JP2003149664A - 液晶表示装置 - Google Patents
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Abstract
ち一方の基板の液晶側の画素領域に、ゲート信号線から
の走査信号により動作する第1のスイッチング素子およ
び第2のスイッチング素子と、第1のドレイン信号線か
ら前記第1のスイッチング素子を介して映像信号が供給
される第1の画素電極と、第2のドレイン信号線から前
記第2のスイッチング素子を介して映像信号が供給され
る第2の画素電極とを備えるとともに、少なくとも前記
第1および第2の各画素電極よりも一方の基板側に該第
1および第2の各画素電極と絶縁されて反射膜を備える
Description
り、たとえば反射型と称される液晶表示装置に関する。
えば太陽光等の外来光を液晶に透過させた後に該液晶の
背面に配置された反射膜で反射させ、該液晶の光透過率
に応じた光量の反射光を観察するようになっている。
配置される一対の基板を外囲器とし、該液晶の広がり方
向に多数の画素が形成されて構成され、それぞれの画素
にはその部分の液晶の光透過率を制御させるための電界
発生手段が組み込まれている。
成において、観察する側の基板と異なる他の基板の液晶
側の面に反射膜が形成されて構成されている。
等の光照射手段を不用とすることから低電力化の面で優
れている。
晶表示装置においても、液晶の光透過率を制御させるた
めの電界発生手段に電力を供給させなければならず、そ
の電力の低減を図ることによってさらなる低電力化を図
ることが要望されるに至った。
れたもので、その目的はさらなる低消費電力の液晶表示
装置を提供することにある。
発明のうち、代表的なものの概要を簡単に説明すれば、
以下のとおりである。 手段1.本発明による液晶表示装置は、たとえば、液晶
を介して対向配置される各基板のうち一方の基板の液晶
側の画素領域に、ゲート信号線からの走査信号により動
作する第1のスイッチング素子および第2のスイッチン
グ素子と、第1のドレイン信号線から前記第1のスイッ
チング素子を介して映像信号が供給される第1の画素電
極と、第2のドレイン信号線から前記第2のスイッチン
グ素子を介して映像信号が供給される第2の画素電極と
を備えるとともに、少なくとも前記第1および第2の各
画素電極よりも一方の基板側に該第1および第2の各画
素電極と絶縁されて反射膜を備えることを特徴とするも
のである。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の画素領域に、ゲート信号線からの走査
信号により動作する多結晶Siからなる第1の薄膜トラ
ンジスタおよび第2の薄膜トランジスタと、第1のドレ
イン信号線から前記第1の薄膜トランジスタを介して映
像信号が供給される第1の画素電極と、第2のドレイン
信号線から前記第2の薄膜トランジスタを介して映像信
号が供給される第2の画素電極とを備えるとともに、少
なくとも前記第1および第2の各画素電極よりも一方の
基板側に該第1および第2の各画素電極と絶縁されて反
射膜を備えることを特徴とするものである。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線
とこれらゲート信号線に交差して並設された複数のドレ
イン信号線で囲まれた各領域を画素領域とし、これら各
画素領域に、一方の側のゲート信号線からの走査信号に
より動作する第1のスイッチング素子および第2のスイ
ッチング素子と、第1のドレイン信号線から前記第1の
スイッチング素子を介して映像信号が供給される第1の
画素電極と、第2のドレイン信号線から前記第2のスイ
ッチング素子を介して映像信号が供給される第2の画素
電極と、前記一方の側のゲート信号線と異なるゲート信
号線であって当該画素領域を画する他のゲート信号線に
ゲート電極が接続されドレイン電極およびソース電極の
うち一方が前記第1の画素電極と接続された第3のスイ
ッチング素子と、前記一方の側のゲート信号線と異なる
ゲート信号線であって当該画素領域を画する他のゲート
信号線にゲート電極が接続されドレイン電極およびソー
ス電極のうち一方が前記第2の画素電極と接続された第
4のスイッチング素子と、を備えるとともに、少なくと
も前記第1および第2の各画素電極よりも一方の基板側
に該第1および第2の各画素電極と絶縁されて反射膜を
備え、この反射膜には前記第3のスイッチング素子のド
レイン電極およびソース電極のうち他方が接続されてい
