JP2003086721A - 半導体装置および半導体装置を用いた電子装置の設計支援方法 - Google Patents

半導体装置および半導体装置を用いた電子装置の設計支援方法

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Abstract

(57)【要約】 【課題】半導体装置の全ての電源端子およびGND端子
にバイパスコデンサもしくはEMIフィルタなどの部品
を実装するため、それらの実装部品数および実装面積が
増え、コスト増大および半導体装置の小型化の障害を引
き起こしていた。 【解決手段】例えば、半導体装置の電源/GND端子
毎、または所定の電源/GND端子のグループの電源雑
音強度または対策優先度を開示した半導体装置を提供す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は半導体装置または半
導体装置を実装基板に実装した電子装置の設計支援方法
に関する。
【0002】
【従来の技術】現在、半導体装置、例えばマイコンおよ
びASIC等のLSIの性能を表示するデータシートも
しくは販売カタログでは、LSIの電気特性として、
絶対定格(図14)、DC特性(図15)、AC特
性(図16)などが記載されている。また、AC特性に
ついては、各信号端子のクロック、制御、バス信号など
のタイミング精度および遅延時間等の特性(図17)が
記載されている。
【0003】しかし、LSIを実装した基板、その基板
を搭載した装置の不要輻射(EMI:lectro
agnetic nterference)や、そ
の基板、装置の動作精度に大きく関与する、全LSI電
源端子およびGND端子ごとの電源雑音強度もしくは、
雑音対策に関する端子ごとの対策方法および対策の優先
順位について記載されていなかった。
【0004】また、特開平07−007063では、図
18に示すようにLSIの電源/GNDパッドおよび信
号パッドにおいて、論理回路データおよびセル属性から
ノイズを嫌う信号パッドを特定し、その信号パッドと電
源/GNDパッドとの相互雑音係数を求め、雑音を嫌う
信号パッド近傍に雑音を発生する電源/GNDパッドが
あるかどうかを高精度に検証する方法を開示しており、
特開2000−174087では、図19に示すように
LSIチップの電源系ネットリストを抽出し、電源系ノ
イズ電流のシミュレーションを行い、電源系ネットリス
トとシミュレーション結果を表示することで、電源雑音
対策を効率良く行うことができるノイズ解析装置につい
て開示している。
【0005】しかし、LSIを基板に実装するユーザー
は、上記した検証方法もしくは解析装置を用いても、L
SIにおけるすべての電源端子およびGND端子の電源
雑音強度情報および対策優先度情報を得ることは困難で
あった。
【0006】そのため、ユーザーは、基板もしくは装置
の不要輻射の低減や、基板および装置の動作を安定させ
るため、LSIの全ての電源端子およびGND端子にバ
イパスコデンサもしくはEMIフィルタ等の対策部品を
実装していた。または、ユーザー自身が、購入した半導
体装置の電源端子およびGND端子ごとの雑音強度を測
定し、電源雑音強度が大きいLSI電源端子およびGN
D端子をユーザー自ら特定し対策部品等を実装してい
た。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】しかし、電源端子およ
びGND端子の中には電源雑音強度が小さいため雑音対
策する必要がない端子が存在するにもかかわらず、全て
の電源端子およびGND端子にバイパスコデンサもしく
はEMIフィルタなどの部品を実装するため、それらの
実装部品数および実装面積が増え、コスト増大および半
導体装置の小型化の障害を引き起こしていた。
【0008】一方、電源雑音強度が大きいLSI電源端
子およびGND端子をユーザー自ら特定し対策部品等を
実装する場合は、近年の高密度実装技術の発展により、
BGA(Ball Grid Array)やCSP(C
hip Size Package)などの表面実装タ
イプのLSIが頻繁に使われるようになり、LSI端子
近傍の磁界分布もしくは端子電位の測定によって、LS
I端子ごとの電源雑音強度を把握することが困難になっ
てきている。
【0009】本発明の目的は、LSIやマイコンなどの
半導体装置において、これら半導体装置を使った基板を
設計するユーザーが、適切な場所に適切なバイパスコン
デンサやEMIフィルタなどの部品を搭載することを可
能とする半導体装置を提供することである。
【0010】
【課題を解決するための手段】上記目的を達成するため
に、本願において開示される発明のうち、代表的なもの
の概要を簡単に説明すれば、次の通りである。複数の入
出力端子、電源端子およびGND端子を持つ半導体装置
であって、所定の電源端子およびGND端子、または所
定の電源またはGND端子グループについて、不要電磁
雑音の原因となる電源雑音強度に関する情報を開示した
ものである。
【0011】また、複数の入出力端子、電源端子および
GND端子を持つ半導体装置において、所定の電源端子
およびGND端子、または所定の電源またはGND端子
グループについて、不要電磁雑音を低減するために雑音
対策を行うべき優先順位である対策優先度に関する情報
を開示したものである。
【0012】また、前記半導体装置であって、前記電源
雑音強度に関する情報として、雑音電流または雑音電圧
または雑音電力値、または該雑音電流、該雑音電圧、該
雑音電力に相当する物理量を複数の周波数帯において開
示したものである。
【0013】また、前記半導体装置であって、前記電源
雑音強度に関する情報として、雑音電流または雑音電圧
または雑音電力値、または該雑音電流、該雑音電圧、該
雑音電力に相当する物理量を時間波形もしくはウェーブ
レット列を用いて開示したものである。
【0014】また、前記半導体装置であって、前記電源
雑音強度に関する情報として、雑音電流または雑音電圧
または雑音電力値、または該雑音電流、該雑音電圧、該
雑音電力に相当する物理量を該半導体装置の該入出力端
子使用数に対して開示した記述したものである。
【0015】また、前記半導体装置であって、前記対策
優先度に関する情報を複数の周波数帯において開示した
ものである。
【0016】また、前記半導体装置であって、前記対策
