JP2002358623A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 電磁変換特性が良好で、生産性に優れ、低価
格な磁気記録媒体であって、かつ、ＭＲヘッドを組み合
わせた記録再生システムにおいてノイズの低い高密度特
性に優れる塗布型磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】 支持体上に強磁性粉末及び結合剤を主体
とする磁性層が形成されてなる磁気記録媒体において、
該磁気記録媒体は記録信号を磁気抵抗型磁気ヘッド（Ｍ
Ｒヘッド）で再生する磁気記録再生システムに供される
ものであって、該強磁性粉末は板径１０〜４０ｎｍの六
方晶フェライト磁性粉末で、磁性層の抗磁力が１５９ｋ
Ａ／ｍ以上であって、レマネンス曲線の微分曲線におい
て８０ｋＡ／ｍ以下の領域で磁化反転する成分が最大で
１％未満の磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は塗布型の高記録密度
の磁気記録媒体に関する。特に磁性層と実質的に非磁性
の下層を有し、最上層に強磁性六方晶フェライト微粉末
を含む高密度記録用の磁気記録媒体に関するものであ
る。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスクの分野において、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフロッピー（登録
商標）ディスクがパーソナルコンピュータに標準搭載さ
れようになった。しかし扱うデータ容量が急激に増加し
ている今日において、その容量は十分とは言えなくな
り、フロッピーディスクの大容量化が望まれていた。

【０００３】また、磁気テープの分野においても近年、
ミニコンピューター、パーソナルコンピューター、ワー
クステーションなどのオフィスコンピューターの普及に
伴って、外部記憶媒体としてコンピューターデータを記
録するための磁気テープ（いわゆるバックアップテー
プ）の研究が盛んに行われている。このような用途の磁
気テープの実用化に際しては、とくにコンピューターの
小型化、情報処理能力の増大と相まって、記録の大容量
化、小型化を達成するために、記録容量の向上が強く要
求される。

【０００４】従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性
酸化鉄、ＣｒＯ₂、強磁性金属粉末、六方晶系フェライ
ト粉末を結合剤中に分散した磁性層を非磁性支持体に塗
設したものが広く用いられる。この中でも六方晶系フェ
ライト微粉末は高密度記録特性に優れていることが知ら
れているが、従来、フレキシブルメディアを使用したシ
ステムで主流として使われてきたインダクティブヘッド
を用いた場合は、六方晶フェライト微粉末は飽和磁化が
小さく、充分な出力が得られなかった。しかしながら、
上記の様なフレキシブルメディアを用いたリムーバブル
記録においても、ハードディスクで使われている磁気抵
抗型ヘッド（ＭＲヘッド）が用いられ始めている。

【０００５】ＭＲヘッドは高感度なので前記六方晶フェ
ライト微粉末を用いても充分な再生出力が得られ、六方
晶フェライトの特徴である低ノイズ化によって高いＣ／
Ｎ比が得られることが知られている。例えば、特開平１
０−３０２２４３号公報には、バリウムフェライト（Ｂ
ａＦｅ）微粉末を用いてＭＲヘッドで再生した例が開示
されている。

【０００６】ところが、ここで知られている様な六方晶
フェライト微粉末では、磁性粒子が小さくなるにつれ
て、磁化の熱的安定性が劣化する。この現象は記録密度
が１Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ²以上の記録信号を再生するシ
ステムに供される磁気記録媒体において深刻となり、磁
気記録媒体サイドからこの問題が解決されることが期待
されていた。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特性
が良好で特に高密度記録領域でのＣ／Ｎ比が格段に改良
された、生産性に優れ、低価格な磁気記録媒体であっ
て、かつ、ＭＲヘッドを組み合わせた記録再生システム
においてノイズの低い高密度特性に優れる塗布型磁気記
録媒体を提供することを目的とする。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に強
磁性粉末及び結合剤を主体とする磁性層が形成されてな
る磁気記録媒体において、該磁気記録媒体は記録信号を
磁気抵抗型磁気ヘッド（ＭＲヘッド）で再生する磁気記
録再生システムに供されるものであって、該強磁性粉末
は平均板径１０〜４０ｎｍの六方晶フェライト磁性粉末
で、磁性層の抗磁力が１５９ｋＡ／ｍ（２０００Ｏｅ）
以上であって、レマネンス曲線の微分曲線において８０
ｋＡ／ｍ（１０００Ｏｅ）以下の領域で磁化反転する成
分が最大で１％未満であることを特徴とする磁気記録媒
体である。本発明の好ましい態様は、以下の通りであ
る。 （１）前記六方晶フェライト強磁性粉末の平均粒子体積
が１０００〜１００００ｎｍ³であり、板径１０ｎｍ未
満の粒子の存在比率が１０％以下である上記磁気記録媒
体。 （２）前記磁性層の厚さが０．０３〜０．２０μｍであ
る上記磁気記録媒体。 （３）前記磁性層と支持体との間に実質的に非磁性な層
が設けられた上記磁気記録媒体。

