JP2003113188A - 有機錫触媒の製造方法 - Google Patents
有機錫触媒の製造方法Info
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- JP2003113188A JP2003113188A JP2001309886A JP2001309886A JP2003113188A JP 2003113188 A JP2003113188 A JP 2003113188A JP 2001309886 A JP2001309886 A JP 2001309886A JP 2001309886 A JP2001309886 A JP 2001309886A JP 2003113188 A JP2003113188 A JP 2003113188A
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- Catalysts (AREA)
- Low-Molecular Organic Synthesis Reactions Using Catalysts (AREA)
Abstract
(57)【要約】
【課題】 有機溶媒を使用することなく、エステル化触
媒として有用な、ヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン
化トリスタノキサンを高収率で製造する方法を提供する
こと。 【解決手段】 反応溶媒中で、塩基性化合物の存在下
に、ジハロゲン化ジアルキル錫を反応させるヘキサアル
キル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造法
において、反応溶媒として水を使用するヘキサアルキル
−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造方法を
提供。
媒として有用な、ヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン
化トリスタノキサンを高収率で製造する方法を提供する
こと。 【解決手段】 反応溶媒中で、塩基性化合物の存在下
に、ジハロゲン化ジアルキル錫を反応させるヘキサアル
キル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造法
において、反応溶媒として水を使用するヘキサアルキル
−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造方法を
提供。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、水媒体中で、エス
テル化触媒として有用なヘキサアルキル−１，５−ジハ
ロゲン化トリスタノキサンを、高収率で製造する方法に
関する。
テル化触媒として有用なヘキサアルキル−１，５−ジハ
ロゲン化トリスタノキサンを、高収率で製造する方法に
関する。
【０００２】
【従来の技術】一般に、ジスタノキサン化合物またはト
リスタノキサン化合物が、エステル化触媒として有用で
あることが知られている。たとえば、特開昭５１−６１
５９５号公報には、エステル化触媒として、ジスタノキ
サン化合物や、本発明に係る、ヘキサアルキル−１，５
−ジハロゲン化トリスタノキサンを包含する低級アルキ
ル錫化合物を使用したポリエステル系可塑剤の製造方法
が記載されている。
リスタノキサン化合物が、エステル化触媒として有用で
あることが知られている。たとえば、特開昭５１−６１
５９５号公報には、エステル化触媒として、ジスタノキ
サン化合物や、本発明に係る、ヘキサアルキル−１，５
−ジハロゲン化トリスタノキサンを包含する低級アルキ
ル錫化合物を使用したポリエステル系可塑剤の製造方法
が記載されている。
【０００３】また、オテラらは、ザ・ジャーナル・オブ
・オーガニック・ケミストリー、第５６巻、５３０７〜
５３１１頁（１９９１年）に、１，３−ジ置換テトラア
ルキルジスタノキサン類が、エステル化触媒として優れ
た効果を有していると記載している。
・オーガニック・ケミストリー、第５６巻、５３０７〜
５３１１頁（１９９１年）に、１，３−ジ置換テトラア
ルキルジスタノキサン類が、エステル化触媒として優れ
た効果を有していると記載している。
【０００４】一方、スタノキサン化合物の合成方法に関
しては、たとえば、ハリソンらは、ザ・ジャーナル・オ
ブ・オルガノメタリック・ケミストリー、第１８６巻、
２１３−２３６頁（１９８０年）に、アセトン溶媒中で
二塩化ジメチル錫と２−アミノ−ベンゾチアゾールとを
