JP2003123263A - 光記録媒体の製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 複数の記録層を積層した多層光記録媒体にお
いて、記録層への記録順序を制限することなく安定した
記録再生を実現する。 【解決手段】 少なくとも２層の記録層が積層され、他
の記録層を通して照射されるレーザービームによって記
録／再生が行われる記録層が少なくとも１層存在する光
記録媒体を製造する方法であって、少なくとも１つの記
録層に対し、記録前の平均反射率が、記録マークの反射
率より高く、かつ、隣接する記録マーク間の領域の反射
率より低くなるように、少なくとも一部を変質させる初
期化処理を施す工程を有する光記録媒体の製造方法。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、２層以上の記録層
を有する多層光記録媒体を製造する方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、光ディスクに対する高密度化およ
び大容量化の要求が著しい。現在、コンパクトディスク
の約７倍に相当する片面約４．７GBの記録容量をもつＤ
ＶＤ（Digital Versatile Disk）が発売されているが、
より多くの情報を記録できる技術の開発が盛んに行われ
ている。

【０００３】光ディスクの記録容量を高める技術として
は、記録／再生に用いるレーザービームの短波長化、レ
ーザービーム照射光学系における対物レンズの高ＮＡ
（開口数）化、記録層や再生専用情報層等の情報層の多
層化、多値記録などが挙げられる。これらのうち記録層
や再生専用層等の情報層の多層化による３次元記録は、
短波長化や高ＮＡ化に比べ、低コストで飛躍的な高容量
化が可能である。３次元情報媒体は、例えば特許第２９
９７５１２号公報、特開平９−４４８９８号公報に記載
されている。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】例えば２層の相変化型
記録層を積層した多層記録媒体において、レーザービー
ムの入射面から見て奥側に存在する記録層を記録再生す
る際には、レーザービームはその手前側に存在する記録
層を透過して前記奥側の記録層に到達することになる。
一方、相変化型記録層における反射率は、非晶質からな
る記録マークと結晶質である未記録領域とで大きく異な
る。そのため、手前側の記録層における記録マークの存
在パターンが、奥側の記録層に到達するレーザービーム
の強度に影響し、その結果、記録再生特性も影響を受け
る。

【０００５】このような事情から、特開２０００−２８
５４６９号公報では、手前側の記録層に記録した後、奥
側の記録層に記録することを提案している。一方、特開
平１０−２６９５７５号公報および特開平３−１５７８
１６号公報では、手前側の記録層における記録の有無
が、奥側の記録層に記録する際に影響を及ぼすとして、
奥側の記録層に先に記録することを提案している。

【０００６】多層記録媒体の利点としては、例えば複数
の記録層への同時記録が挙げられる。しかし、多層記録
媒体において記録層の記録順序が制限されると、このよ
うな利点が減殺されるため好ましくない。