【０００９】尚、本発明の磁気記録媒体に信号を記録す
るための記録ヘッドは、特に制限されるべきものではな
いが、電磁誘導型の薄膜磁気ヘッド、例えば、ＭＩＧヘ
ッド等が好適に用いられる。本発明の磁性層に用いる六
方晶フェライト微粒子は板状の形状であり、平均板径は
１０〜４０ｎｍに制御される必要がある。また磁性層の
抗磁力は１５９ｋＡ／ｍ（２０００Ｏｅ）以上であっ
て、かつレマネンス曲線の微分曲線において８０ｋＡ／
ｍ以下の印可磁場で磁化反転する成分を少なく規制する
ことで、熱揺らぎの影響を少なくして高密度記録に於け
るＣ／Ｎを向上させるものである。即ち、本発明ではレ
マネンス曲線の微分曲線において８０ｋＡ／ｍ（１００
０Ｏｅ）以下の領域で磁化反転する成分を最大で１％未
満となるように磁気特性を制御してなる磁気記録媒体で
ある。ここで、レマネンス曲線は、磁性面に平行方向に
−８００ｋＡ／ｍ（−１０ｋＯｅ）の磁場を印加し磁性
層を飽和させた後、磁場をゼロとし逆方向に等間隔の磁
場（例えば８ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ））を印加しては磁
場をゼロとしそれぞれ残留磁束密度（Ｂｒ）及びその差
分を測定して、ｙ軸にＢｒの差分、ｘ軸に印加磁場とし
て描出したものである。また、１％未満とは、Ｘ軸を印
加磁場とし、Ｙ軸をｄｙ／ｄｘとした微分曲線全体とＸ
軸とで囲まれた全体面積に対して８０ｋＡ／ｍ以下に対
応する微分曲線の同面積の割合の意味である。本発明に
おいて、上記微分曲線を得る手段としては、磁性層に用
いる六方晶フェライト磁性粉末に混在する微粒子成分を
除去すること、例えば、用いる六方晶フェライト磁性粉
末において板径１０ｎｍ未満の粒子の存在比率を１０％
以下にすることが好ましい。このような微粒子成分を除
去する手段としては、遠心分離が挙げられる。

【００１０】本発明に対して、六方晶フェライト磁性粉
末の平均板径が１０〜４０ｎｍの範囲で、かつレマネン
ス曲線の微分曲線において８０ｋＡ／ｍ（１０００Ｏ
ｅ）以下の領域で磁化反転する成分（以下、磁化反転す
る成分という）が最大１％未満であっても、磁性層の抗
磁力が１５９ｋＡ／ｍ（２０００Ｏｅ）未満であるとＣ
／Ｎが改善されない。また、磁性層の抗磁力が１５９ｋ
Ａ／ｍ（２０００Ｏｅ）以上で、かつ六方晶フェライト
磁性粉末の平均板径が１０〜４０ｎｍの範囲であって
も、磁化反転する成分が１％以上であるとＣ／Ｎ及びオ
ーバーライト消去率が改善されない。更に、本発明に対
して、磁性層の抗磁力が１５９ｋＡ／ｍ（２０００Ｏ
ｅ）以上かつ磁化反転する成分が１％未満であっても、
六方晶フェライト磁性粉末の平均板径が４０ｎｍ超であ
るとＣ／Ｎが改善されない。また、本発明に対して、六
方晶フェライト磁性粉末の平均板径が１０ｎｍ未満であ
ると熱揺らぎのため安定な磁気記録を得ることが困難で
ある。尚、本発明において、磁性層の抗磁力は１５９ｋ
Ａ／ｍ（２０００Ｏｅ）以上で、大きければ大きいほど
好ましいが、その上限は磁気記録媒体が適用されるシス
テム、特に記録用磁気ヘッドの飽和磁化によって決定さ
れる。

【００１１】面記録密度は線記録密度とトラック密度の
積で表され、現在市販されているＤＤＳ−４などの記録
密度と比較して２倍以上に大きくすることができる。面
記録密度が１Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ²（０．１５５Ｇｂｉ
ｔ／ｃｍ²）より小さいと、本発明の媒体構成にしなく
ても達成可能である。８Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ²（１．２
４Ｇｂｉｔ／ｃｍ²）を越えると本発明をもってしても
困難である。

【００１２】磁性層厚みは、オ−バ−ライト、短波長記
録に於ける分解能向上の点で薄くすることが望ましい。
特に本発明においては、小さな磁場強度で磁化反転する
成分を少なくすることでノイズの低減を図るので、消去
特性が劣化することから磁性層を薄くすることが好まし
い。磁性層を薄くする具体的な手段としては、従来知ら
れている様に実質的に非磁性である下層を磁性層と支持
体の間に設けることが、表面粗さを小さくすること、生
産性向上の観点でさらに好ましい。以下、発明の詳細を
述べる。

【００１３】

【発明の実施の形態】［磁性層］本発明の磁気記録媒体
は磁性層を支持体の片面だけでも、両面に設けても良
い。磁性層を下層上に設ける場合、磁性層（上層または
上層磁性層ともいう）は下層を塗布後、下層が湿潤状態
の内（Ｗ／Ｗ）でも、乾燥した後（Ｗ／Ｄ）にでも上層
磁性層を設けることが出来る。生産得率の点から同時、
又は逐次湿潤塗布が好ましいが、デイスクの場合は乾燥
後塗布も十分使用できる。本発明の重層構成で同時、又
は逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）では上層／下層が同時に形成
できるため、カレンダー工程などの表面処理工程を有効
に活用でき、超薄層でも上層磁性層の表面粗さを良化で
きる。磁性層の抗磁力Ｈｃは１５９ｋＡ／ｍ（２０００
Ｏｅ）以上であることが必要である。さらに、磁性層の
磁化分布に於いて、８０ｋＡ／ｍ（１０００Ｏｅ）以下
の印可磁場によって磁化反転する成分が最大１％未満、
好ましくは０．７％以下、さらに０．５％以下に規定さ
れることが更に好ましい。

