース信号線18にそれぞれIDA
TAをDA変換するDAコンバータと、VDATAをD
A変換するDAコンバータを具備することに限定するも
のではない。たとえば、DA回路は1つでも、その出力
を各ソース信号線でサンプルホールドすれば実現できる
からである。
VDATA is a voltage corresponding to IDATA. 1 to 10 μsec at the beginning of one horizontal scanning period (1H)
A precharge voltage Vb corresponding to VDATA is applied during a period (preferably 1/100 to 1/5 of 1H). At this time, the switching circuit 1223 connected to all the source signal lines is connected to the terminal a. Therefore, each source signal line 18 is connected to VDATA.
Is set to a precharge voltage Vb. 12
The difference from 2 is that the precharge voltage Vb is applied to each source signal line.
Can be set. That is, each source signal line 18
In addition, a DA converter for converting IDATA to DA and a DA converter for converting VDATA to DA are provided. However, each source signal line 18 has an IDA
DA converter that converts TA to DA and VDATA to D
The present invention is not limited to having a DA converter for A conversion. This is because, for example, even one DA circuit can be realized by sampling and holding the output of each source signal line.

【0859】VDATAを変換した電圧を1Hの最初の
期間に印加するが、この電圧値は、以降に印加するID
ATAに対応した電流値によるソース信号線電位とほぼ
等しくなる。したがって、VDATAの電圧を印加する
ことによりソース信号線の電位はほぼ目標値となり、I
DATAでわずかに目標値に補正するだけとなる。以上
のように構成することにより、ソース信号線18への電
流書き込み不足はなくなる。
The voltage converted from VDATA is applied in the first period of 1H. This voltage value is the ID applied later.
It becomes almost equal to the source signal line potential due to the current value corresponding to ATA. Therefore, by applying the voltage of VDATA, the potential of the source signal line becomes almost the target value, and I
Only the target value is corrected with DATA. With the above configuration, insufficient current writing to the source signal line 18 is eliminated.

【0860】なお、図124(a)において、切り替え
回路1223aはa端子とb端子とを切り替えるとした
がこれに限定するものではない。たとえば、図124
(b)ように、電圧出力回路1221の出力をa端子に
印加し、電流出力回路1222の出力はソース信号線1
8にたえず接続状態に構成してもよい。
In FIG. 124 (a), the switching circuit 1223a switches between the a terminal and the b terminal, but the invention is not limited to this. For example, FIG.
As shown in (b), the output of the voltage output circuit 1221 is applied to the a terminal, and the output of the current output circuit 1222 is output from the source signal line 1.
8 may be always connected.

【0861】DAコンバータ1226をリファレンス電
圧に対応して出力変化できるものとすることによりさら
に回路構成の柔軟性が向上する。このリファレンス電圧
に対応して出力変化できるとは、たとえば、リファレン
ス電圧Vが2.54(V)の時、0.01(V)間隔で
出力を変化できるものをいう(8ビット、256階調の
DAコンバータを採用した時)。リファレンス電圧Vが
5.08(V)では0.02(V)間隔で出力を変化で
きる。
By providing the DA converter 1226 capable of changing the output in accordance with the reference voltage, the flexibility of the circuit configuration is further improved. The output changeable according to the reference voltage means, for example, that the output can be changed at intervals of 0.01 (V) when the reference voltage V is 2.54 (V) (8 bits, 256 gradations). When using the DA converter of). When the reference voltage V is 5.08 (V), the output can be changed at intervals of 0.02 (V).

【0862】つまり、リファレンス電圧を変更すること
により、瞬時にDAコンバータの出力をリファレンス電
圧に比例して変更することができる。図124はこのよ
うなDAコンバータを採用した場合の回路ブロック図で
ある。
That is, by changing the reference voltage, the output of the DA converter can be instantaneously changed in proportion to the reference voltage. FIG. 124 is a circuit block diagram when such a DA converter is adopted.

【0863】図124では、DAコンバータ1226a
にはVref電圧が印加されている。Vref電圧はV
v電圧を4分割するRV*抵抗とスイッチ回路1223
bからなる回路から出力される。したがって、Vref
電圧はCVS信号により4段階に切り替えられる。つま
り、DAコンバータ1226aの出力は瞬時に4段階で
切り替えることができる。
In FIG. 124, the DA converter 1226a is shown.
Is applied with the Vref voltage. Vref voltage is V
RV * resistor and switch circuit 1223 for dividing v voltage into four
It is output from the circuit composed of b. Therefore, Vref
The voltage is switched in four steps by the CVS signal. That is, the output of the DA converter 1226a can be instantaneously switched in four steps.

【0864】一方、DAコンバータ1226bはIre
f電圧が印加されている。Iref電圧はVi電圧を4
分割するRV*抵抗とスイッチ回路1223cからなる
回路から出力される。したがって、Iref電圧はCI
S信号により4段階に切り替えられる。つまり、DAコ
ンバータ1226bの出力は瞬時に4段階で切り替える
ことができる。
On the other hand, the DA converter 1226b outputs Ire
The f voltage is applied. Iref voltage is Vi voltage 4
The signal is output from the circuit composed of the RV * resistor to be divided and the switch circuit 1223c. Therefore, the Iref voltage is CI
It can be switched to four stages by the S signal. That is, the output of the DA converter 1226b can be instantaneously switched in four steps.

【0865】図124のように構成することにより、ソ
ース信号線18に出力する電流(電圧)は、1Hの期間
に4段階に変化することができるようになる。この使用
方法としては、最初に高い電圧(電流)を一瞬印加し、
印加により高速に目標値まで到達させ、その後、定常値
の電圧(電流)に変更し、目標値にするなどである。つ
まり、画素に書き込む電圧(電流)を高速に変更するこ
とができる。
By configuring as shown in FIG. 124, the current (voltage) output to the source signal line 18 can be changed in four steps in the period of 1H. For this usage, first apply a high voltage (current) for a moment,
The target value is quickly reached by application, and then the voltage (current) is changed to a steady value, and the target value is set. That is, the voltage (current) written in the pixel can be changed at high speed.

【0866】ただし、図124の構成は、回路規模はか
なり大きなものになる。一般的には図125に図示する
構成で十分である。図124の構成は、電圧出力回路1
221は2つの電圧値を出力できるように構成されてい
る。この2つの電圧とは、1つが画像表示を黒にする電
圧である。他の1つは画像表示を白にする電圧である。
具体的には、図1のVdd電圧が6(V)とすれば、黒
電圧は3(V)〜4(V)であり、白電圧は1(V)〜
2(V)である。この白電圧と黒電圧はVR1225で
調整され、この電圧がバッファアンプ1224a、12
24cを介してスイッチ回路1223bに印加される。
スイッチ回路1223bの出力はVSL電圧で切り替え
られる。
However, the configuration of FIG. 124 has a considerably large circuit scale. Generally, the configuration shown in FIG. 125 is sufficient. The configuration of FIG. 124 has the voltage output circuit 1
221 is configured to be able to output two voltage values. One of the two voltages is a voltage that makes the image display black. The other one is a voltage for whitening the image display.
Specifically, if the Vdd voltage in FIG. 1 is 6 (V), the black voltage is 3 (V) to 4 (V) and the white voltage is 1 (V) to.
2 (V). The white voltage and the black voltage are adjusted by VR1225, and this voltage is adjusted by the buffer amplifiers 1224a and 1224a.
It is applied to the switch circuit 1223b via 24c.
The output of the switch circuit 1223b is switched by the VSL voltage.

【0867】1水平走査期間(1H)の最初のプリチャ
ージ電圧Vb(白電圧または黒電圧)が印加される。各
ソース信号線は切り替え回路1223aの端子cと接続
されている。したがって、各ソース信号線18はまず、
白電圧または黒電圧にプリチャージに設定される。その
後、切り替え回路1223は端子bに切り替えられ、画
像に対応した電流データ(256階調)がソース信号線
18に印加される。この電流データが各画素16に書き
込まれ、各画素のEL素子15に電流が流れて発光す
る。
The first precharge voltage Vb (white voltage or black voltage) in one horizontal scanning period (1H) is applied. Each source signal line is connected to the terminal c of the switching circuit 1223a. Therefore, each source signal line 18
Set to precharge to white voltage or black voltage. After that, the switching circuit 1223 is switched to the terminal b, and the current data (256 gradations) corresponding to the image is applied to the source signal line 18. This current data is written in each pixel 16, and a current flows through the EL element 15 of each pixel to emit light.

【0868】以上の実施例では、各ソース信号線18は
まず、白電圧または黒電圧にプリチャージに設定される
としたがこれに限定するものではない。表示データ(V
DATA,IDATA)が所定値以上の時、あるいは所
定値以下の時、プリチャージするように構成したほうが
現実的である。
In the above embodiments, each source signal line 18 is set to be precharged to the white voltage or the black voltage first, but the present invention is not limited to this. Display data (V
When DATA, IDATA) is above a predetermined value or below a predetermined value, it is more realistic to precharge.

【0869】図126は説明を容易にするため、64階
調表示の場合を例示している。図126(a)では、5
7階調目から63階調目の範囲(KW)を白電圧でプリ
チャージする。つまり、図125の電圧出力回路122
1から白電圧を出力する。また、0階調目から7階調目
の範囲(KB)を黒電圧でプリチャージする。つまり、
図125の電圧出力回路1221から黒電圧を出力す
る。8階調目から56階調目までは電圧出力回路122
1の出力はハイインピーダンス状態とする(切り替え回
路1223aのスイッチは端子aを選択しない)。
FIG. 126 illustrates the case of 64-gradation display for ease of explanation. In FIG. 126 (a), 5
The range (KW) from the 7th gradation to the 63rd gradation is precharged with the white voltage. That is, the voltage output circuit 122 of FIG.
The white voltage is output from 1. Further, the range (KB) from the 0th gradation to the 7th gradation is precharged with the black voltage. That is,
The voltage output circuit 1221 of FIG. 125 outputs the black voltage. From the 8th gradation to the 56th gradation, the voltage output circuit 122
The output of 1 is in a high impedance state (the switch of the switching circuit 1223a does not select the terminal a).

【0870】以上のように、白表示とすべき階調に白電
圧を印加し、黒表示とすべき階調に黒電圧を印加する。
また、中間調の箇所(KM)にはプリチャージしないこ
とにより、階調表示を高速に、かつ良好に実現すること
ができる。
As described above, the white voltage is applied to the gradation to be displayed in white, and the black voltage is applied to the gradation to be displayed in black.
Further, by not precharging the halftone portion (KM), it is possible to achieve high-speed gradation display satisfactorily.

【0871】電流プログラム方式の場合は、黒表示で、
プログラム電流(画素に書き込む電流)が5nA以上2
0nA以下と小さいため、書き込み不足が発生する。黒
電圧のプリチャージすることにより、本来の黒表示を実
現することができる。しかし、暗い灰色の表示でも書き
込み不足が発生することがある。この場合は、白と黒の
プリチャージに加えて、第2の黒のプリチャージを行う
ことが効果的である。
In the case of the current program method, black display is
Program current (current written in pixel) is 5 nA or more 2
Since it is as small as 0 nA or less, insufficient writing occurs. The original black display can be realized by precharging the black voltage. However, insufficient writing may occur even with a dark gray display. In this case, it is effective to perform the second black precharge in addition to the white and black precharge.

【0872】図126(b)はこの実施例である。KB
1の範囲を黒電圧のプリチャージすることにより、本来
の黒表示を実現することができる。そして、KB2の範
囲を第2の黒(灰色)のプリチャージすることにより黒
に近い灰色の部分を十分な階調表示を実現できる。
FIG. 126 (b) shows this embodiment. KB
By precharging the range of 1 with the black voltage, the original black display can be realized. Then, by precharging the range of KB2 to the second black (gray), it is possible to realize a sufficient gray scale display of the gray portion close to black.

【0873】ここで、より具体的には、図1画素構成に
おいて、Vdd電圧が6(V)とすれば、KB1の範囲
のプリチャージを行う黒電圧は3(V)〜3.5(V)
であり、KB2の灰色のプリチャージを行う黒電圧は
3.5(V)〜4.0(V)である。KWの範囲の白電
圧は1(V)〜2(V)である。KMの範囲は電圧によ
るプリチャージは行わない。
More specifically, in the pixel configuration of FIG. 1, if the Vdd voltage is 6 (V), the black voltage for precharging in the range of KB1 is 3 (V) to 3.5 (V). )
The black voltage for precharging KB2 in gray is 3.5 (V) to 4.0 (V). The white voltage in the KW range is 1 (V) to 2 (V). In the range of KM, precharge by voltage is not performed.

【0874】図126(b)は説明を容易にするため、
64階調表示の場合を例示している。図126(b)で
は、57階調目から63階調目の範囲(KW)を白電圧
でプリチャージする。0階調目から7階調目の範囲(K
B1)を黒電圧でプリチャージする。8階調目から15
階調目の範囲(KB2)を第2の黒電圧でプリチャージ
する。16階調目から56階調目までは電圧出力回路1
221の出力はハイインピーダンス状態とする(切り替
え回路1223aのスイッチは端子aを選択しない)。
In FIG. 126 (b), for ease of explanation,
The case of 64-gradation display is illustrated. In FIG. 126B, the range (KW) from the 57th gradation to the 63rd gradation is precharged with the white voltage. Range from 0th gradation to 7th gradation (K
B1) is precharged with a black voltage. 15th from the 8th gradation
The gradation range (KB2) is precharged with the second black voltage. Voltage output circuit 1 from the 16th gradation to the 56th gradation
The output of 221 is in a high impedance state (the switch of the switching circuit 1223a does not select the terminal a).

【0875】以上のように、黒の範囲を複数の範囲に分
離し、それぞれ異なった電圧でプロチャージすることに
より、より適正な階調表示を実現できる。なお、図12
6(b)は、黒の範囲を2つとしたがこれに限定するも
のではなく、3つ以上でもよい。また、プリチャージは
全ソース信号線に一括しておこなってもよい。これらの
回路構成は、図125においてバッファアンプ1224
を3個以上配置し、スイッチ1223bを3つ以上選択
できるように構成すればよいから容易である。
As described above, more appropriate gradation display can be realized by dividing the black range into a plurality of ranges and procharging them with different voltages. Note that FIG.
6 (b) has two black areas, but the present invention is not limited to this and may be three or more. Further, the precharge may be collectively performed on all the source signal lines. These circuit configurations are shown in FIG.
It is easy to arrange three or more switches and select three or more switches 1223b.

【0876】なお、図126において、階調0(黒表
示)にEL素子15に流す電流は0(A)ではない。E
L素子15は所定電流以上流さないと発光しない。この
発光しない範囲の電流を暗電流と呼ぶ。暗電流は画素サ
イズが10000平方μmで10nA以上50nA以下
程度ある。この暗電流の範囲内において、画素は黒表示
である。したがって、階調0でも電流が流れている。ド
ライバIC14の構成としては暗電流を加えた電流で駆
動する必要がある。
In FIG. 126, the current flowing through the EL element 15 at gradation 0 (black display) is not 0 (A). E
The L element 15 does not emit light unless a predetermined current or more is passed. The current in the range that does not emit light is called dark current. The dark current is about 10 nA or more and 50 nA or less when the pixel size is 10,000 square μm. Within this dark current range, the pixel is displaying black. Therefore, current flows even at gradation 0. The driver IC 14 needs to be driven by a current to which a dark current is added.

【0877】以降、図122から図125に図示する回
路構成を出力段回路1271と呼ぶ。出力段回路127
1は図127に図示するように、各ソース信号線18に
配置(形成)するのが一般的な構成例である。図127
などでは、出力段回路1271ははシリコンチップで形
成したソースドライバIC14内に形成したように図示
したがこれに限定するものではなく、ガラス基板82上
に画素TFT11などと同時に直接に形成してもよい。
つまり、高温ポリシリコン技術、低温ポリシリコン技
術、シャープ(株)などが開発しているCGS(Continu
ous Grain Silicon)技術技術、富士通(株)などが開発
している種結晶を基板に形成して成長させる方法、セイ
コーエプソン(株)が開発している石英基板に形成した
半導体回路を転写によって、ガラス基板などに形成する
技術で出力段回路1271を形成してもよい。また、基
板82が金属基板あるいは半導体基板の場合は直接に、
出力段回路1271を形成できることはいうまでもな
い。
Hereinafter, the circuit configuration shown in FIGS. 122 to 125 is referred to as an output stage circuit 1271. Output stage circuit 127
As shown in FIG. 127, 1 is a general configuration example in which it is arranged (formed) on each source signal line 18. Fig. 127
In the above, the output stage circuit 1271 is illustrated as being formed in the source driver IC 14 formed of a silicon chip, but the present invention is not limited to this, and may be formed directly on the glass substrate 82 at the same time as the pixel TFT 11 and the like. Good.
In other words, high temperature polysilicon technology, low temperature polysilicon technology, CGS (Continu
ous Grain Silicon) technology, a method of forming and growing a seed crystal on a substrate developed by Fujitsu Ltd., and a semiconductor circuit formed on a quartz substrate developed by Seiko Epson Ltd. The output stage circuit 1271 may be formed by a technique of forming it on a glass substrate or the like. When the substrate 82 is a metal substrate or a semiconductor substrate, directly
It goes without saying that the output stage circuit 1271 can be formed.

【0878】また、ドライバIC14は、前記ICの信
号端子電極部にメッキ技術またはネイルヘッドボンディ
ング技術を用いて数μmから100μmの高さの金(A
u)からなる突起電極(図示せず)が形成されている。
前記突起電極と各信号線とが導電性接合層(図示せず)
を介して電気的に接続されている。導電性接合層は接着
剤としてエポキシ系、フェノール系等を主剤とし、銀
(Ag)、金(Au)、ニッケル(Ni)、カーボン
(C)、酸化錫(SnO2)などのフレークを混ぜた物、
あるいは紫外線硬化樹脂などである。導電性接合層は、
転写等の技術で突起電極上に形成する。
The driver IC 14 uses a gold (A) with a height of several μm to 100 μm on the signal terminal electrode portion of the IC by using a plating technique or a nail head bonding technique.
A protruding electrode (not shown) made of u) is formed.
The protruding electrode and each signal line are made of a conductive bonding layer (not shown).
Are electrically connected via. The conductive bonding layer is mainly made of epoxy-based or phenol-based adhesive as an adhesive and is mixed with flakes of silver (Ag), gold (Au), nickel (Ni), carbon (C), tin oxide (SnO2), etc. ,
Alternatively, it is an ultraviolet curable resin or the like. The conductive bonding layer is
It is formed on the protruding electrode by a technique such as transfer.

【0879】ドライブIC14(12)を基板上に積載
するように図示または説明したが、これに限定するもの
ではない。また、基板11上にIC14(12)を積載
せず、フィルムキャリヤ技術を用いて、ICを積載した
ポリイミドフィルム等を用いて信号線と接続しても良
い。
Although the drive IC 14 (12) is shown or described as being mounted on the substrate, the present invention is not limited to this. Alternatively, the IC 14 (12) may not be mounted on the substrate 11 and may be connected to the signal line by using a film carrier technique and using a polyimide film or the like on which the IC is mounted.

【0880】図127は表示領域21の一方端のみに出
力段回路1271を配置したように図示したがこれに限
定するものではない。たとえば、図128に図示するよ
うに、ドライバIC14aと14bを配置してもよい。
図128ではゲートドライバIC12も2個形成してい
る。つまり、表示領域は21aと21bから構成され
る。このように構成すれば表示領域21aと21bを別
個の画像を表示することができる。
In FIG. 127, the output stage circuit 1271 is arranged only at one end of the display area 21, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 128, driver ICs 14a and 14b may be arranged.
In FIG. 128, two gate driver ICs 12 are also formed. That is, the display area is composed of 21a and 21b. With this configuration, the display areas 21a and 21b can display different images.

【0881】図128の構成では画面21を2分割して
いることから、出力段回路1271から出力する映像信
号は画面21が1つの場合に比較して1/2の動作周波
数でよい。また、ソース信号線18などに発生する寄生
容量は1/2となる。したがって、出力段回路1271
の負担は1/2×1/2=1/4となる。そのため、出
力段回路1271から出力する電流が微小であっても十
分ソース信号線17の寄生容量を充放電できる。つま
り、書き込み不足が発生しない。
Since the screen 21 is divided into two in the configuration of FIG. 128, the video signal output from the output stage circuit 1271 may have a half operating frequency as compared with the case where there is one screen 21. Further, the parasitic capacitance generated in the source signal line 18 and the like is halved. Therefore, the output stage circuit 1271
Is ½ × 1/2 = 1/4. Therefore, even if the current output from the output stage circuit 1271 is minute, the parasitic capacitance of the source signal line 17 can be sufficiently charged and discharged. That is, the write shortage does not occur.

【0882】図128の構成では表示領域21を画面2
1aと画面21bとを中央部で2分割するため、分割位
置で境目がみえる場合がある。図129はこの課題を対
処するものである。ソースドライバ14aは表示領域2
1の奇数画素行を駆動し、ソースドライバ14bは表示
領域21の偶数画素行を駆動する。したがって、画面2
1の境目が発生しない。
In the configuration of FIG. 128, the display area 21 is displayed on the screen 2
Since 1a and the screen 21b are divided into two at the central portion, a boundary may be seen at the division position. FIG. 129 addresses this issue. The source driver 14a has a display area 2
The odd pixel rows of 1 are driven, and the source driver 14b drives the even pixel rows of the display area 21. Therefore, screen 2
The boundary of 1 does not occur.

【0883】さらに画素への書き込み電流不足を改善す
るためには、図130に図示するように、ドライバIC
14aおよび14bにおいて各ソース信号線18に対応
する出力段回路1271に2つの出力とするとよい。つ
まり、出力段回路1271aには2つの出力段(出力段
A、出力段B)を具備し、出力段Aが表示領域21aの
奇数画素行に接続され、出力段Bが表示領域21aの偶
数画素行に接続されている。また、出力段回路1271
bにも2つの出力段(出力段A、出力段B)を具備し、
出力段Aが表示領域21bの奇数画素行に接続され、出
力段Bが表示領域21bの偶数画素行に接続されてい
る。このように構成することにより、さらに、微小電流
でもソース信号線に十分な電流を流せることにつなが
り、良好な画像表示を実現できる。
In order to further improve the shortage of the write current to the pixel, as shown in FIG.
Two outputs may be provided to the output stage circuit 1271 corresponding to each source signal line 18 in 14a and 14b. That is, the output stage circuit 1271a includes two output stages (output stage A and output stage B), the output stage A is connected to the odd pixel rows of the display region 21a, and the output stage B is an even pixel of the display region 21a. Connected to a row. Also, the output stage circuit 1271
b also has two output stages (output stage A, output stage B),
The output stage A is connected to the odd pixel rows of the display region 21b, and the output stage B is connected to the even pixel rows of the display region 21b. With such a configuration, it is possible to cause a sufficient current to flow in the source signal line even with a minute current, and good image display can be realized.

【0884】なお、図130において出力段回路127
1は各画素に1つのソース信号線18を接続するとした
がこれに限定するものではなく、画素を差動構成にし、
各画素に2つのソース信号線(一方のソース信号線をバ
イアス電流用、他方のソース信号線をバイアス電流+信
号電流用)で駆動するように構成してもよい。
Note that in FIG. 130, the output stage circuit 127
Although 1 has been described as connecting one source signal line 18 to each pixel, the present invention is not limited to this.
Each pixel may be driven by two source signal lines (one source signal line for bias current and the other source signal line for bias current + signal current).

【0885】図131はより具体的なモジュール構成図
である。図131において、14bはソースドライバで
あり、14aはゲートドライバとソースドライバとが一
体化されたチップである。14aが表示領域21のゲー
ト信号線を駆動している。ドライバ14aは表示領域2
1aのソース信号線18aを駆動する。14bはソース
信号線18bを駆動し表示領域21bを駆動する。
FIG. 131 is a more specific module configuration diagram. In FIG. 131, 14b is a source driver, and 14a is a chip in which a gate driver and a source driver are integrated. 14a drives the gate signal line of the display area 21. The driver 14a has a display area 2
The source signal line 18a of 1a is driven. 14b drives the source signal line 18b and drives the display area 21b.

【0886】なお、図131は一例であって、チップ1
4bもゲートドライバ機能を有し、表示領域21bのゲ
ート信号線17bを駆動するように構成してもよい。ま
た、電源IC102とコントロールIC102はプリン
ト基板103上に積載されているように図示したがこれ
に限定するものではなく、基板82に直接形成してもよ
い。以前に説明したポリシリコン技術などを用いてであ
る。このことは図10、図11についても適用できるこ
とは言うまでもない。他の構成は図10、図11、図2
8、図130などと同様であるので説明を省略する。
FIG. 131 is an example, and the chip 1
4b also has a gate driver function, and may be configured to drive the gate signal line 17b in the display area 21b. Further, although the power supply IC 102 and the control IC 102 are illustrated as being stacked on the printed circuit board 103, the present invention is not limited to this and may be directly formed on the substrate 82. Using the previously described polysilicon technology and the like. It goes without saying that this can be applied to FIGS. 10 and 11. Other configurations are shown in FIGS.
8 and FIG. 130, etc., and the description thereof will be omitted.

【0887】コンとロールIC101はドライバ14a
と14bの両方を駆動する。コントロールIC101か
らドライバ14aに供給する信号(電源配線、データ配
線など)はフレキシブル基板104cを介して供給す
る。しかし、ドライバ14bはかなり距離が離れている
ため、まず、フレキシブル基板104aで基板82の裏
面に接続する。
The control and roll IC 101 is a driver 14a
And both 14b. Signals (power supply wiring, data wiring, etc.) supplied from the control IC 101 to the driver 14a are supplied via the flexible substrate 104c. However, since the drivers 14b are considerably distant from each other, they are first connected to the back surface of the substrate 82 by the flexible substrate 104a.

【0888】図132は基板82を裏面から観察した図
である。基板82の裏面に信号配線(電源配線を含む)
1321が形成されている。信号配線1321は、銅、
アルミ(Al)、銀、銀―パラジウム、パラジウム、
金、Al−Moなどの金属材料で形成される。信号配線
1321は基板82の端から端まで信号を伝達する。基
板82の一端にフレキシブル基板104bが接続されて
おり、このフレキシブル基板104bからドライバ14
bに信号などが供給される。なお、図133は図132
のAから見たときの図面である。
FIG. 132 is a view of the substrate 82 observed from the back surface. Signal wiring (including power wiring) on the back surface of the substrate 82
1321 is formed. The signal wiring 1321 is made of copper,
Aluminum (Al), silver, silver-palladium, palladium,
It is formed of a metal material such as gold or Al-Mo. The signal wiring 1321 transmits a signal from one end of the substrate 82 to the other. The flexible substrate 104b is connected to one end of the substrate 82, and the driver 14 is connected to the flexible substrate 104b.
A signal or the like is supplied to b. Note that FIG. 133 corresponds to FIG.
2 is a drawing when viewed from A of FIG.

【0889】図40、図57、図122から図126
は、図1、図21、図43、図71のような電流プログ
ラム方式の画素構成を例示して説明したが、これに限定
するものではない。たとえば、図54、図67、図6
8、図103、図120、図121などの電圧プログラ
ム方式の画素構成でも有効である。その場合は、図12
2の切り替え回路1223のb端子に印加される信号は
電圧とする必要がある。この変更は容易であり、当該技
術分野の人間であれば容易に対応することができるであ
ろう。電圧駆動では、ソース信号線18の寄生容量によ
る充電不足ということはないが、複数画素行に同時に電
圧を印加する方式とすることにより、駆動回路、信号処
理回路が簡略化され、また、良好な黒表示を実現できる
からである。また、画像の隠逸表示を実現でき、TFT
11のバラツキ吸収にも効果が発揮されるからである。
FIGS. 40, 57, 122 to 126.
Has been described by exemplifying the pixel configuration of the current programming method as shown in FIGS. 1, 21, 43, and 71, but it is not limited to this. For example, FIG. 54, FIG. 67, FIG.
The pixel configurations of the voltage programming method shown in FIG. 8, FIG. 103, FIG. 120 and FIG. 121 are also effective. In that case, FIG.
The signal applied to the b terminal of the second switching circuit 1223 needs to be a voltage. This change is easy, and a person of ordinary skill in the art can easily cope with it. In the voltage driving, there is no shortage of charge due to the parasitic capacitance of the source signal line 18, but by adopting the method of simultaneously applying the voltage to a plurality of pixel rows, the driving circuit and the signal processing circuit are simplified, and good voltage This is because black display can be realized. In addition, the hidden display of the image can be realized, and the TFT
This is because the effect of 11 variations is also absorbed.

【0890】したがって、図122から図126で説明
した事項は、本発明のすべての表示パネル、表示装置、
情報表示装置などに適用することができることは言うま
でもない。
Therefore, the matters described with reference to FIGS. 122 to 126 are all the display panels, display devices, and
It goes without saying that it can be applied to information display devices and the like.

【0891】図41は図1のTFT11のPチャンネル
をNチャンネルにした実施例である。以上のように本発
明は多種多様な画素構成に適用することができる。図4
1においても、ゲート信号線17を制御することにより
TFT11dをオンオフすることができ、図31などの
画像表示を実現できることは言うまでもないので説明を
省略する。また、図33、図35などの駆動波形も同一
または類似であるので説明を省略する。また、図1にお
いてTFT11b、11cのみをnチャンネルTFTと
することも有効である。コンデンサ19への突き抜け電
圧が低下し、コンデンサの保持特性も改善されるからで
ある。
FIG. 41 shows an embodiment in which the P channel of the TFT 11 of FIG. 1 is an N channel. As described above, the present invention can be applied to various pixel configurations. Figure 4
Also in 1, the TFT 11d can be turned on / off by controlling the gate signal line 17, and it is needless to say that the image display of FIG. The drive waveforms shown in FIGS. 33 and 35 are the same or similar, and thus the description thereof will be omitted. It is also effective to use only the TFTs 11b and 11c as n-channel TFTs in FIG. This is because the punch-through voltage to the capacitor 19 is lowered and the holding characteristic of the capacitor is also improved.

【0892】なお、図41は電流源402のみを具備す
る構成である。つまり、プリチャージを実施する電圧源
401は具備しない。しかし、寄生容量404が比較的
小さく、または、1H期間は十分長い場合は、電圧源4
01がなくとも十分に黒表示を実現できる。また、図3
1などで説明したように、完全な非表示領域312を実
施する場合は、電圧源401は必要でない場合がほとん
どである。必要である場合は図42に図示するように構
成すればよい。
Note that FIG. 41 shows a configuration including only the current source 402. That is, the voltage source 401 for performing the precharge is not provided. However, when the parasitic capacitance 404 is relatively small or the 1H period is sufficiently long, the voltage source 4
Even without 01, black display can be sufficiently realized. Also, FIG.
As described in Section 1 and the like, when implementing the complete non-display area 312, the voltage source 401 is often unnecessary. If necessary, it may be configured as shown in FIG.

【0893】また、図43は図21のTFT11のPチ
ャンネルをNチャンネルにした実施例である。以上のよ
うに本発明は多種多様な画素構成に適用することができ
る。図43においても、ゲート信号線17を制御するこ
とによりTFT11eなどをオンオフすることができ、
図31などの画像表示を実現できることは言うまでもな
いので説明を省略する。また、図33、図35などの駆
動波形も同一または類似であるので説明を省略する。
Also, FIG. 43 shows an embodiment in which the P channel of the TFT 11 of FIG. 21 is an N channel. As described above, the present invention can be applied to various pixel configurations. Also in FIG. 43, the TFT 11e and the like can be turned on and off by controlling the gate signal line 17,
Needless to say, the image display shown in FIG. 31 and the like can be realized, and therefore the description thereof will be omitted. The drive waveforms shown in FIGS. 33 and 35 are the same or similar, and thus the description thereof will be omitted.

【0894】以上、説明したように電圧源401でVb
電圧(Ib電流)を印加することにより、良好な黒表示
を実現できる。
As described above, the voltage source 401 outputs Vb as described above.
Good black display can be realized by applying a voltage (Ib current).

【0895】なお、N=10以上とし、高い電流パルス
をEL素子15に印加すると、EL端子電圧も高くな
る。また、EL素子15はR、G、Bで立ち上がり電
圧、ガンマカーブが異なる。特にBはガンマカーブが緩
やかであるのでEL素子15の端子電圧が高くなる傾向
にある。立ち上がり電圧が高く、ガンマカーブが緩やか
な色(R、G、B色)のEL素子15に端子電圧をあわ
せると消費電力が大きくなる。
When N = 10 or more and a high current pulse is applied to the EL element 15, the EL terminal voltage also rises. The EL element 15 has different rising voltages and gamma curves for R, G, and B. In particular, since B has a gentle gamma curve, the terminal voltage of the EL element 15 tends to increase. If the terminal voltage is adjusted to the EL element 15 of a color (R, G, B colors) having a high rising voltage and a gentle gamma curve, power consumption increases.

【0896】これを解決する方法の1つが図5に示すカ
ソードをR、G、Bで分離する方式である。なお、R、
G、Bでそれぞれ別のカソード電位にする必要はない。
特にガンマカーブが他の色からはなれている1色のみの
カソードのみを分離してもよい。その他の方法として、
図58に示すようにVdd電源電圧を分離する構成も有
効である。つまり、R色のVdd電源をVddRとし、
G色のVdd電源をVddGとし、B色のVdd電源を
VddBとする構成である。このように分離することに
より、RGBそれぞれを別電源で調整することができ、
RGBのEL素子15の端子電圧が異なっていても消費
電力の増加はわずかになる。
One method of solving this is a method of separating the cathode by R, G and B shown in FIG. Note that R,
It is not necessary for G and B to have different cathode potentials.
In particular, only one color cathode whose gamma curve is different from other colors may be separated. Alternatively,
A configuration in which the Vdd power supply voltage is separated as shown in FIG. 58 is also effective. That is, Vdd power supply for R color is set to VddR,
In this configuration, the G color Vdd power supply is VddG and the B color Vdd power supply is VddB. By separating in this way, it is possible to adjust each of RGB with separate power supplies,
Even if the terminal voltages of the RGB EL elements 15 are different, the increase in power consumption is slight.

【0897】なお、R、G、Bでそれぞれ別のVdd電
位にする必要はない。特にガンマカーブが他の色からは
なれている1色のみのVddのみを分離してもよい。ま
た、図59に図示するように、図5の構成と組み合わせ
てもよい。つまり、R、G、Bで分離する方式である
R、G、Bでそれぞれ別のカソード電位(R画素はVs
R,G画素はVsG,B画素はVsB)とする。特にガ
ンマカーブが他の色からはなれている1色のみのカソー
ド電位のみを分離してもよい。さらに、Vdd電源電圧
を分離する。R色のVdd電源をVddRとし、G色の
Vdd電源をVddGとし、B色のVdd電源をVdd
Bとする構成である。この場合もR、G、Bでそれぞれ
別のVdd電位にする必要はない。特にガンマカーブが
他の色からはなれている1色のみのVddのみを分離し
てもよい。
Note that it is not necessary for R, G, and B to have different Vdd potentials. In particular, Vdd of only one color whose gamma curve is different from other colors may be separated. Further, as shown in FIG. 59, the configuration of FIG. 5 may be combined. That is, R, G, and B, which are methods of separating R, G, and B, have different cathode potentials (R pixel is Vs.
R and G pixels are VsG, and B pixels are VsB). In particular, only the cathode potential of only one color whose gamma curve differs from other colors may be separated. Further, the Vdd power supply voltage is separated. The R color Vdd power source is VddR, the G color Vdd power source is VddG, and the B color Vdd power source is Vdd.
The configuration is B. Also in this case, it is not necessary to set different Vdd potentials for R, G, and B. In particular, Vdd of only one color whose gamma curve is different from other colors may be separated.

【0898】なお、図58、図59では画素16は図1
の構成としたが、これに限定されるものではなく、図2
1、図22、図43、図44、図41、図42、図5
4、図67から図78などの構成でもよいことは言うま
でもない。
58 and 59, the pixel 16 is shown in FIG.
However, the configuration is not limited to this, and FIG.
1, FIG. 22, FIG. 43, FIG. 44, FIG. 41, FIG. 42, FIG.
It goes without saying that the configurations shown in FIG.

【0899】本発明の課題にEL素子15に印加する電
流が瞬時的ではあるが、従来と比較してN倍大きいとい
う問題がある。電流が大きいとEL素子の寿命を低下さ
せる場合がある。この課題を解決するためには、EL素
子15に逆バイアス電圧Vmを印加することが有効であ
る。
The problem to be solved by the present invention is that the current applied to the EL element 15 is instantaneous, but there is a problem that it is N times larger than the conventional one. If the current is large, the life of the EL element may be shortened. In order to solve this problem, it is effective to apply the reverse bias voltage Vm to the EL element 15.

【0900】以下、逆バイアスを印加する方法について
説明をする。逆バイアスを印加するためには図1の構成
において、TFT11bとTFT11cのゲート端子を
個別に制御する必要がある。つまり、TFT11bとT
FT11cを個別にオンオフさせる必要がある。この制
御方法は図52を用いて説明する。
The method of applying a reverse bias will be described below. In order to apply the reverse bias, it is necessary to individually control the gate terminals of the TFT 11b and the TFT 11c in the configuration of FIG. That is, TFT 11b and T
It is necessary to individually turn on / off the FT 11c. This control method will be described with reference to FIG.

【0901】まず、図52(a)に示すように、TFT
11cをオンし、TFT11dをオンさせる(図1もあ
わせて参照のこと)。そして、逆バイアス電圧VmとE
L素子15のa端子に印加する。Vm電圧はVsよりも
低い電圧である。Vm電圧はVsよりも5(V)以上1
5(V)以内の値の低い電圧である。
First, as shown in FIG. 52 (a), the TFT
11c is turned on and the TFT 11d is turned on (see also FIG. 1). Then, the reverse bias voltage Vm and E
The voltage is applied to the a terminal of the L element 15. The Vm voltage is a voltage lower than Vs. Vm voltage is 5 (V) or more than Vs 1
It is a low voltage within 5 (V).

【0902】なお、逆バイアス電圧を供給する信号線1
7は、ソース信号線18と平行に形成することが好まし
い。低抵抗配線で形成できるし、ソース信号線18との
クロスがないため、逆バイアス信号線とソース信号線1
8とのカップリングが発生しにくい。なお、もちろん、
逆バイアス電圧を供給する信号線17をゲート信号線1
7と平行に形成してもよい。
Note that the signal line 1 for supplying the reverse bias voltage is
7 is preferably formed parallel to the source signal line 18. Since it can be formed with low resistance wiring and there is no cross with the source signal line 18, the reverse bias signal line and the source signal line 1
Coupling with 8 hardly occurs. Of course,
The signal line 17 for supplying the reverse bias voltage is connected to the gate signal line 1
It may be formed in parallel with 7.

【0903】EL素子15が点灯するときには、a端子
にはVsに対し、5(V)以上15(V)以内の高い電
圧が印加されている。つまり、Vm電圧とはEL素子1
5が点灯しているときに印加する電圧に対し、理想的に
は絶対値が等しく、かつ極性の逆の電圧を印加するので
ある。現実的には絶対値が等しく、かつ極性の逆の電圧
を印加は困難であるから、逆極性で2−3倍の電圧を印
加する。以上のように逆バイアスを印加することによ
り、EL素子15はほとんど劣化しなくなる。
When the EL element 15 is turned on, a high voltage of 5 (V) or more and 15 (V) or less with respect to Vs is applied to the a terminal. That is, the Vm voltage is the EL element 1
Ideally, a voltage whose absolute value is the same and whose polarity is opposite to that of the voltage applied when 5 is turned on is applied. In reality, it is difficult to apply voltages having the same absolute value and opposite polarities, so a voltage of 2-3 times the reverse polarity is applied. By applying the reverse bias as described above, the EL element 15 hardly deteriorates.

【0904】次に、図52(b)に示すように、TFT
11dをオフし、TFT11bをオンさせる。そして、
黒電圧Vbをコンデンサ19に書き込む。この動作は図
57で説明している。次に、図52(c)に示すよう
に、TFT11のオンオフ状態は図52(b)と同一の
状態で、電流源402からの画像表示電圧(電流)をコ
ンデンサ19に書き込む。この動作も図57で説明して
いる。最後に、図52(d)に示すように、TFT11
b、11cをオフし、TFT11dをオンさせ、EL素
子15に電流を流してEL素子15を点灯させる。
Next, as shown in FIG. 52 (b), the TFT
11d is turned off and TFT 11b is turned on. And
The black voltage Vb is written in the capacitor 19. This operation is described in FIG. Next, as shown in FIG. 52C, the TFT 11 is turned on and off in the same state as in FIG. 52B, and the image display voltage (current) from the current source 402 is written in the capacitor 19. This operation is also described in FIG. Finally, as shown in FIG.
b and 11c are turned off, the TFT 11d is turned on, and a current is passed through the EL element 15 to turn on the EL element 15.

【0905】以上の動作を図15に示す。1H期間のt
1時間に逆バイアス電圧Vmをソース信号線18に印加
し、次のt2期間にVb電圧を印加し、そしてt3期間
に画像データVw(Iw)を印加する。他の動作は、図
52で説明し、また、駆動方法などの図31、図33な
どで説明しているので説明を省略する。
The above operation is shown in FIG. 1H period t
The reverse bias voltage Vm is applied to the source signal line 18 for 1 hour, the Vb voltage is applied during the next t2 period, and the image data Vw (Iw) is applied during the t3 period. The other operations have been described with reference to FIG. 52 and the driving method and the like with reference to FIGS.

【0906】図119から図121図52の構成では、
ソース信号線18の電流を画素16にとりこむ際に、E
L素子15には逆方向電流が流れる。したがって、EL
素子15が有機電界発光素子の場合、逆方向電圧を印加
した場合のように、有機分子の酸化還元反応などによる
電気化学的劣化を遅くすることが可能となる。
119 to 121 In the configuration shown in FIG. 52,
When the current of the source signal line 18 is taken into the pixel 16, E
A reverse current flows through the L element 15. Therefore, EL
When the element 15 is an organic electroluminescent element, it becomes possible to delay the electrochemical deterioration due to the redox reaction of organic molecules, as in the case where a reverse voltage is applied.

【0907】図102に陽極/正孔輸送層/発光層/電
子輸送層/陰極からなる3層型有機発光素子のエネルギ
ーダイアグラムを示す。発光時の正負キャリアの挙動は
図102(a)で表わされる。電子は陰極(カソード)
より電子輸送層に注入されると同時に正孔も陽極(アノ
ード)から正孔輸送層に注入される。注入された電子、
正孔は印加電界により対極に移動する。その際、有機層
中にトラップされたり、発光層界面でのエネルギー準位
の差によりのようにキャリアが蓄積されたりする。
FIG. 102 shows an energy diagram of a three-layer organic light emitting device composed of anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode. The behavior of the positive and negative carriers during light emission is shown in FIG. The electron is the cathode
More holes are injected into the electron transport layer, and at the same time holes are also injected into the hole transport layer from the anode. Injected electrons,
The holes move to the counter electrode due to the applied electric field. At that time, they are trapped in the organic layer or carriers are accumulated due to the difference in energy level at the interface of the light emitting layer.

【0908】有機層中に空間電荷が蓄積されると分子が
酸化もしくは還元され、生成されたラジカル陰イオン分
子もしくはラジカル陽イオン分子が不安定であること
で、膜質の低下により輝度の低下および定電流駆動時の
駆動電圧の上昇を招くことが知られている。これを防ぐ
ために、一例としてデバイス構造を変化させ、逆方向電
圧を印加している。
When space charges are accumulated in the organic layer, the molecules are oxidized or reduced, and the generated radical anion molecules or radical cation molecules are unstable, resulting in deterioration of the film quality and reduction in brightness. It is known that driving voltage during current driving increases. In order to prevent this, as an example, the device structure is changed and a reverse voltage is applied.

【0909】図102(b)においては逆方向電流が印
加されるため、注入された電子及び正孔がそれぞれ陰極
及び陽極へ引き抜かれる。これにより、有機層中の空間
電荷形成を解消し、分子の電気化学的劣化を抑えること
で寿命を長くすることが可能となる。
In FIG. 102 (b), since the reverse current is applied, the injected electrons and holes are extracted to the cathode and the anode, respectively. This eliminates the formation of space charges in the organic layer and suppresses the electrochemical deterioration of the molecules, which makes it possible to prolong the life.

【0910】なお、図102では3層型素子について説
明を行ったが、4層型以上の多層型素子及び2層型以下
の素子においても、電極から注入された電子及び正孔に
より有機膜の電気化学的劣化が起こることは同様であ
る。したがって、層の数によらず本実施例により寿命を
長くすることが可能となる。1つの層に複数の材料を混
ぜ合わせた素子においても分子の電気化学的劣化は同様
に生じるため効果がある。
Although the three-layer type element is described in FIG. 102, even in the four-layer type or more multilayer type element and the two-layer type or less element, electrons and holes injected from the electrodes cause formation of an organic film. Electrochemical degradation is similar. Therefore, it becomes possible to prolong the life according to this embodiment regardless of the number of layers. It is also effective in a device in which a plurality of materials are mixed in one layer because electrochemical deterioration of molecules similarly occurs.

【0911】本発明での特徴はこのように、有機分子の
劣化を防ぐ機能を持たせ、かつソース信号線に寄生する
浮遊容量による波形なまりを防ぐためのバイアス電流を
流す機能を持たせても、画素に必要なトランジスタ数を
増加させることなく表示が可能であることである。つま
り、逆方向電流を流すためのトランジスタの数を増やさ
なくてもよいことが、表示装置の各画素の開口率を下げ
なくて済むため利点となる。
As described above, the feature of the present invention is to provide the function of preventing the deterioration of organic molecules and the function of supplying the bias current for preventing the waveform distortion due to the stray capacitance parasitic on the source signal line. That is, display is possible without increasing the number of transistors required for a pixel. That is, it is an advantage that the number of transistors for supplying a reverse current does not have to be increased because the aperture ratio of each pixel of the display device does not have to be reduced.

【0912】図109に逆バイアス電圧Vmの印加効果
について説明する。図109は所定電流で駆動した時の
EL素子15の発光輝度、EL素子の端子電圧を示して
いる。図109において、点線実線bは、EL素子15
に逆バイアス電圧Vmを印加した時のEL素子15の端
子電圧を示している。一点鎖線cは、EL素子15に逆
バイアス電圧を印加しなかった時のEL素子15の端子
電圧を示している。また、実線aは、EL素子15に逆
バイアス電圧を印加した時(点線a)のEL素子15の
発光輝度比(初期輝度を1とした時の比率)を示してい
る。
The effect of applying the reverse bias voltage Vm will be described with reference to FIG. FIG. 109 shows the emission luminance of the EL element 15 and the terminal voltage of the EL element when driven with a predetermined current. In FIG. 109, the dotted solid line b indicates the EL element 15
3 shows the terminal voltage of the EL element 15 when the reverse bias voltage Vm is applied to. The alternate long and short dash line c indicates the terminal voltage of the EL element 15 when the reverse bias voltage is not applied to the EL element 15. The solid line a shows the emission luminance ratio of the EL element 15 when the reverse bias voltage is applied to the EL element 15 (dotted line a) (ratio when the initial luminance is 1).

【0913】図109において、具体的には、EL素子
はR発光であり、電流密度100A/平方メーターで電
流駆動した場合である。サンプルBは時間tの間、連続
して電流密度100A/平方メーターの電流を印加して
いる。点灯時間1500時間で端子電圧が高くなり、急
激に輝度低下して2500時間経過後には、初期輝度に
対して、約15%の輝度しか得られなかった。
In FIG. 109, specifically, the case where the EL element emits R light and is current-driven at a current density of 100 A / square meter. Sample B continuously applies a current having a current density of 100 A / square meter for time t. The terminal voltage increased at the lighting time of 1500 hours and drastically decreased, and after 2500 hours, only about 15% of the initial luminance was obtained.

【0914】サンプルAは30Hzのパルス駆動を実施
し、半分の時間t2に電流密度200A/平方メーター
の電流を流し、後半の半分の時間t1に逆バイアス電圧
−14(V)を印加した(つまり、単位時間あたりの平
均発光輝度はサンプルAとBでは同一である)。サンプ
ルAは、点線bで示すようにEL素子15の端子電圧の
変化はほとんどなく、また、輝度が50%となる点灯時
間は4000時間であった。
Sample A was pulse-driven at 30 Hz, a current density of 200 A / square meter was applied during half the time t2, and a reverse bias voltage of -14 (V) was applied during the latter half time t1 (that is, , And the average emission luminance per unit time is the same in Samples A and B). In the sample A, the terminal voltage of the EL element 15 hardly changed as shown by the dotted line b, and the lighting time at which the luminance was 50% was 4000 hours.

【0915】このように、逆バイアス電圧Vmを印加す
ることにEL素子15の端子電圧の増加はなく、発光輝
度の低減割合も少なくなる。したがって、EL素子15
の長寿命駆動を実現することができる。
As described above, the application of the reverse bias voltage Vm does not increase the terminal voltage of the EL element 15 and reduces the reduction rate of the emission luminance. Therefore, the EL element 15
It is possible to realize long-life driving.

【0916】図108は、逆バイアス電圧VmとEL素
子15の端子電圧の変化を示している。この端子電圧と
は、EL素子15に定格電流を印加した時である。図1
08はEL素子15に流す電流が電流密度100A/平
方メーターの場合であるが、図108の傾向は、電流密
度50〜100A/平方メーターの場合とほとんど差が
なかった。したがって、広い範囲の電流密度で適用でき
ると推定される。
FIG. 108 shows changes in the reverse bias voltage Vm and the terminal voltage of the EL element 15. The terminal voltage is when the rated current is applied to the EL element 15. Figure 1
08 is the case where the current passed through the EL element 15 has a current density of 100 A / square meter, but the tendency of FIG. 108 is almost the same as the case of the current density of 50 to 100 A / square meter. Therefore, it is estimated that it can be applied in a wide range of current density.

【0917】縦軸は初期のEL素子15の端子電圧に対
して、2500時間後の端子電圧との比である。たとえ
ば、経過時間0時間において、電流密度100A/平方
メーターの電流の印加した時の端子電圧が8(V)と
し、経過時間2500時間において、電流密度100A
/平方メーターの電流の印加した時の端子電圧が10
(V)とすれば、端子電圧比は、10/8=1.25で
ある。
The vertical axis represents the ratio of the initial terminal voltage of the EL element 15 to the terminal voltage after 2500 hours. For example, when the elapsed time is 0 hours, the terminal voltage is 8 (V) when a current density of 100 A / square meter is applied, and the elapsed time is 2500 hours, the current density is 100 A.
/ Terminal voltage when current of square meter is applied is 10
If it is (V), the terminal voltage ratio is 10/8 = 1.25.

【0918】横軸は、逆バイアス電圧Vmと1周期に逆
バイアス電圧を印加した時間t1の積に対する定格端子
電圧V0の比である。たとえば、60Hz(とくに60
Hzに意味はないが)で、逆バイアス電圧Vmを印加し
た時間が1/2(半分)であれば、t1=0.5であ
る。また、経過時間0時間において、電流密度100A
/平方メーターの電流の印加した時の端子電圧(定格端
子電圧)が8(V)とし、逆バイアス電圧Vmを8
(V)とすれば、|逆バイアス電圧×t1|/(定格端
子電圧×t2)=|−8(V)×0.5|/(8(V)
×0.5)=1.0となる。
The horizontal axis shows the ratio of the rated terminal voltage V0 to the product of the reverse bias voltage Vm and the time t1 when the reverse bias voltage is applied in one cycle. For example, 60Hz (especially 60
However, if the time when the reverse bias voltage Vm is applied is 1/2 (half), t1 = 0.5. Further, at the elapsed time of 0 hours, the current density is 100 A
/ The terminal voltage (rated terminal voltage) when a current of square meter is applied is 8 (V), and the reverse bias voltage Vm is 8
If (V), then | reverse bias voltage × t1 | / (rated terminal voltage × t2) = | −8 (V) × 0.5 | / (8 (V)
× 0.5) = 1.0.

【0919】図108によれば、|逆バイアス電圧×t
1|/(定格端子電圧×t2)が1.0以上で端子電圧
比の変化はなくなる(初期の定格端子電圧から変化しな
い)。逆バイアス電圧Vmの印加による効果がよく発揮
されている。しかし、|逆バイアス電圧×t1|/(定
格端子電圧×t2)が1.75以上で端子電圧比は増加
する傾向にある。したがって、|逆バイアス電圧×t1
|/(定格端子電圧×t2)は1.0以上にするように
逆バイアス電圧Vmの大きさおよび印加時間比t1(も
しくはt2、あるいはt1とt2との比率)を決定する
とよい。また、好ましくは、|逆バイアス電圧×t1|
/(定格端子電圧×t2)は1.75以下になるように
ように逆バイアス電圧Vmの大きさおよび印加時間比t
1などを決定するとよい。
According to FIG. 108, | reverse bias voltage × t
When 1 | / (rated terminal voltage × t2) is 1.0 or more, the terminal voltage ratio does not change (it does not change from the initial rated terminal voltage). The effect of applying the reverse bias voltage Vm is well exhibited. However, when | reverse bias voltage × t1 | / (rated terminal voltage × t2) is 1.75 or more, the terminal voltage ratio tends to increase. Therefore, | reverse bias voltage × t1
The magnitude of the reverse bias voltage Vm and the application time ratio t1 (or t2, or the ratio of t1 and t2) may be determined so that | / (rated terminal voltage × t2) is 1.0 or more. Further, preferably, | reverse bias voltage × t1 |
The magnitude of the reverse bias voltage Vm and the application time ratio t are set so that / (rated terminal voltage × t2) becomes 1.75 or less.
You may decide 1 or the like.

【0920】ただし、バイアス駆動を行う場合は、逆バ
イアスVmと定格電流とを交互に印加する必要がある。
図109のようにサンプルAとBとの単位時間あたりの
平均輝度を等しくしようとすると、逆バイアス電圧を印
加する場合は、印加しない場合に比較して瞬時的には高
い電流を流す必要がある。そのため、逆バイアス電圧V
mを印加する場合(図109のサンプルA)のEL素子
15の端子電圧も高くなる。
However, when the bias driving is performed, it is necessary to alternately apply the reverse bias Vm and the rated current.
When it is attempted to equalize the average brightness per unit time of the samples A and B as shown in FIG. 109, when a reverse bias voltage is applied, it is necessary to instantaneously pass a high current as compared with the case where no reverse bias voltage is applied. . Therefore, the reverse bias voltage V
When m is applied (Sample A in FIG. 109), the terminal voltage of the EL element 15 also becomes high.

【0921】しかし、図108では、逆バイアス電圧を
印加する駆動方法でも、定格端子電圧V0とは、平均輝
度を満足する端子電圧(つまり、EL素子15を点灯す
る端子電圧)とする(本明細書の具体例によれば、電流
密度200A/平方メーターの電流の印加した時の端子
電圧である。ただし、1/2デューティであるので、1
周期の平均輝度は電流密度200A/平方メーターでの
輝度となる)。
However, in FIG. 108, the rated terminal voltage V0 is the terminal voltage satisfying the average luminance (that is, the terminal voltage for lighting the EL element 15) even in the driving method in which the reverse bias voltage is applied (this specification). According to the specific example of the document, the terminal voltage is when the current density of 200 A / square meter is applied, but since it is 1/2 duty, it is 1
The average luminance of the cycle is the luminance at a current density of 200 A / square meter).

【0922】以上の事項は、EL素子15を、白ラスタ
ー表示(画面全体のEL素子に最大電流を印加している
場合)を想定している。しかし、EL表示装置の映像表
示を行う場合は、自然画であり、階調表示を行う。した
がって、たえず、EL素子15の白ピーク電流(最大白
表示で流れる電流。本明細書の具体例では、平均電流密
度100A/平方メーターの電流)が流れているのでは
ない。
The above items assume that the EL element 15 is a white raster display (when the maximum current is applied to the EL elements on the entire screen). However, when displaying an image on the EL display device, it is a natural image, and gradation display is performed. Therefore, the white peak current of the EL element 15 (current flowing at maximum white display; in the specific example of the present specification, average current density of 100 A / square meter of current) does not always flow.

【0923】一般的に、映像表示を行う場合は、各EL
素子15に印加される電流(流れる電流)は、白ピーク
電流(定格端子電圧時に流れる電流。本明細書の具体例
によれば、電流密度100A/平方メーターの電流)の
約0.2倍である。
[0923] Generally, when displaying an image, each EL is
The current applied to the element 15 (current flowing) is about 0.2 times the white peak current (current flowing at the rated terminal voltage. According to the specific example of the present specification, current density is 100 A / square meter current). is there.

【0924】したがって、図108の実施例では、映像
表示を行う場合は横軸の値に0.2をかけるものとする
必要がある。したがって、|逆バイアス電圧×t1|/
(定格端子電圧×t2)は0.2以上にするように逆バ
イアス電圧Vmの大きさおよび印加時間比t1(もしく
はt2、あるいはt1とt2との比率など)を決定する
とよい。また、好ましくは、|逆バイアス電圧×t1|
/(定格端子電圧×t2)は1.75×0.2=0.3
5以下になるようにように逆バイアス電圧Vmの大きさ
および印加時間比t1などを決定するとよい。
Therefore, in the embodiment shown in FIG. 108, it is necessary to multiply the value on the horizontal axis by 0.2 when displaying an image. Therefore, | reverse bias voltage × t1 | /
The magnitude of the reverse bias voltage Vm and the application time ratio t1 (or t2, or the ratio between t1 and t2) may be determined so that (rated terminal voltage × t2) is 0.2 or more. Further, preferably, | reverse bias voltage × t1 |
/ (Rated terminal voltage x t2) is 1.75 x 0.2 = 0.3
The magnitude of the reverse bias voltage Vm, the application time ratio t1 and the like may be determined so as to be 5 or less.

【0925】つまり、図108の横軸(|逆バイアス電
圧×t1|/(定格端子電圧×t2))において、1.
0の値を0.2とする必要がある。したがって、表示パ
ネルに映像を表示する(この使用状態が通常であろう。
白ラスターを常時表示することはないであろう)時は、
|逆バイアス電圧×t1|/(定格端子電圧×t2)が
0.2よりも大きくなるように、逆バイアス電圧Vmを
所定時間t1印加するようにする。また、|逆バイアス
電圧×t1|/(定格端子電圧×t2)の値が大きくな
っても、図108で図示するように、端子電圧比の増加
は大きくない。したがって、上限値は白ラスター表示を
実施することも考慮して、|逆バイアス電圧×t1|/
(定格端子電圧×t2)の値が1.75以下を満足する
ようにすればよい。
That is, on the horizontal axis of FIG. 108 (| reverse bias voltage × t1 | / (rated terminal voltage × t2)), 1.
The value of 0 must be 0.2. Therefore, the image is displayed on the display panel (this state of use will be normal.
It will not display the white raster all the time)
The reverse bias voltage Vm is applied for a predetermined time t1 so that | reverse bias voltage × t1 | / (rated terminal voltage × t2) becomes larger than 0.2. Further, even if the value of | reverse bias voltage × t1 | / (rated terminal voltage × t2) becomes large, the increase in the terminal voltage ratio is not large as shown in FIG. Therefore, considering the white raster display as the upper limit, | reverse bias voltage × t1 | /
The value of (rated terminal voltage × t2) may be set to satisfy 1.75 or less.

【0926】以下、図面を参照しながら、本発明の逆バ
イアス方式について説明をする。なお、本発明はEL素
子15に電流が流れていない期間に逆バイアス電圧Vm
(電流)を印加することを基本とする。しかし、これに
限定するものではない。たとえば、EL素子15に電流
が流れている状態で、強制的に逆バイアス電圧Vmを印
加してもよい。なお、この場合は、結果としてEL素子
15には電流が流れず、非点灯状態(黒表示状態)とな
るであろう。また、本発明は、主として電流プログラム
の画素構成で逆バイアス電圧Vmを印加することを中心
として説明するがこれに限定するものではない。たとえ
ば、図103においてTFT11eをオフさせ、図90
と同様に逆バイアス電圧VmをEL素子15のアノード
に印加する構成にすれば、電圧プログラム方式の画素構
成でも、以下に説明する逆バイアス電圧Vmの印加を容
易に実現することができる。しがたって、図108など
で説明した効果を発揮することができる。
The reverse bias method of the present invention will be described below with reference to the drawings. In the present invention, the reverse bias voltage Vm
It is basically applied (current). However, the present invention is not limited to this. For example, the reverse bias voltage Vm may be forcibly applied while a current is flowing through the EL element 15. In this case, as a result, no current will flow through the EL element 15, and the EL element 15 will be in a non-lighting state (black display state). Further, although the present invention is mainly described by applying the reverse bias voltage Vm in the pixel configuration of the current program, the present invention is not limited to this. For example, the TFT 11e is turned off in FIG.
Similarly to the above, if the reverse bias voltage Vm is applied to the anode of the EL element 15, the application of the reverse bias voltage Vm described below can be easily realized even in the pixel configuration of the voltage programming method. Therefore, the effects described with reference to FIG. 108 and the like can be exhibited.

【0927】図90は図1(a)の画素構成に逆バイア
ス電圧Vmを印加するスイッチングTFT11gを配置
あるいは形成している。TFT11gのゲート端子は制
御用のゲート信号線17dに接続されている。TFT1
1gをオンさせることによりVm電圧がEL素子15の
アノードに印加される。
In FIG. 90, a switching TFT 11g for applying a reverse bias voltage Vm is arranged or formed in the pixel configuration of FIG. 1 (a). The gate terminal of the TFT 11g is connected to the control gate signal line 17d. TFT1
By turning on 1 g, the Vm voltage is applied to the anode of the EL element 15.

【0928】図90は、本発明の逆バイアス電圧印加方
式の駆動方法の説明図である。まず、図107(a1)
に示すようにゲート信号線17aに電圧Vglが印加さ
れると、TFT11b、11cがオンする。すると、図
107(a2)で示すように、ソースドライバ14から
プログラム電流IwがTFT11cなどに流れ、コンデ
ンサ19に電流プログラムされる。なお、N倍に限定す
るものではないが、ここでは説明を容易にするため、N
倍の電流をプログラムし、EL素子15に1F/Nの期
間だけ、電流Idを流すものとする。
FIG. 90 is an explanatory diagram of the driving method of the reverse bias voltage applying system of the present invention. First, FIG. 107 (a1)
When the voltage Vgl is applied to the gate signal line 17a as shown in, the TFTs 11b and 11c are turned on. Then, as shown in FIG. 107 (a2), the program current Iw flows from the source driver 14 to the TFT 11c and the like, and the capacitor 19 is current-programmed. Note that the number is not limited to N times, but here, for ease of explanation, N times is set.
It is assumed that the doubled current is programmed and the current Id is supplied to the EL element 15 for a period of 1 F / N.

【0929】次に、図107(b1)に図示するよう
に、ゲート信号線17bに電圧Vghが印加され、TF
T11b、11cがオフする。同時(同時に限定するも
のではない)にゲート信号線17bに電圧Vglが印加
されると、TFT11dがオンする。すると、図107
(c2)で示すように、電源VddがTFT11aを介
して、電流プログラムされた電流IdがEL素子15に
流れる。したがって、図107(c1)に図示するよう
にEL素子15が発光する。この発光輝度は、プログラ
ムの変換効率が100%であれば、約N倍の輝度で発光
する。
Next, as shown in FIG. 107 (b1), the voltage Vgh is applied to the gate signal line 17b, and TF is applied.
T11b and 11c turn off. When the voltage Vgl is applied to the gate signal line 17b at the same time (not limited to the same time), the TFT 11d is turned on. Then, FIG.
As shown in (c2), the current Id, which is current-programmed, flows through the TFT 11a from the power supply Vdd to the EL element 15. Therefore, the EL element 15 emits light as shown in FIG. 107 (c1). As for the emission brightness, if the conversion efficiency of the program is 100%, the light emission is about N times as high.

【0930】発光期間は1F/Nである。残りの1F
(1−1/N)の期間はTFT11dがオフ状態であ
り、EL素子15は非点灯(黒表示)となる。黒表示は
EL素子15に全く電流が流れないため、完全な黒表示
を実現できる。また、発光時は白ピーク電流が大きいた
め、発光輝度も高い。そのため、本発明の駆動方法で
は、非常に高コントラスト表示を実現できる。
[0930] The light emitting period is 1 F / N. Remaining 1F
During the period (1-1 / N), the TFT 11d is in the off state, and the EL element 15 is not illuminated (black display). In the black display, no current flows through the EL element 15, so that a complete black display can be realized. Further, since the white peak current is large during light emission, the light emission brightness is also high. Therefore, the driving method of the present invention can realize a very high contrast display.

【0931】1Fの期間のすべてに、1倍の電流をEL
素子15に流した場合(従来の駆動方式)は、黒表示を
実現使用とすると、黒表示電流をコンデンサ19にプロ
グラムする必要がある。しかし、電流駆動方式では黒表
示時の電流値が小さいため、寄生容量の影響と大きく受
け十分な解像度がでないという課題が発生する。また、
黒浮きが発生するという課題も発生する。その上、ゲー
ト信号線17からの突き抜け電圧の影響も受ける。これ
らの課題により、黒表示部でもEL素子15が微点灯状
態となる。しがたって、コントラストは非常に悪くな
る。
[0931] During the period of 1F, the current of 1 time is applied
When the current is passed through the element 15 (conventional driving method), if black display is realized and used, it is necessary to program the black display current in the capacitor 19. However, in the current driving method, the current value at the time of black display is small, so that there is a problem that the resolution is largely affected by the parasitic capacitance and the resolution is insufficient. Also,
There is also a problem that black floating occurs. In addition, the penetration voltage from the gate signal line 17 is also affected. Due to these problems, the EL element 15 is in a slightly lit state even in the black display portion. Therefore, the contrast becomes very poor.

【0932】本発明の方式では、1F(1−1/N)の
期間は完全にEL素子15に電流が流れない。したがっ
て、完全な黒表示を実現できる。つまり、黒浮きが発生
しない。そのため、図52などで説明した黒表示のため
のプリチャージを行わなくとも高コントラスト表示を実
現できる。
In the system of the present invention, no current completely flows through the EL element 15 during the period of 1F (1-1 / N). Therefore, perfect black display can be realized. That is, the black floating does not occur. Therefore, high-contrast display can be realized without performing the precharge for black display described in FIG.

【0933】なお、もちろん、図90などで説明する方
式に図52などの方式を加えて実施してもよいことは言
うまでもない。また、高コントラスト表示を実現できる
ことは図54、図67、図103などの電圧プログラム
の画素構成でも同様に効果がある。1F/Nパルス駆動
を実施することにより、1F(1−1/N)の期間はE
L素子15に全く電流が流れず、高コントラスト表示を
実現できるからである。もちろん、画像表示を間欠にす
ることによる良好な動画表示を実現できる。
Of course, it goes without saying that the method shown in FIG. 90 or the like may be added to the method shown in FIG. 52 or the like. In addition, the fact that high contrast display can be realized is also similarly effective in the pixel configuration of the voltage program shown in FIG. 54, FIG. 67, FIG. By performing 1F / N pulse drive, the period of 1F (1-1 / N) is E
This is because no current flows through the L element 15 and high contrast display can be realized. Of course, good moving image display can be realized by intermittently displaying images.

【0934】また、画素構成によっては、突き抜け電圧
がEL素子15に流れる電流を増加させる方向に作用す
る場合は、白ピーク電流が増加し、画像表示のコントラ
スト感が増加する。したがって、良好な画像表示を実現
できる。
Also, depending on the pixel configuration, when the punch-through voltage acts in the direction of increasing the current flowing through the EL element 15, the white peak current increases and the contrast feeling of image display increases. Therefore, good image display can be realized.

【0935】図107(d1)に図示するように、ゲー
ト信号線17dにオン電圧を印加し、TFT11gをオ
ンさせる。この時、TFT11dはオフ状態をする。T
FT11gをオンさせることにより、EL素子15のア
ノード(なお、画素構成によっては、逆バイアス電圧V
mをEL素子15のカソードに印加する場合もある。ま
た、逆バイアス電圧Vmは正極性の電圧の場合もある)
に逆バイアス電圧Vm(逆バイアス電流Imが流れると
も表現できる。EL素子15は回路的にはコンデンサと
みなすことができるため、逆バイアス電圧の印加により
交流的に電流が流れるからである。また、蓄積された電
荷が放電されるからである。)が印加される。印加する
時間t1は図108の状態を満足するように構成する
(図107(d2))。
As shown in FIG. 107 (d1), an on voltage is applied to the gate signal line 17d to turn on the TFT 11g. At this time, the TFT 11d is turned off. T
By turning on the FT 11g, the anode of the EL element 15 (depending on the pixel configuration, the reverse bias voltage V
In some cases, m may be applied to the cathode of the EL element 15. Also, the reverse bias voltage Vm may be a positive voltage.
A reverse bias voltage Vm (also expressed as a reverse bias current Im flows). Since the EL element 15 can be regarded as a capacitor in terms of a circuit, an AC current flows when a reverse bias voltage is applied. This is because the accumulated charge is discharged.). The application time t1 is configured to satisfy the state of FIG. 108 (FIG. 107 (d2)).

【0936】逆バイアス電圧Vmを印加する期間はEL
素子15に電流Idが流れていない期間とすることが好
ましい。Idが流れていると、逆バイアス電圧とショー
ト状態が発生するからである(できないことはない)。
[0936] EL is applied during the period in which the reverse bias voltage Vm is applied.
It is preferable to set the period during which the current Id does not flow through the element 15. This is because when Id flows, a reverse bias voltage and a short-circuit state occur (which is not impossible).

【0937】なお、図107(d1)では逆バイアス電
圧Vmを印加する期間は1Fのうちの1箇所としたがこ
れに限定するものではなく、複数の分割(たとえば、1
Fの期間に、2回以上あるいは3回以上に分けてEL素
子15に逆バイアス電圧Vmを印加するなど)してもよ
い。
In FIG. 107 (d1), the period for applying the reverse bias voltage Vm is set to one of 1F, but the period is not limited to this, and it is not limited to this.
In the period of F, the reverse bias voltage Vm may be applied to the EL element 15 twice or more or three times or more).

【0938】この制御は容易である。ゲート信号線17
bにオフ電圧を印加している期間のうち、任意のタイミ
ングでゲート信号線17dにオンオフ電圧を印加すれば
よいからである。これらのオン時間の総和が図108で
説明したt1時間となるようにすればよい。
This control is easy. Gate signal line 17
This is because the on / off voltage may be applied to the gate signal line 17d at an arbitrary timing during the period in which the off voltage is applied to b. It suffices that the total sum of these ON times is t1 hours described with reference to FIG.

【0939】また、EL素子15に電流を流さない期間
1F(1−1/N)の期間が複数の期間に分割される場
合もある。分割することにより、フリッカの発生が抑制
される。EL素子15に電流を流さない期間1F(1−
1/N)の期間が複数の期間に分割された場合において
は、その期間に逆バイアス電圧Vmを印加すればよい。
ただし、分割されたEL素子15に電流を流さない期間
1F(1−1/N)のすべてに逆バイアス電圧Vmを印
加する必要はない。
Further, the period of the period 1F (1-1 / N) in which no current flows through the EL element 15 may be divided into a plurality of periods. The division suppresses the occurrence of flicker. The period 1F (1-
When the (1 / N) period is divided into a plurality of periods, the reverse bias voltage Vm may be applied during the period.
However, it is not necessary to apply the reverse bias voltage Vm to all of the divided periods of 1F (1-1 / N) during which no current flows through the EL element 15.

【0940】図109のように逆バイアス電圧を印加せ
ず、かつ、EL素子15にも電流が流れていない駆動方
法では、図108で説明した内容を補正(もしくは補
足)する必要がある。つまり、図108で説明した時間
t1とは逆バイアス電圧Vmを印加した時間である。ま
た、時間t2とはEL素子15に電流を印加した時間で
ある。
In the driving method in which the reverse bias voltage is not applied and the current does not flow in the EL element 15 as shown in FIG. 109, it is necessary to correct (or supplement) the contents described in FIG. That is, the time t1 described in FIG. 108 is the time when the reverse bias voltage Vm is applied. The time t2 is the time when the current is applied to the EL element 15.

【0941】なお、逆バイアス電圧Vmは直流的に固定
値である必要はない。Vm=−8(V)固定で印加する
ことである。つまり、逆バイアス電圧Vmはのこぎり歯
波形の信号としてもよく、パルス的な波形の信号として
もよい。また、サイン波の信号波形でもよい。この場合
では逆バイアス電圧とは、波形を積分したもの、あるい
は実効値とする。また、印加時間t1も不明確となる
が、Vm電圧を積分したもの実効値を矩形波形とし、こ
の矩形波形が印加されたとする時間をt1とすればよ
い。
The reverse bias voltage Vm does not have to be a DC fixed value. Vm = −8 (V) is fixed and applied. That is, the reverse bias voltage Vm may be a sawtooth waveform signal or a pulse waveform signal. Alternatively, a sine wave signal waveform may be used. In this case, the reverse bias voltage is an integrated value of the waveform or an effective value. Further, although the application time t1 is unclear, the effective value obtained by integrating the Vm voltage may be a rectangular waveform, and the time when the rectangular waveform is applied may be t1.

【0942】たとえば、逆バイアス電圧の波形が、図1
15(a)に図示する電圧波形(3角形波)であるとす
る。最大振幅値が16(V)、印加時間がt1=100
(μsec)であるとする。この場合は、図115
(b)に図示するように、最大振幅値が8(V)、印加
時間がt1=100(μsec)の電圧波形と等価であ
る。また、図115(c)に図示するように、最大振幅
値が16(V)、印加時間がt1=50(μsec)の
電圧波形と等価と見なして処理を行ってもよい。以上の
事項は、EL素子15に印加する正方向の電圧について
も同様である。
For example, the waveform of the reverse bias voltage is shown in FIG.
It is assumed that the voltage waveform (triangular wave) shown in FIG. Maximum amplitude value is 16 (V), application time is t1 = 100
(Μsec). In this case, FIG.
As shown in (b), it is equivalent to a voltage waveform with a maximum amplitude value of 8 (V) and an application time of t1 = 100 (μsec). Further, as shown in FIG. 115 (c), the processing may be performed by assuming that the voltage waveform has a maximum amplitude value of 16 (V) and an application time of t1 = 50 (μsec). The above items also apply to the positive voltage applied to the EL element 15.

【0943】同様の事項はEL素子15に流す電流Id
についても該当する。つまり、EL素子15に流す電流
(電圧)も直流ではなく、サイン波形の電流波形などに
する場合もあるからである。この場合も直流の実効値に
変換し、その矩形波の印加期間t2に換算すればよい。
The same items apply to the current Id flowing through the EL element 15.
Is also applicable. In other words, the current (voltage) flowing through the EL element 15 may not be a direct current, but may be a sine-shaped current waveform. In this case as well, it may be converted into an effective value of DC and converted into the application period t2 of the rectangular wave.

【0944】逆バイアス電圧Vmを印加する期間は、図
91(a)に図示するように、ゲート信号線17aにオ
ン電圧を印加する期間(通常、1H期間:プログラム期
間)以外のすべての期間を逆バイアス電圧Vmの印加期
間としてもよい。
As shown in FIG. 91 (a), the reverse bias voltage Vm is applied for all periods except the period for applying the ON voltage to the gate signal line 17a (normally, 1H period: program period). The application period of the reverse bias voltage Vm may be set.

【0945】また、EL素子15に電流Idを印加して
いない期間に逆バイアス電圧を印加すれはよいのである
から、図91(b)に図示するように、ゲート信号線1
7aにオン電圧を印加する期間(プログラム期間)を含
む期間に逆バイアス電圧Vmを印加するように構成して
もよい(図91(b)はEL素子15に電流Idを印加
している期間(ゲート信号線17bにオン電圧を印加し
ている期間)以外に逆バイアス電圧Vmを印加してい
る)。
[0945] Also, since it is acceptable to apply the reverse bias voltage to the EL element 15 while the current Id is not applied, as shown in Fig. 91 (b), the gate signal line 1
The reverse bias voltage Vm may be applied during a period including a period (program period) in which the ON voltage is applied to 7a (see FIG. 91 (b), a period in which the current Id is applied to the EL element 15 ( The reverse bias voltage Vm is applied except during the period when the ON voltage is applied to the gate signal line 17b).

【0946】なお、図91、図107などで説明した逆
バイアス電圧Vmの印加時間、印加方式、印加タイミン
グなどに関する事項は他の実施例にも適用される。
Note that the matters concerning the application time, the application method, the application timing, etc. of the reverse bias voltage Vm described with reference to FIGS. 91 and 107 are also applicable to the other embodiments.

【0947】以上のように、本発明では、1F期間に非
点灯期間312を有している。この非点灯期間を設ける
ことにより動画表示性能が向上する。また、非点灯時間
を設けているために、非点灯期間にEL素子15に逆バ
イアス電圧を印加できる。したがって、EL素子15が
劣化することがなく、端子電圧の上昇もない。そのた
め、電源電圧Vddも低く設定できる。
As described above, the present invention has the non-lighting period 312 in the 1F period. By providing this non-lighting period, the moving image display performance is improved. Further, since the non-lighting time is provided, the reverse bias voltage can be applied to the EL element 15 during the non-lighting period. Therefore, the EL element 15 does not deteriorate and the terminal voltage does not rise. Therefore, the power supply voltage Vdd can also be set low.

【0948】図91はEL素子15の直前に逆バイアス
電圧を印加するように構成したものであった。他の構成
として、図92に図示するように、TFT11dを介し
てEL素子15に逆バイアス電圧Vm(電流−Im)を
印加する構成も例示される。
In FIG. 91, the reverse bias voltage is applied immediately before the EL element 15. As another configuration, as illustrated in FIG. 92, a configuration in which a reverse bias voltage Vm (current −Im) is applied to the EL element 15 via the TFT 11d is also illustrated.

【0949】ゲート信号線17dにオン電圧を印加する
ことにより、TFT11gがオンし、逆バイアスVmが
印加される。同時にTFT11dもオンさせることによ
り、EL素子15に逆バイアス電圧を印加することがで
きる。図92の構成では、逆バイアス電圧Vmの印加
は、TFT11gとTFT11dの両方で制御すること
ができる。そのため、制御が容易になり、柔軟性が向上
する。
By applying an on-voltage to the gate signal line 17d, the TFT 11g is turned on and the reverse bias Vm is applied. At the same time, by turning on the TFT 11d as well, a reverse bias voltage can be applied to the EL element 15. In the configuration of FIG. 92, the application of the reverse bias voltage Vm can be controlled by both the TFT 11g and the TFT 11d. Therefore, control becomes easy and flexibility is improved.

【0950】ゲート信号線17に印加される電圧は、該
当画素が選択されている時にオン電圧が印加される。非
選択の期間はオフ電圧が印加される。したがって、ゲー
ト信号線に印加される電圧は1Fの期間のうち、ほとん
どの期間にオフ電圧が印加されている。したがって、オ
フ電圧を逆バイアス電圧として使用することができる。
As the voltage applied to the gate signal line 17, the ON voltage is applied when the corresponding pixel is selected. The off voltage is applied during the non-selected period. Therefore, as for the voltage applied to the gate signal line, the off voltage is applied in most of the period of 1F. Therefore, the off voltage can be used as the reverse bias voltage.

【0951】オフ電圧はTFTを完全にオフさせるた
め、通常、カソード電圧よりも低い電位である(もちろ
ん、TFTがPチャンネルの場合は逆である)。特にT
FTがアモルファスシリコンの場合は、オフ電圧はかな
り低く設定されることが通常である。
The off voltage is normally lower than the cathode voltage because it turns off the TFT completely (of course, the opposite is true when the TFT is a P channel). Especially T
When the FT is amorphous silicon, the off voltage is usually set to be quite low.

【0952】図93の構成では、ゲート信号線17aに
接続されたTFT11b、11cをnチャンネルTFT
としている。したがって、電圧VghでTFT11b,
11cはオンし、電圧Vglでオフ状態となる。1Fの
ほとんどの期間はゲート信号線17bには電圧Vglが
印加されている。この電圧Vhlを逆バイアス電圧Vm
とする(Vgl=Vm)。
In the configuration of FIG. 93, the TFTs 11b and 11c connected to the gate signal line 17a are n-channel TFTs.
I am trying. Therefore, at the voltage Vgh, the TFT 11b,
11c is turned on and turned off at the voltage Vgl. The voltage Vgl is applied to the gate signal line 17b during most of 1F. This voltage Vhl is the reverse bias voltage Vm
(Vgl = Vm).

【0953】TFT11gも先の実施例と同様にゲート
信号線17dに印加する電圧で制御する。なお、断って
おくが、ゲート信号線17dに印加する電圧はTFT1
1gのオンオフを制御するものであるから、印加する電
圧はVgh,Vglに特定されるものではなく、他の任
意の電圧を使用することができる。
The TFT 11g is also controlled by the voltage applied to the gate signal line 17d as in the previous embodiment. Note that the voltage applied to the gate signal line 17d is TFT1
Since the on / off of 1 g is controlled, the applied voltage is not limited to Vgh and Vgl, and any other voltage can be used.

【0954】TFT11gがオンすると、ゲート信号線
17aに印加されている電圧VglがEL素子15に印
加される。したがって、EL素子15に逆バイアス電圧
Vmを印加することができる。図93の構成では、図9
2のように逆バイアス電圧Vmを供給する信号線が不要
であるため、画素開口率を向上できる。なお、図93に
おいて。ゲート信号線17bに印加する電圧をEL素子
15に印加するように構成してもよい(TFT11dは
nチャンネルにするなど構成に考慮する必要はある)。
When the TFT 11g is turned on, the voltage Vgl applied to the gate signal line 17a is applied to the EL element 15. Therefore, the reverse bias voltage Vm can be applied to the EL element 15. In the configuration of FIG. 93,
Since the signal line for supplying the reverse bias voltage Vm as in 2 is unnecessary, the pixel aperture ratio can be improved. Note that in FIG. 93. It may be configured so that the voltage applied to the gate signal line 17b is applied to the EL element 15 (it is necessary to consider the configuration such that the TFT 11d is an n-channel).

【0955】図93はゲート信号線17の電圧を逆バイ
アス電圧にする構成であった。図94はソース信号線1
8に印加された電圧をEL素子15の逆バイアス電圧と
する構成である。TFT11gがオンするタイミング
で、ソース信号線18に逆バイアス電圧Vmを印加す
る。ソース信号線18に印加されている電圧VmがEL
素子15に印加される。したがって、EL素子15に逆
バイアス電圧Vmを印加することができる。タイミング
などは図52で説明しているので省略する。
FIG. 93 has a configuration in which the voltage of the gate signal line 17 is set to the reverse bias voltage. 94 shows the source signal line 1
In this configuration, the voltage applied to 8 is used as the reverse bias voltage of the EL element 15. The reverse bias voltage Vm is applied to the source signal line 18 at the timing when the TFT 11g is turned on. The voltage Vm applied to the source signal line 18 is EL
It is applied to the element 15. Therefore, the reverse bias voltage Vm can be applied to the EL element 15. The timing and the like have been described with reference to FIG.

【0956】逆バイアス電圧Vmを印加する時間が、E
L素子15に電流を印加している期間に比較して長いと
きは、図95に図示するように、EL素子15のアノー
ドとカソード端子間をショートすることも効果がある。
EL素子15にチャージされた電圧が放電されるからで
ある。
The time for applying the reverse bias voltage Vm is E
When it is longer than the period in which the current is applied to the L element 15, as shown in FIG. 95, it is also effective to short the anode and cathode terminals of the EL element 15.
This is because the voltage charged in the EL element 15 is discharged.

【0957】図95において、TFT11gがオンする
と、EL素子15のアノードとカソード端子間がショー
トされる。ショートによりEL素子15の正孔輸送層に
蓄積された正孔が引き抜かれ、また、電子輸送層に蓄積
された電子も引き抜かれる。したがって、EL素子の劣
化を抑制できる。なお、図91、図107などで説明し
た逆バイアス電圧Vmの印加時間、印加方式、印加タイ
ミングなどに関する事項は図95の実施例などにも適用
されることは言うまでもない。
[0957] In Fig. 95, when the TFT 11g is turned on, the anode and cathode terminals of the EL element 15 are short-circuited. Due to the short circuit, the holes accumulated in the hole transport layer of the EL element 15 are extracted, and the electrons accumulated in the electron transport layer are also extracted. Therefore, deterioration of the EL element can be suppressed. Needless to say, the matters concerning the application time, the application method, the application timing, etc. of the reverse bias voltage Vm described with reference to FIGS. 91 and 107 are also applicable to the embodiment of FIG.

【0958】図95は各TFTがpチャンネルで構成さ
れていた。図96は図95の構成をnチャンネルに変化
させたものである。図96において、TFT11gがオ
ンすると、EL素子15のアノードとカソード端子間が
ショートされる。アノードおよびカソード端子にVdd
電圧が印加される。この期間にEL素子15の正孔輸送
層に蓄積された正孔が引き抜かれ、また、電子輸送層に
蓄積された電子も引き抜かれる。したがって、EL素子
の劣化を抑制できる。なお、図95と同様に、図91、
図107などで説明した逆バイアス電圧Vmの印加時
間、印加方式、印加タイミングなどに関する事項は図9
6の実施例などにも適用されることは言うまでもない。
In FIG. 95, each TFT is composed of p-channel. FIG. 96 shows the configuration of FIG. 95 changed to n channels. In FIG. 96, when the TFT 11g is turned on, the anode and cathode terminals of the EL element 15 are short-circuited. Vdd on the anode and cathode terminals
A voltage is applied. During this period, the holes accumulated in the hole transport layer of the EL element 15 are extracted, and the electrons accumulated in the electron transport layer are also extracted. Therefore, deterioration of the EL element can be suppressed. Note that, as in FIG.
Items such as the application time, the application method, and the application timing of the reverse bias voltage Vm described in FIG.
It goes without saying that this is also applied to the sixth embodiment and the like.

【0959】電流の流れる制御方向を変化させることに
よっても、EL素子15に逆バイアス電圧Vmを印加す
ることができる。図97はその構成図である。図97に
おいて、402は定電流源である。
The reverse bias voltage Vm can be applied to the EL element 15 also by changing the control direction in which the current flows. FIG. 97 is a block diagram thereof. In FIG. 97, 402 is a constant current source.

【0960】図97において、TFT11gがオンして
いるときには、TFT11gには定電流源402と同一
方向の電流が流れる。したがって、EL素子402には
順方向電圧が印加される。TFT11gがオフの時に
は、EL素子15と電流源402とでループを構成する
ためEL素子15に流れる電流の向きが逆になる。つま
り、定電流源402を配置または形成することにより、
TFT11gの制御でEL素子15に容易に逆バイアス
電圧Vmを印加することができる。この時の、信号線1
7のタイミングを図98に示す。ゲート信号線17aが
選択されている期間以外の期間にゲート信号線17dに
オン電圧が印加されている。
In FIG. 97, when the TFT 11g is on, a current in the same direction as the constant current source 402 flows through the TFT 11g. Therefore, a forward voltage is applied to the EL element 402. When the TFT 11g is off, the EL element 15 and the current source 402 form a loop, so that the direction of the current flowing through the EL element 15 is reversed. That is, by disposing or forming the constant current source 402,
The reverse bias voltage Vm can be easily applied to the EL element 15 by controlling the TFT 11g. Signal line 1 at this time
The timing of No. 7 is shown in FIG. The ON voltage is applied to the gate signal line 17d during a period other than the period in which the gate signal line 17a is selected.

【0961】したがって、EL素子15の正孔輸送層に
蓄積された正孔が引き抜かれ、また、電子輸送層に蓄積
された電子も引き抜かれる。したがって、正孔輸送材料
の酸化および電子輸送材料の還元による劣化を抑制でき
る。
Therefore, the holes accumulated in the hole transport layer of EL element 15 are extracted, and the electrons accumulated in the electron transport layer are also extracted. Therefore, deterioration of the hole transport material due to oxidation and reduction of the electron transport material can be suppressed.

