JP2003100854A - 基板処理装置 - Google Patents

基板処理装置

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JP2003100854A
JP2003100854A JP2001295316A JP2001295316A JP2003100854A JP 2003100854 A JP2003100854 A JP 2003100854A JP 2001295316 A JP2001295316 A JP 2001295316A JP 2001295316 A JP2001295316 A JP 2001295316A JP 2003100854 A JP2003100854 A JP 2003100854A
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JP2001295316A
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English (en)
Inventor
Hitoshi Ehata
均 江畑
Hiroshi Furuya
弘 古谷
Seiichi Nakazawa
誠一 中澤
Takashi Tsugawa
孝志 津川
Hiroaki Abe
浩明 阿部
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Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Machine Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 的確な処理を可能とすると共に、保持部材自
体及び保持部材に付属する部分を含む装置構成の複雑化
を招くことなく、平板状の保持部材に対する基板の載置
と取出しを的確に行うことを可能にする。 【解決手段】 平板状の保持部材20は、主保持部材2
1と複数の副保持部材22とからなっている。副保持部
材22は、載置される基板23の外周部の複数箇所に対
応させて主保持部材21の表面に設けられた凹部21A
内に出入自在に埋設されている。副保持部材22は、ロ
ボットアーム25により上下等に移動される吸引パイプ
26等からなる駆動手段により凹部21A内から持ち上
げられ、基板23を持ち上げる。副保持部材22により
持ち上げられた基板23は、搬送用ハンド29のツメ部
32Aにより支持され、ロボットアーム25の移動によ
り搬送される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコンまたはガ
ラス等からなる半導体製造用の基板を平板状の保持部材
上に載置して処理する基板処理装置に係り、特に保持部
材による基板の保持、並びに保持部材に対する載置及び
取出しのための改良に関する。
【0002】
【従来の技術】例えば、気相成長装置は、図5に示すよ
うな平板状の保持部材としてのサセプタ10の上に基板
としてのウエーハ11を載置し、図示しない加熱装置に
よりサセプタ10と共にウエーハ11を加熱し、ウエー
ハ11の表面に沿って反応ガスを流すことにより、ウエ
ーハ11の表面に薄膜を気相成長させる。
【0003】従来、このような半導体製造用の基板を平
板状の保持部材上に載置して処理する基板処理装置にお
いて、図5に示すように、載置されるウエーハ11の外
周部の複数箇所に対応させてサセプタ10の表面に逃げ
溝12を設け、ロボットのアーム13の先端に取り付け
られたハンド14のフィンガ15の先端に設けられたツ
メ部15Aを逃げ溝12に出入させると共に、リンク1
6を介して開閉駆動部17によりフィンガ15を開閉さ
せてサセプタ10に対するウエーハ11の載置と取出し
を行うものがある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】この従来装置は、逃げ
溝12の部分ではウエーハ11の加熱が弱くなるため、
ウエーハ全体の均一加熱ができず、得られる膜厚分布が
不均一になる。また、反応ガスが逃げ溝12内に流入し
てウエーハ11の裏面に回り込むため、いわゆる裏面デ
ポを生じ、これを取り除く工程が必要であり、この裏面
デポがあると、剥離してパーティクルの発生原因とな
り、品質欠陥の原因となる。さらにまた、逃げ溝12内
にもデポを生じてパーティクルの発生原因となり、品質
欠陥の原因となる。
【0005】なお、サセプタ10の表面に逃げ溝12を
設けることなく、サセプタ10を貫通して上下に伸びる
複数のピン等によりウエーハ11をサセプタ10に対し