【００１４】［強磁性粉末］本発明の磁性層に使用する
強磁性粉末は六方晶フェライト粉末でありバリウムフェ
ライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カ
ルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。
具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライ
ト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面
を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一
部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリ
ウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げ
られ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、
Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈ
ｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、
Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を
含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔ
ｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ
−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−
Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原
料・製法によっては特有の不純物を含有するものもあ
る。

【００１５】六方晶フェライト磁性粉末の平均板径は、
六角板径の平均を意味し、１０〜４０ｎｍ、好ましくは
１０〜３５ｎｍであり、特に好ましくは１５〜３５ｎｍ
である。特にトラック密度を上げるためＭＲヘッドで再
生する場合、低ノイズにする必要があり、板径は３５ｎ
ｍ以下が好ましいが、１０ｎｍより小さいと熱揺らぎの
ため安定な磁化が望めない。４０ｎｍを越えるとノイズ
が高く、本発明の高密度磁気記録には向かない。平均板
状比（板径／板厚の算術平均）は１〜１５が望ましい。
好ましくは１〜７である。平均板状比が小さいと磁性層
中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性が得ら
れない。１５より大きいと粒子間のスタッキングにより
ノイズが大きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法に
よる比表面積は１０〜１００ｍ²／ｇを示す。比表面積
は概ね粒子板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒
子板径・板厚の分布は通常狭いほど好ましいが、本発明
におけるレマネンス曲線の微分曲線を満足するのであれ
ば特に制限はない。数値化は粒子ＴＥＭ写真より５００
粒子を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分
布ではない場合が多いが、計算して平均板径に対する標
準偏差で表される変動係数（σ／平均板径）は通常、
０．１〜２．０である。変動係数は、好ましくは、０．
１〜１．０であり、更に０．１〜０．５が好ましい。粒
子サイズ分布をシャープにするには粒子生成反応系をで
きるだけ均一にすると共に生成した粒子に分布改良処理
を施すことも行われている。たとえば酸溶液中で超微細
粒子を選別的に溶解する方法、前記遠心分離を用いる方
法等が挙げられる。該六方晶フェライト微粉末の平均粒
子体積は１０００〜１００００ｎｍ³、好ましくは１５
００〜８０００ｎｍ³、さらに好ましくは２０００〜８
０００ｎｍ³である。

【００１６】磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは通常、４
０〜４００ｋＡ／ｍ程度まで作成できる。Ｈｃは高い方
が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限
される。本発明では磁性体のＨｃは、１５９〜３９７ｋ
Ａ／ｍ程度であるが、好ましくは１５９〜３２０ｋＡ／
ｍである。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越える場
合は、１７５ｋＡ／ｍ以上にすることが好ましい。Ｈｃ
は粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元
素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御でき
る。飽和磁化σｓは４０〜８０Ａ・ｍ²／ｋｇである。
σｓは微粒子になるほど小さくなる傾向がある。σｓ改
良のためマグネトプランバイトフェライトにスピネルフ
ェライトを複合すること、含有元素の種類と添加量の選
択等が良く知られている。またＷ型六方晶フェライトを
用いることも可能である。磁性体を分散する際に磁性体
粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理するこ
とも行われている。表面処理材は無機化合物、有機化合
物が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ、
等の酸化物または水酸化物、各種シランカップリング
剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁
性体に対して０．１〜１０％である。磁性体のｐＨも分
散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマー
により最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性か
ら６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も
分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値がある
が通常０．０１〜２．０％が選ばれる。六方晶フェライ
トの製法としては、酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換す
る金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を所
望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、急
冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄・
粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結晶
化法、バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカリで
中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相加熱
した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶粉
体を得る水熱反応法、バリウムフェライト組成金属塩溶
液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥し１
１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライト結
晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選ばな
い。

【００１７】［非磁性層］次に支持体と磁性層の間に下
層である非磁性層を設ける時の下層に関する詳細な内容
について説明する。下層は実質的に非磁性であればその
構成は制限されるべきものではないが、通常、少なくと
も樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、無機粉末
あるいは有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられ
る。該無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末である
が、下層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用
され得るものである。

【００１８】該非磁性粉末としては、例えば、金属酸化
物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化
物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができ
る。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−
アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、
チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化ス
ズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコ
ニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単
独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度
分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更
に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら
非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好まし
いが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組
み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くし
て同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好まし
いのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２
μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である
場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状
金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μｍ以下が好
ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。タップ密度
は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ
／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は０．１〜５重量
％、好ましくは０．２〜３重量％、更に好ましくは０．
３〜１．５重量％である。非磁性粉末のｐＨは２〜１１
であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。

【００１９】非磁性粉末の比表面積は１〜１００ｍ²／
ｇ、好ましくは５〜８０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０
〜７０ｍ²／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは
０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜
０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレー
ト）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ま
しくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０
〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は１〜１２、好まし
くは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状
のいずれでも良い。モース硬度は４以上１０以下のもの
が好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量
は１〜２０μｍｏｌ／ｍ²、好ましくは２〜１５μｍｏ
ｌ／ｍ²、更に好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²である。
ｐＨは３〜６の間が好ましい。これらの非磁性粉末の表
面には表面処理を施すことによりＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、
ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、Ｙ₂Ｏ
₃を存在させることが好ましい。特に分散性に好ましい
のはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂であるが、
更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。
これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いる
こともできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理
層を用いても良いし、先ずアルミナを存在させた後にそ
の表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を
採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多
孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般に
は好ましい。

