JP2003129232A - Ｍｏ系スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 - Google Patents
Ｍｏ系スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法Info
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- JP2003129232A JP2003129232A JP2001324671A JP2001324671A JP2003129232A JP 2003129232 A JP2003129232 A JP 2003129232A JP 2001324671 A JP2001324671 A JP 2001324671A JP 2001324671 A JP2001324671 A JP 2001324671A JP 2003129232 A JP2003129232 A JP 2003129232A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 大型化に適し、酸素量の低減化を達成したＭ
ｏ系スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法を
提供する。 【解決手段】 本発明は、粉末の圧密体からなる複数の
ブロックが接合してなるスパッタリング用ターゲットで
あって、酸素含有量が１００ｐｐｍ以下であるＭｏ系ス
パッタリング用ターゲットである。本発明においては、
粉末の圧密体からなる複数のブロックを、実質的に同組
成とすることにより、均一組成の大型ターゲットを得る
ことが可能になる。本発明のスパッタリング用ターゲッ
トは、たとえば原料粉末を圧縮成形した複数のブロック
を、加圧容器に入れ込み、熱間静水圧プレスにより接合
することにより得ることができる。そして、原料粉末を
圧縮後、水素雰囲気中で焼結したブロックとすること
で、ターゲットの酸素量の低減に有効である。
ｏ系スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法を
提供する。 【解決手段】 本発明は、粉末の圧密体からなる複数の
ブロックが接合してなるスパッタリング用ターゲットで
あって、酸素含有量が１００ｐｐｍ以下であるＭｏ系ス
パッタリング用ターゲットである。本発明においては、
粉末の圧密体からなる複数のブロックを、実質的に同組
成とすることにより、均一組成の大型ターゲットを得る
ことが可能になる。本発明のスパッタリング用ターゲッ
トは、たとえば原料粉末を圧縮成形した複数のブロック
を、加圧容器に入れ込み、熱間静水圧プレスにより接合
することにより得ることができる。そして、原料粉末を
圧縮後、水素雰囲気中で焼結したブロックとすること
で、ターゲットの酸素量の低減に有効である。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、特に大型化に適し
たＭｏ系スパッタリング用ターゲットおよびその製造方
法に関するものである。
たＭｏ系スパッタリング用ターゲットおよびその製造方
法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】従来、スパッタリング用ターゲットの製
造には、粉末冶金法あるいは溶製法が用いられてきた。
溶製法によるものは、鋳造した鋳塊から所定のターゲッ
ト形状を切り出すか、あるいは熱間加工もしくは冷間加
工により鋳塊を所定の形状に加工する方法が一般的であ
る。また、一体物のターゲットではなく、溶製法により
製造した別種のターゲット片を組み合わせターゲット全