て昇降させてサセプタ10に対するウエーハ11の載置
と取出しを行うものがあるが、この方式は、サセプタ1
0の近傍に複雑な機構を組み込む必要があり、特に気相
成長のようにサセプタ10を加熱する方式の基板処理装
置への採用には、種々の配慮が必要であった。
【0006】本発明は、前述したような逃げ溝による欠
点を除去し、的確な処理を可能とすると共に、サセプタ
のような保持部材自体及び保持部材に付属する部分を含
む装置構成の複雑化を招くことなく、平板状の保持部材
に対する基板の載置と取出しを的確に行い得る基板処理
装置を提供することを目的としている。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
の本発明は、半導体製造用の基板を平板状の保持部材上
に載置して処理する基板処理装置において、前記保持部
材は、前記基板を載置するための平板状の主保持部材
と、この主保持部材上に載置される基板の外周部の複数
箇所に対応させて前記基板の外周を横切るように前記主
保持部材に埋設された駒状の副保持部材とからなり、前
記副保持部材は、少なくとも前記基板の内側に向かう内
方端側の一部の表面が主保持部材の表面と面一に形成さ
れると共に、この内方端側の一部で前記基板の裏面外周
部を支持可能に形成され、前記副保持部材の外方端側が
前記基板の外方に伸び、かつ少なくとも前記内方端側が
主保持部材の表面から突出可能に埋設され、さらに、前
記副保持部材の上方にあって少なくとも前記副保持部材
の前記内方端側を主保持部材の表面から突出させるため
の駆動手段と、前記副保持部材の前記内方端側の突出に
より主保持部材から持ち上げられた基板の外周部を係脱
可能に支持するための搬送用ハンドと、を有することを
特徴としている。
【0008】この基板処理装置は、保持部材が、平板状
の主保持部材とこれに埋設された駒状の副保持部材とか
らなり、基板を載置する部分の表面に従来装置の逃げ溝
のような凹部を有しないため、基板を加熱する場合に
は、基板をより均一に加熱することが可能になり、ま
た、反応ガスなどの処理ガスが基板の裏面に回り込んだ
り、凹部内に流れ込んだりすることがなく、基板及び保
持部材の表面に沿って円滑に流れ、より的確な処理を可
能にする。
【0009】また、保持部材は、平板状の主保持部材と
これに埋設された駒状の副保持部材とからなる簡単な構
成であり、保持部材に対する基板の載置と取出しは、副
保持部材の上方にある駆動手段と、搬送用ハンドにより
的確に行われる。
【0010】なお、前記副保持部材は、前記主保持部材
に出入自在に埋設されていてもよく、この場合には、前
記駆動手段は、前記副保持部材の前記外方端側を真空吸
着して昇降する吸引部材を有するものとすることがで
き、また、前記吸引部材は、前記基板の横ずれを防止す
るため、前記基板の外周に対してわずかな隙間を有する
ように配置されていることが好ましく、さらに、前記搬
送用ハンドは、前記駆動手段に対して昇降可能に取り付
けられていてもよい。
【0011】また、前記副保持部材は、前記外方端側を
押し込むことにより前記内方端側が前記主保持部材の表
面から突出すべく傾動自在に埋設されていてもよく、こ
の場合には、前記駆動手段は、前記副保持部材の前記外
方端側を押し込むための棒状部材を有するものとするこ
とができ、また、前記搬送用ハンドは、前記駆動手段に
対して開閉のみ可能に取り付けられていてもよい。
【0012】さらにまた、前記副保持部材は、基板の横
滑りを防ぐため、前記基板の外周を受け止める突起を備
えていることが好ましい。
【0013】
【発明の実施の形態】以下本発明の第一の実施形態につ
いて図1ないし図2を参照して説明する。20は、平板
状の保持部材であり、主保持部材21と副保持部材22
とからなっている。主保持部材21の表面(図1におい
て上面)には、その上に載置される基板23の外周部に
対応する複数の箇所に、基板21の外周を横切るように
凹部21Aが設けられている。この凹部21Aは、基板
23の内側に向かう内方端側が基板23の裏面外周部ま
で伸び、これとは逆の外方端側は基板23の外方まで伸
びている。
【0014】この凹部21A内には、駒状の副保持部材
22が出入自在に埋設されている。副保持部材22は、
主保持部材21と同じ材質であることが好ましいが、他
の材質でもよく、かつ、凹部21A内に埋設された状態
で、表面(図1において上面)が、主保持部材21の表
面と面一に形成されている。
【0015】24は、駆動手段を構成する駆動用プレー
トであり、本体部分は図示省略したロボットのアーム
