KR101177038B1 - 물품의 세정 장치 및 방법 - Google Patents

Abstract

본 발명은 얇거나 및/또는 파손되기 쉬운 웨이퍼(6)들의 세정 장치에 관한 것으로, 상기 웨이퍼의 한 측면이 캐리어 장치(2)에 고정되고 2개의 인접한 웨이퍼들 사이에 사이 공간(7)이 형성된다. 상기 장치는 - 샤워 장치(15)로서, 유체를 개별 상기 사이 공간들(7) 내로 도입하며, 다수의 노즐들을 구비하고 2개의 부분으로 형성된 적어도 하나의 샤워 엘리먼트(16)를 포함하고, 상기 샤워 엘리먼트의 상기 2개의 부분들이 탱크의 종방향 축선에 대해 평행하게 연장되고 그 흐름 방향과 관련해서 서로 대향하게 위치 설정되도록, 하나의 상기 부분의 측면이 상기 탱크(14)의 종방향 측면에 배치되는 샤워 장치(15), - 탱크(14)로서, 유체로 채워질 수 있고 상기 캐리어 장치(2)를 수용하도록 치수 설계되는 탱크(14), 및 - 교번 제어부로서, 직접 대향 배치된 상기 노즐들이 동시에 활성화되지 않도록 적어도 하나의 상기 샤워 엘리먼트(16)의 상기 2개의 부분들을 제어할 수 있는 교번 제어부를 포함하고, 상기 활성화는 유체의 배출 또는 흡입에 관련된다.

Description

물품의 세정 장치 및 방법{APPARATUS FOR, AND METHOD OF, CLEANING ARTICLES}

본 발명은 예컨대 반도체 웨이퍼, 유리 기판, 포토 마스크, 컴팩트 디스크 등과 같은 얇거나 파손되기 쉬운 디스크의 세정 장치 및 방법에 관한 것이다. 특히, 본 발명은 블록으로부터 소잉(sawing)된 반도체 웨이퍼의 예비 세정 장치 및 방법에 관한 것이다.

"파손되기 쉬운 디스크"라는 표현은 본 발명에 따라, 80 내지 300㎛, 예컨대 150 내지 170㎛의 매우 얇은 두께를 가진 물품을 의미한다. 디스크의 형태는 임의이고 예컨대, 실질적으로 둥글거나(반도체 웨이퍼) 또는 실질적으로 직사각형 또는 정사각형(솔라 웨이퍼)일 수 있고, 모서리는 선택적으로 각지게, 라운딩 또는 챔퍼링되어 형성될 수 있다. 이러한 물품들은 얇은 두께로 인해 파손되기 매우 쉽다. 본 발명은 이러한 물품의 세정에 관한 것이다.

본 발명에 따른 장치 및 본 발명에 따른 방법은 이하에서 편의상 각진 솔라 웨이퍼(간단히 "웨이퍼")로 설명된다.

그러나, 본 발명은 웨이퍼의 세정으로만 제한되지 않는다. 오히려, 본 발명은 일반적으로, 캐리어 장치 내에서 상호 규정된 간격을 순차적으로 유지하는 얇거나 및/또는 파손되기 쉬운 디스크들의 세정을 포함한다.

웨이퍼의 제조를 위해, 일반적으로 직사각형 실리콘 블록으로서 주어지고 기판 블록 또는 잉곳(ingot)이라고 하는 출발 재료가 캐리어 장치 상에 제공되어야 한다. 상기 캐리어 장치는 일반적으로 금속 캐리어로 이루어지고, 상기 금속 캐리어 상에 캐리어 재료로서 유리 판이 장착된다. 이 경우, 처리하려는 기판 블록은 유리판 상에 접착된다. 이에 대한 대안으로, 캐리어 장치의 형성을 위한 다른 재료들도 제공될 수 있다.

다수의 웨이퍼의 제조를 위해, 단- 또는 다결정성 실리콘으로 이루어진 기판 블록이 디스크 형으로 완전히 소잉되어야 하고, 이로써 각각의 소잉 단면이 유리 판에까지 이른다. 예컨대 종래의 내부 홀 소우 또는 와이어 소우를 사용한 소잉 후, 제조된 웨이퍼의 종방향 측면(에지), 즉 캐리어 장치를 향하는 측면이 접착 결합에 의해 유리 판에 접착된다. 기판 블록이 완전히 개별 웨이퍼로 분할되고 개별 웨이퍼들 사이에 갭 형태의 사이 공간이 형성된 후, 빗형, 팬(fan)형 구조물 형태의 원래의 기판 블록이 주어진다.

정밀 와이어 소우를 사용해서 습윤 기계식 소잉 공정을 실시하기 위해, 실질적으로 2개의 재료들, 한편으로는 실리콘 탄화물 또는 필요한 경도를 위한 연마 특성을 가진 동일 작용의 입자, 다른 한편으로는 캐리어 매체 또는 냉각제로서 글리콜, 물 또는 오일이 필요하다. 정확히 관찰하면, 와이어가 실리콘을 소잉하는 것이 아니라 오히려 폴리 에틸렌 글리콜과 같은 글리콜 또는 오일과 혼합된 실리콘 탄화물 입자가 소위 "슬러리(Slurry)"로서 작업을 수행한다. 경우에 따라 다른 화학적 첨가물을 포함하는 상기 매체에 의해 와이어가 소잉 과정 동안 세정된다. 와이어의 운동에 의해 입자들이 연마, 즉 제거 작용을 한다. 이로써 예컨대 매 소잉마다 예컨대 160-마이크로미터(㎛)-와이어로, 약 210㎛ 실리콘이 마멸(磨滅)된다. 상기 마멸된 부분은 커프(kerf)라고도 하고, 예컨대 80㎛의 직경을 가진 얇은 와이어를 사용해서 감소될 수 있다. 소잉 공정 동안, 웨이퍼 표면 상에서 관련 반응 파트너들의 다수의 화학적 반응들이 나타난다. 소잉 후, 웨이퍼들 사이에 슬러리, 반응 생성물들, 및 슬러리 성분들과 실리콘으로 이루어진 덩어리(conglomate)가 놓이고, 이들은 컨시스턴시(consistancy; 농도)로 인해 종종 웨이퍼의 표면에 달라붙는다.

