JP2003149674A - 液晶表示装置 - Google Patents

液晶表示装置

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JP2003149674A
JP2003149674A JP2001347190A JP2001347190A JP2003149674A JP 2003149674 A JP2003149674 A JP 2003149674A JP 2001347190 A JP2001347190 A JP 2001347190A JP 2001347190 A JP2001347190 A JP 2001347190A JP 2003149674 A JP2003149674 A JP 2003149674A
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liquid crystal
drain signal
drain
signal lines
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Yoshiaki Nakayoshi
良彰 仲吉
Nagatoshi Kurahashi
永年 倉橋
Tetsuya Kawamura
徹也 川村
Kazuhiko Yanagawa
和彦 柳川
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Hitachi Ltd
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Hitachi Ltd
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    • G02F1/13Devices or arrangements for the control of the intensity, colour, phase, polarisation or direction of light arriving from an independent light source, e.g. switching, gating or modulating; Non-linear optics for the control of the intensity, phase, polarisation or colour  based on liquid crystals, e.g. single liquid crystal display cells
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    • G02F1/133Constructional arrangements; Operation of liquid crystal cells; Circuit arrangements
    • G02F1/1333Constructional arrangements; Manufacturing methods
    • G02F1/1343Electrodes
    • G02F1/134309Electrodes characterised by their geometrical arrangement
    • G02F1/134363Electrodes characterised by their geometrical arrangement for applying an electric field parallel to the substrate, i.e. in-plane switching [IPS]

Abstract

(57)【要約】 【課題】 たとえばドレイン信号線の対向電極に対する
容量を低減させる。 【解決手段】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
信号線とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複
数のドレイン信号線とを有し、これら各信号線によって
囲まれた領域を画素領域とし、これら画素領域にゲート
信号線からの走査信号によって作動される薄膜トランジ
スタと、この薄膜トランジスタを介してドレイン信号線
からの映像信号が供給される画素電極と、この画素電極
との間に電界を発生せしめる対向電極とが形成され、前
記対向電極は絶縁膜を介して前記ドレイン信号線の走行
方向に延在されて重畳されているものを有し、前記ドレ
イン信号線はその走行方向の各辺のうち少なくとも一方
の側壁面に該ドレイン信号線の下地層側へ末広がりとな
るテーパが形成されている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は液晶表示装置に係
り、いわゆる横電界方式と称される液晶表示装置に関す
る。
【0002】
【従来の技術】いわゆる横電界方式の液晶表示装置は、
液晶を介して対向配置される各基板のうち一方の基板の
液晶側の面の画素領域に互いに隣接する画素電極と対向
電極とが形成され、これら各電極との間に発生する電界
のうち該基板と平行な成分によって液晶を挙動させてい
る。
【0003】このような液晶表示装置をアクティブ・マ
トリクス型のものに適用させたものとして、前記一方の
基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線と
これら各ゲート信号線と交差して並設された複数のドレ
イン信号線によって囲まれた領域を画素領域とし、これ
ら画素領域にゲート信号線からの走査信号によって作動
される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介
してドレイン信号線からの映像信号が供給される画素電
極と、前記映像信号に対して基準となる電圧信号が供給
される対向電極が形成されて構成されている。
【0004】そして、前記画素電極と対向電極は、それ
ぞれ一方向に延在した帯状のものとして形成されている
とともに、それらが交互に配置される複数の電極群とし
て形成されている。
【0005】また、このうち前記対向電極は、前記ドレ
イン信号線と絶縁膜を介してその走行方向に沿って重畳
させて形成したものを備えさせるものが知られている。
【0006】ドレイン信号線からの電界による電気力線
を該ドレイン信号線と重畳させて形成させる前記対向電
極に終端させるようにし、この対向電極と隣接して配置
される画素電極に終端させないようにしている。ドレイ
ン信号線からの電気力線が画素電極に終端してしまうと
それがノイズとなってしまうからである。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、このような構
