JP2003098230A - 半導体試験装置 - Google Patents

半導体試験装置

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JP2003098230A
JP2003098230A JP2001293937A JP2001293937A JP2003098230A JP 2003098230 A JP2003098230 A JP 2003098230A JP 2001293937 A JP2001293937 A JP 2001293937A JP 2001293937 A JP2001293937 A JP 2001293937A JP 2003098230 A JP2003098230 A JP 2003098230A
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Katsutaka Iwamoto
勝隆 岩本
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Toshiba Electronic Device Solutions Corp
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Toshiba Corp
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 この発明は、多値出力のパス/フェールを試
験する試験時間を短縮した半導体試験装置を提供するこ
とを課題とする。 【解決手段】 この発明は、A/Dコンバータ11によ
りディジタルデータに変換された多値出力と、パターン
ジェネレータ12で発生されたディジタルデータの判定
レベルとを、ディジタルデータ比較回路14により多値
出力のレベル毎に順次比較して、多値出力のパス/フェ
ールを判定するように構成される。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】この発明は、多値出力の半導
体デバイスにおけるファンクションテストのパス(PAS
S)/フェール(FAIL)を判定する半導体試験装置に関
する。
【0002】
【従来の技術】従来、この種の半導体試験装置として
は、例えば図7に示すものが知られている。図7におい
て、半導体試験装置では、被試験対象の半導体デバイス
70から出力されたロジック信号のパス/フェール判定
を行なう場合に、H(ハイ)レベルを判定するために、
コンパレータ(CMP )71の判定レベルVOHをレジス
タ72に設定し、L(ロウ)レベルを判定するために、
コンパレータ(CMP )73の判定レベルVOLをレジス
タ74に設定する。パス/フェール判定を行なう半導体
デバイス70のロジック信号は、タイミングジェネレー
タ75からコンパレータに与えられる比較タイミング
で、VOHレベルとコンパレータ71により比較され、
かつVOLレベルとコンパレータ73により比較され
る。
【0003】コンパレータ71、73のそれぞれで比較
された比較結果は、タイミングジェネレータ75からパ
ターンジェネレータ76に与えられるタイミングで、半
導体デバイス70が出力すると期待されるデータ(以
下、期待値と称す)を発生するパターンジェネレータ7
6から出力される期待値とディジタルコンパレータ77
により比較される。パターンジェネレータ76への期待
値の設定は、テストパターンとして設定される。ディジ
タルコンパレータ77における比較結果のパス/フェー
ルの情報は、データフェイルメモリ78に与えられて記
憶され、またCPU79へ与えられる。
【0004】このような半導体試験装置では、レジスタ
72に設定されるVOHレベルよりも高いレベルである
Hレベル、レジスタ74に設定されるVOLレベルより
も低いレベルであるLレベル、VOHレベルとVOLレ
ベルの間のレベルであるZレベルの3種類のレベルしか
判定できなかった。このため、試験時に半導体デバイス
70から出力される、例えば図8に示すような多値(図
8では4値)出力波形81を、図8に示す(a)、
(b)、(c)、(d)、(e)のタイミングでパス/
フェールの判定を行なう場合には、図8に示すように、
