JP2003100667A - ウエハ状ワークの分離洗浄方法及び分離洗浄装置 - Google Patents
ウエハ状ワークの分離洗浄方法及び分離洗浄装置Info
- Publication number
- JP2003100667A JP2003100667A JP2001295684A JP2001295684A JP2003100667A JP 2003100667 A JP2003100667 A JP 2003100667A JP 2001295684 A JP2001295684 A JP 2001295684A JP 2001295684 A JP2001295684 A JP 2001295684A JP 2003100667 A JP2003100667 A JP 2003100667A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- wafer
- cleaning
- gap
- block
- cleaning liquid
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Withdrawn
Links
Abstract
(57)【要約】
【課題】 スライスを終えた段階で相互に密着している
ウエハを容易、かつ、簡便に分離・洗浄する技術を提供
する。 【解決手段】 ウエハ素材１をブロックＢに固着し、上
記ウエハ素材１をスライスしてウエハ状ワークＷと成
し、上記スライスにより形成した各ウエハ２を分離手段
５により相互に分離して洗浄するように構成する。上記
ブロックＢに洗浄液Ｑの流路６を設け、上記ウエハ素材
１を超えてスライスすることにより、上記ウエハ素材１
のスライス隙間Ｓと上記洗浄液Ｑの流路６とを連通し、
上記スライス隙間Ｓに洗浄液Ｑを流通可能に構成する。
ウエハを容易、かつ、簡便に分離・洗浄する技術を提供
する。 【解決手段】 ウエハ素材１をブロックＢに固着し、上
記ウエハ素材１をスライスしてウエハ状ワークＷと成
し、上記スライスにより形成した各ウエハ２を分離手段
５により相互に分離して洗浄するように構成する。上記
ブロックＢに洗浄液Ｑの流路６を設け、上記ウエハ素材
１を超えてスライスすることにより、上記ウエハ素材１
のスライス隙間Ｓと上記洗浄液Ｑの流路６とを連通し、
上記スライス隙間Ｓに洗浄液Ｑを流通可能に構成する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、シリコン等のウエ
ハ素材（以下、これらを単に「ウエハ素材」という）を
スライスしたウエハ状ワークの分離洗浄方法及びその分
離洗浄方法に適用する装置に関する。
ハ素材（以下、これらを単に「ウエハ素材」という）を
スライスしたウエハ状ワークの分離洗浄方法及びその分
離洗浄方法に適用する装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】近年、例えば太陽電池等に用いられるシ
リコンウエハ等は大型化しており、その大型ウエハは次
のようにして生産される。図４（Ａ）に示すように、上
記ウエハ素材１をブロックＢに固着する。上記ブロック
Ｂは、ウエハ素材１を接着したガラス板等のサブブロッ
ク３をアルミ材等のメインブロック４に固着したものを
いう。次いで、上記ウエハ素材１をワイヤーソー等によ
りウエハ素材１を超えてスライスする。以下、上記ブロ
ックＢとスライスしたウエハ２の全体をウエハ状ワーク
Ｗという。
リコンウエハ等は大型化しており、その大型ウエハは次
のようにして生産される。図４（Ａ）に示すように、上
記ウエハ素材１をブロックＢに固着する。上記ブロック
Ｂは、ウエハ素材１を接着したガラス板等のサブブロッ
ク３をアルミ材等のメインブロック４に固着したものを
いう。次いで、上記ウエハ素材１をワイヤーソー等によ
りウエハ素材１を超えてスライスする。以下、上記ブロ
ックＢとスライスしたウエハ２の全体をウエハ状ワーク
Ｗという。
【０００３】次いで、上記ウエハ状ワークＷを超音波洗
浄液槽１５内に浸漬して粗洗浄を実施する〔図４（Ｂ）
参照〕。次いで、上記ウエハ状ワークＷを加熱剥離液槽
１６内に浸漬してウエハ２をサブブロック３から剥離す
る〔図４（Ｃ）参照〕。次いで、剥離した上記ウエハ２
を水洗槽１７内で人手を介して１枚ずつ分離し、ウエハ
バスケット１８内に収容する〔図４（Ｄ）参照〕。次工
程の仕上洗浄及び乾燥等を経て大型ウエハが生産され
る。なお、図４（Ｂ）中の符号Ｇは超音波発振器、図４
（Ｃ）中の符号Ｈはヒータを示す。
浄液槽１５内に浸漬して粗洗浄を実施する〔図４（Ｂ）
参照〕。次いで、上記ウエハ状ワークＷを加熱剥離液槽
１６内に浸漬してウエハ２をサブブロック３から剥離す
る〔図４（Ｃ）参照〕。次いで、剥離した上記ウエハ２
を水洗槽１７内で人手を介して１枚ずつ分離し、ウエハ
バスケット１８内に収容する〔図４（Ｄ）参照〕。次工
程の仕上洗浄及び乾燥等を経て大型ウエハが生産され