成からなる液晶表示装置は、前記対向電極に上述した機
能をもたせるために、該対向電極をその中心軸がドレイ
ン信号線のそれと一致されて配置させるとともに、その
幅がドレイン信号線のそれよりも大きくして形成する必
要が生じる。
【0008】このため、ドレイン信号線の該対向電極に
対する容量(寄生容量)が大きくなってしまい、該ドレ
イン信号線に供給される映像信号に波形遅延が生じてし
まうことが指摘されるに至った。
【0009】この場合、ドレイン信号線の波形遅延は該
ドレイン信号線の抵抗Rと寄生容量Cでの積に比例し、
これを小さくするには該抵抗R、寄生容量Cの少なくと
も一方を小さくすることが考えられる。
【0010】しかし、ドレイン信号線の上方に対向電極
が存在する場合、たとえドレイン信号線の幅を大きくし
て該ドレイン信号線の抵抗Rを小さくしても、該対向電
極との寄生容量Cがそれにつれ増加してしまい、結果と
して、波形遅延が低減できない状態にあった。
【0011】本発明は、このような事情に基づいてなさ
れたもので、その目的は、ドレイン信号線の対向電極に
対する容量を低減させた構成の液晶表示装置を提供する
ことにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】本願において開示される
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。
【0013】手段1.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線
とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複数のド
レイン信号線とを有し、これら各信号線によって囲まれ
た領域を画素領域とし、これら画素領域にゲート信号線
からの走査信号によって作動される薄膜トランジスタ
と、この薄膜トランジスタを介してドレイン信号線から
の映像信号が供給される画素電極と、この画素電極との
間に電界を発生せしめる対向電極とが形成され、前記対
向電極は絶縁膜を介して前記ドレイン信号線の走行方向
に延在されて重畳されているものを有し、前記ドレイン
信号線は前記対向電極CTと対向する面にて、該対向電
極CTとの距離が少なくとも2個以上の異なる領域を有
するように構成されていることを特徴とするものであ
る。
【0014】手段2.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線
とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複数のド
レイン信号線とを有し、これら各信号線によって囲まれ
た領域を画素領域とし、これら画素領域にゲート信号線
からの走査信号によって作動される薄膜トランジスタ
と、この薄膜トランジスタを介してドレイン信号線から
の映像信号が供給される画素電極と、この画素電極との
間に電界を発生せしめる対向電極とが形成され、前記対
向電極は絶縁膜を介して前記ドレイン信号線の走行方向
に延在されて重畳されているものを有し、前記ドレイン
信号線はその走行方向の各辺のうち少なくとも一方の側
壁面に該ドレイン信号線の下地層側へ末広がりとなるテ
ーパが形成されていることを特徴とするものである。
【0015】手段3.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線
とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複数の2
層の導電層構造からなるドレイン信号線とを有し、これ
ら各信号線によって囲まれた領域を画素領域とし、これ
ら画素領域にゲート信号線からの走査信号によって作動
される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介
してドレイン信号線からの映像信号が供給される画素電
極と、この画素電極との間に電界を発生せしめる対向電
極とが形成され、前記対向電極は絶縁膜を介して前記ド
レイン信号線の走行方向に延在されて重畳されているも
のを有し、前記ドレイン信号線はその下層側の導電層に
てその走行方向の各辺のうち少なくとも一方の側壁面に
該ドレイン信号線の下地層側へ末広がりとなるテーパが
形成されていることを特徴とするものである。
【0016】手段4.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線
とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複数のド
レイン信号線とを有し、該ドレイン信号線は下層の導電
層がAlあるいはその合金からなる2層構造となってお
り、前記各信号線によって囲まれた領域を画素領域と
し、これら画素領域にゲート信号線からの走査信号によ
って作動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジ
スタを介してドレイン信号線からの映像信号が供給され
る画素電極と、この画素電極との間に電界を発生せしめ
る対向電極とが形成され、前記対向電極は絶縁膜を介し
て前記ドレイン信号線の走行方向に延在されて重畳され
ているものを有し、前記ドレイン信号線はその下層の導
電層にてその走行方向の各辺のうち少なくとも一方の側
壁面に該ドレイン信号線の下地層側へ末広がりとなるテ
ーパが形成されていることを特徴とするものである。
【0017】手段5.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線
とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複数の2
層の導電層構造からなるドレイン信号線とを有し、これ
ら各信号線によって囲まれた領域を画素領域とし、これ
ら画素領域にゲート信号線からの走査信号によって作動
される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを介
してドレイン信号線からの映像信号が供給される画素電
極と、この画素電極との間に電界を発生せしめる対向電
極とが形成され、前記対向電極は絶縁膜を介して前記ド
レイン信号線の走行方向に延在されて重畳されているも
のを有し、前記ドレイン信号線はその上層の導電膜をマ
スクとして下層の導電層をエッチングすることにより該
下層の導電膜の側壁面に該ドレイン信号線の下地層側へ
末広がりとなるテーパが形成されていることを特徴とす
るものである。
【0018】手段6.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線
とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複数のド
