JP2003130995A

JP2003130995A - 放射線像変換パネル及びその製造方法

Info

Publication number: JP2003130995A
Application number: JP2001323315A
Authority: JP
Inventors: Katsuya Kishinami; 勝也岸波; Takafumi Yanagida; 貴文柳多
Original assignee: Konica Minolta Inc
Current assignee: Konica Minolta Inc
Priority date: 2001-10-22
Filing date: 2001-10-22
Publication date: 2003-05-08

Abstract

(57)【要約】【課題】輝度−鮮鋭度バランスで表される画像特性が
優れた放射線像変換パネル及びその製造方法を提供する
こと。【解決手段】支持体上に少なくとも複数の着色下引き
層、蛍光体を含有する蛍光体層をこの順に有する放射線
像変換パネルの製造方法において、該着色下引き層の着
色濃度が、蛍光体層側から徐々に高くなることを特徴と
する放射線像変換パネルの製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、放射線像変換パネ
ル、特に輝尽性蛍光体を用いる放射線像変換パネル及び
その製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】従来の放射線写真法に代わる放射線像記
録再生方法として、例えば特開昭５５−１２１４５号に
記載されているような輝尽性蛍光体を用いる放射線像記
録再生方法が知られている。

【０００３】この方法は、輝尽性蛍光体を含有する放射
線像変換パネル（蓄積性蛍光体シート）を利用するもの
で、被写体を透過した、あるいは被検体から発せられた
放射線をパネルの輝尽性蛍光体に吸収させ、その後に輝
尽性蛍光体を可視光線、紫外線等の電磁波（励起光）で
時系列的に励起することにより、輝尽性蛍光体中に蓄積
されている放射線エネルギーを蛍光（輝尽発光光）とし
て放出させ、この蛍光を光電的に読み取って電気信号を
得、次いで得られた電気信号に基づいて被写体あるいは
被検体の放射線画像を可視像として再生するものであ
る。読み取りを終えたパネルは、残存する画像の消去が
行われた後、次の撮影のために備えられる。すなわち、
放射線像変換パネルは繰り返し使用することができる。
上記の放射線像記録再生方法によれば、従来の放射線写
真フィルムと増感紙との組み合わせを用いる放射線写真
法による場合に比較して、はるかに少ない被爆線量で情
報量の豊富な放射線画像を得ることができるという利点
がある。

【０００４】さらに、従来の放射線写真法では１回の撮
影毎に放射線写真フィルムを消費するのに対して、この
放射線像変換方法では放射線像変換パネルを繰り返し使
用するので、資源保護、経済効率の面からも有利であ
る。

【０００５】輝尽性蛍光体は放射線を照射した後、励起
光を照射すると輝尽発光を示す蛍光体であるが、実用上
では波長が４００〜９００ｎｍの範囲にある励起光によ
って３００〜５００ｎｍの波長範囲の輝尽発光を示す蛍
光体が一般的に利用される。

【０００６】放射線像記録再生方法に用いられる放射線
像変換パネルは、基本構造として、支持体とその表面に
設けられた蛍光体層からなるものである。蛍光体層は、
通常は輝尽性蛍光体とこれを分散状態で含有支持する結
合剤とからなる。但し、蛍光体層としては、蒸着法や焼
結法によって形成される結合剤を含まないで輝尽性蛍光
体の凝集体のみから構成されるものが知られている。ま
た、輝尽性蛍光体の凝集体の間隙に高分子物質が含浸さ
れている輝尽性蛍光体を有する放射線像変換パネルも知
られている。

【０００７】これらのいずれの蛍光体層でも、輝尽性蛍
光体はＸ線等の放射線を吸収した後励起光の照射を受け
ると輝尽発光を示す性質を有するものであるから、被写
体を透過したあるいは被検体から発せられた放射線は、
その放射線量に比例して放射線像変換パネルの蛍光体層
に吸収され、パネルには被写体あるいは被検体の放射線
像が放射線エネルギーの蓄積像として形成される。

【０００８】この蓄積像は、上記励起光を照射すること
により輝尽発光光として放出させることができ、この輝
尽発光光を光電的に読み取って電気信号に変換すること
により放射線エネルギーの蓄積像を画像化することが可
能となる。

【０００９】なお、蛍光体層の表面（支持体に面してい
ない側の表面）には通常、ポリマーフィルムあるいは無
機物の蒸着膜からなる保護層（保護フィルム）が設けら
れていて、蛍光体層を化学的な変質あるいは物理的な衝
撃から保護している。

【００１０】従来、放射線像変換パネルに用いられてき
た輝尽性蛍光体の例としては下記のものが一例として挙
げられる。

【００１１】（１）特開昭５５−１２１４５号に記載さ
れている（Ｂａ_1-x、Ｍ²⁺ _x）ＦＸ：ｙＡ（但し、Ｍ²⁺は
Ｍｇ、Ｃａ、Ｓｒ、Ｚｎ及びＣｄのうちの少なくとも一
種、ＸはＣｌ、Ｂｒ及びＩのうちの少なくとも一種、Ａ
はＥｕ、Ｔｂ、Ｃｅ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｐｒ、Ｈｏ、Ｎｄ、
Ｙｂ及びＥｒのうち少なくとも一種、そしてｘは０≦ｘ
≦０．６、ｙは０≦ｙ≦０．２である）の組成式で表わ
される希土類元素付活アルカリ土類金属弗化ハロゲン化
物蛍光体；また、この蛍光体には以下のような添加物が
含まれていてもよい；特開昭５６−７４１７５号に記載
されている、Ｘ′、ＢｅＸ″、Ｍ₃Ｘ″′₃（ただし、
Ｘ′、Ｘ″、及びＸ″′はそれぞれＣｌ、Ｂｒ及びＩの
うち少なくとも一種であり、Ｍ₃は３価金属である）；
特開昭５５−１６００７８号に記載されているＢｅＯ、
ＭｇＯ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、
Ｙ₂Ｏ₃、Ｌａ₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｌＯ₂、Ｚｒ
Ｏ₂、ＧｅＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅及びＴｈ
Ｏ₂等の金属酸化物；特開昭５６−１１６７７７号に記
載されているＺｒ、Ｓｃ；特開昭５７−２３６７３号に
記載されているＢ；特開昭５７−２３６７５号に記載さ
れているＡｓ、Ｓｉ；特開昭５８−２０６６７８号に記
載されているＭ・Ｌ（ただし、ＭはＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒ
ｂ、及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種の
アルカリ金属であり；ＬはＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐ
ｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅ
ｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、Ｌｕ、Ａｌ、Ｇａ、Ｉｎ、及びＴｌか
らなる群より選ばれる少なくとも一種の３価金属であ
る）；特開昭５９−２７９８０号に記載されているテト
ラフルオロホウ酸化合物の焼成物；特開昭５９−２７２
８９号に記載されているヘキサフルオロケイ酸、ヘキサ
フルオロチタン酸及びヘキサフルオロジルコニム酸の１
価もしくは２価金属の塩の焼成物；特開昭５９−５６４
７９号に記載されているＮａＸ′（ただし、Ｘ′はＣ
ｌ、Ｂｒ及びＩのうちの少なくとも一種である）；特開
昭５９−５６４８０号に記載されているＶ、Ｃｒ、Ｍ
ｎ、Ｆｅ、Ｃｏ及びＮｉ等の遷移金属；特開昭５９−７
５２００号に記載されているＭ¹Ｘ′、Ｍ²Ｘ″、Ｍ
³Ｘ″′、Ａ（ただし、Ｍ¹はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ、及
びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアルカ
リ金属であり、Ｍ²はＢｅ及びＭｇからなる群より選ば
れる少なくとも一種の２価金属であり；Ｍ³はＡｌ、Ｇ
ａ、Ｉｎ、及びＴｌからなる群より選ばれる少なくとも
一種の３価金属であり；Ａは金属酸化物であり；Ｘ′、
Ｘ″及びＸ″′はそれぞれＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからな
る群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである）；
特開昭６０−１０１１７３号に記載されているＭ¹Ｘ′
（ただし、Ｍ¹はＲｂ及びＣｓからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘ′はＦ、Ｃ
ｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種
のハロゲンである）；特開昭６１−２３６７９号に記載
されているＭ²′Ｘ′₂・Ｍ²′Ｘ″₂（ただし、Ｍ²′
は、Ｂａ、Ｓｒ及びＣａからなる群より選ばれる少なく
とも一種のアルカリ土類金属であり、Ｘ′及びＸ″はそ
れぞれＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なく
とも一種のハロゲンであって、かつＸ′≠Ｘ″であ
る）；及び特開昭６１−２６４０８４号に記載されてい
るＬｎＸ″₃（ただし、ＬｎはＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｃｅ、
Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｇｄ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅ
ｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕからなる群より選ばれる少なく
とも一種の希土類元素であり；Ｘ″はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及
びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲン
である）。