る。なお、図４（Ｂ）中の符号Ｇは超音波発振器、図４
（Ｃ）中の符号Ｈはヒータを示す。
【０００４】しかしながら、ウエハ状ワークＷに付着し
ているスラリー（スライス切削粒子と切削液と切削砥粒
との混合スラリー）を洗浄（粗洗浄）するのに多数の洗
浄液槽１５を必要とするうえ、ワイヤーソー等によるス
ライスを終えた段階では、上記スラリーの表面張力によ
りウエハ２が相互に密着しており、スライス隙間内のス
ラリーの粗洗浄が十分に行えず、スライス隙間内にスラ
リーが残存するため、サブブロック３から剥離したウエ
ハ２を水洗槽１７内で１枚ずつ分離・洗浄するのも困難
で生産性が低く、ウエハ２が破損する虞れもある。
ているスラリー（スライス切削粒子と切削液と切削砥粒
との混合スラリー）を洗浄（粗洗浄）するのに多数の洗
浄液槽１５を必要とするうえ、ワイヤーソー等によるス
ライスを終えた段階では、上記スラリーの表面張力によ
りウエハ２が相互に密着しており、スライス隙間内のス
ラリーの粗洗浄が十分に行えず、スライス隙間内にスラ
リーが残存するため、サブブロック３から剥離したウエ
ハ２を水洗槽１７内で１枚ずつ分離・洗浄するのも困難
で生産性が低く、ウエハ２が破損する虞れもある。
【０００５】そこで、上記不都合を解消するために、特
開平１１−１１１６５２号公報によるウエハ状ワークの
分離洗浄技術が提案されている。この分離洗浄技術は、
上記ウエハ状ワークを剥離液槽内でウエハバスケットに
収容し、上記ウエハバスケットが備えるスライス隙間維
持手段（ブラシ等）を上記ウエハ状ワークのスライス隙
間に挿入してウエハを分離し、その後でサブブロックか
らウエハを剥離するものである。
開平１１−１１１６５２号公報によるウエハ状ワークの
分離洗浄技術が提案されている。この分離洗浄技術は、
上記ウエハ状ワークを剥離液槽内でウエハバスケットに
収容し、上記ウエハバスケットが備えるスライス隙間維
持手段（ブラシ等）を上記ウエハ状ワークのスライス隙
間に挿入してウエハを分離し、その後でサブブロックか
らウエハを剥離するものである。
【０００６】しかしながら、ウエハが大きくなると、ス
ライスを終えた段階でウエハが相互に密着しているた
め、剥離液槽内でスライス隙間維持手段（ブラシ等）を
上記ウエハ状ワークのスライス隙間に挿入して分離する
ことが極めて困難である。
ライスを終えた段階でウエハが相互に密着しているた
め、剥離液槽内でスライス隙間維持手段（ブラシ等）を
上記ウエハ状ワークのスライス隙間に挿入して分離する
ことが極めて困難である。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】本発明はこのような事
情に鑑みてなされたもので、その目的は、スライスを終
えた段階で相互に密着しているウエハを容易、かつ、簡
便に分離し、粗洗浄する技術を提供することにある。
情に鑑みてなされたもので、その目的は、スライスを終
えた段階で相互に密着しているウエハを容易、かつ、簡
便に分離し、粗洗浄する技術を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】上記課題を解決するため
に、本発明は以下のように構成される。即ち、請求項１
に記載の発明は、例えば図１（Ａ）（Ｂ）に示すよう
に、ウエハ素材１をブロックＢに固着し、上記ウエハ素
材１をスライスしてウエハ状ワークＷと成し、上記スラ
イスにより形成した各ウエハ２を相互に分離して洗浄す
るように構成（以下、これを本発明の「基本構成」とい
う）したウエハ状ワークの分離洗浄方法において、上記
ブロック３に洗浄液Ｑの流路６を設け、上記ウエハ素材
１を超えてスライスすることにより、上記ウエハ素材１
のスライス隙間Ｓと上記洗浄液Ｑの流路６とを連通し、
上記スライス隙間Ｓに洗浄液Ｑを流通可能に構成した、
ことを特徴とする。
に、本発明は以下のように構成される。即ち、請求項１
に記載の発明は、例えば図１（Ａ）（Ｂ）に示すよう
に、ウエハ素材１をブロックＢに固着し、上記ウエハ素
材１をスライスしてウエハ状ワークＷと成し、上記スラ
イスにより形成した各ウエハ２を相互に分離して洗浄す
るように構成（以下、これを本発明の「基本構成」とい
う）したウエハ状ワークの分離洗浄方法において、上記
ブロック３に洗浄液Ｑの流路６を設け、上記ウエハ素材
１を超えてスライスすることにより、上記ウエハ素材１
のスライス隙間Ｓと上記洗浄液Ｑの流路６とを連通し、
上記スライス隙間Ｓに洗浄液Ｑを流通可能に構成した、
ことを特徴とする。
【０００９】請求項２に記載の発明は、上記ウエハ状ワ
ークの分離洗浄方法を実施するための装置であって、前
記「基本構成」を備えるウエハ状ワークの分離洗浄装置
において、上記ブロック３に洗浄液Ｑの流路６を設け、
上記ウエハ素材１を超えてスライスすることにより、上
記ウエハ素材１のスライス隙間Ｓと上記洗浄液Ｑの流路
６とを連通して分離手段５を構成し、上記スライス隙間
Ｓに洗浄液Ｑを流通可能に構成した、ことを特徴とす
る。
ークの分離洗浄方法を実施するための装置であって、前
