JPH1125442A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】電磁変換特性、特に高密度記録特性が格段に改
良されかつ優れた耐久性を併せ持ち、かつ高密度記録領
域でのエラーレートが格段に改良された磁気記録媒体を
提供すること。 【解決手段】支持体上に実質的に非磁性である下層と強
磁性金属微粉末または強磁性六方晶フェライト微粉末を
結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に設けた磁気記
録媒体において、前記磁気記録媒体の面記録密度が０．
２〜２Ｇbit/inch ² であり、前記磁性層の乾燥厚みが
０．０５〜０．２５μｍであり、且つΦｍが８．０×１
０^-3〜１．０×１０^-3emu/cm² であり、前記磁性層の抗
磁力が１８００Ｏｅ以上であり、かつ前記磁性層の表面
粗さの１０〜２μｍの長波長の空間周波数強度（Ｉ_L）
と前記磁性層の表面粗さの１〜０．５μｍの短波長の空
間周波数強度（Ｉ_s）の比（Ｉ_L／Ｉ_s）が1.5よりも小さ
いことを特徴とする磁気記録媒体。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は塗布型の高記録密度
の磁気記録媒体に関する。特に磁性層と実質的に非磁性
の下層を有し、最上層に強磁性金属微粉末または六方晶
フェライト微粉末を含む高密度記録用の磁気記録媒体に
関するものである。

【０００２】

【従来の技術】磁気ディスクの分野において、Ｃｏ変性
酸化鉄を用いた２ＭＢのＭＦ−２ＨＤフロッピーディス
クがパーソナルコンピュータに標準搭載されようになっ
た。しかし扱うデータ容量が急激に増加している今日に
おいて、その容量は十分とは言えなくなり、フロッピー
ディスクの大容量化が望まれていた。

【０００３】従来、磁気記録媒体には酸化鉄、Ｃｏ変性
酸化鉄、ＣｒＯ₂ 、強磁性金属粉末、六方晶系フェライ
ト粉末を結合剤中に分散した磁性層を支持体に塗設した
ものが広く用いられる。この中でも強磁性金属微粉末と
六方晶系フェライト微粉末は高密度記録特性に優れてい
ることが知られている。ディスクの場合、高密度記録特
性に優れる強磁性金属微粉末を用いた大容量ディスクと
しては１０ＭＢのＭＦ−２ＴＤ、２１ＭＢのＭＦ−２Ｓ
Ｄまたは六方晶フェライトを用いた大容量ディスクとし
ては４ＭＢのＭＦ−２ＥＤ、２１ＭＢフロプティカルな
どがあるが、容量、性能的に十分とは言えなかった。こ
のような状況に対し、高密度記録特性を向上させる試み
が多くなされている。以下にその例を示す。

【０００４】ディスク状磁気記録媒体の特性を向上させ
るために、特開昭６４−８４４１８には酸性基とエポキ
シ基と水酸基を有する塩化ビニル樹脂を用いることが提
案され、特公平３−１２３７４にはＨｃ１０００Oe以
上、比表面積２５〜７０m²/gの金属微粉末を用いること
が提案され、特公平６ー２８１０６には磁性体の比表面
積と磁化量を定め、研磨剤を含ませることが提案されて
いる。

【０００５】ディスク状磁気記録媒体の耐久性を改善さ
せるために、特公平７−８５３０４には不飽和脂肪酸エ
ステルとエーテル結合を有する脂肪酸エステルを用いる
ことが提案され、特公平７ー７００４５には分岐脂肪酸
エステルとエーテル結合を有する脂肪酸エステルを用い
ることが提案され、特開昭５４−１２４７１６にはモー
ス硬度６以上の非磁性粉末と高級脂肪酸エステルを含ま
せることが提案され、特公平７−８９４０７には潤滑剤
を含む空孔の体積と表面粗さを０．００５〜０．０２５
μmとすることが提案され、特開昭６１−２９４６３７
には低融点と高融点の脂肪酸エステルを用いることが提
案され、特公平７ー３６２１６には磁性層厚みに対し１
／４〜３／４の粒径の研磨剤と低融点の脂肪酸エステル
を用いることが提案され、特開平３−２０３０１８には
Ａｌを含むメタル磁性体と酸化クロム用いることが提案
されている。

【０００６】非磁性の下層や中間層を有するディスク状
磁気記録媒体の構成として、特開平３ー１２０６１３に
は導電層と金属微粉末を含む磁性層を有する構成が提案
され、特開平６−２９０４４６には１μm以下の磁性層
と非磁性層を有する構成が提案され、特開昭６２−１５
９３３７にはカーボン中間層と潤滑剤を含む磁性層から
なる構成が提案され、特開平５−２９０３５８にはカー
ボンサイズを規定した非磁性層を有する構成が提案され
ている。

