JP2003147208A - 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 - Google Patents
室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物Info
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Abstract
(57)【要約】
【解決手段】 （Ａ）１分子中に少なくとも１個の下記
一般式（１）で示される構造を有する、２３℃で１００
〜１００万ｍＰａ・ｓの粘度を有するオルガノポリシロ
キサン （Ｒ1Ｏ）aＲ2 3-aＳｉ−Ｒ3−Ｓ−Ｒ4− （１） （式中、Ｒ1は炭素数１〜８の一価炭化水素基又はアル
コキシ基置換一価炭化水素基、Ｒ2は炭素数１〜１３の
一価炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4は互いに同一又は異種の炭素
数１〜６の二価炭化水素基である。ａは１〜３の整数で
ある。） （Ｂ）縮合触媒を含有してなることを特徴とする室温硬
化性オルガノポリシロキサン組成物。 【効果】 本発明の室温硬化性オルガノポリシロキサン
組成物は、密封条件下での保存安定性に優れており、し
かも硬化性にも優れたものであり、製造も容易である。
一般式（１）で示される構造を有する、２３℃で１００
〜１００万ｍＰａ・ｓの粘度を有するオルガノポリシロ
キサン （Ｒ1Ｏ）aＲ2 3-aＳｉ−Ｒ3−Ｓ−Ｒ4− （１） （式中、Ｒ1は炭素数１〜８の一価炭化水素基又はアル
コキシ基置換一価炭化水素基、Ｒ2は炭素数１〜１３の
一価炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4は互いに同一又は異種の炭素
数１〜６の二価炭化水素基である。ａは１〜３の整数で
ある。） （Ｂ）縮合触媒を含有してなることを特徴とする室温硬
化性オルガノポリシロキサン組成物。 【効果】 本発明の室温硬化性オルガノポリシロキサン
組成物は、密封条件下での保存安定性に優れており、し
かも硬化性にも優れたものであり、製造も容易である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は室温硬化性（ＲＴ
Ｖ）オルガノポリシロキサン組成物、特には密封条件下
での保存安定性に優れ、硬化性が良好であり、かつ製造
が容易な脱アルコールタイプＲＴＶオルガノポリシロキ
サン組成物に関するものである。
Ｖ）オルガノポリシロキサン組成物、特には密封条件下
での保存安定性に優れ、硬化性が良好であり、かつ製造
が容易な脱アルコールタイプＲＴＶオルガノポリシロキ
サン組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】従来、
空気中の水分と接触することにより室温でエラストマー
状に硬化する室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物
は、種々のタイプのものが公知であるが、とりわけアル
コールを放出して硬化するタイプのものは不快臭がない
こと、金属類を腐食しないことが特徴となって、電気・
電子機器等のシーリング用、接着用、コーティング用に
好んで使用されている。かかるタイプの代表例として
は、特公昭３９−２７６４３号公報が挙げられ、これに
は水酸基末端封鎖オルガノポリシロキサンとアルコキシ
シランと有機チタン化合物からなる組成物が開示されて
いる。また、特開昭５５−４３１１９号公報には、アル
コキシシリル末端封鎖オルガノポリシロキサンとアルコ
キシシランとアルコキシチタンからなる組成物が開示さ
れている。しかし、これらの組成物は密封条件下での保
存安定性に問題があり、また、表面皮膜形成速度が遅い
という欠点があった。
空気中の水分と接触することにより室温でエラストマー
状に硬化する室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物
は、種々のタイプのものが公知であるが、とりわけアル
コールを放出して硬化するタイプのものは不快臭がない
こと、金属類を腐食しないことが特徴となって、電気・
電子機器等のシーリング用、接着用、コーティング用に
好んで使用されている。かかるタイプの代表例として
は、特公昭３９−２７６４３号公報が挙げられ、これに
は水酸基末端封鎖オルガノポリシロキサンとアルコキシ
シランと有機チタン化合物からなる組成物が開示されて
いる。また、特開昭５５−４３１１９号公報には、アル
コキシシリル末端封鎖オルガノポリシロキサンとアルコ
キシシランとアルコキシチタンからなる組成物が開示さ
れている。しかし、これらの組成物は密封条件下での保
存安定性に問題があり、また、表面皮膜形成速度が遅い
という欠点があった。
【０００３】また、特公平７−３９５４７号公報には、
シルエチレン基、もしくはシロキサン基を介したアルコ
キシシリル末端封鎖オルガノポリシロキサンとアルコキ
シシランとアルコキシチタンからなる組成物が開示され
ている。しかし、これらの予め末端をアルコキシ変性し
たシロキサンを工業的に調製するには、コストの点から
比較的低温で短時間で反応を完了させること、及び生産
安定性の面から反応が環境要困の影響を受けにくいこと
が重要である。先述のシラノール末端に対するアルコキ
シシランの反応は、無触媒では比較的高温で長時間の工
程が必要であり、触媒を用いた場合は触媒の除去が必須
となり、工程的に不都合な点が多い。ビニル末端、シラ
ノール末端に水素化アルコキシシランを用いる場合には
白金系触媒が必要であり、白金系触媒は触媒毒による汚
染があることから、工程管理に注意を要する。また、何
れの場合も取り扱うアルコキシシランは揮発性が高いこ
とから、製造時の環境汚染、作業者の安全の点からも好
ましくない。
シルエチレン基、もしくはシロキサン基を介したアルコ
キシシリル末端封鎖オルガノポリシロキサンとアルコキ
シシランとアルコキシチタンからなる組成物が開示され
ている。しかし、これらの予め末端をアルコキシ変性し
たシロキサンを工業的に調製するには、コストの点から
比較的低温で短時間で反応を完了させること、及び生産
安定性の面から反応が環境要困の影響を受けにくいこと
が重要である。先述のシラノール末端に対するアルコキ
シシランの反応は、無触媒では比較的高温で長時間の工
程が必要であり、触媒を用いた場合は触媒の除去が必須
となり、工程的に不都合な点が多い。ビニル末端、シラ
ノール末端に水素化アルコキシシランを用いる場合には
白金系触媒が必要であり、白金系触媒は触媒毒による汚
染があることから、工程管理に注意を要する。また、何
れの場合も取り扱うアルコキシシランは揮発性が高いこ
とから、製造時の環境汚染、作業者の安全の点からも好
ましくない。
【０００４】本発明は、上記事情を改善するためになさ
れたもので、密封条件下での保存安定性に優れている
上、硬化性が良好であり、かつ製造が容易な脱アルコー
ルタイプの室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を
提供することを目的とする。
れたもので、密封条件下での保存安定性に優れている
上、硬化性が良好であり、かつ製造が容易な脱アルコー
ルタイプの室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物を
提供することを目的とする。
【０００５】
【課題を解決するための手段及び発明の実施の形態】本
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、下記一般式（１） （Ｒ1Ｏ）aＲ2 3-aＳｉ−Ｒ3−Ｓ−Ｒ4− （１） （式中、Ｒ1は炭素数１〜８の一価炭化水素基又はアル
コキシ基置換一価炭化水素基、Ｒ2は炭素数１〜１３の
