JP2002140813A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】バック層の表面粗さ（Ｒａ）が小さく平滑であ
り、走行摩擦係数が小さく、繰り返し走行での摩擦係数
の変化及び出力が安定しており、しかもガイドピンの汚
れやヘッド汚れが少なく、磁気テープとして好適な磁気
記録媒体を提供すること。 【解決手段】支持体、その一方の面側に設けられた磁性
層、そして他方の面側に設けられたバック層からなる磁
気記録媒体において、該バック層が、（Ａ）カーボンブ
ラック、（Ｂ）芳香族炭化水素化合物、ケトン化合物、
及びエーテル化合物のいずれかの化合物で湿潤したニト
ロセルロースと、（Ｃ）特定構造の分散剤と、（Ｄ）硬
化剤から調製されたバック層塗料を塗布してなることを
特徴とする磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、デジタルデ−タ−
を記録するために外部記録媒体として特に有利に用いる
ことができる磁気記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気記録技術は、媒体の繰り返し使用が
可能であること、信号の電子化が容易であり周辺機器と
の組み合わせによるシステムの構築が可能であること、
信号の修正も簡単にできること等の他の記録方式にはな
い優れた特長を有することから、ビデオ、オーディオ、
コンピューター用途等を始めとして様々な分野で幅広く
利用されてきた。そして、機器の小型化、記録再生信号
の質の向上、記録の長時間化、記録容量の増大等の要求
に対応するために、記録媒体に関しては、記録密度、信
頼性、耐久性をより一層向上させることが常に望まれて
きた。

【０００３】近年、ミニコンピューター、パーソナルコ
ンピューターなどのオフィスコンピューターの普及に伴
って、外部記憶媒体として、コンピューター情報を保存
するための磁気テープ（所謂、バックアップテープ）の
研究が盛んに行われている。このような用途の磁気記録
媒体の実用化に際しては、特にコンピューターの小型
化、情報処理能力の増大および搭載されるハ−ドディス
クの大容量化と相まって、記録容量の向上が強く要求さ
れる。また磁気記録媒体が可換媒体であること、磁気記
録媒体の使用環境の広がりによる幅広い環境条件下（特
に、変動の激しい温湿度条件下など）での使用、データ
保存に対する信頼性、更に高速での繰り返し使用による
多数回走行におけるデータの安定した記録、読み出し等
の性能に対する信頼性なども従来にまして要求される。

【０００４】一般に、磁気記録媒体は、合成樹脂などの
可撓性材料の支持体上に、磁性層が設けられた構成であ
る。そして上記のような大きい記録容量（体積記録容
量）を達成するためには、磁性粉末の粉体サイズを小さ
くする、その分散性を向上させる、あるいは磁性層を更
に薄膜化するなどの磁性層自体の面記録密度を高めると
共に、磁気記録媒体の全厚を薄くすることが有効な方法
であるとされている。また良好な感度（特に高周波領域
での出力）を維持させるためには磁性層は平滑であるこ
とが好ましいが、この平滑化による巻き乱れ、走行性の
低下を防止するために、上記支持体の磁性層とは反対の
面に通常バック層が設けられることが多い。そして特に
全厚を薄くした場合には、磁気テープの自己支持性と強
度も低下するため、バック層の付設は、繰り返し使用に
対する良好な走行耐久性を維持させるためにも必要にな
る。但し、上記のように磁気テープの薄手化に伴ってバ
ック層の厚さも比較的薄く設けられることが必要にな
る。

【０００５】磁気記録媒体の全厚、そしてバック層の厚
さを比較的薄くした磁気記録媒体は、例えば、特開平６
−２１５３５０号公報に開示されている。そしてこの公
報に記載されている磁気テープの具体的な例としては、
磁気テープの全厚を１０μｍ、バック層の層厚を０．５
μｍにした態様のもの、あるいはまた全厚を９．５μ
ｍ、バック層の層厚を０．５μｍにした態様のものが挙
げられている。これらの態様におけるバック層には、帯
電防止と安定した走行性付与のために、前者の態様で
は、比較的微粒子状のカーボンブラックが単独で使用さ
れており、また後者の態様では、比較的微粒子状のカー
ボンブラックと比較的粗粒子状のカーボンブラックの二
種類のカーボンブラックが使用されている。

【０００６】一方、バック層の高い表面平滑性、ガイド
ピンに対する摩擦係数の低減化、そして良好な走行安定
性を得る目的で、バック層中に、平均粒子径１０〜８０
ｎｍの微粒子状カーボンブラックと、平均粒子径２００
〜５００ｎｍの粗粒子状のカーボンブラックと、平均粒
子径１０〜４５ｎｍの微粒子状炭酸カルシウムを含有し
た磁気テープが提案されている（特開平２−７２２３号
公報）。また上記バック層には、更に無機質粉末（例え
ば、α−酸化鉄など）が添加されることがあると記載さ
れている。特開平９−１１５１３４号には、平均粒子径
が１０〜２０ｎｍの微粒子状カーボンブラックと平均粒
子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒子状カーボンブラック
を含み、更に平均粒子径が２０〜５０ｎｍの炭酸カルシ
ウムと平均粒子径が８０〜２５０ｎｍのモース硬度５〜
９の無機質粉末を含み、かつその表面粗さＲａが、３０
〜６０ｎｍであるバック層が提案されている。

【０００７】このように提案が数多くありそれなりの効
果が得られているが、バック層の平滑性、走行摩擦係数
の低減化と安定化、ガイドピンの汚れやヘッド汚れの低
減化等がさらに改善され、しかも出力が安定している磁
気テープの開発が望まれている。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、バッ
ク層の表面粗さ（Ｒａ）が小さく平滑であり、走行摩擦
係数が小さく、繰り返し走行での摩擦係数の変化及び出
力が安定しており、しかもガイドピンの汚れやヘッド汚
れが少なく、磁気テープとして好適な磁気記録媒体を提
供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明の目的は、支持
体、その一方の面側に設けられた磁性層、そして他方の
面側に設けられたバック層からなる磁気記録媒体におい
て、該バック層が、（Ａ）カーボンブラック、（Ｂ）芳
香族炭化水素化合物、ケトン化合物、及びエーテル化合
物のいずれかの化合物で湿潤したニトロセルロースと、
（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で示される分散剤と、（Ｄ）硬
化剤から調製されたバック層塗料を塗布してなることを
特徴とする磁気記録媒体によりが達成される。 一般式（Ｉ） Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｘ−Ｙ （一般式（Ｉ）中、Ａは、Ｘ−Ｙとともにアゾ色素を形
成しうる成分を表す。Ｘは、下記構造式で表される二価
の連結基から選択される基を表す。Ｙは、下記一般式
（ＩＩ）で表される基を表す。）

【００１０】

【化３】

【００１１】

【化４】

【００１２】（一般式（ＩＩ）中、Ｚは、低級アルキレ
ン基を表す。−ＮＲ₂は、低級アルキルアミノ基、又は
窒素原子を含む５乃至６員飽和ヘテロ環を表す。ａは、
１又は２を表す。）本発明の好ましい態様は以下のとお
りである。 １．バック層塗料は前記一般式（Ｉ）で示される分散剤
と直径φ（０．０１〜）１ｍｍ以下である分散メディア
を用いて分散処理して塗料化されたものであることを特
徴とする磁気記録媒体。 ２．バック層塗料は平均粒子径が５〜３０ｎｍのカーボ
ンブラックと前記一般式（Ｉ）で示される分散剤及び結
合剤を、直径φ（０．０１〜）１ｍｍ以下である分散メ
ディアを用いて分散処理して塗料化されたものであるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 ３．バック層塗料は、平均粒子径が５〜３０ｎｍの微粒
子カーボンブラックと平均粒子径が４０〜３５０ｎｍの
粗粒子カーボンブラックと前記一般式（Ｉ）で示される
分散剤及び結合剤を、直径φ（０．０１〜）１ｍｍ以下
である分散メディアを用いて分散処理して塗料化された
ものであることを特徴とする磁気記録媒体。 ４．バック層塗料は、平均粒子径が５〜３０ｎｍの微粒
子カーボンブラックと結合剤及び前記一般式（１）で示
される分散剤、及び前記ニトロセルロース（Ｂ）を分散
処理した後、更に硬化剤を加えて塗料化されたものであ
ることを特徴とする磁気記録媒体。 ５．バック層は、平均粒子径が５〜３０ｎｍのカーボン
ブラックと、平均粒子径が１０〜２５０ｎｍのモース硬
度５〜９の無機質粉末を含み、かつバック層の光干渉式
表面粗さ計で測定した中心面平均表面粗さ（Ｒａ）が、
２．０〜１５ｎｍであることを特徴とする磁気記録媒
体。 ６．前記モース硬度５〜９の無機質粉末が、α−酸化鉄
又はα−アルミナである磁気記録媒体。 ７．磁気記録媒体が磁気テープであり、磁気テープの全
厚が３〜１０μｍであり、バック層の厚みが０．２〜
０．８μｍであり、そしてバック層の光干渉式表面粗さ
計で測定した中心面平均表面粗さ（Ｒａ）が、２〜１５
ｎｍの範囲にあることを特徴とする磁気記録媒体。 ８．磁性層の抗磁力が、１４３ｋＡ／ｍ（１８００Ｏｅ
（エルステッド））以上であり、磁性層の飽和磁束密度
と磁性層厚みの積が５〜３００（ｍＴ・μｍ）の範囲に
あり、そして磁性層の中心面平均表面粗さが１〜３ｎｍ
の範囲にあることを特徴とする磁気記録媒体。 ９．前記微粒子カーボンブラックは、平均粒子径が５〜
２０ｎｍ、比表面積が１５０〜８００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ
吸油量が５０〜１２０ｍｌ／１００ｇ、ｐＨが２〜１
１、揮発分が１５質量％以下であるカーボンブラックを
含有することを特徴とする磁気記録媒体。 １０．前記粗粒子カーボンブラックは、平均粒子径が２
００〜３５０ｎｍ、比表面積が５〜２０ｍ²／ｇ、ＤＢ
Ｐ吸油量が２０〜６０ｍｌ／１００ｇ、ｐＨが５〜１１
であるカーボンブラックを含有することを特徴とする磁
気記録媒体。

【００１３】

【発明の実施の形態】塗布型磁気記録媒体の体積記録密
度の高密度化は、テープ全厚みの薄層化とほぼ等価であ
り、塗布型媒体ではバック層も薄層化が必須で、薄層化
するほど、分散性の向上、塗膜強度の向上が要求され
る。また繰り返し走行安定性を有した適正な表面平滑性
が要求される。バック層の主要原料（粉体）は、カーボ
ンブラックを使用するケースが多い。カーボンブラック
の分散は非常に困難であることが良く知られており、混
練処理とサンドミル分散等を組み合わせても分散性向
上、塗膜強度向上及び塗膜の平滑化に限界があった。カ
ーボンブラックを上記の特定の化合物で湿潤したニトロ
セルロース及び下記に示す分散剤の存在下で分散処理
し、さらに硬化剤を加えて処理することで、従来より分
散性が向上し、塗膜強度向上、塗膜の平滑化が良好であ
る。尚、硬化剤の添加は、各種粉体及び結合剤とが分散
された後等のバック層塗料調製の最後に行うことが好ま
しいが、その添加時期は、特に制限されない。また、カ
ーボンブラックを、上記の特定の化合物で湿潤したニト
ロセルロース及び分散剤の存在下で直径φ（０．０1
〜）1ｍｍ以下である分散メディアを用いて分散処理
し、さらに硬化剤を加えて処理することで、従来よりカ
ーボンブラックを高度に分散でき、更なる分散性向上、
バック層表面平滑化、塗膜強度向上、粒子の脱落減少、
表面電気抵抗の低減が可能となる。