優先度に関する情報を時間波形もしくはウェーブレット
列を用いて開示したものである。
【0017】また、前記半導体装置であって、前記対策
優先度に関する情報を該半導体装置の該入出力端子使用
数に対して開示したものである。
【0018】また、前記半導体装置であって、さらに該
半導体装置のパッケージに固有に発生する該パッケージ
の共振による雑音強度および周波数に関する情報の少な
くともどちらかを複数の周波数帯について開示したもの
である。
【0019】また、前記半導体装置であって、前記電源
雑音強度に関する情報または前記対策優先度に関する情
報を該半導体装置のカタログシート、データシート、仕
様書、またはインターネットを用いて開示したものであ
る。
【0020】電子装置の設計支援方法であって、半導体
装置の所定の電源端子およびGND端子、または所定の
電源またはGND端子グループの不要電磁雑音の原因と
なる電源雑音強度に関する情報および不要電磁雑音を低
減するために雑音対策を行うべき優先順位である対策優
先度に関する情報の少なくともどちらか一方を提供する
工程と、該半導体装置が実装される実装基板の配線に関
する情報および該半導体装置に接続される電子部品に関
する情報に基づいて、該半導体装置が実装基板に実装さ
れた電子装置から生じる不要電磁雑音に関する情報を提
供する工程を有するものである。
【0021】電子装置の設計支援システムであって、半
導体装置の所定の電源端子およびGND端子、または所
定の電源またはGND端子グループの不要電磁雑音の原
因となる電源雑音強度に関する情報および不要電磁雑音
を低減するために雑音対策を行うべき優先順位である対
策優先度に関する情報の少なくともどちらか一方のデー
タベースと、該半導体装置を実装基板に実装した電子装
置から生じる不要電磁雑音を計算するシミュレーション
サーバを有するものである。
【0022】
【発明の実施の形態】以下、本発明について、図を参照
しながら実施の形態とともにその効果について詳細に説
明する。なお、実施の形態を説明するための全図におい
て、同一の機能を有するものは同一符号を付け、その繰
り返しの説明は省略する。 (実施の形態1)図1は、半導体装置の所定の電源端子
毎に電気特性に関する情報が開示されたデータシートま
たはカタログ、仕様書等を示す図である。
【0023】図1において、101は半導体装置、例え
ばマイコンの端子毎の電気特性を表示したデータシート
であり、102はデータシート101に記載された特性
を有するマイコンであり、103はマイコン102の端
子であり、104は端子103それぞれの端子番号であ
り、105は端子番号104を有する端子103の端子
名であり、106は端子番号104を有する端子103
の機能である。また、107は機能106を有する端子
103における、動作周波数に対する電源雑音強度を示
している。
【0024】図2(a)は、図14から図16までに示
した従来のデータシートを用いて、マイコン102およ
びメモリ205などの部品を基板に実装した場合を示し
ている。
【0025】図2において、201はマイコン102な
どの部品が実装された基板(電子装置)であり、202
はマイコン102の電源/GND端子であり、203は
電源/GND端子202の電位を安定させるために実装
されるバイパスコンデンサであり、204は電源/GN
D端子202から高周波電流が基板201に漏れ出さな
いために実装されるEMIフィルタであり、205は基
板201に実装されたメモリである。
【0026】従来のデータシートでは、基板201上に
実装するマイコン102において、すべての電源/GN
D端子202の電源雑音強度や対策優先度が不明である
ため、安全策として、すべての電源/GND端子202
にバイパスコデンサ203およびEMIフィルタ204
を実装していた。このため、マイコンなどの半導体装置
単体のサイズを縮小しても基板201の実装密度が上が
らないだけでなく、搭載部品数を減らすことも困難とな
り、コスト低減を妨げる要因となる。
【0027】図2(b)は、所定の電源/GND端子毎
の電気特性に関する情報が開示された半導体装置(図
1)を用いて、マイコン102およびメモリ205など
の部品を基板201に実装した実施の形態である。
【0028】この場合、図1に開示されたデータシート
101において、端子番号104がE4、F3である端
子103は端子名105がVSSQやVDDQであるこ
とから、電源/GND端子202であることが判定され
る。前記電源/GND端子202の電源雑音強度107
が、前記データシート101上において非常に小さく
(a、d ≪ b、c)記述されている場合、前記電源
/GND端子202にはバイパスコンデンサ203やE
MIフィルタ204を重点的に実装しなくて良い。した
がって、図2(a)に比べて、バイパスコデンサ203
やEMIフィルタ204を減らすことが可能になり、図
2(b)の(A)で囲んだ部分のように実装密度を上げ
ることができる。また、電源雑音強度107がそれほど
大きくない電源/GND端子202には、図2(b)の
(B)で囲んだ部分のようにEMIフィルタ204を減
らすだけでも実装密度はあげることができる。
【0029】このように、データシート等を用いて、半
導体装置の電源/GND端子202の電源雑音強度10
7に関する情報を開示することにより、電源雑音強度1
07が大きくない端子には余計なEMI対策部品を実装
することが無くなり、実装密度向上および低コスト実装
指針を示すことができる。その結果、マイコン102な
どの半導体装置を搭載した基板201に対するEMI対
策時間の短縮を実現することができる。
【0030】また、図1において、端子番号104がG
3である電源/GND端子202の電源雑音強度107
が他の電源/GND端子202に比べて大きい場合、本
実施例のデータシート101から予めこの情報を得るこ
とができ、バイパスコンデンサ203やEMIフィルタ
204などの対策用部品を事前に強化することができ
る。例えば、バイパスコデンサ203の容量を他に比べ
大きいものに変更したり、バイパスコデンサ203を実
装する位置を優先的にマイコン102近傍に配置するな
どの対策も可能になる。これによっても、マイコン10
2などの半導体装置を搭載した基板201に対するEM
I対策時間の短縮を実現することができる。
【0031】なお、図1では半導体装置の電源/GND