一価炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4は互いに同一又は異種の炭素
数１〜６の二価炭化水素基である。ａは１〜３の整数で
ある。）で示される構造を１分子中に少なくとも１個を
有し、２３℃で１００〜１００万ｍＰａ・ｓの粘度を有
するオルガノポリシロキサンが脱アルコールタイプＲＴ
Ｖオルガノポリシロキサン組成物のベースポリマーとし
て十分な硬化性を有し、かつ環境要因の影響を受けやす
い白金系触媒を用いることなく、更には末端変性剤の揮
発性が少ないことから製造時の環境汚染が少なく、作業
者の安全確保が容易なＲＴＶシリコーンゴム組成物の製
造に好適に使用することができ、このオルガノポリシロ
キサンをベースポリマーとする室温硬化性オルガノポリ
シロキサン組成物が、密封条件下での保存安定性に優れ
ていると共に、硬化性に優れていることを知見し、本発
明をなすに至った。
発明者は、上記目的を達成するため鋭意検討を行った結
果、下記一般式（１） （Ｒ1Ｏ）aＲ2 3-aＳｉ−Ｒ3−Ｓ−Ｒ4− （１） （式中、Ｒ1は炭素数１〜８の一価炭化水素基又はアル
コキシ基置換一価炭化水素基、Ｒ2は炭素数１〜１３の
一価炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4は互いに同一又は異種の炭素
数１〜６の二価炭化水素基である。ａは１〜３の整数で
ある。）で示される構造を１分子中に少なくとも１個を
有し、２３℃で１００〜１００万ｍＰａ・ｓの粘度を有
するオルガノポリシロキサンが脱アルコールタイプＲＴ
Ｖオルガノポリシロキサン組成物のベースポリマーとし
て十分な硬化性を有し、かつ環境要因の影響を受けやす
い白金系触媒を用いることなく、更には末端変性剤の揮
発性が少ないことから製造時の環境汚染が少なく、作業
者の安全確保が容易なＲＴＶシリコーンゴム組成物の製
造に好適に使用することができ、このオルガノポリシロ
キサンをベースポリマーとする室温硬化性オルガノポリ
シロキサン組成物が、密封条件下での保存安定性に優れ
ていると共に、硬化性に優れていることを知見し、本発
明をなすに至った。
【０００６】従って、本発明は、（Ａ）１分子中に少な
くとも１個の上記一般式（１）で示される構造を有す
る、２３℃で１００〜１００万ｍＰａ・ｓの粘度を有す
るオルガノポリシロキサン、（Ｂ）縮合触媒を含有して
なることを特徴とする室温硬化性オルガノポリシロキサ
ン組成物を提供する。
くとも１個の上記一般式（１）で示される構造を有す
る、２３℃で１００〜１００万ｍＰａ・ｓの粘度を有す
るオルガノポリシロキサン、（Ｂ）縮合触媒を含有して
なることを特徴とする室温硬化性オルガノポリシロキサ
ン組成物を提供する。
【０００７】以下、本発明につき更に詳しく説明する。（Ａ）成分
本発明の室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物の
（Ａ）成分は、１分子中に少なくとも１個の下記一般式
（１）で示される構造を有する、２３℃で１００〜１０
０万ｍＰａ・ｓの粘度を有するオルガノポリシロキサン
である。 （Ｒ1Ｏ）aＲ2 3-aＳｉ−Ｒ3−Ｓ−Ｒ4− （１） （式中、Ｒ1は炭素数１〜８の一価炭化水素基又はアル
コキシ基置換一価炭化水素基、Ｒ2は炭素数１〜１３の
一価炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4は互いに同一又は異種の炭素
数１〜６の二価炭化水素基である。ａは１〜３の整数で
ある。）
（Ａ）成分は、１分子中に少なくとも１個の下記一般式
（１）で示される構造を有する、２３℃で１００〜１０
０万ｍＰａ・ｓの粘度を有するオルガノポリシロキサン
である。 （Ｒ1Ｏ）aＲ2 3-aＳｉ−Ｒ3−Ｓ−Ｒ4− （１） （式中、Ｒ1は炭素数１〜８の一価炭化水素基又はアル
コキシ基置換一価炭化水素基、Ｒ2は炭素数１〜１３の
一価炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4は互いに同一又は異種の炭素
数１〜６の二価炭化水素基である。ａは１〜３の整数で
ある。）
【０００８】この場合、式（１）の基は、オルガノポリ
シロキサン分子の末端にあっても、側鎖にあっても、そ
の両方にあってもよく、オルガノポリシロキサンの末端
及び／又は側鎖に有するオルガノオキシ基（Ｒ1Ｏ−）
が空気中の湿気によって加水分解、架橋することにより
硬化し、オルガノポリシロキサン硬化物を与えることが
できる。特に、このオルガノポリシロキサンとしては、
下記一般式（１Ａ）で示されるものが好適である。
シロキサン分子の末端にあっても、側鎖にあっても、そ
の両方にあってもよく、オルガノポリシロキサンの末端
及び／又は側鎖に有するオルガノオキシ基（Ｒ1Ｏ−）
が空気中の湿気によって加水分解、架橋することにより
硬化し、オルガノポリシロキサン硬化物を与えることが
できる。特に、このオルガノポリシロキサンとしては、
下記一般式（１Ａ）で示されるものが好適である。
【０００９】
【化２】
（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ａは上記と同様の意味を
示す。Ｒ7、Ｒ8は互いに同一又は異種の炭素数１〜１３
の一価炭化水素基であり、ｎは１０以上の整数であっ
て、このオルガノポリシロキサンの２３℃における粘度
を１００〜１００万ｍＰａ・ｓとする数である。）
示す。Ｒ7、Ｒ8は互いに同一又は異種の炭素数１〜１３
の一価炭化水素基であり、ｎは１０以上の整数であっ
て、このオルガノポリシロキサンの２３℃における粘度
を１００〜１００万ｍＰａ・ｓとする数である。）
【００１０】ここで、Ｒ1としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基な
どのアルキル基、メトキシエチル基、エトキシエチル
基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基などのアル
コキシ基置換アルキル基が例示され、好ましくはメチル
基、エチル基、プロピル基、メトキシエチル基、更に好
ましくはメチル基、エチル基が使用される。
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基な
どのアルキル基、メトキシエチル基、エトキシエチル
基、メトキシプロピル基、メトキシブチル基などのアル
コキシ基置換アルキル基が例示され、好ましくはメチル
基、エチル基、プロピル基、メトキシエチル基、更に好
ましくはメチル基、エチル基が使用される。
【００１１】Ｒ2としては、メチル基、エチル基、プロ
ピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、オクタデシル基などのアルキル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、フェニ
ル基、トリル基、ナフチル基などのアリール基、ベンジ
ル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基などのア
ラルキル基などが例示され、好ましくはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、フェニル基が使用される。
ピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル
基、オクタデシル基などのアルキル基、シクロペンチル
基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、フェニ
ル基、トリル基、ナフチル基などのアリール基、ベンジ
ル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基などのア