디스크형 형태를 가진 개별 웨이퍼들이 캐리어 장치로부터 분리되기 전에, 세정이 실시된다. 세정에 의해 웨이퍼의 표면 상에서 2개의 기판들 사이에 생성된 사이 공간 내에 있는 슬러리가 씻겨 나와야 한다. 이러한 세정이 본 발명의 대상이다.

종래 기술에는, 슬러리의 제거를 위한 예비 세정이 공지되어 있다. 일반적으로 예비 세정은 유체 흐름이 나오는 샤워 헤드를 손으로 빗형 구조물을 통해 안내하는 방식의 수작업으로 이루어진다. 이로써 기판 블록의 갭들 내에 있는 슬러리가 적어도 부분적으로 씻겨나간다. 그러나 대부분은 갭 형태의 사이 공간 내에 남아 있다.

이러한 수동 처리는 캐리어 장치가 모든 면으로부터 씻겨져야 하고 슬러리가 씻겨나가는 것이 끊임없는 회전에 의해 부분적으로만 가능하기 때문에 어렵다. 또한 캐리어 장치의 끊임없는 변위에 의해 개별 웨이퍼들이 유리 기판으로부터 분리 및 파손될 위험이 있다.

웨이퍼를 포함한 캐리어 장치가 후속 처리 공정에 전달될 때까지 웨이퍼의 표면들은 일반적으로 이미 건조되어 있다. 또한, 거기에 슬러리가 접착되므로 다른 처리 공정이 심하게 영향을 받는다.

이러한 수동 처리의 공통된 단점은, 표면 특성과 관련해서 일정한 품질 및 표준화 가능하고 재현 가능한 결과가 보장되지 않는다는 것이다.

또한 종래 기술에, 이러한 기판을 세정하기 위한 자동화 장치들이 공지되어 있다. 이러한 장치들은 디스크형이고 얇은 기판에 관련되지만, 최근에 사용이 증가한, 한편으로는 매우 얇고 다른 한편으로는 직경이 크기 때문에 가장 파손되기 쉬운 기판에는 제한적으로만 적합하다. 또한, 공지된 장치들은, 기판을 정상적으로 후속 처리하기 위해 예비 세정 후에 추가 세정 단계들이 연결되는 단점을 가진다.

WO 2008/071364에는 예컨대 반도체 웨이퍼와 같은 얇거나 및/또는 파손되기 쉬운 물품의 세정이 충분히 조심스럽게 실시될 수 있는 장치 및 상응하는 방법이 공지되어 있다.

본 발명의 과제는 WO 2008/071364에 공개된 기술을 전체 장치의 세정 성능과 관련해서 최적화하는 것이다.

본 발명의 핵심은, 여러 방법 단계들로 나누어진 세정 공정이 자동으로 실시되는, 얇거나 파손되기 쉬운 웨이퍼의 세정 장치 및 방법에 관한 것이다.

본 발명에 따른 장치는 청구항 제 1 항의 대상이고, 본 발명에 따른 방법은 청구항 제 10 항의 특징에 의해 규정된다. 바람직한 실시예들은 각각의 종속 청구항들의 대상이다.

사이 공간들로부터 슬러리의 제거를 위해, 실질적으로 캐리어 장치, 샤워 장치 및 탱크로 이루어진 장치가 제안된다.

기판 블록이 제공되는 적어도 캐리어 재료로 이루어진 캐리어 장치는 기판 블록의 소잉에 의해 형성된 얇은 디스크, 예컨대 웨이퍼를 포함한다. 디스크들은 순차적으로, 즉 차례로 배열되고, 개별 웨이퍼들 사이에 각각 하나의 사이 공간이 형성된다. 웨이퍼들의 한 측면이 캐리어 장치에 고정된다. 2개의 인접한 웨이퍼들 사이에 각각 하나의 사이 공간이 형성된다. 샤워 장치는 바람직하게 웨이퍼의 전체 길이에 걸쳐 유체 흐름을 주로 사이 공간들 내로 생성시키고 이로써 세정 유체를 사이 공간들 내로 제공하도록 형성된다. 전체 세정 공정은 유체로 채워질 수 있는 탱크 내에서 이루어진다. 탱크는 캐리어 장치가 수용될 정도로 치수 설계된다.

본 발명에 따른 세정 단계들 동안, 탱크는 처리할 물품들의 표면들이 액체 내에 있을 정도로 세정 액체로 채워져 있다.

세정 공정의 출발 위치는, 캐리어 장치가 본 발명에 따른 장치의 "바구니형" 보조 장치 내로 전달되도록 규정된다. 유체가 웨이퍼들 간의 사이 공간들에 실질적으로 방해 없이 도달할 수 있고 기판 블록 및 경우에 따라 분리된 웨이퍼가 확실히 지지된다면, 상기 보조 장치의 디자인은 기본적으로 정해져 있지 않다. 바람직한 실시예에 따라, 상기 장치는 서로 평행하게 종방향으로 연장하는 2개의 로드 쌍들의 형태로 제공될 수 있고, 하나의 쌍은 오버레이로서 사용되고 다른 쌍은 웨이퍼를 측면으로 지지한다. 보조 장치가 장치 내로 제공되면, 캐리어 장치 상에 고정된 기판 블록의 빗형 구조물은 사이 공간들이 측면 벽들 및 탱크의 베이스에 대해 개방되고 이로써 접근이 자유롭도록 배치된다. 이러한 출발 위치에서 캐리어 장치는 지지하는 기판의 상부에 배치된다.

본 발명에 따른 세정 공정의 하기 제 1 단계 전에, 바람직하게는 처리될 기판의 글리콜 예비 저장이 이루어질 수 있다.

본 발명에 따른 세정 공정의 제 1 단계 동안, 샤워 장치가 활성화된다. 본 발명에 따른 샤워 장치는 적어도 하나의 샤워 엘리먼트를 포함하고, 상기 샤워 엘리먼트는 2 부분들로 형성되고, 상기 샤워 엘리먼트의 2개의 부분들이 탱크의 종방향 축선에 대해 평행하게 연장하고 그 흐름 방향과 관련해서 대향하게 위치 설정되도록, 하나의 상기 부분의 측면이 각각 탱크의 종방향 측면에 배치된다. 그 후, 샤워 장치는 유체 흐름이 2개의 인접한 웨이퍼들의 개별 사이 공간 내로 향하고 오염물을 씻어내도록 형성된다. 또한, 본 발명에 따른 장치는 교번 제어부를 포함하고, 상기 제어부에 의해 적어도 하나의 샤워 엘리먼트의 2개의 부분들은 서로 대향 배치된 노즐들이 동시에 활성화되지 않게 제어 가능하고, 상기 활성화는 유체의 배출 또는 흡입에 관련된다.

