JP2003121627A - カラーフィルタの製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 同一基板上への転写により複数色からなるカ
ラーフィルタを形成する場合に、第二色目以降の感光性
樹脂層と基板表面との密着力を保持し、感光性樹脂層の
転写不良を回避し得るカラーフィルタの製造方法を提供
する。 【解決手段】 仮支持体表面に感光性樹脂層を有する感
光性転写材料を基板に密着させ積層体を得る積層体形成
工程と、積層体から仮支持体を剥離する剥離工程と、感
光性樹脂層を露光、現像して基板に着色膜を形成する露
光現像工程とを含み、かつ前記積層体形成工程の前工程
として、前記基板の表面をＵＶ洗浄し、更にシランカッ
プリング処理する表面処理工程を有することを特徴とす
るカラーフィルタの製造方法である。第ｎ色目（ｎ≧
１）の露光現像工程の終了後であって、第(ｎ＋１)色目
あるいは第(ｎ＋ｍ)色目（ｍ≧２）の積層体形成工程前
に表面処理工程を有する態様が好ましい。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、液晶表示装置に用
いられるカラーフィルタの製造方法に関し、詳しくは、
特に感光性転写材料を用いた転写法によるカラーフィル
タの製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】一般に、カラー画像を表示する液晶表示
装置は、液晶表示装置に備えられた２枚の透明基板の一
方の面にカラーフィルタが設けられて構成される。カラ
ーフィルタは、一般に、透明基板の上に微小の間隙を介
して縦横両方向に整然と展開配列された多数の着色膜
（着色画素）からなる層が設けられた構成を有するもの
である。多数の着色画素は、通常Ｒ（赤色）、Ｇ（緑
色）及びＢ（青色）の三色のいずれかに着色され、ＲＧ
Ｂの各着色画素が一定のパターンに組み合わされてカラ
ーフィルタを構成している。

【０００３】かかるカラーフィルタの製造方法として
は、各種方法が知られているが、近年、感光性樹脂シー
ト（感光性転写材料）を用いた転写法が、精度の高いカ
ラーフィルタを簡便に製造することができる等の理由で
注目されている。例えば、この感光性樹脂シートを用い
た転写法によるカラーフィルタの製造方法では、まず、
所定の色の着色材料（顔料又は染料）と感光性樹脂とか
らなる感光性着色樹脂層（感光性樹脂層）を可撓性の支
持体シート（仮支持体）の上に設けた感光性樹脂シート
を所定の枚数（通常は、Ｒ、Ｇ、Ｂの三枚）作製する。
次に、この感光性樹脂シートの１枚を、その感光性樹脂
層を加熱ロールを用いて加熱しながらその表面で透明基
板（ガラス板など）の上に貼り合わせた（例えばラミネ
ートした）後、仮支持体を剥離して透明基板上に感光性
樹脂層を転写する。続いて、前記状態で、感光性樹脂層
の表面に、画素パターン部分が開口されたシート状のフ
ォトマスクを介して光照射して感光性樹脂層をパターン
状に露光した後、現像処理して透明基板上に一色目の着
色画素パターンを形成する。更に、着色画素パターンが
形成された前記基板表面に、異色の感光性樹脂層を有す
る感光性樹脂シートを用いて、同様にして転写、露光及
び現像を順次行うことによって、多色の着色画素パター
ンを形成することができる。尚、ＲＧＢなどの多色の着
色画素間の色分離を向上させるために、最近では各画素
間に間隙を設け、感光性黒色樹脂を埋め込むこと（いわ
ゆる、ブラックマトリックスの形成）が一般的に行われ
る。

【０００４】上記転写法では、透明基板上に一旦感光性
樹脂シートの感光性樹脂層を転写するが、該転写時にお
ける仮支持体の剥離時に、透明基板と感光性樹脂層との
密着力が低下している場合には、仮支持体側に感光性樹
脂層が残ってしまうことがある。このような場合には、
感光性樹脂層の層厚や表面性が損なわれたり、色濃度や
色純度、透明性等に支障を来すことがある。上記のよう
な転写時の転写不備を解消する手段として、例えば、第
一色目（例えばＲ画素）の感光性樹脂層を転写する前
に、透明基板の前処理として、該表面にシラノール基を
付着させるシランカップリング処理（Ｓｃ処理）が一般
に行われ、十分な密着力が得られることが知られてい
る。

【０００５】しかしながら、前記Ｓｃ処理は、第一色目
の着色画素が形成された後の、第二色目以降の感光性樹
脂層の転写にまで十分な密着力を保持することはできな
い。即ち、例えば第一色目の感光性転写材料を用い、感
光性樹脂層の転写後、露光・現像処理して第一色目の着
色画素パターンを形成した際、透明基板上に現像残渣が
残存し蓄積していると、第二色目以降の感光性樹脂層の
透明基板表面への密着力が低下して均一に転写できなく
なるのである。したがって、第二色目以降の感光性樹脂
層の基板への密着力を向上させる手段として、従来、基
板の表面をブラシ洗浄により現像残渣を減らしたり（特
開平６−２５８５１４号公報）、現像後の、基板表面に
残存した現像液の除去や、形成された着色画素パターン
の硬化、基板との密着性強化などの目的で施されるポス
トベーク時の炉内条件を最適化する等が行われてきた。

【０００６】しかし、上記のような手段では、例えば製
造ラインの休止や再開時において、基板を常に一定の表
面状態にコントロールすることが困難であり、剥離時の
仮支持体側への感光性樹脂層の残存を完全に防止するこ
とはできなかった。殊に、現像残渣が残り易い現像液を
用いた場合や、ＩＴＯ電極やＴＦＴ素子等が形成されて
表面凹凸の多い基板を用いた場合、Ｒ(赤色)画素→Ｇ
(緑色)画素→Ｂ(青色)画素→ブラックマトリクス(Ｋ)→
ＯＣ(オーバーコート)等の処理を連続的に行う場合には
特に現像残渣が残り易い。その結果、製造されたカラー
フィルタの諸性能に支障を来す要因となっていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】以上のように、複数の
感光性樹脂シートを用いて同一基板上に転写を繰り返
し、複数色からなるカラーフィルタを形成する場合に、
各転写プロセス（ラミネートから剥離）において、感光
性樹脂層と基板との間の十分な密着力を確保し得る技術
は確立されていなかった。したがって、本発明は、前記
従来における諸問題を解決し、以下の目的を達成するこ
とを課題とする。即ち、本発明は、複数の感光性樹脂シ
ートを用いて同一基板上への転写を繰り返しｎ色（ｎ≧
１）からなるカラーフィルタを形成する場合に、感光性
樹脂層が基板表面に転写される際の、該感光性樹脂層の
仮支持体側への残渣を低減でき、各色感光性樹脂層の基
板表面への密着力を向上させることができ、特に第二色
目以降の感光性樹脂層と基板表面との密着力を十分に保
持でき、転写を良好に行い得るカラーフィルタの製造方
法を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】前記課題を解決するため
の手段は以下の通りである。即ち、 ＜１＞ 仮支持体表面に感光性樹脂層を有する感光性転
写材料を、基板の表面に、該基板の表面と前記感光性樹
脂層とが接するように密着させ積層体を得る積層体形成
工程と、前記積層体から前記仮支持体を剥離する剥離工
程と、前記感光性樹脂層を露光及び現像して前記基板の
表面に着色膜を形成する露光現像工程とを含むカラーフ
ィルタの製造方法であって、前記積層体形成工程の前工
程として、着色膜が形成される側の前記基板の表面をＵ
Ｖ洗浄し、更にシランカップリング処理する表面処理工
程を有することを特徴とするカラーフィルタの製造方法
である。

【０００９】＜２＞ 積層体形成工程、剥離工程及び露
光現像工程の各工程を複数回繰り返して複数色からなる
カラーフィルタを形成するカラーフィルタの製造方法で
あって、第ｎ色目（ｎ≧１）の露光現像工程の終了後で
あって、第(ｎ＋１)色目の積層体形成工程前に表面処理
工程を有する前記＜１＞に記載のカラーフィルタの製造
方法である。

【００１０】＜３＞ 積層体形成工程、剥離工程及び露
光現像工程の各工程を複数回繰り返して複数色からなる
カラーフィルタを形成するカラーフィルタの製造方法で
あって、第ｎ色目（ｎ≧１）の露光現像工程の終了後で
あって、第(ｎ＋ｍ)色目（ｍ≧２）の積層体形成工程前
に表面処理工程を有する前記＜１＞に記載のカラーフィ
ルタの製造方法である。

【００１１】

【発明の実施の形態】本発明のカラーフィルタの製造方
法においては、積層体形成工程の前工程として、着色膜
が形成される側の基板の表面をＵＶ洗浄し、更にシラン
カップリング処理（Ｓｃ処理）する表面処理工程を有す
る。以下、本発明のカラーフィルタの製造方法について
詳述する。

【００１２】［カラーフィルタの製造方法］本発明のカ
ラーフィルタの製造方法は、少なくとも着色膜が形成さ
れる側の基板の表面をＵＶ洗浄し、更にシランカップリ
ング処理する表面処理工程と、仮支持体上に少なくとも
感光性樹脂層を有する感光性転写材料と基板とからなる
積層体を得る積層体形成工程と、前記積層体から前記仮
支持体を剥離する剥離工程と、露光・現像して着色膜
（パターン化された着色画素）を形成する露光現像工程
とを含んでなり、これら各工程は複数行ってもよく、必
要に応じて保護フィルム剥離工程やポストベーク等を行
う他の工程を含んでいてもよい。