体として所望の組成となるようにした複合ターゲットも
知られている。例えば特開平６−２０４２２６号に示さ
れるように、放射状に配置するタイプや、直方体のター
ゲットを横並びに配置したターゲット等である。
造には、粉末冶金法あるいは溶製法が用いられてきた。
溶製法によるものは、鋳造した鋳塊から所定のターゲッ
ト形状を切り出すか、あるいは熱間加工もしくは冷間加
工により鋳塊を所定の形状に加工する方法が一般的であ
る。また、一体物のターゲットではなく、溶製法により
製造した別種のターゲット片を組み合わせターゲット全
体として所望の組成となるようにした複合ターゲットも
知られている。例えば特開平６−２０４２２６号に示さ
れるように、放射状に配置するタイプや、直方体のター
ゲットを横並びに配置したターゲット等である。
【０００３】粉末冶金法によるものは、合金を粉砕して
得られた粉末を高温高圧ガス雰囲気中で熱間静水圧プレ
ス処理して製造する方法が知られている。例えば特開昭
６１−６０８０３号がその例である。粉末冶金法は、溶
製法では製造困難な高融点系の材料や、偏析が生じ易く
ターゲット内において均一な組織が得られ難い合金系の
材料に用いられる。また、粉末の成形性を利用して、タ
ーゲットの最終形状に近い形状に成形した圧粉体を圧密
化し、若干の仕上げ加工のみでターゲットを製造すると
いうニアネットプロセスでの製造も行われている。
得られた粉末を高温高圧ガス雰囲気中で熱間静水圧プレ
ス処理して製造する方法が知られている。例えば特開昭
６１−６０８０３号がその例である。粉末冶金法は、溶
製法では製造困難な高融点系の材料や、偏析が生じ易く
ターゲット内において均一な組織が得られ難い合金系の
材料に用いられる。また、粉末の成形性を利用して、タ
ーゲットの最終形状に近い形状に成形した圧粉体を圧密
化し、若干の仕上げ加工のみでターゲットを製造すると
いうニアネットプロセスでの製造も行われている。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】ターゲットに要求され
る一般的な特性は、成膜された膜の組成、組織を均一に
するために、ターゲットが目的の組成を有し、偏析がな
く、結晶粒子が微細であることである。一方、近年液晶
関係を中心に製品の大型化、コスト低減を目的にしたタ
ーゲットの大型化が進んでおり、大型のＭｏ系ターゲッ
トの需要が増加している。大型のターゲットは、大きな
ものでは１０００ｍｍ×７００ｍｍ、φ３００ｍｍ程度
以上のものがあり、製造上も大型の装置が必要となる。
また、特性上も従来同様、均一微細な組織、そして低酸
素化も大きく要求され、製造条件が厳しくなっている。
る一般的な特性は、成膜された膜の組成、組織を均一に
するために、ターゲットが目的の組成を有し、偏析がな
く、結晶粒子が微細であることである。一方、近年液晶
関係を中心に製品の大型化、コスト低減を目的にしたタ
ーゲットの大型化が進んでおり、大型のＭｏ系ターゲッ
トの需要が増加している。大型のターゲットは、大きな
ものでは１０００ｍｍ×７００ｍｍ、φ３００ｍｍ程度
以上のものがあり、製造上も大型の装置が必要となる。
また、特性上も従来同様、均一微細な組織、そして低酸
素化も大きく要求され、製造条件が厳しくなっている。
【０００５】上述したように、大型のＭｏ系ターゲット
においても均一微細な組織が要求されるが、溶製法では
大型化するほど鋳塊内での偏析防止が難しくなり、均一
微細な組織を得難くなる。これを解決するために熱間加
工等で組織の均一微細化を施す方法もあるが、大型の装
置を必要とし、組成系によっては熱間加工が困難な場合
もあり、すべての組成について適用できるわけではなか
った。
においても均一微細な組織が要求されるが、溶製法では