【００２０】下層に用いられる非磁性粉末の具体的な例
としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−
１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ
−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰ
Ｎ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５００ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ
１、ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５
１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５
Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、
αヘマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、Ｅ３０
３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３
０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα
−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、Ｍ
Ｔ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ
−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−
２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、
同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエ
ロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ₂ Ｐ２５、宇部興産製１０
０Ａ、５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられ
る。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化
鉄である。

【００２１】下層にカーボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビ
ッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボン
ブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらす
ことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用フ
ァーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチ
レンブラック、等を用いることができる。下層のカーボ
ンブラックは所望する効果によって、以下のような特性
を最適化すべきであり、併用することでより効果が得ら
れることがある。

【００２２】下層のカーボンブラックの比表面積は１０
０〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ²／
ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ま
しくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブ
ラックの粒子径は５ｎｍ〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５
０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カー
ボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０
％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。本発
明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては
キャボット社製 ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２００
０、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７
００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製
＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３
７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９
７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃
４０００、＃４０１０、コロンビアンカーボン社製
ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８０
０、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５０
０、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５
５、１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣな
どがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面
処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の
一部をグラファイト化したものを使用してもかまわな
い。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあら
かじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボ
ンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を越え
ない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使
用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組
合せで使用することができる。本発明で使用できるカー
ボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カー
ボンブラック協会編）を参考にすることができる。

【００２３】また、下層には有機質粉末を目的に応じ
て、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン
系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹
脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオ
レフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリア
ミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エ
チレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭
６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記
されているようなものが使用できる。

【００２４】下層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加
剤、溶剤、分散方法その他は以下に記載する磁性層のそ
れが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、
分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技
術が適用できる。 ［結合剤］本発明に使用される結合剤としては従来公知
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの
混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転
移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，００
０〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１０
０，０００、重合度が約５０〜１０００程度のものであ
る。

【００２５】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセ
タール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネートを組み合わせたものがあげられる。

【００２６】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−
Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、ま
たはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは
炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ば
れる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加
反応で導入したものを用いることが好ましい。このよう
な極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好まし
くは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００２７】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹ
ＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫ
ＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、
ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９、７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、
大日精化社製、ダイフェラミン４０２０、５０２０、５
１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三
菱化成社製、ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０など
があげられる。

【００２８】非磁性層、磁性層に用いられる結合剤は非
磁性粉末または強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範
囲、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用いられる。
塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重量％、ポリ
ウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソ
シアネートは２〜２０重量％の範囲でこれらを組み合わ
せて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素に
よりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみまた
はポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも
可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場
合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０
℃〜１００℃、更に好ましくは３０℃〜９０℃、破断伸
びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋ
ｇ／ｍｍ ²（０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０
５〜１０Ｋｇ／ｍｍ²（０．４９〜９８ＭＰａ）が好ま
しい。

【００２９】本発明の磁気記録媒体は二層以上から構成
され得る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビ
ニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、
あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂
の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特
性などを必要に応じ各層で変えることはもちろん可能で
あり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に
関する公知技術を適用できる。例えば、各層で結合剤量
を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁
性層の結合剤量を増量することが有効であり、ヘッドに
対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層の
結合剤量を多くして柔軟性を持たせることができる。

【００３０】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネ
ート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭ
Ｒ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ
−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２
００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ、デスモジュールＨＬ、等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層とも用いることができる。

【００３１】［カーボンブラック、研磨剤］本発明の磁
性層に使用されるカーボンブラックはゴム用ファーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５０
０ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００
ｇ、平均粒子径は５〜３００ｎｍ、好ましくは１０〜２
５０ｎｍ、更に好ましくは２０〜２００ｎｍである。ｐ
Ｈは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は
０．１〜１ｇ／ｃｃ、が好ましい。本発明に用いられる
カーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社
製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１
０００、９００、９０５、８００、７００、ＶＵＬＣＡ
Ｎ ＸＣ−７２、旭カーボン社製、＃８０、＃６０、＃
５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００
Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１０００＃３０、＃４
０、＃１０Ｂ、コロンビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵ
ＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１
５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケッチェン
ブラックＥＣ、などがあげられる。カーボンブラックを
分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使
用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用
してもかまわない。また、カーボンブラックを磁性塗料
に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわな
い。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで
使用することができる。カーボンブラックを使用する場
合は磁性体に対する量の０．１〜３０％でもちいること
が好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩
擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあ
り、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従
って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上
層磁性層、下層非磁性層でその種類、量、組合せを変
え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示し
た諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろ
ん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。
本発明の磁性層で使用できるカーボンブラックは、例え
ば、「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会
編）を参考にすることができる。

【００３２】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカー
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主
としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合
せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれ
ば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは
０．０１〜２μｍが好ましく、更に好ましくは０．０５
〜１．０μｍ、特に好ましくは０．０５〜０．５μｍの
範囲である。特に電磁変換特性を高めるためには、その
粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させる
には必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わ
せたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効
果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜
２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、
比表面積は１〜３０ｍ²／ｇ、が好ましい。本発明に用
いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のい
ずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性
が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１
２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫ
Ｐ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、
ＨＩＴ６０、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１００、
レイノルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰ
Ｓ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製、ＷＡ１００００、上村
工業社製、ＵＢ２０、日本化学工業社製、Ｇ−５、クロ
メックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製、ＴＦ
１００、ＴＦ１４０、イビデン社製、ベータランダムウ
ルトラファイン、昭和鉱業社製、Ｂ−３などが挙げられ
る。これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加するこ
ともできる。非磁性層に添加することで表面形状を制御
したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることができ
る。これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒径、
量はむろん最適値に設定すべきものである。