【0962】図99はTFT11gをnチャンネルと
し、TFT11dがオンしているときはTFT11gを
オフ状態にし、TFT11dがオフしているときはTF
T11gをオン状態にした構成である。したがって、T
FT11dがオンしているときはEL素子15が点灯
し、TFT11gがオンしているときにはEL素子15
に逆バイアス電圧Vmが印加される。
In FIG. 99, the TFT 11g is an n-channel, the TFT 11g is in the off state when the TFT 11d is on, and the TF is when the TFT 11d is off.
In this configuration, T11g is turned on. Therefore, T
The EL element 15 is turned on when the FT 11d is turned on, and the EL element 15 is turned on when the TFT 11g is turned on.
A reverse bias voltage Vm is applied to.

【0963】逆バイアス電圧Vmはカソード電圧Vkよ
りも低い電圧にすることが有効である。しかし、逆バイ
アス電圧Vmを別途発生させようとすると、発生回路が
必要である。この課題に対して、図100ではフライン
グコンデンサを形成している。フライングコンデンサ回
路1001は画素ごとに配置(形成)するほか、パネル
に1回路を配置(形成)してもよい。
It is effective to set the reverse bias voltage Vm to a voltage lower than the cathode voltage Vk. However, in order to separately generate the reverse bias voltage Vm, a generation circuit is required. To cope with this problem, a flying capacitor is formed in FIG. The flying capacitor circuit 1001 may be arranged (formed) for each pixel, or one circuit may be arranged (formed) on the panel.

【0964】フライングコンデンサ1001はゲート信
号線17e,17fを制御することにより動作させる。
ゲート信号線17eとゲート信号線17fとは逆位相で
動作させる。
The flying capacitor 1001 is operated by controlling the gate signal lines 17e and 17f.
The gate signal line 17e and the gate signal line 17f are operated in opposite phases.

【0965】まず、ゲート信号線17eにオン電圧を印
加し、TFT11i,11jをオンさせ、コンデンサ1
9bにVdd電圧を印加する。この時、ゲート信号線1
7fにはオフ電圧を印加し、コンデンサ19bに充電
後、TFT11h,11kをオフさせておく。
First, an on-voltage is applied to the gate signal line 17e to turn on the TFTs 11i and 11j, and the capacitor 1
The Vdd voltage is applied to 9b. At this time, the gate signal line 1
An off voltage is applied to 7f to charge the capacitor 19b, and then the TFTs 11h and 11k are turned off.

【0966】次に、ゲート信号線17eにオン電圧を印
加し、TFT11i,11jをオフさせ、ゲート信号線
17fにはオン電圧を印加し、TFT11h,11kを
オンさせる。すると、コンデンサ19bに充電された電
圧Vddは逆位相となってEL素子15に、−Vdd電
圧が印加される。
Next, an ON voltage is applied to the gate signal line 17e to turn off the TFTs 11i and 11j, and an ON voltage is applied to the gate signal line 17f to turn on the TFTs 11h and 11k. Then, the voltage Vdd charged in the capacitor 19b has an opposite phase, and the −Vdd voltage is applied to the EL element 15.

【0967】以上のように構成することにより、逆位相
のVm電圧(Vm=−Vdd)を発生させることができ
る。したがって、Vm電圧の供給配線は不要となる。
With the above-mentioned structure, the Vm voltage (Vm = -Vdd) having the opposite phase can be generated. Therefore, the Vm voltage supply wiring is not required.

【0968】以上の実施例は、主として図1で説明した
電流プログラム方式の画素構成を例示して説明したが、
これに限定するものではなく、図101に図示するよう
に、カレントミラーの画素構成でも、逆バイアス電圧V
mを印加できるように構成できることは言うまでもな
い。なお、動作は図90で説明した構成をそのまま準用
できるので省略する。また、図89に図示するように、
電圧プログラムの画素構成であっても、逆バイアス電圧
を印加できることは言うまでもない。図54、図67、
図103などでも同様である。したがって、電圧プログ
ラムの画素構成でも非点灯時にEL素子15に逆バイア
ス電圧を印加するという構成あるいは方式を適用するこ
とができる。
Although the above embodiments have been described mainly by exemplifying the pixel configuration of the current programming method described in FIG.
The present invention is not limited to this, and as shown in FIG. 101, even in the pixel configuration of the current mirror, the reverse bias voltage V
It goes without saying that it can be configured so that m can be applied. Note that the operation will not be described because the configuration described in FIG. Also, as shown in FIG. 89,
It goes without saying that the reverse bias voltage can be applied even with the pixel configuration of the voltage program. 54, 67,
The same applies to FIG. 103 and the like. Therefore, even in the pixel configuration of the voltage program, the configuration or method of applying the reverse bias voltage to the EL element 15 at the time of non-lighting can be applied.

【0969】なお、以上の実施例では、本発明は、非点
灯時にEL素子15に逆バイアス電圧を印加するという
構成あるいは方式であるとして説明をした。これは、表
示21を表示し、EL素子15を非点灯時に、EL素子
15に逆バイアス電圧Vmを印加することに限定される
ものではない。アクティブマトリックス型EL表示パネ
ルにおいて、たえず、非点灯時に逆バイアスを印加する
構成でも本発明の範疇である。
In the above embodiments, the present invention has been described as a configuration or system in which a reverse bias voltage is applied to the EL element 15 when it is not lit. This is not limited to displaying the display 21 and applying the reverse bias voltage Vm to the EL element 15 when the EL element 15 is not lit. In the active matrix EL display panel, a configuration in which a reverse bias is constantly applied when the LED is not lit is also within the scope of the present invention.

【0970】たとえば、EL表示パネルの使用を終了
し、終了してから所定期間の間、全画面21のEL素子
15に逆バイアス電圧Vmを印加するように構成しても
よい。また、EL表示パネルの使用を終了してから所定
期間の間、全画面21のEL素子15を順次走査して逆
バイアス電圧Vmを印加するように構成してもよい。ま
た、EL表示パネルの使用する際(たとえば、電源on
時)、所定の時間の間。全画面21のEL素子15を順
次走査して逆バイアス電圧Vmを印加するように構成し
てもよい。また、EL表示パネルを使用していないと
き、所定時間間隔(例えば、1時間ごとに10秒間のよ
うに)ごとに、逆バイアス電圧を印加するように構成し
てもよい。逆に、EL表示パネルを使用している時、所
定時間間隔(例えば、1時間ごとに10秒間のように)
ごとに、逆バイアス電圧を印加するように構成してもよ
い。
For example, the reverse bias voltage Vm may be applied to the EL elements 15 of the entire screen 21 for a predetermined period after the use of the EL display panel is finished. Further, the EL element 15 of the entire screen 21 may be sequentially scanned and the reverse bias voltage Vm may be applied for a predetermined period after the use of the EL display panel is completed. In addition, when using the EL display panel (for example, power on
Hour), during a predetermined time. The EL elements 15 of the entire screen 21 may be sequentially scanned to apply the reverse bias voltage Vm. Further, when the EL display panel is not used, the reverse bias voltage may be applied at predetermined time intervals (for example, every 10 hours for every 1 hour). On the contrary, when using the EL display panel, a predetermined time interval (for example, 10 seconds every 1 hour)
Alternatively, a reverse bias voltage may be applied to each.

【0971】以上の実施例は、EL素子15に電流を流
さない期間に逆バイアス電圧Vmを印加するという構成
であった。しかし、逆バイアスを印加する構成はこれに
限定されない。たとえば、本発明の表示パネルを携帯電
話に使用した構成で例示すると、携帯電話を使用してい
ない時に、逆バイアスを印加するという構成がある。
The above-mentioned embodiments have the configuration in which the reverse bias voltage Vm is applied during the period when no current is applied to the EL element 15. However, the configuration for applying the reverse bias is not limited to this. For example, when the display panel of the present invention is used in a mobile phone, the reverse bias is applied when the mobile phone is not used.

【0972】たとえば、携帯電話の電源スイッチが押さ
れた後、所定期間の間は、EL素子15に逆バイアス電
圧Vmを印加するという構成が例示される。また、携帯
電話を使用後、所定期間はEL素子15に逆バイアス電
圧を印加するという構成も例示される。あるいは、折り
たたみ式の携帯電話の場合、折りたたみ状態から使用状
態にした時、所定期間の間、EL素子15に逆バイアス
電圧を印加するという構成、逆に、使用状態から折りた
たみ状態にした時、所定期間の間、EL素子15に逆バ
イアス電圧を印加するという構成が例示される。
For example, a configuration in which the reverse bias voltage Vm is applied to the EL element 15 for a predetermined period after the power switch of the mobile phone is pressed is illustrated. Further, a configuration in which a reverse bias voltage is applied to the EL element 15 for a predetermined period after using the mobile phone is also exemplified. Alternatively, in the case of a foldable mobile phone, when the folded state is changed to the used state, a reverse bias voltage is applied to the EL element 15 for a predetermined period, and conversely, when the folded state is changed from the used state to the predetermined state. A configuration in which a reverse bias voltage is applied to the EL element 15 during the period is illustrated.

【0973】図321は、上記の実施例である。図32
1は説明を容易にするため、1画素を図示しているが、
実際は、画素が176RGB×220などのようにマト
リックス状に配置されている。
FIG. 321 shows the above embodiment. Figure 32
1 shows one pixel for ease of explanation,
Practically, the pixels are arranged in a matrix like 176 RGB × 220.

【0974】図321において、3211は電圧検出回
路である。電圧検出回路3211は電源ボタンが押され
たことを検出する。電圧検出回路3211は電圧を検出
すると、ゲートドライブ回路14bに信号を出力し、ゲ
ートドライバ回路14bを動作させる。
In FIG. 321, reference numeral 3211 denotes a voltage detection circuit. The voltage detection circuit 3211 detects that the power button is pressed. When the voltage detection circuit 3211 detects the voltage, it outputs a signal to the gate drive circuit 14b to operate the gate driver circuit 14b.

【0975】ゲートドライブ回路14bはゲート信号線
17dにオン電圧を出力し、TFT11gをオンさせ
る。TFT11gのオンにより逆バイアス電圧VmがE
L素子15のアノードに印加される。
The gate drive circuit 14b outputs an on voltage to the gate signal line 17d to turn on the TFT 11g. When the TFT 11g is turned on, the reverse bias voltage Vm becomes E.
It is applied to the anode of the L element 15.

【0976】以上のように、図321の構成では、電圧
検出を行い、一定の期間の間、EL素子15に逆バイア
ス電圧Vmを印加する。逆バイアス電圧を印加している
時は、ソースドライバ回路14などは動作させないよう
にする。
As described above, in the configuration of FIG. 321, voltage detection is performed and the reverse bias voltage Vm is applied to the EL element 15 for a certain period. When the reverse bias voltage is applied, the source driver circuit 14 and the like are not operated.

【0977】図43において画素を構成するTFT11
は5個となっている。しかし、図1(a)では4個で構
成されている。そのため、図1(a)の構成のほうが画
素16を構成するTFT11数が1個少ないため、開口
率を高くでき、また、画素欠陥の発生割合が少ないとい
う利点がある。
[0977] In FIG. 43, the TFT 11 that constitutes a pixel
Is 5. However, in FIG. 1 (a), it is composed of four pieces. Therefore, the configuration shown in FIG. 1A has the advantages that the number of TFTs 11 constituting the pixel 16 is one less, so that the aperture ratio can be increased and the pixel defect occurrence rate is small.

【0978】図44も電流プログラム方式の画素構成で
ある。ゲート信号線17aにオン電圧を印加することに
より、電流プログラムを行うことができる。また、ゲー
ト信号線17bにオフ電圧を印加し、ゲート信号線17
bにオン電圧を印加することによりEL素子15にプロ
グラムされた電流を流すことができる。
FIG. 44 also shows the pixel configuration of the current program system. Current programming can be performed by applying an on-voltage to the gate signal line 17a. Further, by applying an off voltage to the gate signal line 17b,
A programmed current can be passed through the EL element 15 by applying an on-voltage to b.

【0979】図44の構成においてもゲート信号線17
cにオン電圧またはオフ電圧を印加することにより、E
L素子15に流す電流を制御することができ、図31な
どに図示した駆動方法あるいは表示状態を実現できる。
Also in the configuration of FIG. 44, gate signal line 17
By applying an on-voltage or an off-voltage to c, E
The current flowing through the L element 15 can be controlled, and the driving method or display state shown in FIG. 31 or the like can be realized.

【0980】なお、図44ではTFT11eを付加した
が、このTFT11eを削除し、ゲート信号線17bを
操作し、TFT11dのオンオフ状態を制御することに
よっても、図31などの画像表示などを実現できること
は言うまでもない。
Although the TFT 11e is added in FIG. 44, it is possible to realize the image display such as FIG. 31 by deleting the TFT 11e, operating the gate signal line 17b, and controlling the on / off state of the TFT 11d. Needless to say.

【0981】図53も電流プログラム方式の画素構成で
ある。ゲート信号線17aにオン電圧を印加することに
より、電流プログラムを行うことができる。また、ゲー
ト信号線17bにオフ電圧を印加し、ゲート信号線17
bにオン電圧を印加することによりEL素子15にプロ
グラムされた電流を流すことができる。
FIG. 53 also shows a pixel configuration of a current programming method. Current programming can be performed by applying an on-voltage to the gate signal line 17a. Further, by applying an off voltage to the gate signal line 17b,
A programmed current can be passed through the EL element 15 by applying an on-voltage to b.

【0982】図53の構成においてもゲート信号線17
cにオン電圧またはオフ電圧を印加することにより、T
FT11dのオンオフを実現できるから、EL素子15
に流す電流を制御することができる。したがって、図3
1などに図示した駆動方法あるいは表示状態を実現でき
る。
Also in the configuration of FIG. 53, gate signal line 17
By applying an on-voltage or an off-voltage to c, T
Since the FT 11d can be turned on and off, the EL element 15
It is possible to control the electric current flowing through the device. Therefore, FIG.
The driving method or display state shown in FIG.

【0983】なお、図54は電圧プログラムの画素構成
の例である。本発明は、1フィールドあるいは1フレー
ム(1F、もちろん2Fあるいはそれ以上を1区切りと
することも考えられる)の所定時間にEL素子15に流
す電流の印加時間を制御することにより所定の発光輝度
を得る方法である。ELに流す電流は所定輝度より高く
し、所定より高い輝度分はオン時間を短くすることによ
り所定輝度を得る方法である。
Note that FIG. 54 shows an example of the pixel configuration of voltage programming. The present invention controls the application time of the current flowing through the EL element 15 for a predetermined time of one field or one frame (1F, of course, 2F or more may be considered as one segment), and thereby a predetermined light emission brightness is obtained. Is the way to get. This is a method of obtaining a predetermined brightness by making the current flowing through the EL higher than the predetermined brightness and shortening the ON time for the brightness higher than the predetermined brightness.

【0984】図103も電圧プログラムによる画素構成
である。図103において、19aはしきい値検出用容
量,19bは入力信号電圧保持用容量(コンデンサ)で
ある。
FIG. 103 also shows a pixel configuration by voltage programming. In FIG. 103, 19a is a capacitance for detecting a threshold, and 19b is a capacitance (capacitor) for holding an input signal voltage.

【0985】ステップ1(区間1)では、前記TFT1
1aからTFT11eをすべてONにして一旦前記駆動
トランジスタをON状態にしているので、しきい値のば
らつきによる電流値のずれが発生する。
In step 1 (section 1), the TFT1
Since the TFTs 11e are all turned on from 1a to turn on the drive transistor once, the deviation of the current value occurs due to the variation of the threshold value.

【0986】ステップ2(区間2)では、前記TFT1
1b、TFT11dはONのまま前記TFT11c、T
FT11eをOFFにすることにより、前記駆動トラン
ジスタ11aの電流値が0になるので、前記駆動トラン
ジスタ11aのしきい値が前記しきい値検出用容量19
aに検出される。
[0987] In step 2 (section 2), the TFT1
1b, the TFT 11d remains ON, and the TFTs 11c, T
When the FT 11e is turned off, the current value of the drive transistor 11a becomes 0, so that the threshold value of the drive transistor 11a is set to the threshold value detection capacitor 19
a is detected.

【0987】ステップ3(区間3)では、前記TFT1
1b、TFT11dをOFFにして前記TFT11c、
TFT11eをONにすることにより、前記データ信号
線の入力信号電圧を前記入力信号電圧保持用容量19b
に保持すると同時に、前記駆動トランジスタ11aのゲ
ートに前記入力信号電圧にしきい値を加えた信号電圧を
印加して前記EL素子15を電流駆動して発光される。
In step 3 (section 3), the TFT1
1b, the TFT 11d is turned off, the TFT 11c,
By turning on the TFT 11e, the input signal voltage of the data signal line is changed to the input signal voltage holding capacitor 19b.
At the same time, the signal voltage obtained by adding a threshold value to the input signal voltage is applied to the gate of the drive transistor 11a to current-drive the EL element 15 to emit light.

【0988】駆動トランジスタ11aは飽和領域で動作
しているので、ゲート電圧からしきい値を引いた電圧値
の2乗に比例した電流が流れるが、ゲート電圧には前記
しきい値検出用容量11aによりしきい値がすでに印加
されているので、結果的にしきい値はキャンセルされ
る。従って、駆動トランジスタ11aのしきい値がばら
ついてもシミュレーション結果に示すように、常に一定
の電流値がEL素子15に流れることになる。
Since the driving transistor 11a operates in the saturation region, a current proportional to the square of the voltage value obtained by subtracting the threshold value from the gate voltage flows, but the gate voltage has the threshold detecting capacitance 11a. As a result, the threshold value is already applied, so that the threshold value is canceled. Therefore, even if the threshold value of the driving transistor 11a varies, a constant current value always flows through the EL element 15 as shown in the simulation result.

【0989】ステップ4(区間4)では、画素16が非
選択期間に入ったとき、TFT11b、TFT11dは
OFF、TFT11eはONのまま、TFT11cをO
FFにしても、入力信号電圧保持用容量19bに保持さ
れた入力信号電圧と前記しきい値検出用容量により保持
されたしきい値電圧が駆動トランジスタ11aのゲート
に印加されているので、EL素子15には電流が流れ続
けて発光し続ける。
In step 4 (section 4), when the pixel 16 enters the non-selection period, the TFT 11b and the TFT 11d are turned off, the TFT 11e is turned on, and the TFT 11c is turned on.
Even in the FF, since the input signal voltage held in the input signal voltage holding capacitor 19b and the threshold voltage held by the threshold detecting capacitor are applied to the gate of the drive transistor 11a, the EL element The current continues to flow through 15 and continues to emit light.

【0990】以上のように、より正確に前記駆動トラン
ジスタのしきい値を検出するためには、第1ステップの
期間として2μsec以上10μsec以下に設定し、第2ス
テップの期間として2μsec以上10μsec以下に設定す
ることが必要である。書き込みあるいは動作時間を十分
に確保するためである。しかし、あまりに長いと本来の
電圧プログラム時間が短くなり安定性がなくなる。
As described above, in order to detect the threshold value of the driving transistor more accurately, the period of the first step is set to 2 μsec or more and 10 μsec or less, and the period of the second step is set to 2 μsec or more and 10 μsec or less. It is necessary to set. This is to secure sufficient writing or operation time. However, if it is too long, the original voltage programming time becomes short and the stability is lost.

【0991】したがって、図54の電圧プログラム方式
でも、本発明の駆動方法あるいは表示装置を実施するこ
とは効果がある。図54において、ゲート信号線17b
を制御することにより、TFT11dをオンオフさせる
ことができる。したがって、EL素子15に流れる電流
を間欠させることができる。また、図54、図67、図
103においても、ゲート信号線17cの制御により、
TFT11eをオンオフ制御することができる。そのた
め、図31、図32などの表示状態を実現できる。
Therefore, it is effective to implement the driving method or the display device of the present invention even in the voltage programming method of FIG. In FIG. 54, the gate signal line 17b
The TFT 11d can be turned on and off by controlling the. Therefore, the current flowing through the EL element 15 can be made intermittent. Further, also in FIGS. 54, 67, and 103, by controlling the gate signal line 17c,
The TFT 11e can be on / off controlled. Therefore, the display states shown in FIGS. 31 and 32 can be realized.

【0992】また、EL素子15に流れる電流をN倍
し、TFT11eのオンオフ状態を制御することによ
り、1/Nの期間点灯させるという駆動方式(なお、N
倍あるいは1/Nに限定されるものではない)を実現で
きることは明らかである。つまり、本発明は、図1の電
流プログラムの画素構成のみに限定されるものではな
く、図54、図67、図103、図121などの電圧プ
ログラムの画素構成でも、本発明の駆動方式を実現する
ことができる。したがって、本明細書で記載した事項は
本明細書で記載あるいは図示した画素構成あるいは装置
などに適用することができる。
[0992] Further, the driving method of turning on the EL element 15 by N times and controlling the on / off state of the TFT 11e to turn on the light for a period of 1 / N (N
It is clear that the present invention can be realized (not limited to double or 1 / N). That is, the present invention is not limited to only the pixel configuration of the current program shown in FIG. 1, but the driving scheme of the present invention is also realized with the pixel configurations of the voltage program shown in FIGS. 54, 67, 103, 121 and the like. can do. Therefore, the matters described in this specification can be applied to the pixel configuration or device described or illustrated in this specification.

【0993】同様に図54、図67、図68も電圧プロ
グラムの画素構成である。図54、図67、図68にお
いて、ゲート信号線17bを制御することにより、TF
T11eをオンオフさせることができる。したがって、
EL素子15に流れる電流を間欠させることができる。
そのため、図31、図32などの表示状態を実現でき
る。したがって、容易にアニメーション効果を実現でき
る。また、多彩な画像表示を実現できる。他の事項、あ
るいは動作は図103と同様あるいは類似するので説明
を省略する。
Similarly, FIG. 54, FIG. 67, and FIG. 68 also have pixel configurations for voltage programming. 54, 67, and 68, TF is controlled by controlling the gate signal line 17b.
T11e can be turned on and off. Therefore,
The current flowing through the EL element 15 can be intermittent.
Therefore, the display states shown in FIGS. 31 and 32 can be realized. Therefore, the animation effect can be easily realized. Also, various image displays can be realized. Since other matters and operations are similar or similar to those in FIG. 103, description thereof will be omitted.

【0994】なお、以上の事項は図52、図90などで
説明した逆バイアス電圧Vm印加方式に関しても適用す
ることができることは言うまでもない。また、逆バイア
ス電圧VmはR、G、B画素ごとに電圧値を異ならせて
もよい。その場合は、逆バイアス電圧を制御するTFT
のゲート信号線の本数が増加する。各R、G、BのEL
素子15は、それぞれ、端子電圧、印加電流が異なるか
らである。たとえば、R画素のEL素子には、−15
(V)を印加し、GとB画素のEL素子には−12
(V)を印加するという方式である。
Needless to say, the above items can be applied to the reverse bias voltage Vm application method described with reference to FIGS. 52 and 90. The reverse bias voltage Vm may have different voltage values for each of R, G, and B pixels. In that case, a TFT that controls the reverse bias voltage
The number of gate signal lines is increased. EL of each R, G, B
This is because the element 15 has different terminal voltages and applied currents. For example, for the EL element of the R pixel, −15
(V) is applied, and -12 is applied to the EL elements of the G and B pixels.
This is a method of applying (V).

【0995】また、各R、G、BのEL素子15に印加
する逆バイアス電圧(電流)の印加時間を異ならせても
よい。それぞれ、RGB画素ごとに、端子電圧、印加電
流が異なるからである。たとえば、R画素のEL素子に
は、1Fの1/2の時間だけ逆バイアス電圧Vmを印加
し、GとB画素のEL素子には1Fの1/3の時間だけ
逆バイアス電圧Vmを印加するという方式である。
Also, the application time of the reverse bias voltage (current) applied to the R, G, and B EL elements 15 may be different. This is because the terminal voltage and applied current are different for each RGB pixel. For example, the reverse bias voltage Vm is applied to the EL element of the R pixel for 1/2 time of 1F, and the reverse bias voltage Vm is applied to the EL element of the G and B pixels for 1/3 time of 1F. Is the method.

【0996】また、表示領域21の部分ごとに、逆バイ
アス電圧(電流)の印加時間あるいは印加電圧を異なら
せてもよい。たとえば、表示領域の中央部を明るくする
ガウス分布方式を採用した場合、中央部のEL素子は周
辺部に比較して流す電流値が大きいからである。
Also, the application time or the application voltage of the reverse bias voltage (current) may be different for each part of the display region 21. This is because, for example, when the Gaussian distribution method for brightening the central portion of the display area is adopted, the EL element in the central portion has a larger current value than the peripheral portion.

【0997】N倍のパルス電圧を印加する方式の課題と
して、EL素子15に流れる電流が大きくなり、EL素
子15が劣化し易くなるという課題がある。また、N=
10以上となると、電流が流れる時に必要となるEL素
子15の端子電圧が高くなり、電力効率が悪くなるとい
う課題がある。ただし、この課題は白表示時のようにE
L素子に流れる電流が大きい時に発生する課題である。
この課題に対処を図1の画素構成を例にして、図70
(a)を参照しながら説明する。
As a problem of the method of applying the pulse voltage of N times, there is a problem that the current flowing through the EL element 15 becomes large and the EL element 15 is easily deteriorated. Also, N =
When it is 10 or more, there is a problem that the terminal voltage of the EL element 15 required when a current flows becomes high and the power efficiency becomes poor. However, this task is E
This is a problem that occurs when the current flowing through the L element is large.
This problem is dealt with by taking the pixel configuration of FIG. 1 as an example.
A description will be given with reference to (a).

【0998】図70(a)に図示するようにEL素子1
5への電流Iddが流れている時、Vdd電圧(電源電
圧)は駆動用TFT11aのソースードレイン間電圧
(Vsd)とEL素子15の端子電圧(Vd)で分圧さ
れる。Idd電流が大きいとVd電圧も高くなる。
As shown in FIG. 70 (a), the EL element 1
When the current Idd to 5 is flowing, the Vdd voltage (power supply voltage) is divided by the source-drain voltage (Vsd) of the driving TFT 11a and the terminal voltage (Vd) of the EL element 15. When the Idd current is large, the Vd voltage also becomes high.

【0999】Vdd電圧が十分に高いとTFT11aに
プログラムされた電流Iwに等しい電流(Idd)がE
L素子15に流れる。しがたって、図81の実線に図示
するようにIwとIddは等しいかほぼリニアの関係
(比例の関係)になる。リニアの関係になるというの
は、ゲート信号線17などに印加された信号などにより
コンデンサ19に突き抜けが発生し、Idd=Iwとは
ならないからである。
When the Vdd voltage is sufficiently high, a current (Idd) equal to the current Iw programmed in the TFT 11a becomes E.
It flows to the L element 15. Therefore, as shown by the solid line in FIG. 81, Iw and Idd have the same or substantially linear relationship (proportional relationship). The linear relationship is established because the capacitor 19 is penetrated by a signal applied to the gate signal line 17 or the like and Idd = Iw is not established.

【1000】本発明では、Vdd電圧はIddとIwが
リニア(比例)の関係を維持できないような低い電圧で
用いる。つまり、必要なVsd+Vd > Vddの関
係にしている。さらに好ましくは、Vd > Vddと
することが好ましい。
In the present invention, the Vdd voltage is used at such a low voltage that Idd and Iw cannot maintain a linear (proportional) relationship. That is, the relationship of required Vsd + Vd> Vdd is established. More preferably, it is preferable that Vd> Vdd.

【1001】たとえば、一例として、N=10で、最大
白表示に必要なIw電流が2μAとする。この状態で
は、Idd電流が2μAとすると、G色のEL素子では
Vd=14(V)である。この時のVdd電圧を14
(V)以下とするのである。もしくは、この時、Vsd
=7(V)とするとVd+Vsd=14(v)+7
(V)=21(V) < Vdd=21(V)とするの
である。
For example, assume that N = 10 and the Iw current required for maximum white display is 2 μA. In this state, if the Idd current is 2 μA, Vd = 14 (V) in the G color EL element. The Vdd voltage at this time is 14
It is (V) or less. Or at this time, Vsd
= 7 (V), Vd + Vsd = 14 (v) +7
That is, (V) = 21 (V) <Vdd = 21 (V).

【1002】この状態で駆動すると、IddとIwの関
係は図81の点線で示すような関係となる。最大白表示
ではIwとIddの関係はリニアの関係でなくなる(非
線形の関係、図81のAの範囲)。しかし、黒表示ある
いは灰色表示(表示輝度が比較的低い領域)ではリニア
の関係(図81のBの範囲)が維持される。
[1002] When driven in this state, the relationship between Idd and Iw is as shown by the dotted line in FIG. In the maximum white display, the relationship between Iw and Idd is no longer linear (non-linear relationship, range A in FIG. 81). However, in the black display or the gray display (area where the display brightness is relatively low), the linear relationship (range B in FIG. 81) is maintained.

【1003】Aの領域ではEL素子15に流れる電流が
制限され、EL素子15を劣化されるような大きな電流
が流れることはない。また、Aの領域で、Iw電流を増
加させると、変化割合は少ないがIdd電流は増加す
る。したがって、階調表示を実現できる。ただし、Aの
領域では非線形となるからガンマ変換が必要である。た
とえば、画像表示が64階調表示であれば、入力画像デ
ータ64階調データをテーブル変換し128階調あるい
は256階調に変換してソースドライバIC14に印加
する。
[1003] In the area A, the current flowing through the EL element 15 is limited, and a large current that deteriorates the EL element 15 does not flow. In addition, when the Iw current is increased in the region A, the change ratio is small but the Idd current increases. Therefore, gradation display can be realized. However, gamma conversion is necessary because it is non-linear in the area A. For example, if the image display is 64 gradation display, the input image data 64 gradation data is converted into a table and converted into 128 gradations or 256 gradations and applied to the source driver IC 14.

【1004】Aの領域ではTFT11aのVsd電圧と
EL素子15のVd電圧とが分圧され、EL素子15の
アノード電圧Va電圧が決定される。この際、注目すべ
き事項として、EL素子15は蒸着で形成する(あるい
はインクジェット技術などによる塗布で形成する)た
め、均一に形成されている点である。そのため、EL端
子電圧Vaは表示画面21の面内で均一な値となる。し
たがって、TFT11aの特性がばらついて、EL素子
15の端子電圧Vaで補正される。結果的にVdd電圧
を本発明のように低くすることにより、TFT11aの
特性ばらつきを吸収できるとともに、Vdd電圧の低減
により低消費電力化を実現できる。また、Nが大きい時
にも、EL素子15には高い電圧が印加されることがな
い。
In the area A, the Vsd voltage of the TFT 11a and the Vd voltage of the EL element 15 are divided to determine the anode voltage Va voltage of the EL element 15. At this time, a noteworthy point is that the EL element 15 is formed uniformly by vapor deposition (or is formed by coating by an inkjet technique or the like), and thus is formed uniformly. Therefore, the EL terminal voltage Va has a uniform value within the surface of the display screen 21. Therefore, the characteristics of the TFT 11a vary and are corrected by the terminal voltage Va of the EL element 15. As a result, by lowering the Vdd voltage as in the present invention, it is possible to absorb the characteristic variation of the TFT 11a, and it is possible to reduce the power consumption by reducing the Vdd voltage. Moreover, even when N is large, a high voltage is not applied to the EL element 15.

【1005】EL素子15は蒸着技術、インクジェット
技術だけでなく、インクを付けたスタンプを紙に当てて
印刷するようにするスタンプ技術でも形成できる。
[1005] The EL element 15 can be formed not only by the vapor deposition technique and the ink jet technique but also by the stamp technique in which the stamp with the ink is applied to the paper for printing.

【1006】まず,スタンプとなる部分を形成する。S
i基板上に半導体プロセスによって有機EL素子の発光領
域と同じ形の溝のパターンを形成し、その溝の中を有機
EL材料にドーピングする材料を埋めることで,スタンプ
とする。一方、有機EL素子を形成するほうのガラス基板
には,電極や発光層となる有機EL材料を形成してお
く。
[1006] First, a portion to be a stamp is formed. S
A groove pattern of the same shape as the light emitting region of the organic EL element is formed on the i substrate by a semiconductor process, and the groove is formed in
A stamp is made by filling the EL material with the material to be doped. On the other hand, an organic EL material to be an electrode or a light emitting layer is formed on the glass substrate on which the organic EL element is formed.

【1007】次に,スタンプと有機EL素子となる材料を
つけたガラス基板をぴったりと重ね合わせる。この状態
を保ちながら+100℃〜+200℃で約10分間にわ
たって熱処理する。こうすることで、スタンプの溝の中
に埋め込んだドーピング材料が蒸発し、有機EL素子の発
光層に拡散する。あとは、色に応じたドーピング材料を
埋め込んだスタンプを順次有機EL素子に当てて、RGB
を塗り分ける。このスタンプ技術を用いて、10μmの
矩形パターンや、線幅10μmのパターンのEL素子15
を容易に形成できる。
[1007] Next, the stamp and the glass substrate on which the material to be the organic EL element is attached are exactly overlapped. While maintaining this state, heat treatment is performed at + 100 ° C to + 200 ° C for about 10 minutes. By doing so, the doping material embedded in the groove of the stamp is evaporated and diffused into the light emitting layer of the organic EL element. After that, the stamps in which the doping materials corresponding to the colors are embedded are sequentially applied to the organic EL elements, and RGB stamps are applied.
Paint differently. Using this stamp technology, EL elements 15 with a rectangular pattern of 10 μm or a pattern with a line width of 10 μm
Can be easily formed.

【1008】なお、1Fの期間の1/Nに、EL素子1
5に電流を印加し、その印加する電流は所定輝度より高
くし、所定より高い輝度分はオン時間を短くすることに
より所定輝度を得る方法であるとした。しかし、本発明
は一定の期間内の輝度の平均を所定値にする方法であ
る。したがって、1F(1フィールドあるいは1フレー
ム)に限定されるものではない。たとえば、図32(c
1)の表示状態が2F連続し、図32(c2)の表示状
態が3F連続し、この図32(c1)と図32(c2)
の状態が交互に繰り返されても良い。つまり、5Fで所
望の平均輝度となりように駆動する。
The EL element 1 is set to 1 / N of the 1F period.
The method is to obtain a predetermined brightness by applying a current to No. 5, making the applied current higher than a predetermined brightness, and shortening the ON time for the brightness higher than the predetermined brightness. However, the present invention is a method in which the average of the luminance within a certain period is set to a predetermined value. Therefore, it is not limited to 1F (1 field or 1 frame). For example, in FIG.
The display state of 1) is continuous for 2F, the display state of FIG. 32C2 is continuous for 3F, and the display state of FIG. 32C1 and FIG. 32C2 is continuous.
The state of may be repeated alternately. That is, the driving is performed so that the desired average brightness is obtained at 5F.

【1009】したがって、本発明の技術的思想は、一定
の期間内に、EL素子15をオン状態とオフ状態とを発
生させ、このオン状態とオフ状態とを交互に繰り返し、
この繰り返しにより、所定の表示輝度を得る方式であ
る。また、制御はゲート信号線17のオンオフ電圧を制
御することにより実現する。
Therefore, the technical idea of the present invention is that the EL element 15 is turned on and off within a certain period of time, and the on and off states are alternately repeated.
By repeating this, a predetermined display brightness is obtained. The control is realized by controlling the on / off voltage of the gate signal line 17.

【1010】なお、ソース信号線18に所定電流のN倍
の電流を流し、EL素子15に所定電流のN倍の電流を
1/Nの期間流すとしたが、実用上はこれを実現できな
い。実際にはゲート信号線17に印加した信号パルスが
コンデンサ19に突き抜け、コンデンサ19に所望の電
圧値(電流値)を設定できないからである。一般的にコ
ンデンサ19には所望の電圧値(電流値)よりも低い電
圧値(電流値)が設定される。たとえば、10倍の電流
値を設定するように駆動しても、5倍程度の電流しかコ
ンデンサ19には設定されない。たとえば、N=10と
しても実際にEL素子15に流れる電流はN=5の場合
と同一となる。したがって、本発明はN倍の電流値を設
定し、N倍に比例したあるいは対応する電流をEL素子
15に流れるように駆動する方法である(ただし、図8
1で説明する駆動方法も実施するので限定は難しい)。
もしくは、所望値よりも大きい電流をEL素子15にパ
ルス状に印加する駆動方法である。
[1010] The source signal line 18 is supplied with a current N times the predetermined current and the EL element 15 is supplied with a current N times the predetermined current for a period of 1 / N, but this cannot be realized in practice. This is because the signal pulse applied to the gate signal line 17 actually penetrates into the capacitor 19 and a desired voltage value (current value) cannot be set in the capacitor 19. Generally, a voltage value (current value) lower than a desired voltage value (current value) is set in the capacitor 19. For example, even if driving is performed so as to set a current value of 10 times, only a current of about 5 times is set in the capacitor 19. For example, even when N = 10, the current actually flowing through the EL element 15 is the same as when N = 5. Therefore, the present invention is a method of setting a current value of N times and driving such that a current proportional to or corresponding to N times flows through the EL element 15 (however, FIG. 8).
Since the driving method described in Section 1 is also implemented, it is difficult to limit it).
Alternatively, it is a driving method in which a current larger than a desired value is applied to the EL element 15 in a pulse shape.

【1011】また、所望値より電流(そのまま、EL素
子15に連続して電流を流すと所望輝度よりも高くなる
ような電流)を駆動トランジスタ11a(図1を例示す
る場合)に電流(電圧)プログラムを行い、EL素子1
5に流れる電流を間欠にすることにより、所望のEL素
子の発光輝度を得るものである。
[1010] Also, a current (voltage) which is higher than the desired value (a current which becomes higher than the desired brightness when the current is continuously applied to the EL element 15 as it is) is applied to the drive transistor 11a (in the case of exemplifying FIG. 1). Program the EL element 1
By making the current flowing through the LED 5 intermittent, the desired luminance of the EL element can be obtained.

【1012】また、図1を例示すれば(図54、図5
7、図67、図68、図89、図103などの電圧プロ
グラム画素構成でも有効であることは言うまでもな
い)、駆動トランジスタ11aと、この駆動トランジス
タにプログラムをする信号(電流、電圧)経路を設定
(構成、配置、接続)する第1のスイッチング素子11
cと、駆動トランジスタ11aからの電流がEL素子1
5に流れる経路を設定(構成、配置、接続)する第2の
スイッチング素子11dとを具備する画素構成におい
て、前記第1のスイッチング素子11cをオン(経路を
設定)する。また、第2のスイッチング素子11dをオ
フ(経路を切断)した第1の状態で、前記駆動トランジ
スタに電流(電圧)プログラムする第1の状態と、前記
第1のスイッチング素子11cをオフ(経路を切断)
し、第2のスイッチング素子11dをオン(経路を設
定)する第2の状態と、前記第1のスイッチング素子1
1cをオフ(経路を切断)し、第2のスイッチング素子
11dをオフ(経路を切断)する第3の状態とを実施す
るものである。
[1012] Also, if FIG. 1 is shown as an example (FIGS. 54 and 5)
7, FIG. 67, FIG. 68, FIG. 89, FIG. 103, and other voltage programming pixel configurations are also effective), and a drive transistor 11a and a signal (current, voltage) path for programming the drive transistor are set. (Constitution, arrangement, connection) First switching element 11
c and the current from the driving transistor 11a is the EL element 1
In the pixel configuration including the second switching element 11d for setting (configuring, arranging, connecting) the flow path of 5, the first switching element 11c is turned on (the path is set). In addition, in the first state in which the second switching element 11d is turned off (the path is cut), the first state in which the current (voltage) is programmed in the drive transistor and the first switching element 11c is turned off (the path is turned off). Disconnect)
The second state in which the second switching element 11d is turned on (path is set) and the first switching element 1 is turned on.
1c is turned off (the path is cut), and the second switching element 11d is turned off (the path is cut).

【1013】また、アクティブマトリックス型表示パネ
ルにおいて、駆動トランジスタ11aからEL素子15
にながれる電流経路を1フレーム(1フィールド)の期
間のうち所定期間の間、切断あるいは減少(EL素子1
5に流れる電流波形は矩形あるいはDCに限定されるも
のではなく、サイン波形などもある。また、DC振幅値
を変化させる場合もある)させ、少なくとも1フレーム
(1フィールド)のEL素子15の発光輝度を減少させ
るものである。
[1013] In addition, in the active matrix type display panel, the driving transistor 11a to the EL element 15 are connected.
The current path flowing through the line is disconnected or reduced (EL element 1) for a predetermined period of one frame (one field) period.
The waveform of the current flowing through 5 is not limited to a rectangle or DC, and may be a sine waveform. Further, the DC amplitude value may be changed) to reduce the light emission luminance of the EL element 15 in at least one frame (one field).

【1014】また、駆動トランジスタ11aに所望値よ
りも高い輝度でEL素子15が発光するようにプログラ
ムを行う動作と、EL素子15に前記プログラムされた
信号(電流)を流し、少なくとも1フレーム(1フィー
ルド)の期間のうち所定期間に前記EL素子15に流れ
ないように動作を行うものである。
[1014] In addition, an operation of programming the driving transistor 11a so that the EL element 15 emits light with a luminance higher than a desired value, and the programmed signal (current) is passed through the EL element 15, and at least one frame (1 The operation is performed so that the EL element 15 does not flow during a predetermined period of the field period.

【1015】あるいは、駆動トランジスタ11aにプロ
グラムされた電流に対応する輝度以下となるように、E
L素子15に流れる電流を制限するものである。
[1015] Alternatively, E is set so that the brightness is equal to or lower than the brightness corresponding to the current programmed in the drive transistor 11a
It is intended to limit the current flowing through the L element 15.

【1016】また、所望値よりも高い輝度でEL素子1
5が発光するようにプログラムを行う動作と1フレーム
(1フィールド)の平均輝度(所望輝度)が、所望輝度
か、少なくとも前記所望輝度(プログラムされた輝度
(電流))以下となるように、前記プログラム電流が前
記EL素子15に流れないように動作を行うものであ
る。また、EL素子15に流れる電流を完全にオンオフ
させることに限定されるものではない。
[1016] Further, the EL element 1 has a brightness higher than a desired value.
5 is programmed so that light is emitted, and the average brightness (desired brightness) of one frame (one field) is equal to or less than the desired brightness or at least the desired brightness (programmed brightness (current)). The operation is performed so that the program current does not flow into the EL element 15. Further, it is not limited to completely turning on / off the current flowing through the EL element 15.

【1017】たとえば、図1においてTFT11dを高
抵抗オン状態とすることにより(つまり、所定値よりも
小さい電流がEL素子15に流れている)、EL素子1
5をオフあるいは低輝度発光を実施することができる。
EL素子15が低輝度発光の時は、表示領域21の非点
灯領域312とは、完全黒表示ではなく、ダーク(灰色
または黒表示に近い輝度)と置き換えて理解する必要が
ある。つまり、非点灯領域312とは、通常表示よりも
低輝度表示であればよい。低輝度表示とは画像が認識で
きる表示状態も含む。
[1017] For example, by setting the TFT 11d in the high resistance ON state in FIG. 1 (that is, a current smaller than a predetermined value is flowing in the EL element 15), the EL element 1
5 can be turned off or low-luminance light emission can be performed.
When the EL element 15 emits light with low brightness, it is necessary to understand that the non-lighted area 312 of the display area 21 is replaced with dark (brightness close to gray or black display) instead of completely black display. That is, the non-lighted area 312 may be a display with lower brightness than the normal display. The low-brightness display includes a display state in which an image can be recognized.

【1018】なお、以上の実施例は、EL素子15の非
点灯時間に逆バイアス電圧を印加する(図107、図1
08などを参照)ことを組み合わせることが有効であ
る。また、図54、図67、図103などの電圧プログ
ラム画素構成にも有効であることは言うまでもない。
[1018] In the above example, the reverse bias voltage is applied during the non-lighting time of the EL element 15 (Fig. 107, Fig. 1).
08), etc.) is effective. Further, it goes without saying that the present invention is also effective for the voltage programmed pixel configurations shown in FIGS. 54, 67, 103 and the like.

【1019】なお、図31などにおいて、非表示領域3
12は完全に非点灯状態である必要はない。微弱な発光
あるいはうっすらとした画像表示があっても実用上は問
題ない。つまり、画像表示領域311よりも表示輝度が
低い領域と解釈するべきである。また、非表示領域31
2とは、R、G、B画像表示のうち、1色または2色の
みが非表示状態という場合も含まれる。
[1019] Note that in FIG. 31 and the like, the non-display area 3
12 need not be completely unlit. There is no problem in practice even if there is faint light emission or faint image display. That is, it should be interpreted as an area having lower display brightness than the image display area 311. In addition, the non-display area 31
The term 2 also includes the case where only one or two colors of the R, G, and B image displays are in the non-display state.

【1020】なお、各画素構成において(たとえば、図
54、図53(a)、図42)、駆動用TFT11dの
ゲート端子を直接に、オンオフ電圧を印加できるように
構成しても、EL素子15に流す電流を間欠動作させる
ことができる。また、図43においてはTFT11e、
図21においてはTFT11a、図22においてはTF
T11bのゲート端子を直接に、オンオフ電圧を印加で
きるように構成しても、EL素子15に流す電流を間欠
動作させることができる。つまり、EL素子15に電流
を印加するTFTのゲート端子を制御することによっ
て、図31などの表示状態を実施できることは言うまで
もない。
[1020] In each pixel configuration (for example, FIGS. 54, 53 (a), 42), even if the gate terminal of the driving TFT 11d can be directly applied with the on / off voltage, the EL element 15 is not formed. It is possible to intermittently operate the current flowing through the. Further, in FIG. 43, the TFT 11e,
The TFT 11a in FIG. 21 and the TF in FIG.
Even if the gate terminal of T11b is configured so that the on / off voltage can be directly applied, the current flowing through the EL element 15 can be operated intermittently. That is, it goes without saying that the display state shown in FIG. 31 and the like can be implemented by controlling the gate terminal of the TFT that applies a current to the EL element 15.

【1021】以上のように、本発明はEL素子15に印
加する電流をオンオフすることにより、EL素子15を
間欠表示させるものである。間欠表示させるためには、
図1の例ではTFT11dをオンオフ制御する必要があ
る。したがって、TFT11dをオンオフするためのゲ
ート信号線が必要となる。つまり、EL素子15を間欠
表示させるためには、コンデンサに、EL素子15に流
す電流をプログラムするための経路を形成する第1のス
イッチング素子と、この第1のスイッチング素子のオン
オフ制御するための第1のゲート信号線が必要である。
また、EL素子15に流れる電流経路を形成する第2の
スイッチング素子と、この第2のスイッチング素子をオ
ンオフするための第2のゲート信号線が必要となる。つ
まり、ゲート信号線は1画素あたり2本必要となる。
As described above, according to the present invention, the EL element 15 is intermittently displayed by turning on and off the current applied to the EL element 15. To display intermittently,
In the example of FIG. 1, it is necessary to control the TFT 11d to be turned on and off. Therefore, a gate signal line for turning on / off the TFT 11d is required. That is, in order to display the EL element 15 intermittently, a first switching element that forms a path for programming a current flowing through the EL element in the capacitor, and on / off control of the first switching element are provided. The first gate signal line is required.
Further, a second switching element forming a current path flowing through the EL element 15 and a second gate signal line for turning on / off the second switching element are required. That is, two gate signal lines are required for each pixel.

【1022】しかし、1画素あたり2本以上のゲート信
号線が必要となると、図27などで説明した3辺フリー
の画素構成では課題となる。ゲートドライバ12を低温
ポリシリコン技術などで形成しても、シフトレジスタ数
が多くなり、回路構成が複雑となるからである。特に、
アモルファスシリコン技術で3辺フリーの構成を実現し
ようとするとさらに課題は大きくなる。なぜならば、ア
モルファスシリコン技術ではドライバ回路12(14)
を基板82上に直接、形成することができないからであ
る。
However, if two or more gate signal lines are required for each pixel, this is a problem in the three-side free pixel configuration described with reference to FIG. This is because even if the gate driver 12 is formed by a low temperature polysilicon technique or the like, the number of shift registers becomes large and the circuit configuration becomes complicated. In particular,
The challenge becomes even greater if an amorphous silicon technology is used to realize a three-side free configuration. Because, in the amorphous silicon technology, the driver circuit 12 (14)
This is because it cannot be formed directly on the substrate 82.

【1023】したがって、アモルファスシリコン技術で
表示パネルを構成しようとすると、ソースドライバ14
とゲートドライバIC12を表示領域21の一辺に配置
する必要がある。そして、ゲート信号線17aとゲート
信号線17bのすべてを、表示領域の左右にふりわけて
配線する必要がある。ゲート信号線17の本数が少ない
場合はまだ、対応できる可能性がある。しかし、QCI
Fでも垂直画素数は220ドットであるから、ゲート信
号線17は220×2=440本にもなる。
[1023] Therefore, if an attempt is made to form a display panel using the amorphous silicon technology, the source driver 14
It is necessary to arrange the gate driver IC 12 on one side of the display area 21. Then, it is necessary to wire all of the gate signal lines 17a and 17b so that they are distributed to the left and right of the display area. If the number of gate signal lines 17 is small, there is still a possibility of being able to cope. However, QCI
Even in F, since the number of vertical pixels is 220 dots, the number of gate signal lines 17 is 220 × 2 = 440.

【1024】以上はアモルファスシリコン技術で表示パ
ネルを構成した場合であるが、低温ポリシリコン技術で
ゲートドライバ12を内蔵した場合でも、ゲート信号線
17の配線数が多いと、狭額縁化できない。したがっ
て、商品力を失ってしまう。
The above is the case where the display panel is constructed by the amorphous silicon technology, but even when the gate driver 12 is built in by the low-temperature polysilicon technology, if the number of wirings of the gate signal lines 17 is large, the frame cannot be narrowed. Therefore, the product power is lost.

【1025】以下の本発明は以上の課題を解決するもの
である。簡単に記載すれば、EL素子15をオンオフす
るゲート信号線17bを複数本、共通にするのである。
この共通にしたブロックごとにEL素子15に流れる電
流をオンオフするのである。
The following inventions solve the above problems. Briefly, a plurality of gate signal lines 17b for turning on / off the EL element 15 are commonly used.
The current flowing through the EL element 15 is turned on / off for each common block.

【1026】図87、図142の実施例においても、E
L素子15のオンオフは1画素行ずつ制御する必要はな
い。ブロックごとにオンオフしても非点灯領域312を
形成できるし、点灯領域311も形成できる。以上のよ
うにブロックでオンオフ制御する方式をブロック駆動と
呼ぶ。ただし、隣接した画素行でブロックにする実施例
もあるので、通常のブロックという概念よりは広義であ
る。ただし、図1の画素構成では、電流プログラムを行
っている画素行は非点灯状態にする必要がある。そのた
め、電流プログラムのために選択された画素行を含むブ
ロックは非点灯領域312とする必要がある。しかし、
図1の場合であっても多少の画像にみだれを許容する場
合は、電流プログラムを行っている画素行であっても、
非点灯領域312とする必要はない。また、図21、図
43、図71のカレントミラーの画素構成では、電流プ
ログラムを行っている画素行であっても、非点灯領域3
12とする必要はない。
[1026] Also in the embodiment of FIGS. 87 and 142, E
It is not necessary to control ON / OFF of the L element 15 for each pixel row. Even if each block is turned on / off, the non-lighting area 312 can be formed, and the lighting area 311 can also be formed. The method of performing on / off control in blocks as described above is called block drive. However, since there is an example in which adjacent pixel rows are used as blocks, the concept is broader than the concept of ordinary blocks. However, in the pixel configuration of FIG. 1, the pixel row for which current programming is performed needs to be in a non-lighting state. Therefore, the block including the pixel row selected for the current programming needs to be the non-lighting area 312. But,
Even in the case of FIG. 1, if a slight blurring is allowed in the image, even in the pixel row for which current programming is performed,
It is not necessary to set the non-lighted area 312. In the pixel configuration of the current mirror shown in FIGS. 21, 43, and 71, the non-lighted area 3 is generated even in the pixel row for which the current program is performed.
It does not have to be 12.

【1027】なお、本発明は、主として図1に図示する
電流プログラムの画素構成を例示して説明をするが、こ
れに限定するものではなく、図21、図43、図71な
どで説明した他の電流プルグラム構成(カレントミラー
の画素構成)であっても適用できることはいうまでもな
い。また、ブロックでオンオフする技術的概念は、図5
4、図68、図103などの電圧プログラムの画素構成
であっても適用できることは言うまでもない。また、本
発明は、EL素子15に流れる電流を間欠にする方式で
あるから、図89などで説明した逆バイアス電圧を印加
する方式とも組み合わせることができることは言うまで
もない。以上のように、本発明は他の実施例と組み合わ
せて実施することができる。
The present invention will be described mainly by exemplifying the pixel configuration of the current program shown in FIG. 1. However, the present invention is not limited to this, and the other configurations described with reference to FIGS. 21, 43, 71, etc. It goes without saying that the present invention can also be applied to the current program configuration (pixel configuration of the current mirror). Also, the technical concept of turning on and off in blocks is shown in FIG.
It is needless to say that the present invention can be applied to voltage-programmed pixel configurations such as 4, FIG. 68, and FIG. Further, since the present invention is a method of intermittently flowing the current flowing through the EL element 15, it goes without saying that it can be combined with the method of applying the reverse bias voltage described in FIG. 89 and the like. As described above, the present invention can be implemented in combination with other embodiments.

【1028】図179はブロック駆動の実施例である。
まず、説明を容易にするため、ゲートドライバ回路12
は基板49に直接形成したか、もしくはシリコンチップ
のゲートドライバIC12を基板49に積載したとして
説明をする。また、ソースドライバ14およびソース信
号線18は図面が煩雑になるため省略する。
[1028] FIG. 179 shows an example of block driving.
First, for ease of explanation, the gate driver circuit 12
Will be described as being formed directly on the substrate 49 or having the silicon chip gate driver IC 12 mounted on the substrate 49. The source driver 14 and the source signal line 18 are omitted because the drawing is complicated.

【1029】図179において、ゲート信号線17aは
ゲートドライバ回路12と接続されている。一方、各画
素のゲート信号線17bは点灯制御線1791と接続さ
れている。図179では4本のゲート信号線17bが1
つの点灯制御線1791と接続されている。
[1029] In FIG. 179, the gate signal line 17a is connected to the gate driver circuit 12. On the other hand, the gate signal line 17b of each pixel is connected to the lighting control line 1791. In FIG. 179, the four gate signal lines 17b are 1
It is connected to one lighting control line 1791.

【1030】なお、4本のゲート信号線17bでブロッ
クするというのはこれに限定するものではなく、それ以
上であってもよいことは言うまでもない。一般的に表示
領域21は少なくとも5以上に分割することが好まし
い。さらに好ましくは、10以上に分割することが好ま
しい。さらには、20以上に分割することが好ましい。
分割数が少ないと、フリッカが見えやすい。あまりにも
分割数が多いと、点灯制御線1791の本数が多くな
り、制御線1791のレイアウトが困難になる。
It is needless to say that blocking with four gate signal lines 17b is not limited to this, and more blocks may be provided. Generally, the display area 21 is preferably divided into at least 5 or more. More preferably, it is preferably divided into 10 or more. Furthermore, it is preferable to divide into 20 or more.
If the number of divisions is small, flicker is easy to see. If the number of divisions is too large, the number of lighting control lines 1791 will increase and the layout of the control lines 1791 will be difficult.

【1031】したがって、QCIF表示パネルの場合
は、垂直走査線の本数が220本であるから、少なくと
も、220/5=44本以上でブロック化する必要があ
り、好ましくは、220/10=11以上でブロック化
する必要がある。ただし、奇数行と偶数行で2つのブロ
ック化を行った場合は、低フレームレートでも比較的フ
リッカの発生が少ないため、2つのブロック化で十分の
場合がある。
[1031] Therefore, in the case of the QCIF display panel, since the number of vertical scanning lines is 220, it is necessary to block at least 220/5 = 44 or more, and preferably 220/10 = 11 or more. It is necessary to block with. However, when two blocks are formed in the odd-numbered row and the even-numbered row, flicker is relatively small even at a low frame rate, and thus the two blocks may be sufficient.

【1032】図179の実施例では、点灯制御線179
1a、1791b、1791c、1791dと順次、オ
ン電圧(Vgl)を印加するか、もしくはオフ電圧(V
gh)を印加し、ブロックごとにEL素子15に流れる
電流をオンオフさせる。
[1032] In the embodiment of FIG. 179, the lighting control line 179
1a, 1791b, 1791c, and 1791d are sequentially applied with an on-voltage (Vgl) or an off-voltage (Vgl).
gh) is applied to turn on / off the current flowing through the EL element 15 for each block.

【1033】なお、図179の実施例では、ゲート信号
線17bと点灯制御線1791とがクロスすることがな
い。したがって、ゲート信号線17bと点灯制御線17
91とのショート欠陥は発生しない。また、ゲート信号
線17bと点灯制御線1791とが容量結合することが
ないため、点灯制御線1791からゲート信号線17b
側を見た時の容量付加が極めて小さい。したがって、点
灯制御線1791を駆動しやすい。
[1033] In the embodiment of FIG. 179, the gate signal line 17b and the lighting control line 1791 do not cross each other. Therefore, the gate signal line 17b and the lighting control line 17
The short defect with 91 does not occur. Further, since the gate signal line 17b and the lighting control line 1791 are not capacitively coupled to each other, the lighting control line 1791 to the gate signal line 17b are not connected.
The capacity addition when viewed from the side is extremely small. Therefore, it is easy to drive the lighting control line 1791.

【1034】図180は、図179の接続状態をさらに
詳細に図示している。ゲートドライバ12にはゲート信
号線17aが接続されている。ゲート信号線17aにオ
ン電圧を印加することにより、画素行が選択され、選択
された各画素のTFT11b、11cはオンして、ソー
ス信号線18に印加された電流(電圧)を各画素のコン
デンサ19にプログラムする。一方、ゲート信号線17
bは各画素のTFT11dのゲート端子と接続されてい
る。したがって、点灯制御線1791にオン電圧(Vg
l)が印加されたとき、駆動TFT11aとEL素子1
5との電流経路を形成し、逆にオフ電圧(Vgh)が印
加された時は、EL素子15のアノード端子をオープン
にする。
[1034] FIG. 180 illustrates the connection state of FIG. 179 in more detail. A gate signal line 17a is connected to the gate driver 12. A pixel row is selected by applying an on-voltage to the gate signal line 17a, the TFTs 11b and 11c of each selected pixel are turned on, and the current (voltage) applied to the source signal line 18 is applied to the capacitor of each pixel. Program to 19. On the other hand, the gate signal line 17
b is connected to the gate terminal of the TFT 11d of each pixel. Therefore, the on-voltage (Vg
l) is applied, the driving TFT 11a and the EL element 1
5, a current path is formed, and conversely, when an off voltage (Vgh) is applied, the anode terminal of the EL element 15 is opened.

【1035】なお、点灯制御線1791に印加するオン
オフ電圧の制御タイミングと、ゲートドライバ回路12
がゲート信号線17aに出力する画素行選択電圧(Vg
l)のタイミングは1水平走査クロック(1H)に同期
していることが好ましい。しかし、これに限定するもの
ではない。点灯制御線1791に印加する信号は単に、
EL素子15への電流をオンオフさせるだけである。ま
た、ソースドライバ14が出力する画像データと同期が
とれている必要もない。点灯制御線1791に印加する
信号は、各画素16のコンデンサ19にプログラムされ
た電流を制御するものだからである。したがって、必ず
しも、画素行の選択信号と同期がとれている必要はな
い。また、同期する場合であってもクロックは1H信号
に限定されるものではなく、1/2Hでも、1/4Hで
あってもよい。
[1035] The control timing of the on / off voltage applied to the lighting control line 1791 and the gate driver circuit 12
Output to the gate signal line 17a by the pixel row selection voltage (Vg
It is preferable that the timing of l) is synchronized with one horizontal scanning clock (1H). However, the present invention is not limited to this. The signal applied to the lighting control line 1791 is simply
It only turns on and off the current to the EL element 15. Further, it does not need to be synchronized with the image data output by the source driver 14. This is because the signal applied to the lighting control line 1791 controls the current programmed in the capacitor 19 of each pixel 16. Therefore, it does not necessarily have to be synchronized with the selection signal of the pixel row. Further, even when synchronized, the clock is not limited to the 1H signal, and may be 1 / 2H or 1 / 4H.

【1036】図181は、画素構成が図21などに図示
したカレントミラーの画素構成の場合である。ただし、
以前の実施例でも説明したように、EL素子15に流れ
る電流を制御するために、TFT11eを形成し、ま
た、TFT11eを制御するためのゲート信号線17b
を付加している。
[1036] FIG. 181 shows the case where the pixel configuration is that of the current mirror shown in FIG. However,
As described in the previous embodiment, in order to control the current flowing through the EL element 15, the TFT 11e is formed and the gate signal line 17b for controlling the TFT 11e is formed.
Is added.

【1037】なお、図181において、スイッチングT
FT11cと11dを制御(オンオフ)するゲート信号
線は共通(ゲート信号線17a)としたが、これに限定
するものではなく、別個のゲート信号線17としてもよ
い。この場合は、TFT11cを制御する第1のゲート
信号線17と、TFT11dを制御する第2のゲート信
号線17はゲートドライバ回路12に接続する。
[1037] Note that in FIG. 181, the switching T
Although the gate signal line for controlling (turning on / off) the FTs 11c and 11d is common (gate signal line 17a), the present invention is not limited to this and may be a separate gate signal line 17. In this case, the first gate signal line 17 for controlling the TFT 11c and the second gate signal line 17 for controlling the TFT 11d are connected to the gate driver circuit 12.

【1038】図181において、ゲートドライバ12に
はゲート信号線17aが接続されている。ゲート信号線
17aにオン電圧を印加することにより、画素行が選択
される。
In FIG. 181, a gate signal line 17a is connected to the gate driver 12. A pixel row is selected by applying an ON voltage to the gate signal line 17a.

【1039】なお、図180などでも同様であるが、選
択される画素行は1画素行に限定されるものではない。
たとえば、図141、図144、図146では複数画素
行が選択される。以上のように、本発明は、選択される
画素行数に制約されるものではない。
[1039] Note that the same applies to FIG. 180 and the like, but the selected pixel row is not limited to one pixel row.
For example, in FIGS. 141, 144, and 146, a plurality of pixel rows are selected. As described above, the present invention is not limited by the number of selected pixel rows.

【1040】図181において、ゲート信号線17aに
選択電圧(Vgl)が印加されると、1選択された各画
素のTFT11b、11dはオンして、ソース信号線1
8に印加された電流(電圧)を各画素のコンデンサ19
にプログラムする。つまり、ソースドライバ回路14は
画素16に書き込む電流(電圧)を出力(吸収)する。
一方、ゲート信号線17bは各画素のTFT11eのゲ
ート端子と接続されている。したがって、点灯制御線1
791にオン電圧(Vgl)が印加されたとき、駆動T
FT11bとEL素子15との電流経路を形成し、逆に
オフ電圧(Vgh)が印加された時は、EL素子15の
アノード端子をオープンにする。
In FIG. 181, when the selection voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17a, the TFTs 11b and 11d of each selected pixel are turned on, and the source signal line 1 is turned on.
The current (voltage) applied to 8 is applied to the capacitor 19 of each pixel.
To program. That is, the source driver circuit 14 outputs (absorbs) the current (voltage) written in the pixel 16.
On the other hand, the gate signal line 17b is connected to the gate terminal of the TFT 11e of each pixel. Therefore, the lighting control line 1
When the on-voltage (Vgl) is applied to 791, the driving T
A current path is formed between the FT 11b and the EL element 15, and conversely, when an off voltage (Vgh) is applied, the anode terminal of the EL element 15 is opened.

【1041】図182は、画素構成が電圧プログラムの
画素構成である。ただし、以前の実施例でも説明したよ
うに、EL素子15に流れる電流を制御(間欠動作でき
るように)するために、TFT11dを形成し、また、
TFT11dを制御するためのゲート信号線17bを付
加している。このゲート信号線17bは複数画素行ごと
に点灯制御線1791に接続されている。
[1041] FIG. 182 is a pixel configuration in which the pixel configuration is a voltage program. However, as described in the previous embodiments, the TFT 11d is formed in order to control the current flowing through the EL element 15 (so that the intermittent operation can be performed), and
A gate signal line 17b for controlling the TFT 11d is added. The gate signal line 17b is connected to the lighting control line 1791 for every plurality of pixel rows.

【1042】図182において、ゲートドライバ12は
ゲート信号線17aが接続されている。ゲート信号線1
7aにオン電圧を印加することにより、TFT11bが
オンし、所定の画素行が選択される。
In FIG. 182, the gate driver 12 is connected to the gate signal line 17a. Gate signal line 1
By applying an on voltage to 7a, the TFT 11b is turned on and a predetermined pixel row is selected.

【1043】図182において、ゲート信号線17aに
選択電圧(Vgl)が印加されると、1選択された各画
素のTFT11bはオンして、ソース信号線18に印加
された電流(電圧)を各画素のコンデンサ19にプログ
ラムする。つまり、ソースドライバ回路14は画素16
に書き込む電流(電圧)を出力(吸収)する。一方、ゲ
ート信号線17bは各画素のTFT11dのゲート端子
と接続されている。したがって、点灯制御線1791に
オン電圧(Vgl)が印加されたとき、駆動TFT11
aとEL素子15との電流経路を形成し、逆にオフ電圧
(Vgh)が印加された時は、EL素子15のアノード
端子をオープンにする。
In FIG. 182, when the selection voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17a, the TFT 11b of each selected pixel is turned on, and the current (voltage) applied to the source signal line 18 is changed. The pixel capacitor 19 is programmed. In other words, the source driver circuit 14 is arranged in the pixel 16
It outputs (absorbs) the current (voltage) written to. On the other hand, the gate signal line 17b is connected to the gate terminal of the TFT 11d of each pixel. Therefore, when the ON voltage (Vgl) is applied to the lighting control line 1791, the driving TFT 11
A current path is formed between a and the EL element 15, and conversely, when the off voltage (Vgh) is applied, the anode terminal of the EL element 15 is opened.

【1044】図183は、他の電圧プログラムの画素構
成である、EL素子15に流れる電流の間欠動作はTF
T11dを用いて行う。TFT11dを制御するための
ゲート信号線17dは複数画素行ごとに点灯制御線17
91に接続されている。
[1044] FIG. 183 shows the pixel configuration of another voltage program, in which the intermittent operation of the current flowing through the EL element 15 is TF.
Performed using T11d. The gate signal line 17d for controlling the TFT 11d is the lighting control line 17d for each plurality of pixel rows.
It is connected to 91.

【1045】図183の画素構成では、オフセット電圧
を測定し、1フレームの期間、かきこまれた電圧をコン
デンサ19に保持させるためには、2本のゲート信号線
17aと17cが必要である。そのため、この2本のゲ
ート信号線17a、17cはゲートドライバ回路12に
接続されている。この構成を図184に図示している。
In the pixel configuration of FIG. 183, two gate signal lines 17a and 17c are required to measure the offset voltage and hold the voltage written in the capacitor 19 for one frame period. Therefore, the two gate signal lines 17a and 17c are connected to the gate driver circuit 12. This configuration is shown in FIG.

【1046】ゲートドライバ回路12はゲート信号線1
7aとゲート信号線17cにオンオフ電圧を印加するこ
とにより、TFT11c、TFT11bをオンオフ制御
し、ソースドライバ14から出力された電圧を画素にプ
ログラムする。一方、ゲート信号線17dは各画素のT
FT11dのゲート端子と接続されている。したがっ
て、点灯制御線1791にオン電圧(Vgl)が印加さ
れたとき、駆動TFT11aとEL素子15との電流経
路を形成し、逆にオフ電圧(Vgh)が印加された時
は、EL素子15のアノード端子をオープンにする。
[1046] The gate driver circuit 12 includes the gate signal line 1
By applying an on / off voltage to the gate signal line 17c and 7a, the TFT 11c and the TFT 11b are on / off controlled, and the voltage output from the source driver 14 is programmed in the pixel. On the other hand, the gate signal line 17d is connected to the T of each pixel.
It is connected to the gate terminal of the FT 11d. Therefore, when the on-voltage (Vgl) is applied to the lighting control line 1791, a current path between the drive TFT 11a and the EL element 15 is formed, and conversely, when the off-voltage (Vgh) is applied, the EL element 15 is turned on. Open the anode terminal.

【1047】以上のように本発明は、画素構成が、電流
プログラム方式であっても、電圧プログラム構成であっ
ても、適用することができる。なお、以上の実施例はア
クティブマトリックス型表示パネルを例示して説明した
が、これに限定するものではなく、単純マトリックス型
表示パネルにも適用することができる。なぜならば、ブ
ロックごとにEL素子15を点灯あるいは非点灯させる
ことは、単純マトリックス型表示パネルでも実現できる
からである。
As described above, the present invention can be applied regardless of whether the pixel structure is the current program system or the voltage program system. Although the above embodiments have been described by exemplifying the active matrix type display panel, the present invention is not limited to this and can be applied to a simple matrix type display panel. This is because lighting or non-lighting of the EL element 15 for each block can be realized by a simple matrix display panel.

【1048】図185は他の実施例である。以下の実施
例では以前に実施例との差異を中心に説明する。したが
って、図185以降の実施例でも画素構成などは図18
0から図183などで説明したいずれでも適用できる。
[1048] FIG. 185 shows another embodiment. In the following embodiments, differences from the previous embodiments will be mainly described. Therefore, the pixel configuration and the like in FIG.
Any of 0 to FIG. 183 can be applied.

【1049】図185は、ゲート信号線17bを2画素
行ずつ共通にし、かつ4ブロックごとに点灯制御線17
91で共通にした構成である。第1番目と第2番目の画
素行のゲート信号線信号線17bと、第9番目と第10
番目の画素行のゲート信号線17bとを点灯制御線17
91aで共通にしている。したがって、点灯制御線17
91aにオン電圧(Vgl)を印加すると、少なくとも
第1番目、第2番目、第9番目および第10番目の画素
行が点灯する。
[1049] In FIG. 185, the gate signal line 17b is commonly used for every two pixel rows, and the lighting control line 17 is provided every four blocks.
The configuration is common to 91. The gate signal line signal line 17b of the first and second pixel rows, and the ninth and tenth pixel signal lines
The gate signal line 17b of the second pixel row is connected to the lighting control line 17
It is common to 91a. Therefore, the lighting control line 17
When the ON voltage (Vgl) is applied to 91a, at least the first, second, ninth, and tenth pixel rows are lit.

【1050】また、第3番目と第4番目の画素行のゲー
ト信号線信号線17bと、第11番目と第12番目の画
素行のゲート信号線17bとを点灯制御線1791bで
共通にしている。したがって、点灯制御線1791bに
オン電圧(Vgl)を印加すると、少なくとも第3番
目、第4番目、第11番目および第12番目の画素行が
点灯する。
Also, the lighting control line 1791b is commonly used for the gate signal line signal line 17b of the third and fourth pixel rows and the gate signal line 17b of the eleventh and twelfth pixel rows. . Therefore, when the ON voltage (Vgl) is applied to the lighting control line 1791b, at least the third, fourth, eleventh and twelfth pixel rows are lit.

【1051】同様に、第5番目と第6番目の画素行のゲ
ート信号線信号線17bと、第13番目と第14番目の
画素行のゲート信号線17bとを点灯制御線1791c
で共通にしている。したがって、点灯制御線1791c
にオン電圧(Vgl)を印加すると、少なくとも第5番
目、第6番目、第13番目および第14番目の画素行が
点灯する。また、第7番目と第8番目の画素行のゲート
信号線信号線17bと、第15番目と第16番目の画素
行のゲート信号線17bとを点灯制御線1791dで共
通にしている。したがって、点灯制御線1791dにオ
ン電圧(Vgl)を印加すると、少なくとも第7番目、
第8番目、第15番目および第16番目の画素行が点灯
する。
[1051] Similarly, the gate signal line signal line 17b of the fifth and sixth pixel rows and the gate signal line 17b of the thirteenth and fourteenth pixel rows are connected to the lighting control line 1791c.
Have in common. Therefore, the lighting control line 1791c
When the on-voltage (Vgl) is applied to, at least the fifth, sixth, thirteenth and fourteenth pixel rows are turned on. In addition, the gate signal line signal line 17b of the seventh and eighth pixel rows and the gate signal line 17b of the fifteenth and sixteenth pixel rows are shared by the lighting control line 1791d. Therefore, when the on-voltage (Vgl) is applied to the lighting control line 1791d, at least the seventh voltage,
The eighth, fifteenth and sixteenth pixel rows are illuminated.

【1052】図185のようにゲート信号線17bを点
灯制御線1791と接続すると、小さな点灯ブロック
が、分散して表示される。したがって、低レートでもフ
リッカの発生が少なくなる。
When the gate signal line 17b is connected to the lighting control line 1791 as shown in FIG. 185, small lighting blocks are dispersed and displayed. Therefore, flicker is less likely to occur even at a low rate.

【1053】図186は、ゲート信号線17bを4画素
とばしで共通にして点灯制御線1791に接続した構成
である。第1番目、第5番目、第9番目、第13番目の
画素行のゲート信号線信号線17bが点灯制御線179
1aで共通にされている。したがって、点灯制御線17
91aにオン電圧(Vgl)を印加すると、少なくとも
第1番目、第5番目、第9番目および第13番目の画素
行が点灯する。
[1053] Fig. 186 shows a configuration in which the gate signal line 17b is connected in common to the lighting control line 1791 by skipping four pixels. The gate signal line signal line 17b of the first, fifth, ninth, and thirteenth pixel rows is the lighting control line 179.
1a is common. Therefore, the lighting control line 17
When the ON voltage (Vgl) is applied to 91a, at least the first, fifth, ninth, and thirteenth pixel rows are lit.

【1054】また、第2番目、第6番目、第10番目、
第14番目の画素行のゲート信号線信号線17bが点灯
制御線1791bで共通にしている。したがって、点灯
制御線1791bにオン電圧(Vgl)を印加すると、
少なくとも第2番目、第6番目、第10番目および第1
4番目の画素行が点灯する。
[1054] Also, the second, sixth, tenth,
The gate signal line signal line 17b of the 14th pixel row is shared by the lighting control line 1791b. Therefore, when the on-voltage (Vgl) is applied to the lighting control line 1791b,
At least second, sixth, tenth and first
The fourth pixel row lights up.

【1055】同様に、第3番目、第7番目、第11番
目、第15番目の画素行のゲート信号線信号線17bが
点灯制御線1791cで共通にしている。したがって、
点灯制御線1791cにオン電圧(Vgl)を印加する
と、少なくとも第3番目、第7番目、第11番目および
第15番目の画素行が点灯する。また、第4番目、第8
番目、第12番目、第16番目の画素行のゲート信号線
信号線17bが点灯制御線1791dで共通にしてい
る。したがって、点灯制御線1791dにオン電圧(V
gl)を印加すると、少なくとも第4番目、第8番目、
第12番目および第16番目の画素行が点灯する。
[1055] Similarly, the gate control signal lines 17b of the third, seventh, eleventh, and fifteenth pixel rows are shared by the lighting control lines 1791c. Therefore,
When the ON voltage (Vgl) is applied to the lighting control line 1791c, at least the third, seventh, eleventh and fifteenth pixel rows are lit. Also, the 4th and 8th
The gate signal line signal line 17b of the 12th, 16th, and 16th pixel rows is commonly used by the lighting control line 1791d. Therefore, the turn-on voltage (V
gl), at least the 4th, 8th,
The 12th and 16th pixel rows are lit.

【1056】図186のようにゲート信号線17bを点
灯制御線1791と接続すると、図185よりも点灯す
る画素行が分散される。したがって、低レートでもフリ
ッカの発生が少なくなる。
When the gate signal line 17b is connected to the lighting control line 1791 as shown in FIG. 186, the pixel rows to be lit are dispersed more than in FIG. 185. Therefore, flicker is less likely to occur even at a low rate.

【1057】図187は、奇数画素行のゲート信号線1
7bを点灯制御線1791aに接続し、偶数画素行のゲ
ート信号線17bを点灯制御線1791bに接続した構
成である。
[1057] FIG. 187 shows the gate signal line 1 of the odd-numbered pixel row.
7b is connected to the lighting control line 1791a, and the gate signal lines 17b of even-numbered pixel rows are connected to the lighting control line 1791b.

【1058】図187では1画素行ごとにEL素子15
を点灯制御できるので低レートでもフリッカの発生が少
なくなる。また、点灯制御線1791が2本と本数も少
なくなる。
[1058] In FIG. 187, the EL element 15 is provided for each pixel row.
Since the lighting can be controlled, flicker is reduced even at a low rate. In addition, the number of lighting control lines 1791 is two, which is small.

【1059】図188は、4画素行ごとにゲート信号線
17bを点灯制御線1791aまたは点灯制御線179
1bに接続した構成である。図188では、画素への電
流(電圧)プログラムのタイミングと同期を取りやす
い。
[1059] In FIG. 188, the gate signal line 17b is switched to the lighting control line 1791a or the lighting control line 179 every four pixel rows.
1b is connected. In FIG. 188, it is easy to synchronize with the timing of the current (voltage) program to the pixel.

【1060】以上の実施例は、点灯制御線1791に印
加する電圧により、画素行ごとにオンオフ制御を行うも
のであった。本発明は、EL素子15を間欠動作させる
ことを目的としている。したがって、点灯制御線179
1の有無に限定されるものではない。
[1060] In the above embodiments, the ON / OFF control is performed for each pixel row by the voltage applied to the lighting control line 1791. The present invention aims at intermittently operating the EL element 15. Therefore, the lighting control line 179
It is not limited to the presence or absence of 1.

【1061】たとえば、図189では点灯制御ドライバ
回路1891を表示領域の1辺に形成(配置)してい
る。つまり、表示領域の1辺にゲートドライバ回路12
を形成(配置)し、この辺の対面に点灯制御ドライバ回
路1891を配置(形成)している。
For example, in FIG. 189, the lighting control driver circuit 1891 is formed (arranged) on one side of the display area. That is, the gate driver circuit 12 is provided on one side of the display area.
Are formed (arranged), and the lighting control driver circuit 1891 is arranged (formed) on the opposite side of this side.

【1062】点灯制御ドライバ回路1891は、低温ポ
リシリコンあるいは高温ポリシリコン技術をもちいて、
基板49に直接形成してもよいし、シリコンチップで構
成し、基板49にCOG技術などを用いて積載してもよ
い。ただし、図189のように、複数のゲート信号線1
7bを共通(ブロック化)することにより、回路構成は
極めて簡易になる。したがって、基板49に直接形成し
ても、シリコンチップで構成し基板49に積載しても、
ほとんど面積を占有しない。したがって、表示パネルの
狭額縁化を実現できる。なお、点灯制御ドライバ回路1
891をソースドライバ回路14と同一辺に配置して、
3辺フリー構成を実現してもよいことは言うまでもな
い。
[1062] The lighting control driver circuit 1891 uses low-temperature polysilicon or high-temperature polysilicon technology,
It may be directly formed on the substrate 49, or may be formed of a silicon chip and mounted on the substrate 49 by using the COG technique or the like. However, as shown in FIG. 189, a plurality of gate signal lines 1
By making 7b common (blocking), the circuit configuration becomes extremely simple. Therefore, even if it is formed directly on the substrate 49, or if it is composed of a silicon chip and stacked on the substrate 49,
Occupies almost no area. Therefore, a narrow frame of the display panel can be realized. The lighting control driver circuit 1
891 is arranged on the same side as the source driver circuit 14,
It goes without saying that a three-side free configuration may be realized.

【1063】図189までの実施例では、基板49に、
ゲートドライバ回路12は、低温ポリシリコンあるいは
高温ポリシリコン技術をもちいて、基板49に直接形成
するか、シリコンチップで構成し、基板49にCOG技
術などを用いて積載するとして説明した。しかし、本発
明はこれに限定するものではない。たとえば、図190
に図示するように、ソースドライバ回路14が配置され
た辺から、ゲート信号線17aを配線してもよい。つま
り、点灯制御線1791とゲート信号線17aの両方を
表示領域21の端に形成するのである。他の構成は図1
79などと同様であるので説明を省略する。
[1063] In the embodiments up to FIG.
The gate driver circuit 12 has been described as being formed directly on the substrate 49 using low-temperature polysilicon or high-temperature polysilicon technology or formed of silicon chips and mounted on the substrate 49 using COG technology or the like. However, the present invention is not limited to this. For example, FIG.
As shown in FIG. 6, the gate signal line 17a may be wired from the side where the source driver circuit 14 is arranged. That is, both the lighting control line 1791 and the gate signal line 17a are formed at the end of the display area 21. Other configurations are shown in FIG.
The description is omitted because it is similar to 79 or the like.

【1064】また、図191に図示するように、表示領
域の2つの辺にソースドライバ回路14、ゲートドライ
バ回路12をそれぞれ配置(形成)し、表示領域21の
中央部でそれぞれのゲートドライバ回路12とソースド
ライバ回路14と接続するように構成してもよい。この
ように構成することにより、ゲート信号線17aの引き
回しが減少する(1/2になる)。したがって、狭額縁
化を実現できる。
As shown in FIG. 191, the source driver circuits 14 and the gate driver circuits 12 are arranged (formed) on two sides of the display area, and the gate driver circuits 12 are formed in the central portion of the display area 21. May be connected to the source driver circuit 14. With such a configuration, the routing of the gate signal line 17a is reduced (halved). Therefore, a narrow frame can be realized.

【1065】図192はソースドライバ回路14とゲー
トドライバ回路12などをパネルに配置した説明図であ
る。図192では、ソースドライバ回路14をシリコン
チップで作製し、基板49の1辺に配置している。ゲー
トドライバ回路12は、低温ポリシリコン、CGS技術
あるいは高温ポリシリコン技術を用いて、基板49に直
接に形成している。点灯制御線1791へのオンオフ電
圧はソースドライバ14より出力している。
[1065] FIG. 192 is an explanatory diagram in which the source driver circuit 14 and the gate driver circuit 12 are arranged on the panel. In FIG. 192, the source driver circuit 14 is made of a silicon chip and arranged on one side of the substrate 49. The gate driver circuit 12 is formed directly on the substrate 49 by using low temperature polysilicon, CGS technology or high temperature polysilicon technology. The on / off voltage to the lighting control line 1791 is output from the source driver 14.

【1066】図193は点灯制御ドライバ回路1891
を基板49に低温ポリシリコン、CGS技術あるいは高
温ポリシリコン技術を用いて、基板49に直接に形成し
た実施例である。もちろん、点灯制御ドライバ回路18
91をシリコンチップで作製し、基板49にCOG技術
などを用いて積載してもよい。
[1067] FIG. 193 shows a lighting control driver circuit 1891.
In this embodiment, the substrate is directly formed on the substrate 49 by using low temperature polysilicon, CGS technology or high temperature polysilicon technology. Of course, the lighting control driver circuit 18
91 may be made of a silicon chip and mounted on the substrate 49 by using the COG technique or the like.

【1067】図194は、点灯制御線1791へのオン
オフ信号はコントローラ101などから出力した例であ
る。このように点灯制御線1791のオンオフデータを
マイコンなどのコントローラ103などから出力するよ
うに構成することにより、ソースドライバ14の仕様が
簡易となり、また、駆動方式に変更があっても、ソース
ドライバ14の変更が不要となる。
[1067] FIG. 194 is an example in which the on / off signal to the lighting control line 1791 is output from the controller 101 or the like. By thus configuring the ON / OFF data of the lighting control line 1791 to be output from the controller 103 such as a microcomputer, the specifications of the source driver 14 are simplified, and even if the drive system is changed, the source driver 14 No need to change.

【1068】図195は表示領域21aを駆動するゲー
トドライバ回路12aとソースドライバ回路14a、お
よび表示領域21bを駆動するゲートドライバ回路12
bとソースドライバ回路14bを用いた構成である。他
の構成は、以前の実施例と同様であるので説明を省略す
る。
FIG. 195 shows a gate driver circuit 12a and a source driver circuit 14a for driving the display area 21a, and a gate driver circuit 12 for driving the display area 21b.
This is a configuration using b and the source driver circuit 14b. The other structure is similar to that of the previous embodiment, and the description thereof is omitted.

【1069】図196は点灯制御線1791へのオンオ
フ信号はコントローラ101などから出力し、ゲートド
ライバ回路12およびソースドライバ回路14を、低温
シリコン、CGS技術あるいは高温ポリシリコン技術を
用いて、基板49に直接に形成した実施例である。もち
ろん、ソースドライバ回路14、点灯制御ドライバ回路
1891などをシリコンチップで作製し、基板49にC
OG技術などを用いて積載してもよい。
In FIG. 196, an ON / OFF signal to the lighting control line 1791 is output from the controller 101 or the like, and the gate driver circuit 12 and the source driver circuit 14 are provided on the substrate 49 by using low temperature silicon, CGS technology or high temperature polysilicon technology. This is an example directly formed. Of course, the source driver circuit 14, the lighting control driver circuit 1891, and the like are manufactured by a silicon chip, and C is formed on the substrate 49.
You may load using OG technology etc.

【1070】図197は点灯制御線1791へのオンオ
フ信号はコントローラ101などから出力し、ゲート信
号線17aへの制御信号およびソース信号線18への画
像データをドライバ回路14aで実現した構成である。
ドライバ回路14aを、低温シリコン、CGS技術ある
いは高温ポリシリコン技術を用いて、基板49に直接に
形成してもよい。また、ドライバ回路14aなどをシリ
コンチップで作製し、基板49にCOG技術などを用い
て積載してもよい。
In FIG. 197, an ON / OFF signal to the lighting control line 1791 is output from the controller 101 or the like, and a control signal to the gate signal line 17a and image data to the source signal line 18 are realized by the driver circuit 14a.
The driver circuit 14a may be formed directly on the substrate 49 using low temperature silicon, CGS technology or high temperature polysilicon technology. Alternatively, the driver circuit 14a or the like may be manufactured from a silicon chip and mounted on the substrate 49 by using the COG technique or the like.

【1071】図92から図101などにおいて、逆バイ
アス電圧Vmの印加する方式について説明を行った。逆
バイアス電圧Vmは基本的にはEL素子15に電流を印
加していない時に、印加する方式であった。一方、図1
80などで説明したブロック駆動方式は、ブロックごと
に非点灯領域312と点灯領域311を形成するもので
あった。
[1071] The method of applying the reverse bias voltage Vm has been described with reference to Figs. The reverse bias voltage Vm was basically applied to the EL element 15 when no current was applied. On the other hand, FIG.
In the block driving method described in 80 and the like, the non-lighting area 312 and the lighting area 311 are formed for each block.

【1072】したがって、ブロック駆動で非点灯領域3
12のEL素子15に逆バイアス電圧Vmと印加するこ
とができる。つまり、ブロックごとに逆バイアス電圧
(電流)を印加するのである。ただし、逆バイアス電圧
はブロック312のすべてに印加することに限定するも
のではない。例えば、任意のブロックを複数に分割し、
分割されたブロックごとに逆バイアス電圧を印加する構
成でもよい。もちろん、ブロックごとに非点灯領域31
2制御を実施し、逆バイアス電圧の印加制御は1画素行
ずつ行ってもよい。
[1072] Therefore, the non-lit region 3 is driven by the block drive.
The reverse bias voltage Vm can be applied to the 12 EL elements 15. That is, the reverse bias voltage (current) is applied to each block. However, the reverse bias voltage is not limited to being applied to all of the blocks 312. For example, divide any block into multiple,
A configuration in which a reverse bias voltage is applied to each of the divided blocks may be used. Of course, each block has a non-lighting area 31
Two controls may be performed, and the application of the reverse bias voltage may be controlled for each pixel row.

【1073】以上のように、ブロックごとに逆バイアス
電圧Vmを印加するように構成することにより、図92
などで説明した画素構成などは簡略される。また、制御
も容易となる。特に、非点灯領域312に逆バイアス電
圧Vmを印加するのであるからロジックも簡単である。
[1073] As described above, by applying the reverse bias voltage Vm to each block, the configuration shown in FIG.
The pixel configuration and the like described in the above are simplified. In addition, control becomes easy. In particular, since the reverse bias voltage Vm is applied to the non-lighting area 312, the logic is simple.

