JP2003113188A - 有機錫触媒の製造方法 - Google Patents
有機錫触媒の製造方法Info
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Abstract
媒として有用な、ヘキサアルキル−1,5−ジハロゲン
化トリスタノキサンを高収率で製造する方法を提供する
こと。 【解決手段】 反応溶媒中で、塩基性化合物の存在下
に、ジハロゲン化ジアルキル錫を反応させるヘキサアル
キル−1,5−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造法
において、反応溶媒として水を使用するヘキサアルキル
−1,5−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造方法を
提供。
Description
テル化触媒として有用なヘキサアルキル−1,5−ジハ
ロゲン化トリスタノキサンを、高収率で製造する方法に
関する。
リスタノキサン化合物が、エステル化触媒として有用で
あることが知られている。たとえば、特開昭51−61
595号公報には、エステル化触媒として、ジスタノキ
サン化合物や、本発明に係る、ヘキサアルキル−1,5
−ジハロゲン化トリスタノキサンを包含する低級アルキ
ル錫化合物を使用したポリエステル系可塑剤の製造方法
が記載されている。
・オーガニック・ケミストリー、第56巻、5307〜
5311頁(1991年)に、1,3−ジ置換テトラア
ルキルジスタノキサン類が、エステル化触媒として優れ
た効果を有していると記載している。
しては、たとえば、ハリソンらは、ザ・ジャーナル・オ
ブ・オルガノメタリック・ケミストリー、第186巻、
213−236頁(1980年)に、アセトン溶媒中で
二塩化ジメチル錫と2−アミノ−ベンゾチアゾールとを
1:1のモル比で反応させて、テトラメチル−1,3−
ジクロロジスタノキサンを得る方法を開示している。
オブ・オルガノメタリック・ケミストリー、第1巻、8
1−88頁(1963年)に、水とエタノールの混合溶
媒中で二塩化ジメチル錫とピリジンとを1:1のモル比
で反応させて、テトラメチル−1,3−ジクロロジスタ
ノキサンを得る方法を開示している。しかしながら、松
田らは、工業化学雑誌、第73巻、第5号、1010−
1013頁(1970年)に、前記オオカワラらの文献
に記載された反応条件下で合成した有機錫化合物は、そ
の錫の元素分析の結果からトリスタノキサンであると述
べている。上記のように、従来の方法においては、いず
れも反応溶媒にアルコールなどの有機溶剤を使用してい
るため、反応終了後廃液処理を必要とするなどの問題点
があった。
溶媒を使用することなく、エステル化触媒として有用
な、ヘキサアルキル−1,5−ジハロゲン化トリスタノ
キサンを高収率で製造する方法を提供することにある。
中で、塩基性化合物の存在下に、ジハロゲン化ジアルキ
ル錫を反応させるヘキサアルキル−1,5−ジハロゲン
化トリスタノキサンの製造法において、反応溶媒として
水を使用するヘキサアルキル−1,5−ジハロゲン化ト
リスタノキサンの製造方法を提供することにより、上記
課題を解決した。なお、以下特に断らない限り、本発明
に係る、「ヘキサアルキル−1,5−ジハロゲン化トリ
スタノキサン」を、単に「トリスタノキサン−AX」と
略記する。
ン化ジアルキル錫は、錫原子に2個のハロゲン原子と、
2個のアルキル基が結合した化合物である。ハロゲンと
しては、塩素臭素、またはヨウ素が好ましく、中でもハ
ロゲンが塩素または臭素の場合に、塩基性化合物存在下
でのトリスタノキサン−AXの生成速度が速い。2個の
ハロゲン原子は、同一であっても異なっていてもよい。
メチル基、エチル基、プロピル基、またはブチル基が好
ましい。これらの低級アルキル基を有するジハロゲン化
ジアルキル錫は、塩基性化合物存在下でのトリスタノキ
サン−AXの生成速度が速い。2個のアルキル基は、同
一であっても異なっていてもよい。
級アミン、アンモニア、アルカリ金属の炭酸塩、アルカ
リ金属の炭酸水素塩などが挙げられる。3級アミンとし
ては、具体的には、たとえば、トリエチルアミン、トリ
イソプロピルアミン、トリブチルアミン、トリアリルア
ミン、ジエチルメチルアミン、エチルジイソプロピルア
ミン、N−メチルピロリジン、N−メチルピペリジン、
N,N,N’,N’−テトラメチルエチレンジアミン、
ピリジン、4−(N,N−ジメチルアミノ)ピリジンな
どが挙げられる。中でも、アンモニウム塩が水溶性であ
る3級アミンを使用するのが好ましい。特に、工業的に
広く使用され、安価なトリエチルアミンやピリジンを用
いるのが好適である。
モニア水を使用するのが好ましい。アンモニア水の濃度
には限定はないが、市販の25%アンモニア水が扱いや
すく好適である。アルカリ金属の炭酸塩としては、たと
えば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸ルビジウム、炭酸セシウムなどがあり、これらは結晶
水を有していてもよい。これらの中でも特に好ましいの
は、工業的に広く使用され、安価な炭酸リチウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムである。反応系中におけるこ
れらアルカリ金属の炭酸塩の濃度には特に限定はない。
造方法において、ジハロゲン化ジアルキル錫の使用比率
は、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物の合計モ
ル数に対して35〜52モル%とするのが好ましく、こ
の範囲において70%以上の反応収率が得られる。特に
好ましいのは、化学量論的に等量(ジハロゲン化ジアル
キル錫と塩基性化合物のモル比=3:4)となる、4
2.8モル%であり、この場合に最も高い反応収率が得
られる。ジハロゲン化ジアルキル錫の使用比率が、35
モル%未満、あるいは52モル%を超えると、いずれの
場合も反応収率は低下する。
は、特に限定されるものではなく、反応容器内の混合物
が充分に攪拌できるだけの量があればよい。
アルキル錫を反応させてトリスタノキサン−AXを製造
する方法について、以下に代表的な例を挙げて説明す