ラルキル基などが例示され、好ましくはメチル基、エチ
ル基、プロピル基、フェニル基が使用される。
【００１２】Ｒ3、Ｒ4としては、メチレン基、エチレン
基、プロピレン基、ブチレン基、２−メチルプロピレン
基、ペンチレン基、ヘキシレン基等が例示され、好まし
くはメチレン基、エチレン基、プロピレン基が使用され
る。
基、プロピレン基、ブチレン基、２−メチルプロピレン
基、ペンチレン基、ヘキシレン基等が例示され、好まし
くはメチレン基、エチレン基、プロピレン基が使用され
る。
【００１３】Ｒ7、Ｒ8の例としては、メチル基、エチル
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、オクタデシル基などのアルキル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、
フェニル基、トリル基、ナフチル基などのアリール基、
ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基な
どのアラルキル基などが挙げられ、またこれらの基の炭
素原子に結合した水素原子の一部又は全部がハロゲン原
子やシアノ基等で置換されたハロゲン化炭化水素基、シ
アノアルキル基などの置換炭化水素基であってもよい。
この場合、ハロゲン化炭化水素基としてはクロロメチル
基、トリフロロメチル基、クロロプロピル基、３，３，
３−トリフロロプロピル基、クロロフェニル基、ジブロ
モフェニル基、テトラクロロフェニル基、ジフルオロフ
ェニル基などが例示され、シアノアルキル基としてはβ
−シアノエチル基、γ−シアノプロピル基、β−シアノ
プロピル基などが例示される。
基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基、オクチル基、
デシル基、オクタデシル基などのアルキル基、シクロペ
ンチル基、シクロヘキシル基などのシクロアルキル基、
フェニル基、トリル基、ナフチル基などのアリール基、
ベンジル基、フェニルエチル基、フェニルプロピル基な
どのアラルキル基などが挙げられ、またこれらの基の炭
素原子に結合した水素原子の一部又は全部がハロゲン原
子やシアノ基等で置換されたハロゲン化炭化水素基、シ
アノアルキル基などの置換炭化水素基であってもよい。
この場合、ハロゲン化炭化水素基としてはクロロメチル
基、トリフロロメチル基、クロロプロピル基、３，３，
３−トリフロロプロピル基、クロロフェニル基、ジブロ
モフェニル基、テトラクロロフェニル基、ジフルオロフ
ェニル基などが例示され、シアノアルキル基としてはβ
−シアノエチル基、γ−シアノプロピル基、β−シアノ
プロピル基などが例示される。
【００１４】また、この（Ａ）成分のオルガノポリシロ
キサンの粘度は、２３℃において１００〜１００万ｍＰ
ａ・ｓであるが、好ましくは５００〜５０万ｍＰａ・
ｓ、更に好ましくは１０００〜３０万ｍＰａ・ｓであ
る。
キサンの粘度は、２３℃において１００〜１００万ｍＰ
ａ・ｓであるが、好ましくは５００〜５０万ｍＰａ・
ｓ、更に好ましくは１０００〜３０万ｍＰａ・ｓであ
る。
【００１５】ここで、（Ａ）成分の式（１）の構造を有
するオルガノポリシロキサン、典型的には式（１Ａ）の
オルガノポリシロキサンは、下記一般式（ｉ）のメルカ
プト基含有オルガノオキシシランと、下記一般式（ｉ
ｉ）で示される末端にアルケニル基を有するジオルガノ
ポリシロキサンとをラジカル発生剤の存在下に反応させ
ることによって得ることができる。
するオルガノポリシロキサン、典型的には式（１Ａ）の
オルガノポリシロキサンは、下記一般式（ｉ）のメルカ
プト基含有オルガノオキシシランと、下記一般式（ｉ
ｉ）で示される末端にアルケニル基を有するジオルガノ
ポリシロキサンとをラジカル発生剤の存在下に反応させ
ることによって得ることができる。
【００１６】
【化３】
（Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、ａ、Ｒ7、Ｒ8、ｎは上記と同じ、Ｒ9
は炭素数２〜６のアルケニル基、特にビニル基、アリル
基等の末端にＣ−Ｃ二重結合を有するアルケニル基を示
す。）
は炭素数２〜６のアルケニル基、特にビニル基、アリル
基等の末端にＣ−Ｃ二重結合を有するアルケニル基を示
す。）
【００１７】上記ラジカル発生剤としては、ベンゾイル
パーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキ
サイド、ｐ−メチルベンゾイルパーオキサイド、ジクミ
ルパーオキサイド、２，５−ジメチル−ビス（２，５−
ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ジ−ｔ−ブチルパー
オキサイド、ｔ−ブチルパーベンゾエート等の有機過酸
化物、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，
２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）等の有機
アゾ化合物などの熱分解によりラジカルを発生するも
の、光等の照射によりラジカルを発生するもの等が例示
される。その中でも有機過酸化物系のラジカル発生剤は
活性が高く、作業者に危険性が及ぶため有機アゾ系のラ
ジカル発生剤の使用が好ましい。より好ましくは上記の
中でもラジカルの半減期が最も長い２，２’−アゾビス
（２−メチルブチロニトリル）が使用される。
パーオキサイド、２，４−ジクロロベンゾイルパーオキ
サイド、ｐ−メチルベンゾイルパーオキサイド、ジクミ
ルパーオキサイド、２，５−ジメチル−ビス（２，５−
ｔ−ブチルパーオキシ）ヘキサン、ジ−ｔ−ブチルパー
オキサイド、ｔ−ブチルパーベンゾエート等の有機過酸
化物、２，２’−アゾビスイソブチロニトリル、２，
２’−アゾビス（２−メチルブチロニトリル）等の有機
アゾ化合物などの熱分解によりラジカルを発生するも
の、光等の照射によりラジカルを発生するもの等が例示
される。その中でも有機過酸化物系のラジカル発生剤は
活性が高く、作業者に危険性が及ぶため有機アゾ系のラ
ジカル発生剤の使用が好ましい。より好ましくは上記の
中でもラジカルの半減期が最も長い２，２’−アゾビス
（２−メチルブチロニトリル）が使用される。
【００１８】上記ラジカル発生剤の使用量は、（ｉｉ）
成分のアルケニル基と（ｉ）成分のＳＨ基とを反応させ
るための有効量（触媒量）であるが、通常（ｉ）成分と
（ｉｉ）成分の合計１００重量部に対し、０．００１〜
０．５重量部、特に０．０１〜０．１重量部であること
が好ましい。
成分のアルケニル基と（ｉ）成分のＳＨ基とを反応させ
るための有効量（触媒量）であるが、通常（ｉ）成分と
（ｉｉ）成分の合計１００重量部に対し、０．００１〜
０．５重量部、特に０．０１〜０．１重量部であること
が好ましい。
【００１９】反応は有機溶剤中でも無溶剤下でも行うこ
とができる。反応温度は、室温〜１５０℃、特に７０〜
１３０℃で行うことが好ましい。
とができる。反応温度は、室温〜１５０℃、特に７０〜
１３０℃で行うことが好ましい。
【００２０】（Ｂ）成分
（Ｂ）成分の縮合触媒としては、組成物の硬化を促進す
ることができるものであればいずれのものでもよく、チ
タン化合物、スズ化合物、ジルコニウム化合物、ビスマ
ス化合物等であり、使用できるスズ化合物は、例えばジ
ブチルスズオクトエート、ジブチルスズジラウレート、
ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジメトキシ
ド、ジブチルスズジベンジルマレート、ジオクチルスズ
ジオクトエート、ジオクチルスズジラウレートなどがあ
る。縮合触媒の他の例としては、ジルコニウム化合物、
例えばオクタン酸ジルコニウム、ジイソプロポキシジル
コニウムビス（エチルアセトアセテート）、ビスマス化