【1074】図211はブロック駆動と逆バイアス電圧
駆動とを組み合わせた場合の本発明の実施例である。図
211の画素構成は図92の画素構成である。この画素
構成は、図180で説明したブロック駆動とを組み合わ
せている。なお、ブロック駆動は図180から図197
のいずれで説明した構成であっても適用できることは言
うまでもない。
FIG. 211 shows an embodiment of the present invention in the case where the block driving and the reverse bias voltage driving are combined. The pixel configuration of FIG. 211 is the pixel configuration of FIG. This pixel configuration is combined with the block driving described in FIG. The block drive is shown in FIGS. 180 to 197.
It goes without saying that any of the configurations described above can be applied.

【1075】図211において、点灯制御線1791に
オフ電圧Vghを印加することにより、該当ブロックが
非点灯領域312となる。同時に(同時に限定するもの
ではない。該当点灯制御線1791にVgh電圧が印加
されている期間であれば、いずれの期間でもよい)、逆
バイアス制御線2111にオン電圧(Vgl)を印加す
る。すると、該当ブロックのEL素子15に逆バイアス
電圧Vmが印加される。つまり、ロジック的には、点灯
制御線1791の逆位相の信号を逆バイアス制御線21
11とすればよい。
[1075] In FIG. 211, by applying the off voltage Vgh to the lighting control line 1791, the corresponding block becomes the non-lighting area 312. At the same time (not limited to the same time, any period may be applied as long as the Vgh voltage is applied to the corresponding lighting control line 1791), and the on-voltage (Vgl) is applied to the reverse bias control line 2111. Then, the reverse bias voltage Vm is applied to the EL element 15 of the block. That is, in terms of logic, the signal of the opposite phase of the lighting control line 1791 is set to the reverse bias control line 21.
It should be 11.

【1076】同様に、図212は図181の構成に、逆
バイアス駆動方式を追加した構成である。また、図21
3は図182の構成に、逆バイアス駆動方式を追加した
構成であり、図214は図183の構成に、逆バイアス
駆動方式を追加した構成である。動作は、容易であるか
ら、あえて説明を要さないであろう。
Similarly, FIG. 212 shows a configuration in which a reverse bias drive system is added to the configuration of FIG. 181. In addition, FIG.
FIG. 3 shows a configuration in which a reverse bias drive system is added to the configuration in FIG. 182, and FIG. 214 shows a configuration in which a reverse bias drive system is added to the configuration in FIG. 183. The operation is easy and will not need any explanation.

【1077】なお、先にも記載したが、逆バイアス電圧
Vmの印加とブロック駆動とは、完全に同期を取る必要
はない。また、走査周期も完全に一致させる必要はな
い。
As described above, it is not necessary to completely synchronize the application of the reverse bias voltage Vm and the block drive. Further, it is not necessary to completely match the scanning cycle.

【1078】以下、本発明のブロック駆動の説明を引き
続き行う。図198は、本発明のブロック駆動方法の説
明図である。以降の説明図においても、説明を容易する
ため、画素構成は図1で図示した画素構成として説明す
る。しかし、これに限定するものではなく、図21、図
43、図71、図22、図54、図68、図103、図
121などの他の画素構成もよいことは言うまでもな
い。
[1078] The block drive of the present invention will be described below. FIG. 198 is an explanatory diagram of the block driving method of the present invention. Also in the following explanatory diagrams, the pixel configuration will be described as the pixel configuration illustrated in FIG. 1 for ease of description. However, the present invention is not limited to this, and needless to say, other pixel configurations such as FIGS. 21, 43, 71, 22, 54, 68, 103, and 121 are also possible.

【1079】図1の画素構成の場合、電流プログラムを
行っている画素行のTFT11dはオフ状態にする必要
がある。つまり、選択画素行にはEL素子15がソース
信号線18から見えないよう(ソース信号線18にEL
素子15が接続されていない)に駆動する。これば、ソ
ース信号線18からのプログラム電流がEL素子15に
流れ込むことを防止するためである。EL素子15でプ
ログラム電流が流れ込むと正規の電流をコンデンサ19
にプログラムできなくなるからである。
In the case of the pixel configuration of FIG. 1, it is necessary to turn off the TFT 11d of the pixel row for which current programming is being performed. That is, in the selected pixel row, the EL element 15 should not be seen from the source signal line 18
Element 15 is not connected). This is to prevent the program current from the source signal line 18 from flowing into the EL element 15. When the program current flows in the EL element 15, a regular current is supplied to the capacitor 19
Because it cannot be programmed to.

【1080】したがって、ブロック駆動を実施する時
は、選択画素行を含むブロックは非点灯状態312とす
る必要がある。つまり、該当ブロック内の画素行が選択
されている時は、このブロックはたえず、非点灯領域3
12とする。逆に他のブロックは点灯状態311でも、
非点灯状態311のいずれでもよい。フリッカを抑制す
るには、選択画素行以外のブロックをオンオフ制御する
ことにより行う。
Therefore, when the block driving is performed, the block including the selected pixel row needs to be in the non-lighting state 312. In other words, when the pixel row in the block is selected, this block is always kept in the non-lighted area 3
12 On the contrary, other blocks are in the lighting state 311
Any of the non-lighted state 311 may be used. Flicker is suppressed by performing on / off control of blocks other than the selected pixel row.

【1081】図198(a)はプロック1981bの1
本の画素行871aが選択されている。そのため、プロ
ック1981bは非点灯状態に制御されている。もし、
プロク1981が6画素行で構成されるのであれば、選
択されたブロック1981は6Hの期間、非点灯表示に
制御される。
[1081] FIG. 198 (a) shows 1 of block 1981b.
The pixel row 871a of the book is selected. Therefore, the block 1981b is controlled in the non-lighting state. if,
If the block 1981 is composed of 6 pixel rows, the selected block 1981 is controlled to a non-illuminated display for a period of 6H.

【1082】図198(b)は図198(a)から1H
後の表示状態である。選択画素行871aは1画素行シ
フトされている。図198(a)において、非点灯表示
312のブロックは、1981b、1918d、198
1f、1981h、1981jである。図198(b)
では、非点灯表示312のブロックは、1981a、1
918b、1981e、1981g、1981iとなっ
ている。つまり、図198(a)と(b)では選択画素
行871aを含むブロック1981b以外は反転(非点
灯領域312と点灯領域311とが逆転)している。
[1082] FIG. 198 (b) is 1H from FIG. 198 (a).
It is a display state later. The selected pixel row 871a is shifted by one pixel row. In FIG. 198 (a), the blocks of the non-lighting display 312 are 1981b, 1918d, and 198.
1f, 1981h, and 1981j. Figure 198 (b)
Then, the blocks of the non-lighting display 312 are 1981a and 1
918b, 1981e, 1981g, and 1981i. That is, in FIGS. 198 (a) and 198 (b), the blocks other than the block 1981b including the selected pixel row 871a are inverted (the non-lighting region 312 and the lighting region 311 are reversed).

【1083】なお、選択画素行が1画素行に限定される
ものではない。複数本でもよい。例えば、図87、図8
8、図146などで説明したように複数本の画素行を選
択する方式と図198のブロック駆動あるいは図211
の逆バイアス駆動などと組み合わせることができる。
[1083] Note that the selected pixel row is not limited to one pixel row. It may be multiple. For example, FIG. 87 and FIG.
8, the method of selecting a plurality of pixel rows as described with reference to FIG. 146 and the block driving of FIG. 198 or FIG.
It can be combined with the reverse bias drive.

【1084】また、図198では、選択画素行のTFT
11dをオフ状態とし、EL素子15は点灯させないと
したが、図21、図43、図71のようにカレントミラ
ー構成の場合は、ソース信号線18とEL素子15とは
接続されていない。したがって、選択画素行も表示状態
としてもよい。ただし、選択画素行は、プログラム中で
あって、その期間の画像はみだれるので、非点灯状態に
制御することが好ましい。
[1084] In addition, in FIG. 198, the TFT of the selected pixel row is
11d is turned off and the EL element 15 is not turned on. However, in the case of the current mirror configuration as shown in FIGS. 21, 43 and 71, the source signal line 18 and the EL element 15 are not connected. Therefore, the selected pixel row may be in the display state. However, it is preferable to control the selected pixel row to a non-illuminated state because the image in that period is under programming during programming.

【1085】図198では、非点灯領域312と点灯領
域311との反転は、1H周期で行うとしたが、これに
限定するものではなく、2Hであったり、それ以上であ
ったりしてもよい。また、比較的ランダムに点灯制御を
行ってもよい。また、当然のことながら、非点灯のブロ
ックに逆バイアス電圧Vmを印加してもよい。
[1085] In FIG. 198, the non-lighting area 312 and the lighting area 311 are inverted in 1H cycle, but the invention is not limited to this and may be 2H or more. . The lighting control may be performed relatively randomly. Further, as a matter of course, the reverse bias voltage Vm may be applied to the non-lighted blocks.

【1086】なお、非点灯領域312と点灯領域311
との制御は、RGBの画素を同時に行う必要はない。た
とえば、R、G、Bで点灯制御を異ならせても良い。こ
れは、FSC(フレームシーケンシャルコントロール)
の場合も含まれる。
[1086] The non-lighting area 312 and the lighting area 311
It is not necessary to control RGB pixels at the same time. For example, the lighting control may be different for R, G, and B. This is FSC (frame sequential control)
The case of is also included.

【1087】図198は1ブロックごとにオンオフ制御
を行うとしたが、これに限定するものではない。たとえ
ば、図199のように、2つのブロック(たとえば、図
199(a)ではブロック1981bと1981cとを
非点灯領域312としている。また、ブロック1981
dと1981eとを点灯領域311としている。)で制
御を行ってもよい。また、1H後に図199(b)のよ
うに点灯制御を行ってもよい。図199(a)と(b)
では1ブロックをづつづらせて点灯制御をおこなってい
る。なお、図198、図199などでは図示を容易にす
るため、ブロック数1981を非常に少なくしている。
以上の事項は他の実施例においても同様である。
In FIG. 198, on / off control is performed for each block, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 199, two blocks (for example, in FIG. 199 (a), blocks 1981b and 1981c are non-lighting areas 312. Further, block 1981.
The d and 1981e are the lighting region 311. ) May control. Further, after 1H, lighting control may be performed as shown in FIG. 199 (b). Figure 199 (a) and (b)
Then, lighting control is performed by spelling one block at a time. Note that in FIGS. 198, 199, etc., the number of blocks 1981 is very small in order to facilitate the illustration.
The above matters also apply to the other embodiments.

【1088】図200はブロックの点灯制御により、表
示画面21に明るさ分布を形成する方式である。説明を
容易にするため、図200(a)を1H目の状態とし、
図200(b)を図200(a)の次の1H後であると
して説明する。もちろん、図200(a)と(b)は所
定期間はなれた状態であればよい。
[1088] FIG. 200 shows a method of forming a brightness distribution on the display screen 21 by controlling the lighting of blocks. In order to facilitate the explanation, FIG.
FIG. 200 (b) will be described assuming that it is 1H after the next of FIG. 200 (a). Of course, FIGS. 200 (a) and 200 (b) may be in a state of being separated by a predetermined period.

【1089】明るさ分布を構成するとは、ガウス分布が
例示される。つまり、表示画面の中央部を明るくし、周
辺部を暗くすることにより、視覚的には明るくし、消費
電力を低減する手法である。
[1089] As the brightness distribution, a Gaussian distribution is exemplified. In other words, it is a method of brightening the central portion of the display screen and darkening the peripheral portion thereof, thereby visually brightening them and reducing power consumption.

【1090】本発明では、画面の左右方向は、映像信号
の変調により、データ自身を変更して明るさ分布を形成
する。たとえば、1画素行のラインメモリを搭載し、こ
のメモリに演算に必要な係数を保持させておく。例え
ば、画面の端が中央部に比較して50%であれば、50
%に相当する係数を保持させておく。以下、ラインメモ
リには中央部が100%になるように、かつガウス分布
を満足するように係数を保持させておく。印加された画
像データはこのラインメモリの係数と演算され、演算さ
れた結果が、各ソース信号線に印加される。
In the present invention, in the horizontal direction of the screen, the data itself is changed by the modulation of the video signal to form the brightness distribution. For example, a line memory for one pixel row is mounted, and this memory holds coefficients required for calculation. For example, if the edge of the screen is 50% of the center,
The coefficient corresponding to% is retained. Hereinafter, the line memory holds coefficients so that the central portion becomes 100% and the Gaussian distribution is satisfied. The applied image data is calculated with the coefficient of this line memory, and the calculated result is applied to each source signal line.

【1091】なお、画面の縦方向にも非点灯領域312
をオンオフできるように、画素構成すれば、画面の左右
方向は、映像信号の変調により、データ自身を変更して
明るさ分布を形成する必要はなくなることはいうまでも
ない。たとえば、1画素列のTFT11dをオンオフ制
御できるように信号線を形成すればよい。つまり、TF
T11dを表示画面でマトリックス状に制御できるよう
にする。
[1091] Note that the non-lighted area 312 is also displayed in the vertical direction of the screen.
It is needless to say that if the pixel is configured to be turned on and off, it is not necessary to change the data itself to form the brightness distribution in the left and right direction of the screen by modulating the video signal. For example, the signal line may be formed so that the TFT 11d in one pixel column can be on / off controlled. That is, TF
T11d can be controlled in a matrix on the display screen.

【1092】また、ガウス分布とは一実施例である。つ
まり、画面21の中央部近傍を明るくする輝度の分布状
態を発生するものである。したがって、ガウス分布に限
定するものではなく、サインカーブ状の明るさ分布であ
ったり、円錐状の明るさ分布であったりしてもよい。ま
た、本発明はTFT11dなどを制御して明るさ分布を
発生させるものであるから、画面21の中央部を明るく
するということに限定されるものではない。たとえば、
画面の中央部が最も暗い状態であってもよいし、画面の
上部が最も明るい状態でもよい。これらの明るさ分布状
態もTFT11dなどを制御することのより、容易に実
現することができる。単に、ゲート信号線17bの制御
タイミング、オン時間を調整(変化)させることにより
実現できるからである。
[1092] The Gaussian distribution is an example. In other words, a luminance distribution state that brightens the vicinity of the central portion of the screen 21 is generated. Therefore, the brightness distribution is not limited to the Gaussian distribution, and may be a sine curve-shaped brightness distribution or a conical brightness distribution. Further, since the present invention controls the TFT 11d and the like to generate the brightness distribution, it is not limited to brightening the central portion of the screen 21. For example,
The central part of the screen may be darkest or the upper part of the screen may be brightest. These brightness distribution states can also be easily realized by controlling the TFT 11d and the like. This is because it can be realized simply by adjusting (changing) the control timing and ON time of the gate signal line 17b.

【1093】また、画像の種類にあわせて、明るさの分
布状態をユーザーが自由にあるいは、自動的に変更する
ことができる。たとえば、パーシャル表示の時は、パー
シャル表示位置を特に明るく表示することができる。
[1093] Further, the user can freely or automatically change the distribution state of brightness according to the type of image. For example, in the partial display, the partial display position can be displayed particularly brightly.

【1094】また、明るさはR、G、Bの3原色を同時
に、かつ同一位置に変化させて発生させる(白色が移動
する)ことに限定されるものではない。たとえば、Rの
みの最大輝度位置を移動させることもできる。以上のよ
うに、各色の最大輝度(最小輝度)位置を変化させるこ
との表示画面21で色模様を発生させることができる。
[1094] The brightness is not limited to the three primary colors of R, G, and B being generated at the same time and changed to the same position (white color moves). For example, the maximum brightness position of only R can be moved. As described above, it is possible to generate a color pattern on the display screen 21 by changing the maximum luminance (minimum luminance) position of each color.

【1095】画面21の上下方向における明るさの分布
の形成は、ブロック1981のオンオフ制御により実現
する。つまり、画面の中央部のブロック1981のオフ
回数を少なくし、画面の上または下はオフ回数を多くす
る。オフ回数が多いほど画面は暗くなり、少なくなるほ
ど明るくなる。このオンオフを制御することのより、画
面の上下方向にガウス分布を形成できる。したがって、
画面の左右方向には映像データの演算(もしくはアナロ
グ変調で振幅値を変調する場合もあるであろう)などに
より、明るさを調整(制御)し、画面の上下方向はブロ
ック1981のオンオフ制御により、表示画面の明るさ
調整(制御)を行う。
[1095] The formation of the brightness distribution in the vertical direction of the screen 21 is realized by the on / off control of the block 1981. That is, the number of off times of the block 1981 at the center of the screen is reduced, and the number of off times is increased above or below the screen. The screen turns darker as the number of off times increases, and becomes brighter as the number of off times decreases. A Gaussian distribution can be formed in the vertical direction of the screen by controlling this on / off. Therefore,
Brightness is adjusted (controlled) in the horizontal direction of the screen by calculating video data (or the amplitude value may be modulated by analog modulation), and the vertical direction of the screen is controlled by on / off control of block 1981. , Adjust the brightness of the display screen (control).

【1096】なお、図200などにおいて、ブロック1
981のオンオフ制御により、明るさ分布を形成すると
したが、これに限定するものではない。ブロック198
1に限らず、画素行ごとにオンオフ制御することによっ
て明るさ分布を形成できることはいうまでもない。ま
た、複数画素行ごとにオンオフ制御することでも実現で
きる。つまり、ブロック1981でオンオフ制御すると
いうのは、複数の画素行の集まりとしてオンオフ制御し
ているに過ぎない。したがって、図200などは、本発
明の技術的範囲の限定された1つの実施例である。
[1096] Note that in FIG.
Although the brightness distribution is formed by the on / off control of 981, the invention is not limited to this. Block 198
It is needless to say that the brightness distribution can be formed by performing on / off control for each pixel row, not limited to 1. It can also be realized by performing on / off control for each of a plurality of pixel rows. That is, the on / off control in block 1981 is merely the on / off control as a group of a plurality of pixel rows. Therefore, FIG. 200 and the like are one embodiment in which the technical scope of the present invention is limited.

【1097】図200(a)では非点灯領域312はブ
ロック1981b、1981d、1981h、1981
jである。図200(b)では非点灯領域312はブロ
ック1981a、1981c、1981i、1981k
である。したがって、中央部のブロック1981e、1
981f、1981gは図200(a)(b)ともに点
灯している。したがって、中央部は明るくなる。
[1097] In FIG. 200 (a), the non-lighting area 312 includes blocks 1981b, 1981d, 1981h, and 1981.
j. In FIG. 200 (b), the non-lighted area 312 includes blocks 1981a, 1981c, 1981i, and 1981k.
Is. Therefore, the central blocks 1981e, 1
In FIGS. 200 (a) and (b), 981f and 1981g are lit. Therefore, the central part becomes bright.

【1098】一方、図200(a)では、ブロック19
81a、1981c、1981i、1981kは点灯状
態311であるが、図200(b)では逆に非点灯状態
312となっている。したがって、表示画像の上下部は
暗くなる。
[1098] On the other hand, in FIG.
81a, 1981c, 1981i, and 1981k are in the lighting state 311, but are in the non-lighting state 312 on the contrary in FIG. 200 (b). Therefore, the upper and lower parts of the displayed image are dark.

【1099】以上のことから、ブロック1981ごとに
オンオフ制御することにより、表示画像に明るさ分布を
形成できる。なお、図200において、中央部のブロッ
ク1981e、1981f、1981gは図200
(a)(b)ともに点灯しているが、次の1Hで非点灯
状態とするなどの制御を行うことにより、自由に明るさ
の制御を実現でき、また、フリッカの発生も抑制でき
る。
As described above, the brightness distribution can be formed in the display image by performing the on / off control for each block 1981. In addition, in FIG. 200, blocks 1981e, 1981f, and 1981g in the central portion are shown in FIG.
Although both (a) and (b) are turned on, the brightness can be freely controlled and the occurrence of flicker can be suppressed by performing control such as turning off in the next 1H.

【1100】図200では、ブロック1981の幅はす
べて同一であった。しかし、視覚的には、画面21の中
央部を細かくし、周辺部を荒くしてもよい。図201の
ように実施する。これは、人間の視覚は、画面の中央部
の解像度が高いことによる。
[1100] In FIG. 200, the widths of the blocks 1981 are all the same. However, visually, the central portion of the screen 21 may be made fine and the peripheral portion may be made rough. It implements like FIG. This is because human vision has a high resolution in the central portion of the screen.

【1101】図201において、オンオフ制御は、図2
01(a)と(b)とを交互に行う。図201では、画
面21の中央部のブロック1981f〜1981nは細
かいブロック単位(1単位)でオンオフ制御を行い、前
記中央部の上下は2ブロック単位でオンオフ制御を行
い、画面の上下は3ブロック単位でオンオフ制御を行
う。なお、画素書き込み行871aのオフ制御は図19
8で説明した方式で行う。つまり、画素書き込み行87
1aは非点灯表示312とする。
[1101] In FIG. 201, the on / off control is performed as shown in FIG.
01 (a) and (b) are alternately performed. In FIG. 201, the blocks 1981f to 1981n in the central portion of the screen 21 are on / off controlled in small block units (1 unit), the upper and lower portions of the central portion are on / off controlled in 2 block units, and the upper and lower portions of the screen are 3 block units. ON / OFF control is performed with. Note that the OFF control of the pixel writing row 871a is performed with reference to FIG.
The method described in 8 is performed. That is, the pixel writing row 87
1a is a non-lighting display 312.

【1102】図201は点灯ブロック1981の幅を変
化させることにより、画面の中央部のオンオフ制御を行
い、視覚的にあわせた表示を実現するものであった。図
202は複数単位周期でオンオフさせる回数を制御する
ことのより、画面のガウス分布を実現するものである。
図202は6周期(図202(a)→(b)→(c)→
(d)→(e)→(f)→(a)→(b)→(c)→
(d)→(e)→(f)→(a))で画面の明るさ分布
を形成するものである。もちろん、6周期に限定するも
のではなく、2周期や、8周期以上であってもよい。ま
た、周期の単位は、1H、1F、あるいは、他のクロッ
クに同期させればよい。なお、図202においても、画
面の左右方向にガウス分布を行うのは、映像信号などで
行う。このことは図198などで説明をしているので省
略する。また、以上の事項は他の本発明にも適用され
る。
[1102] In Fig. 201, the width of the lighting block 1981 is changed to control the on / off of the central portion of the screen to realize a visually matched display. FIG. 202 realizes a Gaussian distribution on the screen by controlling the number of times of turning on / off in a plurality of unit cycles.
FIG. 202 shows 6 cycles (FIG. 202 (a) → (b) → (c) →
(D) → (e) → (f) → (a) → (b) → (c) →
The screen brightness distribution is formed by (d) → (e) → (f) → (a)). Of course, it is not limited to 6 cycles, and may be 2 cycles or 8 cycles or more. The unit of the cycle may be 1H, 1F, or may be synchronized with another clock. Note that, also in FIG. 202, the Gaussian distribution is performed in the left-right direction of the screen by a video signal or the like. This has been described with reference to FIG. The above items also apply to other inventions.

【1103】図202でわかるように、図202(b)
(e)で画面の中央部に点灯表示領域311を発生し、
図202(c)(f)でも、画面の中央付近に点灯表示
領域を多く発生させている。このように制御することに
より、画面の中央部が明るくなる。したがって、良好な
ガウス分布を発生させることができる。
As shown in FIG. 202, FIG. 202 (b)
In (e), a lighting display area 311 is generated in the center of the screen,
Also in FIGS. 202C and 202F, a large number of lighting display areas are generated near the center of the screen. By controlling in this way, the central part of the screen becomes bright. Therefore, a good Gaussian distribution can be generated.

【1104】図207は、ガウス分布を発生させるもの
ではなく、複数の期間で点灯ブロック1981の位置を
変化させることにより、フリッカの発生を抑制するもの
である。図207において図207(a)では、2ブロ
ックごとに非点灯領域312を発生させ、次のブロック
の図207(b)では、3ブロックごとに非点灯領域3
12を発生させている。また、次のブロックの図207
(c)では、4ブロックごとに非点灯領域312を発生
させている。以上のように、非点灯領域312もしくは
点灯領域311の位置を複数の周期で変化させることの
より、フリッカの発生を抑制できる。また、図201、
図202で説明した方式を組み合わせることにより、ガ
ウス分布も発生できる。
[1104] FIG. 207 does not generate the Gaussian distribution but changes the position of the lighting block 1981 in a plurality of periods to suppress the occurrence of flicker. In FIG. 207, in FIG. 207 (a), the non-lighting area 312 is generated every two blocks, and in FIG. 207 (b) of the next block, the non-lighting area 3 is generated every three blocks.
12 has been generated. In addition, FIG.
In (c), the non-lighted area 312 is generated every four blocks. As described above, by changing the position of the non-lighted area 312 or the lighted area 311 in a plurality of cycles, it is possible to suppress the occurrence of flicker. In addition, FIG.
A Gaussian distribution can also be generated by combining the methods described in FIG.

【1105】なお、以上の実施例は、図208に図示す
るようにブロック1981単位で点灯位置を変化させる
ものであった。しかし、本発明はこれに限定するもので
はない。たとえば、図209に図示するように1/2ブ
ロックずつ点灯位置を変化させてもよい。つまり、以上
の実施例は、ブロック単位でオンオフ制御することを主
として説明したが、これに限定するものではない。ガウ
ス分布の発生、フリッカの抑制は、ブロック1981単
位でなくとも実現できるからである。以前に説明したよ
うに、1画素行単位で非点灯制御を実施すればよい。も
ちろん、複数画素行単位で非点灯制御あるいは点灯制御
を実施すればよい。
[1105] In the above embodiment, the lighting position is changed in units of blocks 1981 as shown in FIG. However, the present invention is not limited to this. For example, the lighting position may be changed by 1/2 block as shown in FIG. That is, in the above-described embodiment, the ON / OFF control is performed in block units, but the present invention is not limited to this. This is because generation of Gaussian distribution and suppression of flicker can be realized without using the block 1981 unit. As described above, the non-lighting control may be performed on a pixel row basis. Of course, the non-lighting control or the lighting control may be performed in units of a plurality of pixel rows.

【1106】また、画素行に限定するものではなく、画
素列でオンオフ処理を実施してもよく、また、画素行と
画素列の両方でオンオフ処理を実施してもよい。また、
オンオフする画素行などは順次処理をすることに限定す
るものではなく、ランダム処理を実施してもよい。ラン
ダムに画素行(画素列)をオンオフ制御することによ
り、画像21を見えにくくしたり、フリッカを発生させ
たりすることもできる。また、特定画素行(画素列)を
常時、非点灯表示312にすることもできる。また、画
面全体あるいは一部を低フレームレートでオンオフ表示
(非点灯表示312と点灯表示311を交互に繰り返
す)することにより、画面をフラッシングさせたりする
こともできる。これらは画像のスクランブル処理あるい
は特殊効果処理として応用できる。
[1106] Also, the present invention is not limited to the pixel row, and the on / off processing may be performed on the pixel column, or the on / off processing may be performed on both the pixel row and the pixel column. Also,
Pixel rows that are turned on and off are not limited to sequential processing, and random processing may be performed. By randomly controlling the pixel rows (pixel columns) to be turned on and off, it is possible to make the image 21 less visible and to cause flicker. Further, the specific pixel row (pixel column) can be always set to the non-lighting display 312. Further, the screen can be flushed by displaying the whole screen or a part of the screen on / off at a low frame rate (the non-lighting display 312 and the lighting display 311 are alternately repeated). These can be applied as image scramble processing or special effect processing.

【1107】ただし、以上の表示状態は、ブロック19
81単位で制御を行うことにより、回路構成は容易にな
り、パネル構成、画素構成も容易となることは言うまで
もない。
[1107] However, the above display state is in the block 19
It goes without saying that the control by 81 units makes the circuit configuration easy, and the panel configuration and the pixel configuration also easy.

【1108】画像の種類にあわせて、明るさの分布状態
をユーザーが自由にあるいは、自動的に変更することが
できる。たとえば、パーシャル表示の時は、パーシャル
表示位置を特に明るく表示することができる。また、任
意の表示部分の色を容易に変化させることができる。ま
た、屋外では、必要な部分のみが明るく見えるように表
示することができる。
[1108] The user can freely or automatically change the distribution state of brightness according to the type of image. For example, in the partial display, the partial display position can be displayed particularly brightly. Moreover, the color of any display portion can be easily changed. In addition, it can be displayed outdoors so that only a necessary portion looks bright.

【1109】図215に図示するように点灯領域311
を画面21の上から下へ走査することにより画像を表示
する((a)→(b)→(c)→(d)→(e)→
(a)→(b)→(c)→)。この時、走査クロックを
制御することにより、画面の上下方向に明るさ分布(ガ
ウス分布など)を実現できる。
[1109] As shown in FIG. 215, the lighting area 311
Image is displayed by scanning from the top to the bottom of the screen 21 ((a) → (b) → (c) → (d) → (e) →
(A) → (b) → (c) →). At this time, the brightness distribution (Gaussian distribution or the like) can be realized in the vertical direction of the screen by controlling the scanning clock.

【1110】図215では(c)の表示状態で、点灯領
域311が走査されるときに、点灯領域311の走査速
度を遅くする。(a)(e)の部分に点灯領域311が
走査されるときに、点灯領域311の走査速度を速くす
る。(b)(d)の部分に点灯領域311が走査される
ときには、点灯領域311の走査速度は(a)と(c)
の中間の速度にする。走査速度は図2などで説明したゲ
ートドライバ12のシフトレジスタ22に印加するCL
K*を制御することにより実現できる。また、図179
などで説明した点灯制御線1791を制御することによ
り実現できる。
[1110] In FIG. 215, in the display state of (c), when the lighting area 311 is scanned, the scanning speed of the lighting area 311 is decreased. When the lighting area 311 is scanned in the portions (a) and (e), the scanning speed of the lighting area 311 is increased. When the lighting area 311 is scanned in the portions (b) and (d), the scanning speeds of the lighting area 311 are (a) and (c).
At an intermediate speed. The scanning speed is CL applied to the shift register 22 of the gate driver 12 described in FIG.
It can be realized by controlling K *. Also, FIG.
This can be realized by controlling the lighting control line 1791 described above.

【1111】以上のように点灯領域(画像表示領域)3
11を制御することにより、画面21の中央部がもっと
も高輝度となり、画面の上下部分が最も暗くなる。した
がって、画面21の上下方向にガウス分布などを形成で
きる。もちろん、画素列方向に制御して、画面の左右方
向にガウス分布などを形成してもよい。また、映像信号
の演算処理でも実現できる。
[1111] As described above, the lighting area (image display area) 3
By controlling 11, the central part of the screen 21 has the highest brightness and the upper and lower parts of the screen are the darkest. Therefore, a Gaussian distribution or the like can be formed in the vertical direction of the screen 21. Of course, a Gaussian distribution or the like may be formed in the horizontal direction of the screen by controlling in the pixel column direction. It can also be realized by arithmetic processing of video signals.

【1112】なお、図215では、点灯領域311の走
査スピードを画面位置で変化させることにより、画面に
ガウス分布などの輝度分布を形成するとした。しかし、
この技術的思想はEL表示装置に限定されるものではな
い。たとえば、LED表示装置でも適用できることは明
らかである。また、自己発光型の表示パネル(表示装
置)に限定されるものではない。たとえば、液晶表示装
置でも適用することができる。
[1112] In FIG. 215, it is assumed that the scanning speed of the lighting region 311 is changed depending on the screen position to form a luminance distribution such as a Gaussian distribution on the screen. But,
This technical idea is not limited to the EL display device. For example, it is obvious that an LED display device can also be applied. Further, the invention is not limited to the self-luminous display panel (display device). For example, a liquid crystal display device can also be applied.

【1113】液晶表示装置では、バックライトを改良し
て実現する。バックライトは、画素行方向に沿ってスト
ライプ状の発光領域が複数配置されたものを用いる。た
とえば、ストライプ状の白色EL素子が画素行方向に沿
って形成されたものである。ストライブ上の白色EL素
子は、少なくとも10本以上形成したものを用いる。こ
のストライプ状の発光素子を上から順に点灯していけば
よい。つまり、ストライプ状のELを点灯させるとき
に、画面21の中央部に該当するストライプ状EL素子
15の点灯時間を長くする。すると、バックライトの発
光状態が図215の状態にすることができる。
In the liquid crystal display device, the backlight is improved and realized. As the backlight, one having a plurality of stripe-shaped light emitting regions arranged along the pixel row direction is used. For example, a stripe-shaped white EL element is formed along the pixel row direction. As the white EL element on the stripe, at least 10 or more white EL elements are used. It suffices to light the striped light emitting elements in order from the top. That is, when the striped EL is turned on, the lighting time of the striped EL element 15 corresponding to the central portion of the screen 21 is lengthened. Then, the light emission state of the backlight can be changed to the state shown in FIG. 215.

【1114】したがって、液晶表示装置では、そのもの
自身では点灯表示状態を図215のようにすることはで
きないが、バックライトの点灯領域を走査状態とするこ
とにより、図215で説明した画像表示を実現できる。
以上の事項は図218、図219、図220、図198
などにおいても適用できることは言うまでもない。
[1114] Therefore, in the liquid crystal display device, the lighting display state cannot be set as shown in FIG. 215 by itself, but the image display described in FIG. 215 is realized by setting the lighting region of the backlight in the scanning state. it can.
The above matters are shown in FIGS. 218, 219, 220, and 198.
It goes without saying that it can be applied to such cases.

【1115】図216はゲート信号線17aの駆動波形
を図示している。なお、説明を容易にするため、MCL
Kの周期は1H(1水平走査期間)としている。しか
し、これに限定するものではない。1Hよりももっと高
速のクロックを用いることにより柔軟性のある制御を実
現できる。
[1115] FIG. 216 shows the drive waveform of the gate signal line 17a. In addition, in order to facilitate the explanation, the MCL
The period of K is 1H (1 horizontal scanning period). However, the present invention is not limited to this. Flexible control can be realized by using a clock faster than 1H.

【1116】図216の‘a’で示す部分が図215
(a)の表示状態に該当する。同様に、図216の
‘b’で示す部分が図215(b)の表示状態に該当
し、図216の‘c’で示す部分が図215(c)の表
示状態に該当する。また、図216の‘d’で示す部分
が図215(d)の表示状態に該当し、図216の
‘e’で示す部分が図215(e)の表示状態に該当す
る。
[1116] The portion indicated by'a 'in FIG. 216 is shown in FIG.
It corresponds to the display state of (a). Similarly, the portion indicated by'b 'in FIG. 216 corresponds to the display state in FIG. 215 (b), and the portion indicated by'c' in FIG. 216 corresponds to the display state in FIG. 215 (c). The part indicated by'd 'in FIG. 216 corresponds to the display state of FIG. 215 (d), and the part indicated by'e' in FIG. 216 corresponds to the display state of FIG. 215 (e).

【1117】なお、画素構成は図1の構成を例示して説
明をする。したがって、ゲート信号線17aにVgl電
圧が印加された時に、該当画素行が選択される。しか
し、本発明の実施例は、図1の画素構成に限定されるも
のではなく、図21、図43、図71などのカレントミ
ラー構成、図54、図68、図103などの電圧プログ
ラムの画素構成にも適用できることは言うまでもない。
Note that the pixel configuration will be described by exemplifying the configuration of FIG. Therefore, when the Vgl voltage is applied to the gate signal line 17a, the corresponding pixel row is selected. However, the embodiment of the present invention is not limited to the pixel configuration shown in FIG. 1, and the current mirror configuration shown in FIGS. 21, 43, 71, etc., and the voltage programmed pixel shown in FIGS. 54, 68, 103, etc. It goes without saying that it can be applied to the configuration.

【1118】図216に図示するように、‘a’‘e’
の部分は1H幅のクロックで画素行がシフトされる。
‘b’‘d’の部分は2H幅のクロックで画素行がシフ
トされる。また、‘c’の部分は3H幅のクロックで画
素行がシフトされる。したがって、‘c’の部分は
‘a’の部分に比較して3倍、画素行のシフト動作が遅
い。つまり、‘c’の部分は‘a’の部分に比較して3
倍明るくなる。そのため、画面の中央部が最も明るくな
り、上下部を最も暗くすることができる。
[1118] As shown in FIG. 216, 'a''e'
In the portion of, the pixel row is shifted by the clock of 1H width.
In the part of'b''d ', the pixel row is shifted by the clock of 2H width. Further, in the portion of'c ', the pixel row is shifted by the clock of 3H width. Therefore, the'c 'part is three times slower than the'a' part, and the pixel row shift operation is slow. That is, the'c 'part is 3 compared to the'a' part.
It becomes twice as bright. Therefore, the central part of the screen becomes brightest and the upper and lower parts can be darkest.

【1119】図216では、画面の中央部において、シ
フトレジスタ22のデータ転送を3クロックとした。ま
た、画面の上下部において、シフトレジスタ22のデー
タ転送を1クロックとした。また、画面の上下部と中央
部において、シフトレジスタ22のデータ転送を2クロ
ックとした。しかし、図216のようにクロックの切り
替えが3段階であると、切り替えの境目がくっきりと明
るさの差で表示される。したがって、境目が見えないよ
うに、実際はデータの転送クロックの差を小さくすると
ともに、変化するクロック数を多様にすることが好まし
い。つまり、図216は説明のための図である。
[1119] In FIG. 216, the data transfer of the shift register 22 is set to 3 clocks in the central portion of the screen. Further, in the upper and lower parts of the screen, the data transfer of the shift register 22 is one clock. Further, the data transfer of the shift register 22 is set to 2 clocks in the upper and lower parts and the central part of the screen. However, when the clocks are switched in three stages as shown in FIG. 216, the boundaries of the switching are displayed clearly with a difference in brightness. Therefore, it is preferable to reduce the difference between the data transfer clocks and to change the number of changing clocks so that the boundary cannot be seen. That is, FIG. 216 is a diagram for explanation.

【1120】たとえば、画面の中央部において、シフト
レジスタ22のデータ転送を5クロックとし、画面の上
下部において、シフトレジスタ22のデータ転送を3ク
ロックとし、画面の上下部と中央部において、シフトレ
ジスタ22のデータ転送を4クロックとする。
For example, in the center part of the screen, the data transfer of the shift register 22 is 5 clocks, in the upper and lower parts of the screen, the data transfer of the shift register 22 is 3 clocks, and in the upper and lower parts and the center part of the screen, the shift register 22 The data transfer of 22 is 4 clocks.

【1121】また、画面を9分割の領域以上とし、画面
の上から第1領域、第2領域、第3領域、・・・・・第
9領域とすれば、中央部の第5領域を、シフトレジスタ
22のデータ転送を15クロックとし、第1領域、第9
領域を、シフトレジスタ22のデータ転送を11クロッ
クとする。第2領域、第8領域を、シフトレジスタ22
のデータ転送を12クロックとする。第3領域、第7領
域を、シフトレジスタ22のデータ転送を13クロック
とする。第4領域、第6領域を、シフトレジスタ22の
データ転送を14クロックとする。以上のように、画面
を分割してそれぞれ最適にオンオフ制御すれば、明るさ
の境目はめだたない。
[1121] Also, if the screen is divided into nine or more areas and the first area, the second area, the third area, ... The data transfer of the shift register 22 is set to 15 clocks, and the first area and the ninth area
In the area, the data transfer of the shift register 22 is 11 clocks. The second area and the eighth area are provided in the shift register 22.
The data transfer of is set to 12 clocks. In the third area and the seventh area, the data transfer of the shift register 22 is 13 clocks. The data transfer of the shift register 22 in the fourth area and the sixth area is 14 clocks. As described above, if the screen is divided and the on / off control is optimally performed for each, the boundary between the brightness is not noticed.

【1122】また、図217の方式も画面の明るさの境
目が見えなくすることに対して有効である。図217で
は、画面21の中央部領域のゲート信号線17aの信号
波形を図示している。
[1122] The method of FIG. 217 is also effective for making the boundary of screen brightness invisible. FIG. 217 shows the signal waveform of the gate signal line 17a in the central area of the screen 21.

【1123】図217でわかるように、各フィールド
(フレーム)(F)で表示位置に対する3クロックのシ
フト開始タイミングを変化させている。図217では説
明をよういにするために、1Fから4Fでは1クロック
ずつ開始位置をシフトしている。現実には、各Fに1ク
ロックずつシフトするものではなく、あるFでは1クロ
ック分シフトするが、他のFではシフトしないなどの処
理を行う。また、3クロックのシフトを実施する回数は
各Fで変化させる。
As shown in FIG. 217, the shift start timing of 3 clocks with respect to the display position is changed in each field (frame) (F). In FIG. 217, the start position is shifted by one clock from 1F to 4F in order to simplify the description. In reality, each F is not shifted by one clock, but one F is shifted by one clock, but another F is not shifted. Further, the number of times the shift of 3 clocks is performed is changed in each F.

【1124】たとえば、1F目は、画面の中央部の3ク
ロックの開始位置が、画素行(90)(90画素行目)
から開始されるとし、3クロックでシフトレジスタが転
送される範囲を20画素行とする。2F目は、画面の中
央部の3クロックの開始位置が、画素行(92)から開
始されるとし、3クロックでシフトレジスタが転送され
る範囲を16画素行とする。また、3F目は、画面の中
央部の3クロックの開始位置が、画素行(94)から開
始されるとし、3クロックでシフトレジスタが転送され
る範囲を12画素行とする。さらに、4F目は、画面の
中央部の3クロックの開始位置が、画素行(96)から
開始されるとし、3クロックでシフトレジスタが転送さ
れる範囲を8画素行とする。以上のように処理を行うこ
とにより、中央部が最も明るく、画面の上部の表示輝度
から、この中央部の表示輝度に変化する境目を目立ちに
くくすることができる。
For example, in 1F, the start position of 3 clocks in the center of the screen is the pixel row (90) (90th pixel row).
Starting from, the range in which the shift register is transferred in 3 clocks is 20 pixel rows. In the 2nd floor, the start position of 3 clocks in the center of the screen starts from the pixel row (92), and the range to which the shift register is transferred at 3 clocks is 16 pixel rows. Further, in the 3rd F, assuming that the start position of 3 clocks in the central portion of the screen starts from the pixel row (94), the range to which the shift register is transferred at 3 clocks is 12 pixel rows. Further, in the 4th F, assuming that the start position of 3 clocks in the central portion of the screen starts from the pixel row (96), the range to which the shift register is transferred at 3 clocks is 8 pixel rows. By performing the processing as described above, it is possible to make the boundary at which the display brightness at the upper part of the screen changes from the display brightness at the top of the screen to the display brightness at the center part inconspicuous.

【1125】なお、シフトの開始位置はループ状に処理
を行う。たとえば、図217では1F→2F→3F→4
F→1F→2F・・・・と繰り返す。また、図217で
は画面の中央部は3クロック周期で画素行をシフトする
としたがこれに限定するものではなく、図216で説明
したように、輝度分布がなめらかに変化するようにクロ
ック数、表示領域を調整することはいうまでもない。
[1125] The shift start position is processed in a loop. For example, in FIG. 217, 1F → 2F → 3F → 4
Repeat F → 1F → 2F ... Further, in FIG. 217, the central portion of the screen shifts the pixel rows at 3 clock cycles, but the present invention is not limited to this. As described with reference to FIG. 216, the number of clocks and the display are changed so that the luminance distribution changes smoothly. It goes without saying that the area is adjusted.

【1126】図216と図217をくみあわせることに
よりさらに、画面表示の明るさ分布処理がめだたず、良
好な表示を実現できることはいうまでもない。
It is needless to say that by combining FIG. 216 and FIG. 217, the brightness distribution processing of the screen display can be further omitted and a good display can be realized.

【1127】図216、図217で説明した駆動方式
は、画面21に輝度分布を意識的に形成するものであっ
た。しかし、この技術的概念は、他の画像表示にも応用
できる。
The driving method described with reference to FIGS. 216 and 217 intentionally forms the luminance distribution on the screen 21. However, this technical concept can be applied to other image displays.

【1128】図218は画面21に2つの輝度部分を形
成(表示)したものである。図218において、点灯領
域311aは点灯領域311bよりも明るく表示してい
ることを示している。図218(a)ではメモ1の表示
領域311aを他の表示領域311bよりも明るくす
る。
[1128] FIG. 218 shows two luminance portions formed (displayed) on the screen 21. In FIG. 218, the lighting area 311a is displayed brighter than the lighting area 311b. In FIG. 218 (a), the display area 311a of the memo 1 is made brighter than the other display areas 311b.

【1129】点灯領域311aを点灯領域311bより
も明るく表示するのは、図215などで説明した方式で
容易に構成できる。また、各部の表示領域を選択する回
数を制御すればよいのであるから容易に他の方法でも実
現できる。
[1129] Displaying the illuminated area 311a brighter than the illuminated area 311b can be easily configured by the method described with reference to FIG. Further, since it is sufficient to control the number of times the display area of each unit is selected, it can be easily realized by another method.

【1130】図218では、ユーザーが選択する領域を
明るく(もしくは暗く)表示することにより、表示装置
の使い勝手を良好なものとしている。もちろん、選択し
た表示領域311の色を変化させたりすることも好まし
い。図218の表示方式はメニュー選択画面などに適用
することが好ましい。ユーザーの操作で画面表示が切り
替えることができ、操作性が向上するからである。ま
た、マイコンなどの制御により、自動的に図218の画
面表示状態となるように構成してもよい。また、屋外で
は外光が強く、表示画像が見えなくなるので、特に必要
な部分のみを強く点灯するように(点灯領域311a)
制御を行っても良い。たとえば、外光の明るさを検出
し、その検出した外光の強さが一定値以上の場合におい
て、ユーザーが電源スイッチをおして画面21を表示し
た場合などである。
[1130] In FIG. 218, the area selected by the user is displayed brightly (or darkly) to improve the usability of the display device. Of course, it is also preferable to change the color of the selected display area 311. The display method of FIG. 218 is preferably applied to a menu selection screen or the like. This is because the screen display can be switched by the user's operation and the operability is improved. The screen display state of FIG. 218 may be automatically set by the control of a microcomputer or the like. In addition, since the outside light is strong outdoors and the displayed image cannot be seen, it is necessary to strongly light only the particularly necessary portion (lighting area 311a).
You may control. For example, when the brightness of outside light is detected and the detected intensity of the outside light is a certain value or more, the user displays the screen 21 by pressing the power switch.

【1131】また、図219(a)に図示するように、
強く点灯する点灯領域311aを画面21の複数箇所に
設けてもよい。また、点滅させてもよい。点滅させると
は、図219(a)において、表示領域311aを0.
5秒サイクルでオンオフさせたり、低輝度と高輝度を交
互に表示させたりすることである。
[1131] As shown in FIG. 219 (a),
The lighting region 311a that lights strongly may be provided in a plurality of places on the screen 21. Moreover, you may make it blink. Blinking means that the display area 311a in FIG.
It is to turn on / off in a cycle of 5 seconds, and to alternately display low brightness and high brightness.

【1132】また、図219(b)に図示するように高
輝度領域311a、低輝度領域311b、非点灯領域3
12とを組み合わせて画像表示を行っても良い。
[1132] Also, as shown in FIG. 219 (b), a high-luminance region 311a, a low-luminance region 311b, and a non-lighted region 3
Image display may be performed in combination with 12.

【1133】図220は画面21のスクロール効果を持
たせたものである。図220(a)では、画面21の中
央部まで、高輝度点灯領域311aとしており、図22
0(b)が画面21の下端近傍まで、高輝度点灯領域3
11aとしている。
[1133] FIG. 220 shows a screen 21 having a scroll effect. In FIG. 220 (a), a high-brightness lighting area 311a extends up to the central portion of the screen 21.
0 (b) is near the lower edge of the screen 21, and the high-brightness lighting area 3
11a.

【1134】また、画面21全体を同時に低輝度表示す
ることも可能であることはいうまでもない。本発明は点
灯制御線1791あるいはゲート信号線17bを制御し
てEL素子15に流れる電流をオンオフさせることによ
り画面21の輝度を調整(制御)する。したがって、ソ
ースドライバ14から出力する画像データは変化しな
い。そのため、表示画像のコントラスト、ガンマカーブ
は、表示画像の輝度によらず一定値が保たれることにも
特徴がある。そのため、画面21全体を同時に低輝度表
示しても、階調特性はそのまま保たれる(たとえば、6
4階調表示をしている場合は、画面の輝度が1/2とな
っても、64階調が保たれる)。
[1134] Needless to say, the entire screen 21 can be simultaneously displayed in low brightness. In the present invention, the brightness of the screen 21 is adjusted (controlled) by controlling the lighting control line 1791 or the gate signal line 17b to turn on / off the current flowing through the EL element 15. Therefore, the image data output from the source driver 14 does not change. Therefore, the contrast and gamma curve of the display image are also characterized by being kept constant regardless of the brightness of the display image. Therefore, even if the entire screen 21 is simultaneously displayed in low brightness, the gradation characteristic is maintained as it is (for example, 6).
In the case of 4-gradation display, 64 gradations are maintained even when the screen brightness is halved).

【1135】図220に図示するように最初に画面21
全体を低輝度点灯領域311bとしておき(低輝度表示
としておき)、画面を書き換えているという効果を発揮
させるために、画面21の上から、下方向に高輝度点灯
領域311aとしていく(高輝度表示としていく)。し
たがって、図220の矢印方向に高輝度表示を行ってい
くことにより、1画面21が書き換えられる。そして、
一定時間の間、高輝度表示が連続させると、低消費電力
化の観点から、画面21全体を低輝度表示にする。
[1135] First, as shown in FIG.
The whole is set as the low-brightness lighting area 311b (set as the low-brightness display), and in order to exert the effect of rewriting the screen, the high-brightness lighting area 311a is moved downward from the top of the screen 21 (high-brightness display). I will). Therefore, one screen 21 is rewritten by performing high-luminance display in the arrow direction of FIG. And
If high-luminance display is continued for a certain period of time, the entire screen 21 is set to low-luminance display from the viewpoint of low power consumption.

【1136】なお、有機EL表示パネルでは、白ラスタ
ー表示で、大きな電力を必要とする。この白ラスター表
示用の電源回路を設けると電源回路が非常に大きくな
る。一方で、通常のキャラクタ表示では、白ラスター表
示の1/5〜1/3の電力しか冗費しない。したがっ
て、白ラスター表示の対応できるように電源の出力電流
を保有することは経済的あるいは、システムサイズの観
点から好ましくない。
[1136] Note that the organic EL display panel requires large power for white raster display. If the power supply circuit for this white raster display is provided, the power supply circuit becomes very large. On the other hand, the normal character display consumes only 1/5 to 1/3 the power of the white raster display. Therefore, it is not preferable from the economical or system size viewpoint to retain the output current of the power supply so that the white raster display can be supported.

【1137】この課題に対処するため、本発明では、一
定値以上の電力を消費される画像(たとえば、白ラスタ
ー表示など)を表示する場合は、画像の輝度を低下させ
て表示するように構成している。たとえば、白ラスター
で100mAの電流が流れる場合は、1/2の50mA
の電流となるように画像データを処理する。つまり、入
力画像のデータの総和を求め、総和が一定値以上となる
場合は、画像データに演算処理をおこなって、保有する
電源電力で表示可能なように画像データの値を小さくす
るのである。
To address this problem, in the present invention, when displaying an image that consumes power above a certain value (for example, white raster display), the brightness of the image is reduced and displayed. is doing. For example, if 100 mA of current flows in a white raster, 1/2 of 50 mA
The image data is processed so that the electric current becomes. In other words, the total sum of the data of the input image is obtained, and when the total sum exceeds a certain value, arithmetic processing is performed on the image data to reduce the value of the image data so that the image data can be displayed by the power supply power held.

【1138】もちろん、画像データの値を小さくするこ
とに限定するものではなく、図179、図215、図2
19などで説明した非点灯制御をおこなうことにより、
画面21全体の輝度を低減することができる。もちろ
ん、画像表示部のみの輝度を低減し、アンテナ表示、時
計表示などのアイコン部分は従来の輝度(そのままの輝
度)を保つように制御することもできることはいうまで
もない。
[1138] Of course, the value of the image data is not limited to a small value, and it is not limited to that shown in FIGS.
By performing the non-lighting control described in 19 etc.,
The brightness of the entire screen 21 can be reduced. It goes without saying that the brightness of only the image display unit can be reduced and the icon parts such as the antenna display and the clock display can be controlled to maintain the conventional brightness (the brightness as it is).

【1139】なお、以上の実施例は、点灯領域311も
しくは非点灯領域312を画面の上下方向に走査するこ
とにより、画像表示を行うか、異なる輝度表示領域を形
成(表示)するとして説明をした。しかし、本発明はこ
れに限定するものではない。たとえば、図218などに
おいて、画面21の各部分を選択する回数を制御すれば
明るさ分布を形成できる。
[1139] In the above embodiment, the image display or the different brightness display area is formed (displayed) by scanning the lighting area 311 or the non-lighting area 312 in the vertical direction of the screen. . However, the present invention is not limited to this. For example, in FIG. 218, the brightness distribution can be formed by controlling the number of times each part of the screen 21 is selected.

【1140】たとえば、図218において、画面21を
表示するフレームレートが60Hzの時、表示領域31
1bを25回選択し、表示領域311aを50回選択す
るように制御すれば、表示領域311aは表示領域31
1bの2倍の輝度で表示できる。
[1140] For example, in FIG. 218, when the frame rate for displaying the screen 21 is 60 Hz, the display area 31
If the control is performed such that 1b is selected 25 times and the display area 311a is selected 50 times, the display area 311a becomes the display area 31.
It can be displayed with twice the brightness of 1b.

【1141】同様に、図220(b)において、画面2
1を表示するフレームレートが60Hzの時、表示領域
311bを25回選択し、表示領域311aを50回選
択し、非点灯領域312を全く選択しないように制御す
れば、表示領域311aは表示領域311bの2倍の輝
度で表示でき、312の領域を黒表示にすることができ
る。
[1141] Similarly, in FIG. 220 (b), screen 2
When the frame rate for displaying 1 is 60 Hz, if the display area 311b is selected 25 times, the display area 311a is selected 50 times, and the non-lighted area 312 is not selected at all, the display area 311a will be displayed. It is possible to display with a brightness twice as high as that of the above, and it is possible to display the area 312 in black.

【1142】なお、以上説明した事項は、図1971な
どで説明したブロック駆動あるいは図211で説明した
逆バイアス駆動にも適用できることは言うまでもない。
また、ブロック駆動において、各ブロックを構成する画
素行の本数は1つの文字列を表現する本数にすることが
好ましい。たとえば、1文字が16×16ドットで構成
されるのであれば、16画素行を1つのブロックとす
る。また、1文字が24×24ドットで構成されるので
あれば、24画素行を1つのブロックとする。このよう
に、文字を構成する縦方向のドット数をブロック数とを
一致させることにより、文字を表示する行ごとに点灯領
域311、非点灯領域312を制御することができる。
[1142] Needless to say, the above-described matters can be applied to the block drive described in FIG. 1971 or the like or the reverse bias drive described in FIG. 211.
Further, in block driving, it is preferable that the number of pixel rows forming each block is the number representing one character string. For example, if one character is composed of 16 × 16 dots, 16 pixel rows are set as one block. Further, if one character is composed of 24 × 24 dots, 24 pixel rows are regarded as one block. In this way, by matching the number of dots in the vertical direction forming a character with the number of blocks, the lighting region 311 and the non-lighting region 312 can be controlled for each line in which the character is displayed.

【1143】以上の実施例は、点灯、非点灯制御するこ
とにより画面21の明るさなどを調整(変化)させるも
のであった。明るさ調整のためにEL素子15に流す電
流をオンオフさせる必要がある。この際、課題が出現す
る。以下、この課題とその対策および本発明の駆動方法
について説明をする。なお、説明は図1の画素構成につ
いて説明をする。しかし、以前にも記載しているように
画素構成は図1の構成に限定されるものではなく、図2
1、図43、図71、図22、図54、図67、図10
3など本明細書で記載した画素構成に適用できることは
言うまでもない。
[1143] In the above embodiments, the brightness and the like of the screen 21 is adjusted (changed) by controlling lighting and non-lighting. It is necessary to turn on / off the current flowing through the EL element 15 for brightness adjustment. At this time, a task appears. Hereinafter, this problem, its countermeasure, and the driving method of the present invention will be described. Note that the description will be made on the pixel configuration of FIG. However, as described above, the pixel configuration is not limited to the configuration shown in FIG.
1, FIG. 43, FIG. 71, FIG. 22, FIG. 54, FIG. 67, FIG.
It goes without saying that the present invention can be applied to the pixel configurations described in this specification such as 3.

【1144】図325(a)は画素が選択された時の等
価回路図である。ゲート信号線17aにオン電圧(Vg
l)が印加され、TFT11b、TFT11cがオンす
る。この時、ゲート信号線17bにはオフ電圧(Vg
h)電圧が印加されており、TFT11dはオフとなっ
ている。したがって、EL素子15には電流が流れな
い。
FIG. 325 (a) is an equivalent circuit diagram when a pixel is selected. The gate signal line 17a receives an on-voltage (Vg
l) is applied and the TFTs 11b and 11c are turned on. At this time, the gate signal line 17b receives an off voltage (Vg
h) The voltage is applied and the TFT 11d is off. Therefore, no current flows through the EL element 15.

【1145】図325(b)は画素が非選択状態で、E
L素子15に電流を流している状態である。ゲート信号
線17aにオフ電圧(Vgh)が印加され、TFT11
b、TFT11cがオフしている。ゲート信号線17b
にはオン電圧(Vgl)電圧が印加されており、TFT
11dはオン状態となっている。
[1145] In FIG. 325 (b), when the pixel is in the non-selected state, E
This is a state in which a current is flowing through the L element 15. The off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17a, and the TFT 11
b, the TFT 11c is off. Gate signal line 17b
ON voltage (Vgl) voltage is applied to the
11d is in an on state.

【1146】図326はゲート信号線17に印加する信
号波形である。(1)(2)(3)などの添え字は、画
素行の番号を示している。なお、説明を容易にするた
め、画素行は1画素行目から順次選択されるとして説明
をする。図326においてHDとは水平同期信号であ
る。
[1146] FIG. 326 shows a signal waveform applied to the gate signal line 17. The subscripts such as (1), (2), and (3) indicate the pixel row numbers. Note that, for ease of explanation, it is assumed that pixel rows are sequentially selected from the first pixel row. In FIG. 326, HD is a horizontal sync signal.

【1147】図1の画素構成において、ゲート信号線1
7aは1H期間選択される。この時、選択された画素行
のゲート信号線17bはオフ電圧が印加される。この期
間にソース信号線18から画素に電流がプログラムされ
る。
[1147] In the pixel configuration of FIG. 1, the gate signal line 1
7a is selected for the 1H period. At this time, the off voltage is applied to the gate signal line 17b of the selected pixel row. During this period, a current is programmed from the source signal line 18 to the pixel.

【1148】ゲート信号線17bは選択期間の経過後、
オン電圧が印加され、EL素子15に電流が流れる。図
326で明らかなように、ゲート信号線17bにはHD
信号に同期して一定の期間オン電圧(Vgl)が印加さ
れている。つまり、オン電圧印加時間はx/1Hである
(1Hは1水平走査期間)。図326の実施例では、1
H期間は16等分されているため、x/1H=4H/1
6=1H/4(つまり、1Hの1/4の期間、EL素子
15が点灯する)である。
[1148] The gate signal line 17b is
An on-voltage is applied, and a current flows through the EL element 15. As is clear from FIG. 326, the gate signal line 17b has an HD
The ON voltage (Vgl) is applied for a certain period in synchronization with the signal. That is, the on-voltage application time is x / 1H (1H is one horizontal scanning period). In the example of FIG. 326, 1
Since the H period is divided into 16 equal parts, x / 1H = 4H / 1
6 = 1H / 4 (that is, the EL element 15 is lit for a period of 1/4 of 1H).

【1149】いままで本発明の実施例で説明したEL素
子15の点灯処理は1Hを最小単位として制御したもの
であった。図326は1H期間を細分し、1H期間の点
灯時間で画面の輝度を調整(変化)する方法である。し
たがって、16段階の明るさ調整を例にすれば、明るさ
調整は図328のようになる。明るさの階調1はゲート
信号線17bを1Hごとに1H/16の期間だけ、オン
電圧(Vgl)を印加する。明るさの階調2はゲート信
号線17bを1Hごとに2H/16の期間だけ、オン電
圧(Vgl)を印加する。同様に明るさの階調3はゲー
ト信号線17bを1Hごとに3H/16の期間だけ、オ
ン電圧(Vgl)を印加する。また、明るさの階調14
を例にすれば、はゲート信号線17bを1Hごとに14
H/16の期間だけ、オン電圧(Vgl)を印加する。
同様に明るさの階調15はゲート信号線17bを1Hご
とに15H/16の期間だけ、オン電圧(Vgl)を印
加する。明るさの階調16は、選択されている画素行以
外は、たえずオン電圧(Vgl)が印加されている。
[1149] Up to this point, the lighting process of the EL element 15 described in the embodiments of the present invention has been controlled with 1H as the minimum unit. FIG. 326 shows a method of subdividing the 1H period and adjusting (changing) the brightness of the screen by the lighting time of the 1H period. Therefore, if the brightness adjustment of 16 steps is taken as an example, the brightness adjustment is as shown in FIG. 328. For the gradation 1 of the brightness, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b for each 1H for a period of 1H / 16. For the gradation 2 of the brightness, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b every 1H for a period of 2H / 16. Similarly, for the gradation 3 of the brightness, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b for every 1H for a period of 3H / 16. Also, the brightness gradation 14
For example, the gate signal line 17b is 14
The on-voltage (Vgl) is applied only during the H / 16 period.
Similarly, for the gradation 15 of the brightness, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b every 1H for a period of 15H / 16. The brightness gradation 16 is constantly applied with the on-voltage (Vgl) except for the selected pixel row.

【1150】もし、明るさを32階調(段階)必要な場
合は、1Hを32分割して制御すればよい。また、一定
の明るさ以上を段階的に明るさを制御するには、1Hに
1/2はゲート信号線17bにたえず、Vgl電圧を印
加するようにし、残りの1Hの1/2の期間を32等分
するなどして制御すればよい。
[1150] If brightness of 32 gradations (steps) is required, 1H may be divided into 32 and controlled. Further, in order to control the brightness stepwise above a certain brightness, 1/2 of 1H is always applied to the gate signal line 17b, Vgl voltage is applied, and the remaining 1/2 period of 1H is applied. It may be controlled by dividing it into 32 equal parts.

【1151】表示パネルの回路構成は図327のように
なる。図327の構成は図2の構成に近似する。したが
って、差異を中心に説明をする。図327ではゲート信
号線17aを制御するゲートドライバ14aをパネルの
左端に配置し、ゲート信号線17bを制御するゲートド
ライバ14bをパネルの右端に配置している。3271
はバッファ回路であり、図2では出力ゲート24、イン
バータ回路22などが該当する。なお、インバータ23
は便宜上、挿入したものであり、シフトレジスタ22の
正出力(H=1)時、ゲート信号線17aにオン電圧
(Vgl)が出力されるように構成される。また、ゲー
ト信号線17aにオン電圧が印加(画素行が選択されて
いる)されている時に、前記画素行のゲート信号線17
bは非選択となるので、シフトレジスタ22aとシフト
レジスタ22bのロジックを一致させるためである。
[1151] FIG. 327 shows the circuit configuration of the display panel. The configuration of FIG. 327 is similar to the configuration of FIG. Therefore, the difference will be mainly described. In FIG. 327, the gate driver 14a for controlling the gate signal line 17a is arranged at the left end of the panel, and the gate driver 14b for controlling the gate signal line 17b is arranged at the right end of the panel. 3271
Is a buffer circuit, which corresponds to the output gate 24, the inverter circuit 22, and the like in FIG. In addition, the inverter 23
Is inserted for the sake of convenience, and is configured so that the ON voltage (Vgl) is output to the gate signal line 17a when the shift register 22 has a positive output (H = 1). Further, when the ON voltage is applied to the gate signal line 17a (a pixel row is selected), the gate signal line 17 of the pixel row is
This is because b is not selected and the logics of the shift register 22a and the shift register 22b are matched.

【1152】ゲートドライバ14bも同様である。ま
た、ゲートドライバ14bのシフトレジスタ22bの入
力信号(CLK2、ST2)はゲートドライバのシフト
レジスタ22aの入力信号(CLK1、ST1)と同一
にされる。したがって、STデータはシフトレジスタ2
2a、22b内の同一位置で保持され、保持位置がクロ
ックに同期を取ってシフトされる。このため、図326
で図示するように、ゲート信号線17aが選択している
画素行は必ず、ゲート信号線17bにはオフ電圧(Vg
h)が出力されるように制御される。
[1152] The same applies to the gate driver 14b. The input signals (CLK2, ST2) of the shift register 22b of the gate driver 14b are made the same as the input signals (CLK1, ST1) of the shift register 22a of the gate driver. Therefore, ST data is stored in the shift register 2
It is held at the same position in 2a and 22b, and the holding position is shifted in synchronization with the clock. Therefore, FIG.
As shown in FIG. 6, the pixel row selected by the gate signal line 17a is always connected to the gate signal line 17b at the off voltage (Vg
h) is controlled to be output.

【1153】1Hの期間のうち、いずれの期間にゲート
信号線17bにオン電圧(Vgl)を出力するかは、E
NBL端子に印加するロジック信号で決定される。EN
BL信号がLの時、OR回路3272の出力がオンとな
る(ゲート信号線17bにオン電圧が出力される)。し
たがって、OR回路3272の出力は、シフトレジスタ
22bがデータを保持している箇所に該当するゲート信
号線17bは必ず、オフ電圧が出力される(この画素行
はゲートドライバ14aにより選択され、画素に電流が
プログラムされている)。選択されている画素行のゲー
ト信号線17bはENBL信号線のロジックにより、オ
ンオフ状態が切り替えられる。そのため、ENBL信号
線により、1H期間のどれくらいの期間オン電圧を印加
するか、そのタイミングを自由に調整(制御)すること
ができる。図327の回路構成では、ゲート信号線17
bの制御が容易である。したがって、画面輝度の調整も
自由に行うことができる。また、1Hごとに、EL素子
15に流れる電流をオンオフ制御する。したがって、画
面のオンオフが高速で繰り返されるため、フリッカが発
生しない。
[1153] In which period of 1H, the ON voltage (Vgl) is output to the gate signal line 17b depends on E
It is determined by the logic signal applied to the NBL terminal. EN
When the BL signal is L, the output of the OR circuit 3272 is turned on (the on voltage is output to the gate signal line 17b). Therefore, as for the output of the OR circuit 3272, the off voltage is always output to the gate signal line 17b corresponding to the portion where the shift register 22b holds the data (this pixel row is selected by the gate driver 14a and is output to the pixel). Current is programmed). The gate signal line 17b of the selected pixel row is switched on / off by the logic of the ENBL signal line. Therefore, by the ENBL signal line, it is possible to freely adjust (control) the timing of how long the ON voltage is applied during the 1H period. In the circuit configuration of FIG. 327, the gate signal line 17
The control of b is easy. Therefore, the screen brightness can be adjusted freely. Further, the current flowing through the EL element 15 is on / off controlled every 1H. Therefore, since the screen is repeatedly turned on and off at high speed, flicker does not occur.

【1154】しかし、アレイ設計状態によっては課題が
発生する。図325(b)に図示するように、ゲート信
号線17bとソース信号線18とはクロスしているた
め、ゲート信号線17bとソース信号線18間には寄生
容量404が発生している。図327ではENBL信号
により全ゲート信号線17bに一斉にオン電圧またはオ
フ電圧が印加される。そのため、ゲート信号線17bに
印加した信号により、寄生容量404を介してソース信
号線18の電位変動を引き起こしてしまう。
[1154] However, problems occur depending on the array design state. As illustrated in FIG. 325 (b), since the gate signal line 17b and the source signal line 18 cross each other, a parasitic capacitance 404 is generated between the gate signal line 17b and the source signal line 18. In FIG. 327, on-voltage or off-voltage is simultaneously applied to all the gate signal lines 17b by the ENBL signal. Therefore, the signal applied to the gate signal line 17b causes the potential variation of the source signal line 18 via the parasitic capacitance 404.

【1155】この課題に対処するためには、図329に
図示するように、隣接した画素行に、極力反対極性のパ
ルスを印加することが効果的である。つまり、画素16
a、16cのゲート信号線17bに印加するオンオフ信
号の極性を画素16bと反対位相にすることである。
[1155] To address this problem, it is effective to apply pulses of opposite polarities to adjacent pixel rows as much as possible, as shown in FIG. That is, pixel 16
That is, the polarity of the on / off signal applied to the gate signal lines 17b of a and 16c is set to the opposite phase to that of the pixel 16b.

【1156】しかし、現実には、隣接したゲート信号線
17bに完全に逆位相の信号を印加するということは、
EL素子15に流す電流印加時間が隣接画素行で異なる
ことになる。なぜなら、画素16aのゲート信号線17
bに1Hの1/4の期間オン電圧を印加すると、1Hの
1/4期間発光する。画素16bのゲート信号線17b
に画素16aのゲート信号線17bの逆位相にするとす
れば、画素16bのゲート信号線17bに1Hの3/4
の期間オン電圧を印加することになる。したがって、画
素16bは1Hの3/4期間発光する。つまり、隣接し
た画素行で発光時間が異なってしまう。
However, in reality, applying a signal having a completely opposite phase to the adjacent gate signal line 17b means that
The application time of the current flowing through the EL element 15 differs between adjacent pixel rows. Because the gate signal line 17 of the pixel 16a
When an ON voltage is applied to b for a period of 1H 1/4, light is emitted for a period of 1H 1/4. Gate signal line 17b of pixel 16b
If the phase is opposite to that of the gate signal line 17b of the pixel 16a, the gate signal line 17b of the pixel 16b is 3/4 of 1H.
The ON voltage is applied during the period. Therefore, the pixel 16b emits light for 3/4 period of 1H. That is, the light emission time differs between adjacent pixel rows.

【1157】図332はこの課題を解決する本発明の駆
動方法である。理解を容易にするため、画素行(1)と
画素行(2)のゲート信号線17bの波形を抽出して図
示している。Aの例では、画素行(1)のゲート信号線
17b(1)のオン電圧(Vgl)を印加する時間はT
1の期間である。また、画素行(1)に隣接した画素行
(2)のゲート信号線17b(2)のオン電圧(Vg
l)を印加する時間もT1の期間である。つまり、EL
素子15に電流を流す時間は隣接した画素行で等しい。
したがって、全表示領域において、表示輝度は同一とな
る。
FIG. 332 shows a driving method of the present invention which solves this problem. For easy understanding, the waveforms of the gate signal lines 17b of the pixel row (1) and the pixel row (2) are extracted and shown in the figure. In the example of A, the time for applying the on-voltage (Vgl) of the gate signal line 17b (1) of the pixel row (1) is T
It is the period of 1. Further, the ON voltage (Vg of the gate signal line 17b (2) of the pixel row (2) adjacent to the pixel row (1) is
The time for applying l) is also the period of T1. That is, EL
The time for passing the current through the element 15 is the same in the adjacent pixel rows.
Therefore, the display brightness is the same in the entire display area.

【1158】隣接した画素行のゲート信号線17bの波
形は、a点において逆位相であるので打ち消しあう。b
点、c点では離れているが、打ち消し効果は0ではな
い。現実にはAの例(状態)でもほとんど、カップリン
グによる画面浮きは発生しない。
[1158] The waveforms of the gate signal lines 17b of the adjacent pixel rows cancel each other out because they have opposite phases at the point a. b
The points C and C are separated, but the canceling effect is not zero. In reality, in the example (state) of A, almost no screen floating due to coupling occurs.

【1159】Bの例(状態)では、画素行(1)のゲー
ト信号線17b(1)のオン電圧(Vgl)を印加する
時間はT2の期間である。また、画素行(1)に隣接し
た画素行(2)のゲート信号線17b(2)のオン電圧
(Vgl)を印加する時間もT2の期間である。つま
り、EL素子15に電流を流す時間は隣接した画素行で
等しい。隣接した画素行のゲート信号線17bの波形
は、a点において逆位相であるので打ち消しあう。ま
た、b点、c点の位置はかなり近い。したがって、打ち
消し効果が大きい。
In the example (state) of B, the time for applying the ON voltage (Vgl) of the gate signal line 17b (1) of the pixel row (1) is the period of T2. The time for applying the on-voltage (Vgl) of the gate signal line 17b (2) of the pixel row (2) adjacent to the pixel row (1) is also the period of T2. That is, the time during which the current is passed through the EL element 15 is the same in the adjacent pixel rows. The waveforms of the gate signal lines 17b of the adjacent pixel rows cancel each other out because they have opposite phases at the point a. The positions of points b and c are quite close. Therefore, the cancellation effect is large.

【1160】Cの例(状態)では、画素行(1)のゲー
ト信号線17b(1)のオン電圧(Vgl)を印加する
時間はT3の期間である。また、画素行(1)に隣接し
た画素行(2)のゲート信号線17b(2)のオン電圧
(Vgl)を印加する時間もT3の期間である。つま
り、EL素子15に電流を流す時間は隣接した画素行で
等しい。隣接した画素行のゲート信号線17bの波形
は、a点において逆位相であるので打ち消しあう。ま
た、a点とb点が近く、c点とa点の位置はかなり近
い。したがって、打ち消し効果が大きい。
[1160] In the example (state) of C, the time for applying the on-voltage (Vgl) of the gate signal line 17b (1) of the pixel row (1) is the period of T3. Further, the time for applying the ON voltage (Vgl) of the gate signal line 17b (2) of the pixel row (2) adjacent to the pixel row (1) is also the period of T3. That is, the time during which the current is passed through the EL element 15 is the same in the adjacent pixel rows. The waveforms of the gate signal lines 17b of the adjacent pixel rows cancel each other out because they have opposite phases at the point a. The points a and b are close to each other, and the points c and a are considerably close to each other. Therefore, the cancellation effect is large.

【1161】以上のように図332の駆動方法では、C
の状態が画面輝度は最も暗く、Bの状態は次に暗く、A
の状態は一番明るい。また、A、B、Cのいずれの状態
も隣接した画素行でゲート信号線17bに印加する波形
の位相を変化させているので、隣接した画素行間で寄生
容量の影響をキャンセルしている。
[1161] As described above, in the driving method of FIG.
The state of is the darkest screen brightness, the state of B is the next darkest,
Is the brightest. Further, in any of the states of A, B, and C, the phase of the waveform applied to the gate signal line 17b is changed in the adjacent pixel rows, so that the influence of the parasitic capacitance is canceled between the adjacent pixel rows.

【1162】なお、図332において、a点などで画素
行(1)のゲート信号線17bと画素行(2)のゲート
信号線17bの変化位置を一致させるように図示したが
これに限定するものではない。画素行(1)のゲート信
号線17bと画素行(2)のゲート信号線17bの変化
位置がずれていても、ソース信号線18の電位変動を抑
制する効果が発揮されるからである。実験によれば、変
化位置は1H(1水平走査期間)の30%以内(たとえ
ば、1Hが100(μsec)であれば、30(μse
c)以内)であれば、変化位置が一致している場合を差
異はなかった。
[1162] Note that in FIG. 332, the change positions of the gate signal line 17b of the pixel row (1) and the gate signal line 17b of the pixel row (2) are illustrated to be aligned at the point a and the like; however, the present invention is not limited to this. is not. This is because even if the change positions of the gate signal line 17b of the pixel row (1) and the gate signal line 17b of the pixel row (2) are deviated, the effect of suppressing the potential fluctuation of the source signal line 18 is exhibited. According to the experiment, the changing position is within 30% of 1H (one horizontal scanning period) (for example, if 1H is 100 (μsec), 30 (μse)
Within c)), there was no difference when the changed positions were the same.

【1163】また、図329などでは、隣接した画素行
でゲート信号線17bに印加する信号波形を異ならせる
としたがこれに限定するものではない。たとえば、図3
30のように、2画素行ごとに変化させてもよい。図3
30では画素16a、16b、16eが同一であり、画
素16c、16dが同一である。
[1163] In addition, in FIG. 329 and the like, the signal waveform applied to the gate signal line 17b is different between adjacent pixel rows, but the present invention is not limited to this. For example, in FIG.
As in 30, it may be changed every two pixel rows. Figure 3
In 30, the pixels 16a, 16b and 16e are the same, and the pixels 16c and 16d are the same.

【1164】また、隣接画素行でゲート信号線17bを
近接させることも効果がある。この実施例を図331に
図示している。画素16aのゲート信号線17b1と、
画素16bのゲート信号線17b2とを近接させて配置
(形成)している。
[1164] It is also effective to bring the gate signal lines 17b close to each other in adjacent pixel rows. This embodiment is shown in FIG. The gate signal line 17b1 of the pixel 16a,
It is arranged (formed) close to the gate signal line 17b2 of the pixel 16b.

【1165】図330は2画素行ごとに信号波形を異な
らせているが、さらに3画素行以上ごとにゲート信号線
17に印加する信号波形を異ならせるとしてもおい。ま
た、ランダムにしてもよい。また、複数フレーム(フィ
ールド)で明るさが目標値をなるように制御してもよ
い。なお、以上の実施例では、ゲート信号線17bの位
相関係、信号波形のタイミングについて論じているが、
これに限定されることなく、ゲート信号線17aについ
ても同様に、位相関係、信号波形のタイミングに隣接画
素行などで変化させれば効果的である。また、逆バイア
ス電圧を印加するTFT11gのゲート信号線について
も同様である。
[1165] In FIG. 330, the signal waveform is made different every two pixel rows, but the signal waveform applied to the gate signal line 17 may be made different every three pixel rows or more. It may also be random. In addition, the brightness may be controlled to be a target value in a plurality of frames (fields). In the above embodiments, the phase relationship of the gate signal line 17b and the timing of the signal waveform are discussed.
The gate signal line 17a is not limited to this, but it is effective to change the phase relationship and the timing of the signal waveform in the adjacent pixel row in the same manner. The same applies to the gate signal line of the TFT 11g that applies a reverse bias voltage.

【1166】図332のように隣接した画素行のゲート
信号線17bの信号波形を変化させるにためには、表示
パネルの回路構成は図333ようになる。図333の構
成は図327の構成に近似する。したがって、差異を中
心に説明をする。
[1166] In order to change the signal waveform of the gate signal line 17b of the adjacent pixel row as shown in FIG. 332, the circuit configuration of the display panel is as shown in FIG. The configuration of FIG. 333 is similar to that of FIG. Therefore, the difference will be mainly described.

【1167】1Hの期間のうち、いずれの期間にゲート
信号線17bにオン電圧(Vgl)を出力するかは、E
NBL1端子およびENBL2端子に印加するロジック
信号で決定される。ENBL1信号がLの時、偶数画素
行に対応するOR回路3272の出力がオンとなる(ゲ
ート信号線17bにオン電圧が出力される)。また、E
NBL2信号がLの時、奇数画素行に対応するOR回路
3272の出力がオンとなる(ゲート信号線17bにオ
ン電圧が出力される)。
[1167] In which period of 1H, the ON voltage (Vgl) is output to the gate signal line 17b depends on E
It is determined by the logic signal applied to the NBL1 terminal and the ENBL2 terminal. When the ENBL1 signal is L, the output of the OR circuit 3272 corresponding to the even pixel row is turned on (the on voltage is output to the gate signal line 17b). Also, E
When the NBL2 signal is L, the output of the OR circuit 3272 corresponding to the odd pixel row is turned on (an on voltage is output to the gate signal line 17b).

【1168】したがって、OR回路3272の出力は、
シフトレジスタ22bがデータを保持している箇所に該
当するゲート信号線17bは必ず、オフ電圧が出力され
る(この画素行はゲートドライバ14aにより選択さ
れ、画素に電流がプログラムされている)。選択されて
いる画素行のゲート信号線17bはENBL1およびE
NBL2信号線のロジックにより、オンオフ状態が切り
替えられる。そのため、ENBL信号線により、1H期
間のどれくらいの期間オン電圧を印加するか、そのタイ
ミングを自由に調整(制御)することができる。
[1168] Therefore, the output of the OR circuit 3272 is
The gate signal line 17b corresponding to the portion where the shift register 22b holds data always outputs the off voltage (this pixel row is selected by the gate driver 14a, and the current is programmed in the pixel). The gate signal line 17b of the selected pixel row has ENBL1 and E
The on / off state is switched by the logic of the NBL2 signal line. Therefore, by the ENBL signal line, it is possible to freely adjust (control) the timing of how long the ON voltage is applied during the 1H period.

【1169】したがって、図332ではa点で隣接した
ゲート信号線17bの位相と逆極性にするとしたが、こ
れに限定せず、逆極性をなる位置を自由に変更できる。
また、ゲート信号線17bにオン電圧(Vgl)を印加
する位置は1Hの期間において連続している必要はな
い。1H期間に複数回、オン電圧を印加するように構成
してもよい。
Therefore, in FIG. 332, the polarity is opposite to the phase of the gate signal line 17b adjacent at the point a, but the present invention is not limited to this, and the position having the opposite polarity can be freely changed.
Further, the position where the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b does not have to be continuous in the period of 1H. The ON voltage may be applied multiple times during the 1H period.

【1170】図332は1Hで規則正しい信号波形とな
っていたが、これに限定する必要はない。図326でも
説明したように、ゲート信号線17bに印加する信号波
形が一致することにより、ソース信号線18の電位変動
が発生することが問題である。したがって、解決する手
段の1つが隣接画素行で、ゲート信号線17bに印加す
る信号波形を異ならせるというのが本発明の方法であっ
た。たとえば、図337に図示するように2H周期でゲ
ート信号線17bに印加する信号波形を操作してもよ
い。
[1170] In Fig. 332, the signal waveform is regular at 1H, but the invention is not limited to this. As described with reference to FIG. 326, there is a problem in that the potential fluctuations of the source signal line 18 occur due to the coincidence of the signal waveforms applied to the gate signal line 17b. Therefore, it was the method of the present invention that one of the means for solving the problem is to make the signal waveform applied to the gate signal line 17b different between adjacent pixel rows. For example, as shown in FIG. 337, the signal waveform applied to the gate signal line 17b may be operated in a 2H cycle.

【1171】図337では、画素行を選択するゲート信
号線17aは水平同期信号(HD)に同期して変化させ
ている(つまり、HDに同期して1画素行ずつ選択する
画素行をシフトしている)。しかし、ゲート信号線17
bは2H周期でオン電圧(Vgl)を出力する。この場
合でも画面21の輝度調整を行えることは言うまでもな
い。また、ゲート信号線17bに印加する信号波形の変
化が少なくなるから黒浮きは発生しにくくなる。
In FIG. 337, the gate signal line 17a for selecting a pixel row is changed in synchronization with the horizontal synchronizing signal (HD) (that is, the pixel row to be selected is shifted pixel by pixel in synchronization with HD. ing). However, the gate signal line 17
b outputs an on-voltage (Vgl) in a 2H cycle. It goes without saying that the brightness of the screen 21 can be adjusted even in this case. Further, since the change in the signal waveform applied to the gate signal line 17b is reduced, the black floating is less likely to occur.

【1172】図337は1H期間を32に細分したもの
とも言い換えることができる。したがって、32段階の
明るさ調整を例にすれば、明るさ調整は図338のよう
になる。明るさの階調1はゲート信号線17bを2Hご
とに1H/32の期間だけ、オン電圧(Vgl)を印加
する。明るさの階調2はゲート信号線17bを2Hごと
に2H/32の期間だけ、オン電圧(Vgl)を印加す
る。同様に明るさの階調3はゲート信号線17bを2H
ごとに3H/32の期間だけ、オン電圧(Vgl)を印
加する。以下同様であり、明るさの階調30を例にすれ
ば、はゲート信号線17bを2Hごとに30H/32の
期間だけ、オン電圧(Vgl)を印加する。同様に明る
さの階調31はゲート信号線17bを2Hごとに31H
/32の期間だけ、オン電圧(Vgl)を印加する。明
るさの階調32は、選択されている画素行以外は、たえ
ずオン電圧(Vgl)が印加されている。
[1173] FIG. 337 can also be restated as being a subdivision of the 1H period into 32. Therefore, taking the 32-step brightness adjustment as an example, the brightness adjustment is as shown in FIG. 338. For brightness gradation 1, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b every 2H for a period of 1H / 32. For the gradation 2 of the brightness, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b every 2H for a period of 2H / 32. Similarly, for gradation 3 of brightness, the gate signal line 17b is set to 2H.
The on-voltage (Vgl) is applied for each 3H / 32 period. The same applies to the following, and taking the brightness gradation 30 as an example, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b every 2H for 30H / 32. Similarly, the brightness gradation 31 is 31H for every 2H on the gate signal line 17b.
The ON voltage (Vgl) is applied only during the period of / 32. As for the brightness gradation 32, the on-voltage (Vgl) is constantly applied except for the selected pixel row.

【1173】他の方法として、図335に図示するよう
に、ゲート信号線17bに印加する信号波形を少しずつ
変化させるという方法がある。図335では画素行
(1)から画素行(8)までのゲート信号線17bの波
形を図示している。各画素行のゲート信号線17bにオ
ン電圧(Vgl)が印加される時間はT1と一定であ
る。また、オン電圧(Vgl)とオフ電圧(Vgh)が
印加される周期も一定としている。したがって、各画素
行のEL素子15は所定周期で所定時間だけ点灯するか
ら、画面21の輝度は全画素行で一定である(もちろ
ん、白ラスター表示の場合である。動画、自然画では当
然、画像データによって各画素の輝度は異なる)。
As another method, as shown in FIG. 335, there is a method of gradually changing the signal waveform applied to the gate signal line 17b. FIG. 335 shows the waveform of the gate signal line 17b from the pixel row (1) to the pixel row (8). The time during which the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b of each pixel row is constant at T1. Further, the cycle in which the on-voltage (Vgl) and the off-voltage (Vgh) are applied is also constant. Therefore, since the EL element 15 of each pixel row is lit for a predetermined period of time in a predetermined cycle, the brightness of the screen 21 is constant in all pixel rows (of course, in the case of white raster display. Naturally, in a moving image and a natural image. The brightness of each pixel varies depending on the image data).

【1174】各画素行において、ゲート画素行(1)の
ゲート信号線17b(1)のa1点(立下り方向)と画
素行(2)のゲート信号線17b(2)のa2点(立上
がり方向)とのタイミングを一致させている。以上のよ
うに2つの波形の立ち上がりを立ち下がりタイミングを
一致させることによりソース信号線18へのカップリン
グの発生を抑制している。同様に、画素行(2)のゲー
ト信号線17b(2)のb2点(立下り方向)と画素行
(3)のゲート信号線17b(3)のb3点(立上がり
方向)とのタイミングを一致させている。画素行(3)
のゲート信号線17b(3)のc3点(立下り方向)と
画素行(4)のゲート信号線17b(4)のc4点(立
上がり方向)とのタイミングを一致させている。また、
画素行(4)のゲート信号線17b(4)のd4点(立
下り方向)と画素行(5)のゲート信号線17b(5)
のd5点(立上がり方向)とのタイミングを一致させて
いる。
In each pixel row, gate signal line 17b (1) of pixel row (1) has a1 point (falling direction) and gate signal line 17b (2) of pixel row (2) has a2 point (rise direction). ) And the timing is matched. As described above, the occurrence of coupling to the source signal line 18 is suppressed by matching the rising timing and the falling timing of the two waveforms. Similarly, the timings of the b2 point (falling direction) of the gate signal line 17b (2) of the pixel row (2) and the b3 point (rising direction) of the gate signal line 17b (3) of the pixel row (3) match. I am letting you. Pixel row (3)
The point c3 of the gate signal line 17b (3) (falling direction) and the point c4 of the gate signal line 17b (4) of the pixel row (4) (rising direction) are matched. Also,
Point d4 (falling direction) of the gate signal line 17b (4) of the pixel row (4) and the gate signal line 17b (5) of the pixel row (5)
The timing is the same as the point d5 (the rising direction).