１：１のモル比で反応させて、テトラメチル−１，３−
ジクロロジスタノキサンを得る方法を開示している。
しては、たとえば、ハリソンらは、ザ・ジャーナル・オ
ブ・オルガノメタリック・ケミストリー、第１８６巻、
２１３−２３６頁（１９８０年）に、アセトン溶媒中で
二塩化ジメチル錫と２−アミノ−ベンゾチアゾールとを
１：１のモル比で反応させて、テトラメチル−１，３−
ジクロロジスタノキサンを得る方法を開示している。
【０００５】また、オオカワラらは、ザ・ジャーナル・
オブ・オルガノメタリック・ケミストリー、第１巻、８
１−８８頁（１９６３年）に、水とエタノールの混合溶
媒中で二塩化ジメチル錫とピリジンとを１：１のモル比
で反応させて、テトラメチル−１，３−ジクロロジスタ
ノキサンを得る方法を開示している。しかしながら、松
田らは、工業化学雑誌、第７３巻、第５号、１０１０−
１０１３頁（１９７０年）に、前記オオカワラらの文献
に記載された反応条件下で合成した有機錫化合物は、そ
の錫の元素分析の結果からトリスタノキサンであると述
べている。上記のように、従来の方法においては、いず
れも反応溶媒にアルコールなどの有機溶剤を使用してい
るため、反応終了後廃液処理を必要とするなどの問題点
があった。
オブ・オルガノメタリック・ケミストリー、第１巻、８
１−８８頁（１９６３年）に、水とエタノールの混合溶
媒中で二塩化ジメチル錫とピリジンとを１：１のモル比
で反応させて、テトラメチル−１，３−ジクロロジスタ
ノキサンを得る方法を開示している。しかしながら、松
田らは、工業化学雑誌、第７３巻、第５号、１０１０−
１０１３頁（１９７０年）に、前記オオカワラらの文献
に記載された反応条件下で合成した有機錫化合物は、そ
の錫の元素分析の結果からトリスタノキサンであると述
べている。上記のように、従来の方法においては、いず
れも反応溶媒にアルコールなどの有機溶剤を使用してい
るため、反応終了後廃液処理を必要とするなどの問題点
があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、有機
溶媒を使用することなく、エステル化触媒として有用
な、ヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノ
キサンを高収率で製造する方法を提供することにある。
溶媒を使用することなく、エステル化触媒として有用
な、ヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノ
キサンを高収率で製造する方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、反応溶媒
中で、塩基性化合物の存在下に、ジハロゲン化ジアルキ
ル錫を反応させるヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン
化トリスタノキサンの製造法において、反応溶媒として
水を使用するヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化ト
リスタノキサンの製造方法を提供することにより、上記
課題を解決した。なお、以下特に断らない限り、本発明
に係る、「ヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリ
スタノキサン」を、単に「トリスタノキサン−ＡＸ」と
略記する。
中で、塩基性化合物の存在下に、ジハロゲン化ジアルキ
ル錫を反応させるヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン
化トリスタノキサンの製造法において、反応溶媒として
水を使用するヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化ト
リスタノキサンの製造方法を提供することにより、上記
課題を解決した。なお、以下特に断らない限り、本発明
に係る、「ヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリ
スタノキサン」を、単に「トリスタノキサン−ＡＸ」と
略記する。
【０００８】
【発明の実施の形態】本発明において使用するジハロゲ
ン化ジアルキル錫は、錫原子に２個のハロゲン原子と、
２個のアルキル基が結合した化合物である。ハロゲンと
しては、塩素臭素、またはヨウ素が好ましく、中でもハ
ロゲンが塩素または臭素の場合に、塩基性化合物存在下
でのトリスタノキサン−ＡＸの生成速度が速い。２個の
ハロゲン原子は、同一であっても異なっていてもよい。
ン化ジアルキル錫は、錫原子に２個のハロゲン原子と、