記「基本構成」を備えるウエハ状ワークの分離洗浄装置
において、上記ブロック３に洗浄液Ｑの流路６を設け、
上記ウエハ素材１を超えてスライスすることにより、上
記ウエハ素材１のスライス隙間Ｓと上記洗浄液Ｑの流路
６とを連通して分離手段５を構成し、上記スライス隙間
Ｓに洗浄液Ｑを流通可能に構成した、ことを特徴とす
る。
【００１０】請求項３に記載の発明は、請求項２に記載
したウエハ状ワークの分離洗浄装置において、上記ブロ
ックＢは、ウエハ素材１を接着したサブブロック３とメ
インブロック４とから成り、上記洗浄液Ｑの流路６は、
少なくとも上記サブブロック４に凹入形成した隙間連通
凹部８を備え、上記ウエハ素材１を当該隙間連通凹部８
に達するまでスライスすることにより、上記隙間連通凹
部８を上記スライス隙間Ｓに連通した、ことを特徴とす
る。
したウエハ状ワークの分離洗浄装置において、上記ブロ
ックＢは、ウエハ素材１を接着したサブブロック３とメ
インブロック４とから成り、上記洗浄液Ｑの流路６は、
少なくとも上記サブブロック４に凹入形成した隙間連通
凹部８を備え、上記ウエハ素材１を当該隙間連通凹部８
に達するまでスライスすることにより、上記隙間連通凹
部８を上記スライス隙間Ｓに連通した、ことを特徴とす
る。
【００１１】請求項４に記載の発明は、請求項３に記載
したウエハ状ワークの分離洗浄装置において、上記サブ
ブロック３とメインブロック４とを離脱可能に構成し
た、ことを特徴とする。
したウエハ状ワークの分離洗浄装置において、上記サブ
ブロック３とメインブロック４とを離脱可能に構成し
た、ことを特徴とする。
【００１２】請求項５に記載の発明は、請求項３又は請
求項４に記載したウエハ状ワークの分離洗浄装置におい
て、少なくとも上記スライス隙間Ｓの両端部に当該両端
部からの洗浄液Ｑの漏れ量を規制する漏れ量規制部材１
０を近接配置した、ことを特徴とする。
求項４に記載したウエハ状ワークの分離洗浄装置におい
て、少なくとも上記スライス隙間Ｓの両端部に当該両端
部からの洗浄液Ｑの漏れ量を規制する漏れ量規制部材１
０を近接配置した、ことを特徴とする。
【００１３】請求項６に記載の発明は、請求項２乃至請
求項５のいずれか１項に記載したウエハ状ワークの分離
洗浄装置において、洗浄液Ｑを上記スライス隙間Ｓに流
通させて各ウエハ２を相互に分離した状態で、櫛歯状隙
間維持手段９の櫛歯部分９ａを上記各スライス隙間Ｓ内
に挿入するように構成した、ことを特徴とする。
求項５のいずれか１項に記載したウエハ状ワークの分離
洗浄装置において、洗浄液Ｑを上記スライス隙間Ｓに流
通させて各ウエハ２を相互に分離した状態で、櫛歯状隙
間維持手段９の櫛歯部分９ａを上記各スライス隙間Ｓ内
に挿入するように構成した、ことを特徴とする。
【００１４】
【発明の作用・効果】本発明によれば、以下の作用・効
果を奏する。 （イ）請求項１及び請求項２に記載の発明では、前記基
本構成を備えるウエハ状ワークの分離洗浄技術におい
て、上記ブロック３に洗浄液Ｑの流路６を設け、上記ウ
エハ素材１を超えてスライスすることにより、上記ウエ
ハ素材１のスライス隙間Ｓと上記洗浄液Ｑの流路６とを
連通し、上記スライス隙間Ｓに洗浄液Ｑを流通可能に構
成したことから、スライスを終えた段階で相互に密着し
ているウエハ２を容易、かつ、簡便に分離・洗浄するこ
とができる。
果を奏する。 （イ）請求項１及び請求項２に記載の発明では、前記基
本構成を備えるウエハ状ワークの分離洗浄技術におい
て、上記ブロック３に洗浄液Ｑの流路６を設け、上記ウ
エハ素材１を超えてスライスすることにより、上記ウエ
ハ素材１のスライス隙間Ｓと上記洗浄液Ｑの流路６とを
連通し、上記スライス隙間Ｓに洗浄液Ｑを流通可能に構
成したことから、スライスを終えた段階で相互に密着し
ているウエハ２を容易、かつ、簡便に分離・洗浄するこ
とができる。
【００１５】即ち、スライスを終えた段階では、ウエハ
２は相互に密着しているが、ウエハ素材１を超えてスラ
イスすることにより、上記ウエハ素材１のスライス隙間
Ｓと上記ブロック３に設けた洗浄液Ｑの流路６とが連通
する。この状態で上記流路６に洗浄液Ｑを流通させるこ
とにより、スライス隙間Ｓに洗浄液Ｑが流通し、相互に
密着しているウエハ２を当該洗浄液Ｑにより分離し、洗
浄することができる。つまり、簡単な構成でウエハを迅
速に分離でき、しかも、この分離状態でウエハの洗浄が
できるので、洗浄時間の大幅な短縮が可能になり、か
つ、洗浄液の消費量も格段に低減されることから、ラン
ニングコストの大幅な低減が可能になる。
２は相互に密着しているが、ウエハ素材１を超えてスラ
イスすることにより、上記ウエハ素材１のスライス隙間
Ｓと上記ブロック３に設けた洗浄液Ｑの流路６とが連通
する。この状態で上記流路６に洗浄液Ｑを流通させるこ
とにより、スライス隙間Ｓに洗浄液Ｑが流通し、相互に
密着しているウエハ２を当該洗浄液Ｑにより分離し、洗
浄することができる。つまり、簡単な構成でウエハを迅
