JP2002373412A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 磁性体粉末の粒子サイズを小さくし針状比や
板状比を低くして抗磁力を大きくしても、磁性体同士の
凝集を解消して目的とするノイズを小さくすることがで
き、電磁変換特性（Ｓ／Ｎ比）が良好で、デジタル記録
に適した大容量の磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】 支持体上に実質的に非磁性である下層と
強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に
設けた磁気記録媒体において、前記磁性層の厚さが０．
０１〜０．１５μｍであり、且つ電子線マイクロアナリ
シスによる強磁性粉末起因の元素の平均強度を（ａ）、
当該強度の標準偏差を（ｂ）とした時に０．０３＜（ｂ
／ａ）＜０．５である磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気記録媒体に関
し、特に高密度記録に適した塗布型の磁気記録媒体に関
する。特に磁性層と実質的に非磁性の下層を有し、最上
層に強磁性金属微粉末または六方晶フェライト微粉末を
含む高密度記録用の磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】特開平５−２９８６５３号公報には、磁
性層厚（ｄ）が０．０１〜０．３μｍであり、標準偏差
（σ）／ｄが０．０５〜０．５となる磁性層と非磁性層
の重層構造からなる媒体で高い電磁変換特性と耐久性を
確保する磁気記録媒体が記載されている。しかし、単に
磁性層の厚さを均一にしただけでは磁性層中の磁性粉末
の充填性を制御することは難しく、結果として磁性層の
不均一性を充分に改善することが難しかった。また、同
公報に記載されているヘッドはインダクティブヘッドで
あり、磁性層の不均一性によるノイズは顕在化しにくか
った。一方、ＭＲヘッドではより媒体ノイズの影響を受
けやすく、磁性層の不均一性を界面乱れを含めてさらに
抑制する必要があった。従来、電磁誘導を動作原理とす
る磁気ヘッド（誘導型磁気ヘッド）が用いられ普及して
いる。だが更に高密度記録再生領域で使用するには限界
が見え始めている。すなわち、大きな再生出力を得るた
めには再生ヘッドのコイル巻数を多くする必要があるが
インダクタンスが増加し高周波での抵抗が増加し結果と
して再生出力が低下する問題があった。近年ＭＲ（磁気
抵抗）を動作原理とする再生ヘッドが提案され、ハード
デイスク等で使用され始めている。ＭＲヘッドは誘導型
磁気ヘッドに比較して数倍の再生出力が得られ、かつ誘
導コイルを用いないため、インピーダンスノイズ゛等の
機器ノイズが大幅に低下し、磁気記録媒体のノイズを下
げることで大きなＳＮ比を得ることが可能になってき
た。本発明は従来から使用されている生産性に優れ、低
価格で提供できる塗布型磁気記録媒体とＭＲヘッドとの
組み合わせを検討し、高密度特性に優れる磁気記録媒体
を得たものである。

【０００３】強磁性粉末は、その形状異方性による高抗
磁力を実現するために強磁性粉末粒子自身は、針状比を
高くして、また、テープ状媒体の場合は、磁性層自身は
ヘッドの走行方向と順方向に磁気的な配向度を高め、出
力変動をできるだけ小さくすることが重要であった。ま
た、高密度記録を実現するためには、磁性体粉末の粒子
サイズをより小さくすることが重要である。しかしなが
ら、例えば、面記録密度０．２Ｇｂｉｔ／ｉｎｃｈ²を
越える塗布型磁気記録媒体を開発する中で特に磁性体粒
子の粒子サイズが小さくなるとノイズが大きくなるとい
う問題が生じてきた。このノイズを抑えるために（１）
磁性体同士の凝集を解消すること、（２）垂直磁化成分
を低くすることが必要である。さらに、磁性体粉末の粒
子サイズを小さくすると、磁性層塗料の調製時に結合剤
中での分散が困難になり、目的とする低ノイズ媒体を得
ることが困難になる。高密度記録に必要な高抗磁力（Ｈ
ｃ）の微粒子磁性体（特にσｓの高い金属磁性粉末や六
角板状の六方晶フェライト）は磁性体凝集を起こし易
く、それだけノイズ抑制に対する施策を行う必要があ
る。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】磁性体粉末の粒子サイ
ズを小さくし針状比や板状比を低くして抗磁力を大きく
しても、磁性体同士の凝集を解消して目的とするノイズ
を小さくすることができ、電磁変換特性（Ｓ／Ｎ比）が
良好で、デジタル記録に適した大容量の磁気記録媒体を
提供しようとするものである。

【０００５】

【課題を解決するための手段】本発明は、支持体上に実
質的に非磁性である下層と強磁性粉末を結合剤中に分散
してなる磁性層をこの順に設けた磁気記録媒体におい
て、前記磁性層の厚さが０．０１〜０．１５μｍであ
り、且つ電子線マイクロアナリシスによる強磁性粉末起
因の元素の平均強度（ａ）、当該強度の標準偏差（ｂ）
とした時に０．０３＜（ｂ／ａ）＜０．５０であること
を特徴とする磁気記録媒体である。本発明の好ましい態
様は以下の通りである。 （１）前記磁性層の抗磁力が２０００Ｏｅ（１５９ｋＡ
／ｍ）以上である上記磁気記録媒体。 （２）強磁性粉末は平均長軸長が０．０１〜０．１８μ
ｍの強磁性金属粉末である上記磁気記録媒体。 （３）強磁性粉末は平均板径が０．０１〜０．０５μｍ
の六方晶フェライト磁性体であることを特徴とする上記
磁気記録媒体。