【００１３】以下、各工程について説明する。 −表面処理工程− 表面処理工程は、後述の積層体形成工程前に設けられ、
本工程においては、パターン化されて着色画素となる着
色膜が形成される側の基板の表面をＵＶ洗浄し、その後
さらにシランカップリング処理を行う。本工程は、第一
色目の着色膜（着色画素）の形成前の基板表面に対して
行ってもよいが、主として、後述の積層体形成工程、剥
離工程及び露光現像工程等の各工程を複数回繰り返して
複数色からなるカラーフィルタを基板上に形成する場合
に、第ｎ色目（ｎ≧１）の露光現像工程の終了後であっ
て、第(ｎ＋１)色目、あるいは第(ｎ＋ｍ)色目（ｍ≧
２）の積層体形成工程前に、既に着色膜が形成されてい
る側の基板表面（即ち、画素の非形成領域）に対して行
うことが効果的である。

【００１４】例えば、第１色目（例えばＲ色）の感光性
転写材料を用いて積層体形成工程及び剥離工程を経た
後、第１色目の露光現像工程でＲ色画素を形成した後、
第２色目（ｎ＝２；例えばＧ色）の感光性転写材料を用
いて第２色目の積層体形成工程に移行する前に、Ｒ色画
素を有する側の基板表面を、あるいは同様にして第１及
び第２色目の露光現像工程を終了してＲ色画素及びＧ色
画素を形成した後、第３色目（ｍ＝２；例えばＢ色）の
感光性転写材料を用いて第３色目の積層体形成工程に移
行する前に、Ｒ及びＧ色画素を有する側の基板表面を、
ＵＶ洗浄しさらにシランカップリング処理する。前者の
ように、各色ごとにＵＶ洗浄とシランカップリング処理
を行ってもよいし、後者のように、数色（例えば２色や
３色）ごとにＵＶ洗浄とシランカップリング処理を行っ
てもよい。ｎ色目の露光現像工程後における、次工程で
転写される感光性樹脂層の基板への密着力の程度に応じ
て、適宜選択することができる。

【００１５】また、第ｎ色目（ｎ≧１）の露光現像工程
後に、基板表面に残存した現像液の除去や、形成された
着色画素パターンの硬化、基板との密着性強化などの目
的でポストベーク（加熱処理）を施す場合には、第(ｎ
＋１)色目あるいは第(ｎ＋ｍ)色目（ｍ≧２）の積層体
形成工程前の本工程において、ＵＶ洗浄→ポストベーク
→シランカップリング処理の順に行ってもよく、ポスト
ベーク→ＵＶ洗浄→シランカップリング処理の順に行っ
てもよい。前記ポストベークの詳細については後述す
る。

【００１６】本発明においては、ＵＶ洗浄した後に更に
シランカップリング処理をする。着色画素の形成後、Ｕ
Ｖ洗浄を行わずシランカップリング処理するのみでは、
現像残渣があるためにシランカップリング処理による効
果が十分に得られず、またシランカップリング処理を行
わずＵＶ洗浄を行うのみでは、転写物である感光性樹脂
層が有機組成よりなるために、無機体である基板との密
着力を十分に得ることができない。

【００１７】前記ＵＶ洗浄は、一般に、ＵＶ（紫外）光
の照射による、有機化合物の分解反応と、発生する活性
酸素（オゾンＯ₃）の生成と分解の過程における強力な
酸化作用により起こる有機化合物の水やガスへの分解反
応とを利用して好適に行える。例えば、１８５ｎｍ及
び２５４ｎｍの短波長の紫外線を発する低圧水銀灯を用
いた方法、波長１７２ｎｍの紫外光を発するエキシマ
ランプ（例えば、キセノンガスが封入された誘電体バリ
ア放電エキシマランプなど）を用いた方法、等が好適に
挙げられる。前記の方法では、１８５ｎｍの波長光で
Ｏ₃が生成され、生成されたＯ₃は２５４ｎｍの波長光で
分解され、これらの過程で発生する酸化力の強い酸素原
子(Ｏ)によって有機物質を分解除去できる。前記の方
法では、１７２ｎｍの光が大気中のＯ₂に吸収され励起
酸素原子(Ｏ)を発し、かつＯ₃を生成分解する経路から
も酸素(Ｏ)を生成して、有機物質をより高速に分解除去
できる。

【００１８】具体的には、例えば、ＨＭＷ−６１５Ｎ−
４（オーク社製）等のＵＶ洗浄装置を用いて行うことが
できる。前記ＵＶ洗浄の条件としては、既に基板上に形
成されている着色画素やＴＦＴ素子等にダメージを与え
ない範囲であればよく、適宜選択することができる。具
体的には、ＵＶ洗浄時のＵＶ照射量としては、５００〜
１００００ｍＪ／ｃｍ²が好ましく、ＵＶ照射時間とし
ては、１〜２０ｍｉｎが好ましい。

【００１９】前記シランカップリング処理の方法として
は、下記シランカップリング剤を用いた公知の方法から
適宜選択することができる。例えば、濃度０．１〜１０
質量％のシランカップリング剤水溶液中に、基板を室温
〜５０℃の下で数秒〜数分間ディップした後、水洗、乾
燥することで行える。前記処理の条件としては、シラン
カップリング剤水溶液の濃度が１〜５質量％であって、
室温〜３０℃の下で数分間ディップするのが好ましい。
これにより、ＵＶ洗浄後の基板表面に対して新たにシラ
ノール基を付着させ、第二色目以降の感光性着色層と該
基板表面との密着力を大幅に向上させることができる。

【００２０】前記シランカップリング剤としては、例え
ば、トリメトキシシリル安息香酸、γ−メタクリロキシ
プロピルトリメトキシシラン、ビニルトリアセトキシシ
ラン、ビニルトリメトキシシラン、γ−イソシアネート
プロピルトリエトキシシラン、γ−グリシドキシプロピ
ルトリメトキシシラン、β−（３，４−エポキシシクロ
ヘキシル）エチルトリメトキシシラン等が挙げられる。

【００２１】上記のように、露光現像工程とその後の積
層体形成工程との間に本工程を設けることにより、同一
基板表面上に複数色からなるカラーフィルタを転写形成
する場合でも、転写される感光性樹脂層の基板表面への
密着力をコントロールでき、第二色目以降の感光性着色
層の基板表面に対する密着力を安定的に向上させること
ができる。その結果、剥離時の仮支持体側への感光性樹
脂層の残存が抑制され、特に、現像残渣の残り易い現像
液を用いた場合や、ＩＴＯ電極やＴＦＴ素子等が形成さ
れて基板表面に多くの凹凸を有する基板を用いた場合、
Ｒ(赤色)画素→Ｇ(緑色)画素→Ｂ(青色)画素→ブラック
マトリクス(Ｋ)→ＯＣ(オーバーコート)等の処理を連続
的に行った場合でも、非画素部の残渣を十分に抑制で
き、色濃度、鮮明性（曇りがない）等の諸機能に優れた
カラーフィルタを形成することができる。

【００２２】−積層体形成工程− 積層体形成工程においては、仮支持体表面に感光性樹脂
層を有する感光性転写材料を、基板の表面に、該基板の
表面と前記感光性樹脂層とが接するように密着させ積層
体を形成する。この場合において、基板の表面は、通
常、感光性樹脂層との密着力を確保する観点からシラン
カップリング処理が施されるが、前記表面処理工程を施
してもよい。

【００２３】本工程では、まず、保護フィルムが設けら
れた感光性転写材料を使用する場合は予め前記保護フィ
ルムを取除き（保護フィルム剥離工程：当該工程につい
ては後述する。）、感光性樹脂層を加熱下、必要に応じ
て加圧しながら、着色画素を転写形成しようとする側の
基板の表面に、該基板の表面と前記感光性樹脂層とが接
するように貼り合わせて密着させ、積層体を形成する。
貼り合わせには、従来公知のラミネート装置や、真空ラ
ミネート装置を使用することができ、より生産性を高め
る観点から、オートカットラミネータ装置を使用するこ
とも可能である。

【００２４】−剥離工程− 剥離工程においては、前記積層体形成工程により得られ
た積層体から仮支持体を剥離する。剥離手段としては、
仮支持体の背面（感光性樹脂層が設けられた側と反対側
の面）を吸盤等で捉えてめくるようにしてもよいし、剥
離ロールに巻きつけるようにしてめくるようにしてもよ
い。このとき、前記仮支持体の剥離による帯電を低く抑
えることが重要であり、例えば、前記積層体をその基板
側が接するように絶縁台の上に載置したり、前記感光性
樹脂層と前記仮支持体とが剥がされる剥離部位（ピール
部）ないしその周辺部に除電器等によりイオン風を当て
る等しながら剥離することが好ましい。

【００２５】前者で用いる絶縁台の材質としては、絶縁
性を有するものであれば特に限定されず、あらゆる材質
のものを使用でき、またそれ自体が導電性のものであっ
ても、表面に絶縁性の被膜を設けることにより使用する
ことができる。それ自体絶縁性の絶縁台の材質、及び絶
縁性の被膜の材質としては、従来公知のプラスチック材
料、及びガラス、ゴム、セラミックス、大理石、ＳｉＮ
膜等が挙げられ、前記絶縁台の体積抵抗としては、１×
１０⁹Ω以上が好ましく、１×１０¹³Ω以上がより好ま
しい。