【００１２】（２）特開昭６０−８４３８１号に記載さ
れているＭ²Ｘ₂・ａＭ²′₂：ｘＥｕ ²⁺（ただし、Ｍ²及
びＭ²′はＢａ、Ｓｒ及びＣａからなる群より選ばれる
少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣｌ、
Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハ
ロゲンであり；そしてａは０．１≦ａ≦０．０、ｘは０
＜ｘ≦０．２である）の組成式で表わされる２価ユーロ
ピウム付活アルカリ土類金属ハロゲン化物蛍光体；ま
た、この蛍光体には以下のような添加物が含まれていて
もよい；特開昭６０−１６６３７９号に記載されている
Ｍ¹Ｘ″（ただし、Ｍ¹はＲｂ及びＣｓからなる群より選
ばれる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘ″は
Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくと
も一種のハロゲンである）；特開昭６０−２２１４８３
号に記載されているＫＸ″、ＭｇＸ″′₂、Ｍ³Ｘ″″₃
（ただし、Ｍ³はＳｃ、Ｙ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからな
る群より選ばれる少なくとも一種の３価金属であり；
Ｘ″、Ｘ″′及びＸ″″はいずれもＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及び
Ｉからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンで
ある）；特開昭６０−２２８５９２号に記載されている
Ｂ；特開昭６０−２２８５９３号に記載されているＳｉ
Ｏ₂、Ｐ₂Ｏ₅等の酸化物；特開昭６１−１２０８８２号
に記載されているＬｉＸ″、ＮａＸ″（ただし、Ｘ″は
Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくと
も一種のハロゲンである）；特開昭６１−１２０８８３
号に記載されているＳｉＯ₂；特開昭６１−１２０８８
５号に記載されているＳｎＸ″₂（ただし、Ｘ″はＦ、
Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一
種のハロゲンである）；特開昭６１−２３５４８６号に
記載されているＣｓＸ″、ＳｎＸ″′₂（ただし、Ｘ″
及びＸ″′はそれぞれＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群
より選ばれる少なくとも一種のハロゲンである）；及
び、特開昭６１−２３５４８７号に記載されているＣｓ
Ｘ″、Ｌｎ³⁺（ただし、Ｘ″はＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩか
らなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであ
り；ＬｎはＳｃ、Ｙ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｇｄ、
Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅｒ、Ｔｍ、Ｙｂ及びＬｕからなる
群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素である）。

【００１３】（３）特開昭５５−１２１４４号に記載さ
れているＬｎＯＸ：ｘＡ、（式中、ＬｎはＬａ、Ｙ、Ｇ
ｄ、及びＬｕのうち少なくとも一つ；ＸはＣｌ、Ｂｒ、
及びＩのうち少なくとも一つ；ＡはＣｅ及びＴｂのうち
少なくとも一つ；ｘは、０＜ｘ＜０．１である）の組成
式で表される希土類元素付活希土類オキシハライド蛍光
体。

【００１４】（４）特開昭５８−６９２８１号に記載さ
れているＭ（II）ＯＸ：ｘＣｅ、（式中、Ｍ（II）はＰ
ｒ、Ｎｄ、Ｐｍ、Ｓｍ、Ｅｕ、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｅ
ｒ、Ｔｍ、Ｙｂ、及びＢｉからなる群より選ばれる少な
くとも一種の酸化金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ、及びＩ
のうち少なくとも一つであり；ｘは０＜ｘ＜０．１であ
る）の組成式で表されるセリウム付活３価金属オキシハ
ライド蛍光体。

【００１５】（５）特開昭６２−２５１８９号に記載さ
れているＭ（Ｉ）Ｘ：ｘＢｉ、（式中、Ｍ（Ｉ）はＲｂ
及びＣｓからなる群より選ばれる少なくとも一種のアル
カリ金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より
選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてｘは
０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成式で表され
るビスマス付活アルカリ金属ハロゲン化物蛍光体。

【００１６】（６）特開昭６０−１４１７８３号に記載
されているＭ（II）₅（ＰＯ₄）₃Ｘ：ｘＥｕ²⁺、（式
中、Ｍ（II）はＣａ、Ｓｒ及びＢａからなる群より選ば
れる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；Ｘは
Ｆ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくと
も一種のハロゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の
数値である）の組成式で表される２価ユーロピウム付活
アルカリ土類金属ハロリン酸塩蛍光体。

【００１７】（７）特開昭６０−１５７０９９号に記載
されているＭ（II）₂ＢＯ₃Ｘ：ｘＥｕ²⁺、（式中、Ｍ
（II）はＣａ、Ｓｒ及びＢａからなる群より選ばれる少
なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣｌ、Ｂ
ｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）
の組成式で表される２価ユーロピウム付活アルカリ土類
金属ハロホウ酸塩蛍光体。