合物、例えばオクタン酸ビスマス、ナフテン酸ビスマス
も使用できる。更に他の例としては、２−エチルオクタ
ン酸鉛、２−エチルヘキサン酸鉄、２−エチルヘキサン
酸コバルト、２−エチルヘキサン酸マンガン、オクタン
酸アンチモン、ナフテン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、酢
酸ヘキシルアンモニウム、酢酸ベンジルトリメチルアン
モニウムなどがある。
ることができるものであればいずれのものでもよく、チ
タン化合物、スズ化合物、ジルコニウム化合物、ビスマ
ス化合物等であり、使用できるスズ化合物は、例えばジ
ブチルスズオクトエート、ジブチルスズジラウレート、
ジブチルスズジアセテート、ジブチルスズジメトキシ
ド、ジブチルスズジベンジルマレート、ジオクチルスズ
ジオクトエート、ジオクチルスズジラウレートなどがあ
る。縮合触媒の他の例としては、ジルコニウム化合物、
例えばオクタン酸ジルコニウム、ジイソプロポキシジル
コニウムビス（エチルアセトアセテート）、ビスマス化
合物、例えばオクタン酸ビスマス、ナフテン酸ビスマス
も使用できる。更に他の例としては、２−エチルオクタ
ン酸鉛、２−エチルヘキサン酸鉄、２−エチルヘキサン
酸コバルト、２−エチルヘキサン酸マンガン、オクタン
酸アンチモン、ナフテン酸亜鉛、ステアリン酸亜鉛、酢
酸ヘキシルアンモニウム、酢酸ベンジルトリメチルアン
モニウムなどがある。
【００２１】これらの中では、チタン化合物、特にチタ
ンキレート触媒が組成物の保存安定性の点から好まし
く、例えば下記式で示すものなどが挙げられる。
ンキレート触媒が組成物の保存安定性の点から好まし
く、例えば下記式で示すものなどが挙げられる。
【００２２】
【化４】
【００２３】（式中、Ｘは炭素数１〜６のアルキル基等
の一価炭化水素基、炭素数１〜８のアルコキシ基、及び
アミノ基から選ばれる基を示す。Ｙは炭素数１〜３のア
ルキル基等の一価炭化水素基、Ｚは炭素数１〜６のアル
キル基等の一価炭化水素基、又はそのハロゲン置換もし
くはシアノ置換一価炭化水素基である。Ｒは水素原子又
は炭素数１〜６のアルキル基等の一価炭化水素基であ
り、Ｒ1は上記と同様の意味を示す。ｍは２〜１２であ
る。）
の一価炭化水素基、炭素数１〜８のアルコキシ基、及び
アミノ基から選ばれる基を示す。Ｙは炭素数１〜３のア
ルキル基等の一価炭化水素基、Ｚは炭素数１〜６のアル
キル基等の一価炭化水素基、又はそのハロゲン置換もし
くはシアノ置換一価炭化水素基である。Ｒは水素原子又
は炭素数１〜６のアルキル基等の一価炭化水素基であ
り、Ｒ1は上記と同様の意味を示す。ｍは２〜１２であ
る。）
【００２４】以上のようなチタン化合物触媒として具体
的には、例えばジイソプロポキシチタンビス（エチルア
セトアセテート）、ジイソプロポキシチタンビス（アセ
チルアセトネート）、ジブトキシチタンビス（メチルア
セトアセテート、１，３プロパンジオキシチタンビス
（エチルアセトアセテート）、１，３プロパンジオキシ
チタンビス（アセチルアセトネート）、ナフテン酸チタ
ン、チタン酸テトラブチル、チタン酸テトラ−２−エチ
ルヘキシル、チタン酸テトラフェニル、チタン酸テトラ
オクタデシル、チタン酸エチルトリエタノールアミンな
どや、下記式に示すものなどが挙げられる。なお、下記
例でＥｔはエチル基を示す。
的には、例えばジイソプロポキシチタンビス（エチルア
セトアセテート）、ジイソプロポキシチタンビス（アセ
チルアセトネート）、ジブトキシチタンビス（メチルア
セトアセテート、１，３プロパンジオキシチタンビス
（エチルアセトアセテート）、１，３プロパンジオキシ
チタンビス（アセチルアセトネート）、ナフテン酸チタ
ン、チタン酸テトラブチル、チタン酸テトラ−２−エチ
ルヘキシル、チタン酸テトラフェニル、チタン酸テトラ
オクタデシル、チタン酸エチルトリエタノールアミンな
どや、下記式に示すものなどが挙げられる。なお、下記
例でＥｔはエチル基を示す。
【００２５】
【化５】
【００２６】（Ｂ）成分の添加量は、（Ａ）成分１００
重量部に対して好ましくは０．００１〜１０重量部、特
に０．１〜１０重量部の範囲であり、より好ましくは
０．２〜７重量部の範囲である。添加量が少なすぎる
と、本組成物の硬化が遅くなり、多すぎると硬化が早す
ぎたり、保存安定性が悪くなるためである。
重量部に対して好ましくは０．００１〜１０重量部、特
に０．１〜１０重量部の範囲であり、より好ましくは
０．２〜７重量部の範囲である。添加量が少なすぎる
と、本組成物の硬化が遅くなり、多すぎると硬化が早す
ぎたり、保存安定性が悪くなるためである。
【００２７】（Ｃ）成分
本発明においては、（Ｃ）成分としてシリカを配合する
ことが好ましい。これは、比表面積が５０ｍ2／ｇ以
上、特に１００〜４００ｍ2／ｇが好ましい。シリカと
しては、乾式シリカ（煙霧質シリカ）、湿式シリカ（沈
降性シリカ）等が例示され、乾式シリカが好ましい。こ
れらのシリカは、表面処理されたものが好ましく、表面
処理されたシリカは、本組成物に良好な保存安定性と表
面皮膜形成速度を与えると共に、適度な粘性、ゴム物性
を与えるための成分である。シリカの表面処理剤として
は、オルガノシラザン類、オルガノシクロシロキサン
類、オルガノクロロシラン類、オルガノアルコキシシラ
ン類、低分子量の直鎖状シロキサン類など、従来シリカ
の疎水化処理剤として公知の有機ケイ素化合物が好まし
い。また、特性改良のため表面処理剤を２種又はそれ以
上組み含わせて使用しても良い。なお、表面処理シリカ
としては、予め表面処理されたシリカを使用しても良
く、また、（Ａ）成分との混練り時に前述の有機ケイ素
化合物を添加し、混合しつつ処理してもよい。（Ｃ）成
分の配合量は（Ａ）成分１００重量部に対し、好ましく
は１〜５０重量部であるが、より好ましくは３〜３０重
量部である。多すぎると組成物の粘度が上がリすぎて混
合、使用時の作業性が著しく低下する。また、少なすぎ
ると硬化後のゴム物性が低下する。
ことが好ましい。これは、比表面積が５０ｍ2／ｇ以
上、特に１００〜４００ｍ2／ｇが好ましい。シリカと
しては、乾式シリカ（煙霧質シリカ）、湿式シリカ（沈
降性シリカ）等が例示され、乾式シリカが好ましい。こ
れらのシリカは、表面処理されたものが好ましく、表面
処理されたシリカは、本組成物に良好な保存安定性と表
面皮膜形成速度を与えると共に、適度な粘性、ゴム物性
を与えるための成分である。シリカの表面処理剤として
は、オルガノシラザン類、オルガノシクロシロキサン
類、オルガノクロロシラン類、オルガノアルコキシシラ
ン類、低分子量の直鎖状シロキサン類など、従来シリカ
の疎水化処理剤として公知の有機ケイ素化合物が好まし
い。また、特性改良のため表面処理剤を２種又はそれ以
上組み含わせて使用しても良い。なお、表面処理シリカ
としては、予め表面処理されたシリカを使用しても良
く、また、（Ａ）成分との混練り時に前述の有機ケイ素
化合物を添加し、混合しつつ処理してもよい。（Ｃ）成
分の配合量は（Ａ）成分１００重量部に対し、好ましく
は１〜５０重量部であるが、より好ましくは３〜３０重
量部である。多すぎると組成物の粘度が上がリすぎて混
合、使用時の作業性が著しく低下する。また、少なすぎ
ると硬化後のゴム物性が低下する。
【００２８】（Ｄ）成分
本発明の組成物には、（Ｄ）成分として、下記一般式
（２） Ｒ5 bＳｉ（ＯＲ6）4-b （２） （式中、Ｒ5は炭素数１〜１３の一価炭化水素基、Ｒ6は
炭素数１〜８の一価炭化水素基又はアルコキシ基置換一
価炭化水素基を示し、ｂは０，１又は２である。）で示
されるオルガノオキシシラン又はその部分加水分解物を
含有することが好ましい。この本発明に使用される
（Ｄ）成分は、本組成物の架橋剤として作用し、組成物
が硬化してゴム弾性体となるための成分である。
（２） Ｒ5 bＳｉ（ＯＲ6）4-b （２） （式中、Ｒ5は炭素数１〜１３の一価炭化水素基、Ｒ6は