【００２６】前記「イオン風」とは、正又は負に帯電さ
せたイオンを含むエアー（空気に限らず、種々の気体が
挙げられる）の流れのことを指す。前記除電器として
は、イオン風を発生し得る除電器であればよく、主にコ
ロナ放電タイプと軟Ｘ線タイプとが挙げられ、軟Ｘ線タ
イプのものが特に除電効果の点で好ましい。また、除電
器には、一般に、棒状の本体に複数の吐出口が並列に配
されてなるバータイプのものや、吐出口を１つのみ有す
るノズルタイプのものがあり、いずれも使用することが
できる。前記コロナ放電タイプの場合は、吐出口におけ
るイオン風の風速として１ｍ／秒以上が好ましく、２〜
１０ｍ／秒がより好ましい。具体的には、例えば、シム
コジャパン（株）製のＳｔａｔｉｃ Ｂａｒ ＳＩＢ、シ
シド静電気（株）製のＡＣイオナイザ ＡＰＺ II、
（株）キーエンス製のマルチタイプ増設型除電器ＳＪ−
Ｂ、高砂熱学工業（株）製のスーパークリーンイオナイ
ザ ＴＳＣＩ−ＳＮ（以上、コロナ放電タイプ）、高砂
熱学工業（株）製のスーパークリーンイオナイザ ＩＲ
ＩＳＹＳ−ＳＸ（軟Ｘ線タイプ）等が挙げられる。

【００２７】本剥離工程において、仮支持体を剥離する
具体的態様や好ましい態様などの詳細については、特願
２０００−３６９１０３号の記載並びに図２〜４等を参
照できる。

【００２８】−露光現像工程− 露光現像工程においては、前記感光性樹脂層を露光及び
現像して前記基板の表面に着色膜を形成する。即ち、前
記剥離工程で仮支持体が剥離された積層体は、前記感光
性樹脂層を露光（露光工程）、及び現像（現像工程）さ
れる。そして、前記基板の表面にカラーフィルタが形成
される。露光工程においては、基板表面の感光性樹脂層
に所定のフォトマスクを介在させて光を照射する。これ
により、感光性樹脂層の露光部分が硬化する。露光工程
に使用する光源は、感光性樹脂層の感光性に応じて選択
されるが、例えば超高圧水銀灯、キセノン灯、カーボン
アーク灯、アルゴンレーザ等の公知の光源を使用するこ
とができる。特開平６−５９１１９号公報に記載のよう
に、４００ｎｍ以上の波長の光透過率が２％以下である
光学フィルター等を併用してもよい。

【００２９】尚、二色目以降の感光性樹脂材料の転写時
において、隣接する画素間の間隙に空気が残留するのを
防止する目的で、フォトマスクとして画素パターン部分
の矩形の開口部が面取りされたものを用いてもよい。面
取りの位置及び形状については、本出願人による特開平
１０−２２１５１８号公報（特願平９−４４６４４号）
に記載されている。

【００３０】続いて、現像工程において、透明基板上の
感光性樹脂層を現像処理する。これにより、感光性樹脂
層の非露光部分（未硬化部分）が除去されて、多数の微
小の着色画素からなる層を形成することができる。感光
性樹脂層の現像液としてはアルカリ性物質の希薄水溶液
を使用するが、更に水と混和性の有機溶剤を少量添加し
たものを用いてもよい。適当なアルカリ性物質として
は、アルカリ金属水酸化物類（例、水酸化ナトリウム、
水酸化カリウム）、アルカリ金属炭酸塩類（例、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム）、アルカリ金属重炭酸塩類
（例、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム）、アル
カリ金属ケイ酸塩類（例、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カ
リウム）、アルカリ金属メタケイ酸塩類（例、メタケイ
酸ナトリウム、メタケイ酸カリウム）、トリエタノール
アミン、ジエタノールアミン、モノエタノールアミン、
モルホリン、テトラアルキルアンモニウムヒドロキシド
類（例えばテトラメチルアンモニウムヒドロキシド）又
は燐酸三ナトリウムを挙げることができる。アルカリ性
物質の濃度としては０．０１〜３０質量％が好ましく、
ｐＨとしては８〜１４が好ましい。

【００３１】遮光性の感光性黒色樹脂層以外の通常の感
光性樹脂層の場合には、例えばｐＨの比較的低い現像液
を用いることにより、膜状脱離による現像を好適に行う
ことができる。

【００３２】水と混和性のある適当な有機溶剤として
は、メタノール、エタノール、２−プロパノール、１−
プロパノール、ブタノール、ジアセトンアルコール、エ
チレングリコールモノメチルエーテル、エチレングリコ
ールモノエチルエーテル、エチレングリコールモノ−ｎ
−ブチルエーテル、ベンジルアルコール、アセトン、メ
チルエチルケトン、シクロヘキサノン、ε−カプロラク
トン、γ−ブチロラクトン、ジメチルホルムアミド、ジ
メチルアセトアミド、ヘキサメチルホスホルアミド、乳
酸エチル、乳酸メチル、ε−カプロラクタム、Ｎ−メチ
ルピロリドンを挙げることができる。水と混和性の有機
溶剤の濃度としては、０．１〜３０質量％が一般的であ
る。現像液には、さらに公知の界面活性剤を添加するこ
とができ、その濃度としては、０．０１〜１０質量％が
好ましい。

【００３３】現像液は、浴液としても、あるいは噴霧液
としても用いることができる。感光性樹脂層の未硬化部
分を固形状（好ましくは膜状）で除去するには、現像液
中で回転ブラシで擦るか湿潤スポンジで擦るなどの方
法、あるいは現像液を噴霧した際の噴霧圧を利用する方
法が好ましい。現像液の温度としては、通常室温付近か
ら４０℃の範囲が好ましい。現像処理の後に水洗工程を
加えてもよい。

【００３４】さらに、現像工程の後、着色画素層の硬化
を充分にし、耐薬品性を高めるために加熱処理（ポスト
ベーク）を行うのが好ましい。加熱処理は、着色画素層
を有する基板を電気炉、乾燥器等の中で加熱するか、あ
るいは着色画素層に赤外線ランプを照射して加熱するこ
とにより行う。加熱の温度及び時間は、感光性樹脂の組
成や着色画素層の厚みにも依存するが、一般に充分な耐
溶剤性、耐アルカリ性を獲得するには約１２０℃〜２５
０℃の温度及び約１０〜３００分間である。

【００３５】このようにして一色の着色画素（着色画
素）を有するカラーフィルタが得られる。さらに、他色
の感光性樹脂材料を用いて上述の工程を必要な色数だけ
複数回繰り返すことにより、多色のカラーフィルタを得
ることができる。尚、カラーフィルタは一色のみ（全て
同じ色）であってもよいし、あるいは二色以上から構成
されていてもよい。また、たとえば赤(Ｒ)、緑(Ｇ)、青
(Ｂ)の三色の画素を配置する場合に、ストライプ型、モ
ザイク型、トライアングル型、四画素配置型などどのよ
うな配置であってもよい。

【００３６】さらに、黒色の感光性樹脂層を有する感光
性樹脂材料（ブラックマトリックス形成用シート）を用
いて、上述と同様にしてこの感光性樹脂材料を加熱処理
した後、基板上のカラーフィルタを構成する着色画素の
上から転写し、次いでカラーフィルタを基板の下面（画
素層を有しない面）側より露光（背面露光）し、現像
し、加熱処理することにより、画素間の隙間を埋めるよ
うに黒色樹脂層を設けて、ブラックマトリックス（遮光
性画像）を形成してもよい。これにより、ブラックマト
リックス付きカラーフィルタが得られる。

【００３７】背面露光は、一般に紫外線（ＵＶ）の照射
により行われるが、感光性黒色樹脂層の感光性に応じて
光の種類は適宜選択される。また、形成される黒色樹脂
層の厚みは０．５〜３μｍが好ましい。遮光性画像部が
突起を形成しないで、得られるカラーフィルタが良好な
平坦性を示すためには、黒色樹脂層は、着色画素層と同
じ厚みか、若しくはそれ以下であることが望ましい。

【００３８】−保護フィルム剥離工程− 感光性転写材料として、感光性樹脂層の更に上層として
保護フィルムが設けられている場合には、前記積層体形
成工程に先立ち、前記積層体から前記保護フィルムを剥
離する保護フィルム剥離工程が含まれる。保護フィルム
剥離工程による保護フィルムの剥離は、例えば特開平９
−１７４７９７号公報の図２〜図４に記載の保護フィル
ム除去装置１６の如き構成の剥離装置を用い、前記感光
性樹脂層の上層に設けられた保護フィルムを剥離ロール
で巻き取るようにして行うことができる。

【００３９】尚、保護フィルムを除去する際にも、既述
の剥離工程と同様に除電器等によりイオン風を当てなが
ら行うことが、帯電量の低減の点で好ましい。ここでの
除電器は、剥離工程の項で説明したものと同様のものが
使用できる。また、剥離に際しての各条件等、ピール部
乃至その周辺部との用語の意義、ピール部と除電器との
間隙に関する考え方等は、既述の剥離工程における説明
並びに特願２０００−３６９１０３号の記載等と同様で
ある。但し、保護フィルムの剥離は、例えば特開平９−
１７４７９７号公報の図２〜図４に示されるように、一
般に長尺状の感光性転写材料を進行させながら行うこと
から、ピール部と除電器との間隙を略一定に保つには、
装置に除電器を固定すればよい。