まず(a)、(e)のタイミングで半導体デバイス70
から出力される多値出力におけるAレベルを判定するた
めに、まずAレベルを挟み込むようなコンパレータ7
1、73のVOHレベル、VOLレベルの設定を行
ない、(a)、(e)のタイミングではZ期待値、
(b)〜(d)のタイミングではH期待値となるような
期待値をテストパターンとしてパターンジェネレータ7
6に設定し、半導体デバイス70から出力される図8に
示す多値出力のパス/フェール判定を行なう。
【0005】次に、(b)のタイミングで半導体デバイ
ス70から出力される多値出力におけるBレベルを判定
するために、Bレベルを挟み込むようなコンパレータ7
1、73のVOHレベル、VOLレベルの設定を行
ない、(a)、(e)のタイミングではL期待値、
(b)のタイミングではZ期待値、(c)、(d)のタ
イミングではH期待値となるような期待値をテストパタ
ーンとしてパターンジェネレータ76に設定し、半導体
デバイス70から図8に示す多値出力を出力してパス/
フェール判定を行なう。
【0006】次に、(c)のタイミングで半導体デバイ
ス70から出力される多値出力におけるCレベルを判定
するために、Cレベルを挟み込むようなコンパレータ7
1、73のVOHレベル、VOLレベルの設定を行
ない、(a)、(b)、(e)のタイミングではL期待
値、(c)のタイミングではZ期待値、(d)のタイミ
ングではH期待値となるような期待値をテストパターン
としてパターンジェネレータ76に設定し、半導体デバ
イス70から図8に示す多値出力を出力してパス/フェ
ール判定を行なう。
【0007】最後に、(d)のタイミングで半導体デバ
イス70から出力される多値出力におけるDレベルを判
定するために、Dレベルを挟み込むようなコンパレータ
71、73のVOHレベル、VOLレベルの設定を
行ない、(a)、(b)、(c)、(e)のタイミング
ではL期待値、(d)のタイミングではZ期待値となる
ような期待値をテストパターンとしてパターンジェネレ
ータ76へ設定し、半導体デバイス70から図8に示す
多値出力を出力してパス/フェール判定を行なう。
【0008】このように、コンパレータ71、73のV
OHレベル、VOLレベルの設定、テストパターンによ
るパターンジェネレータ76の期待値の設定を4回行な
い、半導体デバイス70から図82に示す多値出力波形
を4回出力し、多値出力におけるA〜Dレベルのパス/
フェール判定が終了する。
【0009】上記のように、図7に示す従来の半導体試
験装置において、多値出力波形のパス/フェール判定を
行なう場合には、コンパレータ71、73のVOHレベ
ル、VOLレベルの設定、ならびにパターンジェネレー
タ76の期待値の設定を多値出力波形の段数分(上記従
来例の図8に示す多値出力波形では4段分)の設定を行
なう必要があった。また、パターンジェネレータ76に
期待値の設定を行なうためのテストパターンは、上記と
同様に多値出力波形の段数分の数を用意し、半導体デバ
イス70から多値出力波形を上記と同様に多値出力波形
の段数分の数(上記従来例の図8に示す多値出力波形で
は4回)出力して、それぞれ対応したテストパターンと
比較してパス/フェール判定を行う必要があった。この
ため、多値出力波形の段数の数が増えるほど、VOLレ
ベル、VOHレベルならびに期待値の設定回数が増え、
かつ比較回数も増加するため、試験時間が長くなってい
た。
【0010】
【発明が解決しようとする課題】以上説明したように、
多値出力を与える半導体デバイスを試験する従来の半導
体試験装置において、半導体デバイスから出力される多
値出力のLレベル、Hレベルを判定する判定レベルの設
定、ならびにLレベル、Hレベルの判定結果と比較され
る期待値の設定は、多値出力の段数が増加するにともな
って増えていた。また、半導体デバイスの多値出力の出
力回数、ならびに半導体デバイスの多値出力のLレベ
ル、Hレベルの判定結果と期待値との比較回数も、多値
出力の段数が増加するにともなって増えていた。このた
め、多くの試験時間がかかるといった不具合を招いてい
た。
【0011】そこで、この発明は、上記に鑑みてなされ
たものであり、その目的とするところは、多値出力のパ
ス/フェールを試験する試験時間を短縮した半導体試験
装置を提供することにある。
