JP2003077117A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電磁変換特性が良好で特に高密度記録領域で
のＣ／Ｎ比が格段に改良された、生産性に優れ、低価格
な磁気記録媒体であって、かつＭＲヘッドを組み合わせ
た記録再生システムにおいて走行性を確保しつつノイズ
の低い高密度特性に優れる塗布型磁気記録媒体を提供す
ること。 【解決手段】 支持体上に実質的に非磁性である下層と
強磁性六方晶系フェライト粉末を結合剤中に分散してな
る磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体において、強磁
性六方晶系フェライト粉末の平均板径が１０〜４０ｎｍ
であり、磁性層のＳＵＳ４２０Ｊ製ポールおよびＰＯＭ
（ポリオキシメチレン）製ポールに対する摩擦係数が
０．１５〜０．５０であることを特徴とする磁気記録媒
体。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は塗布型の高記録密度
の磁気記録媒体に関する。特に磁性層と実質的に非磁性
の下層を有し、磁性層に六方晶系フェライト微粉末を含
む高密度記録用の磁気記録媒体に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来、電磁誘導を動作原理とする磁気ヘ
ッド（誘導型磁気ヘッド）が用いられ普及している。だ
が更に高密度記録再生領域で使用するには限界が見え始
めている。すなわち、大きな再生出力を得るためには再
生ヘッドのコイル巻数を多くする必要があるがインダク
タンスが増加し高周波での抵抗が増加し結果として再生
出力が低下する問題があった。近年ＭＲ（磁気抵抗）を
動作原理とする再生ヘッドが提案され、ハードデイスク
等で使用され始めている。ＭＲヘッドは誘導型磁気ヘッ
ドに比較して数倍の再生出力が得られ、かつ誘導コイル
を用いないため、インピーダンスノイズ等の機器ノイズ
が大幅に低下し、磁気記録媒体のノイズを下げることで
大きなＳＮ比を得ることが可能になってきた。換言すれ
ば従来機器ノイズに隠れていた磁気記録媒体ノイズを小
さくすれば良好な記録再生が行え、高密度記録特性が飛
躍的に向上できることになる。また、磁気記録媒体のノ
イズを下げるために、媒体表面を平滑にすると磁気録媒
体の走行性を確保できなくなる課題があった。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特性
が良好で特に高密度記録領域でのＣ／Ｎ比が格段に改良
された、生産性に優れ、低価格な磁気記録媒体であっ
て、かつＭＲヘッドを組み合わせた記録再生システムに
おいて走行性を確保しつつノイズの低い高密度特性に優
れる塗布型磁気記録媒体を提供することを目的としてい
る。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に実
質的に非磁性である下層と強磁性六方晶系フェライト粉
末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に設けた磁
気記録媒体において、強磁性六方晶系フェライト粉末の
平均板径が１０〜４０ｎｍであり、磁性層のＳＵＳ４２
０Ｊ製ポールおよびＰＯＭ（ポリオキシメチレン）製ポ
ールに対する摩擦係数が０．１５〜０．５０であること
を特徴とする磁気記録媒体である。 【０００５】本発明の好ましい態様は以下の通りであ
る。 （１）磁気抵抗型磁気ヘッド（ＭＲヘッド）再生用であ
る上記磁気記録媒体。 （２）前記磁性層の表面粗さを周波数分析した空間周波
数１００／ｍｍの強度が１００００ｎｍ³以下であり、
空間周波数５００／ｍｍの強度が５０〜５００ｎｍ³で
ある上記磁気記録媒体。 （３）前記支持体の表面に高さ０．１〜０．５μｍの突
起が０．０１〜０．５ヶ／ｍｍ²である上記磁気記録媒
体。 【０００６】 【発明の実施の形態】本発明の磁性層に用いる六方晶系
フェライト粉末は板状の形状であり、平均板径は１０〜
４０ｎｍに制御される必要がある。また磁性層のＳＵＳ
４２０Ｊ製ポールおよびＰＯＭ（ポリオキシメチレン）
製ポールに対する摩擦係数を０．１５〜０．５０とする
ことで、走行耐久性を改善し、電磁変換特性の優れた磁
気記録媒体を提供することができる。また、前記磁気記
録媒体の摩擦係数が０．５０よりも高くなると、走行耐
久性の低下が顕在化してしまう。更に、磁性層に使用さ
れる六方晶系フェライトの平均板径は、好ましくは２０
〜３５ｎｍ、さらに好ましくは２２〜３０ｎｍである。
平均板径が４０ｎｍより大きいと強磁性粒子そのもので
ノイズが大きくなる他に、ノイズ低減に寄与する表面性
の優れた磁性層が得にくい。平均板径が１０ｎｍより小
さいと、現在の分散技術では十分な分散液が得られな
い。本発明では六方晶系フェライトの平均板径は１０〜
４０ｎｍで効果が大きくなる。本発明では磁性層の表面
粗さを周波数分析した空間周波数１００／ｍｍの強度が
１００００ｎｍ³以下であり、空間周波数５００／ｍｍ
の強度が５０〜５００ｎｍ³であることが好ましい。こ
の空間周波数１００／ｍｍの強度が１００００ｎｍ³以
上では電磁変換特性が劣化する傾向があり、空間周波数
１００／ｍｍの強度は好ましくは７０００ｎｍ³以下で
あり更に好ましくは５０００ｎｍ³以下である。空間周
波数１００／ｍｍの強度の下限は特になく小さければ小
さい程好ましい。また、空間周波数５００／ｍｍの強度
が５０ｎｍ³未満では、摩擦係数が高くなる傾向があ
り、結果として走行耐久性が劣化する傾向がある。空間
周波数５００／ｍｍの強度が、５００ｎｍ³を超えると
電磁変換特性が劣化する傾向がある。空間周波数５００
／ｍｍの強度は好ましくは１００〜４００ｎｍ³であ
る。上記空間周波数の強度またはその分布が電磁変換特
性及び摩擦係数に影響する理由は定かではないが、ＭＲ
ヘッドと媒体との接触を緩和するためと考えている。 【０００７】上記摩擦係数を本発明の範囲とするには、
いくつかの方法がある。たとえば前記磁性層を形成する
塗料の調製を制御する、カレンダー処理条件を制御す
る、支持体表面突起を制御する等が挙げられる。本発明
は好ましくは上記の方法の組み合わせで達成される。上
記方法の中で磁性層の空間周波数の強度を制御するため
には、六方晶系フェライト粉末の平均板径を選択および
支持体表面の突起数を選択することが好ましい。本発明
に使用する支持体表面の突起は高さ０．１〜０．５μｍ
の突起密度Ｐが０．０１〜０．５ヶ／ｍｍ²となる様に
制御することが好ましい。Ｐが０．５ヶ／ｍｍ²を超え
ると、電磁変換特性を劣化させる傾向があり、０．０１
ヶ／ｍｍ²未満では接触面積の増大により摩擦係数が上
昇する傾向がある。本明細書において突起密度Ｐは、磁
性層面２２５μｍ²の表面突起個数を原子間力顕微鏡
（ＡＦＭ）により測定し、高さ５〜１０ｎｍの突起個数
を求めた。以下、本発明の磁気記録媒体を構成要素毎に
説明する。 【０００８】［磁性層］本発明の磁気記録媒体は磁性層
を支持体の片面だけでも、両面に設けても良い。磁性層
を下層上に設ける際、磁性層（上層または上層磁性層と
もいう）は下層を塗布後、下層が湿潤状態の内（Ｗ／
Ｗ）でも、乾燥した後（Ｗ／Ｄ）にでも上層磁性層を設
けることが出来る。生産得率の点から同時、又は逐次湿
潤塗布が好ましいが、デイスクの場合は乾燥後塗布も十
分使用できる。本発明の重層構成で同時、又は逐次湿潤
塗布（Ｗ／Ｗ）では上層／下層が同時に形成できるた
め、カレンダー工程などの表面処理工程を有効に活用で
き、超薄層でも上層磁性層の表面粗さを良化できる。 【０００９】［六方晶系フェライト粉末］本発明の上層
磁性層に使用する六方晶系フェライト粉末について説明
する。六方晶系フェライトとしては、バリウムフェライ
ト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カルシ
ウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体
的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及
びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被
覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一部ス
ピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリウム
フェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げら
れ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ，Ｓｃ、Ｔ
ｉ、Ｖ，Ｃｒ、Ｃｕ，Ｙ，Ｍｏ，Ｒｈ，Ｐｄ，Ａｇ、Ｓ
ｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈｇ、
Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ，Ｃｏ，Ｍ
ｎ，Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含
んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ，
Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ，Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚ
ｎ，Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−Ｚｎ
等の元素を添加した物を使用することができる。原料・
製法によっては特有の不純物を含有するものもある。 【００１０】特にトラック密度を上げるため磁気抵抗ヘ
ッド（ＭＲヘッド）で再生する場合、低ノイズにする必
要があるが、平均板径が１０ｎｍ未満では熱揺らぎのた
め安定な磁化が望めない。平均板径が４０ｎｍを越える
とノイズが高く、いずれも高密度磁気記録には向かな
い。平均板状比（板径／板厚の算術平均）は１〜１５が
望ましい。好ましくは１〜７である。板状比が小さいと
磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性
が得られない。１５より大きいと粒子間のスタッキング
によりノイズが大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥ
Ｔ法による比表面積は３０〜２００ｍ²／ｇを示す。比
表面積は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号す
る。粒子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましい。数
値化は粒子ＴＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定す
る事で比較できる。分布は正規分布ではない場合が多い
が、計算して平均板径に対する標準偏差で表される変動
