JP2003107672A - フォトマスク外観検証システム及び方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 ウエハ検査で検出された座標値をフォトマス
ク検査で使用される座標値に変換し、フォトマスクの不
具合解析を早期に行うフォトマスク外観検証システムを
提供する。 【解決手段】 ウエハ検査装置４が検出した不具合箇所
の座標値とウエハ検査情報を、検査データ管理コンピュ
ータ５を用いて座標変換コンピュータ６へ送り、ウエハ
検査情報とフォトマスク検査情報とに基づいてウエハ検
査で検出した座標値をフォトマスク上の座標値へ変換
し、フォトマスクの不具合箇所を解析する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】この発明は、半導体製品の製
造に使用するフォトマスクの外観検証システム及び方法
に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】フォトマスク（以下、マスクと記載す
る）は半導体集積回路パターンの原版であり、ステッパ
等の露光装置で使用される。マスクは厚さ数ミリメート
ルのガラス基板表面に遮光効果のあるＣｒ酸化膜等の金
属膜を蒸着し、この金属膜にエッチング処理を行い、集
積回路パターンを形成させたものである。従来、このマ
スクについて、金属膜が余分に残っている黒欠陥の検
出、逆に集積回路パターンを形成する部分の金属膜が欠
損している白欠陥の検出、及び異物の存在に関する検出
はマスクを製造するマスクメーカにおいて行われ、欠陥
・異物等について規格を超えたサイズ・数を有するもの
を排除していた。

【０００３】また、マスクメーカで行われるマスク検査
を補完するため、マスクユーザの半導体製造メーカは、
納品されたマスクの回路パターンをウエハ上に転写し、
形成された回路パターンの良否についてウエハ検査を行
い、半導体製品の歩留まりを向上させていた。マスクユ
ーザが行うウエハ検査で検出された欠陥部分が、複数の
チップにおいて同じ座標位置に発生している場合、即ち
共通欠陥が確認された場合にはマスクに欠陥等の不具合
がある可能性が高い。この場合、マスクユーザはウエハ
検査で検出した共通欠陥の位置を示す座標値から、マス
ク上の位置を解析して不具合原因を特定する。このと
き、先にマスクメーカにて行われた検査のマスクパター
ンの方向、検査エリアの設定、座標原点、座標軸等の設
定が、ウエハ検査で用いられるものとは異なっていた。
そのため、ウエハ検査で検出された欠陥部分を示す座標
値等の情報を、マスク検査で用いられたものに変換し適
合させる必要があった。

【０００４】図５は、ウエハ上のパターン及びウエハ検
査で用いられる座標原点と、マスク上のパターン及びマ
スク検査で用いられる座標原点との関係を表し、ウエハ
検査で用いられる座標値をマスク検査で用いられる座標
値へ変換する方法の一例を示した説明図である。図にお
いて、ａはウエハ検査で用いられる座標系で示したウエ
ハ上のパターンである。ａ０はウエハ検査情報に含ま
れ、ウエハ上のパターンａの位置表示に用いられるｘ／
ｙ軸からなる直交座標の座標原点である。ｂはマスク検
査で用いられる座標系で示したマスク上のパターンであ
る。ｂ０はマスク検査情報に含まれ、マスク上のパター
ンｂの位置表示に用いられるｘ／ｙ軸からなる直交座標
の座標原点である。図中ウエハ上のパターンａの左下方
コーナー部位を座標原点ａ０とし、マスク上のパターン
ｂの左下方コーナー部位を座標原点ｂ０としている。ま
た、ウエハ上のパターンａとマスク上のパターンｂと
は、ｙ軸方向に延設される任意の軸中心にミラー反転し
たパターンとなり、ここでは、マスク上のパターンｂを
縮小したものがウエハ上のパターンａとして示される。

【０００５】マスクの検査・観察は、マスク基板（ガラ
ス基板）のパターン面側（Ｃｒ酸化膜等の金属幕側）か
ら行うが、ウエハ上に転写露光する際には、マスク基板
のパターン面の裏側（ガラス面側）から光が照射され
る。そのため、ウエハ上にはマスクのパターン面の像を
ミラー反転した像（マスクのガラス面から見た像）が形
成される。そのためウエハ検査で検出した欠陥箇所をマ
スク上で観察するには、ウエハ上の位置を表す座標値を
マスク上の位置を表す座標値に変換する。この座標変換
は、ウエハ検査で検出された欠陥を有する位置を示す座
標値をマスク上における座標値へ変換する。こうして得
られたマスク上の座標値をマスク観察に用い、欠陥を有
する箇所を特定して不具合の解析を行っている。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】従来のウエハ検査で用
いられる座標値をマスク検査で用いられる座標値へ変換
する方法は、以上のように行われていたので、半導体製
品の集積度の向上とともにマスクの欠陥・異物に対する
規格が厳しくなったことから、マスクメーカで行われる
マスク検査の感度では欠陥箇所・異物に対して十分な対
処が困難になってきた。また、マスクメーカで行われて
いるマスク検査を補完するため、マスクユーザが行って
いたウエハ検査では、マスク検査で用いられる座標値
が、ウエハ検査で用いられる座標値とは直接整合しない
もので、不具合の原因を解析するには、ウエハ上で検出
された不具合個所の座標値を変換してマスクの観察を行
う必要がある。また、マスクメーカで行われるマスク検
査は、それぞれマスクメーカごとに、マスク上に形成さ
れた回路パターン上で検査を開始させる位置や進行させ
る方向が異なるため、マスク検査において用いられる座
標値データは、マスクユーザが行うウエハ検査で得られ
る座標値データと比べると、座標値の正負等が異なるな
どのローテーションを起こした関係になる場合もあり、
相互の座標値間で行われる座標変換では９０度、あるい
は１８０度反転しなければならない場合もある。マスク
検査の結果を示す情報はマスクメーカごとに基準となる
値や規定等が異なり、ウエハ検査で検出された座標値の
変換は、それぞれのマスクメーカで行われる検査態様に
適合する変換方法で行う必要があるという課題があっ
た。

【０００７】また、ウエハ検査はマスクユーザが行い、
マスク検査はマスクメーカが行うので、それぞれの検査
の座標原点、座標軸等の情報が誤って伝わることや、誤
解により正確な座標変換が行われないため、マスクの不
具合解析が行えない、または解析にかなりの時間を要し
てしまうという課題があった。

【０００８】また、座標値の変換作業が複雑で計算ミス
が発生しやすく、無用な時間を費やすことになり、結果
としてウエハを作製するマスクの取得が遅れることから
半導体製品の納期が遅れ、大幅な損害をもたらす場合が
あるという課題があった。