るとともに、前記第4のスイッチング素子のドレイン電
極およびソース電極のうち他方が接続されていることを
特徴とするものである。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線
とこれらゲート信号線に交差して並設された複数のドレ
イン信号線で囲まれた各領域を画素領域とし、これら各
画素領域に、一方の側のゲート信号線からの走査信号に
より動作する多結晶Siからなる第1の薄膜トランジス
タおよび第2の薄膜トランジスタと、第1のドレイン信
号線から前記第1の薄膜トランジスタを介して映像信号
が供給される第1の画素電極と、第2のドレイン信号線
から前記第2の薄膜トランジスタを介して映像信号が供
給される第2の画素電極と、前記一方の側のゲート信号
線と異なるゲート信号線であって当該画素領域を画する
他のゲート信号線にゲート電極が接続されドレイン電極
およびソース電極のうち一方が前記第1の画素電極と接
続された第3の薄膜トランジスタと、前記一方の側のゲ
ート信号線と異なるゲート信号線であって当該画素領域
を画する他のゲート信号線にゲート電極が接続されドレ
イン電極およびソース電極のうち一方が前記第2の画素
電極と接続された第4の薄膜トランジスタと、を備える
とともに、少なくとも前記第1および第2の各画素電極
よりも一方の基板側に該第1および第2の各画素電極と
絶縁されて反射膜を備え、この反射膜には前記第3の薄
膜トランジスタのドレイン電極およびソース電極のうち
他方が接続されているとともに、前記第4の薄膜トラン
ジスタのドレイン電極およびソース電極のうち他方が接
続されていることを特徴とするものである。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線
とこれらゲート信号線に交差して並設された複数のドレ
イン信号線で囲まれた各領域を画素領域とし、これら各
画素領域に、一方の側のゲート信号線からの走査信号に
より動作する第1のスイッチング素子および第2のスイ
ッチング素子と、一方の側のドレイン信号線から前記第
1のスイッチング素子を介して映像信号が供給される第
1の画素電極と、共通信号線から前記第2のスイッチン
グ素子を介して映像信号が供給される第2の画素電極
と、前記一方の側のゲート信号線と異なるゲート信号線
であって当該画素領域を画する他のゲート信号線にゲー
ト電極が接続されドレイン電極およびソース電極のうち
一方が前記第1の画素電極と接続された第3のスイッチ
ング素子と、前記一方の側のゲート信号線と異なるゲー
ト信号線であって当該画素領域を画する他のゲート信号
線にゲート電極が接続されドレイン電極およびソース電
極のうち一方が前記第2の画素電極と接続された第4の
スイッチング素子と、を備えるとともに、少なくとも前
記第1および第2の各画素電極よりも一方の基板側に該
第1および第2の各画素電極と絶縁されて反射膜を備
え、この反射膜には前記第3のスイッチング素子のドレ
イン電極およびソース電極のうち他方が接続されている
とともに、前記第4のスイッチング素子のドレイン電極
およびソース電極のうち他方が接続されていることを特
徴とするものである。
とえば、液晶を介して対向配置される各基板のうち一方
の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート信号線
とこれらゲート信号線に交差して並設された複数のドレ
イン信号線で囲まれた各領域を画素領域とし、これら各
画素領域に、一方の側のゲート信号線からの走査信号に
より動作する多結晶Siからなる第1の薄膜トランジス
タおよび第2の薄膜トランジスタと、一方の側のドレイ
ン信号線から前記第1の薄膜トランジスタを介して映像
信号が供給される第1の画素電極と、共通信号線から前
記第2の薄膜トランジスタを介して映像信号が供給され
る第2の画素電極と、前記一方の側のゲート信号線と異
なるゲート信号線であって当該画素領域を画する他のゲ
ート信号線にゲート電極が接続されドレイン電極および
ソース電極のうち一方が前記第1の画素電極と接続され
た多結晶Siからなる第3の薄膜トランジスタと、前記
一方の側のゲート信号線と異なるゲート信号線であって
当該画素領域を画する他のゲート信号線にゲート電極が
接続されドレイン電極およびソース電極のうち一方が前
記第2の画素電極と接続された多結晶Siからなる第4
の薄膜トランジスタと、を備えるとともに、少なくとも
前記第1および第2の各画素電極よりも一方の基板側に