【００３３】［添加剤］本発明の磁性層と非磁性層に使
用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫
化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化
ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつ
シリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコ
ーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポ
リオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステル
およびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよ
びそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニ
ルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェ
ニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホ
スフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一
つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エ
ステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド
重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素
数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族ア
ミン、などが使用できる。

【００３４】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレ
ート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。

【００３５】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
にじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエス
テル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性
剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑
剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるな
ど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁
性粉末に対し、０．１％〜５０％、好ましくは２％〜２
５％の範囲で選択される。

【００３６】また、本発明で用いられる添加剤のすべて
またはその一部は、磁性塗料更にはおよび非磁性塗料製
造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工
程前に磁性体と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤に
よる混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場
合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合な
どがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同
時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布す
ることにより目的が達成される場合がある。また、目的
によってはカレンダーした後、またはスリット終了後、
磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。本発明で
用いられる有機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特
開昭６−６８４５３に号公報記載の溶剤を用いることが
できる。

【００３７】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は支持体が２〜１００μｍ、好ましくは２〜８０μｍ
である。コンピューターテープの支持体は、３．０〜
６．５μｍ（好ましくは、３．０〜６．０μｍ、更に好
ましくは、４．０〜５．５μｍ）の範囲の厚さのものが
使用される。磁性層の厚みは０．０３μｍ〜０．２０μ
ｍが好ましく、０．０５〜０．１５μｍが更に好まし
い。０．０３μｍより薄いと再生出力が低すぎ、０．２
０μｍより厚いとオ−バ−ライト特性、分解能の劣化を
もたらす。

【００３８】支持体と非磁性層または磁性層の間に密着
性向上のための下塗層を設けてもかまわない。本下塗層
厚みは０．０１〜０．５μｍ、好ましくは０．０２〜
０．５μｍである。本発明は支持体両面に非磁性層と磁
性層を設けてなるディスク状媒体であっても、片面のみ
に設けたテープ状媒体またはディスク状媒体でもよい。
この場合、帯電防止やカール補正などの効果を出すため
に非磁性層、磁性層側と反対側にバックコ−ト層を設け
てもかまわない。この厚みは０．１〜４μｍ、好ましく
は０．３〜２．０μｍである。これらの下塗層、バック
コート層は公知のものが使用できる。

【００３９】非磁性層の厚みは通常、０．２μｍ以上
５．０μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以上３．０μｍ
以下、さらに好ましくは１．０μｍ以上２．５μｍ以下
である。なお、非磁性層は実質的に非磁性であればその
効果を発揮するものであり、たとえば不純物としてある
いは意図的に少量の磁性体を含んでも、本発明の効果を
示すものであり、本発明と実質的に同一の構成と見なす
ことができることは言うまでもない。実質的に非磁性と
は残留磁束密度が０．０１Ｔ以下または抗磁力が７．９
６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ以下）であることを示し、好ま
しくは残留磁束密度と抗磁力をもたないことを示す。

【００４０】［バックコート層］一般に、コンピュータ
データ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディ
オテープに比較して、繰り返し走行性が強く要求され
る。このような高い走行耐久性を維持させるために、バ
ックコート層には、カーボンブラックと無機粉末が含有
されていることが好ましい。

【００４１】カーボンブラックは、平均粒子径の異なる
二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。
この場合、平均粒子径が１０〜２０ｎｍの微粒子状カー
ボンブラックと平均粒子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒
子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好
ましい。一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラ
ックの添加により、バックコート層の表面電気抵抗を低
く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録
装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信
号に使用しているものが多くあるため、このような場合
には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効にな
る。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤
の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄
与する。一方、平均粒子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒
子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有
しており、またバック層の表面に微小突起を形成し、接
触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。し
かし粗粒子状カーボンブラックを単独で用いると、過酷
な走行系では、テープ摺動により、バックコート層から
の脱落が生じ易くなり、エラー比率の増大につながる欠
点を有している。

【００４２】微粒子状カーボンブラックの具体的な商品
としては、以下のものを挙げることができる。カッコ内
に平均粒子径を示す。ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎ
ｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｎｍ）（以上、コロ
ンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｎｍ）（キャ
ボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ）、Ｐ
ＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５
（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｎｍ）（以
上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｎｍ）（三菱化成
工業（株）製）。

【００４３】また粗粒子カーボンブラックの具体的な商
品の例としては、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カ
ーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ ＭＴＰ（２７５ｎｍ）
（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。

【００４４】バックコート層において、平均粒子径の異
なる二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍの微
粒子状カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗粒子
状カーボンブラックの含有比率（重量比）は、前者：後
者＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好まし
く、更に好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲であ
る。

【００４５】バックコート層中のカーボンブラック（二
種類のものを使用する場合には、その全量）の含有量
は、結合剤１００重量部に対して、通常３０〜８０重量
部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５重量部の範囲
である。

【００４６】無機粉末は、硬さの異なる二種類のものを
併用することが好ましい。具体的には、モース硬度３〜
４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉
末とを使用することが好ましい。モース硬度が３〜４．
５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行によ
る摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範
囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもな
い。またこの無機粉末の平均粒子径は、３０〜５０ｎｍ
の範囲にあることが好ましい。

【００４７】モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末と
しては、例えば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪
酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸
亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、
単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用すること
ができる。

【００４８】バックコート層内の軟質無機粉末の含有量
は、カーボンブラック１００重量部に対して１０〜１４
０重量部の範囲にあることが好ましく、更に好ましく
は、３５〜１００重量部である。