【０００９】この発明は、上記のような課題を解決する
ためになされたもので、マスクユーザ、またはマスクメ
ーカの検査情報を、ネットワークを介して通信し、効率
よくマスクの不具合解析が行えるフォトマスク外観検証
システム及び方法を得ることを目的とする。

【００１０】

【課題を解決するための手段】この発明に係るフォトマ
スク外観検証システムは、フォトマスクを用いてウェハ
を作製するフォトマスクユーザが、作製したウエハを検
査するウエハ検査手段と、ウエハ検査手段が検出したウ
エハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値と、
ウエハ検査手段で使用したウエハ検査情報とをフォトマ
スクメーカへ送信する検査データ管理手段とを備え、フ
ォトマスクメーカに、送信した座標値とウエハ検査情報
に基づいて、フォトマスクの不具合箇所を観察させるも
のである。

【００１１】この発明に係るフォトマスク外観検証シス
テムは、フォトマスクを製造するフォトマスクメーカ
が、製造したフォトマスクを検査するフォトマスク検査
手段と、フォトマスクユーザによるウエハ検査で検出さ
れたウエハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標
値とウエハ検査で使用したウエハ検査情報とを受信し、
フォトマスク検査手段で使用したフォトマスク検査情報
と受信したウエハ検査情報とに基づいて、受信した座標
値を、フォトマスク上のパターンの不具合箇所の位置を
示す座標値に変換する座標変換手段と、座標変換手段に
より変換された座標値に基づいてフォトマスクを観察す
るフォトマスク観察手段とを備えたものである。

【００１２】この発明に係るフォトマスク外観検証シス
テムは、座標変換手段が、フォトマスク検査手段が検出
したフォトマスク上のパターンの不具合箇所の位置を示
す座標値と、フォトマスク上の座標値に変換したウエハ
上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値とを比較
照合し、フォトマスク観察手段が座標変換手段による比
較照合結果を表示するものである。

【００１３】この発明に係るフォトマスク外観検証シス
テムは、フォトマスクを製造するフォトマスクメーカ
が、製造したフォトマスクを検査するフォトマスク検査
手段と、フォトマスク検査手段が検出したフォトマスク
上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値と、フォ
トマスク検査手段で使用したフォトマスク検査情報とを
フォトマスクユーザに送信する検査情報転送手段とを備
え、フォトマスクユーザに、送信した座標値とフォトマ
スク検査情報を用いて、フォトマスクを検査させるもの
である。

【００１４】この発明に係るフォトマスク外観検証シス
テムは、フォトマスクを用いてウエハを作製するフォト
マスクユーザが、作製したウエハを検査するウエハ検査
手段と、ウエハ検査手段が検出したウエハ上のパターン
の不具合箇所の位置を示す座標値と、ウエハ検査手段で
使用したウエハ検査情報とを管理する検査データ管理手
段と、フォトマスクメーカによるフォトマスク検査で検
出されたフォトマスク上のパターンの不具合箇所の位置
を示す座標値とフォトマスク検査で使用したフォトマス
ク検査情報とを受信し、検査データ管理手段が管理する
座標値とウエハ検査情報とを取得し、受信したフォトマ
スク検査情報と取得したウエハ検査情報とに基づいて座
標変換を行い、ウエハ検査手段が検出した座標値とフォ
トマスク検査で検出された座標値とを比較照合する座標
変換手段とを備えたものである。

【００１５】この発明に係るフォトマスク外観検証シス
テムは、フォトマスクユーザが、フォトマスク上のパタ
ーンの不具合箇所を観察するフォトマスク観察手段を備
え、座標変換手段が、検査データ管理手段が管理する座
標値とウエハ検査情報とを取得し、取得したウエハ検査
情報に基づいて、取得した座標値をフォトマスク観察手
段が観察するフォトマスク上のパターンの座標値に変換
するものである。

【００１６】この発明に係るフォトマスク外観検証シス
テムは、座標変換手段が、ウエハ検査情報に含まれる座
標原点とフォトマスク検査情報に含まれる座標原点につ
いてのオフセット量を求め、このオフセット量を加味し
て座標変換を行うものである。

【００１７】この発明に係るフォトマスク外観検証シス
テムは、フォトマスク上のパターンをデザインしたＣＡ
Ｄデータから座標データを抽出するＣＡＤデータ照査手
段を備え、座標変換手段が、ＣＡＤデータ照査手段が抽
出した座標データを用いてオフセット量を求めるもので
ある。

【００１８】この発明に係るフォトマスク外観検証シス
テムは、フォトマスクを用いてウェハを作製するフォト
マスクユーザが、フォトマスク上のパターンの不具合箇
所を観察するフォトマスク観察手段と、フォトマスクメ
ーカによるフォトマスク検査で検出されたフォトマスク
上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値とフォト
マスク検査で使用したフォトマスク検査情報とを受信
し、受信したフォトマスク検査情報に基づいて、受信し
た座標値をフォトマスク観察手段が観察するフォトマス
ク上のパターンの座標値に変換する座標変換手段とを備
えたものである。

【００１９】この発明に係るフォトマスク外観検証方法
は、フォトマスクユーザがフォトマスクを用いて作製し
たウエハを検査する過程と、フォトマスクユーザが検査
過程で検出したウエハ上のパターンの不具合箇所の位置
を示す座標値と検査過程で使用したウエハ検査情報とを
フォトマスクメーカへ送信する過程と、フォトマスクメ
ーカに、送信した座標値とウエハ検査情報に基づいて、
フォトマスクの不具合箇所を観察させる過程とを備えた
ものである。

【００２０】この発明に係るフォトマスク外観検証方法
は、フォトマスクメーカが製造したフォトマスクを検査
する過程と、フォトマスクを用いてウエハを作製したフ
ォトマスクユーザによるウエハ検査で検出されたウエハ
上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値とウエハ
検査で使用したウエハ検査情報とを受信し、フォトマス
クの検査過程で使用したフォトマスク検査情報と受信し
たウエハ検査情報とに基づいて、受信した座標値をフォ
トマスク上のパターン不具合箇所の位置を示す座標値に
変換する過程と、変換された座標値に基づいてフォトマ
スクを観察する過程とを備えたものである。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、この発明の実施の一形態を
説明する。 実施の形態１．図１は実施の形態１によるフォトマスク
外観検証システムを示す構成図である。以下、フォトマ
スクをマスクと記載する。図において、１は半導体製造
メーカ等のマスクユーザ（フォトマスクユーザ）、２は
マスクを製造するマスクメーカ（フォトマスクメー
カ）、３はインターネット等の通信網であるネットワー
クである。４はマスクユーザ１が備え、ウエハ上のパタ
ーンの不具合箇所を検出し、その位置を示す座標値とウ
エハ検査情報とを出力するウエハ検査装置（ウエハ検査
手段）である。ウエハ検査装置４で使用されるウエハ検
査情報は、ウエハ検査時に記録されたパターン配置、ウ
エハの検査エリア、検査に用いられた座標軸及び座標原
点などのデータで構成される。