【０００６】

【発明の実施の形態】本発明の磁気記録媒体は、磁性層
の厚さが０．０１〜０．１５μｍで、且つ電子線マイク
ロアナリシスによる強磁性粉末起因の元素の平均強度
（ａ）、当該強度の標準偏差（ｂ）とした時に０．０３
＜（ｂ／ａ）＜０．５０であることを特徴とする。本発
明による電子線マイクロアナリシス（ＥＰＭＡ）は、磁
性層内領域の各部における強磁性粉末の充填度の分布、
即ち、強磁性粉末の充填性を評価することができる。即
ち、（ｂ／ａ）が小さい程、強磁性粉末の凝集、下層−
磁性層間の界面変動や界面の乱れ等による充填性の不均
一性が少ないことを示している。本発明は、ＥＰＭＡで
評価したときに（ｂ/ａ）が特定の小さい範囲になるよ
うに制御してなる磁気記録媒体を提供するものである。
以下にＥＰＭＡによる評価法を説明する。島津製ＥＰＭ
Ａ−１６００を使用し、電子ビーム加速電圧１５ｋＶ、
３０ｎＡ、ビーム径１μｍφの条件で、磁性層表面から
１００×１００μｍの範囲を少なくとも５００×５００
画素で目的の元素の強度マッピングを測定する。強磁性
粉末を構成する元素から固有の元素、例えば、Ｆｅ、Ｃ
ｏ、Ｂａ等から何れかを選択する。得られた元素強度マ
ッピングの結果において強度を２５６段階に分割し、Ｚ
ＥＩＳＳ製画像解析装置ＫＳ４００にて強度分布の標準
偏差（ｂ）及び平均値（ａ）を求め、ｂ／ａ値を算出す
る。尚、上記２５６段階に分割された強度は、画素部領
域の厚み方向が磁性層厚み全体に及ぶ体積における単位
体積当りの強度の相対値である。本発明において（ｂ／
ａ）を制御する手段は、公知の手段を適宜選択して最適
化することにより達成される。例えば、強磁性粉末、研
磨剤、カーボンブラックなどのサイズ、形状の制御、結
合剤の選定、分散剤、潤滑剤、界面活性剤等の各種添加
剤等の選定、磁性塗布液の分散方法並びに塗布、配向方
法等の選定、カレンダー処理条件の選定等が挙げられ
る。中でも塗布方式による制御が好ましい。具体的に
は、逐次重層塗布をすることが挙げられる。

【０００７】本発明において（ｂ／ａ）は、０．０３＜
（ｂ／ａ）＜０．５０に制御されるが、０．１０＜（ｂ
／ａ）＜０．４５が好ましい。また、磁性層厚みは、
０．０１〜０．１５μｍであるが、０．０３〜０．１２
μｍが好ましく、０．０３〜０．１０μｍが更に好まし
い。（ｂ／ａ）が０．０３以下または磁性層厚みが０．
０１μｍ未満であることは、現在の技術では製造するこ
と自体が不可能である。（ｂ／ａ）が０．５０以上かつ
磁性層厚みが０．０１μｍ未満では、強磁性粉末の充填
性が不均一となるためＳＮ比が改善されない。（ｂ／
ａ）が０．５０以上かつ磁性層厚みが０．１５μｍ超で
は、自己減磁損失に加え強磁性粉末の充填性が不均一で
あるためＳＮ比が改善されないことは明白である。

【０００８】（磁性層）磁性層は下層上に設けられ、単
層であっても２層以上から構成してもよく、後者の場
合、それら層同士の位置関係は目的により隣接して設け
ても間に磁性層以外の層を介在させて設けてもよく、公
知の層構成が採用できる。尚、本発明において、磁性層
の厚みとは、複層の場合は最上層の磁性層の乾燥厚みを
言う。

【０００９】本発明の磁気記録媒体は、好ましくは支持
体と磁性層との間に非磁性粉末と結合剤を主体とする非
磁性層が設けられる。磁性層を複層で構成する例として
は、強磁性酸化鉄、強磁性コバルト変性酸化鉄、ＣｒＯ
₂粉末、六方晶系フェライト粉末及び各種強磁性金属粉
末等から選択した強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性
層を組み合わせたものが挙げられる。なお、この場合、
同種の強磁性粉末であっても、元素組成、粉体サイズ等
の異なる強磁性粉末を含む磁性層を組み合わせることも
できる。本発明においては、上述したように強磁性金属
粉末を含む磁性層と支持体との間に非磁性層を設けた磁
気記録媒体が好ましい。

【００１０】重層構成の磁気記録媒体は、下層と磁性層
を支持体上に、下層を塗布後、下層が湿潤状態の内に上
層を同時、又は逐次に塗布するウェット・オン・ウェッ
ト法（Ｗ／Ｗ）でも、下層が乾燥した後に上層磁性層を
設けるドライ・オン・ウェット法（Ｗ／Ｄ）でも作成で
きる。生産得率の点から同時、又は逐次湿潤塗布が好ま
しい。本発明では同時、又は逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）で
は上層／下層が同時に形成できるため、カレンダー工程
などの表面処理工程を有効に活用でき、超薄層でも上層
磁性層の表面粗さを良化できる。

【００１１】（強磁性粉末）本発明に使用する強磁性粉
末としては、強磁性金属粉末または六方晶系フェライト
粉末が好ましい。強磁性金属粉末としては、α−Ｆｅを
主成分とする強磁性金属粉末が好ましい。強磁性金属粉
末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂａ、Ｗ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、
Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｃ
ａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｃｏ、Ｎｉの
少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましい。
Ｃｏは、Ｆｅと合金を作ると飽和磁化が増加し、かつ減
磁が改良されるので特に好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅ
に対して１原子％〜４０原子％が好ましく、さらに好ま
しくは１５原子％〜３５原子％、より好ましくは２０原
子％〜３５原子％である。Ｙ等の希土類元素の含有量は
１．５原子％〜１２原子％が好ましく、さらに好ましく
は３原子％〜１０原子％、より好ましくは４原子％〜９
原子％である。Ａｌは１．５原子％〜１２原子％が好ま
しく、さらに好ましくは３原子％〜１０原子％、より好
ましくは４原子％〜９原子％である。Ｙを含む希土類や
Ａｌは焼結防止剤として機能しており、組合わせて使用
することでより高い焼結防止効果が得られる。これらの
強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性
剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行って
もかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０
号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６
２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４
６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２
８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７
２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１
８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４６−
３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３
１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５
号、同３３８９０１４号等の各公報に記載されている。

【００１２】強磁性金属粉末には少量の水酸化物、また
は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製
造方法により得られたものを用いることができ、下記の
方法を挙げることができる。焼結防止処理を行った含水
酸化鉄、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅ
あるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、複合有機酸塩
（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元
する方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強
磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン
酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元す
る方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性金
属粉末は公知の徐酸化処理する。含水酸化鉄、酸化鉄を
水素などの還元性気体で還元し、酸素含有ガスと不活性
ガスの分圧、温度、時間を制御して表面に酸化皮膜を形
成する方法が、減磁量が少なく好ましい。