적어도 하나의 샤워 엘리먼트 또는 2 부분-샤워 엘리먼트 중 한 부분은 다수의 노즐들(개구들 또는 보어들)을 포함하고, 상기 노즐들은 기능상 적어도 하나의 노즐 바를 통해 서로 연결되므로 동일한 액체량을 공급("활성화")할 수 있다.

본 발명에 따라, 샤워 엘리먼트의 한 부분의 노즐들은 고압 또는 저압으로 활성화될 수 있고, 이 경우, 적어도 하나의 샤워 엘리먼트의 직접 대향 배치된 노즐들이 동시에 동일한 모드(배출/흡입)로 활성화되지 않는다.

처리될 기판 블록의 길이 및 제공될 송출 압력에 따라, 샤워 엘리먼트의 두 측면은, 각각 하나의 노즐 바가 제공된 다수의 세그먼트들로 나뉘어질 수 있다.

2 부분-샤워 엘리먼트의 배치는 경우에 따라 서로 별도로 조절될 수 있다. 샤워 엘리먼트, 상기 엘리먼트의 부분들 또는 세그먼트들의 높이 및 이들과 탱크 테두리 사이의 간격이 조절될 수 있다.

이에 따라, 샤워 장치가 고정식 캐리어 장치에 대해 상대 운동하는 것 또는 캐리어 장치가 고정식 샤워 장치에 대해 상대 운동하는 것 또는 캐리어 장치 및 샤워 장치가 서로 상대 운동하는 것 중 하나가 선택될 수 있다. 2 부분-샤워 엘리먼트의 경우, 개별 부분들의 운동들이 특히 상호 평행하거나 또는 역방향식인 것과 같은 동일한 형태로 서로 이루어지는 것이 바람직하지만 필수적이지는 않다. 경우에 따라, 비-평행 운동들에 의해 세정 거동도 향상될 수 있다. 또한 샤워 엘리먼트 또 상기 엘리먼트의 부분들 또는 세그먼트들이 측면 탱크 테두리에 대해 평행하게 이동될 수 있다. 필요시, 탱크의 하나의 측면에 배치되는 적어도 하나의 노즐 바가 진동 운동할 수 있다. 상기 진동 운동은 선택적으로 탱크 테두리로부터 멀어지거나 또는 상기 탱크 테두리를 향해 상부 또는 하부로, 및/또는 탱크 테두리에 대해 평행하게 전방 또는 후방을 향한다. 이로써, 바람직하게는 경우에 따라 주어지는, 흐름 특성의 불균일성이 보상될 수 있다. 노즐 바의 축선에 대해 평행한 진동의 다른 장점은 예컨대 개별 노즐들의 막힘에 의해 나타날 수 있는 바람직하지 않은 흐름 상황들이 방지되는 것이다. 또한, 이러한 운동에 의해 서로 강력히 접착된 기판 결합부들이 진동 상태로 되므로, 이러한 결합부들의 사이 공간들의 세정이 개선된다.

본 발명에 따라 다수의 샤워 엘리먼트들이 주어지거나 사용되면, 상기 샤워 엘리먼트들은 탱크의 깊이와 관련해서 바람직하게는 다양한 레벨로 배치된다.

노즐 바는 바람직하게 직사각형으로 형성되고, 대향 배치된 탱크 테두리를 향하는 측면은 상부 및/또는 하부 영역에서 특히 바람직하게는 후방으로 챔퍼링되고, 이로써 챔퍼링된 영역 내에 배치되는 노즐들은 약간 상부로 또는 하부로 향하게 배치되고 따라서 중간 부분 내에 배치된 노즐들에 대해 평행하게 배출할 수 없다. 챔퍼링된 영역들에 의해, 2개의 인접한 기판들 사이의 오염 지점들이 더 효율적으로 제거될 수 있다. 바람직하게 노즐 바들은 각각 적어도 하나의 흐름 브레이커를 포함하고, 상기 흐름 브레이커에 의해 전체 노즐 바에 걸쳐 최대한 균일한 흐름 특성이 얻어진다.

층류(laminar) 제트를 생성하기 위해 노즐 구멍들이 바람직하게는 기하학적으로 규정된다. 바람직하게는 노즐 구멍들이 원형으로 형성되고, 0.1 내지 0.5㎟, 가장 바람직하게는 0.2㎟의 바람직한 횡단면 면적을 가지고, 상기 노즐 구멍들은 콘 형으로 형성된다.

바람직한 대안 실시예에 따라, 노즐 구멍들은 타원형 또는 별 형으로 형성된다. 노즐 구멍들의 이러한 기하학적 구조는 액체 흐름 내로 가스의 수동적 유입을 가능하게 하므로 세정 결과에 긍정적인 작용을 한다.

대안으로 또는 추가로, 노즐로부터 배출되는 세정액의 흐름 내로 기포를 능동적으로 유입하는 장비가 제공될 수 있다. 본 발명에 따른 장치에 의해 경우에 따라 생성되는 기포의 크기는 바람직하게 1 내지 500㎛의 범위이다.

바람직하게 개별 노즐 바 내 노즐은 행과 열로 배치된다. 가장 바람직하게는 가장 폭이 넓은(예컨대 400㎜) 액체 제트가 생기도록 노즐의 기하학적 구조가 형성된다.

