JP4151255B2

JP4151255B2 - 有機錫触媒の製造方法

Info

Publication number: JP4151255B2
Application number: JP2001309886A
Authority: JP
Inventors: 英知甲斐
Original assignee: DIC Corp
Current assignee: DIC Corp
Priority date: 2001-10-05
Filing date: 2001-10-05
Publication date: 2008-09-17
Anticipated expiration: 2021-10-05
Also published as: JP2003113188A

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、水媒体中で、エステル化触媒として有用なヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンを、高収率で製造する方法に関する。
【０００２】
【従来の技術】
一般に、ジスタノキサン化合物またはトリスタノキサン化合物が、エステル化触媒として有用であることが知られている。たとえば、特開昭５１−６１５９５号公報には、エステル化触媒として、ジスタノキサン化合物や、本発明に係る、ヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンを包含する低級アルキル錫化合物を使用したポリエステル系可塑剤の製造方法が記載されている。
【０００３】
また、オテラらは、ザ・ジャーナル・オブ・オーガニック・ケミストリー、第５６巻、５３０７〜５３１１頁（１９９１年）に、１，３−ジ置換テトラアルキルジスタノキサン類が、エステル化触媒として優れた効果を有していると記載している。
【０００４】
一方、スタノキサン化合物の合成方法に関しては、たとえば、ハリソンらは、ザ・ジャーナル・オブ・オルガノメタリック・ケミストリー、第１８６巻、２１３−２３６頁（１９８０年）に、アセトン溶媒中で二塩化ジメチル錫と２−アミノ−ベンゾチアゾールとを１：１のモル比で反応させて、テトラメチル−１，３−ジクロロジスタノキサンを得る方法を開示している。
【０００５】
また、オオカワラらは、ザ・ジャーナル・オブ・オルガノメタリック・ケミストリー、第１巻、８１−８８頁（１９６３年）に、水とエタノールの混合溶媒中で二塩化ジメチル錫とピリジンとを１：１のモル比で反応させて、テトラメチル−１，３−ジクロロジスタノキサンを得る方法を開示している。しかしながら、松田らは、工業化学雑誌、第７３巻、第５号、１０１０−１０１３頁（１９７０年）に、前記オオカワラらの文献に記載された反応条件下で合成した有機錫化合物は、その錫の元素分析の結果からトリスタノキサンであると述べている。
上記のように、従来の方法においては、いずれも反応溶媒にアルコールなどの有機溶剤を使用しているため、反応終了後廃液処理を必要とするなどの問題点があった。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の課題は、有機溶媒を使用することなく、エステル化触媒として有用な、ヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンを高収率で製造する方法を提供することにある。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
本発明者らは、反応溶媒中で、塩基性化合物の存在下に、ジハロゲン化ジアルキル錫を反応させるヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造法において、反応溶媒として水を使用するヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造方法を提供することにより、上記課題を解決した。
なお、以下特に断らない限り、本発明に係る、「ヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサン」を、単に「トリスタノキサン−ＡＸ」と略記する。
【０００８】
【発明の実施の形態】
本発明において使用するジハロゲン化ジアルキル錫は、錫原子に２個のハロゲン原子と、２個のアルキル基が結合した化合物である。ハロゲンとしては、塩素臭素、またはヨウ素が好ましく、中でもハロゲンが塩素または臭素の場合に、塩基性化合物存在下でのトリスタノキサン−ＡＸの生成速度が速い。２個のハロゲン原子は、同一であっても異なっていてもよい。
【０００９】
アルキル基としては、炭素数が１〜４の、メチル基、エチル基、プロピル基、またはブチル基が好ましい。これらの低級アルキル基を有するジハロゲン化ジアルキル錫は、塩基性化合物存在下でのトリスタノキサン−ＡＸの生成速度が速い。２個のアルキル基は、同一であっても異なっていてもよい。
【００１０】
本発明で用いる塩基性化合物としては、３級アミン、アンモニア、アルカリ金属の炭酸塩、アルカリ金属の炭酸水素塩などが挙げられる。
３級アミンとしては、具体的には、たとえば、トリエチルアミン、トリイソプロピルアミン、トリブチルアミン、トリアリルアミン、ジエチルメチルアミン、エチルジイソプロピルアミン、Ｎ−メチルピロリジン、Ｎ−メチルピペリジン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−テトラメチルエチレンジアミン、ピリジン、４−（Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノ）ピリジンなどが挙げられる。中でも、アンモニウム塩が水溶性である３級アミンを使用するのが好ましい。特に、工業的に広く使用され、安価なトリエチルアミンやピリジンを用いるのが好適である。