【００１４】

【発明の実施の形態】以下、本発明の磁気記録媒体につ
いて詳細に説明する。本発明の磁気記録媒体は、支持
体、その一方の面側に設けられた磁性層、及び他方の面
側に設けられたバック層からなる。以下、磁気記録媒体
を構成する各層、各層の構成成分、層の形成方法等につ
き説明する。

【００１５】〔バック層〕バック層は、カーボンブラッ
クを、芳香族炭化水素化合物、ケトン化合物及びエーテ
ル化合物のいずれかの化合物で湿潤したニトロセルロー
ス、分散剤及び硬化剤とから調製された塗料の硬化層か
らなる。 （カーボンブラック）バック層に好ましく用いられるカ
ーボンブラックは、平均粒子径が５〜３０ｎｍの微粒子
カーボンブラックである。種類や製造履歴に特に制約さ
れることはなく、市販のオイルファーネスブラック、ガ
スファーネスブラック、チャンネルブラックなど各種の
微粒子カーボンブラックを用いることができる。また、
通常行われているオゾン処理、プラズマ処理、液相酸化
処理されたカーボンブラックを用いてもよい。微粒子カ
ーボンブラックの分散は非常に困難であるが、後に詳し
く述べる分散剤で分散処理すれば、平均粒子径が５〜３
０ｎｍの微粒子カーボンブラックであっても、分散性を
向上できる。しかしながら、平均粒子径が３０ｎｍを越
えると平滑効果が大きくない。

【００１６】より好ましい微粒子カーボンブラックは、
平均粒子径が５〜２０ｎｍの範囲にあり、比表面積が１
５０〜８００ｍ²／ｇの範囲にあり、ＤＢＰ吸油量が５
０〜１２０ｍｌ／１００ｇの範囲にあり、ｐＨが２〜１
１の範囲にあり、そして揮発分が１５質量％以下のもの
である。

【００１７】バック層には、上記微粒子カーボンブラッ
クと共に、平均粒子径が４０〜３５０ｎｍ、好ましくは
２００〜３５０ｎｍの粗粒子カーボンブラックを併用し
てもよい。より好ましい上記粗粒子カーボンブラック
は、平均粒子径が２００〜３５０ｎｍの範囲にあり、比
表面積が５〜２０ｍ²／ｇの範囲にあり、ＤＢＰ吸油量
が２０〜６０ｍｌ／１００ｇの範囲にあり、そしてｐＨ
が５〜１１の範囲にある粗粒子カーボンブラックであ
る。微粒子カーボンブラックと粗粒子カーボンブラック
を併用する場合、その質量比（微粒子／粗粒子）は、９
９／１〜６０／４０、特には９８／２〜７５／２５が好
ましい。

【００１８】バック層に用いることができる微粒子状カ
ーボンブラックの具体的な商品としては、以下のものを
挙げることができる。かっこ内は、平均粒子径を示す。
ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎｍ）、ＲＡＶＥＮ１５０
０Ｂ（１７ｎｍ）（以上、コロンビアカーボン社製）、
ＢＰ８００（１７ｎｍ）（キャボット社製）、ＰＲＩＮ
ＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ９５（１５
ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴ
ＥＸ７５（１７ｎｍ）（以上、デグサ社製）、＃３９５
０（１６ｎｍ）（三菱化学（株）製）。また粗粒子カー
ボンブラックの具体的な商品の例としては、サーマルブ
ラック（２７０ｎｍ）（カーンカルブ社製）、ＲＡＶＥ
Ｎ ＭＴＰ（２７５ｎｍ）（コロンビアカーボン社製）
を挙げることができる。

【００１９】また、上記微粒子カーボンブラックと共に
モース硬度５〜９の無機質粉末を併用してもよい。好ま
しい上記無機質粉末として、ヘマタイト及びアルミナが
挙げられる。この場合の質量比（微粒子カーボンブラッ
ク／無機質粉末）は、９９／１〜５０／５０、特には９
８／２〜７０／３０が好ましい。また、微粒子カーボン
ブラック及び無機質粉末に加えて、粗粒子カーボンブラ
ックをも併用することができる。この場合、微粒子カー
ボンブラックと粗粒子カーボンブラックの質量比は上記
した範囲が好ましく、無機質粉末はカーボンブラックの
総量１００質量部当たり１〜５０質量部の質量割合であ
ることが好ましい。無機質粉末は２種以上用いることが
できる。無機質粉末として、例えば、α−酸化鉄、α−
アルミナが好ましい。

【００２０】（ニトロセルロース）本発明では、バック
層を形成するための塗料は、前記したように、カーボン
ブラックと、芳香族炭化水素化合物、ケトン化合物及び
エーテル化合物のいずれかの化合物で湿潤したニトロセ
ルロースと分散剤と硬化剤の存在下に分散処理して調製
される。ニトロセルロースは、少なくともバック層の結
合剤（バインダー樹脂）を構成するが、他の結合剤と併
用することもできる。ニトロセルロースは、セルロース
の水酸基が硝酸基（−ＯＮＯ₂）により置換されたもの
であり、その置換度が１．９〜２．３のものが好まし
い。また、窒素含有量で表示すれば、１０〜１３質量％
のものが好ましい。本発明で使用するニトロセルロース
は、芳香族炭化水素化合物、ケトン化合物及びエーテル
化合物のいずれかの化合物で湿潤したものであり、これ
ら以外の湿潤剤は基本的に使用しない。併用し得る湿潤
剤としては、硬化剤と反応性のないものが挙げられる。
上記湿潤剤を例示すれば、芳香族炭化水素化合物として
は、トルエン、キシレン、ベンゼン等、ケトン化合物と
しては、メチルイソブチルケトン、メチルエチルケト
ン、アセトン、シクロヘキサノン等、エーテル化合物と
しては、メチルエチルエーテル、メチルイソブチルエー
テル等が好ましく挙げられる。なかでも、トルエン、キ
シレン、メチルイソブチルケトンの使用が好ましい。湿
潤剤は、通常、ニトロセルロース１００質量部に対し
て、２０〜４００質量部程度用いられる。

【００２１】上記湿潤剤で湿潤したニトロセルロースは
市販されており、用いることができる。湿潤したニトロ
セルロースの市販品としては、セルノバＢＴＨ １／１
６、同１／４、同１／２、同１、セルノバＢＴ−ＳＬ、
セルノバＢＴＫ １／８、同−ＳＬ（旭化成（株）製、
湿潤剤：メチルイソブチルケトン及びトルエンの混合
物）等が挙げられる。

【００２２】湿潤したニトロセルロースの使用量は、乾
燥ニトロセルロース換算で、カーボンブラック１００質
量部当たり２０〜１３０質量部が好ましく、より好まし
くは５０〜１２０質量部である。

【００２３】（分散剤）本発明で用いられる分散剤は、
下記一般式（１）で示される。

【００２４】

【化５】

【００２５】（一般式（Ｉ）中、Ａは、Ｘ−Ｙとともに
アゾ色素を形成しうる成分を表す。Ｘは、下記構造式で
表される二価の連結基から選択される基を表す。Ｙは、
下記一般式（ＩＩ）で表される基を表す。）

【００２６】

【化６】

【００２７】

【化７】

【００２８】（一般式（ＩＩ）中、Ｚは、低級アルキレ
ン基を表す。−ＮＲ₂は、低級アルキルアミノ基、又は
窒素原子を含む５乃至６員飽和ヘテロ環を表す。ａは、
１又は２を表す。）

【００２９】以下、本発明に用いられる分散剤について
詳細に説明する。本発明の分散剤は、下記一般式（Ｉ）
で表される化合物を含有し、必要に応じて適宜選択した
その他の成分を含有する。（一般式（Ｉ）で表される化
合物）

【００３０】

【化８】

【００３１】一般式（Ｉ）中、Ａは、Ｘ−Ｙとともにア
ゾ色素を形成しうる成分を表す。前記Ａは、ジアゾニウ
ム化合物とカップリングしてアゾ色素を形成しうる化合
物であれば、任意に選択することができる。以下に、前
記Ａの具体例を示すが、本発明はこれらの具体例に何ら
限定されるものではない。

【００３２】

【化９】

【００３３】

【化１０】

【００３４】前記一般式（Ｉ）中、Ｘは、下記構造式で
表される二価の連結基から選択される基を表す。

【００３５】

【化１１】

【００３６】前記一般式（Ｉ）中、Ｙは、下記一般式
（ＩＩ）で表される基を表す。

【００３７】

【化１２】

【００３８】一般式（ＩＩ）中、Ｚは、低級アルキレン
基を表す。Ｚは、−（ＣＨ₂）_bート表されるが、該ｂは
１〜５の整数を表し、好ましくは２又は３を表す。一般
式（ＩＩ）中、−ＮＲ₂は、低級アルキルアミノ基、又
は窒素原子を含む５乃至６員飽和ヘテロ環を表す。該−
ＮＲ₂は、低級アルキルアミノ基を表す場合、−Ｎ（Ｃ_n
Ｈ_2n+1）₂と表され、ｎは１〜４の整数を表し、好まし
くは１又は２を表す。一方、該−ＮＲ₂は、窒素原子を
含む５乃至６員飽和ヘテロ環を表す場合、下記構造式で
表されるヘテロ環が好ましい。

【００３９】

【化１３】

【００４０】前記一般式（ＩＩ）における、Ｚ及び−Ｎ
Ｒ₂は、それぞれ、低級アルキル基、アルコキシ基を置
換基として有していてもよい。前記一般式（ＩＩ）中、
ａは、１又は２を表し、好ましくは２を表す。

【００４１】以下に、前記一般式（Ｉ）で表されるアゾ
化合物の具体例を示すが、本発明はこれらの具体例に何
ら限定されるものではない。

【００４２】

【化１４】

【００４３】

【化１５】

【００４４】以下に、前記一般式（Ｉ）で表される化合
物の合成例を示す。

【００４５】［合成例１］ −化合物例２の合成− （１）５−ニトロイソフタル酸ジメチル５０部とＮ，Ｎ
−ジエチル−１，３−プロパンジアミン１３０部とを、
弱く減圧しながら８０〜１００℃で約４時間反応させ
た。原料の５−ニトロイソフタル酸ジメチル及びモノア
ミド化合物の消失を確認したのち、過剰のＮ，Ｎ−ジエ
チル−１，３−プロパンジアミンを減圧除去し、９２部
の５−ニトロイソフタル酸ビス−３−ジエチルアミノプ
ロピルアミドを得た。 （２）得られた５−ニトロイソフタル酸ビス−３−ジエ
チルアミノプロピルアミド９２部を、還元鉄１１２部及
び塩化アンモニウム１２部とともにイソプロパノール２
００部、水３５部中で還流、還元し、５−アミノ−イソ
フタル酸ビス−３−ジエチルアミノプロピルアミド８６
部を得た。 （３）得られた５−アミノ−イソフタル酸ビス−３−ジ
エチルアミノプロピルアミド１８．５部、及びトリエチ
ルアミン５．１部をＤＭＦ６０部に溶かし、氷冷した。
これに４−ニトロベンゾイルクロライド９．３部のアセ
トン６０部溶液を加えアミド化した。反応後、水８００
部を加えて結晶を濾取し、酢酸エチルにより再結晶し
て、４−ニトロベンゾイル−４−［３，５−ビス（３−
ジエチルアミノプロピルカルバモイル）］フェニルアミ
ド１４部を得た。 （４）得られた化合物を、上記（２）と同様に還元して
アニリン誘導体１３．２部を得た。 （５）得られたアニリン誘導体１３．２部をメタノール
１２０部に加え、氷冷下、塩酸１８部を加えた。混合液
を更に−１５℃まで冷却した。これにＮａＮＯ₂１．８
部の水溶液（水２０部）を滴下し、ジアゾ化した（ジア
ゾ液の調製）。別に５−アセトアセチルアミノベンズイ
ミダゾロン５．９部、メタノール２６０部、水５３０
部、及びＮａＣＯ₃１０．８部からなるカップリング成
分溶液を調製し、１０℃以下に冷却した。これに上記で
得られたジアゾ液を１０℃を超えないように滴下し、反
応させた。Ｋ₂ＣＯ₃を加えて系を塩基性にし、析出した
黄色生成物を濾取し、ＤＭＦとアセトニトリルとにより
再結晶して、前記に示した例示化合物２を１９部得た。
得られた化合物の最大吸収波長は、λｍａｘ３９１ｎｍ
（ＣＨＣｌ₃中）であった。