２個のアルキル基が結合した化合物である。ハロゲンと
しては、塩素臭素、またはヨウ素が好ましく、中でもハ
ロゲンが塩素または臭素の場合に、塩基性化合物存在下
でのトリスタノキサン−ＡＸの生成速度が速い。２個の
ハロゲン原子は、同一であっても異なっていてもよい。
【０００９】アルキル基としては、炭素数が１〜４の、
メチル基、エチル基、プロピル基、またはブチル基が好
ましい。これらの低級アルキル基を有するジハロゲン化
ジアルキル錫は、塩基性化合物存在下でのトリスタノキ
サン−ＡＸの生成速度が速い。２個のアルキル基は、同
一であっても異なっていてもよい。
メチル基、エチル基、プロピル基、またはブチル基が好
ましい。これらの低級アルキル基を有するジハロゲン化
ジアルキル錫は、塩基性化合物存在下でのトリスタノキ
サン−ＡＸの生成速度が速い。２個のアルキル基は、同
一であっても異なっていてもよい。
【００１０】本発明で用いる塩基性化合物としては、３
級アミン、アンモニア、アルカリ金属の炭酸塩、アルカ
リ金属の炭酸水素塩などが挙げられる。３級アミンとし
ては、具体的には、たとえば、トリエチルアミン、トリ
イソプロピルアミン、トリブチルアミン、トリアリルア
ミン、ジエチルメチルアミン、エチルジイソプロピルア
ミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、
ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジンな
どが挙げられる。中でも、アンモニウム塩が水溶性であ
る３級アミンを使用するのが好ましい。特に、工業的に
広く使用され、安価なトリエチルアミンやピリジンを用
いるのが好適である。
級アミン、アンモニア、アルカリ金属の炭酸塩、アルカ
リ金属の炭酸水素塩などが挙げられる。３級アミンとし
ては、具体的には、たとえば、トリエチルアミン、トリ
イソプロピルアミン、トリブチルアミン、トリアリルア
ミン、ジエチルメチルアミン、エチルジイソプロピルア
ミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジン、
Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、
ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジンな
どが挙げられる。中でも、アンモニウム塩が水溶性であ
る３級アミンを使用するのが好ましい。特に、工業的に
広く使用され、安価なトリエチルアミンやピリジンを用
いるのが好適である。
【００１１】塩基性化合物がアンモニアの場合は、アン
モニア水を使用するのが好ましい。アンモニア水の濃度
には限定はないが、市販の２５％アンモニア水が扱いや
すく好適である。アルカリ金属の炭酸塩としては、たと
えば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸ルビジウム、炭酸セシウムなどがあり、これらは結晶
水を有していてもよい。これらの中でも特に好ましいの
は、工業的に広く使用され、安価な炭酸リチウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムである。反応系中におけるこ
れらアルカリ金属の炭酸塩の濃度には特に限定はない。
モニア水を使用するのが好ましい。アンモニア水の濃度
には限定はないが、市販の２５％アンモニア水が扱いや
すく好適である。アルカリ金属の炭酸塩としては、たと
えば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭
酸ルビジウム、炭酸セシウムなどがあり、これらは結晶
水を有していてもよい。これらの中でも特に好ましいの
は、工業的に広く使用され、安価な炭酸リチウム、炭酸
ナトリウム、炭酸カリウムである。反応系中におけるこ
れらアルカリ金属の炭酸塩の濃度には特に限定はない。
【００１２】本発明によるトリスタノキサン−ＡＸの製
造方法において、ジハロゲン化ジアルキル錫の使用比率
は、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物の合計モ
ル数に対して３５〜５２モル％とするのが好ましく、こ
の範囲において７０％以上の反応収率が得られる。特に
好ましいのは、化学量論的に等量（ジハロゲン化ジアル
キル錫と塩基性化合物のモル比＝３：４）となる、４
２．８モル％であり、この場合に最も高い反応収率が得
られる。ジハロゲン化ジアルキル錫の使用比率が、３５
モル％未満、あるいは５２モル％を超えると、いずれの