レイン信号線とを有し、該ドレイン信号線は中間層がA
lあるいはその合金の導電層からなり最上層および最下
層がAlあるいはその合金以外の導電層からなる3層構
造となっており、前記各信号線によって囲まれた領域を
画素領域とし、これら画素領域にゲート信号線からの走
査信号によって作動される薄膜トランジスタと、この薄
膜トランジスタを介してドレイン信号線からの映像信号
が供給される画素電極と、この画素電極との間に電界を
発生せしめる対向電極とが形成され、前記対向電極は絶
縁膜を介して前記ドレイン信号線の走行方向に延在され
て重畳されているものを有し、前記ドレイン信号線はそ
の最下層の導電層の幅が最上層の導電層の幅よりも広
く、中間層の導電層の幅は該最下層の導電層の幅から最
上層の導電層の幅にかけて変化していることを特徴とす
るものである。
【0019】手段7.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線
とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複数のド
レイン信号線とを有し、該ドレイン信号線は中間層がA
lあるいはその合金の導電層からなり最上層および最下
層がAlあるいはその合金以外の導電層からなる3層構
造となっており、前記各信号線によって囲まれた領域を
画素領域とし、これら画素領域にゲート信号線からの走
査信号によって作動される薄膜トランジスタと、この薄
膜トランジスタを介してドレイン信号線からの映像信号
が供給される画素電極と、この画素電極との間に電界を
発生せしめる対向電極とが形成され、前記対向電極は絶
縁膜を介して前記ドレイン信号線の走行方向に延在され
て重畳されているものを有し、前記ドレイン信号線はそ
の最下層の導電層の幅が最上層の導電層の幅よりも広
く、中間層の導電層の側壁面の幅は該最下層の導電層の
幅から最上層の導電層の幅にかけて変化しているととも
に、該側壁面に酸化被膜が形成されていることを特徴と
するものである。
【0020】手段8.本発明による液晶表示装置は、た
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線
とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複数のド
レイン信号線とを有し、これら各信号線によって囲まれ
た領域を画素領域とし、これら画素領域にゲート信号線
からの走査信号によって作動される薄膜トランジスタ
と、この薄膜トランジスタを介してドレイン信号線から
の映像信号が供給される画素電極と、対向電圧信号線を
介して前記映像信号に対して基準となる信号が供給され
る対向電極とが形成され、前記対向電圧信号線は、絶縁
膜を介して前記ゲート信号線の走行方向に延在されて重
畳されているものを有し、前記ゲート信号線はその走行
方向の各辺のうち少なくとも一方の辺の側壁面に該ゲー
ト信号線の下地層側へ末広がりとなるテーパが形成され
ていることを特徴とするものである。
【0021】
【発明の実施の形態】以下、本発明による液晶表示装置
の実施例を図面を用いて説明をする。 実施例1. 《等価回路》図2は本発明による液晶表示装置の一実施
例を示す等価回路図である。同図は回路図であるが、実
際の幾何学的配置に対応させて描いている。
【0022】同図において、液晶を介して互いに対向配
置される一対の透明基板SUB1、SUB2があり、該
液晶は一方の透明基板SUB1に対する他方の透明基板
SUB2の固定を兼ねるシール材SLによって封入され
ている。
【0023】シール材SLによって囲まれた前記一方の
透明基板SUB1の液晶側の面には、そのx方向に延在
しy方向に並設されたゲート信号線GLとy方向に延在
しx方向に並設されたドレイン信号線DLとが形成され
ている。
【0024】各ゲート信号線GLと各ドレイン信号線D
Lとで囲まれた領域は画素領域を構成するとともに、こ
れら各画素領域のマトリクス状の集合体は液晶表示部A
Rを構成するようになっている。
【0025】また、x方向に並設される各画素領域のそ
れぞれにはそれら各画素領域内に走行された共通の対向
電圧信号線CLが形成されている。この対向電圧信号線
CLは各画素領域の後述する対向電極CTに映像信号に
対して基準となる電圧を供給するための信号線となるも
のである。
【0026】各画素領域には、その片側のゲート信号線
GLからの走査信号によって作動される薄膜トランジス
タTFTと、この薄膜トランジスタTFTを介して片側
のドレイン信号線DLからの映像信号が供給される画素
電極PXが形成されている。
【0027】この画素電極PXは、前記対向電圧信号線
CLと接続された対向電極CTとの間に電界を発生さ
せ、この電界によって液晶の光透過率を制御させるよう
になっている。
【0028】前記ゲート信号線GLのそれぞれの一端は
前記シール材SLを超えて延在され、その延在端は垂直
走査駆動回路Vの出力端子が接続される端子を構成する
ようになっている。また、前記垂直走査駆動回路Vの入
力端子は液晶表示パネルの外部に配置されたプリント基
板からの信号が入力されるようになっている。
【0029】垂直走査駆動回路Vは複数個の半導体装置
からなり、互いに隣接する複数のゲート信号線どおしが
グループ化され、これら各グループ毎に一個の半導体装
置があてがわれるようになっている。
【0030】同様に、前記ドレイン信号線DLのそれぞ
れの一端は前記シール材SLを超えて延在され、その延
在端は映像信号駆動回路Heの出力端子が接続される端
子を構成するようになっている。また、前記映像信号駆
動回路Heの入力端子は液晶表示パネルの外部に配置さ
れたプリント基板からの信号が入力されるようになって
いる。
【0031】この映像信号駆動回路Heも複数個の半導
体装置からなり、互いに隣接する複数のドレイン信号線
どおしがグループ化され、これら各グループ毎に一個の
半導体装置があてがわれるようになっている。
【0032】また、前記対向電圧信号線CLはたとえば
図中右側の端部で共通に接続され、その接続線はシール
材SLを超えて延在され、その延在端において端子CL
Tを構成している。この端子CLTからは映像信号に対
して基準となる電圧が供給されるようになっている。
【0033】前記各ゲート信号線GLは、垂直走査回路
Vからの走査信号によって、その一つが順次選択される
ようになっている。
【0034】また、前記各ドレイン信号線DLのそれぞ
れには、映像信号駆動回路Heによって、前記ゲート信
号線GLの選択のタイミングに合わせて映像信号が供給
されるようになっている。
【0035】なお、上述した実施例では、垂直走査駆動
回路Vおよび映像信号駆動回路Heは透明基板SUB1
に搭載された半導体装置を示したものであるが、たとえ