【００４６】［合成例２］ −例示化合物１１の合成− （１）合成例１の（５）と同様にしてアニリン誘導体２
２．９部を用いてメタノール１８０部、塩酸３１部、Ｎ
ａＮＯ₂３．１部、及び水３０部からなるジアゾ液を調
製した。 （２）バルビツール酸５．６部、メタノール６００部、
水１１００部、及びＮａ ₂ＣＯ₃１９部からなるカップリ
ング成分液を調製した。これに（１）で得られたジアゾ
液を滴下し、反応させた。反応後、Ｋ₂ＣＯ₃を加えて系
を塩基性にし、析出した結晶を濾取し、ＤＭＦとアセト
ニトリルとにより再結晶して、前記に示した例示化合物
１１を１６．３部得た。得られた化合物の最大吸収波長
は、λｍａｘ３７８ｎｍ（ＣＨＣｌ₃中）であった。

【００４７】（その他の成分）本発明に用いる分散剤
は、前記一般式（Ｉ）で表される分散物のみを含んでい
てもよいし、必要に応じて適宜選択したその他の成分を
更に含んでいてもよい。前記その他の成分としては、公
知の分散剤が挙げられ、具体的には、ノナノアミド、デ
カンアミド、ドデカンアミド、Ｎ−ドデシルヘキサデカ
ンアミド、Ｎ−オクタデシルプロピオアミド、Ｎ，Ｎ−
ジメチルドデカンアミド及びＮ，Ｎ−ジヘキシルアセト
アミド等のアミド化合物、ジエチルアミン、ジヘプチル
アミン、ジブチルヘキサデシルアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，
Ｎ’−テトラメチルメタンアミン、トリエチルアミン、
トリブチルアミン及びトリオクチルアミン等のアミン化
合物、モノエタノールアミン、ジエタノールアミン、ト
リエタノールアミン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ’−（テトラヒ
ドロキシエチル）−１，２−ジアミノエタン、Ｎ，Ｎ，
Ｎ’ートリ（ヒドロキシエチル）−１，２−ジアミノエ
タン、Ｎ，Ｎ，Ｎ’，Ｎ‘−テトラ（ヒドロキシエチル
ポリオキシエチレン）−１，２−ジアミノエタン、１，
４−ビス（２−ヒドロキシエチル）ピペラジン及び１−
（２−ヒドロキシエチル）ピペラジシ等のヒドロキシ基
を有するアミン、その他、ペコタミド、イソニペコタミ
ド、ニコチン酸アミド等の化合物、等が挙げられる。こ
れらは、市販品であってもよいし、適宜合成したもので
あってもよく、該市販品としては、例えばシゲノックス
−１０５（商品名、ハッコールケミカル社製）等が挙げ
られる。

【００４８】前記その他の成分の前記分散剤における含
有量としては、１〜９０重量％が好ましく、１〜７０重
量％がより好ましい。前記含有量が、１重量％未満であ
ると、顔料分散組成物の粘度上昇を抑制できないことが
あり、９０重量％を超えると、分散剤としての性能が十
分に発揮されないことがある。

【００４９】また、本発明に用いる分散剤は、更に、下
記一般式（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）で表されるアミン化合
物を含有していてもよい。

【００５０】

【化１６】

【００５１】前記一般式（ＩＩＩ）において、Ｒ³¹及び
Ｒ³²は、水素原子、又は、置換基を有していてもよいア
ルキル基若しくはアラルキル基を表し、これらは互いに
結合して窒素原子を含む５員乃至６員の飽和環を形成し
てもよい。この飽和環は、更に酸素原子、硫黄原子及び
窒素原子から選択される１〜３個の原子を含んでもよ
い。Ｒ³³は、アルキレン基、又はエーテル結合を含むア
ルキレン基を表す。Ｘ³は、−ＣＯＮ（Ｙ³¹）
（Ｙ³²）、−ＯＣＯＮ（Ｙ³¹）（Ｙ³²）、−Ｎ（Ｙ³³）
ＣＯ（Ｙ³⁴）、又は、−Ｎ（Ｙ³³）ＣＯＮ（Ｙ³¹）（Ｙ
³²）を表す。Ｙ³¹、Ｙ³²、Ｙ³³及びＹ³⁴は、水素原子、
又は、置換基を有してもよいアルキル基、アラルキル基
若しくはアリール基を表す。

【００５２】

【化１７】

【００５３】前記一般式（ＩＶ）において、Ｒ⁴¹、
Ｒ⁴²、Ｒ⁴⁶及びＲ⁴⁷は、水素原子、又は、置換基を有し
ていてもよいアルキル基若しくはアラルキル基を表し、
これらは互いに結合して窒素原子を含む５員乃至６員の
飽和環を形成してもよい。この飽和環は、更に酸素原
子、硫黄原子及び窒素原子から選択される１〜３個の原
子を含んでもよい。Ｒ⁴⁴及びＲ⁴⁵は、アルキレン基、又
はエーテル結合を合むアルキレン基を表す。Ｚ⁴は、−
ＣＯＮ（Ｙ⁴¹）−、−ＯＣＯＮ（Ｙ⁴¹）−又は−Ｎ（Ｙ
⁴²）ＣＯＮ（Ｙ⁴³）−、を表す。Ｙ⁴¹、Ｙ⁴²及びＹ
⁴³は、前記一般式（ＩＩＩ）におけるＹ³¹、Ｙ³²及びＹ
³³と順に同義である。

【００５４】前記一般式（ＩＩＩ）又は（ＩＶ）で表さ
れるアミン化合物の具体例としては、ビス（２−（１−
モルホリノ）エチル）テレフタルアミド等が好適に挙げ
られる。

【００５５】また、本発明に用いる分散剤は、各種界面
活性剤を含有していてもよく、該界面活性剤を含有して
いると分散安定性の向上に有効である。該界面活性剤と
しては、例えば、アルキルナフタレンスルホン酸塩、燐
酸エステル塩に代表されるアニオン系界面活性剤、アミ
ン塩に代表されるカチオン系界面活性剤、アミノカルボ
ン酸、ベタイン型に代表される両性界面活性剤等が挙げ
られる。

【００５６】（硬化剤）バック層は、カーボンブラック
が分散した塗料の硬化層からなるが、結合剤であるニト
ロセルロースを硬化させるために、硬化剤が用いられ
る。硬化剤としては、後述する磁性層及び下層の結合剤
として用いられるポリイソシアネートが、その具体例を
含めて好ましく用いられる。ポリイソシアネートのなか
でも、トリレンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイ
ソシアネート、イソホロンジイソシアネート、トリフェ
ニルメタンイソシアネート等のイソシアネート類が好ま
しい。硬化剤の使用量は、通常、バック層含有全結合剤
の１〜６０質量％、好ましくは５〜５０質量％の範囲で
ある。

【００５７】（その他の任意成分）バック層には、ニト
ロセルロース以外の結合剤を配合することができる。ニ
トロセルロース以外の結合剤としては、例えば熱可塑性
樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合物を挙
げることができる。熱可塑性樹脂の例としては、塩化ビ
ニル−酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル−塩化ビニリデ
ン共重合体、塩化ビニル−アクリルニトリル共重合体、
アクリル酸エステル−アクリロニトリル共重合体、アク
リル酸エステル−塩化ビニリデン共重合体、アクリル酸
エステル−スチレン共重合体、メタアクリル酸エステル
−アクリルニトリル共重合体、メタアクリル酸エステル
−塩化ビニリデン共重合体、メタアクリル酸エステル−
スチレン共重合体、ポリ弗化ビニル、塩ビニリデン−ア
クリロニトリル共重合体、ブタジエン−アクリロニトリ
ル共重合体、ポリアミド樹脂、ポリビニルブチラール、
ニトロセルロースを除く繊維素系樹脂（セルロースアセ
テートブチレート、セルロースダイアセテート、セルロ
ースプロピオネートなど）、スチレン−ブタジエン共重
合体、ポリエステル樹脂、クロロビニルエーテル−アク
リル酸エステル共重合体、アミノ樹脂、各種ゴム系樹脂
等を挙げることができる。

【００５８】また熱硬化性樹脂または反応型樹脂として
は、例えばフェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタ
ン硬化型樹脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹
脂、アクリル系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリ
コーン樹脂、エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリイソシア
ネートを挙げることができる。

【００５９】これらのニトロセルロース以外の結合剤
は、ニトロセルロース１００質量部に対して、１０〜４
００、好ましくは２０〜２００質量部用いることができ
る。

【００６０】バック層に、任意成分として、潤滑剤を添
加することが好ましい。潤滑剤としては、従来から磁気
テープに通常使用されている潤滑剤から適宜選択して使
用できるが、本発明では特に炭素数１８以上の脂肪酸、
あるいは脂肪酸エステルが走行性の向上の点から好まし
い。潤滑剤は、ニトロセルロースとその他の結合剤の合
計量１００質量部に対して通常０．５〜１０質量部の範
囲で添加される。

【００６１】（バック層の形成等）バック層は、通常の
方法に従って支持体の磁性層が設けられている側とは反
対側に設けられる。即ち、カーボンブラックを、湿潤し
たニトロセルロース、さらにはニトロセルロース以外の
結合剤、分散剤、硬化剤、更には潤滑剤等を含んだ適切
な溶媒中で分散させる処理を行い、カーボンブラック等
が分散した塗料を調製し、これを常法の塗布方法に従
い、塗布、加熱・硬化することにより、支持体上に塗料
の硬化物層からなるバック層を設けることができる。

【００６２】上記分散処理は、高比重の分散メディアで
あるジルコニアビーズ、チタニアビーズ、スチールビー
ズが好適である。これら分散メディアの粒径と充填率は
最適化して用いられる。特に好ましくは、分散メディア
の直径φは、下限が０．０１ｍｍ程度で１ｍｍ以下であ
る。分散機は公知のもの、例えばサイドグラインダー、
ボールミル等を使用することができる。分散処理に用い
られる溶媒としては、湿潤したニトロセルロースやそれ
以外の結合剤を溶解し得、かつ硬化剤と反応しない溶媒
が好ましい。具体的には、ベンゼン、トルエン、キシレ
ン、メチルエチルケトン、アセトン、シクロヘキサノ
ン、メチルイソブチルケトン等を挙げることができ、な
かでもトルエン、キシレン、メチルエチルケトン、シク
ロヘキサノン、メチルイソブチルケトンが好ましい。溶
媒は、溶媒以外の分散質１００質量部に対して、通常１
００〜１０００質量部程度使用される。

【００６３】バック層は、光干渉式表面粗さ計で測定し
た中心面平均表面粗さ（Ｒａ）で、好ましくは１．０〜
１５ｎｍ、さらに好ましくは１〜１０ｎｍの範囲にあ
る。この表面粗さは、磁気テープが巻かれた状態でバッ
ク層の表面が磁性層の表面に転写され、再生出力に影響
を与えたり、ガイドポールに対する摩擦係数に影響を与
えるため、上記の範囲に調整することが好ましい。な
お、この表面粗さＲａの調整は、通常バック層を塗布形
成後、カレンダーによる表面処理工程において、用いる
カレンダーロールの材質、その表面性、圧力等の調整に
より行われる。本発明において、バック層は、その厚み
が０．２〜０．８μｍ、さらに好ましくは０．２〜０．
７μｍの範囲である。

【００６４】〔磁性層〕磁性層は単層であっても２層以
上から構成してもよく、後者の場合、それら層同士の位
置関係は目的により隣接して設けても間に磁性層以外の
層を介在させて設けてもよく、公知の層構成が採用でき
る。尚、本発明において、磁性層の厚みとは、複層の場
合は最上層の磁性層の乾燥厚みを言う。