大型化するほど鋳塊内での偏析防止が難しくなり、均一
微細な組織を得難くなる。これを解決するために熱間加
工等で組織の均一微細化を施す方法もあるが、大型の装
置を必要とし、組成系によっては熱間加工が困難な場合
もあり、すべての組成について適用できるわけではなか
った。
【０００６】一方、粉末冶金法では、粉末を製造できれ
ば殆どの成分系について製造可能である。この場合、単
一成分、あるいは合金の粉末であれば問題ないが、二種
類以上の粉末を混合して充填する場合には、粉末の粒度
分布、比重、形状の差により分離を生じる場合がある。
これは小型のターゲットでも発生する問題であるが、大
型のターゲットではより顕著に現れるため大きな問題で
ある。
ば殆どの成分系について製造可能である。この場合、単
一成分、あるいは合金の粉末であれば問題ないが、二種
類以上の粉末を混合して充填する場合には、粉末の粒度
分布、比重、形状の差により分離を生じる場合がある。
これは小型のターゲットでも発生する問題であるが、大
型のターゲットではより顕著に現れるため大きな問題で
ある。
【０００７】さらに、粉末冶金法の場合、充填作業を行
う上で、大型化するほど粉末の均一な充填が困難にな
り、充填密度の差が生じ易く、このため圧密化の際に収
縮率の差が生じ変形が起こる。特にＭｏ系ターゲットの
場合は、使用する原料粉末の粒度が一般に１０μｍ以下
と細かく、また粉末が凝集した形態で存在しているため
に、充填密度が上がらず、例えば４０％程度と低いこと
から、上記変形発生への対策が重要である。
う上で、大型化するほど粉末の均一な充填が困難にな
り、充填密度の差が生じ易く、このため圧密化の際に収
縮率の差が生じ変形が起こる。特にＭｏ系ターゲットの
場合は、使用する原料粉末の粒度が一般に１０μｍ以下
と細かく、また粉末が凝集した形態で存在しているため
に、充填密度が上がらず、例えば４０％程度と低いこと
から、上記変形発生への対策が重要である。
【０００８】一般的に板状であるターゲットでは反りや
コーナー部の変形等が生じ易い。このため、製造に際し
てはこの変形を見込んで矯正工程の追加や加工代の増加
等を行う必要があり、さらには粉末の充填を均一に行う
ために、作業中の充填高さの測定等に工数を要し、作業
性も悪く、生産上大きな問題であった。
コーナー部の変形等が生じ易い。このため、製造に際し
てはこの変形を見込んで矯正工程の追加や加工代の増加
等を行う必要があり、さらには粉末の充填を均一に行う
ために、作業中の充填高さの測定等に工数を要し、作業
性も悪く、生産上大きな問題であった。
【０００９】そして、粉末冶金法による別の課題とし
て、その製造されたターゲットの酸素含有量を低減し難
い問題がある。例えば熱間静水圧プレス処理を用いて製
造する場合、原料粉末を所定の加圧容器（カプセル）に
充填して処理を行うが、粉末は密閉されているため処理
中に酸素を除去することは不可能である。そのためター
ゲットの酸素含有量は原料粉末の状態以下のものを得る
ことが困難である。
て、その製造されたターゲットの酸素含有量を低減し難
い問題がある。例えば熱間静水圧プレス処理を用いて製
造する場合、原料粉末を所定の加圧容器（カプセル）に
充填して処理を行うが、粉末は密閉されているため処理
中に酸素を除去することは不可能である。そのためター
ゲットの酸素含有量は原料粉末の状態以下のものを得る
ことが困難である。
【００１０】本発明の目的は、大型化に適し、酸素量の
低減化を達成したＭｏ系スパッタリング用ターゲットお
よびその製造方法を提供することである。
低減化を達成したＭｏ系スパッタリング用ターゲットお
よびその製造方法を提供することである。
【００１１】
【課題を解決するための手段】本発明者は、ターゲット
