JP2003132805A - プラズマ表示装置 - Google Patents
プラズマ表示装置Info
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- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/10—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma
- H01J11/12—AC-PDPs with at least one main electrode being out of contact with the plasma with main electrodes provided on both sides of the discharge space
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J11/00—Gas-filled discharge tubes with alternating current induction of the discharge, e.g. alternating current plasma display panels [AC-PDP]; Gas-filled discharge tubes without any main electrode inside the vessel; Gas-filled discharge tubes with at least one main electrode outside the vessel
- H01J11/20—Constructional details
- H01J11/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J11/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
-
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- H01J—ELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
- H01J2211/00—Plasma display panels with alternate current induction of the discharge, e.g. AC-PDPs
- H01J2211/20—Constructional details
- H01J2211/34—Vessels, containers or parts thereof, e.g. substrates
- H01J2211/36—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like
- H01J2211/361—Spacers, barriers, ribs, partitions or the like characterized by the shape
- H01J2211/365—Pattern of the spacers
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- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 比較的に簡単な手法により、表示画面におけ
るコントラストの向上を図ることが可能なプラズマ表示
装置を提供すること。 【解決手段】 第１基板１１の内側に第１方向Ｘに沿っ
て相互に略平行に形成される複数対の放電維持電極１２
と、放電維持電極１２を覆うように第１基板１１の内側
に形成される誘電体層１４と、第２基板１１の内側に形
成され、第１基板１１と第２基板２１との間に、密封さ
れた放電空間４を形成するための隔壁リブ２４とを有す
るプラズマ表示装置２である。隔壁リブ２４が、第２方
向Ｙに沿って略平行に形成された縦リブ２４ａと、第１
方向Ｘに沿って略平行に形成された横リブ２４ｂとを有
し、横リブ２４ｂのリブ幅Ｗ３が、縦リブ２４ａのリブ
幅Ｗ４よりも大きいことを特徴とする。
るコントラストの向上を図ることが可能なプラズマ表示
装置を提供すること。 【解決手段】 第１基板１１の内側に第１方向Ｘに沿っ
て相互に略平行に形成される複数対の放電維持電極１２
と、放電維持電極１２を覆うように第１基板１１の内側
に形成される誘電体層１４と、第２基板１１の内側に形
成され、第１基板１１と第２基板２１との間に、密封さ
れた放電空間４を形成するための隔壁リブ２４とを有す
るプラズマ表示装置２である。隔壁リブ２４が、第２方
向Ｙに沿って略平行に形成された縦リブ２４ａと、第１
方向Ｘに沿って略平行に形成された横リブ２４ｂとを有
し、横リブ２４ｂのリブ幅Ｗ３が、縦リブ２４ａのリブ
幅Ｗ４よりも大きいことを特徴とする。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、プラズマ表示装置
に係り、さらに詳しくは、プラズマ表示装置における放
電空間を仕切る隔壁リブの構造に関する。
に係り、さらに詳しくは、プラズマ表示装置における放
電空間を仕切る隔壁リブの構造に関する。
【０００２】
【従来の技術】現在主流の陰極線管（ＣＲＴ）に代わる
画像表示装置として、平面型（フラットパネル形式）の
表示装置が種々検討されている。このような平面型の表
示装置として、液晶表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロル
ミネッセンス表示装置（ＥＬＤ）、プラズマ表示装置
（ＰＤＰ：プラズマ・ディスプレイ）を例示することが
できる。中でも、プラズマ表示装置は、大画面化や広視
野角化が比較的容易であること、温度、磁気、振動等の
環境要因に対する耐性に優れること、長寿命であること
等の長所を有し、家庭用の壁掛けテレビの他、公共用の
大型情報端末機器への適用が期待されている。
画像表示装置として、平面型（フラットパネル形式）の
表示装置が種々検討されている。このような平面型の表
示装置として、液晶表示装置（ＬＣＤ）、エレクトロル
ミネッセンス表示装置（ＥＬＤ）、プラズマ表示装置
（ＰＤＰ：プラズマ・ディスプレイ）を例示することが
できる。中でも、プラズマ表示装置は、大画面化や広視
野角化が比較的容易であること、温度、磁気、振動等の
環境要因に対する耐性に優れること、長寿命であること
等の長所を有し、家庭用の壁掛けテレビの他、公共用の
大型情報端末機器への適用が期待されている。
【０００３】プラズマ表示装置は、希ガスから成る放電
ガスを放電空間内に封入した放電セルに電圧を印加し
て、放電ガス中でのグロー放電に基づき発生した紫外線
で放電セル内の蛍光体層を励起することによって発光を
得る表示装置である。つまり、個々の放電セルは蛍光灯
に類似した原理で駆動され、放電セルが、通常、数十万
個のオーダーで集合して１つの表示画面が構成されてい
る。プラズマ表示装置は、放電セルへの電圧の印加方式
によって直流駆動型（ＤＣ型）と交流駆動型（ＡＣ型）
とに大別され、それぞれ一長一短を有する。
ガスを放電空間内に封入した放電セルに電圧を印加し
て、放電ガス中でのグロー放電に基づき発生した紫外線
で放電セル内の蛍光体層を励起することによって発光を
得る表示装置である。つまり、個々の放電セルは蛍光灯
に類似した原理で駆動され、放電セルが、通常、数十万
個のオーダーで集合して１つの表示画面が構成されてい
る。プラズマ表示装置は、放電セルへの電圧の印加方式
によって直流駆動型（ＤＣ型）と交流駆動型（ＡＣ型）
とに大別され、それぞれ一長一短を有する。
【０００４】ＡＣ型プラズマ表示装置は、表示画面内で
個々の放電セルを仕切る役割を果たす隔壁リブを、たと
えばストライプ状、ワッフル状、ミアンダ状などの形状
に形成すればよいので、高精細化に適している。しか
も、放電のための電極の表面が誘電体層で覆われている
ので、かかる電極が磨耗し難く、長寿命であるといった
長所を有する。
個々の放電セルを仕切る役割を果たす隔壁リブを、たと
えばストライプ状、ワッフル状、ミアンダ状などの形状
に形成すればよいので、高精細化に適している。しか
も、放電のための電極の表面が誘電体層で覆われている
ので、かかる電極が磨耗し難く、長寿命であるといった
長所を有する。
【０００５】このようなプラズマ表示装置において、表
示画面におけるコントラストの向上を図るために、たと
えば特開２００１−１５５６４４号公報に示すように、
隔壁リブを黒色に着色したものが知られている。
示画面におけるコントラストの向上を図るために、たと
えば特開２００１−１５５６４４号公報に示すように、
隔壁リブを黒色に着色したものが知られている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、隔壁リ
ブを単に黒色に着色したのみでは、十分にコントラスト
の向上を図れないことが、本発明者等により明らかとな
った。
ブを単に黒色に着色したのみでは、十分にコントラスト
の向上を図れないことが、本発明者等により明らかとな
った。
【０００７】本発明は、このような実情に鑑みて成さ
れ、本発明の目的は、比較的に簡単な手法により、表示
画面におけるコントラストの向上を図ることが可能なプ
ラズマ表示装置を提供することである。
れ、本発明の目的は、比較的に簡単な手法により、表示
画面におけるコントラストの向上を図ることが可能なプ
ラズマ表示装置を提供することである。
【０００８】
【課題を解決するための手段および作用】本発明者等
は、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、隔壁リブ
形状を工夫することにより、プラズマ表示装置の表示画
面におけるコントラストの向上を図ることが可能になる
ことを見出し、本発明を完成させるに至った。
は、上記目的を達成すべく鋭意検討した結果、隔壁リブ
形状を工夫することにより、プラズマ表示装置の表示画
面におけるコントラストの向上を図ることが可能になる
ことを見出し、本発明を完成させるに至った。
【０００９】すなわち、本発明の第１の観点に係るプラ
ズマ表示装置は、第１基板の内側に第１方向に沿って相
互に略平行に形成される複数対の放電維持電極と、前記
放電維持電極を覆うように前記第１基板の内側に形成さ
れる誘電体層と、第２基板の内側に形成され、前記第１
基板と第２基板との間に、密封された放電空間を形成す
るための隔壁リブとを有し、前記隔壁リブが、前記第１
方向と略直交する第２方向に沿って略平行に（直線状、
蛇行状またはジグザグ状に）形成された縦リブと、前記
第１方向に沿って略平行に形成された横リブとを有し、
前記横リブ（幅広リブ）のリブ幅が、前記縦リブのリブ
幅よりも大きいことを特徴とする。
ズマ表示装置は、第１基板の内側に第１方向に沿って相
互に略平行に形成される複数対の放電維持電極と、前記
放電維持電極を覆うように前記第１基板の内側に形成さ
れる誘電体層と、第２基板の内側に形成され、前記第１
基板と第２基板との間に、密封された放電空間を形成す
るための隔壁リブとを有し、前記隔壁リブが、前記第１
方向と略直交する第２方向に沿って略平行に（直線状、
蛇行状またはジグザグ状に）形成された縦リブと、前記
第１方向に沿って略平行に形成された横リブとを有し、
前記横リブ（幅広リブ）のリブ幅が、前記縦リブのリブ
幅よりも大きいことを特徴とする。
【００１０】本発明の第１の観点によれば、横リブのリ
ブ幅を縦リブのリブ幅よりも大きくすることで、縦リブ
および横リブのリブ幅が全て同じリブ幅である従来のプ
ラズマ表示装置に比較して、コントラストが向上する。
この作用効果は、本発明者等により初めて見出されたも
のである。また、本発明の第１の観点によれば、ブラッ
クストライプ形成工程を削減してもよく、コストダウン
を図ることができる。また、隔壁リブにおける現像条件
のマージンが増大し、パターンの微細化が可能になる。
さらに、サンドブラスト加工時のマージンが増大し、隔
壁リブの欠けなどが減少し、品質の向上を図ることがで
きる。さらに、各種のパターンマスクを変更するのみ
で、現行の製造プロセスをそのまま適用することができ
るので、製造コストの増大もない。
ブ幅を縦リブのリブ幅よりも大きくすることで、縦リブ
および横リブのリブ幅が全て同じリブ幅である従来のプ
ラズマ表示装置に比較して、コントラストが向上する。
この作用効果は、本発明者等により初めて見出されたも
のである。また、本発明の第１の観点によれば、ブラッ
クストライプ形成工程を削減してもよく、コストダウン
を図ることができる。また、隔壁リブにおける現像条件
のマージンが増大し、パターンの微細化が可能になる。
さらに、サンドブラスト加工時のマージンが増大し、隔
壁リブの欠けなどが減少し、品質の向上を図ることがで