【００１３】本発明の磁性層の強磁性金属粉末をＢＥＴ
法による比表面積（Ｓ_BET）で表せば４０〜８０ｍ²／ｇ
であり、好ましくは４５〜７０ｍ²／ｇである。４０ｍ²
／ｇ以下ではノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上では
平滑な表面が得にくく好ましくない。本発明の磁性層の
強磁性金属粉末の結晶子サイズは８０〜１８０Åであ
り、好ましくは１００〜１７０Å、更に好ましくは１１
０〜１６５Åである。強磁性粉末の平均長軸長は０．０
１μｍ〜０．１８μｍが好ましく、０．０２〜０．１２
μｍが更に好ましく、０．０３〜０．０８μｍが特に好
ましい。強磁性金属粉末の平均針状比は３〜１５が好ま
しく、さらには３〜１０が好ましい。強磁性金属粉末の
飽和磁化σｓは通常、９０〜１７０Ａ・ｍ²／ｋｇであ
り、好ましくは１００〜１６０Ａ・ｍ²／ｋｇ、更に好
ましくは１１０〜１６０Ａ・ｍ²／ｋｇである。強磁性
金属粉末の抗磁力は１４２〜２７９ｋＡ／ｍが好まし
く、更に好ましくは１５８〜２３９ｋＡ／ｍである。

【００１４】強磁性金属粉末の含水率は０．１〜２質量
％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉
末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性粉末のｐ
Ｈは、用いる結合剤との組み合わせにより最適化するこ
とが好ましい。その範囲は６〜１２であるが、好ましく
は７〜１１である。強磁性金属粉末のＳＡ（ステアリン
酸）吸着量（表面の塩基性点の尺度）は１〜１５μｍｏ
ｌ／ｍ²、好ましくは２〜１０μｍｏｌ／ｍ²、さらに好
ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²である。ステアリン酸吸
着量が多い強磁性金属粉末を使用する時、表面に強く吸
着する有機物で表面修飾して磁気記録媒体を作成するこ
とが好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆ
ｅ、Ｎｉ、Ｓｒ、ＮＨ₄、ＳＯ₄、Ｃｌ、ＮＯ₂、ＮＯ₃な
どの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に
ない方が好ましい。各イオンの総和が３００ｐｐｍ以下
程度であれば、特性には影響しない。また、本発明に用
いられる強磁性粉末は空孔が少ない方が好ましく、その
値は２０容量％以下、更に好ましくは５容量％以下であ
る。また形状については先に示した粉体サイズ、磁気特
性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいずれでもかま
わない。強磁性粉末自体のＳＦＤ（ｓｗｉｔｃｈｉｎｇ
−ｆｉｅｌｄ ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）は小さい方
が好ましく、強磁性粉末のＨｃ分布を小さくする必要が
ある。テ−プのＳＦＤが小さいと、磁化反転がシャープ
でピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記録
に好適である。Ｈｃ分布を小さくするためには、強磁性
金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くする、
単分散α−Ｆｅ₂Ｏ₃を使用する、粒子間の焼結を防止す
るなどの方法がある。

【００１５】（六方晶フェライト粉末）六方晶フェライ
トとしては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェ
ライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトおよびこ
れらの各種の各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的に
はマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びス
トロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆し
たマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネ
ル相を含有した複合マグネトプランバイト型のバリウム
フェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げら
れ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｎｂ、Ｓ
ｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａ
ｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｌａ、
Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｂ、
Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般には
Ｃｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔ
ｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｎ
ーＺｎ−Ｃｏ、Ｓｎ−Ｃｏ−Ｔｉ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素
を添加した物を使用することができる。原料・製法によ
っては特有の不純物を含有するものもある。六方晶フェ
ライト粉末は六角板径で好ましくは平均板径が１０〜５
０ｎｍ、更に好ましくは１０〜４５ｎｍであり、特に好
ましくは１０〜４０ｎｍである。

【００１６】特にトラック密度を上げるため磁気抵抗ヘ
ッド（ＭＲヘッド）で再生する場合、低ノイズにする必
要があり、平均板径は４５ｎｍ以下が好ましいが、１０
ｎｍより小さいと熱揺らぎのため安定な磁化が望めな
い。５０ｎｍより大きいとノイズが高く、いずれも高密
度磁気記録には向かない。平均板状比は１〜１０が望ま
しい。好ましくは２〜７である。平均板状比が小さいと
磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な配向性
が得られない。１５より大きいと粉体間のスタッキング
によりノイズが大きくなる。この粉体サイズ範囲のＢＥ
Ｔ法による比表面積は３０〜２００ｍ²／ｇを示す。比
表面積は概ね粉体板径と板厚からの算術計算値と符号す
る。粉体板径・板厚の分布は狭いほど好ましい。数値化
は粉体ＴＥＭ（透過型電子顕微鏡）写真より約５００個
を無作為に測定する事で比較できる。分布は正規分布で
はない場合が多いが、計算して平均サイズに対する標準
偏差で表すとσ／平均粉体サイズ＝０．１〜０．５であ
る。粉体サイズ分布をシャープにするには粉体生成反応
系をできるだけ均一にすると共に、生成した粉体に分布
改良処理を施すことも行われている。たとえば酸溶液中
で超微細粉体を選別的に溶解する方法等も知られてい
る。ガラス化結晶法では、熱処理を複数回行い、核生成
と成長を分離することでより均一な粉体を得ている。磁
性粉で測定された抗磁力Ｈｃは４０〜４００ｋＡ／ｍ程
度まで作成できる。高Ｈｃの方が高密度記録に有利であ
るが、記録ヘッドの能力で制限される。Ｈｃは粉体サイ
ズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元素の置換サ
イト、粉体生成反応条件等により制御できる。

【００１７】飽和磁化σｓは３０〜７０Ａ・ｍ²／ｋｇ
である。σｓは、微粉体になるほど小さくなる傾向があ
る。製法では結晶化温度、または熱処理温度時間を小さ
くする方法、添加する化合物を増量する、表面処理量を
多くする方法等がある。またＷ型六方晶フェライトを用
いることも可能である。磁性体を分散する際に磁性体粉
体表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理すること
も行われている。表面処理剤は無機化合物、有機化合物
が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ等の
酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各
種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に
対して０．１〜１０質量％である。磁性体のｐＨも分散
に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーに
より最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から
６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分
散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが
通常０．１〜２．０質量％が選ばれる。六方晶フェライ
トの製法としては、（１）炭酸バリウム・酸化鉄・鉄を
置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素
等を所望のフェライト組成になるように混合した後溶融
し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、
洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラ
ス化結晶法、（２）バリウムフェライト組成金属塩溶液
をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以
上で液相加熱後、洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェラ
イト結晶粉体を得る水熱反応法、（３）バリウムフェラ
イト組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除
去した後乾燥し１１００℃以下で処理し、粉砕してバリ
ウムフェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発
明は製法を選ばない。