係数（σ／平均板径または平均板厚）は通常、０．１〜
２．０である。変動係数は、好ましくは、０．１〜１．
０であり、更に０．１〜０．５が好ましい。粒子サイズ
分布をシャープにするには粒子生成反応系をできるだけ
均一にすると共に、生成した粒子に分布改良処理を施す
ことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細粒子を
選別的に溶解する方法等も知られている。 【００１１】磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは通常、４
０〜４００ｋＡ／ｍ程度まで作成できる。Ｈｃは高い方
が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限
される。磁性体のＨｃは、好ましくは１５９〜３９７ｋ
Ａ／ｍ程度であるが、更に好ましくは１５９〜３２０ｋ
Ａ／ｍである。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越え
る場合は、１７５ｋＡ／ｍ以上にすることが好ましい。
Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と
量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御
できる。飽和磁化は３０〜８０Ａ・ｍ²／ｋｇである。
微粒子になるほど小さくなる傾向がある。製法では結晶
化温度、または熱処理温度時間を小さくする方法、添加
する化合物を増量する、表面処理量を多くする方法等が
ある。またＷ型六方晶系フェライトを用いることも可能
である。磁性体を分散する際に磁性体粒子表面を分散
媒、ポリマーに合った物質で処理することも行われてい
る。表面処理材は無機化合物、有機化合物が使用され
る。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物ま
たは水酸化物、各種シランカップリング剤、各種チタン
カップリング剤が代表例である。量は磁性体に対して
０．１〜１０質量％である。磁性体のｐＨも分散に重要
である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーにより最
適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から６〜１
１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分散に影
響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが通常
０．０１〜２．０質量％が選ばれる。六方晶系フェライ
トの製法としては、（１）酸化バリウム・酸化鉄・鉄を
置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素
等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融
し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、
洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラ
ス結晶化法、（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液
をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以
上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェ
ライト結晶粉体を得る水熱反応法、（３）バリウムフェ
ライト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を
除去した後乾燥し１１００℃以下で処理し、粉砕してバ
リウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本
発明は製法を選ばない。 【００１２】［下層］次に下層に関する詳細な内容につ
いて説明する。本発明の下層は実質的に非磁性であれば
その構成は制限されるべきものではないが、通常、少な
くとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、無機
粉末あるいは有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げ
られる。該無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末で
あるが、下層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も
使用され得るものである。下層が実質的に非磁性である
とは、上層の電磁変換特性を実質的に低下させない範囲
で下層が磁性を有することを許容するということであ
る。 【００１３】該非磁性粉末としては、例えば、金属酸化
物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化
物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができ
る。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−
アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、
チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化ス
ズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコ
ニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単
独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度
分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更
に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら
非磁性粉末の平均粒子径は０．００５〜２μｍが好まし
いが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組
み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くし
て同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好まし
いのは非磁性粉末の平均粒子径は０．０１μｍ〜０．２
μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である
場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状
金属酸化物である場合は、平均長軸長が０．３μｍ以下
が好ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。タップ
密度は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．
５ｇ／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は０．１〜５質
量％、好ましくは０．２〜３質量％、更に好ましくは
０．３〜１．５質量％である。非磁性粉末のｐＨは通
常、２〜１１であるが、ｐＨは３〜１０の間が特に好ま
しい。 【００１４】非磁性粉末の比表面積は１〜１００ｍ²／
ｇ、好ましくは５〜８０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０
〜７０ｍ²／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは
０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜
０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレー
ト）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ま
しくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０
〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は１〜１２、好まし
くは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状
のいずれでも良い。モース硬度は４以上１０以下のもの
が好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量
は１〜２０μｍｏｌ／ｍ²、好ましくは２〜１５μｍｏ
ｌ／ｍ²、更に好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²である。
ｐＨは３〜６の間が好ましい。これらの非磁性粉末の表
面には表面処理を施すことによりＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、
ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、Ｙ₂Ｏ
₃を存在させることが好ましい。特に分散性に好ましい
のはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂であるが、
更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。
これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いる
こともできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理
層を用いても良いし、先ずアルミナを存在させた後にそ
の表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を
採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多
孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般に
は好ましい。 【００１５】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
ＨＩＴ−１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイ
トＤＰＮ−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４