【００４０】［感光性転写材料］本発明のカラーフィル
タの製造方法に用いられる感光性転写材料は、仮支持体
の上に少なくとも感光性樹脂層を有してなり、必要に応
じて、仮支持体と感光性樹脂層との間に、熱可塑性樹脂
層、酸素遮断層等の中間層、並びに感光性樹脂層がこの
順で積層されてなる構造を有していてもよい。また、前
記感光性樹脂層の上には、保存時に該感光性樹脂層を保
護する目的で、保護フィルムが形成されていてもよい。

【００４１】〈仮支持体〉前記仮支持体としては、可撓
性であって、感光性樹脂層等と良好な剥離性を有し、化
学的及び熱的に安定である物質で構成されることが好ま
しい。具体的には、テフロン（Ｒ）、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリカーボネート、ポリエチレン、ポリプ
ロピレン等のフィルム若しくはこれらの積層物が好まし
い。仮支持体の厚みとしては、５〜３００μｍが適当で
あり、特に２０〜１５０μｍが好ましい。仮支持体の厚
みが、前記範囲よりも小さいと感光性転写材料を転写す
べき基板と貼り合わせる際にシワが発生しやすく、前記
範囲よりも大きいと感光性転写材料のシートカッティン
グ時にゴミを発生しやすい。

【００４２】また、本発明の効果をさらに向上させるた
めには、前記仮支持体の表面電気抵抗値が１０¹³Ω／ｃ
ｍ²以下であることが好ましく、１０¹²Ω／ｃｍ²以下で
あることがより好ましい。表面電気抵抗値が１０¹³Ω／
ｃｍ²以下である仮支持体としては、導電性を有する材
料を含有する合成樹脂から形成された仮支持体、表面近
傍の部分のみに導電性を有する材料が含有されている仮
支持体、１０¹³Ω／ｃｍ²より大きい表面電気抵抗値を
有する仮支持体本体の少なくとも一方の面に導電性を有
する層（導電性層）が積層されている仮支持体、これら
の構成が組み合わせられた仮支持体等の何れの態様のも
のであってもよい。

【００４３】仮支持体を形成するための前記合成樹脂と
しては、従来感光性転写材料の仮支持体材料として使用
されている化学的及び熱的に安定な合成樹脂、好ましく
は熱可塑性樹脂を使用することができ、特に好ましいも
のはポリエチレンテレフタレート、ポリカーボネート等
である。

【００４４】仮支持体に含有させる前記導電性を有する
材料としては、特に限定することなくそれ自体公知のも
のでよいが、特に好ましいものは導電性金属酸化物の微
粒子及び帯電防止剤である。導電性金属酸化物の微粒子
及び帯電防止剤はそれぞれ単一成分であってもよく混合
物であってもよい。また導電性金属酸化物の微粒子と帯
電防止剤とを併用してもよい。

【００４５】前記導電性金属酸化物の好ましい例として
は、酸化亜鉛、酸化チタン、酸化錫、酸化アルミニウ
ム、酸化インジウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸
化バリウム、酸化モリブデン等の中から選ばれる少なく
とも１種の結晶性金属酸化物、及び／又は、その複合酸
化物を主体とする微粒子を挙げることができる。該導電
性金属酸化物の微粒子は、１０⁷Ω・ｃｍ以下、特に１
０⁵Ω・ｃｍ以下の体積抵抗値を有するものであること
が好ましく、また、その粒子サイズは、０．０１〜０．
７μｍ、特に０．０２〜０．５μｍであることが好まし
い。

【００４６】導電性金属酸化物の微粒子の製造方法につ
いては、例えば、特開昭５６−１４３４３０号公報に詳
細に記載されている。略述すれば、第１に金属酸化物微
粒子を焼成により作製し、導電性を向上させる異種原子
の存在下で熱処理する方法、第２に焼成により金属酸化
物微粒子を製造するときに導電性を向上させる為の異種
原子を共存させる方法、第３に焼成により金属微粒子を
製造する際に雰囲気中の酸素濃度を下げて、酸素欠陥を
導入する方法等がある。

【００４７】導電性金属酸化物に含まれる異種原子の例
としては、例えば、ＺｎＯに対してはＡｌ、Ｉｎ等、Ｔ
ｉＯ₂に対してはＮｂ、Ｔａ等、ＳｎＯ₂に対しては、Ｓ
ｂ、Ｎｂ、ハロゲン元素等が挙げられる。異種原子の添
加量としては、０．０１〜３０モル％が好ましく、０．
１〜１０モル％が特に好ましい。

【００４８】前記帯電防止剤の好ましい例としては、ア
ニオン界面活性剤としてアルキル燐酸塩系（例えば、花
王（株）のエレクトロストリッパーＡ、第一工業製薬
（株）のエレノンＮｏ１９等）、両性界面活性剤として
ベタイン系（例えば、第一工業製薬（株）のアモーゲン
Ｋ等）、非イオン界面活性剤としてポリオキシエチレン
脂肪酸エステル系（例えば、日本油脂（株）のニッサン
ノニオンＬ等）、ポリオキシエチレンアルキルエーテル
系（例えば、花王（株）のエマルゲン１０６、１２０、
１４７、４２０、２２０、９０５、９１０、日本油脂
（株）のニッサンノニオンＥ等）を挙げることができ
る。その他、非イオン界面活性剤としてポリオキシエチ
レンアルキルフェノールエーテル系、多価アルコール脂
肪酸エステル系、ポリオキシエチレンソルビタン脂肪酸
エステル系、ポリオキシエチレンアルキルアミン系等の
界面活性剤も有用である。

【００４９】さらに、剥離性の観点から仮支持体に対し
種々の公知の離型処理を行ってもよい。また、滑り性を
良化するため、又は感光性樹脂層の仮支持体裏面との不
都合な接着を防止するため、仮支持体の裏面に公知の微
粒子含有滑り性組成物や、シリコーン化合物を含有する
離型剤組成物等を塗布することも有用である。

【００５０】また、上述の通り、本発明の効果をさらに
向上させるために、導電性層を設けてなる仮支持体を用
いてもよい。この場合、仮支持体本体（仮支持体の導電
性層を除く部材）の表面電気抵抗値については特に考慮
する必要は無く、１０¹³Ω／ｃｍ²以下であっても、そ
れより大きくてもよい。前記導電性層は、導電性を有す
る材料とバインダー又はポリマーとを含む層である。こ
の導電性を有する材料としては、特に限定されないが、
前記の仮支持体に含有させることができる導電性金属酸
化物の微粒子が特に好ましい。

【００５１】導電性層中における導電性金属酸化物の微
粒子の含有量は、導電性層を含む仮支持体の表面電気抵
抗値が１０¹³Ω／ｃｍ²以下になるようにすることが好
ましく、導電性金属酸化物、バインダー又はポリマー、
仮支持体本体等の電気抵抗値、導電性層及び仮支持体本
体の厚み等によって変わるが、一般に０．０５ｇ／ｍ ²
〜２０ｇ／ｍ²であることが好ましく、０．１ｇ／ｍ²〜
１０ｇ／ｍ²であることが特に好ましい。

【００５２】導電性層に含有させるバインダーとして
は、例えば、ゼラチン、セルロースナイトレート、セル
ローストリアセテート、セルロースジアセテート、セル
ロースアセテートブチレート、セルロースアセテートプ
ロピオネート等のようなセルロースエステル；塩化ビニ
リデン、塩化ビニル、スチレン、アクリロニトリル、酢
酸ビニル、アルキル（炭素数１〜４のアルキル基が好ま
しい）アクリレート、ビニルピロリドン等を含むモノマ
ーのホモポリマー若しくはコポリマー；可溶性ポリエス
テル、ポリカーボネート、可溶性ポリアミド等を使用す
ることができる。

【００５３】導電性層に含有させるポリマーとしては、
仮支持体本体の材料として使用できる熱可塑性樹脂、前
記のバインダー、及びその他の熱可塑性樹脂の中から任
意に選択されるポリマーを使用することができる。導電
性層の形成は、例えば、導電性微粒子を必要に応じて溶
剤中でバインダーに分散させた導電性層形成用塗布液
を、仮支持体本体の表面に例えば、ローラーコート、エ
アーナイフコート、グラビアコート、バーコート、カー
テンコート等の方法によって塗布した後乾燥する方法；
仮支持体本体の表面に後記のような下塗層を設けその上
に導電性微粒子を被着させる方法；導電性微粒子及びポ
リマーの組成物を、仮支持体本体を押出成形する際に共
押し出しすることにより仮支持体本体上に導電性層を設
ける方法；等の方法によって行うことができる。特に導
電性層を共押し出しにより設ける方法によれば、接着
性、耐傷性が優れた導電性層を形成することができ、後
述するような疎水性重合体層を設ける必要がなくなるの
で好ましい。

【００５４】導電性層形成用塗布液を調製するためにバ
インダー中へ導電性粒子を分散させるに際しては、チタ
ン系分散剤又はシラン系分散剤のような分散剤をこの塗
布液に添加してもよい。また必要に応じてバインダー架
橋剤等を加えてもよい。前記チタン系分散剤としては、
米国特許第４，０６９，１９２号明細書、同第４，０８
０，３５３号明細書等に記載のチタネート系カップリン
グ剤、及びプレンアクト（商品名；味の素（株）製）等
を挙げることができる。また、前記シラン系分散剤とし
ては、例えば、ビニルトリクロルシラン、ビニルトリエ
トキシシラン、ビニルトリス（β−メトキシエトキシ）
シラン、γ−グリシドキシプロピルトリメトキシシラ
ン、γ−メタクリロキシプロピルトリメトキシシラン等
を挙げることができ、「シランカップリング剤」として
信越化学工業（株）等から市販されているものも使用す
ることができる。前記バインダー架橋剤としては、例え
ば、エポキシ系架橋剤、イソシアネート系架橋剤、アジ
リジン系架橋剤、エポキシ系架橋剤等を挙げることがで
きる。