【００４９】モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加
することにより、バックコート層の強度が強化され、走
行耐久性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラ
ックや前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺
動に対しても劣化が少なく、強いバックコート層とな
る。またこの無機粉末の添加により、適度の研磨力が付
与され、テープガイドポール等への削り屑の付着が低減
する。特に軟質無機粉末と併用すると、表面の粗いガイ
ドポールに対しての摺動特性が向上し、バックコート層
の摩擦係数の安定化も図ることができる。

【００５０】硬質無機粉末は、その平均粒子サイズが８
０〜２５０ｎｍ（更に好ましくは、１００〜２１０ｎ
ｍ）の範囲にあることが好ましい。

【００５１】モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末とし
ては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化ク
ロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）を挙げることができる。これらの粉末
は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用して
も良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミナ
が好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラッ
ク１００重量部に対して通常３〜３０重量部であり、好
ましくは、３〜２０重量部である。

【００５２】バックコート層に前記軟質無機粉末と硬質
無機粉末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉
末との硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以
上、特に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無
機粉末とを選択して使用することが好ましい。

【００５３】バックコート層には、前記それぞれ特定の
平均粒子サイズを有するモース硬度の異なる二種類の無
機粉末と、前記平均粒子サイズの異なる二種類のカーボ
ンブラックとが含有されていることが好ましい。

【００５４】バックコート層には、潤滑剤を含有させる
ことができる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは
磁性層に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から
適宜選択して使用できる。バックコート層において、潤
滑剤は、結合剤１００重量部に対して通常１〜５重量部
の範囲で添加される。

【００５５】［支持体］本発明に用いられる支持体は、
特に制限されるべきものではないが、実質的に非磁性で
可撓性のものが好ましい。本発明に用いられる可撓性支
持体としてはポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレ
ンナフタレート、等のポリエステル類、ポリオレフィン
類、セルロ−ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、芳
香族ポリアミド、脂肪族ポリアミド、ポリイミド、ポリ
アミドイミド、ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾ−
ルなどの公知のフィルムが使用できる。ポリエチレンナ
フタレ−ト、ポリアミドなどの高強度支持体を用いるこ
とが好ましい。また必要に応じ、磁性面とベ−ス面の表
面粗さを変えるため特開平３−２２４１２７号公報に示
されるような積層タイプの支持体を用いることもでき
る。これらの支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プ
ラズマ処理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをお
こなっても良い。また本発明の支持体としてアルミまた
はガラス基板を適用することも可能である。

【００５６】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄで測定した中心面平均表
面粗さＲａは８．０ｎｍ以下、好ましくは４．０ｎｍ以
下、さらに好ましくは２．０ｎｍ以下のものが好まし
い。これらの支持体は単に中心面平均表面粗さが小さい
だけではなく、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが
好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に
添加されるフィラ−の大きさと量により自由にコントロ
−ルされるものである。これらのフィラ−としては一例
としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、
アクリル系などの有機微粉末があげられる。支持体の最
大高さＲｍａｘは１μｍ以下、十点平均粗さＲｚは０．
５μｍ以下、中心面山高さはＲｐは０．５μｍ以下、中
心面谷深さＲｖは０．５μｍ以下、中心面面積率Ｓｒは
１０％以上、９０％以下、平均波長λａは５μｍ以上、
３００μｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久
性を得るため、これら支持体の表面突起分布をフィラー
により任意にコントロールできるものであり、０．０１
μｍから１μｍの大きさのもの各々を０．１ｍｍ²あた
り０個から２０００個の範囲でコントロ−ルすることが
できる。本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好まし
くは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ²（４９〜４９０ＭＰａ）であ
る。また、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好ま
しくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０
℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好
ましくは０．５％以下である。破断強度は５〜１００Ｋ
ｇ／ｍｍ ²（≒４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００
〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²（≒０．９８〜１９．６ＧＰ
ａ）が好ましい。温度膨張係数は１０^-4〜１０^-8／℃で
あり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃である。湿度膨張
係数は１０^-4／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０^-5／
ＲＨ％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強
度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほ
ぼ等しいことが好ましい。

【００５７】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗
料、更には非磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混
練工程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に
応じて設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ
２段階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用
する磁性体、非磁性粉体、結合剤、カ−ボンブラック、
研磨剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料は
どの工程の最初または途中で添加してもかまわない。ま
た、個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加しても
かまわない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工
程、分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入
してもよい。本発明の目的を達成するためには、従来の
公知の製造技術を一部の工程として用いることができ
る。混練工程ではオープンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ
−ダ、エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用
することが好ましい。ニ−ダを用いる場合は磁性体また
は非磁性粉体と結合剤のすべてまたはその一部（ただし
全結合剤の３０％以上が好ましい）および磁性体１００
部に対し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これ
らの混練処理の詳細については特開平１−１０６３３
８、特開平１−７９２７４に記載されている。また、磁
性層液および非磁性層液を分散させるにはガラスビーズ
を用いることができるが、高比重の分散メディアである
ジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが
好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は最適
化して用いられる。分散機は公知のものを使用すること
ができる。

【００５８】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９、特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１、特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。重層構成を実現す
るには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性層を
設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、本発
明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠陥を
少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させるため
には、前述の同時重層塗布を用いることが好ましい。

【００５９】デイスクの場合、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属微粉末
の場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、
垂直成分をもたせて３次元ランダムとすることもでき
る。六方晶フェライトの場合は一般的に面内および垂直
方向の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ラン
ダムとすることも可能である。また異極対向磁石など公
知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方
的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録
を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコート
を用い円周配向をしてもよい。