【００６５】本発明の磁気記録媒体は、好ましくは支持
体と磁性層との間に非磁性粉末と結合剤を主体とする非
磁性層が設けられる。磁性層を複層で構成する例として
は、強磁性酸化鉄、強磁性コバルト変性酸化鉄、ＣｒＯ
₂ 粉末、六方晶系フェライト粉末及び各種強磁性金属粉
末等から選択した強磁性粉末を結合剤中に分散した磁性
層を組み合わせたものが挙げられる。なお、この場合、
同種の強磁性粉末であっても、元素組成、粉体サイズ等
の異なる強磁性粉末を含む磁性層を組み合わせることも
できる。本発明においては、上述したように強磁性金属
粉末を含む磁性層と支持体との間に非磁性層を設けた磁
気記録媒体が好ましい。

【００６６】重層構成の磁気記録媒体は、下層と磁性層
を支持体上に、下層を塗布後、下層が湿潤状態の内に上
層を同時、又は逐次に塗布するウェット・オン・ウェッ
ト法（Ｗ／Ｗ）でも、下層が乾燥した後に上層磁性層を
設けるドライ・オン・ウェット法（Ｗ／Ｄ）でも作成で
きる。生産得率の点から同時、又は逐次湿潤塗布が好ま
しい。本発明では同時、又は逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）で
は上層／下層が同時に形成できるため、カレンダー工程
などの表面処理工程を有効に活用でき、超薄層でも上層
磁性層の表面粗さを良化できる。

【００６７】（強磁性粉末）本発明に使用する強磁性粉
末としては、強磁性金属粉末または六方晶系フェライト
粉末が好ましい。強磁性金属粉末としては、α−Ｆｅを
主成分とする強磁性金属粉末が好ましい。強磁性金属粉
末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｍｇ、Ｔ
ｉ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｂａ、Ｗ、Ｌａ、Ｃ
ｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、
Ｂなどの原子を含んでもかまわない。特に、Ａｌ、Ｃ
ａ、Ｍｇ、Ｙ、Ｂａ、Ｌａ、Ｎｄ、Ｓｍ、Ｃｏ、Ｎｉの
少なくとも１つをα−Ｆｅ以外に含むことが好ましい。
Ｃｏは、Ｆｅと合金を作ると飽和磁化が増加し、かつ減
磁が改良されるので特に好ましい。Ｃｏの含有量はＦｅ
に対して１原子％〜４０原子％が好ましく、さらに好ま
しくは１５原子％〜３５原子％、より好ましくは２０原
子％〜３５原子％である。Ｙ等の希土類元素の含有量は
１．５原子％〜１２原子％が好ましく、さらに好ましく
は３原子％〜１０原子％、より好ましくは４原子％〜９
原子％である。Ａｌは１．５原子％〜１２原子％が好ま
しく、さらに好ましくは３原子％〜１０原子％、より好
ましくは４原子％〜９原子％である。Ｙを含む希土類や
Ａｌは焼結防止剤として機能しており、組合わせて使用
することでより高い焼結防止効果が得られる。これらの
強磁性粉末にはあとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性
剤、帯電防止剤などで分散前にあらかじめ処理を行って
もかまわない。具体的には、特公昭４４−１４０９０
号、特公昭４５−１８３７２号、特公昭４７−２２０６
２号、特公昭４７−２２５１３号、特公昭４６−２８４
６６号、特公昭４６−３８７５５号、特公昭４７−４２
８６号、特公昭４７−１２４２２号、特公昭４７−１７
２８４号、特公昭４７−１８５０９号、特公昭４７−１
８５７３号、特公昭３９−１０３０７号、特公昭４６−
３９６３９号、米国特許第３０２６２１５号、同３０３
１３４１号、同３１００１９４号、同３２４２００５
号、同３３８９０１４号等の各公報に記載されている。

【００６８】強磁性金属粉末には少量の水酸化物、また
は酸化物が含まれてもよい。強磁性金属粉末の公知の製
造方法により得られたものを用いることができ、下記の
方法を挙げることができる。焼結防止処理を行った含水
酸化鉄、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅ
あるいはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、複合有機酸塩
（主としてシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元
する方法、金属カルボニル化合物を熱分解する方法、強
磁性金属の水溶液に水素化ホウ素ナトリウム、次亜リン
酸塩あるいはヒドラジンなどの還元剤を添加して還元す
る方法、金属を低圧の不活性気体中で蒸発させて粉末を
得る方法などである。このようにして得られた強磁性金
属粉末は公知の徐酸化処理する。含水酸化鉄、酸化鉄を
水素などの還元性気体で還元し、酸素含有ガスと不活性
ガスの分圧、温度、時間を制御して表面に酸化皮膜を形
成する方法が、減磁量が少なく好ましい。

【００６９】本発明の磁性層の強磁性粉末をＢＥＴ法に
よる比表面積（Ｓ_BET）で表せば４０〜８０ｍ²／ｇであ
り、好ましくは４５〜７０ｍ²／ｇである。４０ｍ²／ｇ
以下ではノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上では平滑
な表面が得にくく好ましくない。本発明の磁性層の強磁
性粉末の結晶子サイズは８０〜１８０Åであり、好まし
くは１００〜１７０Å、更に好ましくは１１０〜１６５
Åである。強磁性粉末の平均長軸長は０．０２μｍ〜
０．２５μｍであり、好ましくは０．０３μｍ〜０．１
５μｍであり、さらに好ましくは０．０３μｍ〜０．１
２μｍである。強磁性粉末の平均針状比（（長軸長／短
軸長）の平均）は３〜１５が好ましく、さらには３〜１
０が好ましい。磁性金属粉末の飽和磁化σｓは通常、９
０〜１７０Ａ・ｍ²／ｋｇであり、好ましくは１００〜
１６０Ａ・ｍ²／ｋｇ、更に好ましくは１１０〜１６０
Ａ・ｍ²／ｋｇである。強磁性金属粉末の抗磁力は１３
５〜２７９ｋＡ／ｍが好ましく、更に好ましくは１４３
〜２３９ｋＡ／ｍである。

【００７０】強磁性金属粉末の含水率は０．１〜２質量
％とするのが好ましい。結合剤の種類によって強磁性粉
末の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性粉末のｐ
Ｈは、用いる結合剤との組み合わせにより最適化するこ
とが好ましい。その範囲は６〜１２であるが、好ましく
は７〜１１である。強磁性金属粉末のＳＡ（ステアリン
酸）吸着量（表面の塩基性点の尺度）は１〜１５μｍｏ
ｌ／ｍ²、好ましくは２〜１０μｍｏｌ／ｍ²、さらに好
ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²である。ステアリン酸吸
着量が多い強磁性金属粉末を使用する時、表面に強く吸
着する有機物で表面修飾して磁気記録媒体を作成するこ
とが好ましい。強磁性粉末には可溶性のＮａ、Ｃａ、Ｆ
ｅ、Ｎｉ、Ｓｒ、ＮＨ₄、ＳＯ₄、Ｃｌ、ＮＯ₂、ＮＯ₃な
どの無機イオンを含む場合がある。これらは、本質的に
無い方が好ましい。各イオンの総和が３００ｐｐｍ以下
程度であれば、特性には影響しない。また、本発明に用
いられる強磁性粉末は空孔が少ないほうが好ましくその
値は２０容量％以下、さらに好ましくは５容量％以下で
ある。また形状については先に示した粉体サイズ、磁気
特性を満足すれば針状、米粒状、紡錘状のいずれでもか
まわない。強磁性粉末自体のＳＦＤ（ｓｗｉｔｃｈｉｎ
ｇ−ｆｉｅｌｄ ｄｉｓｔｒｉｂｕｔｉｏｎ）は小さい
方が好ましく、強磁性粉末のＨｃ分布を小さくする必要
がある。テ−プのＳＦＤが小さいと、磁化反転がシャー
プでピークシフトが小さくなり、高密度デジタル磁気記
録に好適である。Ｈｃ分布を小さくするためには、強磁
性金属粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くす
る、単分散α−Ｆｅ₂Ｏ₃を使用する、粒子間の焼結を防
止するなどの方法がある。

【００７１】（六方晶フェライト粉末）六方晶フェライ
トとしては、バリウムフェライト、ストロンチウムフェ
ライト、鉛フェライト、カルシウムフェライトおよびこ
れらの各種の各置換体、Ｃｏ置換体等がある。具体的に
はマグネトプランバイト型のバリウムフェライト及びス
トロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面を被覆し
たマグネトプランバイト型フェライト、更に一部スピネ
ル相を含有した複合マグネトプランバイト型のバリウム
フェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げら
れ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｎｂ、Ｓ
ｎ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａ
ｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｂｉ、Ｌａ、
Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｂ、
Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を含んでもかまわない。一般には
Ｃｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔ
ｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、Ｓｎ
ーＺｎ−Ｃｏ、Ｓｎ−Ｃｏ−Ｔｉ、Ｎｂ−Ｚｎ等の元素
を添加した物を使用することができる。原料・製法によ
っては特有の不純物を含有するものもある。粉体サイズ
は六角板径で好ましくは平均板径が１０〜５５ｎｍ、更
に好ましくは１０〜４５ｎｍであり、特に好ましくは１
０〜４０ｎｍである。

【００７２】特にトラック密度を上げるため磁気抵抗ヘ
ッド（ＭＲヘッド）で再生する場合、低ノイズにする必
要があり、平均板径は４５ｎｍ以下が好ましいが、１０
ｎｍより小さいと熱揺らぎのため安定な磁化が望めな
い。５５ｎｍより大きいとノイズが高く、いずれも高密
度磁気記録には向かない。板状比（板径／板厚）は１〜
１５が望ましい。好ましくは１〜７である。板状比が小
さいと磁性層中の充填性は高くなり好ましいが、十分な
配向性が得られない。１５より大きいと粉体間のスタッ
キングによりノイズが大きくなる。この粉体サイズ範囲
のＢＥＴ法による比表面積は３０〜２００ｍ²／ｇを示
す。比表面積は概ね粉体板径と板厚からの算術計算値と
符号する。粉体板径・板厚の分布は狭いほど好ましい。
数値化は困難であるが、粉体ＴＥＭ（透過型電子顕微
鏡）写真より約５００個を無作為に測定する事で比較で
きる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して
平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均粉体サイ
ズ＝０．１〜１．５である。粉体サイズ分布をシャープ
にするには粉体生成反応系をできるだけ均一にすると共
に、生成した粉体に分布改良処理を施すことも行われて
いる。たとえば酸溶液中で超微細粉体を選別的に溶解す
る方法等も知られている。ガラス化結晶法では、熱処理
を複数回行い、核生成と成長を分離することでより均一
な粉体を得ている。磁性粉で測定された抗磁力Ｈｃは４
０〜４００ｋＡ／ｍ程度まで作成できる。高Ｈｃの方が
高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限さ
れる。Ｈｃは粉体サイズ（板径・板厚）、含有元素の種
類と量、元素の置換サイト、粉体生成反応条件等により
制御できる。飽和磁化σｓは３０〜７０Ａ・ｍ²／ｋｇ
である。σｓは、微粉体になるほど小さくなる傾向があ
る。製法では結晶化温度、または熱処理温度時間を小さ
くする方法、添加する化合物を増量する、表面処理量を
多くする方法等がある。またＷ型六方晶フェライトを用
いることも可能である。磁性体を分散する際に磁性体粉
体表面を分散媒、ポリマーに合った物質で処理すること
も行われている。表面処理剤は無機化合物、有機化合物
が使用される。主な化合物としてはＳｉ、Ａｌ、Ｐ等の
酸化物または水酸化物、各種シランカップリング剤、各
種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁性体に
対して０．１〜１０質量％である。磁性体のｐＨも分散
に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマーに
より最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性から
６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も分
散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値があるが
通常０．１〜２．０質量％が選ばれる。六方晶フェライ
トの製法としては、炭酸バリウム・酸化鉄・鉄を置換
する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を
所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、
急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄
・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス化
結晶法、バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカ
リで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相
加熱後、洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結晶
粉体を得る水熱反応法、バリウムフェライト組成金属
塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾燥
し１１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェライ
ト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を選
ばない。