본 발명에 따라 샤워 장치의 적어도 하나의 샤워 엘리먼트의 양 측에 있는 노즐 바들은, 한 측면에서만 액체가 배출되고, 다른 측면 상의 노즐들은 액체를 배출하지 않도록 제어된다. 특히 바람직한 실시예에 따라 다른 측면 상의 노즐들에는 이 시간 동안 저압이 가해지고(활성화되고), 이로써 액체가 노즐들을 통해 흡입된다. 하나의 측면 상에서 배출되는 액체의 양이 다른 측면 상에서 흡입되는 액체의 양에 정확히 상응하는 것이 특히 바람직하다. 상이한 모드(배출/흡입)로 실시되는 두 측면들의 코디네이트된 활성화에 의해, 노즐을 통해 층류식으로 배향되는 흐름의 속도가 증가하고 이로써 세정 결과가 개선되고 및/또는 세정에 필요한 이동하는 액체량이 감소한다. 짧은 처리 지속 시간 후, 측면들이 바뀌므로, 액체가 교번식으로 좌측 또는 우측으로부터 기판 블록을 향한다. 본 발명에 따른 샤워 엘리먼트의 한 부분(한 측면)이 각각 하나의 노즐 바를 구비한 다수의 세그먼트들을 포함하면, 직접 대향 배치된 노즐들이 동시에 동일한 모드로 활성화되지 않는 것도 보장된다. 세그먼트들이 좁게 인접하는 경우, 경우에 따라, 동일한 측면의 서로 인접한 세그먼트들이 서로 반대로 활성화되지 않도록 주의해야 하는데, 그 이유는 그렇지 않으면 하나의 세그먼트로부터 배출되는 세정액이 기판 블록의 사이 공간들을 통해 본 발명에 따른 바람직한 경로를 취하는 대신, 인접한 세그먼트에 의해 즉시 흡수될 것이기 때문이다. 당업자에게는 이것이 여러 방식으로 실시될 수 있는 것이 자명하다. 예컨대 하나의 측면 상에 주어진 전체 노즐 바들의 모든 노즐들이 유체 배출 모드로 활성화되는 한편, 대향 배치된 측면 상의 노즐 전체는 유체 흡입 모드로 활성화될 수 있다. 대안으로, 측면으로 인접한 세그먼트들의 노즐들 또는 노즐 바들은 직접 인접한 세그먼트들이 동시에 동일한 모드로 활성화되지 않도록 제어되고, 여기에서도 직접 대향 배치된 노즐들, 또는 노즐 바들 또는 세그먼트들이 동시에 동일한 모드로 활성화되지 않는 것이 두 측면을 고려하여 적용된다.

교번 제어를 실시하기 위해, 종래 기술에 공지된 모든 장치들이 사용될 수 있다. 이를 위해, 특히 바람직하게는 전기식 또는 압축 공기식 밸브 및 단방향 또는 양방향 작동식 펌프 등이 사용된다. 예컨대, 본 발명에 따라 주어지는 고압 또는 저압이 펌프에 의해 제공될 수 있고, 상기 펌프의 입구는 흡입 작동식 노즐 바와, 상기 펌프의 출구는 배출 작동식 노즐 바와 연결된다. 양방향 작동식 펌프의 경우, 본 발명에 따른 교번은 펌프의 송출 방향의 간단한 변경에 의해 이루어진다. 단방향 펌프의 경우, 상응하게 스위칭 가능한 다방향 밸브가 사용된다. 대안으로 또는 추가로, 각각의 저압 또는 고압 및/또는 개별 노즐 바를 담당하는 다수의 펌프들이 제공될 수 있다. 본 발명에 따른 교번 제어에 의해, 세정이 최적으로 진행될 수 있다. 배출 또는 흡입 거동의 개선을 위해, 2개의 상이한 타입의 노즐이 제공될 수 있다. 이 경우, 노즐 타입 당 하나의 단방향 흐름만을 가능하게 하는 예컨대 체크 밸브와 같은 상응하는 수단이 제공된다. 또한, 각각의 노즐에 대해 개별적으로 상응하는 수단들이 제공되거나, 또는 상응하는 공통 공급 또는 배출 라인과 각각 연결되어야 하는 한 타입의 노즐의 그룹에 대해 상응하는 수단들이 제공된다. 또한, 하나의 타입의 노즐들을 통합하여 상응하는 노즐 바를 형성하는 것도 가능하다.

또한, 유체를 적어도 하나의 샤워 엘리먼트로 이송하는 수단들이 제공된다. 세정 공정에 있어서, 공정 파라미터로서는 특히 유체(또는 액체)의 양 및 그 흐름 속도가 결정적이다. 2개의 파라미터들은 적합한 공지된 수단에 의해 변경될 수 있다. 본 발명에 따라, 샤워 엘리먼트의 전체 배출 개구들에서 유체의 압력은 0.1 내지 1.0bar의 값, 바람직하게는 0.2 내지 0.5bar의 값으로 설정될 수 있다.

바람직하게는 적어도 하나의 샤워 엘리먼트 또는 상기 엘리먼트의 부분들 또는 세그먼트들의 전술한 운동에 추가해서, 세정 공정을 위해, 즉 사이 공간으로부터 슬러리의 제거를 위해, 선택적으로, 샤워 장치가 고정식 캐리어 장치에 대해 상대 운동하거나 또는 캐리어 장치가 고정식 샤워 장치에 대해 상대 운동한다.

유체 흐름이 사이 공간들을 통해 흘러가도록, 캐리어 장치는 개방된 측면들이 탱크의 2개의 측 벽들, 및 탱크의 베이스 방향을 향하도록 위치 설정된다. 본 발명에 따른 샤워 장치의 교번식 활성화에 의해, 슬러리는 사이 공간의 하나의 측면 및 다른 측면으로부터 씻겨나온다.

유체의 체적 유량 증가에 의해, 자유 단부들에 접착된 웨이퍼들이 서로 간격을 두고 유지되는 장점이 얻어지고, 이는 특히 상이한 모드로 실시되는 전술한 반대 방향의 작동에 의해 증대된다.

많은 체적 유량의 다른 장점은 웨이퍼가 적어도 미미하게 진동하므로 웨이퍼의 표면에 달라붙은 슬러리가 쉽게 분리될 수 있는 것이다.