の大型化に伴う偏析、製造時の変形の問題を検討した結
果、粉末の圧密体からなる複数のブロックを接合するこ
とで、特にＭｏ系ターゲットの偏析、製造時の変形を大
きく改善できることを見いだした。そして、その準備す
るブロックを見直すことでＭｏ系ターゲットの低酸素化
が達成でき、本発明に到達した。
の大型化に伴う偏析、製造時の変形の問題を検討した結
果、粉末の圧密体からなる複数のブロックを接合するこ
とで、特にＭｏ系ターゲットの偏析、製造時の変形を大
きく改善できることを見いだした。そして、その準備す
るブロックを見直すことでＭｏ系ターゲットの低酸素化
が達成でき、本発明に到達した。
【００１２】すなわち、本発明は、粉末の圧密体からな
る複数のブロックが接合してなるスパッタリング用ター
ゲットであって、酸素含有量が１００ｐｐｍ以下である
Ｍｏ系スパッタリング用ターゲットである。
る複数のブロックが接合してなるスパッタリング用ター
ゲットであって、酸素含有量が１００ｐｐｍ以下である
Ｍｏ系スパッタリング用ターゲットである。
【００１３】本発明においては、粉末の圧密体からなる
複数のブロックを、実質的に同組成とすることにより、
均一組成の大型ターゲットを得ることが可能になる。合
金ターゲットの場合は、粉末として合金粉末の圧密体
や、合金となる元素の単体粉末同士、あるいは合金粉末
を混合した圧密体を使用することができる。
複数のブロックを、実質的に同組成とすることにより、
均一組成の大型ターゲットを得ることが可能になる。合
金ターゲットの場合は、粉末として合金粉末の圧密体
や、合金となる元素の単体粉末同士、あるいは合金粉末
を混合した圧密体を使用することができる。
【００１４】本発明のＭｏ系スパッタリング用ターゲッ
トは、例えば原料粉末を圧縮成形した複数のブロック
を、加圧容器に入れ込み、熱間静水圧プレスにより接合
することにより得ることができる。そして、原料粉末を
圧縮後、水素雰囲気中で焼結したブロックとすること
で、ターゲットの酸素含有量の低減に有効である。
トは、例えば原料粉末を圧縮成形した複数のブロック
を、加圧容器に入れ込み、熱間静水圧プレスにより接合
することにより得ることができる。そして、原料粉末を
圧縮後、水素雰囲気中で焼結したブロックとすること
で、ターゲットの酸素含有量の低減に有効である。
【００１５】
【発明の実施の形態】本発明の重要な特徴の一つは、Ｍ
ｏ系スパッタリング用ターゲットに注目し、その粉末の
圧密体からなる複数のブロックを接合したターゲットと
したところにある。すなわち、粉末から直接一体物のタ
ーゲットを製造するのではなく、一旦圧密体としてから
接合によりターゲットとなすものである。
ｏ系スパッタリング用ターゲットに注目し、その粉末の
圧密体からなる複数のブロックを接合したターゲットと
したところにある。すなわち、粉末から直接一体物のタ
ーゲットを製造するのではなく、一旦圧密体としてから
接合によりターゲットとなすものである。
【００１６】これにより、粉末独自の利点である、組織
の均一性を保ちつつ、粉末ターゲットを直接大型化する
際の問題であった、特にＭｏ系ターゲットについて問題
であった、変形や密度不足を解消することができる。さ
らに、加圧容器への充填作業もブロックを敷設するだけ
の容易な作業となり、充填密度を均一化するための充填
高さの測定等の工数を必要とせず、作業性が格段に向上
する。また、圧密体のハンドリング装置を用いることで
自動化も可能である。
の均一性を保ちつつ、粉末ターゲットを直接大型化する
際の問題であった、特にＭｏ系ターゲットについて問題
であった、変形や密度不足を解消することができる。さ
らに、加圧容器への充填作業もブロックを敷設するだけ
の容易な作業となり、充填密度を均一化するための充填
