JP2003119183A - N−モノ置換ピペラジンの精製方法 - Google Patents
N−モノ置換ピペラジンの精製方法Info
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- JP2003119183A JP2003119183A JP2001314503A JP2001314503A JP2003119183A JP 2003119183 A JP2003119183 A JP 2003119183A JP 2001314503 A JP2001314503 A JP 2001314503A JP 2001314503 A JP2001314503 A JP 2001314503A JP 2003119183 A JP2003119183 A JP 2003119183A
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- mono
- acid
- monosubstituted
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Abstract
(57)【要約】
【課題】N−モノ置換ピペラジン中に含まれる不純物で
あるピペラジンを除去し高純度のN−モノ置換ピペラジ
ンを得る。 【解決手段】一般式(1) 【化1】 (式中R1は、アルキル基、アラルキル基、芳香族置換
基を表す。)で表される,N−モノ置換ピペラジン類に
鉱酸または有機酸を添加し、ついで蒸留を行うN−モノ
置換ピペラジンの精製方法。鉱酸または有機酸を0.1
%から10%加え単蒸留することにより、高純度のN−
モノ置換ピペラジンを得ることができる。
あるピペラジンを除去し高純度のN−モノ置換ピペラジ
ンを得る。 【解決手段】一般式(1) 【化1】 (式中R1は、アルキル基、アラルキル基、芳香族置換
基を表す。)で表される,N−モノ置換ピペラジン類に
鉱酸または有機酸を添加し、ついで蒸留を行うN−モノ
置換ピペラジンの精製方法。鉱酸または有機酸を0.1
%から10%加え単蒸留することにより、高純度のN−
モノ置換ピペラジンを得ることができる。
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品原料として
有用なピペラジン含量の少ないN−モノ置換ピペラジン
を製造する方法に関する。
有用なピペラジン含量の少ないN−モノ置換ピペラジン
を製造する方法に関する。
【0002】
【従来の技術】N−モノ置換ピペラジンは、医薬中間体
などとして有用な化合物である。これまで、N−モノ置
換ピペラジン類は、ジエタノールアミンとメチルアミン
の存在下、ゼオライト触媒を用いて環化させる方法(ジ
ャーナル・オブ・オーガニックケミストリー 59巻
3998ページ 1994年発刊)、ピペラジンにホル
ムアルデヒドを反応させ、ラネーニッケル等の触媒存在
下還元させる方法(ドイツ特許、DE3836781
号)、一酸化炭素、水素と鉄等遷移金属触媒の存在下気
相中で反応させる方法(ソビエト連邦共和国特許、SU
1747447号)などの方法でN−モノ置換ピペラジ
ン類を製造した後、蒸留精製を行っていた。
などとして有用な化合物である。これまで、N−モノ置
換ピペラジン類は、ジエタノールアミンとメチルアミン
の存在下、ゼオライト触媒を用いて環化させる方法(ジ
ャーナル・オブ・オーガニックケミストリー 59巻
3998ページ 1994年発刊)、ピペラジンにホル
ムアルデヒドを反応させ、ラネーニッケル等の触媒存在
下還元させる方法(ドイツ特許、DE3836781
号)、一酸化炭素、水素と鉄等遷移金属触媒の存在下気
相中で反応させる方法(ソビエト連邦共和国特許、SU
1747447号)などの方法でN−モノ置換ピペラジ
ン類を製造した後、蒸留精製を行っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかし、この方法では
ある程度の純度のN−モノ置換ピペラジンが得られるも
のの、その不純物として、0.1%程度ピペラジンが残
留する。しかし、N−モノ置換ピペラジンが医農薬中間
体原料として使用される場合、不純物であるピペラジン
の含量が0.05%以下程度の高純度N−モノ置換ピペ
ラジンが原料として要求されることがある。