(以下、ロボットアームという)25に取り付けられて
いる。駆動用プレート24には、凹部21A内に埋設さ
れた副保持部材22の外方端側の表面に対向するよう
に、吸引部材としての複数本の吸引パイプ26が、図1
において下向きに取り付けられている。吸引パイプ26
の元端は、可撓性を有するホース27により図示省略し
た真空ポンプに接続されている。
【0016】これらの吸引パイプ26は、それぞれが基
板23の外周に対してわずかな隙間を有するように配置
され、基板23の横ずれを防ぐ役目を有するように構成
されている
【0017】また、駆動用プレート24には、昇降装置
28を介して搬送用ハンド29が取り付けられている。
この搬送用ハンド29は、吸引パイプ26のほぼ中央に
配置され、昇降装置28により吸引パイプ26に沿って
昇降される。
【0018】この搬送用ハンド29は、ハンド本体30
と、このハンド本体30にピン31を介して揺動可能に
取り付けられた複数のフィンガ32と、ハンド本体30
に取り付けられた開閉駆動部33と、この開閉駆動部3
3とフィンガ32との間に揺動自在に連結されたリンク
34とからなり、後述するように副保持部材22により
持ち上げられた基板23の裏面外周部を、フィンガ32
の先端に設けられたツメ部32Aにより係脱可能に支持
するように構成されている。
【0019】次いで本装置の作用について説明する。ロ
ボットアーム25を図示省略したロボットの本体部分の
動作により移動させ、駆動用プレート24を主保持部材
21と副保持部材22とからなる保持部材20上に載置
されている基板23の中心上方に位置させる。このと
き、吸引パイプ26が、各副保持部材22の表面にそれ
ぞれ対向し、かつ、図2に示すように、基板23の外周
に対してほぼ等しい隙間を形成するように位置付けされ
る。
【0020】なお、この位置付けは、基板23及び副保
持部材22の位置をロボットに対して既知の位置関係に
置くか、または基板23及び副保持部材22の位置を図
示しないセンサにより検出することなどにより行われ
る。
【0021】こうして、主保持部材21及び副保持部材
22に対する駆動用プレート24及び吸引パイプ26の
位置付けを行った後、ロボットアーム25を主保持部材
21の表面に向けて移動させ、吸引パイプ26の先端を
副保持部材22の外方端側の表面に接触させる。このと
き、搬送用ハンド29は、図1に示すように、上昇位置
に置かれている。
【0022】次いで図示省略した真空ポンプによりホー
ス27を通して吸引パイプ26から空気を吸引し、副保
持部材22を吸引パイプ26の先端に吸着する。次ぎに
ロボットアーム25を所定量上昇させると、副保持部材
22が吸引パイプ26の先端に吸着されて主保持部材2
1の凹部21Aの中から持ち上げられ、基板23を主保
持部材21の表面から所定高さの位置に持ち上げる。
【0023】こうして、基板23を主保持部材21の表
面から所定高さの位置に持ち上げた後、開閉駆動部33
によりフィンガ32を開き、次いで昇降装置28により
搬送用ハンド29を下降させ、フィンガ32の先端のツ
メ部32Aを副保持部材22により持ち上げられている
基板23の下方へ移動させた後、フィンガ32を閉じて
基板23の裏面外周部をツメ部32Aにより支持可能に
する。
【0024】そして、昇降装置28により搬送用ハンド
29を上昇させると、ツメ部32Aが副保持部材22に
より持ち上げられている基板23を副保持部材22から
所定高さに持ち上げる。
【0025】こうして、搬送用ハンド29により基板2
3を支持したところで、ロボットアーム25により駆動
用プレート24を下降させ、副保持部材22を主保持部
材21の凹部21A内へ戻す。これで主及び副保持部材
21、22からなる保持部材20からの基板23の取出
しを終了し、この基板23を図示しない所定の搬出場所
へ搬送する。
【0026】なお、主及び副保持部材21、22上への
基板23の載置は、次ぎのように行われる。すなわち、
図示しない位置に置かれている基板23を、搬送用ハン
ド29のツメ部32Aで支持させると共に、この搬送用
ハンド29を図1に示すように、吸引パイプ26に対す
る上昇位置に置き、ロボットアーム25により駆動用プ
レート24を保持部材20の基板載置位置の上方に移動
させると共に、図1に示すように、吸引パイプ26の先
端を保持部材20の表面に接近させる。
【0027】このとき、必ずしも吸引パイプ26の先端
を副保持部材22の表面に対向させる必要はなく、基板
23の中心が保持部材20上の基板載置位置に合致して
いればよい。この状態でフィンガ32を開くと、基板2
3は吸引パイプ26により横ずれを防止されて保持部材