該第1および第2の各画素電極と絶縁されて反射膜を備
え、この反射膜には前記第3の薄膜トランジスタのドレ
イン電極およびソース電極のうち他方が接続されている
とともに、前記第4の薄膜トランジスタのドレイン電極
およびソース電極のうち他方が接続されていることを特
徴とするものである。
とえば、手段1ないし6のうちいずれかの構成を前提と
して、反射膜は光透過も兼ねる反射膜として構成されて
いることを特徴とするものである。
とえば、手段1ないし6のうちいずれかの構成を前提と
して、反射膜が形成された領域にその切欠きあるいは開
口が設けられ、その切欠きあるいは開口部に該反射膜と
電気的に接続された透光性の導電膜が形成されているこ
とを特徴とするものである。
とえば、手段1ないし8のうちいずれかの構成を前提と
して、反射膜に各画素領域のそれと共通に基準電圧信号
が供給されることを特徴とするものである。
の実施例を図面を用いて説明をする。 実施例1. 《等価回路》図2は、本発明による液晶表示装置の一実
施例を示す等価回路である。同図は等価回路であるが、
実際の幾何学的配置に対応づけて描いている。
置される一対の透明基板SUB1、SUB2があり、該
液晶は一方の透明基板SUB1に対する他方の透明基板
SUB2の固定を兼ねるシール材SLによって封入され
ている。
透明基板SUB1の液晶側の面には、そのx方向に延在
しy方向に並設されたゲート信号線GLとy方向に延在
しx方向に並設されたドレイン信号線DLとが形成され
ている。
Lとで囲まれた領域(たとえば図中丸印で囲まれた領
域)は画素領域を構成するとともに、これら各画素領域
のマトリクス状の集合体は液晶表示部ARを構成するよ
うになっている。
ず、ゲート信号線GLにゲート電極が接続された第1の
薄膜トランジスタTFT1と第2の薄膜トランジスタT
FT2が形成されている。これら各薄膜トランジスタT
FTはそのいずれも多結晶Si(poly-Si)からなる半
導体層で形成されたものとなっている。
レイン電極が図中左側の第1のドレイン信号線DL1に
接続され、そのソース電極は第1の画素電極PX1に接
続されている。
はそのドレイン電極が図中右側の第2のドレイン信号線
DL2に接続され、そのソース電極は第2の画素電極P
X2に接続されている。
X2はそれぞれ1方向(図ではy方向)に延在された帯
状の複数の電極から構成され、それらは交互に配置され
ている。
の一端側(図では上端)において共通に接続され、その
全てが前記第1の薄膜トランジスタTFT1のソース電
極と同電位になるように構成され、また、複数からなる
第2の各画素電極PX2はその一端側(図では下端)に
おいて共通に接続され、その全てが前記第2の薄膜トラ
ンジスタTFT2のソース電極と同電位になるように構
成されている。
X2には、それぞれ第1の薄膜トランジスタTFT1を
介してドレイン信号線DL1からの映像信号および第2
の薄膜トランジスタTFT2を介してドレイン信号線D
L2からの映像信号が供給され、これら各映像信号の電
圧差に応じた第1の画素電極PX1と第2の画素電極P
X2の間の電界によって液晶の光透過率が制御されるよ
うになっている。
画素電極PX2が形成された領域、換言すれば、画素領
域の周辺を除く中央の部分において、該第1の画素電極
PX1と第2の画素電極PX2の下層に絶縁膜を介して
反射膜REが形成されている。
各画素電極PXによって光透過率の制御された液晶に入
射された太陽光等の外来光を観察者側に反射させるため
の金属膜から構成され、この金属膜は他の画素領域のそ
れと同様に一定の基準電圧信号が供給されるようになっ
ている。
とも一端は前記シール材SLを超えて延在され、その延
在端は垂直走査駆動回路Vに接続されている。この垂直
走査駆動回路Vは透明基板SUB1の上面に形成された
多数の半導体装置およびこれら半導体装置を接続させる
配線から構成され、該半導体装置はその半導体が多結晶
Si(poly-Si)で形成されている。
れの一端は前記シール材SLを超えて延在され、その延
在端は映像信号駆動回路Heに接続されている。この映
像信号駆動回路Heも透明基板SUB1の上面に形成さ
れた多数の半導体装置およびこれら半導体装置を接続さ
せる配線から構成され、該半導体装置はその半導体が多
結晶Si(poly-Si)で形成されている。
駆動回路Heの各半導体装置はその構成が液晶表示部A
Rにて形成される薄膜トランジスタTFTとほぼ同様と
なっていることから、製造時においては該薄膜トランジ