【００６０】磁気テープの場合はコバルト磁石やソレノ
イドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きる様にすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ／分〜
１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好まし
い、また磁石ゾ−ンに入る前に適度の予備乾燥を行なう
こともできる。

【００６１】上記塗布、乾燥後、通常、磁気記録媒体に
カレンダー処理を施す。カレンダー処理ロ−ルとしてエ
ポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等
の耐熱性のあるプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで
処理するが、特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同
志で処理することが好ましい。処理温度は、好ましくは
５０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上である。線
圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ（１９６ｋＮ／ｍ）
以上、さらに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ
／ｍ）以上である。

【００６２】［物理特性］本発明になる磁気記録媒体の
磁性層の飽和磁束密度は、好ましくは０．１〜０．３Ｔ
である。磁性層の抗磁力Ｈｃは１５９ｋＡ／ｍ（２００
０Ｏｅ）以上であるが、１５９ｋＡ／ｍ（２０００Ｏ
ｅ）〜３９８ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）で有ることが好
ましい、１５９〜２３９ｋＡ／ｍ（２０００〜３０００
Ｏｅ）が更に好ましい。抗磁力の分布は狭い方が好まし
く、ＳＦＤは０．６以下が好ましい。角形比は２次元ラ
ンダムの場合は０．５５以上０．６７以下で、好ましく
は０．５８以上、０．６４以下、３次元ランダムの場合
は０．４５以上、０．５５以下が好ましく、垂直配向の
場合は垂直方向に０．６以上好ましくは０．７以上、反
磁界補正を行った場合は０．７以上好ましくは０．８以
上である。２次元ランダム、３次元ランダムとも配向度
比は０．８以上が好ましい。２次元ランダムの場合、垂
直方向の角形比、Ｂｒ、Ｈｃは面内方向の０．１〜０．
５倍以内とすることが好ましい。

【００６３】磁気テープの場合、角型比は０．７以上、
好ましくは０．８以上である。本発明の磁気記録媒体の
ヘッドに対する摩擦係数は温度−１０℃から４０℃、湿
度０％から９５％の範囲において０．５以下、好ましく
は０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは磁性面１０⁴
〜１０¹²オ−ム／ｓｑ、帯電位は−５００Ｖから＋５０
０Ｖ以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率
は面内各方向で好ましくは１００〜２０００Ｋｇ／ｍｍ
²（０．９８〜１９．６ＧＰａ）、破断強度は好ましく
は１０〜７０Ｋｇ／ｍｍ²（９８〜６８６ＭＰａ）、磁
気記録媒体の弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜
１５００Ｋｇ／ｍｍ²（０．９８〜１４．７ＧＰａ）、
残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあ
らゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに
好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％
以下である。磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測
定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃
以上１２０℃以下が好ましく、下層非磁性層のそれは０
℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０⁹〜８
×１０¹⁰μＮ／ｃｍ²の範囲にあることが好ましく、損
失正接は０．２以下であることが好ましい。損失正接が
大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性
や機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内でほぼ等し
いことが好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ま
しくは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍ
ｇ／ｍ²以下である。塗布層が有する空隙率は非磁性
層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さらに好ま
しくは２０容量％以下である。空隙率は高出力を果たす
ためには小さい方が好ましいが、目的によってはある値
を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り返し用途
が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい方が走行
耐久性は好ましいことが多い。

【００６４】磁性層の中心面平均表面粗さＲａはＷＹＫ
Ｏ社製ＴＯＰＯ−３Ｄを用いて約２５０μｍ×２５０μ
ｍの面積での測定で４．０ｎｍ以下、好ましくは３．８
ｎｍ以下、さらに好ましくは３．５ｎｍ以下である。磁
性層の最大高さＲｍａｘは０．５μｍ以下、十点平均粗
さＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．３μ
ｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、中心面面
積率Ｓｒは２０％以上、８０％以下、平均波長λａは５
μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。磁性層の表面突
起は前述の通りに設定することにより電磁変換特性、摩
擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体の
フィラ−による表面性のコントロ−ルや前述したように
磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダー処理のロ
−ル表面形状などで容易にコントロ−ルすることができ
る。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。

【００６５】本発明の磁気記録媒体で非磁性層と磁性層
を有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの
物理特性を変えることができるのは容易に推定されるこ
とである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性
を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。

【００６６】

【実施例】以下、本発明の具体的実施例を説明するが、
本発明はこれに限定されるべきものではない。 ＜強磁性粉末＞実施例に使用した六方晶フェライト磁性
粉末を下記表１に示す。

【００６７】

【表１】

【００６８】表１中、反転成分ｍａｘは、レマネンス曲
線の微分曲線において８０ｋＡ／ｍ（１０００Ｏｅ）以
下の領域で磁化反転する成分の割合［％］を示す。ま
た、遠心分離による選別で「あり」は、１００，０００
ｒｐｍ、１０分間の処理を施したものを示す。粒子サイ
ズは、透過型電子顕微鏡（ＴＥＭ）にて５０万倍で粒子
の写真を撮影し、画像解析装置で約５００個の粒子のサ
イズ分布を計測した。 実施例１ ＜塗料の作成＞ 磁性塗料 バリウムフェライト磁性粉（ＢａＦｅ１） １００部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） ５部 平均粒子径：０．２μｍ カ−ボンブラック ＃５５（旭カーボン社製） １部 平均粒子径：０．０７５μｍ 比表面積：３５ｍ²／ｇ ＤＢＰ吸油量：８１ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：７．７ 揮発分：１．０％ ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部