세정 공정을 더 최적화하기 위해, 적어도 하나의 초음파 및/또는 메가 사운드 장치가 제공되고, 상기 장치는 탱크 내에 고정식 또는 이동식으로 탱크의 베이스 및/또는 적어도 하나의 샤워 엘리먼트의 각각의 부분에 배치된다. 이하에서, 상기 장치는 "초음파 소스"를 포함하고 "초음파"를 방사하는 "초음파 장치"라고 한다. 제 1 실시예에 따라 초음파 소스는 탱크의 베이스 상에 배치되고 기판 블록을 향해 상부로 방사한다. 대안의 또는 추가의 다른 실시예에 따라, 초음파 소스는 적어도 하나의 노즐 바 상에 배치되고 측면으로 기판 블록을 향해, 특히 인접한 기판들의 사이 공간들 내로 방사한다. 특히 바람직하게는 초음파 소스들은 샤워 엘리먼트의 한 부분의 노즐들과 함께, 초음파의 방사 및 유체의 배출 또는 흡입을 위한 노즐들의 활성화가 차례로 이루어질 수 있도록 예컨대 회전 가능하게 배치된다. 상기 부재들이 선택적으로 제어 가능하거나 또는 활성화 가능하게 제공되면, 상기 부재들이 옆으로 나란히, 앞 뒤로 차례로 또는 위 아래로 층층이 배치될 수 있다는 것은 당업자에게 자명하다.

또한 초음파 소스는 웨이퍼들에 대해 기울져서 또는 평행하게 배향되거나 배치될 수 있다.

상기 초음파-세정 공정은 바람직하게 적어도 하나의 샤워 엘리먼트에 의한 세정 공정에 바로 후속하거나 또는 샤워 엘리먼트에 의한 세정 공정의 부분일 수 있다. 웨이퍼들의 오염에 따라, 적어도 하나의 샤워 엘리먼트에 의한 처리 전에, 즉 유체가 정지된 상태에서, 예컨대 특히 딱딱한 오염물을 상응하게 예비 처리하기 위해 상기 초음파 세정 공정을 실시하는 것도 바람직하다. 이를 위해, 기판 블록의 하부에 배치된 초음파 소스들만이, 또는 노즐 바 상에 놓인 초음파 소스들, 또는 특히 바람직하게 모든 초음파 소스들이 동시에 작동될 수 있다. 이 경우 작동은 간헐적이며 연속적으로 이루어질 수 있고, 구체적으로 다양한 초음파 소스들과 관련해서 (개별 초음파 소스들 또는 초음파 소스 그룹들의 교번 작동) 그리고 상기 초음파 소스들 전체와 관련해서 (모든 초음파 소스들의 동시 스위칭 온 및 오프) 이루어질 수 있다. 또한 특히 노즐 바 상에 배치된 초음파 소스 또는 초음파 장치들은 샤워 장치에 의한 세정 과정 동안에도, 즉 유체가 흐르는 경우에도 작동하고, 흐르는 세정액에 초음파 진동을 할 수 있다. 이러한 지원 작동은 한 측면, 예컨대 배출 노즐 측면에 또는 양 측면에 제공될 수 있다. 마지막으로, 탱크 베이스에 배치되는 초음파 소스가 메가 사운드 범위로 방사하고, 적어도 하나의 샤워 장치에 배치된 초음파 소스들이 초음파 범위로 방사하거나, 또는 그 반대로 방사한다. 상기 공정을 실시하기 위해, 캐리어 장치가 배치되는 탱크가 유체로 채워져야 한다. 바람직하게, 초음파의 최적의 전달을 위해 차가운 유체가 사용된다. 바람직하게 온도는 화학 반응을 저지하고 기계적인 처리를 보장하기 위해 15 내지 25℃의 값으로 설정된다.

또한, 본 발명은 얇거나 및/또는 파손되기 쉬운 웨이퍼들을 전술한 장치에 의해 세정하는 방법에 관한 것이고, 웨이퍼의 한 측면이 캐리어 장치에 고정되어 있고 2개의 인접한 웨이퍼들 사이에 각각 하나의 사이 공간이 형성되고, 상기 장치는 실질적으로, 샤워 장치, 탱크 및 교번 제어부로 이루어지고, 상기 샤워 장치에 의해 유체가 사이 공간들 내로 제공되고, 상기 샤워 장치는 다수의 노즐들을 구비하며 2개의 부분들로 형성된 적어도 하나의 샤워 엘리먼트를 포함하고, 상기 2개의 부분들이 탱크의 종방향 축선에 대해 평행하게 연장하고 그 흐름 방향과 관련해서 대향하게 위치 설정되도록, 하나의 상기 부분의 측면이 각각 탱크의 종방향 측면에 배치되며, 상기 탱크는 유체로 채워질 수 있고, 캐리어 장치가 수용되도록 치수 설계되며, 상기 교번 제어부에 의해 적어도 하나의 샤워 엘리먼트의 2개의 부분들이 직접 대향 배치된 노즐들이 동시에 활성화되지 않도록 제어 가능하다. 본 발명에 따른 방법은 하기 방법 단계들을 특징으로 한다:

a) 웨이퍼들을 포함한 캐리어 장치를 비어 있거나 또는 부분적으로 채워진 탱크 내로 안내하는 단계,

b) 유체의 배출 또는 흡입의 활성화와 관련되는, 샤워 장치에 의한 세정 공정을 실시하는 단계.

바람직한 실시예에 따라, 본 발명에 따른 방법은 추가 방법 단계로서, c) 유체의 존재 하에 초음파 장치에 의한 세정 공정을 실시하는 단계를 포함하고, 상기 단계는 선택적으로 방법 단계 a) 전에 실시될 수도 있다.

경우에 따라 앞에 실시되는, 기판 블록의 초음파 처리 후, 탱크가 비워지고 후속 세정 공정이 적어도 하나의 샤워 엘리먼트로 시작되고, 상기 세정은 초음파- 및/또는 메가 사운드가 유체에 가해짐으로써 지원될 수 있다. 사이클, 즉 "샤워 엘리먼트에 의한 세정 공정" 및 "초음파에 의한 세정 공정"이 상응하게 교대하는 방식으로 공정이 필요에 따라 반복될 수 있다.

본 발명의 특수 설계에서, 기판 블록은 샤워 장치의 사용하에서 필요 시, 예컨대 계면 활성제를 포함한 유체와 같은 적합한 따듯한 화학적 첨가물로 세정될 수 있고, 이 경우 유체의 온도는 바람직하게 35 내지 40℃이다. 그 후 초음파 세정이 차가운 유체 내에서 이루어진다. 상기 두 공정들은 경우에 따라 반복된다.

마지막 공정으로서, 샤워 장치의 사용하에서 차가운 유체가 세정 공정에 제공된다. 이 공정은, 차가운 유체에 의한 샤워에 의해, 웨이퍼가 "건조"해서 경우에 따라 남아 있는 슬러리가 웨이퍼에 단단히 접착되는 것이 방지되는 장점을 갖는다.