【0012】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、課題を解決する手段は、被試験デバイスからアナロ
グデータとして出力され、複数の異なるレベルを有する
多値出力を受けて、該多値出力をディジタルデータに変
換するA/Dコンバータと、前記多値出力のそれぞれの
レベル毎に設定され、前記多値出力のパス/フェールを
判定するディジタルデータの判定レベルを発生するパタ
ーンジェネレータと、前記A/Dコンバータで得られた
前記多値出力のディジタルデータと、前記パターンジェ
ネレータで発生された判定レベルとを、前記多値出力の
それぞれのレベル毎に比較し、比較結果にしたがって前
記多値出力のパス/フェールの判定結果を与えるディジ
タルデータ比較回路と、前記A/Dコンバータに前記多
値出力のそれぞれのレベル毎にA/D変換のタイミング
を指示し、前記パターンジェネレータにディジタルデー
タに変換された前記多値出力のそれぞれのレベルと、対
応する判定レベルとを比較するタイミングを指示するタ
イミングジェネレータとを有することを特徴とする。
【0013】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いてこの発明の実
施形態を説明する。
【0014】図1はこの発明の一実施形態に係る半導体
試験装置の構成を示す図である。図1において、この実
施形態の半導体試験装置は、被試験対象の半導体デバイ
ス10から出力される多値出力を受けるA/Dコンバー
タ11、半導体デバイス10の出力の期待値となるテス
トパターンを出力するパターンジェネレータ12、A/
Dコンバータ11にA/D変換のタイミングを指示する
タイミング信号を与え、かつパターンジェネレータ12
にテストパターンの出力タイミングを指示するタイミン
グ信号を与えるタイミングジェネレータ13、A/Dコ
ンバータ11の出力とパターンジェネレータ12の出力
を比較するディジタルデータ比較回路14、ディジタル
データ比較回路14の比較結果のパス/フェール判定結
果を記憶するディジタルフェールメモリ15ならびにC
PU16を備えて構成される。
【0015】上記構成において、半導体デバイス10か
ら出力された多値出力は、A/Dコンバータ11によっ
てタイミングジェネレータ13から与えられるタイミン
グでディジタルデータに変換される。A/Dコンバータ
11によって得られたディジタルデータは、タイミング
ジェネレータ13から与えられるタイミングでパターン
ジェネレータ12から発生される判定レベルデータ(期
待値)とディジタルデータ比較回路14で比較される。
比較結果のパス/フェールの情報は、データフェールメ
モリ15、CPU16へ与えられる。
【0016】図2はディジタルデータ比較回路14の構
成を示す図である。図2において、ディジタルデータ比
較回路14は、4つの比較回路141−1、141−
2、141−3、141−4と、H側判定回路142な
らびにL側判定回路143を備えて構成されている。
【0017】図3は比較回路141−1〜141−4の
論理図を示し、図4は図3の真理値図を示し、図5は図
3の回路構成を示す図である。
【0018】図3に示す論理図は、図4の真理値に示す
ように、A、B、Cとある3入力の論理データの比較を
行なうもので、A>Bの条件の時に出力Wが“1”、A
=Bの条件の時に出力Xが“1”、B=Cの条件の時に
出力Yが“1”、B>Cの条件の時に出力Zが“1”と
なるものである。このような論理演算は、図5に示すよ
うな論理ゲートの組み合わせ構成によって実現される。
【0019】次に、図2に戻って、ディジタルデータ比
較回路14の比較動作について説明する。
【0020】A/Dコンバータ11でディジタルデータ
に変換された半導体デバイス10の多値出力は、パター
ンジェネレータ12のH側判定データ発生部12−1、
L側判定データ発生部12−2に設定されてテストパタ
ーンとなるそれぞれのディジタルデータと、比較回路1
41−1〜141−4で各ビット毎に比較される。それ
ぞれの比較回路141−1〜141−4の比較結果出力
の出力W、出力Xは、H側判定回路142へ入力され、
比較結果出力の出力Y、出力Zは、L側判定回路143