【００６９】 非磁性塗料 非磁性粉末 針状ヘマタイト ８０部 平均長軸長：０．１５μｍ、ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ²／ｇ ｐＨ：８．５、表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃ カ−ボンブラック 平均粒子径：２０ｎｍ ２０部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部

【００７０】コンピューターテープの製造 上記の塗料について、各成分をニ−ダで混練したのち、
サンドミルをもちいて４時間分散させた。得られた分散
液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗布液には２．５
部、磁性層の塗布液には３部を加え、さらにそれぞれに
シクロヘキサノン４０部を加え、１μｍの平均孔径を有
するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用および
磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。得られた非
磁性層塗布液を、乾燥後の下層の厚さが１．７μｍにな
るようにさらにその直後にその上に磁性層の厚さが０．
１μｍになるように、厚さ４．４μｍで中心面平均表面
粗さが２ｎｍのアラミド支持体上に同時重層塗布をおこ
ない、両層がまだ湿潤状態にあるうちに０．６Ｔの磁力
を持つコバルト磁石と０．６Ｔの磁力を持つソレノイド
により配向させた。乾燥後、金属ロ−ルのみから構成さ
れる７段のカレンダ−で温度８５℃にて分速２００ｍ／
ｍｉｎ．で処理を行い、その後、厚み０．５μｍのバッ
クコート層（カ−ボンブラック 平均粒子径：１７ｎｍ
１００部、炭酸カルシウム 平均粒子径：４０ｎｍ
８０部、αアルミナ 平均粒子径：２００ｎｍ ５部を
ニトロセルロ−ス樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシ
アネ−トに分散）を塗布した。３．８ｍｍの幅にスリッ
トし、スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装
置に不織布とカミソリブレ−ドが磁性面に押し当たるよ
うに取り付け、テ−プクリ−ニング装置で磁性層の表面
のクリ−ニングを行い、テープ試料を得た。

【００７１】コンピューターテープの各々の性能を下記
の測定法により評価した。 測定法 （１）磁気特性 Ｈｃ、σｓ：振動試料型磁束計（東英工業社製）を用
い、Ｈｍ７９６ｋＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）で測定した。 レマネンス曲線：前記方法によった。 レマネンス曲線の微分曲線：前記方法によった。 （２）ＣＮ比：記録ヘッド（ＭＩＧ、ギャップ０．１５
μｍ、トラック幅１８μｍ、１．８Ｔ）と再生用ＭＲヘ
ッド（シールド型：シールド間ｇａｐ０．２μｍ、トラ
ック幅４μｍ）をドラムテスターに取り付けて測定し
た。ヘッド−メディア相対速度１０ｍ／ｍｉｎで記録波
長０．２μｍ（５０ＭＨｚ）の単周波信号を記録、再生
信号をシバソク製スペクトラムアナライザーにて周波数
分析し前記単周波信号の出力電圧と、１ＭＨｚ離れたノ
イズ電圧の比をＣ／Ｎとした。再生時にはＭＲヘッド
に、再生出力が最大になる様に、バイアス電流を印加し
た。 （３）オーバーライト消去率 前記Ｃ／Ｎと同じ測定器を用い、最初に記録波長０．８
μｍ（１２．５ＭＨｚ）の信号を記録し次いで記録波長
０．２μｍ（５０ＭＨｚ）の信号を重ね書きした時の記
録波長０．８μｍの信号の残存率とした。一般に−２０
ｄＢ以下が必要とされる。

【００７２】実施例２〜４、比較例１〜２ 実施例１において、バリウムフェライト磁性粉、磁性層
厚を表２に示すように変更した以外は、実施例１と同様
にしてテープを作成した。尚、実施例２は、板径が小さ
い場合、実施例３は板径が大きい場合、実施例４は、磁
性層が厚めの場合、実施例５は、板径が小さくかつＨｃ
が高く、さらに磁性層が薄い場合である。結果を表２に
示す。

【００７３】

【表２】

【００７４】比較例１は、平均板径が４５ｎｍと大きく
Ｈｃが低い場合であり、遠心分離による選別なしで反転
成分ｍａｘが１．０％未満にはなるが、ノイズが高いた
め充分なＣ／Ｎ比が得られない。比較例２は、実施例１
で用いたＢａＦｅ１について遠心分離による選別をせず
板径１０ｎｍ以下の存在比率が１２％で、かつ磁性層が
厚い例で、ノイズが高く充分なＣ／Ｎ比が得られずオー
バーライト消去率が不十分である。いずれの実施例も比
較例と比較して高いＣ／Ｎ比と充分なオーバーライト消
去率を示した。

【００７５】

【発明の効果】本発明により、生産性に優れ、かつ、Ｍ
Ｒヘッドを組み合わせた記録再生システムにおいて高密
度記録領域でのＣ／Ｎ比が格段に改良された塗布型磁気
記録媒体を提供することが出来た。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に強磁性粉末及び結合剤を主体
   とする磁性層が形成されてなる磁気記録媒体において、
   該磁気記録媒体は記録信号を磁気抵抗型磁気ヘッド（Ｍ
   Ｒヘッド）で再生する磁気記録再生システムに供される
   ものであって、該強磁性粉末は平均板径１０〜４０ｎｍ
   の六方晶フェライト磁性粉末で、磁性層の抗磁力が１５
   ９ｋＡ／ｍ（２０００Ｏｅ）以上であって、レマネンス
   曲線の微分曲線において８０ｋＡ／ｍ（１０００Ｏｅ）
   以下の領域で磁化反転する成分が最大１％未満であるこ
   とを特徴とする磁気記録媒体。