샤워 유체는 본 발명에 따라 수성이고 바람직하게는 15 내지 40℃의 온도로 설정되고, 30 내지 40℃의 온도가 특히 바람직하다. 바람직하게 상기 유체는 적합한 비-포밍(unfoaming), 비 이온 계면 활성제를 0 내지 1 볼륨%의 양으로 포함하고, 총 유체 양에 대해 0.1 내지 0.5 볼륨%의 양이 특히 바람직하다. 바람직하게는 계면 활성제가 약 13.0의 (평균) pH-값을 가지고, 이로써 샤워 유체의 pH 값이 바람직하게는 12.0 보다 작은 바람직한 값으로, 특히 바람직하게는 10.5 내지 11.0의 값으로 설정될 수 있다. 또한 샤워 유체는 염기 또는 산 및 필요시 다른 화학 성분을 포함할 수 있다.

필요시, 본 발명에 따른 방법은 바람직한 실시예로 접착제 분리의 추가 방법 단계를 포함할 수 있다. 이를 위해 경우에 따라 보조 장치를 포함한 캐리어 장치가 사용된 접착제의 특성에 따라 적합한 액체를 포함하는 처리 탱크 내로 이동된다. 온도 및 pH-값이 40℃ 및 3.0 내지 4.0의 값으로 설정되는, 예컨대 아세트산을 사용한 수성 액체가 특히 적합하다고 증명되었다. 그 후, 웨이퍼가 세정되고, 이는 웨이퍼가 보조 장치에 의해, 물로 채워진 세척 탱크 내로 이동됨으로써 이루어진다. 상기 공정은 전술한 적어도 하나의 초음파 및/또는 메가 사운드 장치에 의해 지원될 수 있다.

방법의 다른 중요한 장점은, 상기 방법이 웨이퍼의 후속 처리 공정 내에 간단하게 편입될 수 있는 것이다. 특히 바람직하게, 공정 파라미터가 본 발명에 따라 정확하고 재현 가능하게 설정될 수 있고, 이로써 더 많은 수의 부품이 동일 품질 레벨로 처리될 수 있다.

다른 바람직한 실시예는 하기 설명, 도면 및 청구항에 제시된다.

본 발명에 따라, 세정 장치의 성능의 최적화에 의해, 얇고 파손되기 쉬운 디스크들이 자동으로, 품질상 매우 양호하게 세정될 수 있다.

도 1은 세정될 기판 블록(1)을 포함하는 캐리어 장치(2)의 개략도.
도 2는 도 1에 따른 캐리어 장치(2)를 수용하기 위한 보조 장치(8)의 사시도.
도 3은 도 2에 상응하는, 캐리어 장치(2)가 이미 수용된 보조 장치(8)의 사시도.
도 4는 2 부분-샤워 엘리먼트(16) 형태의 샤워 장치를 포함한 본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예의 개략도.
도 5a는 출발 위치에서 캐리어 장치가 이미 삽입된, 도 4에 상응하는 샤워 엘리먼트(16)를 포함한 본 발명에 따른 장치의 바람직한 실시예의 개략도.
도 5b는 초음파 장치(18) 및 양 측에 배치된 샤워 엘리먼트(16)가 정확하게 도시된, 다른 바람직한 실시예의 개략도.
도 5c는 초음파 장치(17) 및 유체의 배출 및 흡입을 위한 노즐들을 포함한 샤워 엘리먼트(16)의 개략도.

도 1에는 세정될 기판 블록(1)이 도시된다. 기판 블록(1)이 유리 기판(3) 및 고정 엘리먼트(4)로 이루어진 캐리어 장치(2) 상에 장착된다. 여기에 도시된 실시예에서, 기판의 블록(1)의 하나의 측면(5)이 유리 기판(3) 상에 편면 접착된다. 단면이 유리 판(3)에까지 이르는, 소잉 공정 후, 웨이퍼(6)라고 하는 개별 기판이 생긴다. 개별 웨이퍼(6)들 사이에 각각 하나의 사이 공간(7)이 생기고, 상기 사이 공간 내에 본 발명에 따른 세정 공정에 의해 제거되어야 하는 소위 슬러리(도시되지 않음)가 있다.

캐리어 장치(2)와 연결된 기판 블록(1)이 도 4 및 도 5에 도시된 바와 같은 본 발명에 따른 장치로 이동될 수 있도록, 캐리어 장치(2)가 도 2 및 도 3에 도시된 바와 같은 보조 장치(8)에 의해 이동된다. 바람직하게 보조 장치(8)는 측면에 배치되는, 도 4 및 도 5에 따른 장치와 협동하는 수단(9)을 포함한다. 상이한 크기의 캐리어 장치들(2)을 수용할 수 있도록, 수용 장치(10)가 제공된다. 상기 수용 장치는 캐리어 장치(2)의 수용을 위해 그 위치에 유연하게 위치 설정될 수 있다. 또한, 보조 장치(8)는 도 3에 따라 기판 블록(1)이 어떤 물체에 의도치 않게 부딪히지 않는 위치를 취하도록 형성된다. 도시된 실시예에서 로드들(11)은 기판 블록(1)을 그 사이에 포함하도록 제공된 수단들(9) 사이의 연결 엘리먼트들로서 배치된다.

세정 공정을 실시하기 위해, 도 5에 따른 장치(12)에 보조 장치(8)가 장착될 수 있다. 장치(12) 자체는 유체로 채워질 수 있는 탱크(14)를 포함하는 하우징(13)을 갖는다. 탱크(14)는, 보조 장치(8)가 탱크(14)에 의해 완전히 수용될 수 있도록 치수 설계된다.

탱크(14)는 바람직하게 보조 장치(8)를 상응하는 수단들(9)에서 수용할 수 있도록 형성된다.

또한, 장치(12)는 샤워 장치(15)를 포함한다. 샤워 장치(15)는, 2개의 부분들로 형성되며 캐리어 장치(2)의 종방향에 대해 평행하게 연장하는 샤워 엘리먼트(16)로 이루어진다.

도 5a 및 도 5b에 도시된 실시예에서, 횡방향 흐름을 형성하기 위해 샤워 엘리먼트(16)가 초음파 처리 동안 사용된다. 상기 샤워 엘리먼트는 탱크(14) 내에서 기판 블록(1)의 세정을 위해 횡방향 흐름을 생성시키는 노즐형 디자인을 갖는다.