へ入力され、H側判定回路142、L側判定回路143
の判定結果でパス/フェールが判定される。
【0021】例えば4ビットのA/Dコンバータ11を
使用し、A/Dコンバータ11のアナログ基準電圧を
2.5Vに設定すると、変換されるDCレベルが1.0
Vの場合に、A/Dコンバータ11の出力で得られるデ
ィジタルデータは“0110”または“0111”とな
る。このようなA/Dコンバータ11を使用した場合
に、パスと判定する判定レベルをL側レベル:0.78
V、H側レベル:1.25Vに設定すると、判定レベル
を4ビットで表したディジタルデータは、L側:“01
01”、H側“1000”となる。これがテストパター
ンとして、パターンジェネレータ12のH側判定データ
発生部12−1と、L側判定データ発生部12−2に設
定される。
【0022】A/Dコンバータ11から出力されるディ
ジタルデータが、“0110”の場合には、比較回路1
41−1の入力は入力A:“1”、入力B:“0”、入
力C:“0”となり、比較回路141−2の入力データ
は入力A、B、Cがそれぞれ“0”、“1”、“1”と
なり、比較回路141−3の入力データは入力A、B、
Cがそれぞれ“0”、“1”、“0”となり、比較回路
141−4の入力データは入力A、B、Cがそれぞれ
“0”、“0”、“1”となる。
【0023】比較回路141−1の比較結果の出力は出
力W:“1”、出力X:“0”となり、比較回路131
−2の出力は出力W、Xがそれぞれ“0”、“0”とな
り、比較回路141−3の出力は出力W、Xがそれぞれ
“0”、“0”となり、比較回路141−4の出力は出
力W、Xがそれぞれ“0”、“1”となる。比較回路1
41−1〜141−4のそれぞれの出力W、Xは、H側
判定回路142へ入力され、H側判定回路142の出力
は“0”となる。
【0024】また、比較回路141−1の出力は出力
Y:“1”、出力Z:“0”となり、比較回路141−
2の出力は出力Y、Zがそれぞれ“1”、“0”とな
り、比較回路141−3の出力は出力Y、Zがそれぞれ
“0”、“1”となり、比較回路141−4の出力は出
力Y、Zがそれぞれ“0”、“0”となる。比較回路1
41−1〜141−4のそれぞれの出力Y、Zは、L側
判定回路143へ入力され、L側判定回路143の出力
は“0”となる。したがって、H側判定回路142、L
側判定回路143の出力の判定データが共に“0”とな
るため、パス判定となる。また、A/Dコンバータ11
で変換される1.0VのDCレベルが、“0111”に
変換されたディジタルデータの場合であっても、H側判
定回路142、L側判定回路143の出力の判定データ
が共に“0”となるため、パス判定となる。
【0025】次に、フェールと判定されるDCレベルが
1.45Vの場合には、A/Dコンバータ11で得られ
たディジタルデータは“1001”となり、比較回路1
41−1の出力は出力W、Xがそれぞれ“0”、“1”
となり、比較回路141−2の出力は出力W、Xがそれ
ぞれ“0”、“1”となり、比較回路141−3の出力
は出力W、Xがそれぞれ“0”、“1”となり、比較回
路141−4の出力は出力W、Xがそれぞれ“0”、
“0”となる。これにより、H側判定回路142の出力
の判定データは“1”となる。
【0026】また、比較回路141−1の出力は出力
Y、Zがそれぞれ“0”、“1”となり、比較回路14
1−2の出力は出力Y、Zがそれぞれ“0”、“0”と
なり、比較回路141−3の出力は出力Y、Zがそれぞ
れ“1”、“0”となり、比較回路141−4の出力は
出力Y、Zがそれぞれ“1”、“0”となる。これによ
り、L側判定回路143の出力の判定データが“0”と
なる。したがって、H側判定回路142の出力の判定デ
ータが“1”、L側判定回路143の出力の判定データ
が“0”となるため、H側でフェール判定となる。
【0027】一方、フェールとなるDCレベルが0.4
7Vの場合には、A/Dコンバータ11で得られたディ
ジタルデータは“0011”となり、比較回路141−
1の出力は出力W、Xがそれぞれ“1”、“0”とな
り、比較回路141−2の出力は出力W、Xがそれぞれ
“0”、“1”となり、比較回路141−3の出力は出
力W、Xがそれぞれ“0”、“0”となり、比較回路1
41−4の出力は出力W、Xがそれぞれ“0”、“0”