【００５５】また、導電性層が、熱可塑性樹脂層等が設
けられる面とは反対側の面に設けられている場合には、
耐傷性を良好なものとするために、導電性層の上に更に
疎水性重合体層を設けることが好ましい。この場合、疎
水性重合体層は、疎水性重合体の有機溶剤溶液又は水性
ラテックスを塗布し乾燥することによって形成すること
ができる。この疎水性重合体の塗布量は、乾燥重量にし
て０．０５ｇ／ｍ²〜１ｇ／ｍ²程度であることが好まし
い。

【００５６】前記疎水性重合体としては、セルロースエ
ステル（例えば、ニトロセルロース、セルロースアセテ
ート）、塩化ビニル、塩化ビニリデン、ビニルアクリレ
ート等を含むモノマーから製造されたビニル系ポリマー
や有機溶剤可溶性ポリアミド、ポリエステル等のポリマ
ーを挙げることができる。疎水性重合体層には、滑り性
を付与するための滑り剤、例えば特開昭５５−７９４３
５号公報に記載の有機カルボン酸アミド等を添加しても
差し支えないし、またマット剤等を加えることも何ら支
障はない。このような疎水性重合体層を設けても、導電
性層が奏する作用効果は実質的に影響を受けない。

【００５７】本発明における感光性転写材料において
は、また、特開昭５６−８２５０４号公報、特開昭５６
−１４３４４３号公報、特開昭５７−１０４９３１号公
報、特開昭５７−１１８２４２号公報、特開昭５８−６
２６４７号公報、特開昭６０−２５８５４１号公報等に
記載の、導電性層を設けた仮支持体も適宜用いることが
できる。

【００５８】仮支持体を、仮支持体本体と導電性層とか
ら構成する場合は、導電性層の厚みを０．０１〜１０μ
ｍにすることが好ましい。また、導電性層は、仮支持体
の熱可塑性樹脂層等が設けられる側の表面に設けてもよ
く、仮支持体本体の両面に設けてもよい。

【００５９】〈感光性樹脂層〉前記感光性樹脂層は、感
光性樹脂組成物と着色剤とを少なくとも含んでなる塗布
液（感光性樹脂層塗布液）を公知の塗布方法により仮支
持体上に塗布して形成される。前記感光性樹脂層は、感
光性樹脂組成物と着色剤とを含む着色層であり、熱又は
圧力によって軟化若しくは流動化する樹脂層であること
が好ましい。具体的には、少なくとも１５０℃以下の温
度で軟化若しくは粘着性を有する熱可塑性を示す転写適
性を持つことが好ましく、光が照射されると硬化する一
方、未照射部はアルカリ溶液に対して易溶性でレジスト
性を備えることが好ましい。公知の光重合性組成物から
なる層の大部分はこの性質を有する。また、これらの層
は、熱可塑性樹脂の添加や、相溶性のある可塑剤の添加
により更に改質が可能である。

【００６０】前記感光性樹脂組成物としては、例えば特
開平３−２８２４０４号公報に記載のものを全て使用す
ることができ、例えば、ネガ型ジアゾ樹脂とバインダー
とからなる感光性樹脂組成物、光重合性組成物、アジド
化合物とバインダーとからなる感光性樹脂組成物、桂皮
酸型感光性樹脂組成物が挙げられる。中でも、アルカリ
可溶性バインダーポリマー、光の照射によって付加重合
するエチレン性不飽和二重結合を有するモノマー、光重
合開始剤を含んでなる感光性樹脂組成物が好ましく、本
発明においては、該感光性樹脂組成物と着色剤とを含有
してなる感光性樹脂層が特に好ましい。

【００６１】前記アルカリ可溶性バインダーポリマーと
しては、側鎖にカルボン酸基を有するポリマー、例え
ば、特開昭５９−４４６１５号公報、特公昭５４−３４
３２７号公報、特公昭５８−１２５７７号公報、特公昭
５４−２５９５７号公報、特開昭５９−５３８３６号公
報、及び特開昭５９−７１０４８号公報に記載の、メタ
クリル酸共重合体、アクリル酸共重合体、イタコン酸共
重合体、クロトン酸共重合体、マレイン酸共重合体、部
分エステル化マレイン酸共重合体が挙げられる。また、
側鎖にカルボン酸基を有するセルロース誘導体も挙げる
ことができる。

【００６２】前記のほかに、水酸基を有するポリマーに
環状酸無水物を付加したものも好適である。特に、米国
特許第４１３９３９１号明細書に記載の、ベンジル（メ
タ）アクリレートと（メタ）アクリル酸の共重合体やベ
ンジル（メタ）アクリレートと（メタ）アクリル酸と他
のモノマーとの多元共重合体を挙げることができる。

【００６３】前記アルカリ可溶性バインダーポリマーを
用いる場合、前記の中から、５０〜３００ｍｇＫＯＨ／
ｇの範囲の酸価と１０００〜３０００００の範囲の質量
平均分子量を有するものを選択して使用することが好ま
しい。

【００６４】前記アルカリ可溶性バインダーポリマーの
他、種々の性能、例えば硬化膜の強度を改良する目的
で、現像性等に悪影響を与えない範囲で、アルカリ不溶
性のポリマーを添加することができる。そのようなポリ
マーとしては、アルコール可溶性ナイロン又はエポキシ
樹脂が挙げられる。

【００６５】感光性樹脂組成物の全固形分に対する、ア
ルカリ可溶性のポリマーと必要に応じてアルカリ不溶性
のポリマーの総含有量としては、１０〜９５質量％が好
ましく、２０〜９０質量％がより好ましい。前記含有量
が、１０質量％未満であると、感光性樹脂層の粘着性が
高すぎてしまうことがあり、９５質量％を超えると、形
成される画像の強度及び光感度の点で劣ることがある。

【００６６】前記光の照射によって付加重合するエチレ
ン性不飽和二重結合を有するモノマーとしては、分子中
に少なくとも１個の付加重合可能なエチレン性不飽和基
を有し、沸点が常圧で１００℃以上の化合物が挙げられ
る。例えば、ポリエチレングリコールモノ（メタ）アク
リレート、ポリプロピレングリコールモノ（メタ）アク
リレート、フェノキシエチル（メタ）アクリレート等の
単官能アクリレートや単官能メタクリレート；

【００６７】ポリエチレングリコールジ（メタ）アクリ
レート、ポリプロピレングリコールジ（メタ）アクリレ
ート、トリメチロールエタントリアクリレート、トリメ
チロールプロパントリアクリレート、トリメチロールプ
ロパンジアクリレート、ネオペンチルグリコールジ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールテトラ（メ
タ）アクリレート、ペンタエリスリトールトリ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）
アクリレート、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）
アクリレート、ヘキサンジオールジ（メタ）アクリレー
ト、トリメチロールプロパントリ（アクリロイルオキシ
プロピル）エーテル、トリ（アクリロイルオキシエチ
ル）イソシアヌレート、トリ（アクリロイルオキシエチ
ル）シアヌレート、グリセリントリ（メタ）アクリレー
ト；トリメチロールプロパンやグリセリン等の多官能ア
ルコールにエチレンオキシドにプロピレンオキシドを付
加した後（メタ）アクリレート化したもの等の多官能ア
クリレートや多官能メタクリレートを挙げることができ
る。

【００６８】更に、特公昭４８−４１７０８号公報、特
公昭５０−６０３４号公報及び特開昭５１−３７１９３
号公報に記載のウレタンアクリレート類；特開昭４８−
６４１８３号公報、特公昭４９−４３１９１号公報及び
特公昭５２−３０４９０号公報に記載のポリエステルア
クリレート類；エポキシ樹脂と（メタ）アクリル酸の反
応生成物であるエポキシアクリレート類等の多官能アク
リレートやメタクリレートも挙げられる。前記の中で
も、トリメチロールプロパントリ（メタ）アクリレー
ト、ペンタエリスリトールテトラ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールヘキサ（メタ）アクリレー
ト、ジペンタエリスリトールペンタ（メタ）アクリレー
トが好ましい。

【００６９】光の照射によって付加重合するエチレン性
不飽和二重結合を有するモノマーは単独で用いても２種
類以上を混合して用いてもよい。また、感光性樹脂組成
物の全固形分に対する該モノマーの含有量としては、５
〜５０質量％が一般的であり、特に１０〜４０質量％が
好ましい。前記含有量が、５質量％未満であると、光感
度や画像の強度が低下することがあり、５０質量％を超
えると、感光性樹脂層の粘着性が過剰になることがあり
好ましくない。

【００７０】前記光重合開始剤としては、米国特許第２
３６７６６０号明細書に記載のビシナルポリケタルドニ
ル化合物、米国特許第２４４８８２８号明細書に記載の
アシロインエーテル化合物、米国特許第２７２２５１２
号明細書に記載の、α−炭化水素で置換された芳香族ア
シロイン化合物、米国特許第３０４６１２７号明細書及
び同第２９５１７５８号明細書に記載の多核キノン化合
物、米国特許第３５４９３６７号明細書に記載の、トリ
アリールイミダゾール二量体とｐ−アミノケトンとの組
合せ、特公昭５１−４８５１６号公報に記載のベンゾチ
アゾール化合物とトリハロメチル−ｓ−トリアジン化合
物、米国特許第４２３９８５０号明細書に記載のトリハ
ロメチル−ｓ−トリアジン化合物、米国特許第４２１２
９７６号明細書に記載のトリハロメチルオキサジアゾー
ル化合物等が挙げられる。