【０００７】本発明は、複数の記録層を積層した多層光
記録媒体において、記録層への記録順序を制限すること
なく安定した記録再生を実現することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】このような目的は、下記
（１）〜（１０）の本発明により達成される。 （１） 少なくとも２層の記録層が積層され、他の記録
層を通して照射されるレーザービームによって記録／再
生が行われる記録層が少なくとも１層存在する光記録媒
体を製造する方法であって、少なくとも１つの記録層に
対し、記録前の平均反射率が、記録マークの反射率より
高く、かつ、隣接する記録マーク間の領域の反射率より
低くなるように、少なくとも一部を変質させる初期化処
理を施す工程を有する光記録媒体の製造方法。 （２） 相変化材料を含む少なくとも２層の記録層が積
層され、他の記録層を通して照射されるレーザービーム
によって記録／再生が行われる記録層が少なくとも１層
存在する光記録媒体を製造する方法であって、少なくと
も１つの記録層において、オーバーライト動作前の平均
反射率が、オーバーライト動作によって形成される非晶
質記録マークの反射率より高く、かつ、オーバーライト
動作によって非晶質記録マーク間に形成される結晶質の
反射率より低くなるように、少なくとも一部を結晶化さ
せる初期化処理を施す工程を有する光記録媒体の製造方
法。 （３） 前記初期化処理において、形成直後の非晶質記
録層に対し初期化用レーザービームを間欠的に照射する
ことにより、照射により形成された矩形の結晶質領域
と、形成直後の状態のままの非晶質領域とが、記録トラ
ック延在方向において交互に並ぶ状態とする上記（２）
の光記録媒体の製造方法。 （４） 前記矩形の結晶質領域が、２本以上の記録トラ
ックに跨って存在するように前記初期化処理を施す上記
（３）の光記録媒体の製造方法。 （５） 隣り合う２つの記録層において、記録再生用レ
ーザービームの入射面から見て奥側に存在する一方の記
録層に記録再生用レーザービームが合焦しているとき
の、前記入射面から見て手前側に存在する他方の記録層
において記録トラック延在方向に測った前記レーザービ
ームのビームスポット径をφ_kとし、前記他方の記録層
において記録トラック延在方向に測った前記矩形の結晶
質領域の長さをＬ_Cとしたとき、 Ｌ_C／φ_k≦１／４ となるように前記初期化処理を施す上記（３）または
（４）の光記録媒体の製造方法。 （６） 前記他方の記録層に形成される最長記録マーク
の長さをＬ_Mとしたとき、 ２≦Ｌ_C／Ｌ_M となるように前記初期化処理を施す上記（５）の光記録
媒体の製造方法。 （７） 前記初期化処理において、形成直後の非晶質記
録層の全面にレーザービームを照射することにより、オ
ーバーライト動作によって形成される非晶質記録マーク
の反射率より高く、かつ、オーバーライト動作によって
非晶質記録マーク間に形成される結晶質の反射率より低
い反射率を示す結晶質を形成する上記（２）の光記録媒
体の製造方法。 （８） 前記初期化処理後かつオーバーライト動作前に
おける記録層の平均反射率が、オーバーライト動作後の
記録層の平均反射率とほぼ等しくなるように、前記初期
化処理を施す上記（２）〜（７）のいずれかの光記録媒
体の製造方法。 （９） 最長マークと最長スペースとからなる単一信号
を記録した領域における最大再生出力をIL_H、最小再生
出力をIL_Lとし、IL_H−IL_L＝ILとし、前記初期化処理を
施した後の記録層の平均再生出力をＩ_INIとしたとき、 ０＜（IL_H−Ｉ_INI）／IL＜１ となるように前記初期化処理を施す上記（１）〜（８）
のいずれかの光記録媒体の製造方法。 （１０） 最短マークと最短スペースとからなる単一信
号を記録した領域における最大再生出力をIS_H、最小再
生出力をIS_Lとし、IS_H−IS_L＝ISとし、前記初期化処理
を施した後の記録層の平均再生出力をＩ_INIとしたと
き、 ０＜（IS_H−Ｉ_INI）／IS＜１ となるように前記初期化処理を施す上記（１）〜（９）
のいずれかの光記録媒体の製造方法。

【０００９】

【発明の実施の形態】複数の相変化型記録層が積層され
た多層記録媒体において、記録再生対象の記録層に、他
の記録層を通してレーザービームが照射される場合、レ
ーザービーム入射面から見て相対的に手前側にある前記
他の記録層の反射率の影響を受け、記録再生対象の記録
層に到達するレーザービームが減衰してしまう。この減
衰が一定であれば、問題はそれほど大きくない。

【００１０】しかし、相変化型記録層は、非晶質記録マ
ークが形成された記録済み領域と、結晶質からなる未記
録領域とで、反射率が異なる。一方、レーザービーム
は、奥側の記録層に合焦するようにフォーカシングされ
るため、手前側の記録層におけるビームスポットは著し
く広がったものとなる。したがって、手前側の記録層に
おいて一部だけが記録済みである場合、前記広がったビ
ームスポット内に記録済み領域だけが存在するときと、
記録済み領域と未記録領域の両方が存在するときと、未
記録領域だけが存在するときとの三者で、奥側の記録層
に到達するレーザービームの強度が大きく異なることに
なる。

【００１１】また、ディスク状媒体では、積層された複
数の記録層において記録トラックの偏心を完全になくす
ことおよび偏心を同一にすることは困難である。そのた
め、手前側の記録層におけるビームスポット内に記録済
み領域と未記録領域の両方が存在する場合には、媒体の
回転に伴って両領域の境界の位置がビームスポット内で
ぶれる。したがって、奥側の記録層に到達するレーザー
ビームの強度に周期的な変動が生じることになる。