きる。さらに、各種のパターンマスクを変更するのみ
で、現行の製造プロセスをそのまま適用することができ
るので、製造コストの増大もない。
【００１１】また、本発明の第２の観点に係るプラズマ
表示装置は、第１基板の内側に第１方向に沿って相互に
略平行に形成される複数対の放電維持電極と、前記放電
維持電極を覆うように前記第１基板の内側に形成される
誘電体層と、第２基板の内側に形成され、前記第１基板
と第２基板との間に、密封された放電空間を形成するた
めの隔壁リブとを有し、前記隔壁リブが、前記第１方向
と略直交する第２方向に沿って略平行に（直線状、蛇行
状またはジグザグ状に）形成された縦リブと、前記第１
方向に沿って略平行に形成された横リブとを有し、前記
横リブ（複列リブ）のそれぞれが、二列以上の横リブ要
素で構成してあることを特徴とする。
表示装置は、第１基板の内側に第１方向に沿って相互に
略平行に形成される複数対の放電維持電極と、前記放電
維持電極を覆うように前記第１基板の内側に形成される
誘電体層と、第２基板の内側に形成され、前記第１基板
と第２基板との間に、密封された放電空間を形成するた
めの隔壁リブとを有し、前記隔壁リブが、前記第１方向
と略直交する第２方向に沿って略平行に（直線状、蛇行
状またはジグザグ状に）形成された縦リブと、前記第１
方向に沿って略平行に形成された横リブとを有し、前記
横リブ（複列リブ）のそれぞれが、二列以上の横リブ要
素で構成してあることを特徴とする。
【００１２】本発明の第２の観点において、前記横リブ
要素の相互間には、反射防止溝が形成してあることが好
ましい。また、前記横リブ要素の各リブ幅が、前記縦リ
ブのリブ幅と略等しいことが好ましい。
要素の相互間には、反射防止溝が形成してあることが好
ましい。また、前記横リブ要素の各リブ幅が、前記縦リ
ブのリブ幅と略等しいことが好ましい。
【００１３】本発明の第２の観点によれば、横リブのそ
れぞれを、二列以上の横リブ要素で構成することで、縦
リブおよび横リブが全て一列のリブ要素で構成してある
従来のプラズマ表示装置に比較して、コントラストが向
上する。この作用効果は、本発明者等により初めて見出
されたものである。また、本発明の第２の観点によれ
ば、ブラックストライプ形成工程を削減してもよく、コ
ストダウンを図ることができる。また、隔壁リブにおけ
る現像条件のマージンが増大し、パターンの微細化が可
能になる。さらに、サンドブラスト加工時のマージンが
増大し、隔壁リブの欠けなどが減少し、品質の向上を図
ることができる。さらに、各種のパターンマスクを変更
するのみで、現行の製造プロセスをそのまま適用するこ
とができるので、製造コストの増大もない。
れぞれを、二列以上の横リブ要素で構成することで、縦
リブおよび横リブが全て一列のリブ要素で構成してある
従来のプラズマ表示装置に比較して、コントラストが向
上する。この作用効果は、本発明者等により初めて見出
されたものである。また、本発明の第２の観点によれ
ば、ブラックストライプ形成工程を削減してもよく、コ
ストダウンを図ることができる。また、隔壁リブにおけ
る現像条件のマージンが増大し、パターンの微細化が可
能になる。さらに、サンドブラスト加工時のマージンが
増大し、隔壁リブの欠けなどが減少し、品質の向上を図
ることができる。さらに、各種のパターンマスクを変更
するのみで、現行の製造プロセスをそのまま適用するこ
とができるので、製造コストの増大もない。
【００１４】特に、本発明の第２の観点によれば、本発
明の第１の観点に比較して、縦リブに比較して極端に太
いリブ幅の横リブのパターンを形成する必要がなく、均
一な高さのリブ構造を得やすいと言う利点をさらに有す
る。また、横リブ要素の間に反射防止溝を形成すること
で、反射防止溝に入り込んだ外光が外に出にくくなり、
外光コントラストがさらに向上する。
明の第１の観点に比較して、縦リブに比較して極端に太
いリブ幅の横リブのパターンを形成する必要がなく、均
一な高さのリブ構造を得やすいと言う利点をさらに有す
る。また、横リブ要素の間に反射防止溝を形成すること
で、反射防止溝に入り込んだ外光が外に出にくくなり、
外光コントラストがさらに向上する。
【００１５】本発明において、前記横リブが幅広リブの
場合に、そのリブ幅が、前記縦リブのリブ幅に対して、
好ましくは、２〜８倍のサイズ、さらに好ましくは、４
〜８倍のサイズであることが好ましい。また、前記横リ
ブが複列リブである場合に、その複列リブの合計リブ幅
は、前記縦リブのリブ幅に対して、好ましくは、１〜６
倍のサイズ、さらに好ましくは４〜６倍のサイズであ
る。また、前記横リブは、１画素を構成する一対の前記
放電維持電極と、他の１画素を構成する一対の前記放電
維持電極との間に存在する画素間隣接隙間に対応する位
置に配置してあることが好ましい。
場合に、そのリブ幅が、前記縦リブのリブ幅に対して、
好ましくは、２〜８倍のサイズ、さらに好ましくは、４
〜８倍のサイズであることが好ましい。また、前記横リ
ブが複列リブである場合に、その複列リブの合計リブ幅
は、前記縦リブのリブ幅に対して、好ましくは、１〜６
倍のサイズ、さらに好ましくは４〜６倍のサイズであ
る。また、前記横リブは、１画素を構成する一対の前記
放電維持電極と、他の１画素を構成する一対の前記放電
維持電極との間に存在する画素間隣接隙間に対応する位
置に配置してあることが好ましい。
【００１６】画素間隣接隙間は、放電空間における発光
現象には寄与しない部分であり、この部分に横リブを配
置することは、輝度を低下させずに、コントラストを向
上させることができるので好ましい。また、この部分
に、幅広の横リブあるいは二列以上の横リブ要素を配置
することは、隔壁リブのパターン全体の強度を向上させ
ることが可能になると言う副次的な効果もある。放電空
間は、高真空度に保たれるので、隔壁リブの強度を向上
させることは、放電空間の均一厚みを保持することに寄
与し、さらに好ましい。
現象には寄与しない部分であり、この部分に横リブを配
置することは、輝度を低下させずに、コントラストを向
上させることができるので好ましい。また、この部分
に、幅広の横リブあるいは二列以上の横リブ要素を配置
することは、隔壁リブのパターン全体の強度を向上させ
ることが可能になると言う副次的な効果もある。放電空
間は、高真空度に保たれるので、隔壁リブの強度を向上
させることは、放電空間の均一厚みを保持することに寄
与し、さらに好ましい。
【００１７】また、本発明では、前記放電維持電極は、
実質的に透明であり、各放電維持電極における前記画素
間隣接隙間側の端部には、実質的に不透明な比較的に低
抵抗のバス電極が各放電維持電極の長手方向に沿って接
続して形成してあり、前記横リブが幅広リブである場合
に、そのリブ幅が、前記画素間隣接隙間の幅に対して、
０．６〜１．２倍のサイズであることが好ましい。ま
た、前記横リブが、複列リブである場合には、複列リブ
の合計リブ幅は、前記画素間隣接隙間の幅に対して、
０.７〜２.０倍のサイズであることが好ましい。
実質的に透明であり、各放電維持電極における前記画素
間隣接隙間側の端部には、実質的に不透明な比較的に低
抵抗のバス電極が各放電維持電極の長手方向に沿って接
続して形成してあり、前記横リブが幅広リブである場合
に、そのリブ幅が、前記画素間隣接隙間の幅に対して、
０．６〜１．２倍のサイズであることが好ましい。ま
た、前記横リブが、複列リブである場合には、複列リブ
の合計リブ幅は、前記画素間隣接隙間の幅に対して、
０.７〜２.０倍のサイズであることが好ましい。
【００１８】バス電極の部分は、低抵抗を優先させるた
めに遮光性を持ち、放電空間からの表示光を遮るので、
これらのバス電極の間に配置される横リブは、表示画面
側から見て、バス電極に重なっていても、重なっていな
くても、輝度またはコントラストにはほとんど影響はな
い。
めに遮光性を持ち、放電空間からの表示光を遮るので、
これらのバス電極の間に配置される横リブは、表示画面
側から見て、バス電極に重なっていても、重なっていな
くても、輝度またはコントラストにはほとんど影響はな
い。
【００１９】前記横リブの少なくとも頂部が黒色または
黒色に近い色であることが好ましい。もちろん、横リブ
の全体を黒色または黒色に近い色にしても良いし、さら
に、横リブのみでなく、縦リブの少なくとも頂部または
全部を黒色または黒色に近い色にしても良い。この場合
には、さらにコントラストが向上する。
黒色に近い色であることが好ましい。もちろん、横リブ
の全体を黒色または黒色に近い色にしても良いし、さら
に、横リブのみでなく、縦リブの少なくとも頂部または
全部を黒色または黒色に近い色にしても良い。この場合
には、さらにコントラストが向上する。
【００２０】さらに、本発明では、前記第２基板の表面
には、前記第２方向に沿って相互に略平行に延びるアド
レス電極が形成してあり、前記アドレス電極を覆うよう
に、前記第２基板の表面に黒色または黒色に近い色の絶
縁体膜が形成してあり、この絶縁体膜の表面に前記隔壁
リブが形成しても良い。この場合には、さらにコントラ
ストが向上する。なお、本発明において、「方向に沿っ
て相互に略平行に形成される」とは、必ずしも直線状に
形成されることなく、蛇行形状、ジグザグ形状、あるい
はその他の形状に形成されても良い趣旨であり、また、
必ずしも連続的に形成する必要はなく、断続的に形成さ
れても良い趣旨であり、さらに、一部には、必ずしも平
行ではない部分も含んでも良い趣旨である。また、本発
明の第１および第２の観点において、前記横リブは、前
記第１方向に沿って断続的に形成しても良く、前記横リ
ブが途切れた部分に対応して、隔壁リブで囲まれた放電
空間が形成されるようにしても良い。すなわち、従来の
ミアンダ構造、ワッフル構造、あるいはその他、縦リブ
が直線状でない構造の特殊リブ構造において、本発明の
第１または第２の観点を採用する場合には、横リブは、
断続的に形成しても良い。その結果、横リブが途切れた
部分に対応して、隔壁リブで囲まれた放電空間が形成さ
れることになる。特殊リブ構造において、本発明の第１
または第２の観点を採用する場合（「幅広またはダブル
ワッフル構造」と称する）には、隔壁リブの強度がさら
に増大すると共に、縦方向クロストークやノイズをさら
に低減することが可能になる。また、幅広ワッフル構造
においては、横リブの幅を広くすることにより、コント
ラストの向上を図ることができる。さらに、ダブルワッ
フル構造では、反射防止溝が形成されることになるの
で、さらにコントラストの向上を図ることができる。こ
れらの本発明のワッフル構造では、外光反射を低減する
ことができる。
には、前記第２方向に沿って相互に略平行に延びるアド
レス電極が形成してあり、前記アドレス電極を覆うよう
に、前記第２基板の表面に黒色または黒色に近い色の絶
縁体膜が形成してあり、この絶縁体膜の表面に前記隔壁
リブが形成しても良い。この場合には、さらにコントラ
ストが向上する。なお、本発明において、「方向に沿っ
て相互に略平行に形成される」とは、必ずしも直線状に
形成されることなく、蛇行形状、ジグザグ形状、あるい
はその他の形状に形成されても良い趣旨であり、また、
必ずしも連続的に形成する必要はなく、断続的に形成さ
れても良い趣旨であり、さらに、一部には、必ずしも平
行ではない部分も含んでも良い趣旨である。また、本発
明の第１および第２の観点において、前記横リブは、前
記第１方向に沿って断続的に形成しても良く、前記横リ
ブが途切れた部分に対応して、隔壁リブで囲まれた放電
空間が形成されるようにしても良い。すなわち、従来の
ミアンダ構造、ワッフル構造、あるいはその他、縦リブ
が直線状でない構造の特殊リブ構造において、本発明の
第１または第２の観点を採用する場合には、横リブは、
断続的に形成しても良い。その結果、横リブが途切れた
部分に対応して、隔壁リブで囲まれた放電空間が形成さ
れることになる。特殊リブ構造において、本発明の第１
または第２の観点を採用する場合（「幅広またはダブル
ワッフル構造」と称する）には、隔壁リブの強度がさら
に増大すると共に、縦方向クロストークやノイズをさら
に低減することが可能になる。また、幅広ワッフル構造
においては、横リブの幅を広くすることにより、コント
ラストの向上を図ることができる。さらに、ダブルワッ
フル構造では、反射防止溝が形成されることになるの
で、さらにコントラストの向上を図ることができる。こ
れらの本発明のワッフル構造では、外光反射を低減する
ことができる。
【００２１】
【発明の実施の形態】以下、本発明を、図面に示す実施
形態に基づき説明する。図１は本発明の一実施形態に係
るプラズマ表示装置の要部概略分解斜視図、図２は図１
に示すIII−III線に沿う要部断面図、図３は隔壁リブの
パターンと放電維持電極との関係を示す平面図、図４は
本発明の他の実施形態に係るプラズマ表示装置の要部概
略分解斜視図、図５は図１に示すV−V線に沿う要部断面