炭素数１〜８の一価炭化水素基又はアルコキシ基置換一
価炭化水素基を示し、ｂは０，１又は２である。）で示
されるオルガノオキシシラン又はその部分加水分解物を
含有することが好ましい。この本発明に使用される
（Ｄ）成分は、本組成物の架橋剤として作用し、組成物
が硬化してゴム弾性体となるための成分である。
【００２９】ここで、上記Ｒ5の一価炭化水素基として
は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキ
ル基等が挙げられ、Ｒ6のアルコキシ基置換又は非置換
の一価炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル
基、アリール基、アラルキル基が挙げられるが、アルキ
ル基、アルケニル基が好ましい。
は、アルキル基、アルケニル基、アリール基、アラルキ
ル基等が挙げられ、Ｒ6のアルコキシ基置換又は非置換
の一価炭化水素基としては、アルキル基、アルケニル
基、アリール基、アラルキル基が挙げられるが、アルキ
ル基、アルケニル基が好ましい。
【００３０】（Ｄ）成分の具体例としては、テトラメト
キシシラン、テトラエトキシシラン、メチルセロソルブ
オルソシリケートなどの４官能アルコキシシラン類、メ
チルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、
エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシ
エトキシシランなどの３官能アルコキシシラン類及びそ
の部分加水分解縮合物などが挙げられる。これらは単独
で用いてもよく、また２種以上を混合しても良い。ま
た、硬化後のゴム弾性体に低モジュラス性を付与するた
めに、ジフェニルジメトキシシラン、ジメチルジメトキ
シシランなどの２官能アルコキシシラン類を付加的に添
加することも可能である。
キシシラン、テトラエトキシシラン、メチルセロソルブ
オルソシリケートなどの４官能アルコキシシラン類、メ
チルトリメトキシシラン、メチルトリエトキシシラン、
エチルトリメトキシシラン、ビニルトリメトキシシラ
ン、フェニルトリメトキシシラン、メチルトリメトキシ
エトキシシランなどの３官能アルコキシシラン類及びそ
の部分加水分解縮合物などが挙げられる。これらは単独
で用いてもよく、また２種以上を混合しても良い。ま
た、硬化後のゴム弾性体に低モジュラス性を付与するた
めに、ジフェニルジメトキシシラン、ジメチルジメトキ
シシランなどの２官能アルコキシシラン類を付加的に添
加することも可能である。
【００３１】（Ｄ）成分の添加量は、（Ａ）成分１００
重量部対して通常０〜１５重量部の範囲であり、好まし
くは１〜１０重量部の範囲である。添加量が多すぎると
硬化が遅くなったり、十分なゴム物性が出なかったり、
経済的に不利益となるからである。
重量部対して通常０〜１５重量部の範囲であり、好まし
くは１〜１０重量部の範囲である。添加量が多すぎると
硬化が遅くなったり、十分なゴム物性が出なかったり、
経済的に不利益となるからである。
【００３２】任意成分
本発明の組成物は、前記した（Ａ）〜（Ｄ）成分の他
に、更に必要に応じて、硬化前の流れ特性を改善し、硬
化後のゴム状弾性体に必要な機械的性質を付与するため
に、微粉末状の無機質充填剤を添加することもできる。
無機質充填剤としては、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、炭
酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグ
ネシウム等のアルカリ土類金属又は亜鉛の酸化物や炭酸
塩など、及びこれらをシラン類、シラザン類、低重合度
シロキサン類、有機化合物などで表面処理したもの、そ
れに石英微粉末、炭素粉末、煙霧質二酸化チタン、けい
そう土、水酸化アルミニウム、微粒子状アルミナ、及び
これらをシラン類、シラザン類、低重合度シロキサン
類、有機化合物などで表面処理したものなどが例示され
る。
に、更に必要に応じて、硬化前の流れ特性を改善し、硬
化後のゴム状弾性体に必要な機械的性質を付与するため
に、微粉末状の無機質充填剤を添加することもできる。
無機質充填剤としては、炭酸カルシウム、炭酸亜鉛、炭
酸マグネシウム、酸化カルシウム、酸化亜鉛、酸化マグ
ネシウム等のアルカリ土類金属又は亜鉛の酸化物や炭酸
塩など、及びこれらをシラン類、シラザン類、低重合度
シロキサン類、有機化合物などで表面処理したもの、そ
れに石英微粉末、炭素粉末、煙霧質二酸化チタン、けい
そう土、水酸化アルミニウム、微粒子状アルミナ、及び
これらをシラン類、シラザン類、低重合度シロキサン
類、有機化合物などで表面処理したものなどが例示され
る。
【００３３】これら任意成分の配合量としては、（Ａ）
成分の１００重量部に対し、好ましくは１〜５００重量
部であるが、より好ましくは１０〜１５０重量部であ
る。多すぎると組成物の粘度が上がりすぎて混合、使用
時の作業性が著しく低下する。また、少なすぎると硬化
後のゴム物性が低下するほか、増量剤として配合した場
合は経済的に不利益となる。
成分の１００重量部に対し、好ましくは１〜５００重量
部であるが、より好ましくは１０〜１５０重量部であ
る。多すぎると組成物の粘度が上がりすぎて混合、使用
時の作業性が著しく低下する。また、少なすぎると硬化
後のゴム物性が低下するほか、増量剤として配合した場
合は経済的に不利益となる。
【００３４】更に、本発明の組成物には、硬化性、保存
性を阻害しない範囲内において、有機溶剤、防カビ剤、
難燃剤、耐熱剤、可塑剤、チクソ性付与剤、接着促進
剤、硬化促進剤、顔料、トリアルキルシロキシ単位とＳ
ｉＯ2単位とからなるシリコーン樹脂などを添加するこ
とができる。
性を阻害しない範囲内において、有機溶剤、防カビ剤、
難燃剤、耐熱剤、可塑剤、チクソ性付与剤、接着促進
剤、硬化促進剤、顔料、トリアルキルシロキシ単位とＳ
ｉＯ2単位とからなるシリコーン樹脂などを添加するこ
とができる。
【００３５】本発明の組成物は、（Ａ）〜（Ｃ）成分や
（Ａ）〜（Ｄ）成分、及び必要に応じて各種添加剤を、
湿気を遮断した状態で混合することにより得られる。得
られた組成物は密閉容器中でそのまま保存し、使用時に
空気中の水分にさらすことによりゴム状弾性体に硬化す
る、いわゆる１液型室温硬化性オルガノポリシロキサン
組成物として用いることができる。
（Ａ）〜（Ｄ）成分、及び必要に応じて各種添加剤を、
湿気を遮断した状態で混合することにより得られる。得
られた組成物は密閉容器中でそのまま保存し、使用時に
空気中の水分にさらすことによりゴム状弾性体に硬化す
る、いわゆる１液型室温硬化性オルガノポリシロキサン
組成物として用いることができる。
【００３６】本発明の組成物は建築用シーリング材、自
動車用シーリング材、電気・電子部品の封止材、接着剤
や防湿用コート剤として、繊維製品、ガラス製品、金属
製品、プラスチック製品等のコーティング剤や接着剤と
しての用途に適用することができる。
動車用シーリング材、電気・電子部品の封止材、接着剤
や防湿用コート剤として、繊維製品、ガラス製品、金属
製品、プラスチック製品等のコーティング剤や接着剤と
しての用途に適用することができる。
【００３７】
【発明の効果】本発明の室温硬化性オルガノポリシロキ
サン組成物は、密封条件下での保存安定性に優れてお
り、しかも硬化性にも優れたものであり、製造も容易で
ある。
サン組成物は、密封条件下での保存安定性に優れてお
り、しかも硬化性にも優れたものであり、製造も容易で
ある。
【００３８】
【実施例】次に、本発明の実施例、比較例及び参考例を
示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実
施例に制限されるものではない。なお、例中の粘度は２
３℃での測定値を示したものである。