20上の基板載置位置に載置される。
【0028】次ぎに本発明の第二の実施形態について図
3ないし図4を参照して説明する。この第二の実施形態
は、保持部材120が主保持部材121と副保持部材1
22とからなり、基板23の裏面外周部を支持する副保
持部材122の内方端側のみが主保持部材121の表面
から突出するように構成されている。すなわち、主保持
部材121の凹部121Aは、その底面の外方端側の一
部を外方へ向かって深さが増すように傾斜させ、副保持
部材122の外方端側を押し込んだとき、図4に示すよ
うに、副保持部材122の内方端側のみが主保持部材1
21の表面から突出するように構成されている。
【0029】また、この第二の実施形態では、第一の実
施形態における吸引パイプ26に代えて、副保持部材1
22の外方端側を押し込むための棒状部材35が駆動用
プレート24に取り付けられている。さらにまた、この
第二の実施形態では、第一の実施形態における昇降装置
28とハンド本体30がなく、搬送用ハンド129のフ
ィンガ32はピン31により駆動用プレート24に直接
揺動自在に取り付けられ、開閉駆動部33は駆動用プレ
ート24に固定されている。
【0030】そして、フィンガ32の先端のツメ部32
Aは、図4に示すように、棒状部材35により副保持部
材122の外方端側を押し込んで基板23を持ち上げた
とき、基板23の下方に出入可能な位置となるように配
置されている。
【0031】この第二の実施形態は、棒状部材35と搬
送用ハンド129との相対的な上下動を行うことなし
に、保持部材120に対する基板23の載置及び取出し
が可能である。
【0032】すなわち、保持部材120に載置されてい
る基板23の取出しは、図4に示すように、駆動プレー
ト24を下降させて棒状部材35により副保持部材12
2の外方端側を押し込んで基板23を保持部材120か
ら持ち上げ、次いでフィンガ32を開閉駆動部33によ
り閉じて、ツメ部32Aを基板23の裏面外周部へ挿入
し、この状態で駆動プレート24をロボットアーム25
により上昇及び適宜な位置へ移動させることにより行わ
れる。
【0033】また、保持部材120への基板23の載置
は、図1ないし図2に示した第二の実施形態と同様に、
図示しない位置に置かれている基板23を、搬送用ハン
ド129のツメ部32Aで支持させ、保持部材120の
基板載置位置の上方に移動させると共に、棒状部材35
の先端を保持部材120の表面に接近させる。
【0034】このとき、必ずしも棒状部材35の先端を
副保持部材122の表面に対向させる必要はなく、基板
23の中心が保持部材120上の基板載置位置に合致し
ていればよい。この状態でフィンガ32を開けばよい。
【0035】なお、この第二の実施形態は、搬送用ハン
ド129を駆動用プレート24に対して昇降せず、単
に、開閉のみ可能に取り付けた例を示したが、図示しな
い他の基板保持部や基板収納部との間の基板の授受など
のために、搬送用ハンド129を第一の実施形態におけ
る搬送用ハンド29と同様に、駆動用プレート24に対
して昇降可能に取り付けてもよいことは言うまでもな
い。
【0036】また、この第二の実施形態は、副保持部材
122の表面に突起122Aが設けられている。この突
起122Aは、図3に示すように、基板23を載置した
状態で、基板23の外周にわずかな隙間を置いて対向す
るように設けられており、基板23の横滑りを防止す
る。なお、この突起122Aは、図1ないし図2に示し
た第一の実施形態の副保持部材22に同様に設けてもよ
い。
【0037】本発明は、気相成長装置に限定されること
なく、種々の半導体製造装置に適用することができ、ま
た、前述した第一及び第二の実施形態に限定されること
なく、特許請求の範囲を逸脱しない範囲において種々変
形実施可能であることは言うまでもない。
【0038】
【発明の効果】以上述べたように本発明によれば、基板
を保持するサセプタ等の保持部材が、主保持部材とこの
主保持部材に埋設された副保持部材とにより構成され、
従来装置のような凹部がないため、基板をより均一に加
熱したり、処理ガスの流れを円滑にしたりすることがで
きると共に、裏面デポなどの不都合な反応生成物の堆積
等がなく、的確な処理を行うことができる。
【0039】また、保持部材に対する基板の載置と取出
しは、保持部材の上方に位置する駆動手段と搬送用ハン
ドにより行われるため、保持部材自体及びこの保持部材
に付属する部分を含む装置構成の複雑化を招くことがな
く、かつ平板状の保持部材に対する基板の載置と取出し