となる。これにより、H側判定回路142の出力の判定
データは“0”となる。
【0028】また、比較回路141−1の出力は出力
Y、Zがそれぞれ“1”、“0”となり、比較回路14
1−2の出力は出力Y、Zがそれぞれ“0”、“0”と
なり、比較回路141−3の出力は出力Y、Zがそれぞ
れ“0”、“1”となり、比較回路141−4の出力は
出力Y、Zがそれぞれ“1”、“0”となる。これによ
り、L側判定回路143の出力の判定データは“1”と
なる。したがって、H側判定回路142の出力の判定デ
ータが“0”、L側判定回路143の出力の判定データ
が“1”となるため、L側でフェール判定となる。
【0029】このような、H側判定回路142、L側判
定回路143の判定結果をデータフェールメモリ15に
それぞれ記憶しておけば、フェール原因の解析におい
て、H側/L側のどちら側でフェールしたかを把握する
ことができる。また、フェール時に、CPU16の所定
のフラグを立て、フェールした以降のテストを中断する
するようにCPU16がテストルーチンを制御するよう
にしてもよい。
【0030】次に、8ビットのA/Dコンバータ11を
アナログ基準電圧を2.5Vで使用した場合に、図6に
示す半導体デバイス10の多値出力波形61をタイミン
グジェネレータ13から与えられる(a)、(b)、
(c)、(d),(e)のタイミングでパス/フェール
の判定を行う実施形態について説明する。
【0031】このような実施形態においては、半導体デ
バイス10から出力される多値出力波形61のタイミン
グ(a)、(e)における出力レベル(Aレベル)は、
0.5Vであり、このAレベルの8ビットディジタルデ
ータは、“00110011”となり、多値出力波形6
1のタイミング(b)における出力レベル(Bレベル)
は、1.0Vであり、このBレベルの8ビットディジタ
ルデータは、“01100110となり、多値出力波形
61のタイミング(c)における出力レベル(Cレベ
ル)は、1.5Vであり、このCレベルの8ビットディ
ジタルデータは、“10011010”となり、多値出
力波形61のタイミング(d)における出力レベル(D
レベル)は、2.0Vであり、このDレベルの8ビット
ディジタルデータは、“11001101”となる。
【0032】また、タイミング(a)、(e)における
Aレベルに対するL側の判定Lレベルは0.35V
(8ビットのディジタルデータは“0100001
1”)に設定され、H側の判定Hレベルは0.65V
(8ビットのディジタルデータは“0010010
0”)に設定され、タイミング(b)におけるBレベル
に対するL側の判定Lレベルは0.85V(8ビット
のディジタルデータは“01010111”)に設定さ
れ、H側の判定Hレベルは1.15V(8ビットのデ
ィジタルデータは“01110110”)に設定され、
タイミング(c)におけるCレベルに対するL側の判定
Lレベルは1.35V(8ビットのディジタルデータ
は“10001010”)に設定され、H側の判定Hレ
ベルは1.65V(8ビットのディジタルデータは
“10101001”)に設定され、タイミング(d)
におけるDレベルに対するL側の判定Lレベルは1.
85V(8ビットのディジタルデータは“101111
01”)に設定され、H側の判定Hレベルは2.15
V(8ビットのディジタルデータは“1101110
0”)に設定される。
【0033】8ビットのA/Dコンバータ11を使用す
ることで、図2に示すパターンジェネレータ12は、図
示しないがH側判定データ発生部12−1ならびにL側
判定データ発生部12−2がそれぞれ8ビットに拡張さ
れる。また、図2に示すディジタルデータ比較回路14
は、4つの比較回路141−5〜141−8(図示せ
ず)がさらに拡張され、それに伴って、図示しないがH
側判定回路142ならびにL側判定回路143の論理ゲ
ートも拡張される。すなわち、8ビットのデータの8ビ
ット目をMSB、1ビット目をLSBとすると、比較回
路141−1の入力AにH側判定データ発生部12−1
で発生されたテストパターンの8ビット目が与えられ、
入力BにA/Dコンバータ11の8ビット目のディジタ
ルデータが与えられ、入力CにL側判定データ発生部1
2−2で発生されたテストパターンの8ビット目が与え