スタTFTと並行して形成されるのが通常となってい
る。
Vからの走査信号によって、その一つが順次選択される
ようになっている。また、前記各ドレイン信号線DLの
それぞれには、映像信号駆動回路Heによって、前記ゲ
ート信号線GLの選択のタイミングに合わせて映像信号
が供給されるようになっている。
射膜に印加される基準電圧に対して、第1の画素電極P
X1に供給される映像信号と第2の画素電極PX2に供
給される映像信号は、それぞれ+方向および−方向に絶
対値が等しい信号で与えられ、それらの電圧差によって
第1の画素電極PX1と第2の画素電極PX2との間に
電界を生じせしめることができる。
像信号の出力は従来の1/2で済み、その電力消費を少
なくすることができる。
回路に対応する画素の一実施例を示す平面図である。ま
た、図4は図3のIV−IV線における断面図を示してい
る。
表面にて島状の領域として形成された多結晶Si層PS
がある。この多結晶Si層PSは薄膜トランジスタTF
T1、薄膜トランジスタTFT2を構成する半導体層と
なるものである。
結晶Si層をも被って絶縁膜が形成されている。この絶
縁膜は薄膜トランジスタTFTのゲート絶縁膜としての
機能を有するようになっている。
形成され、このゲート信号線GLの一部は前記多結晶S
i層PSの中央を跨るようにして延在されている。この
延在部は薄膜トランジスタTFT1、2のそれぞれのゲ
ート電極GTとして機能するものである。
透明基板SUB1の表面には絶縁膜が形成されている。
この絶縁膜は後に説明するドレイン信号線DL1、2の
ゲート信号線GLに対する層間絶縁膜としての機能を有
するものである。
レイン信号線DL1、2が形成されている。このドレイ
ン信号線DL1、2は前記絶縁膜に予め形成されたコン
タクトホールを通して前記薄膜トランジスタTFT1、
2の各ドレイン領域に接続されるようになっている。
成の際に同時に形成されるソース電極およびその延在部
が形成されている。該ソース電極は前記絶縁膜に予め形
成されたコンタクトホールを通して前記薄膜トランジス
タTFT1、2の各ソース領域に接続されるようになっ
ている。なお、前記延在部は後に説明する画素電極PX
との接続を図るためのコンタクト部CNとなるものであ
る。
成の際に同時に形成される反射膜REが形成されてい
る。この反射膜REはゲート信号線GLとドレイン信号
線DLとで囲まれる画素領域の周辺を除く中央部の全域
に形成され、たとえば光反射効率の良好なAlあるいは
その合金、Agあるいはその合金が選定される。
ける反射膜REと共通に接続され、各画素領域に共通な
基準電圧信号が印加されるようになっている。
PX1および第2の画素電極PX2からなる電極群の外
周枠をはみ出る程度に形成するのが望ましい。ドレイン
信号線DL1、2からの電気力線がこの反射膜REに終
端させやすくでき、前記各画素電極PXに終端させにく
くできるからである。
反射膜REをも被って透明基板SUB1の表面には絶縁
膜INが形成され、この絶縁膜INの上面には画素電極
PX1、2が形成されている。これら画素電極PX1、
2は、それぞれ前記絶縁膜INに予め形成されたコンタ
クトホールを通して薄膜トランジスタTFT1、2のソ
ース電極の延在部の一部に接続されている。
UB1の表面には平坦化膜COが形成され、この平坦化
膜COの表面には配向膜ORI1が形成されている。こ
の配向膜ORI1はそれに直接に接触する液晶の分子の
初期配向方向を決定づけるようになっている。
板SU2の液晶側の面には配向膜ORI2が形成され、
液晶と反対側の面には位相差板PHおよび偏光板POL
が順次貼付されている。
装置の他の実施例を示す画素の等価回路で、図1に対応
した図となっている。また、図5は、図1と異なり、ド
レイン信号線DLに沿って形成された2個の画素を示し
ている。
素領域内に第1の薄膜トランジスタTFT1、第2の薄
膜トランジスタTFT2の他に、第3の薄膜トランジス
タTFT3、第4の薄膜トランジスタTFT4が設けら
れている。
電極は、前記第1の薄膜トランジスタTFT1、第2の
薄膜トランジスタTFT2が接続されるゲート信号線G
Lと異なるゲート信号線GLであって当該画素領域を画
する他のゲート信号線GLに接続され、そのドレイン電
極およびソース電極のうち一方が第1の画素電極PX1
に接続され他方が反射膜に接続されている。
のゲート電極も、前記第1の薄膜トランジスタTFT
1、第2の薄膜トランジスタTFT2が接続されるゲー
ト信号線GLと異なるゲート信号線GLであって当該画