図、図６は隔壁リブのパターンと放電維持電極との関係
を示す平面図、図７は本発明の他の実施形態に係る隔壁
リブのパターンを示す要部平面図である。
形態に基づき説明する。図１は本発明の一実施形態に係
るプラズマ表示装置の要部概略分解斜視図、図２は図１
に示すIII−III線に沿う要部断面図、図３は隔壁リブの
パターンと放電維持電極との関係を示す平面図、図４は
本発明の他の実施形態に係るプラズマ表示装置の要部概
略分解斜視図、図５は図１に示すV−V線に沿う要部断面
図、図６は隔壁リブのパターンと放電維持電極との関係
を示す平面図、図７は本発明の他の実施形態に係る隔壁
リブのパターンを示す要部平面図である。
【００２２】（第１実施形態）プラズマ表示装置の全体構成
まず、図１に基づき、交流駆動型（ＡＣ）型プラズマ表
示装置（以下、単に、プラズマ表示装置と呼ぶ場合があ
る）の全体構成について説明する。
示装置（以下、単に、プラズマ表示装置と呼ぶ場合があ
る）の全体構成について説明する。
【００２３】図１に示すＡＣ型プラズマ表示装置２は、
いわゆる３電極型に属し、１対の放電維持電極１２の間
で放電が生じる。このＡＣ型プラズマ表示装置２は、フ
ロントパネルに相当する第１パネル１０と、リアパネル
に相当する第２パネル２０とが貼り合わされて成る。第
２パネル２０上の蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの発
光は、たとえば、第１パネル１０を通して観察される。
すなわち、第１パネル１０が、表示面側となる。
いわゆる３電極型に属し、１対の放電維持電極１２の間
で放電が生じる。このＡＣ型プラズマ表示装置２は、フ
ロントパネルに相当する第１パネル１０と、リアパネル
に相当する第２パネル２０とが貼り合わされて成る。第
２パネル２０上の蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの発
光は、たとえば、第１パネル１０を通して観察される。
すなわち、第１パネル１０が、表示面側となる。
【００２４】第１パネル１０は、透明な第１基板１１
と、第１基板１１上に第１方向Ｘに沿って相互に略平行
にストライプ状に設けられ、透明導電材料から成る複数
対の放電維持電極１２と、放電維持電極１２のインピー
ダンスを低下させるために設けられ、放電維持電極１２
よりも電気抵抗率の低い材料から成るバス電極１３と、
バス電極１３および放電維持電極１２上を含む第１の基
板１１上に形成された誘電体層１４と、その上に形成さ
れた保護層１５とから構成されている。なお、保護層１
５は、必ずしも形成されている必要はないが、形成され
ていることが好ましい。
と、第１基板１１上に第１方向Ｘに沿って相互に略平行
にストライプ状に設けられ、透明導電材料から成る複数
対の放電維持電極１２と、放電維持電極１２のインピー
ダンスを低下させるために設けられ、放電維持電極１２
よりも電気抵抗率の低い材料から成るバス電極１３と、
バス電極１３および放電維持電極１２上を含む第１の基
板１１上に形成された誘電体層１４と、その上に形成さ
れた保護層１５とから構成されている。なお、保護層１
５は、必ずしも形成されている必要はないが、形成され
ていることが好ましい。
【００２５】一方、第２パネル２０は、第２基板２１
と、第２基板２１上に第２方向Ｙ（第１方向Ｘと略直
角）に沿って相互に略平行にストライプ状に設けられた
複数のアドレス電極（データ電極とも呼ばれる）２２
と、アドレス電極２２上を含む第２基板２１上に形成さ
れた絶縁体膜２３と、絶縁体膜２３上に形成された絶縁
性の隔壁リブ２４と、絶縁体膜２３上から隔壁リブ２４
の側壁面上に亘って設けられた蛍光体層とから構成され
ている。蛍光体層は、赤色蛍光体層２５Ｒ、緑色蛍光体
層２５Ｇ、および青色蛍光体層２５Ｂから構成されてい
る。
と、第２基板２１上に第２方向Ｙ（第１方向Ｘと略直
角）に沿って相互に略平行にストライプ状に設けられた
複数のアドレス電極（データ電極とも呼ばれる）２２
と、アドレス電極２２上を含む第２基板２１上に形成さ
れた絶縁体膜２３と、絶縁体膜２３上に形成された絶縁
性の隔壁リブ２４と、絶縁体膜２３上から隔壁リブ２４
の側壁面上に亘って設けられた蛍光体層とから構成され
ている。蛍光体層は、赤色蛍光体層２５Ｒ、緑色蛍光体
層２５Ｇ、および青色蛍光体層２５Ｂから構成されてい
る。
【００２６】図１は、表示装置の一部分解斜視図であ
り、実際には、図２に示すように、第２パネル２０側の
隔壁リブ２４の頂部が、第３方向Ｚ（第１方向Ｘおよび
第２方向Ｙに直交する方向）で第１パネル１０側の保護
層１５に当接している。放電ギャップＷ１（図３参照）
を形成する一対の放電維持電極１２と、アドレス電極２
２とが重複する領域が、単一の放電セルに相当する。そ
して、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂが形成された隔
壁リブ２４と保護層１５とによって囲まれた放電空間４
内には、放電ガスが封入されている。第１パネル１０と
第２パネル２０とは、それらの周辺部において、フリッ
トガラスを用いて接合されている。放電空間４内に封入
される放電ガスとしては、特に限定されないが、キセノ
ン（Ｘｅ）ガス、ネオン（Ｎｅ）ガス、ヘリウム（Ｈ
ｅ）ガス、アルゴン（Ａｒ）ガス、窒素（Ｎ２）ガス等
の不活性ガス、あるいはこれらの不活性ガスの混合ガス
などが用いられる。封入されている放電ガスの全圧は、
特に限定されないが、６×１０３Ｐａ〜８×１０４Ｐａ
程度である。
り、実際には、図２に示すように、第２パネル２０側の
隔壁リブ２４の頂部が、第３方向Ｚ（第１方向Ｘおよび
第２方向Ｙに直交する方向）で第１パネル１０側の保護
層１５に当接している。放電ギャップＷ１（図３参照）
を形成する一対の放電維持電極１２と、アドレス電極２
２とが重複する領域が、単一の放電セルに相当する。そ
して、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂが形成された隔
壁リブ２４と保護層１５とによって囲まれた放電空間４
内には、放電ガスが封入されている。第１パネル１０と
第２パネル２０とは、それらの周辺部において、フリッ
トガラスを用いて接合されている。放電空間４内に封入
される放電ガスとしては、特に限定されないが、キセノ
ン（Ｘｅ）ガス、ネオン（Ｎｅ）ガス、ヘリウム（Ｈ
ｅ）ガス、アルゴン（Ａｒ）ガス、窒素（Ｎ２）ガス等
の不活性ガス、あるいはこれらの不活性ガスの混合ガス
などが用いられる。封入されている放電ガスの全圧は、
特に限定されないが、６×１０３Ｐａ〜８×１０４Ｐａ
程度である。
【００２７】放電維持電極１２の射影像が延びる方向と
アドレス電極２２の射影像が延びる方向とは略直交（必
ずしも直交する必要はないが）している。図３に示すよ
うに、放電ギャップＷ１を形成する一対の放電維持電極
１２と、３原色を発光する蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２
５Ｂの１組とが重複する領域が１画素Ｐ１（１ピクセ
ル）に相当する。グロー放電が、放電ギャップＷ１を形
成する一対の放電維持電極１２間で生じることから、こ
のタイプのプラズマ表示装置は「面放電型」と称され
る。このプラズマ表示装置の駆動方法については、後述
する。
アドレス電極２２の射影像が延びる方向とは略直交（必
ずしも直交する必要はないが）している。図３に示すよ
うに、放電ギャップＷ１を形成する一対の放電維持電極
１２と、３原色を発光する蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２
５Ｂの１組とが重複する領域が１画素Ｐ１（１ピクセ
ル）に相当する。グロー放電が、放電ギャップＷ１を形
成する一対の放電維持電極１２間で生じることから、こ
のタイプのプラズマ表示装置は「面放電型」と称され
る。このプラズマ表示装置の駆動方法については、後述
する。
【００２８】本実施形態のプラズマ表示装置２は、いわ
ゆる反射型プラズマ表示装置であり、蛍光体層２５Ｒ，
２５Ｇ，２５Ｂの発光は、第１パネル１０を通して観察
されるので、アドレス電極２２を構成する導電性材料に
関して透明／不透明の別は問わないが、放電維持電極１
２を構成する導電性材料は透明である必要がある。な
お、ここで述べる透明／不透明とは、蛍光体層材料に固
有の発光波長（可視光域）における導電性材料の光透過
性に基づく。即ち、蛍光体層から射出される光に対して
透明であれば、放電維持電極やアドレス電極を構成する
導電性材料は透明であると言える。
ゆる反射型プラズマ表示装置であり、蛍光体層２５Ｒ，
２５Ｇ，２５Ｂの発光は、第１パネル１０を通して観察
されるので、アドレス電極２２を構成する導電性材料に
関して透明／不透明の別は問わないが、放電維持電極１
２を構成する導電性材料は透明である必要がある。な
お、ここで述べる透明／不透明とは、蛍光体層材料に固
有の発光波長（可視光域）における導電性材料の光透過
性に基づく。即ち、蛍光体層から射出される光に対して
透明であれば、放電維持電極やアドレス電極を構成する
導電性材料は透明であると言える。
【００２９】不透明な導電性材料として、Ｎｉ，Ａｌ，
Ａｕ，Ａｇ，Ａｌ，Ｐｄ／Ａｇ，Ｃｒ，Ｔａ，Ｃｕ，Ｂ
ａ，ＬａＢ６，Ｃａ０．２Ｌａ０．８ＣｒＯ３等の材料
を、単独または適宜組み合わせて用いることができる。
透明な導電性材料としては、ＩＴＯ（インジウム・錫酸
化物）やＳｎＯ２を挙げることができる。放電維持電極
１２またはアドレス電極２２は、スパッタ法、蒸着法、
スクリーン印刷法、メッキ法等によって形成することが
でき、フォトリソグラフィ法、サンドブラスト法、リフ
トオフ法などによってパターン加工される。放電維持電
極１２の電極幅は、特に限定されないが、２００〜４０
０μｍ程度である。また、これらの対となる電極１２相
互間の放電ギャップＷ１は、特に限定されないが、好ま
しくは５〜１５０μｍ程度である。また、アドレス電極
２２の幅は、たとえば５０〜１００μｍ程度である。
Ａｕ，Ａｇ，Ａｌ，Ｐｄ／Ａｇ，Ｃｒ，Ｔａ，Ｃｕ，Ｂ
ａ，ＬａＢ６，Ｃａ０．２Ｌａ０．８ＣｒＯ３等の材料
を、単独または適宜組み合わせて用いることができる。
透明な導電性材料としては、ＩＴＯ（インジウム・錫酸
化物）やＳｎＯ２を挙げることができる。放電維持電極
１２またはアドレス電極２２は、スパッタ法、蒸着法、
スクリーン印刷法、メッキ法等によって形成することが
でき、フォトリソグラフィ法、サンドブラスト法、リフ
トオフ法などによってパターン加工される。放電維持電
極１２の電極幅は、特に限定されないが、２００〜４０
０μｍ程度である。また、これらの対となる電極１２相
互間の放電ギャップＷ１は、特に限定されないが、好ま
しくは５〜１５０μｍ程度である。また、アドレス電極
２２の幅は、たとえば５０〜１００μｍ程度である。
【００３０】バス電極１３は、典型的には、金属材料、
たとえば、Ａｇ，Ａｕ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｍｏ，Ｃｒ
などの単層金属膜、あるいはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒなどの積
層膜などから構成することができる。かかる金属材料か
ら成るバス電極１３は、反射型のプラズマ表示装置にお
いては、蛍光体層から放射されて第１基板１１を通過す
る可視光の透過光量を低減させ、表示画面の輝度を低下
させる要因となり得るので、放電維持電極全体に要求さ
れる電気抵抗値が得られる範囲内で出来る限り細く形成
することが好ましい。具体的には、バス電極１３の電極
幅は、放電維持電極１２の電極幅よりも小さく、たとえ
ば３０〜２００μｍ程度である。バス電極１３は、放電
維持電極１２などと同様な方法により形成することがで
きる。
たとえば、Ａｇ，Ａｕ，Ａｌ，Ｎｉ，Ｃｕ，Ｍｏ，Ｃｒ
などの単層金属膜、あるいはＣｒ／Ｃｕ／Ｃｒなどの積
層膜などから構成することができる。かかる金属材料か
ら成るバス電極１３は、反射型のプラズマ表示装置にお
いては、蛍光体層から放射されて第１基板１１を通過す
る可視光の透過光量を低減させ、表示画面の輝度を低下
させる要因となり得るので、放電維持電極全体に要求さ
れる電気抵抗値が得られる範囲内で出来る限り細く形成
することが好ましい。具体的には、バス電極１３の電極
幅は、放電維持電極１２の電極幅よりも小さく、たとえ
ば３０〜２００μｍ程度である。バス電極１３は、放電
維持電極１２などと同様な方法により形成することがで
きる。
【００３１】また、バス電極１３は、通常、一対の各放
電維持電極１２における放電ギャップＷ１側の端部では
なく、図３に示すように、第２方向Ｙにおける画素Ｐ１
と画素Ｐ１との画素間隣接隙間側の端部に、各放電維持
電極１２の長手方向に沿って接続して形成してある。各