場合も反応収率は低下する。
造方法において、ジハロゲン化ジアルキル錫の使用比率
は、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物の合計モ
ル数に対して３５〜５２モル％とするのが好ましく、こ
の範囲において７０％以上の反応収率が得られる。特に
好ましいのは、化学量論的に等量（ジハロゲン化ジアル
キル錫と塩基性化合物のモル比＝３：４）となる、４
２．８モル％であり、この場合に最も高い反応収率が得
られる。ジハロゲン化ジアルキル錫の使用比率が、３５
モル％未満、あるいは５２モル％を超えると、いずれの
場合も反応収率は低下する。
【００１３】本発明で反応溶媒として用いる水の使用量
は、特に限定されるものではなく、反応容器内の混合物
が充分に攪拌できるだけの量があればよい。
は、特に限定されるものではなく、反応容器内の混合物
が充分に攪拌できるだけの量があればよい。
【００１４】塩基性化合物の存在下で、ジハロゲン化ジ
アルキル錫を反応させてトリスタノキサン−ＡＸを製造
する方法について、以下に代表的な例を挙げて説明す
る。滴下漏斗、温度計、及び攪拌機を備えた反応容器
に、ジハロゲン化ジアルキル錫と水を仕込み、攪拌しな
がら塩基性化合物を加える。塩基性化合物が液体の場合
は滴下し、アルカリ金属の炭酸塩の場合は水溶液を滴下
する。３級アミンが固体で水に不溶の場合は、微粉末を
少量ずつ加える。このとき、発熱を伴うので、加える速
度を調節し、適宜氷浴等を用いて反応温度を室温付近に
維持させることが好ましい。塩基性化合物を加え終わっ
た後約２時間攪拌する。反応終了後、析出したトリスタ
ノキサン−ＡＸをろ別し、水で充分に洗浄した後に、１
００〜１１０℃で減圧乾燥する。本製造方法によれば、
反応収率７０％以上でトリスタノキサン−ＡＸを製造す
ることができる。
アルキル錫を反応させてトリスタノキサン−ＡＸを製造
する方法について、以下に代表的な例を挙げて説明す
る。滴下漏斗、温度計、及び攪拌機を備えた反応容器
に、ジハロゲン化ジアルキル錫と水を仕込み、攪拌しな
がら塩基性化合物を加える。塩基性化合物が液体の場合
は滴下し、アルカリ金属の炭酸塩の場合は水溶液を滴下
する。３級アミンが固体で水に不溶の場合は、微粉末を
少量ずつ加える。このとき、発熱を伴うので、加える速
度を調節し、適宜氷浴等を用いて反応温度を室温付近に
維持させることが好ましい。塩基性化合物を加え終わっ
た後約２時間攪拌する。反応終了後、析出したトリスタ
ノキサン−ＡＸをろ別し、水で充分に洗浄した後に、１
００〜１１０℃で減圧乾燥する。本製造方法によれば、
反応収率７０％以上でトリスタノキサン−ＡＸを製造す
ることができる。
【００１５】
【実施例】以下、実施例を用いて本発明をさらに具体的
に説明する。なお、特に断らない限り、「部」および
「％」は、それぞれ「質量部」および「質量％」を表
す。
に説明する。なお、特に断らない限り、「部」および
「％」は、それぞれ「質量部」および「質量％」を表
す。
【００１６】（実施例１）撹拌機、温度計、滴下漏斗を
備えた反応容器に、二塩化ジメチル錫１１ｇ（５０ｍｍ
ｏｌ）、水４０ｍｌを仕込み、攪拌しながらピリジン
５．２７ｇ（６６．７ｍｍｏｌ）を滴下漏斗から滴下し
た。このとき氷浴を用いて、反応温度を２５〜３０℃に
保った。滴下終了後、さらに２時間攪拌して反応を終了
させた。反応終了後、沈殿物をろ別し、１００ｍｌの水
で洗浄した後、１０５℃で減圧乾燥して、８．４５ｇの
粉末を得た。
備えた反応容器に、二塩化ジメチル錫１１ｇ（５０ｍｍ
ｏｌ）、水４０ｍｌを仕込み、攪拌しながらピリジン
５．２７ｇ（６６．７ｍｍｏｌ）を滴下漏斗から滴下し
た。このとき氷浴を用いて、反応温度を２５〜３０℃に
保った。滴下終了後、さらに２時間攪拌して反応を終了
させた。反応終了後、沈殿物をろ別し、１００ｍｌの水
で洗浄した後、１０５℃で減圧乾燥して、８．４５ｇの
粉末を得た。
【００１７】元素分析によって、得られた粉末中の錫を
定量した結果、６４．７％であり、ヘキサメチル−１，
５−ジクロロトリスタノキサンの理論値錫：６４．８％
と、測定誤差範囲０．３％以内で一致した。反応収率は
９２．３％であった。
定量した結果、６４．７％であり、ヘキサメチル−１，
５−ジクロロトリスタノキサンの理論値錫：６４．８％
と、測定誤差範囲０．３％以内で一致した。反応収率は
９２．３％であった。
【００１８】（実施例２）実施例１におけるピリジン
５．２７ｇの代わりに、２５％アンモニア水４．５３ｇ
（６６．７ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様