【００１２】このように相変化型の多層記録媒体では、
各記録層において最適条件で記録再生を行うことが困難
である。このような反射率変動による悪影響は、記録の
際に特に問題となり、低パワーで記録を行うシステムに
おいて特に影響が大きくなる。

【００１３】これに対し本発明では、形成直後の非晶質
記録層に対し、オーバーライト動作によって形成される
非晶質記録マークの反射率より高く、かつ、オーバーラ
イト動作によって非晶質記録マーク間に形成される結晶
質の反射率より低い平均反射率を示すように、少なくと
も一部を結晶化させる初期化処理を施す。これにより、
奥側の記録層にレーザービームが合焦したときに、手前
側の記録層では、記録済領域の存在パターンに依存する
ことなくレーザービームの反射率をほぼ一定にできる。
そのため、奥側の記録層では、手前側の記録層の記録状
態によらず安定した記録再生特性が得られる。

【００１４】なお、本明細書において、記録層の反射率
とは、記録およびオーバーライト動作に使用するレーザ
ービーム波長における反射率を意味する。

【００１５】本発明における前記初期化処理の良否は、
記録された信号の再生出力を検査することにより判定す
ることができる。図５に、書き換え型媒体における再生
出力パターンを模式的に示す。

【００１６】本発明では、再生出力パターンにおいて、 IL_H：最長マークと最長スペースとからなる最長単一信
号を記録した領域の最大再生出力（または最大反射
率）、 IL_L：最長マークと最長スペースとからなる最長単一信
号を記録した領域の最小再生出力（または最小反射
率）、 IL：IL_H−IL_L、 IS_H：最短マーク＆最短スペースとからなる最短単一信
号を記録した領域の最大再生出力（または最大反射
率）、 IS_L：最短マーク＆最短スペースとからなる最短単一信
号を記録した領域の最小再生出力（または最小反射
率）、 IS：IS_H−IS_L、 Ｉ_INI：前記初期化処理を施した後の記録層の平均再生
出力（または平均反射率） としたとき、好ましくは０＜（IL_H−Ｉ_INI）／IL＜１、
より好ましくは ０．２≦（IL_H−Ｉ_INI）／IL≦０．８ となるように前記初期化処理を施すことが望ましく、ま
た、好ましくは０＜（IS_H−Ｉ_INI）／IS＜１、より好ま
しくは ０．１≦（IS_H−Ｉ_INI）／IS≦０．９ となるように前記初期化処理を施すことが望ましい。Ｉ
_INIがこのような条件を満足するように前記初期化処理
を施すことにより、本発明の効果はより高くなる。

【００１７】次に、本発明の第１の態様を説明する。こ
こでは、複数の記録層を有する媒体の、隣り合う任意の
２つの記録層に注目する。具体的には、図１に模式的に
示すように、媒体のレーザービーム入射面側から数えて
ｋ番目の記録層ＲＬ_kと、ｋ＋１番目の記録層ＲＬ_k+1と
に注目する。

【００１８】図２は、レーザービーム入射面から見て奥
側の記録層ＲＬ_k+1に記録再生用レーザービームが合焦
しているときの、手前側の記録層ＲＬ_kにおける広がっ
たレーザービームスポット内を表す平面図である。この
ビームスポットの直径は、φ _kである。記録トラック
は、図２の上下方向に延びている。第１の態様では、前
記初期化処理において、形成直後の非晶質記録層に対
し、初期化用レーザービームを間欠的に照射する。これ
により、図２に示すように、初期化用レーザービームの
照射により形成された矩形の結晶質領域Ａ_Cと、形成直
後の状態のままである非晶質領域Ａ_Aとが、記録トラッ
ク延在方向において交互に並んだ状態となる。矩形の結
晶質領域Ａ_Cは、図示するように２本以上の記録トラッ
クに跨るように形成されることが好ましい。なお、ディ
スク状媒体では、多数の結晶質領域Ａ _Cが互いにほぼ平
行に（巨視的には放射状に）並ぶことになる。