ば透明基板SUB1とプリント基板との間を跨って接続
されるいわゆるテープキャリア方式の半導体装置であっ
てもよく、さらに、前記薄膜トランジスタTFTの半導
体層が多結晶シリコン(p−Si)から構成される場
合、透明基板SUB1面に前記多結晶シリコンからなる
半導体素子を配線層とともに形成されたものであっても
よい。
【0036】《画素の構成》図3は前記画素領域の構成
の一実施例を示す平面図である。また、図1は図3のI
−I線における断面図を、図4は図3のIV−IV線におけ
る断面図を示している。
【0037】各図において、透明基板SUB1の液晶側
の面に、まず、x方向に延在しy方向に並設される一対
のゲート信号線GLが形成されている。
【0038】これらゲート信号線GLは後述の一対のド
レイン信号線DLとともに矩形状の領域を囲むようにな
っており、この領域を画素領域として構成するようにな
っている。また、該ゲート信号線GLの形成と同時に、
各画素領域のたとえば中央にて該ゲート信号線GLと平
行に走行する対向電圧信号線CLが形成されている。
【0039】このようにゲート信号線GLおよび対向電
圧信号線CLが形成された透明基板SUB1の表面には
たとえばSiNからなる絶縁膜GI(図1、図4参照)
が該ゲート信号線GLおよび対向電圧信号線CLをも被
って形成されている。
【0040】この絶縁膜GIは、後述のドレイン信号線
DLの形成領域においては前記ゲート信号線GLに対す
る層間絶縁膜としての機能を、後述の薄膜トランジスタ
TFTの形成領域においてはそのゲート絶縁膜としての
機能を、後述の容量素子Cstgの形成領域においては
その誘電体膜の一つとしての機能を有するようになって
いる。
【0041】そして、この絶縁膜GIの表面であって、
前記ゲート信号線GLの一部に重畳するようにしてたと
えばアモルファスSiからなる半導体層ASが形成され
ている。
【0042】この半導体層ASは、薄膜トランジスタT
FTのそれであって、その上面にドレイン電極SD1お
よびソース電極SD2を形成することにより、ゲート信
号線の一部をゲート電極とする逆スタガ構造のMIS型ト
ランジスタを構成することができる。
【0043】ここで、前記ドイレン電極SD1およびソ
ース電極SD2はドレイン信号線DLの形成の際に同時
に形成されるようになっている。
【0044】すなわち、y方向に延在されx方向に並設さ
れるドレイン信号線DLが形成され、その一部が前記半
導体層ASの上面にまで延在されてドレイン電極SD1
が形成され、また、このドレイン電極SD1と薄膜トラ
ンジスタTFTのチャネル長分だけ離間されてソース電
極SD2が形成されている。
【0045】なお、このドレイン信号線DLは、その走
行方向の各辺の側壁面に該ドレイン信号線DLの絶縁膜
GI側へ末広がりとなるテーパが形成されたものとなっ
ているが、このように構成する理由については後述す
る。
【0046】また、このソース電極SD2は画素領域内
に形成される画素電極PXと一体に形成されている。
【0047】すなわち、画素電極PXは画素領域内をそ
のy方向に延在しx方向に並設された複数(図では2
本)の電極群から構成されている。このうちの一つの画
素電極PXの一方の端部は前記ソース電極SD2を兼
ね、他方の端部では他の画素電極PXの対応する個所に
て互いに電気的接続が図れるようになっている。
【0048】なお図示していないが、半導体層ASとド
レイン電極SD1およびソース電極SD2との界面には
高濃度の不純物がドープされた薄い層が形成され、この
層はコンタクト層として機能するようになっている。
【0049】このコンタクト層は、たとえば半導体層S
Dの形成時に、その表面にすでに高濃度の不純物層が形
成されており、その上面に形成したドレイン電極SD1
およびソース電極SD2のパターンをマスクとしてそれ
から露出された前記不純物層をエッチングすることによ
って形成することができる。
【0050】このように薄膜トランジスタTFT、ドイ
レン信号線DL、ドレイン電極SD1、ソース電極SD
2、および画素電極PXが形成された透明基板SUB1
の表面には保護膜PSV(図1、図4参照)が形成され
ている。この保護膜PSVは前記薄膜トランジスタTF
Tの液晶との直接の接触を回避する膜で、該薄膜トラン
ジスタTFTの特性劣化を防止せんとするようになって
いる。
【0051】そして、この保護膜PSVは、SiNのよ
うな無機材料層からなる保護膜PSV1と樹脂等の有機
材料層からなる保護膜PSV2の順次積層体から構成さ
れている。このように保護膜PSVとして有機材料層か
らなる保護膜PSV2を用いているのは保護膜自体の誘
電率を低減させることにある。
【0052】このことから、保護膜PSVの構成として
は、その一部に無機材料層を用いることなく、全て有機
材料層とするようにしてもよいことはいうまでもない。
【0053】保護膜PSVの上面には対向電極CTが形
成されている。この対向電極CTは前述の画素電極PX
と同様にy方向に延在されx方向に並設された複数(図
では3本)の電極群から構成され、かつ、それら各電極
は、平面的に観た場合、前記画素電極PXの間に位置付け
られるようになっている。
【0054】すなわち、対向電極CTと画素電極PX
は、一方の側のドレイン信号線から他方の側のドレイン
信号線にかけて、対向電極、画素電極、対向電極、画素
電極、……、対向電極の順にそれぞれ等間隔に配置され
ている。
【0055】ここで、画素領域の両側に位置づけられる
対向電極CTは、その一部がドレイン信号線DLに重畳
されて形成されているとともに、隣接する画素領域の対
応する対向電極CTと共通に形成されている。
【0056】換言すれは、ドレイン信号線DL上には対
向電極CTがその中心軸をほぼ一致づけて重畳され、該
対向電極CTの幅はドレイン信号線DLのそれよりも大
きく形成されている。ドレイン信号線DLに対して左側
の対向電極CTは左側の画素領域の各対向電極CTの一
つを構成し、右側の対向電極CTは右側の画素領域の各
対向電極CTの一つを構成するようになっている。
【0057】このようにドレイン信号線DLの上方にて
該ドレイン信号線DLよりも幅の広い対向電極CTを形
成することにより、該ドレイン信号線DLからの電気力
線が該対向電極CTに終端し画素電極PXに終端するこ
とを回避できるという効果を奏する。ドレイン信号線D
Lからの電気力線が画素電極PXに終端した場合、それ
がノイズとなってしまうからである。
【0058】電極群からなる各対向電極CTは、ゲート
信号線GLを充分に被って形成される同一の材料からな
る対向電圧信号線CLと一体的に形成され、この対向電
圧信号線CLを介して基準電圧が供給されるようになっ
ている。
【0059】なお、対向電極CTと対向電圧信号線CL
は、金属層のような非透光性材料で構成されていてもよ