【００１８】（８）特開昭６０−１５７１００号に記載
されているＭ（II）₂（ＰＯ₄）₃Ｘ：ｘＥｕ²⁺、（式
中、Ｍ（II）はＣａ、Ｓｒ及びＢａからなる群より選ば
れる少なくとも一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣ
ｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種
のハロゲンであり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値で
ある）の組成式で表される２価ユーロピウム付活アルカ
リ土類金属ハロリン酸塩蛍光体。

【００１９】（９）特開昭６０−２１７３５４号に記載
されているＭ（II）ＨＸ：ｘＥｕ²⁺、（式中、Ｍ（II）
はＣａ、Ｓｒ及びＢａからなる群より選ばれる少なくと
も一種のアルカリ土類金属であり；ＸはＣｌ、Ｂｒ及び
Ｉからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンで
あり；ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）の組成
式で表される２価ユーロピウム付活アルカリ土類金属水
素化ハロゲン化物蛍光体。

【００２０】（１０）特開昭６１−２１１７３号に記載
されているＬｎＸ₃・ａＬｎ′Ｘ′₃：ｘＣｅ³⁺、（式
中、Ｌｎ及びＬｎ′はそれぞれＹ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕ
からなる群より選ばれる少なくとも一種の希土類元素で
あり；Ｘ及びＸ′はそれぞれＦ、Ｃｌ、Ｂｒ及びＩから
なる群より選ばれる少なくとも一種のハロゲンであっ
て、かつＸ≠Ｘ′であり；そしてａは０．１＜ａ≦１
０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲
の数値である）の組成式で表されるセリウム付活希土類
複合ハロゲン化物蛍光体。

【００２１】（１１）特開昭６１−２１１８２号に記載
されているＬｎＸ₃・ａＭ（Ｉ）Ｘ′３：ｘＣｅ³⁺、
（式中、ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より
選ばれる少なくとも一種の希土類元素であり；Ｍ（Ｉ）
はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｃｓ及びＲｂからなる群より選ばれ
る少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘ及びＸ′は
それぞれＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少な
くとも一種のハロゲンであり；そしてａは０＜ａ≦１
０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲
の数値である）の組成式で表されるセリウム付活希土類
複合ハロゲン化物系蛍光体。

【００２２】（１２）特開昭６１−４０３９０号に記載
されているＬｎＰＯ₄・ａＬｎＸ₃：ｘＣｅ³⁺、（式中、
ＬｎはＹ、Ｌａ、Ｇｄ及びＬｕからなる群より選ばれる
少なくとも一種の希土類元素であり；ＸはＦ、Ｃｌ、Ｂ
ｒ及びＩからなる群より選ばれる少なくとも一種のハロ
ゲンであり；そしてａは０．１≦ａ≦１０．０の範囲の
数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の範囲の数値である）
の組成式で表されるセリウム付活希土類ハロ燐酸塩蛍光
体。

【００２３】（１３）特開昭６１−２３６８８８号に記
載されているＣｓＸ：ａＲｂＸ′：ｘＥｕ²⁺、（式中、
Ｘ及びＸ′はそれぞれＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より
選ばれる少なくとも一種のハロゲンであり；そしてａは
０＜ａ≦１０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦
０．２の範囲の数値である）の組成式で表される２価ユ
ーロピウム付活ハロゲン化セシウム・ルビジウム蛍光
体。

【００２４】（１４）特開昭６１−２３６８９０号に記
載されているＭ（II）Ｘ₂・ａＭ（Ｉ）Ｘ′：ｘＥ
ｕ²⁺、（式中、Ｍ（II）はＢａ、Ｓｒ及びＣａからなる
群より選ばれる少なくとも一種のアルカリ土類金属であ
り；Ｍ（Ｉ）はＬｉ、Ｒｂ及びＣｓからなる群より選ば
れる少なくとも一種のアルカリ金属であり；Ｘ及びＸ′
はそれぞれＣｌ、Ｂｒ及びＩからなる群より選ばれる少
なくとも一種のハロゲンであり；そしてａは０．１≦ａ
≦２０．０の範囲の数値であり、ｘは０＜ｘ≦０．２の
範囲の数値である）の組成式で表される２価ユーロピウ
ム付活複合ハロゲン化物蛍光体。

【００２５】上記の輝尽性蛍光体のうちで、ヨウ素を含
有する２価ユーロピウム付活アルカリ土類金属弗化ハロ
ゲン化物系蛍光体、ヨウ素を含有する２価ユーロピウム
付活アルカリ土類金属ハロゲン化物系蛍光体、ヨウ素を
含有する希土類元素付活希土類オキシハロゲン化物系蛍
光体、及びヨウ素を含有するビスマス付活アルカリ金属
ハロゲン化物系蛍光体は高輝度の輝尽発光を示す。

【００２６】放射線像変換パネルを使用した放射線画像
変換方式の優劣は、パネルの輝尽性発光輝度（感度とも
いう）及び得られる粒状性や鮮鋭度に代表される画質に
大きく左右され、これらの特性の多くは用いる輝尽性蛍
光体の特性や蛍光体層の形態に大きく影響される。特に
輝度に優れ、且つ、鮮鋭性にも優れている放射線像変換
パネルとしては、まだ、満足すべきレベルとは言えない
現状である。

【００２７】例えば、特公平４−７５４８０号には粒子
径の違う蛍光体を混合し、鮮鋭度と粒状性を向上させる
手法が紹介されているが、ただ粒子径が異なるだけでは
鮮鋭度、粒状性のバランスのよい向上には不十分であっ
た。

【００２８】放射線像変換パネルの発光輝度や画像の鮮
鋭度、粒状度等は、蛍光体粒子の大小、蛍光体の分散
性、蛍光体の均一性、充填率等に左右されるが、特に蛍
光体充填率が大きく影響する。充填率向上の手段として
は、特開平３−２１８９８号にガラス転移点（以下、Ｔ
ｇともいう）３０〜１５０℃の樹脂を使用し、輝尽性蛍
光体の充填率が７０％以上の放射線像変換パネルが開示
されており、達成手段として蛍光体層（以下単に塗膜と
もいう）の圧縮が示されている。放射線像変換パネル
は、使用に際してフィルムやロールと室温条件下で摺擦
されるため、使用する結合剤樹脂のＴｇは３０℃以上が
好ましいと考えられる。しかしＴｇの高い樹脂を結合剤
樹脂として使用すると、塗膜が乾燥途中で変形しにくく
なり充填率が高くなりにくい。また出来た塗膜を圧縮す
る場合、樹脂の軟化特性が悪いため蛍光体に負荷がかか
り発光体の結晶構造の破壊等による発光の低下が生じ
る。また、樹脂を軟化させるために圧縮温度を高くする
必要が有り生産性が悪化する等の問題があった。