【００１９】矩形の結晶質領域Ａ_Cが形成された媒体に
記録を行うに際しては、記録マークを形成するための記
録パワーレベルと、記録マーク間を結晶化するための消
去パワーレベルとを少なくとも有する記録用レーザービ
ームを用いてオーバーライト動作を行う。消去パワーレ
ベルのレーザービームが照射された領域は、その照射前
に結晶質であっても非晶質であっても結晶質となる。一
方、記録パワーレベルのレーザービームが照射された領
域は、その照射前に結晶質であっても非晶質であっても
非晶質記録マークとなる。

【００２０】図３は、手前側の記録層ＲＬ_kにおける広
がったビームスポット内に、記録済み領域と未記録領域
との境界が存在する様子を示している。このビームスポ
ット内の左半分に存在する記録トラックは記録済みであ
り、これらの記録トラックには記録マークＲＭが形成さ
れている。一方、ビームスポット内の右半分に存在する
記録トラックには記録がなされておらず、初期化処理後
の状態のままである。

【００２１】図４は、手前側の記録層ＲＬ_kにおける広
がったビームスポット内のすべての記録トラックが、記
録済みとなっている状態を示す。

【００２２】本発明では、図２における非晶質領域Ａ_A
の面積と結晶質領域Ａ_Cの面積との比が、非晶質記録マ
ークの面積と、オーバーライト動作によって形成される
記録マーク間の結晶質領域の面積との比とほぼ同じにな
るように、結晶質領域Ａ_Cの長さＬ_Cを決定することが好
ましい。このようにして結晶質領域Ａ_Cの面積を決定す
れば、図２、図３および図４のいずれにおいてもビーム
スポット内の結晶質領域と非晶質領域との面積比がほぼ
同じとなるので、ビームスポット内における平均反射率
もほぼ同じとなる。その結果、奥側の記録層に到達する
レーザービームの強度は、手前側の記録層の記録状態に
ほとんど依存しなくなる。

【００２３】非晶質記録マークの面積と、オーバーライ
ト動作によって記録マーク間に形成される結晶質領域の
面積との比（平均値）は、記録用レーザービームを強度
変調するための信号を生成する方式（変調方式）によっ
て異なる。したがって、結晶質領域Ａ_Cの面積と非晶質
領域Ａ_Aの面積との比は、上記変調方式に応じて決定す
ればよい。ただし、通常用いられる変調方式では、上記
面積比はほぼ１：１となる。したがって、記録層の記録
対象領域（記録トラック存在領域）の好ましくは３０〜
７０％、より好ましくは４０〜６０％を結晶質領域Ａ_C
が占めるように、初期化処理を行うことが望ましい。

【００２４】図２に示すように、奥側の記録層ＲＬ_k+1
に合焦しているときの手前側の記録層ＲＬ_kにおけるレ
ーザービームスポットの直径をφ_kとし、手前側の記録
層ＲＬ _kにおいて記録トラック延在方向に測った前記矩
形の結晶質領域Ａ_Cの長さをＬ_Cとしたとき、Ｌ_C／φ_k≦
１／４、特に Ｌ_C／φ_k≦１／８ であることが好ましい。φ_kに対するＬ_Cの比が大きすぎ
ると、直径φ_kのビームスポット内における平均反射率
が、レーザービームの走査に伴って大きく変動すること
になり、本発明の効果が減じられる。なお、手前側の記
録層ＲＬ_kにおけるレーザービームスポットが円形では
ない場合、φ_kは記録トラック延在方向に測った長さと
する。

【００２５】図３に示すように、隣接する２つの記録ト
ラックにそれぞれ形成された記録マーク間に隙間が存在
するように記録がなされた場合、すなわち、前記隙間を
初期化処理後の状態で残す場合、前記隙間は、前記結晶
質領域Ａ_Cの一部と非晶質領域とが交互に存在する状態
であり、これは単一信号が記録されている状態と同じで
ある。そのため、再生用レーザービームの端部が前記隙
間にかかるように再生が行われると、前記隙間の反射率
変化パターンに応じて弱い再生出力が発生する。この弱
い再生出力は、記録マークによる本来の再生出力にとっ
てノイズとなる。このようなノイズの発生を抑えるため
には、手前側の記録層ＲＬ_kに形成される最長記録マー
クの長さをＬ_Mとしたとき、２≦Ｌ_C／Ｌ_M、特に ４≦Ｌ_C／Ｌ_M となるように結晶質領域Ａ_Cの長さＬ_Cを設定することが
好ましい。Ｌ_Mに対するＬ_Cの比が小さすぎると、再生出
力にノイズが混入しやすくなる。