【００７１】中でも特に、トリハロメチル−ｓ−トリア
ジン、トリハロメチルオキサジアゾール及びトリアリー
ルイミダゾール二量体が好ましい。感光性樹脂組成物の
全固形分に対する前記光重合開始剤の含有量としては、
０．５〜２０質量％が一般的であり、特に１〜１５質量
％が好ましい。前記含有量が０．５質量％未満である
と、光感度や画像の強度が低くなることがあり、また２
０質量％を超えて添加しても性能向上への効果が認めら
れない。

【００７２】前記着色剤（着色材料）としては、カラー
フィルタを構成する色である赤色、緑色及び青色の顔料
が一般に使用される。その好ましい例としては、カーミ
ン６Ｂ（Ｃ．Ｉ．１２４９０）、フタロシアニングリー
ン（Ｃ．Ｉ．７４２６０）、フタロシアニンブルー
（Ｃ．Ｉ．７４１６０）等が挙げられる。

【００７３】感光性樹脂層中における着色剤の具体的な
含有量としては、目標とする色度等により異なるが、感
光性樹脂層の固形分の２〜５０質量％が好ましく、５〜
４５質量％がより好ましい。

【００７４】感光性樹脂層には、前記成分以外に下記の
他の成分を含有することができる。感光性樹脂層は、特
に熱重合防止剤を含むことが好ましい。該熱重合防止剤
としては、例えば、ハイドロキノン、ｐ−メトキシフェ
ノール、ジ−ｔ−ブチル−ｐ−クレゾール、ピロガロー
ル、ｔ−ブチルカテコール、ベンゾキノン、４，４’−
チオビス（３−メチル−６−ｔ−ブチルフェノール）、
２，２’−メチレンビス（４−メチル−６−ｔ−ブチル
フェノール）、２−メルカプトベンズイミダゾール、フ
ェノチアジン等が挙げられる。更に、感光性樹脂層に
は、公知の添加剤として、例えば可塑剤、界面活性剤、
溶剤等を添加することもできる。

【００７５】前記感光性樹脂層は、仮支持体上に、前記
感光性樹脂組成物と着色剤とを溶剤に溶解若しくは分散
し調製された溶液若しくは分散液（感光性樹脂層塗布
液）を塗布した後、乾燥することにより形成することが
できる。前記感光性樹脂層の層厚としては、一般には
０．５〜３μｍが好ましく、通常は約２μｍである。

【００７６】更に、熱可塑性樹脂層や中間層（酸素遮断
層等）を設ける場合には、まず熱可塑性樹脂を有機溶剤
に溶解してなる塗布液（熱可塑性樹脂層用塗布液）を仮
支持体上に塗布、乾燥して熱可塑性樹脂層を形成し、続
いて該熱可塑性樹脂層を溶解しない溶剤を用いてなる塗
布液（中間層用塗布液）を調製し、塗布乾燥して中間層
を積層する。次いで、この中間層を溶解しない有機溶剤
を用いてなる感光性樹脂層塗布液を調製し、前記中間層
上に更に塗布、乾燥して感光性樹脂層を形成する。前記
感光性樹脂層の表面には、更にポリプロピレン等からな
るフィルム状等の保護フィルムを設けてもよい。前記保
護フィルムは、感光性転写材料が基板上にラミネートさ
れる前の工程で剥離される。

【００７７】〈熱可塑性樹脂層〉前記熱可塑性樹脂層
は、転写時の気泡混入を防止する目的で設けられ、アル
カリ可溶性の熱可塑性樹脂を主に含んでなり、必要に応
じて他の成分を含んでいてもよい。前記熱可塑性樹脂と
しては、実質的な軟化点が８０℃以下であるものが好ま
しい。軟化点が８０℃以下のアルカリ可溶性の熱可塑性
樹脂としては、エチレンとアクリル酸エステル共重合体
とのケン化物、スチレンと（メタ）アクリル酸エステル
共重合体とのケン化物、ビニルトルエンと（メタ）アク
リル酸エステル共重合体とのケン化物、ポリ（メタ）ア
クリル酸エステル、及び（メタ）アクリル酸ブチルと酢
酸ビニル等の（メタ）アクリル酸エステル共重合体との
ケン化物等が挙げられる。該熱可塑性樹脂は、一種単独
で用いてもよいし二種以上を併用してもよい。

【００７８】また、「プラスチック性能便覧」（日本プ
ラスチック工業連盟、全日本プラスチック成形工業連合
会編著、工業調査会発行、１９６８年１０月２５日発
行）に記載の、軟化点が約８０℃以下の有機高分子のう
ち、アルカリ水溶液に可溶なものも使用できる。

【００７９】更に、軟化点が８０℃以上の有機高分子物
質であっても、その有機高分子物質中に該有機高分子物
質と相溶性のある各種の可塑剤を添加して、実質的な軟
化点を８０℃以下に下げて使用することも可能である。
前記有機高分子物質中には、仮支持体との接着力を調節
する目的で、実質的な軟化点が８０℃を超えない範囲で
各種ポリマーや過冷却物質、密着改良剤、界面活性剤、
離型剤等を加えることができる。

【００８０】前記可塑剤の具体例としては、ポリプロピ
レングリコール、ポリエチレングリコール、ジオクチル
フタレート、ジヘプチルフタレート、ジブチルフタレー
ト、トリクレジルフォスフェート、クレジルジフェニル
フォスフェート、ビフェニルジフェニルフォスフェート
等が好適に挙げられる。

【００８１】前記熱可塑性樹脂層は、熱可塑性樹脂及び
必要に応じて他の成分を有機溶剤に溶解して塗布液（熱
可塑性樹脂層用塗布液）を調製し、公知の塗布方法によ
り仮支持体上に塗布等して形成することができる。前記
有機溶剤としては、メチルエチルケトン、１−メトキシ
−２−プロパノール等が挙げられる。

【００８２】前記熱可塑性樹脂層の層厚としては、６μ
ｍ以上が好ましい。該層厚が６μｍ未満であると、１μ
ｍ以上の下地の凹凸を完全に吸収することが困難となる
ことがある。また、上限としては、現像性、製造適性の
点から、約１００μｍ以下が一般的であり、約５０μｍ
以下が好ましい。

【００８３】〈中間層〉前記中間層として、酸素遮断層
等を設けることが好ましい。前記酸素遮断層は、パター
ン露光する際に感光性樹脂層中での光硬化反応を阻害す
る空気中からの酸素の拡散を防止する目的と、前記熱可
塑性樹脂層を設けた場合に該層と前記感光性樹脂層とが
互いに混ざり合わないようにする目的で設けられる。

【００８４】前記酸素遮断層としては、水又はアルカリ
水溶液に分散、溶解可能な樹脂成分を主に構成され、必
要に応じて、界面活性剤等の他の成分を含んでいてもよ
い。前記酸素遮断層を構成する樹脂成分としては、公知
のものの中から適宜選択でき、例えば、特開昭４６−２
１２１号や特公昭５６−４０８２４号に記載の、ポリビ
ニルエーテル／無水マレイン酸重合体、カルボキシアル
キルセルロースの水溶性塩、水溶性セルロースエーテル
類、カルボキシアルキル澱粉の水溶性塩、ポリビニルア
ルコール、ポリビニルピロリドン、各種のポリアクリル
アミド類、各種水溶性ポリアミド、ポリアクリル酸の水
溶性塩、ゼラチン、エチレンオキサイド重合体、各種澱
粉及びその類似物からなる群の水溶性塩、スチレン／マ
レイン酸の共重合体、マレイネート樹脂、及びこれらを
２種以上組合せたもの等が挙げられる。

【００８５】中でも、ポリビニルアルコールとポリビニ
ルピロリドンとを組合せてなるものが特に好ましい。更
に、前記ポリビニルアルコールとしては、鹸化率が８０
％以上のものが好ましい。また、前記ポリビニルピロリ
ドンの含有量としては、中間層の固形体積の１〜７５％
であることが好ましく、１〜６０％であることがより好
ましく、１０〜５０％であることが最も好ましい。前記
固形体積が、１％未満であると、硬化性樹脂層との十分
な密着性が得られないことがあり、７５％を超えると、
酸素遮断能が低下することがある。

【００８６】前記酸素遮断層は、その酸素遮断能が低下
すると、硬化性樹脂層の重合感度が低下して、露光時の
光量をアップしたり、露光時間を長くする必要が生ずる
ばかりか、解像度も低下することになるため、酸素透過
率の小さいことが好ましい。

【００８７】前記酸素遮断層は、樹脂成分等を水系溶媒
に溶解、分散して塗布液（酸素遮断層用塗布液）を調製
し、公知の塗布方法により仮支持体上に塗布等して形成
することができる。前記水系溶媒としては、蒸留水等の
水を主成分とし、所望により本発明の効果を損なわない
範囲でアルコール等の水と親和性のある溶剤や塩等を添
加した溶媒が挙げられる。

【００８８】前記酸素遮断層の層厚としては、約０．１
〜５μｍが好ましく、０．５〜２μｍがより好ましい。
前記層厚が、約０．１μｍ未満であると、酸素透過性が
高すぎて硬化性樹脂層の重合感度が低下することがあ
り、約５μｍを超えると、現像や中間層除去時に長時間
を要することがある。