５，ＤＰＮ−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５００ＢＸ，ＤＢＮ
−ＳＡ１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴ
Ｏ−５１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ
−５５Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＳＮ−１
００、αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ
３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ，ＳＴＴ
−３０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイ
トα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴＴ−１００
Ｔ，ＭＴ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６００
Ｂ，ＭＴ−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩ
ＮＥＸ−２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，Ｓ
Ｔ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、
日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興
産製１００Ａ，５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙
げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα
−酸化鉄である。 【００１６】下層にカ−ボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビ
ッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボン
ブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらす
ことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用フ
ァ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチ
レンブラック、等を用いることができる。下層のカーボ
ンブラックは所望する効果によって、以下のような特性
を最適化すべきであり、併用することでより効果が得ら
れることがある。 【００１７】下層のカーボンブラックの比表面積は１０
０〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ²／
ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ま
しくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブ
ラックの粒子径は５ｎｍ〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５
０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カー
ボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０
質量％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。
本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な例とし
てはキャボット社製ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２００
０、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７
００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製＃
３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３７５０
Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９７０
Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃４０
００、＃４０１０、コロンビアンカーボン社製ＣＯＮＤ
ＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００、８０００、
７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１００、
２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５０、
アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられ
る。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、
樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラフ
ァイト化したものを使用してもかまわない。また、カー
ボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で
分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上
記無機質粉末に対して５０質量％を越えない範囲、非磁
性層総質量の４０％を越えない範囲で使用できる。これ
らのカーボンブラックは単独、または組合せで使用する
ことができる。本発明で使用できるカーボンブラックは
例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協
会編）を参考にすることができる。 【００１８】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。 【００１９】下層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加
剤、溶剤、分散方法その他は以下に記載する磁性層のそ
れが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、
分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技
術が適用できる。 ［結合剤］本発明に使用される結合剤としては従来公知
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの
混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転
移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，００
０〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１０
０，０００、重合度が約５０〜１０００程度のものであ
る。 【００２０】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコ−ル、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセ
タ−ル、ビニルエ−テル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノ−ル樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコ−ン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネ−トプレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−
ルとポリイソシアネ−トの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコ−ル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネ−トを組み合わせたものがあげられる。 【００２１】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−
Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、ま
たはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは
炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ば
れる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加
反応で導入したものを用いることが好ましい。このよう
な極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好まし
くは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。 【００２２】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ，ＶＲＯＨ，ＶＹ
ＥＳ，ＶＹＮＣ，ＶＭＣＣ，ＸＹＨＬ，ＸＹＳＧ，ＰＫ
ＨＨ，ＰＫＨＪ，ＰＫＨＣ，ＰＫＦＥ，日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５，ＭＰＲ−ＴＡＬ，
ＭＰＲ−ＴＳＮ，ＭＰＲ−ＴＭＦ，ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０，ＤＸ８１，ＤＸ８２，ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９，７２０９，東洋紡社製バイロンＵＲ８２００，ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０，ＲＶ２８０、
大日精化社製、ダイフェラミン４０２０，５０２０，５
１００，５３００，９０２０，９０２２、７０２０，三
菱化成社製、ＭＸ５００４，三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０，Ｆ２１０など
が挙げられる。 【００２３】本発明の下層、磁性層に用いられる結合剤
は非磁性粉末または磁性粉末に対し、５〜５０質量％の
範囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用いられ