【００１８】（磁性層に用いられるカーボンブラック）
本発明の磁性層は、所望によりカーボンブラックを含む
ことができる。使用されるカーボンブラックは、ゴム用
ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、導電
性カーボンブラック、アセチレンブラック、等を用いる
ことができる。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ
吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、平均粒子径は５
ｎｍ〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜
１０質量％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃ、が好ま
しい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な
例としてはキャボット製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２
０００、１３００、１０００、９００、９０５、８０
０、７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、旭カーボン製、
＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化学
製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１００
０、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コロンビアンカーボン
製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、
５０、４０、１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、アクゾー社
製、ケッチェンブラックＥＣ、などがあげられる。カー
ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグ
ラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化
したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラ
ックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散
してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独、
または組み合わせで使用することができる。カーボンブ
ラックを使用する場合は磁性体に対する量の０．１〜３
０質量％で通常、用いることができる。カーボンブラッ
クは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜
強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブ
ラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれら
のカーボンブラックは上層磁性層、下層非磁性層でその
種類、量、組み合わせを変え、粒子サイズ、吸油量、電
導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じ
て使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で
最適化すべきものである。本発明の磁性層で使用できる
カーボンブラックは例えば（「カーボンブラック便覧」
カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。

【００１９】（研磨剤）本発明の磁性層に使用できる研
磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−
アルミナ、微粒子ダイヤモンド、炭化ケイ素、酸化クロ
ム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪
素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化
珪素、窒化ホウ素、など主としてモ−ス硬度６以上の公
知の材料が単独または組み合わせで使用される。また、
これらの研磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表
面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤に
は主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もある
が主成分が９０質量％以上であれば効果にかわりはな
い。これら研磨剤の粉体サイズは０．０１〜１μｍが好
ましく、特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度
分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには
必要に応じて粉体サイズの異なる研磨剤を組み合わせた
り、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果を
もたせることも可能である。タップ密度は０．３〜１．
５ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５質量％、ｐＨは２〜１
１、比表面積は１〜４０ｍ²／ｇが好ましい。本発明に
用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、の
いずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨
性が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１
０、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫ
Ｐ−５０、ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５
０、ＨＩＴ−６０Ａ、ＨＩＴ−５０Ｇ、ＨＩＴ−７０、
ＨＩＴ−８０、ＨＩＴ−８２、ＨＩＴ−１００、レイノ
ルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢ
Ｍ、不二見研磨剤社製ＷＡ１００００、上村工業社製Ｕ
Ｂ２０、日本化学工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、
クロメックスＵ１、戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４
０、イビデン社製ベータランダムウルトラファイン、昭
和鉱業社製Ｂ−３などが挙げられる。これらの研磨剤は
必要に応じ下層に添加することもできる。下層に添加す
ることで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制
御したりすることができる。これら磁性層、下層の添加
する研磨剤の粉体サイズ、量はむろん最適値に設定すべ
きものである。

【００２０】〔非磁性層（下層）〕次に下層に関する詳
細な内容について説明する。下層は、実質的に非磁性で
あれば、特に制限されるべきものではないが、好ましく
は非磁性粉末と結合剤を含む構成である。下層は実質的
に非磁性である範囲で磁性粉末も使用され得るものであ
る。下層が実質的に非磁性であるとは、上層の電磁変換
特性を実質的に低下させない範囲で下層が磁性を有する
ことを許容するということである。

【００２１】本発明の下層に用いられる非磁性粉末とし
ては、例えば、金属酸化物、含水金属酸化物、金属炭酸
塩、金属窒化物、金属炭化物、等の無機質化合物から選
択することができる。無機質化合物としては例えばα化
率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アル
ミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セ
リウム、α−酸化鉄、ゲータイト、窒化珪素、二酸化チ
タン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化
ジルコニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、などが単独ま
たは組み合わせで使用される。特に好ましいのは、粒度
分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸
化チタン、酸化亜鉛、α−酸化鉄、ゲ−タイト、硫酸バ
リウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α−酸
化鉄、ゲ−タイトである。α−酸化鉄は、粉体サイズが
そろった磁性酸化鉄やメタル用原料を加熱脱水、アニ−
ル処理し空孔を少なくし、必要により表面処理をしたも
のが好ましい。通常、二酸化チタンは光触媒性を持って
いるので、光があたるとラジカルが発生しバインダー、
潤滑剤と反応する懸念がある。このため、本発明に使用
する二酸化チタンは、Ａｌ、Ｆｅ等を１〜１０質量％固
溶させ光触媒特性を低下させることが好ましい。さらに
表面をＡｌ及び／又はＳｉ化合物で処理し、触媒作用を
低下させることが好ましい。これら非磁性粉末の粉体サ
イズは０．００５〜１μｍが好ましいが、必要に応じて
粉体サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独
の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもた
せることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の
粉体サイズは０．０１μｍ〜０．５μｍである。特に、
非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径
０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場
合は、平均長軸長が０．３μｍ以下が好ましく、０．２
μｍ以下がさらに好ましい。

【００２２】タップ密度は通常、０．３〜１．５ｇ／ｍ
ｌ、好ましくは０．４〜１．３ｇ／ｍｌである。非磁性
粉末の含水率は通常、０．２〜５質量％、好ましくは
０．３〜３質量％、更に好ましくは０．３〜１．５質量
％である。非磁性粉末のｐＨは通常、３〜１２である
が、ｐＨは５．５〜１１の間が特に好ましい。非磁性粉
末の比表面積は通常、１〜１００ｍ²／ｇ、好ましくは
５〜８０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０〜８０ｍ²／ｇで
ある。非磁性粉末の結晶子サイズは４０〜１０００Åが
好ましく、４０〜８００Åが更に好ましい。ＤＢＰ（ジ
ブチルフタレート）を用いた吸油量は通常、５〜１００
ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８０ｍｌ／１００
ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１００ｇである。
比重は通常、１．５〜７、好ましくは３〜６である。形
状は針状、球状、多面体状、板状のいずれでも良い。非
磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量は通常、１〜２
０μｍｏｌ／ｍ²、好ましくは２〜１５μｍｏｌ／ｍ²、
さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²である。ステア
リン酸吸着量が多い非磁性粉末を使用する時、表面に強
く吸着する有機物で表面修飾して磁気記録媒体を作成す
ることが好ましい。これらの非磁性粉末の表面にはＡ
ｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｚｎ、Ｙ化
合物で表面処理することが好ましい。特に分散性に好ま
しいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、Ｍｇ
Ｏおよびこれらの含水酸化物であるが、更に好ましいの
はＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂およびこれらの含水酸化
物である。これらは組み合わせて使用しても良いし、単
独で用いることもできる。また、目的に応じて共沈させ
た表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナを被覆処
理した後にその表層をシリカを被覆処理する方法、また
はその逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層
は目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密
である方が一般には好ましい。