【００２２】５はマスクユーザ１が備え、ウエハ検査装
置４から出力される不具合箇所の位置を示す座標値やウ
エハ検査情報を管理する検査データ管理コンピュータ
（検査データ管理手段）である。

【００２３】６はマスクメーカ２が備え、ウエハ検査装
置４から出力されるウエハ上のパターンの不具合箇所の
位置を示す座標値を、後述するマスク観察ツール８で使
用できる座標値へ変換する座標変換用コンピュータ（座
標変換手段）である。７はマスクメーカ２が備え、座標
変換用コンピュータ６に接続され、マスク上の欠陥箇所
や異物を検出し、その検出位置を示す座標値や画像等の
データとマスク検査情報を出力するマスク検査ツール
（フォトマスク検査手段）である。マスク検査ツール７
で使用されるマスク検査情報（フォトマスク検査情報）
は、マスクの検査方向、マスク検査エリア、マスク検査
に用いられた座標軸及び座標原点などのデータで構成さ
れる。

【００２４】８はマスクメーカ２が備え、座標変換用コ
ンピュータ６に接続され、ウエハ検査装置４によって検
出され座標変換用コンピュータ６で変換されたウエハ上
のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値、または、
マスク検査ツール７から出力されたマスク上のパターン
の不具合箇所の位置を示す座標値を用いて当該マスクを
観察するＳｃａｎｎｉｇ Ｅｌｅｃｔｒｏｎ Ｍｉｃｒ
ｏｓｃｏｐｅ（以下、ＳＥＭと記載する）等のマスク観
察ツール（フォトマスク観察手段）である。また、マス
クユーザ１の検査データ管理コンピュータ５とマスクメ
ーカ２の座標変換用コンピュータ６とは、ネットワーク
３を介して接続されデータ通信が可能に構成されてい
る。

【００２５】次に動作について説明する。マスクメーカ
２は、マスクユーザ１から依頼されたマスクを作製し、
マスク検査ツール７によって当該マスクを検査し、この
検査でマスク上のパターンにおいて不具合箇所が検出さ
れた場合は、当該不具合箇所の修理を行い、またその修
理箇所を示す座標値を所定の記憶手段（図示省略）に記
憶しておき、修理等を行うことで所定の規格を満足した
マスクをマスクユーザ１へ納品する。前記マスクを受け
取ったマスクユーザ１は、実際にこのマスクを用いて半
導体ウエハを作製し、このウエハ上に形成された回路パ
ターンに欠陥や異物が生じているか否かを、ウエハ検査
装置４を用いて検査する。この検査結果を示すデータ
は、ウエハ検査情報とともに検査データ管理コンピュー
タ５に入力され、このウエハ検査情報の記憶、外部への
送信等の管理が行われる。

【００２６】ウエハ上に複数形成された各チップにおい
て、同一位置に欠陥が認められる共通欠陥がウエハ検査
で検出された場合は、ウエハ作製工程において生じた不
具合よりも、マスク上に欠陥要因となる不具合がある可
能性が高い。そのため、ウエハ検査で不具合が検出され
ると、マスクについて詳細な観察が行われる。ウエハ検
査装置４の検査結果で、ウエハ上に欠陥や異物が認めら
れた場合、検査データ管理コンピュータ５は、これらの
不具合が認められた座標値をウエハ検査情報とともにネ
ットワーク３を介してマスクメーカ２の座標変換用コン
ピュータ６へ送る。座標変換用コンピュータ６は、座標
値を変換する座標変換用ソフトウエアを備え、このソフ
トウエアによってウエハ検査情報とマスク検査情報との
対応関係に基づく変換処理を行い、ウエハ検査で検出さ
れたウエハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標
値を、マスク観察ツール８、またはマスク検査ツール７
で使用可能な、マスク上の位置を示す座標値に変換す
る。

【００２７】座標変換用コンピュータ６で変換されたウ
エハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値は、
マスク検査ツール７またはＳＥＭ等のマスク観察ツール
８へ送られて検査、観察が行われる。マスク観察ツール
８の場合は、この座標値からマスクの観察する場所を特
定し、詳細な観察を行う。マスクメーカ２は、この観察
結果から不具合の原因を解析し適宜処置を行う。

【００２８】また、座標変換用コンピュータ６で変換さ
れたウエハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標
値を、マスク納品前に行われたマスク検査結果（マスク
検査で検出されたマスク上のパターンの不具合箇所の位
置を示す座標値、マスク検査情報等）と比較・照合させ
ると、納品前に行った欠陥等の不具合箇所の修正が適切
であったか否かなど、納品前に行われたマスク検査やマ
スク修正に関する問題点の解析を行うことができる。こ
れは、座標変換用コンピュータ６において、ウエハ検査
で検出された不具合箇所をマスク上の座標値に変換し、
このマスク上の座標値を、所定の記憶手段（図示省略）
に格納されている納品前のマスク検査で検出された不具
合箇所の位置を示す座標値と比較・照合し、一致した座
標値についてマスク観察ツール８を使用して当該マスク
を観察し、不具合箇所の解析を行う。納品前に行われた
マスク検査結果に含まれる不具合箇所、つまり修理箇所
の位置を示す座標値と、ウエハ検査で検出された不具合
箇所の位置を示す座標値とが一致する場合には、出荷前
に行われたマスクの不具合箇所の修正が適切に行われな
かったことがわかり、そのため、ウエハ上に形成された
回路パターンに不具合が生じたと考えられる。このよう
に、ウエハ上で検出された不具合が何を原因としている
かを解析することができる。

【００２９】以上のように、この実施の形態１によれ
ば、ウエハ検査装置４で検出したウエハ上のパターンの
不具合個所の位置を示す座標値を、ネットワーク３を介
して通信を行い、また、ウエハ上のパターンの不具合個
所の位置を示す座標値を、マスク観察に使用できる座標
値に変換するようにしたので、ウエハから検出された不
具合についてマスクの解析を即時に行うことが可能にな
り、マスクの改善を早期に行うことができ、半導体製品
の納期を確保し、事業に影響することを防ぐことができ
るという効果がある。