【1175】以上のように図335の駆動方法では、隣
接した画素行のゲート信号線17bは極力、立上がりタ
イミングと立下りタイミングとを一致させて駆動してい
るため、ソース信号線18へのカップリングが少ない。
したがって、黒浮きの発生は小さく、良好なコントラス
トを実現できる。
As described above, in the driving method of FIG. 335, since the gate signal lines 17b of the adjacent pixel rows are driven so that the rising timing and the falling timing coincide with each other as much as possible, the coupling to the source signal line 18 is performed. There are few rings.
Therefore, the occurrence of black floating is small, and good contrast can be realized.

【1176】図336は本発明の駆動方式において、画
面21の書き換え状態を図示している。図336(a)
の1H経過後は図336(b)であり、さらに1H経過
後は図336(c)の状態である。つまり、画面21は
複数に分割され、同時に複数の領域が書き換えられてい
る。もちろん、1画素行ずつ書き換えても良いことは言
うまでもない。
[1176] FIG. 336 illustrates the rewriting state of the screen 21 in the driving method of the present invention. FIG. 336 (a)
336 (b) after 1H has passed, and the state in FIG. 336 (c) has further passed after 1H. That is, the screen 21 is divided into a plurality of areas, and a plurality of areas are rewritten at the same time. Of course, it is needless to say that each pixel line may be rewritten.

【1177】なお、本発明の駆動方式は、図1などの画
素が電流プログラム方式の構成を例示して説明している
が、図54、図68、図103、図121などの電圧プ
ログラム方式の構成においても有効である。ゲート信号
線とソース信号線は、パネル構成に起因するものであ
り、画素が電圧プログラム方式でも電流プログラム方式
でも発生するからである。したがって、本発明の駆動方
法、駆動回路は本明細書に記載されたすべての構成に適
用される。
[1177] Although the driving method of the present invention has been described by exemplifying the configuration of the pixel of the current programming method shown in Fig. 1 and the like, the driving method of the voltage programming method shown in Figs. 54, 68, 103 and 121 is used. It is also effective in the configuration. This is because the gate signal line and the source signal line are caused by the panel structure and are generated in the pixel by the voltage programming method or the current programming method. Therefore, the driving method and the driving circuit of the present invention are applied to all the configurations described in this specification.

【1178】また、図1などの画素構成では、選択され
た画素行において、ゲート信号線17aにオン電圧が印
加されているときは、ゲート信号線17bにはオフ電圧
を印加し、ソース信号線18側からEL素子15が見え
ないようにするとした。しかし、図21、図22、図4
3、図71などのカレントミラーの画素構成において
は、ソース信号線18とEL素子15へは直接の電流経
路はない。したがって、カレントミラーの画素構成で
は、ゲート信号線17aにオン電圧が印加されていると
きは、ゲート信号線17bにはオフ電圧を印加するとい
う条件は満足させる必要はない。このことは、図54、
図67、図103などで説明した電圧プログラム方式の
画素構成においても同様である。
In the pixel configuration shown in FIG. 1 or the like, in the selected pixel row, when the ON voltage is applied to the gate signal line 17a, the OFF voltage is applied to the gate signal line 17b and the source signal line 17b is applied. The EL element 15 is made invisible from the 18 side. However, FIG. 21, FIG. 22, and FIG.
In the pixel configuration of the current mirror as shown in FIG. 3 and FIG. 71, there is no direct current path to the source signal line 18 and the EL element 15. Therefore, in the pixel configuration of the current mirror, it is not necessary to satisfy the condition that the off voltage is applied to the gate signal line 17b when the on voltage is applied to the gate signal line 17a. This is shown in FIG.
The same applies to the pixel configuration of the voltage programming method described with reference to FIGS. 67 and 103.

【1179】また、図335においても、a1、a2点
などで画素行(1)のゲート信号線17bと画素行
(2)のゲート信号線17bの変化位置を一致させるよ
うに図示したがこれに限定するものではない。画素行
(1)のゲート信号線17bと画素行(2)のゲート信
号線17bの変化位置がずれていても、ソース信号線1
8の電位変動を抑制する効果が発揮されるからである。
このことは、電流プログラム方式のパネル構成で顕著で
ある。実験によれば、変化位置は1H(1水平走査期
間)の30%以内(たとえば、1Hが100(μse
c)であれば、30(μsec)以内)であれば、変化
位置が一致している場合を差異はない。また、図335
において、ゲート信号線17bの変化は1H周期として
いるがこれに限定するものではない。全ゲート信号線1
7bが所定期間でオン電圧が印加させる期間(T1)が
一致すればよい。したがって、HD(水平同期信号)と
同期をとる必要はない。各画素のゲート信号線17bが
フリーランで動作させてもよい。ゲート信号線17bに
オン電圧を印加し、また、オフ電圧を印加する周期が、
水平同期信号(HD)と全く非同期でもよい。また、垂
直同期信号(VD)と同期を取っても良い。また、ソー
スドライバ回路14のクロックと同期を取るように構成
してもよい。
[1179] Also, in FIG. 335, the change positions of the gate signal line 17b of the pixel row (1) and the gate signal line 17b of the pixel row (2) are made to coincide with each other at points a1 and a2. It is not limited. Even if the change positions of the gate signal line 17b of the pixel row (1) and the gate signal line 17b of the pixel row (2) are deviated, the source signal line 1
This is because the effect of suppressing the potential fluctuation of No. 8 is exhibited.
This is remarkable in the current program type panel configuration. According to the experiment, the changing position is within 30% of 1H (1 horizontal scanning period) (for example, 1H is 100 (μse).
In the case of c), within 30 (μsec)), there is no difference when the changed positions match. Also, FIG.
In the above, the change of the gate signal line 17b is set to 1H cycle, but it is not limited to this. All gate signal lines 1
It suffices that 7b is a predetermined period and the period (T1) in which the on-voltage is applied matches. Therefore, it is not necessary to synchronize with HD (horizontal synchronization signal). The gate signal line 17b of each pixel may be operated in free run. The cycle of applying the on-voltage and the off-voltage to the gate signal line 17b is
It may be completely asynchronous with the horizontal synchronizing signal (HD). Further, it may be synchronized with the vertical synchronizing signal (VD). Further, the clock may be synchronized with the clock of the source driver circuit 14.

【1180】しかし、現実には、全く非同期(ランダム
状態)でゲート信号線17bを動作させると、画像の種
類によっては、フリッカが発生したり、温度依存性によ
り表示画面の輝度が変化する場合がある。したがって、
所定の周期で各ゲート信号線17bの信号印加状態に規
則性をもたせることが好ましい。また、規則性を持たせ
ることにより、駆動回路を簡略化できる。特に、図1の
画素構成では、選択した画素行のゲート信号線17bは
オフ電圧(Vgh)を印加するという制約があるからで
ある。つまり、ゲート信号線17aとゲート信号線17
bとは同期性を持たせる必要がある。
However, in reality, when the gate signal line 17b is operated completely asynchronously (random state), flicker may occur depending on the type of image or the brightness of the display screen may change due to temperature dependence. is there. Therefore,
It is preferable that the signal application state of each gate signal line 17b has regularity in a predetermined cycle. Further, by providing regularity, the drive circuit can be simplified. Particularly, in the pixel configuration of FIG. 1, there is a restriction that the gate signal line 17b of the selected pixel row applies the off voltage (Vgh). That is, the gate signal line 17a and the gate signal line 17
It is necessary to provide synchronization with b.

【1181】本発明では、16周期ごとにパターンを繰
り返すように構成している。したがって、画素行(1)
のゲート信号線17bに印加する信号波形パターンから
画素行(16)のゲート信号線17bに印加する信号波
形パターンを異ならせる。画素行(17)のゲート信号
線17bに印加する信号波形パターンから画素行(3
2)のゲート信号線17bに印加する信号波形パターン
を異ならせる。画素行(1)のゲート信号線17bに印
加する信号波形パターンと画素行(17)のゲート信号
線17bに印加する信号波形パターンとは一致させ、画
素行(2)のゲート信号線17bに印加する信号波形パ
ターンと画素行(18)のゲート信号線17bに印加す
る信号波形パターンとは一致させるという方式である。
つまり、図335を例示すれば、画素行(1)から画素
行(16)のゲート信号線17bは一定間隔でオン電圧
印加位置がずれた波形を印加し、画素行(1)と画素行
(17)のゲート信号線17bの印加波形は同一であ
り、以下、同様に画素行(2)と画素行(18)のゲー
ト信号線17bの印加波形は同一であり、画素行(3)
と画素行(19)のゲート信号線17bの印加波形は同
一であり、画素行(4)と画素行(20)のゲート信号
線17bの印加波形は同一であり、・・・・・、画素行
(16)と画素行(32)のゲート信号線17bの印加
波形は同一であるということである。さらには、16パ
ターンであるから、画素行(1)と画素行(17)と画
素行(33)・・・・・・は同一の信号波形が印加され
る。
In the present invention, the pattern is repeated every 16 cycles. Therefore, pixel row (1)
The signal waveform pattern applied to the gate signal line 17b of the pixel row (16) is made different from the signal waveform pattern applied to the gate signal line 17b of. From the signal waveform pattern applied to the gate signal line 17b of the pixel row (17) to the pixel row (3
The signal waveform pattern applied to the gate signal line 17b in 2) is made different. The signal waveform pattern applied to the gate signal line 17b of the pixel row (1) and the signal waveform pattern applied to the gate signal line 17b of the pixel row (17) are matched and applied to the gate signal line 17b of the pixel row (2). The signal waveform pattern to be applied and the signal waveform pattern applied to the gate signal line 17b of the pixel row (18) are matched.
That is, taking FIG. 335 as an example, the gate signal lines 17b from the pixel row (1) to the pixel row (16) apply a waveform in which the ON voltage application positions are displaced at regular intervals, and the pixel row (1) and the pixel row ( The applied waveforms of the gate signal lines 17b of 17) are the same, and hereinafter, the applied waveforms of the gate signal lines 17b of the pixel row (2) and the pixel row (18) are the same, and the same applies to the pixel row (3).
, And the applied waveforms of the gate signal lines 17b of the pixel row (19) are the same, and the applied waveforms of the gate signal lines 17b of the pixel row (4) and the pixel row (20) are the same ... This means that the applied waveforms of the gate signal lines 17b of the row (16) and the pixel row (32) are the same. Further, since there are 16 patterns, the same signal waveform is applied to the pixel row (1), the pixel row (17) and the pixel row (33).

【1182】もちろん、16周期に限定するものではな
い。しかし、周期が8未満であると、1画面内でゲート
信号線17bの立ち上がりあるいは立下りタイミングが
一致する箇所が多くなり、黒浮きが発生しやすい。逆に
32周期より大きいと、駆動回路が複雑になる。したが
って、周期は8以上32以下とすることが好ましい。
[1182] Of course, it is not limited to 16 cycles. However, if the period is less than 8, there are many places where the rising or falling timing of the gate signal line 17b coincides with each other in one screen, and black floating easily occurs. On the contrary, if it is longer than 32 cycles, the driving circuit becomes complicated. Therefore, the period is preferably 8 or more and 32 or less.

【1183】図334はゲート信号線17bに16パタ
ーンの信号を入力する回路構成図である。図333など
で説明したゲートドライバ回路14bの替わりに16本
のENBL(0:15)信号線で構成されている。な
お、16本のENBL(0:15)信号線は、オン電圧
(Vgl)、オフ電圧(Vgh)レベルの電圧振幅を出
力できるように構成されている。
[1187] FIG. 334 is a circuit configuration diagram for inputting 16 patterns of signals to the gate signal line 17b. Instead of the gate driver circuit 14b described in FIG. 333 and the like, 16 ENBL (0:15) signal lines are used. It should be noted that the 16 ENBL (0:15) signal lines are configured to be able to output voltage amplitudes of on-voltage (Vgl) and off-voltage (Vgh) levels.

【1184】16本のENBL(0:15)信号線は、
それぞれゲート信号線17bと16本ごとに共通に接続
されている。したがって、Nは0以外の整数とした場
合、たとえば、ENBL0信号線に印加された信号は画
素行(16N−15)と接続され、ENBL1信号線に
印加された信号は画素行(16N−14)と接続され、
ENBL2信号線に印加された信号は画素行(16N−
13)と接続され、ENBL3信号線に印加された信号
は画素行(16N−12)と接続され、ENBL4信号
線に印加された信号は画素行(16N−11)と接続さ
れ、ENBL5信号線に印加された信号は画素行(16
N−10)と接続され、ENBL6信号線に印加された
信号は画素行(16N−9)と接続され、ENBL7信
号線に印加された信号は画素行(16N−8)と接続さ
れ、ENBL8信号線に印加された信号は画素行(16
N−7)と接続され、ENBL9信号線に印加された信
号は画素行(16N−6)と接続され、ENBL10信
号線に印加された信号は画素行(16N−5)と接続さ
れ、ENBL11信号線に印加された信号は画素行(1
6N−4)と接続され、ENBL12信号線に印加され
た信号は画素行(16N−3)と接続され、ENBL1
3信号線に印加された信号は画素行(16N−2)と接
続され、ENBL14信号線に印加された信号は画素行
(16N−1)と接続される。また、ENBL15信号
線に印加された信号は画素行(16N)と接続される。
したがって、16画素行周期で、ゲート信号線17bに
印加する駆動波形を自由に操作できる。
[1184] The 16 ENBL (0:15) signal lines are
Each of the 16 gate signal lines 17b is commonly connected. Therefore, when N is an integer other than 0, for example, the signal applied to the ENBL0 signal line is connected to the pixel row (16N-15) and the signal applied to the ENBL1 signal line is connected to the pixel row (16N-14). Connected with
The signal applied to the ENBL2 signal line is the pixel row (16N−
13), the signal applied to the ENBL3 signal line is connected to the pixel row (16N-12), the signal applied to the ENBL4 signal line is connected to the pixel row (16N-11), and to the ENBL5 signal line. The applied signal is the pixel row (16
N-10), the signal applied to the ENBL6 signal line is connected to the pixel row (16N-9), the signal applied to the ENBL7 signal line is connected to the pixel row (16N-8), and the ENBL8 signal is connected. The signal applied to the line is the pixel row (16
N-7), the signal applied to the ENBL9 signal line is connected to the pixel row (16N-6), the signal applied to the ENBL10 signal line is connected to the pixel row (16N-5), and the ENBL11 signal is connected. The signal applied to the line is the pixel row (1
6N-4), and the signal applied to the ENBL12 signal line is connected to the pixel row (16N-3).
The signal applied to the three signal lines is connected to the pixel row (16N-2), and the signal applied to the ENBL14 signal line is connected to the pixel row (16N-1). The signal applied to the ENBL15 signal line is connected to the pixel row (16N).
Therefore, the drive waveform applied to the gate signal line 17b can be freely manipulated in a 16-pixel row cycle.

【1185】図334はENBL(0:15)を制御す
ることにより、ゲート信号線17bを操作し、EL素子
15に流す電流を制御する。また、制御パターンは最大
16種類となる。図334の構成は、表示領域21の端
に形成する信号線数が16本と少ない。したがって、3
辺フリーの構造に適する。
[1187] In FIG. 334, by controlling ENBL (0:15), the gate signal line 17b is operated to control the current flowing through the EL element 15. In addition, the maximum number of control patterns is 16. In the configuration of FIG. 334, the number of signal lines formed at the end of the display area 21 is as small as 16. Therefore, 3
Suitable for edge-free structure.

【1186】しかし、表示パネルとコントローラから出
力されるENBL(0:15)端子の接続数が16本と
多い、また、ゲート信号線17aとの制御(ゲート信号
線17aにオン電圧が印加されている画素行のゲート信
号線17bにはオフ電圧を印加する)がやや困難にな
る。
However, the number of ENBL (0:15) terminals output from the display panel and the controller is as large as 16, and the control with the gate signal line 17a (on-voltage is applied to the gate signal line 17a is applied). It is somewhat difficult to apply an off voltage to the gate signal line 17b of the pixel row in which it is present.

【1187】図327、図333の回路を拡張し、図3
49とすれば制御が容易となる。ゲートドライバ14b
のシフトレジスタ22bの入力信号(CLK2、ST
2)はゲートドライバ14aのシフトレジスタ22aの
入力信号(CLK1、ST1)と同一にされる。したが
って、STデータはシフトレジスタ22a、22b内の
同一位置で保持され、保持位置がクロックに同期を取っ
てシフトされる。このため、図326で図示するよう
に、ゲート信号線17aが選択している画素行は必ず、
ゲート信号線17bにはオフ電圧(Vgh)が出力され
るように制御される。
[1187] Expand the circuits of FIG. 327 and FIG.
If it is 49, control becomes easy. Gate driver 14b
Shift register 22b input signal (CLK2, ST
2) is made the same as the input signal (CLK1, ST1) of the shift register 22a of the gate driver 14a. Therefore, the ST data is held at the same position in the shift registers 22a and 22b, and the holding position is shifted in synchronization with the clock. Therefore, as shown in FIG. 326, the pixel row selected by the gate signal line 17a is always
The gate signal line 17b is controlled to output the off voltage (Vgh).

【1188】いずれの期間にゲート信号線17bにオン
電圧(Vgl)を出力するかは、ENBL(0:15)
端子に印加するロジック信号で決定される。コントロー
ラからは4本のSEL(0:3)端子がデコーダ回路3
491に接続されている。このSEL端子のデータをデ
コ−ダ回路3491がデコードし、どのENBL端子に
オン電圧またはオフ電圧を出力されるかが決定される。
[1187] In which period the ON voltage (Vgl) is output to the gate signal line 17b is determined by ENBL (0:15).
It is determined by the logic signal applied to the terminal. From the controller, four SEL (0: 3) terminals are the decoder circuit 3
It is connected to 491. The decoder circuit 3491 decodes the data at the SEL terminal to determine which ENBL terminal the on-voltage or the off-voltage is output to.

【1189】OR回路3272の出力は、シフトレジス
タ22bがデータを保持している箇所に該当するゲート
信号線17bは必ず、オフ電圧が出力される(この画素
行はゲートドライバ14aにより選択され、画素に電流
がプログラムされている)。選択されている画素行のゲ
ート信号線17bはENBL信号線のロジックにより、
オンオフ状態が切り替えられる。そのため、ENBL信
号線により、1H期間のどれくらいの期間オン電圧を印
加するか、そのタイミングを自由に調整(制御)するこ
とができる。また、コントローラとゲートドライバ回路
14bとの信号線数はENBL端子が16本からSEL
端子の4本になるので大幅に減少する。
As for the output of the OR circuit 3272, the off voltage is always output to the gate signal line 17b corresponding to the portion where the shift register 22b holds the data (this pixel row is selected by the gate driver 14a, Current is programmed to). The gate signal line 17b of the selected pixel row is changed by the logic of the ENBL signal line.
The on / off state can be switched. Therefore, by the ENBL signal line, it is possible to freely adjust (control) the timing of how long the ON voltage is applied during the 1H period. The number of signal lines between the controller and the gate driver circuit 14b is 16 ENBL terminals to SEL.
The number of terminals is four, so it is greatly reduced.

【1190】図339に図示するように、隣接した画素
行のゲート信号線17bに印加する信号波形を逆順にす
るという方法も効果がある。図339において、奇数画
素行は同一波形であり、偶数画素行も同一波形である。
しかし、奇数画素行ではHD信号に同期して、オン電圧
(Vgl)がT1の期間印加された後に、オフ電圧(V
gh)が1H−T1期間印加される。偶数画素行ではH
D信号に同期して、まず、オフ電圧(Vgh)が1H−
T1の期間印加された後に、オン電圧(Vgl)がT1
期間印加される。したがって、オン電圧またはオフ電圧
を印加する順序が隣接画素行で反対である。EL素子1
5に電流を流す期間(T1)はすべてのゲート信号線1
7bで同一である。各画素行のEL素子15は所定周期
で所定時間だけ点灯するから、画面21の輝度は全画素
行で一定である(もちろん、白ラスター表示の場合であ
る。動画、自然画では当然、画像データによって各画素
の輝度は異なる)。
As shown in FIG. 339, it is also effective to reverse the signal waveforms applied to the gate signal lines 17b of the adjacent pixel rows. In FIG. 339, the odd-numbered pixel rows have the same waveform, and the even-numbered pixel rows also have the same waveform.
However, in the odd-numbered pixel rows, the on-voltage (Vgl) is applied in the period of T1 in synchronization with the HD signal, and then the off-voltage (Vgl) is applied.
gh) is applied for 1H-T1 period. H for even pixel rows
First, the OFF voltage (Vgh) is 1H- in synchronization with the D signal.
After being applied for the period of T1, the on-voltage (Vgl) changes to T1.
It is applied for a period. Therefore, the order of applying the on-voltage or the off-voltage is opposite in the adjacent pixel rows. EL element 1
All gate signal lines 1 during the period (T1) in which current flows through 5
7b is the same. Since the EL element 15 of each pixel row is lit for a predetermined period of time in a predetermined cycle, the brightness of the screen 21 is constant in all pixel rows (of course, in the case of white raster display. Naturally, in moving images and natural images, image data is displayed. Depending on the brightness of each pixel).

【1191】各画素行において、ゲート画素行(1)の
ゲート信号線17b(1)のa1点(立下り方向)と画
素行(2)のゲート信号線17b(2)のa2点(立ち
上がり方向)とのタイミングを一致させている。以上の
ように2つの波形の立ち上がりを立ち下がりタイミング
を一致させることによりソース信号線18へのカップリ
ングの発生を抑制している。
In each pixel row, gate signal line 17b (1) of pixel row (1) has a1 point (falling direction) and gate signal line 17b (2) of pixel row (2) has a2 point (rise direction). ) And the timing is matched. As described above, the occurrence of coupling to the source signal line 18 is suppressed by matching the rising timing and the falling timing of the two waveforms.

【1192】以上のように、図339の駆動方法では、
隣接した画素行のゲート信号線17bはa点での立ち上
がりタイミングと立下りタイミングとを一致させて駆動
しているため、ソース信号線18へのカップリングが少
ない。したがって、黒浮きの発生は小さく、良好なコン
トラストを実現できる。奇数画素行の信号波形の立ち上
がり位置b1点と、偶数画素行の信号波形の立下り位置
b2点は、EL素子15の点灯時間(T1)で変化す
る。しかし、ほとんどの輝度状態で時間的に近い位置に
発生する。したがって、奇数画素行の信号波形の立ち上
がり位置b1の変化と、偶数画素行の信号波形の立下り
位置b2の変化が打ち消しあい、ソース信号線18への
電位変動は抑制される。また、EL素子15に電流を流
す期間が短い時(T1が小さい)は、奇数画素行の信号
波形の立下り位置a1点と、立ち上がり位置b1が近く
なり、この2つの変化は打ち消しあう(というよりは、
変化が時間的に短期間で発生するので、ソース信号線1
8の電位変化が画素16への書き込みに影響を与えな
い)。同様に、偶数画素行の信号波形の立下り位置b2
点と、立ち上がり位置a2が近くなり、この2つの変化
は打ち消しあう。したがって、ソース信号線18へのカ
ップリングの影響を抑制できるから、黒浮きが発生しな
い。
[1192] As described above, in the driving method of FIG.
Since the gate signal lines 17b of the adjacent pixel rows are driven such that the rising timing and the falling timing at the point a coincide with each other, the coupling to the source signal line 18 is small. Therefore, the occurrence of black floating is small, and good contrast can be realized. The rising position b1 of the signal waveform of the odd-numbered pixel rows and the falling position b2 of the signal waveform of the even-numbered pixel rows change depending on the lighting time (T1) of the EL element 15. However, it occurs at a position close in time in most of the brightness states. Therefore, the change in the rising position b1 of the signal waveform of the odd pixel row and the change in the falling position b2 of the signal waveform of the even pixel row cancel each other out, and the potential fluctuation to the source signal line 18 is suppressed. Further, when the period of time when the current flows through the EL element 15 is short (T1 is small), the falling position a1 point and the rising position b1 of the signal waveform of the odd-numbered pixel rows are close to each other, and these two changes cancel each other out ( Than
Since the change occurs in a short time, the source signal line 1
8 does not affect the writing to the pixel 16). Similarly, the falling position b2 of the signal waveform of the even pixel row
The point and the rising position a2 are close to each other, and these two changes cancel each other out. Therefore, the influence of the coupling on the source signal line 18 can be suppressed, and the black floating does not occur.

【1193】垂直同期信号(VD)で信号波形を変化さ
せることも重要である。ゲート信号線17bに印加する
信号波形の立ち上がりと立下り位置が分散され、ソース
信号線18への電位変動を抑制できるからである(ま
た、HD周期で電位変動が発生してもVD周期で抑制さ
れるからである)。図340は図339において、VD
信号で信号の順番を逆にしたところを示している。簡単
には、全フレーム(フィールド)の偶数画素行のゲート
信号線17bに印加していた信号波形を奇数画素行のゲ
ート信号線17bに印加し、奇数画素行のゲート信号線
17bに印加していた信号波形を偶数画素行のゲート信
号線17bに印加している。他の点は図339で説明し
たので省略する。
[1193] It is also important to change the signal waveform with the vertical synchronization signal (VD). This is because the rising and falling positions of the signal waveform applied to the gate signal line 17b are dispersed, and the potential fluctuation to the source signal line 18 can be suppressed (in addition, even if the potential fluctuation occurs in the HD cycle, it is suppressed in the VD cycle). Because it will be done). 340 is the same as VD in FIG. 339.
Signals are shown with the signal order reversed. In brief, the signal waveform applied to the gate signal line 17b of the even pixel rows of all frames (fields) is applied to the gate signal line 17b of the odd pixel rows and applied to the gate signal line 17b of the odd pixel rows. The applied signal waveform is applied to the gate signal line 17b of the even pixel row. The other points have been described with reference to FIG.

【1194】図340では、VD信号に同期して奇数画
素行のゲート信号線17bの信号波形と偶数画素行のゲ
ート信号線17bの信号波形とを入れ替える。以上のよ
うに、VD同期信号(もちろん、VD同期信号に限定す
るのではない。HD同期信号よりも長い周期の信号であ
ればよい)に同期して信号波形を変化させることによ
り、より、表示画面21の黒浮きなどが減少し、高コン
トラスト表示を実現できる。なお、以上の事項は、図3
39の実施例に限定されるものではない。今まで説明し
た駆動方式あるいは以降に説明する駆動方式にも適用さ
れる。たとえば、図341に駆動方式にも適用される。
[1196] In FIG. 340, the signal waveform of the gate signal line 17b in the odd pixel row and the signal waveform of the gate signal line 17b in the even pixel row are interchanged in synchronization with the VD signal. As described above, by changing the signal waveform in synchronization with the VD sync signal (not limited to the VD sync signal, any signal having a period longer than the HD sync signal) can be displayed more. Black floating on the screen 21 is reduced, and high contrast display can be realized. The above items are shown in Fig. 3.
It is not limited to the 39 examples. It is also applied to the driving method described above or the driving method described below. For example, the drive method shown in FIG. 341 is also applied.

【1195】図329などの駆動方式では、1Hを周期
として信号波形が変化する。そのため、信号の変化回数
が1Hごとに2回発生する。信号の変化によりソース信
号線18などに影響を与える。また、信号の変化が多い
と、ゲートドライバ12の消費電力も増大する。したが
って、単位時間あたりの信号の変化回数は少ない方がよ
い。
[1195] In the driving method shown in Fig. 329, the signal waveform changes with a period of 1H. Therefore, the number of signal changes occurs twice every 1H. The signal change affects the source signal line 18 and the like. Further, if there are many changes in signals, the power consumption of the gate driver 12 also increases. Therefore, the number of signal changes per unit time should be small.

【1196】図341は、図339のように1Hの期間
にEL素子15に電流を流す期間T1を維持したまま、
1Hあたりのゲート信号線17bの変化回数を1回にし
た駆動方式である。各画素行で、1Hごとにゲート信号
線17bにオン電圧(Vgl)を印加する期間とオフ電
圧(Vgh)を印加する期間とを逆順にしている。たと
えば、画素行(1)において、第1水平走査期間(第1
H)ではT1の期間、オン電圧を出力し、1H−T1の
期間、オフ電圧を出力する。第2水平走査期間(第2
H)では1H−T1の期間、オフ電圧を出力し、T1の
期間、オフ電圧を出力する。同様に、第3水平走査期間
(第3H)ではT1の期間、オン電圧を出力し、1H−
T1の期間、オフ電圧を出力する。つまり、1Hごとに
オン電圧を出力する期間とオフ電圧を出力する期間を入
れ替えている。また、奇数画素行と偶数画素行では逆順
にしている。
[1196] FIG. 341 shows that, as in FIG. 339, while the period T1 in which current is supplied to the EL element 15 is maintained for the period of 1H,
This is a driving method in which the number of changes of the gate signal line 17b per 1H is set to once. In each pixel row, the period for applying the on-voltage (Vgl) and the period for applying the off-voltage (Vgh) to the gate signal line 17b are set in reverse order for each 1H. For example, in the pixel row (1), the first horizontal scanning period (first
In H), the ON voltage is output during the period T1, and the OFF voltage is output during the period 1H-T1. Second horizontal scanning period (second
In H), the off voltage is output during the period 1H-T1, and the off voltage is output during the period T1. Similarly, in the third horizontal scanning period (third H), the ON voltage is output for the period of T1 and 1H-
The off voltage is output during the period of T1. That is, the period for outputting the on-voltage and the period for outputting the off-voltage are exchanged for each 1H. Further, the odd pixel rows and the even pixel rows are in reverse order.

【1197】したがって、奇数画素行の第1水平走査期
間(第1H)ではT1の期間、オン電圧を出力し、1H
−T1の期間、オフ電圧を出力する。第2水平走査期間
(第2H)では1H−T1の期間、オフ電圧を出力し、
T1の期間、オフ電圧を出力する。同様に、第3水平走
査期間(第3H)ではT1の期間、オン電圧を出力し、
1H−T1の期間、オフ電圧を出力する。つまり、1H
ごとにオン電圧を出力する期間とオフ電圧を出力する期
間を入れ替えている。偶数画素行では、第1水平走査期
間(第1H)では1H−T1の期間、オフ電圧を出力
し、T1の期間、オン電圧を出力する。第2水平走査期
間(第2H)ではT1の期間、オン電圧を出力し、1H
−T1の期間、オン電圧を出力する。同様に、第3水平
走査期間(第3H)では1H−T1の期間、オフ電圧を
出力し、T1の期間、オン電圧を出力する。また、図3
40で説明したように、垂直同期信号(VD)で、奇数
画素行と偶数画素行のゲート信号線17bに印加する信
号波形を入れ替えるのである(図343を参照のこ
と)。なお、図341では、オン電圧とオフ電圧を印加
する位置を1Hごとに入れ替えるとしたがこれに限定す
るものではない。たとえば、2Hごとに入れ替えても良
いし、ランダム的に入れ替えても良い。また、図344
に図示するように、各画素行でオン電圧印加位置などを
少しずつシフトしてもよい。
[1196] Therefore, in the first horizontal scanning period (first H) of the odd-numbered pixel rows, the ON voltage is output for the period of T1 and 1H is output.
The off voltage is output during the period of -T1. In the second horizontal scanning period (second H), the off voltage is output for the period of 1H-T1,
The off voltage is output during the period of T1. Similarly, in the third horizontal scanning period (third H), the ON voltage is output during the period T1,
The off voltage is output during the period of 1H-T1. That is, 1H
The ON voltage output period and the OFF voltage output period are switched for each. In the even-numbered pixel rows, the OFF voltage is output during the 1H-T1 period during the first horizontal scanning period (1st H), and the ON voltage is output during the T1 period. In the second horizontal scanning period (2nd H), the ON voltage is output for 1H during the period of T1.
The ON voltage is output during the period of -T1. Similarly, in the third horizontal scanning period (third H), the OFF voltage is output during the period 1H-T1, and the ON voltage is output during the period T1. Also, FIG.
As described with reference to 40, the signal waveforms applied to the gate signal lines 17b of the odd-numbered pixel rows and the even-numbered pixel rows are switched by the vertical synchronization signal (VD) (see FIG. 343). Note that in FIG. 341, the positions to which the on-voltage and the off-voltage are applied are switched every 1H, but the invention is not limited to this. For example, it may be replaced every 2H or randomly. Also, FIG.
As shown in FIG. 5, the ON voltage application position and the like may be gradually shifted in each pixel row.

【1198】図344の実施例では、画素行(1)
(2)とペアとし、画素行(3)(4)とペアとしてい
る。画素行(5)(6)とペアとし、画素行(7)
(8)とペアとして信号を印加している。奇数画素行は
同一信号波形であるが、画素行(1)と画素行(3)と
は2H/16の期間、位相をシフトしている。同様に、
画素行(5)と画素行(7)とは2H/16の期間、位
相をシフトしている。以下同様である。また、偶数画素
行は同一信号波形であるが、画素行(2)と画素行
(4)とは2H/16の期間、位相をシフトしている。
同様に、画素行(4)と画素行(6)とは2H/16の
期間、位相をシフトしている。以下同様である。
In the embodiment of FIG. 344, pixel row (1)
It is paired with (2) and paired with pixel rows (3) and (4). Pixel rows (5) and (6) are paired with pixel row (7)
The signal is applied as a pair with (8). The odd-numbered pixel rows have the same signal waveform, but the pixel row (1) and the pixel row (3) are phase-shifted during the period of 2H / 16. Similarly,
The pixel row (5) and the pixel row (7) are phase-shifted for a period of 2H / 16. The same applies hereinafter. Moreover, even-numbered pixel rows have the same signal waveform, but the pixel rows (2) and (4) are phase-shifted during a period of 2H / 16.
Similarly, the pixel row (4) and the pixel row (6) are phase-shifted for a period of 2H / 16. The same applies hereinafter.

【1199】以上のように、本発明の駆動方式は、必ず
しも、HD同期信号と同期を取り、HD同期信号から所
定のタイミングですべてのゲート信号線などが変化する
必要はない。以上の事項は他の本発明においても同様で
ある。
As described above, in the drive system of the present invention, it is not always necessary to synchronize with the HD sync signal and change all the gate signal lines and the like at a predetermined timing from the HD sync signal. The above matters also apply to other inventions.

【1200】図341での階調表示は、図342のごと
くなる。図342は1H期間を16に細分した例(16
段階の明るさ調整が可能である)である。明るさの階調
1はゲート信号線17bを1Hごとに1H/16の期間
だけ、オン電圧(Vgl)を印加する。また、オン電圧
(Vgl)を印加する位置を1Hごとに逆順にする。明
るさの階調2はゲート信号線17bを1Hごとに2H/
16の期間だけ、オン電圧(Vgl)を印加する。ま
た、オン電圧(Vgl)を印加する位置を1Hごとに逆
順にする。同様に明るさの階調3はゲート信号線17b
を1Hごとに3H/16の期間だけ、オン電圧(Vg
l)を印加する。また、オン電圧(Vgl)を印加する
位置を1Hごとに逆順にする。以下同様であり、明るさ
の階調15ははゲート信号線17bを1Hごとに15H
/16の期間だけ、オン電圧(Vgl)を印加する。ま
た、オン電圧(Vgl)を印加する位置を1Hごとに逆
順にする。明るさの階調16は、選択されている画素行
以外は、たえずオン電圧(Vgl)が印加する。
[1200] The gradation display in FIG. 341 is as shown in FIG. FIG. 342 shows an example in which the 1H period is subdivided into 16 (16
It is possible to adjust the brightness in stages). For the gradation 1 of the brightness, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b for each 1H for a period of 1H / 16. Further, the position to which the on-voltage (Vgl) is applied is set in reverse order for each 1H. The brightness gradation 2 is 2H / for every 1H on the gate signal line 17b.
The ON voltage (Vgl) is applied only for 16 periods. Further, the position to which the on-voltage (Vgl) is applied is set in reverse order for each 1H. Similarly, the gradation 3 of the brightness is the gate signal line 17b.
The ON voltage (Vg
l) is applied. Further, the position to which the on-voltage (Vgl) is applied is set in reverse order for each 1H. The same applies hereinafter, and the brightness gradation 15 is 15H for every 1H on the gate signal line 17b.
The on-voltage (Vgl) is applied only for the period of / 16. Further, the position to which the on-voltage (Vgl) is applied is set in reverse order for each 1H. The brightness gradation 16 is always applied with the on-voltage (Vgl) except for the selected pixel row.

【1201】なお、今まで説明した駆動方法では、奇数
画素行と偶数画素行のゲート信号線の駆動波形を異なら
せるとしたが、図330、図334に説明したようにこ
れに限定するものではない。2画素行以上の単位で異な
らせても良いことはいうまでもない。また、ランダム的
な駆動を実施してもよい。
[1201] In the driving method described above, the driving waveforms of the gate signal lines in the odd-numbered pixel rows and the even-numbered pixel rows are made different, but the present invention is not limited to this as described in FIGS. 330 and 334. Absent. It goes without saying that they may be different in units of two or more pixel rows. Moreover, you may implement a random drive.

【1202】以上の実施例は、1Hあるいは2H期間に
おいて、ゲート信号線17bにオン電圧(Vgl)を印
加する時間を制御する(EL素子15に電流を流す期間
を制御する)ことにより、表示画像21の輝度(明る
さ)を調整(制御)する駆動方式であった。つまり、1
Hまたは複数H期間を複数に分割し、分割した期間の該
当期間にオン電圧またはオフ電圧を印加するものであっ
た。
[1202] In the above example, the display image is controlled by controlling the time for applying the on-voltage (Vgl) to the gate signal line 17b (controlling the period in which the current flows through the EL element 15) in the 1H or 2H period. The driving method was to adjust (control) the brightness (brightness) of No. 21. That is, 1
The H or a plurality of H periods are divided into a plurality of periods, and the on-voltage or the off-voltage is applied in the corresponding period of the divided periods.

【1203】図345は1H期間を単位としてゲート信
号線17bにオン電圧(Vgl)を印加する時間を制御
する(EL素子15に電流を流す期間を制御する)こと
により、表示画像21の輝度(明るさ:本発明は階調と
表現している)を調整(制御)する駆動方式である。つ
まり、複数のH期間を1つの単位として、その内、いく
つのH期間にオン電圧またはオフ電圧を印加することに
より表示画像21の明るさを制御(調整)するものであ
る。
[1203] In FIG. 345, the brightness of the display image 21 is controlled by controlling the time for applying the on-voltage (Vgl) to the gate signal line 17b in units of 1H period (controlling the period during which current is passed through the EL element 15). Brightness: The present invention is a driving method for adjusting (controlling) gradation. That is, the brightness of the display image 21 is controlled (adjusted) by applying the ON voltage or the OFF voltage to any of the H periods with a plurality of H periods as one unit.

【1204】図345は1Hを1/2に分割し、この1
/2にオン電圧(Vgl)を印加する。また、偶数画素
行のゲート信号線17bのオン電圧位置を奇数画素行の
ゲート信号線17bのオン電圧位置とを異ならせてい
る。図345でわかるように、奇数画素行の画素行
(1)は1Hの前半の期間にオン電圧(Vgl)を印加
し、偶数画素行の画素行(2)は1Hの後半の期間にオ
ン電圧(Vgl)を印加している。このように、オン電
圧とオフ電圧とを交互にゲート信号線17bに印加す
る。a点では、奇数画素行のゲート信号線17bがオン
電圧(Vgl)からオフ電圧(Vgh)に変化する(立
ち上がり)。一方、偶数画素行のゲート信号線17bが
オフ電圧(Vgh)からオン電圧(Vgl)に変化する
(立下り)。そのため、ソース信号線18に突き抜ける
電圧が打ち消しあう。
[1204] In FIG. 345, 1H is divided into 1/2, and this 1
The on-voltage (Vgl) is applied to / 2. Further, the ON voltage position of the gate signal line 17b of the even pixel row is made different from the ON voltage position of the gate signal line 17b of the odd pixel row. As can be seen from FIG. 345, the pixel row (1) of the odd pixel rows applies the ON voltage (Vgl) in the first half period of 1H, and the pixel row (2) of the even pixel rows (2) applies the ON voltage in the second half period of 1H. (Vgl) is applied. In this way, the ON voltage and the OFF voltage are alternately applied to the gate signal line 17b. At the point a, the gate signal line 17b of the odd-numbered pixel row changes from the on-voltage (Vgl) to the off-voltage (Vgh) (rise). On the other hand, the gate signal line 17b of the even pixel row changes from the off voltage (Vgh) to the on voltage (Vgl) (falling edge). Therefore, the voltages penetrating the source signal line 18 cancel each other out.

【1205】階調表示(というよりは表示画面21の明
るさ(輝度)調整)は、図345のごとくなる。図34
5は16H期間で繰り返す駆動パターンである。したが
って、16階調(16段階の明るさ)を表現できる。な
お、奇数画素行のゲート信号線17bと偶数画素行のゲ
ート信号線17bの位相とは1H/2シフトしている。
なお、図345の明るさ制御では、16階調目でもEL
素子15は1フレーム(1フィールド)の1/2の期間
しか点灯しない。したがって、従来のような(EL素子
15にたえず電流を流した状態)輝度を得るには、ソー
ス信号線18に印加する電流を所定値の2倍(N=2)
とし、各画素にプログラムする必要がある。つまり、図
87、図88などで説明した、N倍パルス駆動を実施す
る。
[1205] Gradation display (or rather, brightness (luminance) adjustment of the display screen 21) is as shown in FIG. 345. FIG. 34
Reference numeral 5 is a drive pattern repeated in the 16H period. Therefore, 16 gradations (16 levels of brightness) can be expressed. The phases of the gate signal lines 17b of the odd pixel rows and the gate signal lines 17b of the even pixel rows are shifted by 1H / 2.
Note that in the brightness control of FIG. 345, even at the 16th gradation, EL
The element 15 lights up only for a half period of one frame (one field). Therefore, in order to obtain the brightness as in the conventional case (where the current is constantly applied to the EL element 15), the current applied to the source signal line 18 is twice the predetermined value (N = 2).
Therefore, it is necessary to program each pixel. That is, the N-fold pulse drive described with reference to FIGS. 87 and 88 is performed.

【1206】明るさの階調1はゲート信号線17bを1
Hごとに1H/2(1Hの1/2)の期間だけ、オン電
圧(Vgl)を印加する。明るさの階調2はゲート信号
線17bを1Hごとに2H/2の期間(1Hの1/2の
点灯を2回)だけ、オン電圧(Vgl)を印加する。同
様に、明るさの階調3はゲート信号線17bを1Hごと
に3H/2の期間(1Hの1/2の点灯を3回)だけ、
オン電圧(Vgl)を印加する。明るさの階調16は、
ゲート信号線17bを1Hごとに16H/2の期間(1
Hの1/2の点灯を16回)だけ、オン電圧(Vgl)
を印加する。以上のように、ゲート信号線17bを制御
することにより表示画面21の輝度制御を容易に実現で
き、また、黒浮きも発生しない。
[1206] For the gradation 1 of brightness, the gate signal line 17b is set to 1
The ON voltage (Vgl) is applied only for each H period for 1H / 2 (1/2 of 1H). For the gradation 2 of brightness, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b for every 1H for a period of 2H / 2 (twice lighting of 1/2 of 1H). Similarly, for the brightness gradation 3, the gate signal line 17b is changed every 1H for a period of 3H / 2 (1/2 of 1H is lit three times).
An on voltage (Vgl) is applied. The brightness gradation 16 is
The gate signal line 17b is set to 1H every 16H / 2 period (1
ON voltage (Vgl) only for 1/2 of H lighting 16 times)
Is applied. As described above, by controlling the gate signal line 17b, the brightness control of the display screen 21 can be easily realized, and black floating does not occur.

【1207】図346は、オン電圧(Vgl)印加位置
を分散させたものである。たとえば、図345の階調2
ではオン電圧を印加する位置が2H連続しているが、図
346の駆動方法では、b位置にオン電圧が印加されて
いる。他の事項は図345と同様であるので説明を省略
する。図346のようにオン電圧位置(もしくはオフ電
圧位置)を分散させることにより、さらにソース信号線
18などに与える影響を軽減できる。なお、図346、
図345は16H(16水平走査期間)を1区切りとし
ているがこれに限定するものではない。たとえば、8H
でも、32Hを1区切りとしてもよい。
[1207] FIG. 346 shows that the ON voltage (Vgl) application positions are dispersed. For example, gradation 2 in FIG. 345
In the drive method of FIG. 346, the ON voltage is applied continuously for 2H, but the ON voltage is applied to the b position. Since other matters are the same as those in FIG. 345, description thereof will be omitted. By distributing the on-voltage positions (or off-voltage positions) as shown in FIG. 346, it is possible to further reduce the influence on the source signal line 18 and the like. Note that in FIG.
In FIG. 345, 16H (16 horizontal scanning periods) are defined as one segment, but the invention is not limited to this. For example, 8H
However, 32H may be set as one segment.

【1208】図345などは1Hを1/2に分割し、こ
の1H/2の期間にオン電圧またはオフ電圧を印加する
ものであった。本発明はこれに限定するものではない。
たとえば、図347のように1Hすべてをオン電圧また
はオフ電圧を印加するように制御してもよい。
[1208] In FIG. 345, etc., 1H is divided into ½, and the ON voltage or OFF voltage is applied during this 1H / 2 period. The present invention is not limited to this.
For example, as shown in FIG. 347, all 1H may be controlled to apply the ON voltage or the OFF voltage.

【1209】図345は16Hと1周期単位としてゲー
ト信号線17bにオン電圧またはオフ電圧を印加する。
16Hを1周期とすると階調(明るさは16段階を表現
できる)また、偶数画素行のゲート信号線17bのオン
電圧位置を奇数画素行のゲート信号線17bのオン電圧
位置とを異ならせている。
In FIG. 345, ON voltage or OFF voltage is applied to the gate signal line 17b in units of 16H, which is one cycle.
If 16H is one cycle, gradation (brightness can express 16 steps) Further, the ON voltage position of the gate signal line 17b of the even pixel rows is made different from the ON voltage position of the gate signal line 17b of the odd pixel rows. There is.

【1210】図345でわかるように、階調1(明るさ
のレベル1)では、偶数画素行の画素行(1)のゲート
信号線17bに1Hの期間オン電圧(Vgl)を印加す
る。1H後、奇数画素行の画素行(2)のゲート信号線
17bに1Hの期間にオン電圧(Vgl)を印加してい
る。a点では、偶数画素行のゲート信号線17bがオン
電圧(Vgl)からオフ電圧(Vgh)に変化する(立
ち上がり)。一方、奇数画素行のゲート信号線17bが
オフ電圧(Vgh)からオン電圧(Vgl)に変化する
(立下り)。そのため、ソース信号線18に突き抜ける
電圧が打ち消しあう。
As can be seen from FIG. 345, in the gradation 1 (brightness level 1), the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b of the pixel row (1) of the even pixel rows for the period of 1H. After 1H, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b of the pixel row (2) of the odd-numbered pixel row during the 1H period. At the point a, the gate signal line 17b of the even pixel row changes from the on-voltage (Vgl) to the off-voltage (Vgh) (rise). On the other hand, the gate signal line 17b of the odd-numbered pixel row changes from the off voltage (Vgh) to the on voltage (Vgl) (falling edge). Therefore, the voltages penetrating the source signal line 18 cancel each other out.

【1211】明るさの階調1(明るさのレベル1)はゲ
ート信号線17bを1Hの期間、オン電圧(Vgl)を
印加する。明るさの階調2はゲート信号線17bを2H
の期間、オン電圧(Vgl)を印加する。同様に、明る
さの階調3はゲート信号線17bを3Hの期間、オン電
圧(Vgl)を印加する。最後の明るさの階調16は、
ゲート信号線17bを16Hの期間、オン電圧(Vg
l)を印加する(たえず、オン電圧を印加)。以上のよ
うに、ゲート信号線17bを制御することにより表示画
面21の輝度制御を容易に実現でき、また、黒浮きも発
生しない。
For brightness gradation 1 (brightness level 1), the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b for a period of 1H. The brightness gradation 2 is 2H for the gate signal line 17b.
The ON voltage (Vgl) is applied during the period. Similarly, for the brightness gradation 3, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b for the period of 3H. The final brightness gradation 16 is
The gate signal line 17b is turned on (Vg
l) is applied (the ON voltage is always applied). As described above, by controlling the gate signal line 17b, the brightness control of the display screen 21 can be easily realized, and black floating does not occur.

【1212】なお、奇数画素行と偶数画素行のゲート信
号線の駆動波形を異ならせるとしたが、図330、図3
34に説明したようにこれに限定するものではない。2
画素行以上の単位で異ならせても良いことはいうまでも
ない。また、ランダム的な駆動を実施してもよい。
[1212] The driving waveforms of the gate signal lines in the odd-numbered pixel rows and the even-numbered pixel rows are different from each other.
As described in 34, it is not limited to this. Two
It goes without saying that they may be different in units of pixel rows or more. Moreover, you may implement a random drive.

【1213】図347の実施例では、ゲート信号線17
bからオン電圧(Vgl)を連続して印加するとした
が、これに限定するものではない。たとえば、図356
のように、オン電圧(Vhl)とオフ電圧(Vgh)を
交互にゲート信号線17bに印加してもよい。
In the embodiment of FIG. 347, the gate signal line 17
Although the ON voltage (Vgl) is continuously applied from b, the invention is not limited to this. For example, FIG.
As described above, the on-voltage (Vhl) and the off-voltage (Vgh) may be alternately applied to the gate signal line 17b.

【1214】図356では各画素行が選択されている
(該当ゲート信号線17aにオン電圧が印加される)時
は、該当画素行のゲート信号線17bにはオフ電圧を印
加するという条件を満足させている。選択されていない
時には、ゲート信号線17bにオン電圧またはオフ電圧
を印加する。図356で図示した状態では、画素行
(1)は第3H、第5H、第7H、第9Hの4Hの期間
にオン電圧が印加されている。画素行(2)はシフトレ
ジスタ22で1シフトされているから、第4H、第6
H、第8H、第10Hの4Hの期間にオン電圧が印加さ
れている。同様に、画素行(3)はシフトレジスタ22
で1シフトされているから、第5H、第7H、第9H、
第11Hの4Hの期間にオン電圧が印加されている。以
下同様である。
In FIG. 356, when each pixel row is selected (the ON voltage is applied to the corresponding gate signal line 17a), the condition that the OFF voltage is applied to the gate signal line 17b of the corresponding pixel row is satisfied. I am letting you. When it is not selected, the ON voltage or the OFF voltage is applied to the gate signal line 17b. In the state illustrated in FIG. 356, the ON voltage is applied to the pixel row (1) during the 4H periods of the 3H, 5H, 7H, and 9H. Since the pixel row (2) is shifted by 1 in the shift register 22, the 4th H and 6th
The on-voltage is applied during the period 4H of H, 8H, and 10H. Similarly, pixel row (3) has shift register 22
Since it has been shifted by 1, the 5H, 7H, 9H,
The on-voltage is applied during the 4H of the 11th H. The same applies hereinafter.

【1215】図356の構成では図2で説明したシフト
レジスタ22のデータ入力制御でオン電圧位置を設定で
き、また、シフトレジスタのシフト制御で1画素行ず
つ、オン電圧の印加位置を変更できる。したがって、回
路構成および回路制御が容易である。また、表示画面2
1の明るさ調整も容易である。オン電圧をいくつ印加す
る(これは、シフトレジスタ22に印加するデータの個
数で制御できる)かで容易に変更できるからである。
In the configuration of FIG. 356, the ON voltage position can be set by the data input control of the shift register 22 described in FIG. 2, and the ON voltage application position can be changed for each pixel row by the shift control of the shift register. Therefore, the circuit configuration and circuit control are easy. Also, display screen 2
Brightness adjustment of 1 is also easy. This is because it can be easily changed depending on how many ON voltages are applied (this can be controlled by the number of data applied to the shift register 22).

【1216】また、a点では画素行(1)のゲート信号
線17bがオン電圧からオフ電圧に変化(立ち上がり)
し、画素行(2)のゲート信号線17bがオフ電圧から
オン電圧に変化(立下がり)する。他の箇所(たとえ
ば、b点)でも同様である。b点では画素行(1)と画
素行(3)のゲート信号線17bがオフ電圧からオン電
圧に変化(立下がり)し、画素行(2)のゲート信号線
17bがオン電圧からオフ電圧に変化(立ち上がり)す
る。したがって、図356の駆動方式では、隣接した画
素行のゲート信号線において、信号波形の立ち上がりと
立下りが打ち消しあう。そのため、ゲート信号線17の
印加信号によるソース信号線18などの電位変動が抑制
される。
[1216] At the point a, the gate signal line 17b of the pixel row (1) changes from the on-voltage to the off-voltage (rise).
Then, the gate signal line 17b of the pixel row (2) changes (falls) from the off voltage to the on voltage. The same applies to other locations (for example, point b). At the point b, the gate signal lines 17b of the pixel row (1) and the pixel row (3) change (fall) from the off voltage to the on voltage, and the gate signal lines 17b of the pixel row (2) change from the on voltage to the off voltage. Change (rise). Therefore, in the driving method of FIG. 356, the rising and falling edges of the signal waveforms cancel each other in the gate signal lines of the adjacent pixel rows. Therefore, the potential fluctuation of the source signal line 18 and the like due to the applied signal of the gate signal line 17 is suppressed.

【1217】図356はオン電圧とオフ電圧を1画素飛
ばしで書き込み、また、オン電圧とオフ電圧の組を一括
で駆動している。また、データのシフトは水平同期信号
(HD)に同期させている。画像表示状態は、表示画素
行311と非表示画素行312の組が4組(つまり8画
素行、他の画素行は非表示)、画面の上から下方向に移
動しているように表示される。なお、以上の説明は説明
を容易にするため、画素行が少なくして説明している。
本発明は表示画素行311と非表示画素行312の組を
連続して発生することに限定するものではない。たとえ
ば、図348に図示するように、分割してもよい。
In FIG. 356, the on-voltage and the off-voltage are written by skipping one pixel, and the set of the on-voltage and the off-voltage are collectively driven. Further, the data shift is synchronized with the horizontal synchronizing signal (HD). The image display state is such that four sets of display pixel rows 311 and non-display pixel rows 312 (that is, eight pixel rows and other pixel rows are not displayed) are moved downward from the top of the screen. It In the above description, the number of pixel rows is reduced to facilitate the description.
The present invention is not limited to consecutively generating the set of the display pixel row 311 and the non-display pixel row 312. For example, it may be divided as shown in FIG.

【1218】図348の画像表示状態は、表示画素行3
11と非表示画素行312の組が4組のものが2ブロッ
ク(つまり8画素行の組が2ブロック、他の画素行は非
表示)、画面の上から下方向に移動しているように表示
される。ブロックとブロックの間は、8画素行である。
なお、以上の説明は説明を容易にするため、画素行が少
なくして説明している。以上のように複数ブロックが発
生するように駆動することにより、フレームレートを非
常に遅くしても、表示画像にフリッカが発生しない。
[1218] The image display state of FIG.
If there are 4 sets of 11 and non-display pixel rows 312, 2 blocks (that is, 2 sets of 8 pixel rows, other pixel rows are not displayed) are moved downward from the top of the screen. Is displayed. There are 8 pixel rows between blocks.
In the above description, the number of pixel rows is reduced to facilitate the description. By driving so as to generate a plurality of blocks as described above, flicker does not occur in the display image even if the frame rate is extremely slowed.

【1219】なお、図356、図348では、1H期間
にオン電圧を印加し、次の1H期間にオフ電圧を印加す
るとしたがこれに限定するものではない。たとえば、2
H期間連続してオン電圧を印加し、次の2H期間にオフ
電圧を印加し、これを繰り返してもよい。重要なのは、
隣接した画素行で、ゲート信号線17bなどに印加する
信号波形を異ならせることである。なお、隣接画素のみ
に限定するものではない。画面21内で異ならせればよ
い。好ましくは、ある時刻で信号波形の立ち上がりと立
下りがほぼ同数となるように制御する。
Note that in FIGS. 356 and 348, the ON voltage is applied during the 1H period and the OFF voltage is applied during the next 1H period, but the invention is not limited to this. For example, 2
The ON voltage may be continuously applied for the H period, the OFF voltage may be applied for the next 2H period, and this may be repeated. What matters is that
That is, the signal waveform applied to the gate signal line 17b or the like is made different between the adjacent pixel rows. It is not limited to only the adjacent pixels. It may be different on the screen 21. Preferably, control is performed so that the number of rising edges and the number of falling edges of the signal waveform are substantially the same at a certain time.

【1220】図2、図60、図327、図333などの
ゲート信号線17bを制御するシフトレジスタ22に印
加するSTデータを制御することにより、画面21の輝
度を容易に調整でき、また、画素行の表示311、非表
示312のパターンも自由に制御(変更)することがで
きる。STデータを単位時間に多く入力すると、画面2
1輝度は高くなる(STデータがHの時、ゲート信号線
17bにオン電圧(Vgl)が印加されるように構成さ
れている場合)。
By controlling the ST data applied to the shift register 22 that controls the gate signal line 17b in FIGS. 2, 60, 327, 333, etc., the brightness of the screen 21 can be easily adjusted and the pixel The pattern of line display 311 and non-display 312 can also be freely controlled (changed). If you input a lot of ST data per unit time, screen 2
1 luminance becomes high (when the ST data is H, the ON voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17b).

【1221】また、STデータに間欠的に入力データを
入力し、かつその入力データの間隔が短いと、各画素行
は点灯311、非点灯312を短時間で繰り返す。その
ため、動画表示時に動画ボケが発生しやすくなるが、フ
リッカの発生はなくなる。逆に、STデータに一括に連
続して入力データを入力し、かつその入力データの一括
に入力する間隔が長いと、各画素行は点灯311、非点
灯312の間隔は長くなる。そのため、動画表示時に動
画ボケが発生しなくなる。しかし、反面、フリッカの発
生が大きくなる。いずえにせよ、本発明は簡単な駆動方
法で、輝度調整、動画表示調整を実現できる。また、隣
接画素行などで、ゲート信号線17に印加する波形を変
化することにより、ソース信号線18に与える電位変動
を極めて小さくすることができる。したがって、黒浮き
などが発生せず良好な画像表示を実現できる。
[1221] If the input data is intermittently input to the ST data and the interval between the input data is short, each pixel row repeats lighting 311 and non-lighting 312 in a short time. Therefore, when a moving image is displayed, moving image blurring easily occurs, but flicker does not occur. On the other hand, if the input data is continuously input to the ST data all at once and the interval for inputting the input data is long, the interval between the lighting 311 and the non-lighting 312 in each pixel row becomes long. Therefore, moving image blur does not occur when displaying a moving image. However, on the other hand, the occurrence of flicker increases. In any case, the present invention can realize brightness adjustment and moving image display adjustment with a simple driving method. Further, by changing the waveform applied to the gate signal line 17 in the adjacent pixel row or the like, the potential fluctuation applied to the source signal line 18 can be made extremely small. Therefore, it is possible to realize a good image display without blackening.

【1222】図350はシフトレジスタ22に入力する
データパターンである。図350において、黒丸は非表
示311に制御するデータである。また、白丸は点灯3
11に制御するデータである。このデータがシフトレジ
スタ22内をシフトし、該当のゲート信号線17bにオ
ン電圧を出力するか、オフ電圧を出力するかを制御す
る。
[1222] FIG. 350 shows a data pattern input to the shift register 22. In FIG. 350, black circles are data for controlling the non-display 311. In addition, the white circle is lit 3
This is the data controlled to 11. This data shifts in the shift register 22 and controls whether to output the ON voltage or the OFF voltage to the corresponding gate signal line 17b.

【1223】図350(a)では、7個の黒丸と1個の
白丸の組が連続している。このパターンでは、7画素行
が非点灯312で1画素行が点灯311の組が連続して
表示され、かつ、このパターンが水平同期信号(HD)
に同期して画面21の上から下へ走査されていく。
[1223] In Fig. 350 (a), a set of seven black circles and one white circle is continuous. In this pattern, a set of 7 pixel rows not illuminated 312 and 1 pixel row illuminated 311 is continuously displayed, and this pattern is a horizontal synchronization signal (HD).
The screen 21 is scanned from the top to the bottom in synchronization with.

【1224】図350(b)では、4個の黒丸と4個の
白丸の組が連続している。このパターンでは、4画素行
が非点灯312で4画素行が点灯311の組が連続して
表示され、かつ、このパターンが水平同期信号(HD)
に同期して画面21の上から下へ走査されていく。
[1224] In FIG. 350 (b), a set of four black circles and four white circles is continuous. In this pattern, a set of 4 pixel rows not illuminated 312 and 4 pixel rows illuminated 311 is continuously displayed, and this pattern is a horizontal synchronization signal (HD).
The screen 21 is scanned from the top to the bottom in synchronization with.

【1225】図350(c)では、12個の黒丸と12
個の白丸の組が連続している。このパターンでは、12
画素行が非点灯312で12画素行が点灯311の組が
連続して表示され、かつ、このパターンが水平同期信号
(HD)に同期して画面21の上から下へ走査されてい
く。
[1225] In FIG. 350 (c), 12 black circles and 12
A set of individual white circles are continuous. In this pattern, 12
A group of pixel rows that are not illuminated 312 and 12 pixel rows that are illuminated 311 is continuously displayed, and this pattern is scanned from the top to the bottom of the screen 21 in synchronization with the horizontal synchronization signal (HD).

【1226】図350(d)では、21個の黒丸と3個
の白丸の組が連続している。このパターンでは、21画
素行が非点灯312で、3画素行が点灯311の組が連
続して表示され、かつ、このパターンが水平同期信号
(HD)に同期して画面21の上から下へ走査されてい
く。
In FIG. 350 (d), a set of 21 black circles and 3 white circles is continuous. In this pattern, a set of 21 pixel rows that are not illuminated 312 and 3 pixel rows that are illuminated 311 are continuously displayed, and this pattern is synchronized with the horizontal synchronization signal (HD) to move from the top to the bottom of the screen 21. It will be scanned.

【1227】図350(e)では、1個の黒丸と1個の
白丸の組が連続している。このパターンでは、1画素行
が非点灯312と点灯311の組が交互に表示され、か
つ、このパターンが水平同期信号(HD)に同期して画
面21の上から下へ走査されていく。
[1227] In FIG. 350 (e), a set of one black circle and one white circle is continuous. In this pattern, a set of non-lighting 312 and lighting 311 is alternately displayed on one pixel row, and this pattern is scanned from the top to the bottom of the screen 21 in synchronization with the horizontal synchronizing signal (HD).

【1228】図350(d)では、黒丸と白丸とがラン
ダムに入力されている。このパターンでは、ランダムな
点灯画素行と非点灯画素行とが、水平同期信号(HD)
に同期して画面21の上から下へ走査されていく。
[1228] In FIG. 350 (d), black circles and white circles are randomly input. In this pattern, a random lit pixel row and a non-lit pixel row have a horizontal synchronization signal (HD).
The screen 21 is scanned from the top to the bottom in synchronization with.

【1229】図350では同一輝度では、動画表示には
図350(d)が適し、図350(a)が最も不適切で
ある(現実には、もっと黒丸と白丸の間隔は広いが)。
In FIG. 350, with the same brightness, FIG. 350 (d) is suitable for displaying a moving image, and FIG. 350 (a) is the most unsuitable (although the actual space between black and white circles is wider).

【1230】図355もシフトレジスタ22bに入力す
るデータをゲート信号線17bへの出力の関係を図示し
たものである。なお、当初シフトレジスタ22bに保持
されているデータは非選択データ(ゲート信号線17b
にオフ電圧を印加するデータ(黒丸)とする。
[1230] FIG. 355 also shows the relationship between the data input to the shift register 22b and the output to the gate signal line 17b. The data initially held in the shift register 22b is the non-selected data (gate signal line 17b
Data (black circle) for applying the off voltage to

【1231】第1H(1H)でシフトレジスタ22bに
白丸(選択データ)が入力される。したがって、画素行
(1)のゲート信号線17bに選択電圧(オン電圧(V
gl))が出力される。他の画素行のゲート信号線17
bにはオフ電圧(Vgh)が出力されている。したがっ
て、画素行(1)が表示311となる。
[1231] White circles (selection data) are input to the shift register 22b at the first H (1H). Therefore, the gate signal line 17b of the pixel row (1) has a selection voltage (ON voltage (V
gl)) is output. Gate signal line 17 of another pixel row
The off voltage (Vgh) is output to b. Therefore, the pixel row (1) becomes the display 311.

【1232】次の第2H(2H)でシフトレジスタ22
bに黒丸(非選択データ)が入力される。また、シフト
レジスタ22bはCLK(HD)に同期して1ビットシ
フトする。したがって、画素行(1)にオフ電圧(Vg
h))が出力され、画素行(2)に選択電圧(オン電圧
(Vgl))が出力される。他の画素行にはオフ電圧
(Vgh)が出力されている。したがって、画素行
(1)が表示311となる。
[1232] The next second H (2H) shift register 22
A black circle (non-selected data) is input to b. The shift register 22b shifts by 1 bit in synchronization with CLK (HD). Therefore, the off voltage (Vg
h)) is output, and the selection voltage (ON voltage (Vgl)) is output to the pixel row (2). The off voltage (Vgh) is output to the other pixel rows. Therefore, the pixel row (1) becomes the display 311.

【1233】次の第3H(3H)でシフトレジスタ22
bに白丸(選択データ)が入力される。また、シフトレ
ジスタ22bはCLK(HD)に同期して1ビットシフ
トする。したがって、画素行(1)(3)にオン電圧
(Vgl))が出力され、画素行(2)に非選択電圧
(オフ電圧(Vgh))が出力される。他の画素行には
オフ電圧(Vgh)が出力されている。したがって、画
素行(1)(3)が表示311となる。
[1233] At the next third H (3H), the shift register 22
A white circle (selected data) is input to b. The shift register 22b shifts by 1 bit in synchronization with CLK (HD). Therefore, the on-voltage (Vgl) is output to the pixel rows (1) and (3), and the non-selection voltage (off-voltage (Vgh)) is output to the pixel row (2). The off voltage (Vgh) is output to the other pixel rows. Therefore, the pixel rows (1) and (3) become the display 311.

【1234】同様に次の第4H(4H)でシフトレジス
タ22bに黒丸(非選択データ)が入力される。また、
シフトレジスタ22bはCLK(HD)に同期して1ビ
ットシフトする。したがって、画素行(1)(3)のゲ
ート信号線17bにはオフ電圧が出力され、画素行
(2)(4)に選択電圧(オフ電圧(Vgh))が出力
される。他の画素行にはオフ電圧(Vgh)が出力され
る。画素行(1)(3)が非表示312となり、画素行
(2)(4)が表示31となる。
[1234] Similarly, a black circle (non-selected data) is input to the shift register 22b at the next 4H (4H). Also,
The shift register 22b shifts by 1 bit in synchronization with CLK (HD). Therefore, the off voltage is output to the gate signal lines 17b of the pixel rows (1) and (3), and the selection voltage (off voltage (Vgh)) is output to the pixel rows (2) and (4). The off voltage (Vgh) is output to the other pixel rows. The pixel rows (1) and (3) are non-display 312, and the pixel rows (2) and (4) are display 31.

【1235】以上の動作を順次繰り返すと、ゲート信号
線17bに出力される波形は図348のようにオン電圧
をオフ電圧とを1Hごとに交互に出力する波形となる。
以上のように、シフトレジスタ22bのデータにより、
容易に画素行を点灯、非点灯制御を行うことができる。
[1235] When the above operation is sequentially repeated, the waveform output to the gate signal line 17b becomes a waveform in which the ON voltage and the OFF voltage are alternately output every 1H as shown in FIG. 348.
As described above, according to the data of the shift register 22b,
It is possible to easily control lighting and non-lighting of pixel rows.

【1236】図355ではゲート信号線17bの出力段
にスイッチSが配置されている。これは、図334、図
333のOR回路3272、あるいは図334のENB
L端子などが該当する。このスイッチをオンオフさせる
ことにより1Hの期間内で、ゲート信号線17bにオン
電圧あるいはオフ電圧を印加できるように制御できる。
なお、スイッチSは閉じている時、シフトレジスタのデ
ータをそのままゲート信号線17bに出力し、スイッチ
Sがオープンの時は、オフ電圧(Vgh)が出力される
ように構成されているものとする。
In FIG. 355, the switch S is arranged at the output stage of the gate signal line 17b. This is the OR circuit 3272 of FIGS. 334 and 333, or the ENB of FIG. 334.
The L terminal is applicable. By turning this switch on and off, it is possible to control so that the on voltage or the off voltage can be applied to the gate signal line 17b within the period of 1H.
When the switch S is closed, the data of the shift register is output to the gate signal line 17b as it is, and when the switch S is open, the off voltage (Vgh) is output. .

【1237】図355のスイッチSを制御すれば、図3
32、図339、図340、図341、図344、図3
45などの1H以内の制御を容易に実現できる。したが
って、図355の回路構成あるいは駆動方法で、図34
8、図356などの1H単位の制御と、図332、図3
39、図340、図341、図344、図345などの
1H以内の制御を容易に組み合わせて実施できる。つま
り、柔軟は階調(明るさ)制御が容易に、かつスムーズ
にかつ回路構成が簡単に実現できる。
[1237] By controlling the switch S in FIG.
32, FIG. 339, FIG. 340, FIG. 341, FIG. 344, FIG.
Control within 1H such as 45 can be easily realized. Therefore, with the circuit configuration or driving method of FIG.
8 and FIG. 356 and the like in 1H unit control, and FIG.
39, FIG. 340, FIG. 341, FIG. 344, FIG. 345, etc. within 1H can be easily combined and implemented. That is, the flexibility can easily realize the gradation (brightness) control, smoothly, and easily realize the circuit configuration.

【1238】以上の実施例はゲート信号線17bについ
て主として説明した。しかし、ソース信号線18とカッ
プリングするのはゲート信号線17bだけではない。以
前に説明した逆バイアス電圧を印加するTFTのゲート
信号線ともカップリングする。図357は逆バイアス電
圧を印加する場合の画素構成である。基本的には図1の
電流プログラムの画素構成であるが、本発明は何度も記
載しているように、図1の画素構成のみに限定されるも
のではない。たとえば、図21、図22、図47、図7
1などのカレントミラーの画素構成にも適用することが
できる。また、図54、図67、図103などの電圧プ
ログラムの画素構成にも適用できることは言うまでもな
い。
[1238] In the above embodiments, the gate signal line 17b has been mainly described. However, it is not only the gate signal line 17b that couples with the source signal line 18. It is also coupled with the gate signal line of the TFT which applies the reverse bias voltage described above. FIG. 357 shows a pixel configuration when a reverse bias voltage is applied. Although the pixel configuration of the current program of FIG. 1 is basically used, the present invention is not limited to the pixel configuration of FIG. 1 as described repeatedly. For example, FIG. 21, FIG. 22, FIG. 47, FIG.
It can also be applied to a pixel configuration of a current mirror such as 1. Further, it goes without saying that the present invention can also be applied to the pixel configuration of the voltage program shown in FIG. 54, FIG. 67, FIG.

【1239】以上の実施例は、ゲート信号線17bとソ
ース信号線18とのカップリングなどにより、黒浮きな
どが発生することに対応するものであった。図89から
図101などでは逆バイアス電圧を印加する本発明の特
徴ある方式を説明した。
The above embodiments deal with the occurrence of black floating due to the coupling between the gate signal line 17b and the source signal line 18. 89 to 101, etc., the characteristic method of the present invention for applying a reverse bias voltage has been described.

【1240】しかし、逆バイアス電圧を印加するために
は、逆バイアス電圧を印加するTFT11gのゲート端
子にオンオフ電圧を印加する必要がある。そのため、こ
のオンオフ電圧を印加する信号線17dとソース信号線
18とがカップリングする場合がある。
However, in order to apply the reverse bias voltage, it is necessary to apply the on / off voltage to the gate terminal of the TFT 11g to which the reverse bias voltage is applied. Therefore, the signal line 17d for applying the on / off voltage and the source signal line 18 may be coupled.

【1241】図357は図1の画素構成で逆バイアス電
圧を印加する構成である。なお、以下の実施例で、図1
の画素構成を例示して説明をするがこれに限定するもの
ではなく、図21、図43、図54、図68、図103
などの本発明の画素構成あるいはパネル構成のすべての
おいて適用できることは言うまでもない。
[1241] FIG. 357 shows a configuration in which a reverse bias voltage is applied in the pixel configuration of FIG. In addition, in the following example, FIG.
The pixel configuration of FIG. 21 will be described as an example, but the pixel configuration is not limited thereto, and FIG. 21, FIG. 43, FIG. 54, FIG. 68, and FIG.
It goes without saying that the present invention can be applied to all the pixel configurations or panel configurations of the present invention such as.

【1242】図357は逆バイアス電圧Vmを印加する
画素構成の等価回路図である。図357(a)は逆バイ
アス電圧を印加するTFTがPチャンネルの場合であ
る。図357(b)は逆バイアス電圧を印加するTFT
がNチャンネルの場合である。
[1242] FIG. 357 is an equivalent circuit diagram of a pixel configuration to which the reverse bias voltage Vm is applied. FIG. 357 (a) shows the case where the TFT to which the reverse bias voltage is applied is the P channel. FIG. 357 (b) shows a TFT applying a reverse bias voltage.
Is for N channels.

【1243】なお,逆バイアス電圧Vmを伝達する信号
線3571はソース信号線18と平行に配線(配置もし
くは形成)することが好ましい。ゲート信号線17の寄
生容量を少なくできるからである。
[1243] Note that the signal line 3571 for transmitting the reverse bias voltage Vm is preferably wired (arranged or formed) in parallel with the source signal line 18. This is because the parasitic capacitance of the gate signal line 17 can be reduced.

【1244】図359は図357(a)の画素構成の時
の駆動波形である。以前にも説明したように、本発明は
信号線間のカップリングを抑制するため、印加する信号
線への波形変化を少なくすること、あるいは(または)
隣接した信号線の印加信号波形を逆位相とするあるいは
極力打ち消しあう方向に入力すること、あるいは(また
は)表示パネルの表示領域21全体として、任意の時刻
で信号線に印加されている波形を観察した時、信号の立
下りと立ち上がりの信号波形がランダムあるいはほぼ同
数となっているように駆動するものである。
[1244] FIG. 359 shows drive waveforms in the case of the pixel configuration of FIG. 357 (a). As described above, the present invention suppresses the coupling between the signal lines, so that the change in the waveform to the applied signal line is reduced, and / or
Apply the applied signal waveforms of adjacent signal lines in opposite phases or cancel each other as much as possible, or (or) observe the waveform applied to the signal lines at any time as the entire display area 21 of the display panel. At this time, the driving is performed so that the signal waveforms of the falling edge and the rising edge of the signal are random or almost the same number.

【1245】図358、図359などの実施例は基本的
に、今まで説明したゲート信号線17bの駆動方法と同
一である。ゲート信号線17bの駆動概念を制御信号線
17dに置き換えたものである。したがって、ゲート信
号線17bの駆動などで説明した事項を図358、図3
59などに適用することができる。
The embodiment shown in FIGS. 358 and 359 is basically the same as the driving method of the gate signal line 17b described above. The driving concept of the gate signal line 17b is replaced with the control signal line 17d. Therefore, the matters described in the driving of the gate signal line 17b and the like will be described with reference to FIGS.
It can be applied to 59 or the like.

【1246】ゲート信号線17a、17bの駆動電圧V
ghを15(V)、Vgl=0(V)とすると、図35
7(a)では、TFT11gを制御するゲート信号線1
7dの電圧Vmh(オフ電圧)は0(V)あるいは近傍
である。また、TFT11gを制御するゲート信号線1
7dのオン電圧Vmlは−15(V)あるいは近傍であ
る。
[1246] The drive voltage V of the gate signal lines 17a and 17b
Assuming that gh is 15 (V) and Vgl = 0 (V), FIG.
7 (a), the gate signal line 1 for controlling the TFT 11g
The voltage Vmh (OFF voltage) of 7d is 0 (V) or the vicinity. In addition, the gate signal line 1 for controlling the TFT 11g
The on-voltage Vml of 7d is -15 (V) or the vicinity.

【1247】図357(b)では、TFT11gを制御
するゲート信号線17dの電圧はVmh(オフ電圧)は
Vglと同一あるいは近傍である。また、TFT11g
を制御するゲート信号線17dのオン電圧VmlはVg
lと同一あるいは近傍である。
In FIG. 357 (b), the gate signal line 17d for controlling the TFT 11g has a voltage Vmh (off voltage) equal to or near Vgl. Also, TFT 11g
ON voltage Vml of the gate signal line 17d for controlling
It is the same as or close to l.

【1248】以上のことから、TFT11gの駆動電圧
範囲としては、図357(b)の法が有利である。しか
し、TFT11gに印加している電圧をVmに固定する
のではなく、ハイインピーダンスとVm電圧とを切り替
えられるように構成することにより、PチャンネルTF
T11gの制約は軽減される。
From the above, as a drive voltage range of the TFT 11g, the method of FIG. 357 (b) is advantageous. However, instead of fixing the voltage applied to the TFT 11g to Vm, it is possible to switch between the high impedance and the Vm voltage.
The constraints of T11g are alleviated.

【1249】図359(図357(a))では、a点で
は画素行(1)のゲート信号線17bがオフ電圧からオ
ン電圧に変化(立下り)し、画素行(1)のゲート信号
線17d(逆バイアス制御線)がオン電圧(Vml)か
らオフ電圧(Vmh)に変化(立ち上がり)する。した
がって、ゲート信号線17bとゲート信号線17dの信
号波形の変化方向が反対である。そのため、カップリン
グによるソース信号線18に発生する突き抜けが発生し
ない(もしくは非常に小さくなる)。
In FIG. 359 (FIG. 357 (a)), the gate signal line 17b of the pixel row (1) changes (falls) from the off voltage to the on voltage at the point a, and the gate signal line of the pixel row (1) changes. 17d (reverse bias control line) changes (rises) from on-voltage (Vml) to off-voltage (Vmh). Therefore, the change directions of the signal waveforms of the gate signal line 17b and the gate signal line 17d are opposite to each other. Therefore, the punch-through that occurs in the source signal line 18 due to the coupling does not occur (or becomes extremely small).

【1250】ゲート信号線17bにオン電圧が印加され
るとTFT11dがオンする。また、ゲート信号線17
dにオン電圧が印加されるとTFT11gがオンする。
TFT11gとTFT11dが同時にオンするとショー
ト状態となる。この事態を避けるために、TFT11d
とTFT11gとのオンオフを切り替えるタイミングは
必ず、両方がオフ状態のなった後に、一方のTFTをオ
ンさせるように制御する。ゲート信号線17bにオフ電
圧が印加され、ゲート信号線17dにオン電圧が印加さ
れるでの時間は1μsec以上25μsec以下の期間
は離すことが好ましい。もしくは、1Hの1/100以
上1/4以下の時間離すことが好ましい。同様に、ゲー
ト信号線17dにオフ電圧が印加され、ゲート信号線1
7bにオン電圧が印加されるでの時間は1μsec以上
25μsec以下の期間は離すことが好ましい。もしく
は、1Hの1/100以上1/4以下の時間離すことが
好ましい。
[1250] When an on-voltage is applied to the gate signal line 17b, the TFT 11d turns on. In addition, the gate signal line 17
When an on-voltage is applied to d, the TFT 11g turns on.
When the TFT 11g and the TFT 11d are turned on at the same time, a short circuit occurs. In order to avoid this situation, the TFT 11d
The timing for switching between ON and OFF of the TFT 11g and the TFT 11g is always controlled so that one of the TFTs is turned on after both are turned off. It is preferable that the off-voltage is applied to the gate signal line 17b and the on-voltage is applied to the gate signal line 17d for a period of 1 μsec or more and 25 μsec or less. Alternatively, it is preferable that the time is 1/100 to 1/4 of 1H. Similarly, an off voltage is applied to the gate signal line 17d, and the gate signal line 1
It is preferable that the ON voltage is applied to 7b for a period of 1 μsec or more and 25 μsec or less. Alternatively, it is preferable that the time is 1/100 to 1/4 of 1H.

【1251】図359のb点では画素行(1)のゲート
信号線17bがオン電圧(Vgl)からオン電圧(Vg
h)に変化(立ち上がり)し、画素行(1)のゲート信
号線17d(逆バイアス制御線)がオフ電圧(Vmh)
からオン電圧(Vml)に変化(立ち下り)する。この
状態で、TFT11aからEL素子15に流れる電流が
遮断され、EL素子15のアノードに逆バイアス電圧V
mが印加される。b点では、ゲート信号線17bとゲー
ト信号線17dの信号波形の変化方向が反対である。そ
のため、カップリングによるソース信号線18に発生す
る突き抜けが発生しない(もしくは非常に小さくな
る)。そのため、ゲート信号線17dの印加信号による
ソース信号線18などの電位変動が抑制される。
At point b in FIG. 359, the gate signal line 17b of the pixel row (1) changes from the on voltage (Vgl) to the on voltage (Vg).
h), the gate signal line 17d (reverse bias control line) of the pixel row (1) is turned off (Vmh).
Changes to the ON voltage (Vml) (falls). In this state, the current flowing from the TFT 11a to the EL element 15 is cut off, and the reverse bias voltage V is applied to the anode of the EL element 15.
m is applied. At the point b, the change directions of the signal waveforms of the gate signal line 17b and the gate signal line 17d are opposite to each other. Therefore, the punch-through that occurs in the source signal line 18 due to the coupling does not occur (or becomes extremely small). Therefore, the potential fluctuation of the source signal line 18 and the like due to the applied signal of the gate signal line 17d is suppressed.

【1252】また、図359では、ゲート信号線17d
の信号変化位置は、1画素行ごとにシフトしている。し
たがって、HDに同期して逆バイアス電圧を開始する位
置は、シフトさせている。また、ゲート信号線17bの
信号波形に同期してシフトさせている。以上のように、
ゲート信号線17bと17dの両方と同期をとって変化
させ、また、印加位置をシフトさせることにより、各画
素のEL素子15に逆バイアス電圧を印加する時間が一
定となる。また、ソース信号線18の電位変化も発生し
ない。したがって、黒浮きのない良好なコントラストを
実現できる。
[1252] Also, in FIG. 359, the gate signal line 17d
The signal change position of is shifted for each pixel row. Therefore, the position where the reverse bias voltage is started in synchronization with HD is shifted. Also, the shift is performed in synchronization with the signal waveform of the gate signal line 17b. As mentioned above,
By changing the gate signal lines 17b and 17d in synchronization with each other and shifting the application position, the time for applying the reverse bias voltage to the EL element 15 of each pixel becomes constant. Further, the potential change of the source signal line 18 does not occur. Therefore, it is possible to realize good contrast without blackening.

【1253】以上のように、ゲート信号線17bとゲー
ト信号線17dの信号波形の変化方向が反対である(も
ちろん、TFT11dとTFT11gの両方がオンしな
いように両方のTFTがオフとなる期間を設ける必要が
ある)。したがって、ソース信号線18に対しては信号
波形により打ち消しあう。また、偶数番目のゲート信号
線17d((2)(4)(6)…・・)と奇数番目のゲ
ート信号線17d((1)(3)(5)…・・)とが逆
位相である。また、偶数番目のゲート信号線17b
((2)(4)(6)…・・)と奇数番目のゲート信号
線17b((1)(3)(5)…・・)とが逆位相であ
る。表示領域21内で全体として信号波形の振幅による
ソース信号線18の電位変動は抑制される。
As described above, the change directions of the signal waveforms of the gate signal line 17b and the gate signal line 17d are opposite to each other (as a matter of course, a period in which both TFTs 11d and 11g are turned off is provided so that both TFTs are turned off. There is a need). Therefore, the source signal line 18 is canceled by the signal waveform. Also, the even-numbered gate signal lines 17d ((2) (4) (6) ...) And the odd-numbered gate signal lines 17d ((1) (3) (5) ... is there. In addition, even-numbered gate signal lines 17b
((2) (4) (6) ...) And the odd-numbered gate signal lines 17b ((1) (3) (5) ... Within the display area 21, the potential fluctuation of the source signal line 18 due to the amplitude of the signal waveform is suppressed as a whole.

【1254】図358も図359と同様である。今まで
説明したゲート信号線17bの駆動方法と同一である。
ゲート信号線17bの駆動概念を制御信号線17dに置
き換えたものである。したがって、ゲート信号線17b
の駆動などで説明した事項を図358に適用することが
できる。
[1254] FIG. 358 is similar to FIG. 359. This is the same as the method of driving the gate signal line 17b described above.
The driving concept of the gate signal line 17b is replaced with the control signal line 17d. Therefore, the gate signal line 17b
The matters described in the driving of FIG.

【1255】図358では、a点では画素行(1)のゲ
ート信号線17bがオフ電圧(Vgh)からオン電圧
(Vgl)に変化(立下り)し、画素行(1)のゲート
信号線17d(逆バイアス制御線)がオン電圧(Vm
h)からオフ電圧(Vml)に変化(立ち下がり)す
る。したがって、ゲート信号線17bとゲート信号線1
7dの信号波形の変化方向が同一である。b点では画素
行(1)のゲート信号線17bがオン電圧(Vgl)か
らオフ電圧(Vgh)に変化(立ち上がり)し、画素行
(1)のゲート信号線17d(逆バイアス制御線)がオ
フ電圧(Vml)からオン電圧(Vmh)に変化(立ち
上がり)する。したがって、ゲート信号線17bとゲー
ト信号線17dの信号波形の変化方向が同一である。そ
のため、カップリングによるソース信号線18に発生す
る突き抜けをキャンセルする効果がない。
In FIG. 358, at the point a, the gate signal line 17b of the pixel row (1) changes from the off voltage (Vgh) to the on voltage (Vgl) (falls), and the gate signal line 17d of the pixel row (1). (Reverse bias control line) turns on voltage (Vm
The voltage changes from h) to the off voltage (Vml) (falls). Therefore, the gate signal line 17b and the gate signal line 1
The changing directions of the signal waveform of 7d are the same. At the point b, the gate signal line 17b of the pixel row (1) changes (rises) from the on-voltage (Vgl) to the off-voltage (Vgh), and the gate signal line 17d (reverse bias control line) of the pixel row (1) is turned off. The voltage (Vml) changes to the on-voltage (Vmh) (rises). Therefore, the changing directions of the signal waveforms of the gate signal line 17b and the gate signal line 17d are the same. Therefore, there is no effect of canceling the punch-through that occurs in the source signal line 18 due to the coupling.

【1256】なお、図358の駆動方法においても、図
359と同様に、ゲート信号線17bにオフ電圧が印加
され、ゲート信号線17dにオン電圧が印加されるでの
時間は1μsec以上25μsec以下の期間は離すこ
とが好ましい。もしくは、1Hの1/100以上1/4
以下の時間離すことが好ましい。同様に、ゲート信号線
17dにオフ電圧が印加され、ゲート信号線17bにオ
ン電圧が印加されるでの時間は1μsec以上25μs
ec以下の期間は離すことが好ましい。もしくは、1H
の1/100以上1/4以下の時間離すことが好まし
い。
[1256] Also in the driving method of FIG. 358, as in the case of FIG. 359, the time when the off voltage is applied to the gate signal line 17b and the on voltage is applied to the gate signal line 17d is 1 μsec or more and 25 μsec or less. It is preferable to separate the periods. Or 1/100 or more of 1H and 1/4
It is preferable to be separated for the following time. Similarly, the time period in which the off voltage is applied to the gate signal line 17d and the on voltage is applied to the gate signal line 17b is 1 μsec or more and 25 μs or more.
It is preferable to separate during a period of ec or less. Or 1H
It is preferable that the time is 1/100 or more and 1/4 or less.