放電維持電極１２における放電ギャップＷ１の位置にお
いて、放電空間４における表示光の輝度が最も高いと考
えられ、この位置の近くに遮光性のバス電極１３を配置
することは、全体的な輝度を低下させると考えられてい
ることから、バス電極１３は、前記の位置に配置してあ
る。
電維持電極１２における放電ギャップＷ１側の端部では
なく、図３に示すように、第２方向Ｙにおける画素Ｐ１
と画素Ｐ１との画素間隣接隙間側の端部に、各放電維持
電極１２の長手方向に沿って接続して形成してある。各
放電維持電極１２における放電ギャップＷ１の位置にお
いて、放電空間４における表示光の輝度が最も高いと考
えられ、この位置の近くに遮光性のバス電極１３を配置
することは、全体的な輝度を低下させると考えられてい
ることから、バス電極１３は、前記の位置に配置してあ
る。
【００３２】放電維持電極１２の表面に形成される誘電
体層１４は、たとえば単層のシリコン酸化物層で構成し
てあるが、多層膜であっても良い。このシリコン酸化物
層から成る誘電体層１４は、たとえば、電子ビーム蒸着
法やスパッタ法、蒸着法、スクリーン印刷法等に基づ
き、形成されている。誘電体層１４の厚みは、特に限定
されないが、本実施形態では、１〜１０μｍである。
体層１４は、たとえば単層のシリコン酸化物層で構成し
てあるが、多層膜であっても良い。このシリコン酸化物
層から成る誘電体層１４は、たとえば、電子ビーム蒸着
法やスパッタ法、蒸着法、スクリーン印刷法等に基づ
き、形成されている。誘電体層１４の厚みは、特に限定
されないが、本実施形態では、１〜１０μｍである。
【００３３】誘電体層１２を設けることによって、放電
空間４内で発生するイオンや電子が、放電維持電極１２
と直接に接触することを防止することができる。その結
果、放電維持電極１２の磨耗を防ぐことができる。誘電
体層１４は、アドレス期間に発生する壁電荷を蓄積して
放電状態を維持するするメモリ機能、過剰な放電電流を
制限する抵抗体としての機能を有する。
空間４内で発生するイオンや電子が、放電維持電極１２
と直接に接触することを防止することができる。その結
果、放電維持電極１２の磨耗を防ぐことができる。誘電
体層１４は、アドレス期間に発生する壁電荷を蓄積して
放電状態を維持するするメモリ機能、過剰な放電電流を
制限する抵抗体としての機能を有する。
【００３４】誘電体層１４の放電空間側表面に形成して
ある保護層１５は、イオンや電子と放電維持電極との直
接接触を防止する作用を奏する。その結果、放電維持電
極１２の磨耗を効果的に防ぐことができる。また、保護
層１５は、放電に必要な２次電子を放出する機能も有す
る。保護層１５を構成する材料として、酸化マグネシウ
ム（ＭｇＯ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ
化カルシウム（ＣａＦ ２）を例示することができる。中
でも酸化マグネシウムは、化学的に安定であり、スパッ
タリング率が低く、蛍光体層の発光波長における光透過
率が高く、放電開始電圧が低い等の特色を有する好適な
材料である。なお、保護層１５を、これらの材料から成
る群から選択された少なくとも２種類の材料から構成さ
れた積層膜構造としてもよい。
ある保護層１５は、イオンや電子と放電維持電極との直
接接触を防止する作用を奏する。その結果、放電維持電
極１２の磨耗を効果的に防ぐことができる。また、保護
層１５は、放電に必要な２次電子を放出する機能も有す
る。保護層１５を構成する材料として、酸化マグネシウ
ム（ＭｇＯ）、フッ化マグネシウム（ＭｇＦ２）、フッ
化カルシウム（ＣａＦ ２）を例示することができる。中
でも酸化マグネシウムは、化学的に安定であり、スパッ
タリング率が低く、蛍光体層の発光波長における光透過
率が高く、放電開始電圧が低い等の特色を有する好適な
材料である。なお、保護層１５を、これらの材料から成
る群から選択された少なくとも２種類の材料から構成さ
れた積層膜構造としてもよい。
【００３５】第１基板１１および第２基板２１の構成材
料として、高歪点ガラス、ソーダガラス（Ｎａ２Ｏ・Ｃ
ａＯ・ＳｉＯ２）、硼珪酸ガラス（Ｎａ２Ｏ・Ｂ２Ｏ３
・ＳｉＯ２）、フォルステライト（２ＭｇＯ・Ｓｉ
Ｏ２）、鉛ガラス（Ｎａ２Ｏ・ＰｂＯ・ＳｉＯ２）を例
示することができる。第１基板１１と第２基板２１の構
成材料は、同じであっても異なっていてもよいが、熱膨
張係数が同じであることが望ましい。
料として、高歪点ガラス、ソーダガラス（Ｎａ２Ｏ・Ｃ
ａＯ・ＳｉＯ２）、硼珪酸ガラス（Ｎａ２Ｏ・Ｂ２Ｏ３
・ＳｉＯ２）、フォルステライト（２ＭｇＯ・Ｓｉ
Ｏ２）、鉛ガラス（Ｎａ２Ｏ・ＰｂＯ・ＳｉＯ２）を例
示することができる。第１基板１１と第２基板２１の構
成材料は、同じであっても異なっていてもよいが、熱膨
張係数が同じであることが望ましい。
【００３６】蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、たと
えば、赤色を発光する蛍光体層材料、緑色を発光する蛍
光体層材料および青色を発光する蛍光体層材料から成る
群から選択された蛍光体層材料から構成され、アドレス
電極２２の上方に設けられている。プラズマ表示装置が
カラー表示の場合、具体的には、たとえば、赤色を発光
する蛍光体層材料から構成された蛍光体層（赤色蛍光体
層２５Ｒ）がアドレス電極２２の上方に設けられ、緑色
を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光体層（緑色
蛍光体層２５Ｇ）が別のアドレス電極２２の上方に設け
られ、青色を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光
体層（青色蛍光体層２５Ｂ）が更に別のアドレス電極２
２の上方に設けられており、これらの３原色を発光する
蛍光体層が１組となり、所定の順序に従って設けられて
いる。そして、前述したように、一対の放電維持電極１
２と、これらの３原色を発光する１組の蛍光体層２５
Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂとが重複する領域が、１画素Ｐ１に
相当する。
えば、赤色を発光する蛍光体層材料、緑色を発光する蛍
光体層材料および青色を発光する蛍光体層材料から成る
群から選択された蛍光体層材料から構成され、アドレス
電極２２の上方に設けられている。プラズマ表示装置が
カラー表示の場合、具体的には、たとえば、赤色を発光
する蛍光体層材料から構成された蛍光体層（赤色蛍光体
層２５Ｒ）がアドレス電極２２の上方に設けられ、緑色
を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光体層（緑色
蛍光体層２５Ｇ）が別のアドレス電極２２の上方に設け
られ、青色を発光する蛍光体層材料から構成された蛍光
体層（青色蛍光体層２５Ｂ）が更に別のアドレス電極２
２の上方に設けられており、これらの３原色を発光する
蛍光体層が１組となり、所定の順序に従って設けられて
いる。そして、前述したように、一対の放電維持電極１
２と、これらの３原色を発光する１組の蛍光体層２５
Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂとが重複する領域が、１画素Ｐ１に
相当する。
【００３７】蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを構成す
る蛍光体層材料としては、従来公知の蛍光体層材料の中
から、量子効率が高く、真空紫外線に対する飽和が少な
い蛍光体層材料を適宜選択して用いることができる。カ
ラー表示を想定した場合、色純度がＮＴＳＣで規定され
る３原色に近く、３原色を混合した際の白バランスがと
れ、残光時間が短く、３原色の残光時間がほぼ等しくな
る蛍光体層材料を組み合わせることが好ましい。
る蛍光体層材料としては、従来公知の蛍光体層材料の中
から、量子効率が高く、真空紫外線に対する飽和が少な
い蛍光体層材料を適宜選択して用いることができる。カ
ラー表示を想定した場合、色純度がＮＴＳＣで規定され
る３原色に近く、３原色を混合した際の白バランスがと
れ、残光時間が短く、３原色の残光時間がほぼ等しくな
る蛍光体層材料を組み合わせることが好ましい。
【００３８】蛍光体層材料の具体的な例示を次に示す。
たとえば赤色に発光する蛍光体層材料として、（Ｙ２Ｏ
３：Ｅｕ），（ＹＢＯ３Ｅｕ），（ＹＶＯ４：Ｅｕ），
（Ｙ ０．９６Ｐ０．６０Ｖ０．４０Ｏ４：Ｅ
ｕ０．０４），［（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ］，（Ｇｄ
ＢＯ３：Ｅｕ），（ＳｃＢＯ３：Ｅｕ），（３．５Ｍｇ
Ｏ・０．５ＭｇＦ２・ＧｅＯ２：Ｍｎ）、緑色に発光す
る蛍光体層材料として、（ＺｎＳｉＯ２：Ｍｎ），（Ｂ
ａＡ１１２Ｏ１９：Ｍｎ），（ＢａＭｇ２Ａ１１６Ｏ
２７：Ｍｎ），（ＭｇＧａ２Ｏ４：Ｍｎ），（ＹＢ
Ｏ３：Ｔｂ），（ＬｕＢＯ３：Ｔｂ），（Ｓｒ４Ｓｉ３
Ｏ８Ｃｌ４：Ｅｕ）、青色に発光する蛍光体層材料とし
て、（Ｙ２ＳｉＯ５：Ｃｅ），（ＣａＷＯ４：Ｐｂ），
ＣａＷＯ４，ＹＰ０．８５Ｖ０．１５Ｏ４，（ＢａＭｇ
Ａ１１４Ｏ２３：Ｅｕ），（Ｓｒ２Ｐ２Ｏ７：Ｅｕ），
（Ｓｒ２Ｐ２Ｏ７：Ｓｎ）などが例示される。
たとえば赤色に発光する蛍光体層材料として、（Ｙ２Ｏ
３：Ｅｕ），（ＹＢＯ３Ｅｕ），（ＹＶＯ４：Ｅｕ），
（Ｙ ０．９６Ｐ０．６０Ｖ０．４０Ｏ４：Ｅ
ｕ０．０４），［（Ｙ，Ｇｄ）ＢＯ３：Ｅｕ］，（Ｇｄ
ＢＯ３：Ｅｕ），（ＳｃＢＯ３：Ｅｕ），（３．５Ｍｇ
Ｏ・０．５ＭｇＦ２・ＧｅＯ２：Ｍｎ）、緑色に発光す
る蛍光体層材料として、（ＺｎＳｉＯ２：Ｍｎ），（Ｂ
ａＡ１１２Ｏ１９：Ｍｎ），（ＢａＭｇ２Ａ１１６Ｏ
２７：Ｍｎ），（ＭｇＧａ２Ｏ４：Ｍｎ），（ＹＢ
Ｏ３：Ｔｂ），（ＬｕＢＯ３：Ｔｂ），（Ｓｒ４Ｓｉ３
Ｏ８Ｃｌ４：Ｅｕ）、青色に発光する蛍光体層材料とし
て、（Ｙ２ＳｉＯ５：Ｃｅ），（ＣａＷＯ４：Ｐｂ），
ＣａＷＯ４，ＹＰ０．８５Ｖ０．１５Ｏ４，（ＢａＭｇ
Ａ１１４Ｏ２３：Ｅｕ），（Ｓｒ２Ｐ２Ｏ７：Ｅｕ），
（Ｓｒ２Ｐ２Ｏ７：Ｓｎ）などが例示される。
【００３９】蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂの形成方
法として、厚膜印刷法、蛍光体層粒子をスプレーする方
法、蛍光体層の形成予定部位に予め粘着性物質を付けて
おき、蛍光体層粒子を付着させる方法、感光性の蛍光体
層ペーストを使用し、露光および現像によって蛍光体層
をパターニングする方法、全面に蛍光体層を形成した後
に不要部をサンドブラスト法により除去する方法を挙げ
ることができる。
法として、厚膜印刷法、蛍光体層粒子をスプレーする方
法、蛍光体層の形成予定部位に予め粘着性物質を付けて
おき、蛍光体層粒子を付着させる方法、感光性の蛍光体
層ペーストを使用し、露光および現像によって蛍光体層
をパターニングする方法、全面に蛍光体層を形成した後
に不要部をサンドブラスト法により除去する方法を挙げ
ることができる。
【００４０】なお、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは
アドレス電極２２の上に直接形成されていてもよいし、
アドレス電極２２上から隔壁リブ２４の側壁面上に亘っ
て形成されていてもよい。あるいはまた、蛍光体層２５
Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、アドレス電極２２上に設けられ
た絶縁体膜２３上に形成されていてもよいし、アドレス
電極２２上に設けられた絶縁体膜２３上から隔壁リブ２
４の側壁面上に亘って形成されていてもよい。更には、
蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、隔壁リブ２４の側
壁面上にのみ形成されていてもよい。絶縁体膜２３の構
成材料として、たとえば低融点ガラスやＳｉＯ２ を挙
げることができる。
アドレス電極２２の上に直接形成されていてもよいし、
アドレス電極２２上から隔壁リブ２４の側壁面上に亘っ
て形成されていてもよい。あるいはまた、蛍光体層２５
Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、アドレス電極２２上に設けられ
た絶縁体膜２３上に形成されていてもよいし、アドレス
電極２２上に設けられた絶縁体膜２３上から隔壁リブ２
４の側壁面上に亘って形成されていてもよい。更には、
蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、隔壁リブ２４の側
壁面上にのみ形成されていてもよい。絶縁体膜２３の構
成材料として、たとえば低融点ガラスやＳｉＯ２ を挙
げることができる。
【００４１】本実施形態では、隔壁リブ２４は、図１〜