【００３０】実施の形態２．図２は実施の形態２による
フォトマスク外観検証システムの構成図である。前記実
施の形態１で説明したものと同一、あるいは相当する部
分には同じ符号を用い、その詳細な説明を省略する。ま
た、実施の形態２の説明で用いるウエハ検査情報、及び
マスク検査情報は、実施の形態１で説明したウエハ検査
情報、及びマスク検査情報と同様であり、その詳細な説
明を省略する。図において、１０はマスクメーカ２に備
えられ、納品前にマスク検査ツール７が行ったマスク検
査で検出したマスク上のパターンの不具合箇所の位置を
示す座標値や、マスク検査ツール７で使用されたマスク
検査情報を後述する座標変換用コンピュータ１１へ送信
する検査情報転送用コンピュータ（検査情報転送手段）
である。

【００３１】１１はマスクユーザ１に備えられ、入力さ
れる各マスク検査情報とウエハ検査情報とに基づいて、
マスク検査やウエハ検査で検出された不具合箇所の位置
を示す座標値を、所定の座標値へ変換する座標変換用コ
ンピュータ（座標変換手段）である。１２はマスクユー
ザ１に備えられ、ウエハ検査装置４から出力されるウエ
ハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値とウエ
ハ検査情報とを管理する検査データ管理コンピュータ
（検査データ管理手段）である。１３はマスクユーザ１
に備えられ、納品されたマスクの不具合箇所を検出し、
マスクメーカ２が備えるマスク検査ツール７で用いられ
る座標系とは異なる座標系を用い、マスク上のパターン
の不具合箇所の位置を示す座標値や画像を出力するマス
ク検査ツールである。１４はマスクユーザ１に備えら
れ、マスクメーカ２が備えるマスク検査ツール７で用い
られる座標系とは異なる座標系を用い、納品されたマス
クを観察するマスク観察ツール（フォトマスク観察手
段）である。３０はマスクユーザ１に備えられ、ウエハ
検査装置４から出力されるウエハ上のパターンの不具合
個所の位置を示す座標値とウエハ検査情報を用いて、ウ
エハ上のパターンの不具合を観察するウエハ観察ツール
である。また、マスクユーザ１とマスクメーカ２との間
を通信可能に接続するネットワーク３には、検査情報転
送用コンピュータ１０と座標変換用コンピュータ１１が
接続される。

【００３２】次に動作について説明する。マスクメーカ
２は、作製したマスクをマスク検査ツール７を使用して
検査し、マスクユーザ１へ納品する。また、このとき行
われたマスク検査の検査結果（マスク上のパターンの不
具合が検出された位置を示す座標値、マスク検査情報
等）は、マスク検査ツール７から検査情報転送用コンピ
ュータ１０へ入力され、例えば、マスクユーザ１へ当該
マスクを納品するとき、検査情報転送用コンピュータ１
０からネットワーク３を介して、マスクユーザ１が備え
る座標変換用コンピュータ１１へ送られる。

【００３３】マスクメーカ２からマスクが納品されたマ
スクユーザ１は、このマスクを用いてウエハを作製す
る。このウエハはウエハ検査装置４で検査が行われ、検
出された不具合箇所の位置を示す座標値とウエハ検査情
報とを検査データ管理コンピュータ１２へ入力し管理さ
せる。この後、検査データ管理コンピュータ１２は、適
宜、管理するウエハ上のパターンの不具合箇所の位置を
示す座標値とウエハ検査情報とを、座標変換用コンピュ
ータ１１へ入力する。

【００３４】座標用変換コンピュータ１１で行われる変
換は、実施の形態１で説明した座標変換コンピュータ６
の処理動作と基本的に同様で、自ら備える座標変換用ソ
フトウエアを用いて、ウエハ検査装置４によって検出さ
れたウエハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標
値と、ウエハ検査で使用したウエハ検査情報と、ネット
ワーク３を介して検査情報転送用コンピュータ１０から
送信されたマスク検査ツール７によって検出されたマス
ク上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値と、マ
スク検査で使用したマスク検査情報とに基づいて行わ
れ、ウエハ検査装置４から出力されたマスク上のパター
ンの不具合箇所の位置を示す座標値を、マスク検査ツー
ル７で使用した座標系の座標値へ変換する。

【００３５】座標変換用コンピュータ１１は、上記変換
した座標値を、マスク検査ツール７が検出した不具合箇
所、即ち、マスク納品前にマスクメーカ２が行った修正
箇所の座標値と比較・照合する。その結果、座標値が一
致する場合には、納品前に行われたマスクの不具合箇所
の修正が適切に行われなかったことがわかり、そのた
め、ウエハ上に形成された回路パターンに不具合が生じ
たと考えられる。このようにして、マスクユーザ１は、
ウエハ上で検出された不具合が何を原因としているかを
解析し、マスクの不具合箇所、解析結果等をマスクメー
カ２へ伝え、マスクの不具合箇所に対策を施す。

【００３６】上記説明では、ウエハ検査装置４で検出さ
れたウエハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標
値を、マスク検査ツール７のマスク検査情報に対応する
座標値へ変換したが、座標変換用コンピュータ１１にお
いて、マスク検査ツール７で検出されたマスク上のパタ
ーンの不具合箇所の位置を示す座標値を、ウエハ検査装
置４のウエハ検査情報に対応する座標値へ変換し、ウエ
ハ検査装置４で検出されたウエハ上のパターンの不具合
箇所の位置を示す座標値と比較・照合するようにしても
よい。

【００３７】また、座標変換用コンピュータ１１は、ウ
エハ検査装置４が検出した不具合箇所の座標値をマスク
観察ツール１４、またはマスク検査ツール１３において
使用した座標値へ変換を行う。この変換処理は、検査デ
ータ管理コンピュータ１２から取得するウエハ検査情報
と、マスク検査ツール１３、またはマスク観察ツール１
４から取得するマスク検査情報とに基づいて、ウエハ検
査装置４が検出したウエハ上のパターンの不具合箇所の
位置を示す座標値を、マスク観察ツール１４、またはマ
スク検査ツール１３で使用する座標系の座標値へ変換す
るものである。この変換された座標値を用い、必要に応
じてマスク検査ツール１３、またはマスク観察ツール１
４を使用して当該マスクの検査、または観察を行い不具
合箇所の解析を行う。このようにして、マスクユーザ２
はウエハ検査で検出した不具合の原因は、マスクが有す
る不具合か否かを解析して、マスクの不具合箇所の修正
を必要な情報を揃えてマスクメーカ２へ依頼する。