られ、比較回路141−2の入力AにH側判定データ発
生部12−1で発生されたテストパターンの7ビット目
が与えられ、入力BにA/Dコンバータ11の7ビット
目のディジタルデータが与えられ、入力CにL側判定デ
ータ発生部12−2で発生されたテストパターンの7ビ
ット目が与えられ、比較回路141−3の入力AにH側
判定データ発生部12−1で発生されたテストパターン
の6ビット目が与えられ、入力BにA/Dコンバータ1
1の6ビット目のディジタルデータが与えられ、入力C
にL側判定データ発生部12−2で発生されたテストパ
ターンの6ビット目が与えられ、比較回路141−4の
入力AにH側判定データ発生部12−1で発生されたテ
ストパターンの5ビット目が与えられ、入力BにA/D
コンバータ11の5ビット目のディジタルデータが与え
られ、入力CにL側判定データ発生部12−2で発生さ
れたテストパターンの5ビット目が与えられる。
【0034】また、比較回路141−5の入力AにH側
判定データ発生部12−1で発生されたテストパターン
の4ビット目が与えられ、入力BにA/Dコンバータ1
1の4ビット目のディジタルデータが与えられ、入力C
にL側判定データ発生部12−2で発生されたテストパ
ターンの4ビット目が与えられ、比較回路141−6の
入力AにH側判定データ発生部12−1で発生されたテ
ストパターンの3ビット目が与えられ、入力BにA/D
コンバータ11の3ビット目のディジタルデータが与え
られ、入力CにL側判定データ発生部12−2で発生さ
れたテストパターンの3ビット目が与えられ、比較回路
141−7の入力AにH側判定データ発生部12−1で
発生されたテストパターンの2ビット目が与えられ、入
力BにA/Dコンバータ11の2ビット目のディジタル
データが与えられ、入力CにL側判定データ発生部12
−2で発生されたテストパターンの2ビット目が与えら
れ、比較回路141−8の入力AにH側判定データ発生
部12−1で発生されたテストパターンの1ビット目が
与えられ、入力BにA/Dコンバータ11の1ビット目
のディジタルデータが与えられ、入力CにL側判定デー
タ発生部12−2で発生されたテストパターンの1ビッ
ト目が与えられる。
【0035】また、H側判定回路142には、比較回路
141−1〜141−4の出力Wの反転値と比較回路1
41−5の出力W、Xの反転値を入力する論理(否定論
理積)ゲートと、比較回路141−1〜141−5の出
力Wの反転値と比較回路141−6の出力W、Xの反転
値を入力する論理(否定論理積)ゲートと、比較回路1
41−1〜141−6の出力Wの反転値と比較回路14
1−7の出力W、Xの反転値を入力する論理(否定論理
積)ゲートと、比較回路141−1〜141−7の出力
Wの反転値と比較回路141−8の出力W、Xの反転値
を入力する論理(否定論理積)ゲートが拡張される。
【0036】L側判定回路143には、比較回路141
−1〜141−4の出力Zの反転値と比較回路141−
5の出力Y、Zの反転値を入力する論理(否定論理積)
ゲートと、比較回路141−1〜141−5の出力Zの
反転値と比較回路141−6の出力Y、Zの反転値を入
力する論理(否定論理積)ゲートと、比較回路141−
1〜141−6の出力Zの反転値と比較回路141−7
の出力Y、Zの反転値を入力する論理(否定論理積)ゲ
ートと、比較回路141−1〜141−7の出力Zの反
転値と比較回路141−8の出力Y、Zの反転値を入力
する論理(否定論理積)ゲートが拡張される。
【0037】このような構成において、図6に示すよう
に、まず(a)のタイミングで多値出力波形のAレベル
の0.5VがA/Dコンバータ11でディジタルデータ
“00110011”に変換される。次に、パターンジ
ェネレータ12において一連のテストパターンとして設
定されているH側判定レベル“01000011”
(0.65V)、L側判定レベル“0010010
0”(0.35V)の各ビットデータが、(a)のタイ
ミングでディジタルデータに変換されたAレベルの各ビ
ットデータとディジタルデータ比較器回路14の対応す
る比較回路141−1〜141−8で比較される。比較
結果はH側判定回路142、L側判定回路143でAレ
ベルがパス、又はH側のフェール、L側のフェールが判