高さの測定等の工数を必要とせず、作業性が格段に向上
する。また、圧密体のハンドリング装置を用いることで
自動化も可能である。
【００１７】そして、本発明のさらなる特徴は、粉末冶
金法で問題であった、酸素含有量の増加に対し、その低
減化にも対処したところにある。すなわち、酸素含有量
が１００ｐｐｍ以下のＭｏ系スパッタリング用ターゲッ
トである。
金法で問題であった、酸素含有量の増加に対し、その低
減化にも対処したところにある。すなわち、酸素含有量
が１００ｐｐｍ以下のＭｏ系スパッタリング用ターゲッ
トである。
【００１８】本発明における粉末の圧密体としては、プ
レス成形体およびその焼結体、冷間静水圧プレス（ＣＩ
Ｐ）体およびその焼結体、熱間静水圧（ＨＩＰ）体等の
粉体を圧縮あるいは圧縮焼結したものが利用できる。こ
の時、その圧密体を焼結体とし、特に水素雰囲気中で焼
結したものとすることで、酸素含有量を低減でき、結
果、酸素含有量が１００ｐｐｍ以下、更には８０，６０
ｐｐｍ以下といったターゲットの達成が可能である。好
ましくは、ＣＩＰ処理後、水素雰囲気中で焼結して得ら
れた圧密体であり、ＣＩＰ処理により充填密度が改善さ
れ、ＨＩＰ処理後のターゲット材の変形抑制に効果があ
る。
レス成形体およびその焼結体、冷間静水圧プレス（ＣＩ
Ｐ）体およびその焼結体、熱間静水圧（ＨＩＰ）体等の
粉体を圧縮あるいは圧縮焼結したものが利用できる。こ
の時、その圧密体を焼結体とし、特に水素雰囲気中で焼
結したものとすることで、酸素含有量を低減でき、結
果、酸素含有量が１００ｐｐｍ以下、更には８０，６０
ｐｐｍ以下といったターゲットの達成が可能である。好
ましくは、ＣＩＰ処理後、水素雰囲気中で焼結して得ら
れた圧密体であり、ＣＩＰ処理により充填密度が改善さ
れ、ＨＩＰ処理後のターゲット材の変形抑制に効果があ
る。
【００１９】本発明は、純ＭｏターゲットもしくはＭｏ
に１種または２種以上の他元素を含む合金ターゲットに
ついて効果を発揮する。合金ターゲットについてその一
例を示しておくと、ＭｏにＣｒ，Ｗ，Ｚｒの１種または
２種以上の元素を含むターゲットであり、Ｍｏ量を原子
量比にて５０％以上としたＭｏ系ターゲットである。
に１種または２種以上の他元素を含む合金ターゲットに
ついて効果を発揮する。合金ターゲットについてその一
例を示しておくと、ＭｏにＣｒ，Ｗ，Ｚｒの１種または
２種以上の元素を含むターゲットであり、Ｍｏ量を原子
量比にて５０％以上としたＭｏ系ターゲットである。
【００２０】このような本発明のＭｏ系ターゲットにつ
いて、粉末の圧密体からなる複数のブロックを実質的に
同組成とすることは、均一組成の大型ターゲットを得る
という点で有利である。合金ターゲットの場合は、粉末
として合金粉末の圧密体や、合金となる元素の単体粉末
同士、あるいは合金粉末を混合した圧密体を使用するこ
とができる。
いて、粉末の圧密体からなる複数のブロックを実質的に
同組成とすることは、均一組成の大型ターゲットを得る
という点で有利である。合金ターゲットの場合は、粉末
として合金粉末の圧密体や、合金となる元素の単体粉末
同士、あるいは合金粉末を混合した圧密体を使用するこ
とができる。
【００２１】接合方法は、等方的に加圧して圧密体の高
密度化も同時に行える点において、加圧容器に入れ込
み、熱間静水圧プレスにより接合することが望ましい。
密度化も同時に行える点において、加圧容器に入れ込
み、熱間静水圧プレスにより接合することが望ましい。
【００２２】
【実施例】（実施例１）Ｍｏ粉末とＷ粉末を原子量比６
５：３５の混合比でＶ型混合機により混合し、ＣＩＰ装
置で１２０ｍｍ×９５ｍｍ×１８ｍｍのブロックに成形
した後、水素雰囲気中で焼結して、圧密体２を得た。こ