【００２９】また、特公平４−４４７１９号には圧縮処
理により蛍光体層の充填率を向上させる方法が開示され
ているが、圧縮処理に用いるロールの材質に関する記載
は一切なく、単に加熱ロール間を通すだけでは、圧縮が
不十分であったり、蛍光体を破壊したりする問題が発生
することが判明した。

【００３０】鮮鋭性あるいはコントラストの悪化を防止
するためには、保護フィルムを薄くし、保護フィルム内
部での励起光の伝搬距離を短くする方法が考えられる
が、その作用とは別に保護層の薄膜化による防湿性や耐
傷性の低下が問題となる。

【００３１】また鮮鋭性及びコントラストの向上に関し
ては、特公昭５９−２３４００号には放射線像変換パネ
ルの、支持体、下引き層、蛍光体層、中間層、保護層の
いずれかを励起光を吸収する色で着色する方法が示され
ているが、これら各層の着色部位やその着色度等によっ
ては、輝度−鮮鋭度バランスが逆に悪化する問題があっ
た。着色部位、着色度等を調整したとしてもそのバラン
スは不十分であった。

【００３２】また、特開昭６０−２００２００号では蛍
光体層と保護層間の接着剤層を着色する方法が開示され
ているが、これらの方法により鮮鋭性及びコントラスト
を高めると上記の画像ムラや線状ノイズがより顕著にな
ってくるという問題点があった。これらの鮮鋭性及びコ
ントラストの悪化や画像ムラや線状ノイズがひどい場合
は、医療診断用に使用される放射線像変換パネルにとっ
ては致命的な欠陥となるため、早急な改良が要望されて
いる。

【００３３】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、輝度
−鮮鋭度バランスで表される画像特性が優れた放射線像
変換パネル及びその製造方法を提供することである。

【００３４】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記手段により達成される。

【００３５】１．支持体上に少なくとも複数の着色下引
き層、蛍光体を含有する蛍光体層をこの順に有する放射
線像変換パネルの製造方法において、該着色下引き層の
着色濃度が、蛍光体層側から徐々に高くなることを特徴
とする放射線像変換パネルの製造方法。

【００３６】２．蛍光体が前記一般式（１）で表される
ことを特徴とする上記１に記載の放射線像変換パネルの
製造方法。

【００３７】３．蛍光体が前記一般式（２）で表される
ことを特徴とする上記１に記載の放射線像変換パネルの
製造方法。

【００３８】４．上記１〜３の何れか１項に記載の製造
方法で製造することを特徴とする放射線像変換パネル。

【００３９】以下、本発明を詳細に説明する。本発明者
は鋭意研究の結果、支持体上に少なくとも複数の着色下
引き層、蛍光体を含有する蛍光体層をこの順に有し、着
色下引き層の着色濃度が、蛍光体層側から徐々に高くな
る放射線像変換パネルにより、輝度−鮮鋭度バランスで
表される画像特性が優れた放射線像変換パネルが得られ
ることを見出した。

【００４０】また、本発明の効果をより発現するために
は、さらに、請求項２、３に記載するように特定の化学
式で表される蛍光体であることが好ましい。

【００４１】（放射線像変換パネルの構成）本発明の放
射線像変換パネルは、基本構造として、支持体、複数の
着色下引き層とその表面に設けられた蛍光体層からなる
ものである。その他、必要により導電層、中間層、接着
剤層、保護層を設けることがある。

【００４２】下引き層は、樹脂、着色剤を含有する。蛍
光体層は、通常は輝尽性蛍光体とこれを分散状態で含有
支持する結合剤とからなり、その他分散剤、可塑剤等の
添加剤を含有する。

【００４３】（下引き層）本発明では、輝度−鮮鋭度バ
ランスで表される画像特性を向上させ、同時に支持体と
蛍光体層との接着性を向上させるため複数の着色した下
引き層を設ける。

【００４４】下引き層には輝尽発光成分はほとんど吸収
せず、余分な励起光成分を吸収させる着色剤を含有させ
着色する。そしてこの着色濃度が、蛍光体層側から徐々
に高くなるようにすることで輝度−鮮鋭度バランスが優
れたものになる。

【００４５】放射線を放射線像変換パネルに照射した
後、蛍光体層側からレーザー光等の励起光で読み取りを
行う。着色は励起光成分の吸収はあるが、輝尽発光成分
の吸収は少ないものなので、蛍光体層側の濃度が高いと
そこで励起光成分が吸収され、輝度（感度）が低くな
る。しかし、蛍光体層側から徐々に高くなるようにする
と、支持体の励起光成分の反射光も利用でき、輝度（感
度）も保てる。

【００４６】着色濃度が徐々に高くなるようにする方法
としては、まず、支持体上に着色濃度の高い下引き層を
塗布、乾燥しておき、その後着色濃度の低い下引き層を
塗布、乾燥して積層する方法がよい。必要があればさら
に積層してもよい。

【００４７】着色濃度の高い下引き層の色素と樹脂の質
量比は、膜厚にもよるが、０．０５：９９．９５〜１：
９９がよく、０．０７：９９．９３〜０．５：９９．５
が好ましい。また膜厚としては３〜５０μｍが好まし
く、５〜４０μｍがより好ましい。着色濃度の低い下引
き層の色素と樹脂の質量比は、膜厚にもよるが、０：１
００〜０．５：９９．５が好ましく、０．０３：９９．
９７〜０．３：９９．７がより好ましい。また膜厚は、
着色濃度の高い下引き層と同じくらいでよい。

【００４８】〈樹脂〉本発明に係る下引き層は、溶剤に
溶解した樹脂を塗布、乾燥して形成する。樹脂として
は、具体的には、ゼラチン等の蛋白質、デキストラン等
のポリサッカライド、アラビアゴムのような天然高分子
物質、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニトロ
セルロース、エチルセルロース、塩化ビニリデン、塩化
ヒ゛ニルコポリマー、ポリアクリル（メタ）アクリレー
ト、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタ
ン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアル
コール、線状ポリエステル等のような合成高分子等によ
り代表される樹脂を挙げることができる。好ましい樹脂
は、ポリエステル、ポリウレタンである。

【００４９】これらの樹脂は架橋剤によって架橋された
ものであってもよい。架橋剤としてはイソシアネート及
びその誘導体が好ましい。

【００５０】〈溶剤〉下引き層の作製に用いる溶剤とし
ては、メタノール、エタノール、ｎ−プロパノール、ｎ
−ブタノール等の低級アルコール、メチレンクロライ
ド、エチレンクロライド等の塩素原子含有炭化水素、ア
セトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン
等のケトン、トルエン、ベンゼン、キシレン等の芳香族
化合物、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸ブチル等の低級
脂肪酸と低級アルコールとのエステル、ジオキサン、エ
チレングリコールモノエチルエステル、エチレングリコ
ールモノメチルエステル等のエーテル及びそれらの混合
物を挙げることができる。