速に分離でき、しかも、この分離状態でウエハの洗浄が
できるので、洗浄時間の大幅な短縮が可能になり、か
つ、洗浄液の消費量も格段に低減されることから、ラン
ニングコストの大幅な低減が可能になる。
【００１６】（ロ）請求項３に記載の発明では、上記ブ
ロックＢがウエハ素材１を接着したサブブロック３とメ
インブロック４とから成り、上記洗浄液Ｑの流路６が、
少なくとも上記サブブロック３に凹入形成した隙間連通
凹部８を備え、上記ウエハ素材１を当該隙間連通凹部８
に達するまでスライスすることにより、上記隙間連通凹
部８を上記スライス隙間Ｓに連通したことから、隙間連
通凹部８を介してスライス隙間Ｓに洗浄液Ｑを流通させ
ることにより、ウエハ２の分離と粗洗浄とを容易に実施
できる。なお、あらかじめ隙間連通凹部８に洗浄液Ｑを
流通させておく場合には、スライス完了と同時にスライ
ス隙間Ｓに洗浄液Ｑが流通し、ウエハ２の分離と粗洗浄
とを同時に実施できる。この場合には、処理時間の大幅
な短縮が可能になる。
ロックＢがウエハ素材１を接着したサブブロック３とメ
インブロック４とから成り、上記洗浄液Ｑの流路６が、
少なくとも上記サブブロック３に凹入形成した隙間連通
凹部８を備え、上記ウエハ素材１を当該隙間連通凹部８
に達するまでスライスすることにより、上記隙間連通凹
部８を上記スライス隙間Ｓに連通したことから、隙間連
通凹部８を介してスライス隙間Ｓに洗浄液Ｑを流通させ
ることにより、ウエハ２の分離と粗洗浄とを容易に実施
できる。なお、あらかじめ隙間連通凹部８に洗浄液Ｑを
流通させておく場合には、スライス完了と同時にスライ
ス隙間Ｓに洗浄液Ｑが流通し、ウエハ２の分離と粗洗浄
とを同時に実施できる。この場合には、処理時間の大幅
な短縮が可能になる。
【００１７】（ハ）請求項４に記載の発明では、請求項
３に記載の構成に加え、サブブロック３とメインブロッ
ク４とを離脱可能に構成したので、サブブロック３は使
い捨てになるが、メインブロック４は流路を確保した状
態で再利用できる。なお、切削液と洗浄液との混入を嫌
う場合には、スライス工程とその後のウエハ分離・粗洗
浄工程とを分けて実施することができるので至便であ
る。
３に記載の構成に加え、サブブロック３とメインブロッ
ク４とを離脱可能に構成したので、サブブロック３は使
い捨てになるが、メインブロック４は流路を確保した状
態で再利用できる。なお、切削液と洗浄液との混入を嫌
う場合には、スライス工程とその後のウエハ分離・粗洗
浄工程とを分けて実施することができるので至便であ
る。
【００１８】（ニ）請求項５に記載の発明では、請求項
３又は請求項４に記載した構成に加えて、上記スライス
隙間Ｓの両端部に漏れ量規制部材１０を近接配置したか
ら、スライス隙間Ｓの両端部からの洗浄液Ｑの漏れ量を
規制することにより、洗浄液Ｑはスライス隙間Ｓ内を余
すところなく流通するとともに、その一部分は当該隙間
Ｓの両端部から流下する。これにより、スライス隙間Ｓ
内及びウエハ状ワークＷの両端部に付着しているスラリ
ーを効率よく洗い流し、ウエハの洗浄効果が格段に向上
する。
３又は請求項４に記載した構成に加えて、上記スライス
隙間Ｓの両端部に漏れ量規制部材１０を近接配置したか
ら、スライス隙間Ｓの両端部からの洗浄液Ｑの漏れ量を
規制することにより、洗浄液Ｑはスライス隙間Ｓ内を余
すところなく流通するとともに、その一部分は当該隙間
Ｓの両端部から流下する。これにより、スライス隙間Ｓ
内及びウエハ状ワークＷの両端部に付着しているスラリ
ーを効率よく洗い流し、ウエハの洗浄効果が格段に向上
する。
【００１９】（ホ）請求項６に記載の発明では、洗浄液
Ｑを上記スライス隙間Ｓに流通させて各ウエハ２を相互
に分離した状態で、櫛歯状隙間維持手段９の櫛歯部分９
ａでウエハ２の分離状態を維持するように構成したこと
から、当該櫛歯状隙間維持手段９でウエハ２を分離した
ままで、ウエハ状ワークＷをウエハバスケット内へ移す
等、次工程への移行に至便性を有する。
Ｑを上記スライス隙間Ｓに流通させて各ウエハ２を相互
に分離した状態で、櫛歯状隙間維持手段９の櫛歯部分９
ａでウエハ２の分離状態を維持するように構成したこと
から、当該櫛歯状隙間維持手段９でウエハ２を分離した
ままで、ウエハ状ワークＷをウエハバスケット内へ移す
等、次工程への移行に至便性を有する。
【００２０】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態を添付図
面に基づいて説明する。図１（Ａ）は本発明に係る分離
洗浄装置の縦断正面図、図１（Ｂ）はその分離洗浄装置
の縦断側面図である。この分離洗浄装置は、仮想線（２
点鎖線）で示すウエハ素材１を洗浄液Ｑの流路６を有す
るブロックＢに固着し、上記ウエハ素材１を超えてスラ
イスすることにより、上記ウエハ素材１のスライス隙間
Ｓと上記洗浄液Ｑの流路６とを連通して分離手段５と
し、上記スライス隙間Ｓに洗浄液Ｑを流通するように構
成されている。
面に基づいて説明する。図１（Ａ）は本発明に係る分離