示し、本発明を具体的に説明するが、本発明は以下の実
施例に制限されるものではない。なお、例中の粘度は２
３℃での測定値を示したものである。
【００３９】［参考例１］（ポリマーＡの製造）
温度計、撹拌機、冷却器、窒素ガス流入管及びガス流出
管を備えた内容積２リットルの四つ口フラスコに分子鎖
両末端がビニル基で封鎖された粘度が５４００ｍＰａ・
ｓのジメチルポリシロキサンを１３００ｇ、トルエンを
５００ｇ仕込み、１２０〜１３０℃で共沸脱水を１時間
行った。１００℃に冷却後、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシランを１９ｇ、２，２’−アゾビスイソブ
チロニトリル（大塚化学株式会社製ＡＩＢＮ）を０．５
ｇ、トルエンを１０ｇの混合物を滴下した。滴下終了
後、１００℃で２時間の熟成を行い、熟成終了後に減圧
にてトルエンを留去して、粘度８０００ｍＰａ・ｓ、不
揮発分９９．９％の無色透明液体を１１８０ｇ得た。こ
の無色透明液体１００ｇに対しテトラブチルチタネート
１ｇを混合したところ、直ちには増粘せず、１日後には
硬化した。このことからポリマー末端のビニル基にγ−
メルカプトプロピルトリメトキシシランが付加したこと
が確認できる。
管を備えた内容積２リットルの四つ口フラスコに分子鎖
両末端がビニル基で封鎖された粘度が５４００ｍＰａ・
ｓのジメチルポリシロキサンを１３００ｇ、トルエンを
５００ｇ仕込み、１２０〜１３０℃で共沸脱水を１時間
行った。１００℃に冷却後、γ−メルカプトプロピルト
リメトキシシランを１９ｇ、２，２’−アゾビスイソブ
チロニトリル（大塚化学株式会社製ＡＩＢＮ）を０．５
ｇ、トルエンを１０ｇの混合物を滴下した。滴下終了
後、１００℃で２時間の熟成を行い、熟成終了後に減圧
にてトルエンを留去して、粘度８０００ｍＰａ・ｓ、不
揮発分９９．９％の無色透明液体を１１８０ｇ得た。こ
の無色透明液体１００ｇに対しテトラブチルチタネート
１ｇを混合したところ、直ちには増粘せず、１日後には
硬化した。このことからポリマー末端のビニル基にγ−
メルカプトプロピルトリメトキシシランが付加したこと
が確認できる。
【００４０】［参考例２］（ポリマーＢの製造）
温度計、撹拌機、冷却器、窒素ガス流入管及びガス流出
管を備えた内容積５リットルの四つ口フラスコに分子鎖
両末端がビニル基で封鎖された粘度が１１４０００ｍＰ
ａ・ｓのジメチルポリシロキサンを２０００ｇ、トルエ
ンを１０００ｇ仕込み、１２０〜１３０℃で共沸脱水を
１時間行った。１００℃に冷却後、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシランを１２ｇ、２，２’−アゾビス
（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬工業株式会社
製Ｖ−５９）を１．０ｇ、トルエンを１０ｇの混合物を
滴下した。滴下終了後、１００℃で２時間の熟成を行
い、熟成終了後に減圧にてトルエンを留去して、粘度１
４００００ｍＰａ・ｓ、不揮発分９９．３％の無色透明
液体を１８９０ｇ得た。この無色透明液体１００ｇに対
しテトラブチルチタネート１ｇを混合したところ、直ち
には増粘せず、１日後には硬化した。このことからポリ
マー末端のビニル基にγ−メルカプトプロピルトリメト
キシシランが付加したことが確認できる。
管を備えた内容積５リットルの四つ口フラスコに分子鎖
両末端がビニル基で封鎖された粘度が１１４０００ｍＰ
ａ・ｓのジメチルポリシロキサンを２０００ｇ、トルエ
ンを１０００ｇ仕込み、１２０〜１３０℃で共沸脱水を
１時間行った。１００℃に冷却後、γ−メルカプトプロ
ピルトリメトキシシランを１２ｇ、２，２’−アゾビス
（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬工業株式会社
製Ｖ−５９）を１．０ｇ、トルエンを１０ｇの混合物を
滴下した。滴下終了後、１００℃で２時間の熟成を行
い、熟成終了後に減圧にてトルエンを留去して、粘度１
４００００ｍＰａ・ｓ、不揮発分９９．３％の無色透明
液体を１８９０ｇ得た。この無色透明液体１００ｇに対
しテトラブチルチタネート１ｇを混合したところ、直ち
には増粘せず、１日後には硬化した。このことからポリ
マー末端のビニル基にγ−メルカプトプロピルトリメト
キシシランが付加したことが確認できる。
【００４１】［参考例３］（ポリマーＣの製造）
温度計、撹拌機、冷却器、窒素ガス流入管及びガス流出
菅を備えた内容積２リットルの四つ口フラスコに分子鎖
両末端がビニル基で封鎖された粘度が５４００ｍＰａ・
ｓのジメチルポリシロキサンを１３００ｇ、トルエンを
５００ｇ仕込み、１２０〜１３０℃で共沸脱水を１時間
行った。１００℃に冷却後、γ−メルカプトプロピルメ
チルジメトキシシランを１８ｇ、２，２’−アゾビス
（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬工業株式会社
製Ｖ−５９）を１．０ｇ、トルエンを１０ｇの混合物を
滴下した。滴下終了後、１００℃で２時間の熟成を行
い、熟成終了後に減圧にてトルエンを留去して、粘度７
８００ｍＰａ・ｓ、不揮発分９９．３％の無色透明液体
を１１５０ｇ得た。この無色透明液体１００ｇに対しテ
トラブチルチタネート１ｇを混合したところ、直ちには
増粘せず、１日後には硬化した。このことからポリマー
末端のビニル基にγ−メルカプトプロピルメチルジメト
キシシランが付加したことが確認できる。
菅を備えた内容積２リットルの四つ口フラスコに分子鎖
両末端がビニル基で封鎖された粘度が５４００ｍＰａ・
ｓのジメチルポリシロキサンを１３００ｇ、トルエンを
５００ｇ仕込み、１２０〜１３０℃で共沸脱水を１時間
行った。１００℃に冷却後、γ−メルカプトプロピルメ
チルジメトキシシランを１８ｇ、２，２’−アゾビス
（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬工業株式会社
製Ｖ−５９）を１．０ｇ、トルエンを１０ｇの混合物を
滴下した。滴下終了後、１００℃で２時間の熟成を行
い、熟成終了後に減圧にてトルエンを留去して、粘度７
８００ｍＰａ・ｓ、不揮発分９９．３％の無色透明液体
を１１５０ｇ得た。この無色透明液体１００ｇに対しテ
トラブチルチタネート１ｇを混合したところ、直ちには
増粘せず、１日後には硬化した。このことからポリマー
末端のビニル基にγ−メルカプトプロピルメチルジメト
キシシランが付加したことが確認できる。
【００４２】［参考例４］（ポリマーＤの製造）
温度計、撹拌機、冷却器、窒素ガス流入菅及びガス流出
管を備えた内容積２リットルの四つ口フラスコに分子鎖
両末端がトリビニル基で封鎖された粘度が１０００００
ｍＰａ・ｓのジメチルポリシロキサンを１３００ｇ、ト
ルエンを５００ｇ仕込み、１２０〜１３０℃で共沸脱水
を１時間行った。１００℃に冷却後、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシランを２４ｇ、２，２’−アゾビ
ス（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬工業株式会
杜製Ｖ−５９）を１．０ｇ、トルエンを１０ｇの混合物
を滴下した。滴下終了後、１００℃で２時間の熟成を行
い、熟成終了後に減圧にてトルエンを留去して、粘度１
２８０００ｍＰａ・ｓ、不揮発分９９．５％の無色透明
液体を１０６０ｇ得た。この無色透明液体１００ｇに対
しテトラブチルチタネート１ｇを混合したところ、直ち
には増粘せず、１日後には硬化した。このことからポリ
マー末端のビニル基にγ−メルカプトプロピルトリメト
キシシランが付加したことが確認できる。
管を備えた内容積２リットルの四つ口フラスコに分子鎖
両末端がトリビニル基で封鎖された粘度が１０００００
ｍＰａ・ｓのジメチルポリシロキサンを１３００ｇ、ト