定される。
【0038】続いて、図6に示すように、(b)のタイ
ミングで多値出力波形のBレベルの1.0VがA/Dコ
ンバータ11でディジタルデータ“01100110”
に変換される。次に、パターンジェネレータ12におい
て一連のテストパターンとして設定されているH側判定
レベル“01110110”(1.15V)、L側判
定レベル“01010111”(0.65V)の各ビ
ットデータが、(b)のタイミングでディジタルデータ
に変換されたBレベルの各ビットデータとディジタルデ
ータ比較器回路14の対応する比較回路141−1〜1
41−8で比較される。比較結果はH側判定回路14
2、L側判定回路143でBレベルがパス、又はH側の
フェール、L側のフェールが判定される。
【0039】続いて、図6に示すように、(c)のタイ
ミングで多値出力波形のCレベルの1.5VがA/Dコ
ンバータ11でディジタルデータ“10011010”
に変換される。次に、パターンジェネレータ12におい
て一連のテストパターンとして設定されているH側判定
レベル“10101001”(1.65V)、L側判
定レベル“10001010”(1.35V)の各ビ
ットデータが、(c)のタイミングでディジタルデータ
に変換されたCレベルの各ビットデータとディジタルデ
ータ比較器回路14の対応する比較回路141−1〜1
41−8で比較される。比較結果はH側判定回路14
2、L側判定回路143でCレベルがパス、又はH側の
フェール、L側のフェールが判定される。
【0040】続いて、図6に示すように、(d)のタイ
ミングで多値出力波形のDレベルの2.0VがA/Dコ
ンバータ11でディジタルデータ“11001101”
に変換される。次に、パターンジェネレータ12におい
て一連のテストパターンとして設定されているH側判定
レベル“11011100”(2.15V)、L側判
定レベル“10111101”(1.85V)の各ビ
ットデータが、(d)のタイミングでディジタルデータ
に変換されたDレベルの各ビットデータとディジタルデ
ータ比較器回路14の対応する比較回路141−1〜1
41−8で比較される。比較結果はH側判定回路14
2、L側判定回路143でDレベルがパス、又はH側の
フェール、L側のフェールが判定される。
【0041】最後に、図6に示すように、(e)のタイ
ミングで多値出力波形のAレベルの0.5VがA/Dコ
ンバータ11でディジタルデータ“00110011”
に変換される。次に、パターンジェネレータ12におい
て一連のテストパターンとして設定されているH側判定
レベル“01000011”(0.65V)、L側判
定レベル“00100100”(0.35V)の各ビ
ットデータが、(e)のタイミングでディジタルデータ
に変換されたAレベルの各ビットデータとディジタルデ
ータ比較器回路14の対応する比較回路141−1〜1
41−8で比較される。比較結果はH側判定回路14
2、L側判定回路143でAレベルがパス、又はH側の
フェール、L側のフェールが判定される。
【0042】このように、(a)、(b)、(c)、
(d)、(e)の各タイミングでの各レベル毎の判定レ
ベルとなるテストパターンの設定を、パターンジェネレ
ータ12において1回行ない、上記各タイミングにおい
てパス/フェール判定するだけで、半導体デバイス10
の多値出力波形61における各レベルの判定を行うこと
が可能となる。
【0043】このように、N段のレベルがある多値出力
波形のパス/フェール判定を行なうには、従来技術では
パターンジェネレータと判定レベルであるコンパレータ
のVOH、VOLの設定、ならびにテストパターンのパ
ス/フェール判定をN回行なっていたが、上記実施形態
においては、1回のテストパターンの設定で、かつ半導
体デバイスから多値出力を1回出力するだけで、多値出
力のそれぞれのレベル毎のパス/フェール判定を行うこ
とが可能となる。このため、テストタイムは従来に比べ
て(N−1)/Nに短縮することができる。これは、多
値出力波形の段数(N)が増えるほど、テスト時間の短
縮効果が大きくなる。また、作成するテストパターンの
数もN本から1本に減らすことができる。
【0044】なお、上実施形態では、4ビットもしくは
8ビットのA/Dコンバータでアナログ基準電圧を2.