【００１１】
塩基性化合物がアンモニアの場合は、アンモニア水を使用するのが好ましい。アンモニア水の濃度には限定はないが、市販の２５％アンモニア水が扱いやすく好適である。
アルカリ金属の炭酸塩としては、たとえば炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸ルビジウム、炭酸セシウムなどがあり、これらは結晶水を有していてもよい。これらの中でも特に好ましいのは、工業的に広く使用され、安価な炭酸リチウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウムである。反応系中におけるこれらアルカリ金属の炭酸塩の濃度には特に限定はない。
【００１２】
本発明によるトリスタノキサン−ＡＸの製造方法において、ジハロゲン化ジアルキル錫の使用比率は、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物の合計モル数に対して３５〜５２モル％とするのが好ましく、この範囲において７０％以上の反応収率が得られる。特に好ましいのは、化学量論的に等量（ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物のモル比＝３：４）となる、４２．８モル％であり、この場合に最も高い反応収率が得られる。ジハロゲン化ジアルキル錫の使用比率が、３５モル％未満、あるいは５２モル％を超えると、いずれの場合も反応収率は低下する。
【００１３】
本発明で反応溶媒として用いる水の使用量は、特に限定されるものではなく、反応容器内の混合物が充分に攪拌できるだけの量があればよい。
【００１４】
塩基性化合物の存在下で、ジハロゲン化ジアルキル錫を反応させてトリスタノキサン−ＡＸを製造する方法について、以下に代表的な例を挙げて説明する。
滴下漏斗、温度計、及び攪拌機を備えた反応容器に、ジハロゲン化ジアルキル錫と水を仕込み、攪拌しながら塩基性化合物を加える。塩基性化合物が液体の場合は滴下し、アルカリ金属の炭酸塩の場合は水溶液を滴下する。３級アミンが固体で水に不溶の場合は、微粉末を少量ずつ加える。このとき、発熱を伴うので、加える速度を調節し、適宜氷浴等を用いて反応温度を室温付近に維持させることが好ましい。塩基性化合物を加え終わった後約２時間攪拌する。反応終了後、析出したトリスタノキサン−ＡＸをろ別し、水で充分に洗浄した後に、１００〜１１０℃で減圧乾燥する。
本製造方法によれば、反応収率７０％以上でトリスタノキサン−ＡＸを製造することができる。
【００１５】
【実施例】
以下、実施例を用いて本発明をさらに具体的に説明する。なお、特に断らない限り、「部」および「％」は、それぞれ「質量部」および「質量％」を表す。
【００１６】
（実施例１）
撹拌機、温度計、滴下漏斗を備えた反応容器に、二塩化ジメチル錫１１ｇ（５０ｍｍｏｌ）、水４０ｍｌを仕込み、攪拌しながらピリジン５．２７ｇ（６６．７ｍｍｏｌ）を滴下漏斗から滴下した。このとき氷浴を用いて、反応温度を２５〜３０℃に保った。滴下終了後、さらに２時間攪拌して反応を終了させた。反応終了後、沈殿物をろ別し、１００ｍｌの水で洗浄した後、１０５℃で減圧乾燥して、８．４５ｇの粉末を得た。
【００１７】
元素分析によって、得られた粉末中の錫を定量した結果、６４．７％であり、ヘキサメチル−１，５−ジクロロトリスタノキサンの理論値錫：６４．８％と、測定誤差範囲０．３％以内で一致した。反応収率は９２．３％であった。
【００１８】
（実施例２）
実施例１におけるピリジン５．２７ｇの代わりに、２５％アンモニア水４．５３ｇ（６６．７ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして８．７４ｇのヘキサメチル−１，５−ジクロロトリスタノキサンを得た。実施例１の場合と同様に、元素分析値は測定誤差範囲内で、ヘキサメチル−１，５−ジクロロトリスタノキサンの理論値と一致した。反応収率は９５．５％であった。
【００１９】
（実施例３）
実施例１におけるピリジン５．２７ｇの代わりに、１０％炭酸ナトリウム水溶液３５．３ｇ（６６．７ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして、８．３９ｇのヘキサメチル−１，５−ジクロロトリスタノキサンを得た。実施例１の場合と同様に、元素分析値は測定誤差範囲内で、ヘキサメチル−１，５−ジクロロトリスタノキサンの理論値と一致した。反応収率は９１．７％であった。
【００２０】
（実施例４）
実施例１におけるピリジン５．２７ｇの代わりに、ピリジン４．７３ｇ（４４．９ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして６．１３ｇのヘキサメチル−１，５−ジクロロトリスタノキサンを得た。実施例１の場合と同様に、元素分析値は測定測定誤差範囲内で、ヘキサメチル−１，５−ジクロロトリスタノキサンの理論値と一致した。反応収率は６７．０％であった。
【００２１】
（実施例５）
実施例１におけるピリジン５．２７ｇの代わりに、ピリジン１０．５ｇ（９９．２ｍｍｏｌ）を用いた以外は、実施例１と同様にして粉末８．５２ｇを得た。得られた粉末を元素分析した結果、Ｓｎ：６６．９％、Ｃｌ：１３．５％であり、この値は、上記粉末を、ヘキサメチル−１，５−ジクロロトリスタノキサン６９％とジメチル錫オキシド３１％からなる混合物として計算した値と、測定誤差範囲内で一致した。反応収率は６６．２％であった。
【００２２】
実施例１〜５の結果をまとめて、それぞれ表１と表２に示す。表中、ＳｎＲＸはジハロゲン化ジアルキル錫を表す。
【００２３】
【表１】