く、また、たとえば、ITO (Indium Tin Oxide)、ITZO(I
ndium Tin Zinc Oxide)、IZO (Indium Zinc Oxide)等
のような透光性材料で構成されていてもよい。
【0060】ゲート信号線GLを充分に被って形成され
る対向電圧信号線CLは、そのゲート信号線GLからは
み出した部分において、その下層に前記各画素電極PX
の接続部が位置づけられ、これにより、画素電極PXと
対向電圧信号線CLとの間に絶縁膜GIと保護膜PSV
を誘電体膜とする容量素子Cstgが形成されている。
【0061】この容量素子Cstgは、たとえば画素電
極PXに供給された映像信号を比較的長く蓄積させる等
の機能をもたせるようになっている。
【0062】そして、このように対向電極CTが形成さ
れた透明基板SUB1の上面には該対向電極CTをも被
って配向膜ORI1が形成されている。この配向膜OR
I1は液晶と直接に当接する膜で、その表面に形成され
たラビングによって該液晶の分子の初期配向方向を決定
づけるようになっている。
【0063】なお、図3に示すように、各画素電極PX
および対向電極CTは、それぞれその長手方向に複数の
屈曲部を有してジグザグ状のパターンをなして構成され
ている。いわゆるマルチドメイン方式を採用した構成と
なっている。
【0064】すなわち、液晶はその分子配列が同じ状態
でも、液晶表示パネルに入射する光の入射方向によって
透過光の偏光状態が変化するので、入射方向に対応して
光の透過率が異なってしまう。
【0065】このような液晶表示パネルの視角依存性は
視角方向に対し視点を斜めに傾けると、輝度の逆転現象
を引き起こすことになり、カラー表示の場合に画像が色
づくという表示特性を有する。
【0066】このため、各電極の屈曲点を結んだ仮想の
線を境にし一方の領域と他方の領域とで各電極間に作用
する電界の方向を異ならしめ、これにより、視野角に依存
する画像の色づきを補償するようにしている。
【0067】このように構成した液晶表示装置は、ドレ
イン信号線DLがその長手方向に平行な各側壁面が下地
層側に末広がり状となるテーパが設けられた断面が台形
形状となる構成となっている。
【0068】また、このドレイン信号線DLはその上方
において保護膜PSVを介して形成された対向電極CT
に充分被われた構成となっている。
【0069】このことから、図5に示すように、ドレイ
ン信号線DLの頂部から該対向電極CTまでの距離がd
1とした場合、該ドレイン信号線DLの側壁面から該対
向電極CTまでの距離はd2となり、この値はd1より
も大きくなる。
【0070】このことは、保護膜PSVの膜厚を所定の
厚さに形成しなければならない制約、およびドレイン信
号線DLの全体の電気抵抗値を設定する必要からその断
面積を所定の値に設定しなければならない制約、さらに
画素領域の開口率向上のため該ドレイン信号線DLの幅
を所定の値に設定しなければならない制約下において、
ドレイン信号線DLと対向電極CTとの間の容量を低減
させることができることを意味する。
【0071】すなわち、ドレイン信号線DLと対向電極
CTとの間の容量を低減させるためには、まず、保護膜
PSVの厚さを大きくすることが考えられるが、それだ
け画素電極PXと対向電極CTとの間の電界強度が弱ま
り、駆動電圧を大きくしなければならないことから、そ
の厚さは制限されたものとなる。また、ドレイン信号線
DLの層厚を小さくする分だけ幅を大きくすることによ
り、該ドレイン信号線DLの電気抵抗値を確保するとと
もに、対向電極CTとの間の容量を低減しようとした場
合、それにともない該対向電極CTの幅も大きくせざる
を得ず(該対向電極CTはいわゆるシールド機能をもた
せているから)、画素領域の開口率が低下してしまうこ
とになる。
【0072】このことから、ドレイン信号線DLの構成
として、その断面積が設定されている場合、その底面の
幅Wに対して頂面の幅Wを小さくすることが効果的
となる。ドレイン信号線DLの頂面から対向電極CTま
での距離がdである領域よりも、側壁面から該対向電
極CTまでの距離がd(>d)である領域の方が面
積的に大きくなるからである。
【0073】なお、この場合においても、ドレイン信号
線DLの底面の幅Wは画素領域において得ようとする
所定の開口率によって制約されることはいうまでもな
い。
【0074】実施例2.この実施例は、実施例1に示し
た発明の趣旨から、ドレイン信号線DLの断面の形状は
必ずしも台形である必要はなく、たとえば、図6(a)
に示すように、ドレイン信号線DLの頂面に該ドレイン
信号線DLの長手方向に沿う凹陥部DENが形成されて
いてもよい。また、図6(b)に示すように、該凹陥部
DENは一つに限らす複数であってもよい。さらに、図
6(c)に示すように、該凹陥部DENの断面形状は特
定されるものではなく三角形状であってもよい。
【0075】要は、ドレイン信号線DLの対向電極CT
と対向する面において、該対向電極CTとの距離が少な
くとも2個以上の異なる領域を有するように構成されて
いれば、同様の効果を奏するようになる。
【0076】実施例3.図7は、本発明による液晶表示
装置の他の実施例を示す構成図で、図5に対応した図と
なっている。
【0077】図5の場合と比較して異なる構成は、ドレ
イン信号線DLは2層構造となっており、そのうち上層
の金属層UMLを利用して下層の金属層DMLの側壁面
にテーパを形成するようになっている。
【0078】ここで、上層の金属層としては、たとえば
Mo、Cr、MoW、MoCr、Ti、CrMo等が選
択され、下層の金属層としては、たとえばAl、AlN
d、AlSi、AlTa、AlTiTa、Cr等が選択
される。
【0079】図8は、上述したドレイン信号線の製造方
法の一実施例を示す工程図である。まず、図8(a)に
示すように、ドレイン信号線DLを形成すべく下地層の
上面に下層の金属層DMLおよび上層の金属層UMLを
順次形成する。この場合、上層の金属層UMLは下層の
金属層DMLよりもエッチングレートが早い材料となっ
ている。
【0080】そして、上層の金属層UMLの表面の全域
にフォトレジスト膜PREを形成し、周知のフォトリソ
グラフィ技術を用いてドレイン信号線DLを形成すべく
領域に該フォトレジスト膜PREを残存させる。
【0081】次に、図8(b)に示すように、残存され
たフォトレジスト膜PREをマスクとして前記上層およ
び下層の金属層UML、DMLを一括エッチングする。
【0082】まず、上層の金属層UMLが選択エッチン
グされ、下層の金属層DMLの表面が露出されるように
なる。そして、図8(c)に示すように、下層の金属層
DMLがエッチングされ、そのエッチングは、前図8
(d)に示すように、前記下地層の表面が露出されるま
で行われる。