洗浄装置の縦断正面図、図１（Ｂ）はその分離洗浄装置
の縦断側面図である。この分離洗浄装置は、仮想線（２
点鎖線）で示すウエハ素材１を洗浄液Ｑの流路６を有す
るブロックＢに固着し、上記ウエハ素材１を超えてスラ
イスすることにより、上記ウエハ素材１のスライス隙間
Ｓと上記洗浄液Ｑの流路６とを連通して分離手段５と
し、上記スライス隙間Ｓに洗浄液Ｑを流通するように構
成されている。
【００２１】即ち、上記ブロックＢは、ウエハ素材１を
接着したサブブロック３をメインブロック４に接着して
構成され、上記洗浄液Ｑの流路６は、メインブロック４
に設けた洗浄液Ｑの導入路７とサブブロック３の接着面
に凹入形成した隙間連通凹部８とを連通して構成され
る。上記隙間連通凹部８は、ウエハ素材１の長手方向の
寸法よりも若干長い直方体形状の空洞部であり、ウエハ
素材１を当該隙間連通凹部８に達するまでスライスする
ことにより、上記隙間連通凹部８がスライス隙間Ｓに連
通し、洗浄液Ｑがスライス隙間Ｓに流通することによ
り、ウエハの分離手段５が構成される。
接着したサブブロック３をメインブロック４に接着して
構成され、上記洗浄液Ｑの流路６は、メインブロック４
に設けた洗浄液Ｑの導入路７とサブブロック３の接着面
に凹入形成した隙間連通凹部８とを連通して構成され
る。上記隙間連通凹部８は、ウエハ素材１の長手方向の
寸法よりも若干長い直方体形状の空洞部であり、ウエハ
素材１を当該隙間連通凹部８に達するまでスライスする
ことにより、上記隙間連通凹部８がスライス隙間Ｓに連
通し、洗浄液Ｑがスライス隙間Ｓに流通することによ
り、ウエハの分離手段５が構成される。
【００２２】上記構成は、スライスを終えた段階で相互
に密着しているウエハ２を容易、かつ、簡便に分離・粗
洗浄することを意図したものである。即ち、ウエハ素材
１をサブブロック３の接着面に凹入形成した隙間連通凹
部８に達するまでスライスすることにより、上記ウエハ
素材１のスライス隙間Ｓと上記隙間連通凹部８とが連通
する。この状態で上記導入路７に洗浄液Ｑを流通させる
ことにより、スライス隙間Ｓに洗浄液Ｑが流下し、相互
に密着しているウエハ２が当該洗浄液Ｑにより分離・洗
浄されることとなる。
に密着しているウエハ２を容易、かつ、簡便に分離・粗
洗浄することを意図したものである。即ち、ウエハ素材
１をサブブロック３の接着面に凹入形成した隙間連通凹
部８に達するまでスライスすることにより、上記ウエハ
素材１のスライス隙間Ｓと上記隙間連通凹部８とが連通
する。この状態で上記導入路７に洗浄液Ｑを流通させる
ことにより、スライス隙間Ｓに洗浄液Ｑが流下し、相互
に密着しているウエハ２が当該洗浄液Ｑにより分離・洗
浄されることとなる。
【００２３】なお、図１（Ａ）中の符号７ａは、メイン
ブロック４に設けた導入路７の接続口である。また、図
１（Ｂ）中の符号１０は、スライス後に上記スライス隙
間Ｓの両端部に近接配置される漏れ量規制部材１０であ
り、スライス隙間Ｓの両端部からの洗浄液Ｑの漏れ量を
規制する。これにより、洗浄液Ｑはスライス隙間Ｓ内を
余すところなく流通するとともに、その一部分は当該隙
間Ｓの両端部から流下し、スライス隙間Ｓ内及びウエハ
状ワークＷの両端部に付着しているスラリーを効率よく
洗い流すことができる。なお、上記漏れ量規制部材１０
に代えて、同様の目的でウエハ状ワークＷの外周を包囲
するワーク包囲部材を当該ウエハ状ワークＷに近接配置
してもよい。
ブロック４に設けた導入路７の接続口である。また、図
１（Ｂ）中の符号１０は、スライス後に上記スライス隙
間Ｓの両端部に近接配置される漏れ量規制部材１０であ
り、スライス隙間Ｓの両端部からの洗浄液Ｑの漏れ量を
規制する。これにより、洗浄液Ｑはスライス隙間Ｓ内を
余すところなく流通するとともに、その一部分は当該隙
間Ｓの両端部から流下し、スライス隙間Ｓ内及びウエハ
状ワークＷの両端部に付着しているスラリーを効率よく
洗い流すことができる。なお、上記漏れ量規制部材１０
に代えて、同様の目的でウエハ状ワークＷの外周を包囲
するワーク包囲部材を当該ウエハ状ワークＷに近接配置
してもよい。
【００２４】なお、洗浄液Ｑとしては、上記スラリーの
性質に応じて、水、アルカリ性洗浄液、灯油などの石油
系溶剤、セッケン水等の界面活性剤、アセトン、トルエ
ンなどの有機溶剤の少なくとも１種以上を適宜選択して
用いる。また、洗浄液の圧力及び流量は、上記スラリー
の粘度、洗浄による清浄の度合い等により適宜調節す
る。ちなみに、上記スラリーの粘度が、例えば３００ｃ
ｐｓであれば、圧力を０．０５ｋｇｆ／ｃｍ2、流量を
０．５Ｌ／ｍｉｎに設定し、粘度が５００ｃｐｓであれ
ば、圧力を０．１ｋｇｆ／ｃｍ2、流量を１．５Ｌ／ｍ
ｉｎに設定する。本発明によれば、例示のように洗浄液
の圧力及び流量が極めて小さくても、ウエハを分離し、
高い洗浄効果を得ることができる。
性質に応じて、水、アルカリ性洗浄液、灯油などの石油
系溶剤、セッケン水等の界面活性剤、アセトン、トルエ
ンなどの有機溶剤の少なくとも１種以上を適宜選択して