【1257】画素行(1)のゲート信号線17bとゲー
ト信号線17dの信号波形の変化方向が同一である。そ
のため、カップリングによるソース信号線18に発生す
る突き抜けをキャンセルする効果がない。しかし、画素
行(2)のゲート信号線17bの信号波形とゲート信号
線17dの信号波形と、画素行(1)のゲート信号線1
7bの信号波形とゲート信号線17dの信号波形とは逆
位相となっている。したがって、画素行(1)と画素行
(2)ではカップリングによるソース信号線18に発生
する突き抜けをキャンセルする効果が発揮される。つま
り、偶数画素行と奇数画素行では、ゲート信号線に印加
する信号位相を逆にすることにより、カップリングによ
るソース信号線18に発生する突き抜けをキャンセルす
る効果が発揮される。
[1257] The change directions of the signal waveforms of the gate signal line 17b and the gate signal line 17d of the pixel row (1) are the same. Therefore, there is no effect of canceling the punch-through that occurs in the source signal line 18 due to the coupling. However, the signal waveform of the gate signal line 17b and the signal waveform of the gate signal line 17d of the pixel row (2), and the gate signal line 1 of the pixel row (1)
The signal waveform of 7b and the signal waveform of the gate signal line 17d have opposite phases. Therefore, in the pixel row (1) and the pixel row (2), the effect of canceling the punch-through generated in the source signal line 18 due to the coupling is exerted. That is, in the even-numbered pixel rows and the odd-numbered pixel rows, the effect of canceling the punch-through generated in the source signal line 18 due to the coupling is exhibited by reversing the signal phases applied to the gate signal lines.

【1258】なお、以上の実施例では、ゲート信号線1
7bとゲート信号線17dの信号波形の位相を逆にする
としたが、完全に正反対にすることを意味するものでは
ない。つまり、ソース信号線18などへのカップリング
を抑制する方向にすることが本発明の技術的思想であ
る。したがって、ゲート信号線17bとゲート信号線1
7dの信号波形の位相の関係が異なっていても良い。
[1258] In the above embodiment, the gate signal line 1
Although the phases of the signal waveforms of 7b and the gate signal line 17d are set to be opposite to each other, this does not mean that they are completely opposite. That is, the technical idea of the present invention is to suppress the coupling to the source signal line 18 and the like. Therefore, the gate signal line 17b and the gate signal line 1
The phase relationship of the signal waveform of 7d may be different.

【1259】また、図358では、ゲート信号線17d
の信号変化位置は、1画素行ごとにシフトしている。し
たがって、HDに同期して逆バイアス電圧を開始する位
置は、シフトさせている。また、ゲート信号線17bの
信号波形に同期してシフトさせている。以上のように、
ゲート信号線17bと17dの両方と同期をとって変化
させ、また、印加位置をシフトさせることにより、各画
素のEL素子15に逆バイアス電圧を印加する時間が一
定となる。また、ソース信号線18の電位変化も発生し
ない。したがって、黒浮きのない良好なコントラストを
実現できる。
[1259] Also, in FIG. 358, the gate signal line 17d
The signal change position of is shifted for each pixel row. Therefore, the position where the reverse bias voltage is started in synchronization with HD is shifted. Also, the shift is performed in synchronization with the signal waveform of the gate signal line 17b. As mentioned above,
By changing the gate signal lines 17b and 17d in synchronization with each other and shifting the application position, the time for applying the reverse bias voltage to the EL element 15 of each pixel becomes constant. Further, the potential change of the source signal line 18 does not occur. Therefore, it is possible to realize good contrast without blackening.

【1260】図358では、ゲート信号線17bとゲー
ト信号線17dの信号波形の変化方向が同一である。そ
のため、カップリングによるソース信号線18に発生す
る突き抜けをキャンセルする効果がないと記載した。し
かし、図367に図示するように、表示領域21が非点
灯状態312の部分のゲート信号線17bにはオフ電圧
(Vgh)が印加されている。この領域312の非点灯
状態312は一定時間維持される。したがって、図36
7に図示するようにゲート信号線17dはゲート信号線
17bと同期を取ることなく、信号を印加できる。その
ため、偶数番目のゲート信号線17d((2)(4)
(6)…・・)と奇数番目のゲート信号線17d
((1)(3)(5)…・・)とが逆位相にできる。表
示領域21内で全体として信号波形の振幅によるソース
信号線18の電位変動は抑制される。
[1260] In FIG. 358, the change directions of the signal waveforms of the gate signal line 17b and the gate signal line 17d are the same. Therefore, it has been described that there is no effect of canceling the punch-through that occurs in the source signal line 18 due to the coupling. However, as shown in FIG. 367, the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17b in the portion where the display region 21 is in the non-lighting state 312. The non-lighting state 312 of the area 312 is maintained for a fixed time. Therefore, FIG.
As shown in FIG. 7, the gate signal line 17d can apply a signal without synchronizing with the gate signal line 17b. Therefore, the even-numbered gate signal lines 17d ((2) (4)
(6) ... ・) and odd-numbered gate signal lines 17d
((1) (3) (5) ... ・) can be in opposite phase. Within the display area 21, the potential fluctuation of the source signal line 18 due to the amplitude of the signal waveform is suppressed as a whole.

【1261】なお、今まで説明した駆動方法では、奇数
画素行と偶数画素行のゲート信号線の駆動波形を異なら
せるとしたが、図330、図334に説明したようにこ
れに限定するものではない。2画素行以上の単位で異な
らせても良いことはいうまでもない。また、ランダム的
な駆動を実施してもよい。
[1261] In the driving method described above, the driving waveforms of the gate signal lines in the odd-numbered pixel rows and the even-numbered pixel rows are made different, but the present invention is not limited to this as described with reference to FIGS. 330 and 334. Absent. It goes without saying that they may be different in units of two or more pixel rows. Moreover, you may implement a random drive.

【1262】また、図358、図359、図367の逆
バイアス駆動の実施例においても、図322、図331
で説明した画素構成を適用することが好ましい。この場
合は、ゲート信号線17bは逆バイアス印加用TFTを
制御するゲート信号線17dなどに置き換えればよい。
また、図333、図327、図334、図349、図3
55に記載したパネルあるいはアレイ構成についても同
様である。この場合についても、ゲート信号線17bは
逆バイアス印加用TFTを制御するゲート信号線17d
などに置き換えればよい。以上のように、図358、図
359、図367などで説明した逆バイアス駆動に関す
る事項は、本明細書の他の実施例と組み合わせることが
できることは言うまでもない。
[1262] Also, in the reverse bias driving examples of FIGS. 358, 359, and 367, FIGS.
It is preferable to apply the pixel configuration described in 1. In this case, the gate signal line 17b may be replaced with a gate signal line 17d for controlling the reverse bias application TFT.
Also, FIG. 333, FIG. 327, FIG. 334, FIG. 349, FIG.
The same applies to the panel or array configuration described in 55. Also in this case, the gate signal line 17b is the gate signal line 17d for controlling the reverse bias application TFT.
You can replace it with As described above, it is needless to say that the matters regarding the reverse bias driving described with reference to FIGS. 358, 359, 367, and the like can be combined with other examples in this specification.

【1263】図61の表示方法のように、奇数画素行と
偶数画素行(もしくは複数画素行ごと)を所定フィール
ド(フレーム)ごとに切り替える表示方法は、立体画像
表示装置もしくは方法に適用することができる。以下、
本発明の立体表示装置について図85、図86を参照し
ながら説明をする。
[1263] A display method in which odd-numbered pixel rows and even-numbered pixel rows (or a plurality of pixel rows) are switched for each predetermined field (frame) like the display method in FIG. 61 can be applied to a stereoscopic image display device or method. it can. Less than,
The stereoscopic display device of the present invention will be described with reference to FIGS.

【1264】まず、本発明の表示方法は基本的に画素行
単位(画素行の方向)に表示領域311と非表示領域3
12を構成するものである。したがって、図61のよう
に表示する場合は縦横を変換する必要がある。この変換
は容易である。メモリに蓄積された画像データを行と列
を入れ替えればよいからである。縦横を変換すれば図8
5(a1)の表示状態となる。つまり、表示パネルの走
査方向はAに示す矢印方向となるが、画像は図(a1)
に示すように、紙面上が画面上となり、紙面下が画面下
となる。したがって、表示パネルの使用者にはあたかも
画面上から下に走査しているように見える。
[1264] First, according to the display method of the present invention, the display area 311 and the non-display area 3 are basically arranged in pixel row units (pixel row direction).
12 is included. Therefore, when displaying as in FIG. 61, it is necessary to convert the vertical and horizontal directions. This conversion is easy. This is because the rows and columns of the image data stored in the memory may be exchanged. Figure 8 if you convert the vertical and horizontal
5 (a1) is displayed. That is, the scanning direction of the display panel is the direction of the arrow indicated by A, but the image is as shown in FIG.
As shown in, the top of the paper is the screen and the bottom of the paper is the bottom of the screen. Therefore, the user of the display panel looks as if scanning from the top of the screen to the bottom.

【1265】表示パネルの表示画像21は左から奇数画
素列(行)に右目の画像を表示し、偶数画素列(行)に
左目の画像を表示する。画像表示は表示パネルと同期す
る観察用眼鏡852と同期させる。観察用眼鏡852は
シャッタ851として機能する2つの液晶パネルを具備
している。
[1265] In the display image 21 of the display panel, the right-eye image is displayed in the odd pixel columns (rows) from the left, and the left-eye image is displayed in the even pixel columns (rows). The image display is synchronized with the observation glasses 852 that are synchronized with the display panel. The observation glasses 852 include two liquid crystal panels that function as shutters 851.

【1266】第1フィールド(第1フレーム)では図8
5(a1)に示すように左から奇数番目の画素列(実際
は奇数番目の画素行)が表示領域311となり、左から
偶数番目の画素列(実際は偶数番目の画素行)が非表示
領域312となる。図85(a1)の表示状態を同期し
て、眼鏡852の左目用のシャッタ851Lが閉じ、眼
鏡852の右目用のシャッタ851Rが開く。したがっ
て、観察者は右目だけで、図85(a1)の画像を見る
ことになる。
[1266] In the first field (first frame), FIG.
5 (a1), the odd-numbered pixel columns from the left (actually odd-numbered pixel rows) become the display region 311, and the even-numbered pixel columns from the left (actually even-numbered pixel rows) become the non-display region 312. Become. Synchronizing the display state of FIG. 85 (a1), the left-eye shutter 851L of the eyeglasses 852 is closed and the right-eye shutter 851R of the eyeglasses 852 is opened. Therefore, the observer sees the image of FIG. 85 (a1) only with the right eye.

【1267】第1フィールド(第1フレーム)の次の第
2フィールド(第2フレーム)では図85(a2)に示
すように左から偶数番目の画素列(実際は偶数番目の画
素行)が表示領域311となり、左から奇数番目の画素
列(実際は奇数番目の画素行)が非表示領域312とな
る。図85(a2)の表示状態を同期して、眼鏡852
の右目用のシャッタ851Rが閉じ、眼鏡852の左目
用のシャッタ851Lが開く。したがって、観察者は左
目だけで、図85(a2)の画像を見ることになる。
In the second field (second frame) next to the first field (first frame), as shown in FIG. 85 (a2), even-numbered pixel columns (actually even-numbered pixel rows) from the left are the display areas. 311 and the odd-numbered pixel columns (actually, odd-numbered pixel rows) from the left become the non-display area 312. Synchronizing the display state of FIG.
The right-eye shutter 851R closes and the left-eye shutter 851L of the eyeglasses 852 opens. Therefore, the observer sees the image of FIG. 85 (a2) only with the left eye.

【1268】以上の動作を交互に繰り返すことにより、
観察者が使用する眼鏡型のシャッタ851と画像表示状
態とが同期して交互に観察者に見えるようにすることに
より立体画像表示を実現できる。
[1268] By repeating the above operation alternately,
Stereoscopic image display can be realized by allowing the viewer to see alternately the glasses-type shutter 851 used by the viewer and the image display state in synchronism with each other.

【1269】シャッタ851を用いずに立体画像表示を
実現するためには、図86に図示したように表示パネル
の光出射側にプリズム861を配置すれがよい。プリズ
ム861のA部がある表示タイミングにおける表示領域
311に対応するように配置し、プリズム861のB部
が前述の表示タイミングにおける表示領域312に対応
するように配置する。このようにプリズム861を配置
することにより、奇数画素行の画像が観察者の右目に入
射するようにし、偶数画素行の画像が観察者の左目に入
射するように構成することができる。なお、プリズム8
61と表示パネル間にはエチレングリコールなどの光結
合材862を配置し、オプティカルカップリングさせて
おく。
In order to realize a stereoscopic image display without using the shutter 851, a prism 861 may be arranged on the light emitting side of the display panel as shown in FIG. The A part of the prism 861 is arranged so as to correspond to the display region 311 at a certain display timing, and the B part of the prism 861 is arranged so as to correspond to the display region 312 at the above-mentioned display timing. By arranging the prism 861 in this way, the image of the odd-numbered pixel rows can enter the right eye of the observer, and the image of the even-numbered pixel rows can enter the left eye of the observer. The prism 8
An optical coupling material 862 such as ethylene glycol is arranged between 61 and the display panel to perform optical coupling.

【1270】なお、図85において切り替え手段852
は眼鏡としたがこれに限定するものではない。観察者に
右目に入射する光と左目に入射する光とを制御できるも
のであればいずれのものでもよい。たとえば、ゴーグル
タイプのものが例示される。また、切り替え手段852
と表示パネルとが一体となったもの(ヘッドマウントデ
ィスプレイ)が例示される。また、シャッタ851は液
晶表示パネルに限定されるものではなく、カメラのシャ
ッタ、回転フィルタのようにメカニカルなものでもよい
ことはいうまでもない。また、ポリゴンミラーを組み込
んだもの、PLZTを用いたシャッタ、エレクトロルミ
ネッセンスを応用したシャッタなども例示される。
[1270] Note that in FIG. 85, switching means 852
Was used as glasses, but is not limited thereto. Any one may be used as long as it can control the light incident on the right eye and the light incident on the left eye of the observer. For example, a goggle type is exemplified. Also, switching means 852
An example is one in which the display panel and the display panel are integrated (head-mounted display). It is needless to say that the shutter 851 is not limited to the liquid crystal display panel and may be mechanical such as a shutter of a camera or a rotary filter. In addition, those incorporating a polygon mirror, shutters using PLZT, shutters applying electroluminescence, etc. are also exemplified.

【1271】以上のように、たとえば、奇数画素行に右
目の画像を表示し、偶数画素行に左目の画像を表示す
る。これを観察者が使用する眼鏡型のシャッタと画像表
示状態とが同期して交互に観察者に見えるようにする。
もしくは、表示パネルの光出射側に配置されたプリズム
により奇数画素行の画像が観察者の右目に入射するよう
にし、偶数画素行の画像が観察者の左目に入射するよう
に構成する。
As described above, for example, the right-eye image is displayed on the odd-numbered pixel rows, and the left-eye image is displayed on the even-numbered pixel rows. The eyeglass-type shutter used by the observer and the image display state are synchronized with each other so that the observer can alternately see them.
Alternatively, the prism arranged on the light emission side of the display panel is configured so that the image of the odd pixel rows is incident on the right eye of the observer and the image of the even pixel rows is incident on the left eye of the observer.

【1272】以上のように1つの表示パネルの表示画像
を図61の表示方法を用いることにより立体表示を実現
できる。なお、図85、図86の装置または方法は、複
数画素行(列)ごとあるいは奇数画素行(列)と偶数画
素行(列)ごとに異なる画像を表示するというものであ
り、その用途は立体表示のみに限定されるものではな
い。たとえば、単に2つの画像を重ね合わせて表示する
という用途に用いてもよいことは言うまでもない。な
お、特に、本発明のEL表示装置を用い、本発明の駆動
方法を実施することが有効であることは言うまでもな
い。
As described above, the stereoscopic display can be realized by using the display method of FIG. 61 for the display image of one display panel. Note that the devices or methods of FIGS. 85 and 86 display different images for each of a plurality of pixel rows (columns) or for each of odd-numbered pixel rows (columns) and even-numbered pixel rows (columns). It is not limited to the display only. For example, it goes without saying that it may be used for the purpose of simply displaying two images in an overlapping manner. Needless to say, it is particularly effective to carry out the driving method of the present invention using the EL display device of the present invention.

【1273】なお、各画素を駆動する素子はTFT11
としたがこれに限定するものではない。たとえば、薄膜
ダイオード(TFD)の組み合わせにより、画素16を
構成でき、このダイオードの一方の端子電圧レベルを操
作することにより、EL素子15に流す電流を間欠動作
させることができる。この構成では、必要に応じてカソ
ード電極と横ストライプ状に加工(形成)する。その
他、バリスタ、サイリスタなどのスイッチング素子でも
同様である。
[1283] The element that drives each pixel is the TFT 11
However, it is not limited to this. For example, the pixel 16 can be configured by combining a thin film diode (TFD), and the current flowing through the EL element 15 can be intermittently operated by operating the voltage level at one terminal of this diode. In this configuration, the cathode electrode is processed (formed) in a horizontal stripe shape as needed. The same applies to switching elements such as varistors and thyristors.

【1274】たとえば、図1のTFT11aの駆動用T
FTを例にすれば、図80(a)に図示するようにNチ
ャンネルまたはPチャンネルのバイポーラトランジスタ
でもよい。また、図80(b)に図示するようにNチャ
ンネルまたはPチャンネルのMOSトランジスタでもよ
いことは言うまでもない。さらに、図80(c)に図示
するようにホトトランジスタあるいはホトダイオードで
もよく、図80(d)に図示するようにサイリスタ素子
などでもよい。このことは、他の画素を構成するスイッ
チング素子にも適用できることは言うまでもない。
For example, the driving T of the TFT 11a of FIG.
Taking the FT as an example, it may be an N-channel or P-channel bipolar transistor as shown in FIG. Needless to say, it may be an N-channel or P-channel MOS transistor as shown in FIG. 80 (b). Further, it may be a phototransistor or a photodiode as shown in FIG. 80 (c), or a thyristor element as shown in FIG. 80 (d). It goes without saying that this can also be applied to switching elements that form other pixels.

【1275】また、TFT素子11はPチャンネルでも
Nチャンネルのいずれでも用いることができることは言
うまでもない。また、EL素子15の位置は図1または
図21のような位置に限定するものではない。たとえ
ば、図79(a)は図1のTFT11aとEL素子15
との接続状態を抜き出したものである。この変形として
図79(b)の構成も例示される。また、駆動用TFT
をNチャンネルとした図79(c)(d)の構成も例示
される。これらの事項は駆動用TFT11aについてだ
けでなく、他の画素を構成するスイッチング素子11
(たとえば、図1ではTFT11b、11c、11dな
ど)についても同様である。また、ドライバ12,14
を構成する素子に対しても同様に適用される。
It is needless to say that the TFT element 11 can be used in either P channel or N channel. The position of the EL element 15 is not limited to the position shown in FIG. 1 or FIG. For example, FIG. 79A shows the TFT 11a and the EL element 15 of FIG.
It is a connection state extracted from. As this modification, the configuration of FIG. 79 (b) is also illustrated. Also, the driving TFT
The configurations of FIGS. 79 (c) and (d) in which N is the N channel are also illustrated. These matters apply not only to the driving TFT 11a but also to the switching element 11 that constitutes another pixel.
The same applies to (for example, TFTs 11b, 11c, 11d in FIG. 1). In addition, the drivers 12, 14
It is similarly applied to the elements constituting the.

【1276】また、TFTなどのスイッチング素子は低
温多結晶Si−TFTで形成することが望ましいが、ア
モルファスシリコンTFTでもよいことはいうまでもな
い。特にEL素子15に流す電流が1μA以下の場合は
アモルファスシリコン技術で形成して特性上十分であ
る。また、ゲートドライバ回路、ソースドライバ回路な
どもアモルファスシリコン技術による素子で形成しても
よい。
[1276] Further, it is desirable that the switching element such as TFT is formed of a low temperature polycrystal Si-TFT, but needless to say, it may be an amorphous silicon TFT. In particular, when the current passed through the EL element 15 is 1 μA or less, the characteristics are sufficient because it is formed by the amorphous silicon technique. Also, the gate driver circuit, the source driver circuit, and the like may be formed by elements using amorphous silicon technology.

【1277】また、図2、図60、図74、図84など
のゲートドライバ12の構成についてもこれに限定する
ものではなく(図2などはST信号を順次クロックに同
期してシフト動作(シリアル処理)する構成である)、
たとえば、各ゲート信号線のオンオフ状態を一度に決定
するパラレル入力であってもよい(すべてのゲート信号
線のオンフフロジックがコントローラかゲート信号線1
7の本数分、一度に出力され決定される構成など)。
Also, the configuration of the gate driver 12 shown in FIGS. 2, 60, 74, 84, etc. is not limited to this (in FIG. 2, etc., the shift operation (serial Processing)),
For example, a parallel input that determines the on / off state of each gate signal line at a time may be used (the on / off logic of all gate signal lines is the controller or the gate signal line 1).
For example, a configuration in which the number of 7 is output and determined at one time).

【1278】図10は有機ELモジュールの構成図であ
る。プリント基板103にはコントロールIC101と
電源IC102が実装されている。プリント基板103
とアレイ基板49とはフレキシブル基板104で電気的
に接続される。このフレキシブル基板104を介して電
源電圧、電流、制御信号、映像データがアレイ基板49
のソースドライバ14およびゲートドライバ12に供給
される。
[1278] FIG. 10 is a block diagram of an organic EL module. A control IC 101 and a power supply IC 102 are mounted on the printed circuit board 103. Printed circuit board 103
The array substrate 49 and the array substrate 49 are electrically connected by the flexible substrate 104. The power source voltage, current, control signal, and video data are transferred to the array substrate 49 via the flexible substrate 104.
Are supplied to the source driver 14 and the gate driver 12.

【1279】この際問題となるのは、ゲートドライバ1
2の制御信号である。ゲートドライバ12には少なくと
も5(V)以上の振幅の制御信号を印加する必要があ
る。しかし、コントロールIC101の電源電圧は2.
5(V)あるいは3.3(V)であるため、コントロー
ルIC101から直接にゲートドライバ12に制御信号
を印加することができない。
[1279] In this case, the problem is that the gate driver 1
2 control signal. It is necessary to apply a control signal having an amplitude of at least 5 (V) or more to the gate driver 12. However, the power supply voltage of the control IC 101 is 2.
Since it is 5 (V) or 3.3 (V), the control signal cannot be directly applied from the control IC 101 to the gate driver 12.

【1280】この課題に対して、本発明は高い電圧で駆
動される電源IC102からゲートドライバ12の制御
信号を印加する。電源IC102はゲートドライバ12
の動作電圧も発生させるのであるから、当然ながらゲー
トドライバ12に最適な振幅の制御信号を発生させるこ
とができる。
To solve this problem, the present invention applies the control signal of the gate driver 12 from the power supply IC 102 driven by a high voltage. The power supply IC 102 is the gate driver 12
Since the operating voltage is also generated, it is naturally possible to generate a control signal having an optimum amplitude in the gate driver 12.

【1281】図11ではゲートドライバ12の制御信号
はコントロールICで発生させ、ソースドライバ14で
一旦、レベルシフトを行った後、ゲートドライバ12に
印加している。ソースドライバ14の駆動電圧は5〜8
(V)であるから、コントロールIC101から出力さ
れた3.3(V)振幅の制御信号を、ゲートドライバ1
2が受け取れる5(V)振幅に変換することができる。
[1281] In FIG. 11, the control signal of the gate driver 12 is generated by the control IC, temporarily level-shifted by the source driver 14, and then applied to the gate driver 12. The drive voltage of the source driver 14 is 5 to 8
Since it is (V), the control signal of 3.3 (V) amplitude output from the control IC 101 is supplied to the gate driver 1
It can be converted to a 5 (V) amplitude that 2 can receive.

【1282】図14、図15は本発明の表示モジュール
装置の説明図である。図14はソースドライバ14内に
内蔵RAM151を持たせた構成である。内蔵RAMは
8色表示(各色1ビット)、256色表示(RGは3ビ
ット、Bは2ビット)、4096色表示(RGBは各4
ビット)の容量を有する。この8色、256色または4
096色表示で、かつ静止画の時は、ソースドライバ1
4内に配置されたドライバコントローラはこの内蔵RA
M151の画像データを読み出す。したがって、超低消
費電力化を実現できる。もちろん、内蔵RAM151は
26万色以上の多色のRAMであってもよい。また、動
画の時も内蔵RAM151の画像データを用いてもよ
い。
[1282] FIGS. 14 and 15 are explanatory views of the display module device of the present invention. FIG. 14 shows a structure in which the source driver 14 has a built-in RAM 151. Built-in RAM displays 8 colors (1 bit for each color), 256 colors (3 bits for RG, 2 bits for B), 4096 colors (4 for RGB).
Bit) capacity. These 8 colors, 256 colors or 4
Source driver 1 for 096 color display and still image
The driver controller arranged in 4 has this built-in RA
The image data of M151 is read. Therefore, ultra low power consumption can be realized. Of course, the built-in RAM 151 may be a multicolor RAM having 260,000 colors or more. Further, the image data of the built-in RAM 151 may be used also for a moving image.

【1283】内蔵RAM151の画像データは誤差拡散
処理あるいはディザ処理を行った後のデータをメモリし
てもよい。誤差拡散処理、ディザ処理などを行うことに
より、26万色表示データを4096色などに変換する
ことができ、内蔵RAM151の容量を小さくすること
ができる。誤差拡散処理などは誤差拡散コントローラ1
41で行うことができる。また、ディザ処理を行った
後、さらに誤差拡散処理を行ってもよい。以上の事項
は、逆誤差拡散処理にも適用される。
[1283] As the image data of the built-in RAM 151, the data after the error diffusion processing or the dither processing may be stored in the memory. By performing error diffusion processing, dither processing, etc., the 260,000-color display data can be converted into 4096 colors, etc., and the capacity of the built-in RAM 151 can be reduced. Error diffusion controller 1 for error diffusion processing
It can be done at 41. Further, the error diffusion process may be further performed after the dither process is performed. The above items also apply to the inverse error diffusion processing.

【1284】なお、図14などにおいて14をソースド
ライバと記載したが、単なるドライバだけでなく、電源
回路102、バッファ回路154(シフトレジスタなど
の回路を含む)、データ変換回路、ラッチ回路、コマン
ドデコーダ、シフト回路、アドレス変換回路、内蔵RA
M151からの入力を処理してソース信号線に電圧ある
いは電流を出力するさまざまな機能あるいは回路が構成
されたものである。この事項などは、本発明の他の実施
例でも同様である。
[1284] Although 14 is described as a source driver in FIG. 14 and the like, not only a driver but also a power supply circuit 102, a buffer circuit 154 (including a circuit such as a shift register), a data conversion circuit, a latch circuit, and a command decoder. , Shift circuit, address conversion circuit, built-in RA
Various functions or circuits for processing the input from M151 and outputting the voltage or current to the source signal line are configured. The same applies to other embodiments of the present invention.

【1285】なお、図14などで説明する構成にあって
も、図26から図30、図111から図113などで説
明する3辺フリー構成あるいは構成、駆動方式などを適
用できることはいうまでもない。
[1283] Needless to say, even in the configuration described with reference to FIG. 14 or the like, the three-side free configuration or the configuration or the drive method described with reference to FIGS. 26 to 30, or 111 to 113, or the like can be applied. .

【1286】また、図203に図示するように、封止板
41を、携帯電話などの保護カバーと兼用してもよい。
保護カバーとは、表示パネルの前面を保護するために配
置された透明板である。もしくは、反射型の液晶表示パ
ネルでは、フロントライトが保護カバーとなっている。
Also, as shown in FIG. 203, the sealing plate 41 may also serve as a protective cover for a mobile phone or the like.
The protective cover is a transparent plate arranged to protect the front surface of the display panel. Alternatively, in a reflective liquid crystal display panel, the front light serves as a protective cover.

【1287】図203は有機EL素子15を湿度から保
護するための保護カバーを封止板(ふた)41とした構
成例である。封止板41に円偏光板74が取り付けられ
ている。なお、円偏光板74は、薄膜で形成してもよ
い。また、封止板41などに樹脂を塗布し、この樹脂を
延伸するとにより形成してもよい。
[1287] FIG. 203 shows a configuration example in which the sealing plate (lid) 41 is used as a protective cover for protecting the organic EL element 15 from humidity. A circularly polarizing plate 74 is attached to the sealing plate 41. The circularly polarizing plate 74 may be formed of a thin film. Alternatively, it may be formed by applying a resin to the sealing plate 41 or the like and stretching the resin.

【1288】携帯電話などの筐体に193にELのアレ
イ基板49が取り付けられている(EL表示パネルが取
り付けられている)。封止板41内にドライバIC(回
路)12(14)が配置されている(形成されてい
る)。ドライバIC(回路)12(14)も、封止板4
1で保護されている。以上のように形成(構成)するこ
とのより、保護カバーを省略することができる。したが
って、表示パネルモジュールとして、全体の厚みを薄く
することができる。
[1288] An EL array substrate 49 is attached to the casing 193 of a mobile phone (an EL display panel is attached). The driver IC (circuit) 12 (14) is arranged (formed) in the sealing plate 41. The driver IC (circuit) 12 (14) also includes the sealing plate 4
Protected by 1. By forming (configuring) as described above, the protective cover can be omitted. Therefore, the overall thickness of the display panel module can be reduced.

【1289】また、図4でも説明したように、有機EL
パネルはカソード電極(もしくはアノード電極)として
も反射膜46を形成する必要がある。この電極はアルミ
などで形成する。そのため、反射率は85%以上と良好
である。
[1289] Also, as described with reference to FIG.
In the panel, it is necessary to form the reflective film 46 also as the cathode electrode (or the anode electrode). This electrode is made of aluminum or the like. Therefore, the reflectance is as good as 85% or more.

【1290】図204は、この反射膜46をミラーとし
て使用できるように構成した携帯電話である。通常の使
用状態では図19に図示するように使用する(もしくは
図205を参照のこと)。表示パネル2046をミラー
として使用する際には、表示パネル2046を右または
左の支点(図示せず)を中心としてひっくり返し、裏面
ミラー2045を使用する。
[1290] Fig. 204 shows a mobile phone configured such that the reflection film 46 can be used as a mirror. In normal use, it is used as shown in FIG. 19 (or see FIG. 205). When the display panel 2046 is used as a mirror, the display panel 2046 is turned upside down around a right or left fulcrum (not shown), and the rear surface mirror 2045 is used.

【1291】ただし、以上の実施例は、EL表示パネル
の裏面に形成された反射膜をミラーとして使用するもの
である。したがって、ミラーとして使用する対象は、携
帯電話に限定するものではなく、テレビ、モニター、P
DAでもよい。また、表示パネルの裏面にミラーを形成
するものである。したがって、カソードに限定するもの
ではなく、別途、表示パネルの裏面にミラーを形成した
構成でもよい。たとえば、反射型の液晶表示パネルで
は、裏面を使用していない。この裏面にアルミ、あるい
は銀を蒸着しミラーを形成してもよい。この場合、アル
ミあるいは銀が腐食することを防止するため、表面にS
iO2などの無機薄膜を形成することが好ましい。ま
た、UV樹脂などでも保護してもよい。
However, in the above embodiments, the reflective film formed on the back surface of the EL display panel is used as a mirror. Therefore, the target to be used as a mirror is not limited to a mobile phone, but may be a TV, monitor, P
DA may be used. In addition, a mirror is formed on the back surface of the display panel. Therefore, the structure is not limited to the cathode, and a structure in which a mirror is separately formed on the back surface of the display panel may be used. For example, a reflective liquid crystal display panel does not use the back surface. Aluminum or silver may be vapor-deposited on the back surface to form a mirror. In this case, in order to prevent corrosion of aluminum or silver, S on the surface
It is preferable to form an inorganic thin film such as i02. It may also be protected by UV resin or the like.

【1292】なお、図204において、2041は受信
した音声を聞こえるようにするスピーカーであり、20
44は、使用者の音声を入力するためのマイクである。
[1292] In FIG. 204, reference numeral 2041 denotes a speaker that allows the received voice to be heard.
Reference numeral 44 is a microphone for inputting the voice of the user.

【1293】また、図35で説明したように、表示モー
ド切り替えスイッチ465を配置しておくことが好まし
い。また、さらに、図34などで説明した画面の明るさ
を切り替える機能を実現する切り替えスイッチを形成
(配置)することが好ましい。
[1293] Further, as described with reference to Fig. 35, it is preferable to dispose the display mode changeover switch 465. Further, it is preferable to form (arrange) a changeover switch that realizes the function of changing the screen brightness described with reference to FIG.

【1294】フレームレートはパネルモジュールの消費
電力と関係する。つまり、フレ−ムレートを高くすれば
ほぼ比例して消費電力は増大する。携帯電話などは待ち
受け時間を長くするなどの観点から消費電力の低減を図
る必要がある。一方、表示色を多くする(階調数を多く
する)ためにはソースドライバIC14などの駆動周波
数を高くしなければならない。しかし、消費電力の問題
から消費電力を増大させることは困難である。
[1294] The frame rate is related to the power consumption of the panel module. That is, if the frame rate is increased, the power consumption increases almost in proportion. It is necessary to reduce the power consumption of mobile phones and the like from the standpoint of increasing the standby time. On the other hand, in order to increase the display colors (increase the number of gradations), the driving frequency of the source driver IC 14 and the like must be increased. However, it is difficult to increase the power consumption due to the power consumption problem.

【1295】一般的に、携帯電話などの情報表示装置で
は、表示色数よりも低消費電力化が優先される。表示色
数を増加させる回路の動作周波数が高くなる、あるいは
EL素子に印加する電圧(電流)波形の変化が多くなる
など理由から、消費電力が増加する。したがって、あま
り表示色数を多くすることはできない。この課題に対し
て、本発明は画像データを誤差拡散処理あるいはディザ
処理を行って画像を表示する。
[1295] Generally, in an information display device such as a mobile phone, low power consumption is prioritized over the number of display colors. The power consumption increases because the operating frequency of the circuit that increases the number of display colors increases, or the voltage (current) waveform applied to the EL element changes more often. Therefore, the number of display colors cannot be increased so much. To solve this problem, the present invention displays the image by performing error diffusion processing or dither processing on the image data.

【1296】図19で説明した本発明の携帯電話では図
示していないが、筐体の裏側にCCDカメラを備えてい
る。CCDカメラで撮影し画像は即時に表示パネルの表
示画面21に表示できる。CCDカメラで撮影したデー
タは、表示画面21に表示することができる。CCDカ
メラの画像データは24ビット(1670万色)、18
ビット(26万色)、16ビット(6.5万色)、12
ビット(4096色)、8ビット(256色)をキー入
力265で切り替えることができる。
Although not shown in the mobile phone of the present invention described with reference to FIG. 19, a CCD camera is provided on the back side of the housing. The image taken by the CCD camera can be immediately displayed on the display screen 21 of the display panel. The data captured by the CCD camera can be displayed on the display screen 21. Image data of CCD camera is 24 bits (16.7 million colors), 18
Bit (260,000 colors), 16 bits (650,000 colors), 12
Bits (4096 colors) and 8 bits (256 colors) can be switched by key input 265.

【1297】表示データが12ビット以上の時は、誤差
拡散処理を行って表示する。つまり、CCDカメラから
の画像データが内蔵メモリの容量以上の時は、誤差拡散
処理などを実施し、表示色数を内蔵メモリ151の容量
以下となるように画像処理を行う。
[1297] When the display data is 12 bits or more, the error diffusion processing is performed for display. That is, when the image data from the CCD camera exceeds the capacity of the built-in memory, error diffusion processing or the like is performed, and the image processing is performed so that the number of display colors becomes equal to or less than the capacity of the built-in memory 151.

【1298】今、ソースドライバIC14には4096
色(RGB各4ビット)で1画面の内蔵RAM151を
具備しているとして説明する。モジュール外部から送ら
れてくる画像データが4096色の場合は、直接ソース
ドライバIC14の内蔵RAM151に格納され、この
内蔵RAM151から画像データを読み出し、表示画面
21に画像を表示する。
[1298] Now, the source driver IC 14 has 4096
Description will be made assuming that a built-in RAM 151 for one screen is provided for each color (4 bits for each RGB). When the image data sent from outside the module is 4096 colors, it is directly stored in the built-in RAM 151 of the source driver IC 14, the image data is read from this built-in RAM 151, and the image is displayed on the display screen 21.

【1299】画像データが26万色(G:6ビット、
R,B:5ビットの計16ビット)の場合は、図14お
よび図15に示すように誤差拡散コントローラ141の
演算メモリ152に一旦格納され、かつ同時に誤差拡散
あるいはディザ処理を行う演算回路153で誤差拡散あ
るいはディザ処理が行われる。この誤差拡散処理などに
より16ビットの画像データは内蔵RAM151のビッ
ト数である12ビットに変換されてソースドライバIC
14に転送される。ソースドライバIC14はRGB各
4ビット(4096色)の画像データを出力し、表示画
面21に画像を表示する。
[1299] Image data has 260,000 colors (G: 6 bits,
In the case of R and B: 5 bits in total (16 bits), as shown in FIGS. 14 and 15, the arithmetic circuit 153 is temporarily stored in the arithmetic memory 152 of the error diffusion controller 141 and simultaneously performs the error diffusion or dither processing. Error diffusion or dither processing is performed. By this error diffusion processing or the like, 16-bit image data is converted into 12-bit which is the number of bits of the built-in RAM 151 and the source driver IC
14 is transferred. The source driver IC 14 outputs image data of RGB each of 4 bits (4096 colors) and displays the image on the display screen 21.

【1300】また、図15の構成などにおいて、垂直同
期信号VDを用いて(垂直同期信号VDで処理方法を変
化させて)、フィールドあるいはフレームごとに誤差拡
散処理あるいはディザ処理方法を変化させてもよい。た
とえば、ディザ処理では、第1フレームでBayer型
を用い、次の第2フレームではハーフトーン型を用いる
などである。このようにフレームごとにディザ処理を変
化させ、切り替えるようにすることにより誤差拡散処理
などに伴うドットむらが目立ちにくくなるという効果が
発揮される。
[1300] Also, in the configuration of FIG. 15 or the like, even if the error diffusion processing or the dither processing method is changed for each field or frame by using the vertical synchronization signal VD (the processing method is changed by the vertical synchronization signal VD). Good. For example, in the dither processing, the Bayer type is used in the first frame, and the halftone type is used in the next second frame. By changing and switching the dither processing for each frame in this manner, it is possible to achieve the effect that the dot unevenness caused by the error diffusion processing is less noticeable.

【1301】また、第1フレームと第2フレームで誤差
拡散処理などの処理係数を変化させてもよい。また、第
1フレームで誤差拡散処理をし、第2フレームでディザ
処理をし、さらに第3フレームで誤差拡散処理をするな
ど処理とを組み合わせても良い。また、乱数発生回路を
具備し、乱数の値でフレームごとに処理を実施する処理
方法を選択してもよい。
[1301] In addition, the processing coefficient such as the error diffusion processing may be changed between the first frame and the second frame. Alternatively, the error diffusion process may be performed in the first frame, the dither process may be performed in the second frame, and the error diffusion process may be performed in the third frame. In addition, a processing method that includes a random number generation circuit and performs processing for each frame with a random number value may be selected.

【1302】フレームレートなどの情報を伝送されるフ
ォーマットに記載するようにしておけば、この記載され
たデータをデコードあるいは検出することにより、自動
でフレームレートなどを変更できるようになる。特に、
伝送されてくる画像が動画か静止画かを記載しておくこ
とが好ましい。また、動画場合は、動画の1秒あたりの
コマ数を記載しておくことが好ましい。また、伝送パケ
ットに携帯電話の機種番号を記載しておいたりしておく
ことが好ましい。なお、本明細書では伝送パケットとし
て説明するがパケットである必要なない。つまり、送信
あるいは発信するデータ中に図18などで説明する情報
(表示色数、フレームレートなど)が記載されたもので
あればいずれでもよい。
[1302] If the information such as the frame rate is described in the transmitted format, the frame rate or the like can be automatically changed by decoding or detecting the described data. In particular,
It is preferable to describe whether the transmitted image is a moving image or a still image. Further, in the case of a moving image, it is preferable to describe the number of frames per second of the moving image. In addition, it is preferable to describe the model number of the mobile phone in the transmission packet. It should be noted that in the present specification, the packet is described as a transmission packet, but it need not be a packet. That is, any data may be used as long as the information (display color number, frame rate, etc.) described in FIG.

【1303】図17は本発明の携帯電話などに送られて
くる伝送フォーマットである。伝送とは受信するデータ
と、送信するデータの双方を含む。つまり、携帯電話は
受話器からの音声あるいは携帯電話に付属のCCDカメ
ラで撮影した画像を他の携帯電話などに送信する場合も
あるからである。したがって、図18などで説明する伝
送フォーマットなどに関連する事項は送信、受信の双方
に適用される。
[1303] FIG. 17 shows a transmission format sent to the mobile phone or the like of the present invention. Transmission includes both received data and transmitted data. That is, the mobile phone may transmit voice from the handset or an image captured by the CCD camera attached to the mobile phone to another mobile phone or the like. Therefore, matters related to the transmission format and the like described in FIG. 18 and the like are applied to both transmission and reception.

【1304】本発明の携帯電話などではデータはデジタ
ル化されてパケット形式で伝送される。図16および図
17で記載しているように、フレームの中は、フラグ部
(F)、アドレス部(A)、コントロール部(C)、情
報部(I)、フレームチェックシーケンス(FCS)及
びフラグ部(F)からなる。コントロール部(C)のフ
ォーマットは図 のように情報転送(Iフレーム)、関
し(Sフレーム)、及び非番号制(Uフレーム)の3つ
の形式をとる。
[1304] In the mobile phone or the like of the present invention, data is digitized and transmitted in a packet format. As described in FIG. 16 and FIG. 17, the flag portion (F), the address portion (A), the control portion (C), the information portion (I), the frame check sequence (FCS), and the flag are included in the frame. Part (F). As shown in the figure, the control section (C) has three formats: information transfer (I frame), relation (S frame), and unnumbered system (U frame).

【1305】まず、情報転送形式は情報(データ)を転
送する時に使用するコントロールフィールドの形式で、
非番号性形式の一部を除けば、情報転送形式がデータフ
ィールドを有する唯一の形式である。この形式によるフ
レームを情報フレーム(Iフレーム)という。
[1305] First, the information transfer format is the format of the control field used when transferring information (data).
Except for some of the non-numbered formats, the information transfer format is the only format that has a data field. A frame in this format is called an information frame (I frame).

【1306】また、監視形式は、データリンクの監視制
御機能、すなわち情報フレームの受信確認、情報フレー
ムの再送要求などを行うために使用する形式である。こ
の形式によるフレームを、監視フレーム(Sフレーム)
という。
[1306] The monitoring format is a format used for a data link monitoring control function, that is, for confirming reception of an information frame and requesting retransmission of an information frame. A frame in this format is a monitoring frame (S frame)
Say.

【1307】次に非番号制形式は、その他のデータリン
グ制御機能を遂行するために使用するコントロールフィ
ールドの形式で、この形式によるフレームを非番号制フ
レーム(Uフレーム)という。
[1307] Next, the unnumbered format is a format of a control field used to perform other data ring control functions, and a frame in this format is called an unnumbered frame (U frame).

【1308】端末及び網は送受信する情報フレームを送
信シーケンス番号(S)と受信シーケンスN(R)で管
理する。N(S)、N(R)とも3ビットで構成され、
0〜7までの8個を循環番号として使い、7の次は0と
なるモジュラス構成をとっている。したがって、この場
合のモジュラスは8であり、応答フレームを受信せず
に、連続送信できるフレーム数は7である。
[1308] The terminal and the network manage the information frame to be transmitted / received by the transmission sequence number (S) and the reception sequence N (R). Both N (S) and N (R) are composed of 3 bits,
Eight numbers from 0 to 7 are used as the circulation numbers, and the modulus configuration is such that 0 follows 7. Therefore, the modulus in this case is 8, and the number of frames that can be continuously transmitted without receiving a response frame is 7.

【1309】データ領域には色数データを示す8ビット
のデータとフレームレートを示す8ビットのデータが記
載される。これらの例を図18(a)(b)に示す。ま
た、表示色の色数には静止画と動画の区別を記載してお
くことが好ましい。また、携帯電話の機種名、送受信す
る画像データの内容(人物などの自然画、メニュー画
面)などを図17のパケットに記載しておくことが望ま
しい。データを受け取った機種はデータをデコードし、
自身(該当機種番号)のデータであるとき、記載された
内容によって、表示色、フレームレートなど自動的に変
更する。また、記載された内容を表示装置の表示領域2
1に表示するように構成してもよい。ユーザーは画面2
1の記載内容(表示色、推奨フレームレート)を見て、
キーなどを操作し、最適な表示状態にマニュアルで変更
する。
[1309] In the data area, 8-bit data indicating the color number data and 8-bit data indicating the frame rate are described. Examples of these are shown in FIGS. Further, it is preferable to describe the distinction between a still image and a moving image in the number of display colors. Further, it is desirable to describe the model name of the mobile phone, the contents of the image data to be transmitted / received (natural image of a person, a menu screen), etc. in the packet of FIG. The model that received the data decodes the data,
When the data is its own (corresponding model number), the display color, frame rate, etc. are automatically changed according to the described contents. In addition, the described contents are displayed in the display area 2 of the display device.
1 may be displayed. User has screen 2
Looking at the description contents (display color, recommended frame rate) of 1,
Operate the keys etc. to manually change to the optimum display state.

【1310】なお、一例として、図18(b)では数値
の3はフレームレート80Hzと一例をあげて記載して
いるがこれに限定するものではなく、40−60Hzな
どの一定範囲を示すものであってもよい。また、データ
領域に携帯電話の機種などを記載しておいてもよい。機
種により性能などが異なり、フレームレートを変化させ
る必要も発生するからである。また、画像が漫画である
とか、宣伝(CM)であるとかの情報を記載しておくこ
とも好ましい。また、パケットに視聴料金などの情報を
記載する。パケット長などの情報を記載しておいてもよ
い。ユーザーは視聴料金の確認して情報を受信するか否
かを判断する。また、画像データが誤差拡散処理をされ
ているか否かのデータも記載しておくことが好ましい。
[1310] As an example, in FIG. 18B, the numerical value 3 is described as an example of a frame rate of 80 Hz, but the present invention is not limited to this and indicates a certain range such as 40-60 Hz. It may be. Also, the model of the mobile phone may be described in the data area. This is because the performance etc. varies depending on the model and it is necessary to change the frame rate. It is also preferable to describe information such as whether the image is a cartoon or an advertisement (CM). Also, information such as the viewing fee is written in the packet. Information such as the packet length may be described. The user confirms the viewing fee and determines whether to receive the information. It is also preferable to describe data indicating whether the image data has been subjected to error diffusion processing.

【1311】また、画像処理方法(誤差拡散処理、ディ
ザ処理などの種別、重み付け関数の種類とそのデータ、
ガンマの係数など)、機種番号などの情報を伝送される
フォーマットに記載するようにしておけばよい。また、
画像データがCCDで撮影されたデータとか、JPEG
データか、またその解像度、MPEGデータか、BIT
MAPデータかなどの情報を記載しておく。この記載さ
れたデータをデコードあるいは検出することにより、自
動で受信した携帯電話などで最適な状態に変更できるい
ようになる。
[1311] Also, an image processing method (types such as error diffusion processing and dither processing, types of weighting functions and their data,
Information such as the gamma coefficient) and model number may be described in the transmitted format. Also,
Image data such as data taken by CCD, JPEG
Data, its resolution, MPEG data, BIT
Enter information such as MAP data. By decoding or detecting the described data, it becomes possible to automatically change to the optimum state by a mobile phone or the like.

【1312】もちろん、伝送されてくる画像が動画か静
止画かを記載しておくことが好ましい。また、動画の場
合は、動画の1秒あたりのコマ数を記載しておくことが
好ましい。また、受信端末で推奨する再生コマ数/秒な
どの情報も記載しておくことが好ましい。
[1312] Of course, it is preferable to describe whether the transmitted image is a moving image or a still image. Further, in the case of a moving image, it is preferable to describe the number of frames per second of the moving image. It is also preferable to describe information such as the number of playback frames / second recommended by the receiving terminal.

【1313】以上の事項は、伝送パケットが送信の場合
でも同様である。また、本明細書では伝送パケットとし
て説明するがパケットである必要なない。つまり、送信
あるいは発信するデータ中に図18などで説明する情報
が記載されたものであればいずれでもよい。
The above items are the same when the transmission packet is a transmission. Further, although it is described as a transmission packet in the present specification, it need not be a packet. That is, any data may be used as long as the information described with reference to FIG.

【1314】誤差拡散処理コントローラ141は、誤差
処理されて送られてきたデータを、逆誤差拡散処理を行
い、元データにもどしてから再度、誤差拡散処理を行う
機能を付加することが好ましい。誤差拡散処理の有無は
図17のパケットデータに載せておく。また、誤差拡散
(ディザなどの方式も含む)の処理方法、形式など逆誤
差拡散処理に必要なデータも載せておく。
The error diffusion processing controller 141 preferably adds a function of performing error diffusion processing on the data that has been error-processed and sent, returning the data to the original data, and then performing error diffusion processing again. Whether or not the error diffusion process is performed is included in the packet data of FIG. In addition, the data necessary for the inverse error diffusion process such as the error diffusion (including dither etc.) processing method and format are also listed.

【1315】逆誤差拡散処理を実施するのは、誤差拡散
処理はその処理の過程において、ガンマカーブの補正も
実現できるからである。データを受けたEL表示装置な
どのガンマカーブと、送られてきたガンマカーブとが適
応しない場合がある。また、送信親されてきたデータは
誤差拡散などの処理がすでに実施された画像データであ
る場合がある。
The inverse error diffusion process is performed because the error diffusion process can also correct the gamma curve in the process of the process. In some cases, the gamma curve of the EL display device or the like that has received the data and the sent gamma curve do not match. In addition, the transmitted data may be image data that has already undergone processing such as error diffusion.

【1316】この事態に対応するために、逆誤差拡散処
理を実施し、元データに変換してガンマカーブ補正の影
響がないようにする。その後、受信したEL表示装置な
どで誤差拡散処理を行い、受信表示パネルに最適なガン
マカーブになり、かつ最適な誤差拡散処理となるように
誤差拡散処理などを実施する。
[1316] In order to deal with this situation, inverse error diffusion processing is performed to convert the original data to eliminate the influence of gamma curve correction. After that, the received EL display device or the like performs the error diffusion process, and the error diffusion process or the like is performed so as to obtain the optimum gamma curve for the reception display panel and the optimum error diffusion process.

【1317】また、表示色により、フレームレートを切
り替えたい場合は、携帯電話などの装置にユーザボタン
と配置し、ボタンなどを用いて表示色などを切り替えら
れるようにすればよい。
If it is desired to switch the frame rate according to the display color, it may be arranged with a user button on a device such as a mobile phone, and the display color or the like can be switched using the button or the like.

【1318】図19は情報端末装置の1例としての携帯
電話の平面図である。筐体193にアンテナ191、テ
ンキー192などが取り付けられている。194などが
表示色切換キーあるいは電源オンオフ、フレームレート
切り替えキーである。
FIG. 19 is a plan view of a mobile phone as an example of the information terminal device. An antenna 191, a numeric keypad 192, and the like are attached to the housing 193. Reference numeral 194 is a display color switching key or a power on / off and frame rate switching key.

【1319】携帯電話などの内部回路ブロックを図20
に示す。回路は主としてアップコンバータ205とダウ
ンコンバータ204のブロック、デェプレクサ201の
ブロックLOバッファ203などのブロックから構成さ
れる。
[1319] FIG. 20 shows an internal circuit block of a mobile phone or the like.
Shown in. The circuit is mainly composed of blocks such as an up converter 205 and a down converter 204, and a block LO buffer 203 of the duplexer 201.

【1320】キー194を1度押さえると表示色は8色
モードに、つづいて同一キー194を押さえると表示色
は256色モード、さらにキー194を押さえると表示
色は4096色モードとなるようにシーケンスを組んで
もよい。キーは押さえるごとに表示色モードが変化する
トグルスイッチとする。なお、別途表示色に対する変更
キーを設けてもよい。この場合、キー194は3つ(以
上)となる。
[1320] When the key 194 is pressed once, the display color is changed to the 8-color mode, when the same key 194 is pressed, the display color is changed to the 256-color mode, and when the key 194 is pressed, the display color is changed to the 4096-color mode. May be assembled. The key is a toggle switch whose display color mode changes each time it is pressed. A change key for the display color may be separately provided. In this case, there are three (or more) keys 194.

【1321】キー194はプッシュスイッチの他、スラ
イドスイッチなどの他のメカニカルなスイッチでもよ
く、また、音声認識などにより切換るものでもよい。た
とえば、4096色を受話器に音声入力すること、たと
えば、「高品位表示」、「256色モード」あるいは
「低表示色モード」と受話器に音声入力することにより
表示パネルの表示画面21に表示される表示色が変化す
るように構成する。これは現行の音声認識技術を採用す
ることにより容易に実現することができる。
The key 194 may be a push switch, another mechanical switch such as a slide switch, or may be switched by voice recognition or the like. For example, by voice inputting 4096 colors to the handset, for example, "high quality display", "256 color mode" or "low display color mode" is input to the handset and displayed on the display screen 21 of the display panel. It is configured so that the display color changes. This can be easily realized by adopting the existing voice recognition technology.

【1322】また、表示色の切り替えは電気的に切換る
スイッチでもよく、表示パネルの表示部21に表示させ
たメニューを触れることにより選択するタッチパネルで
も良い。また、スイッチを押さえる回数で切換る、ある
いはクリックボールのように回転あるいは方向により切
換るように構成してもよい。
[1322] The display color may be switched by an electrically switching switch or a touch panel for selecting by touching a menu displayed on the display unit 21 of the display panel. Alternatively, the switch may be switched depending on the number of times the switch is pressed, or may be switched by rotation or direction like a click ball.

【1323】194は表示色切換キーとしたが、フレー
ムレートを切換るキーなどとしてもよい。また、動画と
静止画とを切換るキーなどとしてもよい。また、動画と
静止画とフレームレートなどの複数の要件を同時に切り
替えてもよい。また、押さえ続けると徐々に(連続的
に)フレームレートが変化するように構成してもよい。
この場合は発振器を構成するコンデンサC、抵抗Rのう
ち、抵抗Rを可変抵抗にしたり、電子ボリウムにしたり
することにより実現できる。また、コンデンサはトリマ
コンデンサとすることにより実現できる。また、半導体
チップに複数のコンデンサを形成しておき、1つ以上の
コンデンサを選択し、これらを回路的に並列に接続する
ことにより実現してもよい。
[1323] Although 194 is a display color switching key, it may be a key for switching the frame rate or the like. Also, it may be a key for switching between a moving image and a still image. Also, a plurality of requirements such as a moving image, a still image, and a frame rate may be switched at the same time. Alternatively, the frame rate may be gradually (continuously) changed when the button is held down.
In this case, it can be realized by changing the resistance R of the capacitor C and the resistance R constituting the oscillator to a variable resistance or an electronic volume. The capacitor can be realized by using a trimmer capacitor. Alternatively, it may be realized by forming a plurality of capacitors on a semiconductor chip, selecting one or more capacitors, and connecting them in parallel in a circuit.

【1324】なお、表示色などによりフレームレートを
切換るという技術的思想は携帯電話に限定されるもので
はなく、パームトップコンピュータや、ノートパソコ
ン、ディスクトップパソコン、携帯時計など表示画面を
有する機器に広く適用することができる。また、液晶表
示装置(液晶表示パネル)に限定されるものではなく、
液晶表示パネル、有機EL表示パネルや、TFTパネ
ル、PLZTパネルや、CRTにも適用することができ
る。
[1324] Note that the technical idea of switching the frame rate according to the display color is not limited to the mobile phone, and is applicable to devices having a display screen such as a palmtop computer, a notebook computer, a desktop computer, and a mobile clock. It can be widely applied. Further, it is not limited to the liquid crystal display device (liquid crystal display panel),
It can also be applied to a liquid crystal display panel, an organic EL display panel, a TFT panel, a PLZT panel, and a CRT.

【1325】図204において、2043はファンクシ
ョンスイッチ(FSW)である。FSW2043は、小
指、薬指で押さえられる位置に配置されている。また、
FSW2043a、2043bは左右に配置されてい
る。これは、右手の小指、薬指で押さえられこと、左手
の小指、薬指で押さえられことを実現できるように構成
したためである。なお、ESWは筐体193の裏面に配
置してもよい。
[1325] In FIG. 204, 2043 is a function switch (FSW). The FSW 2043 is arranged at a position where it can be held by the little finger and the ring finger. Also,
The FSWs 2043a and 2043b are arranged on the left and right. This is because it is configured to be held by the little finger and ring finger of the right hand, and held by the little finger and ring finger of the left hand. The ESW may be arranged on the back surface of the housing 193.

【1326】右手用のFSW2043を有効にするか、
左手のFSW2043を有効にするかは、コマンド設定
でユーザーが切り返れるようにしている。つまり、ユー
ザーがメニュー画面で右側用を有効にする設定すると、
右手用のFSW2043が有効になり、左手のFSW2
043は無効になる。逆に、ユーザーがメニュー画面で
左側用を有効にする設定すると、左手用のFSW204
3が有効になり、右手のFSW2043は無効になる。
[1326] Whether to enable FSW2043 for the right hand,
Whether to enable the FSW 2043 on the left is set by the command so that the user can switch back. In other words, if the user sets to enable the right side on the menu screen,
FSW2043 for the right hand is enabled, FSW2 for the left hand
043 is invalid. On the contrary, if the user sets to enable the left side on the menu screen, the left hand FSW204
3 becomes valid, and the FSW 2043 on the right becomes invalid.

【1327】図206(a)に図示するように、FSW
2043が押されてない時は、キー192は数字入力キ
ーとなる。
As shown in FIG. 206 (a), the FSW
When 2043 is not pressed, the key 192 is a numeral input key.

【1328】図206(b)のようにFSW2043a
が押されると、ひらがな入力モードとなる。この時は、
「あ、か、さ、た、な…・」の一番上の文字が指定され
る。この状態でまず、「あ」を選択する。次に、FSW
2043bも押さえると、先に押さえられた文字列を含
む5つの文字の入力状態となる。この状態で特定のキー
を押さえると文字が入力される。したがって、FSW2
043とキー192とを組み合わせることにより、容易
に日本語入力を実現できる。また、図206(d)に図
示するように、FSW2043bのみを押さえると、英
文字入力モードとなる。
As shown in FIG. 206 (b), FSW2043a
When is pressed, the hiragana input mode is entered. At this time,
The top character of "a, ka, sa, ta, na ..." is designated. In this state, first select "A". Next, FSW
When 2043b is also pressed, five characters including the previously pressed character string are input. When a specific key is pressed in this state, characters are input. Therefore, FSW2
By combining 043 and the key 192, Japanese input can be easily realized. Further, as shown in FIG. 206 (d), if only the FSW 2043b is pressed, the English character input mode is set.

【1329】以上のように、キー192の他に、FSW
2043を配置することにより、容易に多種多様な文字
入力が可能になる。
[1329] As described above, in addition to the key 192, the FSW
By arranging 2043, a wide variety of characters can be easily input.

【1330】さらに、本発明のEL表示パネルあるいは
EL表示装置もしくは駆動方法を採用した実施の形態に
ついて、図面を参照しながら説明する。
Further, an embodiment adopting the EL display panel or the EL display device or the driving method of the present invention will be described with reference to the drawings.

【1331】45は本発明の実施の形態におけるビュー
ファインダの断面図である。但し、説明を容易にするた
め模式的に描いている。また一部拡大あるいは縮小した
箇所が存在し、また、省略した箇所もある。たとえば、
図45において、接眼カバーを省略している。以上のこ
とは他の図面においても該当する。
Reference numeral 45 is a cross-sectional view of the viewfinder in the embodiment of the present invention. However, it is schematically drawn for ease of explanation. In addition, there are some areas that are enlarged or reduced, and some areas are omitted. For example,
In FIG. 45, the eyepiece cover is omitted. The above also applies to other drawings.

【1332】ボデー451の裏面は暗色あるいは黒色に
されている。これは、EL表示パネル(表示装置)82
から出射した迷光がボデー451の内面で乱反射し表示
コントラストの低下を防止するためである。また、表示
パネルの光出射側には位相版(λ/4板など)、偏光板
51などが配置されている。このことは図4でも説明し
ている。
[1332] The back surface of the body 451 is dark or black. This is an EL display panel (display device) 82.
This is to prevent the stray light emitted from the diffuse reflection on the inner surface of the body 451 from lowering the display contrast. Further, a phase plate (λ / 4 plate or the like), a polarizing plate 51, etc. are arranged on the light emitting side of the display panel. This is also explained in FIG.

【1333】接眼リング452には拡大レンズ453が
取り付けられている。観察者は接眼リング452をボデ
ー451内での挿入位置を可変して、表示パネルの表示
画像にピントがあうようい調整する。
A magnifying lens 453 is attached to the eyepiece ring 452. The observer changes the insertion position of the eyepiece ring 452 in the body 451, and adjusts so that the display image on the display panel is in focus.

【1334】また、必要に応じて表示パネルの光出射側
に正レンズ454を配置すれば、拡大レンズ453に入
射する主光線を収束させることができる。そのため、拡
大レンズ453のレンズ径を小さくすることができ、ビ
ューファインダを小型化することができる。
If a positive lens 454 is arranged on the light emitting side of the display panel as necessary, the principal ray incident on the magnifying lens 453 can be converged. Therefore, the lens diameter of the magnifying lens 453 can be reduced, and the viewfinder can be downsized.

【1335】図46はビデオカメラの斜視図である。ビ
デオカメラは撮影(撮像)レンズ部461とビデオかメ
ラ本体462と具備し、撮影レンズ部461とビューフ
ァインダ部466とは背中合わせとなっている。また、
ビューファインダ(図45も参照)466には接眼カバ
ー464が取り付けられている。観察者(ユーザー)は
この接眼カバー464部から表示パネルの画像を観察す
る。
[1335] FIG. 46 is a perspective view of a video camera. The video camera includes a photographing (imaging) lens unit 461 and a video or camera body 462, and the photographing lens unit 461 and the viewfinder unit 466 are back to back. Also,
An eyepiece cover 464 is attached to the viewfinder (see also FIG. 45) 466. An observer (user) observes the image on the display panel through the eyepiece cover 464.

【1336】一方、本発明のEL表示パネルは表示モニ
ター21としても使用されている。表示部21は支点4
68で角度を自由に調整できる。表示部21を使用しな
い時は、格納部463に格納される。
On the other hand, the EL display panel of the present invention is also used as the display monitor 21. Display 21 has fulcrum 4
The angle can be freely adjusted with 68. When the display unit 21 is not used, it is stored in the storage unit 463.

【1337】図46において、465は表示モード切り
替えスイッチである。スイッチ465を押さえると図3
5の回路が動作し、図35で説明した事項が実施され
る。
In FIG. 46, reference numeral 465 is a display mode changeover switch. When the switch 465 is pressed, FIG.
The circuit of No. 5 operates, and the matters described in FIG. 35 are carried out.

【1338】本実施の形態のEL表示装置ははビデオカ
メラだけでなく、図47に示すような電子カメラにも適
用することができる。表示装置落ち82はカメラ本体4
72に付属されたモニターとして用いる。カメラ本体4
72にはシャッタ471の他、スイッチ465が取り付
けられている。
The EL display device of this embodiment can be applied not only to a video camera but also to an electronic camera as shown in FIG. The display device drop 82 is the camera body 4
Used as a monitor attached to the 72. Camera body 4
In addition to the shutter 471, a switch 465 is attached to 72.

【1339】また、タッチパネルを搭載し、指やペンで
WebブラウジングやEメールなどを操作できるインタ
ーネット端末機能を有している。また、ハードディスク
装置の代わりに256Mバイト以上のコンパクト・フラ
ッシュ・カード(誤り訂正機能付き)を搭載することが
好ましい。ウィンドウズ(登録商標)OSの基本機能部
分だけを採用することで低容量化が図る。HDDがない
ため、ディスク・クラッシュなどの心配がなく堅牢性を
確保できる。PCカード・スロットを2つ装備させる。
モデムや、ISDN、PIAFS、LAN、無線LAN
などを利用できるように構成することが好ましい。無線
LAN用のアンテナ内蔵させる。USB/RS232Cインターフ
ェースにより、バーコード・リーダなどの業務用周辺機
器も接続できるようにしている。キーボードがない省ス
ペース設計に加え,水濡れやホコリに耐える(JIS防滴2
級に準拠)ように構成する。タッチパネルや、アプリケ
ーションを簡単に起動できる「ワンタッチ・キー」の採
用,手書きE-mail機能(手書きメモ機能を含む)の搭載
など、BtoBtoCでの一般ユーザーの利用を想定して操作
性の向上を図っている。以上の機能などは本発明の他の
表示装置、情報端末なども搭載する。
[1339] Further, it is equipped with a touch panel and has an Internet terminal function capable of operating Web browsing, E-mail and the like with a finger or a pen. Further, it is preferable to mount a compact flash card (with error correction function) of 256 Mbytes or more instead of the hard disk device. The capacity can be reduced by adopting only the basic function part of the Windows (registered trademark) OS. Since there is no HDD, you can secure robustness without worrying about disk crashes. Equipped with two PC card slots.
Modem, ISDN, PIAFS, LAN, wireless LAN
It is preferable to configure so that the above can be used. Built-in antenna for wireless LAN. With the USB / RS232C interface, it is also possible to connect peripheral devices for business use such as bar code readers. In addition to a space-saving design without a keyboard, it can withstand water and dust (JIS drip 2
Conform to the grade). Aiming to improve operability assuming BtoBtoC general user usage, such as adoption of a touch panel, "one-touch key" that can easily start applications, and handwritten E-mail function (including handwritten memo function). ing. The above functions and the like are also mounted on another display device, information terminal, and the like of the present invention.

【1340】表示モード切り替えスイッチ465は、携
帯電話などにも取り付けることが好ましい。また、携帯
電話などでは、以前に説明した表示モード切り替えスイ
ッチの機能表示輝度を切り替える機能をも付加すること
が好ましい。以下、この表示輝度をデジタル的に変化さ
せる方法について説明する。
[1340] The display mode changeover switch 465 is preferably attached to a mobile phone or the like. In addition, it is preferable to add a function for switching the function display brightness of the display mode changeover switch described above in a mobile phone or the like. Hereinafter, a method of digitally changing the display brightness will be described.

【1341】図138などで説明したが、本発明の駆動
方法の1つにN倍の電流をEL素子15に流し、1Fの
1/Mの期間だけ点灯させる方法がある。この点灯させ
る1/MのMの値だけをきりかえることのより、明るさ
をデジタル的に変更することができる。たとえば、N=
4として、EL素子15には4倍の電流を流す。点灯期
間を1/Mとし、M=1、2、3、4と切り替えれば、
1倍から4倍までの明るさ切り替えが可能となる。な
お、M=1、1.5、2、3、4、5、6などと変更で
きるように構成してもよい。
As described with reference to FIG. 138, etc., one of the driving methods of the present invention is a method in which an N times larger current is passed through the EL element 15 and the EL element 15 is lit only for a period of 1 / M. The brightness can be digitally changed by changing only the M value of 1 / M to be turned on. For example, N =
4, a four times larger current is passed through the EL element 15. If the lighting period is set to 1 / M and M = 1, 2, 3, 4 is switched,
It is possible to switch the brightness from 1 to 4 times. In addition, you may comprise so that M = 1, 1.5, 2, 3, 4, 5, 6, etc. can be changed.

【1342】以上の切り替え動作は、携帯電話の電源を
オンしたときに、表示画面21を非常に明るく表示し、
一定の時間を経過した後は、電力セーブするために、表
示輝度を低下させる構成に用いる。また、ユーザーが希
望する明るさに設定する機能としても用いることができ
る。たとえば、屋外などでは、画面を非常に明るくす
る。屋外では周辺が明るく、画面が全く見えなくなるか
らである。しかし、高い輝度で表示し続けるとEL素子
15は急激に劣化する。そのため、非常に明るくする場
合は、短時間で通常の輝度に復帰させるように構成して
おく。さらに、高輝度で表示させる場合は、ユーザーが
ボタンと押すことにより表示輝度を高くできるようの構
成しておく。
[1342] The above switching operation displays the display screen 21 very brightly when the power of the mobile phone is turned on,
It is used in a configuration in which the display brightness is lowered in order to save power after a certain time has elapsed. It can also be used as a function of setting the brightness desired by the user. For example, when outdoors, the screen is made very bright. This is because when you are outdoors, the surrounding area is bright and you cannot see the screen at all. However, if the display is continued at high brightness, the EL element 15 deteriorates rapidly. Therefore, when it is made extremely bright, it is configured to restore the normal brightness in a short time. Furthermore, when displaying with high brightness, the user can press the button to increase the display brightness.

【1343】したがって、ユーザーがボタンで切り替え
できるようにしておくか、設定モードで自動的に変更で
きるか、外光の明るさを検出して自動的に切り替えでき
るように構成しておくことが好ましい。また、表示輝度
を50%、60%、80%とユーザーなどが設定できる
ように構成しておくことが好ましい。
[1343] Therefore, it is preferable that the user can switch the button, automatically change the setting mode, or detect the brightness of external light and automatically switch the setting. . In addition, it is preferable that the display brightness can be set to 50%, 60%, and 80% by the user or the like.

【1344】また、表示画面はガウス分布表示にするこ
とが好ましい。ガウス分布表示とは、中央部の輝度が明
るく、周辺部を比較的暗くする方式である。視覚的に
は、中央部が明るければ周辺部が暗くとも明るいと感じ
られる。主観評価によれば、周辺部が中央部に比較して
70%の輝度を保っておれば、視覚的に遜色ない。さら
に低減させて、50%輝度としてもほぼ、問題がない。
本発明の自己発光型表示パネルでは、以前に説明したN
倍パルス駆動(N倍の電流をEL素子15に流し、1F
の1/Mの期間だけ点灯させる方法)を用いて画面の上
から下方向に、ガウス分布を発生させている。
[1344] Further, it is preferable that the display screen is a Gaussian distribution display. The Gaussian distribution display is a method in which the brightness of the central part is bright and the peripheral part is relatively dark. Visually, if the central part is bright, it is perceived as bright even if the peripheral part is dark. According to the subjective evaluation, if the peripheral part maintains a luminance of 70% as compared with the central part, it is visually comparable. There is almost no problem even if the luminance is further reduced to 50%.
In the self-emission type display panel of the present invention, the N
Double pulse drive (N times current is passed through EL element 15 and 1F
A Gaussian distribution is generated from the top to the bottom of the screen by using a method of lighting only for 1 / M period).

【1345】具体的には、画面の上部と下部ではMの値
と大きくし、中央部でMの値を小さくする。これは、ゲ
ートドライバ12のシフトレジスタの動作速度を変調す
ることなどにより実現する。画面の左右の明るさ変調
は、テーブルのデータと映像データとを乗算することに
より発生させている。以上の動作により、周辺輝度(画
角0.9)を50%にした時、100%輝度の場合に比
較して約20%の低消費電力化が可能である。周辺輝度
(画角0.9)を70%にした時、100%輝度の場合
に比較して約15%の低消費電力化が可能である。
[1345] Specifically, the value of M is increased in the upper and lower parts of the screen, and the value of M is decreased in the central part. This is realized by modulating the operation speed of the shift register of the gate driver 12. The brightness modulation on the left and right of the screen is generated by multiplying the table data and the video data. By the above operation, when the peripheral brightness (angle of view 0.9) is set to 50%, it is possible to reduce the power consumption by about 20% as compared with the case of 100% brightness. When the peripheral brightness (angle of view 0.9) is 70%, it is possible to reduce the power consumption by about 15% as compared with the case of 100% brightness.

【1346】なお、ガウス分布表示はオンオフできるよ
うに切り替えスイッチなどを設けることが好ましい。た
とえば、屋外などで、ガウス表示させると画面周辺部が
全く見えなくなるからである。したがって、ユーザーが
ボタンで切り替えできるようにしておくか、設定モード
で自動的に変更できるか、外光の明るさを検出して自動
的に切り替えできるように構成しておくことが好まし
い。また、周辺輝度を50%、60%、80%とユーザ
ーなどが設定できるように構成しておくことがこのまし
い。
[1346] It is preferable to provide a changeover switch or the like so that the Gaussian distribution display can be turned on and off. This is because, for example, when a Gaussian display is made outdoors, the periphery of the screen becomes completely invisible. Therefore, it is preferable that the user can switch with a button, can be automatically changed in the setting mode, or can be automatically switched by detecting the brightness of external light. Further, it is preferable that the peripheral brightness can be set to 50%, 60%, 80% by the user or the like.

【1347】液晶表示パネルではバックライトで固定の
ガウス分布を発生させている。したがって、ガウス分布
のオンオフを行うことはできない。ガウス分布をオンオ
フできるのは自己発光型の表示デバイス特有の効果であ
る。
[1347] In a liquid crystal display panel, a fixed Gaussian distribution is generated by the backlight. Therefore, the Gaussian distribution cannot be turned on / off. The fact that the Gaussian distribution can be turned on and off is an effect peculiar to self-luminous display devices.

【1348】また、フレームレートが所定の時、室内の
蛍光灯などの点灯状態と干渉してフリッカが発生する場
合がある。つまり、蛍光灯が60Hzの交流で点灯して
いるとき、EL表示素子15がフレームレート60Hz
で動作していると、微妙な干渉が発生し、画面がゆっく
りと点滅しているように感じられる場合がある。これを
さけるにはフレームレートを変更すればよい。本発明は
フレームレートの変更機能を付加している。また、N倍
パルス駆動(N倍の電流をEL素子15に流し、1Fの
1/Mの期間だけ点灯させる方法)において、Nまたは
Mの値を変更できるように構成している。
[1348] Also, when the frame rate is predetermined, flicker may occur due to interference with the lighting state of a fluorescent lamp or the like in the room. In other words, when the fluorescent lamp is lit with an alternating current of 60 Hz, the EL display element 15 has a frame rate of 60 Hz.
When you are operating in, slight interference may occur and you may feel that the screen is blinking slowly. To avoid this, change the frame rate. The present invention adds a frame rate changing function. Further, in N-fold pulse driving (a method in which a N-fold current is passed through the EL element 15 to turn on for 1 / M of 1F), the value of N or M can be changed.

【1349】以上の事項は、携帯電話だけに限定される
ものではなく、テレビ、モニターなどに用いることがで
きることはいうまでもない。また、どのような表示状態
にあるかをユーザーがすぐに認識できるように、表示画
面にアイコン表示をしておくことが好ましい。以上の事
項は以下の事項に対しても同様である。
[1349] Needless to say, the above items are not limited to mobile phones, but can be applied to televisions, monitors and the like. In addition, it is preferable to display icons on the display screen so that the user can immediately recognize the display state. The above items also apply to the following items.

【1350】また、クロック・フェーズと画面位置(水
平・垂直)を自動調整する「画面自動調整」機能や、ブ
ラック・レベル・コントラストを自動調整する「オート
ゲインコントロール機能」を搭載することが好ましい。
ブラック・レベル・コントラストを適正な値に調整し、
RGB各色に対して最適な階調表示を実現できる。さら
に、VGAモードなどを縮小、あるいは拡大表示した際
に発生するにじみなどを抑える機能を搭載することが好
ましい。また,一定時間使用しない際には,自動的にバ
ックライトが消える「パワーセーブモード」を搭載する
ことが好ましい。また、N倍パルス駆動(N倍の電流を
EL素子15に流し、1Fの1/Mの期間だけ点灯させ
る方法)を用い、Mの値をかなり大きくし、うっすらと
画像が認識できる程度に表示輝度を低下させてもよい。
以上の事項は他の本発明でも同様である。
[1350] Further, it is preferable to install an "automatic screen adjustment" function for automatically adjusting the clock phase and screen position (horizontal / vertical) and an "auto gain control function" for automatically adjusting black level / contrast.
Adjust the black level contrast to an appropriate value,
It is possible to realize optimal gradation display for each of the RGB colors. Furthermore, it is preferable to have a function of suppressing bleeding that occurs when the VGA mode or the like is reduced or enlarged and displayed. Also, it is preferable to install a "power save mode" in which the backlight automatically turns off when not used for a certain period of time. Further, by using N times pulse driving (a method in which an N times current is passed through the EL element 15 and is turned on for a period of 1 / M of 1F), the value of M is considerably increased and the image is displayed so that the image can be slightly recognized. The brightness may be reduced.
The above matters also apply to the other inventions.

【1351】以上は表示パネル82の表示領域が比較的
小型の場合であるが、30インチ以上と大型となると表
示画面21がたわみやすい。その対策のため、本発明で
は図48に示すように表示パネル82に外枠481をつ
け、外枠481をつりさげられるように固定部材482
で取り付けている。この固定部材482を用いて図49
に示すようにネジ等の固定金具482を用いて壁491
などに取り付ける。
[1351] The above is a case where the display area of the display panel 82 is relatively small, but the display screen 21 is easily bent when the display area is large such as 30 inches or more. As a countermeasure, in the present invention, an outer frame 481 is attached to the display panel 82 as shown in FIG. 48, and a fixing member 482 is mounted so that the outer frame 481 can be hung.
It is attached in. Using this fixing member 482, FIG.
As shown in FIG.
To be installed.

【1352】しかし、表示パネル82の画面サイズが大
きくなると重量も重たくなる。そのため、表示パネル8
2の下側に脚取り付け部484を配置し、複数の脚48
3で表示パネル82の重量を保持できるようにしてい
る。
[1352] However, the larger the screen size of the display panel 82, the heavier the weight becomes. Therefore, the display panel 8
The leg mounting portion 484 is arranged on the lower side of
3 allows the weight of the display panel 82 to be held.

【1353】脚483はAに示すように左右に移動で
き、また、脚483はBに示すように収縮できるように
構成されている。そのため、狭い場所であっても表示装
置を容易に設置することができる。
[1353] The leg 483 is movable left and right as shown in A, and the leg 483 is retractable as shown in B. Therefore, the display device can be easily installed even in a narrow place.

【1354】なお、脚483あるいは筐体(他の本発明
においても)にはプラスチックフィルム−金属板複合材
(以後、複合材と呼ぶ)を使用する。複合材は、金属と
プラスチックフィルムを特殊表面処理層(接着層)を介
して強力に接着したものである。金属板は0.2mm以
上0.8mm以下が好ましく、金属板に特殊表面処理層
を介してはりあわされるプラスチックフィルムは15μ
m以上100μm以下にすることが好ましい。特殊接着
法によりプラスチックと金属板間に強固な密着力を有す
るようになる。この複合材を使用することにより、プラ
スチック層への着色、染色、印刷が可能となり、また、
プレス部品での二次加工工程(フィルムの手貼り、メッ
キ塗装)の削除が可能となる。また、従来では不可能で
あった深絞り成形やDI成形に適する。
A plastic film-metal plate composite material (hereinafter referred to as a composite material) is used for the leg 483 or the housing (also in the present invention). The composite material is obtained by strongly adhering a metal and a plastic film via a special surface treatment layer (adhesive layer). The metal plate is preferably 0.2 mm or more and 0.8 mm or less, and the plastic film laminated on the metal plate via the special surface treatment layer has a thickness of 15 μm.
It is preferable that the thickness is not less than m and not more than 100 μm. The special adhesion method provides a strong adhesion between the plastic and the metal plate. By using this composite material, it is possible to color, dye, and print the plastic layer.
It is possible to eliminate the secondary processing steps (hand-attaching the film, plating coating) on the pressed parts. It is also suitable for deep drawing and DI molding, which has been impossible in the past.

【1355】図48のテレビでは、画面の表面を保護フ
ィルム(保護板でもよい)493で被覆している。これ
は、表示パネル82の表面21に物体があたって破損す
ることを防止することが1つの目的である。保護フィル
ム493の表面にはAIRコートが形成されており、ま
た、表面をエンボス加工することにより液晶表示パネル
21に外の状況(外光)が写り込むことを抑制してい
る。
[1355] In the television shown in Fig. 48, the surface of the screen is covered with a protective film (or a protective plate) 493. This is one purpose to prevent the surface 21 of the display panel 82 from being hit and damaged. An AIR coat is formed on the surface of the protective film 493, and the surface is embossed to prevent external conditions (external light) from being reflected on the liquid crystal display panel 21.

【1356】保護フィルム493と表示パネル82間に
ビーズなどを散布することにより、一定の空間が配置さ
れるように構成されている。また、保護フィルム493
の裏面に微細な凸部を形成し、この凸部で表示パネル8
2と保護フィルム493間に空間を保持させる。このよ
うに空間を保持することにより保護フィルム493から
の衝撃が表示パネル82に伝達することを抑制する。
[1356] By spraying beads or the like between the protective film 493 and the display panel 82, a certain space is arranged. Also, a protective film 493
A fine convex portion is formed on the back surface of the display panel 8 with this convex portion.
A space is maintained between the 2 and the protective film 493. By holding the space in this manner, it is possible to prevent the impact from the protective film 493 from being transmitted to the display panel 82.

【1357】また、保護フィルム493と表示パネル8
2間にアルコール、エチレングリコールなど液体あるい
はゲル状のアクリル樹脂あるいはエポキシなどの固体樹
脂などの光結合剤を配置または注入することも効果があ
る。界面反射を防止できるとともに、前記光結合剤が緩
衝材として機能するからである。
[1357] Further, the protective film 493 and the display panel 8
It is also effective to dispose or inject an optical binder such as alcohol or ethylene glycol in a liquid or gel acrylic resin or a solid resin such as epoxy between the two. This is because interface reflection can be prevented and the optical coupling agent functions as a buffer material.

【1358】保護フィルム493をしては、ポリカーボ
ネートフィルム(板)、ポリプロピレンフィルム
(板)、アクリルフィルム(板)、ポリエステルフィル
ム(板)、PVAフィルム(板)などが例示される。そ
の他エンジニアリング樹脂フィルム(ABSなど)を用
いることができることは言うまでもない。また、強化ガ
ラスなど無機材料からなるものでもよい。保護フィルム
493を配置するかわりに、表示パネル82の表面をエ
ポキシ樹脂、フェノール樹脂、アクリル樹脂で0.5m
m以上2.0mm以下の厚みでコーティングすることも
同様の効果がある。また、これらの樹脂表面にエンボス
加工などをすることも有効である。
Examples of the protective film 493 include polycarbonate film (plate), polypropylene film (plate), acrylic film (plate), polyester film (plate), PVA film (plate) and the like. It goes without saying that other engineering resin films (ABS, etc.) can be used. It may also be made of an inorganic material such as tempered glass. Instead of disposing the protective film 493, the surface of the display panel 82 is made of epoxy resin, phenol resin, or acrylic resin to be 0.5 m.
Coating with a thickness of not less than m and not more than 2.0 mm has the same effect. It is also effective to emboss the surface of these resins.

【1359】また、保護フィルム493あるいはコーテ
ィング材料の表面をフッ素コートすることも効果があ
る。表面についた汚れを洗剤などで容易にふき落とすこ
とができるからである。また、保護フィルムを厚く形成
し、フロントライトと兼用してもよい。
It is also effective to coat the surface of the protective film 493 or the coating material with fluorine. This is because stains on the surface can be easily wiped off with a detergent or the like. In addition, the protective film may be formed thick to serve also as the front light.

【1360】画面は4:3に限定されるものではなく、
ワイド表示ディスプレイでもよい。解像度は1280×
768ドット以上にすることが好ましい。ワイド型をす
ることにより、DVD映画やテレビ放送など、横長表示
のタイトルや番組をフルスクリーンで楽しむことができ
る。表示パネル82の明るさは300cd/m2(カン
デラ/平方メートル)にすることが好ましい。さらに好
ましくは、表示パネルの明るさは500cd/m2(カ
ンデラ/平方メートル)にすることが好ましい。また、
インターネットや通常のパソコン作業に適した明るさ
(200cd/m 2)で表示できるように切り替えスイ
ッチを設置している。
[1360] The screen is not limited to 4: 3,
A wide display may be used. Resolution is 1280x
It is preferably 768 dots or more. Wide type
By doing so, landscape display of DVD movies, TV broadcasts, etc.
You can enjoy full titles and shows of
It The brightness of the display panel 82 is 300 cd / m2(Kan
(Dela / square meter) is preferable. Even better
More preferably, the brightness of the display panel is 500 cd / m2(Mosquito
Ndella / square meter) is preferred. Also,
Brightness suitable for the Internet and normal PC work
(200 cd / m 2) Switch to display
Is installed.

【1361】したがって、使用者は表示内容あるいは使
用方法により、最適に画面の明るさにすることができ
る。さらに動画を表示しているウインドウだけを500
cd/m2にして、その他の部分は200cd/m2にす
る設定も用意している。テレビ番組をディスプレイの隅
に表示しておいて、メールをチェックするといった使い
方にも柔軟に対応する。スピーカーはタワー型の形状に
なり、前方向だけではなく、空間全体に音が広がるよう
に設計されている。
Therefore, the user can set the brightness of the screen to the optimum depending on the display content or the usage method. Furthermore, only the window displaying the video is 500
in the cd / m 2, the other parts are also available settings to 200cd / m 2. It is flexible enough to display TV programs in the corner of the display and check mail. The speaker has a tower shape and is designed to spread the sound not only in the front direction but also in the entire space.

【1362】テレビ番組の再生、録画機能も使い勝手が
向上させている。iモードからの録画予約が簡単にでき
るようにしている。従来は新聞などのテレビ番組表で時
間、チャンネルを確認してから予約する必要があった
が、電子番組表をiモードで確認して予約できる。これ
なら、放送時間が分からなくて困ることもない。また、
録画番組の短縮再生もできるようにしている。ニュース
番組などのテロップや音声の有無で重要性を判断しなが
ら、不必要と判断した部分を飛ばして、番組の概要を短
時間で見ることができる(30分番組で1〜10分程
度)。
[1362] TV program playback and recording functions are also easier to use. It makes it easy to schedule recordings from i-mode. Conventionally, it was necessary to make a reservation after checking the time and channel on a TV program guide such as a newspaper, but it is possible to make a reservation by checking the electronic program guide in i-mode. This way, you don't have to worry about not knowing the broadcast time. Also,
It also allows short playback of recorded programs. While judging the importance of the presence or absence of telops and voices in news programs and the like, you can skip the parts that you have decided to be unnecessary and see the outline of the program in a short time (1 to 10 minutes for a 30-minute program).

【1363】テレビ録画ができるようにディスク容量が
40GB以上のハードディスクを積載している。本体の
ほかに電源と映像用入出力端子をまとめた拡張ボックス
で構成している。ビデオなどのAV機器の接続に使う拡
張ボックスには、パソコンとテレビのほかに2系統の映
像機器を接続できる。映像入力はBSデジタルチューナ
ー用のD1端子のほかにS端子入力も備え、接続する機
器に合わせて選択できる。ゲーム機などの接続に便利な
ようにAV用の端子は前面に配置されている。
[1363] A hard disk having a disk capacity of 40 GB or more is loaded so that television recording can be performed. In addition to the main body, it is composed of an expansion box that combines the power supply and video input / output terminals. In addition to a personal computer and TV, two types of video equipment can be connected to the expansion box used to connect AV equipment such as video. In addition to the D1 terminal for the BS digital tuner, the video input also has an S terminal input, which can be selected according to the connected device. The terminals for AV are arranged on the front for convenient connection with game consoles.

【1364】また、表示画面を前屈30度以上、後屈1
20度以上とすることにより、90度/180/270
度に回転できるように構成することにより、操作環境に
あわせた自在な設置が可能となる。たとえば、90度回
転させてブラウザー画面を縦長に表示することができ
る。また、145度後屈させることによって対面に座っ
た人へ向かって画面を表示できる。
[1364] In addition, the display screen shows forward bending of 30 degrees or more and backward bending of 1 degree.
90 degrees / 180/270 by setting it to 20 degrees or more
By being configured so that it can be rotated once, it can be installed freely according to the operating environment. For example, the browser screen can be displayed vertically by rotating it 90 degrees. In addition, the screen can be displayed toward the person who sits face-to-face by bending backward by 145 degrees.

【1365】以上の保護フィルム493、筐体、構成、
特性、機能などに関する事項は本発明の他の表示装置あ
るいは情報表示装置などにも適用されることは言うまで
もない。
[1365] The above protective film 493, housing, configuration,
It goes without saying that matters relating to characteristics and functions are applied to other display devices or information display devices of the present invention.