にして８．７４ｇのヘキサメチル−１，５−ジクロロト
リスタノキサンを得た。実施例１の場合と同様に、元素
分析値は測定誤差範囲内で、ヘキサメチル−１，５−ジ
クロロトリスタノキサンの理論値と一致した。反応収率
は９５．５％であった。
５．２７ｇの代わりに、２５％アンモニア水４．５３ｇ
（６６．７ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様
にして８．７４ｇのヘキサメチル−１，５−ジクロロト
リスタノキサンを得た。実施例１の場合と同様に、元素
分析値は測定誤差範囲内で、ヘキサメチル−１，５−ジ
クロロトリスタノキサンの理論値と一致した。反応収率
は９５．５％であった。
【００１９】（実施例３）実施例１におけるピリジン
５．２７ｇの代わりに、１０％炭酸ナトリウム水溶液３
５．３ｇ（６６．７ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例
１と同様にして、８．３９ｇのヘキサメチル−１，５−
ジクロロトリスタノキサンを得た。実施例１の場合と同
様に、元素分析値は測定誤差範囲内で、ヘキサメチル−
１，５−ジクロロトリスタノキサンの理論値と一致し
た。反応収率は９１．７％であった。
５．２７ｇの代わりに、１０％炭酸ナトリウム水溶液３
５．３ｇ（６６．７ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例
１と同様にして、８．３９ｇのヘキサメチル−１，５−
ジクロロトリスタノキサンを得た。実施例１の場合と同
様に、元素分析値は測定誤差範囲内で、ヘキサメチル−
１，５−ジクロロトリスタノキサンの理論値と一致し
た。反応収率は９１．７％であった。
【００２０】（実施例４）実施例１におけるピリジン
５．２７ｇの代わりに、ピリジン４．７３ｇ（４４．９
ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして６．
１３ｇのヘキサメチル−１，５−ジクロロトリスタノキ
サンを得た。実施例１の場合と同様に、元素分析値は測
定測定誤差範囲内で、ヘキサメチル−１，５−ジクロロ
トリスタノキサンの理論値と一致した。反応収率は６
７．０％であった。
５．２７ｇの代わりに、ピリジン４．７３ｇ（４４．９
ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして６．
１３ｇのヘキサメチル−１，５−ジクロロトリスタノキ
サンを得た。実施例１の場合と同様に、元素分析値は測
定測定誤差範囲内で、ヘキサメチル−１，５−ジクロロ
トリスタノキサンの理論値と一致した。反応収率は６
７．０％であった。
【００２１】（実施例５）実施例１におけるピリジン
５．２７ｇの代わりに、ピリジン１０．５ｇ（９９．２
ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして粉末
８．５２ｇを得た。得られた粉末を元素分析した結果、
Ｓｎ：６６．９％、Ｃｌ：１３．５％であり、この値
は、上記粉末を、ヘキサメチル−１，５−ジクロロトリ
スタノキサン６９％とジメチル錫オキシド３１％からな
る混合物として計算した値と、測定誤差範囲内で一致し
た。反応収率は６６．２％であった。
５．２７ｇの代わりに、ピリジン１０．５ｇ（９９．２
ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして粉末
８．５２ｇを得た。得られた粉末を元素分析した結果、
Ｓｎ：６６．９％、Ｃｌ：１３．５％であり、この値
は、上記粉末を、ヘキサメチル−１，５−ジクロロトリ
スタノキサン６９％とジメチル錫オキシド３１％からな
る混合物として計算した値と、測定誤差範囲内で一致し
た。反応収率は６６．２％であった。
【００２２】実施例１〜５の結果をまとめて、それぞれ
表１と表２に示す。表中、ＳｎＲＸはジハロゲン化ジア
ルキル錫を表す。
表１と表２に示す。表中、ＳｎＲＸはジハロゲン化ジア
ルキル錫を表す。
【００２３】
【表１】
【００２４】
【表２】
【００２５】表１および表２に示した結果から、反応溶
媒として有機溶媒を使用することなく、収率よくヘキサ
メチル−１，５−ジクロロトリスタノキサンが得られる
ことがわかる。特に、ジハロゲン化ジアルキル錫の使用
比率を、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物の合
計モル数に対して３５〜５２モル％とした場合には、い
ずれも７０％以上の高い反応収率でヘキサアルキル−