【００７３】（磁性層に用いられるカーボンブラック）
本発明の磁性層は、所望によりカーボンブラックを含む
ことができる。使用されるカーボンブラックは、ゴム用
ファーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、導電
性カーボンブラック、アセチレンブラック、等を用いる
ことができる。比表面積は５〜５００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ
吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００ｇ、平均粒子径は５
ｎｍ〜３００ｎｍ、ｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜
１０質量％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｃｃ、が好ま
しい。本発明に用いられるカーボンブラックの具体的な
例としてはキャボット製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２
０００、１３００、１０００、９００、９０５、８０
０、７００、ＶＵＬＣＡＮＸＣ−７２、旭カーボン製、
＃８０、＃６０、＃５５、＃５０、＃３５、三菱化学
製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１００
０、＃３０、＃４０、＃１０Ｂ、コロンビアンカーボン
製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、
５０、４０、１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、アクゾー社
製、ケッチェンブラックＥＣ、などがあげられる。カー
ボンブラックを分散剤などで表面処理したり、樹脂でグ
ラフト化して使用しても、表面の一部をグラファイト化
したものを使用してもかまわない。また、カーボンブラ
ックを磁性塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で分散
してもかまわない。これらのカーボンブラックは単独、
または組み合わせで使用することができる。カーボンブ
ラックを使用する場合は磁性体に対する量の０．１〜３
０質量％で通常、用いることができる。カーボンブラッ
クは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付与、膜
強度向上などの働きがあり、これらは用いるカーボンブ
ラックにより異なる。従って本発明に使用されるこれら
のカーボンブラックは上層磁性層、下層非磁性層でその
種類、量、組み合わせを変え、粒子サイズ、吸油量、電
導度、ｐＨなどの先に示した諸特性をもとに目的に応じ
て使い分けることはもちろん可能であり、むしろ各層で
最適化すべきものである。本発明の磁性層で使用できる
カーボンブラックは例えば（「カーボンブラック便覧」
カーボンブラック協会編）を参考にすることができる。

【００７４】（研磨剤）本発明の磁性層に使用できる研
磨剤としては、α化率９０％以上のα−アルミナ、β−
アルミナ、微粒子ダイヤモンド、炭化ケイ素、酸化クロ
ム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダム、窒化珪
素、炭化珪素、チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化
珪素、窒化ホウ素、など主としてモ−ス硬度６以上の公
知の材料が単独または組み合わせで使用される。また、
これらの研磨剤同士の複合体（研磨剤を他の研磨剤で表
面処理したもの）を使用してもよい。これらの研磨剤に
は主成分以外の化合物または元素が含まれる場合もある
が主成分が９０質量％以上であれば効果にかわりはな
い。これら研磨剤の粉体サイズは０．０１〜１μｍが好
ましく、特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度
分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには
必要に応じて粉体サイズの異なる研磨剤を組み合わせた
り、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果を
もたせることも可能である。タップ密度は０．３〜１．
５ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５質量％、ｐＨは２〜１
１、比表面積は１〜４０ｍ²／ｇが好ましい。本発明に
用いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、の
いずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨
性が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１
０、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫ
Ｐ−５０、ＨＩＴ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５
０、ＨＩＴ−６０Ａ、ＨＩＴ−５０Ｇ、ＨＩＴ−７０、
ＨＩＴ−８０、ＨＩＴ−８２、ＨＩＴ−１００、レイノ
ルズ社製ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ−ＤＢ
Ｍ、不二見研磨剤社製ＷＡ１００００、上村工業社製Ｕ
Ｂ２０、日本化学工業社製Ｇ−５、クロメックスＵ２、
クロメックスＵ１、戸田工業社製ＴＦ１００、ＴＦ１４
０、イビデン社製ベータランダムウルトラファイン、昭
和鉱業社製Ｂ−３などが挙げられる。これらの研磨剤は
必要に応じ下層に添加することもできる。下層に添加す
ることで表面形状を制御したり、研磨剤の突出状態を制
御したりすることができる。これら磁性層、下層の添加
する研磨剤の粉体サイズ、量はむろん最適値に設定すべ
きものである。

【００７５】〔非磁性層（下層）〕次に下層に関する詳
細な内容について説明する。下層は、実質的に非磁性で
あれば、特に制限されるべきものではないが、好ましく
は非磁性粉末と結合剤を含む構成である。下層は実質的
に非磁性である範囲で磁性粉末も使用され得るものであ
る。下層が実質的に非磁性であるとは、上層の電磁変換
特性を実質的に低下させない範囲で下層が磁性を有する
ことを許容するということである。

【００７６】本発明の下層に用いられる非磁性粉末とし
ては、例えば、金属酸化物、含水金属酸化物、金属炭酸
塩、金属窒化物、金属炭化物、等の無機質化合物から選
択することができる。無機質化合物としては例えばα化
率９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、γ−アル
ミナ、θ−アルミナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セ
リウム、α−酸化鉄、ゲータイト、窒化珪素、二酸化チ
タン、二酸化珪素、酸化スズ、酸化マグネシウム、酸化
ジルコニウム、酸化亜鉛、硫酸バリウム、などが単独ま
たは組み合わせで使用される。特に好ましいのは、粒度
分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸
化チタン、酸化亜鉛、α−酸化鉄、ゲ−タイト、硫酸バ
リウムであり、更に好ましいのは二酸化チタン、α−酸
化鉄、ゲ−タイトである。α−酸化鉄は、粉体サイズが
そろった磁性酸化鉄やメタル用原料を加熱脱水、アニ−
ル処理し空孔を少なくし、必要により表面処理をしたも
のが好ましい。通常、二酸化チタンは光触媒性を持って
いるので、光があたるとラジカルが発生しバインダー、
潤滑剤と反応する懸念がある。このため、本発明に使用
する二酸化チタンは、Ａｌ、Ｆｅ等を１〜１０質量％固
溶させ光触媒特性を低下させることが好ましい。さらに
表面をＡｌ及び／又はＳｉ化合物で処理し、触媒作用を
低下させることが好ましい。これら非磁性粉末の粉体サ
イズは０．００５〜１μｍが好ましいが、必要に応じて
粉体サイズの異なる非磁性粉末を組み合わせたり、単独
の非磁性粉末でも粒径分布を広くして同様の効果をもた
せることもできる。とりわけ好ましいのは非磁性粉末の
粉体サイズは０．０１μｍ〜０．５μｍである。特に、
非磁性粉末が粒状金属酸化物である場合は、平均粒子径
０．０８μｍ以下が好ましく、針状金属酸化物である場
合は、平均長軸長が０．３μｍ以下が好ましく、０．２
μｍ以下がさらに好ましい。タップ密度は通常、０．３
〜１．５ｇ／ｍｌ、好ましくは０．４〜１．３ｇ／ｍｌ
である。非磁性粉末の含水率は通常、０．２〜５質量
％、好ましくは０．３〜３質量％、更に好ましくは０．
３〜１．５質量％である。非磁性粉末のｐＨは通常、３
〜１２であるが、ｐＨは５．５〜１１の間が特に好まし
い。非磁性粉末の比表面積は通常、１〜１００ｍ²／
ｇ、好ましくは５〜８０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０
〜８０ｍ²／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは４
０〜１０００Åが好ましく、４０〜８００Åが更に好ま
しい。ＤＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は
通常、５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ましくは１０〜８
０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０〜６０ｍｌ／１
００ｇである。比重は通常、１．５〜７、好ましくは３
〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状のいず
れでも良い。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量
は通常、１〜２０μｍｏｌ／ｍ²、好ましくは２〜１５
μｍｏｌ／ｍ²、さらに好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²
である。ステアリン酸吸着量が多い非磁性粉末を使用す
る時、表面に強く吸着する有機物で表面修飾して磁気記
録媒体を作成することが好ましい。これらの非磁性粉末
の表面にはＡｌ、Ｍｇ、Ｓｉ、Ｔｉ、Ｚｒ、Ｓｎ、Ｓ
ｂ、Ｚｎ、Ｙ化合物で表面処理することが好ましい。特
に分散性に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、
ＺｒＯ₂、ＭｇＯおよびこれらの含水酸化物であるが、
更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂およびこ
れらの含水酸化物である。これらは組み合わせて使用し
ても良いし、単独で用いることもできる。また、目的に
応じて共沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずア
ルミナを被覆処理した後にその表層をシリカを被覆処理
する方法、またはその逆の方法を採ることもできる。ま
た、表面処理層は目的に応じて多孔質層にしても構わな
いが、均質で密である方が一般には好ましい。

【００７７】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
ＨＩＴ−１００、ＨＩＴ−８２、戸田工業製α−酸化鉄
ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰＮ−２７０
ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＢＸ、ＤＰＮ−５５０ＲＸ、ＤＢ
Ｎ−６５０ＲＸ、ＤＡＮ−８５０ＲＸ、石原産業製酸化
チタンＴＴＯ−５１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５
Ｂ、ＴＴＯ−５５Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５
Ｄ、ＳＮ−１００、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４
Ｄ、ＳＴＴ−３０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、
α−酸化鉄α−４０、テイカ製酸化チタンＭＴ−１００
Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、ＭＴ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００
Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ−１００Ｆ、ＭＴ−５００Ｈ
Ｄ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１
０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、同和鉱業製酸化鉄ＤＥＦＩ
Ｃ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエロジル製ＡＳ２Ｂ
Ｍ、ＴｉＯ ₂ Ｐ２５、宇部興産製１００Ａ、５００
Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられる。

【００７８】下層にカーボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすること、所望のマイクロビッカース硬度を得
る事ができる。また、下層にカーボンブラックを含ませ
ることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらすことも可能であ
る。カーボンブラックの種類はゴム用ファ−ネス、ゴム
用サ−マル、カラ−用ブラック、導電性カーボンブラッ
ク、アセチレンブラック等を用いることができる。下層
のカーボンブラックは所望する効果によって、以下のよ
うな特性を最適化すべきであり、併用することでより効
果が得られることがある。下層のカーボンブラックの比
表面積は通常、５０〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは７０
〜４００ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は通常、２０〜４００
ｍｌ／１００ｇ、好ましくは３０〜４００ｍｌ／１００
ｇである。カーボンブラックの平均粒子径は通常、５〜
８０ｎｍ、好ましく１０〜５０ｎｍ、さらに好ましくは
１０〜４０ｎｍである。カーボンブラックのｐＨは２〜
１０、含水率は０．１〜１０質量％、タップ密度は０．
１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。本発明に用いられるカーボ
ンブラックの具体的な例としてはキャボット製 ＢＬＡ
ＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１０００、９
００、８００、８８０、７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−
７２、三菱化学製 ＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３
７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９
７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃
４０００、＃４０１０、コロンビアンカーボン製 ＣＯ
ＮＤＵＣＴＥＸＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００、８００
０、７０００、５７５０、５２５０、３５００、２１０
０、２０００、１８００、１５００、１２５５、１２５
０、アクゾー製ケッチェンブラックＥＣなどがあげられ
る。カーボンブラックを分散剤などで表面処理したり、
樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部をグラフ
ァイト化したものを使用してもかまわない。また、カー
ボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ結合剤で
分散してもかまわない。これらのカーボンブラックは上
記無機質化合物粉末に対して５０質量％を越えない範
囲、非磁性層総質量の４０質量％を越えない範囲で使用
できる。これらのカーボンブラックは単独、または組み
合わせで使用することができる。本発明で使用できるカ
ーボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カ
ーボンブラック協会編）を参考にすることができる。

【００７９】また下層には有機質粉末を目的に応じて、
添加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹
脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。