【００３８】また、座標変換用コンピュータ１１は、検
査情報転送用コンピュータ１０から送信される、マスク
検査ツール７で検出された不具合箇所の座標値を、マス
ク観察ツール１４、マスク検査ツール１３、ウエハ検査
装置４、またはウエハ観察ツール３０で使用できる座標
値に変換することもできる。このようにすると、マスク
ユーザ１は、納品前にマスクメーカ２が行ったマスク検
査で検出された不具合箇所を、自ら検査、または観察す
ることができ、納品されたマスクについて現物確認する
ことができ、また、マスク検査で検出された不具合個所
のウエハ上のパターンの変化を確認することができる。
また、前記説明のウエハ検査装置４が検出した不具合箇
所と、マスク検査ツール７が検出した不具合箇所の比較
・照合により一致した箇所を示す座標値を、さらにマス
ク検査ツール１３、またはマスク観察ツール１４で使用
できる座標値へ変換し、マスク検査ツール１３、または
マスク観察ツール１４を使用し、自ら検査、または観察
を行い不具合の原因について解析することもできる。な
お、マスクメーカ２が備えるマスク検査ツール７で使用
したマスク検査情報と、マスクユーザ１が備えるマスク
検査ツール１３、またはマスク観察ツール１４で使用す
るマスク検査情報が同じ場合、即ち、同じ座標系を使用
して座標値を扱う場合は、前記座標変換コンピュータ１
１による座標値の変換を行わずに、マスク検査ツール７
から出力されるマスク上のパターンの不具合箇所の座標
値を用いてマスク検査ツール１３、またはマスク観察ツ
ール１４で当該マスクを観察、検査することができる。

【００３９】以上のように、この実施の形態２によれ
ば、ウエハ検査装置４が検出したウエハ上のパターンの
不具合箇所の位置を示す座標値を、マスク検査ツール７
を使用して納品前に行ったマスク検査で検出したマスク
上のパターンの不具合箇所を示す座標値と比較・照合す
るようにしたので、ウエハ検査で検出された不具合箇所
が、納品前に行われたマスクの欠陥修正箇所であるかが
容易に判断できるという効果がある。

【００４０】また、マスクユーザ１のウエハ検査装置４
でウエハ検査を行い、検出された不具合箇所の座標値
を、座標変換用コンピュータ１１で座標変換し、マスク
観察ツール１４で観察、またはマスク検査ツール１３で
検査するようにしたので、マスクユーザ１においてマス
クの不具合箇所を観察し、不具合の解析をすることがで
き、容易に早くマスクの不具合の要因を推測判断するこ
とができるという効果がある。

【００４１】また、マスクメーカ２が、マスクを納品す
るときに検査情報転送用コンピュータ１０からマスク検
査ツール７によって検出されたマスクの不具合箇所を示
す座標値を座標変換用コンピュータ１１へ送るようにし
たので、マスクユーザ１はウエハ検査で不具合が検出さ
れた場合の対応の効率を向上させることができるという
効果がある。

【００４２】実施の形態３．図３は実施の形態１で説明
した座標変換用コンピュータ６、または実施の形態２で
説明した座標変換用コンピュータ１１で使用される座標
変換用ソフトウエアの構成、即ち、座標変換用コンピュ
ータ６，１１の制御内容を示した説明図である。この制
御内容は次のように大きく分けられる。 ウエハ上の座標をミラー反転させる。 ウエハ検査で用いた座標の原点と、マスク検査また
は観察で用いる座標の原点との位置関係について生じる
オフセットを、次のi)に例示した内容に基づいて、また
ii) ，iii)に例示した取得内容を加味して求める。 i) ウエハ上の座標の原点位置について、マスク上で対
応する位置を求める。 ii) ウエハパターン形成時の転写露光のローテーショ
ンや、縮小率あるいは倍率を取得する。 iii) マスクパターンのシュリンク率を取得する。 なお、これらi)〜iii)に例示した内容の処理順番は、こ
こに記載した順番に限定されるものではない。 ウエハ検査で検出された不具合個所を示す座標値
を、座標原点のオフセットを加味してマスク検査で用い
られる座標系の対応する座標値へ変換する。 ウエハ検査で検出されで変換された座標値と、マ
スク検査時に検出された不具合個所を示す座標値との比
較・照合を行う。 マスク検査で検出された不具合個所を示す座標値
を、座標原点のオフセットを加味してウエハ検査装置、
ウエハ観察ツールで用いられる座標系の対応する座標値
に変換する。

【００４３】の処理は、図３に示した入力情報１の
「ウエハ検査情報（座標軸方向と座標原点）」と、入力
情報２の「ウエハ検査結果（ウエハ検査による検出結
果）」とが入力され、これらについてミラー反転処理が
行われる。の処理は、図３に示した入力情報３の「マ
スク検査情報（座標軸方向、座標原点）」、入力情報５
の「露光情報（ローテーション、倍率、シュリンク
率）」が入力され、マスク検査で用いられる座標原点の
オフセットを求める。の処理では、座標原点のオフセ
ット等を考慮して入力情報２の「ウエハ検査結果」につ
いて座標変換が行われ、出力情報１の「ウエハ検査の検
出座標値のマスク上対応座標値」が出力される。の処
理では、図３に示した入力情報４の「マスク検査結果
（検出座標値、欠陥タイプ、欠陥修正状況）」との処
理で得られた座標値との比較・照合によりこれらの座標
値が同一か否かを判定し、図３に示した出力情報２の
「マスク検査検出箇所とウエハ検査検出箇所の比較・照
合結果」として出力される。また、の処理では、の
処理で得られた座標原点のオフセットを考慮して図３に
示した入力情報４の「マスク検査結果」について座標変
換が行われ、出力情報３の「マスク検査の検出座標変換
値のウエハ上対応座標値」が得られる。

【００４４】以上のように、実施の形態３によれば、ウ
エハ検査で検出したウエハ上のパターンの不具合箇所の
位置を示す座標値を、ウエハ検査情報、マスク検査情
報、及び露光情報に基づいてマスク検査、またはマスク
観察で用いるマスク上の座標値に変換するようにしたの
で、ウエハ検査で検出されたウエハ上のパターンの不具
合箇所を、正確に効率よくマスク上の座標値に変換で
き、マスク不具合を早期に究明、解決し半導体製品の歩
留まりを改善できるという効果がある。また、マスク検
査で検出したマスク上のパターンの不具合個所の位置を
示す座標値をマスク検査情報及び露光情報に基づいてウ
エハ検査、またはウエハ観察に用いるウエハ上の座標値
に変換するようにしたので、マスク上のパターンの不具
合によるウエハ上の不具合を早期に解析することができ
る。