端子202の電源雑音強度107に関する情報を開示す
る方法として、電源雑音強度107を電圧値で表記して
いたが、電流値、電力値もしくは、電圧、電流、電力値
に相当する磁界強度および電界強度などを表記すること
でも同様の効果を得られることは言うまでもない。
【0032】また、電源雑音強度107を動作周波数の
整数倍ごとに表記していたが、時間波形の表記でも、ウ
ェーブレット列の表記でも同様の効果を得られることは
言うまでもない。
【0033】図3は、半導体装置の所定の電源端子およ
びGND端子について、不要電磁雑音を低減するために
雑音対策を行うべき優先順位である対策優先度に関する
情報を開示したデータシートを示す図である。この図に
おいて、301はマイコン102において機能106を
有する端子103における、動作周波数毎に記述された
EMI対策優先度である。
【0034】図1では、マイコン102などの半導体装
置の電源/GND端子202に対する電気特性を電源雑
音強度107(電圧値、電流値、電力値もしくは、電
圧、電流、電力値に相当する磁界強度および電界強度)
として、各周波数毎に表記していた。
【0035】しかし、図3のように、マイコン102な
どの半導体装置の電源/GND端子202に対する電気
特性を各動作周波数における対策優先度(優先度大:
A、優先度小:C)の表記に変えたとしても、低コスト
・高密度実装を実現し、EMI対策時間を短縮する実装
指針をユーザーに対して開示できることは言うまでもな
い。
【0036】また、図3において、電源雑音強度107
を動作周波数の整数倍ごとに表記しているが、時間波形
の表記でも、ウェーブレット列の表記でも同様の効果を
得られることは言うまでもない。
【0037】図4は、半導体装置の所定の電源端子およ
びGND端子について、I/O駆動数に対して記述した
電源雑音強度107もしくは対策優先度301を記載し
たデータシートを示す。
【0038】図4のように、マイコン102などの半導
体装置の電源/GND端子202に対する電気特性を、
マイコン102のI/O駆動本数、例えば、4I/O使
用ごとの電源雑音強度107もしくは対策優先度301
の表記に変えても、低コスト・高密度実装を実現し、E
MI対策時間を短縮する実装指針をユーザーに対して開
示できることは言うまでもない。
【0039】また、本発明の実施形態である、図1、
3、4において、半導体装置102の電源/GND端子
202の電源雑音強度107や対策優先度301の情報
を記載するだけでなく、半導体装置102のパッケージ
形状ごとに特有の共振周波数を記載することによって、
低コスト・高密度実装を実現し、EMI対策時間を短縮
する実装指針をユーザーに対して開示できることは言う
までもない。 (実施の形態2)図6は、半導体装置であるマイコン1
02の電源/GND端子202に対して、着色やマーキ
ングをすることで、電源雑音強度107が大きい、もし
くは対策優先度301が高い電源/GND端子202を
開示する実施形態である。
【0040】図6において、601はマイコン102内
部の半導体チップであり、602は電源雑音強度107
が大きい、もしくは対策優先度301が高いことを示す
ために着色された電源/GNDボールであり、603は
電源雑音強度107が大きい、もしくは対策優先度30
1が高いことを示すために着色された電源/GNDボー
ル群である。ただし、図6は半導体装置パッケージの1
/4を示した図である。
【0041】また、図7は、図6に示した半導体装置で
あるマイコン102の電源/GND端子202に対し
て、着色やマーキングをすることで、電源雑音強度10
7が大きい、もしくは対策優先度301が高い電源/G
ND端子202を開示する別の実施形態である。
【0042】図7において、701は電源/GND端子
202の対策優先度(例:優先度大A、優先度小 C)
を示す、もしくは電源雑音強度107が大きい、もしく
は対策優先度301が高い電源/GND端子202であ
ることを示すマーキングである。ただし、図7は半導体
装置パッケージの1/4を示した図である。
【0043】また、例えば図10のように、樹脂封止さ
れた半導体装置パッケージに電源雑音強度を捺印しても
よい。もしくは、図11のように、樹脂封止された半導
体装置パッケージに対策優先度を捺印してもよい。図1
0、11に示した実施の形態の場合、パッケージ表面に
会社名や製品名などの捺印記号と同時に電源雑音強度も
しくは対策優先強度などの情報を記すことができるた
め、製造工程を増加させることなく、ユーザーに対して
電源雑音強度もしくは対策優先度が開示された半導体装
置を提供することができる。
【0044】また、半導体装置の裏面に電源雑音強度も
しくは対策優先度が捺印されている半導体装置を基板へ
の実装レイアウトを行う時やこの半導体装置を実装した
基板の電源雑音もしくは不要輻射のシミュレーションを
行う時には、半導体装置に捺印された電源雑音強度もし
くは対策優先度を参照することができる。
【0045】図6、7、10、11に示した本発明の半
導体装置を使わない場合、マイコン102の電源雑音強
度107が大きい、もしくは、対策優先度301の高い
電源/GND端子202がはっきりしないため、安全策
として図2(a)のようにすべての電源/GND端子2
02にバイパスコンデンサ203およびEMIフィルタ
204を挿入しなければならなく、実装密度が低下し、
部品数も増えるためコスト増につながる。
【0046】しかし、図6、7、10、11に示した本
発明の半導体装置を使った場合、マイコン102の電源
雑音強度107が大きい、もしくは対策優先度301が
高い電源/GND端子202がはっきりするため、図2
(b)に示すように、バイパスコンデンサ203やEM
Iフィルタ204を必要最小限な電源/GND端子20
2に搭載することで、部品数を削減し高密度実装および
基板201の低コスト化を実現することが可能になり、
EMI対策時間の短縮も可能になる。
【0047】なお、図6、7のように、BGAタイプも
しくはQFPタイプのパッケージ形状を有する半導体装
置に関して実施形態を示したが、フリップチップBGA
やPGA(Pin Grid Array)もしくはDI
P(Dual InlinePackage)やSOP
(Small Outline Package)などの
パッケージ形状においても、図6、7と同じような本発