ある程度の純度のN−モノ置換ピペラジンが得られるも
のの、その不純物として、0.1%程度ピペラジンが残
留する。しかし、N−モノ置換ピペラジンが医農薬中間
体原料として使用される場合、不純物であるピペラジン
の含量が0.05%以下程度の高純度N−モノ置換ピペ
ラジンが原料として要求されることがある。
【0004】これまで、高純度のN−モノ置換ピペラジ
ンを得るためには、非常に段数の多い蒸留塔を用いる
か、非常に時間をかけて蒸留するかのどちらかであっ
た。いずれのプロセスも非常にエネルギーの消費が多い
プロセスとなり、経済的な面でも、効率の面でも、地球
環境を守る面でも問題であり、新たな精製方法が期待さ
れていた。
ンを得るためには、非常に段数の多い蒸留塔を用いる
か、非常に時間をかけて蒸留するかのどちらかであっ
た。いずれのプロセスも非常にエネルギーの消費が多い
プロセスとなり、経済的な面でも、効率の面でも、地球
環境を守る面でも問題であり、新たな精製方法が期待さ
れていた。
【0005】
【課題を解決するための手段】より簡便なN−モノ置換
ピペラジンの精製方法を見出すべく、本発明者らが、鋭
意検討した結果、ピペラジンの混入したN−モノ置換ピ
ペラジンに少量の鉱酸または有機酸を加えた後に、単蒸
留することにより高純度のN−モノ置換ピペラジンが得
られることがわかった。
ピペラジンの精製方法を見出すべく、本発明者らが、鋭
意検討した結果、ピペラジンの混入したN−モノ置換ピ
ペラジンに少量の鉱酸または有機酸を加えた後に、単蒸
留することにより高純度のN−モノ置換ピペラジンが得
られることがわかった。
【0006】即ち本発明は、一般式(1)
【0007】
【化2】
【0008】(式中R1は、アルキル基、アラルキル
基、芳香族基を表す。)で表される,N−モノ置換ピペ
ラジン類に鉱酸または有機酸を添加し、ついで蒸留する
N−モノ置換ピペラジンの精製方法である。
基、芳香族基を表す。)で表される,N−モノ置換ピペ
ラジン類に鉱酸または有機酸を添加し、ついで蒸留する
N−モノ置換ピペラジンの精製方法である。
【0009】
【発明の実施の形態】以下に本発明を詳細に説明する。
【0010】本発明に用いる原料のN−モノ置換ピペラ
ジン類は一般式(1)
ジン類は一般式(1)
【0011】
【化3】
【0012】で示され、式中のR1はメチル、エチル、
プロピルまたはイソプロピル基などのアルキル基、フェ
ニルメチル、(4−メチルフェニル)メチル基等のアラ
ルキル基、フェニル、4−メチルフェニルなどの芳香族
置換基などである。好ましくは炭素数1〜3のアルキル
基またはベンジル基であり、さらに好ましくは、メチ
ル、エチル、プロピルまたはイソプロピル基などのアル
キル基であり、より好ましくは、メチル基、エチル基で
あり、特に好ましくはメチル基である。
プロピルまたはイソプロピル基などのアルキル基、フェ
ニルメチル、(4−メチルフェニル)メチル基等のアラ
ルキル基、フェニル、4−メチルフェニルなどの芳香族
置換基などである。好ましくは炭素数1〜3のアルキル
基またはベンジル基であり、さらに好ましくは、メチ
ル、エチル、プロピルまたはイソプロピル基などのアル
キル基であり、より好ましくは、メチル基、エチル基で
あり、特に好ましくはメチル基である。
【0013】本発明で使われる鉱酸とは、塩酸、硫酸、
燐酸、硝酸または炭酸などであり、好ましくは塩酸また
は硫酸であり、さらに好ましくは塩酸である。本発明で
使われる有機酸とは、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボ
ン酸、脂肪族スルホン酸、芳香族スルホン酸、脂肪族燐
酸または芳香族燐酸等である。好ましくは、芳香族カル
ボン酸、芳香族スルホン酸であり、さらに好ましくは、
芳香族スルホン酸である。
燐酸、硝酸または炭酸などであり、好ましくは塩酸また
は硫酸であり、さらに好ましくは塩酸である。本発明で
使われる有機酸とは、脂肪族カルボン酸、芳香族カルボ
ン酸、脂肪族スルホン酸、芳香族スルホン酸、脂肪族燐
酸または芳香族燐酸等である。好ましくは、芳香族カル
ボン酸、芳香族スルホン酸であり、さらに好ましくは、
芳香族スルホン酸である。
【0014】N−モノ置換ピペラジンに、鉱酸または有
機酸を、N−置換ピペラジンに対し重量比で0.1%か