【００４５】実施の形態４．図４は、この実施の形態４
によるフォトマスク外観検証システムを示す構成図であ
る。実施の形態１で説明した図１と同様または相当する
部分には同じ符号を用い、その説明を省略する。図４
（Ａ）において、２０はマスクユーザ１が備えるマスク
のパターンをデザインするＣＡＤ装置（図示省略）のデ
ータを照査するＣＡＤデータ照査ツール（ＣＡＤデータ
照査手段）である。また、図４（Ｂ）において、２１は
マスクメーカ２が備えるマスクのパターンをデザインす
るＣＡＤ装置（図示省略）のデータを照査するＣＡＤデ
ータ照査ツール（ＣＡＤデータ照査手段）である。

【００４６】次に動作について説明する。図４（Ａ），
（Ｂ）に示したフォトマスク外観検証システムは、座標
変換用コンピュータ６によって、マスクをデザインした
ＣＡＤデータからオフセット量を求め座標変換が行われ
る他は、実施の形態１で説明したフォトマスク外観検証
システムと同様の動作を行うもので、その説明を省略す
る。図４（Ａ）に示したフォトマスク外観検証システム
は、マスクユーザ１にＣＡＤデータ照査ツール２０を備
え、これをネットワーク３に接続させたものである。Ｃ
ＡＤデータ照査ツール２０は、ＣＡＤデータを構成する
座標データを抽出するソフトウエアを搭載したものであ
る。このＣＡＤデータ照査ツール２０を使用して、マス
クのＣＡＤデータから、例えばマスクのＣＡＤデータを
デザインする際に使用した原点を示す座標データを抽出
する。この座標原点を示すデータを使用して、実施の形
態３で説明したウエハ検査情報に含まれる座標原点とマ
スク検査情報に含まれる座標原点とのオフセット量を所
定の計算で求める。

【００４７】座標変換用コンピュータ６は、ＣＡＤデー
タに含まれる座標原点とウエハ検査情報に含まれる座標
原点との差異を算出し、また、ＣＡＤデータに含まれる
座標原点とマスク検査情報に含まれる座標原点との差異
を算出する。こうして算出された値を用い、ＣＡＤデー
タに含まれる座標原点を基準にして、ウエハ検査情報に
含まれる座標原点とマスク検査情報に含まれる座標原点
との差異を絶対量として表すことができる。この絶対量
を算出してオフセット量とし所定のデータ処理を行い、
座標変換処理を行う。

【００４８】図４（Ｂ）に示したフォトマスク外観検証
システムは、マスクメーカ２に備えられたＣＡＤデータ
照査ツール２１によってマスクパターンのＣＡＤデータ
から、例えば、マスクのＣＡＤデータをデザインする際
に使用した座標原点を抽出するもので、図４（Ａ）に示
したＣＡＤデータ照査ツール２０と同様な作用効果が得
られるものである。また、座標変換用コンピュータ６で
行われるウエハ検査情報に含まれる座標原点と、マスク
検査情報に含まれる座標原点のオフセットを求める計算
処理も同様である。図４（Ｂ）では、ＣＡＤデータ照査
ツール２１がネットワーク３へ接続されているが、同様
の作用効果が得られるように、ネットワーク３を介する
ことなく専用線で座標変換用コンピュータ６へ接続する
ように構成してもよい。

【００４９】以上のように、実施の形態４によれば、Ｃ
ＡＤデータ照査ツール２０，２１によって抽出されたＣ
ＡＤデータに含まれる座標原点を用いて、ウエハ検査情
報に含まれる座標原点とマスク検査情報に含まれる座標
原点とのオフセット量を算出するようにしたので、座標
変換用コンピュータ６に所定の計算を実行させることで
自動的にオフセット量が求められるという効果が得られ
る。

【００５０】

【発明の効果】以上のように、この発明によれば、フォ
トマスクを用いてウエハを作製するフォトマスクユーザ
が、作製したウエハを検査するウエハ検査手段と、ウエ
ハ検査手段が検出したウエハ上のパターンの不具合箇所
の位置を示す座標値と、ウエハ検査手段で使用したウエ
ハ検査情報とをフォトマスクメーカへ送信する検査デー
タ管理手段とを備え、フォトマスクメーカに、送信した
座標値とウエハ検査情報に基づいて、フォトマスクの不
具合箇所を観察させるようにしたので、フォトマスクの
不具合発生原因を推測し速やかに対策を検討することが
でき、フォトマスク改善を早期に行うことができるとい
う効果がある。

【００５１】この発明によれば、フォトマスクを製造す
るフォトマスクメーカが、製造したフォトマスクを検査
するフォトマスク検査手段と、フォトマスクユーザによ
るウエハ検査で検出されたウエハ上のパターンの不具合
箇所の位置を示す座標値とウエハ検査で使用したウエハ
検査情報とを受信し、フォトマスク検査手段で使用した
フォトマスク検査情報と受信したウエハ検査情報とに基
づいて、受信した座標値を、フォトマスク上のパターン
の不具合箇所の位置を示す座標値に変換する座標変換手
段と、座標変換手段により変換された座標値に基づいて
フォトマスクを観察するフォトマスク観察手段とを備え
たので、フォトマスクの不具合発生原因を推測し速やか
に対策を検討することができ、フォトマスク改善を早期
に行うことができるという効果がある。

【００５２】この発明によれば、座標変換手段が、フォ
トマスク検査手段が検出したフォトマスク上のパターン
の不具合箇所の位置を示す座標値と、フォトマスク上の
座標値に変換したウエハ上のパターンの不具合箇所の位
置を示す座標値とを比較照合し、フォトマスク観察手段
が座標変換手段による比較照合結果を表示するようにし
たので、フォトマスクの不具合発生原因を推測し速やか
に対策を検討することができ、フォトマスク改善を早期
に行うことができるという効果がある。

【００５３】この発明によれば、フォトマスクを製造す
るフォトマスクメーカが、製造したフォトマスクを検査
するフォトマスク検査手段と、フォトマスク検査手段が
検出したフォトマスク上のパターンの不具合箇所の位置
を示す座標値と、フォトマスク検査手段で使用したフォ
トマスク検査情報とをフォトマスクユーザに送信する検
査情報転送手段とを備え、フォトマスクユーザに、送信
した座標値とフォトマスク検査情報を用いて、フォトマ
スクを検査させるようにしたので、フォトマスクの不具
合発生原因を推測し速やかに対策を検討することがで
き、フォトマスク改善を早期に行うことができるという
効果がある。