【００５１】〈着色剤〉本発明に係る下引き層は輝尽性
蛍光体の余分な励起光に起因する鮮鋭性の劣化を防止す
るため、余分な励起光を吸収する機能を有することが必
要である。ここで、励起光を吸収する方法を具体的に説
明すると、励起光を選択的に吸収する色素、顔料等の着
色剤を下引き層に含有させ、吸収させる。

【００５２】色素や顔料等の着色剤としては、励起光の
励起波長及び放射線像変換パネルに用いる輝尽性蛍光体
の輝尽発光波長によって異なるが、青色〜緑色の有機系
もしくは無機系の着色剤が好ましく用いられる。

【００５３】青色〜緑色の有機系着色剤の例としては、
ザボンファーストブルー３Ｇ（ヘキスト社製）、エスト
ロールブリルブルーＮ−３ＲＬ（住友化学（株）製）、
スミアクリルブルーＦ−ＧＳＬ（住友化学（株）製）、
Ｄ＆ＣブルーＮｏ１（ナショナル・アニリン社製）、ス
ピリットブルー（保土谷化学（株）製）、オイルブルー
Ｎｏ６０３（オリエント（株）製）、キトンブルーＡ
（チバ・ガイギー社製）、アイゼンカチロンブルーＧＬ
Ｈ（保土谷化学（株）製）、レイクブルーＡ、Ｆ、Ｈ
（協和産業（株）製）、ローダリンブルー６ＧＸ（協和
産業（株）製）、ブリモシアニン６ＧＸ（稲畑産業
（株）製）、ブリルアシッドグリーン６ＢＨ（保土谷化
学（株）製）、シアニンブルーＢＮＲＳ（東洋インキ
（株）製）、ライオノルブルーＳＬ（東洋インキ（株）
製）が挙げられる。青色〜緑色の無機系着色剤の例とし
ては、群青、コバルトブルー、セルリアンブルー、酸化
クロム、ＴｉＯ₂−ＺｎＯ−ＣｏＯ−ＮｉＯ系顔料が挙
げられるが、本発明はこれらに限定されない。

【００５４】また、本発明に係る下引き層は、特に放射
線像変換パネルの輝度を良好に保つ観点から、下引き層
における輝尽励起光ピーク波長の反射吸光度／輝尽発光
ピーク波長の反射吸光度比が２以上であることが好まし
く、更に好ましくは２〜１０であり、特に好ましくは２
〜８である。

【００５５】ここで、下引き層の励起光ピーク波長にお
ける反射吸光度は、着色している部分を露出させ、分光
光度計（例えば、日立製作所社製Ｕ−３３００）にて積
分球を使用して測定することができる。下引き層の測定
に際しては、蛍光体層を除去し、下引き層を露出させて
測定し、次いで、吸光度測定値の励起光ピーク波長にお
ける吸光度／輝尽発光ピーク波長の吸光度比を求める。
輝尽発光波長について複数のピークを持つ蛍光体を使用
する場合は最も発光強度の高いピークを選択し、そのピ
ーク波長を使用する。

【００５６】（蛍光体層）〈蛍光体〉次に、本発明の蛍光体層に用いられる蛍光体
について説明する。

【００５７】本発明に好ましく用いられる希土類付活ア
ルカリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体の製造
方法の代表的な態様を以下に詳しく説明する。

【００５８】液相法による輝尽性蛍光体前駆体製造につ
いては、公知の前駆体製造方法及び装置が好ましく利用
できる。ここで輝尽性蛍光体前駆体とは、前記一般式
（１）または（２）の物質が６００℃以上の高温を経て
いない状態を示し、輝尽性蛍光体前駆体は輝尽発光性や
瞬時発光性を殆ど示さない。

【００５９】本発明では以下の液相合成法により前駆体
を得ることが好ましい。前記一般式（１）または（２）
で示される希土類付活アルカリ土類金属弗化沃化物系輝
尽性蛍光体の製造は、粒子形状の制御が難しい固相法で
はなく、粒径の制御が容易である液相法により行うこと
が好ましい。特に、下記の２つの液相製造法により輝尽
性蛍光体を得ることが好ましい。

【００６０】《液相製造法１》母液がＢａＩ₂とＬｎの
ハロゲン化物を含み、前記一般式（１）または（２）の
ｘが０でない場合にはさらにＭ₂のハロゲン化物を、そ
して前記一般式（１）の場合はさらにＭ₁のハロゲン化
物を含み、それらが溶解した後、ＢａＩ₂濃度が２ｍｏ
ｌ／Ｌ以上、好ましくは２．７ｍｏｌ／Ｌ以上の溶液を
調製する工程；上記溶液を５０℃以上、好ましくは８０
℃以上の温度に維持しながら、これに濃度５ｍｏｌ／Ｌ
以上、好ましくは８ｍｏｌ／Ｌ以上の無機弗化物（弗化
アンモニウムまたはアルカリ金属の弗化物）の溶液を添
加して、希土類付活アルカリ土類金属弗化沃化物系輝尽
性蛍光体前駆体結晶の沈澱物を得る工程；上記前駆体結
晶沈澱物を反応液から分離する工程；そして、分離した
前駆体結晶沈澱物を焼結を避けながら焼成する工程を含
む製造方法である。

【００６１】《液相製造法２》母液がハロゲン化アンモ
ニウムとＬｎのハロゲン化物を含み、前記一般式（１）
または（２）のｘが０でない場合にはさらにＭ₂のハロ
ゲン化物を、前記一般式（１）の場合にはさらにＭ₁の
ハロゲン化物を含み、それが溶解した後、ハロゲン化ア
ンモニウム濃度が３ｍｏｌ／Ｌ以上、好ましくは４ｍｏ
ｌ／Ｌ以上の溶液を調整する工程；上記溶液を５０℃以
上、好ましくは８０℃以上の温度に維持しながら、これ
に濃度５ｍｏｌ／Ｌ以上、好ましくは８ｍｏｌ／Ｌ以上
の無機弗化物（弗化アンモニウムまたはアルカリ金属の
弗化物）の水溶液とＢａＩ₂の水溶液とを前者の弗素と
後者のＢａとの比率を一定に維持しながら連続的もしく
は間欠的に添加して希土類付活アルカリ土類金属弗化沃
化物系輝尽性蛍光体前駆体結晶の沈殿物を得る工程；上
記の前駆体結晶沈殿物を水溶液から分離する工程；そし
て、分離した前駆体結晶沈殿物を焼結を避けながら焼成
する工程を含む製造方法である。