ら10%、好ましくは0.1%から5%、さらに好まし
くは0.1%から3%加えるのがよい。この範囲で鉱酸
または有機酸を加えることで、効率よくN−モノ置換ピ
ペラジン中の不純物が除去できる。
機酸を、N−置換ピペラジンに対し重量比で0.1%か
ら10%、好ましくは0.1%から5%、さらに好まし
くは0.1%から3%加えるのがよい。この範囲で鉱酸
または有機酸を加えることで、効率よくN−モノ置換ピ
ペラジン中の不純物が除去できる。
【0015】鉱酸または有機酸を添加した後、蒸留を行
なう。
なう。
【0016】N−モノ置換ピペラジンと鉱酸または有機
酸の混合物を単蒸留することにより、高純度のピペラジ
ンを得ることができる。蒸留時の圧力は、760mmH
g〜10mmHgの範囲で行うのがよい。好ましくは,
100mmHg〜10mmHg、さらに好ましくは80
mmHg〜20mmHgの範囲である。
酸の混合物を単蒸留することにより、高純度のピペラジ
ンを得ることができる。蒸留時の圧力は、760mmH
g〜10mmHgの範囲で行うのがよい。好ましくは,
100mmHg〜10mmHg、さらに好ましくは80
mmHg〜20mmHgの範囲である。
【0017】本発明により得られる高純度のN−モノ置
換ピペラジン類は、高い純度を原料として必要とする、
抗うつ剤、鎮痛剤、抗肥満薬等の医薬中間体として有用
である。
換ピペラジン類は、高い純度を原料として必要とする、
抗うつ剤、鎮痛剤、抗肥満薬等の医薬中間体として有用
である。
【0018】
【実施例】以下、実施例により本発明をさらに詳しく説
明するが、本発明はこれらの実施例になんら限定される
ものではない。
明するが、本発明はこれらの実施例になんら限定される
ものではない。
【0019】N−モノ置換ピペラジン類の分析方法
N−モノ置換ピペラジン類は、ガスクロマトグラフィー
法で行い、条件は以下に示すものである。
法で行い、条件は以下に示すものである。
【0020】測定機器:島津14A パックドカラム式
ガスクロマトグラフィー 検出器:FID方式 カラム:GLサイエンス社、Unisole10T+KOH(10+3)%
Uniport HP 80/100mesh 4.1m 温度条件:90℃(10分保持)−150℃(昇温速度
5℃/分)終端温度保持時間10分 実施例1 温度計、撹拌装置、蒸留管のついた200mlフラスコ
にN−メチルピペラジン(広栄化学株式会社製にピペラ
ジン含量が0.12%になるよう調整した。)100
g、35%塩酸0.5gを加え減圧下(70mmHg)
蒸留を行った。初留5gを除去した後に本留分の回収を
行った。N−メチルピペラジン94gを得、この時のピ
ペラジンの含量は0.05%であった。
ガスクロマトグラフィー 検出器:FID方式 カラム:GLサイエンス社、Unisole10T+KOH(10+3)%
Uniport HP 80/100mesh 4.1m 温度条件:90℃(10分保持)−150℃(昇温速度
5℃/分)終端温度保持時間10分 実施例1 温度計、撹拌装置、蒸留管のついた200mlフラスコ
にN−メチルピペラジン(広栄化学株式会社製にピペラ
ジン含量が0.12%になるよう調整した。)100
g、35%塩酸0.5gを加え減圧下(70mmHg)
蒸留を行った。初留5gを除去した後に本留分の回収を
行った。N−メチルピペラジン94gを得、この時のピ
ペラジンの含量は0.05%であった。
【0021】このことにより、本発明がピペラジン含量
の少なくする、N−モノ置換ピペラジンの精製法である
ことが示された。
の少なくする、N−モノ置換ピペラジンの精製法である
ことが示された。
【0022】実施例2
温度計、撹拌装置、蒸留管のついた200mlフラスコ
にN−エチルピペラジン(東京化成工業株式会社製試薬
にピペラジンを0.06%になるよう添加した。)10
0.0g、35%塩酸0.5gを加え減圧下(75mm
Hg)にて蒸留を行った。初留3.5g取った後に本流
分の回収を行った。Nーエチルピペラジン95gを得、
この時のピペラジンの含量は0.01%であった。
にN−エチルピペラジン(東京化成工業株式会社製試薬
にピペラジンを0.06%になるよう添加した。)10
0.0g、35%塩酸0.5gを加え減圧下(75mm
Hg)にて蒸留を行った。初留3.5g取った後に本流
分の回収を行った。Nーエチルピペラジン95gを得、