【００５４】この発明によれば、フォトマスクを用いて
ウェハを作製するフォトマスクユーザが、作製したウエ
ハを検査するウエハ検査手段と、ウエハ検査手段が検出
したウエハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標
値と、ウエハ検査手段で使用したウエハ検査情報とを管
理する検査データ管理手段と、フォトマスクメーカによ
るフォトマスク検査で検出されたフォトマスク上のパタ
ーンの不具合箇所の位置を示す座標値とフォトマスク検
査で使用したフォトマスク検査情報とを受信し、検査デ
ータ管理手段が管理する座標値とウエハ検査情報とを取
得し、受信したフォトマスク検査情報と取得したウエハ
検査情報とに基づいて座標変換を行い、ウエハ検査手段
が検出した座標値とフォトマスク検査で検出された座標
値とを比較照合する座標変換手段とを備えたので、フォ
トマスクの不具合発生原因を推測し速やかに対策を検討
することができ、フォトマスク改善を早期に行うことが
できるという効果がある。

【００５５】この発明によれば、フォトマスクユーザ
が、フォトマスク上のパターンの不具合箇所を観察する
フォトマスク観察手段を備え、座標変換手段が、検査デ
ータ管理手段が管理する座標値とウエハ検査情報とを取
得し、取得したウエハ検査情報に基づいて、取得した座
標値をフォトマスク観察手段が観察するフォトマスク上
のパターンの座標値に変換するようにしたので、フォト
マスクの不具合発生原因を推測し速やかに対策を検討す
ることができ、フォトマスク改善を早期に行うことがで
きるという効果がある。

【００５６】この発明によれば、座標変換手段が、ウエ
ハ検査情報に含まれる座標原点とフォトマスク検査情報
に含まれる座標原点についてのオフセット量を求め、こ
のオフセット量を加味して座標変換を行うようにしたの
で、ウエハ検査によって検出したウエハ上のパターンの
不具合箇所を示す座標値を正確にマスク上の座標値に変
換することができるという効果がある。

【００５７】この発明によれば、フォトマスク上のパタ
ーンをデザインしたＣＡＤデータから座標データを抽出
するＣＡＤデータ照査手段を備え、座標変換手段が、Ｃ
ＡＤデータ照査手段が抽出した座標データを用いてオフ
セット量を求めるようにしたので、オフセット量を自動
的に計算で求めることができるという効果がある。

【００５８】この発明によれば、フォトマスクを用いて
ウェハを作製するフォトマスクユーザが、フォトマスク
上のパターンの不具合箇所を観察するフォトマスク観察
手段と、フォトマスクメーカによるフォトマスク検査で
検出されたフォトマスク上のパターンの不具合箇所の位
置を示す座標値とフォトマスク検査で使用したフォトマ
スク検査情報とを受信し、受信したフォトマスク検査情
報に基づいて、受信した座標値をフォトマスク観察手段
が観察するフォトマスク上のパターンの座標値に変換す
る座標変換手段とを備えたので、フォトマスクの不具合
発生原因を推測し速やかに対策を検討することができ、
フォトマスク改善を早期に行うことができるという効果
がある。

【００５９】この発明によれば、フォトマスクユーザが
フォトマスクを用いて作製したウエハを検査する過程
と、フォトマスクユーザが検査過程で検出したウエハ上
のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値と検査過程
で使用したウエハ検査情報とをフォトマスクメーカへ送
信する過程と、フォトマスクメーカに、送信した座標値
とウエハ検査情報に基づいて、フォトマスクの不具合箇
所を観察させる過程とを備えたので、フォトマスクの不
具合発生原因を推測し速やかに対策を検討することがで
き、フォトマスク改善を早期に行うことができるという
効果がある。

【００６０】この発明によれば、フォトマスクメーカが
製造したフォトマスクを検査する過程と、フォトマスク
を用いてウエハを作製したフォトマスクユーザによるウ
エハ検査で検出されたウエハ上のパターンの不具合箇所
の位置を示す座標値とウエハ検査で使用したウエハ検査
情報とを受信し、フォトマスクの検査過程で使用したフ
ォトマスク検査情報と受信したウエハ検査情報とに基づ
いて、受信した座標値をフォトマスク上のパターン不具
合箇所の位置を示す座標値に変換する過程と、変換され
た座標値に基づいてフォトマスクを観察する過程とを備
えたので、フォトマスクの不具合発生原因を推測し速や
かに対策を検討することができ、フォトマスク改善を早
期に行うことができるという効果がある。

【図面の簡単な説明】

【図１】 この発明の実施の形態１によるフォトマスク
外観検証システムを示す構成図である。

【図２】 この発明の実施の形態２によるフォトマスク
外観検証システムを示す構成図である。

【図３】 この発明の実施の形態３による座標変換用コ
ンピュータで用いられる制御内容を示す説明図である。

【図４】 この発明の実施の形態４によるフォトマスク
外観検証システムを示す構成図である。

【図５】 従来のウエハ検査で用いる座標値を、マスク
検査で用いる座標値へ変換する方法を示した説明図であ
る。

【符号の説明】

１ マスクユーザ（フォトマスクユーザ）、２ マスク
メーカ（フォトマスクメーカ）、３ ネットワーク、４
ウエハ検査装置（ウエハ検査手段）、５ 検査データ
管理コンピュータ（検査データ管理手段）、６ 座標変
換用コンピュータ（座標変換手段）、７ マスク検査ツ
ール（フォトマスク検査手段）、８ マスク観察ツール
（フォトマスク観察手段）、１０ 検査情報転送用コン
ピュータ（検査情報転送手段）、１１ 座標変換用コン
ピュータ（座標変換手段）、１２検査データ管理コンピ
ュータ（検査データ管理手段）、１３ マスク検査ツー
ル、１４ マスク観察ツール（フォトマスク観察手
段）、２０，２１ ＣＡＤデータ照査ツール（ＣＡＤデ
ータ照査手段）。