る。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質量％、
ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量％、ポリ
イソシアネ−トは２〜２０質量％の範囲でこれらを組み
合わせて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩
素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみ
またはポリウレタンとイソシアネートのみを使用するこ
とも可能である。本発明において、ポリウレタンを用い
る場合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましく
は０℃〜１００℃、破断伸びが１００〜２０００％、破
断応力は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ²（０．４９〜９８
ＭＰａ）、降伏点は０．０５〜１０Ｋｇ／ｍｍ²（０．
４９〜９８ＭＰａ）が好ましい。 【００２４】本発明の磁気記録媒体は二層以上から構成
されてもよい。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩
化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−
ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ下層、各磁性層とで変えること
はもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべきであ
り、多層磁性層に関する公知技術を適用できる。例え
ば、各層でバインダー量を変更する場合、磁性層表面の
擦傷を減らすためには磁性層のバインダー量を増量する
ことが有効であり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好
にするためには、下層のバインダー量を多くして柔軟性
を持たせることができる。 【００２５】本発明に用いるポリイソシアネ−トとして
は、トリレンジイソシアネ−ト、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネ−ト、ヘキサメチレンジイソシアネ
−ト、キシリレンジイソシアネ−ト、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネ−ト、ｏ−トルイジンジイソシアネ−
ト、イソホロンジイソシアネ−ト、トリフェニルメタン
トリイソシアネ−ト等のイソシアネ−ト類、また、これ
らのイソシアネ−ト類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネ−ト等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネ−トＨＬ，コロネ
−ト２０３０、コロネ−ト２０３１、ミリオネ−トＭ
Ｒ，ミリオネ−トＭＴＬ、武田薬品社製、タケネ−トＤ
−１０２，タケネ−トＤ−１１０Ｎ、タケネ−トＤ−２
００、タケネ−トＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュ−ルＬ，デスモジュ−ルＩＬ、デスモジュ−ル
Ｎ，デスモジュ−ルＨＬ，等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層とも用いることができる。 【００２６】［カーボンブラック、研磨剤］本発明の磁
性層に使用されるカ−ボンブラックはゴム用ファ−ネ
ス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５０
０ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００
ｇ、平均粒子径は５ｎｍ〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１
０、含水率は０．１〜１０質量％、タップ密度は０．１
〜１ｇ／ｃｃ、が好ましい。本発明に用いられるカーボ
ンブラックの具体的な例としてはキャボット社製、ＢＬ
ＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、
９００、９０５、８００、７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−
７２、旭カーボン社製、＃８０、＃６０、＃５５、＃５
０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３
００、＃９００、＃１０００＃３０、＃４０、＃１０
Ｂ、コロンビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ
ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１５、ＲＡＶ
ＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケッチェンブラックＥ
Ｃ、などがあげられる。カ−ボンブラックを分散剤など
で表面処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、
表面の一部をグラファイト化したものを使用してもかま
わない。また、カ−ボンブラックを磁性塗料に添加する
前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわない。これら
のカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用するこ
とができる。カ−ボンブラックを使用する場合は磁性体
に対する量の０．１〜３０質量％で用いることが好まし
い。カ−ボンブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低
減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあり、これら
は用いるカ−ボンブラックにより異なる。従って本発明
に使用されるこれらのカ−ボンブラックは上層磁性層、
下層でその種類、量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油
量、電導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的
に応じて使い分けることはもちろん可能であり、むしろ
各層で最適化すべきものである。本発明の磁性層で使用
できるカ−ボンブラックは，例えば（「カ−ボンブラッ
ク便覧」カ−ボンブラック協会編）を参考にすることが
できる。 【００２７】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカ
−バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など
主としてモ−ス硬度６以上の公知の材料が単独または組
合せで使用される。また、これらの研磨剤同士の複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが主成分が９０質量％以上で
あれば効果にかわりはない。これら研磨剤の平均粒径は
０．０１〜２μｍが好ましく、更に好ましくは０．０５
〜１．０μｍ、特に好ましくは０．０５〜０．５μｍの
範囲である。特に電磁変換特性を高めるためには、その
粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させる
には必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わ
せたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効
果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜
２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５質量％、ｐＨは２〜１
１、比表面積は１〜３０ｍ²／ｇが好ましい。本発明に
用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、の
いずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨
性が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１
２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫ
Ｐ−５０、ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５
５、ＨＩＴ−６０、ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０、ＨＩ
Ｔ−１００、レイノルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−
ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製、ＷＡ１０
０００、上村工業社製、ＵＢ２０、日本化学工業社製、
Ｇ−５、クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工
業社製、ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製、ベー
タランダムウルトラファイン、昭和鉱業社製、Ｂ−３な
どが挙げられる。これらの研磨剤は必要に応じ下層に添
加することもできる。下層に添加することで表面形状を
制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることが
できる。これら磁性層、下層の添加する研磨剤の粒径、
量はむろん最適値に設定すべきものである。 【００２８】［添加剤］本発明の磁性層と下層に使用さ
れる、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効
果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モ
リブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ
素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリ
コーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコー
ン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリ
オレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよび
そのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニル
ホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニ
ル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホス
フィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和
結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭
素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合を
含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１
０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、ま
た分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれ
か一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪
酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキ
シド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、
炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪
族アミン、などが使用できる。 【００２９】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン酸
などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレー
ト、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソ
オクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチル
ミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシ
ジエチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレー
ト、２−オクチルドデシルパルミテート、２−ヘキシル
ドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコ−ル、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコ−ルなどがあげられる。
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシ
ド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド付加
体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルア
ミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、
複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチ
オン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、
硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含む
アニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコ−ルの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用でき
る。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便
覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０質量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０質量％以下である。 【００３０】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
下層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への滲み
出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステル類
を用い表面への滲み出しを制御する、界面活性剤量を調
節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加
量を下層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えら
れ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。
一般には潤滑剤の総量として磁性層の強磁性粉末または
下層の非磁性粉末に対し、０．１質量％〜５０質量％、
好ましくは２質量％〜２５質量％の範囲で選択される。 【００３１】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダー処理（カレンダーロールによる加熱加圧処理）
した後、またはスリット終了後、磁性層表面に潤滑剤を
塗布することもできる。 【００３２】本発明で用いられる有機溶剤は公知のもの
が使用でき、例えば特開平６−６８４５３に記載の溶剤
を用いることができる。 【００３３】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は支持体が２〜１００μｍ、好ましくは２〜８０μｍ
である。コンピューターテープの支持体は、３．０〜
６．５μｍ（好ましくは、３．０〜６．０μｍ、更に好
ましくは、４．０〜５．５μｍ）の範囲の厚さのものが
使用される。 【００３４】支持体と下層との間に密着性向上のための
下塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚みは０．０
１〜０．５μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍであ
る。本発明は通常、支持体両面に下層と磁性層を設けて
なる両面磁性層ディスク状媒体であっても、片面のみに
それらを設けたディスク状媒体又はテープ状媒体であっ
てもよい。後者の場合、帯電防止やカール補正などの効
果を出すために下層、磁性層側と反対側にバックコ−ト
層を設けてもかまわない。この厚みは０．１〜４μｍ、
好ましくは０．３〜２．０μｍである。これらの下塗
層、バックコ−ト層は公知のものが使用できる。 【００３５】本発明の媒体の磁性層の厚みは用いるヘッ
ドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域に
より最適化されるものであるが、好ましくは０．０５〜
０．５μｍ、更に好ましくは０．１〜０．２５μｍであ
る。磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離し
てもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用で
きる。 【００３６】本発明になる媒体の下層の厚みは０．２μ
ｍ以上５．０μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以上３．
０μｍ以下、さらに好ましくは１．０μｍ以上２．５μ
ｍ以下である。なお、本発明媒体の下層は実質的に非磁
性であればその効果を発揮するものであり、たとえば不
純物としてあるいは意図的に少量の磁性体を含んでも、
本発明の効果を示すものであり、本発明と実質的に同一
の構成と見なすことができることは言うまでもない。実
質的に非磁性とは下層の残留磁束密度が０．０１Ｔ以下
または抗磁力が８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ）であることを
示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力をもたないこと
を示す。 【００３７】［バック層］一般に、コンピュータデータ
記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディオテー
プに比較して、繰り返し走行性が強く要求される。この
ような高い走行耐久性を維持させるために、バック層に
は、カーボンブラックと無機粉末が含有されていること
が好ましい。 【００３８】カーボンブラックは、平均粒子径の異なる
二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。
この場合、平均粒子径が１０〜２０ｎｍの微粒子状カー
ボンブラックと平均粒子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒
子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好
ましい。一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラ
ックの添加により、バック層の表面電気抵抗を低く設定
でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録装置に
よっては、テープの光透過率を利用し、動作の信号に使
用しているものが多くあるため、このような場合には特
に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効になる。ま
た微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤の保持
力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄与す
る。一方、平均粒子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒子状
カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有して
おり、またバック層の表面に微小突起を形成し、接触面
積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。しかし
粗粒子状カーボンブラックを単独で用いると、過酷な走
行系では、テープ摺動により、バック層からの脱落が生
じ易くなり、エラー比率の増大につながる欠点を有して
いる。 【００３９】微粒子状カーボンブラックの具体的な商品
としては、以下のものを挙げることができる。カッコ内
に平均粒子径を示す。ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎ
ｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｎｍ）（以上、コロ
ンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｎｍ）（キャ
ボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ）、Ｐ
ＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５
（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｎｍ）（以
上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｎｍ）（三菱化成
工業（株）製）。 【００４０】また粗粒子カーボンブラックの具体的な商
品の例としては、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カ
ーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ ＭＴＰ（２７５ｎｍ）
（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。 【００４１】バック層において、平均粒子径の異なる二
種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍの微粒子状
カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カー
ボンブラックの含有比率（重量比）は、前者：後者＝９
８：２〜７５：２５の範囲にあることが好ましく、更に
好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲である。 【００４２】バック層中のカーボンブラック（二種類の
ものを使用する場合には、その全量）の含有量は、結合
剤１００重量部に対して、通常３０〜８０重量部の範囲
であり、好ましくは、４５〜６５重量部の範囲である。 【００４３】無機粉末は、硬さの異なる二種類のものを
併用することが好ましい。具体的には、モース硬度３〜
４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉
末とを使用することが好ましい。モース硬度が３〜４．
５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行によ
る摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範
囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもな
い。またこの無機粉末の平均粒子径は、３０〜５０ｎｍ
の範囲にあることが好ましい。 【００４４】モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末と
しては、例えば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪
酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸
亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、
単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用すること
ができる。 【００４５】バック層内の軟質無機粉末の含有量は、カ
ーボンブラック１００重量部に対して１０〜１４０重量
部の範囲にあることが好ましく、更に好ましくは、３５
〜１００重量部である。 【００４６】モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加
することにより、バック層の強度が強化され、走行耐久
性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラックや
前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺動に対
しても劣化が少なく、強いバック層となる。またこの無
機粉末の添加により、適度の研磨力が付与され、テープ
ガイドポール等への削り屑の付着が低減する。特に軟質
無機粉末と併用すると、表面の粗いガイドポールに対し
ての摺動特性が向上し、バック層の摩擦係数の安定化も
図ることができる。 【００４７】硬質無機粉末は、その平均粒子サイズが８
０〜２５０ｎｍ（更に好ましくは、１００〜２１０ｎ
ｍ）の範囲にあることが好ましい。 【００４８】モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末とし
ては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化ク
ロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）を挙げることができる。これらの粉末
は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用して
も良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミナ
が好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラッ
ク１００重量部に対して通常３〜３０重量部であり、好
ましくは、３〜２０重量部である。 【００４９】バック層に前記軟質無機粉末と硬質無機粉
末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉末との
硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以上、特
に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無機粉末
とを選択して使用することが好ましい。 【００５０】バック層には、前記それぞれ特定の平均粒
子サイズを有するモース硬度の異なる二種類の無機粉末
と、前記平均粒子サイズの異なる二種類のカーボンブラ
ックとが含有されていることが好ましい。 【００５１】バック層には、潤滑剤を含有させることが
できる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは磁性層
に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から適宜選
択して使用できる。バック層において、潤滑剤は、結合
剤１００重量部に対して通常１〜５重量部の範囲で添加
される。 【００５２】［支持体］本発明に用いられる支持体は、
特に制限されるべきものではないが、実質的に非磁性で
可撓性のもので、前述のように表面性が制御されたもの
が好ましい。支持体としてはポリエチレンテレフタレー
ト、ポリエチレンナフタレート、等のポリエステル類、
ポリオレフィン類、セルロ−ストリアセテート、ポリカ
−ボネート、ポリアミド（脂肪族ポリアミドやアラミド
等の芳香族ポリアミドを含む）、ポリイミド、ポリアミ
ドイミド、ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾールな
どの公知のフィルムが使用できる。ポリエチレンナフタ
レート、ポリアミドなどの高強度支持体を用いることが
好ましい。また必要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗
さを変えるため特開平３−２２４１２７に示されるよう
な積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの
支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、
易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっても良
い。また本発明の支持体としてアルミまたはガラス基板
を適用することも可能である。 【００５３】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄで測定した中心面平均表
面粗さＲａは８．０ｎｍ以下、好ましくは４．０ｎｍ以
下、さらに好ましくは２．０ｎｍ以下のものが好まし
い。これらの支持体は単に中心面平均表面粗さが小さい
だけではなく、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが
好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に
添加されるフィラ−の大きさと量により自由にコントロ
−ルされるものである。これらのフィラ−としては一例
としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、
アクリル系などの有機微粉末があげられる。支持体の最
大高さＲｍａｘは１μｍ以下、十点平均粗さＲｚは０．
５μｍ以下、中心面山高さはＲｐは０．５μｍ以下、中
心面谷深さＲｖは０．５μｍ以下、中心面面積率Ｓｒは
１０％以上、９０％以下、平均波長λａは５μｍ以上、
３００μｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久
性を得るため、これら支持体の表面突起分布をフィラー
により任意にコントロールできるものであり、０．０１
μｍから１μｍの大きさのもの各々を０．１ｍｍ²あた
り０個から２０００個の範囲でコントロ−ルすることが
できる。 【００５４】本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好
ましくは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ²（４９〜４９０ＭＰａ）
である。また、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は
好ましくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、
８０℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さら
に好ましくは０．５％以下である。破断強度は５〜１０
０Ｋｇ／ｍｍ²（≒４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１
００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²（≒０．９８〜１９．６Ｇ
Ｐａ）が好ましい。温度膨張係数は１０^-4〜１０^-8／℃
であり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃である。湿度膨