素領域を画する他のゲート信号線GLに接続され、その
ドレイン電極およびソース電極のうち一方が第2の画素
電極PX2に接続され他方が前記反射膜に接続されてい
る。
素電極PX1、第2の画素電極PX2、反射膜の間の容
量を考慮した等価回路を図6に示す。図6において、第
1の電極容量C1、第2の電極容量C2は、第1の画素
電極PX1、第2の画素電極PX2、反射膜の間の容量
を示している。
第3の薄膜トランジスタTFT3、第4の薄膜トランジ
スタTFT4がオン状態となり、第1の電極容量C1、
第2の電極容量C2の電荷を放電する。
択、ゲート信号線GL(2)が選択されると、第3の薄
膜トランジスタTFT3、第4の薄膜トランジスタTF
T4がオフ状態、第1の薄膜トランジスタTFT1、第
2の薄膜トランジスタTFT2がオン状態になる。
電極容量C2には、それぞれ、第1のドレイン信号線、
第2のドレイン信号線からの映像信号によって充電がな
される。
極容量C2は直列接続されているので、前記反射膜が接
続されるその接続点の電圧は、第1の画素電極PX1、
第2の画素電極PX2のそれぞれの電圧値の平均した値
となる。
に第1のドレイン信号線、第2のドレイン信号線のそれ
ぞれに供給される映像信号の平均値に制御されることに
なる。
のドレイン信号線のそれぞれに供給する映像信号は必ず
しも逆極性である必要はなく、一方のドレイン信号線に
基準信号(共通信号)を供給し、他方のドレイン信号線
に該基準信号に対して電圧差を有する映像信号を供給す
ることができる。このため、ドレイン信号線を駆動する
映像信号駆動回路Heの信号出力は実施例1の1/2に
することができる。
装置の他の実施例を示す画素の等価回路で、図5に対応
した図となっている。
のドレイン信号線(図では第2のドレイン信号線)をな
くし、それに接続されていた第2の薄膜トランジスタT
FT2のドレイン電極を新たに形成した共通信号線CL
に接続していることにある。
例では、ゲート信号線GLに平行に走行するように形成
されている。ドレイン信号線DLのようにy方向に延在
する信号線を減らして画素領域の開口率を向上させたい
場合等に効果的となる。
薄膜トランジスタTFT3、第4の薄膜トランジスタT
FT4を設けることにより、一方の信号線に基準信号
(共通信号)を供給し、他方の信号線に該基準信号に対
して電圧差を有する映像信号を供給することができるた
め、一方の信号線を共通信号線としたことに基づく。
装置の他の実施例を示す構成図で、図4に対応した図と
なっている。
の画素電極PX1と第2の画素電極PX2が同一の層と
して形成されているのではなく、絶縁膜IN2を介して
一方がその上層に他方が下層に形成されていることにあ
る。このような構成であっても、同様の効果が得られる
ことはいうまでもない。
射型の液晶表示装置について説明したものである。しか
し、たとえば図4に示す構成図において、反射膜REを
光反射および光透過を兼ねる半透過膜に置き換えて形成
することにより、いわゆる半透過型の液晶表示装置を得
ることができることからこのようにしてもよいことはい
うまでもない。また、このような構成は上述した他の実
施例にも適用できることはもちろんである。
晶表示装置の一実施例を示した構成図で、たとえば図3
に対応した図となっている。
とえば上半分の領域にのみ形成し、残りの下半分の領域
に前記反射膜REと電気的に接続されたたとえばITO
(Indium Tin Oxide)等の透光性の導電膜TCLを形成す
ることにより、該反射膜REが形成された領域を光反射
領域に透光性の導電膜TCLが形成された領域を光透過
領域とすることができる。
は反射膜REと同層に形成したものであるが、それらが
電気的に接続されていれば絶縁膜を介してそれらが異層
に形成されていてもよい。
一方を光反射領域とし他方を光透過領域としたものであ
る。しかし、この分割の方法に任意であってもよく、た
とえば光反射領域の中央に光透過領域が存在していて
も、また、その逆であってもよい。また、このような構
成は上述した他の実施例にも適用できることはもちろん
である。
ジスタの半導体層として多結晶Siを用いたものである
が、これに限定されることはなく、たとえばアモルファ
スSi等であってもよいことはいうまでもない。
本発明による液晶表示装置によれば、低消費電力で駆動
できるものが得られる。
示す等価回路である。
価回路である。
示す平面図である。
を示す等価回路である。
過回路である。
を示す等価回路である。
示す断面図である。
を示す平面図である。