れを図１に示すような１２００ｍｍ×９５０ｍｍの加圧
容器１に敷設充填し、加圧容器を密閉、真空引き用パイ
プ３により真空引きした後（図２）、ＨＩＰ処理により
接合・圧密化した。この時、ＨＩＰ処理後の容器の反り
は５ｍｍ以下であった。また、ＨＩＰ体の中心部の密度
は９９％以上、周辺部も密度９９％以上と全体に均一な
密度であった。ミクロ組織も中央部と周辺部で差はな
く、酸素含有量は８０ｐｐｍであった。
５：３５の混合比でＶ型混合機により混合し、ＣＩＰ装
置で１２０ｍｍ×９５ｍｍ×１８ｍｍのブロックに成形
した後、水素雰囲気中で焼結して、圧密体２を得た。こ
れを図１に示すような１２００ｍｍ×９５０ｍｍの加圧
容器１に敷設充填し、加圧容器を密閉、真空引き用パイ
プ３により真空引きした後（図２）、ＨＩＰ処理により
接合・圧密化した。この時、ＨＩＰ処理後の容器の反り
は５ｍｍ以下であった。また、ＨＩＰ体の中心部の密度
は９９％以上、周辺部も密度９９％以上と全体に均一な
密度であった。ミクロ組織も中央部と周辺部で差はな
く、酸素含有量は８０ｐｐｍであった。
【００２３】この素材からターゲットを切り出し、１０
８０ｍｍ×９３０ｍｍ×８ｍｍのターゲットを作製し
て、そのスパッタリングテストを行ったところ、膜組成
のばらつきが少なく、スパッタ時間による組成変化も少
ない良好な結果が得られた。
８０ｍｍ×９３０ｍｍ×８ｍｍのターゲットを作製し
て、そのスパッタリングテストを行ったところ、膜組成
のばらつきが少なく、スパッタ時間による組成変化も少
ない良好な結果が得られた。
【００２４】比較として、同様の混合粉末を１２００ｍ
ｍ×９５０ｍｍの容器に小型のスコップを用いて充填
し、同様に、真空引き、密閉、ＨＩＰ処理した。この
時、ＨＩＰ処理後の容器には１０ｍｍ程度の反りが生じ
ており、ＨＩＰ体の角部に充填不足に起因する変形が生
じていた。また、酸素含有量は６００ｐｐｍであった。
ｍ×９５０ｍｍの容器に小型のスコップを用いて充填
し、同様に、真空引き、密閉、ＨＩＰ処理した。この
時、ＨＩＰ処理後の容器には１０ｍｍ程度の反りが生じ
ており、ＨＩＰ体の角部に充填不足に起因する変形が生
じていた。また、酸素含有量は６００ｐｐｍであった。
【００２５】（実施例２）純Ｍｏ粉末をＣＩＰ処理によ
り１１３ｍｍ×８４ｍｍ×２０ｍｍのブロック状に成形
した後、水素雰囲気中で焼結して、圧密体とした。これ
ら圧密体を１１３０ｍｍ×１０３０ｍｍの容器内に敷設
充填し、容器を密閉、真空引きした後、ＨＩＰ処理によ
り接合・圧密化した。この時、ＨＩＰ処理後の容器の反
りは４ｍｍ以下であった。また、ＨＩＰ体の中心部の密
度は９９％以上、周辺部も密度９９％以上と全体に均一
な密度であった。ミクロ組織も中央部と周辺部で差はな
く、酸素含有量は５０ｐｐｍであった。そして、この素
材から切り出すことで、１０８０ｍｍ×９３０ｍｍ×１
０ｍｍのターゲットを作製できた。
り１１３ｍｍ×８４ｍｍ×２０ｍｍのブロック状に成形
した後、水素雰囲気中で焼結して、圧密体とした。これ
ら圧密体を１１３０ｍｍ×１０３０ｍｍの容器内に敷設
充填し、容器を密閉、真空引きした後、ＨＩＰ処理によ
り接合・圧密化した。この時、ＨＩＰ処理後の容器の反
りは４ｍｍ以下であった。また、ＨＩＰ体の中心部の密
度は９９％以上、周辺部も密度９９％以上と全体に均一
な密度であった。ミクロ組織も中央部と周辺部で差はな
く、酸素含有量は５０ｐｐｍであった。そして、この素
材から切り出すことで、１０８０ｍｍ×９３０ｍｍ×１
０ｍｍのターゲットを作製できた。
【００２６】比較として、同様の粉末を１１３０ｍｍ×
１０３０ｍｍの容器に小型のスコップを用いて充填し、
同様に、真空引き、密閉、ＨＩＰ処理した。この時、Ｈ
ＩＰ処理後の容器は３０ｍｍ程度の反りを生じており、