【0083】この場合、前記フォトレジスト膜PREの
下方にて残存される下層の金属層DMLの側壁面には下
地層側に末広がり状のテーパが形成されるようになる。
【0084】その後、図8(e)に示すように、前記フ
ォトレジスト膜PREを除去することにより、ドレイン
信号線DLの形成が完了する。
【0085】実施例4.図9は、本発明による液晶表示
装置の他の実施例を示す構成図で、図5に対応した図と
なっている。
【0086】図5の場合と比較して異なる構成は、ドレ
イン信号線は3層構造の金属層から構成され、その最下
層の金属層DMLの幅がW、最上層の金属層UMLの
幅がW(W2>W1)となっており、中間層の金属層
MMLの幅は最下層の金属層DML側から最上層の金属
層UML側へかけてWからWへ変化するテーパが形
成されている。
【0087】また、中間層の金属層MMLはAlまたは
Alの合金から構成され、他の金属層UML、DMLは
それ以外の金属またはその合金から構成されている。
【0088】この場合、他の金属層UML、DMLはA
lまたはAlの合金の酸化を抑制できるような金属また
はその合金であることが望ましい。けだし、Alまたは
Alの合金は酸化されやすく、ドレイン信号線の入力端
子部においての接続抵抗が増大してしまい、映像信号の
波形歪みをもたらす原因となるからである。
【0089】実施例5.図10は、本発明による液晶表
示装置の他の実施例を示す構成図であり、図3のX−X
線に示す断面図に相当している。
【0090】本実施例は、前記ドレイン信号線DLを実
施例2で示したように3層構造とするとともに、該ドレ
イン信号線DLの形成と同時に、対向電圧信号線CLと
対向電極CTとの接続を図る介在層INVを形成として
いることにある。
【0091】ここで、この介在層INVはドレイン信号
線DLと同様の金属からなる積層構造からなるが、この
場合の最上層および最下層の各金属UML、DMLは、
それぞれ対向電極CTおよび対向電圧信号線CLとのコ
ンタクトの向上を目的として選定されてもよい。
【0092】たとえば最下層および最上層の各金属DM
L、UMLはMoZrとし、この場合、MoよりZrの
方が少ないことが望ましい。具体的にはMo−8wt%
Zrが好ましい。また、中間層の金属はAlNdとし、
この場合、AlよりNdの方が少ないことが望ましい。
具体的にはAl−9.8wt%Ndが好ましい。また、
Zr、Ndの代わりに、いわゆる希土類元素であっても
同様の効果を奏する。
【0093】そして、最上層および最上層の各金属UM
L、DMLの膜厚は中間層の金属層MMLのそれよりも
薄いことが望ましい。低抵抗化と形状による容量の低減
効果を向上させるためである。このことから、中間層の
金属層MMLの膜厚が最上層の金属層UMLのそれより
も4倍以上あることが好ましい。
【0094】実施例6.この実施例は、実施例5で示し
たように、三層構造からなるドレイン信号線DLにおい
て、図11に示すように、そのテーパの面に酸化皮膜O
XLを形成していることにある。Alあるいはその合金
からなる中間層の金属層MMLが露呈しており、ここか
らヒロックが発生するのを防止するためである。
【0095】これにより、中間層の配線抵抗が経時変化
で酸化され、時間とともにドレイン信号線DLの配線抵
抗が変動することを防止でき、信頼性が向上する。
【0096】ここで、前記酸化皮膜OXLはたとえば次
のような方法で形成することができる。まず、側壁面に
テーパが形成された三層構造からなるドレイン信号線D
Lを、酸素プラズマ処理によって該テーパの側壁面に酸
化皮膜OXLを形成する。この場合、最上層の金属層U
MLの材料としては非Al系の金属であることが望まし
い。接続抵抗の増大を防止するためである。
【0097】また、他の方法として、いわゆる陽極化成
処理を行う。すなわち、基板上に中間層としてAl系金
属を用いその側壁面にテーパが形成された三層構造から
なるドレイン信号線DLを形成した後、該基板を電解溶
液に浸し、該ドレイン信号線DLを陽極として陰極とな
る別の金属板を該電解溶液に同時に浸す。そして、陽極
および陰極に通電することにより、前記テーパの側壁面
に陽極酸化膜OXLを形成する。この場合においても、
最上層の金属層UMLの材料は非Al系の金属であるこ
とが望ましい。
【0098】さらに、他の方法として、側壁面にテーパ
が形成された三層構造からなるドレイン信号線DLを酸
素が存在する雰囲気中で加熱することにより、該側壁面
に熱酸化膜を形成する。この場合の加熱は100℃以下
であることが望ましい。
【0099】このような加熱によって、多層構造のドレ
イン信号線DL内に生じる応力を緩和することができ、
このことは、長期間に渡る使用後の応力断線を低減でき
ることになる。
【0100】なお、この方法は、上述した2つの他の方
法とともに用いてもよい。加熱工程を加えることによ
り、ドレイン信号線DL内に生じる応力を緩和できるか
らである。
【0101】実施例7.この実施例では、図12に示す
ように、ドレイン信号線DLは、従来と同様に、その断
面を矩形状のままにしておき、その上方の対向電極CT
の下地層となる保護膜PSVの表面の該対向電極CT
(少なくとも当該ドレイン信号線と重畳する対向電極)
が形成された領域を除く領域に凹陥部が形成された構造
とするようにしてもよい。
【0102】このような保護膜PSVはいわゆるハーフ
露光方式を用いたフォトリソグラフィ技術によって工程
数を増大させることなく形成することができる。
【0103】このような構成とすることによっても、ド
レイン信号線DLと対向電極CTとの間の距離を増大さ
せることができるので、それらの間の容量を低減させる
ことができる。
【0104】実施例8.この実施例は、図13に示すよ
うに、実施例7に示した構成を前提とし、ドレイン信号
線DLをその側壁面にテーパを形成するようにしたもの
である。このようにすることによって、ドレイン信号線
DLと対向電極CTとの間の容量をさらに低減させるこ
とができる。
【0105】また、このようにした場合であっても、ド
レイン信号線DLを多層構造とし上述した実施例で示し
た効果を奏するようにしてもよい。
【0106】実施例9.上述した各実施例では、ドレイ
ン信号線DLを対象として本発明を説明したものである
が、これに限定されず、ゲート信号線GLにおいても適
用できることはいうまでもない。
【0107】ゲート信号線GLの上方に対向電極CTと
接続される対向電圧信号線CLが存在すれば、それらの
間の容量が不都合となって事情は同じだからである。
【0108】実施例10.なお、上述した実施例におい
て、ドレイン信号線DLあるいはゲート信号線GLにお
いて、その側壁面に形成されるテーパは該信号線の走行
方向の各辺の側壁面に形成されたものであるが、これに
限定されることはなく、それらのうちの一方のみであっ