【００６２】尚、上記２つの製造方法で、Ｌｎのハロゲ
ン化物の添加時期は特に問わず、添加開始時に予め反応
母液等にあってもよく、また無機弗化物（弗化アンモニ
ウムもしくはアルカリ金属の弗化物）水溶液の添加時、
及び無機弗化物（弗化アンモニウムもしくはアルカリ金
属の弗化物）の水溶液とＢａＩ₂の水溶液の添加時に同
時または後で添加してもよい。

【００６３】本発明に係る粒子（結晶）は、平均粒径が
１〜１０μｍで、かつ単分散性のものが好ましく、平均
粒径が１〜５μｍ、平均粒径の分布が２０％以下のもの
がより好ましく、特に平均粒径が１〜３μｍ、平均粒径
の分布が１５％以下のものが好ましい。

【００６４】本発明における平均粒径とは、粒子（結
晶）の電子顕微鏡写真より無作為に粒子２００個を選
び、球換算の体積粒子径で平均を求めたものである。

【００６５】以下に輝尽性蛍光体の上記製造法の詳細に
ついて説明する。〈前駆体結晶、輝尽性蛍光体〉最初に、水系媒体を用い
て弗素化合物以外の原料化合物を溶解させる。即ち、Ｂ
ａＩ₂とＬｎのハロゲン化物、そして必要によりさらに
Ｍ₂のハロゲン化物、そしてさらにＭ₁のハロゲン化物を
水系媒体中に入れ、充分に混合し、溶解させて、それら
が溶解した水溶液を調製する。ただし、ＢａＩ₂濃度が
２ｍｏｌ／Ｌ以上となるように、ＢａＩ₂濃度と水系溶
媒との量比を調整しておく。この時、所望により少量の
酸、アンモニア、アルコール、水溶性高分子ポリマー、
水不溶性金属酸化物微粒子粉体等を添加してもよい。こ
の水溶液（反応母液）は５０℃に維持される。

【００６６】次に、この５０℃に維持され、撹拌されて
いる水溶液に、無機弗化物（弗化アンモニウムまたはア
ルカリ金属の弗化物等）の水溶液をポンプ付きのパイプ
等を用いて注入する。この注入は、撹拌が特に激しく実
施されている領域部分に行うのが好ましい。この無機弗
化物水溶液の反応母液への注入によって、前記一般式
（１）または（２）に該当する希土類付活アルカリ土類
金属弗化ハロゲン化物系蛍光体前駆体結晶が沈澱する。

【００６７】次に、上記の蛍光体前駆体結晶を、濾過、
遠心分離等により溶液から分離し、メタノール等で充分
に洗浄し、乾燥する。この乾燥蛍光体前駆体結晶に、ア
ルミナ微粉末、シリカ微粉末等の焼結防止剤を添加、混
合し、結晶表面に焼結防止剤微粉末を均一に付着させ
る。尚、焼成条件を選ぶことにより焼結防止剤の添加を
省略することも可能である。

【００６８】次に、蛍光体前駆体の結晶を、石英ポー
ト、アルミナ坩堝、石英坩堝等の耐熱性容器に充填し、
電気炉の炉心に入れて焼結を避けながら焼成を行う。焼
成温度は４００〜１，３００℃の範囲が適当であり、５
００〜１，０００℃の範囲が好ましい。焼成時間は、蛍
光体原料混合物の充填量、焼成温度及び炉からの取出し
温度等によっても異なるが、一般には０．５〜１２時間
が適当である。

【００６９】焼成雰囲気としては、窒素ガス雰囲気、ア
ルゴンガス雰囲気等の中性雰囲気、あるいは少量の水素
ガスを含有する窒素ガス雰囲気、一酸化炭素を含有する
二酸化炭素雰囲気等の弱還元性雰囲気、あるいは微量酸
素導入雰囲気が利用される。

【００７０】上記の焼成によって目的の希土類付活アル
カリ土類金属弗化ハロゲン化物系輝尽性蛍光体が得られ
る。

【００７１】〈結合剤〉蛍光体層に用いられる結合剤の
例としては、ゼラチン等の蛋白質、デキストラン等のポ
リサッカライド、またはアラビアゴムのような天然高分
子物質、ポリビニルブチラール、ポリ酢酸ビニル、ニト
ロセルロース、エチルセルロース、塩化ビニリデン−塩
化ビニルコポリマー、ポリアルキル（メタ）アクリレー
ト、塩化ビニル−酢酸ビニルコポリマー、ポリウレタ
ン、セルロースアセテートブチレート、ポリビニルアル
コール、線状ポリエステル等のような、通常、層構成に
用いられる造膜性の合成高分子等により代表される結合
剤を挙げることができる。これらの中で特に好ましいも
のは、ニトロセルロース、線状ポリエステル、ポリアル
キル（メタ）アクリレート、ニトロセルロースと線状ポ
リエステルとの混合物、ニトロセルロースとポリアルキ
ル（メタ）アクリレートとの混合物及びポリウレタンと
ポリビニルブチラールとの混合物である。尚、これらの
結合剤は、架橋剤によって架橋されたものでもよい。

【００７２】蛍光体層は、例えば次のような方法により
下引き層上に形成することができる。

【００７３】まず、沃素含有輝尽性蛍光体、黄変防止の
ための亜燐酸エステル等の化合物及び結合剤を適当な溶
剤に添加し、これらを充分に混合して結合剤溶液中に蛍
光体粒子及び亜燐酸エステル等の化合物の粒子が均一に
分散した塗布液を調製する。

【００７４】一般に、結合剤は輝尽性蛍光体１質量部に
対して０．０１〜１質量部の範囲で使用される。しかし
ながら得られる放射線像変換パネルの輝度と鮮鋭性の点
では結合剤は少ない方が好ましく、塗布の容易さとの兼
ね合いから輝尽性蛍光体１質量部に対して０．０３〜
０．２質量部がより好ましい。

【００７５】〈溶剤〉蛍光体層塗布液の調製に用いられ
る溶剤の例としては、メタノール、エノタール、１−プ
ロパノール、２−プロパノール、ブタノール等の低級ア
ルコール；メチレンクロライド、エチレンクロライド等
の塩素原子含有炭化水素；アセトン、メチルエチルケト
ン、メチルイソブチルケトン等のケトン；酢酸メチル、
酢酸エチル、酢酸ブチル等の低級脂肪酸と低級アルコー
ルとのエステル；ジオキサン、エチレングリコールエチ
ルエーテル、エチレングリコールモノメチルエーテル等
のエーテル；トルエン；そして、それらの混合物を挙げ
ることができる。