明の実施形態を行うことができ、同様の効果が得られる
ことは言うまでもない。
【0048】また、図10、11(a)はQFPタイプ
のパッケージにおける捺印の実施例であり、図10、1
1(b)はBGAタイプやPGAタイプなどのパッケー
ジにおける捺印の実施例であり、図10、11(c)は
エリアバンプタイプのBGAパッケージへの捺印の実施
例である。 (実施の形態3)図8は、半導体装置であるマイコン1
02の電源/GND端子202において電源雑音強度1
07もしくは対策優先度301などに関する情報を有す
るCAD用素子ライブラリの中にある半導体装置シンボ
ルの実施形態である。
【0049】図8において、801は基板レイアウト用
CADに用いられる端子部品や半導体装置などの素子ラ
イブラリ(データベース)であり、802は素子ライブ
ラリ801よりさまざまな素子シンボルを用いて基板2
01のレイアウトを行うCAD入力画面であり、803
は素子ライブラリ801からCAD入力画面802上で
任意の半導体装置を選んだときの半導体装置シンボルで
あり、804は半導体装置シンボル803上において電
源雑音強度107が大きい、もしくは対策優先度が高い
電源/GND端子202を示すマーキングであり、80
5は半導体装置シンボル803上の電源/GND端子2
02に対する電源雑音強度107や対策優先度301な
どの詳細情報を示した端子情報表示窓である。
【0050】従来、レイアウトCADを用いて、図2
(a)に示すマイコン102やメモリ205などの部品
を搭載した基板201のレイアウトを行う場合、マイコ
ン102の電源/GND端子202の電源雑音強度10
7もしくは対策優先度301が分からないため、すべて
の電源/GND端子202にバイパスコンデンサ203
やEMIフィルタ204などの対策部品を搭載できるよ
うにレイアウトする。これにより、実装密度が低下し、
部品数も増えるためコスト増につながる。また、決めら
れた面積の基板201内に全ての部品の配置・配線を行
わなければならないため、基板レイアウトに時間がとら
れる原因でもあった。
【0051】しかし、本発明である図8のように、レイ
アウトCAD用半導体装置シンボル803において、電
源雑音強度107が大きい、もしくは対策優先度301
が高い電源/GND端子202に対してマーキングや番
号を入れることにより、半導体装置シンボル803であ
らわさえるマイコン102を配置するレイアウトCAD
画面802上において、バイパスコンデンサ203やE
MIフィルタ204などの対策部品を重点的に配置すべ
き、もしくは、それほど重点的に配置しなくても良い電
源/GND端子202を知ることができる。これによ
り、図2(b)に示すように部品数を削減し高密度実装
および基板201の低コスト化を実現することができ、
EMI対策時間の短縮も可能になる。また、基板レイア
ウトにおいて、半導体装置102やメモリ205やバイ
パスコンデンサ203やEMIフィルタ204などの部
品を最適に配置・配線する時間を短縮することもでき
る。
【0052】また、半導体装置シンボル803上の電源
/GND端子202に関する詳細情報については、端子
情報表示窓805より得ることができる。
【0053】例えば、ある電源/GND端子202(端
子番号:E4)の電源雑音強度107が小さく、また、
近辺の電源/GND端子202においても電源雑音強度
107が小さいことを、端子情報表示窓805により知
ることできた場合、ある電源/GND端子202(端子
番号:E4)の近辺の電源/GND端子202をまとめ
て1つに配線し、バイパスコンデンサ203と接続する
など効果的な配置・配線をCAD入力画面802上で行
うことができる。
【0054】このように、CAD入力画面802におい
て、半導体装置シンボル803の電源/GND端子20
2上に対するマーキング804や、電源/GND端子2
02の端子情報表示窓805を利用することで、半導体
素子102を搭載する基板201の高密度実装および基
板201の低コスト化を実現することができ、EMI対
策時間の短縮も可能になる。また、基板レイアウトにお
いて、半導体装置102やメモリ205やバイパスコン
デンサ203やEMIフィルタ204などの部品を最適
に配置・配線する時間を短縮することもできる。
【0055】また、本実施例を用いれば、基板レイアウ
トにおいて、半導体装置102のデータシートなどを見
る回数を極力減らすことができ、CAD入力画面を見な
がらレイアウトをすることが可能になる利点がある。
【0056】この第3の実施の形態では、設計者(ユー
ザ)がCAD上で実装基板のレイアウトを行う際に、半
導体装置シンボルに表記された電源雑音情報を元に基板
レイアウトを行うことで基板のレイアウト設計を最適化
する実施例を示した。
【0057】この他に、例えば、CAD上の半導体装置
シンボルに記述された電源雑音情報を元に、ある値上の
電源雑音強度を持つ端子に、バイパスコデンサンやEM
Iフィルタなどの対策部品が搭載されていない場合、警
告メッセージを出したり、対策優先度の低い端子に対策
部品が搭載されている場合、取り外しても構わないとい
うメッセージを出したりすることで、基板のレイアウト
設計を最適化を行っても良い。
【0058】また、半導体装置メーカーもしくは半導体
特性測定メーカーから提供される、CAD上の半導体装
置シンボルに記述した電源雑音情報を元に、レイアウト
した基板からの不要輻射を計算し、計算した不要輻射の
大きさが所望の値以下であれば、基板のレイアウトは最
適化されており完成となり電子装置の製造を開始する。
一方、レイアウトした基板からの不要輻射が所望の値よ
り大きければ、半導体装置に接続するバイパスコデンサ
もしくはEMIフィルタなどの対策部品を強化したり、
配線や部品位置などのレイアウトを変更する。この際、
半導体装置シンボルに記述された電源雑音情報を元に優
先的に対策する場所やレイアウト変更する場所を決め、
基板からの不要輻射計算結果が所望の値以下になるまで
レイアウトの最適化を行えば良い。このレイアウト基板
の不要輻射計算を利用した基板の最適レイアウトについ
ては、図13にその流れを示してある。
【0059】以上、CAD上の半導体シンボルに記述さ
れた電源雑音強度情報を利用した基板の最適レイアウト
の実施の形態について説明した。
【0060】次に、このCAD上の半導体シンボルに記