【００２６】また、前記隙間に残存している結晶質領域
Ａ_Cに起因する前記弱い再生出力の周波数帯域が、記録
マークによる本来の再生出力の周波数帯域と重ならない
ように結晶質領域Ａ_Cの長さＬ_Cを設定すれば、再生出力
へのノイズ混入をさらに抑制することができる。

【００２７】結晶質領域Ａ_Cの形成には、相変化型光記
録媒体に対する従来の初期化処理の際と同様に、バルク
イレーザーを用いることが好ましい。バルクイレーザー
は、出力の高いガスレーザーや半導体レーザーのビーム
をあまり絞らずに照射して、多数の記録トラックを一挙
に結晶化させる装置である。このバルクイレーザーを用
い、かつ結晶質領域Ａ_Cの配列パターンに応じて照射強
度を変調することにより、複数の記録トラックに跨る結
晶質領域Ａ_Cを、短時間で容易に形成できる。このとき
の結晶質領域Ａ_Cの幅（記録トラックと直交する方向の
寸法）は、２〜５００μm程度とすることができる。な
お、第１の態様における初期化処理は、後述する溶融初
期化である。

【００２８】通常、スパッタ法により形成された非晶質
は、記録マークを構成する非晶質と質的に異なる。その
ため、形成直後の非晶質に対しオーバーライト動作を行
っても、記録が困難ないし不可能となる場合がある。ま
た、非晶質記録層は反射率が極めて低いため、トラッキ
ングサーボが困難である。そのため、通常、相変化型光
記録媒体は記録層全面を結晶化してから使用する。ただ
し、記録層の組成や媒体の構造（熱設計）を適切に選択
すれば、結晶化処理なしでも記録が可能な場合がある。
また、本発明の第１の態様のように、記録層が比較的短
い周期で部分的に結晶化されていれば、トラッキングサ
ーボに関しほとんど問題は生じない。

【００２９】次に、本発明の第２の態様について説明す
る。

【００３０】第２の態様では、前記初期化処理におい
て、形成直後の非晶質記録層の全面にレーザービームを
照射することにより、オーバーライト動作によって形成
される非晶質記録マークの反射率より高く、かつ、オー
バーライト動作によって非晶質記録マーク間に形成され
る結晶質の反射率より低い反射率を示す結晶質を形成す
る。すなわち第２の態様における初期化処理では、オー
バーライト動作時に形成される結晶質とは質の異なる結
晶質となるように、非晶質記録層の全面を結晶化する。

【００３１】相変化型光記録媒体における従来の初期化
処理には、溶融初期化と固相初期化とがある。溶融初期
化は、非晶質記録層を溶融状態となるように加熱してか
ら冷却して結晶化させる方法であり、固相初期化は、非
晶質記録層を完全に溶融する前に冷却して結晶化する方
法である。溶融初期化では、比較的高いパワーのレーザ
ービームを用い、また、比較的遅い線速度でレーザービ
ームを照射する。これに対し固相初期化は、比較的低い
パワーおよび／または比較的遅い線速度で実施する。溶
融初期化により形成される結晶質記録層は結晶粒径が比
較的大きいため、反射率が高い。一方、固相初期化によ
り形成される結晶質記録層では、結晶粒径は記録層の組
成および媒体の熱設計によって異なる。

【００３２】本発明の第２の態様における初期化処理で
は、記録層全面を固相初期化することにより、オーバー
ライト動作によって形成される非晶質記録マークの反射
率より高く、かつ、オーバーライト動作によって非晶質
記録マーク間に形成される結晶質の反射率より低い反射
率を示す結晶質を形成する。また、好ましくは、初期化
処理後の記録層の平均反射率が、オーバーライト動作後
の記録層の平均反射率とほぼ等しくなるように、記録層
全面を固相初期化する。その結果、手前側の記録層ＲＬ
_kにおいて、広がったビームスポット内に記録済み領域
と未記録領域との境界が存在する場合でも、未記録領域
の反射率が記録済み領域の平均反射率とほぼ同じとなる
ため、ビームスポット内に反射率分布が存在せず、記録
再生特性が影響を受けることはない。