또한, 하우징(13)의 베이스 면 상에 초음파 소스를 포함한 초음파 장치(18)가 제공된다. 상기 초음파 장치(18)는 필요에 따라 접속 또는 차단되고 추가로 사이 공간들(7) 내에 있는 슬러리를 느슨하게 하거나 또는 분리하기 위해 사용된다.

도 5에 도시된 초음파 장치(18)에 대한 대안으로서, 고정식 설치 대신, 탱크(14) 내부에서 임의의 위치로 이동될 수 있는 이동식 초음파 장치가 제공될 수 있다.

도 5c에는 본 발명에 따른 샤워 엘리먼트(16)가 상세히 도시된다. 유체 흐름(21)이 여기에서는 샤워 엘리먼트의 좌측에서 수평 방향으로 나오고, 상기 샤워 엘리먼트는 이를 위해 상응하는 노즐들을 포함한다(도시되지 않음). 파선으로 도시된 우측 상부 및 하부 영역에, 바람직하게 샤워 엘리먼트와 동일한 기하학적 구조를 가진 2개의 부재들이 배치된다. 바람직한 실시예에 따라 상기 영역들은 초음파 장치(17) 및 흡출 장치의 기능을 나타낸다. 대안으로, 상기 영역들은 도시된 위치에서 상부 또는 하부로 방사하는 초음파 장치 및 메가 사운드 소스의 기능을 가질 수 있고, 샤워 엘리먼트는 이 경우 구성상 유체를 배출 및 흡입할 수 있어야 한다. 도시된 샤워 엘리먼트의 상응하는 부분들을 본 발명에 따라 최적으로 사용하기 위해, 초음파 장치(17)가 샤워 엘리먼트(16)의 한 부분의 노즐과 함께, 초음파의 방사 및 유체의 배출 또는 흡입을 위한 노즐의 활성화가 차례로 이루어질 수 있도록 예컨대 회전 가능하게 배치된다. 전술한 부재들이 선택적으로 제어 또는 활성화 가능하게 제공되면, 상기 부재들이 옆으로 나란히, 앞 뒤로 차례로 또는 위 아래로 층층이 배치될 수 있는 것은 당업자에게 자명하다.

작동 방식:

세정 공정은 하기와 같이 이루어진다:

캐리어 장치(2)가 보조 장치(8)와 함께 장치(12) 내로 삽입된 후(도 5), 캐리어 장치(2)는 개별 웨이퍼(6)가 베이스(20)를 향하게 되는 위치를 취한다. 이는 사이 공간들(7)이 각각 탱크(14)의 측면에 대해 그리고 탱크(14)의 베이스(20)를 향해 개방되는 것을 의미한다.

세정 공정은 바람직하게, 기판 블록이 우선 특정 시간 동안 세정 유체로 채워진 탱크 내에서 초음파 및/또는 메가 사운드로, 경우에 따라 교번식으로 조사됨으로써 시작된다. 이로써 세정될 슬러리가 느슨해진다.

그 후, 샤워 장치(15)가 활성화된다. 샤워 엘리먼트(16)로부터 배출되는 유체 흐름(21)이 각각의 사이 공간들(7) 내에 도달하고 상기 사이 공간을 적어도 부분적으로 통과한 뒤, 유체 흐름이 탱크(14)의 베이스(20) 방향으로 다시 배출되거나 또는 흡입 모드로 활성화된 대향 배치된 노즐에 의해 흡입된다.

특히 바람직하게는 유체 흐름 및/또는 초음파를 이용한 세정 동안, 전술한 특수 노즐 형태 및/또는 특수하게 이를 위해 제공된 장비를 이용해서 기포가 유체 흐름 내로 활발하게 도입된다. 또한, 특히 바람직하게는 기판 블록의 길이에 대해 평행하게 연장하는, 노즐 또는 노즐 바의 수평 운동이 이루어진다. 자세히 전술한 조치에 의해, 슬러리가 개별 사이 공간들(7)로부터 제거될 수 있다. 오염도에 따라, 경우에 따라 초음파에 의한 세정을 포함하는 상기 세정 공정이 임의로 자주 반복될 수 있다. 유체 흐름(21) 자체가 바람직하게 템퍼링되고, 25℃ 내지 40℃의 온도를 가질 수 있다.

그 후, 바람직한 실시예에 따라, 초음파 장치(18)에 의한 새로운 초음파 세정이 실시된다. 이 경우, 탱크(14)는 초음파 소스로부터 음파의 전달을 위해 유체로 채워져야 한다.

그 후, 탱크(14)가 비워지고 경우에 따라 이전의 및/또는 후속의 초음파 및/또는 메가 사운드 조사 하에서 이미 전술한 샤워 과정이 필요한 경우 다시 시작된다. 이로써, 개별 단계들이 임의로 반복될 수 있다. 그 후 세정된 기판 블록(1)을 꺼내기 전에 바람직하게는 한번 더 샤워 과정이 실시되고, 특히 차가운 유체로 실시된다. 이로써, 아직 존재하는 슬러리가 적어도 바로 건조되는 것을 방지할 수 있다.

본 발명에 따른 장치(1) 및 본 발명에 따른 방법의 적용에 의해, 얇고 파손되기 쉬운 디스크들이 자동으로 세정될 수 있다. 특히 반도체- 및 솔라 산업용 웨이퍼 제조시 소위 슬러리가 소잉 공정 후 바로 제거되어야 한다. 이러한 슬러리는 매우 강하게 개별 웨이퍼의 표면에 접착하기 때문에 지금까지 수동으로 처리되어야 했다. 본 발명에 따른 방법에 의해, 품질이 매우 양호하고 자동화된 웨이퍼(6)의 세정이 달성될 수 있다.

본 발명은 실리콘 웨이퍼의 처리와 관련해서 설명되었다. 그러나, 플라스틱과 같은 다른 재료로 이루어진 디스크형 기판도 본 발명에 따라 처리될 수 있다.