5Vに設定した例で説明したが、判定精度を向上せせる
ためには、A/Dコンバータの分解能を高め、アナログ
基準電圧を大きくし、また判定レベルのビット数を増や
すようにすればよい。例えばn(n>8)ビットのA/
Dコンバータを使用し、アナログ基準電圧の設定電圧を
Vref に設定し、判定レベルもnビットのディジタルデ
ータに設定し、n個分のディジタルデータ比較回路を用
意することで、判定しようとする多値出力波形のDCレ
ベルがVref まで判定できるようになり、判定精度もV
ref/2に向上させることができる。
【0045】
【発明の効果】以上説明したように、この発明によれ
ば、ディジタルデータに変換された多値出力とディジタ
ルデータの判定レベルとを、多値出力のレベル毎に順次
比較して、多値出力のパス/フェールを判定するように
したので、多値出力のパス/フェールを試験する試験時
間を短縮することができる。また、テストパターンの数
を削減することが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】この発明の一実施形態に係る半導体試験装置の
構成を示す図である。
【図2】ディジタルデータ比較回路の構成を示す図であ
る。
【図3】比較回路の論理構成を示す図である。
【図4】図3の真理値を示す図である。
【図5】図3の回路構成を示す図である。
【図6】多値出力の試験の一例を示す図である。
【図7】従来の半導体試験装置の構成を示す図である。
【図8】従来の半導体試験装置における多値出力の試験
の一例を示す図である。
【符号の説明】
10 半導体デバイス 11 A/Dコンバータ 12 パターンジェネレータ 13 タイミングジェネレータ 14 ディジタルデータ比較回路 15 ディジタルフェールメモリ 16 CPU

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 被試験デバイスからアナログデータとし
    て出力され、複数の異なるレベルを有する多値出力を受
    けて、該多値出力をディジタルデータに変換するA/D
    コンバータと、 前記多値出力のそれぞれのレベル毎に設定され、前記多
    値出力のパス/フェールを判定するディジタルデータの
    判定レベルを発生するパターンジェネレータと、 前記A/Dコンバータで得られた前記多値出力のディジ
    タルデータと、前記パターンジェネレータで発生された
    判定レベルとを、前記多値出力のそれぞれのレベル毎に
    比較し、比較結果にしたがって前記多値出力のパス/フ
    ェールの判定結果を与えるディジタルデータ比較回路
    と、 前記A/Dコンバータに前記多値出力のそれぞれのレベ
    ル毎にA/D変換のタイミングを指示し、前記パターン
    ジェネレータにディジタルデータに変換された前記多値
    出力のそれぞれのレベルと、対応する判定レベルとを比
    較するタイミングを指示するタイミングジェネレータと
    を有することを特徴とする半導体試験装置。
  2. 【請求項2】 前記ディジタルデータ比較回路のパス/
    フェールの判定結果を記憶するディジタルフェールメモ
    リと、 前記ディジタルデータ比較回路のパス/フェールの判定
    結果を受けて、前記被試験デバイスがフェールした時
    に、フェール時以降の試験を中止制御するCPUとを有
    することを特徴とする請求項1記載の半導体試験装置。
  3. 【請求項3】 前記ディジタルデータ比較回路は、 前記多値出力のパス/フェールの判定において、フェー
    ル時に前記多値出力が判定レベルに対してハイレベル側
    でフェールしたか、あるいはロウレベル側でフェールし
    たかの情報を与えることを特徴とする請求項1又は2記
    載の半導体試験装置。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007255961A (ja) * 2006-03-22 2007-10-04 Yokogawa Electric Corp Icテスタ
US8896332B2 (en) 2011-12-09 2014-11-25 Advantest Corporation Test apparatus with voltage margin test
JP2017512017A (ja) * 2014-01-17 2017-04-27 テクトロニクス・インコーポレイテッドTektronix,Inc. パルス振幅変調(pam)ビット・エラーの試験及び測定

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2007255961A (ja) * 2006-03-22 2007-10-04 Yokogawa Electric Corp Icテスタ
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