述された電源雑音強度等の情報をユーザーに提供するシ
ステムおよびその方法について説明する。
【0061】図12の経路i)では、ユーザーはCAD
上の半導体装置シンボルの電源雑音強度情報を半導体メ
ーカーもしくは半導体特性測定メーカーよりカタログ等
により受け取るか、もしくは電子データ等の形で受け取
る。続いて、ユーザーはこの電源雑音強度情報を用い
て、電源雑音強度からレイアウト基板の不要輻射をCA
D上で計算して基板の最適レイアウトを行う。
【0062】また、図12の経路ii)では、ユーザーは
半導体メーカーもしくは半導体特性測定メーカーが提供
する半導体装置シンボルの電源雑音強度情報等に関する
情報が保管されているデータベースにインターネットを
利用してアクセスし、このデータベースより半導体装置
シンボルの電源雑音強度情報を取得する。続いて、この
電源雑音強度情報を用いて、電源雑音強度からレイアウ
ト基板の不要輻射を計算することで、基板の最適レイア
ウトを行う。
【0063】なお、半導体装置の電源雑音強度情報と実
装基板の配線および半導体装置に接続される電子部品の
情報を用いて自らシミュレーションしても良いし、また
それらの情報を半導体メーカーもしくは半導体特性測定
メーカーまたは他社が提供するシミュレーションサーバ
ー(シミュレーションマシン)に送信して、シミュレー
ション計算結果を得るようにしても良い。
【0064】これにより短時間に低EMI実装基板の設
計やEMI対策を行うことができ、また低コストで高密
度実装を実現することができる。
【0065】これまで説明してきた実施形態により、高
密度実装および基板の低コスト化を実現することでき、
EMI対策時間の短縮を可能とする的確な実装指針を、
半導体装置を使用するユーザーに対し提供することがで
きる。
【0066】図5は、半導体装置の製造工程を示す図で
ある。 図5において、ステップS1の行程において製
造された製品ウエハは、ステップS2において、P検
(Pellet検査)により初期の不良選別が行われ
る。そして、選別された良品ウエハは、ステップS3又
はS5に進む。ステップS3に進かS5に進むかの選択
は、製造設備等の関係から選択される。ステップS3に
おいては、製品ウエハのダイシングを行い、良品チップ
のみがステップS4において、CSP(ChipSiz
e Package)やBGA(Ball Grid
Array)等に個々にパッケージされる。そして、ス
テップS7に進む。また、ステップS5においては、ウ
エハ上でさらに一括で配線パターンや保護膜の形成、さ
らに、半田ボール付けまでを行う。続いて、ステップS
6において、配線パターン等が形成されたウエハが、ダ
イシングにより個々に分割される。続いて、ステップS
7において、ステップS4もしくはS6で個々に分割さ
れた最終形状の半導体装置は、バーンイン試験にかけら
れ最終選別がなされる。そして、良品となったもののみ
ステップS8に進む。
【0067】ステップS8において、ステップS7で良
品となった半導体装置を、所定の試験用基板に搭載し、
決められた動作状態における半導体装置の電源/GND
端子の電気特性を測定し、ステップS9に進む。この電
気特性は、実施例1〜3において記述した電源雑音強度
107であり、対策優先度301である。
【0068】また、この半導体装置の電源/GND端子
に関する電気特性試験は、1品種あたり1つの半導体装
置に対して行っても、1ロット当たり1つの半導体装置
に行っても、1ロット当たり複数の半導体装置に行いそ
の平均をとってもよい。
【0069】ステップS9において、ステップS8で測
定した半導体装置の電源/GND端子の電気特性測定結
果をデータシート等の記録媒体に記述したり、もしくは
半導体装置のピン近傍へのマーキングや、半田ボールの
色をかえることで電源/GND端子の電気特性測定結果
を記述したり、もしくは、半導体装置パッケージに電気
特性結果を捺印したり、もしくは、基板レイアウト時に
使用されるCAD用素子ライブラリ中の半導体装置シン
ボルのピン毎に電源/GND端子の電気特性がCAD図
面上で分かるようにマーキングされる。そして、その半
導体素子を出荷しステップS10に進む。
【0070】なお、半導体装置の電源/GND端子の電
気特性測定結果がデータシート等に記載されている場合
であっても、その開示されたデータの効果は同種類(同
じ型番)の全ての半導体装置に及ぶことは言うまでもな
い。
【0071】ステップS10において、半導体装置性能
表示法を持つ半導体装置を購入したユーザーは、半導体
装置の電源/GND端子202の雑音情報を元に基板2
01を設計する。その結果、図2(b)に示すように、
部品数を削減することで、低コストおよび高密度実装を
実現し、EMI対策時間を短縮する実装指針をユーザー
に対して開示できる。
【0072】次に、図5のステップS8に示した半導体
装置102の電源/GND端子202の雑音強度を測定
する方法について説明する。図9は、図5ステップS8
で示した半導体装置102の電源/GND端子202の
電源雑音強度107を測定する実施形態を表す図であ
る。
【0073】図9において、901は半導体装置102
の電源/GND端子202の電源雑音強度107を測定
するために実使用条件に近い形で設計された試験用基板
であり、902は半導体装置102近傍の磁界分布を測
定するための磁界アンテナであり、903は磁界アンテ
ナ902を移動させるためのステージであり、904は
半導体装置102において半導体チップ601と端子1
03間を接続するボンディングワイヤであり、905は
磁界アンテナ902で誘起された電圧を増幅する前段増
幅器であり、906は磁界アンテナ902で誘起された
電圧を測定する測定器であり、907は測定器906で
測定された測定データを処理し記憶するPCである。
【0074】つぎに動作について説明する。磁界アンテ
ナ902は、ステージ903によって半導体装置102
の端子103近傍の上空を移動し、半導体装置102の
端子103の近傍磁界分布により磁界アンテナ902に
誘起する電圧を、前段増幅器905によって増幅し、測
定器906により観測された値をPC907にとり込
む。このとき、アンテナ902に誘起した電圧値ととも
に、アンテナ902の位置座標も同時に取得しPC90
7に記憶させる。また、測定器は、周波数領域で電圧強