を的確に行うことができる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の第一の実施形態を示す一部破断正面
図。
【図2】図1のA−A線による断面図。
【図3】本発明の第二の実施形態を示す一部破断正面
図。
【図4】図3における基板を副保持部材により持ち上げ
た状態を示す一部破断正面図。
【図5】従来の基板処理装置を示す一部破断正面図。
【符号の説明】
20、120 保持部材 21、121 主保持部材 21A、121A 凹部 22、122 副保持部材 23 基板 24 駆動用プレート 25 ロボットアーム 26 吸引パイプ(吸引部材) 27 ホース 28 昇降装置 29、129 搬送用ハンド 30 ハンド本体 32 フィンガ 32A ツメ部 33 開閉駆動部 34 リンク 35 棒状部材 122A 突起。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B25J 15/08 B25J 15/08 K B65G 49/07 B65G 49/07 F (72)発明者 津川 孝志 静岡県沼津市大岡2068−3 東芝機械株式 会社内 (72)発明者 阿部 浩明 静岡県沼津市大岡2068−3 株式会社東芝 機械マイテック沼津内 Fターム(参考) 3C007 AS24 DS02 DS05 ES04 ET08 EV05 EV22 FS01 NS09 NS13 5F031 CA01 CA02 FA01 FA07 FA12 GA14 GA25 GA35 GA38 HA05 HA12 HA32 JA01 JA13 JA22 KA03 KA11 MA28 PA26

Claims (9)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体製造用の基板を平板状の保持部材
    上に載置して処理する基板処理装置において、 前記保持部材は、前記基板を載置するための平板状の主
    保持部材と、この主保持部材上に載置される基板の外周
    部の複数箇所に対応させて前記基板の外周を横切るよう
    に前記主保持部材に埋設された駒状の副保持部材とから
    なり、 前記副保持部材は、少なくとも前記基板の内側に向かう
    内方端側の一部の表面が主保持部材の表面と面一に形成
    されると共に、この内方端側の一部で前記基板の裏面外
    周部を支持可能に形成され、前記副保持部材の外方端側
    が前記基板の外方に伸び、かつ少なくとも前記内方端側
    が主保持部材の表面から突出可能に埋設され、 さらに、前記副保持部材の上方にあって少なくとも前記
    副保持部材の前記内方端側を主保持部材の表面から突出
    させるための駆動手段と、 前記副保持部材の前記内方端側の突出により主保持部材
    から持ち上げられた基板の外周部を係脱可能に支持する
    ための搬送用ハンドと、 を有することを特徴とする基板処理装置。
  2. 【請求項2】 前記副保持部材は、前記主保持部材に出
    入自在に埋設されていることを特徴とする請求項1記載
    の基板処理装置。
  3. 【請求項3】 前記駆動手段は、前記副保持部材の前記
    外方端側を真空吸着して昇降する吸引部材を有すること
    を特徴とする請求項2記載の基板処理装置。
  4. 【請求項4】 前記吸引部材は、前記基板の外周に対し
    てわずかな隙間を有するように配置されていることを特
    徴とする請求項3記載の基板処理装置。
  5. 【請求項5】 前記搬送用ハンドは、前記駆動手段に対
    して昇降可能に取り付けられていることを特徴とする請
    求項2、3または4記載の基板処理装置。
  6. 【請求項6】 前記副保持部材は、前記外方端側を押し
    込むことにより前記内方端側が前記主保持部材の表面か
    ら突出すべく傾動自在に埋設されていることを特徴とす
    る請求項1記載の基板処理装置。
  7. 【請求項7】 前記駆動手段は、前記副保持部材の前記
    外方端側を押し込むための棒状部材を有することを特徴
    とする請求項6記載の基板処理装置。
  8. 【請求項8】 前記搬送用ハンドは、前記駆動手段に対
    して開閉のみ可能に取り付けられていることを特徴とす
    る請求項6または7記載の基板処理装置。
  9. 【請求項9】 前記副保持部材は、前記基板の外周を受
    け止める突起を備えていることを特徴とする請求項1な
    いし8のいずれか1項記載の基板処理装置。
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