この時のピペラジンの含量は0.01%であった。
【0023】このことにより、本発明がピペラジン含量
の少なくする、N−モノ置換ピペラジンの精製法である
ことが示された。
の少なくする、N−モノ置換ピペラジンの精製法である
ことが示された。
【0024】実施例3
温度計、撹拌装置、蒸留管のついた200mlフラスコ
にN−メチルピペラジン(実施例1と同じ、ピペラジン
含量0.12%)100g、98%硫酸0.3gを加え
減圧下(60mmHg)蒸留を行った。初留4.2g取
った後に本流分の回収を行い、Nーメチルピペラジン9
5.0gを得た。この時のピペラジンの含量は0.04
%であった。
にN−メチルピペラジン(実施例1と同じ、ピペラジン
含量0.12%)100g、98%硫酸0.3gを加え
減圧下(60mmHg)蒸留を行った。初留4.2g取
った後に本流分の回収を行い、Nーメチルピペラジン9
5.0gを得た。この時のピペラジンの含量は0.04
%であった。
【0025】このことにより、本発明がピペラジン含量
の少なくする、N−モノ置換ピペラジンの精製法である
ことが示された。
の少なくする、N−モノ置換ピペラジンの精製法である
ことが示された。
【0026】
【発明の効果】本発明により、高純度の置換ピペラジン
類がより簡便且つ工業的に有利に製造することが可能に
なった。
類がより簡便且つ工業的に有利に製造することが可能に
なった。
Claims (4)
- 【請求項1】 一般式(1) 【化1】 (式中R1は、アルキル基、アラルキル基、芳香族置換
基を表す。)で表される,N−モノ置換ピペラジン類に
鉱酸または有機酸を添加し、ついで蒸留を行うN−モノ
置換ピペラジンの精製方法。 - 【請求項2】 一般式(1)のR1が炭素数1〜3のア
ルキル基またはベンジル基であることを特徴とする請求
項1記載のN−モノ置換ピペラジンの精製方法。 - 【請求項3】 鉱酸が塩酸であることを特徴とする請求
項1または2記載のN−モノ置換ピペラジンの精製方
法。 - 【請求項4】 一般式(1)のR1がメチル基であるこ
とを特徴とする請求項2または3記載のN−モノ置換メ
チルピペラジンの精製方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001314503A JP2003119183A (ja) | 2001-10-11 | 2001-10-11 | N−モノ置換ピペラジンの精製方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001314503A JP2003119183A (ja) | 2001-10-11 | 2001-10-11 | N−モノ置換ピペラジンの精製方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003119183A true JP2003119183A (ja) | 2003-04-23 |
Family
ID=19132807
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001314503A Pending JP2003119183A (ja) | 2001-10-11 | 2001-10-11 | N−モノ置換ピペラジンの精製方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP2003119183A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014005267A (ja) * | 2012-05-31 | 2014-01-16 | Tosoh Corp | N−アルキルピペラジン類の精製方法 |
-
2001
- 2001-10-11 JP JP2001314503A patent/JP2003119183A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2014005267A (ja) * | 2012-05-31 | 2014-01-16 | Tosoh Corp | N−アルキルピペラジン類の精製方法 |
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