張係数は１０^-4／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０^-5
／ＲＨ％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械
強度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差で
ほぼ等しいことが好ましい。 【００５５】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗料
又は下層塗料を製造する工程は、少なくとも混練工程、
分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じて設
けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以
上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する強磁
性粉末、非磁性粉末、結合剤、カ−ボンブラック、研磨
剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの
工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、
個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかま
わない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、
分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入して
もよい。本発明の目的を達成するためには従来の公知の
製造技術を一部の工程として用いることができる。混練
工程ではオープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エ
クストルーダなど強い混練力をもつものを使用すること
が好ましい。ニーダを用いる場合は磁性粉末または非磁
性粉末と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合
剤の３０質量％以上が好ましい）および磁性粉末１００
質量部に対し１５〜５００質量部の範囲で混練処理され
る。これらの混練処理の詳細については特開平１−１０
６３３８、特開平１−７９２７４に記載されている。ま
た、磁性層液および下層液を分散させるにはガラスビー
ズを用ることができるが、高比重の分散メディアである
ジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが
好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適
化して用いられる。分散機は公知のものを使用すること
ができる。 【００５６】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９，特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１，特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実
現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布を用いてもむろんかまわず、本
発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠陥
を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させるた
めには、前述の同時重層塗布を用いることが好ましい。 【００５７】デイスクの場合、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属粉末の
場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、垂
直成分をもたせて３次元ランダムとすることもできる。
六方晶系フェライトの場合は一般的に面内および垂直方
向の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ランダ
ムとすることも可能である。また異極対向磁石など公知
の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方的
な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録を
行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコートを
用い円周配向をしてもよい。 【００５８】磁気テープの場合はコバルト磁石やソレノ
イドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きる様にすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ／分〜
１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好まし
い、また磁石ゾ−ンに入る前に適度の予備乾燥を行なう
こともできる。 【００５９】上記塗布、乾燥後、通常、磁気記録媒体に
カレンダー処理を施す。カレンダー処理ロ−ルとしてエ
ポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等
の耐熱性のあるプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで
処理するが、特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同
志で処理することが好ましい。処理温度は、好ましくは
５０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上である。線
圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ（１９６ｋＮ／ｍ）
以上、さらに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ
／ｍ）以上である。 【００６０】［物理特性］本発明になる磁気記録媒体の
磁性層の飽和磁束密度は、好ましくは０．１〜０．３Ｔ
である。磁性層の抗磁力Ｈｃは１５９ｋＡ／ｍ（２００
０Ｏｅ）〜３９８ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）が好まし
く、１５９〜２３９ｋＡ／ｍ（２０００〜３０００Ｏ
ｅ）が更に好ましい。抗磁力の分布は狭い方が好まし
く、ＳＦＤは０．６以下が好ましい。角形比はディスク
の場合、ランダム配向で０．４５〜０．５５、２次元ラ
ンダムの場合は０．５〜０．６４である。配向テープの
場合は０．５以上である。垂直配向した場合は、０．５
以上である。本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩
擦係数は温度−１０℃から４０℃、湿度０％から９５％
の範囲において０．５以下、好ましくは０．３以下、表
面固有抵抗は好ましくは磁性面１０⁴ 〜１０¹²オ−ム／
ｓｑ、帯電位は−５００Ｖから＋５００Ｖ以内が好まし
い。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向で好
ましくは１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²（０．９８〜１
９．６ＧＰａ）、破断強度は好ましくは１０〜７０Ｋｇ
／ｍｍ²（９８〜６８６ＭＰａ）、磁気記録媒体の弾性
率は面内各方向で好ましくは１００〜１５００Ｋｇ／ｍ
ｍ²（０．９８〜１４．７ＧＰａ）、残留のびは好まし
くは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温度での熱
収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５
％以下、もっとも好ましくは０．１％以下である。磁性
層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動的粘弾性
測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２０℃以下
が好ましく、下層非磁性層のそれは０℃〜１００℃が好
ましい。損失弾性率は１×１０⁹〜８×１０¹⁰μＮ／ｃ
ｍ²の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２以
下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘着
故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒体
の面内各方向で１０％以内でほぼ等しいことが好まし
い。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍ
ｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下であ
る。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ま
しくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以
下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が
好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い
場合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディス
ク媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいこ
とが多い。 【００６１】磁性層の中心面平均表面粗さＲａはＷＹＫ
Ｏ社製ＴＯＰＯ−３Ｄを用いて約２５０μｍ×２５０μ
ｍの面積での測定で４．０ｎｍ以下、好ましくは３．８
ｎｍ以下、さらに好ましくは３．５ｎｍ以下である。磁
性層の最大高さＲｍａｘは０．５μｍ以下、十点平均粗
さＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．３μ
ｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、中心面面
積率Ｓｒは２０％以上、８０％以下、平均波長λａは５
μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。磁性層の表面突
起は前述の通りに設定することにより電磁変換特性、摩
擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体の
フィラ−による表面性のコントロ−ルや前述したように
磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダー処理のロ
−ル表面形状などで容易にコントロ−ルすることができ
る。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。 【００６２】本発明の磁気記録媒体において、目的に応
じ下層と磁性層でこれらの物理特性を変えることができ
るのは容易に推定されることである。例えば、磁性層の
弾性率を高くし走行耐久性を向上させると同時に下層の
弾性率を磁性層より低くして磁気記録媒体のヘッドへの
当りを良くするなどである。 【００６３】 【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるべきものではない。なお、以
下の「部」とは「質量部」のことである。 ＜塗料の作成＞ 磁性塗料 バリウムフェライト磁性粉 １００部 平均板径：３０ｎｍ、平均板厚：１０ｎｍ 平均粒子体積：５８００ｎｍ³、板径１０ｎｍ以下の粒子存在比率６％ Ｈｃ：１８３ｋＡ／ｍ、σｓ：５０Ａ・ｍ²／ｋｇ、Ｓ_BET：６５ｍ²／ｇ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） ５部 平均粒子径：０．２μｍ カ−ボンブラック ＃５５（旭カーボン社製） １部 平均粒子径：０．０７５μｍ 比表面積：３５ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：８１ｍｌ／１００ｇ ｐＨ７．７ 揮発分１．０％ ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 【００６４】 非磁性塗料１．（下層：ディスク） 非磁性粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０部 平均粒子径：０．０３５μｍ 、Ｓ_BET：４０ｍ²／ｇ ｐＨ：７、ＴｉＯ₂含有量：９０％以上 ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｍｌ／１００ｇ 表面にＡｌ₂Ｏ₃が粒子全体に対して８質量％存在 カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 【００６５】 非磁性塗料２．（下層：テープ） 非磁性粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０部 平均粒子径：０．０３５μｍ、Ｓ_BET：４０ｍ²／ｇ ｐＨ：７、ＴｉＯ₂含有量：９０％以上 ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｍｌ／１００ｇ 表面にＡｌ₂Ｏ₃が粒子全体に対して８質量％存在 カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 【００６６】製法１ ディスク 実施例１ 上記の塗料のそれぞれについて、各成分をニ−ダで混練
したのち、サンドミルを用いて、分散液を１０回循環し
てジルコニアビーズで分散させた。得られた分散液に、
ポリイソシアネートを下層の塗布液には１０部、磁性層
の塗布液には１０部を加え、さらにそれぞれにシクロヘ
キサノン４０部を加え，１μｍの平均孔径を有するフィ
ルターを用いて濾過し、下層形成用および磁性層形成用
の塗布液をそれぞれ調製した。 【００６７】得られた下層塗布液を、乾燥後の厚さが
１．５μｍになるようにさらにその直後にその上に磁性
層の厚さが０．２μｍになるように、厚さ６２μｍで中
心面平均表面粗さが３ｎｍで、突起密度Ｐが０．０５ヶ
／ｍｍ²であるポリエチレンテレフタレート支持体上に
同時重層塗布をおこない、もう片方の支持体面にも同様
に塗布、配向し、乾燥後、７段のカレンダで温度９０
℃、線圧３００Ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）にて処理
を行い、３．７吋に打ち抜き表面研磨処理を施してディ
スク媒体を得た。 実施例２〜５、比較例１〜３ 表１に記載の変更要素、即ち支持体の突起密度、磁性液
分散循環回数、カレンダー温度・線圧を同表に記載のよ
うに変更した以外は、実施例１と同様にしてディスク媒
体を得た。 【００６８】製法２ コンピューターテープ 実施例１１ 上記の塗料のそれぞれについて、各成分をニ−ダで混練
したのち、サンドミルを用いて、分散液を１０回循環し
てジルコニアビーズで分散させた。得られた分散液に、
ポリイソシアネートを下層の塗布液には２．５部、磁性
層の塗布液には３部を加え、さらにそれぞれにシクロヘ
キサノン４０部を加え，１μｍの平均孔径を有するフィ
ルターを用いて濾過し、下層形成用および磁性層形成用
の塗布液をそれぞれ調製した。 【００６９】得られた下層塗布液を、乾燥後の下層の厚
さが１．７μｍになるようにさらにその直後にその上に
磁性層の厚さが０．１５μｍになるように、厚さ４．４
μｍで中心面平均表面粗さが２ｎｍで、突起密度Ｐが
０．０５ヶ／ｍｍ²であるアラミド支持体（商品名：ミ
クトロン）上に同時重層塗布をおこない、両層がまだ湿
潤状態にあるうちに０．６Ｔの磁力を持つコバルト磁石
と０．６Ｔの磁力を持つソレノイドにより配向させた。
乾燥後、金属ロ−ルのみから構成される７段のカレンダ
−で温度９０℃、線圧３００Ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／
ｍ）にて分速２００ｍ／ｍｉｎ．で処理を行い、その
後、厚み０．５μｍのバック層（カ−ボンブラック 平
均粒子径：１７ｎｍ １００部、炭酸カルシウム 平均
粒子径：４０ｎｍ ８０部、αアルミナ 平均粒子径：
２００ｎｍ ５部をニトロセルロ−ス樹脂、ポリウレタ
ン樹脂、ポリイソシアネートに分散）を塗布した。３．
８ｍｍの幅にスリットし、スリット品の送り出し、巻き
取り装置を持った装置に不織布とカミソリブレ−ドが磁
性面に押し当たるように取り付け、テ−プクリ−ニング
装置で磁性層の表面のクリ−ニングを行い、テープ試料
を得た。 【００７０】実施例１２〜１５、比較例１１〜１３ 表２に記載の変更要素、即ち支持体の突起密度、磁性液
分散循環回数、カレンダー温度・線圧を同表に記載のよ
うに変更した以外は、実施例１１と同様にしてテープ試
料を得た。 【００７１】上記作成した磁気ディスク及びコンピュー
ターテープの各々の性能を下記の測定法により評価し、
表１、２に結果を示した。尚、「実」は、実施例、
「比」は比較例を示す。 （１）摩擦係数 ２３℃，ＲＨ７０％において、試料と下記の２種のポー
ル（表面粗さＲａ：０．０６〜０．０８μｍ；接触式粗
さ計、カットオフ０．２５μｍで測定）とを２０ｇの張
力（Ｔ１）で接触（巻きつけ角：１８０°）させて案内
部材を介して試料を水平としてロードセルに保持し、こ
の条件下で、試料を１４ｍｍ／秒の速度で水平方向に走
行させるのに必要な張力（Ｔ２）を測定した。 ステンレスポール…ＳＵＳ４２０Ｊポール，樹脂ポ
ール…ＰＯＭ（ポリオキシメチレン）製ジュラコンＭ２
０７ポール この測定値をもとに次の計算式により摩擦係数μ値を求
めた。 μ＝（１／π）・ｌｎ（Ｔ２／Ｔ１） （２）空間周波数強度 ＷＹＫＯ社製非接触型表面粗さ計ＴＯＰＯ３Ｄを用いて
２５０μｍ×２５０μｍの面積の表面粗さを測定し、周
波数分析し、空間周波数１００／ｍｍと５００／ｍｍの
強度を測定した。 （３）ディスク電磁変換特性 出力：再生出力の測定は、国際電子工業社製（旧東京エ
ンジニアリング）製のディスク試験装置とＳＫ６０６Ｂ
型評価装置を用いギャップ長０．３μｍのメタルインギ
ャップヘッドを用い、半径２４．６ｍｍの位置において
記録波長９０ＫＦＣＩで記録した後、ヘッド増幅機の再
生出力をテクトロニクス社製オシロスコープ７６３３型
で測定した。 【００７２】ＳＮ比：再生出力を測定したディスクをＤ
Ｃ消去した後、アドバンテスト社製ＴＲ４１７１型スペ
クトロアナライザーで再生出力（ノイズ）を測定した。
ＳＮ比＝−２０ｌｏｇ（ノイズ／再生出力）とし、媒体
Ｎｏ１のＳＮ比を０ｄＢとして相対値で示した。 （４）テープ電磁変換特性 ＣＮ比（テープ）：記録ヘッド（ＭＩＧ、ギャップ０．
１５μｍ、トラック幅１８μｍ、１．８Ｔ）と再生用Ｍ
Ｒヘッド（シールド型：シールド間ｇａｐ０．２μｍ、
トラック幅４μｍ）をドラムテスターに取り付けて測定
した。ヘッド−メディア相対速度１０ｍ／ｓで記録波長
０．２μｍ（５０ＭＨｚ）の単周波信号を記録、再生信
号をシバソク製スペクトラムアナライザーにて周波数分
析し前記単周波信号の出力電圧と、１ＭＨｚ離れたノイ
ズ電圧の比をＣ／Ｎとした。再生時にはＭＲヘッドに、
再生出力が最大になる様に、バイアス電流を印可した。 （５）耐久性： ａ）磁気ディスク耐久性：フロッピー（登録商標）ディ
スクドライブ（米 Ｉｏｍｅｇａ社製ＺＩＰ１００：回
転数２９６８ｒｐｍ）を用い半径３８ｍｍ位置にヘッド
を固定した。その後、以下のフローを１サイクルとする
サーモサイクル環境で走行させた。目視で試料表面にキ
ズがついた時点をＮＧとし、相対値で示した。 （サーモサイクルフロー）２５℃、５０％ＲＨ １時間
→（昇温 ２時間）→６０℃、２０％ＲＨ ７時間→
（降温 ２時間）→２５℃、５０％ＲＨ １時間→（降
温 ２時間）→５℃、１０％ＲＨ ７時間→（昇温 ２
時間）→＜これを繰り返す＞ ｂ）コンピューターテープ耐久性：ＤＤＳドライブを用
い、所定の信号を記録した後、再生信号をモニターしつ
つ５０℃、１０％ＲＨで走行させた。初期再生出力の７
０％になった時点でＮＧとし、相対値で示した。 【００７３】 【表１】 【００７４】 【表２】 【００７５】比較例１及び１１はＢａＦｅ粒子サイズが
大きいため、磁性層表面性は粗く、μ値は低く耐久性は
確保できているものの、Ｓ／Ｎ又はＣ／Ｎ値は低い。比
較例２及び１２はＢａＦｅ粒子サイズが大きい例で突起
密度の低い支持体を用いてもＳ／Ｎ又はＣ／Ｎは上記よ
りよくなってはいるが、満足される改善ではなく、耐久
性も確保されない。比較例３及び１３は、磁性層表面性
は平滑であり、Ｓ／Ｎ又はＣ／Ｎは実施例１同等である
ものの、μ値が高く、耐久性を確保できていない。実施
例１〜５及び１１〜１５は比較例に比べてＳ／Ｎ又はＣ
／Ｎと耐久性のバランスが優れている。 【００７６】 【発明の効果】上記実施例に示す様に、本発明は六方晶
系フェライト粉末の平均板径並びにＳＵＳ及びＰＯＭに
対する摩擦係数を特定したことによりＳ／Ｎ又はＣ／Ｎ
及び耐久性に優れるによる磁気記録媒体を提供すること
ができる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 支持体上に実質的に非磁性である下層と
   強磁性六方晶系フェライト粉末を結合剤中に分散してな
   る磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体において、強磁
   性六方晶系フェライト粉末の平均板径が１０〜４０ｎｍ
   であり、磁性層のＳＵＳ４２０Ｊ製ポールおよびＰＯＭ
   （ポリオキシメチレン）製ポールに対する摩擦係数が
   ０．１５〜０．５０であることを特徴とする磁気記録媒
   体。