【００２４】
【表２】

【００２５】
表１および表２に示した結果から、反応溶媒として有機溶媒を使用することなく、収率よくヘキサメチル−１，５−ジクロロトリスタノキサンが得られることがわかる。特に、ジハロゲン化ジアルキル錫の使用比率を、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物の合計モル数に対して３５〜５２モル％とした場合には、いずれも７０％以上の高い反応収率でヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンが得られる。
【００２６】
【発明の効果】
本発明の、水溶媒中で、塩基性化合物の存在下にジハロゲン化ジアルキル錫を反応させる、ヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造方法によれば、有機溶媒を使用することなく、ヘキサアルキル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンを得ることができる。特に、ジハロゲン化ジアルキル錫の使用比率を、ジハロゲン化ジアルキル錫と塩基性化合物の合計モル数に対して３５〜５２モル％とした場合は、７０％以上の反応収率が得られ、使用比率が４２．８モル％の場合は、９０％以上の高い反応収率が得られる。
反応溶媒に有機溶媒を使用しないので、反応廃液処理における負荷を軽減できることも、本発明の大きな効果である。

Claims

反応溶媒中で、塩基性化合物の存在下に、ジハロゲン化ジメチル錫を反応させるヘキサメチル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造方法において、反応溶媒が水であり、ジハロゲン化ジメチル錫の使用比率が、ジハロゲン化ジメチル錫と塩基性化合物の合計モル数に対して、３５〜５２モル％であることを特徴とするヘキサメチル−１，５−ジハロゲン化トリスタノキサンの製造方法。
以上