DL2…第2のドレイン信号線、PX1…第1の画素電
極、PX2…第2の画素電極、TFT1…第1の薄膜ト
ランジスタ、TFT2…第2の薄膜トランジスタ、TF
T3…第3の薄膜トランジスタ、TFT4…第4の薄膜
トランジスタ、RE…反射膜。
Claims (9)
- 【請求項1】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の画素領域に、ゲート信号線から
の走査信号により動作する第1のスイッチング素子およ
び第2のスイッチング素子と、第1のドレイン信号線か
ら前記第1のスイッチング素子を介して映像信号が供給
される第1の画素電極と、第2のドレイン信号線から前
記第2のスイッチング素子を介して映像信号が供給され
る第2の画素電極とを備えるとともに、 少なくとも前記第1および第2の各画素電極よりも一方
の基板側に該第1および第2の各画素電極と絶縁されて
反射膜を備えることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項2】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の画素領域に、ゲート信号線から
の走査信号により動作する多結晶Siからなる第1の薄
膜トランジスタおよび第2の薄膜トランジスタと、第1
のドレイン信号線から前記第1の薄膜トランジスタを介
して映像信号が供給される第1の画素電極と、第2のド
レイン信号線から前記第2の薄膜トランジスタを介して
映像信号が供給される第2の画素電極とを備えるととも
に、 少なくとも前記第1および第2の各画素電極よりも一方
の基板側に該第1および第2の各画素電極と絶縁されて
反射膜を備えることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項3】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
信号線とこれらゲート信号線に交差して並設された複数
のドレイン信号線で囲まれた各領域を画素領域とし、 これら各画素領域に、一方の側のゲート信号線からの走
査信号により動作する第1のスイッチング素子および第
2のスイッチング素子と、第1のドレイン信号線から前
記第1のスイッチング素子を介して映像信号が供給され
る第1の画素電極と、第2のドレイン信号線から前記第
2のスイッチング素子を介して映像信号が供給される第
2の画素電極と、 前記一方の側のゲート信号線と異なるゲート信号線であ
って当該画素領域を画する他のゲート信号線にゲート電
極が接続されドレイン電極およびソース電極のうち一方
が前記第1の画素電極と接続された第3のスイッチング
素子と、 前記一方の側のゲート信号線と異なるゲート信号線であ
って当該画素領域を画する他のゲート信号線にゲート電
極が接続されドレイン電極およびソース電極のうち一方
が前記第2の画素電極と接続された第4のスイッチング
素子と、を備えるとともに、 少なくとも前記第1および第2の各画素電極よりも一方
の基板側に該第1および第2の各画素電極と絶縁されて
反射膜を備え、この反射膜には前記第3のスイッチング
素子のドレイン電極およびソース電極のうち他方が接続
されているとともに、前記第4のスイッチング素子のド
レイン電極およびソース電極のうち他方が接続されてい
ることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項4】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
信号線とこれらゲート信号線に交差して並設された複数
のドレイン信号線で囲まれた各領域を画素領域とし、 これら各画素領域に、一方の側のゲート信号線からの走
査信号により動作する多結晶Siからなる第1の薄膜ト
ランジスタおよび第2の薄膜トランジスタと、第1のド
レイン信号線から前記第1の薄膜トランジスタを介して
映像信号が供給される第1の画素電極と、第2のドレイ
ン信号線から前記第2の薄膜トランジスタを介して映像
信号が供給される第2の画素電極と、 前記一方の側のゲート信号線と異なるゲート信号線であ
って当該画素領域を画する他のゲート信号線にゲート電
極が接続されドレイン電極およびソース電極のうち一方
が前記第1の画素電極と接続された第3の薄膜トランジ
スタと、 前記一方の側のゲート信号線と異なるゲート信号線であ
って当該画素領域を画する他のゲート信号線にゲート電