てもよいことはいうまでもない。
【0109】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明による液晶表示装置によれば、たとえばドレイン
信号線の対向電極に対する容量を低減させることができ
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明による液晶表示装置の画素の一実施例を
示す断面図である。
【図2】本発明による液晶表示装置の一実施例を示す等
価回路図である。
【図3】本発明による液晶表示装置の画素の一実施例を
示す平面図である
【図4】図3のIV−IV線における断面図である。
【図5】本発明による液晶表示装置の画素の要部の一実
施例を示す断面図である。
【図6】本発明による液晶表示装置のドレイン信号線の
他の実施例を示す断面図である。
【図7】本発明による液晶表示装置の画素の要部の一実
施例を示す断面図である。
【図8】本発明による液晶表示装置の製造方法の一実施
例を示す工程図である。
【図9】本発明による液晶表示装置の画素の要部の一実
施例を示す断面図である。
【図10】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施
例を示す断面図である。
【図11】本発明による液晶表示装置のドレイン信号線
の他の実施例を示す断面図である。
【図12】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施
例を示す断面図である。
【図13】本発明による液晶表示装置の画素の他の実施
例を示す断面図である。
【符号の説明】
SUB…透明基板、GL…ゲート信号線、DL…ドレイ
ン信号線、CL…対向電圧信号線、TFT…薄膜トラン
ジスタ、PX…画素電極、CT…対向電極。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H01L 21/3205 H01L 21/88 A 21/3213 C 29/786 29/78 612C (72)発明者 川村 徹也 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 (72)発明者 柳川 和彦 千葉県茂原市早野3300番地 株式会社日立 製作所ディスプレイグループ内 Fターム(参考) 2H092 JA24 JA34 JA37 JA41 JB11 JB24 JB33 JB56 JB57 KB04 KB13 KB24 KB25 MA13 MA18 NA01 NA22 NA23 5C094 AA13 BA03 BA43 CA19 DA14 DA15 DB01 DB04 EA04 EA07 5F033 HH08 HH09 HH10 HH17 HH18 HH20 HH38 JJ01 JJ08 JJ09 JJ10 JJ17 JJ18 JJ20 KK04 MM05 MM08 NN03 QQ08 QQ10 QQ18 QQ34 QQ59 QQ65 RR06 RR21 VV03 VV15 XX10 XX16 XX19 XX20 XX24 5F110 AA02 BB01 CC07 FF03 GG02 GG15 HK03 HK04 HK06 HK09 HK21 HK22 HM02 HM03 HM19 NN03 NN22 NN27

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 液晶を介して対向配置される各基板のう
    ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
    信号線とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複
    数のドレイン信号線とを有し、 これら各信号線によって囲まれた領域を画素領域とし、
    これら画素領域にゲート信号線からの走査信号によって
    作動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタ
    を介してドレイン信号線からの映像信号が供給される画
    素電極と、この画素電極との間に電界を発生せしめる対
    向電極とが形成され、 前記対向電極は絶縁膜を介して前記ドレイン信号線の走
    行方向に延在されて重畳されているものを有し、前記ド
    レイン信号線は前記対向電極CTと対向する面にて、該
    対向電極CTとの距離が少なくとも2個以上の異なる領
    域を有するように構成されていることを特徴とする液晶
    表示装置。
  2. 【請求項2】 液晶を介して対向配置される各基板のう
    ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
    信号線とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複
    数のドレイン信号線とを有し、 これら各信号線によって囲まれた領域を画素領域とし、
    これら画素領域にゲート信号線からの走査信号によって
    作動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタ
    を介してドレイン信号線からの映像信号が供給される画
    素電極と、この画素電極との間に電界を発生せしめる対
    向電極とが形成され、 前記対向電極は絶縁膜を介して前記ドレイン信号線の走
    行方向に延在されて重畳されているものを有し、前記ド
    レイン信号線はその走行方向の各辺のうち少なくとも一
    方の側壁面に該ドレイン信号線の下地層側へ末広がりと
    なるテーパが形成されていることを特徴とする液晶表示
    装置。
  3. 【請求項3】 液晶を介して対向配置される各基板のう
    ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
    信号線とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複
    数の2層の導電層構造からなるドレイン信号線とを有
    し、 これら各信号線によって囲まれた領域を画素領域とし、
    これら画素領域にゲート信号線からの走査信号によって
    作動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタ
    を介してドレイン信号線からの映像信号が供給される画
    素電極と、この画素電極との間に電界を発生せしめる対
    向電極とが形成され、 前記対向電極は絶縁膜を介して前記ドレイン信号線の走
    行方向に延在されて重畳されているものを有し、前記ド
    レイン信号線はその下層側の導電層にてその走行方向の