度のみ測定できるスペクトラムアナライザや、参照信号
(正弦波)に対する電圧強度と位相を測定できるベクト
ル電圧計でも良い。PC907に取り込まれた、アンテ
ナ902に誘起した電圧値は、所定の換算式を用いて磁
界強度値に変換される。この磁界分布測定結果をもと
に、電源雑音強度の大きい電源/GND端子もしくは対
策優先度の高い電源/GND端子を特定することができ
る。また、樹脂封止する前の半導体装置において、半導
体チップと端子間を接続するボンディングワイヤやTA
B配線などの近傍の磁界分布を測定することで、電源雑
音強度の大きい電源/GND端子もしくは対策優先度の
高い電源/GND端子を特定することもできる。
【0075】また、電源雑音強度の大きい電源/GND
端子もしくは対策優先度の高い電源/GND端子を更に
精度良く特定するために、磁界分布測定結果をから、そ
の磁界分布を発生させる電流分布を算出することによ
り、電源雑音強度の大きい電源/GND端子もしくは対
策優先度の高い電源/GND端子を特定してもよい。
【0076】この磁界分布測定結果より電流分布の逆算
は、3次元の磁界分布を測定しその磁界分布を発生す
る波源である電流の存在確立を求めて電流の位置求めた
り、もしくは2次元平面の磁界分布の測定結果を空間
複素フーリエ変換を行い、これにδ関数を畳み込み積分
することで狭ピッチの電流の位置を求めることででき
る。例えば、の手法では、10μmピッチでLSIの
ボンディングワイヤ上もしくはパッケージ端子の近傍磁
界を測定することで、20μmの分解能で電流の位置を
求めることは可能である。
【0077】また、さらに磁界分布測定そのものの分解
能を向上させるため、ビルドアップ基板の製造法や半導
体プロセスを用いて、配線幅20μm、配線間隔20μ
mの微小コイルを作り、これを磁界アンテナとして、半
導体装置から高さ10μm付近まで近づけることで、磁
界分布の測定分解能を20〜30μmまで向上させるこ
とができる。また、上記磁界アンテナで高分解能に測定
された磁界分布から電流位置を逆算することで、電流位
置の逆算精度を向上させることもできる。
【0078】また、半導体装置の電源/GND端子の電
源雑音強度および対策優先度を測定する試験用基板は、
IEC(nernational lectrot
echnical ommission:国際電気標
準会議)で、標準化された半導体装置の電源雑音評価用
ボードの仕様に準拠したものを使っても良いし、また、
特定のユーザーの実装仕様に準拠した試験用基板を使っ
ても良い。
【0079】これらの技術を利用することで、半導体装
置の電源/GND端子に関する電源雑音強度および対策
優先度を求めることが可能になる。
【0080】
【発明の効果】本発明によれば、LSIやマイコンなど
の半導体装置において、これら半導体装置を使った基板
を設計するユーザーが、適切な場所に適切なバイパスコ
ンデンサやEMIフィルタなどの部品を搭載することを
可能とする半導体装置を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】半導体装置の所定の電源端子毎に電気特性に関
する情報を開示したデータシート等の一例を表す図
【図2】半導体装置を実装基板に実装した状態を示す図
【図3】半導体装置の所定の電源端子毎に電気特性に関
する情報を開示したデータシート等の一例を表す図
【図4】半導体装置の所定の電源端子毎に電気特性に関
する情報を開示したデータシート等の一例を表す図
【図5】半導体装置の製造工程を示す図
【図6】所定の電源/GND端子にマーキングしたBG
A型半導体装置を示す図
【図7】所定の電源/GND端子にマーキングしたQF
P型半導体装置を示す図
【図8】電源雑音強度もしくは対策優先度情報を有する
レイアウトCAD上の半導体装置シンボルを示す図
【図9】半導体装置の雑音強度を試験する様子を示す図
【図10】電源雑音強度情報をパッケージ表面に開示し
た半導体装置を示す図
【図11】対策優先度情報をパッケージ表面に開示した
半導体装置を示す図
【図12】半導体装置の電源雑音強度もしくは対策優先
度情報およびシミュレーションに関する情報の流れを示
す図
【図13】半導体装置の電源雑音強度もしくは対策優先
度情報を用いた基板設計工程を示す図
【図14】従来のデータシートに記載される半導体装置
の絶対最大定格
【図15】従来のデータシートに記載される半導体装置
のDC特性
【図16】従来のデータシートに記載される半導体装置
のAC特性
【図17】従来のデータシートに記載される半導体装置
のクロック・制御信号タイミング特性
【図18】ノイズ検証装置のブロック図
【図19】ノイズ解析装置の機能的な構成を示すブロッ
ク図
【符号の説明】
101データシート、102マイコン、103端子、1
04端子番号、105端子名、106機能、107電源
雑音強度、201実装基板、202電源/GND端子、
203バイパスコンデンサ、204EMIフィルタ、2
05メモリ、301EMI対策優先度、401I/O使
用数ごとの電源雑音強度もしくは対策優先度、601半
導体チップ、602着色された電源/GNDボール、6
03着色された電源/GNDボール群、701マーキン
グ、801素子ライブラリ、802CAD入力画面、8
03半導体装置シンボル、804半導体装置シンボル上
のマーキング、805端子情報表示窓、901試験用基
板、902磁界アンテナ、903ステージ、904ボン
ディングワイヤ、905前段増幅器、906測定器、9
07PC
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 中村 篤 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 (72)発明者 横田 等 神奈川県海老名市下今泉810番地 株式会 社日立製作所インターネットプラットフォ ーム内 (72)発明者 原 敦 神奈川県川崎市麻生区王禅寺1099番地 株 式会社日立製作所システム開発研究所内 (72)発明者 上坂 晃一 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 野間 辰次 神奈川県横浜市戸塚区吉田町292番地 株 式会社日立製作所生産技術研究所内 (72)発明者 鳥越 誠 東京都小平市上水本町五丁目20番1号 株 式会社日立製作所半導体グループ内 Fターム(参考) 5B046 AA07 BA04 JA07 5F064 AA02 BB09