【００３３】第２の態様において、初期化処理の際のレ
ーザービームのパワーおよび媒体の線速度は、初期化処
理後に最適な反射率が得られるように、記録層の組成や
媒体の熱設計に応じて実験的に決定すればよい。

【００３４】なお、多層光記録媒体において信号再生に
影響を与えるのは、レーザービーム入射側から見て再生
対象の記録層よりも手前側にある記録層だけではない。
すなわち、再生対象の記録層を透過し、奥側の記録層で
反射して戻ってくるレーザービームも再生出力に影響す
る。したがって、奥側の記録層が一部だけ記録された状
態であると、記録信号の再生出力にノイズが混入してし
まう。したがって、記録再生用レーザービームの入射面
から最も遠い記録層についても、本発明を適用して初期
化処理を施すことが好ましい。

【００３５】本発明において複数の記録層を初期化する
必要がある場合、通常、以下に説明する初期化後貼り合
わせ法、積層時初期化法および完成後初期化法のいずれ
かを利用して初期化を行うことが好ましい。

【００３６】初期化後貼り合わせ法では、自立可能な程
度の剛性をもち、かつ、レーザービームが透過可能な基
板を用意し、この基板上に記録層を形成した後、記録層
を初期化する作業を、積層する記録層の数だけ繰り返
す。次いで、初期化された記録層を有する基板同士を貼
り合わせることにより、媒体を作製する。この方法で
は、基板を介して記録層同士が隣り合う構造の媒体が得
られる。

【００３７】積層時初期化法では、自立可能な程度の剛
性をもつ基板上に第１の記録層を形成した後、第１の記
録層を初期化する。次いで、第１の記録層上に、レーザ
ービームが透過可能な樹脂からなる中間層を形成する。
次いで、中間層上に第２の記録層を形成した後、第２の
記録層を初期化する。これ以降、中間層の形成、記録層
の形成およびその初期化を繰り返す。この方法では、中
間層を介して記録層同士が隣り合う構造の媒体が得られ
る。

【００３８】完成後初期化法では、上記した初期化後貼
り合わせ法または積層時初期化法と同様にして、複数の
記録層が積層された媒体を作製する。ただし、媒体作製
中に記録層の初期化は行わず、媒体完成後に記録層を初
期化する。

【００３９】完成後初期化法において初期化をレーザー
ビームによって行う場合、媒体の一方の面側からレーザ
ービームを照射して、記録層を１層ずつ初期化すればよ
い。初期化によって記録層の透過率が低下する場合に
は、まず、レーザービーム入射面から最も遠い記録層を
初期化し、次いで、初期化済みの記録層と隣り合う手前
側の記録層を初期化する作業を繰り返すことが好まし
い。一方、初期化によって記録層の透過率が向上する場
合には、逆に、レーザービーム入射面に最も近い記録層
から初期化を開始することが好ましい。なお、１回のレ
ーザービーム照射により複数の記録層を同時に初期化す
ることも可能である。

【００４０】また、完成後初期化法では、媒体がもつ少
なくとも２層の記録層を、媒体の一方の面に近い一方の
グループと他方の面に近い他方のグループとにわけ、前
記一方のグループに所属する記録層を、前記一方の面側
から照射したレーザービームにより順次または同時に初
期化し、前記他方のグループに所属する記録層を、前記
他方の面側から照射したレーザービームにより順次また
は同時に初期化してもよい。

【００４１】完成後初期化法は、記録層の積層数が少な
い場合、好ましくは２層の場合に特に適する。

【００４２】本発明は相変化型記録媒体に好適である
が、本発明の適用対象は相変化型記録媒体に限定されな
い。相変化型記録媒体以外では、形成直後の記録層に対
し、記録マークの反射率より高く、かつ、隣接する記録
マーク間の領域の反射率より低い平均反射率を示すよう
に、少なくとも一部を変質させるような初期化処理を施
せばよい。