極が接続されドレイン電極およびソース電極のうち一方
が前記第2の画素電極と接続された第4の薄膜トランジ
スタと、を備えるとともに、 少なくとも前記第1および第2の各画素電極よりも一方
の基板側に該第1および第2の各画素電極と絶縁されて
反射膜を備え、この反射膜には前記第3の薄膜トランジ
スタのドレイン電極およびソース電極のうち他方が接続
されているとともに、前記第4の薄膜トランジスタのド
レイン電極およびソース電極のうち他方が接続されてい
ることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項5】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
信号線とこれらゲート信号線に交差して並設された複数
のドレイン信号線で囲まれた各領域を画素領域とし、 これら各画素領域に、一方の側のゲート信号線からの走
査信号により動作する第1のスイッチング素子および第
2のスイッチング素子と、一方の側のドレイン信号線か
ら前記第1のスイッチング素子を介して映像信号が供給
される第1の画素電極と、共通信号線から前記第2のス
イッチング素子を介して映像信号が供給される第2の画
素電極と、 前記一方の側のゲート信号線と異なるゲート信号線であ
って当該画素領域を画する他のゲート信号線にゲート電
極が接続されドレイン電極およびソース電極のうち一方
が前記第1の画素電極と接続された第3のスイッチング
素子と、 前記一方の側のゲート信号線と異なるゲート信号線であ
って当該画素領域を画する他のゲート信号線にゲート電
極が接続されドレイン電極およびソース電極のうち一方
が前記第2の画素電極と接続された第4のスイッチング
素子と、を備えるとともに、 少なくとも前記第1および第2の各画素電極よりも一方
の基板側に該第1および第2の各画素電極と絶縁されて
反射膜を備え、この反射膜には前記第3のスイッチング
素子のドレイン電極およびソース電極のうち他方が接続
されているとともに、前記第4のスイッチング素子のド
レイン電極およびソース電極のうち他方が接続されてい
ることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項6】 液晶を介して対向配置される各基板のう
ち一方の基板の液晶側の面に、並設された複数のゲート
信号線とこれらゲート信号線に交差して並設された複数
のドレイン信号線で囲まれた各領域を画素領域とし、 これら各画素領域に、一方の側のゲート信号線からの走
査信号により動作する多結晶Siからなる第1の薄膜ト
ランジスタおよび第2の薄膜トランジスタと、一方の側
のドレイン信号線から前記第1の薄膜トランジスタを介
して映像信号が供給される第1の画素電極と、共通信号
線から前記第2の薄膜トランジスタを介して映像信号が
供給される第2の画素電極と、 前記一方の側のゲート信号線と異なるゲート信号線であ
って当該画素領域を画する他のゲート信号線にゲート電
極が接続されドレイン電極およびソース電極のうち一方
が前記第1の画素電極と接続された多結晶Siからなる
第3の薄膜トランジスタと、 前記一方の側のゲート信号線と異なるゲート信号線であ
って当該画素領域を画する他のゲート信号線にゲート電
極が接続されドレイン電極およびソース電極のうち一方
が前記第2の画素電極と接続された多結晶Siからなる
第4の薄膜トランジスタと、を備えるとともに、 少なくとも前記第1および第2の各画素電極よりも一方
の基板側に該第1および第2の各画素電極と絶縁されて
反射膜を備え、この反射膜には前記第3の薄膜トランジ
スタのドレイン電極およびソース電極のうち他方が接続
されているとともに、前記第4の薄膜トランジスタのド
レイン電極およびソース電極のうち他方が接続されてい
ることを特徴とする液晶表示装置。 - 【請求項7】 反射膜は光透過も兼ねる反射膜として構
成されていることを特徴とする請求項1ないし6のうち
いずれか記載の液晶表示装置。 - 【請求項8】 反射膜が形成された領域にその切欠きあ
るいは開口が設けられ、その切欠きあるいは開口部に該
反射膜と電気的に接続された透光性の導電膜が形成され
ていることを特徴とする請求項1ないし6のうちいずれ
か記載の液晶表示装置。 - 【請求項9】 反射膜に各画素領域のそれと共通に基準
電圧信号が供給されることを特徴とする請求項1ないし
8のうちいずれか記載の液晶表示装置。
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