【００２３】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩ
Ｔ−１００、ＨＩＴ−８２、戸田工業製α−酸化鉄ＤＰ
Ｎ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０Ｂ
Ｘ、ＤＰＮ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ、ＤＢＮ
−６５０ＲＸ、ＤＡＮ−８５０ＲＸ、石原産業製酸化チ
タンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５
Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５
Ｄ、ＳＮ−１００、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４
Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、
α−酸化鉄α−４０、テイカ製酸化チタンＭＴ−１００
Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００
Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００Ｈ
Ｄ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１
０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製酸化鉄ＤＥＦＩ
Ｃ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２Ｂ
Ｍ、ＴｉＯ₂Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００Ａ、
及びそれを焼成したものが挙げられる。

【００２４】下層にカーボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすること、所望のマイクロビッカース硬度を得
る事ができる。また、下層にカーボンブラックを含ませ
ることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能であ
る。カーボンブラックの種類はゴム用ファ−ネス、ゴム
用サ−マル、カラ−用ブラック、導電性カーボンブラッ
ク、アセチレンブラック等を用いることができる。下層
のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のよ
うな特性を最適化すべきであり、併用することでより効
果が得られることがある。下層のカーボンブラックの比
表面積は通常、５０〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは７０
〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は通常、２０〜４００
ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜４００ｍｌ／１００
ｇである。カーボンブラックの平均粒子径は通常、５〜
８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは
１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜
１０、含水率は０．１〜１０質量％、タップ密度は０．
１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。本発明に用いられるカーボ
ンブラックの具体的な例としてはキャボット製 ＢＬＡ
ＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９
００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−
７２、三菱化学製 ＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３
７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９
７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃
４０００、＃４０１０、コロンビアンカーボン製 ＣＯ
ＮＤＵＣＴＥＸＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００、８００
０、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１０
０、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５
０、アクゾー製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられ
る。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、
樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラフ
ァイト化したものを使用してもかまわない。また、カー
ボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で
分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上
記無機質化合物粉末に対して５０質量％を越えない範
囲、非磁性層総質量の４０質量％を越えない範囲で使用
できる。これらのカーボンブラックは単独、または組み
合わせで使用することができる。本発明で使用できるカ
ーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カ
ーボンブラック協会編）を参考にすることができる。

【００２５】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。

【００２６】下層の結合剤樹脂（種類と量）、潤滑剤・
分散剤・添加剤の量、種類、溶剤、分散方法に関しては
磁性層に関する公知技術が適用できる。

【００２７】〔結合剤〕本発明の磁気記録媒体の磁性層
及び下層等に使用される結合剤としては、従来公知の熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合
物が使用される。熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温
度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜
２００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０
００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。こ
のような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニル
アルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エス
テル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセタ−ル、ビニル
エーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合
体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノ−ル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹
脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ
−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネート
プレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−ルとポリ
イソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等があげられる。これらの樹脂について
は朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細
に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各
層に使用することも可能である。これらの例とその製造
方法については特開昭６２−２５６２１９に詳細に記載
されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用でき
るが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアル
コール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸
共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン
樹脂の組み合わせ、またはこれらにポリイソシアネート
を組み合わせたものがあげられる。

【００２８】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−
Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、ま
たはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは
炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ば
れる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加
反応で導入したものをもちいることが好ましい。このよ
うな極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ま
しくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００２９】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト製ＶＡＧＨ、ＶＹＨ
Ｈ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥ
Ｓ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨ
Ｈ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業製、
ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰ
Ｒ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−
ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学製１０００Ｗ、ＤＸ８
０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本
ゼオン製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、Ｍ
Ｒ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリ
ウレタン製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３
０４、大日本インキ製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−
Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ
−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋
紡製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７
００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化製、ダイフェ
ラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０
２０、９０２２、７０２０、三菱化学製、ＭＸ５００
４、三洋化成製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成製サラ
ンＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。

【００３０】本発明の非磁性層、磁性層に用いられる結
合剤は非磁性粉末または磁性体に対し、通常、５〜５０
質量％の範囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用
いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質
量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量
％、ポリイソシアネートは２〜２０質量％の範囲でこれ
らを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微
量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレ
タンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使
用することも可能である。本発明において、ポリウレタ
ンを用いる場合はガラス転移温度が通常、−５０〜１５
０℃、好ましくは０〜１００℃、破断伸びが１００〜２
０００％、破断応力は０．４９〜９８ＭＰａ、降伏点は
０．４９〜９８ＭＰａが好ましい。

【００３１】本発明の磁気記録媒体は二層以上からな
る。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニル系
樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あるい
はそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の分子
量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性など
を必要に応じ各層とで変えることはもちろん可能であ
り、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関
する公知技術を適用できる。例えば、各層でバインダー
量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには
磁性層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘ
ッドに対するヘッドタッチを良好にするためには、非磁
性層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせることが
できる。

【００３２】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１、
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン製、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネー
ト２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、
ミリオネートＭＴＬ、武田薬品製、タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、住友バイエル製、デスモジュー
ルＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮ、デスモ
ジュールＨＬ、等がありこれらを単独または硬化反応性
の差を利用して二つもしくはそれ以上の組み合わせで各
層とも用いることができる。

【００３３】（添加剤）本発明の磁性層、非磁性層等に
使用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、
分散効果、可塑効果などをもつものが使用される。二硫
化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒
化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をも
つシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリ
コーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、
ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステ
ルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェ
ニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフ
ェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリン
グ剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸
エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４
の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていてもかまわない）、およびこれらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和
結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭
素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合を
含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１
０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、ま
た分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれ
か一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪
酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキ
シド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、
炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪
族アミン、などが使用できる。

【００３４】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレ
ート、２−オクチルドデシルパルミテート、２−ヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０質量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０質量％以下である。

【００３５】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
にじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエス
テル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性
剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑
剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるな
ど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁
性粉末に対し、０．１質量％〜５０質量％、好ましくは
２質量％〜２５質量％の範囲で選択される。

【００３６】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダ−した後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。本発明で用いられる有
機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開昭６−６８
４５３に記載の溶剤を用いることができる。