【1366】なお、図69などでコンデンサ19の一方
の端子はVdd電源と接続するとしたがこれに限定する
ものではない。たとえば、図119に図示するように、
前段のゲート信号線17aに一方の端子を接続してもよ
い。前段(1つ前の画素行)のゲート信号線17aは1
H前に選択され、電位変動が発生するが、その後は、次
の1F(次回選択されるまで)で選択されるまで、電位
は固定される。つまり、前段のゲート信号線17a1は
オフ電位(Vgh)に固定されている。したがって、コ
ンデンサ19の一方の電極として使用することができ
る。このように前段のゲート信号線をコンデンサの電極
として使用する構成を前段構成と呼ぶ。
[1366] In FIG. 69 and the like, one terminal of the capacitor 19 is connected to the Vdd power supply, but the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG.
One terminal may be connected to the gate signal line 17a at the previous stage. The gate signal line 17a in the previous stage (the pixel row immediately before) is 1
The potential is changed before being selected before H, and thereafter, the potential is fixed until it is selected in the next 1F (until the next selection). That is, the gate signal line 17a1 at the previous stage is fixed at the off potential (Vgh). Therefore, it can be used as one electrode of the capacitor 19. Such a configuration in which the gate signal line in the preceding stage is used as the electrode of the capacitor is called a preceding stage configuration.

【1367】なお、図119ではゲート信号線17aを
電極として使用するとしたがこれに限定するものではな
く、他のゲート信号線でもよい。また、前段構成の技術
的思想は、選択されていない画素の固定電位を使用する
方式である。したがって、場合によっては、後段のゲー
ト電位を使用することもできる(たとえば、ゲート信号
線17b、逆バイアス電位Vmなど)。以上の事項は他
の画素構成にも適用できることは言うまでもない。
In FIG. 119, the gate signal line 17a is used as an electrode, but the present invention is not limited to this, and another gate signal line may be used. Further, the technical idea of the former stage configuration is a method of using a fixed potential of a pixel which is not selected. Therefore, in some cases, the gate potential of the latter stage can be used (for example, gate signal line 17b, reverse bias potential Vm, etc.). It goes without saying that the above items can be applied to other pixel configurations.

【1368】同様の事項は図67の電圧プログラムの画
素構成にも適用することができる。前段構成としては、
図120の構成が例示される。つまり、コンデンサ19
の一方の電位はゲート信号線17a1の電位とされてい
る。また、図103の前段構成は図121となる。以上
のように前段構成を採用することにより、画素内に形成
する電源配線数を減少させることができる。したがっ
て、高開口率化も実現できる。
[1368] Similar items can be applied to the pixel configuration of the voltage program of FIG. As the first stage configuration,
The configuration of FIG. 120 is exemplified. That is, the capacitor 19
One of the potentials is the potential of the gate signal line 17a1. In addition, the pre-stage configuration of FIG. 103 is shown in FIG. 121. By adopting the former-stage configuration as described above, the number of power supply lines formed in the pixel can be reduced. Therefore, high aperture ratio can also be realized.

【1369】すでに説明したが、図67のTFT11
e、図68のTFT11e、図69のTFT11d、図
70のTFT11d、図71のTFT11e、図72の
TFT11b、図73のTFT11d、図75のTFT
11d、図76のTFT11e、図77のTFT11
d、図78のTFT11d、図82のTFT11d、図
83のTFT11eなどのオンオフ状態を制御すること
により、図31、図32、図図39、図50、図61、
図62、図63、図64、図65、図66、図85など
で説明した駆動方法あるいは表示方法もしくは装置を実
施できることは言うまでもない。
[1369] As described above, the TFT 11 of FIG.
e, TFT 11e of FIG. 68, TFT 11d of FIG. 69, TFT 11d of FIG. 70, TFT 11e of FIG. 71, TFT 11b of FIG. 72, TFT 11d of FIG. 73, TFT of FIG. 75.
11d, TFT 11e in FIG. 76, TFT 11 in FIG.
d, the TFT 11d in FIG. 78, the TFT 11d in FIG. 82, the TFT 11e in FIG. 83, and the like by controlling the on / off state, and FIGS. 31, 32, 39, 50, 61,
It goes without saying that the driving method or display method or device described with reference to FIGS. 62, 63, 64, 65, 66, 85 and the like can be implemented.

【1370】また、図1などのスイッチングTFT11
b,11cなどはnチャンネルで形成することが好まし
い。コンデンサ19への突き抜け電圧が低減するからで
ある。また、コンデンサ19のオフリークも減少するか
ら、10Hz以下の低いフレームレートにも適用できる
ようになる。
[1370] Also, the switching TFT 11 shown in FIG.
It is preferable that b, 11c and the like are formed by n channels. This is because the penetration voltage to the capacitor 19 is reduced. Further, since the off-leakage of the condenser 19 is also reduced, it can be applied to a low frame rate of 10 Hz or less.

【1371】また、画素構成によっては、突き抜け電圧
がEL素子15に流れる電流を増加させる方向に作用す
る場合は、白ピーク電流が増加し、画像表示のコントラ
スト感が増加する。したがって、良好な画像表示を実現
できる。
Also, depending on the pixel configuration, when the punch-through voltage acts in the direction of increasing the current flowing through the EL element 15, the white peak current increases and the contrast feeling of image display increases. Therefore, good image display can be realized.

【1372】逆に、図1のスイッチングTFT11b、
11cをPチャンネルにすることのより突き抜けを発生
させて、より黒表示を良好にする方法も有効である。P
チャンネルTFT11bがオフするときにはVgh電圧
となる。そのため、コンデンサ19の端子電圧がVdd
側に少しシフトする。そのため、TFT11aのゲート
端子電圧は上昇し、より黒表示となる。また、第1階調
表示とする電流値を大きくすることができるから(階調
1までに一定のベース電流を流すことができる)、電流
プログラム方式で書き込み電流不足を軽減できる。
[1372] Conversely, the switching TFT 11b of FIG.
It is also effective to use P channel as the channel 11c to generate more punch-through and improve black display. P
When the channel TFT 11b is turned off, the voltage becomes Vgh voltage. Therefore, the terminal voltage of the capacitor 19 is Vdd
Shift a little to the side. Therefore, the gate terminal voltage of the TFT 11a rises, resulting in a more black display. In addition, since the current value for the first gradation display can be increased (a constant base current can be flown up to gradation 1), the shortage of the write current can be reduced by the current program method.

【1373】その他、ゲート信号線17aとTFT11
aのゲート端子間に積極的にコンデンサを形成し、突き
抜け電圧を増加させる構成も有効である(図171を参
照)。このコンデンサの容量はコンデンサ19の容量の
1/50以上1/10以下にすることが好ましい。さら
には1/40以上1/15以下とすることが好ましい。
もしくはTFT11bのソース−ゲート(SGもしくは
ゲート−ドレイン(GD))容量の1倍以上10倍以下
にする。さらに好ましくは、SG容量の2倍以上6倍以
下にすることが好ましい。なお、コンデンサの形成位置
は、コンデンサ19の一方の端子(TFT11aのゲー
ト端子)とTFT11dのソース端子間に形成または配
置してもよい(図172を参照)。この場合も容量など
は先に説明した値と同様である。
[1373] In addition, the gate signal line 17a and the TFT 11
A configuration in which a capacitor is positively formed between the gate terminals of a to increase the penetration voltage is also effective (see FIG. 171). The capacity of this capacitor is preferably 1/50 or more and 1/10 or less of the capacity of the capacitor 19. Furthermore, it is preferable to set it to 1/40 or more and 1/15 or less.
Alternatively, the capacitance is set to be 1 to 10 times the source-gate (SG or gate-drain (GD)) capacitance of the TFT 11b. More preferably, it is preferably 2 times or more and 6 times or less the SG capacity. The capacitor may be formed or arranged between one terminal of the capacitor 19 (the gate terminal of the TFT 11a) and the source terminal of the TFT 11d (see FIG. 172). Also in this case, the capacity and the like are the same as the values described above.

【1374】突き抜け電圧発生用のコンデンサ19bの
容量(容量をCb(pF)とする)は、電荷保持用のコ
ンデンサ19aの容量(容量とCa(pF)とする)
と、TFT11aの白ピーク電流時(画像表示で表示最
大輝度の白ラスター時)のゲート端子電圧Vwを黒表示
での電流を流す(基本的には電流は0である。つまり、
画像表示で黒表示としている時)時のゲート端子電圧V
bが関連する。これらの関係は、 Ca/(200Cb) ≦ |Vw−Vb| ≦ Ca
/(8Cb) の条件を満足させることが好ましい。なお、|Vw−V
b|とは、駆動用TFTの白表示時の端子電圧と黒表示
時の端子電圧との差の絶対値である(つまり、変化する
電圧幅)。
The capacity of the capacitor 19b for generating punch-through voltage (capacitance is Cb (pF)) is the capacity of the capacitor 19a for charge retention (capacitance and Ca (pF)).
Then, the gate terminal voltage Vw of the TFT 11a at the time of the white peak current (at the time of the white raster of the display maximum brightness in the image display) is made to flow the current in the black display (the current is basically 0. That is,
Gate terminal voltage V when the image display is black)
b is relevant. These relationships are as follows: Ca / (200Cb) ≤ | Vw-Vb | ≤ Ca
It is preferable to satisfy the condition of / (8Cb). Note that | Vw-V
b | is the absolute value of the difference between the terminal voltage of the driving TFT when displaying white and the terminal voltage when displaying black (that is, the varying voltage width).

【1375】さらに好ましくは、 Ca/(100Cb) ≦ |Vw−Vb| ≦ Ca
/(10Cb) の条件を満足させることが好ましい。
[1375] More preferably, Ca / (100Cb) ≤ | Vw-Vb | ≤ Ca
It is preferable to satisfy the condition of / (10Cb).

【1376】TFT11bはPチャンネルにし、このP
チャンネルは少なくともダブルゲート以上にする。この
ましくは、トリプルゲート以上にする。さらに好ましく
は、4ゲート以上にする。そして、TFT11bのソー
ス−ゲート(SGもしくはゲート−ドレイン(GD))
容量(TFTがオンしているときの容量)の1倍以上1
0倍以下のコンデンサを並列に形成または配置すること
が好ましい。
[1376] The TFT 11b is a P channel, and the P
The channel should be at least a double gate. This is preferably triple gate or higher. More preferably, the number of gates is 4 or more. Then, the source-gate (SG or gate-drain (GD)) of the TFT 11b.
1 times or more of the capacity (the capacity when the TFT is on) 1
It is preferable to form or arrange 0 times or less capacitors in parallel.

【1377】なお、以上の事項は、図1の画素構成だけ
でなく、他の画素構成でも有効である。たとえば、図2
1、図43、図71、図22のカレントミラーの画素構
成において、突き抜けを発生させるコンデンサをゲート
信号線17aまたは17bとTFT11aのゲート端子
間に配置または形成する(図173、図174を参
照)。スイッチングTFT11cのnチャンネルはダプ
ルゲート以上とする。もしくはスイッチングTFT11
c、11dをpチャンネルとし、トリプルゲート以上と
する。図68の電圧プログラムの構成にあっては、ゲー
ト信号線17cと駆動用TFT11aのゲート端子間に
突き抜け電圧発生用のコンデンサ19cを形成または配
置する(図221を参照)。また、スイッチングTFT
11cはトリプルゲート以上とする。突き抜け電圧発生
用のコンデンサ19cはTFT11cのドレイン端子
(コンデンサ19b側)と、ゲート信号線17a間に配
置してもよい。また、突き抜け電圧発生用のコンデンサ
19cはTFT11aのゲート端子と、ゲート信号線1
7a間に配置してもよい。また、突き抜け電圧発生用の
コンデンサ19cはTFT11cのドレイン端子(コン
デンサ19b側)と、ゲート信号線17c間に配置して
もよい。
The above matters are valid not only in the pixel configuration of FIG. 1 but also in other pixel configurations. For example, in Figure 2.
In the pixel configuration of the current mirror of FIGS. 1, 43, 71, and 22, a capacitor that causes punch-through is arranged or formed between the gate signal line 17a or 17b and the gate terminal of the TFT 11a (see FIGS. 173 and 174). . The n channel of the switching TFT 11c is a double gate or more. Or switching TFT11
c and 11d are p channels, and triple gates or more. In the configuration of the voltage program of FIG. 68, the capacitor 19c for generating the punch-through voltage is formed or arranged between the gate signal line 17c and the gate terminal of the driving TFT 11a (see FIG. 221). In addition, switching TFT
11c is a triple gate or more. The capacitor 19c for generating the punch-through voltage may be arranged between the drain terminal of the TFT 11c (on the side of the capacitor 19b) and the gate signal line 17a. The capacitor 19c for generating the punch-through voltage is connected to the gate terminal of the TFT 11a and the gate signal line 1
It may be arranged between 7a. Further, the capacitor 19c for generating the punch-through voltage may be arranged between the drain terminal (the capacitor 19b side) of the TFT 11c and the gate signal line 17c.

【1378】また、電荷保持用のコンデンサ(図1、図
21、図43、図71では19)の容量をCaとし、ス
イッチング用のTFT(図1では11b、図21、図4
3、図71では11cまたは11d)のソース−ゲート
容量Cc(突き抜け用のコンデンサがある場合には、そ
の容量を加えた値)とし、ゲート信号線に印加される高
電圧信号(Vgh)とし、ゲート信号線に印加される低
電圧信号(Vgl)とした時、以下の条件を満足するよ
うに構成することにより、良好な黒表示を実現できる。
[1379] Also, the capacitance of the charge holding capacitor (19 in FIGS. 1, 21, 43, 71) is Ca, and the switching TFT (11b in FIG. 1, FIG. 21, FIG. 4).
3, the source-gate capacitance Cc (11c or 11d in FIG. 71) (a value obtained by adding the capacitance when there is a capacitor for punch-through), and the high voltage signal (Vgh) applied to the gate signal line, When a low voltage signal (Vgl) applied to the gate signal line is used, good black display can be realized by configuring the following conditions.

【1379】0.05(V) ≦ (Vgh−Vgl)
×(Cc/Ca) ≦ 0.8(V) さらに好ましくは、以下の条件を満足させることが好ま
しい。
[1379] 0.05 (V) ≤ (Vgh-Vgl)
X (Cc / Ca) ≤ 0.8 (V) More preferably, the following conditions are satisfied.

【1380】0.1(V) ≦ (Vgh−Vgl)×
(Cc/Ca) ≦ 0.5(V) 以上の事項は図54、図57、図67、図103などの
画素構成にも有効である。たとえば、図57の電圧プロ
グラムの画素構成では、TFT11aのゲート端子とゲ
ート信号線17a間に突き抜け電圧発生用のコンデンサ
19bを形成または配置する。
[1380] 0.1 (V) ≤ (Vgh-Vgl) x
(Cc / Ca) ≤ 0.5 (V) The above items are also effective for the pixel configurations of FIGS. 54, 57, 67, 103, and the like. For example, in the voltage-programmed pixel configuration of FIG. 57, a capacitor 19b for generating punch-through voltage is formed or arranged between the gate terminal of the TFT 11a and the gate signal line 17a.

【1381】なお、突き抜け電圧を発生させるコンデン
サ19bは、TFTのソース配線とゲート配線で形成す
る。ただし、TFT11のソース幅を広げて、ゲート信
号線17と重ねて形成する構成であるから、実用上は明
確にTFTと分離できない構成である場合がある。
The capacitor 19b for generating the punch-through voltage is formed by the source wiring and the gate wiring of the TFT. However, since the source width of the TFT 11 is widened and overlapped with the gate signal line 17, the TFT 11 may not be clearly separated from the TFT in practical use.

【1382】また、スイッチングTFT11b、11c
(図1の構成の場合)を必要以上に大きく形成すること
により、見かけ上、突き抜け電圧用のコンデンサ19b
を構成する方式も本発明の範疇である。スイッチングT
FT11b、11cはチャンネル幅W/チャンネル長L
=6/6μmで形成することが多い。これをWと大きく
することも突き抜け電圧用のコンデンサ19bを構成す
ることになる。例えば、W:Lの比を2:1以上20:
1以下にする構成が例示される。好ましくは、W:Lの
比を3:1以上10:1以下にすることがよい。
[1382] Also, the switching TFTs 11b and 11c
By forming (in the case of the configuration of FIG. 1) larger than necessary, the capacitor 19b for the punch-through voltage is apparently formed.
The method of constructing is also within the scope of the present invention. Switching T
Channel width W / channel length L for FT11b and 11c
= 6/6 μm in many cases. Increasing this to W also constitutes the capacitor 19b for punch-through voltage. For example, the ratio of W: L is 2: 1 or more and 20:
A configuration in which the number is 1 or less is exemplified. Preferably, the W: L ratio is 3: 1 or more and 10: 1 or less.

【1383】また、突き抜け電圧用のコンデンサ19b
は、画素が変調するR、G、Bで大きさ(容量)を変化
させることが好ましい(図233を参照のこと)。R、
G、Bの各EL素子15の駆動電流が異なるためであ
る。また、EL素子15のカットオフ電圧が異なるため
である。そのため、EL素子15の駆動用TFT11a
のゲート端子にプログラムする電圧(電流)が異なるか
らである。たとえば、Rの画素のコンデンサ11bRを
0.02pFとした場合、他の色(G、Bの画素)のコ
ンデンサ11bG、11bBを0.025pFとする。
また、Rの画素のコンデンサ11bRを0.02pFと
した場合、Gの画素のコンデンサ11bGと0.03p
Fとし、Bの画素のコンデンサ11bBを0.025p
Fとするなどである。このように、R、G、Bの画素ご
とにコンデンサ11bの容量を変化させることのよりオ
フセットの駆動電流をRGBごとに調整することができ
る。したがって、各RGBの黒表示レベルを最適値にす
ることができる。
[1383] Further, the capacitor 19b for punch-through voltage
It is preferable to change the size (capacitance) of R, G, and B modulated by the pixel (see FIG. 233). R,
This is because the drive currents of the G and B EL elements 15 are different. This is also because the cutoff voltage of the EL element 15 is different. Therefore, the driving TFT 11a of the EL element 15
This is because the voltage (current) to be programmed in the gate terminal of is different. For example, when the capacitor 11bR of the R pixel is 0.02 pF, the capacitors 11bG and 11bB of the other colors (pixels of G and B) are 0.025 pF.
Further, when the capacitor 11bR of the R pixel is 0.02pF, the capacitor 11bG of the G pixel is 0.03p.
F, and the capacitor 11bB of the B pixel is 0.025p
F and so on. In this way, by changing the capacitance of the capacitor 11b for each of the R, G, and B pixels, the offset drive current can be adjusted for each RGB. Therefore, the black display level of each RGB can be set to the optimum value.

【1384】以上は、突き抜け電圧発生用のコンデンサ
19bの容量を変化させるとしたが、図233などでの
構成では、突き抜け電圧は、保持用のコンデンサ19a
と突き抜け電圧発生用のコンデンサ19bとの容量の相
対的なものである。したがって、コンデンサ19bを
R、G、Bの画素で変化することに限定するものではな
い。つまり、保持用コンデンサ19aの容量を変化させ
てもよい。たとえば、Rの画素のコンデンサ11aRを
1.0pFとした場合、Gの画素のコンデンサ11aG
と1.2pFとし、Bの画素のコンデンサ11aBを
0.9pFとするなどである。この時、突き抜け用コン
デンサ19bの容量は、R、G、Bで共通の値とする。
したがって、本発明は、保持用のコンデンサ19aと突
き抜け電圧発生用のコンデンサ19bとの容量比を、
R、G、Bの画素のうち、少なくとも1つを他と異なら
せたものである。なお、保持用のコンデンサ19aの容
量と突き抜け電圧発生用のコンデンサ19bとの容量と
の両方をR、G、B画素で変化させてもよい。
In the above description, the capacity of the capacitor 19b for generating the punch-through voltage is changed. However, in the configuration shown in FIG. 233, the punch-through voltage is maintained by the capacitor 19a for holding.
And the capacity of the capacitor 19b for generating the punch-through voltage is relative. Therefore, the capacitor 19b is not limited to being changed for the R, G, and B pixels. That is, the capacitance of the holding capacitor 19a may be changed. For example, when the capacitor 11aR for the R pixel is 1.0 pF, the capacitor 11aG for the G pixel is
And 1.2 pF, and the capacitor 11aB of the B pixel is set to 0.9 pF. At this time, the capacitance of the punch-through capacitor 19b has a common value for R, G, and B.
Therefore, according to the present invention, the capacitance ratio between the holding capacitor 19a and the punch-through voltage generating capacitor 19b is
At least one of the R, G, and B pixels is different from the others. Note that both the capacitance of the holding capacitor 19a and the capacitance of the punch-through voltage generating capacitor 19b may be changed for the R, G, and B pixels.

【1385】また、画面21の左右で突き抜け電圧用の
コンデンサ19bの容量を変化させてもよい(図234
を参照のこと)。画素16aは、ゲートドライバ12に
近い位置にある。つまり、画素16aは信号供給側に配
置されているので、ゲート信号の立ち上がりが速い(ス
ルーレートが高いからである。波形2341aを参照の
こと)ため、突き抜け電圧が大きくなる。画素16bは
ゲート信号線17端に配置(形成)されているため、信
号波形が鈍っている(ゲート信号線17には容量がある
ためである。波形2341bを参照のこと)。ゲート信
号の立ち上がりが遅い(スルーレートが遅い)ため、突
き抜け電圧が小さくなるためである。したがって、ゲー
トドライバ12との接続側に近い画素16aの突き抜け
電圧用コンデンサ19bを小さくする。また、ゲート信
号線17端はコンデンサ19bを大きくする。たとえ
ば、画面の左右でコンデンサの容量は10%程度変化さ
せる。
[1385] Also, the capacitance of the capacitor 19b for punch-through voltage may be changed between the left and right of the screen 21 (Fig. 234).
checking). The pixel 16 a is located near the gate driver 12. In other words, since the pixel 16a is arranged on the signal supply side, the gate signal rises quickly (since the slew rate is high. See the waveform 2341a), so that the punch-through voltage becomes large. Since the pixel 16b is arranged (formed) at the end of the gate signal line 17, the signal waveform is dull (because the gate signal line 17 has a capacity. See the waveform 2341b). This is because the gate signal rises slowly (the slew rate is slow), and the punch-through voltage becomes small. Therefore, the punch-through voltage capacitor 19b of the pixel 16a near the side connected to the gate driver 12 is made small. Further, the end of the gate signal line 17 enlarges the capacitor 19b. For example, the capacitance of the capacitor is changed on the left and right of the screen by about 10%.

【1386】図233でも説明したが、発生する突き抜
け電圧は、保持用コンデンサ19aと突き抜け電圧発生
用のコンデンサ19bの容量比で決定される。したがっ
て、図234では、画面の左右で突き抜け電圧発生用の
コンデンサ19bの大きさを変化させるとしたが、これ
に限定するものではない。突き抜け電圧発生用のコンデ
ンサ19bは画面の左右で一定にし、電荷保持用のコン
デンサ19aの容量を画面の左右で変化させてもよい。
また、突き抜け電圧発生用のコンデンサ19bと、電荷
保持用のコンデンサ19a容量の両方を画面の左右で変
化させてもよいことは言うまでもない。
As described with reference to FIG. 233, the punch-through voltage generated is determined by the capacitance ratio of the holding capacitor 19a and the punch-through voltage generating capacitor 19b. Therefore, in FIG. 234, the size of the capacitor 19b for generating the punch-through voltage is changed on the left and right of the screen, but the present invention is not limited to this. The punch-through voltage generating capacitor 19b may be constant on the left and right sides of the screen, and the capacitance of the charge holding capacitor 19a may be changed on the left and right sides of the screen.
It goes without saying that both the capacitor 19b for generating the punch-through voltage and the capacitance of the capacitor 19a for holding the charge may be changed on the left and right of the screen.

【1387】また、図234において、画面21の左右
でコンデンサ19aまたは19bの容量を変化させると
したが、ドライバ回路12などが画面21の左右に配置
されている場合(たとえば、両側給電)、画面21の左
右のコンデンサ19a、19bの容量は等しくてよい。
しかし、今度は画面の中央部の信号波形が、画面の左右
の信号波形に比較して鈍っている場合がある。したがっ
て、この場合は、突き抜け電圧発生用のコンデンサ19
bは画面の左右で一定にし、電荷保持用のコンデンサ1
9aと突き抜け電圧用用のコンデンサ19a容量は、画
面21の左右では同一にし、電荷保持用のコンデンサ1
9aと突き抜け電圧用用のコンデンサ19a容量のうち
少なくとも一方を、画面21の端と中央部で変化させ
る。
[1387] In FIG. 234, the capacitance of the capacitors 19a or 19b is changed on the left and right of the screen 21, but when the driver circuit 12 and the like are arranged on the left and right of the screen 21 (for example, power supply from both sides), The capacitors 19a and 19b on the left and right of 21 may have the same capacitance.
However, this time, the signal waveform at the center of the screen may be dull compared to the signal waveforms on the left and right of the screen. Therefore, in this case, the capacitor 19 for generating the punch-through voltage is generated.
b is constant on the left and right of the screen, and a capacitor 1 for holding electric charge
9a and the capacitor 19a for punch-through voltage are the same on the left and right sides of the screen 21, and the capacitor 1 for holding charge is
At least one of the capacitance 9a and the capacity of the capacitor 19a for punch-through voltage is changed at the end and the center of the screen 21.

【1388】また、図234において、画素16aと画
素16cのように、ゲートドライバ12の形成位置から
同一位置にあっても、突き抜け電圧などが異なる場合が
ある。たとえば、ゲートドライバ12の電源の供給位置
あるいは電圧降下、ソースドライバ14からの信号供給
位置関係からである。したがって、図234の画素16
cは、画素16aに対して、突き抜け電圧発生用のコン
デンサ19bの容量と電荷保持用コンデンサ19aの容
量のうち、少なくとも一方を異ならせる。画素16dに
ついても同様である。
In FIG. 234, the punch-through voltage or the like may be different even at the same position from the formation position of the gate driver 12 as in the pixel 16a and the pixel 16c. For example, from the relationship of the power supply position or voltage drop of the gate driver 12 and the signal supply position relationship from the source driver 14. Therefore, pixel 16 of FIG.
c makes at least one of the capacitance of the capacitor 19b for generating the punch-through voltage and the capacitance of the capacitor 19a for holding the charge different for the pixel 16a. The same applies to the pixel 16d.

【1389】以上のように、本発明は、突き抜け電圧発
生用のコンデンサ19bの容量と電荷保持用コンデンサ
19aの容量のうち、少なくとも一方を、表示画面21
内で他の部分と変化させた箇所があるものである。
As described above, according to the present invention, at least one of the capacity of the capacitor 19b for generating the punch-through voltage and the capacity of the capacitor 19a for holding the charge is displayed on the display screen 21.
There are parts that have been changed from other parts within.

【1390】図171、図172のように本発明のコン
デンサ11bを形成(配置)する構成は以下のとおりで
ある。つまり、スイッチングTFTがオンし、その後、
オフする。この時、コンデンサ11aなどに作用し、E
L素子15駆動用TFT11(図1ではTFT11a)
のゲート端子を変化させることにより、TFT11の電
流が流れないようにする方向に機能する構成である。つ
まり、図171、図172などはpチャンネルの場合で
ある。図210に図示するようにnチャンネルの場合で
も適用することができる。nチャンネルの場合は、Vg
hでTFTがオンし、VglでTFTがオフする。した
がって、nチャンネルTFT11b(11c)がオン
(画素行が選択されている)からオフ(次の画素行が選
択される)する際に、駆動用TFT11aが電流を流さ
ない方向に作用するように構成すればよい。したがっ
て、本発明は、選択するTFTがオフになる際に、EL
素子15に電流を流さない方向に動作させるように構成
したものである。
The configuration for forming (arranging) the capacitor 11b of the present invention as shown in FIGS. 171 and 172 is as follows. In other words, the switching TFT turns on, then
Turn off. At this time, it acts on the capacitor 11a, etc.
TFT 11 for driving the L element 15 (TFT 11a in FIG. 1)
By changing the gate terminal of the above, the configuration is such that the current of the TFT 11 does not flow. That is, FIG. 171, FIG. 172, etc. are for the p channel. It can be applied even in the case of n channels as shown in FIG. Vg for n-channel
The TFT is turned on at h, and the TFT is turned off at Vgl. Therefore, when the n-channel TFT 11b (11c) is turned on (a pixel row is selected) and turned off (the next pixel row is selected), the driving TFT 11a acts in a direction in which no current flows. do it. Therefore, the present invention provides that when the selected TFT is turned off, the EL
The element 15 is configured to operate in a direction in which no current flows.

【1391】図228を用いて説明すれば、なお、理解
が容易となるであろう。まず、ソースドライバ回路14
には画像データとしての電流Iwがソース信号線18か
ら吸い込まれる。なお、ここでは説明を容易にするた
め、プログラム電流Iwをソースドライバ回路14が吸
い込む方向で動作し、各画素16にプログラムされると
して説明をする。以下、動作について、図228および
図229を参照しながら説明をする。なお、説明は、画
素行(1)として説明をする。
It will be easier to understand if explained with reference to FIG. 228. First, the source driver circuit 14
A current Iw as image data is drawn in from the source signal line 18. It should be noted that here, for ease of explanation, it is assumed that the source driver circuit 14 operates in a direction in which the program current Iw is absorbed and is programmed in each pixel 16. The operation will be described below with reference to FIGS. 228 and 229. In addition, the description will be given assuming that the pixel row is (1).

【1392】図228(a)に図示するように、ゲート
信号線17a(1)にオン電圧(Vgl)が印加され、
画素が選択される。この時、ゲート信号線17b(1)
にはオフ電圧(Vgh)が印加される。したがって、ス
イッチングTFT11bおよび11cがオンし、TFT
11dはオフ状態である。
As shown in FIG. 228 (a), an on-voltage (Vgl) is applied to the gate signal line 17a (1),
A pixel is selected. At this time, the gate signal line 17b (1)
Is applied with an off voltage (Vgh). Therefore, the switching TFTs 11b and 11c are turned on,
11d is in the off state.

【1393】ソース信号線18にはプログラム電流Iw
が流れる。このプログラム電流IwはTFT11aによ
って、供給させる(電流Idd=Iw)。この電流Id
dが流れることにより、ソース信号線18の電位が所定
電圧となり、TFT11aのゲート端子電圧Vgが電流
プログラムされる。電流プログラムされた電流とはIw
電流である。つまり、TFT11aはプログラム電流I
wが流れるようにVg電圧が設定される。他の言い方を
すれば、ソース信号線の電位が画素にプログラムされた
とも言うことができる。つまり、画素の動作状態として
は電圧(が)プログラムされたとも言うことができる。
[1395] The source signal line 18 has a program current Iw.
Flows. The program current Iw is supplied by the TFT 11a (current Idd = Iw). This current Id
When d flows, the potential of the source signal line 18 becomes a predetermined voltage, and the gate terminal voltage Vg of the TFT 11a is current-programmed. Current Programmed current is Iw
It is an electric current. That is, the TFT 11a has the program current I
The Vg voltage is set so that w flows. In other words, it can be said that the potential of the source signal line is programmed in the pixel. In other words, it can be said that the operating state of the pixel is that the voltage is programmed.

【1394】1H(1水平走査期間)後、ゲート信号線
17a(1)にはオフ電圧(Vgh)が印加され、TF
T11b、TFT11cがオフし、コンデンサ11aに
プログラム電流Iwを流すのに必要な電圧が保持され
る。また、ゲート信号線17b(1)にオン電圧(Vg
l)が印加され、TFT11dがオンする。したがっ
て、Ie(=Iw)電流がEL素子15に流れ、EL素
子15がプログラムされた電流(Ie)で点灯する(図
228(b)を参照)。
After 1H (one horizontal scanning period), the off voltage (Vgh) is applied to the gate signal line 17a (1), and TF is applied.
The T11b and the TFT 11c are turned off, and the voltage required to flow the program current Iw in the capacitor 11a is held. Further, the gate signal line 17b (1) has an on-voltage (Vg
l) is applied and the TFT 11d is turned on. Therefore, an Ie (= Iw) current flows through the EL element 15, and the EL element 15 is turned on with the programmed current (Ie) (see FIG. 228 (b)).

【1395】以上が、以前にも説明した電流プログラム
方式の動作である。しかし、本発明は以上の動作を異な
る。EL素子15に流れる電流Ieは、Iwよりも小さ
くしているからである。この理由は、図229のVg
(TFT11aのゲート端子電圧)の変化を見るとわか
る。
[1395] The above is the operation of the current program method described above. However, the present invention differs from the above operation. This is because the current Ie flowing through the EL element 15 is smaller than Iw. The reason for this is that Vg in FIG.
It can be seen by looking at the change in (gate terminal voltage of the TFT 11a).

【1396】理解を容易にするために、TFTのPチャ
ンネルの動作について説明をする。PチャンネルTFT
はゲート端子電圧Vgがマイナス側にあるほど大きなオ
ン電流が流れる。0(V)では完全にオフする。オン電
流がTFTのW/Lおよびモビリティ、S値によって異
なる。TFTのW/Lが6/12の時、およそ−3
(V)までは、チャンネル電流(Idd)はごく僅かで
ある。−4(V)〜−4.5(V)で1〜5μAの電流
が流れる。
For ease of understanding, the operation of the P channel of the TFT will be described. P-channel TFT
A larger on-current flows as the gate terminal voltage Vg is on the negative side. It completely turns off at 0 (V). The on-current differs depending on the W / L, mobility, and S value of the TFT. When the W / L of the TFT is 6/12, about -3
Up to (V), the channel current (Idd) is very small. A current of 1 to 5 μA flows at −4 (V) to −4.5 (V).

【1397】図229は、画素(1)のTFT11aに
ほぼ、黒表示をするための電流をプログラムする時を示
している。まず、画素(1)のVg電圧はVw(白表示
など)が保持されているとする。画素(1)が選択され
ると、ゲート信号線17a(1)がVghからVglに
変化するため、コンデンサ19bによって、ゲート信号
線17aの電位が突き抜ける。この突き抜けによりVg
電圧はV0となる。
[1395] FIG. 229 shows a case where the TFT 11a of the pixel (1) is programmed with a current for displaying almost black. First, it is assumed that Vw (white display or the like) is held as the Vg voltage of the pixel (1). When the pixel (1) is selected, the gate signal line 17a (1) changes from Vgh to Vgl, so that the capacitor 19b allows the potential of the gate signal line 17a to penetrate. Vg due to this penetration
The voltage becomes V0.

【1398】次に、TFT11aはソースドライバ回路
14が吸収する電流Iwに等しい電流を流す。しかし、
黒表示の場合、TFT11aが流す電流の値は小さい。
一例として30nA以下である。このような電流では、
ソース信号線18の寄生容量を1H期間内に十分に充放
電することができない。したがって、ソース信号線18
の電位を1H期間内に所定電圧にすることができない。
つまり、Vg電圧も低く、本来必要な電圧Vbとするこ
とができず、Vc電圧となる。
Next, the TFT 11a passes a current equal to the current Iw absorbed by the source driver circuit 14. But,
In the case of black display, the value of the current passed through the TFT 11a is small.
As an example, it is 30 nA or less. With such a current,
The parasitic capacitance of the source signal line 18 cannot be sufficiently charged / discharged within 1H period. Therefore, the source signal line 18
It is not possible to set the potential of 1 to a predetermined voltage within 1H period.
That is, the Vg voltage is also low, and the originally required voltage Vb cannot be obtained, and becomes the Vc voltage.

【1399】Vc電圧は、Vb電圧よりも低いため、T
FT11aはEL素子15に黒表示よりも大きな電流を
流す。そのため、EL素子15は所望値よりも明るく発
光する。したがって、EL表示パネルでは、黒浮きが発
生し、高コントラスト表示を実現できない。
Since the Vc voltage is lower than the Vb voltage, T
The FT 11a passes a current larger than that in black display in the EL element 15. Therefore, the EL element 15 emits light brighter than the desired value. Therefore, in the EL display panel, black floating occurs and high contrast display cannot be realized.

【1400】しかし、本発明の動作は以上の動作と異な
る。ゲート信号線17a(1)がオン電圧(vgl)か
らオフ電圧(Vgh)に変化するため、再び、コンデン
サ19bにより突き抜け電圧が発生するからである。こ
の突き抜け電圧により、Vg電圧はVc電圧から本来、
必要とするVb電圧にシフトする。したがって、TFT
11aは全く電流を流さないようにプログラムされる
か、もしくは所望値の黒電流を流すようにプログラムさ
れる。つまり、EL素子15には微小な電流しか流れな
いようにプログラムされる。そのため、本発明のEL表
示パネルは黒浮きがなく、高コントラスト表示を実現で
きる。このVb電圧は1フィールド(1フレーム)、つ
まり、次に画素が選択され、書き換えられるまで保持さ
れる。
However, the operation of the present invention is different from the above operation. This is because the gate signal line 17a (1) changes from the on-voltage (vgl) to the off-voltage (Vgh), so that the punch-through voltage is generated again by the capacitor 19b. Due to this penetration voltage, the Vg voltage is originally
Shift to the required Vb voltage. Therefore, the TFT
11a is programmed to pass no current, or is programmed to pass a desired value of black current. That is, the EL element 15 is programmed so that only a minute current flows. Therefore, the EL display panel of the present invention is free from blackening, and high contrast display can be realized. This Vb voltage is held in one field (one frame), that is, until the pixel is next selected and rewritten.

【1401】本発明は突き抜け電圧をうまく利用して、
良好な黒表示を実現している。該当の画素行が選択さ
れ、ゲート信号線17aにオン電圧が印加されると、図
229に図示するようにV0電圧が突き抜けてVg電圧
がより、白表示をなる方向にシフトしてしまう。しか
し、この突き抜けた電圧は、ソース信号線18からの電
圧により短時間に充電される。特に、TFT11aのゲ
ート端子電圧が低下する方向であるので、TFT11a
がより電流を流す方向になり、短時間に充電されるので
ある。しがたって、V0電圧分の突き抜けは全く問題と
ならない。
The present invention makes good use of the penetration voltage,
A good black display is realized. When the corresponding pixel row is selected and the ON voltage is applied to the gate signal line 17a, the V0 voltage penetrates as shown in FIG. 229 and the Vg voltage shifts further toward white display. However, this penetrating voltage is charged in a short time by the voltage from the source signal line 18. In particular, since the gate terminal voltage of the TFT 11a tends to decrease, the TFT 11a
Is more likely to flow current, and is charged in a short time. Therefore, the penetration of the V0 voltage does not pose any problem.

【1402】TFT11aのゲート端子電圧Vgが目標
値のVb電圧に近づくにつれて、TFT11aは電流を
流さない方向となる。したがって、目標の端子電圧Vb
になかなか到達しない。特に、プログラムされる電流が
黒表示の電流に近づくにつれてその影響が顕著になる。
図229では1Hの選択期間の終了時でもVb電圧とな
らず、Vc電圧となっている。
[1402] As the gate terminal voltage Vg of the TFT 11a approaches the target value Vb voltage, the TFT 11a is in the direction in which no current flows. Therefore, the target terminal voltage Vb
It does not reach easily. In particular, the influence becomes more remarkable as the programmed current approaches the black display current.
In FIG. 229, the voltage is not the Vb voltage but the Vc voltage even at the end of the selection period of 1H.

【1403】1Hの期間後、該当の画素行が非選択さ
れ、ゲート信号線17aにオフ電圧が印加されると、図
229に図示するようにゲート信号線17aには、Vg
h電圧が印加され、突き抜け電圧が発生する。この突き
抜け電圧により、TFT11aのゲート端子電圧が目標
のVb電圧に到達する。
[1403] After the period of 1H, when the corresponding pixel row is unselected and an off voltage is applied to the gate signal line 17a, Vg is applied to the gate signal line 17a as illustrated in FIG. 229.
The h voltage is applied and a punch-through voltage is generated. Due to this punch-through voltage, the gate terminal voltage of the TFT 11a reaches the target Vb voltage.

【1404】以上のように本発明は、ゲート信号線17
aの電圧変動はコンデンサ11bを介してTFT11a
に供給し、EL素子15に流れる電流を制御している。
この制御は特に、黒表示を実現するのに有効である。
As described above, according to the present invention, the gate signal line 17
The voltage fluctuation of a is caused by the TFT 11a via the capacitor 11b.
The current supplied to the EL element 15 is controlled.
This control is particularly effective for realizing black display.

【1405】以上の説明では、選択した画素行のゲート
信号線17aの突き抜け電圧により、駆動用TFT11
aを制御するものであった。しかし、本発明は、これに
限定するものではない。たとえば、図230に図示する
ように、隣接した画素行のゲート信号線17aの突き抜
けを利用するものでもよい。
[1405] In the above description, the driving TFT 11 is driven by the punch-through voltage of the gate signal line 17a of the selected pixel row.
It controlled a. However, the present invention is not limited to this. For example, as shown in FIG. 230, the punch-through of the gate signal line 17a of the adjacent pixel row may be used.

【1406】図140で説明したように、複数画素行を
同時に選択し、1画素行ずつ選択画素行をシフトしてい
く方法である。印加するゲート信号線17の電圧波形を
図231に図示している。
As described with reference to FIG. 140, this is a method of simultaneously selecting a plurality of pixel rows and shifting the selected pixel rows by one pixel row. The voltage waveform of the applied gate signal line 17 is shown in FIG.

【1407】図230は、次の画素行のゲート信号線1
7aにコンデンサ19bの一端子を図196、図194
で説明したように接続している。また、図179のよう
に、ゲート信号線17bを複数画素行で共通にしている
(点灯制御線1791で短絡)。また、図131、図1
97で説明したように、ゲートドライバIC12を表示
画面21の一辺に配置した3辺フリーの構成を採用して
いる。
[1407] FIG. 230 shows the gate signal line 1 of the next pixel row.
One terminal of the capacitor 19b is attached to 7a in FIG.
Connected as described in. Further, as shown in FIG. 179, the gate signal line 17b is shared by a plurality of pixel rows (short-circuited at the lighting control line 1791). Also, FIG. 131 and FIG.
As described with reference to 97, the three-side free configuration in which the gate driver IC 12 is arranged on one side of the display screen 21 is adopted.

【1408】図1のTFT11a、図21、図43、図
71のTFT11bのキンクバラツキの影響を軽減する
ためには、TFT11を形成する基板の電位を固定する
ことが好ましい。たとえば、シリコン基板などの金属基
板上にTFTを形成すればよい。また、ガラス基板にT
FTを形成する場合でも、基板に金属などで薄い電位安
定化層を形成し、この上にTFT11などを形成する。
また、この電位安定化層にTFTなどの素子の1端子を
接地するとよい。以上のように、基板を電位固定するこ
とのより、キンクバラツキを大幅に低減できる。特に、
光を上取り出しする構成の場合は、基板を透明にする必
要がないので、上記の構成の採用は容易である。
[1408] In order to reduce the influence of kink variation of the TFT 11a of FIG. 1 and the TFT 11b of FIGS. 21, 43, and 71, it is preferable to fix the potential of the substrate on which the TFT 11 is formed. For example, the TFT may be formed on a metal substrate such as a silicon substrate. Also, T on the glass substrate
Even when the FT is formed, a thin potential stabilizing layer is formed of a metal or the like on the substrate, and the TFT 11 and the like are formed thereon.
Further, one terminal of an element such as a TFT may be grounded on this potential stabilizing layer. As described above, by fixing the potential of the substrate, it is possible to significantly reduce kink variations. In particular,
In the case of a structure in which light is taken out upward, it is not necessary to make the substrate transparent, so that the above structure can be easily adopted.

【1409】図231でも理解できるように、隣接した
画素行のゲート信号線17aは注目する画素行のゲート
信号線17aに対して1H遅れて、Vghとなる。した
がって、突き抜け電圧は1H遅れて印加される。他の動
作は、図228、図229で説明した動作と同一である
ので説明を省略する。
As can be understood from FIG. 231, the gate signal line 17a of the adjacent pixel row becomes Vgh with a delay of 1H from the gate signal line 17a of the pixel row of interest. Therefore, the punch-through voltage is applied with a delay of 1H. Other operations are the same as the operations described with reference to FIGS. 228 and 229, and therefore description thereof will be omitted.

【1410】図228、図229は駆動用TFT11a
がPチャンネルの場合であった。駆動用TFT11aが
Nチャンネルの場合は、図232の駆動波形となる。n
チャンネルの場合は、Vgh電圧の印加でスイッチング
TFT11bなどがオンし、Vgl電圧の印加でオフす
る。したがって、突き抜け電圧は図232のVg波形で
もわかるように、ゲート信号線17aに印加された電圧
がVgl→Vghとなる時、Vgh→Vglとなる時に
発生する。画素行を選択し、非選択された時には、Vg
電圧はより低くなっている。したがって、駆動TFT1
1aをNチャンネルで形成しておけば、図228、図2
29で説明したように、良好な黒表示を実現できる。
[1410] FIGS. 228 and 229 show the driving TFT 11a.
Was for the P channel. When the driving TFT 11a has N channels, the driving waveform is as shown in FIG. n
In the case of a channel, the switching TFT 11b and the like are turned on by applying the Vgh voltage, and turned off by applying the Vgl voltage. Therefore, as can be seen from the Vg waveform in FIG. 232, the punch-through voltage occurs when the voltage applied to the gate signal line 17a changes from Vgl to Vgh and from Vgh to Vgl. When a pixel row is selected and not selected, Vg
The voltage is lower. Therefore, the driving TFT1
228 and FIG.
As described in 29, good black display can be realized.

【1411】なお、図210は図1のTFTのPチャン
ネルとNチャンネルに変更したものである。したがっ
て、動作は図1、図171などと同様であるので説明を
省略する。また、PチャンネルとNチャンネルとの変更
は図21、図43、図71などでも同様であるので、本
発明の突き抜け電圧用のコンデンサ19bの概念をその
まま他の画素構成にも適用することができる。
[1411] Note that FIG. 210 is the one in which the P channel and the N channel of the TFT of FIG. 1 are changed. Therefore, the operation is the same as that in FIGS. Since the change of the P channel and the N channel is the same in FIGS. 21, 43, 71, etc., the concept of the capacitor 19b for punch-through voltage of the present invention can be applied to other pixel configurations as it is. .

【1412】また、駆動用TFT11(図1ではTFT
11a、図21ではTFT11bなど)はPチャンネル
よりもNチャンネルの方が突き抜け電圧による制御は良
好な結果となる場合が多い。以下、この理由について説
明をしておく。
[1412] Also, the driving TFT 11 (TFT in FIG.
11a, the TFT 11b in FIG. 21) has better control by the punch-through voltage in the N channel than in the P channel in many cases. The reason for this will be described below.

【1413】図270(a)は、ドレイン電圧(D)を
ソース電圧(S)に対して、十分に低電圧にした(飽和
領域)にした場合の電流出力を示している。横軸は、ソ
ース(S)電圧に対してゲート(G)電圧である。ゲー
ト電圧をマイナス側にした時にソース(S)−ドレイン
(D)間に電流が流れる。縦軸は、ソース(S)−ドレ
イン(D)間電流である。
FIG. 270 (a) shows the current output when the drain voltage (D) is set sufficiently lower than the source voltage (S) (saturation region). The horizontal axis represents the gate (G) voltage with respect to the source (S) voltage. When the gate voltage is set to the negative side, a current flows between the source (S) and the drain (D). The vertical axis represents the current between the source (S) and the drain (D).

【1414】一般的に低温ポリシリコン技術で形成した
TFTはV0電圧以下にした時に、電流が流れる。V0電
圧は3〜4(V)である。また、一般的に、Pチャンネ
ルのTFTは電流が流れ始める電圧(V0)から1〜
1.5(V)で1〜10μA(たとえば、W/L=6/
9μm)の電流が流れる。この電圧幅をVc(V)とす
る。
[1414] Generally, in the TFT formed by the low temperature polysilicon technique, a current flows when the voltage is lower than V0 voltage. The V0 voltage is 3 to 4 (V). In general, the P-channel TFT has a voltage (V0) from which the current starts to flow from 1 to 1.
1 to 10 μA at 1.5 (V) (for example, W / L = 6 /
A current of 9 μm) flows. This voltage width is Vc (V).

【1415】したがって、Pチャンネルの場合は、黒表
示の時、ゲート(G)電圧V0で電流が流れはじめ、ゲ
ート(G)電圧V0+Vcで1〜10μAの電流が流れ
る。図1の主要な部分を抜き出し、等価回路図で書く
と、図270(c)のようになる。保持用のコンデンサ
19aの容量をCaとし、突き抜け電圧発生用のコンデ
ンサ19bの容量とCb、TFT11bのチャンネル容
量をCtとする。また、CbとCtとを加えた容量をC
cとする。TFT11aのゲート電圧をVgとする。
[1415] Therefore, in the case of the P channel, when black is displayed, a current starts to flow at the gate (G) voltage V0, and a current of 1 to 10 μA flows at the gate (G) voltage V0 + Vc. FIG. 270 (c) is obtained by extracting the main part of FIG. 1 and writing it in an equivalent circuit diagram. The capacity of the holding capacitor 19a is Ca, the capacity of the punch-through voltage generating capacitor 19b and Cb, and the channel capacity of the TFT 11b are Ct. In addition, the capacity obtained by adding Cb and Ct is C
Let be c. The gate voltage of the TFT 11a is Vg.

【1416】ゲート信号線17aに印加された電圧は、
CaとCcに分圧され、TFT11aのゲート端子に印
加される。たとえば、Ca:Cc=3:2で、ゲート信
号線の電圧が10(V)変化したとすれば、この電圧
は、3:2に分圧されてゲート端子にVgとして印加さ
れる。つまり、Vdd=0(V)であれば、ゲート信号
線17aの電位が0(V)から−10(V)に変化した
時、Vg=−4(V)となる。
[1416] The voltage applied to the gate signal line 17a is
The voltage is divided into Ca and Cc and applied to the gate terminal of the TFT 11a. For example, if Ca: Cc = 3: 2 and the voltage of the gate signal line changes by 10 (V), this voltage is divided into 3: 2 and applied as Vg to the gate terminal. That is, if Vdd = 0 (V), Vg = -4 (V) when the potential of the gate signal line 17a changes from 0 (V) to -10 (V).

【1417】Vgにあらかじめ所定電圧が印加されてい
る場合も同様である。ゲート信号線17aに印加された
電圧の変化がCaとCc容量に分圧されて印加する。し
かし、突き抜け電圧は、ゲート信号線17の電位の変化
によるものである。また、Ca、Ccは固定値である。
そのため、電位の変化はVghとVglで決まるから一
定である。たとえば、突き抜け電圧は、画像表示状態に
関わらず、0.1(V)というように一定値である。
The same applies when a predetermined voltage is applied to Vg in advance. The change in voltage applied to the gate signal line 17a is divided into Ca and Cc capacitances and applied. However, the punch-through voltage is due to the change in the potential of the gate signal line 17. Further, Ca and Cc are fixed values.
Therefore, the change in potential is constant because it is determined by Vgh and Vgl. For example, the punch-through voltage is a constant value such as 0.1 (V) regardless of the image display state.

【1418】Vg電圧は、画像によって変化する。たと
えば、黒表示では、Vg電圧は−3(V)である。白表
示では−4(V)である(図270(a)の実線aを参
照)。しかし、突き抜け電圧は、たとえば、0.1
(V)というように固定値である。そのため、黒表示の
Vg=3(V)に対する突き抜け電圧0.1(V)と、
白表示のVg=4(V)に対する突き抜け電圧0.1
(V)とは寄与度が異なる。つまり、黒表示に対する突
き抜け電圧の割合の方が、白表示に対する突き抜け電圧
の割合の方大きい。したがって、突き抜け電圧の影響
は、黒表示で大きく、白表示で小さいことになる。
The Vg voltage changes depending on the image. For example, in black display, the Vg voltage is -3 (V). It is -4 (V) in white display (see the solid line a in FIG. 270 (a)). However, the penetration voltage is, for example, 0.1
It is a fixed value such as (V). Therefore, the penetration voltage is 0.1 (V) with respect to Vg = 3 (V) for black display,
Penetration voltage 0.1 against Vg = 4 (V) displayed in white
The contribution is different from (V). That is, the ratio of the punch-through voltage to the black display is higher than that of the white display. Therefore, the effect of the punch-through voltage is large in black display and small in white display.

【1419】この動作は、EL表示パネルの表示を良好
な方にすることに寄与する。つまり、黒表示で突き抜け
電圧が大きければ、黒表示で、ソース信号線18に流す
プログラム電流が大きくなる。したがって、書き込み不
足が解消される。白表示で突き抜け電圧の影響は小さい
方がよい。
This operation contributes to the better display of the EL display panel. That is, if the penetration voltage is high in black display, the program current flowing through the source signal line 18 is high in black display. Therefore, the write shortage is resolved. It is better that the effect of punch-through voltage is small in white display.

【1420】駆動用TFT11がPチャンネルの場合
は、黒表示にするV0電圧が−3(V)以下と絶対値が
比較的大きい。少なくとも、黒表示の階調1(第1番目
の階調)で流す電流(およそ、2〜50nA)を発生す
る電圧V0と、白表示の最大の階調で流す電流Ii(μ
A)を発生する電圧V0+Vcとの関係は次式を満足さ
せることが好ましい。
When the driving TFT 11 is a P channel, the V0 voltage for displaying black is -3 (V) or less, which is a relatively large absolute value. At least a voltage V0 that generates a current (approximately 2 to 50 nA) to flow at the gray level 1 (first gray level) for black display and a current Ii (μ for flowing at the maximum gray level for white display)
The relationship with the voltage V0 + Vc for generating A) preferably satisfies the following equation.

【1421】1/2 ≦ |(Vc+V0)/V0| ≦
3 さらに好ましくは、 1 ≦ |(Vc+V0)/V0| ≦ 2 を満足させることが好ましい。突き抜け電圧の影響が黒
表示で顕著となり、良好な黒表示を実現でき、かつ、白
表示での突き抜け電圧の影響が軽減からである。
[1421] 1/2 ≤ | (Vc + V0) / V0 | ≤
3 More preferably, it is preferable to satisfy 1 ≦ | (Vc + V0) / V0 | ≦ 2. This is because the effect of the punch-through voltage is remarkable in the black display, good black display can be realized, and the effect of the punch-through voltage in the white display is reduced.

【1422】また、図270(a)において、従来のV
cの大きさをV0に比較して相対的に大きくしてもよ
い。つまり、S値を小さくする。また、モビリティを小
さくする。
[1422] Also, in FIG. 270 (a), the conventional V
The size of c may be relatively large as compared with V0. That is, the S value is reduced. Also, reduce mobility.

【1423】図270(a)のPチャンネルの場合は、
点線bに示すようにV0電圧を0電位側にシフトさせる
ことが好ましい。このシフトは、PチャンネルTFTの
半導体層へのドーピング量を変更することにより実現で
きる。以上の事項は、図270(b)のNチャンネルの
場合も同様である。
[1432] For the P channel of FIG. 270 (a),
It is preferable to shift the V0 voltage to the 0 potential side as shown by the dotted line b. This shift can be realized by changing the doping amount in the semiconductor layer of the P-channel TFT. The above items also apply to the N channel shown in FIG. 270 (b).

【1424】アレイ作製にあたっては、ゲートドライバ
回路12などを構成するTFTのドーピングは従来と同
一にし、画素のTFT11aのドーピング量を変化させ
ればよい。これは、ドーピングの際、マスクを用いるこ
とにより形成できる。また、ゲートドライバ回路12な
どを構成するTFTをNチャンネルのみで構成し、画素
のTFT11aをPチャンネルとする。逆に、画素のT
FT11aをNチャンネルとした場合は、ゲートドライ
バ回路12などを構成するTFTなどはPチャンネルと
する。以上の事項は以下の事項にも適用することができ
る。
When manufacturing the array, the TFTs constituting the gate driver circuit 12 and the like may be doped in the same manner as in the conventional case, and the doping amount of the TFT 11a of the pixel may be changed. This can be formed by using a mask during doping. In addition, the TFTs forming the gate driver circuit 12 and the like are composed of only N channels, and the TFTs 11a of the pixels are composed of P channels. Conversely, the T of the pixel
When the FT 11a is an N channel, the TFTs and the like forming the gate driver circuit 12 and the like are P channels. The above items can also be applied to the following items.

【1425】図270はNチャンネルのTFTのソース
電圧(S)とドレイン電圧(D)に対して、十分に高電
圧にした(飽和領域)にした場合の電流出力を示してい
る。横軸は、ソース(S)電圧に対してゲート(G)電
圧である。ゲート電圧をプラス側にした時にソース
(S)−ドレイン(D)間に電流が流れる。縦軸は、ソ
ース(S)−ドレイン(D)間電流Iiである。
FIG. 270 shows the current output when the source voltage (S) and the drain voltage (D) of the N-channel TFT are set sufficiently high (saturation region). The horizontal axis represents the gate (G) voltage with respect to the source (S) voltage. When the gate voltage is set to the positive side, a current flows between the source (S) and the drain (D). The vertical axis represents the source (S) -drain (D) current Ii.

【1426】一般的に低温ポリシリコン技術で形成した
NチャンネルのTFTはV0電圧以上にした時に、電流
が流れる。V0電圧は1〜2(V)である。また、一般
的に、NチャンネルのTFTは電流が流れ始める電圧
(V0)から1〜1.5(V)で1〜10μA(たとえ
ば、W/L=6/9μm)の電流が流れる。この電圧幅
をVc(V)とする。
[1426] Generally, an N-channel TFT formed by the low temperature polysilicon technique causes a current to flow when the voltage is higher than V0 voltage. The V0 voltage is 1 to 2 (V). Further, generally, in the N-channel TFT, a current of 1 to 10 μA (for example, W / L = 6/9 μm) flows at 1 to 1.5 (V) from the voltage (V 0) at which the current starts to flow. This voltage width is Vc (V).

【1427】したがって、Nチャンネルの場合は、黒表
示の時、ゲート(G)電圧V0で電流が流れはじめ、ゲ
ート(G)電圧V0+Vcで1〜10μAの電流が流れ
る。
[1427] Therefore, in the case of the N channel, during black display, a current starts to flow at the gate (G) voltage V0, and a current of 1 to 10 μA flows at the gate (G) voltage V0 + Vc.

【1428】Vg電圧は、画像によって変化する。たと
えば、黒表示では、Vg電圧はグランド電圧から、1.
5(V)である。白表示では2.5(V)である(図2
70(b)を参照)。しかし、突き抜け電圧は、たとえ
ば、0.1(V)というように固定値である。そのた
め、黒表示のVg=1.5(V)に対する突き抜け電圧
0.1(V)と、白表示のVg=2.5(V)に対する
突き抜け電圧0.1(V)とは寄与度が異なる。つま
り、黒表示に対する突き抜け電圧の割合の方が、白表示
に対する突き抜け電圧の割合の方大きい。したがって、
突き抜け電圧の影響は、黒表示で大きく、白表示で小さ
いことになる。つまり、Nチャンネルでは、Pチャンネ
ルに比較してV0電圧が低い。そのため、駆動TFT11
aは、Nチャンネルの方が、Pチャンネルよりも、つま
り、黒表示で突き抜け電圧が大きくなり、黒表示で、ソ
ース信号線18に流すプログラム電流が大きくなる。し
たがって、書き込み不足が解消される。
The Vg voltage changes depending on the image. For example, in black display, the Vg voltage is 1.
It is 5 (V). It is 2.5 (V) in white display (Fig. 2
70 (b)). However, the punch-through voltage is a fixed value such as 0.1 (V). Therefore, the penetration voltage 0.1 (V) for black display Vg = 1.5 (V) and the penetration voltage 0.1 (V) for white display Vg = 2.5 (V) have different contributions. . That is, the ratio of the punch-through voltage to the black display is higher than that of the white display. Therefore,
The effect of the punch-through voltage is large in black display and small in white display. That is, the V0 voltage in the N channel is lower than that in the P channel. Therefore, the driving TFT 11
As for a, the N channel has a higher punch-through voltage than the P channel, that is, in the black display, and the program current flowing through the source signal line 18 becomes larger in the black display. Therefore, the write shortage is resolved.

【1429】なお、以上の事項は、図54、図68、図
103などの電圧プログラムの画素構成に対しても適用
することができることは言うまでもない。つまり、一定
以上のプログラム電圧以上にならないとEL素子15に
電流を流さないようにすることができるからである。し
たがって、黒表示などにおいて、ノイズで信号が揺れて
いる際は、ノイズレベルを除去(突き抜け電圧の効果に
より、一定のレベルまではEL素子15は点灯しない)
できるからである。また、白ピーク輝度をだしやすくな
り、画質が向上する。
It is needless to say that the above items can be applied to the pixel configuration of the voltage program shown in FIGS. 54, 68, 103 and the like. That is, it is possible to prevent the current from flowing through the EL element 15 unless the program voltage exceeds a certain level. Therefore, in black display or the like, when the signal fluctuates due to noise, the noise level is removed (the EL element 15 does not light up to a certain level due to the effect of the punch-through voltage).
Because you can. Further, the white peak luminance is easily produced, and the image quality is improved.

【1430】また、以上の実施例ではコンデンサ19b
の容量で、突き抜け電圧を設定(所望値にする)すると
した。突き抜け電圧の値は、ゲート信号線17の振幅値
で変化する。したがって、ゲート信号線17a(図1の
場合)の振幅値を調整することにより、突き抜け電圧を
調整することができる。たとえば、ゲート信号線のVg
h=10(V)、Vgl=0(V)であれば、振幅値は
10(V)である。この状態で突き抜け電圧が0.1
(V)とする。Vghを12(V)とすることにより振
幅値は12(V)となる。したがって、理想的には突き
抜け電圧は0.12(V)となる。つまり、ゲート信号
線17の振幅により自由に突き抜け電圧を変更でき、ベ
ース電流を調整できる。
[1430] Also, in the above embodiments, the capacitor 19b is used.
It is assumed that the punch-through voltage is set (set to a desired value) with the capacity of. The value of the punch-through voltage changes depending on the amplitude value of the gate signal line 17. Therefore, the punch-through voltage can be adjusted by adjusting the amplitude value of the gate signal line 17a (in the case of FIG. 1). For example, Vg of the gate signal line
If h = 10 (V) and Vgl = 0 (V), the amplitude value is 10 (V). In this state, the penetration voltage is 0.1
(V). By setting Vgh to 12 (V), the amplitude value becomes 12 (V). Therefore, ideally, the penetration voltage is 0.12 (V). That is, the punch-through voltage can be freely changed by adjusting the amplitude of the gate signal line 17, and the base current can be adjusted.

【1431】この制御は容易である。ゲート電圧を発生
する電源回路をコマンドにより、VghまたはVglの
値を設定できるようにしておけばよいからである。この
電圧を調整することにより、突き抜け電圧の微妙な調整
が可能になる。
[1431] This control is easy. This is because the power supply circuit for generating the gate voltage may be set with a command so that the value of Vgh or Vgl can be set. By adjusting this voltage, the punch-through voltage can be finely adjusted.

【1432】ゲート信号線17aに印加する信号(TF
T11のオンオフ信号)のスルーレート(立ち上がりお
よび立下り時間に対する電圧の変化)が高いと突き抜け
電圧は増加する傾向にある。逆にスルーレートが低いと
突き抜け電圧は低下する。つまり、スルーレート40
(V)/μsecの方が、20(V)/μsecよりも突き抜
け電圧は大きくなる。ゲート信号のスルーレートはゲー
トドライバ12の出力バッファ(インバータ回路、オペ
アンプなど)の駆動能力で変化する。出力バッファの出
力電流を制御することにより、スルーレートを調整でき
る。したがって、出力バッファの出力電流を制御するこ
とにより、突き抜け電圧を調整できる。出力バッファの
出力電流を制御することは、出力バッファの供給電圧を
調整すること、ゲート端子への印加波形を鈍らすことな
どにより実現できる。また、供給電圧を調整することは
回路構成上、容易である。ゲート端子への印加波形を鈍
らすことは前段のバッファのサイズを小さくすること
(能力を低下させる)により、実現できる。また、ゲー
ト信号線17aに印加するオンオフ信号をサインカーブ
や鋸歯状の信号としても突き抜け電圧を変化できる。以
上の事項は、以下に説明する電圧制御信号線、共通信号
線の制御においても適用される。
[1432] A signal applied to the gate signal line 17a (TF
If the slew rate (change in voltage with respect to rise time and fall time) of the T11 on / off signal) is high, the punch-through voltage tends to increase. Conversely, if the slew rate is low, the punch-through voltage will decrease. In other words, slew rate 40
The penetration voltage is higher in (V) / μsec than in 20 (V) / μsec. The slew rate of the gate signal changes depending on the driving capability of the output buffer (inverter circuit, operational amplifier, etc.) of the gate driver 12. The slew rate can be adjusted by controlling the output current of the output buffer. Therefore, the punch-through voltage can be adjusted by controlling the output current of the output buffer. The control of the output current of the output buffer can be realized by adjusting the supply voltage of the output buffer and blunting the waveform applied to the gate terminal. Further, adjusting the supply voltage is easy in terms of circuit configuration. The blunting of the waveform applied to the gate terminal can be realized by reducing the size of the buffer in the previous stage (reducing the capacity). Further, the punch-through voltage can be changed by using an on / off signal applied to the gate signal line 17a as a sine curve or sawtooth signal. The above items are also applied to the control of the voltage control signal line and the common signal line described below.

【1433】なお、図171などにおいて、突き抜け電
圧発生用のコンデンサ19bは、一方の電極をゲート信
号線17にするとしたが(ゲート信号線17に接続する
としたが)、これに限定するものではない。例えば、突
き抜け電圧発生用にコンデンサ19bの制御用の電圧制
御信号線を別途形成する。コンデンサ19bの2つの電
極のうち、一方をTFT11aのゲート端子に接続し、
他方を別途形成した前記電圧制御信号線に接続する構成
でもよい。この構成では、ゲート信号線17aの選択状
態に同期して、電圧制御信号線にパルス信号(矩形波に
限定するものではない。サインカーブや鋸歯状の信号で
もよい)を印加すればよい。また、このパルス振幅値を
調整することにより、突き抜け電圧を容易に調整でき
る。
In FIG. 171, etc., the capacitor 19b for generating punch-through voltage has one electrode as the gate signal line 17 (although it is supposed to be connected to the gate signal line 17), but it is not limited to this. . For example, a voltage control signal line for controlling the capacitor 19b is separately formed to generate the punch-through voltage. One of the two electrodes of the capacitor 19b is connected to the gate terminal of the TFT 11a,
The other may be connected to the separately formed voltage control signal line. In this configuration, a pulse signal (not limited to a rectangular wave, a sine curve or a sawtooth signal) may be applied to the voltage control signal line in synchronization with the selected state of the gate signal line 17a. Further, the punch-through voltage can be easily adjusted by adjusting the pulse amplitude value.

【1434】この構成を図235に示している。電圧制
御信号線17cに印加されたパルス電圧によって、コン
デンサ19bを介して突き抜け電圧がTFT11aのゲ
ート端子に印加される。
[1434] This configuration is shown in FIG. 235. A punch-through voltage is applied to the gate terminal of the TFT 11a via the capacitor 19b by the pulse voltage applied to the voltage control signal line 17c.

【1435】電圧制御信号線17cはゲート信号線17
と動作は同一である。図236に図示するように、電圧
制御信号線17cはゲートドライバ回路12の出力端子
として構成される。また、図179で説明したように、
ゲート信号線17bは点灯制御線1791に接続されて
いる。
The voltage control signal line 17c is the gate signal line 17
And the operation is the same. As shown in FIG. 236, the voltage control signal line 17c is configured as an output terminal of the gate driver circuit 12. In addition, as described in FIG. 179,
The gate signal line 17b is connected to the lighting control line 1791.

【1436】突き抜け電圧を発生させる信号をゲート信
号線17aから供給するのではなく、図237に図示す
るように、電圧制御信号線17cから供給すると突き抜
け電圧の制御が容易になる。図237は図236の表示
パネルを駆動する信号波形の説明図である。なお、説明
を容易にするため、選択する画素行は画素行番号(1)
であるとして説明する。
When the signal for generating the punch-through voltage is not supplied from the gate signal line 17a but is supplied from the voltage control signal line 17c as shown in FIG. 237, the control of the punch-through voltage becomes easy. FIG. 237 is an explanatory diagram of signal waveforms for driving the display panel of FIG. 236. For ease of explanation, the pixel row selected is the pixel row number (1).
Will be described.

【1437】画素行(1)が選択されると、ゲート信号
線17a(1)がVghからVglに変化するため、コ
ンデンサ19bによって、ゲート信号線17aの電位が
突き抜ける。この突き抜けによりVg電圧はV0とな
る。
When the pixel row (1) is selected, the gate signal line 17a (1) changes from Vgh to Vgl, so that the capacitor 19b allows the potential of the gate signal line 17a to penetrate. Due to this penetration, the Vg voltage becomes V0.

【1438】次に、TFT11aは、ソースドライバ回
路14が吸収する電流Iwに等しい電流を流す。しか
し、黒表示の場合、TFT11aが流す電流の値は小さ
い。一例として30nA以下である。このような電流で
は、ソース信号線18の寄生容量を1H期間内に十分に
充放電することができない。したがって、ソース信号線
18の電位を1H期間内に所定電圧にすることができな
い。つまり、Vg電圧も低く、本来必要な電圧Vbとす
ることができず、Vc電圧となる。
Next, the TFT 11a causes a current equal to the current Iw absorbed by the source driver circuit 14 to flow. However, in the case of black display, the value of the current passed through the TFT 11a is small. As an example, it is 30 nA or less. Such a current cannot sufficiently charge and discharge the parasitic capacitance of the source signal line 18 within the 1H period. Therefore, the potential of the source signal line 18 cannot be set to the predetermined voltage within the 1H period. That is, the Vg voltage is also low, and the originally required voltage Vb cannot be obtained, and becomes the Vc voltage.

【1439】つぎに、ゲート信号線17a(1)がオン
電圧(vgl)からオフ電圧(Vgh)に変化するた
め、再び、コンデンサ19bにより突き抜け電圧が発生
する。この突き抜け電圧により、Vg電圧はVc電圧か
らVa電圧にシフトする。
Next, since the gate signal line 17a (1) changes from the on-voltage (vgl) to the off-voltage (Vgh), the punch-through voltage is generated again by the capacitor 19b. This penetration voltage shifts the Vg voltage from the Vc voltage to the Va voltage.

【1440】さらに、t1の時間遅れて、電圧制御信号
線17c(1)が低電圧から高電圧にシフトする。した
がって、さらに突き抜け電圧が発生し、TFT11aの
ゲート端子電圧Vgは目標電圧のVbにシフトする。こ
のシフトする電圧を調整することにより、突き抜け電圧
を自由に制御できる。つまり、図228、図229の構
成では電圧の変化(突き抜け電圧量)は、ゲート信号線
17aの振幅で制約される。しかし、図236のよう
に、電圧制御信号線17cを別途設けることにより、突
き抜け電圧量を変更することが容易となる。また、印加
する信号のスルーレートの制御も容易である。また、電
圧制御信号線17cに印加する信号の電位レベルにも制
約を受けないため、回路構成も容易となる。
[1440] Further, the voltage control signal line 17c (1) shifts from the low voltage to the high voltage after a delay of t1. Therefore, a penetration voltage is further generated, and the gate terminal voltage Vg of the TFT 11a shifts to the target voltage Vb. By adjusting the shifting voltage, the punch-through voltage can be freely controlled. That is, in the configurations of FIGS. 228 and 229, the change in voltage (amount of punch-through voltage) is restricted by the amplitude of the gate signal line 17a. However, as shown in FIG. 236, by separately providing the voltage control signal line 17c, it becomes easy to change the amount of punch-through voltage. Further, it is easy to control the slew rate of the applied signal. Further, since there is no restriction on the potential level of the signal applied to the voltage control signal line 17c, the circuit configuration becomes easy.

【1441】したがって、TFT11aは全く電流を流
さないようにプログラムされるか、もしくは所望値の黒
電流を流すようにプログラムされる。つまり、EL素子
15には微小な電流しか流れないようにプログラムされ
る。そのため、本発明のEL表示パネルは黒浮きがな
く、高コントラスト表示を実現できる。このVb電圧は
1フィールド(1フレーム)、つまり、次に画素が選択
され、書き換えられるまで保持される。
[1441] Therefore, the TFT 11a is programmed so that no current flows or a black current having a desired value is supplied. That is, the EL element 15 is programmed so that only a minute current flows. Therefore, the EL display panel of the present invention is free from blackening, and high contrast display can be realized. This Vb voltage is held in one field (one frame), that is, until the pixel is next selected and rewritten.

【1442】以上のように本発明は、電圧制御信号信号
線17cの電圧変動は、コンデンサ11bを介してTF
T11aに供給される。したがって、EL素子15に流
れる電流を制御している。この制御は特に、黒表示を実
現するのに有効である。
As described above, according to the present invention, the voltage fluctuation of the voltage control signal signal line 17c is controlled by the TF via the capacitor 11b.
It is supplied to T11a. Therefore, the current flowing through the EL element 15 is controlled. This control is particularly effective for realizing black display.

【1443】図237と図238との差異は、電圧制御
信号線17cの動作タイミングt1を1Hとした点であ
る。他の点は同一である。図238のように構成するこ
とにおり、ゲート信号線17aと電圧制御信号線17c
との動作クロックを同一にすることができるため、回路
構成が容易になる。
The difference between FIGS. 237 and 238 is that the operation timing t1 of the voltage control signal line 17c is set to 1H. The other points are the same. By adopting the configuration shown in FIG. 238, the gate signal line 17a and the voltage control signal line 17c are
Since the operation clocks of and can be made the same, the circuit configuration becomes easy.

【1444】図236は画素構成が図1の電流プログラ
ムの画素構成である。しかし、本発明は電流プログラム
方式に限定するものではなく、電圧プログラムの画素構
成にも適用することができる。図239は図54などで
説明した電圧プログラムの画素構成に、本発明の技術的
思想を適用したものである。
FIG. 236 shows a pixel configuration of the current program shown in FIG. However, the present invention is not limited to the current programming method and can be applied to the pixel configuration of voltage programming. FIG. 239 shows that the technical idea of the present invention is applied to the pixel configuration of the voltage program described with reference to FIG.

【1445】図239はコンデンサ19bの一端子をT
FT11bのドレイン端子に接続し、他方の端子を電圧
制御信号線17cと接続したものである。なお、スイッ
チングTFT11bはNチャンネルのTFTで形成して
いる。
[1445] FIG. 239 shows that one terminal of the capacitor 19b is T
It is connected to the drain terminal of the FT 11b and the other terminal is connected to the voltage control signal line 17c. The switching TFT 11b is formed by an N-channel TFT.

【1446】図240は図239の画素構成における駆
動波形の説明図である。画素行(1)が選択されると、
ゲート信号線17a(1)がVglからVghに変化す
るため、コンデンサ19bによって、ゲート信号線17
aの電位が突き抜ける。この突き抜けによりVg電圧
は、保持されていたVwからV0となる。
FIG. 240 is an explanatory diagram of drive waveforms in the pixel configuration of FIG. 239. When pixel row (1) is selected,
Since the gate signal line 17a (1) changes from Vgl to Vgh, the gate signal line 17a (1) is changed by the capacitor 19b.
The potential of a penetrates. Due to this penetration, the Vg voltage changes from the held Vw to V0.

【1447】次に、TFT11aは、ソースドライバ回
路14が吸収する電流Iwに等しい電流を流す。しか
し、黒表示の微小な電流では、ソース信号線18の寄生
容量を1H期間内に十分に充放電することができない。
したがって、ソース信号線18の電位を1H期間内に所
定電圧にすることができない。つまり、Vg電圧も低
く、本来必要な電圧Vbとすることができず、Vc電圧
となる。
Next, the TFT 11a causes a current equal to the current Iw absorbed by the source driver circuit 14 to flow. However, the minute current for black display cannot sufficiently charge and discharge the parasitic capacitance of the source signal line 18 within the 1H period.
Therefore, the potential of the source signal line 18 cannot be set to the predetermined voltage within the 1H period. That is, the Vg voltage is also low, and the originally required voltage Vb cannot be obtained, and becomes the Vc voltage.

【1448】つぎに、ゲート信号線17a(1)がオン
電圧(vgh)からオフ電圧(Vgl)に変化するた
め、再び、コンデンサ19bにより突き抜け電圧が発生
する。この突き抜け電圧により、Vg電圧はVc電圧か
らさらに低下してVa電圧にシフトする。
Next, since the gate signal line 17a (1) changes from the on voltage (vgh) to the off voltage (Vgl), the punch-through voltage is generated again by the capacitor 19b. Due to this penetration voltage, the Vg voltage further decreases from the Vc voltage and shifts to the Va voltage.

【1449】さらに、t1の時間遅れて、電圧制御信号
線17c(1)が低電圧から高電圧にシフトする。した
がって、突き抜け電圧が発生し、TFT11aのゲート
端子電圧Vgは目標電圧のVbにシフトする。したがっ
て、目標とする電圧VbをTFT11aのゲート端子に
印加することができる。
Further, after a delay of t1, the voltage control signal line 17c (1) shifts from the low voltage to the high voltage. Therefore, a punch-through voltage is generated, and the gate terminal voltage Vg of the TFT 11a shifts to the target voltage Vb. Therefore, the target voltage Vb can be applied to the gate terminal of the TFT 11a.

【1450】図240と図241との差異は、電圧制御
信号線17cの動作タイミングt1を1Hとした点であ
る。他の点は同一である。図241のように構成するこ
とにおり、ゲート信号線17aと電圧制御信号線17c
との動作クロックを同一にすることができるため、回路
構成が容易になる。
The difference between FIG. 240 and FIG. 241 is that the operation timing t1 of the voltage control signal line 17c is set to 1H. The other points are the same. By adopting the configuration shown in FIG. 241, the gate signal line 17a and the voltage control signal line 17c are
Since the operation clocks of and can be made the same, the circuit configuration becomes easy.

【1451】電圧制御信号線17cを用いる構成は、他
の数々の構成が例示される。たとえば、図242はスイ
ッチングTFT11cのドレイン端子と電圧制御信号線
17c間にコンデンサ19bを配置(形成)した構成で
ある。図242の構成は、直接にTFT11aのゲート
端子に突き抜け電圧を印加する構成ではない。しかし、
電圧制御信号線17cに印加した信号波形はコンデンサ
19bを介してTFT11cのドレイン端子に印加され
る。そして、このドレイン端子に印加された電圧がTF
T11bなどを介して、TFT11aのゲート端子に反
映(影響、作用、制御)されるのである。
The configuration using the voltage control signal line 17c is exemplified by various other configurations. For example, FIG. 242 shows a configuration in which a capacitor 19b is arranged (formed) between the drain terminal of the switching TFT 11c and the voltage control signal line 17c. The configuration of FIG. 242 is not a configuration in which the punch-through voltage is directly applied to the gate terminal of the TFT 11a. But,
The signal waveform applied to the voltage control signal line 17c is applied to the drain terminal of the TFT 11c via the capacitor 19b. The voltage applied to this drain terminal is TF
It is reflected (affected, operated, controlled) on the gate terminal of the TFT 11a via T11b and the like.

【1452】つまり、図242の画素構成では、EL素
子15に電流を流す駆動素子11aと直接制御するもの
ではない。しかし、駆動素子11aが流す電流を制御す
ることができる。本発明は、プログラムした電流を制御
してそれよりも低い(場合によっては高くする場合もあ
る。たとえば、白ピーク電流がよりながれるように制御
する場合である。)電流をなんらかの方法で行うもので
ある。したがって、図242の構成も本発明の技術的思
想の範疇である。
[1452] That is, in the pixel configuration of FIG. 242, it is not directly controlled with the drive element 11a that causes a current to flow through the EL element 15. However, it is possible to control the current passed by the drive element 11a. The present invention provides a method of controlling the programmed current to be lower (sometimes higher), such as controlling the white peak current to flow more. is there. Therefore, the configuration of FIG. 242 is also within the technical idea of the present invention.

【1453】図243は図21、図43、図71のカレ
ントミラーの画素構成において、電圧制御信号線17c
と突き抜け電圧発生用のコンデンサ19bを形成した方
式である。この構成については特に説明を要さないであ
ろう。したがって、説明を省略する。
FIG. 243 shows the voltage control signal line 17c in the pixel configuration of the current mirror shown in FIGS. 21, 43 and 71.
And a capacitor 19b for generating punch-through voltage is formed. No particular explanation will be required for this configuration. Therefore, the description is omitted.

【1454】図245は、突き抜け電圧発生用11aを
形成していない。電圧制御信号線17cは保持用コンデ
ンサ19の一端子に接続されている。いままで突き抜け
電圧用コンデンサ19bに印加する電圧でTFT11a
のゲート端子の電位を制御し、TFT11aが流す電流
を調整するとして説明した。
[1454] In FIG. 245, the punch-through voltage generating 11a is not formed. The voltage control signal line 17c is connected to one terminal of the holding capacitor 19. Until now, the TFT 11a has been applied with the voltage applied to the punch-through voltage capacitor 19b.
It is described that the electric potential of the gate terminal is controlled to adjust the current flowing through the TFT 11a.

【1455】図245は電荷保持用コンデンサ19を直
接に制御することにより、TFT11aのゲート端子の
電圧を制御し、TFT11aに流す電流を制御するもの
である。動作は図241で説明した動作をそのまま、あ
るいは類推することにより適用することができる。図2
45の画素構成では、突き抜け電圧用のコンデンサ19
bが不要である。したがって、画素構成が容易となる。
In FIG. 245, the charge holding capacitor 19 is directly controlled to control the voltage of the gate terminal of the TFT 11a and the current flowing to the TFT 11a. The operation can be applied as it is or by analogy with the operation described in FIG. Figure 2
With the pixel configuration of 45, the capacitor 19 for punch-through voltage
b is unnecessary. Therefore, the pixel configuration becomes easy.

【1456】図266は図245の画素構成における駆
動波形の説明図である。ゲート信号線17a(1)が選
択されと、TFT11cとTFT11dがオンする。次
に、TFT11aは、ソースドライバ回路14が吸収す
る電流Iwに等しい電流を流す。しかし、黒表示の微小
な電流では、ソース信号線18の寄生容量を1H期間内
に十分に充放電することができない。したがって、ソー
ス信号線18の電位を1H期間内に所定電圧にすること
ができない。つまり、Vg電圧も低く、本来必要な電圧
Vbとすることができず、Vc電圧となる。
FIG. 266 is an explanatory diagram of drive waveforms in the pixel configuration of FIG. 245. When the gate signal line 17a (1) is selected, the TFT 11c and the TFT 11d are turned on. Next, the TFT 11a causes a current equal to the current Iw absorbed by the source driver circuit 14 to flow. However, the minute current for black display cannot sufficiently charge and discharge the parasitic capacitance of the source signal line 18 within the 1H period. Therefore, the potential of the source signal line 18 cannot be set to the predetermined voltage within the 1H period. That is, the Vg voltage is also low, and the originally required voltage Vb cannot be obtained, and becomes the Vc voltage.

【1457】つぎに、ゲート信号線17a(1)がオン
電圧(vgl)からオフ電圧(Vgh)に変化する。同
時に、電圧制御信号線17c(1)が低電圧から高電圧
にシフトする。したがって、突き抜け電圧が発生し、T
FT11aのゲート端子電圧Vgは目標電圧のVbにシ
フトする。したがって、目標とする電圧VbをTFT1
1aのゲート端子に印加することができる。
Next, the gate signal line 17a (1) changes from the on-voltage (vgl) to the off-voltage (Vgh). At the same time, the voltage control signal line 17c (1) shifts from the low voltage to the high voltage. Therefore, a penetration voltage is generated, and T
The gate terminal voltage Vg of the FT 11a shifts to the target voltage Vb. Therefore, the target voltage Vb is set to the TFT1.
It can be applied to the gate terminal of 1a.

【1458】なお、図266では、「ゲート信号線17
a(1)がオン電圧(Vgl)からオフ電圧(Vgh)
に変化する。同時に、電圧制御信号線17c(1)が低
電圧から高電圧にシフトする。」としたが、これに限定
するものではなく、図240、または図241のように
t1の期間おくれて、信号波形が変化するように構成し
てもよい。
[1458] Note that in FIG. 266, "gate signal line 17
a (1) is an on-voltage (Vgl) to an off-voltage (Vgh)
Changes to. At the same time, the voltage control signal line 17c (1) shifts from the low voltage to the high voltage. However, the present invention is not limited to this, and the signal waveform may be changed after a period of t1 as shown in FIG. 240 or FIG.

【1459】図245の画素構成は、図1の画素構成に
も適用できることは言うまでもない。電荷保持用のコン
デンサ19の一端子に電圧制御信号線17cを接続する
(図244を参照)。そして、この電圧制御信号線17
cに印加する信号によりTFT11aのゲート端子電圧
を変動させ、TFT11aが流す電流を制御(調整)す
る。
It is needless to say that the pixel configuration shown in FIG. 245 can be applied to the pixel configuration shown in FIG. The voltage control signal line 17c is connected to one terminal of the charge holding capacitor 19 (see FIG. 244). Then, this voltage control signal line 17
The gate terminal voltage of the TFT 11a is changed by the signal applied to c to control (adjust) the current flowing through the TFT 11a.

【1460】また、コンデンサ19aの電極の下層に、
前記電極と絶縁された信号線を形成してもよい。仮に、
この信号線を共通信号線と呼ぶ。このような構成を実現
すれば、共通信号線と前記絶縁膜とコンデンサの電極と
で第2のコンデンサを形成することができる。このコン
デンサは、図171のコンデンサ19bと見なせる。し
がたって、共通信号線に先と同様にパスル信号を印加す
ることにより、先と同様の作用および効果を発揮でき
る。なお、呼び方を共通信号線と呼んだが、機能、構成
は先に説明した電圧制御信号線17cと差がない。した
がって、電圧制御信号線17cで説明した事項、内容は
そのまま、共通信号線に適用することができる。
[1460] Also, in the lower layer of the electrode of the capacitor 19a,
A signal line insulated from the electrode may be formed. what if,
This signal line is called a common signal line. If such a configuration is realized, the second capacitor can be formed by the common signal line, the insulating film, and the electrode of the capacitor. This capacitor can be regarded as the capacitor 19b in FIG. Therefore, by applying the pulse signal to the common signal line in the same manner as above, the same action and effect as above can be exhibited. Although the name is called the common signal line, there is no difference in function and configuration from the voltage control signal line 17c described above. Therefore, the matters and contents described for the voltage control signal line 17c can be applied to the common signal line as they are.

【1461】また、以上の実施例では、突き抜け電圧発
生用コンデンサ19bの一方の端子は、TFT11aの
ゲート端子に接続するとした。しかし、本発明は、この
構成に限定するものではない。たとえば、図267のよ
うに、電荷保持用のコンデンサ19a、19cの中点に
コンデンサ19bに一方の端子を接続してもよい。図2
67に図示するように、構成することにより、突き抜け
電圧の影響が、TFT11aのゲート端子に与える割合
が少なくなる。
In the above embodiments, one terminal of the punch-through voltage generating capacitor 19b is connected to the gate terminal of the TFT 11a. However, the present invention is not limited to this configuration. For example, as shown in FIG. 267, one terminal of the capacitor 19b may be connected to the middle point of the capacitors 19a and 19c for holding charges. Figure 2
By configuring as shown in 67, the influence of the punch-through voltage on the gate terminal of the TFT 11a is reduced.

【1462】また、図277に示す構成も効果的であ
る。図277では画素が選択されると、ソースドライバ
回路14からの電圧はTFT11bのドレイン端子Vk
に印加される。この電圧(つまり、プログラム電流であ
る)が、コンデンサ19aとコンデンサ19cで分割さ
れて、駆動用TFT11aのゲート端子電圧Vgとな
る。したがって、ゲート端子電圧Vgはプログラムされ
た電圧Vkに比較して低くなる。そのため、TFT11
aに流れる電流(EL素子15に流れる電流)は、プロ
グラムされた電流よりも小さくなる。そのため、プログ
ラム電流を大きくし、EL素子15に流れる電流を小さ
くできる。したがって、黒表示でも、書き込み不足がな
くなる。
[1462] The configuration shown in FIG. 277 is also effective. In FIG. 277, when the pixel is selected, the voltage from the source driver circuit 14 is the drain terminal Vk of the TFT 11b.
Applied to. This voltage (that is, the program current) is divided by the capacitors 19a and 19c and becomes the gate terminal voltage Vg of the driving TFT 11a. Therefore, the gate terminal voltage Vg becomes lower than the programmed voltage Vk. Therefore, TFT11
The current flowing through a (current flowing through the EL element 15) is smaller than the programmed current. Therefore, the program current can be increased and the current flowing through the EL element 15 can be reduced. Therefore, even in black display, insufficient writing is eliminated.