【００４３】

【実施例】第２の態様 配列ピッチ０．７４μm、幅０．２０μmのグルーブを表
面に有するポリカーボネート製ディスク基板上に、誘電
体層、ＳｂおよびＴｅを主成分とする相変化型記録層、
誘電体層およびＡｇを主成分とする反射層をこの順で形
成し、反射層上に紫外線硬化型樹脂からなる保護層を形
成して、相変化型ディスクを作製した。形成直後の記録
層は非晶質であった。このディスクの反射率は、１．１
％であった。なお、反射率はパルステック工業（株）の
ＤＤＵ−１０００（レーザー波長６３４nm、開口数０．
６）により測定した。

【００４４】このディスクに対し、波長８１０nmのレー
ザービームを用い、レーザーパワーを１０００mW、ディ
スクの線速度を６m/sとして、記録層の全面に初期化処
理を施した。前記レーザービームは、記録層上における
ビームスポット形状が矩形となるように整形した。前記
矩形の寸法は、記録トラックに平行な方向において１．
５μm、記録トラックと直交する方向において２１０μm
とし、ディスク１回転あたりディスク半径方向に１３０
μmずつビームをずらしながら照射した。この初期化処
理では前記した溶融初期化が行われており、初期化処理
後のディスクの反射率は、２５．９％であった。

【００４５】また、レーザーパワーを６００mWとし、デ
ィスクの線速度を３m/sとしたほかは上記初期化処理と
同じ条件で、ディスクに対し初期化処理を施した。この
初期化処理では前記した固相初期化が行われており、初
期化処理後のディスクの反射率Ｉ_INIは、２１．１％で
あった。

【００４６】これら２種の初期化処理の結果から、初期
化処理条件を変更することでディスクの反射率を制御で
きることがわかる。

【００４７】次に、最長信号（８Ｔ信号）からなる最長
単一信号と、最短信号（２Ｔ信号）からなる最短単一信
号とを、オーバーライト動作によってディスクに記録し
た。それぞれの単一信号は、マークとスペースとを同じ
長さに設定した。記録後のディスクについて反射率を測
定したところ、最長単一信号を記録した領域の最大反射
率IL_Hは２５．９％、最長単一信号を記録した領域の最
小反射率IL_Lは１２．５％、 IL＝IL_H−IL_Lは１３．４％、 最短単一信号を記録した領域の最大反射率IS_Hは２２．
６％、最短単一信号を記録した領域の最小反射率IS_Lは
１６．８％、 IS＝IS_H−IS_Lは５．８％ であった。また、初期化処理後の記録層の反射率Ｉ_INI
は、前記したように２１．１％であった。したがって、 （IL_H−Ｉ_INI）／IL＝０．３５８、 （IS_H−Ｉ_INI）／IS＝０．２５９ であり、このディスクは、本発明における好ましい初期
化処理がなされていることが確認できた。

【００４８】

【発明の効果】本発明では、複数の記録層を積層した多
層光記録媒体において、記録層への記録順序を制限する
ことなく安定した記録再生を実現することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】多層光記録媒体が有する記録層のうちの隣り合
う２層を模式的に表す側面図である。

【図２】本発明により製造された多層光記録媒体におい
て、アウトフォーカス状態のレーザービームスポット内
における記録層を模式的に示す平面図であり、ビームス
ポット内のすべての記録トラックに記録マークが形成さ
れていない状態を示す図である。

【図３】本発明により製造された多層光記録媒体におい
て、アウトフォーカス状態のレーザービームスポット内
における記録層を模式的に示す平面図であり、ビームス
ポット内の一部の記録トラックに記録マークが形成され
ている状態を示す図である。

【図４】本発明により製造された多層光記録媒体におい
て、アウトフォーカス状態のレーザービームスポット内
における記録層を模式的に示す平面図であり、ビームス
ポット内のすべての記録トラックに記録マークが形成さ
れている状態を示す図である。

【図５】本発明により製造された多層記録媒体の再生出
力パターンを模式的に示す図である。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 塚越 拓哉 東京都中央区日本橋一丁目13番１号 ティ ーディーケイ株式会社内 Ｆターム(参考） 5D090 AA01 BB05 BB12 CC11 DD02 EE20 5D121 AA01 GG26