【００７６】〈添加剤〉尚、塗布液には塗布液中におけ
る蛍光体の分散性を向上させるための分散剤、また、形
成後の蛍光体層中における結合剤と蛍光体との結合力を
向上させるための可塑剤等、種々の添加剤を混合しても
よい。そのような目的に用いられる分散剤の例として
は、フタル酸、ステアリン酸、カプロン酸、親油性界面
活性剤等を挙げることができる。また、可塑剤の例とし
ては、燐酸トリフェニル、燐酸トリクレジル、燐酸ジフ
ェニル等の燐酸エステル；フタル酸ジエチル、フタル酸
ジメトキシエチル等のフタル酸エステル；グリコール酸
エチルフタリルエチル、グリコール酸ブチルフタリルブ
チル等のグリコール酸エステル；トリエチレングリコー
ルとアジピン酸とのポリエステル、ジエチレングリコー
ルとコハク酸とのポリエステル等のポリエチレングリコ
ールと脂肪族二塩基酸とのポリエステル等を挙げること
ができる。

【００７７】蛍光体層用塗布液の調製は、ボールミル、
サンドミル、アトライター、三本ロールミル、高速イン
ペラー分散機、Ｋａｄｙミル、及び超音波分散機等の分
散装置を用いて行われる。このようにして調製した塗布
液を、下引き層の表面に均一に塗布することにより塗膜
を形成する。この塗布操作は通常の塗布手段、例えばド
クターブレード、ロールコーター、ナイフコーター等を
用いて行うことができる。次いで、形成された塗膜を徐
々に加熱することにより乾燥し、下引き層上への蛍光体
層の形成を完了する。

【００７８】蛍光体層の膜厚は目的とする放射線像変換
パネルの特性、輝尽蛍光体の種類、結合剤と蛍光体の混
合比等によって異なるが、１０〜１０００μｍが好まし
く、１０〜５００μｍがより好ましく、さらに１５０〜
３００μｍが最も好ましい。

【００７９】（支持体）本発明の放射線像変換パネルに
用いられる支持体としては、各種高分子材料が用いられ
る。特に情報記録材料としての取扱い上、可撓性のある
シートまたはウェブに加工できるものが好適であり、こ
の点から言えばポリエステル、ポリエチレンテレフタレ
ート、ポリアミド、ポリイミド、トリアセチルセルロー
ス、ポリカーボネート等のプラスチックフィルムが好ま
しく、特にポリエチレンテレフタレートフィルムが好ま
しい。

【００８０】支持体の製造方法は素材により異なるが、
例えば、本発明に好ましく用いられるポリエチレンテレ
フタレートフィルムは溶融延伸製膜方法により製造され
る。ポリエチレンテレフタレートを１５０℃で真空乾燥
した後、２７０℃にて溶融後、ダイから押し出し、冷却
ドラム上で急冷して未延伸フィルムを得る。この未延伸
フィルムを、ロール式縦延伸機を用いて８５℃で３．４
倍の縦延伸を行い、続いてテンター式横延伸機を用いて
９０℃で３．４倍の横延伸を行い、二軸延伸ポリエチレ
ンテレフタレートフィルムを得る。

【００８１】これらの支持体の厚さは、用いる支持体の
材質等によって異なるが、一般的には１０〜１０００μ
ｍであり、本発明では取扱い上の点から５０〜２５０μ
ｍが好ましい。

【００８２】これらの支持体の表面は滑面であってもよ
いし、蛍光体層との接着性を向上させる目的でマット面
としてもよい。

【００８３】これらの支持体は熱により収縮する性質が
あり、放射線像変換パネルを作製するために支持体上に
蛍光体層等を塗布乾燥する際に支持体の変形により蛍光
体層等の塗布性が劣化し、膜厚分布が悪くなり、塗布故
障が増加することがある。このため、本発明に用いられ
る支持体の熱収縮率はできるだけ小さいことが好まし
い。

【００８４】

【実施例】以下本発明を実施例により具体的に説明する
が、本発明はこれらに限定されない。

【００８５】実施例１（下引き層塗布液１）ポリエステル樹脂溶液（東洋紡（株）製バイロン２０ＳＳ：固形分３０質量％）１９０．５８ｇ β−銅フタロシアニン分散液（固形分３５質量％、顔料分３０質量％）０．１６ｇ硬化剤コロネートＨＸ８．９ｇ以上を混合し、プロペラミキサーで分散し、着色濃度の
高い下引き層塗布液１を調製した。

【００８６】この下引き層塗布液１を発泡ＰＥＴ支持体
（東レ（株）製１８８Ｅ６０Ｌ）上に塗布、１００℃で
５分乾燥し、２０μｍ厚の下引き層１を有する中間体１
を作製した。

【００８７】（下引き層塗布液２）ポリエステル樹脂溶液（東洋紡（株）製バイロン２０ＳＳ：固形分３０質量％）１９０．６５ｇ β−銅フタロシアニン分散液（固形分３５質量％、顔料分３０質量％）０．０８ｇ硬化剤コロネートＨＸ（日本ポリウレタン社製）８．９ｇ以上を混合し、プロペラミキサーで分散し、着色濃度の
低い下引き層塗布液２を調製した。

【００８８】この下引き層塗布液２を上記中間体１上に
塗布、１００℃で５分乾燥し、２０μｍ厚の下引き層２
を有する中間体２を作製した。

【００８９】（蛍光体シートの作製）次に、ユーロピウ
ム付活弗化沃化バリウムの輝尽性蛍光体前駆体を合成す
るために、ＢａＩ₂水溶液（４．０ｍｏｌ／Ｌ）２５０
０ｍｌとＥｕＢｒ₃水溶液（０．２ｍｏｌ／Ｌ）１２５
ｍｌを反応器に入れた。この反応器中の反応母液を撹拌
しながら７０℃で保温した。弗化アンモニウム水溶液
（８ｍｏｌ／Ｌ）２５０ｍｌを反応母液中にローラーポ
ンプを用いて注入し、沈殿物を生成させた。注入終了後
も保温と撹拌を２時間続けて沈殿物の熟成を行った。

【００９０】次に沈殿物を濾別後、エタノールにより洗
浄した後、真空乾燥させてユーロピウム付活弗化沃化バ
リウムの結晶を得た。

【００９１】焼成時の焼結により粒子形状の変化、粒子
間融着による粒子サイズ分布の変化を防止するためにア
ルミナの超微粒子粉体を０．１質量％添加し、ミキサー
で充分撹拌して結晶表面にアルミナの超微粒子粉体を均
一に付着させた。

【００９２】これを石英ボートに充填してチューブ炉を
用いて水素ガス雰囲気中、８５０℃で２時間焼成してユ
ーロピウム付活弗化沃化バリウム蛍光体粒子を得た。

【００９３】次に上記蛍光体粒子を分級することにより
平均粒径３μｍの粒子を得た。蛍光体層形成材料とし
て、上記で得たユーロピウム付活弗化沃化バリウム蛍光
体４２７ｇ、ポリエステル樹脂（東洋紡（株）製バイロ
ン５３０）１８ｇをメチルエチルケトンとトルエン、シ
クロヘキサノンの混合溶媒に添加し、プロペラミキサー
によって分散し、固形分７７質量％の塗布液を調製し
た。