１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンが得られる。
媒として有機溶媒を使用することなく、収率よくヘキサ
メチル−１，５−ジクロロトリスタノキサンが得られる
ことがわかる。特に、ジハロゲン化ジアルキル錫の使用
比率を、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物の合
計モル数に対して３５〜５２モル％とした場合には、い
ずれも７０％以上の高い反応収率でヘキサアルキル−
１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンが得られる。
【００２６】
【発明の効果】本発明の、水溶媒中で、塩基性化合物の
存在下にジハロゲン化ジアルキル錫を反応させる、ヘキ
サアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの
製造方法によれば、有機溶媒を使用することなく、ヘキ
サアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンを
得ることができる。特に、ジハロゲン化ジアルキル錫の
使用比率を、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物
の合計モル数に対して３５〜５２モル％とした場合は、
７０％以上の反応収率が得られ、使用比率が４２．８モ
ル％の場合は、９０％以上の高い反応収率が得られる。
反応溶媒に有機溶媒を使用しないので、反応廃液処理に
おける負荷を軽減できることも、本発明の大きな効果で
ある。
存在下にジハロゲン化ジアルキル錫を反応させる、ヘキ
サアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの
製造方法によれば、有機溶媒を使用することなく、ヘキ
サアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンを
得ることができる。特に、ジハロゲン化ジアルキル錫の
使用比率を、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物
の合計モル数に対して３５〜５２モル％とした場合は、
７０％以上の反応収率が得られ、使用比率が４２．８モ
ル％の場合は、９０％以上の高い反応収率が得られる。
反応溶媒に有機溶媒を使用しないので、反応廃液処理に
おける負荷を軽減できることも、本発明の大きな効果で
ある。
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フロントページの続き
Ｆターム(参考） 4G069 AA06 AA08 BA27A BA27B
BC22A BC22B BE01A BE01B
BE46B CB75 ED02
4H039 CA93 CD20
4H049 VN03 VP03 VQ03 VQ78 VR22
VR31 VR41 VS09 VT03 VT32
VT33 VT35 VT36 VT43 VV20
Claims (2)
- 【請求項１】 反応溶媒中で、塩基性化合物の存在下
に、ジハロゲン化ジアルキル錫を反応させるヘキサアル
キル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造方
法において、反応溶媒が水であることを特徴とするヘキ
サアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの
製造方法。 - 【請求項２】 ジハロゲン化ジアルキル錫の使用比率
が、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物の合計モ
ル数に対して、３５〜５２モル％である請求項１に記載
のヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキ
サンの製造方法。
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| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2005115960A1 (ja) * | 2004-05-31 | 2005-12-08 | Mitsubishi Chemical Corporation | アクリル酸の製造方法 |
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2001
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