【００３７】（層構成）本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は、支持体が好ましくは２．５〜８μｍであり、体積
密度を大きくするため、さらに好ましくは２．５〜７．
５μｍ、特に好ましくは２．５〜７μｍである。支持体
と非磁性層また磁性層の間に密着性向上のための下塗り
層を設けてもかまわない。本下塗層厚みは０．０１〜
０．５μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍである。
これらの下塗層は公知のものが使用できる。本発明の磁
気記録媒体の磁性層の厚みは、前記のとおりであるが、
用いるヘッドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信
号の帯域により最適化されるものである。磁性層を異な
る磁気特性を有する２層以上に分離してもかまわず、公
知の重層磁性層に関する構成が適用できる。

【００３８】本発明の磁気記録媒体の下層である非磁性
層の厚みは、好ましくは０．２〜３．０μｍ、更に好ま
しくは０．３〜２．５μｍ、特に好ましくは０．５〜
２．０μｍである。なお、本発明媒体の下層は実質的に
非磁性であればその効果を発揮するものであり、たとえ
ば不純物としてあるいは意図的に少量の磁性体を含んで
も、本発明の効果を示すものであり、本発明と実質的に
同一の構成と見なすことができることは言うまでもな
い。実質的に非磁性とは下層の残留磁束密度が０．０５
Ｔ以下もしくは抗磁力が上層磁性層の約４０％以下であ
ることを示し、好ましくは残留磁束密度と抗磁力がゼロ
である。

【００３９】本発明の磁気記録媒体の総厚みは、３〜１
０μｍの範囲が好ましく、３〜９μｍがさらに好まし
い。バック層の厚みは、０．２〜０．８μｍの範囲が好
ましく、０．２〜０．７μｍの範囲がさらに好ましい。
また、磁性層の光干渉式表面粗さ計で測定した中心面平
均表面粗さ（Ｒａ）は、好ましくは１〜３ｎｍであり、
更に好ましくは１〜２．５ｎｍの範囲である。

【００４０】（支持体）本発明に用いられる支持体は、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−ス
トリアセテート、ポリカ−ボネート、芳香族又は脂肪族
ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミド、ポリスル
フォン、ポリベンゾオキサゾ−ルなどの公知のフィルム
が使用できる。ガラス転移温度が１００℃以上の支持体
がこのましく、ポリエチレンナフタレート、芳香族ポリ
アミドなどの高強度支持体を用いることが特に好まし
い。また必要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変
えるため特開平３−２２４１２７号公報に示されるよう
な積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの
支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、
易接着処理、熱処理、除塵処理、などを行ってもよい。

【００４１】本発明の目的を達成するには、支持体とし
て光干渉式表面粗さ計で測定した中心面平均表面粗さ
（Ｒａ）は通常、５．０ｎｍ以下、好ましくは３．０ｎ
ｍ以下、さらに好ましくは２．０ｎｍ以下のものを使用
することが好ましい。これらの支持体は単に中心面平均
表面粗さが小さいだけではなく、０．５μｍ以上の粗大
突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要
に応じて支持体に添加されるフィラ−の大きさと量によ
り自由にコントロ−ルされるものである。これらのフィ
ラートしては一例としてはＣａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化
物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機粉末があげられ
る。支持体の最大高さＲｍａｘは１μｍ以下、十点平均
粗さＲｚは０．５μｍ以下、中心面山高さはＲｐは０．
５μｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．５μｍ以下、中心
面面積率Ｓｒは１０％以上、９０％以下、平均波長λａ
は５μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。所望の電磁
変換特性と耐久性を得るため、これら支持体の表面突起
分布をフィラーにより任意にコントロールできるもので
あり、０．０１μｍから１μｍの大きさのもの各々を
０．１ｍｍ²あたり０個から２０００個の範囲でコント
ロ−ルすることができる。

【００４２】本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好
ましくは４９〜４９０ＭＰａ、また、支持体の１００
℃、３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに
好ましくは１．５％以下、８０℃、３０分での熱収縮率
は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下
である。破断強度は４９〜９８０ＭＰａ、弾性率は９８
０〜１９６００ＭＰａ、が好ましい。温度膨張係数は１
０^-4〜１０^-8／℃であり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／
℃である。湿度膨張係数は１０^-4／ＲＨ％以下であり、
好ましくは１０^-5／ＲＨ％以下である。これらの熱特
性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対
し１０％以内の差でほぼ等しいことが好ましい。

【００４３】（製法）本発明の磁気記録媒体の磁性塗料
を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、お
よびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程
からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれて
いてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非磁性粉
末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、
潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または
途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ
以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、
ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整
のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の
目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部
の工程として用いることができる。混練工程ではオープ
ンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、エクストルーダな
ど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニ
−ダを用いる場合は磁性体または非磁性粉末と結合剤の
すべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０質量％以
上が好ましい）および磁性体１００部に対し１５〜５０
０部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細
については特開平１−１０６３３８号、特開平１−７９
２７４号に記載されている。また、磁性層液および非磁
性層液を分散させるにはガラスビーズを用いることがで
きるが、高比重の分散メディアであるジルコニアビー
ズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。こ
れら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられ
る。分散機は公知のものを使用することができる。分散
速度がことなる磁性体、研磨剤、カーボンブラック等を
あらかじめ別々に分散し、混合し必要によりさらに微分
散して塗布液とすることができる。

【００４４】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９、特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１、特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実
現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、
本発明の効果が失われるものではない。

【００４５】カレンダー処理ロ−ルとしてエポキシ、ポ
リイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性の
あるプラスチックロ−ル同志、プラスチックロ−ルと金
属ロ−ルの組み合わせまたは金属ロ−ル同志で処理する
が、特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同志で処理
することが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以
上、さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好
ましくは２００ｋｇ／ｃｍ（１９６ｋＮ／ｍ）以上、さ
らに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）以
上である。

【００４６】本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩
擦係数は温度−１０℃〜４０℃、湿度０％〜９５％の範
囲において０．５以下、好ましくは０．３以下、表面固
有抵抗は好ましくは磁性面１０⁴〜１０¹²オ−ム／ｓ
ｑ、帯電位は−５００Ｖから＋５００Ｖ以内が好まし
い。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向で好
ましくは９８０〜１９６０ＭＰａ、破断強度は好ましく
は９８〜６８６ＭＰａ、磁気記録媒体の弾性率は面内各
方向で好ましくは９８０〜１４７００ＭＰａ、残留のび
は好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温
度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましく
は０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下であ
る。磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動
的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２
０℃以下が好ましく、下層非磁性層のそれは０℃〜１０
０℃が好ましい。損失弾性率は１×１０⁷〜８×１０⁸Ｎ
／ｍ²の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２
以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘
着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒
体の面内各方向で１０％以内でほぼ等しいことが好まし
い。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍ
ｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下であ
る。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ま
しくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以
下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が
好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い
場合がある。