【００９４】この塗布液をドクターブレードを用いて、
上記中間体２上に塗布した後、１００℃で１５分間乾燥
し、２４０μｍの蛍光体層を形成し、蛍光体シート１を
得た。

【００９５】（保護フィルムの作製と封止）下記に示す
方法で、防湿性の保護フィルムを作製した。下記構成で
表されるアルミナ蒸着ポリエチレンテレフタレート樹脂
層を含む積層保護フィルムＡを、蛍光体シート１の蛍光
体層側に被せ、減圧下で周縁部をインパルスシーラーを
用いて融着、封止した。

【００９６】また、蛍光体シート１の支持体側の保護フ
ィルムとしては、キャスティングポリプロピレン（ＣＰ
Ｐ）３０μｍ、アルミフィルム９μｍ、ポリエチレンテ
レフタレート（ＰＥＴ）１８８μｍの構成よりなるドラ
イラミネートフィルムを用いた。接着剤層の厚みは１．
５μｍで２液反応型のウレタン系接着剤を使用した。

【００９７】積層保護フィルムＡ：ＶＭＰＥＴ１２／／
／ＶＭＰＥＴ１２／／／ＰＥＴ／／／ＣＰＰ２０ＶＭＰＥＴは、アルミナ蒸着したポリエチレンテレフタ
レート（市販品：東洋メタライジング社製）を表し、Ｐ
ＥＴはポリエチレンテレフタレート、ＣＰＰはキャステ
ィングポリプロピレンを表す。また、上記「／／／」
は、ドライラミネーション接着層における２液反応型の
ウレタン系接着剤層の厚みが３．０μｍであることを表
し、各樹脂フィルムの後に表示した数字は各フィルムの
膜厚（μｍ）を表す。

【００９８】以上の方法により下引き層、蛍光体層を有
する放射線像変換パネル１を得た。次に、放射線像変換
パネル１の作製において、下引き層塗布液１、２を表１
に示すように変更した以外は、同様にして放射線像変換
パネル２、３を得た。

【００９９】また、放射線像変換パネル１の作製におい
て、下引き層塗布液１を表１に示すように変更し、下引
き層塗布液２を削除した以外は、同様にして放射線像変
換パネル４、５を得た。

【０１００】これらの放射線像変換パネル１〜５につい
て、下記方法で輝度及び鮮鋭度を評価した。その結果を
表１に示す。

【０１０１】（輝度）輝度は、放射線像変換パネルに管
電圧８０ｋＶｐのＸ線を照射した後、放射線像変換パネ
ルをＨｅ−Ｎｅレーザー光（６３３ｎｍ）で励起し、蛍
光体層から放射される輝尽発光を受光器（分光感度Ｓ−
５の光電子像倍管）で受光してその強度を測定した。表
中の輝度は蛍光体面全体の平均値であり、放射線像変換
パネル１の輝度を１．００とした場合の相対値である。

【０１０２】（鮮鋭度）鮮鋭度は、放射線像変換パネル
に鉛製のＭＴＦチャートを通して管電圧８０ｋＶｐのＸ
線を照射した後、放射線像変換パネルをＨｅ−Ｎｅレー
ザー光（６３３ｎｍ）で励起し、蛍光体層から放射され
る輝尽発光を上記と同じ受光器で受光して電気信号に変
換し、これをアナログ／デジタル変換して磁気テープに
記録し、磁気テープをコンピューターで分析して磁気テ
ープに記録されているＸ線像の変調伝達関数（ＭＴＦ）
を調べた。表１には空間周波数２本／ｍｍにおけるＭＴ
Ｆ値（％）が示されている。ＭＴＦ値が高いほど鮮鋭性
がよい。鮮鋭度は３０％以上が好ましい。

【０１０３】

【表１】

【０１０４】

【発明の効果】本発明により、輝度−鮮鋭度バランスで
表される画像特性が優れた放射線像変換パネル及びその
製造方法を提供することができる。

フロントページの続きＦターム(参考） 2G083 AA03 BB01 CC08 DD02 DD12 EE02 EE03 4H001 CA04 CA08 XA04 XA09 XA12 XA20 XA35 XA38 XA53 XA56 YA03 YA08 YA11 YA19 YA37 YA58 YA59 YA60 YA62 YA63 YA64 YA65 YA66 YA67 YA68 YA69

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】支持体上に少なくとも複数の着色下引き
層、蛍光体を含有する蛍光体層をこの順に有する放射線
像変換パネルの製造方法において、該着色下引き層の着
色濃度が、蛍光体層側から徐々に高くなることを特徴と
する放射線像変換パネルの製造方法。
【請求項２】蛍光体が下記一般式（１）で表されるこ
とを特徴とする請求項１に記載の放射線像変換パネルの
製造方法。一般式（１）Ｂａ_(1-x)Ｍ_2(x)ＦＢｒ_(y)Ｉ_(1-y)：ａＭ₁，ｂＬｎ，ｃ
Ｏ（式中、Ｍ₁はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓからなる
群より選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属、Ｍ₂は
Ｂｅ、Ｍｇ、Ｓｒ及びＣａから選ばれる少なくとも１種
のアルカリ土類金属、ＬｎはＣｅ、Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、
Ｇｄ、Ｔｂ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｅｒ及びＹｂか
ら選ばれる少なくとも１種の希土類元素を表し、ｘ、
ｙ、ａ、ｂ及びｃは、それぞれ０≦ｘ≦０．３、０＜ｙ
≦０．３、０≦ａ≦０．０５、０＜ｂ≦０．２、０≦ｃ
≦０．１である。）
【請求項３】蛍光体が下記一般式（２）で表されるこ
とを特徴とする請求項１に記載の放射線像変換パネルの
製造方法。一般式（２）Ｂａ_(1-x)Ｍ_2(x)ＦＩ：ａＭ₁，ｂＬｎ，ｃＯ（式中、Ｍ₁はＬｉ、Ｎａ、Ｋ、Ｒｂ及びＣｓからなる
群より選ばれる少なくとも１種のアルカリ金属、Ｍ₂は
Ｂｅ、Ｍｇ、Ｓｒ及びＣａから選ばれる少なくとも１種
のアルカリ土類金属、ＬｎはＣｅ、Ｐｒ、Ｓｍ、Ｅｕ、
Ｇｄ、Ｔｂ、Ｔｍ、Ｄｙ、Ｈｏ、Ｎｄ、Ｅｒ及びＹｂか
ら選ばれる少なくとも１種の希土類元素を表し、ｘ、
ａ、ｂ及びｃは、それぞれ０≦ｘ≦０．３、０≦ａ≦
０．０５、０＜ｂ≦０．２、０≦ｃ≦０．１である。）
【請求項４】請求項１〜３の何れか１項に記載の製造
方法で製造することを特徴とする放射線像変換パネル。