【０００７】一方、最近になり薄層磁性層と機能性非磁
性層からなるディスク状磁気記録媒体が開発され、１０
０ＭＢクラスのフロッピーディスクが登場している。こ
れらの特徴を示すものとして、特開平５−１０９０６１
にはＨｃが１４００Oe以上で厚さ０．５μm以下の磁性
層と導電性粒子を含む非磁性層を有する構成が提案さ
れ、特開平５−１９７９４６には磁性層厚より大きい研
磨剤を含む構成が提案され、特開平５−２９０３５４に
は磁性層厚が０．５μm以下で、磁性層厚の厚み変動を
±１５％以内とし、表面電気抵抗を規定した構成が、特
開平６−６８４５３には粒径の異なる２種の研磨剤を含
ませ、表面の研磨剤量を規定した構成が提案されてい
る。

【０００８】磁性層の厚み損失による再生出力の低下を
改良するために、磁性層を薄層化することが知られてお
り、例えば、特開平５ー１８２１７８号公報には支持体
上に無機質粉末を含み、結合剤に分散してなる下層非磁
性層と該非磁性層が湿潤状態にある内に強磁性粉末を結
合剤に分散してなる１．０μｍ以下の厚みの上層磁性層
を設けた磁気記録媒体が開示されている。

【０００９】しかしながら、急速なディスク状やテープ
状の磁気記録媒体の大容量化、高密度化にともない、こ
のような技術をもってしても満足な特性を得ることが難
しくなってきていた。また耐久性と両立させることも困
難な状況になってきている。

【００１０】

【発明が解決しようとする課題】本発明は電磁変換特
性、特に高密度記録特性が格段に改良されかつ優れた耐
久性を併せ持ち、かつ高密度記録領域でのエラーレート
が格段に改良された磁気記録媒体を提供することを目的
としている。特に記録容量が０．２〜２Ｇbit/inch ² 、
特に好ましくは０．３５〜２Ｇbit/inch² という大容量
のディスク状磁気記録媒体を提供することを目的として
いる。

【００１１】

【課題を解決するための手段】本発明者らは特に高密度
記録領域でのエラーレート、電磁変換特性と耐久性が格
段に改良された磁気記録媒体を得るために鋭意検討した
結果、以下のような媒体とすることで、本発明の目的で
ある優れた高密度記録特性と優れた耐久性が得られるこ
とを見いだし、本発明に至ったものである。

【００１２】すなわち、本発明は支持体上に実質的に非
磁性である下層と強磁性金属微粉末または強磁性六方晶
フェライト微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこ
の順に設けた磁気記録媒体において、前記磁気記録媒体
の面記録密度が０．２〜２Ｇbit/inch² であり、前記磁
性層の乾燥厚みが０．０５〜０．２５μｍであり、且つ
Φｍが８．０×１０^-3〜１．０×１０^-3emu/cm² であ
り、前記磁性層の抗磁力が１８００Ｏｅ以上であり、か
つ前記磁性層の表面粗さの１０〜２μｍの長波長の空間
周波数強度（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗さの１〜０．
５μｍの短波長の空間周波数強度（Ｉ_s）の比（Ｉ_L／Ｉ
_s）が1.5よりも小さいことを特徴とする磁気記録媒体と
することで、従来の技術では得ることができなかった優
れた高密度特性と優れた耐久性を併せ持ち高密度記録領
域でのエラーレートが格段に改良された磁磁気記録媒体
を得ることができることを見いだしたものである。

【００１３】ここで実質的に非磁性である下層とは記録
に関与しない程度に磁性を持っていても良いという意味
であり、以降単に下層ともいう。また、面記録密度と
は、線記録密度とトラック密度を掛け合わせたものであ
る。Φｍとは磁気記録媒体の単位面積当たりの磁化量で
ある。Ｂｍ（ガウス）と厚みを掛け合わせたものであ
り、これは振動試料型磁束計（東英工業社製）を用い、
Ｈｍ１０ｋＯｅで測定した値で、直接測定できる値であ
る。