    各辺のうち少なくとも一方の側壁面に該ドレイン信号線
    の下地層側へ末広がりとなるテーパが形成されているこ
    とを特徴とする液晶表示装置。
  4. 【請求項4】 液晶を介して対向配置される各基板のう
    ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
    信号線とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複
    数のドレイン信号線とを有し、 該ドレイン信号線は下層の導電層がAlあるいはその合
    金からなる2層構造となっており、 前記各信号線によって囲まれた領域を画素領域とし、こ
    れら画素領域にゲート信号線からの走査信号によって作
    動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを
    介してドレイン信号線からの映像信号が供給される画素
    電極と、この画素電極との間に電界を発生せしめる対向
    電極とが形成され、 前記対向電極は絶縁膜を介して前記ドレイン信号線の走
    行方向に延在されて重畳されているものを有し、前記ド
    レイン信号線はその下層の導電層にてその走行方向の各
    辺のうち少なくとも一方の側壁面に該ドレイン信号線の
    下地層側へ末広がりとなるテーパが形成されていること
    を特徴とする液晶表示装置。
  5. 【請求項5】 液晶を介して対向配置される各基板のう
    ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
    信号線とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複
    数の2層の導電層構造からなるドレイン信号線とを有
    し、 これら各信号線によって囲まれた領域を画素領域とし、
    これら画素領域にゲート信号線からの走査信号によって
    作動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタ
    を介してドレイン信号線からの映像信号が供給される画
    素電極と、この画素電極との間に電界を発生せしめる対
    向電極とが形成され、 前記対向電極は絶縁膜を介して前記ドレイン信号線の走
    行方向に延在されて重畳されているものを有し、前記ド
    レイン信号線はその上層の導電膜をマスクとして下層の
    導電層をエッチングすることにより該下層の導電膜の側
    壁面に該ドレイン信号線の下地層側へ末広がりとなるテ
    ーパが形成されていることを特徴とする液晶表示装置。
  6. 【請求項6】 液晶を介して対向配置される各基板のう
    ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
    信号線とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複
    数のドレイン信号線とを有し、 該ドレイン信号線は中間層がAlあるいはその合金の導
    電層からなり最上層および最下層がAlあるいはその合
    金以外の導電層からなる3層構造となっており、 前記各信号線によって囲まれた領域を画素領域とし、こ
    れら画素領域にゲート信号線からの走査信号によって作
    動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを
    介してドレイン信号線からの映像信号が供給される画素
    電極と、この画素電極との間に電界を発生せしめる対向
    電極とが形成され、 前記対向電極は絶縁膜を介して前記ドレイン信号線の走
    行方向に延在されて重畳されているものを有し、前記ド
    レイン信号線はその最下層の導電層の幅が最上層の導電
    層の幅よりも広く、中間層の導電層の幅は該最下層の導
    電層の幅から最上層の導電層の幅にかけて変化している
    ことを特徴とする液晶表示装置。
  7. 【請求項7】 液晶を介して対向配置される各基板のう
    ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
    信号線とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複
    数のドレイン信号線とを有し、 該ドレイン信号線は中間層がAlあるいはその合金の導
    電層からなり最上層および最下層がAlあるいはその合
    金以外の導電層からなる3層構造となっており、 前記各信号線によって囲まれた領域を画素領域とし、こ
    れら画素領域にゲート信号線からの走査信号によって作
    動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタを
    介してドレイン信号線からの映像信号が供給される画素
    電極と、この画素電極との間に電界を発生せしめる対向
    電極とが形成され、 前記対向電極は絶縁膜を介して前記ドレイン信号線の走
    行方向に延在されて重畳されているものを有し、前記ド
    レイン信号線はその最下層の導電層の幅が最上層の導電
    層の幅よりも広く、中間層の導電層の側壁面の幅は該最
    下層の導電層の幅から最上層の導電層の幅にかけて変化
    しているとともに、該側壁面に酸化被膜が形成されてい
    ることを特徴とする液晶表示装置。
  8. 【請求項8】 液晶を介して対向配置される各基板のう
    ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
    信号線とこれら各ゲート信号線と交差して並設された複
    数のドレイン信号線とを有し、 これら各信号線によって囲まれた領域を画素領域とし、
    これら画素領域にゲート信号線からの走査信号によって
    作動される薄膜トランジスタと、この薄膜トランジスタ
    を介してドレイン信号線からの映像信号が供給される画
    素電極と、対向電圧信号線を介して前記映像信号に対し
    て基準となる信号が供給される対向電極とが形成され、 前記対向電圧信号線は、絶縁膜を介して前記ゲート信号
    線の走行方向に延在されて重畳されているものを有し、
    前記ゲート信号線はその走行方向の各辺のうち少なくと
    も一方の辺の側壁面に該ゲート信号線の下地層側へ末広
    がりとなるテーパが形成されていることを特徴とする液
    晶表示装置。
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