【1463】図277において、コンデンサ19aの容
量をCaとし、電圧シフト用のコンデン19cの容量を
Ccとし、ゲート信号線に印加される高電圧信号(Vg
h)とし、ゲート信号線に印加される低電圧信号(Vg
l)とした時、以下の条件を満足するように構成するこ
とにより、良好な黒表示を実現できる。
In FIG. 277, the capacitance of the capacitor 19a is Ca, the capacitance of the voltage shift capacitor 19c is Cc, and the high voltage signal (Vg
h), the low voltage signal (Vg
In the case of l), a good black display can be realized by configuring so as to satisfy the following conditions.

【1464】0.5 ≦ |Vgh−Vgl|×(Ca
/Cc) ≦ 10 さらに好ましくは、以下の条件を満足させることが好ま
しい。
[1465] 0.5 ≤ | Vgh-Vgl | x (Ca
/ Cc) ≦ 10 More preferably, the following conditions are preferably satisfied.

【1465】1 ≦ |Vgh−Vgl|×(Ca/C
c) ≦ 5 また、図270のVcを基準にすれば、 0.05 ≦ |Vc|×(Ca/Cc) ≦ 1 さらに好ましくは、以下の条件を満足させることが好ま
しい。
[1465] 1 ≦ | Vgh-Vgl | × (Ca / C
c) ≦ 5 Further, based on Vc in FIG. 270, 0.05 ≦ | Vc | × (Ca / Cc) ≦ 1 More preferably, the following conditions are preferably satisfied.

【1466】0.1 ≦ |Vc|×(Ca/Cc)
≦ 5 以上の事項は図57、図54、図103などの画素構成
にも有効である。たとえば、図57の電圧プログラムの
画素構成では、TFT11aのゲート端子とゲート信号
線17a間に突き抜け電圧発生用のコンデンサ19bを
形成または配置する。
[1466] 0.1 ≤ | Vc | x (Ca / Cc)
<= 5 The above items are also effective for the pixel configurations shown in FIGS. 57, 54, 103 and the like. For example, in the voltage-programmed pixel configuration of FIG. 57, a capacitor 19b for generating punch-through voltage is formed or arranged between the gate terminal of the TFT 11a and the gate signal line 17a.

【1467】以上の事項は図292の実施例にも適用さ
れる。また、図21、図43、図71などで説明した画
素構成にも適用することができることは言うまでもない
(図291を参照)。また、図54、図68、図103
なでの電圧プログラムの画素構成にも適用できる。TF
Tを突き抜ける電圧を補償できる。また、電位シフトさ
せることにより最良動作点で動作させることができるか
らである。
The above items also apply to the embodiment of FIG. Further, it goes without saying that the present invention can be applied to the pixel configurations described with reference to FIGS. 21, 43, 71, etc. (see FIG. 291). 54, 68, and 103.
It is also applicable to the pixel configuration of voltage programming. TF
The voltage that penetrates T can be compensated. Further, it is possible to operate at the best operating point by shifting the potential.

【1468】図277は突き抜け電圧発生用のコンデン
サ19bを付加した構成であった。しかし、図277の
構成では、一般的にPチャンネルのTFT11bはオン
抵抗を低くするため、チャンネル幅Wを比較的大きくす
る必要がある。そのため、ソース−ゲート容量が比較的
大きい。したがって、コンデンサ19bを付加せずと
も、TFT11bに発生する寄生容量で代用できる。
[1468] FIG. 277 has a configuration in which a capacitor 19b for generating punch-through voltage is added. However, in the configuration of FIG. 277, generally, the P-channel TFT 11b has a low on-resistance, and therefore the channel width W needs to be relatively large. Therefore, the source-gate capacitance is relatively large. Therefore, the parasitic capacitance generated in the TFT 11b can be used as a substitute without adding the capacitor 19b.

【1469】図277のように、突き抜け電圧用のコン
デンサ19bと動作点シフト用のコンデンサ19cの両
方を作製すると、動作点Vgにバラツキが発生する場合
がある。この課題に対しては、画素行を選択するスイッ
チングTFT(図1では、TFT11b、11c。図2
1、図43、図71ではTFT11c、11d)をNチ
ャンネルにして、突き抜け電圧を極力低減することが効
果的である。この実施例を図292に示す。図292で
は、スイッチングTFT11bをNチャンネルにするこ
とにより、Pチャンネルに比較して突き抜け電圧を1/
2〜1/5にすることができる。したがって、突き抜け
電圧は発生しにくく、Vk電圧のシフトは発生しにく
い。そのため、TFT11aのゲート端子電圧Vg電圧
のばらつきも発生しにくい。なお、図292では、逆バ
イアス電圧Vm印加用のTFT11g(スイッチング手
段)と付加している。
As shown in FIG. 277, when both the punch-through voltage capacitor 19b and the operating point shifting capacitor 19c are manufactured, the operating point Vg may vary. To solve this problem, switching TFTs (TFTs 11b and 11c in FIG. 1 that select pixel rows.
1, FIG. 43, and FIG. 71, it is effective to set the TFTs 11c and 11d) to N channels to reduce the punch-through voltage as much as possible. This embodiment is shown in FIG. In FIG. 292, by setting the switching TFT 11b to the N channel, the punch-through voltage is reduced to 1 / th compared to the P channel.
It can be 2 to 1/5. Therefore, the punch-through voltage is unlikely to occur and the Vk voltage shift is unlikely to occur. Therefore, variations in the gate terminal voltage Vg of the TFT 11a are unlikely to occur. Note that in FIG. 292, a TFT 11g (switching means) for applying the reverse bias voltage Vm is added.

【1470】以上は、図1の画素構成の場合であった
が、図21、図22、図43、図71の構成もの同様で
ある(図278を参照)。画素が選択されると、TFT
11dがオンし、ソース信号線18からの電圧(電流)
が、TFT11dのドレイン端子に接続されたコンデン
サ19aの一端子に書き込まれる。つまり、ソースドラ
イバ回路14からの電圧はTFT11bのドレイン端子
Vkに印加される。この電圧(つまり、プログラム電流
である)が、コンデンサ19aとコンデンサ19cで分
割されて、駆動用TFT11bのゲート端子電圧Vgと
なる。したがって、ゲート端子電圧Vgはプログラムさ
れた電圧Vkに比較して小さく。そのため、TFT11
bに流れる電流(EL素子15に流れる電流)は、プロ
グラムされた電流よりも小さくなる。そのため、プログ
ラム電流を大きくし、EL素子15に流れる電流を小さ
くできる。したがって、黒表示でも、書き込み不足がな
くなる。
The above is the case of the pixel configuration of FIG. 1, but the same as the configurations of FIGS. 21, 22, 43, and 71 (see FIG. 278). When a pixel is selected, the TFT
11d turns on, voltage (current) from the source signal line 18
Is written in one terminal of the capacitor 19a connected to the drain terminal of the TFT 11d. That is, the voltage from the source driver circuit 14 is applied to the drain terminal Vk of the TFT 11b. This voltage (that is, the program current) is divided by the capacitors 19a and 19c and becomes the gate terminal voltage Vg of the driving TFT 11b. Therefore, the gate terminal voltage Vg is smaller than the programmed voltage Vk. Therefore, TFT11
The current flowing through b (the current flowing through the EL element 15) is smaller than the programmed current. Therefore, the program current can be increased and the current flowing through the EL element 15 can be reduced. Therefore, even in black display, insufficient writing is eliminated.

【1471】なお、明らかな事項であるが、図278に
図示するように各画素16には、逆バイアスのTFT1
1gを付加してもよい。また、突き抜け電圧発生用のコ
ンデンサ19bを付加してもよいことは言うまでもな
い。もちろん、EL素子15に流れる電流をオンオフ制
御するTFT11dを付加してもよいことは言うまでも
ない。以上のように本発明は、本明細書で記載した(説
明した)構成あるいは実施例あるいは技術的思想を相互
に組み合わせることができる。
As is apparent, as shown in FIG. 278, each pixel 16 has a reverse bias TFT1.
You may add 1 g. It goes without saying that a capacitor 19b for generating punch-through voltage may be added. Of course, it goes without saying that a TFT 11d for controlling on / off of the current flowing through the EL element 15 may be added. As described above, the present invention can mutually combine the configurations or embodiments or technical ideas described (explained) in the present specification.

【1472】なお、共通信号線、電圧制御信号線は画素
行に平行に形成する。つまり、画素行ごとに前記信号線
を形成(配置)する。しかし、必ずしも画素行ごとに形
成することに限定されるのもではない。たとえば、2画
素行以上ずつ画素を選択する場合は、複数画素行ごとに
前記信号線を形成(または配置)すればよい。
The common signal line and the voltage control signal line are formed in parallel with the pixel row. That is, the signal line is formed (arranged) for each pixel row. However, the formation is not necessarily limited to each pixel row. For example, when selecting pixels by two or more pixel rows, the signal line may be formed (or arranged) for each plurality of pixel rows.

【1473】また、図171などにおいて、19bは2
端子のコンデンサとしたがこれに限定するものではな
い。たとえば、TFTを用いて、TFTのソース−ゲー
ト間容量を用いてコンデンサとしてもよい。つまり、突
き抜け電圧を発生させる素子はコンデンサに限定される
ものではなく、EL素子15の駆動用TFT11aのゲ
ート端子に絶縁状態で、この端子の電位を変更できるも
のであればいずれでもよい。もちろん、ダイオードの接
合容量でもコンデンサを構成できることは言うまでもな
い。
[1473] In FIG. 171, etc., 19b is 2
Although the capacitor of the terminal is used, it is not limited to this. For example, a TFT may be used and the source-gate capacitance of the TFT may be used to form a capacitor. That is, the element that generates the punch-through voltage is not limited to the capacitor, and may be any element as long as the gate terminal of the driving TFT 11a of the EL element 15 is insulated and the potential of this terminal can be changed. Of course, it goes without saying that a capacitor can also be configured with the junction capacitance of the diode.

【1474】また、コンデンサ19bは各画素に形成す
るとしたが必ずしもこれに限定するものではない。たと
えば、隣接した画素で1つのコンデンサ19bを形成し
てもよい。
Also, although the capacitor 19b is formed in each pixel, it is not necessarily limited to this. For example, adjacent pixels may form one capacitor 19b.

【1475】また、コンデンサ19bに一端にTFTな
どのスイッチング素子を配置(形成)し、このスイッチ
ング素子をオンオフ制御することにより、コンデンサ1
9bを画素16から切り離せるように構成してもよい。
つまり、画素16からコンデンサ19bを切り離すこと
により、ベース電流を変更(あり、なし)することがで
きるようになる。また、スイッチング素子でコンデンサ
19bを切り離すとしたが、コンデンサ19bの電極間
をショートするTFT(スイッチング素子)などを形成
(配置)し、このスイッチング素子をオンさせることに
より、コンデンサ19bの容量を0とする制御を行って
もよい。
[1475] In addition, a switching element such as a TFT is arranged (formed) at one end of the capacitor 19b, and the switching element is controlled to be turned on / off.
9b may be separated from the pixel 16.
That is, by disconnecting the capacitor 19b from the pixel 16, the base current can be changed (present or absent). Further, although the capacitor 19b is separated by the switching element, a TFT (switching element) or the like that short-circuits the electrodes of the capacitor 19b is formed (arranged) and the switching element is turned on so that the capacitance of the capacitor 19b becomes zero. You may perform the control.

【1476】電位の変更の対象はTFT11aに限定す
るものではない。EL素子15の電流量を設定する素子
であればいずれでもよい。つまり、駆動量TFT11a
はMIM、TFD(薄膜ダイオード)などでも構成でき
るからである。これらを制御することによりEL素子1
5に流れる(あるいは流す)電流を制御できるように構
成すればよい。この構成では、必要に応じてカソード電
極と横ストライプ状に加工(形成)する。
The target of potential change is not limited to the TFT 11a. Any element may be used as long as it sets the current amount of the EL element 15. That is, the driving amount TFT 11a
This can be configured with MIM, TFD (thin film diode), or the like. By controlling these, the EL element 1
The current flowing in (or flowing through) 5 may be controlled. In this configuration, the cathode electrode is processed (formed) in a horizontal stripe shape as needed.

【1477】また、図89から図102などで、逆バイ
アス電圧Vmを印加することによりEL素子15の劣化
を防止するという逆バイアス駆動方式について説明をし
た。説明するまでもないが、この逆バイアス駆動方式と
図222、図223、図224などで説明した突き抜け
電圧により、EL素子15に流れる電流を制御するとう
方式(突き抜け駆動方式と呼ぶ)とを組み合わせても良
いことはいうまでもない。
Also, the reverse bias driving method of preventing deterioration of the EL element 15 by applying the reverse bias voltage Vm has been described with reference to FIGS. 89 to 102 and the like. Needless to say, this reverse bias drive method is combined with the method of controlling the current flowing through the EL element 15 by the punch-through voltage described in FIGS. 222, 223, 224 (called the punch-through drive method). It goes without saying that it is okay.

【1478】図223は、図68の電圧プログラムの画
素構成に突き抜け電圧発生用のコンデンサ19bを付加
するとともに、逆バイアス電圧Vmを印加するTFT1
1dを付加した構成である。
FIG. 223 shows a TFT1 in which a capacitor 19b for generating punch-through voltage is added to the pixel configuration of the voltage program of FIG. 68 and a reverse bias voltage Vm is applied.
This is a configuration in which 1d is added.

【1479】なお、逆バイアス電圧VmはTFT11d
で印加するとしたがこれに限定するものではなく、コン
デンサに置き換えてもよい。つまり、突き抜け電圧用コ
ンデンサ19bのように、コンデンサの一端にパルス電
圧を印加することにより、コンデンサの電極に印加され
た電圧を、突き抜けによりEL素子15に印加するよう
に構成してもよい。
The reverse bias voltage Vm is the same as the TFT 11d.
However, the present invention is not limited to this and may be replaced with a capacitor. That is, like the capacitor for punch-through voltage 19b, the voltage applied to the electrode of the capacitor may be applied to the EL element 15 by punch-through by applying a pulse voltage to one end of the capacitor.

【1480】図224は、図21、図43、図71など
で説明したカレントミラーの画素構成(電流プログラム
方式)に逆バイアス用のTFT11gを追加した構成で
ある。また、図225は図67で説明した電圧プログラ
ム方式の画素構成に逆バイアス用のTFT11gを追加
した画素構成である。また、図226は図1の画素構成
(電流プログラム方式)の画素構成に逆バイアス用のT
FT11gを追加した画素構成である。
[1480] FIG. 224 shows a configuration in which a reverse bias TFT 11g is added to the current mirror pixel configuration (current programming system) described with reference to FIGS. 21, 43, 71 and the like. Further, FIG. 225 shows a pixel configuration in which a reverse bias TFT 11g is added to the voltage program type pixel configuration described in FIG. In addition, FIG. 226 shows a reverse bias T for the pixel configuration of the pixel configuration (current programming method) of FIG.
This is a pixel configuration in which FT11g is added.

【1481】なお、以上の実施例において、突き抜け電
圧用コンデンサ19bは2端子のコンデンサであるとし
て説明したが、これに限定するものではない。たとえ
ば、図227では、トランジスタ2271のチャンネル
容量でコンデンサ19bを構成(形成、作製)したもの
である。ソース−ドレイン容量を用いても良い。
In the above embodiments, the punch-through voltage capacitor 19b has been described as a two-terminal capacitor, but the present invention is not limited to this. For example, in FIG. 227, the capacitor 19b is configured (formed, manufactured) by the channel capacitance of the transistor 2271. Source-drain capacitance may be used.

【1482】同様に電荷保持用コンデンサ19aも2端
子のコンデンサに限定するものではない。図227で説
明したように、トランジスタのチャンネル容量で構成し
てもよい。また、ダイオード(図227のトランジスタ
2271(19b))はダイオードともみなせる)で容
量を形成してもよい。その他、電荷を保持できる素子で
あればいずれでもよい。以上の事項は、本発明の他の実
施例にも適用できることはいうまでもない。
Similarly, the charge holding capacitor 19a is not limited to a two-terminal capacitor. As described with reference to FIG. 227, the channel capacitance of the transistor may be used. Alternatively, a diode (the transistor 2271 (19b) in FIG. 227 can also be regarded as a diode) may form a capacitor. In addition, any element may be used as long as it can hold an electric charge. It goes without saying that the above items can be applied to other embodiments of the present invention.

【1483】また、突き抜け駆動方式と逆バイアス駆動
との組み合わせだけではなく、ブロック駆動方式や、N
倍パルス駆動方式、複数画素行選択方式など、本明細書
で記載した本発明は相互に組み合わせることができる。
以上の事項は、以降の事項に対しても同様である。
[1483] Also, not only the combination of the punch-through driving method and the reverse bias driving but also the block driving method and the N
The present invention described in this specification, such as a double pulse driving method and a multiple pixel row selection method, can be combined with each other.
The above items also apply to the following items.

【1484】なお,突き抜け電圧により、目標値の電流
に対してずれが発生する。しかし、本発明のように略N
倍の電流がEL素子15に流れるようにプログラムし、
かつ表示画像を間欠表示する方式では、目標値に対する
ずれも略1/Nとなる。また、1倍の電流(通常駆動、
従来の駆動)に比較して、より飽和状態に近い領域でT
FT11aを動作させているため、ずれも少なくなる。
したがって、従来に比較してより良好な画像表示を実現
できる。
[1484] Note that the punch-through voltage causes a deviation with respect to the target current. However, as in the present invention,
Program so that double current flows through EL element 15,
Moreover, in the method of intermittently displaying the display image, the deviation from the target value is also about 1 / N. In addition, 1 times the current (normal drive,
Compared with conventional drive), T
Since the FT 11a is operated, the deviation is reduced.
Therefore, better image display can be realized as compared with the conventional case.

【1485】また、EL素子15に流す電流を制御する
というのが本発明の技術的思想である。したがって、突
き抜け電圧の発生タイミングはゲート信号線17aの走
査タイミングと必ずしも同期がとれていることが必須の
条件ではない。非同期制御も可能であろう。突き抜け電
圧は複数回に分散して印加してもよい。
[1485] The technical idea of the present invention is to control the current flowing through the EL element 15. Therefore, it is not indispensable that the generation timing of the punch-through voltage is always synchronized with the scanning timing of the gate signal line 17a. Asynchronous control may be possible. The punch-through voltage may be dispersed and applied multiple times.

【1486】図122から図125に図示したように、
DAコンバータ1226と含む電流出力回路1222で
ソース信号線18に電流と出力するとした。図171、
図172、図21、図43、図710などのように、突
き抜け電圧を発生させて駆動する方式の場合は、一定の
ベース電流を加えて出力する必要がある。たとえば、あ
る階調で30nAの電流を画素16に電流プログラムす
る場合、突き抜け電圧によるベース電流を加えた電流を
ソース信号線18に印加する。ベース電流が40nAで
あれば、30nA+40nAの電流をソース信号線18
に印加する(ソース信号線18から回路1222に向か
って吸収する)。したがって、ベース電流を加えて流す
ように回路構成をする必要がある。たとえば、ベース電
流用のカレントミラー回路を付加したりする構成が例示
される。
As shown in FIGS. 122 to 125,
It is assumed that the current output circuit 1222 including the DA converter 1226 outputs a current to the source signal line 18. 171,
In the case of the method of driving by generating the punch-through voltage as in FIGS. 172, 21, 43, 710, etc., it is necessary to add a constant base current and output. For example, when a current of 30 nA is programmed in the pixel 16 at a certain gradation, a current to which the base current due to the punch-through voltage is added is applied to the source signal line 18. If the base current is 40 nA, a current of 30 nA + 40 nA is applied to the source signal line 18
(Absorption from the source signal line 18 toward the circuit 1222). Therefore, it is necessary to configure the circuit so that the base current is applied and flowed. For example, a configuration in which a current mirror circuit for the base current is added is exemplified.

【1487】図122から図125では、DAコンバー
タ1226と含む電流出力回路1222でソース信号線
18に電流と出力するとしたが、これに限定するもので
はない。たとえば、ICチップ14内に基準電流を発生
する第1のカレントミラー回路を1つ形成する(図27
5を参照)。
In FIGS. 122 to 125, the current output circuit 1222 including the DA converter 1226 outputs the current to the source signal line 18, but the present invention is not limited to this. For example, one first current mirror circuit that generates a reference current is formed in the IC chip 14 (FIG. 27).
5).

【1488】図275は各ソース信号線18に対応する
出力電流回路1222の主要部を図示している。なお、
図275では、印加される画像データは6ビット(RG
Bは各64階調)であるとして説明をする。6ビットは
画像データD(0〜5)が対応し、MSB(最上位ビッ
ト)はD5であり、LSB(最下位ビット)はD0であ
る。
[1488] FIG. 275 illustrates a main portion of the output current circuit 1222 corresponding to each source signal line 18. In addition,
In FIG. 275, the applied image data is 6 bits (RG
The description will be made assuming that B is 64 gradations each. Image data D (0 to 5) corresponds to 6 bits, MSB (most significant bit) is D5, and LSB (least significant bit) is D0.

【1489】図275でわかるように、画像データD0
によりスイッチングトランジスタ2752aがオンし、
1つの子トランジスタ2754aがオンする。同様に、
画像データD1によりスイッチングトランジスタ275
2bがオンし、2つの子トランジスタ2754bがオン
する。また、画像データD2によりスイッチングトラン
ジスタ2752cがオンし、4つの子トランジスタ27
54cがオンする。また、画像データD3によりスイッ
チングトランジスタ2752dがオンし、8つの子トラ
ンジスタ2754dがオンする。また、画像データD0
4よりスイッチングトランジスタ2752eがオンし、
16つの子トランジスタ2754eがオンする。また、
画像データD5によりスイッチングトランジスタ275
2fがオンし、32つの子トランジスタ2754fがオ
ンする。したがって、入力画像データDに応じて64階
調を表現する電流Iwがソース信号線18から流れ込
む。つまり、ゲート信号線17aにオン電圧が印加さ
れ、選択画素行のTFT11a(図1の場合)からId
d(=Iw)電流が流れる。
As shown in FIG. 275, the image data D0
Causes the switching transistor 2752a to turn on,
One child transistor 2754a turns on. Similarly,
Switching transistor 275 according to image data D1
2b turns on and the two child transistors 2754b turn on. Further, the switching transistor 2752c is turned on by the image data D2, and the four child transistors 27
54c turns on. Further, the switching transistor 2752d is turned on by the image data D3, and the eight child transistors 2754d are turned on. Also, the image data D0
The switching transistor 2752e is turned on from 4,
The 16 child transistors 2754e turn on. Also,
Switching transistor 275 according to image data D5
2f is turned on and 32 child transistors 2754f are turned on. Therefore, the current Iw expressing 64 gradations according to the input image data D flows from the source signal line 18. That is, the ON voltage is applied to the gate signal line 17a, and the Id from the TFT 11a (in the case of FIG. 1) of the selected pixel row is changed.
A d (= Iw) current flows.

【1490】図275では、ドライバ回路14内には1
つの親トランジスタ2753が形成(配置)されてい
る。この親トランジスタ2753に流れる電流が子トラ
ンジスタ2754に流れる。つまり、ソース信号線18
が176(QCIFの場合)本あるとすれば、176×
63個の子トランジスタ2753が親トランジスタ27
53と接続されていることになる。
[1490] In FIG. 275, 1 is included in the driver circuit 14.
One parent transistor 2753 is formed (arranged). The current flowing through the parent transistor 2753 flows through the child transistor 2754. That is, the source signal line 18
If there are 176 (in case of QCIF) books, 176 ×
63 child transistors 2753 are parent transistors 27
It is connected to 53.

【1491】ただし、これでは1つの親トランジスタ2
753に接続されている個数があまりにも多いので、中
間のトランジスタを配置してもよい。たとえば、親トラ
ンジスタを第1のトランジスタとすれば、第2のトラン
ジスタ、第3のトランジスタを形成し、第3のトランジ
スタに子のトランジスタ2754の63個とカレントミ
ラーの関係にする。したがって、QCIFを例示すれば
(ソース信号線数176本)、第1のトランジスタを1
個(親トランジスタ)とカレントミラーの関係にある第
2のトランジスタを16個形成(配置)し、この第2の
トランジスタとカレントミラーの関係にある第3のトラ
ンジスタを11個形成(配置)する。つまり、カレント
ミラーの関係にある第1から第3のトランジスタの個数
は、1×16×11=176個である。なお、この第1
から第3のトランジスタはICチップ14内で密集して
配置する。各トランジスタのVtバラツキの影響をなく
するためである。特に第1のトランジスタと第2のトラ
ンジスタは、ごく近傍に配置する必要がある。
However, this is one parent transistor 2
Since there are too many connected to 753, an intermediate transistor may be arranged. For example, if the parent transistor is the first transistor, the second transistor and the third transistor are formed, and the third transistor is in a current mirror relationship with 63 of the child transistors 2754. Therefore, if QCIF is taken as an example (the number of source signal lines is 176), the first transistor is set to 1
Sixteen (transistor) second transistors having a current mirror relationship with each (parent transistor) are formed, and eleven third transistors having a current mirror relationship with the second transistor are formed (arranged). That is, the number of the first to third transistors in the current mirror relationship is 1 × 16 × 11 = 176. In addition, this first
Therefore, the third transistors are densely arranged in the IC chip 14. This is to eliminate the influence of Vt variation of each transistor. In particular, the first transistor and the second transistor need to be arranged very close to each other.

【1492】以上のような関係にすると、第1のカレン
トミラー回路(親トランジスタ2753)に流す電流を
調整することにより、ICチップ全体の出力電流量を調
整できるようになる。親トランジスタ2753に流す電
流は電子ボリウムで調整できるように構成しておく。ま
た、図275に図示するように、チップ14に外付けボ
リウム2751(バイアス抵抗)を配置し、この抵抗の
抵抗値を変更することにより、親トランジスタ(第1の
トランジスタ)2753に流れる電流を変化させるよう
に構成してもよい。いずれにせよ、親トランジスタ27
53に流れる電流を調整することにより、プログラム電
流Iwの最小きざみを容易にかつ全ソース信号線18同
時に変更することができる。
[1494] With the above relationship, the amount of output current of the entire IC chip can be adjusted by adjusting the current passed through the first current mirror circuit (parent transistor 2753). The current flowing through the parent transistor 2753 is configured so that it can be adjusted by an electronic volume. Further, as shown in FIG. 275, an external volume 2751 (bias resistor) is arranged on the chip 14 and the resistance value of this resistor is changed to change the current flowing through the parent transistor (first transistor) 2753. It may be configured so as to allow it. In any case, the parent transistor 27
By adjusting the current flowing through 53, it is possible to easily change the minimum step of the program current Iw and simultaneously change all the source signal lines 18.

【1493】なお、図87、図88、図142などでは
同時に複数の画素行を選択するとした。この場合でも、
親トランジスタ2753に流す電流を変化させることに
より対応できる。つまり、1画素行を選択する場合に比
較して、選択する画素行倍の電流を親トランジスタ27
53に流せばよいからである。また、図146で説明し
たように、1Hの期間などで、ソース信号線18に流す
(ソース信号線18から吸収する)電流を変化させる駆
動方法への対応も容易である。親トランジスタ2753
に流す電流を可変すればよいからである。
Note that in FIGS. 87, 88, 142, etc., a plurality of pixel rows are selected at the same time. Even in this case,
This can be dealt with by changing the current flowing through the parent transistor 2753. That is, as compared with the case where one pixel row is selected, a current that is twice as many as the selected pixel row is supplied to the parent transistor 27.
This is because it can be sent to 53. In addition, as described with reference to FIG. 146, it is easy to deal with the driving method of changing the current flowing in the source signal line 18 (absorbed from the source signal line 18) in the period of 1H or the like. Parent transistor 2753
This is because it is only necessary to change the current flowing to the.

【1494】この親トランジスタ2753の電流の調整
により、表示パネルの明るさ、ガンマ特性を調整するこ
とができる。なお、親トランジスタ2753に流す基準
電流は、R,G,B画素ごとに独自に調整できるように
構成する。RGBでガンマカーブ、印加電流が異なるか
らである。この構成を図276に示す。図276に図示
するように、各色の親トランジスタ2753(2753
R、2753G、2753B)に流す電流を電子ボリウ
ムあるいはバイアス抵抗により変更できるようにしてお
くのである。もちろん、EL素子15のガンマ特性、温
度特性に合致するように、親トランジスタ2753に流
す電流は補正しておく。
[1494] The brightness and gamma characteristics of the display panel can be adjusted by adjusting the current of the parent transistor 2753. The reference current flowing through the parent transistor 2753 is configured so that it can be adjusted independently for each R, G, B pixel. This is because the RGB gamma curve and applied current are different. This structure is shown in FIG. 276. As shown in FIG. 276, parent transistors 2753 (2753) of respective colors are provided.
The current flowing through R, 2753G, 2753B) can be changed by an electronic regulator or a bias resistor. Of course, the current flowing through the parent transistor 2753 is corrected so as to match the gamma characteristic and the temperature characteristic of the EL element 15.

【1495】また、黒の階調飛びを抑制するため(EL
は電流と輝度がリニアのために発生する。PDPなどで
も同様である)、誤差拡散とディザ処理の両方を組み合
わせて画像処理をしておく。
[1494] Also, in order to suppress black gradation skip (EL
Occurs because the current and brightness are linear. The same applies to PDPs), and image processing is performed by combining both error diffusion and dither processing.

【1496】他に、データD0からD5にそれぞれ1つ
の(複数の場合もある)トランジスタ2754を形成
し、親トランジスタ2753とのカレントミラー回路の
カレント倍率を変化させることにより、電流出力を変化
させる構成でもよい。たとえば、D0に対応する子トラ
ンジスタ2754は親トランジスタ2753とカレント
倍率1倍とし、D1に対応する子トランジスタ2754
は親トランジスタ2753とカレント倍率2倍とする。
同様に、D2に対応する子トランジスタ2754は親ト
ランジスタ2753とカレント倍率4倍とし、D3に対
応する子トランジスタ2754は親トランジスタ275
3とカレント倍率8倍とする。さらに、D4に対応する
子トランジスタ2754は親トランジスタ2753とカ
レント倍率16倍とし、D5に対応する子トランジスタ
2754は親トランジスタ2753とカレント倍率32
倍とする構成である。
In addition, a configuration is provided in which one (or more than one) transistor 2754 is formed for each of the data D0 to D5 and the current output is changed by changing the current magnification of the current mirror circuit with the parent transistor 2753. But it's okay. For example, the child transistor 2754 corresponding to D0 has a current multiplication factor of 1 times that of the parent transistor 2753, and the child transistor 2754 corresponding to D1.
And the parent transistor 2753 and the current magnification are 2 times.
Similarly, the child transistor 2754 corresponding to D2 has a current multiplication factor of 4 times that of the parent transistor 2753, and the child transistor 2754 corresponding to D3 has a parent transistor 275.
3 and the current magnification is 8 times. Further, the child transistor 2754 corresponding to D4 and the parent transistor 2753 have a current multiplication factor of 16, and the child transistor 2754 corresponding to D5 has a parent transistor 2753 and a current multiplication factor of 32.
It is a double structure.

【1497】以上のように、出力電流回路1222を、
2段階あるいは3段階(第1のトランジスタ、第2のト
ランジスタおよび第3のトランジスタ)のカレントミラ
ー回路の構成を採用することにより、各ソース信号線1
8にプログラムされる電流バラツキをなくすることがで
きる。
[1497] As described above, the output current circuit 1222 is
By adopting the configuration of a two-stage or three-stage (first transistor, second transistor, and third transistor) current mirror circuit, each source signal line 1
It is possible to eliminate the variation in current programmed in 8.

【1498】図171、図21、図43、図710のよ
うに、突き抜け電圧用のコンデンサ19bを形成した場
合は、一定のベース電流を加えて出力する必要がある。
また、突き抜け電圧用のコンデンサ19bを配置(形
成)しない構成であっても、TFT11bのソース−ゲ
ート端子容量により突き抜け電圧が発生する。たとえ
ば、先と同様にある階調で30nAの電流を画素16に
電流プログラムする場合、突き抜け電圧によるベース電
流を加えた電流をソース信号線18に印加する。ベース
電流が40nAであれば、30nA+40nAの電流を
ソース信号線18に印加する(ソース信号線18から回
路1222に向かって吸収する)。したがって、ベース
電流を加えて流すように回路構成をする必要がある。た
とえば、ベース電流用のカレントミラー回路を別途、付
加したりする構成が例示される。
When the punch-through voltage capacitor 19b is formed as shown in FIGS. 171, 21, 43, and 710, it is necessary to add a constant base current for output.
Further, even if the capacitor 19b for punch-through voltage is not arranged (formed), the punch-through voltage is generated by the source-gate terminal capacitance of the TFT 11b. For example, when a current of 30 nA is programmed in the pixel 16 at a certain gray scale as before, a current to which the base current due to the punch-through voltage is added is applied to the source signal line 18. If the base current is 40 nA, a current of 30 nA + 40 nA is applied to the source signal line 18 (absorbed from the source signal line 18 toward the circuit 1222). Therefore, it is necessary to configure the circuit so that the base current is applied and flowed. For example, a configuration in which a current mirror circuit for the base current is added separately is exemplified.

【1499】図293では、このベース電流印加用のト
ランジスタ2752bbと2754bbをチップ14内
に配置(形成)している。なお、ベース電流の印加は端
子Dbbに印加するロジック信号で切り替えられる。つ
まり、ベース電流を加えるか否かは、ロジック的に制御
できるように構成されている。
In FIG. 293, the base current applying transistors 2752bb and 2754bb are arranged (formed) in the chip 14. The application of the base current can be switched by the logic signal applied to the terminal Dbb. That is, whether or not the base current is applied is configured to be logically controllable.

【1500】ベース電流もRGBごとに独自に調整でき
るように構成することが好ましい。RGBのEL素子1
5ごとにガンマカーブ、印加電流が異なるからである。
また、ベース電流はオンオフ制御できるように構成する
ことが好ましい。ベース電流を印加(ソース信号線18
から電流を吸収する場合もある)すると、画像によって
は、黒浮きが発生するからである。したがって、ベース
電流をオンオフさせることにより、最適に調整できるよ
うにする。また、ベース電流のオンオフもRGBごとに
独自に設定できるようにしておくことが好ましい。
[1500] It is preferable that the base current can be adjusted independently for each RGB. RGB EL element 1
This is because the gamma curve and the applied current are different for each 5.
Further, it is preferable that the base current can be controlled to be turned on and off. Apply base current (source signal line 18
In some cases, the current may be absorbed by the), so that black floating may occur depending on the image. Therefore, by turning the base current on and off, the optimum adjustment can be made. Further, it is preferable that the on / off of the base current can be independently set for each RGB.

【1501】なお、先にも説明したが親トランジスタ2
753に流す基準電流、トランジスタ2754bbに流
すベース電流は温度補償をしておく。パネル(正確には
EL素子15の温度)を検出し、検出した温度によっ
て、基準電流、ベース電流の値を変化させる。一般的に
EL素子15は、温度が上がると発光効率が低下する。
そのため、温度が上がるとEL素子15に印加する電流
を増大させるように構成する。また、基準電流、ベース
電流の温度補償も、RGBごとに独自に補償値を設定で
きるようにすることが好ましい。
[1501] As described above, the parent transistor 2
The reference current supplied to 753 and the base current supplied to the transistor 2754bb are temperature-compensated. The panel (more precisely, the temperature of the EL element 15) is detected, and the values of the reference current and the base current are changed according to the detected temperature. Generally, the EL element 15 has a reduced luminous efficiency as the temperature rises.
Therefore, the current applied to the EL element 15 is increased when the temperature rises. Further, it is preferable that the compensation values of the reference current and the base current can be set independently for each RGB.

【1502】また、図126でも説明したが、黒の階調
でのプリチャージ(ディスチャージ)機能を付加する。
図351はその実施例である。ソースドライバ回路14
内にプリチャージ回路3511を形成(配置)してい
る。
[1502] As described with reference to FIG. 126, a precharge (discharge) function for a black gradation is added.
FIG. 351 is an example thereof. Source driver circuit 14
A precharge circuit 3511 is formed (arranged) therein.

【1503】プリチャージ電圧はVb1とVb2の2種
類ある。もちろん、図126でも説明したように1種類
でもよい。また、Vb電圧は3つ以上設けてもよい(た
とえば、Vb1,Vb2、Vb3、Vb4)。図351
では、Vb1は完全に画素16に黒表示させるための電
圧である。図1の画素構成では、Vb1電圧を印加する
ことによりTFT11aは完全にオフ状態をなる。しか
し、図126でも説明したように、これでは、完全に黒
表示から次の第1階調目まで階調の飛びが発生する。こ
の飛びの発生を抑制するのが、プリチャージ電圧Vb2
である。Vb2電圧を印加すうると、図1の画素構成で
は、TFT11aは微小な電流をEL素子15に流す。
したがって、階調飛びが抑制される。
There are two precharge voltages, Vb1 and Vb2. Of course, one type may be used as described in FIG. Further, three or more Vb voltages may be provided (for example, Vb1, Vb2, Vb3, Vb4). FIG. 351
Then, Vb1 is a voltage for completely displaying black in the pixel 16. In the pixel configuration of FIG. 1, the TFT 11a is completely turned off by applying the Vb1 voltage. However, as described with reference to FIG. 126, in this case, gradation skipping occurs completely from the black display to the next first gradation. The occurrence of this jump is suppressed by the precharge voltage Vb2.
Is. When the Vb2 voltage can be applied, in the pixel configuration of FIG. 1, the TFT 11a causes a minute current to flow through the EL element 15.
Therefore, gradation jump is suppressed.

【1504】Vb1電圧を印加するか、Vb2電圧を印
加するか、もしくは、両方とも印加せず、電流プログラ
ムを行うかは、画像データD(5:0)で決定される。
たとえば、D(5:0)の値が‘0’であるときは、V
b1電圧を印加する。D(5:0)が1以上7以下の場
合は、Vb2電圧を印加する。この印加条件は、ドライ
バ回路14へのコマンドにより変更できるように構成さ
れている。たとえば、画像データD(5:0)の値が
‘0’または‘1’であるときは、Vb1電圧を印加
し、D(5:0)が1以上15以下の場合は、Vb2電
圧を印加するというようにである。また、Vb電圧が3
つ以上印加できるように構成している場合は、それぞれ
に応じて、入力データに対するVb電圧を印加できるよ
うに構成する。なお、Vb1などは電圧としたが、これ
に限定するものではなく、電流に置き換えても良い。
[1504] Whether the Vb1 voltage is applied, the Vb2 voltage is applied, or both are not applied and current programming is performed is determined by the image data D (5: 0).
For example, when the value of D (5: 0) is '0', V
The b1 voltage is applied. When D (5: 0) is 1 or more and 7 or less, the Vb2 voltage is applied. This application condition is configured to be changeable by a command to the driver circuit 14. For example, when the value of the image data D (5: 0) is "0" or "1", the Vb1 voltage is applied, and when D (5: 0) is 1 or more and 15 or less, the Vb2 voltage is applied. And so on. Also, the Vb voltage is 3
When one or more voltages can be applied, the Vb voltage for the input data can be applied accordingly. Although Vb1 and the like are voltages, they are not limited to these and may be replaced with currents.

【1505】本発明では、少なくとも、D(5:0)の
値が‘0’であるときは、Vb1電圧を印加している。
このようにすることにより、非常によい黒が表示され、
画質が格段に向上するからである。また、全階調の1/
16、つまり、D(5:0)が1以上3以下の場合は、
Vb2電圧を印加している。この範囲で、ソースドライ
バ回路14からの出力(入力)電流が小さく、画素への
書き込み不足が発生するからである。
In the present invention, the Vb1 voltage is applied at least when the value of D (5: 0) is “0”.
By doing this, a very nice black is displayed,
This is because the image quality is remarkably improved. Also, 1 / of all gradations
16, that is, when D (5: 0) is 1 or more and 3 or less,
The Vb2 voltage is applied. This is because the output (input) current from the source driver circuit 14 is small in this range, and insufficient writing to the pixel occurs.

【1506】表示が白表示から黒表示になる時は、ソー
ス信号線18の電位の変化が遅い。そのため、1H期間
に目標の電位まで変化させることができない(変化させ
ることが難しい)。この課題を解決しるための方法(方
式)を図352に示す。
[1506] When the display changes from white display to black display, the change in the potential of the source signal line 18 is slow. Therefore, the target potential cannot be changed (it is difficult to change) in the 1H period. FIG. 352 shows a method (method) for solving this problem.

【1507】図352(a)は、ソース信号線18の電
位変化を図示している。各RGBのグラフでは、縦軸を
+(電圧が高い)としている。図1の画素構成を想定し
ている。図1の画素構成では、電位が高いほど、TFT
11aのゲート電位が高くなり、TFT11aは電流を
流さなくなる。したがって、EL素子15は点灯せず、
黒表示となる。また、ソースドライバ回路14からみれ
ば、完全な黒表示では図351などにおいても、トラン
ジスタ2754はすべてオフである。したがって、ソー
ス信号線18には電流が流れない。ソース信号線18に
電流が流れなければソース信号線18の電位は変化しな
い。
[1507] FIG. 352 (a) illustrates changes in the potential of the source signal line 18. In each RGB graph, the vertical axis is + (high voltage). The pixel configuration of FIG. 1 is assumed. In the pixel configuration of FIG. 1, the higher the potential, the more TFT
The gate potential of 11a becomes high, and the TFT 11a stops flowing current. Therefore, the EL element 15 does not light up,
It is displayed in black. Further, from the viewpoint of the source driver circuit 14, in the completely black display, the transistors 2754 are all off even in FIG. Therefore, no current flows through the source signal line 18. If no current flows through the source signal line 18, the potential of the source signal line 18 does not change.

【1508】したがって、ソースドライバ回路14に入
力されたデータが白(たとえば、D(5:0)=63)
から完全に黒(D(5:0)=0)に変化すると、ソー
ス信号線18には電流が流れず、画素16に書き込み不
足が発生する。
[1508] Therefore, the data input to the source driver circuit 14 is white (for example, D (5: 0) = 63).
From 0 to completely black (D (5: 0) = 0), no current flows through the source signal line 18 and insufficient writing occurs in the pixel 16.

【1509】この課題を解決するためには、白から黒に
変化させる際、一旦灰色レベルの画像データを印加し
て、ソース信号線18の電位を変化させて後、最終的な
黒の画像データに対応する電流をソース信号線18に印
加すればよい。
[1509] To solve this problem, when changing from white to black, gray level image data is once applied to change the potential of the source signal line 18, and then the final black image data is obtained. It is sufficient to apply a current corresponding to the above to the source signal line 18.

【1510】つまり、灰色表示では、ソースドライバ回
路14のトランジスタ2754のいくつかはオン状態で
ある。したがって、ソース信号線18にも電流が流れ
る。また、画素の駆動用TFT11aも電流を流すこと
ができる。
[1510] That is, in gray display, some of the transistors 2754 of the source driver circuit 14 are on. Therefore, a current also flows through the source signal line 18. In addition, a current can be passed through the pixel driving TFT 11a.

【1511】そのため、白表示でのソース信号線18の
電位レベルから、灰色(中間調)レベルのデータに応じ
てソース信号線18に電流を流す。電流が流れるのであ
るから、ソース信号線18の電位レベルは急速に変化し
灰色(中間調)の電位まで変化する。その後、黒表示の
電流をソース信号線18に流す。この時は、流れる電流
が小さいため、少しづつしか電位は変化しない。しか
し、ソース信号線18の電位は、目標値近くなっている
ため、画素16への書き込み不足が発生しても視覚的に
は目立たない。
Therefore, a current is made to flow from the potential level of the source signal line 18 in white display to the source signal line 18 in accordance with the gray (halftone) level data. Since a current flows, the potential level of the source signal line 18 changes rapidly and changes to a gray (halftone) potential. Then, a black display current is passed through the source signal line 18. At this time, since the flowing current is small, the potential changes little by little. However, since the potential of the source signal line 18 is close to the target value, even if insufficient writing to the pixel 16 occurs, it is visually inconspicuous.

【1512】図352では、以上の駆動方法を実現する
ため、入力データD(5:0)の値をシフトするデータ
シフト回路3521を具備している。データシフト回路
3521は例えば、入力データD(5:0)が4の時、
1ビットシフトして、8に変化させる。このシフト方
向、シフト量はコマンド設定で変更できるように構成さ
れている。また、シフト方向は、前回(1H前)のソー
ス信号線18に印加されたデータの値を考慮して行う。
In FIG. 352, a data shift circuit 3521 for shifting the value of the input data D (5: 0) is provided in order to realize the above driving method. The data shift circuit 3521, for example, when the input data D (5: 0) is 4,
Shift 1 bit and change to 8. The shift direction and shift amount are configured to be changeable by command setting. Further, the shift direction is performed in consideration of the value of the data applied to the source signal line 18 of the previous time (1H before).

【1513】1H前が白表示(たとえば、D(5:0)
=63)で、次が黒表示(たとえば、D(5:0)=
2)であれば、1ビットデータが大きい方にシフトす
る。つまり、D(5:0)=4となる。この場合、ソー
ス信号線18に印加されているデータは、1H前にD
(5:0)=63に対応する電圧が印加されており、次
に、D(5:0)=4に対応する電圧(Vbとする)が
印加され、最終的(1Hの1H/2以降)にD(5:
0)=2に対応する電圧(Vaとする)が印加される。
したがって、図352(a)のRのグラフで図示してい
るように、ソース信号線の電位はVbからVa電圧に変
化する。このため、ソース信号線の電位変化は速く、書
き込み不足は解消する。なお、D(5:0)=0の時
は、シフトしても0である。この場合は図351でも説
明したようにプリチャージ電圧Vb1を印加する。
[1513] White before 1H (for example, D (5: 0))
= 63), and next is displayed in black (for example, D (5: 0) =
In the case of 2), the 1-bit data is shifted to the larger side. That is, D (5: 0) = 4. In this case, the data applied to the source signal line 18 is D before 1H.
The voltage corresponding to (5: 0) = 63 is applied, then the voltage corresponding to D (5: 0) = 4 (referred to as Vb) is applied, and finally (1H / 2 after 1H / 2) ) To D (5:
A voltage (denoted by Va) corresponding to 0) = 2 is applied.
Therefore, as shown in the graph of R in FIG. 352 (a), the potential of the source signal line changes from Vb to Va voltage. Therefore, the potential of the source signal line changes rapidly, and the insufficient writing is eliminated. Note that when D (5: 0) = 0, it is 0 even after shifting. In this case, the precharge voltage Vb1 is applied as described in FIG.

【1514】データシフトする方向は、1H前にソース
信号線18に印加されている電圧(つまり、データ)を
考慮する。図354は黒表示から白表示に変化させる場
合である。1H前が黒表示(たとえば、D(5:0)=
2)で、次が白表示(たとえば、D(5:0)=32)
であれば、1ビットデータが小さい方にシフトする。つ
まり、D(5:0)=16となる。この場合、ソース信
号線18に印加されているデータは、1H前にD(5:
0)=2に対応する電圧が印加されており、次に、D
(5:0)=16に対応する電圧(Vaとする)が印加
され、最終的(1Hの1H/2以降)にD(5:0)=
32に対応する電圧(Vbとする)が印加される。
The data shift direction takes into consideration the voltage (that is, data) applied to the source signal line 18 1H before. FIG. 354 shows a case where the black display is changed to the white display. Black is displayed before 1H (for example, D (5: 0) =
2), next is white display (for example, D (5: 0) = 32)
If so, the 1-bit data is shifted to the smaller side. That is, D (5: 0) = 16. In this case, the data applied to the source signal line 18 is D (5:
0) = 2 is applied, then D
A voltage (Va) corresponding to (5: 0) = 16 is applied, and finally D (5: 0) = (after 1H / 2 of 1H) =
A voltage (denoted as Vb) corresponding to 32 is applied.

【1515】したがって、図354(a)のRのグラフ
で図示しているように、ソース信号線の電位はVaから
Vb電圧に変化する。このため、ソース信号線の電位変
化は速く、書き込み不足は解消する。なお、D(5:
0)=32の時は、前の1Hと次の1Hのデータは同一
である。したがって、シフトするとよけいにデータを書
き込み不足の方向となる。したがって、データシフトは
実施しない。以上のように、シフトするかしないか、ま
た、何ビットシフトするかは、前回ソース信号線18に
書き込まれている電位を考慮して行う。なお、前回だけ
でなく、複数Hの期間を考慮してデータシフト回路35
21の動作を決定してもよいことは言うまでもない(場
合によっては複数フィールドも考慮する)。
Therefore, as shown in the graph of R in FIG. 354 (a), the potential of the source signal line changes from Va to Vb voltage. Therefore, the potential of the source signal line changes rapidly, and the insufficient writing is eliminated. Note that D (5:
When 0) = 32, the data of the previous 1H and the next 1H are the same. Therefore, the shift tends to cause insufficient writing of data. Therefore, no data shift is performed. As described above, whether to shift or not and how many bits to shift are determined in consideration of the potential previously written in the source signal line 18. In addition to the previous time, the data shift circuit 35
It goes without saying that the operation of No. 21 may be determined (in some cases, multiple fields are also considered).

【1516】なお、図353に図示するように、図35
1などで説明したプリチャージ回路と組み合わせること
も有効である。図353では、まず、より黒に近い、プ
リチャージ電圧Vcを印加している。その後、データシ
フト回路3521からVb電圧をソース信号線に印加
し、最後に目標電圧Vaを印加している。
[1516] Note that, as illustrated in FIG.
It is also effective to combine with the precharge circuit described in 1. In FIG. 353, first, the precharge voltage Vc closer to black is applied. After that, the Vb voltage is applied from the data shift circuit 3521 to the source signal line, and finally the target voltage Va is applied.

【1517】以上の実施例では、画素16に突き抜け電
圧発生用のコンデンサ19bを形成する、あるいは、T
FT11bなどのチャンネル容量を利用して黒表示のバ
イアス電流をより多く流したりする方式であった。以上
の事項は、ソース信号線18の電位をシフトすることに
よっても実現できる。
In the above embodiments, the pixel 16 is formed with the capacitor 19b for generating the punch-through voltage, or T
This is a method in which a channel current such as FT11b is used to flow more bias current for black display. The above items can also be realized by shifting the potential of the source signal line 18.

【1518】図299はその実施例である。[1518] FIG. 299 is an example thereof.

【1519】たとえば、スイッチ1223に印加される
電圧は図122の電圧出力回路1221である。つま
り、画像データに応じて、スイッチ1223をオンさせ
てソース信号線18の電位をVdd電圧の方にシフトさ
せる。したがって、TFT11aのゲート端子の電位V
gが高くなり、TFT11aは電流を流さなくなる。ス
イッチ1223を閉じるタイミングは選択された画素行
が非選択となる直前である。つまり、ゲート信号線17
aにオフ電圧が印加される直前である。したがって、画
素16のコンデンサ19aに電流プログラムされ、スイ
ッチ1223が動作することによるソース信号線18に
よる電位シフトがコンデンサ19aに重畳されたのち、
ゲート信号線17aにオフ電圧が印加され、該当画素行
が非選択となる。
For example, the voltage applied to switch 1223 is voltage output circuit 1221 in FIG. That is, according to the image data, the switch 1223 is turned on to shift the potential of the source signal line 18 toward the Vdd voltage. Therefore, the potential V of the gate terminal of the TFT 11a
Since g becomes high, the TFT 11a stops passing current. The timing for closing the switch 1223 is immediately before the selected pixel row is deselected. That is, the gate signal line 17
Immediately before the off voltage is applied to a. Therefore, after the current is programmed in the capacitor 19a of the pixel 16 and the potential shift by the source signal line 18 due to the operation of the switch 1223 is superimposed on the capacitor 19a,
The off voltage is applied to the gate signal line 17a, and the corresponding pixel row is deselected.

【1520】なお、「画像データに応じて」とは、64
階調のうち、黒表示に近い下位8階調では、スイッチ1
223を閉じるという制御を行うという意味である。黒
表示ではソース信号線18に流す電流が小さいため、書
き込み不足が発生しやすいからである。つまり、以前に
説明した選択プリチャージである。
[1520] Note that "according to image data" means 64
Of the gradations, switch 1 is selected for the lower 8 gradations close to black display.
This means that control is performed to close 223. This is because in black display, the current flowing through the source signal line 18 is small, and thus insufficient writing is likely to occur. That is, the selective precharge described above.

【1521】図299の電流出力回路1222は図12
2、図123、図275、図276、図293などに限
定されるものではない。以下、本発明の他の電流出力回
路1222について説明をする。
[1521] The current output circuit 1222 in FIG.
2, FIG. 123, FIG. 275, FIG. 276, FIG. 293 and the like. Hereinafter, another current output circuit 1222 of the present invention will be described.

【1522】図300は他の電流出力回路1222を用
いた表示パネルの構成図である。なお、図300などで
は、電流出力回路1222は、基板46に画素16と同
時に形成してもよい。つまり、電流出力回路1222は
低温ポリシリコン技術で形成してもよい。つまり、画素
のTFTと同一のプロセスで形成するもちろん、シリコ
ンチップのソースドライバ14内に形成し、COG技術
などを用いて基板46上に実装してもよいことは言うま
でもない。また、高温ポリシリコン技術で形成してもよ
く、有機材料で形成(有機TFT)してもよい。
[1522] FIG. 300 is a configuration diagram of a display panel using another current output circuit 1222. Note that in FIG. 300 and the like, the current output circuit 1222 may be formed on the substrate 46 at the same time as the pixel 16. That is, the current output circuit 1222 may be formed by low temperature polysilicon technology. That is, it goes without saying that it may be formed in the same process as the TFT of the pixel, or may be formed in the source driver 14 of the silicon chip and mounted on the substrate 46 by using the COG technique or the like. Further, it may be formed by a high temperature polysilicon technique or an organic material (organic TFT).

【1523】図300の電流出力回路1222は図41
のEL素子15を削除し、この削除したEL素子の箇所
とソース信号線18と接続した構成である。つまり、図
41のソース信号線18が電流プログラム線3002と
なる。この電流プログラム線3002には電流サンプリ
ング回路3001の出力が接続される。電流プログラム
線3002に流れる電流はソース信号線18に流れる電
流である。したがって、電流サンプリング回路3001
からの電流が電流プログラム線3002に流れ、この電
流がコンデンサ19にプログラムされる。そして、プロ
グラムされた電流がソース信号線18に1Hクロックに
同期してソース信号線18に印加されるのである。した
がって、1Hクロックに同期して一斉に電流をソース信
号線18に印加する必要があるため、電流出力回路12
22の出力段には1Hクロックに同期してオンオフする
スイッチを具備している。
[1523] The current output circuit 1222 of FIG.
The EL element 15 is deleted, and the removed EL element is connected to the source signal line 18. That is, the source signal line 18 in FIG. 41 becomes the current program line 3002. The output of the current sampling circuit 3001 is connected to the current program line 3002. The current flowing through the current program line 3002 is the current flowing through the source signal line 18. Therefore, the current sampling circuit 3001
Current flows into the current program line 3002, and this current is programmed into the capacitor 19. Then, the programmed current is applied to the source signal line 18 in synchronization with the 1H clock. Therefore, since it is necessary to apply the current to the source signal lines 18 simultaneously in synchronization with the 1H clock, the current output circuit 12
The output stage of 22 is equipped with a switch that turns on and off in synchronization with the 1H clock.

【1524】なお、電流出力回路1222は図43のカ
レントミラーの画素16構成でもよい。図300の電流
出力回路1222は図43のEL素子15を削除し、こ
の削除したEL素子の箇所とソース信号線18と接続し
た構成である。つまり、図43のソース信号線18が電
流プログラム線3002となる。この電流プログラム線
3002には電流サンプリング回路3001の出力が接
続される。電流プログラム線3002に流れる電流はソ
ース信号線18に流れる電流である。したがって、電流
サンプリング回路3001からの電流が電流プログラム
線3002に流れ、この電流がコンデンサ19にプログ
ラムされる。そして、プログラムされた電流がソース信
号線18に1Hクロックに同期してソース信号線18に
印加されるのである。
The current output circuit 1222 may have the current mirror pixel 16 configuration of FIG. The current output circuit 1222 of FIG. 300 has a configuration in which the EL element 15 of FIG. 43 is deleted and the location of the deleted EL element and the source signal line 18 are connected. That is, the source signal line 18 in FIG. 43 becomes the current program line 3002. The output of the current sampling circuit 3001 is connected to the current program line 3002. The current flowing through the current program line 3002 is the current flowing through the source signal line 18. Therefore, the current from the current sampling circuit 3001 flows to the current program line 3002, and this current is programmed in the capacitor 19. Then, the programmed current is applied to the source signal line 18 in synchronization with the 1H clock.

【1525】なお、図43のカレントミラーの構成で
は、カレント倍率を設定すること(構成すること)によ
り、電流出力回路1222にサンプリングして書き込む
電流と、ソース信号線18から吸い込む電流値を異なら
せることができる。したがって、電流サンプリング回路
3001からの書き込み電流を増加させることができ、
電流サンプリング回路3001の書き込み不足を解消す
ることができる。また、逆にソース信号線18への書き
込み電流を増加させることもできる。
In the configuration of the current mirror of FIG. 43, by setting (configuring) the current magnification, the current sampled and written in the current output circuit 1222 and the current value drawn from the source signal line 18 are made different. be able to. Therefore, the write current from the current sampling circuit 3001 can be increased,
Insufficient writing in the current sampling circuit 3001 can be eliminated. On the contrary, the write current to the source signal line 18 can be increased.

【1526】なお、図300、図301などにおいて、
電流出力回路1222は、図41、図43を変形させた
ものとして説明したがこれに限定するものではない。た
とえば、2本の信号線に流れる電流(一方の電流はバイ
アス電流、他方の電流はバイアス電流+信号(書き込
み)電流)の差を電流出力回路1222に書き込む差動
構成であってもよい。差動構成では、電流サンプリング
回路3001から電流出力回路1222への電流書き込
み不足は発生しない。しかし、電流プログラム線300
2は2本必要である。
[1526] Note that in FIGS. 300, 301, and the like,
The current output circuit 1222 has been described as a modification of FIGS. 41 and 43, but the present invention is not limited to this. For example, a differential configuration may be used in which a difference between currents flowing in two signal lines (one current is a bias current, the other current is a bias current + a signal (writing) current) is written in the current output circuit 1222. In the differential configuration, insufficient current writing from the current sampling circuit 3001 to the current output circuit 1222 does not occur. However, the current program line 300
Two is required for 2.

【1527】また、図41、図43において、図27
7、図224、図222などで説明したように画素16
構成に突き抜け電圧発生用のコンデンサ19bなどを付
加することにより、バイアス電流を発生することができ
る。したがって、黒表示状態などにおいて、ソース信号
線18に流す電流を増加させることができる。
[1527] In addition, in FIG. 41 and FIG.
7, the pixel 16 as described in FIG. 224, FIG. 222, and the like.
Bias current can be generated by adding a capacitor 19b for generating punch-through voltage to the structure. Therefore, the current flowing through the source signal line 18 can be increased in the black display state or the like.

【1528】図300の構成では、デジタル画像データ
をアナログ電流に変換するDA回路(図示せず)からの
出力は、電流サンプリング回路3001で電流サンプリ
ングされ、それぞれソース信号線18に配置(形成)さ
れた電流出力回路1222に保持される(コンデンサ1
9に記憶される)。この保持された電流を1Hクロック
に同期してソース信号線18に印加され(ソース信号線
18から電流を吸収し)、各表示領域21の画素16に
順次書き込まれるのである。以上の構成を採用すること
により、図123などで説明したオペアンプなどが不要
になり、図293で説明したカレントミラー回路なども
不要になる。また、電流出力回路1222の構成が容易
であるので低温ポリシリコン技術などでも形成すること
ができる。
In the configuration of FIG. 300, the output from the DA circuit (not shown) that converts digital image data into analog current is subjected to current sampling by the current sampling circuit 3001 and is arranged (formed) on the source signal line 18. Held in the current output circuit 1222 (capacitor 1
9). The held current is applied to the source signal line 18 in synchronization with the 1H clock (the current is absorbed from the source signal line 18) and sequentially written in the pixels 16 in each display region 21. By adopting the above configuration, the operational amplifier described with reference to FIG. 123 or the like becomes unnecessary, and the current mirror circuit described in FIG. 293 or the like becomes unnecessary. Further, since the current output circuit 1222 is easily configured, it can be formed by a low temperature polysilicon technique or the like.

【1529】ただし、課題がある。電流サンプリング回
路3001の動作周波数が高く、電流出力回路1222
への書き込み不足が発生するからである。これを解決す
るのは、図301に図示するように、2つの電流出力回
路(1222a、1222b)と、2つの電流サンプリ
ング回路3001(3001a、3001b)を配置
(形成)すればよい。
[1529] However, there are problems. The operating frequency of the current sampling circuit 3001 is high, and the current output circuit 1222
This is because there is a shortage of writing to. This can be solved by disposing (forming) two current output circuits (1222a, 1222b) and two current sampling circuits 3001 (3001a, 3001b) as shown in FIG.

【1530】このように2層にすることにより、第1H
目では電流出力回路1222aからソース信号線18に
電流を印加し、その期間に、電流サンプリング回路30
01bを動作させて電流出力回路1222bに書き込み
電流を保持させる。第1H目の次の第2H目では電流出
力回路1222bからソース信号線18に電流を印加
し、その期間に、電流サンプリング回路3001aを動
作させて電流出力回路1222aに書き込み電流を保持
させることができる。つまり、電流サンプリング回路3
001の動作スピードを1/2にすることができる。な
お、表示領域は図3001に図示するように表示領域2
1aと21bの2分割としてもよい(ソース信号線18
を画面の中央部で切断する)。
[1530] By forming two layers in this way, the first H
The current is applied from the current output circuit 1222a to the source signal line 18, and during that period, the current sampling circuit 30
01b is operated to cause the current output circuit 1222b to hold the write current. In the second H after the first H, a current is applied from the current output circuit 1222b to the source signal line 18, and during that period, the current sampling circuit 3001a can be operated and the current output circuit 1222a can hold the write current. . That is, the current sampling circuit 3
The operation speed of 001 can be halved. The display area is the display area 2 as shown in FIG.
1a and 21b may be divided into two (source signal line 18
Disconnect at the center of the screen).

【1531】なお、図300、図301などで説明した
電流出力回路1222がプログラム電流Iwを吸い込む
方向か、吐き出す方向かは、画素16構成によって異な
る。つまり、画素16構成にあわせて出力電流回路12
22の構成を設定(形成)する。
[1531] The direction in which the current output circuit 1222 described with reference to FIGS. 300 and 301 absorbs the program current Iw or discharges it depends on the pixel 16 configuration. That is, the output current circuit 12 is adapted to the pixel 16 configuration.
22 is set (formed).

【1532】図301では、図179で説明したように
ゲート信号線17bを複数信号線ずつ共通にしている。
つまり、ブロック駆動方式を実施する。以上のように、
本発明は、本明細書で記載した他の構成と組み合わせる
ことができる。さらに、図302は、点灯制御線179
1を複数本形成し、かつ、逆バイアス電圧を印加するよ
うに構成している。以上のように、本発明は、本明細書
で記載した他の構成と組み合わせることができる。
In FIG. 301, as described in FIG. 179, the gate signal line 17b is shared by a plurality of signal lines.
That is, the block driving method is implemented. As mentioned above,
The present invention can be combined with other configurations described herein. Further, FIG. 302 shows a lighting control line 179.
A plurality of 1s are formed and a reverse bias voltage is applied. As described above, the present invention can be combined with other configurations described in this specification.

【1533】EL表示装置は、液晶表示装置のようなバ
ックライトが不要である。したがって、モジュール厚を
薄くできるという特徴がある。液晶表示装置は、バック
ライトを点灯して画像を表示する。また、バックライト
の消費電力は携帯電話に使用するモジュールで200〜
300(mW)と大きい。それに比較して、液晶表示パ
ネルで使用する消費電力は5〜10(mW)と小さい。
したがって、画像を表示する際は、バックライトが点灯
しているため、どんな画像を表示してもモジュールとし
ての消費電力には差がない。
[1533] The EL display device does not require a backlight unlike a liquid crystal display device. Therefore, there is a feature that the module thickness can be reduced. The liquid crystal display device turns on a backlight to display an image. In addition, the power consumption of the backlight is 200 ~ for modules used in mobile phones.
It is as large as 300 (mW). On the other hand, the power consumption used in the liquid crystal display panel is as small as 5 to 10 (mW).
Therefore, when displaying an image, since the backlight is on, there is no difference in the power consumption of the module regardless of which image is displayed.

【1534】EL表示装置は、画像表示状態と消費電力
には密接な関係がある。通常の自然画では消費電力は少
ない。しかし、白ラスター表示では、自然画の3〜4倍
の電流を消費する。また、画像の表示状態によって、モ
ジュールに流れる電流がたえず変化する。
[1534] The EL display device has a close relationship between the image display state and the power consumption. Power consumption is low in normal natural images. However, the white raster display consumes 3 to 4 times as much current as a natural image. In addition, the current flowing through the module constantly changes depending on the display state of the image.

【1535】白ラスター表示、画像の表示状態に追従す
るように電源回路を構成すると非常に回路構成が大きく
なる。また、電源容量も大きくなる。本発明はこれらの
課題を解決するものであり、また、表示画像21の明る
さ制御を容易に実現するものである。
[1535] If the power supply circuit is configured to follow the white raster display and the image display state, the circuit configuration becomes very large. Also, the power supply capacity is increased. The present invention solves these problems and easily realizes the brightness control of the display image 21.

【1536】図261は、情報表示装置の一例としての
本発明の携帯電話の表示方法の説明図である。図261
(a)は、携帯電話の表示画面21を示している。表示
領域21bはアンテナの受信状態、時刻などを表示する
部分である。つまり、定常的に必要な情報を表示する領
域である。表示領域21cも同様に操作アイコンなど定
常的に必要な情報を表示する領域である。表示領域21
aはメニュー、画像などを表示する領域でたえず、表示
する画像が変化する領域である。
[1536] FIG. 261 is an explanatory diagram of a display method of a mobile phone according to the present invention as an example of an information display device. FIG. 261
(A) has shown the display screen 21 of a mobile telephone. The display area 21b is a portion for displaying the reception state of the antenna, the time, and the like. That is, it is an area in which necessary information is constantly displayed. Similarly, the display area 21c is an area for displaying information such as operation icons that is constantly required. Display area 21
“A” is an area for displaying a menu, an image, and the like, and is an area where the displayed image constantly changes.

【1537】図261では説明を容易にするため、図1
79、図198などで説明したブロック表示方法を適用
しているとする。表示領域21bは3つのブロック19
81bを対応させ、表示領域21cは3つのブロック1
981cを対応させている。また、表示領域21aは残
りのブロック1981aを対応させている。したがっ
て、選択するブロック1981の回数などを制御するこ
とにより容易にブロック1981ごとに画像の明るさを
調整できる。なお、断っておくが、表示領域21a、2
1b、21cなどの明るさ調整は、図179、図198
などで説明したプロック駆動に限定されるものではな
い。当然のことながら、図134、図87、図88など
で説明した順次駆動でもよいことは言うまでもない。順
次駆動でも、クロックの速度などを制御することによ
り、画面21を部分ごとに明るさ調整を容易に実現でき
るからである。
[1537] In FIG. 261, the description of FIG.
It is assumed that the block display method described with reference to FIG. The display area 21b has three blocks 19
The display area 21c has three blocks 1
It corresponds to 981c. The display area 21a corresponds to the remaining blocks 1981a. Therefore, the brightness of the image can be easily adjusted for each block 1981 by controlling the number of selected blocks 1981 and the like. It should be noted that the display areas 21a and 2 are
Brightness adjustments for 1b, 21c, etc., can be made with reference to FIGS.
It is not limited to the block drive described above. Needless to say, the sequential drive described with reference to FIGS. 134, 87, 88 and the like may be used. This is because the brightness can be easily adjusted for each part of the screen 21 by controlling the speed of the clock even in the sequential driving.

【1538】表示領域21b、21cは定常的に表示す
る部分であるので、一定の表示画面の明るさを保つ必要
がある。また、電流の消費量は一定である。しかし、図
261(a)の表示領域21aは画像の種類により画像
の明るさを制御することが好ましい。たとえば、表示領
域21aにテレビ画像を表示していて、突然画面全体が
白表示(白ラスター)と変化すると急激に電源回路から
モジュールに電流が流れる。この電流によりモジュール
が発熱し劣化、あるいは不良が発生する危険性がある。
なお、図261(b)で図示したブロック1981a、
1981b、1981cはそれぞれ個別にオンオフ処理
(点灯、非点灯処理)を行うことができ、画像の明るさ
を調整できる。これは、点灯制御線1791を制御する
ことにより容易に実現できる。
[1538] Since the display areas 21b and 21c are the portions which are constantly displayed, it is necessary to maintain a constant display screen brightness. Further, the current consumption is constant. However, in the display area 21a of FIG. 261 (a), it is preferable to control the brightness of the image depending on the type of the image. For example, when a television image is displayed in the display area 21a and the entire screen suddenly changes to white display (white raster), a current suddenly flows from the power supply circuit to the module. Due to this current, there is a risk that the module will generate heat and deteriorate, or defective.
The block 1981a shown in FIG. 261 (b),
1981b and 1981c can individually perform on / off processing (lighting / non-lighting processing), and the brightness of an image can be adjusted. This can be easily realized by controlling the lighting control line 1791.

【1539】したがって、表示領域21aにどんな画像
が表示されるかを監視し、消費電力区が急激に増加する
場合は、表示する画像データに演算処理などを施して表
示画像21aの全体輝度を低下させる必要がある。たと
えば、白ラスター表示を行う時には、白ラスターの画像
データの大きさなどを1/2とし、表示輝度を1/2に
低減させる。なお、画像の輝度は、図179などでも説
明しているように、非表示領域312と点灯領域311
の割合を変化することにより行う。このようにすること
により、画像データの大きさを変化させずに画像の明る
さ調整を実現できる。もちろん、画像データの大きさを
変化させて実現してもよいことは言うまでもない。
Therefore, what kind of image is displayed in the display area 21a is monitored, and when the power consumption area is rapidly increased, the image data to be displayed is subjected to arithmetic processing or the like to reduce the overall brightness of the display image 21a. Need to let. For example, when performing white raster display, the size of the image data of the white raster is halved, and the display brightness is reduced to ½. It should be noted that the brightness of the image has a non-display area 312 and a lighting area 311 as described in FIG. 179 and the like.
By changing the ratio of. By doing so, the brightness of the image can be adjusted without changing the size of the image data. Of course, it goes without saying that it may be realized by changing the size of the image data.

【1540】図262は、画像データによる消費電力変
化を抑制する回路である。フレーム(フィールド)メモ
リ2621は2つの領域(2621a、2621b)に
分かれており、それぞれ、1画面の画像データを保持で
きる。メモリ2621aとメモリ2621bとは交互に
選択される。たとえば、メモリ2621aからデータ変
換回路2623に画像データを読み出している時には、
マイコン(図示せず)からメモリ2621bに画像デー
タが書き込まれている。逆に、メモリ2621bからデ
ータ変換回路2623に画像データを読み出している時
には、マイコン(図示せず)からメモリ2621aに画
像データが書き込まれている。なお、説明を容易にする
ため、画像データDATA(5:0)はD5〜D0の6
ビット(64階調)であるとして説明をする。
[1540] FIG. 262 is a circuit for suppressing a change in power consumption due to image data. The frame (field) memory 2621 is divided into two areas (2621a and 2621b), each of which can hold image data of one screen. The memory 2621a and the memory 2621b are selected alternately. For example, when image data is being read from the memory 2621a to the data conversion circuit 2623,
Image data is written in the memory 2621b from a microcomputer (not shown). Conversely, when the image data is being read from the memory 2621b to the data conversion circuit 2623, the image data is being written to the memory 2621a from a microcomputer (not shown). For ease of explanation, the image data DATA (5: 0) is 6 of D5 to D0.
The description will be made assuming that it is a bit (64 gradations).

【1541】画像データDATA(5:0)はメモリ2
621aと2621bに交互に書き込まれる。MSBの
DATA5は、カウンタ回路2622でカウントされ
る。DATA5をカウントするのは、DATA5のビッ
トがたっている画像データ、つまり、最高輝度の1/2
以上となる画像データの個数をカウントしているのであ
る。したがって、カウンタ回路2622のカウント値が
大きいほど画像の輝度が高く、モジュールで消費する電
力が大きいことを示していることになる。
[1541] The image data DATA (5: 0) is stored in the memory 2
It is written in 621a and 2621b alternately. The MSB DATA5 is counted by the counter circuit 2622. The count of DATA5 is the image data in which the bits of DATA5 are set, that is, 1/2 of the maximum brightness.
The number of pieces of image data as described above is counted. Therefore, the larger the count value of the counter circuit 2622, the higher the brightness of the image, and the larger the power consumed by the module.

【1542】今、画像データはメモリ2621aに書き
込まれるとともに、カウンタ回路2622でカウントさ
れているとする。この時、メモリ2621bの画像デー
タが読み出されている。
[1542] Now, it is assumed that the image data is written in the memory 2621a and is counted by the counter circuit 2622. At this time, the image data in the memory 2621b is being read.

【1543】カウンタ回路2622のカウント値が所定
値(この所定値はマイコン(図示せず)などにより可変
できるように構成しておく)以上の時、カウンタ回路2
622はデータ変換回路2623を制御する。この制御
とは、メモリ2622からの画像データの値を1/2す
る(1ビット右にシフトする)などの処理である。つま
り、カウンタ回路は1画面の画像データをカウントする
(画像データはメモリ2621aに書き込まれる)。そ
して、この画像データをメモリ2621aから読み出
し、この画像データを制御するのである。
When the count value of the counter circuit 2622 is greater than or equal to a predetermined value (the predetermined value is configured to be variable by a microcomputer (not shown) or the like), the counter circuit 2
Reference numeral 622 controls the data conversion circuit 2623. This control is processing such as halving the value of the image data from the memory 2622 (shifting to the right by 1 bit). That is, the counter circuit counts image data of one screen (image data is written in the memory 2621a). Then, this image data is read from the memory 2621a and this image data is controlled.

【1544】なお、カウントはD5だけでなく、DAT
A(5:4)あるいはDATA(5:3)をカウントす
ることにより、より画像の特徴抽出が正確に行えること
は言う今でもない。特徴抽出を正確に行うことにより表
示領域21aの明るさ調整をより適切に実施することが
できる。
[1544] The count is not limited to D5, but DAT
It can be said that the feature extraction of the image can be more accurately performed by counting A (5: 4) or DATA (5: 3). By accurately performing the feature extraction, the brightness of the display area 21a can be adjusted more appropriately.

【1545】画像データが白ラスターなど、非常に消費
電力が大きくなる場合は、データ変換回路2623で画
像データを小さくする画像データ変換処理をした後、そ
の変換後のデータをソースドライバ14に印加する。な
お、画像を1フレームごとに処理し、1フレームごとに
表示画像の明るさ調整をすると画像がブリンクしてしま
う(明るい画面と暗い画面が繰り返され、画像がまばた
いた状態となる)。この課題に対しては、画像処理に遅
延を持たし、また、複数フレームの画像変化を考慮しな
がら、データ変換回路2623のデータ変換制御を行う
ことにより対応できる。
[1545] When the image data such as a white raster consumes an extremely large amount of power, the data conversion circuit 2623 performs image data conversion processing to reduce the image data and then applies the converted data to the source driver 14. . If the image is processed frame by frame and the brightness of the display image is adjusted frame by frame, the image will blink (the bright screen and the dark screen are repeated, and the image is in a blinking state). This problem can be dealt with by performing a data conversion control of the data conversion circuit 2623 while delaying the image processing and considering the image change of a plurality of frames.

【1546】なお、図262では、画像データを変換
し、ソースドライバ14に印加することにより表示領域
21aの明るさ調整を行うとしたが、これに限定するも
のではなく、図261のブロック1981aの点灯時間
を制御することにより実現しても良いことは言うまでも
ない。以下、この実施について説明をする。
In FIG. 262, the brightness of the display area 21a is adjusted by converting the image data and applying it to the source driver 14, but the present invention is not limited to this, and the block 1981a in FIG. It goes without saying that it may be realized by controlling the lighting time. Hereinafter, this implementation will be described.

【1547】図268はその実施例の説明図である。フ
レーム(フィールド)メモリ2621は2つの領域(2
621a、2621b)に分かれており、それぞれ、1
画面の画像データを保持できる。メモリ2621aとメ
モリ2621bとは交互に選択される。たとえば、メモ
リ2621aからソースドライバ14に画像データを読
み出している時には、マイコン(図示せず)からメモリ
2621bに画像データが書き込まれている。逆に、メ
モリ2621bからソースドライバ14に画像データを
読み出している時には、マイコン(図示せず)からメモ
リ2621aに画像データが書き込まれている。以上の
事項は図262と同様である。
[1550] FIG. 268 is an explanatory diagram of the embodiment. The frame (field) memory 2621 has two areas (2
621a, 2621b), each of which is 1
It can hold the image data of the screen. The memory 2621a and the memory 2621b are selected alternately. For example, when image data is being read from the memory 2621a to the source driver 14, image data is being written to the memory 2621b from a microcomputer (not shown). On the contrary, when the image data is being read from the memory 2621b to the source driver 14, the image data is written in the memory 2621a from a microcomputer (not shown). The above items are the same as in FIG.

【1548】画像データDATA(5:0)のMSBの
DATA5は、カウンタ回路2682aでカウントされ
る。図262の実施例と同様に、最高輝度の1/2以上
となる画像データの個数をカウントするためである。し
たがって、カウンタ回路2862aのカウント値が大き
いほど画像の輝度が高い画像データが多いことを示して
いる。
The MSB DATA5 of the image data DATA (5: 0) is counted by the counter circuit 2682a. This is for counting the number of pieces of image data having a maximum luminance of ½ or more, as in the embodiment of FIG. Therefore, the larger the count value of the counter circuit 2862a, the more image data the image brightness is high.

【1549】加算回路(演算処理回路)2682bは、
画像21を複数のブロックに区切り、それぞれのブロッ
クでも平均輝度分布を処理する。また、演算処理回路2
682cは画像データの所定輝度以上の画像データの分
布状態と、所定輝度以下の画像データの分布状態を演算
により求めている。つまり、加算回路(演算処理回路)
2682は、画像21平均輝度分布、画像データの分布
状態などを解析するものである。
[1549] The addition circuit (arithmetic processing circuit) 2682b is
The image 21 is divided into a plurality of blocks, and the average brightness distribution is processed in each block. In addition, the arithmetic processing circuit 2
Reference numeral 682c calculates the distribution state of image data having a predetermined brightness or higher and the distribution state of image data having a predetermined brightness or lower. In other words, adder circuit (arithmetic processing circuit)
2682 analyzes the average brightness distribution of the image 21, the distribution state of the image data, and the like.

【1550】ゲートドライバ制御回路2683は、演算
処理回路2682からの演算結果(処理結果)を複数フ
レームにわたって蓄積し、ゲートドライバ12のシフト
レジスタ22に印加するSTデータあるいは、点灯制御
線1791のオンオフデータを送出する。
[1550] The gate driver control circuit 2683 accumulates the calculation result (processing result) from the calculation processing circuit 2682 over a plurality of frames and applies the ST data to the shift register 22 of the gate driver 12 or the ON / OFF data of the lighting control line 1791. Is sent.

【1551】たとえば、シフトレジスタ22の制御によ
り画面の明るさを調整するのであれば、図273のよう
になる。画像を暗くする場合は、図273(a)に図示
するようにシフトレジスタ22に印加するSTデータ数
を少なくする。したがって、表示領域21に占める点灯
領域311の割合が低下して暗くなる。比較的、表示画
像21を明るくする場合は、図273(b)の点灯領域
312の幅を太くするか、もしくは点灯領域312の個
数を多くする。さらに、表示画像21を明るくする場合
は、図273(c)の点灯領域312の幅をさらに太く
するか、もしくは点灯領域312の個数をさらに多くす
る。なお、以上の処理は、図261のブロック1981
の選択処理でも実現できることは明らかである。したが
って、説明を省略する。
[1551] For example, if the brightness of the screen is adjusted by the control of the shift register 22, it becomes as shown in FIG. When the image is darkened, the number of ST data applied to the shift register 22 is reduced as shown in FIG. Therefore, the proportion of the lighting area 311 in the display area 21 decreases and the display area 21 becomes dark. When the display image 21 is relatively brightened, the width of the lighting area 312 in FIG. 273 (b) is increased or the number of the lighting areas 312 is increased. Further, when the display image 21 is made brighter, the width of the lighting region 312 in FIG. 273 (c) is further increased, or the number of the lighting regions 312 is further increased. Note that the above processing is performed by the block 1981 in FIG. 261.
It is obvious that the selection process can also be realized. Therefore, the description is omitted.

【1552】また、画像データが動画であるか静止画で
あるかを検出し(動画検出、ID処理で行う)、図27
3の点灯領域312の数を調整すればよい。つまり、動
画であれば、点灯領域312の個数を減らし、動画ボケ
をなくす。静止画であれば、フリッカの発生を抑制する
ために、点灯領域312の個数を多くし、また点灯領域
を表示領域21に分散させる。
[1552] Also, whether the image data is a moving image or a still image is detected (moving image detection and ID processing are performed), and FIG.
The number of the three lighting areas 312 may be adjusted. That is, in the case of a moving image, the number of lighting regions 312 is reduced to eliminate moving image blur. In the case of a still image, the number of lighting areas 312 is increased and the lighting areas are dispersed in the display area 21 in order to suppress the occurrence of flicker.

【1553】図262では、所定輝度以上の画像データ
の個数をカウントし、表示画面21の明るさ制御を行う
としたが、図268と同様に、画像の特徴を抽出して表
示画面21の輝度を変化させてもよい。この実施例を図
269に示す。なお、図268と図269の実施例を組
み合わせても良いことは言うまでもない。
[1553] In FIG. 262, the number of pieces of image data having a predetermined brightness or higher is counted to control the brightness of the display screen 21, but as in FIG. 268, the characteristics of the image are extracted and the brightness of the display screen 21 is extracted. May be changed. This embodiment is shown in FIG. 269. It goes without saying that the embodiments of FIGS. 268 and 269 may be combined.

【1554】図269はその実施例の説明図である。フ
レーム(フィールド)メモリ2621は2つの領域(2
621a、2621b)に分かれており、それぞれ、1
画面の画像データを保持できる。メモリ2621aとメ
モリ2621bとは交互に選択される。たとえば、メモ
リ2621aからデータ変換回路2692に画像データ
を読み出している時には、マイコン(図示せず)からメ
モリ2621bに画像データが書き込まれている。逆
に、メモリ2621bからデータ変換回路2692に画
像データを読み出している時には、マイコン(図示せ
ず)からメモリ2621aに画像データが書き込まれて
いる。以上の事項は図262または図268と同様であ
る。
[1554] FIG. 269 is an explanatory diagram of the embodiment. The frame (field) memory 2621 has two areas (2
621a, 2621b), each of which is 1
It can hold the image data of the screen. The memory 2621a and the memory 2621b are selected alternately. For example, when the image data is being read from the memory 2621a to the data conversion circuit 2692, the image data is written to the memory 2621b from a microcomputer (not shown). On the contrary, when the image data is being read from the memory 2621b to the data conversion circuit 2692, the image data is written in the memory 2621a from a microcomputer (not shown). The above items are the same as in FIG. 262 or FIG. 268.

【1555】画像データDATA(5:0)のMSBの
DATA5は、カウンタ回路2682aでカウントされ
る。カウンタ回路2862aのカウント値が大きいほど
画像の輝度が高い画像データが多いことを示している。
加算回路(演算処理回路)2682bの先と同様に、画
像21を複数のブロックに区切り、それぞれのブロック
でも平均輝度分布を処理する。また、演算処理回路26
82cは画像データの所定輝度以上の画像データの分布
状態と、所定輝度以下の画像データの分布状態を演算に
より求めている。つまり、加算回路(演算処理回路)2
682は、画像21平均輝度分布、画像データの分布状
態などを解析するものである。
[1555] DATA5 of MSB of image data DATA (5: 0) is counted by the counter circuit 2682a. The larger the count value of the counter circuit 2862a, the more image data the image brightness is high.
As in the case of the addition circuit (arithmetic processing circuit) 2682b, the image 21 is divided into a plurality of blocks, and the average luminance distribution is processed in each block. In addition, the arithmetic processing circuit 26
Reference numeral 82c calculates the distribution state of image data having a predetermined brightness or higher and the distribution state of image data having a predetermined brightness or lower. That is, the adder circuit (arithmetic processing circuit) 2
Reference numeral 682 is for analyzing the average brightness distribution of the image 21, the distribution state of the image data, and the like.

【1556】データ制御回路2691は、演算処理回路
2682からの演算結果(処理結果)を複数フレームに
わたって蓄積し、データ変換回路2692を制御して、
画像データの変換処理をする。
The data control circuit 2691 accumulates the calculation result (processing result) from the calculation processing circuit 2682 over a plurality of frames, controls the data conversion circuit 2692,
Convert image data.

【1557】たとえば、画面の明るさを調整するのであ
れば、図262と同様にデータをビットシフトさせた画
像データの大きさを変換する。同時に画像データの解析
結果に基づき、図274に図示するように最適なガンマ
変換処理を実施する。
For example, if the brightness of the screen is adjusted, the size of the image data obtained by bit-shifting the data is converted as in the case of FIG. 262. At the same time, based on the analysis result of the image data, optimum gamma conversion processing is performed as shown in FIG.

【1558】図274がガンマテーブルである。横軸に
階調番号を示し、縦軸は表示輝度の相対値をとってい
る。図274の点線がリニアの場合であり、実線は黒表
示領域と白表示領域で階調つぶれを発生させた場合であ
る。また、一点鎖線は、黒階調部のみを階調つぶれを発
生させた場合である。
[1558] FIG. 274 is a gamma table. The horizontal axis represents the gradation number, and the vertical axis represents the relative value of the display brightness. The dotted line in FIG. 274 is a linear case, and the solid line is a case where gradation collapse is generated in the black display area and the white display area. Also, the alternate long and short dash line indicates the case where the gradation collapse occurs only in the black gradation part.

【1559】以上のように、演算処理回路2682で画
像の特徴抽出を行い、この結果に基づき、表示画像のガ
ンマカーブを選択し、データのテーブル変換を行う。ガ
ンマテーブルは3種類以上設け、最適なものを選択す
る。そして変換した画像データをソースドライバ14に
入力する。
[1558] As described above, the arithmetic processing circuit 2682 extracts the feature of the image, and based on the result, the gamma curve of the display image is selected and the data table conversion is performed. Providing three or more types of gamma tables, select the most suitable one. Then, the converted image data is input to the source driver 14.

【1560】さらに図273で説明したように、画像を
暗くする場合は、図273(a)に図示するようにシフ
トレジスタ22に印加するSTデータ数を少なくする。
したがって、表示領域21に占める点灯領域311の割
合が低下して暗くなる。比較的、表示画像21を明るく
する場合は、図273(b)の点灯領域312の幅を太
くするか、もしくは点灯領域312の個数を多くする。
さらに、表示画像21を明るくする場合は、図273
(c)の点灯領域312の幅をさらに太くするか、もし
くは点灯領域312の個数をさらに多くする。なお、少
ない消費電力で表示画像を比較的明るく見えるようにす
るためには、表示輝度の最高輝度を低くし、最低輝度を
高くし(つまり、画像のコントラストを低下させる)、
かつ全体の平均輝度を小さくするとよい。
Further, as described with reference to FIG. 273, when the image is darkened, the number of ST data applied to the shift register 22 is reduced as shown in FIG. 273 (a).
Therefore, the proportion of the lighting area 311 in the display area 21 decreases and the display area 21 becomes dark. When the display image 21 is relatively brightened, the width of the lighting area 312 in FIG. 273 (b) is increased or the number of the lighting areas 312 is increased.
Further, when the display image 21 is brightened, the display image shown in FIG.
The width of the lighting area 312 in (c) is further increased, or the number of the lighting areas 312 is further increased. In order to make the displayed image appear relatively bright with low power consumption, the maximum brightness of the display brightness is lowered and the minimum brightness is increased (that is, the contrast of the image is decreased).
Moreover, it is preferable to reduce the average brightness of the whole.