【００４７】磁性層を光干渉式表面粗さ計で測定した中
心面平均表面粗さ（Ｒａ）は、好ましくは１〜３ｎｍ、
さらに好ましくは２．２ｎｍ以下である。磁性層の最大
高さＲｍａｘは０．５μｍ以下、十点平均粗さＲｚは
０．３μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．３μｍ以下、
中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率Ｓｒ
は２０〜８０％以下、平均波長λａは５〜３００μｍ以
下が好ましい。磁性層の表面突起は０．０１μｍ〜１μ
ｍの大きさのものを０〜２０００個の範囲で任意に設定
することが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦
係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフ
ィラ−による表面性のコントロ−ルや磁性層に添加する
粉体の粒径と量、カレンダー処理のロ−ル表面形状など
で容易にコントロ−ルすることができる。カールは±３
ｍｍ以内とすることが好ましい。

【００４８】本発明の磁気記録媒体で非磁性層と磁性層
を有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの
物理特性を変えることができるのは容易に推定されるこ
とである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性
を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。

【００４９】なお、本明細書において、六方晶系フェラ
イト粉末やカーボンブラックのように種々の粉体のサイ
ズ（以下、「粉体サイズ」と言う）は、高分解能透過型
電子顕微鏡写真及び画像解析装置より求められる。高分
解能透過型電子顕微鏡写真の粉体の輪郭を画像解析装置
でなぞり、粉体のサイズを求めることができる。即ち、
粉体サイズは、粉体の形状が針状、紡錘状、柱状（た
だし、高さが底面の最大長径より大きい）等の場合は、
粉体を構成する長軸の長さ、即ち長軸長で表され、粉
体の形状が板状乃至柱状（ただし、厚さ乃至高さが板面
乃至底面の最大長径より小さい）場合は、その板面乃至
底面の最大長径、即ち板径で表され、粉体の形状が球
形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粉体
を構成する長軸を特定できない場合は、円相当径で表さ
れる。

【００５０】また、該粉体の平均粉体サイズは、上記粉
体サイズの算術平均であり、約５００個の粉体について
上記の如く測定を実施して求めたものである。また、該
粉体の平均針状比は、上記測定において粉体の短軸の長
さ、即ち短軸長を測定し、各粉体の（長軸長／短軸長）
の値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粉体
サイズの定義での場合は、粉体を構成する短軸の長さ
を、同じくの場合は、厚さ乃至高さを各々指し、の
場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸
長）は、便宜上１とみなす。そして、粉体の形状が特定
の場合、例えば、上記粉体サイズの定義の場合は、平
均粉体サイズを平均長軸長と言い、同定義の場合は平
均粉体サイズを平均板径と言い、（板径／厚さ乃至高
さ）の算術平均を平均板状比という。同定義の場合は
平均粉体サイズを平均粒子径という。

【００５１】

【実施例】以下に具体的な実施例をあげて本発明を更に
詳しく説明するが、本発明の範囲はこれらに限定される
ものではない。尚、「部」とは「質量部」を指す。実施
例１〜６、比較例１〜３所定の塗料を調製し、これを支
持体上に塗布して磁気ディスクを製造した。 ＜塗料の作製＞ 磁性塗料Ａ １００部 強磁性金属微粉末 組成：Ｆｅ８０原子％、Ｃｏ２０原子％ Ｈｃ：２３００Ｏｅ（１８４ｋＡ／ｍ） 平均長軸長：０．０６μｍ、平均針状比：４．０ 結晶子サイズ：１５０Å σｓ：１５０Ａ・ｍ²／ｋｇ） 焼結防止剤 Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ 原子比 １４％） Ｙ化合物（Ｙ／Ｆｅ 原子比 ７％） 塩化ビニル共重合体（ＭＲ１１０（日本ゼオン社製）） １０部 ポリウレタン樹脂（ＵＲ８２００（東洋紡社製）） ４部 αアルミナ（ＨＩＴ６０（住友化学社製）） ５部 カーボンブラック（＃５０（旭カーボン社製）） １部 フェニルホスホン酸 ３部 ｎ−ブチルステアレート ３部 ブトキシエチルステアレート ３部 エチレングリコールジオレート ６部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン １４０部 シクロヘキサノン ２００部

【００５２】 磁性塗料Ｂ 六方晶バリウムフェライト １００部 表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃ ５質量％、ＳｉＯ₂ ２質量％ Ｈｃ：２５００Ｏｅ（１９９ｋＡ／ｍ） 平均板径：０．０３μｍ、平均板状比：３ σｓ：５６Ａ・ｍ²／ｋｇ 塩化ビニル共重合体（ＭＲ１１０（日本ゼオン社製）） ６部 ポリウレタン樹脂（ＵＲ８２００（東洋紡社製）） ３部 αアルミナ（ＨＩＴ６０（住友化学社製）） ５部 カーボンブラック（＃５０（旭カーボン社製）） １部 ｎ−ブチルステアレート ３部 ブトキシエチルステアレート ３部 エチレングリコールジオレート ６部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン ８０部 シクロヘキサノン １２０部

【００５３】 磁性塗料Ｃ １００部 強磁性金属微粉末 組成：Ｆｅ８０原子％、Ｃｏ２０原子％ Ｈｃ：２３００Ｏｅ（１８４ｋＡ／ｍ） 平均長軸長：０．０６μｍ、平均針状比：４．０ 結晶子サイズ：１５０Å σｓ：１５０Ａ・ｍ²／ｋｇ） 焼結防止剤 Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ 原子比 １４％） Ｙ化合物（Ｙ／Ｆｅ 原子比 ７％） 塩化ビニル共重合体（ＭＲ１１０（日本ゼオン社製）） １０部 ポリウレタン樹脂（ＵＲ８２００（東洋紡社製）） ４部 αアルミナ（ＨＩＴ６０（住友化学社製）） ５部 カーボンブラック（＃５０（旭カーボン社製）） １部 フェニルホスホン酸 ３部 ｎ−ブチルステアレート ３部 ブトキシエチルステアレート ３部 エチレングリコールジオレート ６部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン ６０部 シクロヘキサノン ３００部