図３に示すように、全体的にはワッフル形状パターンで
あり、第２方向Ｙに延びる略平行な複数の縦リブ２４ａ
と、第１方向Ｘに延びる略平行な複数の横リブ２４ｂと
を有する。各縦リブ２４ａは、図１に示すように、アド
レス電極２２の間に位置するように、アドレス電極２２
と略平行に配置してある。横リブ２４ｂは、縦リブ２４
ａと一体的に形成され、縦リブ２４ａと同じ高さを有し
ている。この横リブ２４ｂは、図２および図３に示すよ
うに、１画素を構成する一対の放電維持電極１２と、他
の１画素を構成する一対の放電維持電極１２との間に存
在する画素間隣接隙間に対応する位置に形成してある。
すなわち、各横リブ２４ｂは、第２方向Ｙに隣接する画
素間のバス電極１３の間に形成してある。
図３に示すように、全体的にはワッフル形状パターンで
あり、第２方向Ｙに延びる略平行な複数の縦リブ２４ａ
と、第１方向Ｘに延びる略平行な複数の横リブ２４ｂと
を有する。各縦リブ２４ａは、図１に示すように、アド
レス電極２２の間に位置するように、アドレス電極２２
と略平行に配置してある。横リブ２４ｂは、縦リブ２４
ａと一体的に形成され、縦リブ２４ａと同じ高さを有し
ている。この横リブ２４ｂは、図２および図３に示すよ
うに、１画素を構成する一対の放電維持電極１２と、他
の１画素を構成する一対の放電維持電極１２との間に存
在する画素間隣接隙間に対応する位置に形成してある。
すなわち、各横リブ２４ｂは、第２方向Ｙに隣接する画
素間のバス電極１３の間に形成してある。
【００４２】本実施形態では、横リブ２４ｂのリブ幅Ｗ
３は、縦リブ２４ａのリブ幅Ｗ４よりも大きく、縦リブ
２４ａのリブ幅Ｗ４に対して、４〜８倍のサイズであ
り、より具体的には、１５０〜３００μｍ程度である。
縦リブ２４ａのリブ幅Ｗ４は、特に限定されないが、た
とえば３０〜６０μｍ程度である。
３は、縦リブ２４ａのリブ幅Ｗ４よりも大きく、縦リブ
２４ａのリブ幅Ｗ４に対して、４〜８倍のサイズであ
り、より具体的には、１５０〜３００μｍ程度である。
縦リブ２４ａのリブ幅Ｗ４は、特に限定されないが、た
とえば３０〜６０μｍ程度である。
【００４３】図２に示すように、横リブ２４ｂのリブ幅
Ｗ３は、画素間隣接隙間の幅Ｗ２と同程度の幅であるこ
とが好ましく、画素間隣接隙間の幅Ｗ２に対して、０．
６〜１．２倍のサイズであるである。すなわち、横リブ
２４ｂは、表示面側から見て、両側に位置するバス電極
１３に多少重なっても良く、あるいは重ならないでも良
い。この部分は、放電空間４からの表示光の輝度の向上
には、あまり寄与しない部分であり、表示画面における
コントラストを向上させるためには、リブ幅Ｗ３は、幅
Ｗ２とほとんど同じであることが好ましい。
Ｗ３は、画素間隣接隙間の幅Ｗ２と同程度の幅であるこ
とが好ましく、画素間隣接隙間の幅Ｗ２に対して、０．
６〜１．２倍のサイズであるである。すなわち、横リブ
２４ｂは、表示面側から見て、両側に位置するバス電極
１３に多少重なっても良く、あるいは重ならないでも良
い。この部分は、放電空間４からの表示光の輝度の向上
には、あまり寄与しない部分であり、表示画面における
コントラストを向上させるためには、リブ幅Ｗ３は、幅
Ｗ２とほとんど同じであることが好ましい。
【００４４】上述したパターンを持つ隔壁リブ２４の構
成材料として、従来公知の絶縁材料を使用することがで
き、たとえば広く用いられている低融点ガラスにアルミ
ナ等の金属酸化物を混合した材料を用いることができ
る。隔壁リブ２４の高さは１００〜１５０μｍ程度であ
る。隔壁リブ２４における縦リブ２４ａ間のピッチ間隔
は、たとえば１００〜４００μｍ程度である。隔壁リブ
２４における横リブ２４ｂ間のピッチ間隔は、縦リブ２
４ａのピッチの約３倍程度である。
成材料として、従来公知の絶縁材料を使用することがで
き、たとえば広く用いられている低融点ガラスにアルミ
ナ等の金属酸化物を混合した材料を用いることができ
る。隔壁リブ２４の高さは１００〜１５０μｍ程度であ
る。隔壁リブ２４における縦リブ２４ａ間のピッチ間隔
は、たとえば１００〜４００μｍ程度である。隔壁リブ
２４における横リブ２４ｂ間のピッチ間隔は、縦リブ２
４ａのピッチの約３倍程度である。
【００４５】なお、本実施形態では、隔壁リブ２４の全
体を黒色または黒色に近い色にして、いわゆるブラック
・マトリックスを形成し、表示画面におけるさらなる高
コントラスト化を図る。隔壁リブ２４を黒くする方法と
して、黒色または黒色に近い色の着色顔料が含有された
隔壁リブ材料を用いて隔壁リブを形成する方法を例示す
ることができる。黒色系の着色顔料としては、鉄、マン
ガン、クロムなどの金属酸化物が例示される。
体を黒色または黒色に近い色にして、いわゆるブラック
・マトリックスを形成し、表示画面におけるさらなる高
コントラスト化を図る。隔壁リブ２４を黒くする方法と
して、黒色または黒色に近い色の着色顔料が含有された
隔壁リブ材料を用いて隔壁リブを形成する方法を例示す
ることができる。黒色系の着色顔料としては、鉄、マン
ガン、クロムなどの金属酸化物が例示される。
【００４６】隔壁リブ２４によって囲まれた放電空間の
内部に、混合ガスから成る放電ガスが封入されており、
蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、放電空間４内の放
電ガス中で生じた交流グロー放電に基づき発生した紫外
線に照射されて発光する。
内部に、混合ガスから成る放電ガスが封入されており、
蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、放電空間４内の放
電ガス中で生じた交流グロー放電に基づき発生した紫外
線に照射されて発光する。
【００４７】プラズマ表示装置の製造方法
次に、本発明の実施形態に係るプラズマ表示装置の製造
方法について説明する。 第１パネル１０は、以下の方
法で作製することができる。先ず、高歪点ガラスやソー
ダガラスから成る第１基板１１の全面にたとえばスパッ
タリング法によりＩＴＯ層を形成し、フォトリソグラフ
ィ技術およびエッチング技術によりＩＴＯ層をストライ
プ状にパターニングすることによって、一対の放電維持
電極１２を、複数、形成する。放電維持電極１２は、第
１の方向に延びている。
方法について説明する。 第１パネル１０は、以下の方
法で作製することができる。先ず、高歪点ガラスやソー
ダガラスから成る第１基板１１の全面にたとえばスパッ
タリング法によりＩＴＯ層を形成し、フォトリソグラフ
ィ技術およびエッチング技術によりＩＴＯ層をストライ
プ状にパターニングすることによって、一対の放電維持
電極１２を、複数、形成する。放電維持電極１２は、第
１の方向に延びている。
【００４８】次に、第１基板１１の内面全面に、たとえ
ば蒸着法によりアルミニウム膜を形成し、フォトリソグ
ラフィ技術およびエッチング技術によりアルミニウム膜
をパターニングすることによって、各放電維持電極１２
の縁部に沿ってバス電極１３を形成する。その後、バス
電極１３が形成された第１基板１１の内面全面にシリコ
ン酸化物（ＳｉＯ２ ）層から成る誘電体層１４を形成
する。
ば蒸着法によりアルミニウム膜を形成し、フォトリソグ
ラフィ技術およびエッチング技術によりアルミニウム膜
をパターニングすることによって、各放電維持電極１２
の縁部に沿ってバス電極１３を形成する。その後、バス
電極１３が形成された第１基板１１の内面全面にシリコ
ン酸化物（ＳｉＯ２ ）層から成る誘電体層１４を形成
する。
【００４９】本実施形態では、誘電体層１４の形成の形
成方法は特に限定されず、電子ビーム蒸着法やスパッタ
法、蒸着法、スクリーン印刷法等が例示される。次に、
誘電体層１４の上に、電子ビーム蒸着法またはスパッタ
リング法により厚さ０．６μｍの酸化マグネシウム（Ｍ
ｇＯ）から成る保護層１５を形成する。以上の工程によ
り第１パネル１０を完成することができる。
成方法は特に限定されず、電子ビーム蒸着法やスパッタ
法、蒸着法、スクリーン印刷法等が例示される。次に、
誘電体層１４の上に、電子ビーム蒸着法またはスパッタ
リング法により厚さ０．６μｍの酸化マグネシウム（Ｍ
ｇＯ）から成る保護層１５を形成する。以上の工程によ
り第１パネル１０を完成することができる。
【００５０】また、第２パネル２０を以下の方法で作製
する。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第２
の基板２１上に、たとえば蒸着法によりアルミニウム膜
を形成し、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技
術によりパターニングすることで、アドレス電極２２を
形成する。アドレス電極２２は、第１の方向Ｘと直交す
る第２の方向Ｙに延びている。次に、スクリーン印刷法
により全面に低融点ガラスペースト層を形成し、この低
融点ガラスペースト層を焼成することによって絶縁体膜
２３を形成する。
する。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第２
の基板２１上に、たとえば蒸着法によりアルミニウム膜
を形成し、フォトリソグラフィ技術およびエッチング技
術によりパターニングすることで、アドレス電極２２を
形成する。アドレス電極２２は、第１の方向Ｘと直交す
る第２の方向Ｙに延びている。次に、スクリーン印刷法
により全面に低融点ガラスペースト層を形成し、この低
融点ガラスペースト層を焼成することによって絶縁体膜
２３を形成する。
【００５１】その後、絶縁体膜２３上に、図１〜図３に
示すパターンとなるように、隔壁リブ２４を形成する。
この時の形成方法は、特に限定されず、たとえばスクリ
ーン印刷法、サンドブラスト法、ドライフィルム法、感
光法などを例示することができる。ドライフィルム法と
は、基板上に感光性フィルムをラミネートし、露光およ
び現像によって隔壁リブ形成予定部位の感光性フィルム
を除去し、除去によって生じた開口部に隔壁リブ形成用
の材料を埋め込み、焼成する方法である。感光性フィル
ムは焼成によって燃焼、除去され、開口部に埋め込まれ
た隔壁リブ形成用の材料が残り、隔壁リブ２４となる。
感光法とは、基板上に感光性を有する隔壁リブ形成用の
材料層を形成し、露光および現像によってこの材料層を
パターニングした後、焼成を行う方法である。焼成（隔
壁リブ焼成工程）は、空気中で行い、焼成温度は、５６
０°Ｃ程度である。焼成時間は、２時間程度である。
示すパターンとなるように、隔壁リブ２４を形成する。
この時の形成方法は、特に限定されず、たとえばスクリ
ーン印刷法、サンドブラスト法、ドライフィルム法、感
光法などを例示することができる。ドライフィルム法と
は、基板上に感光性フィルムをラミネートし、露光およ
び現像によって隔壁リブ形成予定部位の感光性フィルム
を除去し、除去によって生じた開口部に隔壁リブ形成用
の材料を埋め込み、焼成する方法である。感光性フィル
ムは焼成によって燃焼、除去され、開口部に埋め込まれ
た隔壁リブ形成用の材料が残り、隔壁リブ２４となる。
感光法とは、基板上に感光性を有する隔壁リブ形成用の
材料層を形成し、露光および現像によってこの材料層を
パターニングした後、焼成を行う方法である。焼成（隔
壁リブ焼成工程）は、空気中で行い、焼成温度は、５６
０°Ｃ程度である。焼成時間は、２時間程度である。
【００５２】次に、第２基板２１に形成された隔壁リブ
２４の間に３原色の蛍光体層スラリーを順次印刷する。
その後、この第２基板２１を、焼成炉内で焼成し、隔壁
リブ２４の間の絶縁体膜上から隔壁リブ２４の側壁面上
に亘って、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成す
る。その時の焼成（蛍光体焼成工程）温度は、５１０°
Ｃ程度である。焼成時間は、１０分程度である。
２４の間に３原色の蛍光体層スラリーを順次印刷する。
その後、この第２基板２１を、焼成炉内で焼成し、隔壁
リブ２４の間の絶縁体膜上から隔壁リブ２４の側壁面上
に亘って、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成す
る。その時の焼成（蛍光体焼成工程）温度は、５１０°
Ｃ程度である。焼成時間は、１０分程度である。
【００５３】次に、プラズマ表示装置の組み立てを行
う。即ち、先ず、たとえばスクリーン印刷により、第２
パネル２０の周縁部にシール層を形成する。次に、第１
パネル１０と第２パネル２０とを貼り合わせ、焼成して
シール層を硬化させる。その後、第１パネル１０と第２
パネル２０との間に形成された空間を排気した後、放電
ガスを封入し、かかる空間を封止し、プラズマ表示装置
２を完成させる。
う。即ち、先ず、たとえばスクリーン印刷により、第２
パネル２０の周縁部にシール層を形成する。次に、第１
パネル１０と第２パネル２０とを貼り合わせ、焼成して
シール層を硬化させる。その後、第１パネル１０と第２