る。滴下漏斗、温度計、及び攪拌機を備えた反応容器
に、ジハロゲン化ジアルキル錫と水を仕込み、攪拌しな
がら塩基性化合物を加える。塩基性化合物が液体の場合
は滴下し、アルカリ金属の炭酸塩の場合は水溶液を滴下
する。3級アミンが固体で水に不溶の場合は、微粉末を
少量ずつ加える。このとき、発熱を伴うので、加える速
度を調節し、適宜氷浴等を用いて反応温度を室温付近に
維持させることが好ましい。塩基性化合物を加え終わっ
た後約2時間攪拌する。反応終了後、析出したトリスタ
ノキサン−AXをろ別し、水で充分に洗浄した後に、1
00〜110℃で減圧乾燥する。本製造方法によれば、
反応収率70%以上でトリスタノキサン−AXを製造す
ることができる。
に説明する。なお、特に断らない限り、「部」および
「%」は、それぞれ「質量部」および「質量%」を表
す。
備えた反応容器に、二塩化ジメチル錫11g(50mm
ol)、水40mlを仕込み、攪拌しながらピリジン
5.27g(66.7mmol)を滴下漏斗から滴下し
た。このとき氷浴を用いて、反応温度を25〜30℃に
保った。滴下終了後、さらに2時間攪拌して反応を終了
させた。反応終了後、沈殿物をろ別し、100mlの水
で洗浄した後、105℃で減圧乾燥して、8.45gの
粉末を得た。
定量した結果、64.7%であり、ヘキサメチル−1,
5−ジクロロトリスタノキサンの理論値錫:64.8%
と、測定誤差範囲0.3%以内で一致した。反応収率は
92.3%であった。
5.27gの代わりに、25%アンモニア水4.53g
(66.7mmol)を用いた以外は、実施例1と同様
にして8.74gのヘキサメチル−1,5−ジクロロト
リスタノキサンを得た。実施例1の場合と同様に、元素
分析値は測定誤差範囲内で、ヘキサメチル−1,5−ジ
クロロトリスタノキサンの理論値と一致した。反応収率
は95.5%であった。
5.27gの代わりに、10%炭酸ナトリウム水溶液3
5.3g(66.7mmol)を用いた以外は、実施例
1と同様にして、8.39gのヘキサメチル−1,5−
ジクロロトリスタノキサンを得た。実施例1の場合と同
様に、元素分析値は測定誤差範囲内で、ヘキサメチル−
1,5−ジクロロトリスタノキサンの理論値と一致し
た。反応収率は91.7%であった。
5.27gの代わりに、ピリジン4.73g(44.9
mmol)を用いた以外は、実施例1と同様にして6.
13gのヘキサメチル−1,5−ジクロロトリスタノキ
サンを得た。実施例1の場合と同様に、元素分析値は測
定測定誤差範囲内で、ヘキサメチル−1,5−ジクロロ
トリスタノキサンの理論値と一致した。反応収率は6
7.0%であった。
5.27gの代わりに、ピリジン10.5g(99.2
mmol)を用いた以外は、実施例1と同様にして粉末
8.52gを得た。得られた粉末を元素分析した結果、
Sn:66.9%、Cl:13.5%であり、この値
は、上記粉末を、ヘキサメチル−1,5−ジクロロトリ
スタノキサン69%とジメチル錫オキシド31%からな
る混合物として計算した値と、測定誤差範囲内で一致し
た。反応収率は66.2%であった。
表1と表2に示す。表中、SnRXはジハロゲン化ジア
ルキル錫を表す。
媒として有機溶媒を使用することなく、収率よくヘキサ
メチル−1,5−ジクロロトリスタノキサンが得られる
ことがわかる。特に、ジハロゲン化ジアルキル錫の使用
比率を、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物の合
計モル数に対して35〜52モル%とした場合には、い
ずれも70%以上の高い反応収率でヘキサアルキル−
1,5−ジハロゲン化トリスタノキサンが得られる。
存在下にジハロゲン化ジアルキル錫を反応させる、ヘキ
サアルキル−1,5−ジハロゲン化トリスタノキサンの
製造方法によれば、有機溶媒を使用することなく、ヘキ
サアルキル−1,5−ジハロゲン化トリスタノキサンを
得ることができる。特に、ジハロゲン化ジアルキル錫の
使用比率を、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物
の合計モル数に対して35〜52モル%とした場合は、
70%以上の反応収率が得られ、使用比率が42.8モ
ル%の場合は、90%以上の高い反応収率が得られる。
反応溶媒に有機溶媒を使用しないので、反応廃液処理に
おける負荷を軽減できることも、本発明の大きな効果で
ある。
Claims (2)
- 【請求項1】 反応溶媒中で、塩基性化合物の存在下
に、ジハロゲン化ジアルキル錫を反応させるヘキサアル
キル−1,5−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造方
法において、反応溶媒が水であることを特徴とするヘキ
サアルキル−1,5−ジハロゲン化トリスタノキサンの
製造方法。 - 【請求項2】 ジハロゲン化ジアルキル錫の使用比率
が、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物の合計モ
ル数に対して、35〜52モル%である請求項1に記載
のヘキサアルキル−1,5−ジハロゲン化トリスタノキ
サンの製造方法。
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WO2005115960A1 (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-08 | Mitsubishi Chemical Corporation | アクリル酸の製造方法 |
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- 2001-10-05 JP JP2001309886A patent/JP4151255B2/ja not_active Expired - Fee Related
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A977 | Report on retrieval |
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