ルエンを５００ｇ仕込み、１２０〜１３０℃で共沸脱水
を１時間行った。１００℃に冷却後、γ−メルカプトプ
ロピルトリメトキシシランを２４ｇ、２，２’−アゾビ
ス（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬工業株式会
杜製Ｖ−５９）を１．０ｇ、トルエンを１０ｇの混合物
を滴下した。滴下終了後、１００℃で２時間の熟成を行
い、熟成終了後に減圧にてトルエンを留去して、粘度１
２８０００ｍＰａ・ｓ、不揮発分９９．５％の無色透明
液体を１０６０ｇ得た。この無色透明液体１００ｇに対
しテトラブチルチタネート１ｇを混合したところ、直ち
には増粘せず、１日後には硬化した。このことからポリ
マー末端のビニル基にγ−メルカプトプロピルトリメト
キシシランが付加したことが確認できる。
【００４３】［参考例５］（ポリマーＥの製造）
温度計、撹拌機、冷却器、窒素ガス流入管及びガス流出
管を備えた内容積２リットルの四つ口フラスコに分子側
鎖に一分子あたり平均２個のビニル基を有する粘度が５
０００ｍＰａ・ｓのジメチルポリシロキサンを１３００
ｇ、トルエンを５００ｇ仕込み、１２０〜１３０℃で共
沸脱水を１時間行った。１００℃に冷却後、γ−メルカ
プトプロピルトリメトキシシランを１９ｇ、２，２’−
アゾビス（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬工業
株式会社製Ｖ−５９）を１．０ｇ、トルエンを１０ｇの
混合物を滴下した。滴下終了後、１００℃で２時間の熟
成を行い、熟成終了後に減圧にてトルエンを留去して、
粘度７０００ｍＰａ・ｓ、不揮発分９９．０％の無色透
明液体を１１００ｇ得た。この無色透明液体１００ｇに
対しテトラブチルチタネート１ｇを混合したところ、直
ちには増粘せず、１日後には硬化した。このことからポ
リマー側鎖のビニル基にγ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシランが付加したことが確認できる。
管を備えた内容積２リットルの四つ口フラスコに分子側
鎖に一分子あたり平均２個のビニル基を有する粘度が５
０００ｍＰａ・ｓのジメチルポリシロキサンを１３００
ｇ、トルエンを５００ｇ仕込み、１２０〜１３０℃で共
沸脱水を１時間行った。１００℃に冷却後、γ−メルカ
プトプロピルトリメトキシシランを１９ｇ、２，２’−
アゾビス（２−メチルブチロニトリル）（和光純薬工業
株式会社製Ｖ−５９）を１．０ｇ、トルエンを１０ｇの
混合物を滴下した。滴下終了後、１００℃で２時間の熟
成を行い、熟成終了後に減圧にてトルエンを留去して、
粘度７０００ｍＰａ・ｓ、不揮発分９９．０％の無色透
明液体を１１００ｇ得た。この無色透明液体１００ｇに
対しテトラブチルチタネート１ｇを混合したところ、直
ちには増粘せず、１日後には硬化した。このことからポ
リマー側鎖のビニル基にγ−メルカプトプロピルトリメ
トキシシランが付加したことが確認できる。
【００４４】［実施例１］ポリマーＡを１００重量部
と、表面がジメチルジクロロシランで処理された乾式シ
リカ（日本アエロジル製アエロジルＲ９７２）５重量部
を均一に混合し、これにビニルトリメトキシシラン５重
量部、ジイソプロポキシ−ビス（アセト酢酸エチル）チ
タン２部を減圧下で均一になるまで混合して組成物を調
製した。
と、表面がジメチルジクロロシランで処理された乾式シ
リカ（日本アエロジル製アエロジルＲ９７２）５重量部
を均一に混合し、これにビニルトリメトキシシラン５重
量部、ジイソプロポキシ−ビス（アセト酢酸エチル）チ
タン２部を減圧下で均一になるまで混合して組成物を調
製した。
【００４５】［比較例１］実施例１において、ポリマー
Ａの代わりに粘度が８０００ｍＰａ・ｓの両末端が水酸
基で封鎖されたジメチルポリシロキサンを使用した以外
は実施例１と同様の手法で組成物を調製した。
Ａの代わりに粘度が８０００ｍＰａ・ｓの両末端が水酸
基で封鎖されたジメチルポリシロキサンを使用した以外
は実施例１と同様の手法で組成物を調製した。
【００４６】［実施例２］実施例１において、表面がジ
メチルジクロロシランで処理された乾式シリカの代わり
に表面がヘキサメチルジシラザンで処理された乾式シリ
カを使用した以外は実施例１と同様の手法で組成物を調
製した。
メチルジクロロシランで処理された乾式シリカの代わり
に表面がヘキサメチルジシラザンで処理された乾式シリ
カを使用した以外は実施例１と同様の手法で組成物を調
製した。
【００４７】［実施例３］ポリマーＢを１００重量部
と、表面がジメチルジクロロシランで処理された乾式シ
リカ（日本アエロジル製アエロジルＲ９７２）５重量部
を均一に混合し、これにビニルトリメトキシシラン５重
量部、ジイソプロポキシ−ビス（アセト酢酸エチル）チ
タン２部を減圧下で均一になるまで混合して組成物を調
製した。
と、表面がジメチルジクロロシランで処理された乾式シ
リカ（日本アエロジル製アエロジルＲ９７２）５重量部
を均一に混合し、これにビニルトリメトキシシラン５重
量部、ジイソプロポキシ−ビス（アセト酢酸エチル）チ
タン２部を減圧下で均一になるまで混合して組成物を調
製した。
【００４８】［実施例４］ポリマーＣを１００重量部
と、表面がジメチルジクロロシランで処理された乾式シ
リカ（日本アエロジル製アエロジルＲ９７２）１０重量
部を均一に混合し、これにテトラメトキシシラン５重量
部、ジイソプロポキシ−ビス（アセト酢酸エチル）チタ
ン２部を減圧下で均一になるまで混合して組成物を調製
した。
と、表面がジメチルジクロロシランで処理された乾式シ
リカ（日本アエロジル製アエロジルＲ９７２）１０重量
部を均一に混合し、これにテトラメトキシシラン５重量
部、ジイソプロポキシ−ビス（アセト酢酸エチル）チタ
ン２部を減圧下で均一になるまで混合して組成物を調製
した。
【００４９】［実施例５］ポリマーＤを１００重量部
と、表面がジメチルジクロロシランで処理された乾式シ
リカ（日本アエロジル製アエロジルＲ９７２）２０重量
部を均一に混合し、これにメチルトリメトキシシラン５
重量部、ジイソプロポキシ−ビス（アセト酢酸エチル）
チタン２部を減圧下で均一になるまで混合して組成物を
調製した。
と、表面がジメチルジクロロシランで処理された乾式シ
リカ（日本アエロジル製アエロジルＲ９７２）２０重量
部を均一に混合し、これにメチルトリメトキシシラン５
重量部、ジイソプロポキシ−ビス（アセト酢酸エチル）
チタン２部を減圧下で均一になるまで混合して組成物を
調製した。
【００５０】［実施例６］ポリマーＥを１００重量部
と、表面がジメチルジクロロシランで処理された乾式シ
リカ（日本アエロジル製アエロジルＲ９７２）１０重量
部を均一に混合し、これにメチルトリメトキシシラン５
重量部、ジイソプロポキシ−ビス（アセチルアセトナ
ト）チタン２部を減圧下で均一になるまで混合して組成
物を調製した。
と、表面がジメチルジクロロシランで処理された乾式シ
リカ（日本アエロジル製アエロジルＲ９７２）１０重量
部を均一に混合し、これにメチルトリメトキシシラン５
重量部、ジイソプロポキシ−ビス（アセチルアセトナ
ト）チタン２部を減圧下で均一になるまで混合して組成
物を調製した。
【００５１】上記で得られた組成物で厚さ２ｍｍのシー
トを作製し、２３℃５０％ＲＨの雰囲気下で７日間硬化
させ、ＪＩＳ−Ｋ−６２４９に準じてゴム物性（硬さ、
引張り強さ、切断時伸び）を測定した。更に、未硬化の
上記組成物をアルミ製チューブに密封し、７０℃の乾燥
機で７日間加熱し、その後上記と同様にゴム物性を測定
した。結果を表１に示す。
トを作製し、２３℃５０％ＲＨの雰囲気下で７日間硬化
させ、ＪＩＳ−Ｋ−６２４９に準じてゴム物性（硬さ、
引張り強さ、切断時伸び）を測定した。更に、未硬化の
上記組成物をアルミ製チューブに密封し、７０℃の乾燥
機で７日間加熱し、その後上記と同様にゴム物性を測定