用いる。また、洗浄液の圧力及び流量は、上記スラリー
の粘度、洗浄による清浄の度合い等により適宜調節す
る。ちなみに、上記スラリーの粘度が、例えば３００ｃ
ｐｓであれば、圧力を０．０５ｋｇｆ／ｃｍ2、流量を
０．５Ｌ／ｍｉｎに設定し、粘度が５００ｃｐｓであれ
ば、圧力を０．１ｋｇｆ／ｃｍ2、流量を１．５Ｌ／ｍ
ｉｎに設定する。本発明によれば、例示のように洗浄液
の圧力及び流量が極めて小さくても、ウエハを分離し、
高い洗浄効果を得ることができる。
【００２５】図２は櫛歯状の隙間維持手段９の斜視図、
図３はその櫛歯状隙間維持手段９の用い方を例示する斜
視図である。この櫛歯状隙間維持手段９は、ウエハ２の
分離状態を維持することを意図したものである。即ち、
洗浄液Ｑを上記スライス隙間Ｓに流通させて各ウエハ２
を分離・粗洗浄し、例えば図３に示すように、前記サブ
ブロック３をメインブロック４から離脱した状態で、上
記櫛歯状隙間維持手段９の櫛歯部分９ａを上側又は横側
から各スライス隙間Ｓ内に挿入すれば、当該櫛歯部分９
ａを挿入するのが極めて容易で、かつ、ウエハ２の分離
状態を維持することができる。なお、上下又は左右に対
向配置した一対の櫛歯状隙間維持手段９・９でウエハ２
の分離状態を維持するように構成した場合には、ウエハ
２を分離したままで、当該ウエハ状ワークＷをウエハバ
スケット内へ移す等、次工程への移行に至便性を有す
る。
図３はその櫛歯状隙間維持手段９の用い方を例示する斜
視図である。この櫛歯状隙間維持手段９は、ウエハ２の
分離状態を維持することを意図したものである。即ち、
洗浄液Ｑを上記スライス隙間Ｓに流通させて各ウエハ２
を分離・粗洗浄し、例えば図３に示すように、前記サブ
ブロック３をメインブロック４から離脱した状態で、上
記櫛歯状隙間維持手段９の櫛歯部分９ａを上側又は横側
から各スライス隙間Ｓ内に挿入すれば、当該櫛歯部分９
ａを挿入するのが極めて容易で、かつ、ウエハ２の分離
状態を維持することができる。なお、上下又は左右に対
向配置した一対の櫛歯状隙間維持手段９・９でウエハ２
の分離状態を維持するように構成した場合には、ウエハ
２を分離したままで、当該ウエハ状ワークＷをウエハバ
スケット内へ移す等、次工程への移行に至便性を有す
る。
【００２６】この発明は上記の実施形態に限定されるも
のではなく、例えば下記のように種々の設計変更が可能
である。 上記の実施形態では、洗浄液Ｑの流路６を有するブ
ロックＢをサブブロック３とメインブロック４とにより
構成したものについて例示したが、上記流路６を有する
単一のブロックＢに直接ウエハ素材１を接着し、そのウ
エハ素材１を流路６に達するまでスライスするようにし
ても差し支えない。
のではなく、例えば下記のように種々の設計変更が可能
である。 上記の実施形態では、洗浄液Ｑの流路６を有するブ
ロックＢをサブブロック３とメインブロック４とにより
構成したものについて例示したが、上記流路６を有する
単一のブロックＢに直接ウエハ素材１を接着し、そのウ
エハ素材１を流路６に達するまでスライスするようにし
ても差し支えない。
【００２７】 洗浄液の流路６は、前記導入路７なら
びに隙間連通凹部８に代えて、それらに類する構造を備
え、洗浄液Ｑを流通するものであれば足りる。また、隙
間連通凹部８は、少なくとも上記サブブロック３に凹入
形成したものであればよく、この隙間連通凹部８に洗浄
液Ｑを直接導入するようにしてもよい。なお、上記ブロ
ックＢ自体を揺動させたり、洗浄液Ｑを超音波で励振さ
せることにより、洗浄効果を高めるようにすることもで
きる。
びに隙間連通凹部８に代えて、それらに類する構造を備
え、洗浄液Ｑを流通するものであれば足りる。また、隙
間連通凹部８は、少なくとも上記サブブロック３に凹入
形成したものであればよく、この隙間連通凹部８に洗浄
液Ｑを直接導入するようにしてもよい。なお、上記ブロ
ックＢ自体を揺動させたり、洗浄液Ｑを超音波で励振さ
せることにより、洗浄効果を高めるようにすることもで
きる。
【００２８】 上記の実施形態では、ブロックＢにウ
エハ素材１を接着して懸下させ、洗浄液Ｑをスライス隙
間Ｓに流下させるものについて例示したが、これに代え
て、ブロックＢとウエハ素材１とを上下反転し、スライ
ス後に漏れ量規制部材１０をスライス隙間Ｓの両端部に
近接配置し、洗浄液Ｑがスライス隙間Ｓ内を上昇するよ
うにしても差し支えない。さらに、ブロックＢとウエハ
素材１とを横転させて洗浄液Ｑをスライス隙間Ｓに横向
きに流通させるようにしても差し支えない。
エハ素材１を接着して懸下させ、洗浄液Ｑをスライス隙
間Ｓに流下させるものについて例示したが、これに代え
て、ブロックＢとウエハ素材１とを上下反転し、スライ
ス後に漏れ量規制部材１０をスライス隙間Ｓの両端部に
近接配置し、洗浄液Ｑがスライス隙間Ｓ内を上昇するよ
うにしても差し支えない。さらに、ブロックＢとウエハ
素材１とを横転させて洗浄液Ｑをスライス隙間Ｓに横向
きに流通させるようにしても差し支えない。
【図面の簡単な説明】