【００８０】下層の結合剤樹脂（種類と量）、潤滑剤・
分散剤・添加剤の量、種類、溶剤、分散方法に関しては
磁性層に関する公知技術が適用できる。

【００８１】〔結合剤〕本発明の磁気記録媒体の磁性層
及び下層等に使用される結合剤としては、従来公知の熱
可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの混合
物が使用される。熱可塑性樹脂としては、ガラス転移温
度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，０００〜
２００，０００、好ましくは１０，０００〜１００，０
００、重合度が約５０〜１０００程度のものである。こ
のような例としては、塩化ビニル、酢酸ビニル、ビニル
アルコール、マレイン酸、アクリル酸、アクリル酸エス
テル、塩化ビニリデン、アクリロニトリル、メタクリル
酸、メタクリル酸エステル、スチレン、ブタジエン、エ
チレン、ビニルブチラ−ル、ビニルアセタ−ル、ビニル
エーテル、等を構成単位として含む重合体または共重合
体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂がある。また、
熱硬化性樹脂または反応型樹脂としてはフェノ−ル樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹脂、尿素樹
脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル系反応樹
脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、エポキシ
−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシアネート
プレポリマ−の混合物、ポリエステルポリオ−ルとポリ
イソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリイソシア
ネートの混合物等があげられる。これらの樹脂について
は朝倉書店発行の「プラスチックハンドブック」に詳細
に記載されている。また、公知の電子線硬化型樹脂を各
層に使用することも可能である。これらの例とその製造
方法については特開昭６２−２５６２１９に詳細に記載
されている。以上の樹脂は単独または組合せて使用でき
るが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、塩化ビニル
酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニルビニルアル
コール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水マレイン酸
共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポリウレタン
樹脂の組み合わせ、またはこれらにポリイソシアネート
を組み合わせたものがあげられる。

【００８２】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカ−ボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカ−ボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−
Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、ま
たはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは
炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ば
れる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加
反応で導入したものをもちいることが好ましい。このよ
うな極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好ま
しくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００８３】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカ−バイト製ＶＡＧＨ、ＶＹＨ
Ｈ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹＥ
Ｓ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫＨ
Ｈ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業製、
ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、ＭＰ
Ｒ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰＲ−
ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学製１０００Ｗ、ＤＸ８
０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００ＦＤ、日本
ゼオン製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ１１０、Ｍ
Ｒ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０Ａ、日本ポリ
ウレタン製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２３０２、Ｎ２３
０４、大日本インキ製パンデックスＴ−５１０５、Ｔ−
Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バ−ノックＤ−４００、Ｄ
−２１０−８０、クリスボン６１０９、７２０９、東洋
紡製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ８３００、ＵＲ−８７
００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、大日精化製、ダイフェ
ラミン４０２０、５０２０、５１００、５３００、９０
２０、９０２２、７０２０、三菱化学製、ＭＸ５００
４、三洋化成製サンプレンＳＰ−１５０、旭化成製サラ
ンＦ３１０、Ｆ２１０などがあげられる。

【００８４】本発明の非磁性層、磁性層に用いられる結
合剤は非磁性粉末または磁性体に対し、通常、５〜５０
質量％の範囲、好ましくは１０〜３０質量％の範囲で用
いられる。塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０質
量％、ポリウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０質量
％、ポリイソシアネートは２〜２０質量％の範囲でこれ
らを組み合わせて用いることが好ましいが、例えば、微
量の脱塩素によりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレ
タンのみまたはポリウレタンとイソシアネートのみを使
用することも可能である。本発明において、ポリウレタ
ンを用いる場合はガラス転移温度が通常、−５０〜１５
０℃、好ましくは０〜１００℃、破断伸びが１００〜２
０００％、破断応力は０．４９〜９８ＭＰａ、降伏点は
０．４９〜９８ＭＰａが好ましい。

【００８５】本発明の磁気記録媒体は好ましくは二層以
上からなる。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化
ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネー
ト、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各
樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物
理特性などを必要に応じ各層とで変えることはもちろん
可能であり、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁
性層に関する公知技術を適用できる。例えば、各層でバ
インダー量を変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らす
ためには磁性層のバインダー量を増量することが有効で
あり、ヘッドに対するヘッドタッチを良好にするために
は、非磁性層のバインダー量を多くして柔軟性を持たせ
ることができる。

【００８６】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１、
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン製、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネー
ト２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭＲ、
ミリオネートＭＴＬ、武田薬品製、タケネートＤ−１０
２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２００、
タケネートＤ−２０２、住友バイエル製、デスモジュー
ルＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュールＮデスモジ
ュールＨＬ、等がありこれらを単独または硬化反応性の
差を利用して二つもしくはそれ以上の組み合わせで各層
とも用いることができる。

【００８７】〔添加剤〕本発明の磁性層、非磁性層等に
使用される添加剤としては、潤滑効果、帯電防止効果、
分散効果、可塑効果などをもつものが使用される。二硫
化モリブデン、二硫化タングステン、グラファイト、窒
化ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をも
つシリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリ
コーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、
ポリオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステ
ルおよびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェ
ニルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフ
ェニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニル
ホスフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリン
グ剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸
エステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４
の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐し
ていてもかまわない）、およびこれらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール（不飽和
結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭
素数１２〜２２のアルコキシアルコール（不飽和結合を
含んでも、また分岐していてもかまわない）、炭素数１
０〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、ま
た分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれ
か一つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもか
まわない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪
酸エステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキ
シド重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、
炭素数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪
族アミン、などが使用できる。

【００８８】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２−エチルヘキシルステアレ
ート、２−オクチルドデシルパルミテート、２−ヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシド−ル系、アルキルフェノ−ルエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０質量％以下が好ましく、さら
に好ましくは１０質量％以下である。

【００８９】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
にじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエス
テル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性
剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑
剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるな
ど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁
性粉末に対し、０．１質量％〜５０質量％、好ましくは
２質量％〜２５質量％の範囲で選択される。

【００９０】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダ−した後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。本発明で用いられる有
機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特開昭６−６８
４５３に記載の溶剤を用いることができる。

【００９１】〔層構成〕本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は、支持体が好ましくは２．５〜８μｍであり、体積
密度を大きくするため、さらに好ましくは２．５〜７．
５μｍ、特に好ましくは２．５〜７μｍである。支持体
と非磁性層また磁性層の間に密着性向上のための下塗り
層を設けてもかまわない。本下塗層厚みは０．０１〜
０．５μｍ、好ましくは０．０２〜０．５μｍである。
これらの下塗層は公知のものが使用できる。本発明の磁
気記録媒体の磁性層の厚みは、用いるヘッドの飽和磁化
量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域により最適化さ
れるものであるが、一般には０．０５μｍ〜０．５μｍ
であり、好ましくは０．０５μｍ〜０．３０μｍであ
る。磁性層を異なる磁気特性を有する２層以上に分離し
てもかまわず、公知の重層磁性層に関する構成が適用で
きる。

【００９２】本発明の磁気記録媒体の下層である非磁性
層の厚みは、０．２〜３．０μｍ、好ましくは０．３〜
２．５μｍ、更に好ましくは０．５〜２．０μｍであ
る。なお、本発明媒体の下層は実質的に非磁性であれば
その効果を発揮するものであり、たとえば不純物として
あるいは意図的に少量の磁性体を含んでも、本発明の効
果を示すものであり、本発明と実質的に同一の構成と見
なすことができることは言うまでもない。実質的に非磁
性とは下層の残留磁束密度が０．０５Ｔ以下もしくは抗
磁力が上層磁性層の〜４０％以下であることを示し、好
ましくは残留磁束密度と抗磁力がゼロである。

【００９３】本発明の磁気記録媒体の総厚みは、３〜１
０μｍの範囲が好ましく、３〜９μｍがさらに好まし
い。バック層の厚みは、０．２〜０．８μｍの範囲が好
ましく、０．２〜０．７μｍの範囲がさらに好ましい。
磁性層の厚みは、０．０５〜０．５μｍの範囲が好まし
く、０．０５〜０．３０μｍの範囲がさらに好ましい。
また、磁性層の光干渉式表面粗さ計で測定した中心面平
均表面粗さ（Ｒａ）は、好ましくは１〜３ｎｍであり、
更に好ましくは１〜２．５ｎｍの範囲である。

【００９４】〔支持体〕本発明に用いられる支持体は、
ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−ス
トリアセテート、ポリカ−ボネート、ポリアミド、ポリ
イミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、芳香族ポ
リアミド、ポリベンゾオキサゾ−ルなどの公知のフィル
ムが使用できる。ガラス転移温度が１００℃以上の支持
体がこのましく、ポリエチレンナフタレート、アラミド
などの高強度支持体を用いることが特に好ましい。また
必要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを変えるため
特開平３−２２４１２７号公報に示されるような積層タ
イプの支持体を用いることもできる。これらの支持体に
はあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、易接着処
理、熱処理、除塵処理、などを行ってもよい。

【００９５】本発明の目的を達成するには、支持体とし
て光干渉式表面粗さ計で測定した中心面平均表面粗さ
（ＳＲａ）は通常、５．０ｎｍ以下、好ましくは３．０
ｎｍ以下、さらに好ましくは２．０ｎｍ以下のものを使
用することが好ましい。これらの支持体は単に中心面平
均表面粗さが小さいだけではなく、０．５μｍ以上の粗
大突起がないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必
要に応じて支持体に添加されるフィラ−の大きさと量に
より自由にコントロ−ルされるものである。これらのフ
ィラートしては一例としてはＣａ、Ｓｉ、Ｔｉなどの酸
化物や炭酸塩の他、アクリル系などの有機粉末があげら
れる。支持体の最大高さＳＲｍａｘは１μｍ以下、十点
平均粗さＳＲｚは０．５μｍ以下、中心面山高さはＳＲ
ｐは０．５μｍ以下、中心面谷深さＳＲｖは０．５μｍ
以下、中心面面積率ＳＳｒは１０％以上、９０％以下、
平均波長Ｓλａは５μｍ以上、３００μｍ以下が好まし
い。所望の電磁変換特性と耐久性を得るため、これら支
持体の表面突起分布をフィラーにより任意にコントロー
ルできるものであり、０．０１μｍから１μｍの大きさ
のもの各々を０．１ｍｍ²あたり０個から２０００個の
範囲でコントロ−ルすることができる。

【００９６】本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好
ましくは４９〜４９０ＭＰａ、また、支持体の１００
℃、３０分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに
好ましくは１．５％以下、８０℃、３０分での熱収縮率
は好ましくは１％以下、さらに好ましくは０．５％以下
である。破断強度は４９〜９８０ＭＰａ、弾性率は９８
０〜１９６００ＭＰａ、が好ましい。温度膨張係数は１
０^-4〜１０^-8／℃であり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／
℃である。湿度膨張係数は１０^-4／ＲＨ％以下であり、
好ましくは１０^-5／ＲＨ％以下である。これらの熱特
性、寸法特性、機械強度特性は支持体の面内各方向に対
し１０％以内の差でほぼ等しいことが好ましい。

【００９７】〔製法〕本発明の磁気記録媒体の磁性塗料
を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、お
よびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程
からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれて
いてもかまわない。本発明に使用する磁性体、非磁性粉
末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止剤、
潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初または
途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を２つ
以上の工程で分割して添加してもかまわない。例えば、
ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度調整
のための混合工程で分割して投入してもよい。本発明の
目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を一部
の工程として用いることができる。混練工程ではオープ
ンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、エクストルーダな
ど強い混練力をもつものを使用することが好ましい。ニ
−ダを用いる場合は磁性体または非磁性粉末と結合剤の
すべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０質量％以
上が好ましい）および磁性体１００部に対し１５〜５０
０部の範囲で混練処理される。これらの混練処理の詳細
については特開平１−１０６３３８号、特開平１−７９
２７４号に記載されている。また、磁性層液および非磁
性層液を分散させるにはガラスビーズを用いることがで
きるが、高比重の分散メディアであるジルコニアビー
ズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適である。こ
れら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられ
る。分散機は公知のものを使用することができる。分散
速度がことなる磁性体、研磨剤、カーボンブラック等を
あらかじめ別々に分散し、混合し必要によりさらに微分
散して塗布液とすることができる。