【1561】また、画像データが動画であるか静止画で
あるかを検出し(動画検出、ID処理で行う)、図27
3の点灯領域312の数を調整すればよい。つまり、動
画であれば、点灯領域312の個数を減らし、動画ボケ
をなくす。静止画であれば、フリッカの発生を抑制する
ために、点灯領域312の個数を多くし、また点灯領域
を表示領域21に分散させる。
[1561] Also, whether the image data is a moving image or a still image is detected (moving image detection and ID processing are performed), and FIG.
The number of the three lighting areas 312 may be adjusted. That is, in the case of a moving image, the number of lighting regions 312 is reduced to eliminate moving image blur. In the case of a still image, the number of lighting areas 312 is increased and the lighting areas are dispersed in the display area 21 in order to suppress the occurrence of flicker.

【1562】図261では表示領域は21a、21b、
21cの3つの領域とし、表示領域21aの表示輝度を
変化させるとしたが、これに限定するものではなく、表
示領域21b、21cとも変化させてもよい。
[1562] In FIG. 261, the display areas are 21a, 21b,
Although the display brightness of the display area 21a is changed to three areas 21c, it is not limited to this, and the display areas 21b and 21c may be changed.

【1563】また、図263に図示するように、表示領
域の端に表示領域21d、21eを設けてもよい。表示
領域21d、21eは単なる枠としての表示を行う(つ
まり、画素電極が形成されておらす、ドットパターンの
表示はできない)。したがって、表示領域21d、21
eは単純マトリックス的な表示となる。つまり、21
d、1eに電圧を印加すると領域全体が点灯する。
Also, as shown in FIG. 263, display areas 21d and 21e may be provided at the ends of the display area. The display areas 21d and 21e are displayed as a simple frame (that is, a pixel electrode is formed and a dot pattern cannot be displayed). Therefore, the display areas 21d, 21
e is a simple matrix-like display. That is, 21
When a voltage is applied to d and 1e, the entire area is lit.

【1564】図265に図示するように、点灯制御線1
791aに電圧を印加すると、領域21dのEL膜が点
灯する。また、点灯制御線1791bに電圧を印加する
と、領域21eのEL膜が点灯する。他の構成(189
1など)は、以前に説明したので説明を省略する。
[1564] As shown in FIG. 265, the lighting control line 1
When a voltage is applied to 791a, the EL film in the region 21d lights up. Further, when a voltage is applied to the lighting control line 1791b, the EL film in the region 21e lights up. Other configurations (189
(1 etc.) has been described previously, and therefore description thereof will be omitted.

【1565】図264に図示するように、ポリシリコン
技術で形成されたゲートドライバ回路12に平坦化膜7
1が形成されている。この上に画素電極48aと同一材
料で電極48bが形成されており、電極48b上にEL
膜47が形成されている。EL膜47上にはカソード電
極(もしくはアノード電極)が形成される。電極48b
に電圧を印加することにより、領域21d、21eが点
灯する。
As shown in FIG. 264, the planarization film 7 is formed on the gate driver circuit 12 formed by the polysilicon technique.
1 is formed. An electrode 48b made of the same material as the pixel electrode 48a is formed on this, and an EL element is formed on the electrode 48b.
The film 47 is formed. A cathode electrode (or an anode electrode) is formed on the EL film 47. Electrode 48b
By applying a voltage to the areas 21d and 21e, the areas 21d and 21e are turned on.

【1566】以上の実施例では、EL素子15はR、
G、Bであるとしたがこれに限定するものではない。た
とえば、シアン、イエロー、マゼンダでもよいし、任意
の2色でもよい。R、G、B、シアン、イエロー、マゼ
ンダの6色あるいは任意の4色以上であってもよい。ま
た、白単色であってもよいし、白単色光をカラーフィル
タでRGBにしたのもでもよい。また、有機EL素子に
限定するものではなく、無機EL素子であってもよい。
In the above embodiments, the EL element 15 is R,
It is assumed that G and B are set, but the present invention is not limited to this. For example, cyan, yellow, magenta, or any two colors may be used. Six colors of R, G, B, cyan, yellow, and magenta, or any four or more colors may be used. Further, it may be white monochromatic light, or white monochromatic light may be converted into RGB by a color filter. Further, it is not limited to the organic EL element, and may be an inorganic EL element.

【1567】本発明の液晶表示パネルあるいはそれと用
いた表示装置において、ドライバ回路12、14は複数
個(複数種類)集積することが好ましい。こうすること
で、携帯電話網や無線LANからダウンロードした動画や
静止画や,地上波のテレビ放送を受信する画像など、あ
らゆる通信網から入る画像を、MPUに負担をかけること
なく表示できるようになる。高精細画像はVGA対応で6ビ
ットのドライバ回路12、14を使って表示し、精細度
が落ちればQVGAに切り替え,テキスト・データならば1
ビットのドライバ回路12、14を使用する。また、別
途、NTSC表示用ドライバ(インターレース、擬似イ
ンターレース走査)、プログレッシブ表示用ドライバ
(ノンインターレース)を形成することも好ましい。な
お、これらの複数の機能を有するドライバ12、14は
シリコンチップで形成し、COG技術などで実装しても
よいことは言うまでもない。
In the liquid crystal display panel of the present invention or the display device using the same, it is preferable that a plurality (a plurality of types) of driver circuits 12 and 14 are integrated. By doing so, it will be possible to display images that come in from any communication network, such as videos and still images downloaded from mobile phone networks or wireless LANs, images that receive terrestrial TV broadcasts, etc. without burdening the MPU. Become. High-definition images are displayed using VGA-compatible 6-bit driver circuits 12 and 14. Switch to QVGA if the definition is reduced, and 1 if text data.
The bit driver circuits 12 and 14 are used. It is also preferable to separately form a driver for NTSC display (interlace, pseudo-interlace scanning) and a driver for progressive display (non-interlace). Needless to say, the drivers 12 and 14 having these plural functions may be formed of silicon chips and mounted by COG technology or the like.

【1568】なお、図87、図88などでは、アクティ
ブマトリックス型表示パネルを例示して説明したがこれ
に限定するものではない。ソースドライバIC14など
からは所定電流のN倍電流をソース信号線18に印加
(から吸収)する。また、複数の画素行を同時に選択す
る。そして、所定の期間の間だけ、EL素子に電流を流
し、他の期間は電流を流さない、という概念は、単純マ
トリックス型表示パネルにも適用できるものである。
[1568] Note that the active matrix display panel is described as an example in FIGS. 87 and 88, but the present invention is not limited to this. From the source driver IC 14 or the like, N times the predetermined current is applied to (source of) the source signal line 18. In addition, a plurality of pixel rows are simultaneously selected. The concept that a current is passed through the EL element only during a predetermined period and no current is passed during other periods can be applied to a simple matrix display panel.

【1569】ドライバ回路12、14が1種類の場合,
精細度の異なる画像を表示するためにMPUで信号の変換
処理を実行する必要がある。液晶表示パネル以外で多数
のドライバ回路12、14を用意する場合は,個別にIC
を実装する必要があるため,コストが高くなるとともに
実装面積が拡大してしまう。また、ドライバ回路12、
14だけでなく画像処理回路など多くの回路をパネル8
2上のSi膜中に集積してもよい。
When there is one type of driver circuit 12, 14,
It is necessary to execute signal conversion processing by the MPU in order to display images with different definition. When preparing a large number of driver circuits 12 and 14 other than the liquid crystal display panel, individually
Since it is necessary to mount, the cost increases and the mounting area increases. In addition, the driver circuit 12,
Panel 8 including not only 14 but also many circuits such as image processing circuits
2 may be integrated in the Si film.

【1570】また、EL素子は点灯初期に特性変化が大
きい。そのため、焼きツキなどが発生しやすい。この対
策のため、パネル形成後、20時間以上150時間以内
の間、白ラスター表示でエージングを行った後に、商品
として出荷することが好ましい。このエージングでは所
定表示輝度よりも2−10倍程度の明るさで表示させる
ことが好ましい。
[1570] In addition, the EL element has a large characteristic change in the initial stage of lighting. Therefore, burning and the like are likely to occur. As a countermeasure, it is preferable to perform aging with white raster display for 20 hours to 150 hours after the panel is formed, and then ship the product as a product. In this aging, it is preferable to display with a brightness which is about 2-10 times higher than the predetermined display brightness.

【1571】なお、本発明は、図54、図67、図10
3などで説明した画素構成を電圧プログラムの画素構
成、図1、図21、図43、図71なでで説明した電流
プログラムの画素構成を中心として説明し、各画素に
は、1H期間に同期してソースドライバ回路14から信
号が供給されて書き込まれる。しかし、本発明はこれに
限定するものでない。たとえば、1フレームまたは1フ
ィールドを複数のサブフレーム(フィールド)に分割し
て駆動する時分割駆動と組み合わせてもよい。また、1
画素の複数の画素に分割する面積階調方式を組み合わせ
ても良い。
[1571] Note that the present invention is based on FIG. 54, FIG. 67, and FIG.
The pixel configuration described in 3 and the like will be described focusing on the pixel configuration of the voltage program and the pixel configuration of the current program described in FIGS. 1, 21, 43, and 71, and each pixel is synchronized with the 1H period. Then, a signal is supplied from the source driver circuit 14 and written. However, the present invention is not limited to this. For example, one frame or one field may be divided into a plurality of subframes (fields) and driven in combination with time division driving. Also, 1
An area gradation method in which a pixel is divided into a plurality of pixels may be combined.

【1572】図2、図35、図60、図74、図84、
図31、図32、図56、図61、図89から図10
1、図104、図105、図106などを用いて駆動
(表示)方法、駆動回路について説明した。これらの技
術的思想を実現するガリ砒素、シリコン、ゲルマニウム
などで作製された半導体チップも本発明の権利範囲であ
る。これらの半導体チップを表示パネルに実装すること
により表示装置、情報表示装置などを実現できる。
[1572] FIG. 2, FIG. 35, FIG. 60, FIG. 74, FIG.
31, 32, 56, 61, 89 to 10
The driving (display) method and the driving circuit have been described with reference to FIGS. 1, 104, 105, 106, and the like. A semiconductor chip made of gallium arsenide, silicon, germanium or the like that realizes these technical ideas is also within the scope of the present invention. A display device, an information display device, and the like can be realized by mounting these semiconductor chips on a display panel.

【1573】また、図1(b)、図22、図75、図7
6、図77、図78などのVbbを印加する端子を図7
4で説明したゲートドライバ回路12bに接続すること
により、良好な画像表示を実現することができる。
[1573] Also, FIG. 1 (b), FIG. 22, FIG. 75, and FIG.
6, FIG. 77, FIG. 78, and other terminals for applying Vbb are shown in FIG.
By connecting to the gate driver circuit 12b described in 4, it is possible to realize a good image display.

【1574】また、図79、図80などで説明した電源
電圧Vddなどに関する事項も本明細書のすべての画素
構成あるいは、表示パネル、情報表示装置あるいは駆動
方法に適用される。また、図4、図5、図6、図7、図
8、図9、図10、図11、図14、図15、図18、
図20、図25、図26、図27、図28、図29、図
30、図45、図46、図47、図48、図86、図8
9から図101、図110から図114などに関しても
本明細書のすべての画素構成あるいは、ドライバ配置、
表示パネル、情報表示装置あるいは駆動方法に適用され
ることは言うまでもない。
Also, the matters concerning the power supply voltage Vdd described in FIGS. 79 and 80 are also applied to all pixel configurations, display panels, information display devices or driving methods in this specification. In addition, FIG. 4, FIG. 5, FIG. 6, FIG. 7, FIG. 8, FIG. 9, FIG. 10, FIG.
20, 25, 26, 27, 28, 29, 30, 45, 46, 47, 48, 86 and 8.
9 to 101, 110 to 114, etc., all pixel configurations or driver arrangements in this specification,
It goes without saying that it is applied to a display panel, an information display device, or a driving method.

【1575】図87、図88、図134から図167で
説明した本発明の駆動方法、駆動回路と、図52、図8
9から図102などで説明したEL素子15に逆バイア
スを印加する方法あるいは構成とを組み合わせることの
よりさらに特徴ある効果が発揮される。また、これら
は、図1、図21、図43、図71、図22、図54、
図67、図68、図103、図107、図108、図8
9から図101、図115、図171から図174、図
21、図43、図710などで説明した画素構成に適用
できることも言うまでもない。また、これらの構成で、
図31、図32から図39、図61から図67、図10
4、図105、図106などを実現できることも説明を
要しない。図26から図30、図110から図114の
3辺フリーの構成と組み合わせることも有効であること
はいうまでもない。また、これらの技術を用いて、図
4、図5、図6、図7、図8、図9、図10、図11、
図14、図15、図18、図20、図25、図26、図
27、図28、図29、図30、図45、図46、図4
7、図48、図86、図89から図101、図110か
ら図114などの表示パネル、情報表示装置あるいは駆
動方法に適用できることも言うまでもない。
The driving method and the driving circuit of the present invention described with reference to FIGS. 87, 88, and 134 to 167, and FIGS.
The combination of the method or the configuration of applying a reverse bias to the EL element 15 described with reference to FIGS. In addition, these are shown in FIG. 1, FIG. 21, FIG. 43, FIG. 71, FIG. 22, FIG.
67, 68, 103, 107, 108, and 8
It goes without saying that the present invention can be applied to the pixel configurations described with reference to FIGS. 9 to 101, 115, 171 to 174, FIG. 21, FIG. 43, and 710. Also, with these configurations,
31, 32 to 39, 61 to 67, and FIG.
It is also not necessary to explain that FIG. 4, FIG. 105, FIG. 106, etc. can be realized. It goes without saying that it is also effective to combine the configurations with the three sides free of FIGS. 26 to 30 and 110 to 114. In addition, by using these techniques, FIG. 4, FIG. 5, FIG. 6, FIG. 7, FIG. 8, FIG.
14, FIG. 15, FIG. 18, FIG. 20, FIG. 25, FIG. 26, FIG. 27, FIG. 28, FIG. 29, FIG. 30, FIG.
It is needless to say that the present invention can be applied to the display panel, information display device or driving method of FIGS. 7, 48, 86, 89 to 101, 110 to 114 and the like.

【1576】また、図52、図89から図102などで
説明したEL素子15に逆バイアスを印加する方法ある
いは構成も、図1、図21、図43、図71、図43、
図71、図22、図44、図31、図40、図41、図
42、図43、図44、図53、図54、図58、図5
9、図60、図67から図78、図89から図101、
図103、図119から図121、図171から図17
4、図21、図43、図710などの画素構成あるいは
アレイ構成などに適用することは言うまでもない。ま
た、これらの構成で、図31、図32から図39、図6
1から図67、図104、図105、図106などを実
現できることも説明を要しない。図26から図30、図
110から図114、図179から図192、図21、
図43、図711から図21、図43、図714などの
3辺フリーの構成と組み合わせることも有効であること
はいうまでもない。特に3辺フリーの構成は画素がアモ
ルファスシリコン技術を用いて作製されているときに有
効である。また、アモルファスシリコン技術で形成され
たパネルでは、TFT素子の特性バラツキのプロセス制
御が不可能のため、本発明の電流駆動を実施することが
好ましい。
Also, the method or configuration for applying a reverse bias to the EL element 15 described with reference to FIGS. 52, 89 to 102, etc. is also shown in FIGS. 1, 21, 43, 71, 43.
71, 22, FIG. 44, FIG. 31, FIG. 40, FIG. 41, FIG. 42, FIG. 43, FIG. 44, FIG. 53, FIG. 54, FIG.
9, FIG. 60, FIG. 67 to FIG. 78, FIG. 89 to FIG.
103, 119 to 121, and 171 to 17
It goes without saying that the present invention can be applied to the pixel configuration or the array configuration shown in FIG. 4, FIG. 21, FIG. 43, FIG. Further, with these configurations, FIG. 31, FIG. 32 to FIG. 39, and FIG.
It is not necessary to explain that 1 to FIG. 67, FIG. 104, FIG. 105, FIG. 26 to 30, FIG. 110 to FIG. 114, FIG. 179 to FIG. 192, FIG.
It goes without saying that combining with the three-side free configuration of FIGS. 43, 711 to 21, 43, 714 and the like is also effective. In particular, the three-side free structure is effective when the pixel is manufactured by using the amorphous silicon technology. Further, in a panel formed by the amorphous silicon technology, it is preferable to carry out the current drive of the present invention because the process control of the characteristic variation of the TFT element is impossible.

【1577】さらに、これらの技術を用いて、図4、図
5、図6、図7、図8、図9、図10、図11、図1
4、図15、図18、図20、図25、図26、図2
7、図28、図29、図30、図45、図46、図4
7、図48、図86、図89から図101、図110か
ら図114などの表示パネル、情報表示装置あるいは駆
動方法に適用できることも言うまでもない。
[1577] Furthermore, by using these techniques, FIG. 4, FIG. 5, FIG. 6, FIG. 7, FIG. 8, FIG. 9, FIG.
4, FIG. 15, FIG. 18, FIG. 20, FIG. 25, FIG. 26, FIG.
7, FIG. 28, FIG. 29, FIG. 30, FIG. 45, FIG. 46, FIG.
It is needless to say that the present invention can be applied to the display panel, information display device or driving method of FIGS. 7, 48, 86, 89 to 101, 110 to 114 and the like.

【1578】図107、図108、図89から図10
1、図115などで説明した画素構成、あるいは駆動方
法は、などの画素構成あるいはアレイ構成などはEL表
示パネルにのみ限定されるものではない。たとえば、液
晶表示パネルにも適用することができる。その際は、E
L素子15を液晶層、PLZT、LEDなどの光変調層
に置き換えればよい。たとえば、液晶の場合は、TN
(Twisted Nematic)、IPS(In−
Plane Switching)、FLC(Ferr
oelectric Liquid Crysta
l)、OCB(OpticallyCompensat
ory Bend)、STN(Supper Twis
ted Nematic)、VA(Verticall
y Aligned)、ECB(Electrical
ly Controlled Birefringen
ce )およびHAN(Hybrid Aligned
Nematic)モード、DSMモード(動的散乱モ
ード)などである。特に、DSMは印加する電流により
光変調できるので、本発明とはマッチングがよい。
[1578] FIG. 107, FIG. 108, FIG. 89 to FIG.
The pixel configuration or the driving method described in FIG. 1, FIG. 115, and the like are not limited to the EL display panel. For example, it can be applied to a liquid crystal display panel. In that case, E
The L element 15 may be replaced with a liquid crystal layer, a light modulation layer such as PLZT or LED. For example, in the case of liquid crystal, TN
(Twisted Nematic), IPS (In-
Plane Switching, FLC (Ferr)
oelectric Liquid Crystal
l), OCB (Optically Compensat)
ory Bend), STN (Super Twis)
ted Nematic), VA (Vertical all)
y Aligned), ECB (Electrical)
ly Controlled Birefringen
ce) and HAN (Hybrid Aligned)
Nematic mode, DSM mode (dynamic scattering mode), and the like. In particular, the DSM can be optically modulated by the applied current, so that it is well matched with the present invention.

【1579】また、スイッチング素子11についてもT
FTに限定されるものでない。また、本明細書のすべて
の画素構成あるいは、ドライバ配置、表示パネル、情報
表示装置あるいは駆動方法に適用されることは言うまで
もない。
[1579] Also, regarding the switching element 11, T
It is not limited to FT. Further, it goes without saying that the present invention is applied to all pixel configurations, driver arrangements, display panels, information display devices or driving methods in this specification.

【1580】図1、図21、図43、図71、図22、
図44、図31、図40、図41、図42、図43、図
44、図53、図54、図58、図59、図60、図6
7から図78、図89から図101、図103、図11
0から図114、図119から図121、図171から
図174、図21、図43、図710、図21、図4
3、図710、図221から図260、図267、図2
91、図292、図294などの画素構成あるいはアレ
イ構成などはEL表示パネルにのみ限定されるものでは
ない。たとえば、液晶表示パネルにも適用することがで
きる。その際は、EL素子15を液晶層、PLZT、L
EDなどの光変調層に置き換えればよい。また、スイッ
チング素子11についてもTFTに限定されるものでな
いことは、図80などで説明した。
[1580] FIG. 1, FIG. 21, FIG. 43, FIG. 71, FIG.
44, FIG. 31, FIG. 40, FIG. 41, FIG. 42, FIG. 43, FIG. 44, FIG. 53, FIG. 54, FIG. 58, FIG. 59, FIG.
7 to 78, 89 to 101, 103, and 11
0 to FIG. 114, FIG. 119 to FIG. 121, FIG. 171, FIG. 174, FIG. 21, FIG. 43, FIG.
3, FIG. 710, FIG. 221 to FIG. 260, FIG. 267, FIG.
The pixel configuration or array configuration of 91, FIG. 292, and FIG. 294 is not limited to the EL display panel. For example, it can be applied to a liquid crystal display panel. In that case, the EL element 15 is connected to the liquid crystal layer, PLZT, L
It may be replaced with an optical modulation layer such as ED. The switching element 11 is not limited to the TFT as described above with reference to FIG. 80 and the like.

【1581】また、図15、図19、図17、図18、
図25、図26、図28、図45、図46、図47、図
48、図110から図114、図261、図264、図
266、図283から図285などの構成、装置、方式
はEL表示パネルを用いたものに限定されるものではな
い。たとえば、PDP表示パネル、PLZT表示パネ
ル、液晶表示パネルなどを用いたものにも適用すること
ができる。
[1581] Also, FIG. 15, FIG. 19, FIG.
25, FIG. 26, FIG. 28, FIG. 45, FIG. 46, FIG. 47, FIG. 48, FIG. 110 to FIG. 114, FIG. 261, FIG. 264, FIG. 266, FIG. 283 to FIG. The invention is not limited to the one using the display panel. For example, it can be applied to those using a PDP display panel, a PLZT display panel, a liquid crystal display panel and the like.

【1582】図22、図23、図286から図288、
図290の製造方法を用いることにより、図1、図2
1、図43、図71、図22、図44、図31、図4
0、図41、図42、図43、図44、図53、図5
4、図58、図59、図60、図67から図78、図8
9から図101、図103、図119から図121、図
171から図175、図21、図43、図710、図2
21から図260、図267、図283から図285、
図291、図292、図294などの画素構成あるいは
アレイ構成の表示パネルを容易に製造できる。また、こ
れらを用いて情報表示装置を構成することができる。ま
た、図280から図285、図289の構成あるいは構
造は、本発明の表示パネルあるいは表示装置に適用でき
ることはいうまでもない。
[1582] Figs. 22, 23, 286 to 288,
1 and 2 by using the manufacturing method of FIG.
1, FIG. 43, FIG. 71, FIG. 22, FIG. 44, FIG. 31, and FIG.
0, FIG. 41, FIG. 42, FIG. 43, FIG. 44, FIG. 53, FIG.
4, FIG. 58, FIG. 59, FIG. 60, FIG. 67 to FIG. 78, FIG.
9 to 101, 103, 119 to 121, 171 to 175, 21, 43, 710 and 2
21 to FIG. 260, FIG. 267, FIG. 283 to FIG. 285,
A display panel having a pixel structure or an array structure as shown in FIGS. 291, 292, and 294 can be easily manufactured. Further, an information display device can be configured using these. Needless to say, the configurations or structures of FIGS. 280 to 285 and 289 can be applied to the display panel or display device of the present invention.

【1583】また、図248から図255、図309か
ら図350、図355から図359、図360、図36
1、図366、図367の表示パネルの構成もしくはそ
の駆動方法は、画素構成が図1、図21、図43、図7
1、図22、図44、図31、図40、図41、図4
2、図43、図44、図53、図54、図58、図5
9、図60、図67から図78、図89から図101、
図103、図119から図121、図171から図17
5、図21、図43、図710、図21、図43、図2
10、図221から図260、図267、図283から
図285、図291、図292、図294、図303図
308などのいずれの構成であっても適用できることは
言うまでもない。
[1583] Further, FIGS. 248 to 255, 309 to 350, 355 to 359, 360, and 36.
1, FIG. 366, and FIG. 367, or the driving method thereof, the pixel structure is as shown in FIGS.
1, FIG. 22, FIG. 44, FIG. 31, FIG. 40, FIG. 41, FIG.
2, FIG. 43, FIG. 44, FIG. 53, FIG. 54, FIG. 58, FIG.
9, FIG. 60, FIG. 67 to FIG. 78, FIG. 89 to FIG.
103, 119 to 121, and 171 to 17
5, FIG. 21, FIG. 43, FIG. 710, FIG. 21, FIG. 43, FIG.
It goes without saying that any of the configurations of FIG. 10, FIG. 221, FIG. 221 to FIG. 260, FIG. 267, FIG. 283 to FIG. 285, FIG. 291, FIG. 292, FIG. 294, FIG.

【1584】また、図351から図354のドライバI
C回路は上記のいずれの画素構成あるいは表示パネルな
どにも適用することができることは言うまでのない。図
362から図365の表示パネルの構成あるいは構造
は、上記のいずれの画素構成でも適用することができる
ことは言うまでもなく、また、どの駆動回路、駆動方法
のものでも適用できることも言うまでもない。
[1584] Also, the driver I of FIG. 351 to FIG.
It goes without saying that the C circuit can be applied to any of the above pixel configurations or display panels. It is needless to say that the structure or structure of the display panel in FIGS. 362 to 365 can be applied to any of the above pixel structures, and can be applied to any driving circuit and driving method.

【1585】図1、図21、図43、図71、図22、
図44、図31、図40、図41、図42、図43、図
44、図53、図54、図58、図59、図60、図6
7から図78、図89から図101、図103、図11
9から図121、図171から図175、図21、図4
3、図710、図221から図260、図267、図2
91、図292、図294などの画素構成あるいはアレ
イ構成は、図203、図204、図205、図206、
図265、図261、図263などの情報表示装置に適
用できることは言うまでもない。
1, FIG. 21, FIG. 43, FIG. 71, FIG.
44, FIG. 31, FIG. 40, FIG. 41, FIG. 42, FIG. 43, FIG. 44, FIG. 53, FIG. 54, FIG. 58, FIG. 59, FIG.
7 to 78, 89 to 101, 103, and 11
9 to 121, 171 to 175, 21 and 4
3, FIG. 710, FIG. 221 to FIG. 260, FIG. 267, FIG.
The pixel configuration or array configuration such as 91, FIG. 292, and FIG. 294 is shown in FIG. 203, FIG. 204, FIG. 205, FIG.
It goes without saying that the present invention can be applied to the information display devices shown in FIGS. 265, 261, and 263.

【1586】また、図1、図21、図43、図71、図
44、図31、図40、図41、図42、図43、図4
4、図53、図54、図58、図59、図60、図67
から図78、図89から図101、図103、図119
から図121、図171から図174、図21、図4
3、図710、図221から図260、図267、図2
83から図285、図291、図292などの画素構成
あるいはアレイ構成は、図15、図19、図17、図1
8、図25、図26、図28、図45、図46、図4
7、図48、図110から図114、図198から図2
09、図21、図43、図715から図220、図2
1、図43、図710、図221から図260、図26
7、図291、図292、図294に採用できることは
言うまでもない。
[1586] FIG. 1, FIG. 21, FIG. 43, FIG. 71, FIG. 44, FIG. 31, FIG. 40, FIG.
4, FIG. 53, FIG. 54, FIG. 58, FIG. 59, FIG. 60, FIG.
To FIG. 78, FIG. 89 to FIG. 101, FIG. 103, and FIG.
To FIG. 121, FIG. 171 to FIG. 174, FIG.
3, FIG. 710, FIG. 221 to FIG. 260, FIG. 267, FIG.
83 to FIG. 285, FIG. 291, FIG. 292, and the like have pixel configurations or array configurations shown in FIG.
8, FIG. 25, FIG. 26, FIG. 28, FIG. 45, FIG. 46, FIG.
7, FIG. 48, FIG. 110 to FIG. 114, and FIG. 198 to FIG.
09, FIG. 21, FIG. 43, FIG. 715 to FIG. 220, FIG.
1, FIG. 43, FIG. 710, FIG. 221, FIG.
It goes without saying that it can be adopted in FIG. 7, FIG. 291, FIG. 292, and FIG.

【1587】また、図275、図276、図293のソ
ースドライバの構成、図299から図302の電流出力
回路1222などの構成は、画素構成が、図1、図2
1、図43、図71、図22、図44、図31、図4
0、図41、図42、図43、図44、図53、図5
4、図58、図59、図60、図67から図78、図8
9から図101、図103、図119から図121、図
171から図174、図21、図43、図710、図2
21から図260、図267、図283から図285、
図291、図292などに適用できることはいうまでも
ない。同様に、図229、図231から図232、図2
37から図238、図240から図241、図252、
図262、図268から図269、図271から図27
2、図273から図274の駆動方法あるいはデータ処
理方式にあっても適用できることは言うまでもない。ま
た、図248から図255などで説明した駆動方法、画
素構成についても同様である。また、これらを用いて情
報表示装置などを構成できることも言うまでもない。
[1587] In addition, the source driver configuration shown in FIGS. 275, 276 and 293 and the current output circuit 1222 shown in FIGS.
1, FIG. 43, FIG. 71, FIG. 22, FIG. 44, FIG. 31, and FIG.
0, FIG. 41, FIG. 42, FIG. 43, FIG. 44, FIG. 53, FIG.
4, FIG. 58, FIG. 59, FIG. 60, FIG. 67 to FIG. 78, FIG.
9 to 101, 103, 119 to 121, 171 to 174, 21, 43, 710, 2
21 to FIG. 260, FIG. 267, FIG. 283 to FIG. 285,
It goes without saying that it can be applied to FIGS. 291, 292, and the like. Similarly, FIG. 229, FIG. 231 to FIG. 232, FIG.
37 to FIG. 238, FIG. 240 to FIG. 241, FIG. 252,
262, 268 to 269, and 271 to 27
It goes without saying that the present invention can be applied to the driving method or the data processing method shown in FIGS. 2 and 273 to 274. The same applies to the driving method and the pixel configuration described with reference to FIGS. 248 to 255. Further, it goes without saying that an information display device or the like can be configured using these.

【1588】図23、図24、図286から図288、
図290などの製造方法にあっては、EL表示パネルの
製造方法に限定されるものではない。たとえば、液晶表
示パネルの製造方法にも適用できることはいうまでもな
い。また、図26から図30、図110から図114の
構成あるいは方法にあってもEL表示パネルに限定され
るものではなく、LED表示パネル、液晶表示パネルな
どにも適用できることはいうまでもない。図31、図3
2から図39、図61から図67、図104、図10
5、図106、図261、図263、図265などの表
示方法についても同様である。
[1588] FIGS. 23, 24, 286 to 288,
The manufacturing method shown in FIG. 290 is not limited to the manufacturing method of the EL display panel. For example, it goes without saying that it can be applied to a method of manufacturing a liquid crystal display panel. Further, it is needless to say that the configurations or methods shown in FIGS. 26 to 30 and 110 to 114 are not limited to the EL display panel but can be applied to an LED display panel, a liquid crystal display panel and the like. 31 and 3
2 to FIG. 39, FIG. 61 to FIG. 67, FIG. 104, and FIG.
The same applies to the display methods shown in FIG. 5, FIG. 106, FIG. 261, FIG. 263, FIG.

【1589】本発明の実施例で説明した技術的思想はビ
デオカメラ、プロジェクター、立体テレビ、プロジェク
ションテレビなどに適用できる。また、ビューファイン
ダ、携帯電話のモニター、PHS、携帯情報端末および
そのモニター、デジタルカメラおよびそのモニターにも
適用できる。
The technical ideas described in the embodiments of the present invention can be applied to a video camera, a projector, a stereoscopic television, a projection television, and the like. Further, it is also applicable to a viewfinder, a mobile phone monitor, a PHS, a personal digital assistant and its monitor, a digital camera and its monitor.

【1590】また、電子写真システム、ヘッドマウント
ディスプレイ、直視モニターディスプレイ、ノートパー
ソナルコンピュータ、ビデオカメラ、電子スチルカメラ
にも適用できる。また、現金自動引き出し機のモニタ
ー、公衆電話、テレビ電話、パーソナルコンピュータ、
腕時計およびその表示装置にも適用できる。
Also, the present invention can be applied to an electrophotographic system, a head mounted display, a direct view monitor display, a notebook personal computer, a video camera, an electronic still camera. Also, monitors of cash drawers, payphones, videophones, personal computers,
It can also be applied to a wristwatch and its display device.

【1591】さらに、家庭電器機器の表示モニター、ポ
ケットゲーム機器およびそのモニター、表示パネル用バ
ックライトあるいは家庭用もしくは業務用の照明装置な
どにも適用あるいは応用展開できることは言うまでもな
い。照明装置は色温度を可変できるように構成すること
が好ましい。これは、RGBの画素をストライプ状ある
いはドットマトリックス状に形成し、これらに流す電流
を調整することにより色温度を変更できる。また、広告
あるいはポスターなどの表示装置、RGBの信号器、警
報表示灯などにも応用できる。
It is needless to say that the present invention can be applied or applied to a display monitor of home electric appliances, a pocket game machine and its monitor, a backlight for a display panel or a lighting device for home or business use. It is preferable that the lighting device is configured so that the color temperature can be changed. In this, the color temperature can be changed by forming RGB pixels in a stripe shape or a dot matrix shape and adjusting the current flowing through these. Further, the present invention can be applied to display devices for advertisements or posters, RGB traffic lights, alarm indicators, etc.

【1592】また、スキャナの光源としても有機ELパ
ネルは有効である。RGBのドットマトリックスを光源
として、対象物に光を照射し、画像を読み取る。もちろ
ん、単色でもよいことは言うまでもない。また、アクテ
ィブマトリックスに限定するものではなく、単純マトリ
ックスでもよい。色温度を調整できるようにすれば画像
読み取り精度も向上する。
Also, the organic EL panel is effective as the light source of the scanner. The object is irradiated with light using the RGB dot matrix as a light source to read an image. Of course, it is needless to say that it may be a single color. Further, the matrix is not limited to the active matrix, and a simple matrix may be used. If the color temperature can be adjusted, the image reading accuracy will be improved.

【1593】また、液晶表示装置のバックライトにも有
機EL表示装置は有効である。EL表示装置(バックラ
イト)のRGBの画素をストライプ状あるいはドットマ
トリックス状に形成し、これらに流す電流を調整するこ
とにより色温度を変更でき、また、明るさの調整も容易
である。その上、面光源であるから、画面の中央部を明
るく、周辺部を暗くするガウス分布を容易に構成でき
る。また、R、G、B光を交互に走査する、フィールド
シーケンシャル方式の液晶表示パネルのバックライトと
しても有効である。また、バックライトを点滅しても黒
挿入することにより動画表示用液晶表示パネルのバック
ライトとしても用いることができる。
[1593] Further, the organic EL display device is also effective for the backlight of the liquid crystal display device. It is possible to change the color temperature and easily adjust the brightness by forming the RGB pixels of the EL display device (backlight) in a stripe shape or a dot matrix shape and adjusting the current flowing through them. In addition, since it is a surface light source, a Gaussian distribution that brightens the central part of the screen and darkens the peripheral part can be easily configured. It is also effective as a backlight for a field-sequential liquid crystal display panel that alternately scans R, G, and B lights. Further, even if the backlight blinks, by inserting black, it can be used as a backlight for a liquid crystal display panel for displaying moving images.

【1594】[1594]

【発明の効果】本発明の表示パネル、表示装置等は、高
画質、良好な動画表示性能、低消費電力、低コスト化、
高輝度化等のそれぞれの構成に応じて特徴ある効果を発
揮する。
EFFECTS OF THE INVENTION The display panel, display device, and the like of the present invention have high image quality, good moving image display performance, low power consumption, and low cost.
A characteristic effect is exhibited according to each structure such as high brightness.

【1595】なお、本発明を用いれば、低消費電力の情
報表示装置などを構成できるので、電力を消費しない。
また、小型軽量化できるので、資源を消費しない。ま
た、高精細の表示パネルであっても十分に対応できる。
したがって、地球環境、宇宙環境に優しいこととなる。
By using the present invention, a low power consumption information display device or the like can be formed, so that power consumption is not performed.
In addition, since the size and weight can be reduced, resources are not consumed. Further, even a high-definition display panel can be sufficiently dealt with.
Therefore, it is friendly to the global environment and space environment.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の表示パネルの回路構成図FIG. 1 is a circuit configuration diagram of a display panel of the present invention.

【図2】本発明の表示装置の回路構成図FIG. 2 is a circuit configuration diagram of a display device of the present invention.

【図3】本発明の表示装置の説明図FIG. 3 is an explanatory diagram of a display device of the present invention.

【図4】本発明の表示装置の断面図FIG. 4 is a sectional view of a display device of the present invention.

【図5】本発明の表示装置の説明図FIG. 5 is an explanatory diagram of a display device of the present invention.

【図6】本発明の表示装置の説明図FIG. 6 is an explanatory diagram of a display device of the present invention.

【図7】本発明の表示装置の断面図FIG. 7 is a cross-sectional view of a display device of the present invention.

【図8】本発明の表示装置の断面図FIG. 8 is a sectional view of a display device of the present invention.

【図9】本発明の表示装置の断面図FIG. 9 is a sectional view of a display device of the present invention.

【図10】本発明の表示装置の構成図FIG. 10 is a configuration diagram of a display device of the present invention.

【図11】本発明の表示装置の構成図FIG. 11 is a configuration diagram of a display device of the present invention.

【図12】従来の表示パネルの回路構成図FIG. 12 is a circuit configuration diagram of a conventional display panel.

【図13】本発明の表示パネルの説明図FIG. 13 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図14】本発明の表示装置の説明図FIG. 14 is an explanatory diagram of a display device of the present invention.

【図15】本発明の表示装置の説明図FIG. 15 is an explanatory diagram of a display device of the present invention.

【図16】本発明の表示装置のデータ伝送方法の説明図FIG. 16 is an explanatory diagram of a data transmission method of the display device of the present invention.

【図17】本発明の表示装置のデータ伝送方法の説明図FIG. 17 is an explanatory diagram of a data transmission method of a display device of the present invention.

【図18】本発明の表示装置のデータ伝送方法の説明図FIG. 18 is an explanatory diagram of a data transmission method of the display device of the present invention.

【図19】本発明の情報表示装置の平面図FIG. 19 is a plan view of the information display device of the present invention.

【図20】本発明の情報表示装置の説明図FIG. 20 is an explanatory diagram of an information display device of the present invention.

【図21】本発明の表示パネルの説明図FIG. 21 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図22】本発明の表示パネルの説明図FIG. 22 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図23】本発明の表示パネルの製造方法の説明図FIG. 23 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a display panel of the present invention.

【図24】本発明の表示パネルの製造方法の説明図FIG. 24 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a display panel of the present invention.

【図25】本発明の表示パネルの断面図FIG. 25 is a sectional view of a display panel of the present invention.

【図26】本発明の表示パネルの説明図FIG. 26 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図27】本発明の表示パネルの説明図FIG. 27 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図28】本発明の表示パネルの説明図FIG. 28 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図29】本発明の表示パネルの説明図FIG. 29 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図30】本発明の表示パネルの説明図FIG. 30 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図31】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 31 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図32】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 32 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図33】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 33 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図34】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 34 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図35】本発明の表示パネルの回路ブロック図FIG. 35 is a circuit block diagram of a display panel of the present invention.

【図36】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 36 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図37】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 37 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図38】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 38 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図39】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 39 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図40】本発明の表示パネルの説明図FIG. 40 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図41】本発明の表示パネルの説明図FIG. 41 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図42】本発明の表示パネルの説明図42 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図43】本発明の表示パネルの説明図FIG. 43 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図44】本発明の表示パネルの説明図FIG. 44 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図45】本発明のビューファインダの断面図FIG. 45 is a sectional view of the viewfinder of the present invention.

【図46】本発明のビデオカメラの斜視図FIG. 46 is a perspective view of the video camera of the present invention.

【図47】本発明の電子カメラの斜視図FIG. 47 is a perspective view of the electronic camera of the present invention.

【図48】本発明のテレビの説明図FIG. 48 is an explanatory diagram of the television of the present invention.

【図49】本発明のテレビの説明図FIG. 49 is an explanatory diagram of the television of the present invention.

【図50】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 50 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図51】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 51 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図52】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図52 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention. FIG.

【図53】本発明の表示パネルの説明図FIG. 53 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図54】本発明の表示パネルの説明図FIG. 54 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図55】本発明の表示パネルの説明図FIG. 55 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図56】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 56 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図57】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 57 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図58】本発明の表示パネルの説明図FIG. 58 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図59】本発明の表示パネルの説明図FIG. 59 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図60】本発明の表示パネルの回路ブロック図FIG. 60 is a circuit block diagram of a display panel of the present invention.

【図61】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 61 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図62】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 62 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図63】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 63 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図64】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 64 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図65】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 65 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図66】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図66 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention. FIG.

【図67】本発明の表示パネルの説明図FIG. 67 is an explanatory diagram of a display panel of the invention.

【図68】本発明の表示パネルの説明図FIG. 68 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図69】本発明の表示パネルの説明図FIG. 69 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図70】本発明の表示パネルの説明図FIG. 70 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図71】本発明の表示パネルの説明図FIG. 71 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図72】本発明の表示パネルの説明図FIG. 72 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図73】本発明の表示パネルの説明図FIG. 73 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図74】本発明の表示パネルの回路ブロック図FIG. 74 is a circuit block diagram of a display panel of the present invention.

【図75】本発明の表示パネルの説明図FIG. 75 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図76】本発明の表示パネルの説明図FIG. 76 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図77】本発明の表示パネルの説明図77 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図78】本発明の表示パネルの説明図FIG. 78 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図79】本発明の表示パネルの説明図FIG. 79 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図80】本発明の表示パネルの説明図FIG. 80 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図81】本発明の表示パネルの説明図FIG. 81 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図82】本発明の表示パネルの説明図FIG. 82 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図83】本発明の表示パネルの説明図FIG. 83 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図84】本発明の表示パネルの回路ブロック図FIG. 84 is a circuit block diagram of a display panel of the present invention.

【図85】本発明の情報表示装置の説明図FIG. 85 is an explanatory diagram of an information display device of the present invention.

【図86】本発明の情報表示装置の説明図FIG. 86 is an explanatory diagram of the information display device of the present invention.

【図87】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 87 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図88】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 88 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図89】本発明の表示パネルの説明図FIG. 89 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図90】本発明の表示パネルの説明図FIG. 90 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図91】本発明の表示パネルの説明図FIG. 91 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図92】本発明の表示パネルの説明図92 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図93】本発明の表示パネルの説明図FIG. 93 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図94】本発明の表示パネルの説明図FIG. 94 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図95】本発明の表示パネルの説明図FIG. 95 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図96】本発明の表示パネルの説明図FIG. 96 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図97】本発明の表示パネルの説明図FIG. 97 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図98】本発明の表示パネルの説明図FIG. 98 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図99】本発明の表示パネルの説明図99 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図100】本発明の表示パネルの説明図FIG. 100 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図101】本発明の表示パネルの説明図101 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図102】本発明の表示パネルの説明図102 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図103】本発明の表示パネルの説明図103 is an explanatory diagram of a display panel of the invention. FIG.

【図104】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 104 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図105】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 105 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図106】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 106 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図107】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 107 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図108】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 108 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図109】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 109 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図110】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図110 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention. FIG.

【図111】本発明の表示パネルの説明図111 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図112】本発明の表示パネルの説明図112 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図113】本発明の表示パネルの説明図113 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図114】本発明の表示パネルの説明図FIG. 114 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図115】本発明の表示パネルの説明図FIG. 115 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図116】本発明の表示パネルの画素構成の説明図FIG. 116 is an explanatory diagram of a pixel structure of a display panel of the present invention.

【図117】本発明の表示パネルの画素構成の説明図117 is an explanatory diagram of a pixel configuration of a display panel of the present invention. FIG.

【図118】本発明の表示パネルの画素構成の説明図FIG. 118 is an explanatory diagram of a pixel structure of a display panel of the present invention.

【図119】本発明の表示パネルの画素構成の説明図FIG. 119 is an explanatory diagram of a pixel structure of a display panel of the present invention.

【図120】本発明の表示パネルの画素構成の説明図120 is an explanatory diagram of a pixel structure of a display panel of the present invention. FIG.

【図121】本発明の表示パネルの画素構成の説明図FIG. 121 is an explanatory diagram of a pixel structure of a display panel of the present invention.

【図122】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 122 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図123】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 123 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図124】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 124 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図125】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 125 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図126】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図126 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention. FIG.

【図127】本発明の表示パネルの説明図127 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図128】本発明の表示パネルの説明図128 is an explanatory diagram of a display panel of the invention. FIG.

【図129】本発明の表示パネルの説明図FIG. 129 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図130】本発明の表示パネルの説明図FIG. 130 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図131】本発明の表示パネルの説明図131 is an explanatory diagram of a display panel of the invention. FIG.

【図132】本発明の表示パネルの説明図132 is an explanatory diagram of a display panel of the invention. FIG.

【図133】本発明の表示パネルの説明図133 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図134】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 134 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図135】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 135 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention

【図136】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 136 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図137】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 137 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図138】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 138 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention;

【図139】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 139 is an explanatory diagram of a driving method of a display panel of the present invention.

【図140】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 140 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図141】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 141 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図142】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図142 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention. FIG.

【図143】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 143 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図144】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 144 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図145】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 145 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図146】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 146 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図147】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 147 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図148】本発明の表示パネルの駆動回路の説明図FIG. 148 is an explanatory diagram of a drive circuit of a display panel of the present invention.

【図149】本発明の表示パネルの駆動回路の説明図FIG. 149 is an explanatory diagram of a drive circuit of a display panel of the present invention.

【図150】本発明の表示パネルの駆動回路の説明図FIG. 150 is an explanatory diagram of a drive circuit of a display panel of the present invention.

【図151】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 151 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図152】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 152 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention

【図153】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 153 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図154】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 154 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図155】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 155 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図156】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 156 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図157】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 157 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図158】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 158 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図159】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 159 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention;

【図160】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図160 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention. FIG.

【図161】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 161 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図162】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図162 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention. FIG.

【図163】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 163 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図164】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 164 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図165】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 165 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図166】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 166 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図167】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 167 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図168】本発明の表示パネルの説明図FIG. 168 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図169】本発明の表示パネルの説明図FIG. 169 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図170】本発明の表示パネルの説明図170 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図171】本発明の表示パネルの説明図FIG. 171 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図172】本発明の表示パネルの説明図FIG. 172 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図173】本発明の表示パネルの説明図FIG. 173 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図174】本発明の表示パネルの説明図FIG. 174 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図175】本発明の表示パネルの説明図FIG. 175 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図176】本発明の表示パネルの説明図FIG. 176 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図177】本発明の表示パネルの製造方法の説明図FIG. 177 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a display panel of the present invention.

【図178】本発明の表示パネルの説明図FIG. 178 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図179】本発明の表示パネルの説明図FIG. 179 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図180】本発明の表示パネルの説明図180 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図181】本発明の表示パネルの説明図FIG. 181 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図182】本発明の表示パネルの説明図FIG. 182 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図183】本発明の表示パネルの説明図FIG. 183 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図184】本発明の表示パネルの説明図FIG. 184 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図185】本発明の表示パネルの説明図FIG. 185 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図186】本発明の表示パネルの説明図FIG. 186 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図187】本発明の表示パネルの説明図FIG. 187 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図188】本発明の表示パネルの説明図FIG. 188 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図189】本発明の表示パネルの説明図FIG. 189 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図190】本発明の表示パネルの説明図190 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図191】本発明の表示パネルの説明図FIG. 191 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図192】本発明の表示パネルの説明図FIG. 192 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図193】本発明の表示パネルの説明図FIG. 193 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図194】本発明の表示パネルの説明図FIG. 194 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図195】本発明の表示パネルの説明図FIG. 195 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図196】本発明の表示パネルの説明図FIG. 196 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図197】本発明の表示パネルの説明図FIG. 197 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図198】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 198 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図199】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 199 is an explanatory diagram of a driving method of a display panel of the present invention.

【図200】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図200 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention. FIG.

【図201】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 201 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図202】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図202 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention. FIG.

【図203】本発明の表示パネルの説明図203 is an explanatory diagram of a display panel of the invention. FIG.

【図204】本発明の情報表示装置の説明図FIG. 204 is an explanatory diagram of an information display device of the present invention.

【図205】本発明の情報表示装置の説明図205 is an explanatory diagram of an information display device of the present invention. FIG.

【図206】本発明の情報表示装置の説明図206 is an explanatory diagram of an information display device of the present invention. FIG.

【図207】本発明の表示装置の駆動方法の説明図FIG. 207 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention.

【図208】本発明の表示装置の駆動方法の説明図208 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention. FIG.

【図209】本発明の表示装置の駆動方法の説明図FIG. 209 is an explanatory diagram of a driving method of a display device of the present invention.

【図210】本発明の表示パネル置の説明図210 is an explanatory diagram of a display panel unit of the present invention. FIG.

【図211】本発明の表示パネルの説明図211 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図212】本発明の表示パネルの説明図FIG. 212 is an explanatory diagram of a display panel of the invention.

【図213】本発明の表示パネルの説明図FIG. 213 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図214】本発明の表示パネルの説明図FIG. 214 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図215】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 215 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図216】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 216 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図217】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図217 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention. FIG.

【図218】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 218 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図219】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 219 is an explanatory diagram of a driving method of a display panel of the present invention.

【図220】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図220 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention. FIG.

【図221】本発明の表示パネルの説明図FIG. 221 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図222】本発明の表示パネルの説明図222 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図223】本発明の表示パネルの説明図FIG. 223 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図224】本発明の表示パネルの説明図[FIG. 224] An explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図225】本発明の表示パネルの説明図FIG. 225 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図226】本発明の表示パネルの説明図FIG. 226 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図227】本発明の表示パネルの説明図FIG. 227 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図228】本発明の表示パネルの説明図FIG. 228 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図229】本発明の表示パネルの説明図FIG. 229 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図230】本発明の表示パネルの説明図FIG. 230 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図231】本発明の表示パネルの説明図FIG. 231 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図232】本発明の表示パネルの説明図FIG. 232 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図233】本発明の表示パネルの説明図FIG. 233 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図234】本発明の表示パネルの説明図FIG. 234 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図235】本発明の表示パネルの説明図FIG. 235 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図236】本発明の表示パネルの説明図FIG. 236 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図237】本発明の表示パネルの説明図FIG. 237 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図238】本発明の表示パネルの説明図FIG. 238 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図239】本発明の表示パネルの説明図FIG. 239 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図240】本発明の表示パネルの説明図240 is an explanatory diagram of a display panel of the invention. FIG.

【図241】本発明の表示パネルの説明図FIG. 241 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図242】本発明の表示パネルの説明図FIG. 242 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図243】本発明の表示パネルの説明図FIG. 243 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図244】本発明の表示パネルの説明図FIG. 244 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図245】本発明の表示パネルの説明図FIG. 245 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図246】本発明の表示パネルの説明図[FIG. 246] An explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図247】本発明の表示パネルの説明図FIG. 247 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図248】本発明の表示パネルの説明図[FIG. 248] An explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図249】本発明の表示パネルの説明図FIG. 249 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図250】本発明の表示パネルの説明図FIG. 250 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図251】本発明の表示パネルの説明図FIG. 251 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図252】本発明の表示パネルの説明図FIG. 252 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図253】本発明の表示パネルの説明図[FIG. 253] An explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図254】本発明の表示パネルの説明図FIG. 254 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図255】本発明の表示パネルの説明図255 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図256】本発明の表示パネルの説明図FIG. 256 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図257】本発明の表示パネルの説明図FIG. 257 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図258】本発明の表示パネルの説明図FIG. 258 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図259】本発明の表示パネルの説明図FIG. 259 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図260】本発明の表示パネルの説明図260 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図261】本発明の表示パネルの説明図[FIG. 261] An explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図262】本発明の表示パネルの説明図FIG. 262 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図263】本発明の表示パネルの説明図FIG. 263 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図264】本発明の表示パネルの説明図FIG. 264 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図265】本発明の表示パネルの説明図FIG. 265 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図266】本発明の表示パネルの説明図FIG. 266 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図267】本発明の表示パネルの説明図FIG. 267 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図268】本発明の表示パネルの説明図FIG. 268 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図269】本発明の表示パネルの説明図FIG. 269 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図270】本発明の表示パネルの説明図FIG. 270 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図271】本発明の表示パネルの説明図271 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図272】本発明の表示パネルの説明図FIG. 272 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図273】本発明の表示パネルの説明図[FIG. 273] An explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図274】本発明の表示パネルの説明図[FIG. 274] An explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図275】本発明の表示パネルの説明図FIG. 275 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図276】本発明の表示パネルの説明図[FIG. 276] An explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図277】本発明の表示パネルの説明図FIG. 277 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図278】本発明の表示パネルの説明図FIG. 278 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図279】本発明の表示パネルの説明図FIG. 279 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図280】本発明の表示パネルの説明図[FIG. 280] An explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図281】本発明の表示パネルの説明図FIG. 281 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図282】本発明の表示パネルの説明図282 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図283】本発明の表示パネルの説明図FIG. 283 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図284】本発明の表示パネルの説明図FIG. 284 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図285】本発明の表示パネルの説明図FIG. 285 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図286】本発明の表示パネルの製造方法の説明図FIG. 286 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a display panel of the present invention.

【図287】本発明の表示パネルの製造方法の説明図FIG. 287 is an explanatory diagram of the manufacturing method of the display panel of the present invention.

【図288】本発明の表示パネルの製造方法の説明図FIG. 288 is an explanatory diagram of a method for manufacturing a display panel of the present invention.

【図289】本発明の表示パネルの説明図FIG. 289 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図290】本発明の表示パネルの製造方法の説明図[FIG. 290] FIG. 290 is an explanatory diagram of the manufacturing method of the display panel of the present invention.

【図291】本発明の表示パネルの説明図FIG. 291 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図292】本発明の表示パネルの説明図FIG. 292 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図293】本発明の表示パネルの説明図FIG. 293 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図294】本発明の表示パネルの説明図FIG. 294 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図295】本発明の表示パネルの説明図FIG. 295 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図296】本発明の表示パネルの説明図FIG. 296 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図297】本発明の表示パネルの説明図FIG. 297 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図298】本発明の表示パネルの説明図FIG. 298 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図299】本発明の表示パネルの説明図FIG. 299 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図300】本発明の表示パネルの説明図FIG. 300 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図301】本発明の表示パネルの説明図FIG. 301 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図302】本発明の表示パネルの説明図302 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention. FIG.

【図303】本発明の表示パネルの説明図FIG. 303 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図304】本発明の表示パネルの説明図FIG. 304 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図305】本発明の表示パネルの説明図FIG. 305 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図306】本発明の表示パネルの説明図FIG. 306 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図307】本発明の表示パネルの説明図FIG. 307 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図308】本発明の表示パネルの説明図[FIG. 308] An explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図309】本発明の表示パネルの説明図FIG. 309 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図310】本発明の表示パネルの説明図FIG. 310 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図311】本発明の表示パネルの説明図FIG. 311 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図312】本発明の表示パネルの説明図FIG. 312 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図313】本発明の表示パネルの説明図FIG. 313 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図314】本発明の表示パネルの説明図FIG. 314 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図315】本発明の表示パネルの説明図FIG. 315 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図316】本発明の表示パネルの説明図FIG. 316 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図317】本発明の表示パネルの説明図FIG. 317 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図318】本発明の表示パネルの説明図FIG. 318 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図319】本発明の表示パネルの説明図FIG. 319 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図320】本発明の表示パネルの説明図FIG. 320 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図321】本発明の表示パネルの説明図FIG. 321 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図322】本発明の表示パネルの説明図FIG. 322 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図323】本発明の表示パネルの説明図FIG. 323 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図324】本発明の表示パネルの説明図FIG. 324 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図325】本発明の表示パネルの説明図FIG. 325 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図326】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 326 is an explanatory diagram of a method for driving a display panel of the present invention.

【図327】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 327 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図328】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 328 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図329】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 329 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図330】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 330 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図331】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 331 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention

【図332】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 332 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention;

【図333】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 333 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図334】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 334 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図335】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 335 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図336】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 336 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図337】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 337 is an explanatory diagram of a driving method of a display panel of the present invention.

【図338】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 338 is an explanatory diagram of a driving method of a display panel of the present invention.

【図339】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 339 is an explanatory diagram of a driving method of a display panel of the present invention.

【図340】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 340 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図341】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 341 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図342】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 342 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention;

【図343】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 343 is an explanatory diagram of a driving method of a display panel of the present invention.

【図344】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 344 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図345】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 345 is an explanatory diagram of a driving method of a display panel of the present invention.

【図346】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 346 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention;

【図347】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 347 is an explanatory diagram of a method for driving a display panel of the present invention.

【図348】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 348 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図349】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 349 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention;

【図350】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 350 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図351】本発明の表示パネルの説明図FIG. 351 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図352】本発明の表示パネルの説明図FIG. 352 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図353】本発明の表示パネルの説明図FIG. 353 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図354】本発明の表示パネルの説明図FIG. 354 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図355】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 355 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図356】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 356 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図357】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 357 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図358】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 358 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【図359】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 359 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention;

【図360】本発明の表示パネルの説明図FIG. 360 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図361】本発明の表示パネルの説明図FIG. 361 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図362】本発明の表示パネルの説明図FIG. 362 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図363】本発明の表示パネルの説明図FIG. 363 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention

【図364】本発明の表示パネルの説明図FIG. 364 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図365】本発明の表示パネルの説明図FIG. 365 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図366】本発明の表示パネルの説明図FIG. 366 is an explanatory diagram of a display panel of the present invention.

【図367】本発明の表示パネルの駆動方法の説明図FIG. 367 is an explanatory diagram of a display panel driving method of the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

11 TFT 12 ゲートドライバ 14 ソースドライバ 15 EL素子 16 画素 17 ゲート信号線 18 ソース信号線 19 キャパシタ(蓄積容量、コンデンサ) 20 電流供給線(電力供給線、電圧供給線) 21 表示領域(表示画面、有効表示領域) 23 レーザー照射スポット 41 封止フタ(封止材) 43,44 凸部 45 シール剤(材) 46 反射膜 47 有機EL(EL素子) 48 画素電極 49 アレイ基板 50 λ/4板(λ/4シート) 51 カソード配線 52 コンタクト 53 カソード 54 偏光板 55 乾燥剤(乾燥材、吸湿手段) 61,62 接続端子 63 アノード 71 平滑化膜 72 透明電極 73 封止膜 74 円偏光板 81 エッジ保護膜 91 遮光膜 92 低抵抗化配線(金属膜) 101 コントロールIC 102 電源IC 103 プリント基板 104 フレキシブル基板 105 データ信号 141 誤差拡散コントローラ 151 内蔵表示メモリ 152 演算メモリ 153 演算回路 154 バッファ回路 191 アンテナ 192 テンキー 193 筐体 194 ボタン 201 デェプレクサ 202 LNA 203 LOバッファ 204 ダウンコンバータ 205 アップコンバータ 206 PAプリドライバ 207 PA 241 ガラス基板 242 位置決めマーカ 251 凸部 252 凹凸部(エンボス加工部) 14a 1チップドライバIC 311 画像表示領域 312 非表示領域 351 カウンタ回路 352 輝度メモリ 353 CPU 354 フレーム(フィールドメモリ、SRAM) 355 切り替え回路 391 書き込み画素行 392 保持画素行 401 電圧源 402 電流源 403 電源切り替え手段 404 浮遊容量(寄生容量) 451 ボデー 452 接眼リング 453 拡大レンズ 454 正レンズ 461 撮影レンズ 462 ビデオカメラ本体 463 格納部 464 接眼カバー 465 表示モード切り替えスイッチ 466 蓋(ふた) 467 支点 471 シャッタ 472 デジタルカメラ(電子カメラ)本体 481 外枠 482 固定部材 483 脚 484 脚取り付け部 491 壁 492 固定金具 493 保護フィルム(保護板、保護手段) 501 走査領域 601 ENBL端子(制御端子) 602 OR回路 851 シャッタ(遮光手段) 852 眼鏡(切り替え手段) 871 書き込み画素行 1221 電圧出力回路 1222 電流出力回路 1223 切り替え回路(アナログスイッチ) 1224 オペアンプ(出力バッファ) 1225 調整ボリウム(可変抵抗、調整手段) 1226 DAコンバータ(デジタル−アナログ変換手
段(器)) 1227 出力トランジスタ(トランジスタ、FET) 1228 抵抗 1321 信号配線 1751 画素コンタクト部 1761 保護膜(層) 1781 スペーサ 1791 点灯制御線 1981 ブロック(単位) 2041 スピーカー 2043 ファンクションスイッチ(FSW) 2044 マイク 2045 鏡(ミラー) 2046 表示パネル(表示装置) 2111 逆バイアス制御線 2561 絶縁膜 2621,2681 フレーム(フィールド)メモリ 2622 カウンタ回路 2623 データ変換回路 2682 加算回路(演算処理回路) 2683 ゲートドライバ制御回路 2691 データ制御回路 2692 データ変換回路 2751 バイアス抵抗(電子ボリウム、電流変更手
段) 2752 スイッチトランジスタ(選択スイッチ) 2753 親トランジスタ 2754 子トランジスタ 2791 光(軌跡) 2801 屈折シート(板、フィルム) 2802 屈折部 2861 透明膜 2862 ローラー 2863 凹凸部(凹部) 2871 凸部 2881 メタルマスク 2901 プレス板(圧接手段、転写手段) 2902 光(UV光、可視光) 3001 電流サンプリング回路 3002 電流プログラム線 3271 バッファ回路 3272 OR回路 3491 デコーダ回路 3511 プリチャージ回路 3521 データシフト回路 3661 土手 3662 第2画素電極
11 TFT 12 Gate Driver 14 Source Driver 15 EL Element 16 Pixel 17 Gate Signal Line 18 Source Signal Line 19 Capacitor (Storage Capacitor, Capacitor) 20 Current Supply Line (Power Supply Line, Voltage Supply Line) 21 Display Area (Display Screen, Effective Display area) 23 Laser irradiation spot 41 Sealing lid (sealing material) 43, 44 Convex portion 45 Sealing material (material) 46 Reflective film 47 Organic EL (EL element) 48 Pixel electrode 49 Array substrate 50 λ / 4 plate (λ / 4 sheet) 51 cathode wiring 52 contact 53 cathode 54 polarizing plate 55 desiccant (drying material, moisture absorbing means) 61, 62 connection terminal 63 anode 71 smoothing film 72 transparent electrode 73 sealing film 74 circularly polarizing plate 81 edge protection film 91 Light shielding film 92 Low resistance wiring (metal film) 101 Control IC 102 Power supply IC 103 Pre Input board 104 Flexible board 105 Data signal 141 Error diffusion controller 151 Built-in display memory 152 Operation memory 153 Operation circuit 154 Buffer circuit 191 Antenna 192 Numeric keypad 193 Case 194 Button 201 Deplexer 202 LNA 203 LO buffer 204 Downconverter 205 Upconverter 206 PA converter Driver 207 PA 241 Glass substrate 242 Positioning marker 251 Convex portion 252 Concavo-convex portion (embossed portion) 14a 1 Chip driver IC 311 Image display area 312 Non-display area 351 Counter circuit 352 Luminance memory 353 CPU 354 Frame (field memory, SRAM) 355 Switching circuit 391 Write pixel row 392 Holding pixel row 401 Voltage source 402 Current source 403 Power supply switching hand 404 Floating capacitance (parasitic capacitance) 451 Body 452 Eyepiece ring 453 Magnifying lens 454 Positive lens 461 Photographing lens 462 Video camera body 463 Storage unit 464 Eyepiece cover 465 Display mode switch 466 Lid 467 Support point 471 Shutter 472 Digital camera (electronic) Camera) Body 481 Outer frame 482 Fixing member 483 Leg 484 Leg mounting portion 491 Wall 492 Fixing metal fitting 493 Protective film (protective plate, protective means) 501 Scanning area 601 ENBL terminal (control terminal) 602 OR circuit 851 Shutter (light shielding means) 852 Glasses (switching means) 871 writing pixel row 1221 voltage output circuit 1222 current output circuit 1223 switching circuit (analog switch) 1224 operational amplifier (output buffer) 1225 adjusting volume (possible) Resistance, adjustment means) 1226 DA converter (digital-analog conversion means (device)) 1227 Output transistor (transistor, FET) 1228 Resistance 1321 Signal wiring 1751 Pixel contact part 1761 Protective film (layer) 1781 Spacer 1791 Lighting control line 1981 Block ( Unit) 2041 Speaker 2043 Function switch (FSW) 2044 Microphone 2045 Mirror (mirror) 2046 Display panel (display device) 2111 Reverse bias control line 2561 Insulation film 2621, 2681 Frame (field) memory 2622 Counter circuit 2623 Data conversion circuit 2682 Addition circuit (Arithmetic processing circuit) 2683 Gate driver control circuit 2691 Data control circuit 2692 Data conversion circuit 2751 Bias resistance (electronic volume, electric Flow change means) 2752 Switch transistor (selection switch) 2753 Parent transistor 2754 Child transistor 2791 Light (trajectory) 2801 Refraction sheet (plate, film) 2802 Refraction part 2861 Transparent film 2862 Roller 2863 Concavo-convex part (concave part) 2871 Convex part 2881 Metal mask 2901 Press plate (pressing means, transfer means) 2902 Light (UV light, visible light) 3001 Current sampling circuit 3002 Current program line 3271 Buffer circuit 3272 OR circuit 3491 Decoder circuit 3511 Precharge circuit 3521 Data shift circuit 3661 Bank 3662 Second pixel electrode

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) G09G 3/20 G09G 3/20 622Q 624 624B 641 641D 641E 642 642A 680 680G 680T H05B 33/14 H05B 33/14 A Fターム(参考) 3K007 AB02 AB03 AB05 AB17 AB18 BA06 BB05 BB07 DB03 EB00 GA04 5C080 AA06 BB05 CC03 DD05 DD26 DD30 EE28 FF11 FF13 GG11 JJ01 JJ02 JJ03 JJ04 JJ05 JJ06 KK43 KK47 5C094 AA03 AA06 AA07 AA10 AA22 AA43 AA44 AA53 AA56 BA03 BA27 CA19 DA07 DA09 DA13 DB01 DB04 EA04 EA07 EC03 ED01 FA01 FB01 FB20 GA10─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) G09G 3/20 G09G 3/20 622Q 624 624B 641 641D 641E 642 642A 680 680G 680T H05B 33/14 H05B 33/14 AF terms (reference) 3K007 AB02 AB03 AB05 AB17 AB18 BA06 BB05 BB07 DB03 EB00 GA04 5C080 AA06 BB05 CC03 DD05 DD26 DD30 EE28 FF11 FF13 GG11 JJ01 JJ02 JJ03 JJ04 AA A22 A22 A22 A22 A22 A22 A4 A4 A4 A4 DA07 DA09 DA13 DB01 DB04 EA04 EA07 EC03 ED01 FA01 FB01 FB20 GA10

Claims (19)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 EL表示装置にあって、 画素がマトリックス状に配置され、 前記各画素に、EL素子と、前記EL素子に電流を印加
する駆動トランジスタ素子と、前記駆動トランジスタ素
子のゲート端子電圧を所定期間保持するコンデンサと、
前記コンデンサの両端をショートするスイッチング素子
とが形成されていることを特徴とするEL表示装置。
1. In an EL display device, pixels are arranged in a matrix, an EL element, a drive transistor element for applying a current to the EL element, and a gate terminal voltage of the drive transistor element are provided in each pixel. And a capacitor for holding for a predetermined period,
An EL display device, wherein a switching element that short-circuits both ends of the capacitor is formed.
【請求項2】 画素がマトリックス状に配置され、かつ
映像信号を伝達するソース信号線を有するアクティブマ
トリックス型EL表示装置にあって、 前記各画素に、EL素子と、前記EL素子に電流を印加
する駆動トランジスタ素子と、前記駆動トランジスタ素
子のゲート端子電圧を所定期間保持する第1のコンデン
サと、前記コンデンサに直列に接続された第2のコンデ
ンサと、前記コンデンサにソース信号線の信号を印加す
る第1のスイッチング素子と、前記第1と第2のコンデ
ンサのうち少なくとも一方のコンデンサの両端をショー
トする第2のスイッチング素子とが形成されていること
を特徴とするEL表示装置。
2. An active matrix type EL display device in which pixels are arranged in a matrix and has a source signal line for transmitting a video signal, wherein an EL element is applied to each pixel and a current is applied to the EL element. Drive transistor element, a first capacitor for holding a gate terminal voltage of the drive transistor element for a predetermined period, a second capacitor connected in series to the capacitor, and a signal of a source signal line is applied to the capacitor. An EL display device comprising: a first switching element; and a second switching element that short-circuits both ends of at least one of the first and second capacitors.
【請求項3】 EL表示装置にあって、 EL素子と、 前記EL素子に電流を印加する第1および第2の駆動ト
ランジスタ素子と、 前記第1の駆動トランジスタ素子と前記EL素子間の電
流をオンオフする第1のスイッチング素子と、 前記第2の駆動トランジスタ素子と前記EL素子間の電
流をオンオフする第2のスイッチング素子と、 前記第1の駆動トランジスタ素子のゲート端子と前期第
2の駆動トランジスタ素子のゲート端子の共通に接続さ
れたコンデンサとを具備することを特徴とするEL表示
装置。
3. An EL display device comprising: an EL element; first and second drive transistor elements for applying a current to the EL element; and a current between the first drive transistor element and the EL element. A first switching element that turns on and off, a second switching element that turns on and off a current between the second drive transistor element and the EL element, a gate terminal of the first drive transistor element, and a second drive transistor in the first half An EL display device, comprising: a gate terminal of the element and a capacitor connected in common.
【請求項4】 EL素子と、前記EL素子に電流を印加
する第1および第2の駆動トランジスタ素子と、前記第
1の駆動トランジスタ素子と前記EL素子間の電流をオ
ンオフする第1のスイッチング素子と、前記第2の駆動
トランジスタ素子と前記EL素子間の電流をオンオフす
る第2のスイッチング素子と、前記第1の駆動トランジ
スタ素子のゲート端子と前期第2の駆動トランジスタ素
子のゲート端子の共通に接続されたコンデンサとを有す
るEL表示パネルと、 ダウンコンバータと、 アップコンバータと、 受話器と、 スピーカーとを具備し、 前記第1の駆動トランジスタと前記第2の駆動トランジ
スタとフィールドに同期し、かつ交互に動作させること
を特徴とする情報表示装置。
4. An EL element, first and second drive transistor elements for applying a current to the EL element, and a first switching element for turning on / off a current between the first drive transistor element and the EL element. A second switching element for turning on / off a current between the second driving transistor element and the EL element, a gate terminal of the first driving transistor element and a gate terminal of the second driving transistor element in common. An EL display panel having a capacitor connected thereto, a down converter, an up converter, a receiver, and a speaker, the first drive transistor and the second drive transistor being in synchronization with the field and alternating An information display device characterized by being operated.
【請求項5】 EL表示装置にあって、 EL素子と、 前記EL素子に電流を印加する第1および第2の駆動ト
ランジスタ素子と、 前記第1の駆動トランジスタ素子と前記EL素子間の電
流をオンオフする第1のスイッチング素子と、 前記第2の駆動トランジスタ素子と前記EL素子間の電
流をオンオフする第2のスイッチング素子と、 前記第1の駆動トランジスタ素子のゲート端子と前期第
2の駆動トランジスタ素子のゲート端子の共通に接続さ
れたコンデンサと、 前記第1の駆動トランジスタおよび第2の駆動トランジ
スタとカレントミラー回路の関係を有する第3のトラン
ジスタと、 前記第3のトランジスタのゲート端子にソース信号線の
電圧を印加するスイッチング素子とを具備することを特
徴とするEL表示装置。
5. An EL display device comprising: an EL element; first and second drive transistor elements for applying a current to the EL element; and a current between the first drive transistor element and the EL element. A first switching element that turns on and off, a second switching element that turns on and off a current between the second drive transistor element and the EL element, a gate terminal of the first drive transistor element, and a second drive transistor in the first half A capacitor commonly connected to the gate terminals of the elements, a third transistor having a current mirror circuit relationship with the first driving transistor and the second driving transistor, and a source signal to the gate terminal of the third transistor. An EL display device comprising a switching element for applying a line voltage.
【請求項6】 第1および第2の駆動トランジスタ素子
のゲート端子に同一電圧を書き込み、所定期間、前記電
圧を保持させる第1の動作と、 第1の期間に前記第1の駆動トランジスタ素子が流す電
流をEL素子に印加し、前記EL素子を発光させる第2
の動作と、 第2の期間に前記第2の駆動トランジスタ素子が流す電
流をEL素子に印加し、前記EL素子を発光させる第3
の動作とを有し、 前記第1の動作と前記第2の動作と前記第3の動作を周
期的に行うことを特徴とするEL表示装置の駆動方法。
6. A first operation in which the same voltage is written to the gate terminals of the first and second drive transistor elements and the voltage is held for a predetermined period, and the first drive transistor element operates in the first period. A second current is applied to the EL element to cause the EL element to emit light.
And a current applied by the second drive transistor element during the second period is applied to the EL element to cause the EL element to emit light.
And a method of driving an EL display device, wherein the first operation, the second operation, and the third operation are periodically performed.
【請求項7】 EL表示装置にあって、 偶数画素行の第1の駆動トランジスタと、 奇数画素行の第2の駆動トランジスタと、 前記第1の駆動トランジスタをプログラムする第1のス
イッチング素子と、 前記第2の駆動トランジスタをプログラムする第2のス
イッチング素子と、 前記第1の駆動トランジスタを制御する第1の信号線
と、 前記第2の駆動トランジスタを制御する第2の信号線と
を具備し、 偶数画素行の第1の駆動トランジスタと奇数画素行の第
2の駆動トランジスタとが近接して配置され、 前記偶数画素行と前記奇数画素行間に、第1の信号線と
第2の信号線とが配置されていることを特徴とするEL
表示装置。
7. In an EL display device, a first drive transistor in an even pixel row, a second drive transistor in an odd pixel row, and a first switching element that programs the first drive transistor, A second switching element that programs the second driving transistor; a first signal line that controls the first driving transistor; and a second signal line that controls the second driving transistor. A first driving transistor of an even pixel row and a second driving transistor of an odd pixel row are arranged in proximity to each other, and a first signal line and a second signal line are provided between the even pixel row and the odd pixel row. EL characterized in that and are arranged
Display device.
【請求項8】 EL表示装置の駆動方法であって、 第1フィールドにおいて、 隣接した第1の画素行の駆動トランジスタと第2の画素
行の駆動トランジスタに同一データを書き込む第1の動
作と、 前記第1の画素行を非点灯状態にする第2の動作と、 前記データを書き込む画素行を2画素行ずつシフトする
第3の動作と実施し、 前記第1フィールドの次の第2のフィールドにおいて、 隣接した第1の画素行の駆動トランジスタと第2の画素
行の駆動トランジスタに同一データを書き込む第1の動
作と、 前記第2の画素行を非点灯状態にする第2の動作と、 前記データを書き込む画素行を2画素行ずつシフトする
第3の動作と実施することを特徴とするEL表示装置の
駆動方法。
8. A driving method of an EL display device, comprising: in a first field, a first operation of writing the same data into a driving transistor of a first pixel row and a driving transistor of a second pixel row which are adjacent to each other. A second operation for putting the first pixel row in a non-lighting state and a third operation for shifting the pixel row for writing the data by two pixel rows, and a second field next to the first field A first operation of writing the same data to the driving transistor of the first pixel row and the driving transistor of the second pixel row which are adjacent to each other, and a second operation of turning off the second pixel row. A driving method of an EL display device, which comprises performing a third operation of shifting the pixel row for writing the data by two pixel rows at a time.
【請求項9】 各画素にEL素子と駆動トランジスタが
形成されたEL表示装置の駆動方法であって、 水平同期信号に同期して、画素行がプログラムされ、か
つ、順次、プログラムされる画素行がシフトされ、 前記EL素子に印加される電流が水平走査期間よりも短
い期間でオンオフすることを特徴とするEL表示装置の
駆動方法。
9. A driving method of an EL display device in which an EL element and a driving transistor are formed in each pixel, wherein a pixel row is programmed in synchronization with a horizontal synchronizing signal, and the pixel row is programmed sequentially. Is shifted, and the current applied to the EL element is turned on / off in a period shorter than the horizontal scanning period.
【請求項10】 各画素にEL素子と、前記EL素子に
電流を印加する駆動トランジスタと、前記駆動トランジ
スタへのプログラム電流の経路を構成する第1のスイッ
チング素子と、前記駆動トランジスタから前記EL素子
に流れる電流をオンオフする第2のスイッチング素子と
が形成され、 前記第1のスイッチング素子をオンオフさせる信号を伝
達する第1のゲート信号線と、 前記第2のスイッチング素子をオンオフさせる信号を伝
達する第2のゲート信号線と、 前記複数の第1のゲート信号線が接続され、前記複数の
第1のゲート信号線のうちオン電圧位置をシフトさせる
第1のシフトレジスタと、 前記複数の第2のゲート信号線が接続され、前記複数の
第2のゲート信号線のうちオン電圧位置をシフトさせる
第2のシフトレジスタとを具備することを特徴とするE
L表示装置。
10. An EL element for each pixel, a drive transistor for applying a current to the EL element, a first switching element forming a path of a program current to the drive transistor, and the drive transistor to the EL element. A second switching element for turning on and off a current flowing through the first switching element, a first gate signal line for transmitting a signal for turning on and off the first switching element, and a signal for turning on and off the second switching element. A second gate signal line; a first shift register that is connected to the plurality of first gate signal lines and shifts an on-voltage position among the plurality of first gate signal lines; A second shift register connected to the gate signal line of the second shift register for shifting the ON voltage position of the plurality of second gate signal lines. E, characterized by comprising
L display device.
【請求項11】 EL表示装置の駆動方法であって、 EL表示装置には、各画素にEL素子と、前記EL素子
に電流を印加する駆動トランジスタと、前記駆動トラン
ジスタへのプログラム電流の経路を構成する第1のスイ
ッチング素子と、前記駆動トランジスタから前記EL素
子に流れる電流をオンオフする第2のスイッチング素子
と、前記第1のスイッチング素子をオンオフさせる信号
を伝達する第1のゲート信号線と、前記第2のスイッチ
ング素子をオンオフさせる信号を伝達する第2のゲート
信号線とが形成され、 前記第1のゲート信号線に印加する信号の立ち上がり
と、前記第2のゲート信号線に印加する信号の立ち下が
りとが一致するように駆動することを特徴とするEL表
示装置の駆動方法。
11. A driving method of an EL display device, wherein the EL display device comprises an EL element for each pixel, a drive transistor for applying a current to the EL element, and a path of a program current to the drive transistor. A first switching element that constitutes the first switching element, a second switching element that turns on and off a current flowing from the drive transistor to the EL element, and a first gate signal line that transmits a signal that turns on and off the first switching element. A second gate signal line for transmitting a signal for turning on and off the second switching element is formed, and a rising edge of a signal applied to the first gate signal line and a signal applied to the second gate signal line. A driving method of an EL display device, characterized in that the driving is performed so that the trailing edge of the EL display coincides.
【請求項12】 EL表示装置の駆動方法であって、 EL表示装置には、各画素にEL素子と、前記EL素子
に電流を印加する駆動トランジスタと、前記駆動トラン
ジスタへのプログラム電流の経路を構成する第1のスイ
ッチング素子と、前記駆動トランジスタから前記EL素
子に流れる電流をオンオフする第2のスイッチング素子
と、前記第1のスイッチング素子をオンオフさせる信号
を伝達する第1のゲート信号線と、前記第2のスイッチ
ング素子をオンオフさせる信号を伝達する第2のゲート
信号線とが形成され、 第1の画素行の第2のゲート信号線に印加する信号と、 前記第1の画素行と隣接した第2の画素行の第2のゲー
ト信号線に印加する信号とが逆位相であることを特徴と
するEL表示装置の駆動方法。
12. An EL display device driving method, comprising: an EL element in each pixel, a drive transistor for applying a current to the EL element, and a program current path to the drive transistor. A first switching element that constitutes the first switching element, a second switching element that turns on and off a current flowing from the drive transistor to the EL element, and a first gate signal line that transmits a signal that turns on and off the first switching element. A second gate signal line for transmitting a signal for turning on / off the second switching element is formed, a signal applied to the second gate signal line of the first pixel row, and a signal adjacent to the first pixel row. The driving method of an EL display device, wherein the signal applied to the second gate signal line of the second pixel row has the opposite phase.
【請求項13】 EL表示装置の駆動方法であって、 画素を選択する第1のゲート信号線と、 前記画素のEL素子への電流を遮断する第2のゲート信
号線とを具備し、 前記第1のゲート信号線に選択電圧が印加された画素の
前記第2のゲート信号線にはオフ電圧を印加することに
より、前記EL素子への電流を遮断する第1の動作と、 前記選択電圧が印加されていない画素の前記第2のゲー
ト信号線はオン電圧とオフ電圧とを交互に印加する第2
の動作とを実施し、 前記画素行の前記第2のゲート信号線の信号立ち上がり
位置と、前記画素行に隣接した画素行の第2のゲート信
号線の信号立下りが位置とが略一致していることを特徴
とするEL表示装置の駆動方法。
13. A driving method of an EL display device, comprising: a first gate signal line for selecting a pixel; and a second gate signal line for cutting off a current to an EL element of the pixel, A first operation of interrupting a current to the EL element by applying an off voltage to the second gate signal line of the pixel to which the selection voltage is applied to the first gate signal line; The second gate signal line of the pixel to which the voltage is not applied is a second gate signal line that alternately applies an on-voltage and an off-voltage.
And the signal rising position of the second gate signal line of the pixel row and the signal falling position of the second gate signal line of the pixel row adjacent to the pixel row are substantially coincident with each other. And a method for driving an EL display device.
【請求項14】 EL表示装置の駆動方法であって、 画素を選択する第1のゲート信号線と、 前記画素のEL素子への電流を遮断する第2のゲート信
号線とを具備し、 前記第1のゲート信号線に選択電圧が印加された画素の
前記第2のゲート信号線にはオフ電圧を印加することに
より、前記EL素子への電流を遮断する第1の動作と、 前記選択電圧が印加されていない画素の前記第2のゲー
ト信号線は、垂直同期信号を基準とし、1水平走査期間
ごとにオン電圧またはオフ電圧を印加する第2の動作
と、 前記選択電圧が印加されていない画素の前記第2のゲー
ト信号線は、フレームごとに1水平走査期間ごとにオン
電圧またはオフ電圧を印加するタイミングを反転させる
第3の動作とを実施し、 前記第2のゲート信号線の信号は連続した水平走査期間
において、オン電圧またはオフ電圧が連続するように印
加されることを特徴とするEL表示装置の駆動方法。
14. A driving method of an EL display device, comprising: a first gate signal line for selecting a pixel; and a second gate signal line for cutting off a current to an EL element of the pixel, A first operation of interrupting a current to the EL element by applying an off voltage to the second gate signal line of the pixel to which the selection voltage is applied to the first gate signal line; To the second gate signal line of the pixel to which is not applied, the second operation of applying an ON voltage or an OFF voltage for each horizontal scanning period with the vertical synchronization signal as a reference, and the selection voltage is applied. The second gate signal line of the non-existing pixel performs a third operation of inverting the timing of applying the on-voltage or the off-voltage for each horizontal scanning period for each frame, and the second gate signal line of the second gate signal line Signal is continuous water A method for driving an EL display device, wherein an on-voltage or an off-voltage is applied so as to be continuous during a flat scan period.
【請求項15】 画素のEL素子への電流を遮断する第
2のゲート信号線を有するEL表示装置にあって、 1水平走査期間を略同一の第1の期間と第2の期間に分
離し、 偶数画素行の前記第2のゲート信号線には、前記第1の
期間に前記EL素子への電流を遮断する信号を印加し、 奇数画素行の前記第2のゲート信号線には、前記第2の
期間に前記EL素子への電流を遮断する信号を印加する
ことを特徴とするEL表示装置の駆動方法。
15. An EL display device having a second gate signal line for shutting off a current to an EL element of a pixel, wherein one horizontal scanning period is divided into substantially the same first period and second period. , A signal for cutting off the current to the EL element during the first period is applied to the second gate signal line of the even pixel row, and the second gate signal line of the odd pixel row is connected to the second gate signal line. A driving method of an EL display device, wherein a signal for cutting off a current to the EL element is applied in a second period.
【請求項16】 画素のEL素子への電流を遮断する第
2のゲート信号線と、前記EL素子に逆バイアス電圧を
印加する第1のゲート信号線とを有するEL表示装置に
あって、 前記第2のゲート信号線に前記第1のゲート信号線に、
前記EL素子に逆バイアス電圧を印加する信号を印加
し、 前記第1の画素行の第1のゲート信号線に印加する信号
の位相と、前記第1の画素行に隣接した第2の画素行の
第1のゲート信号線に印加する信号の位相とが逆位相で
あり、かつ、周期的変化させることを特徴とするEL表
示装置の駆動方法。
16. An EL display device comprising: a second gate signal line for cutting off a current to an EL element of a pixel; and a first gate signal line for applying a reverse bias voltage to the EL element, To the second gate signal line, to the first gate signal line,
A signal for applying a reverse bias voltage is applied to the EL element, a phase of the signal applied to the first gate signal line of the first pixel row, and a second pixel row adjacent to the first pixel row. The driving method of an EL display device, wherein the phase of the signal applied to the first gate signal line is opposite to that of the signal, and is periodically changed.
【請求項17】 画素に電流プログラムを行うEL表示
装置の駆動方法であって、 画像データをシフトし、画像データの大きさを変化させ
る第1の動作と、 前記画像データの大きさに対応する電流を前記画素に印
加する第2の動作と、 前記元の画像データの大きさに対応する電流を前記画素
に印加する第3の動作とを実施することを特徴とするE
L表示装置の駆動方法。
17. A driving method of an EL display device for performing current programming to a pixel, which corresponds to a first operation of shifting image data and changing a size of the image data, and corresponding to the size of the image data. A second operation of applying a current to the pixel and a third operation of applying a current corresponding to the size of the original image data to the pixel are performed.
Driving method for L display device.
【請求項18】 EL膜上に形成された電極と、 前記電極上に形成された封止膜と、 前記封止膜上に形成され、かつ画素に対応して形成され
た凹状の屈折部と、 前記凹状の屈折部と異なる屈折率材料が、前記凹状の屈
折部に充填されていることを特徴とするEL表示装置。
18. An electrode formed on the EL film, a sealing film formed on the electrode, and a concave refraction portion formed on the sealing film and corresponding to a pixel. An EL display device, wherein the concave refraction portion is filled with a refractive index material different from that of the concave refraction portion.
【請求項19】 マトリックス状に形成された第1の画
素電極と、 前記第1の画素電極間に形成された土手と、 前記第1の画素電極と接触するように、かつ前記土手上
に重なるように形成された第2の画素電極と、 前記第2の画素電極上に形成されたEL膜と、 前記EL膜上に形成された共通電極とを具備することを
特徴とするEL表示装置。
19. A first pixel electrode formed in a matrix, a bank formed between the first pixel electrodes, overlapping with the first pixel electrode so as to be in contact with the first pixel electrode. An EL display device comprising: the second pixel electrode thus formed; an EL film formed on the second pixel electrode; and a common electrode formed on the EL film.
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