Claims (12)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の入出力端子、電源端子およびGND
    端子を持つ半導体装置において、所定の電源端子および
    GND端子、または所定の電源またはGND端子グルー
    プについて、不要電磁雑音の原因となる電源雑音強度に
    関する情報を開示したことを特徴とする半導体装置。
  2. 【請求項2】複数の入出力端子、電源端子およびGND
    端子を持つ半導体装置において、所定の電源端子および
    GND端子、または所定の電源またはGND端子グルー
    プについて、不要電磁雑音を低減するために雑音対策を
    行うべき優先順位である対策優先度に関する情報を開示
    したことを特徴とする半導体装置。
  3. 【請求項3】請求項1記載の半導体装置であって、前記
    電源雑音強度に関する情報として、雑音電流または雑音
    電圧または雑音電力値、または該雑音電流、該雑音電
    圧、該雑音電力に相当する物理量を複数の周波数帯にお
    いて開示したことを特徴とする半導体装置。
  4. 【請求項4】請求項1記載の半導体装置であって、前記
    電源雑音強度に関する情報として、雑音電流または雑音
    電圧または雑音電力値、または該雑音電流、該雑音電
    圧、該雑音電力に相当する物理量を時間波形もしくはウ
    ェーブレット列を用いて開示したことを特徴とする半導
    体装置。
  5. 【請求項5】請求項1記載の半導体装置であって、前記
    電源雑音強度に関する情報として、雑音電流または雑音
    電圧または雑音電力値、または該雑音電流、該雑音電
    圧、該雑音電力に相当する物理量を該半導体装置の該入
    出力端子使用数に対して開示した記述したことを特徴と
    する半導体装置。
  6. 【請求項6】請求項2記載の半導体装置であって、前記
    対策優先度に関する情報を複数の周波数帯において開示
    したことを特徴とする半導体装置。
  7. 【請求項7】請求項2記載の半導体装置であって、前記
    対策優先度に関する情報を時間波形もしくはウェーブレ
    ット列を用いて開示したことを特徴とする半導体装置。
  8. 【請求項8】請求項2記載の半導体装置であって、前記
    対策優先度に関する情報を該半導体装置の該入出力端子
    使用数に対して開示したことを特徴とする半導体装置。
  9. 【請求項9】請求項3から8のいずれか1項に記載の半
    導体装置であって、さらに該半導体装置のパッケージに
    固有に発生する該パッケージの共振による雑音強度およ
    び周波数に関する情報の少なくともどちらかを複数の周
    波数帯について開示したことを特徴とする半導体装置。
  10. 【請求項10】請求項1から9のいずれか1項に記載の
    半導体装置であって、前記電源雑音強度に関する情報ま
    たは前記対策優先度に関する情報を該半導体装置のカタ
    ログシート、データシート、仕様書、またはインターネ
    ットを用いて開示したことを特徴とする半導体装置。
  11. 【請求項11】半導体装置の所定の電源端子およびGN
    D端子、または所定の電源またはGND端子グループの
    不要電磁雑音の原因となる電源雑音強度に関する情報お
    よび不要電磁雑音を低減するために雑音対策を行うべき
    優先順位である対策優先度に関する情報の少なくともど
    ちらか一方を提供する工程と、該半導体装置が実装され
    る実装基板の配線に関する情報および該半導体装置に接
    続される電子部品に関する情報に基づいて、該半導体装
    置が実装基板に実装された電子装置から生じる不要電磁
    雑音に関する情報を提供する工程を有することを特徴と
    する電子装置の設計支援方法。
  12. 【請求項12】半導体装置の所定の電源端子およびGN
    D端子、または所定の電源またはGND端子グループの
    不要電磁雑音の原因となる電源雑音強度に関する情報お
    よび不要電磁雑音を低減するために雑音対策を行うべき
    優先順位である対策優先度に関する情報の少なくともど
    ちらか一方のデータベースと、該半導体装置を実装基板
    に実装した電子装置から生じる不要電磁雑音を計算する
    サーバを有することを特徴とする電子装置の設計支援シ
    ステム。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7565637B2 (en) 2005-11-04 2009-07-21 Panasonic Corporation Method of designing package for semiconductor device, layout design tool for performing the same, and method of manufacturing semiconductor device using the same
JP2017076323A (ja) * 2015-10-16 2017-04-20 富士通株式会社 設計支援プログラム、情報処理装置、および設計支援方法
JP2019198025A (ja) * 2018-05-10 2019-11-14 三菱電機エンジニアリング株式会社 基準信号選択回路

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20050103212A1 (en) * 2003-11-13 2005-05-19 Eastern Tabletop Manufacturing Company, Inc. Apparatus and method for presenting, serving and protecting food and beverages
US7356791B2 (en) * 2005-05-27 2008-04-08 Sonnet Software, Inc. Method and apparatus for rapid electromagnetic analysis