【００９８】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９、特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１、特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。本発明の構成を実
現するには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性
層を設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、
本発明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠
陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させる
ためには、前述の同時重層塗布を用いることが好まし
い。

【００９９】カレンダー処理ロ−ルとしてエポキシ、ポ
リイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性の
あるプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで処理する
が、特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同志で処理
することが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以
上、さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好
ましくは２００Ｋｇ／ｃｍ（１９６ｋＮ／ｍ）以上、さ
らに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）以
上である。

【０１００】本発明の磁気記録媒体のヘッドに対する摩
擦係数は温度−１０℃〜４０℃、湿度０％〜９５％の範
囲において０．５以下、好ましくは０．３以下、表面固
有抵抗は好ましくは磁性面１０⁴〜１０¹²オ−ム／ｓ
ｑ、帯電位は−５００Ｖから＋５００Ｖ以内が好まし
い。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面内各方向で好
ましくは９８０〜１９６０ＭＰａ、破断強度は好ましく
は９８〜６８６ＭＰａ、磁気記録媒体の弾性率は面内各
方向で好ましくは９８０〜１４７００ＭＰａ、残留のび
は好ましくは０．５％以下、１００℃以下のあらゆる温
度での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好ましく
は０．５％以下、もっとも好ましくは０．１％以下であ
る。磁性層のガラス転移温度（１１０Ｈｚで測定した動
的粘弾性測定の損失弾性率の極大点）は５０℃以上１２
０℃以下が好ましく、下層非磁性層のそれは０℃〜１０
０℃が好ましい。損失弾性率は１×１０⁷〜８×１０⁸Ｎ
／ｍ²の範囲にあることが好ましく、損失正接は０．２
以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎると粘
着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特性は媒
体の面内各方向で１０％以内でほぼ等しいことが好まし
い。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１００ｍ
ｇ／ｍ²以下、さらに好ましくは１０ｍｇ／ｍ²以下であ
る。塗布層が有する空隙率は非磁性層、磁性層とも好ま
しくは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以
下である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が
好ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い
場合がある。

【０１０１】磁性層を光干渉式表面粗さ計で測定した中
心面平均表面粗さ（Ｒａ）は、好ましくは１〜３ｎｍ、
さらに好ましくは２．２ｎｍ以下である。磁性層の最大
高さＲｍａｘは０．５μｍ以下、十点平均粗さＲｚは
０．３μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．３μｍ以下、
中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、中心面面積率Ｓｒ
は２０〜８０％以下、平均波長λａは５〜３００μｍ以
下が好ましい。磁性層の表面突起は０．０１μｍ〜１μ
ｍの大きさのものを０〜２０００個の範囲で任意に設定
することが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦
係数を最適化することが好ましい。これらは支持体のフ
ィラ−による表面性のコントロ−ルや磁性層に添加する
粉体の粒径と量、カレンダー処理のロ−ル表面形状など
で容易にコントロ−ルすることができる。カールは±３
ｍｍ以内とすることが好ましい。

【０１０２】本発明の磁気記録媒体で非磁性層と磁性層
を有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの
物理特性を変えることができるのは容易に推定されるこ
とである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性
を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。

【０１０３】なお、本明細書において、平均粒子径とは
一次粒子の円相当径の平均を意味する。一次粒子とは、
凝集のない独立した１個の粉体であって、粉体形状が球
形、多面体状、不特定形等であって、かつ形状から粉体
を構成する長軸を特定できない場合を意味し、円相当径
とは、円投影法で求められるものを言う。前述のカーボ
ンブラックの平均粒子径についても上記と同様である。

【０１０４】本明細書において、カーボンブラックや強
磁性粉末のように種々の粉体のサイズ（以下、「粉体サ
イズ」と言う）は、高分解能透過型電子顕微鏡写真より
求められる。即ち、粉体サイズは、粉体の形状が針
状、紡錘状、柱状（ただし、高さが底面の最大長径より
大きい）等の場合は、粉体を構成する長軸の長さ、即ち
長軸長で表され、粉体の形状が板状乃至柱状（ただ
し、厚さ乃至高さが板面乃至底面の最大長径より小さ
い）場合は、その板面乃至底面の最大長径で表され、
改質炭素質粉粒体のように粉体の形状が球形、多面体
状、不特定形等であって、かつ形状から粉体を構成する
長軸を特定できない場合は、円相当径で表される。

【０１０５】また、該粉体の平均粉体サイズは、上記粉
体サイズの算術平均であり、約５００個の粉体について
上記の如く測定を実施して求めたものである。また、該
粉体の平均針状比は、上記測定において粉体の短軸の長
さ、即ち短軸長を測定し、各粉体の（長軸長／短軸長）
の値の算術平均を指す。ここで、短軸長とは、上記粉体
サイズの定義での場合は、粉体を構成する短軸の長さ
を、同じくの場合は、厚さ乃至高さを各々指し、の
場合は、長軸と短軸の区別がないから、（長軸長／短軸
長）は、便宜上１とみなす。

【０１０６】そして、粉体の形状が特定の場合、例え
ば、上記粉体サイズの定義の場合は、平均粉体サイズ
を平均長軸長と言い、同定義の場合は平均粉体サイズ
を平均板径と言い、（最大長径／厚さ乃至高さ）の算術
平均を平均板状比という。同定義の場合は平均粉体サ
イズを平均粒子径という。

【０１０７】

【実施例】以下、実施例により本発明を詳細に説明する
が、本発明はこれら実施例に限定されて解釈されない。
実施例、比較例で用いたカーボンブラックの種類を表１
に示す。

【０１０８】

【表１】

【０１０９】 実施例１ ＜磁性層用塗料組成＞ ・強磁性金属微粉末 １００部 Ｃｏ／Ｆｅ＝３０原子％、Ａｌ／Ｆｅ＝８原子％、Ｙ／Ｆｅ＝６原子％、 Ｈｃ：１８７ｋＡ／ｍ（２３５０Ｏｅ）、比表面積５５ｍ²／ｇ、 σｓ：１４０Ａ・ｍ²／ｋｇ、結晶子サイズ：１４０Å、 平均長軸長：０．０６８μｍ、平均針状比：６、表面酸化膜厚２５Å ・塩化ビニル重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ・ポリウレタン樹脂Ａ ４部 ・αアルミナ（平均粒子径：０．１５μｍ） ５部 ・カーボンブラック（平均粒子径：４０ｎｍ） ５部 ・フェニルホスホン酸 ３部 ・ブチルステアレート ５部 ・ステアリン酸 ６部 ・メチルエチルケトン １８０部 ・シクロヘキサノン １８０部

【０１１０】 ＜非磁性層用塗料組成＞ ・非磁性粉末 α−Ｆｅ₂Ｏ₃ ８０部 平均長軸長：０．１２μｍ、ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ²／ｇ ｐＨ：９、表面層のアルミ化合物（Ａｌ₂Ｏ₃として１質量％） ・α−アルミナ（平均粒子径：０．１５μｍ） ７部 ・カーボンブラック ２０部 （三菱化学社製＃９５０、平均粒子径：１６ｎｍ） ・塩化ビニル重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン製） １２部 ・ポリウレタン樹脂Ａ ５部 ・フェニルホスホン酸 ２部 ・ブチルステアレート ６部 ・ステアリン酸 ５部 ・メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（７／３混合溶剤） ２５０部

【０１１１】上記ポリウレタン樹脂Ａは、以下により合
成した。還流冷却器、攪拌機を具備し、予め窒素置換し
た容器に水添ビスフェノールＡ、ビスフェノールＡのプ
ロピレンオキシド付加物（分子量７００）、ポリプロピ
レングリコール（分子量４００）及びビス（２−ヒドロ
キシエチル）スルホイソフタレートのナトリウム塩を各
々モル比で２４：１４：１０：２でシクロヘキサノンと
ジメチルアセトアミドを５０：５０の質量比で含む混合
溶媒に溶解し、窒素気流下で６０℃で溶解した。触媒と
してジ−ｎ−ジブチルスズジラウレートを使用した原料
の総量に対して６０ｐｐｍ加えた。ＭＤＩ（４，４−ジ
フェニルメタンジジイソシアネート）をジオールの総和
と等モル加え９０℃にて６時間加熱反応し、エーテル基
を４．０ミリモル／ｇ含有し、かつ−ＳＯ₃Ｎａ基が８
×１０^-5等量／ｇ導入されたＭｗ４５０００でＭｎ２５
０００のポリウレタン樹脂Ａを得た。

【０１１２】 ＜バック層形成用塗布液組成（１）＞ ・微粒子状カーボンブラック粉末 １００部 （キャボット社製、ＭＯＮＡＲＣＨ ８００、平均粒子径：１７ｎｍ） ・粗粒子状カーボンブラック粉末 ５部 （カーンカルブ社製、サーマックスＭＴ、平均粒子径：２７０ｎｍ） ・旭化成社製、セルノバＢＴＨ１／２ １５７部 （メチルイソブチルケトンとトルエンで湿潤したニトロセルロース；メチルイソ ブチルケトン１０％、トルエン２０％、ニトロセルロース７０％） ・ポリウレタン樹脂 ２６部 ・ポリイソシアネート（日本ポリウレタン社製、コロネートＬ） ２６部 ・ポリエステル樹脂 ４部 ・分散剤（表２参照） ４部 ・メチルエチルケトン １３００部 ・トルエン ７００部

【０１１３】上記磁性層用塗料組成のうち、粉体、ポリ
塩化ビニル、フェニルホスホン酸と処方量の５０％の各
溶剤をニーダで混練したのち、ポリウレタン樹脂と残り
の成分を加えてサンドグラインダーで分散した。得られ
た分散液にポリイソシアネートを１４部を加え、さらに
シクロヘキサノン３０部を加え、１μｍの平均孔径を有
するフィルターを用いて濾過し、磁性層形成用の塗布液
を調製した。

【０１１４】上記非磁性層用塗料組成のうち、金属酸化
物、カーボンブラック、ポリ塩化ビニル、フェニルホス
ホン酸と処方量の５０％の各溶剤をニーダで混練したの
ち、ポリウレタン樹脂と残りの各溶剤を加えてサンドグ
ラインダーで分散した。得られた分散液をディスパーで
混合後、サンドグラインダーで分散した。得られた分散
液にポリイソシアネートを１５部、さらにシクロヘキサ
ノン３０部を加え、１μｍの平均孔径を有するフィルタ
ーを用いて濾過し、非磁性層形成用の塗布液を調製し
た。

【０１１５】＜バック層のカーボンブラックの分散とバ
ック塗布液の調製＞ （バック分散液ａ）バック層用塗料について、微粒子カ
ーボンブラックの全量と、９５％の処方量の分散剤とセ
ルノバ ＢＴＨ １／２ 、及び処方量の４７．５％の
各溶剤を加えて、ディスパーで攪拌後、サンドグライン
ダーでジルコニアビーズ（φ０．３ｍｍ）を用いて６ｈ
ｒ分散した。次いで、処方量の３８％のポリウレタン樹
脂を加えてディスパーで攪拌後、サンドグラインダーで
ジルコニアビーズ（φ０．３ｍｍ）を用いて２ｈｒ分散
した。 （バック分散液ｂ）粗粒子カーボンブラックの全量と、
５％の処方量の分散剤とセルノバ ＢＴＨ１／２、及び
処方量の２．５％の各溶剤を加えて、ディスパーで攪拌
後、サンドグラインダーでジルコニアビーズ（φ０．３
ｍｍ）を用いて６ｈｒ分散した。次いで、処方量の４％
のポリウレタン樹脂を加えてディスパーで攪拌後、サン
ドグラインダーでジルコニアビーズ（φ０．３ｍｍ）を
用いて２ｈｒ分散した。