Claims (11)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 フォトマスクを製造するフォトマスクメ
   ーカとの間で、ネットワークを介して情報通信を行い前
   記フォトマスクを検証するフォトマスク外観検証システ
   ムであって、 前記フォトマスクを用いてウェハを作製するフォトマス
   クユーザは、 作製したウエハを検査するウエハ検査手段と、 前記ウエハ検査手段が検出した前記ウエハ上のパターン
   の不具合箇所の位置を示す座標値と、前記ウエハ検査手
   段で使用したウエハ検査情報とを前記フォトマスクメー
   カへ送信する検査データ管理手段とを備え、 前記フォトマスクメーカに、送信した前記座標値と前記
   ウエハ検査情報に基づいて、前記フォトマスクの不具合
   箇所を観察させることを特徴とするフォトマスク外観検
   証システム。
2. 【請求項２】 フォトマスクを用いてウェハを作製する
   フォトマスクユーザとの間で、ネットワークを介して情
   報通信を行い前記フォトマスクを検証するフォトマスク
   外観検証システムであって、 前記フォトマスクを製造するフォトマスクメーカは、 製造したフォトマスクを検査するフォトマスク検査手段
   と、 前記フォトマスクユーザによるウエハ検査で検出された
   ウエハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値と
   前記ウエハ検査で使用したウエハ検査情報とを受信し、
   前記フォトマスク検査手段で使用したフォトマスク検査
   情報と受信した前記ウエハ検査情報とに基づいて、受信
   した前記座標値を、前記フォトマスク上のパターンの不
   具合箇所の位置を示す座標値に変換する座標変換手段
   と、 前記座標変換手段により変換された座標値に基づいてフ
   ォトマスクを観察するフォトマスク観察手段とを備えた
   ことを特徴とするフォトマスク外観検証システム。
3. 【請求項３】 座標変換手段は、フォトマスク検査手段
   が検出したフォトマスク上のパターンの不具合箇所の位
   置を示す座標値と、前記フォトマスク上の座標値に変換
   したウエハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標
   値とを比較照合し、フォトマスク観察手段は前記座標変
   換手段による比較照合結果を表示することを特徴とする
   請求項２記載のフォトマスク外観検証システム。
4. 【請求項４】 フォトマスクを用いてウェハを作製する
   フォトマスクユーザとの間で、ネットワークを介して情
   報通信を行い前記フォトマスクを検証するフォトマスク
   外観検証システムであって、 前記フォトマスクを製造するフォトマスクメーカは、 製造したフォトマスクを検査するフォトマスク検査手段
   と、 前記フォトマスク検査手段が検出した前記フォトマスク
   上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値と、前記
   フォトマスク検査手段で使用したフォトマスク検査情報
   とを前記フォトマスクユーザに送信する検査情報転送手
   段とを備え、 前記フォトマスクユーザに、送信した前記座標値と前記
   フォトマスク検査情報を用いて、前記フォトマスクを検
   査させることを特徴とするフォトマスク外観検証システ
   ム。
5. 【請求項５】 フォトマスクを製造するフォトマスクメ
   ーカとの間で、ネットワークを介して情報通信を行い前
   記フォトマスクを検証するフォトマスク外観検証システ
   ムであって、 前記フォトマスクを用いてウェハを作製するフォトマス
   クユーザは、 作製したウエハを検査するウエハ検査手段と、 前記ウエハ検査手段が検出した前記ウエハ上のパターン
   の不具合箇所の位置を示す座標値と、前記ウエハ検査手
   段で使用したウエハ検査情報とを管理する検査データ管
   理手段と、 前記フォトマスクメーカによるフォトマスク検査で検出
   された前記フォトマスク上のパターンの不具合箇所の位
   置を示す座標値と前記フォトマスク検査で使用したフォ
   トマスク検査情報とを受信し、前記検査データ管理手段
   が管理する前記座標値と前記ウエハ検査情報とを取得
   し、受信した前記フォトマスク検査情報と取得した前記
   ウエハ検査情報とに基づいて座標変換を行い、前記ウエ
   ハ検査手段が検出した座標値と前記フォトマスク検査で
   検出された座標値とを比較照合する座標変換手段とを備
   えたことを特徴とするフォトマスク外観検証システム。
6. 【請求項６】 フォトマスクユーザは、フォトマスク上
   のパターンの不具合箇所を観察するフォトマスク観察手
   段を備え、 座標変換手段は、検査データ管理手段が管理する座標値
   とウエハ検査情報とを取得し、取得した前記ウエハ検査
   情報に基づいて、取得した前記座標値を前記フォトマス
   ク観察手段が観察するフォトマスク上のパターンの座標
   値に変換することを特徴とする請求項５記載のフォトマ
   スク外観検証システム。
7. 【請求項７】 座標変換手段は、ウエハ検査情報に含ま
   れる座標原点とフォトマスク検査情報に含まれる座標原
   点についてのオフセット量を求め、このオフセット量を
   加味して座標変換を行うことを特徴とする請求項２また
   は請求項５記載のフォトマスク外観検証システム。
8. 【請求項８】 フォトマスク上のパターンをデザインし
   たＣＡＤデータから座標データを抽出するＣＡＤデータ
   照査手段を備え、 座標変換手段は、前記ＣＡＤデータ照査手段が抽出した
   座標データを用いてオフセット量を求めることを特徴と
   する請求項７記載のフォトマスク外観検証システム。
9. 【請求項９】 フォトマスクを製造するフォトマスクメ
   ーカとの間で、ネットワークを介して情報通信を行い前
   記フォトマスクを検証するフォトマスク外観検証システ
   ムであって、 前記フォトマスクを用いてウェハを作製するフォトマス
   クユーザは、 フォトマスク上のパターンの不具合箇所を観察するフォ
   トマスク観察手段と、 前記フォトマスクメーカによるフォトマスク検査で検出
   された前記フォトマスク上のパターンの不具合箇所の位
   置を示す座標値と前記フォトマスク検査で使用したフォ
   トマスク検査情報とを受信し、受信した前記フォトマス
   ク検査情報に基づいて、受信した前記座標値を前記フォ
   トマスク観察手段が観察するフォトマスク上のパターン
   の座標値に変換する座標変換手段とを備えたことを特徴
   とするフォトマスク外観検証システム。
10. 【請求項１０】 フォトマスクユーザがフォトマスクを
    用いて作製したウエハを検査する過程と、 前記フォトマスクユーザが前記検査過程で検出したウエ
    ハ上のパターンの不具合箇所の位置を示す座標値と前記
    検査過程で使用したウエハ検査情報とをフォトマスクメ
    ーカへ送信する過程と、 前記フォトマスクメーカに、送信した前記座標値と前記
    ウエハ検査情報に基づいて、前記フォトマスクの不具合
    箇所を観察させる過程とを備えたフォトマスク外観検証
    方法。
11. 【請求項１１】 フォトマスクメーカが製造したフォト
    マスクを検査する過程と、 フォトマスクを用いてウェハを作製したフォトマスクユ
    ーザによるウエハ検査で検出されたウエハ上のパターン
    の不具合箇所の位置を示す座標値と前記ウエハ検査で使
    用したウエハ検査情報とを受信し、前記フォトマスクの
    検査過程で使用したフォトマスク検査情報と受信した前
    記ウエハ検査情報とに基づいて、受信した前記座標値を
    フォトマスク上のパターン不具合箇所の位置を示す座標
    値に変換する過程と、 前記変換された座標値に基づいてフォトマスクを観察す
    る過程とを備えたフォトマスク外観検証方法。