パネル２０との間に形成された空間を排気した後、放電
ガスを封入し、かかる空間を封止し、プラズマ表示装置
２を完成させる。
【００５４】かかる構成を有するプラズマ表示装置の交
流グロー放電動作の一例を説明する。先ず、たとえば、
全ての一方の放電維持電極１２に、放電開始電圧Ｖｂｄ
よりも高いパネル電圧を短時間印加する。これによって
グロー放電が生じ、双方の放電維持電極１２の近傍の誘
電体層１４の表面に相互に反対極の電荷が付着して、壁
電荷が蓄積し、見掛けの放電開始電圧が低下する。その
後、アドレス電極２２に電圧を印加しながら、表示をさ
せない放電セルに含まれる一方の放電維持電極１２に電
圧を印加することによって、アドレス電極２２と一方の
放電維持電極１２との間にグロー放電を生じさせ、蓄積
された壁電荷を消去する。この消去放電を各アドレス電
極２２において順次実行する。一方、表示をさせる放電
セルに含まれる一方の放電維持電極には電圧を印加しな
い。これによって、壁電荷の蓄積を維持する。その後、
全ての一対の放電維持電極１２間に所定のパルス電圧を
印加することによって、壁電荷が蓄積されていたセルに
おいては一対の放電維持電極１２の間でグロー放電が開
始し、放電セルにおいては、放電空間内における放電ガ
ス中でのグロー放電に基づき発生した真空紫外線の照射
によって励起された蛍光体層が、蛍光体層材料の種類に
応じた特有の発光色を呈する。なお、一方の放電維持電
極と他方の放電維持電極に印加される放電維持電圧の位
相は半周期ずれており、電極の極性は交流の周波数に応
じて反転する。
流グロー放電動作の一例を説明する。先ず、たとえば、
全ての一方の放電維持電極１２に、放電開始電圧Ｖｂｄ
よりも高いパネル電圧を短時間印加する。これによって
グロー放電が生じ、双方の放電維持電極１２の近傍の誘
電体層１４の表面に相互に反対極の電荷が付着して、壁
電荷が蓄積し、見掛けの放電開始電圧が低下する。その
後、アドレス電極２２に電圧を印加しながら、表示をさ
せない放電セルに含まれる一方の放電維持電極１２に電
圧を印加することによって、アドレス電極２２と一方の
放電維持電極１２との間にグロー放電を生じさせ、蓄積
された壁電荷を消去する。この消去放電を各アドレス電
極２２において順次実行する。一方、表示をさせる放電
セルに含まれる一方の放電維持電極には電圧を印加しな
い。これによって、壁電荷の蓄積を維持する。その後、
全ての一対の放電維持電極１２間に所定のパルス電圧を
印加することによって、壁電荷が蓄積されていたセルに
おいては一対の放電維持電極１２の間でグロー放電が開
始し、放電セルにおいては、放電空間内における放電ガ
ス中でのグロー放電に基づき発生した真空紫外線の照射
によって励起された蛍光体層が、蛍光体層材料の種類に
応じた特有の発光色を呈する。なお、一方の放電維持電
極と他方の放電維持電極に印加される放電維持電圧の位
相は半周期ずれており、電極の極性は交流の周波数に応
じて反転する。
【００５５】本実施形態に係るプラズマ表示装置２で
は、隔壁リブ２４における横リブ２４ａのリブ幅Ｗ３を
縦リブ２４ａのリブ幅Ｗ４よりも大きくすることで、縦
リブ２４ａおよび横リブ２４ｂのリブ幅が全て同じリブ
幅である従来のプラズマ表示装置に比較して、コントラ
ストが向上する。特に、隔壁リブ２４を黒色にすること
で、コントラストがさらに向上し、また、絶縁体膜２３
を黒色にすることで、コントラストがさらにまた向上す
る。
は、隔壁リブ２４における横リブ２４ａのリブ幅Ｗ３を
縦リブ２４ａのリブ幅Ｗ４よりも大きくすることで、縦
リブ２４ａおよび横リブ２４ｂのリブ幅が全て同じリブ
幅である従来のプラズマ表示装置に比較して、コントラ
ストが向上する。特に、隔壁リブ２４を黒色にすること
で、コントラストがさらに向上し、また、絶縁体膜２３
を黒色にすることで、コントラストがさらにまた向上す
る。
【００５６】（第２実施形態）図４〜図６に示す本実施
形態のプラズマ表示装置１０２は、図１〜図３に示すプ
ラズマ表示装置２の変形例であり、共通する部材には、
共通する符号を付し、その説明を一部省略し、相違点に
ついて詳細に説明する。
形態のプラズマ表示装置１０２は、図１〜図３に示すプ
ラズマ表示装置２の変形例であり、共通する部材には、
共通する符号を付し、その説明を一部省略し、相違点に
ついて詳細に説明する。
【００５７】図４〜図６に示すように、本実施形態で
は、第２パネル１２０の内側に形成される隔壁リブ１２
４を、縦リブ１２４ａと横リブとで構成し、各横リブ
を、二列の横リブ要素１２４ｂで構成してある。これら
の横リブ要素１２４ｂの間には、図５に示すように、反
射防止溝１２４ｃが形成してある。反射防止溝１２４ｃ
に対して表示面側から入り込んだ外光は、反射防止溝１
２４ｃの側壁間で反射を繰り返して減衰し、表示面側か
ら外には出にくくなっている。反射防止溝１２４ｃの底
部は、絶縁体膜２３まで到達していても良いが、そこま
での深さではなくても良い。
は、第２パネル１２０の内側に形成される隔壁リブ１２
４を、縦リブ１２４ａと横リブとで構成し、各横リブ
を、二列の横リブ要素１２４ｂで構成してある。これら
の横リブ要素１２４ｂの間には、図５に示すように、反
射防止溝１２４ｃが形成してある。反射防止溝１２４ｃ
に対して表示面側から入り込んだ外光は、反射防止溝１
２４ｃの側壁間で反射を繰り返して減衰し、表示面側か
ら外には出にくくなっている。反射防止溝１２４ｃの底
部は、絶縁体膜２３まで到達していても良いが、そこま
での深さではなくても良い。
【００５８】図６に示す二列の横リブ要素１２４ｂの全
幅Ｗ３は、縦リブ１２４ａのリブ幅Ｗ４に対して、１〜
６倍、好ましくは、４〜６倍であり、図５に示すよう
に、画素間隣接隙間の幅Ｗ２に対して、０.７〜２.０倍
のサイズであることが好ましい。
幅Ｗ３は、縦リブ１２４ａのリブ幅Ｗ４に対して、１〜
６倍、好ましくは、４〜６倍であり、図５に示すよう
に、画素間隣接隙間の幅Ｗ２に対して、０.７〜２.０倍
のサイズであることが好ましい。
【００５９】本実施形態では、各横リブ要素１２４ｂの
幅Ｗ５は、縦リブ１２４ａの幅Ｗ４と略同一である。縦
リブ１２４ａの幅Ｗ４は、図３に示す縦リブ２４ａの幅
Ｗ４と同様である。また、反射防止溝１２４ｃの第２方
向の幅Ｗ６は、全幅Ｗ３から幅Ｗ５の二倍を引いたサイ
ズである。なお、本実施形態では、縦リブ１２４ａは、
反射防止溝１２４ｃを貫通して連続的に延びているが、
この反射防止溝１２４ｃの位置において、切断されて断
続的に第２方向Ｙに延びていても良い。
幅Ｗ５は、縦リブ１２４ａの幅Ｗ４と略同一である。縦
リブ１２４ａの幅Ｗ４は、図３に示す縦リブ２４ａの幅
Ｗ４と同様である。また、反射防止溝１２４ｃの第２方
向の幅Ｗ６は、全幅Ｗ３から幅Ｗ５の二倍を引いたサイ
ズである。なお、本実施形態では、縦リブ１２４ａは、
反射防止溝１２４ｃを貫通して連続的に延びているが、
この反射防止溝１２４ｃの位置において、切断されて断
続的に第２方向Ｙに延びていても良い。
【００６０】本実施形態のプラズマ表示装置１０２で
は、横リブのそれぞれを、二列以上の横リブ要素１２４
ｂで構成することで、縦リブおよび横リブが全て一例の
リブ要素で構成してある従来のプラズマ表示装置に比較
して、コントラストが向上する。
は、横リブのそれぞれを、二列以上の横リブ要素１２４
ｂで構成することで、縦リブおよび横リブが全て一例の
リブ要素で構成してある従来のプラズマ表示装置に比較
して、コントラストが向上する。
【００６１】特に、本実施形態によれば、前記第１実施
形態に比較して、縦リブ１２４ａに比較して極端に太い
リブ幅の横リブのパターンを形成する必要がなく、この
リブパターンの製造時に、均一な高さおよび幅のリブ構
造を得やすいと言う利点をさらに有する。また、横リブ
要素１２４ｂの間に反射防止溝１２４ｃを形成すること
で、反射防止溝１２４ｃに入り込んだ外光が外に出にく
くなり、外光コントラストがさらに向上する。
形態に比較して、縦リブ１２４ａに比較して極端に太い
リブ幅の横リブのパターンを形成する必要がなく、この
リブパターンの製造時に、均一な高さおよび幅のリブ構
造を得やすいと言う利点をさらに有する。また、横リブ
要素１２４ｂの間に反射防止溝１２４ｃを形成すること
で、反射防止溝１２４ｃに入り込んだ外光が外に出にく
くなり、外光コントラストがさらに向上する。
【００６２】（第３実施形態）図７に示すように、本実
施形態では、隔壁リブ２２４の平面構造を変化させてあ
る以外は、図６に示す実施形態と同様な構成にしてあ
り、共通する部材には、共通する符号を付し、その説明
を一部省略し、相違点について詳細に説明する。本実施
形態の隔壁リブ２２４の構造は、いわゆるワッフル構造
の変形である。図７に示すように、本実施形態では、隔
壁リブ２２４を、変形ジグザグ形状の縦リブ２２４ａ
と、Ｘ方向（第１方向）に沿って断続的な横リブとで構
成し、各横リブを、二列の横リブ要素２２４ｂで構成し
てある。これらの横リブ要素２２４ｂの間には、図５に
示す１２４ｃと同様な反射防止溝２２４ｃが形成してあ
る。反射防止溝２２４ｃに対して表示面側から入り込ん
だ外光は、反射防止溝２２４ｃの側壁間で反射を繰り返
して減衰し、表示面側から外には出にくくなっている。
本実施形態では、１画素Ｐ１を構成する３原色の蛍光体
層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、Ｘ方向に沿って一直線状
に配列されるのではなく、ジグザグ形状に配置される。
すなわち、横リブ要素２２４ｂがＸ方向に沿って途切れ
た部分に対応して、縦リブ２２４ａおよび横リブ要素２
２４ｂで四方が囲まれた六角形状（平面矢視）の放電空
間が形成されるようになっている。各縦リブ２２４ａ
は、Ｘ方向と平面矢視で略直交する第２方向であるＹ方
向に沿って連続して形成してあり、直線状ではなく、変
形ジグザグ状に形成してある。各縦リブ２２４ａは、Ｘ
およびＹ方向に対して斜めの縦リブ２２４ａが交差する
位置において、２列の横リブ要素２２４ｂに対して接続
され、それらの接続部では、矩形状の反射防止溝２２４
ｃが形成される。図７に示す構造を、見方を変えて定義
すれば、平面から見て多角形状の放電空間が、Ｘ方向お
よびＹ方向においてジグザグ形状に配置され、各放電空
間のＸ方向およびＹ方向の間に、矩形状の反射防止溝２
２４ｃが形成された中空柱状リブが配置されるように、
隔壁リブ２２４がパターン化してあると言える。本実施
形態では、前記の第２実施形態が有する作用効果と共
に、さらに、次に示す作用効果を奏する。すなわち、本
実施形態では、隔壁リブ２２４のパターンを、いわゆる
ワッフル形状にして、矩形状の反射防止溝２２４ｃが形
成された中空柱状リブで、放電空間の四方を囲むこと
で、隔壁リブ２２４の強度がさらに増大すると共に、縦
方向クロストークやノイズをさらに低減することが可能
になる。また、本実施形態では、反射防止溝２２４ｃが
形成されることになるので、さらにコントラストの向上
を図ることができる。なお、本実施形態において、断続
的に形成してある横リブ要素２２４ｂの間に反射防止溝
２２４ｃを形成することなく、２列の横リブ要素２２４
ｂを連続させて、一列の幅広横リブとしても良い。その
幅広横リブの構成は、断続的である以外は、図３に示す
幅広な横リブ２４ｂと共通している。幅広横リブから成
る中実の柱状リブとすることにより、図３に示す幅広横
リブ２４ｂと同様な作用効果を奏する。 （その他の実施形態）なお、本発明は、上述した実施形
態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に
改変することができる。
施形態では、隔壁リブ２２４の平面構造を変化させてあ
る以外は、図６に示す実施形態と同様な構成にしてあ
り、共通する部材には、共通する符号を付し、その説明
を一部省略し、相違点について詳細に説明する。本実施
形態の隔壁リブ２２４の構造は、いわゆるワッフル構造
の変形である。図７に示すように、本実施形態では、隔
壁リブ２２４を、変形ジグザグ形状の縦リブ２２４ａ
と、Ｘ方向（第１方向）に沿って断続的な横リブとで構
成し、各横リブを、二列の横リブ要素２２４ｂで構成し
てある。これらの横リブ要素２２４ｂの間には、図５に
示す１２４ｃと同様な反射防止溝２２４ｃが形成してあ
る。反射防止溝２２４ｃに対して表示面側から入り込ん
だ外光は、反射防止溝２２４ｃの側壁間で反射を繰り返
して減衰し、表示面側から外には出にくくなっている。
本実施形態では、１画素Ｐ１を構成する３原色の蛍光体
層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂは、Ｘ方向に沿って一直線状
に配列されるのではなく、ジグザグ形状に配置される。
すなわち、横リブ要素２２４ｂがＸ方向に沿って途切れ
た部分に対応して、縦リブ２２４ａおよび横リブ要素２
２４ｂで四方が囲まれた六角形状（平面矢視）の放電空