【図１】図１（Ａ）は本発明に係る分離洗浄装置の縦断
正面図、図１（Ｂ）はその分離洗浄装置の縦断側面図で
ある。
正面図、図１（Ｂ）はその分離洗浄装置の縦断側面図で
ある。
【図２】本発明に係る櫛歯状の隙間維持手段の斜視図で
ある。
ある。
【図３】上記櫛歯状隙間維持手段の用い方を例示する斜
視図である。
視図である。
【図４】従来技術の洗浄・分離の手順を示し、図４
（Ａ）はウエハ状ワークの斜視図、図４（Ｂ）は粗洗浄
を、図４（Ｃ）はサブブロックからのウエハの剥離を、
図４（Ｄ）はウエハ相互の分離を、それぞれ示す概要図
である。
（Ａ）はウエハ状ワークの斜視図、図４（Ｂ）は粗洗浄
を、図４（Ｃ）はサブブロックからのウエハの剥離を、
図４（Ｄ）はウエハ相互の分離を、それぞれ示す概要図
である。
１…ウエハ素材、２…ウエハ、３…サブブロック、４…
メインブロック、５…分離手段、６…洗浄液の流路、８
…隙間連通凹部、９…櫛歯状隙間維持手段、９ａ…櫛歯
部分、１０…漏れ量規制部材、Ｂ…ブロック、Ｑ…洗浄
液、Ｓ…スライス隙間、Ｗ…ウエハ状ワーク。
メインブロック、５…分離手段、６…洗浄液の流路、８
…隙間連通凹部、９…櫛歯状隙間維持手段、９ａ…櫛歯
部分、１０…漏れ量規制部材、Ｂ…ブロック、Ｑ…洗浄
液、Ｓ…スライス隙間、Ｗ…ウエハ状ワーク。
Claims (6)
- 【請求項１】 ウエハ素材（１）をブロック（Ｂ）に固
着し、上記ウエハ素材（１）をスライスしてウエハ状ワ
ーク（Ｗ）と成し、上記スライスにより形成した各ウエ
ハ（２）を相互に分離して洗浄するように構成したウエ
ハ状ワークの分離洗浄方法において、 上記ブロック（Ｂ）に洗浄液（Ｑ）の流路（６）を設
け、上記ウエハ素材（１）を超えてスライスすることに
より、上記ウエハ素材（１）のスライス隙間（Ｓ）と上
記洗浄液（Ｑ）の流路（６）とを連通し、上記スライス
隙間（Ｓ）に洗浄液（Ｑ）を流通可能に構成した、こと
を特徴とするウエハ状ワークの分離洗浄方法。 - 【請求項２】 ウエハ素材（１）をブロック（Ｂ）に固
着し、上記ウエハ素材（１）をスライスしてウエハ状ワ
ーク（Ｗ）と成し、上記スライスにより形成した各ウエ
ハ（２）を分離手段（５）により相互に分離して洗浄す
るように構成したウエハ状ワークの分離洗浄装置におい
て、 上記ブロック（Ｂ）に洗浄液（Ｑ）の流路（６）を設
け、上記ウエハ素材（１）を超えてスライスすることに
より、上記ウエハ素材（１）のスライス隙間（Ｓ）と上
記洗浄液（Ｑ）の流路（６）とを連通して上記分離手段
（５）を構成し、上記スライス隙間（Ｓ）に洗浄液
（Ｑ）を流通可能に構成したことを特徴とするウエハ状
ワークの分離洗浄装置。 - 【請求項３】 請求項２に記載したウエハ状ワークの分
離洗浄装置において、上記ブロック（Ｂ）は、ウエハ素
材（１）を接着したサブブロック（３）とメインブロッ
ク（４）とから成り、上記洗浄液（Ｑ）の流路（６）
は、少なくとも上記サブブロック（３）に凹入形成した
隙間連通凹部（８）を備え、上記ウエハ素材（１）を当
該隙間連通凹部（８）に達するまでスライスすることに
より、上記隙間連通凹部（８）と上記スライス隙間
（Ｓ）とを連通したことを特徴とするウエハ状ワークの
分離洗浄装置。 - 【請求項４】 請求項３に記載したウエハ状ワークの分
離洗浄装置において、上記サブブロック（３）とメイン
ブロック（４）とを離脱可能に構成した、ことを特徴と
するウエハ状ワークの分離洗浄装置。 - 【請求項５】 請求項３又は請求項４に記載したウエハ
状ワークの分離洗浄装置において、少なくとも上記スラ
イス隙間（Ｓ）の両端部に当該両端部からの洗浄液
（Ｑ）の漏れ量を規制する漏れ量規制部材（１０）を近
接配置した、ことを特徴とするウエハ状ワークの分離洗
浄装置。 - 【請求項６】 請求項２乃至請求項５のいずれか１項に
記載したウエハ状ワークの分離洗浄装置において、 洗浄液（Ｑ）を上記スライス隙間（Ｓ）に流通させて各
ウエハ（２）を相互に分離した状態で、櫛歯状隙間維持
手段（９）の櫛歯部分（９ａ）を上記各スライス隙間
（Ｓ）内に挿入するように構成した、ことを特徴とする
ウエハ状ワークの分離洗浄装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001295684A JP2003100667A (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | ウエハ状ワークの分離洗浄方法及び分離洗浄装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001295684A JP2003100667A (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | ウエハ状ワークの分離洗浄方法及び分離洗浄装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003100667A true JP2003100667A (ja) | 2003-04-04 |