した。結果を表１に示す。
【００５２】
【表１】
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 荒木 正
群馬県碓氷郡松井田町大字人見１番地10
信越化学工業株式会社シリコーン電子材料
技術研究所内
Ｆターム(参考） 4J002 CP191 DJ017 EC076 EG046
EN136 EX038 EZ046 EZ056
FB107 FB117 FB127 FB147
FD017 FD148 FD156 GH01
GJ01 GJ02
Claims (6)
- 【請求項１】 （Ａ）１分子中に少なくとも１個の下記
一般式（１）で示される構造を有する、２３℃で１００
〜１００万ｍＰａ・ｓの粘度を有するオルガノポリシロ
キサン （Ｒ1Ｏ）aＲ2 3-aＳｉ−Ｒ3−Ｓ−Ｒ4− （１） （式中、Ｒ1は炭素数１〜８の一価炭化水素基又はアル
コキシ基置換一価炭化水素基、Ｒ2は炭素数１〜１３の
一価炭化水素基、Ｒ3、Ｒ4は互いに同一又は異種の炭素
数１〜６の二価炭化水素基である。ａは１〜３の整数で
ある。） （Ｂ）縮合触媒を含有してなることを特徴とする室温硬
化性オルガノポリシロキサン組成物。 - 【請求項２】 （Ａ）成分が下記一般式（１Ａ）で示さ
れるオルガノポリシロキサンである請求項１記載の組成
物。 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、ａは上記と同様の意味を
示す。Ｒ7、Ｒ8は互いに同一又は異種の炭素数１〜１３
の一価炭化水素基であり、ｎは１０以上の整数であっ
て、このオルガノポリシロキサンの２３℃における粘度
を１００〜１００万ｍＰａ・ｓとする数である。） - 【請求項３】 （Ｂ）成分の縮合触媒がチタンキレート
触媒である請求項１又は２記載の組成物。 - 【請求項４】 更に、（Ｃ）シリカを含有する請求項２
又は３記載の組成物。 - 【請求項５】 （Ｃ）成分のシリカが表面処理シリカで
ある請求項４記載の組成物。 - 【請求項６】 更に、（Ｄ）下記一般式（２） Ｒ5 bＳｉ（ＯＲ6）4-b （２） （式中、Ｒ5は炭素数１〜１３の一価炭化水素基、Ｒ6は
炭素数１〜８の一価炭化水素基又はアルコキシ基置換一
価炭化水素基を示し、ｂは０，１又は２である。）で示
されるオルガノオキシシラン又はその部分加水分解物を
含有する請求項１乃至５のいずれか１項記載の組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001348907A JP2003147208A (ja) | 2001-11-14 | 2001-11-14 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001348907A JP2003147208A (ja) | 2001-11-14 | 2001-11-14 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003147208A true JP2003147208A (ja) | 2003-05-21 |
Family
ID=19161653
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001348907A Pending JP2003147208A (ja) | 2001-11-14 | 2001-11-14 | 室温硬化性オルガノポリシロキサン組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003147208A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018163446A1 (ja) | 2017-03-09 | 2018-09-13 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
| EP3608367A4 (en) * | 2017-04-07 | 2020-12-23 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | COMPOSITION OF CURING ORGANOPOLYSILOXANE AT ROOM TEMPERATURE, AND BASE MATERIAL |
| US11377522B2 (en) * | 2019-05-14 | 2022-07-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Silicon-containing polymer, film-forming composition, method for forming silicon-containing polymer coating, method for forming silica-based coating, and production method for silicon-containing polymer |
-
2001
- 2001-11-14 JP JP2001348907A patent/JP2003147208A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2018163446A1 (ja) | 2017-03-09 | 2018-09-13 | 信越化学工業株式会社 | 有機ケイ素化合物およびその製造方法 |
| CN110382510A (zh) * | 2017-03-09 | 2019-10-25 | 信越化学工业株式会社 | 有机硅化合物及其制造方法 |
| KR20190126846A (ko) | 2017-03-09 | 2019-11-12 | 신에쓰 가가꾸 고교 가부시끼가이샤 | 유기 규소 화합물 및 그 제조 방법 |
| EP3594220A4 (en) * | 2017-03-09 | 2020-12-23 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | ORGANOSILIC COMPOUND AND METHOD OF MANUFACTURING THEREOF |
| EP3608367A4 (en) * | 2017-04-07 | 2020-12-23 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | COMPOSITION OF CURING ORGANOPOLYSILOXANE AT ROOM TEMPERATURE, AND BASE MATERIAL |
| US10941317B2 (en) * | 2017-04-07 | 2021-03-09 | Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. | Room-temperature-curable organopolysiloxane composition and base material |
| US11377522B2 (en) * | 2019-05-14 | 2022-07-05 | Tokyo Ohka Kogyo Co., Ltd. | Silicon-containing polymer, film-forming composition, method for forming silicon-containing polymer coating, method for forming silica-based coating, and production method for silicon-containing polymer |
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