【００５４】 磁性塗料Ｄ １００部 強磁性金属微粉末 組成：Ｆｅ９０原子％、Ｃｏ１０原子％ Ｈｃ：１８００Ｏｅ（１４３ｋＡ／ｍ） 平均長軸長：０．０９μｍ、平均針状比：６．０ 結晶子サイズ：１５０Å σｓ：１５０Ａ・ｍ²／ｋｇ） 焼結防止剤 Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ 原子比 １４％） Ｙ化合物（Ｙ／Ｆｅ 原子比 ７％） 塩化ビニル共重合体（ＭＲ１１０（日本ゼオン社製）） １０部 ポリウレタン樹脂（ＵＲ８２００（東洋紡社製）） ４部 αアルミナ（ＨＩＴ６０（住友化学社製）） ５部 カーボンブラック（＃５０（旭カーボン社製）） １部 フェニルホスホン酸 ３部 ｎ−ブチルステアレート ３部 ブトキシエチルステアレート ３部 エチレングリコールジオレート ６部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン １４０部 シクロヘキサノン ２００部

【００５５】 非磁性塗料 非磁性粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル １００部 平均粒子径：０．０３５μｍ、比表面積：４０ｍ²／ｇ ｐＨ：７、ＴｉＯ₂含有量：９０％以上、 ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｇ／１００ｇ、 表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂ カーボンブラック（ケッチェンブラックＥＣ） １３部 塩化ビニル共重合体（ＭＲ１１０（日本ゼオン社製）） １７部 ポリウレタン樹脂（ＵＲ８６００（東洋紡社製）） ６部 フェニルホスホン酸 ３部 エチレングリコールジオレート ８部 ｎ−ブチルステアレート ４部 ブトキシエチルステアレート ４部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン １２０部 シクロヘキサノン １８０部

【００５６】製法１（同時重層） 上記塗料のそれぞれについて、各成分をニーダで混練し
たのち、サンドミルをもちいて分散させた。得られた分
散液にポリイソシアネートを非磁性層の塗布液には１３
部、磁性塗料Ａ、ＣまたはＤには４部、磁性塗料Ｂには
５部を加え、さらにそれぞれにシクロヘキサノン３０部
を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルターを用いて
濾過し、非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液を
それぞれ調製した。得られた非磁性層塗布液を、乾燥後
の厚さが１．５μｍになる条件で、さらにその直後にそ
の上に磁性層の厚さが所望の厚さになる条件で、厚さ６
２μｍで中心面平均表面粗さが３ｎｍのポリエチレンテ
レフタレート支持体上に同時重層塗布を行ない、両層が
まだ湿潤状態にあるうちに、ランダム配向処理を行なっ
た。乾燥後、７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００
ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）にて処理を行い、３．７
吋に打ち抜き表面研磨処理を施した後、ライナーが内側
に設置済の３．７吋のカートリッジ（米 Ｉｏｍｅｇａ
社製ｚｉｐ−ｄｉｓｋカートリッジ）に入れ、所定の機
構部品を付加し、３．７吋フロッピー（登録商標）ディ
スクを得た。

【００５７】製法２（逐次重層） 製法１と同様な方法で非磁性層形成用及び磁性層形成用
塗布液を準備し、非磁性層形成用塗布液を乾燥後の厚さ
が１．５μｍになる条件で、厚さ６２μｍで中心面平均
表面粗さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレート支持体
上に塗布を行ない乾燥後、非磁性層上に上記磁性層用塗
布液を厚さ０．１５μｍになるように塗布し、磁性層が
湿潤状態にあるうちに、ランダム配向処理を行なった。
乾燥後、７段のカレンダで温度９０℃、線圧３００ｋｇ
／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）にて処理を行い、３．７吋に
打ち抜き表面研磨処理を施した後、ライナーが内側に設
置済の３．７吋のカートリッジ（米 Ｉｏｍｅｇａ社製
ｚｉｐ−ｄｉｓｋカートリッジ）に入れ、所定の機構部
品を付加し、３．７吋フロッピーディスクを得た。

【００５８】比較例４ 磁性塗料Ｂの分散時間を１／３にした以外は、上記と同
様にして試料を作成した。得られた試料を下記により評
価し、表１に示した。 １．ＥＰＭＡ条件 島津製ＥＰＭＡ−１６００を使用し、電子ビーム加速電
圧１５ｋＶ、３０ｎＡ、ビーム径１μｍφの条件で、磁
性層表面から１００×１００μｍの範囲を少なくとも５
００×５００画素で目的の元素の強度マッピングを測定
した。強磁性金属粉末の場合にはＣｏ、Ｙ等を磁性層固
有の元素として選択できるが、本実施例ではＣｏを選択
した。六方晶フェライト磁性体の場合には、Ｂａを磁性
層固有の元素として選択した。得られた元素強度マッピ
ングの結果において強度を２５６段階に分割し、ＺＥＩ
ＳＳ製画像解析装置ＫＳ４００にて強度分布の標準偏差
（ｂ）及び、平均値（ａ）を求め、ｂ／ａ値を算出し
た。

【００５９】２．電磁変換特性 ＳＮ比の測定は、米 ＧＵＺＩＫ社製のＲＷＡ１００１
型ディスク評価装置及び協同電子システム（株）製スピ
ンスタンドＬＳ−９０にて、トラック幅５μｍ，ギャッ
プ長０．２μｍのメタルインギャップヘッドを用い、半
径２４．６ｍｍの位置において線記録密度１００ＫＦＣ
Ｉの信号を書き込み、トラック幅が２．６μｍのＭＲヘ
ッドで再生し、再生出力（ＴＡＡ）とＤＣイレーズ後の
ノイズレベルを測定し、ＳＮ比を求めた。ＳＮ比は２５
ｄＢ以上を良好と見なしている。

【００６０】３．磁性層のＨｃの測定 振動試料型磁束計（東英工業社製）を用い、Ｈｍが１０
ｋＯｅ（７９６ｋＡ／ｍ）で測定した。

【００６１】

【表１】

【００６２】上表より、磁性層厚み及び（b／a）値が本
発明範囲である実施例は、比較例に比べてＳＮ比が優れ
ていることが分る。

【００６３】

【発明の効果】本発明により、磁性体同士の凝集を解消
し、界面乱れも低減することでノイズが低下した結果、
電磁変換特性（Ｓ／Ｎ比）が良好で、デジタル記録に適
した大容量の磁気記録媒体の提供が可能になった。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に実質的に非磁性である下層と
   強磁性粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に
   設けた磁気記録媒体において、該磁性層の厚さが０．０
   １〜０．１５μｍであり、且つ電子線マイクロアナリシ
   スによる強磁性粉末起因の元素の平均強度を（ａ）、当
   該強度の標準偏差を（ｂ）とした時に０．０３＜（ｂ／
   ａ）＜０．５０であることを特徴とする磁気記録媒体。