Family
ID=19117072
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001295684A Withdrawn JP2003100667A (ja) | 2001-09-27 | 2001-09-27 | ウエハ状ワークの分離洗浄方法及び分離洗浄装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003100667A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008545268A (ja) * | 2005-07-01 | 2008-12-11 | アール・イー・シー・スキャンウェハー・アー・エス | シリコンウエハ間の引力の低減 |
| JP7441779B2 (ja) | 2020-12-14 | 2024-03-01 | クアーズテック徳山株式会社 | 被加工物の切断方法 |
-
2001
- 2001-09-27 JP JP2001295684A patent/JP2003100667A/ja not_active Withdrawn
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008545268A (ja) * | 2005-07-01 | 2008-12-11 | アール・イー・シー・スキャンウェハー・アー・エス | シリコンウエハ間の引力の低減 |
| JP7441779B2 (ja) | 2020-12-14 | 2024-03-01 | クアーズテック徳山株式会社 | 被加工物の切断方法 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| US5545076A (en) | Apparatus for gringing a semiconductor wafer while removing dust therefrom | |
| AU5304600A (en) | Method and system for cleaning a semiconductor wafer | |
| KR101177038B1 (ko) | 물품의 세정 장치 및 방법 | |
| CN110773505B (zh) | 一种硅片清洗装置及方法 | |
| JP2003100667A (ja) | ウエハ状ワークの分離洗浄方法及び分離洗浄装置 | |
| JP2920165B2 (ja) | 枚葉洗浄用オーバーフロー槽 | |
| US20140150826A1 (en) | Wafer cleaning apparatus and methods | |
| JP2010080829A (ja) | 洗浄装置、基板の製造方法、および太陽電池素子 | |
| JP6631687B1 (ja) | 半導体ウェーハの洗浄槽および洗浄方法 | |
| TWI685893B (zh) | 基板處理裝置 | |
| KR20100052831A (ko) | 반도체 웨이퍼용 래핑 후 세정 방법 및 장치 | |
| JPH05102121A (ja) | 枚葉式洗浄方法及び装置 | |
| JPH0448629A (ja) | 半導体ウェーハの液処理装置 | |
| JPS62156659A (ja) | 洗浄方法及び装置 | |
| JPH10270395A (ja) | ウエハ基板の研磨洗浄処理におけるガス雰囲気調整方法及び該調整方法を実施するための装置 | |
| JPH05102120A (ja) | 枚葉式洗浄方法及び装置 | |
| JP3529032B2 (ja) | 半導体ウェーハのエッチング方法 | |
| JPH11195637A (ja) | シリコンウェーハのエッチング方法と装置 | |
| JP2006080138A (ja) | 半導体ウェハの研磨装置および研磨方法 | |
| JPS5919329A (ja) | 洗浄方法とその装置 | |
| KR20090020905A (ko) | 잉곳 세정 장치 및 잉곳 세정 방법 | |
| JPH08299883A (ja) | 基板の洗浄方法 | |
| JPH11319734A (ja) | 洗浄装置、洗浄方法及び基板 | |
| JPH07106293A (ja) | 基板処理装置 | |
| JPH01175233A (ja) | ウェット装置 |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A300 | Withdrawal of application because of no request for examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A300 Effective date: 20081202 |