また、角部に変形を生じていた。そのため、１０８０ｍ
ｍ×９３０ｍｍ×１０ｍｍのターゲット切り出すことが
できず、容器を一回り大きいものに変更せざるを得なか
った。なお、酸素含有量は５００ｐｐｍであった。
１０３０ｍｍの容器に小型のスコップを用いて充填し、
同様に、真空引き、密閉、ＨＩＰ処理した。この時、Ｈ
ＩＰ処理後の容器は３０ｍｍ程度の反りを生じており、
また、角部に変形を生じていた。そのため、１０８０ｍ
ｍ×９３０ｍｍ×１０ｍｍのターゲット切り出すことが
できず、容器を一回り大きいものに変更せざるを得なか
った。なお、酸素含有量は５００ｐｐｍであった。
【００２７】
【発明の効果】本発明によれば、粉末焼結法で問題であ
った、２種類以上の粉末を混合・充填する際の粒度分
布、比重、形状の差による分離を防止でき、酸素含有量
の低減も達成できる。さらに、個々の圧密体の密度は一
定であるため、密度差に起因する収縮時の反りやコーナ
ー部の変形等を防止できる。したがって、余分な矯正工
程や加工代を低減でき、製造コストを低減できる。さら
には、粉末の充填を均一に行うための充填高さの測定等
も不要になり、大幅に作業性が向上する。特に、本発明
は粉末充填面積が大きい大型ターゲットにおいて効果的
である。
った、２種類以上の粉末を混合・充填する際の粒度分
布、比重、形状の差による分離を防止でき、酸素含有量
の低減も達成できる。さらに、個々の圧密体の密度は一
定であるため、密度差に起因する収縮時の反りやコーナ
ー部の変形等を防止できる。したがって、余分な矯正工
程や加工代を低減でき、製造コストを低減できる。さら
には、粉末の充填を均一に行うための充填高さの測定等
も不要になり、大幅に作業性が向上する。特に、本発明
は粉末充填面積が大きい大型ターゲットにおいて効果的
である。
【図１】本発明による圧密体の敷設状態を示す図であ
る。
る。
【図２】本発明による加圧容器の密閉状態を示す図であ
る。
る。
１．加圧容器、２．圧密体、３．真空引き用パイプ
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 井上 惠介
島根県安来市安来町2107番地２ 日立金属
株式会社安来工場内
Ｆターム(参考） 4K018 AA21 BA20 CA23 EA12 EA16
KA29
4K029 DC03 DC07 DC09
Claims (4)
- 【請求項１】 粉末の圧密体からなる複数のブロックが
接合してなるスパッタリング用ターゲットであって、酸
素含有量が１００ｐｐｍ以下であることを特徴とするＭ
ｏ系スパッタリング用ターゲット。 - 【請求項２】 粉末の圧密体からなる複数のブロック
は、実質的に同組成であることを特徴とする請求項１に
記載のＭｏ系スパッタリング用ターゲット。 - 【請求項３】 原料粉末を圧縮成形した複数のブロック
を、加圧容器に入れ込み、熱間静水圧プレスにより前期
複数のブロック同士を接合してターゲット材を得ること
を特徴とするＭｏ系スパッタリング用ターゲットの製造
方法。 - 【請求項４】 ブロックは、原料粉末を圧縮後、水素雰
囲気中で焼結してなることを特徴とする請求項３に記載
のＭｏ系スパッタリング用ターゲットの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001324671A JP3748221B2 (ja) | 2001-10-23 | 2001-10-23 | Ｍｏ系スパッタリング用ターゲットおよびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
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