【０１１６】上記バック分散液ａ，ｂをディスパーで混
合攪拌し、サンドグラインダーで３０分分散後、更に硬
化剤であるポリイソシアネートと残りの各溶剤を加え
て、ディスパーで混合攪拌しバック層用分散液とした。
得られた分散液をディスパーで混合後、１μｍの平均孔
径を有するフィルターを用いて濾過し、バック層形成用
塗布液を調製した。

【０１１７】＜磁気テープの作製＞得られた非磁性層形
成用塗布液を、乾燥後の下層の厚さが１．７μｍになる
ように、さらにその直後にその上に磁性塗料１の塗布液
を磁性層の厚さが０．２０μｍとなるように、厚さ５．
５μｍで中心面平均表面粗さが２ｎｍのアラミドベース
（支持体）上に同時重層塗布を行い、両層がまだ湿潤状
態にあるうちに４８０ｋＡ／ｍ（６０００Ｏｅ）の磁力
を持つサマリウムコバルト磁石と４８０ｋＡ／ｍ（６０
００Ｏｅ）の磁力を持つソレノイドにより配向、乾燥さ
せた。その後、バック層形成用塗布液（１）を厚み０．
４μｍとなるように塗布した。次に、金属ロ−ルのみか
ら構成される７段のカレンダ−で温度９５℃にて分速１
５０ｍ／ｍｉｎ．で処理を行い、熱処理を施した。次い
で、得られた塗布物を３．８ｍｍ幅にスリットし、磁性
層を表面研磨処理を施した後、ＤＤＳカートリッジに組
み込んでサンプル（磁気テープ）とした。

【０１１８】実施例２ バック層の分散剤の添加量を微粒子カーボンブラックに
対して１０質量％に変更した以外は実施例１と同様に試
料を作成した。 実施例３ バック層の分散剤を表２に示す種類に変更した以外は実
施例１と同様に試料を作成した。 実施例４ バック層の粗粒子カーボンブラックを添加しなかった以
外は実施例１と同様に試料を作成した。

【０１１９】実施例５、６ バック層の無機質粉末（ヘマタイトまたはアルミナ）の
分散方法とバック塗布液調製法 （バック分散液ｃ）下記無機質粉末（ヘマタイトまたは
アルミナ）全量と、バック層形成用塗布液組成（１）の
処方量の５％のポリウレタン樹脂と処方量の１０％の各
溶剤を加えて、ディスパーで攪拌後、サンドグラインダ
ーでジルコニアビーズ（φ０．３ｍｍ）を用いて３ｈｒ
分散した。無機質粉末は下記のものを選択し使用した。 ヘマタイト １５部 （戸田工業（株）製、ＴＦ１００、平均粒子径：１１０ｎｍ、モース硬度： ５．５） α−アルミナ １５部 （住友化学工業（株）製、ＨＩＴ６０Ａ、平均粒子径：０．１７μｍ、モー ス硬度：９） 実施例１のバック分散液ａ，ｂ及び上記バック分散液ｃ
をディスパーで混合攪拌し、サンドグラインダーで３０
分分散後、更にバック分散液ａ及びｂを含む前記バック
層形成用塗布液組成（１）の残りのポリウレタン樹脂、
ポリエステル樹脂、硬化剤及び残りの各溶剤を加えてデ
ィスパーで混合攪拌し、バック層用分散液とした。無機
質粉末を表３に示す種類を添加し上記分散方法で分散し
た以外は実施例１と同様に試料を作成した。

【０１２０】実施例７ ＺｒＯ₂ビーズの直径をφ１．０ｍｍに変更した以外は
実施例１と同様に試料を作成した。 実施例８ 微粒子カーボンブラックの種類を変更してＲＡＶＥＮ
２５００ Ｕｌｔｒａとし、且つＺｒＯ₂ビーズの直径
をφ１．０ｍｍに変更した以外は実施例１と同様に試料
を作成した。 実施例９ 微粒子カーボンブラックの種類をＲＡＶＥＮ ５５００
Ｕｌｔｒａ（III）に変更した以外は実施例１と同様
に試料を作成した。

【０１２１】比較例１ 実施例１のバック層に分散剤を添加せず、分散でのＺｒ
Ｏ₂ビーズ直径φ０．３ｍｍをガラスビーズ直径φ２ｍ
ｍに変更した以外は実施例１と同様に作成した。 比較例２ 実施例１のバック層の分散剤を変更して、Ｋ−ＳＰＥＲ
ＳＥ １５２（ジノニルナフタレンスルホン酸のＺｎ
塩；ＫＩＮＧ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ ｓｐｅｃｉａｌ
ｔｙ Ｃｈｅｍｉｃａｌｓ社製）を添加し、分散でのＺ
ｉＯ₂ビーズ直径φ１．０ｍｍに変更した以外は実施例
１と同様に作成した。上記得られた試料の磁性層の磁気
特性、磁性層とバック層のＲａを測定した。さらに４．
７ＭＨｚ再生出力、Ｃ／Ｎ、２３℃、６０％での摩擦係
数、ガイドポ―ル（ガイドピン）の汚れ、ヘッド汚れを
下記の方法で測定し、結果を表２及び３に示した。

【０１２２】（１）磁気特性（Ｈｃ、ＳＱ、Ｂｍ） 振動試料型磁力計（東英工業社製）を用い、Ｈｍ：８０
０ｋＡ／ｍ（１０ｋＯｅ）で測定した。Ｂｍとは磁束密
度で磁気記録媒体の単位体積当たりの磁気モーメントで
ある。ＳＱは、角形比を指す。 （２）中心面平均表面粗さ（Ｒａ） ＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ３Ｄを用いて、約２５０×２５０
μｍの面積のＲａ値を測定した。測定波長約６５０ｎｍ
にて球面補正、円筒補正を加えている。本装置は光干渉
にて測定する非接触表面粗さ計である。 （３）４．７ＭＨｚ再生出力 ＤＤＳドライブにて、４．７ＭＨｚの単一周波数信号を
最適記録電流にて記録し、その再生出力を測定した。出
力値は、比較例１の再生出力を０ｄＢとして相対値で示
した。 （４）４．７ＭＨｚ Ｃ／Ｎ ＤＤＳドライブにて、４．７ＭＨｚの単一周波数信号を
最適記録電流にて記録し、その再生出力と４．７ＭＨｚ
から±１ＭＨｚ離れたノイズレベルを平均し算出した。
比較例１のＣ／Ｎを０ｄＢとして相対値で示した。

【０１２３】（５）２３℃、６０％ＲＨ環境下での磁性
層面の１パス目の摩擦係数（μ値）、及び１００パス目
の摩擦係数（μ（Ｎ）値） ＤＤＳドライブで使用されている磁性層面面タッチのガ
イドポールに対して、磁気テープの磁性層面を接触させ
て荷重２０ｇ（Ｔ１）をかけ、１４ｍｍ／秒の速度にな
るように張力（Ｔ２）をかけ引っ張り、Ｔ２／Ｔ１より
ガイドポールに対する磁性層面の摩擦係数μ（Ｎ）をオ
イラーの式に基づいて求めた。 μ＝（１／π）ｌｎ（Ｔ２／Ｔ１） 測定は繰り返し１００パスまで行い、１パス目の摩擦係
数μ１と１００パス目の摩擦係数μ１００を求めた。 （６）バック層面の１パス目の摩擦係数（μ値）、及び
５００パス目の摩擦係数（μ値） ４ｍｍφのＳＵＳ４２０Ｊに１８０度の角度でテープを
渡し、荷重１０ｇ、秒速１８ｍｍで摺動させて、オイラ
ーの式に基づいて摩擦係数を求めた。 μ＝（１／π）ｌｎ（Ｔ２／１０） Ｔ２は摺動抵抗値
（ｇ）。 測定は繰り返し５００パスまで行い、１パス目の摩擦係
数μ１と５００パス目の摩擦係数μ５００を求めた。 （７）ガイドポールの汚れ ＤＤＳドライブでカートリッジを５巻走行後のバック面
タッチのガイドポールの汚れを評価した。即ち、５巻走
行後のガイドポールの汚れを目視観察し、ティシュで拭
き取りその汚れを官能評価した。評価は５段階とし、１
が汚れは少、数字が多いほうが汚れが多く、最も汚れが
多い場合を５とした。 （８）ヘッド表面の汚れ ＤＤＳドライブでカートリッジを５巻走行後のヘッド表
面の汚れを評価した。即ち、５巻走行後のヘッド表面の
汚れを顕微鏡で観察し、かつティシュで拭き取りその汚
れを官能評価した。評価は５段階とし、１が汚れは少、
数字が多いほうが汚れが多く、最も汚れが多い場合を５
とした。 （９）光沢（鏡面反射率） カセット式デジタル光沢計 型式ＧＫ−４５Ｄ（スガ試
験機株式会社製）光沢計によりバック層塗膜の４５°、
−４５°反射率を測定した。

【０１２４】

【表２】

【０１２５】

【表３】

【０１２６】上記表２及び３の結果から，実施例は比較
例に対して、バック層の表面粗さ（Ｒａ）が小さく、光
沢も高く、平滑で、且つガイドポールの汚れ、ヘッド汚
れも少なく優れている。また初期の走行摩擦係数の値も
同等で且つ、繰り返し走行での摩擦係数の変化が安定し
ている。バック層が、（Ａ）カーボンブラック、（Ｂ）
芳香族炭化水素化合物、ケトン化合物、及びエーテル化
合物のいずれかの化合物で湿潤したニトロセルロース
と、（Ｃ）特定の分散剤と、（Ｄ）硬化剤から調製され
た塗料を塗布してなることで、カーボンブラックの表面
酸性基と分散剤及び結合剤との親和力が高まり、ビヒク
ルとの分散性及び安定性が向上し、硬化剤による適度な
架橋の相乗効果により、塗膜強度が向上し、カーボンブ
ラック等の粒子の脱落を防止でき、平滑で、ガイドポー
ルの汚れとヘッド汚れを低減できたと考えられる。

【０１２７】

【発明の効果】本発明の磁気記録媒体は、バック層の表
面粗さ（Ｒａ）が小さく平滑であり、走行摩擦係数が小
さく、繰り返し走行での摩擦係数の変化及び出力が安定
しており、しかもガイドピンの汚れやヘッド汚れが少な
く、磁気テープとして好適に用いることができる。さら
に、本発明の磁気記録媒体は、平滑で汚れが少ないこと
から、従来のインダクティブヘッドのみならず、粒子脱
落等によるＤＯも少ないので、よりノイズが重要なＭＲ
ヘッドにも好適に用いられる。

Claims (1)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】支持体、その一方の面側に設けられた磁性
   層、そして他方の面側に設けられたバック層からなる磁
   気記録媒体において、該バック層が、（Ａ）カーボンブ
   ラック、（Ｂ）芳香族炭化水素化合物、ケトン化合物、
   及びエーテル化合物のいずれかの化合物で湿潤したニト
   ロセルロースと、（Ｃ）下記一般式（Ｉ）で示される分
   散剤と、（Ｄ）硬化剤から調製されたバック層塗料を塗
   布してなることを特徴とする磁気記録媒体。 一般式（Ｉ） Ａ−Ｎ＝Ｎ−Ｘ−Ｙ （一般式（Ｉ）中、Ａは、Ｘ−Ｙとともにアゾ色素を形
   成しうる成分を表す。Ｘは、下記構造式で表される二価
   の連結基から選択される基を表す。Ｙは、下記一般式
   （ＩＩ）で表される基を表す。） 【化１】 【化２】 （一般式（ＩＩ）中、Ｚは、低級アルキレン基を表す。
   −ＮＲ₂は、低級アルキルアミノ基、又は窒素原子を含
   む５乃至６員飽和ヘテロ環を表す。ａは、１又は２を表
   す。）