【００８９】〈保護フィルム〉感光性樹脂層の上には、
感光性転写材料を貯蔵する際に感光性樹脂層を汚染や損
傷から保護するための保護フィルムを設けることが好ま
しい。保護フィルムは仮支持体を構成する合成樹脂と同
じか又は類似の材料からなってもよいが、感光性樹脂層
から容易に分離できるものであることが必要である。前
記保護フィルムとしては、例えば、シリコーン被覆紙、
ポリオレフィン又はポリテトラフルオロエチレンのシー
ト又はフィルムが適当である。保護フィルムの厚みとし
ては、約５〜１００μｍであるのが好ましい。中でも特
に好ましくは、１０〜３０μｍ厚のポリエチレンフィル
ム又はポリプロピレンフィルムである。本発明における
感光性転写材料に於いて、保護フィルムは無くてもよい
が、感光性転写材料の取り扱い、輸送、貯蔵の際の安全
のために設けることが好ましい。

【００９０】［基板］本発明において、カラーフィルタ
が形成される基板としては、例えば、透明基板が用いら
れ、表面に酸化ケイ素皮膜を有するソーダガラス板、低
膨張ガラス、ノンアルカリガラス、石英ガラス板等の公
知のガラス板、あるいは、プラスチックフィルム等を挙
げることができる。

【００９１】また、本発明の構成は、特に前記基板が、
ＴＦＴアレイ基板である場合に好適である。ＴＦＴアレ
イ基板は、ＴＦＴ素子やゲート，ソース配線等が形成さ
れて表面凹凸が多く現像残渣が残り易いが、本発明のカ
ラーフィルタの製造方法により残渣を十分に抑制して、
感光性樹脂層と基板表面との密着力を十分に保持でき、
転写を良好に行うことができる。

【００９２】尚、ＴＦＴアレイ基板においては、各画素
ごとにゲート及びソース配線が施してあり、ゲート−ソ
ース間で電気力線が閉じてしまうため、この間に発生す
る帯電荷を除電することが困難であった。ＴＦＴアレイ
配線のうち、全てのゲート及びソース配線をそれぞれの
コモン配線に接続して、１つの回路に束ねた上で、ゲー
ト及びソース配線のコモン配線をさらに接続すること
で、全てのゲート及びソース配線を一つに接続すると、
ＴＦＴアレイ基板が帯電した場合でも、ゲート−ソース
間に電力差は生じないので、この間にあるパシベーショ
ン膜での絶縁破壊を防止することができる。即ち、ＴＦ
Ｔアレイ基板にカラーフィルタを形成する際には、前記
のように、予め全てのゲート及びソース配線を一つに接
続しておくことが望ましい。また、この接続された配線
については、さらにアースに落とすことで、前記積層体
から仮支持体を剥離する際にＴＦＴアレイ基板に発生す
る帯電量をより低く抑えることができる。これら接続に
より一層高い除電効果を発揮させ得る。尚、これら接続
は、カラーフィルタの形成後は対象部分を切断及び／又
は除去することで、それぞれの配線として利用すること
ができる。

【００９３】本発明に適用されるＴＦＴアレイ基板とし
ては、従来公知のＴＦＴアレイの基板が挙げられ、高開
口率化を実現する手段として、例えば、いわゆるハイア
パーチャー（ＨＡ）法、カラーフィルタ・オン・アレイ
（ＣＯＡ）法と呼ばれる技術がある。中でも、米国特許
第５６４１９７４号明細書に記載の、ＨＡ方式の液晶デ
ィスプレイを実現するため、ＴＦＴアレイ基板上にさら
に絶縁性の透明樹脂の構造体が形成されたものや、米国
特許第５９９４７２１号明細書に記載の、高開口率を実
現するＣＯＡ方式の液晶ディスプレイに用いられるＴＦ
Ｔアレイ基板に本発明を適用することが、特に有効であ
る。

【００９４】

【実施例】以下、実施例により本発明を説明するが、本
発明はこれらの実施例に限定されるものではない。 −感光性転写材料の作製− 仮支持体として、厚さ７５μｍのポリエチレンテレフタ
レート（ＰＥＴ）フィルムを５枚用意し、該ＰＥＴフィ
ルムのそれぞれに下記組成Ｈ、Ｐからなる塗布液を塗布
し、各ＰＥＴフィルム上に熱可塑性樹脂層、酸素遮断膜
をこの順に形成した。

【００９５】 ＜熱可塑性樹脂層処方Ｈ＞ ・塩化ビニル／酢酸ビニル共重合体 …３００質量部 ・塩化ビニル−酢酸ビニル−マレイン酸共重合体 … ８０質量部 ・フタル酸ジブチル … ８０質量部 前記調製に際し、メチルエチルケトンを適宜添加した。 ＜酸素遮断膜処方Ｐ＞ ・ポリビニルアルコール …２００質量部 前記調製に際し水を適宜添加した。

【００９６】その後、各ＰＥＴフィルムの酸素遮断膜上
に、それぞれ下記組成からなる、Ｒ(赤色)、Ｇ(緑色)、
Ｂ(青色)画素形成用、ブラックマトリクス（Ｋ；黒色)
形成用、及びＯＣ(オーバーコート)形成用の感光性樹脂
層塗布液Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｋ、ＯＣを塗布、乾燥して、感光
性樹脂層（Ｒ層,Ｇ層,Ｂ層,Ｋ層,ＯＣ層）を設け、該層
表面を更に保護フィルムでカバーした。以上のようにし
て、仮支持体上に、乾燥層厚１４．６μｍの熱可塑性樹
脂層、乾燥層厚１．６μｍの酸素遮断膜、及び感光性樹
脂層（乾燥膜厚は、Ｋ、Ｒ、Ｇ及びＢは２μｍ、ＯＣは
２．８μｍである。）、及び保護フィルムが積層された
感光性転写材料Ｒ、Ｇ、Ｂ、Ｋ、ＯＣを得た。

【００９７】 ＜感光性樹脂層塗布液Ｒ＞ ・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 …３２質量部 ・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート …３１質量部 ・光重合開始剤 … ２．５質量部 （２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）１，３，４−オキ サジアゾール） ・ＵＶ吸収剤 …１２質量部 （７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−ジエチルア ミノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン） ・フェノチアジン … ０．１質量部 ・ＰＲ２５４ … ９．６質量部 前記調製に際し、メチルエチルケトンを適宜添加した。

【００９８】 ＜感光性樹脂層塗布液Ｇ＞ ・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 …３０質量部 ・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート …２９質量部 ・光重合開始剤 … １．５質量部 （２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）１，３，４−オキ サジアゾール） ・ＵＶ吸収剤 … ９．８質量部 （７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−ジエチルア ミノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン） ・ＰＹ１３８ …１０．１質量部 ・ＰＧ３６ …２０質量部 前記調製に際し、メチルエチルケトンを適宜添加した。

【００９９】 ＜感光性樹脂層塗布液Ｂ＞ ・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 …４２質量部 ・ペンタエリスリトールヘキサアクリレート …３２質量部 ・光重合開始剤 … １．６質量部 （２−トリクロロメチル−５−（ｐ−スチリルスチリル）１，３，４−オキ サジアゾール） ・フェノチアジン … ０．２質量部 ・ＰＢ１５：６ …２４質量部 前記調製に際し、メチルエチルケトンを適宜添加した。

【０１００】 ＜感光性樹脂層塗布液Ｋ＞ ・ベンジルメタクリレート／メタクリル酸共重合体 …６０質量部 ・ペンタエリスリトールテトラアクリレート …４０質量部 ・ミヒラーズケトン … ３質量部 ・２−（ｏ-クロロフェニル）−４，５−ジフェニルアミダジール二量体 … ３質量部 ・カーボンブラック … ６質量部 前記調製に際し、メチルエチルケトンを適宜添加した。

【０１０１】 ＜感光性樹脂層塗布液ＯＣ＞ ・ポリマー …２４質量部 （スチレン／マレイン酸共重合体ベンジルアミン変性物； 共重合比６８／３２） ・ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート …２０質量部 ・光重合開始剤（ＩＲＧ１８４(CAS947-19-3）） … １質量部 ・ＵＶ吸収剤 …１２質量部 （７−（２−（４−（３−ヒドロキシメチルピペリジノ）−６−ジエチルア ミノ）トリアジニルアミノ）−３−フェニルクマリン） 前記調製に際し、メチルエチルケトンを適宜添加した。

【０１０２】（実施例１） −基板の準備− 縦３２０ｍｍ、横４００ｍｍのガラス基板を用意し、シ
ランカップリング剤液（Ｎ−β（アミノエチル）γ−ア
ミノプロピルトリメトキシシラン０．３質量％水溶液）
に３０秒浸漬後、純水に３０秒浸漬し１１０℃下で５分
間乾燥した。

【０１０３】−カラーフィルタの作製− まず、上記より得た感光性転写材料Ｒから保護フィルム
を剥離した後、表出した感光性樹脂層と前記ガラス基板
の一方の表面とが接するように配置し、温度１３０℃、
線圧１００Ｎ／ｃｍ、搬送速度１．０ｍ／分の条件にて
ラミネートし積層体を形成した（積層体形成工程）。