JP2008009776A (ja) * 2006-06-29 2008-01-17 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体集積回路の設計方法、設計装置、半導体集積回路システム、半導体集積回路実装基板、パッケージ、半導体集積回路
WO2008047650A1 (fr) * 2006-10-11 2008-04-24 Zuken Inc. Procédé de traitement, dispositif de traitement, programme et support de stockage lisible par ordinateur
US20090250246A1 (en) * 2008-04-07 2009-10-08 Andrew Yaung Solder by numbers, a method and system for populating printed circuit boards
CN102375094A (zh) * 2010-08-19 2012-03-14 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司 电磁辐射测量装置
US9443046B2 (en) * 2012-10-16 2016-09-13 Toyota Motor Engineering & Manufacturing North America, Inc. Determining the electromagnetic field in a computer aided design environment
US9335384B2 (en) 2013-09-25 2016-05-10 Qualcomm Incorporated Adjustable magnetic probe for efficient near field scanning
WO2015089346A1 (en) * 2013-12-13 2015-06-18 Battelle Memorial Institute Electronic component classification
US10789550B2 (en) 2017-04-13 2020-09-29 Battelle Memorial Institute System and method for generating test vectors
US11096323B2 (en) 2017-04-18 2021-08-24 CropZilla Software, Inc. Machine control system providing actionable management information and insight using agricultural telematics

Family Cites Families (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH05225360A (ja) 1991-11-22 1993-09-03 Hitachi Ltd 半導体集積回路
JPH077063A (ja) 1993-06-14 1995-01-10 Fujitsu Ltd ノイズ検証方法
JPH07294594A (ja) 1994-04-28 1995-11-10 Hitachi Ltd 集積回路の雑音評価装置およびこれを用いる雑音低減方法
JPH10223997A (ja) 1997-02-12 1998-08-21 Canon Inc プリント配線基板
JP3102389B2 (ja) 1997-09-29 2000-10-23 日本電気株式会社 半導体装置
JP3474090B2 (ja) 1997-11-07 2003-12-08 株式会社日立製作所 電磁波発生源探査方法及び装置
JP4427115B2 (ja) 1998-12-04 2010-03-03 株式会社東芝 半導体装置のノイズ解析装置
WO2000065651A1 (fr) 1999-04-27 2000-11-02 Hitachi, Ltd. Ci a semi-conducteur
JP2001118948A (ja) 1999-10-15 2001-04-27 Hitachi Ltd 半導体素子搭載基板
JP3471679B2 (ja) 1999-10-15 2003-12-02 日本電気株式会社 プリント基板
JP3395895B2 (ja) 1999-10-18 2003-04-14 日本電気株式会社 パターンオブジェクト作成方式
JP2001194421A (ja) 2000-01-05 2001-07-19 Matsushita Electric Ind Co Ltd 半導体集積回路装置
JP3675317B2 (ja) 2000-08-31 2005-07-27 株式会社日立製作所 電磁波発生源探査装置
US6608375B2 (en) * 2001-04-06 2003-08-19 Oki Electric Industry Co., Ltd. Semiconductor apparatus with decoupling capacitor

Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7565637B2 (en) 2005-11-04 2009-07-21 Panasonic Corporation Method of designing package for semiconductor device, layout design tool for performing the same, and method of manufacturing semiconductor device using the same
JP2017076323A (ja) * 2015-10-16 2017-04-20 富士通株式会社 設計支援プログラム、情報処理装置、および設計支援方法
JP2019198025A (ja) * 2018-05-10 2019-11-14 三菱電機エンジニアリング株式会社 基準信号選択回路
JP7128026B2 (ja) 2018-05-10 2022-08-30 三菱電機エンジニアリング株式会社 基準信号選択回路

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