間が形成されるようになっている。各縦リブ２２４ａ
は、Ｘ方向と平面矢視で略直交する第２方向であるＹ方
向に沿って連続して形成してあり、直線状ではなく、変
形ジグザグ状に形成してある。各縦リブ２２４ａは、Ｘ
およびＹ方向に対して斜めの縦リブ２２４ａが交差する
位置において、２列の横リブ要素２２４ｂに対して接続
され、それらの接続部では、矩形状の反射防止溝２２４
ｃが形成される。図７に示す構造を、見方を変えて定義
すれば、平面から見て多角形状の放電空間が、Ｘ方向お
よびＹ方向においてジグザグ形状に配置され、各放電空
間のＸ方向およびＹ方向の間に、矩形状の反射防止溝２
２４ｃが形成された中空柱状リブが配置されるように、
隔壁リブ２２４がパターン化してあると言える。本実施
形態では、前記の第２実施形態が有する作用効果と共
に、さらに、次に示す作用効果を奏する。すなわち、本
実施形態では、隔壁リブ２２４のパターンを、いわゆる
ワッフル形状にして、矩形状の反射防止溝２２４ｃが形
成された中空柱状リブで、放電空間の四方を囲むこと
で、隔壁リブ２２４の強度がさらに増大すると共に、縦
方向クロストークやノイズをさらに低減することが可能
になる。また、本実施形態では、反射防止溝２２４ｃが
形成されることになるので、さらにコントラストの向上
を図ることができる。なお、本実施形態において、断続
的に形成してある横リブ要素２２４ｂの間に反射防止溝
２２４ｃを形成することなく、２列の横リブ要素２２４
ｂを連続させて、一列の幅広横リブとしても良い。その
幅広横リブの構成は、断続的である以外は、図３に示す
幅広な横リブ２４ｂと共通している。幅広横リブから成
る中実の柱状リブとすることにより、図３に示す幅広横
リブ２４ｂと同様な作用効果を奏する。 （その他の実施形態）なお、本発明は、上述した実施形
態に限定されるものではなく、本発明の範囲内で種々に
改変することができる。
【００６３】たとえば、本発明では、プラズマ表示装置
の具体的な構造は、図１〜図６に示す実施形態に限定さ
れず、その他の構造であっても良い。
の具体的な構造は、図１〜図６に示す実施形態に限定さ
れず、その他の構造であっても良い。
【００６４】
【実施例】以下、本発明を、さらに詳細な実施例に基づ
き説明するが、本発明は、これら実施例に限定されな
い。
き説明するが、本発明は、これら実施例に限定されな
い。
【００６５】実施例１
第１パネル１０は、以下の方法で作製した。先ず、高歪
点ガラスやソーダガラスから成る第１基板１１の全面に
たとえばスパッタリング法によりＩＴＯ層を形成し、フ
ォトリソグラフィ技術およびエッチング技術によりＩＴ
Ｏ層をストライプ状にパターニングすることによって、
一対の放電維持電極１２を、複数、形成した。
点ガラスやソーダガラスから成る第１基板１１の全面に
たとえばスパッタリング法によりＩＴＯ層を形成し、フ
ォトリソグラフィ技術およびエッチング技術によりＩＴ
Ｏ層をストライプ状にパターニングすることによって、
一対の放電維持電極１２を、複数、形成した。
【００６６】次に、第１基板１１の内面全面に、たとえ
ば蒸着法によりアルミニウム膜を形成し、フォトリソグ
ラフィ技術およびエッチング技術によりアルミニウム膜
をパターニングすることによって、各放電維持電極１２
の縁部に沿ってバス電極１３を形成した。
ば蒸着法によりアルミニウム膜を形成し、フォトリソグ
ラフィ技術およびエッチング技術によりアルミニウム膜
をパターニングすることによって、各放電維持電極１２
の縁部に沿ってバス電極１３を形成した。
【００６７】その後、バス電極１３が形成された第１基
板１１の内面全面にシリコン酸化物（たとえばＳｉ
Ｏ２）層から成る誘電体層１４を形成した。このシリコ
ン酸化物（ＳｉＯ２ ）層の厚みは、約６μｍであっ
た。
板１１の内面全面にシリコン酸化物（たとえばＳｉ
Ｏ２）層から成る誘電体層１４を形成した。このシリコ
ン酸化物（ＳｉＯ２ ）層の厚みは、約６μｍであっ
た。
【００６８】次に、このシリコン酸化物層から成る誘電
体層１４の上に電子ビーム蒸着法により厚さ０．６μｍ
の酸化マグネシウム（ＭｇＯ）から成る保護層１５を形
成した。以上の工程により第１パネル１０を完成するこ
とができた。
体層１４の上に電子ビーム蒸着法により厚さ０．６μｍ
の酸化マグネシウム（ＭｇＯ）から成る保護層１５を形
成した。以上の工程により第１パネル１０を完成するこ
とができた。
【００６９】また、第２パネル２０を以下の方法で作製
した。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第２
の基板２１上に、アドレス電極２２を形成した。次に、
スクリーン印刷法により全面に低融点ガラスペースト層
を形成し、この低融点ガラスペースト層を形成し、この
低融点ガラスペースト層を焼成することによって絶縁体
膜２３を形成した。
した。先ず、高歪点ガラスやソーダガラスから成る第２
の基板２１上に、アドレス電極２２を形成した。次に、
スクリーン印刷法により全面に低融点ガラスペースト層
を形成し、この低融点ガラスペースト層を形成し、この
低融点ガラスペースト層を焼成することによって絶縁体
膜２３を形成した。
【００７０】その後、絶縁体膜２３上に、たとえばスク
リーン印刷法により低融点ガラスペーストを印刷した。
その後、この第２基板２１を、焼成炉内で焼成し、図１
〜図３に示すパターンの隔壁リブ２４を形成した。この
時の焼成（隔壁リブ焼成工程）は、空気中で行い、焼成
温度は、５６０°Ｃ程度、焼成時間は、２時間程度であ
った。
リーン印刷法により低融点ガラスペーストを印刷した。
その後、この第２基板２１を、焼成炉内で焼成し、図１
〜図３に示すパターンの隔壁リブ２４を形成した。この
時の焼成（隔壁リブ焼成工程）は、空気中で行い、焼成
温度は、５６０°Ｃ程度、焼成時間は、２時間程度であ
った。
【００７１】次に、第２基板２１に形成された隔壁リブ
２４の間に３原色の蛍光体層スラリーを順次印刷した。
その後、この第２基板２１を、焼成炉内で焼成し、隔壁
リブ２４の間の絶縁体膜上から隔壁リブ２４の側壁面上
に亘って、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成し、
５１０°Ｃおよび１０分の焼成を行い、第２パネル２０
を完成させた。
２４の間に３原色の蛍光体層スラリーを順次印刷した。
その後、この第２基板２１を、焼成炉内で焼成し、隔壁
リブ２４の間の絶縁体膜上から隔壁リブ２４の側壁面上
に亘って、蛍光体層２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂを形成し、
５１０°Ｃおよび１０分の焼成を行い、第２パネル２０
を完成させた。
【００７２】次に、プラズマ表示装置の組み立てを行っ
た。即ち、先ず、スクリーン印刷により、第２パネル２
０の周縁部にシール層を形成した。次に、第１パネル１
０と第２パネル２０とを貼り合わせ、焼成してシール層
を硬化させた。その後、第１パネル１０と第２パネル２
０との間に形成された空間を排気した後、放電ガスを封
入し、かかる空間を封止し、プラズマ表示装置２を完成
させた。放電ガスとしては、Ｘｅ１００％を用い、３０
ｋＰａの圧力で封入した。
た。即ち、先ず、スクリーン印刷により、第２パネル２
０の周縁部にシール層を形成した。次に、第１パネル１
０と第２パネル２０とを貼り合わせ、焼成してシール層
を硬化させた。その後、第１パネル１０と第２パネル２
０との間に形成された空間を排気した後、放電ガスを封
入し、かかる空間を封止し、プラズマ表示装置２を完成
させた。放電ガスとしては、Ｘｅ１００％を用い、３０
ｋＰａの圧力で封入した。
【００７３】このプラズマ表示装置について、表示画面
におけるコントラストの測定を行った。測定に際して
は、ＪＩＳ Ｃ６１０１−１９８８によるテレビジョン
受信機試験方法に基づき行った。本実施例では、コント
ラストの評価の基準である黒濃度比が、２６．３であっ
た。黒濃度比は、その値が低いほど、コントラストが高
いと判断できる。なお、本実施例では、隔壁リブ２４
は、黒色であり、絶縁体膜２３は、透明であった。ま
た、本実施例では、放電ギャップＷ１が、２０μｍであ
り、画素間隣接隙間の幅Ｗ２は、横リブの幅Ｗ２と同じ
２２４μｍであり、縦リブの幅Ｗ４は５０μｍであっ
た。
におけるコントラストの測定を行った。測定に際して
は、ＪＩＳ Ｃ６１０１−１９８８によるテレビジョン
受信機試験方法に基づき行った。本実施例では、コント
ラストの評価の基準である黒濃度比が、２６．３であっ
た。黒濃度比は、その値が低いほど、コントラストが高
いと判断できる。なお、本実施例では、隔壁リブ２４
は、黒色であり、絶縁体膜２３は、透明であった。ま
た、本実施例では、放電ギャップＷ１が、２０μｍであ
り、画素間隣接隙間の幅Ｗ２は、横リブの幅Ｗ２と同じ
２２４μｍであり、縦リブの幅Ｗ４は５０μｍであっ
た。
【００７４】比較例１
横リブの幅を縦リブの幅と同じ５０μｍとした以外は、
実施例１と同様にして、プラズマ表示装置を製作し、同
様な測定を行った。コントラストの評価の基準である黒
濃度比が、３６．７であった。
実施例１と同様にして、プラズマ表示装置を製作し、同
様な測定を行った。コントラストの評価の基準である黒
濃度比が、３６．７であった。
【００７５】実施例２
横リブのパターンを図４〜図６に示すパターンとし、横
リブ要素１２４ｂの幅Ｗ５を５０μｍとした以外は、実
施例１と同様にして、プラズマ表示装置を製作し、同様
な測定を行った。コントラストの評価の基準である黒濃
度比が、２３．７であった。
リブ要素１２４ｂの幅Ｗ５を５０μｍとした以外は、実
施例１と同様にして、プラズマ表示装置を製作し、同様
な測定を行った。コントラストの評価の基準である黒濃
度比が、２３．７であった。
【００７６】実施例３
横リブのパターンを図４〜図６に示すパターンとし、横
リブ要素１２４ｂの幅Ｗ５を５０μｍとし、絶縁体膜２
３を黒色とした以外は、実施例１と同様にして、プラズ
マ表示装置を製作し、同様な測定を行った。コントラス
トの評価の基準である黒濃度比が、２２．１であった。
リブ要素１２４ｂの幅Ｗ５を５０μｍとし、絶縁体膜２
３を黒色とした以外は、実施例１と同様にして、プラズ
マ表示装置を製作し、同様な測定を行った。コントラス
トの評価の基準である黒濃度比が、２２．１であった。
【００７７】評価
実施例１と比較例１とを比較して分かるように、横リブ
の幅を幅広とするのみで、コントラストが向上すること
が確認できた。また、実施例１と実施例２とを比較して
分かるように、各横リブを二列構造とするのみで、さら
にコントラストが向上することが確認できた。さらに、
実施例２と実施例３とを比較して分かるように、絶縁膜
２３を黒色にすることのみで、さらにコントラストが向
上することが確認できた。
の幅を幅広とするのみで、コントラストが向上すること
が確認できた。また、実施例１と実施例２とを比較して
分かるように、各横リブを二列構造とするのみで、さら
にコントラストが向上することが確認できた。さらに、
実施例２と実施例３とを比較して分かるように、絶縁膜
２３を黒色にすることのみで、さらにコントラストが向
上することが確認できた。
【００７８】
【発明の効果】以上説明してきたように、本発明によれ
ば、比較的に簡単な手法により、表示画面におけるコン
トラストの向上を図ることが可能なプラズマ表示装置を
提供することができる。
ば、比較的に簡単な手法により、表示画面におけるコン
トラストの向上を図ることが可能なプラズマ表示装置を
提供することができる。
【図１】 図１は本発明の一実施形態に係るプラズマ表
示装置の要部概略分解斜視図である。
示装置の要部概略分解斜視図である。
【図２】 図２は図１に示すIII−III線に沿う要部断面
図である。
図である。
【図３】 図３は隔壁リブのパターンと放電維持電極と
の関係を示す平面図である。
の関係を示す平面図である。
【図４】 図４は本発明の他の実施形態に係るプラズマ
表示装置の要部概略分解斜視図である。
表示装置の要部概略分解斜視図である。
【図５】 図５は図１に示すV−V線に沿う要部断面図で
ある。
ある。
【図６】 図６は隔壁リブのパターンと放電維持電極と
の関係を示す平面図である。
の関係を示す平面図である。
【図７】 図７は本発明の他の実施形態に係る隔壁リブ
のパターンを示す要部平面図である。
のパターンを示す要部平面図である。
２，１０２… プラズマ表示装置
４… 放電空間
１０… 第１パネル
１１… 第１基板
１２… 放電維持電極
１３… バス電極
１４… 誘電体層
１５… 保護層
２０，１２０… 第２パネル
２１… 第２基板
２２… アドレス電極
２３… 絶縁体膜
２４，１２４，２２４… 隔壁リブ
２４ａ，１２４ａ，２２４ａ… 縦リブ
２４ｂ… 横リブ
１２４ｂ，２２４ｂ… 横リブ要素
１２４ｃ… 反射防止溝