【０１０４】次に、感光性転写材料Ｒの仮支持体を熱可
塑性樹脂層との界面で剥離、除去した（剥離工程）後、
該熱可塑性樹脂層の上方に、所定の露光マスクを介在し
て超高圧水銀灯を備えるプロキシミティー型露光機を配
置し、露光マスクを通してパターン露光（露光量５０ｍ
Ｊ／ｃｍ²）した。このとき、露光マスク表面（熱可塑
性樹脂層と対向する面）と熱可塑性樹脂層表面との距離
を７０μｍとした。続いて、シャワー現像機で熱可塑性
樹脂層と酸素遮断膜とを除去すると共に、更にシャワー
現像機でブラシをかけながらシャワー現像することによ
り、Ｒ層の不要部を現像除去し、残渣除去を行いＲ画素
を得た（露光現像工程）。引き続き、該ガラス基板に対
して該Ｒ層側から超高圧水銀灯でポスト露光（露光量５
００ｍＪ／ｃｍ²）した後、２２０℃下で２５分間熱処
理した（ポストベーク）。

【０１０５】上記のようにして、ガラス基板上にＲ画素
を形成した後、以下のようにしてガラス基板の表面処理
を行った（表面処理工程）。まず、Ｒ画素が設けられた
側のガラス基板の表面を、ＵＶ洗浄機（ＨＭＷ−６１５
Ｎ−４、オーク社製）を用いて下記処理条件にてＵＶ洗
浄した。 〔処理条件〕 ・ランプ ：低圧水銀ランプ（ＶＵＶ−１００／Ａ−
５．３Ｕ（７灯）） ・照射距離：２５ｍｍ （照射は、揺動機構により照射ムラを低減して行っ
た。） ・照度 ：約１３ｍＷ／ｃｍ² （照度は、照度計ＵＶ−Ｍ０２（ＵＶ−ＳＮ２５ ２５
３ｎｍピーク；オーク社製）を用い、ガラス基板外周部
において４００ｍｍワークより２０ｍｍ内側を測定し
た。） ・照射時間：４分間 ・照射量 ：３１２０ｍＪ／ｃｍ²

【０１０６】ＵＶ洗浄後、シランカップリング剤液（Ｎ
−β（アミノエチル）γ−アミノプロピルトリメトキシ
シラン０．３質量％水溶液）に３０秒浸漬し、純水中に
３０秒浸漬した後、これを１１０℃下で５分間乾燥して
シランカップリング処理（Ｓｃ処理）を行った。上記表
面処理により、パターン状に形成されたＲ画素以外の領
域に残った現像残渣は除去され、Ｒ画素が設けられてい
ない領域のガラス基板表面には新たにシラノール基を付
着させた。この表面処理によるＲ画素へのダメージの影
響はなかった。

【０１０７】次に、上記より得た感光性転写材料Ｇ、
Ｂ、Ｋを順に用い、各色画素の形成後（各色ごとのポス
トベーク後）に毎回表面処理工程（ＵＶ洗浄及びＳｃ処
理）を行いながら、前記Ｒ画素の形成と同様にして、Ｇ
画素、Ｂ画素、ブラックマトリクス（Ｋ）を順に形成し
た。更に、該基板上に、上記より得た感光性転写材料Ｏ
Ｃの保護フィルムを剥離後、上記同様の条件でガラス基
板上に形成されたＲＧＢ画素の上からラミネートし、Ｒ
ＧＢ画素の形成と同様に露光、シャワー現像して、ガラ
ス基板を覆う保護層を形成した。引き続き、該ガラス基
板に対して該保護層側から超高圧水銀灯でポスト露光
（露光量５００ｍＪ／ｃｍ²）した後、２２０℃下で１
３０分間熱処理した（ポストベーク）。以上により、本
発明に係るカラーフィルタを得た。

【０１０８】上記より得たカラーフィルタは、色濃度等
の諸性能に優れており、同様の操作により、１００枚の
カラーフィルタを作製したが、いずれも剥離時における
仮支持体への感光性樹脂層の残存は認められず、色濃度
に優れ、曇りがなく鮮明なカラーフィルタを得ることが
できた。以上のように、各色の画素を形成するごとに、
非画素部の基板表面をＵＶ処理し、かつＳｃ処理するこ
と（表面処理工程）により、第二色目以降の感光性樹脂
層と基板表面との密着力が十分に確保でき、感光性樹脂
層が基板表面に転写される際の、該感光性樹脂層の仮支
持体側への残存を十分に抑制することができた。

【０１０９】（実施例２）実施例１と同様の基板を用意
し、上記より得た感光性転写材料Ｒについて、実施例１
と同様の、積層体形成工程、剥離工程、及び露光現像工
程を経て、ポストベークを施すことにより、前記ガラス
基板上にＲ画素を形成した。その後、実施例１で行った
表面処理工程は施さず、引き続き、上記より得た感光性
転写材料Ｇを用いて、Ｒ画素と同様にして、積層体形成
工程、剥離工程、及び露光現像工程を経て、ポストベー
クを施すことにより、前記ガラス基板のＲ画素非形成部
にＧ画素を形成した。上記のようにして、ガラス基板上
に、ポストベークされたＲ画素及びＧ画素を形成した
後、実施例１と同様の表面処理工程を設け、Ｒ画素及び
Ｇ画素を有しない領域のガラス基板の表面をＵＶ処理
し、更にシランカップリング処理した。

【０１１０】表面処理後の、Ｒ,Ｇ画素が設けられたガ
ラス基板に対し、上記より得た感光性転写材料Ｂ、Ｋを
順に用い、前記Ｒ,Ｇ画素の形成と同様にして、Ｂ画
素、ブラックマトリクス（Ｋ）を順に形成し、ブラック
マトリクスへのポストベーク後に再度ＵＶ洗浄とＳｃ処
理（表面処理工程）を行った。更に、上記より得た感光
性転写材料ＯＣを用いて、実施例１と同様にしてガラス
基板を覆う保護層を形成した。以上により、本発明に係
るカラーフィルタを得た。

【０１１１】得られたカラーフィルタは、色濃度に優
れ、曇りがなく鮮明であった。以上のように、二種（二
色）の感光性転写材料を用いるごとに一回の表面処理工
程（ＵＶ処理及びＳｃ処理）を行っても、第二色目以降
の感光性樹脂層と基板表面との密着力を十分に保持する
ことができ、剥離工程における仮支持体への感光性樹脂
層の残存を防止し、転写を良好に行うことができた。

【０１１２】（比較例１）実施例１において、各色の画
素形成ごとに行った表面処理工程を設けなかったこと以
外、実施例１と同様にして、比較のカラーフィルタを作
製した。この場合には、第二色目以降の感光性樹脂層を
転写する場合の密着力を十分に保持し得ず、仮支持体側
に感光性樹脂層が残ってしまい、良好に転写を行うこと
はできなかった。その結果、感光性樹脂層の層厚や表面
性が損なわれ、色濃度等の諸特性が一定なカラーフィル
タを得ることはできなかった。

【０１１３】

【発明の効果】本発明によれば、複数の感光性樹脂シー
トを用いて同一基板上への転写を繰り返しｎ色（ｎ≧
１）からなるカラーフィルタを形成する場合に、感光性
樹脂層が基板表面に転写される際の、該感光性樹脂層の
仮支持体側への残渣を低減でき、各色感光性樹脂層の基
板表面への密着力を向上させることができ、特に第二色
目以降の感光性樹脂層と基板表面との密着力を十分に保
持でき、転写を良好に行い得るカラーフィルタの製造方
法を提供することができる。また、剥離時の仮支持体側
への感光性樹脂層の残存が抑制されるので、現像残渣の
残り易い現像液を用いた場合や、ＩＴＯ電極やＴＦＴ素
子等が形成されて基板表面に多くの凹凸を有する基板を
用いた場合、Ｒ(赤色)画素→Ｇ(緑色)画素→Ｂ(青色)画
素→ブラックマトリクス(Ｋ)→ＯＣ(オーバーコート)等
の処理を連続的に行った場合など、特に残渣の残り易い
場合であっても非画素領域の残渣を十分に抑制して、色
濃度、鮮明性（曇りがない）等の諸機能に優れたカラー
フィルタを得ることができる。

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 仮支持体表面に感光性樹脂層を有する感
   光性転写材料を、基板の表面に、該基板の表面と前記感
   光性樹脂層とが接するように密着させ積層体を得る積層
   体形成工程と、前記積層体から前記仮支持体を剥離する
   剥離工程と、前記感光性樹脂層を露光及び現像して前記
   基板の表面に着色膜を形成する露光現像工程とを含むカ
   ラーフィルタの製造方法であって、 前記積層体形成工程の前工程として、着色膜が形成され
   る側の前記基板の表面をＵＶ洗浄し、更にシランカップ
   リング処理する表面処理工程を有することを特徴とする
   カラーフィルタの製造方法。
2. 【請求項２】 積層体形成工程、剥離工程及び露光現像
   工程の各工程を複数回繰り返して複数色からなるカラー
   フィルタを形成するカラーフィルタの製造方法であっ
   て、 第ｎ色目（ｎ≧１）の露光現像工程の終了後であって、
   第(ｎ＋１)色目の積層体形成工程前に表面処理工程を有
   する請求項１に記載のカラーフィルタの製造方法。
3. 【請求項３】 積層体形成工程、剥離工程及び露光現像
   工程の各工程を複数回繰り返して複数色からなるカラー
   フィルタを形成するカラーフィルタの製造方法であっ
   て、 第ｎ色目（ｎ≧１）の露光現像工程の終了後であって、
   第(ｎ＋ｍ)色目（ｍ≧２）の積層体形成工程前に表面処
   理工程を有する請求項１に記載のカラーフィルタの製造
   方法。