1. 기판 블록
2. 캐리어 장치
3. 유리 판
4. 고정 엘리먼트
5. 측면
6. 웨이퍼
7. 사이 공간
8. 보조 장치
9. 수단
10. 수용 장치
11. 로드
12. 장치
13. 하우징
14. 탱크
15. 샤워 장치
16. 샤워 엘리먼트
17. 초음파 장치 / 노즐 바
18. 초음파 장치 / 탱크
19. 초음파 소스
20. 베이스
21. 유체 흐름
22. 회전 화살표

Claims (14)

1. 웨이퍼(6)들의 한 측면은 캐리어 장치(2)에 고정되고, 2개의 인접한 웨이퍼(6)들 사이에 사이 공간(7)이 형성되는, 얇거나 파손되기 쉬운 웨이퍼(6)들의 세정 장치로서,
   - 유체를 각각의 상기 사이 공간(7)들 내로 분사하며, 복수의 노즐들을 구비하고 2개의 부분들로 형성된 적어도 하나의 샤워 엘리먼트(16)를 포함하고, 상기 2개의 부분들이 탱크의 종방향 축선에 대해 평행하게 연장되고 상기 2개의 부분들의 흐름 방향에 있어서 서로 대향하는 방향으로 배열되도록, 상기 2개의 부분들은 각각의 개별 부분이 상기 탱크(14)의 장측의 측면을 따라서 배치되는 샤워 장치(15),
   - 유체로 채워질 수 있고 상기 캐리어 장치(2)를 수용하도록 치수 설계되는 탱크(14),
   - 상기 적어도 하나의 샤워 엘리먼트(16)의 상기 2개의 부분들을 서로 독립적으로 작동시킬 수 있는 교번 제어부를 포함하고,
   상기 적어도 하나의 샤워 엘리먼트(16)의 상기 2개의 부분들은 유체의 배출을 위해 고압으로, 유체의 흡입을 위해 저압으로 활성화될 수 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 세정 장치.
2. 제 1 항에 있어서, 상기 샤워 엘리먼트(16)의 각각의 개별 부분의 노즐들은 기능상 적어도 하나의 노즐 바를 통해 서로 연결되고, 이로써 고압 또는 저압의 동일한 압력으로 채워질 수 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 세정 장치.
3. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 적어도 하나의 상기 샤워 엘리먼트(16)는 양 측면에서 복수의 세그먼트들로 나누어지고, 상기 세그먼트들의 각각은 각각 하나의 노즐 바를 갖는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 세정 장치.
4. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 샤워 엘리먼트(16)의 상기 2개의 부분들의 위치가 경우에 따라 서로 별도로 조절될 수 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 세정 장치.
5. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 선택적으로, 상기 샤워 장치(15)가 고정식 상기 캐리어 장치(2)에 대해, 또는 상기 캐리어 장치(2)가 상기 고정식 샤워 장치(15)에 대해, 또는 상기 캐리어 장치(2)와 상기 샤워 장치(15)가 서로에 대해, 상대 운동할 수 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 세정 장치.
6. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 탱크(14) 내에서 선택적으로 고정식 또는 이동식으로 배치되는 적어도 하나의 초음파 장치(18)가 제공되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 세정 장치.
7. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 적어도 하나의 샤워 엘리먼트(16)의 각각의 부분이 적어도 하나의 초음파 장치를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 세정 장치.
8. 제 1 항 또는 제 2 항에 있어서, 상기 노즐들을 통해 배출되는 세정액의 흐름 내로 기포를 도입하는 장비를 더 포함하고, 상기 기포의 크기는 1 내지 500㎛ 범위에 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 세정 장치.
9. 제 7 항에 있어서, 상기 초음파 장치는 상기 샤워 엘리먼트(16)의 하나의 부분의 상기 노즐들과 함께, 초음파의 방사와 유체의 배출 또는 흡입을 위한 상기 노즐들의 활성화가 교대로 이루어질 수 있도록 배치되고 제어될 수 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 세정 장치.
10. 샤워 장치(15), 탱크(14) 및 교번 제어부를 포함하는 장치에 의해, 웨이퍼들의 한 측면이 캐리어 장치(2)에 고정되고 2개의 인접한 웨이퍼들 사이에 사이 공간(7)이 형성되는, 얇거나 파손되기 쉬운 웨이퍼(6)들의 세정 방법으로서,
    상기 샤워 장치(15)는 유체를 개별 사이 공간(7)들 내로 분사하며, 복수의 노즐들을 구비하고 2개의 부분들로 형성된 적어도 하나의 샤워 엘리먼트(16)를 포함하고, 상기 샤워 엘리먼트의 상기 2개의 부분들이 탱크(14)의 종방향 축선에 대해 평행하게 연장하고 상기 2개의 부분들의 흐름 방향에 있어서 서로 대향하는 방향으로 배열되도록, 상기 2개의 부분들은 각각의 개별 부분이 상기 탱크(14)의 장측의 측면을 따라서 배치되며,
    상기 탱크(14)는 유체로 채워질 수 있고 상기 캐리어 장치(2)를 수용하도록 치수 설계되며,
    상기 교번 제어부는 상기 적어도 하나의 샤워 엘리먼트(16)의 상기 2개의 부분들을 서로 독립적으로 작동시킬 수 있고,
    상기 적어도 하나의 샤워 엘리먼트(16)의 상기 2개의 부분들은 유체의 배출을 위해 고압으로, 유체의 흡입을 위해 저압으로 활성화될 수 있고,
    상기 웨이퍼(6)들을 포함한 상기 캐리어 장치(2)를 비어 있거나 부분적으로 채워진 상기 탱크(14) 내로 삽입한 후의 상기 샤워 장치(15)에 의한 세정 공정은, 상기 샤워 엘리먼트의 상기 2개의 부분들이 활성화될 때 상기 샤워 엘리먼트의 직접 대향 배치된 노즐들이 동시에 동일 모드로 활성화되지 않도록 실행되는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 세정 방법.
11. 제 10 항에 있어서, 추가 방법 단계로서, 유체의 존재 하에 초음파 장치(17; 18)에 의한 세정 공정을 실시하는 단계를 포함하는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 세정 방법.
12. 제 10 항 또는 제 11 항에 있어서, 상기 세정 공정 동안, 상기 노즐들을 통해 배출된 세정액의 흐름 내로 기포의 도입이 이루어지고, 상기 기포의 크기는 1 내지 500㎛ 범위에 있는 것을 특징으로 하는 웨이퍼의 세정 방법.
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