Claims (10)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 少なくとも２層の記録層が積層され、他
   の記録層を通して照射されるレーザービームによって記
   録／再生が行われる記録層が少なくとも１層存在する光
   記録媒体を製造する方法であって、 少なくとも１つの記録層に対し、記録前の平均反射率
   が、記録マークの反射率より高く、かつ、隣接する記録
   マーク間の領域の反射率より低くなるように、少なくと
   も一部を変質させる初期化処理を施す工程を有する光記
   録媒体の製造方法。
2. 【請求項２】 相変化材料を含む少なくとも２層の記録
   層が積層され、他の記録層を通して照射されるレーザー
   ビームによって記録／再生が行われる記録層が少なくと
   も１層存在する光記録媒体を製造する方法であって、 少なくとも１つの記録層において、オーバーライト動作
   前の平均反射率が、オーバーライト動作によって形成さ
   れる非晶質記録マークの反射率より高く、かつ、オーバ
   ーライト動作によって非晶質記録マーク間に形成される
   結晶質の反射率より低くなるように、少なくとも一部を
   結晶化させる初期化処理を施す工程を有する光記録媒体
   の製造方法。
3. 【請求項３】 前記初期化処理において、形成直後の非
   晶質記録層に対し初期化用レーザービームを間欠的に照
   射することにより、照射により形成された矩形の結晶質
   領域と、形成直後の状態のままの非晶質領域とが、記録
   トラック延在方向において交互に並ぶ状態とする請求項
   ２の光記録媒体の製造方法。
4. 【請求項４】 前記矩形の結晶質領域が、２本以上の記
   録トラックに跨って存在するように前記初期化処理を施
   す請求項３の光記録媒体の製造方法。
5. 【請求項５】 隣り合う２つの記録層において、 記録再生用レーザービームの入射面から見て奥側に存在
   する一方の記録層に記録再生用レーザービームが合焦し
   ているときの、前記入射面から見て手前側に存在する他
   方の記録層において記録トラック延在方向に測った前記
   レーザービームのビームスポット径をφ_kとし、前記他
   方の記録層において記録トラック延在方向に測った前記
   矩形の結晶質領域の長さをＬ_Cとしたとき、 Ｌ_C／φ_k≦１／４ となるように前記初期化処理を施す請求項３または４の
   光記録媒体の製造方法。
6. 【請求項６】 前記他方の記録層に形成される最長記録
   マークの長さをＬ_Mとしたとき、 ２≦Ｌ_C／Ｌ_M となるように前記初期化処理を施す請求項５の光記録媒
   体の製造方法。
7. 【請求項７】 前記初期化処理において、形成直後の非
   晶質記録層の全面にレーザービームを照射することによ
   り、オーバーライト動作によって形成される非晶質記録
   マークの反射率より高く、かつ、オーバーライト動作に
   よって非晶質記録マーク間に形成される結晶質の反射率
   より低い反射率を示す結晶質を形成する請求項２の光記
   録媒体の製造方法。
8. 【請求項８】 前記初期化処理後かつオーバーライト動
   作前における記録層の平均反射率が、オーバーライト動
   作後の記録層の平均反射率とほぼ等しくなるように、前
   記初期化処理を施す請求項２〜７のいずれかの光記録媒
   体の製造方法。
9. 【請求項９】 最長マークと最長スペースとからなる単
   一信号を記録した領域における最大再生出力をIL_H、最
   小再生出力をIL_Lとし、IL_H−IL_L＝ILとし、前記初期化
   処理を施した後の記録層の平均再生出力をＩ_INIとした
   とき、 ０＜（IL_H−Ｉ_INI）／IL＜１ となるように前記初期化処理を施す請求項１〜８のいず
   れかの光記録媒体の製造方法。
10. 【請求項１０】 最短マークと最短スペースとからなる
    単一信号を記録した領域における最大再生出力をIS_H、
    最小再生出力をIS_Lとし、IS_H−IS_L＝ISとし、前記初期
    化処理を施した後の記録層の平均再生出力をＩ_INIとし
    たとき、 ０＜（IS_H−Ｉ_INI）／IS＜１ となるように前記初期化処理を施す請求項１〜９のいず
    れかの光記録媒体の製造方法。