２５Ｒ，２５Ｇ，２５Ｂ… 蛍光体層
フロントページの続き
(72)発明者 森 啓
東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ
ー株式会社内
(72)発明者 川口 英広
東京都品川区北品川６丁目７番35号 ソニ
ー株式会社内
Ｆターム(参考） 5C040 FA01 FA04 GB03 GB14 GD07
GF03 GF12 GH06 KA08 KB14
KB19 LA02 LA03 LA12 LA14
MA02
Claims (31)
- 【請求項１】 第１基板の内側に第１方向に沿って相互
に略平行に形成される複数対の放電維持電極と、 前記放電維持電極を覆うように前記第１基板の内側に形
成される誘電体層と、 第２基板の内側に形成され、前記第１基板と第２基板と
の間に、密封された放電空間を形成するための隔壁リブ
とを有し、 前記隔壁リブが、前記第１方向と略直交する第２方向に
沿って略平行に形成された縦リブと、前記第１方向に沿
って略平行に形成された横リブとを有し、 前記横リブのリブ幅が、前記縦リブのリブ幅よりも大き
いことを特徴とするプラズマ表示装置。 - 【請求項２】 前記横リブのリブ幅が、前記縦リブのリ
ブ幅に対して、２〜８倍のサイズであることを特徴とす
る請求項１に記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項３】 前記横リブのリブ幅が、前記縦リブのリ
ブ幅に対して、４〜８倍のサイズであることを特徴とす
る請求項１に記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項４】 前記横リブは、１画素を構成する一対の
前記放電維持電極と、他の１画素を構成する一対の前記
放電維持電極との間に存在する画素間隣接隙間に対応す
る位置に配置してある請求項１〜３のいずれかに記載の
プラズマ表示装置。 - 【請求項５】 前記放電維持電極は、実質的に透明であ
り、 各放電維持電極における前記画素間隣接隙間側の端部に
は、実質的に不透明な比較的に低抵抗のバス電極が各放
電維持電極の長手方向に沿って接続して形成してあり、 前記横リブのリブ幅が、前記画素間隣接隙間の幅に対し
て、０．６〜１．２倍のサイズである請求項４に記載の
プラズマ表示装置。 - 【請求項６】 前記横リブの少なくとも頂部が黒色また
は黒色に近い色であることを特徴とする請求項１〜５の
いずれかに記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項７】 前記第２基板の表面には、前記第２方向
に沿って相互に略平行に延びるアドレス電極が形成して
あり、 前記アドレス電極を覆うように、前記第２基板の表面に
黒色または黒色に近い色の絶縁体膜が形成してあり、こ
の絶縁体膜の表面に前記隔壁リブが形成してある請求項
１〜６のいずれかに記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項８】 第１基板の内側に第１方向に沿って相互
に略平行に形成される複数対の放電維持電極と、 前記放電維持電極を覆うように前記第１基板の内側に形
成される誘電体層と、 第２基板の内側に形成され、前記第１基板と第２基板と
の間に、密封された放電空間を形成するための隔壁リブ
とを有し、 前記隔壁リブが、前記第１方向と略直交する第２方向に
沿って略平行に形成された縦リブと、前記第１方向に沿
って略平行に形成された横リブとを有し、 前記横リブのそれぞれが、二列以上の横リブ要素で構成
してあることを特徴とするプラズマ表示装置。 - 【請求項９】 前記横リブ要素の相互間には、反射防止
溝が形成してあることを特徴とする請求項８に記載のプ
ラズマ表示装置。 - 【請求項１０】 前記横リブ要素の各リブ幅が、前記縦
リブのリブ幅と略等しいことを特徴とする請求項８また
は９に記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項１１】 二列以上の前記横リブ要素から成る各
横リブのリブ幅が、前記縦リブのリブ幅に対して、１〜
６倍のサイズであることを特徴とする請求項８〜１０の
いずれかに記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項１２】 二列以上の前記横リブ要素から成る各
横リブのリブ幅が、前記縦リブのリブ幅に対して、４〜
６倍のサイズであることを特徴とする請求項８〜１０の
いずれかに記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項１３】 前記横リブは、１画素を構成する一対
の前記放電維持電極と、他の１画素を構成する一対の前
記放電維持電極との間に存在する画素間隣接隙間に対応
する位置に配置してある請求項８〜１２のいずれかに記
載のプラズマ表示装置。 - 【請求項１４】 前記放電維持電極は、実質的に透明で
あり、 各放電維持電極における前記画素間隣接隙間側の端部に
は、実質的に不透明な比較的に低抵抗のバス電極が各放
電維持電極の長手方向に沿って接続して形成してあり、 前記各横リブのリブ幅が、前記画素間隣接隙間の幅に対
して、０．７〜２．０倍のサイズである請求項１３に記
載のプラズマ表示装置。 - 【請求項１５】 前記横リブ要素の少なくとも頂部がそ
れぞれ黒色または黒色に近い色であることを特徴とする
請求項８〜１４のいずれかに記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項１６】 前記第２基板の表面には、前記第２方
向に沿って相互に略平行に延びるアドレス電極が形成し
てあり、 前記アドレス電極を覆うように、前記第２基板の表面に
黒色または黒色に近い色の絶縁体膜が形成してあり、こ
の絶縁体膜の表面に前記隔壁リブが形成してある請求項
８〜１５のいずれかに記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項１７】 第１基板の内側に第１方向に沿って相
互に略平行に形成される複数対の放電維持電極と、 前記放電維持電極を覆うように前記第１基板の内側に形
成される誘電体層と、 第２基板の内側に形成され、前記第１基板と第２基板と
の間に、密封された放電空間を形成するための隔壁リブ
とを有し、 前記隔壁リブが、前記第１方向と略直交する第２方向に
沿って蛇行状またはジグザグ状に形成された縦リブと、
前記第１方向に沿って略平行に形成された横リブとを有
し、 前記横リブのリブ幅が、前記縦リブのリブ幅よりも大き
いことを特徴とするプラズマ表示装置。 - 【請求項１８】 前記横リブのリブ幅が、前記縦リブの
リブ幅に対して、２〜８倍のサイズであることを特徴と
する請求項１７に記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項１９】 前記横リブのリブ幅が、前記縦リブの
リブ幅に対して、４〜８倍のサイズであることを特徴と
する請求項１７に記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項２０】 前記横リブは、前記第１方向に沿って
断続的に形成してあり、 前記横リブが途切れた部分に対応して、隔壁リブで囲ま
れた放電空間が形成されるようになっている請求項１７
〜１９のいずれかに記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項２１】 前記横リブの少なくとも頂部がそれぞ
れ黒色または黒色に近い色であることを特徴とする請求
項１７〜２０のいずれかに記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項２２】 前記第２基板の表面には、前記第２方
向に沿って相互に略平行に延びるアドレス電極が形成し
てあり、 前記アドレス電極を覆うように、前記第２基板の表面に
黒色または黒色に近い色の絶縁体膜が形成してあり、こ
の絶縁体膜の表面に前記隔壁リブが形成してある請求項
１７〜２１のいずれかに記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項２３】 第１基板の内側に第１方向に沿って相
互に略平行に形成される複数対の放電維持電極と、 前記放電維持電極を覆うように前記第１基板の内側に形
成される誘電体層と、 第２基板の内側に形成され、前記第１基板と第２基板と
の間に、密封された放電空間を形成するための隔壁リブ
とを有し、 前記隔壁リブが、前記第１方向と略直交する第２方向に
沿って蛇行状またはジグザグ状に形成された縦リブと、
前記第１方向に沿って略平行に形成された横リブとを有
し、 前記横リブのそれぞれが、二列以上の横リブ要素で構成
してあることを特徴とするプラズマ表示装置。 - 【請求項２４】 前記横リブ要素の相互間には、反射防
止溝が形成してあることを特徴とする請求項２３に記載
のプラズマ表示装置。 - 【請求項２５】 前記横リブ要素の各リブ幅が、前記縦
リブのリブ幅と略等しいことを特徴とする請求項２３ま
たは２４に記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項２６】 二列以上の前記横リブ要素から成る各
横リブのリブ幅が、前記縦リブのリブ幅に対して、１〜
６倍のサイズであることを特徴とする請求項２３〜２５
のいずれかに記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項２７】 二列以上の前記横リブ要素から成る各
横リブのリブ幅が、前記縦リブのリブ幅に対して、４〜
６倍のサイズであることを特徴とする請求項２３〜２５
のいずれかに記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項２８】 前記横リブは、前記第１方向に沿って
断続的に形成してあり、 前記横リブが途切れた部分に対応して、隔壁リブで囲ま
れた放電空間が形成されるようになっている請求項２３
〜２７のいずれかに記載のプラズマ表示装置。 - 【請求項２９】 前記放電維持電極は、実質的に透明で
あり、 各放電維持電極における前記画素間隣接隙間側の端部に
は、実質的に不透明な比較的に低抵抗のバス電極が各放
電維持電極の長手方向に沿って接続して形成してあり、 前記各横リブのリブ幅が、前記画素間隣接隙間の幅に対
して、０．７〜２．０倍のサイズである請求項２８に記
載のプラズマ表示装置。 - 【請求項３０】 前記横リブ要素の少なくとも頂部がそ
れぞれ黒色または黒色に近い色であることを特徴とする
請求項２３〜２９のいずれかに記載のプラズマ表示装
置。 - 【請求項３１】 前記第２基板の表面には、前記第２方
向に沿って相互に略平行に延びるアドレス電極が形成し
てあり、 前記アドレス電極を覆うように、前記第２基板の表面に
黒色または黒色に近い色の絶縁体膜が形成してあり、こ
の絶縁体膜の表面に前記隔壁リブが形成してある請求項
２３〜３０のいずれかに記載のプラズマ表示装置。
Priority Applications (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002176018A JP2003132805A (ja) | 2001-08-14 | 2002-06-17 | プラズマ表示装置 |
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Applications Claiming Priority (3)
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|---|---|---|---|
| JP2001245909 | 2001-08-14 | ||
| JP2001-245909 | 2001-08-14 | ||
| JP2002176018A JP2003132805A (ja) | 2001-08-14 | 2002-06-17 | プラズマ表示装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003132805A true JP2003132805A (ja) | 2003-05-09 |
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Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002176018A Pending JP2003132805A (ja) | 2001-08-14 | 2002-06-17 | プラズマ表示装置 |
Country Status (2)
| Country | Link |
|---|---|
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