【００１４】線記録密度とは記録方向１インチ当たりに
記録する信号のビット数である。これら線記録密度、ト
ラック密度、面記録密度はシステムによって決まる値で
ある。また磁性層の表面粗さの１０〜２μｍの長波長の
空間周波数強度（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗さの１〜
０．５μｍの短波長の空間周波数強度（Ｉ_s）とは、磁
性層の表面粗さプロファイルデータに２次元のフーリエ
変換処理を施し、各波長ごとの粗さ成分を分解した後、
該当する波長成分の範囲を積分して得られる強度のこと
である。これらは原子間力顕微鏡（AFM）（米国デジタ
ルインスツルメンツ社製）を用い、100μｍ×100μｍの
範囲を512X512画素のデータとして取り込み、算出した
値である。

【００１５】即ち本発明は面記録密度の向上に対しては
線記録密度の点で磁性層厚み、磁性層Ｈｃ、表面粗さで
改良を図り、トラック密度の点でΦｍの最適化を図った
ものである。

【００１６】本発明の好ましい態様は次の通りである。 （１） 前記磁性層の乾燥厚みが０．０５〜０．２０μ
ｍであり、かつ前記磁性層中に平均粒子サイズが０．４
μｍ以下の研磨剤を含むことを特徴とする磁気記録媒
体。 （２）前記面記録密度が０．３５〜２Ｇbit/inch² であ
ることを特徴とする磁気記録媒体。 （３） 前記磁気記録媒体の前記面記録密度が０．３５
〜２Ｇbit/inch² であり、かつ前記下層にモース硬度４
以上の無機粉末を含むことを特徴とする磁気記録媒体。 （４）前記磁性層の抗磁力が２０００Ｏｅ以上であるこ
とを特徴とする磁気記録媒体。 （５）前記磁性層の表面粗さの１０〜２μｍの長波長の
空間周波数強度（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗さの１〜
０．５μｍの短波長の空間周波数強度（Ｉ_s）の比（Ｉ_L
／Ｉ_s）が0.5≦Ｉ_L／Ｉ_s≦1.3であることを特徴とする
磁気記録媒体。 （６）前記磁気記録媒体がディスクであることを特徴と
する磁気記録媒体。

【００１７】本発明は、上記構成とすることにより、従
来の技術では得ることができなかった面記録密度が０．
２〜２Ｇbit/inch² 更には面記録密度が０．３５〜２Ｇ
bit/inch² である磁気記録媒体であって、優れた高密度
特性と優れた耐久性を併せ持ち、高密度領域でのエラー
レートが顕著に改良された磁気記録媒体、特にディスク
状磁気記録媒体を得ることができることを見いだしたも
のである。

【００１８】即ち従来の磁気記録媒体、特にフロッピ−
ディスクは磁性層の表面粗さの１０〜２μｍの長波長の
空間周波数強度（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗さの１〜
０．５μｍの短波長の空間周波数強度（Ｉ_s）の比（Ｉ_L
／Ｉ_s）が1.5よりも大きいのが普通であった。このこと
は、従来の磁性層表面はうねりが微小突起にくらべて、
はるかに大きかった。このうねり成分により電磁変換特
性や耐久性が決まっていたと考えることができる。

【００１９】しかしながら本発明では（Ｉ_L／Ｉ_s）が1.
5よりも小さい。本発明は、このような表面性の磁性層
を有した磁気記録媒体とすることにより、優れた高密度
特性と優れた耐久性を併せ持ち、高密度領域でのエラー
レートが顕著に改良された磁気記録媒体が得られること
がわかった。尚、後述されるようにＲａで定義される粗
さは、波長（うねりや突起の分布に強く相関する）を特
に限定せず、特定範囲での平均的粗さを数値化したもの
であり、本発明の範囲はこの波長を明確に定義すること
で、単なる平均値で管理するのではなく、うねりを抑制
し、突起の分布を特定化して走行耐久性を確保すること
を狙ったものである。従って、Ｒａ値が同じでも、うね
り成分が大きいものは本発明の効果は得られず、上記比
（Ｉ_L／Ｉ_s）を満足するようにうねり成分をある程度小
さくすると本発明の効果が発揮されるのである。

【００２０】前述したようにＩ_LとＩ_sは、磁性層の表面
粗さプロファイルデータに２次元のフーリエ変換処理を
施し、各波長ごとの粗さ成分を分解した後、該当する波
長成分の範囲を積分して得られる強度のことであるか
ら、本発明では従来に比べて長波長成分が大幅に減少
し、むしろ短波長成分の方が多いのである。本発明にお
いて、磁性層の表面性を上記（Ｉ_L／Ｉ_s）を１．５より
小とするための手段としては、詳細は後述されるよう
に、特に非常に平滑な支持体を用いることが有効である
が、下層及び上層に含まれる各種粉体の形状・サイズを
制御すること、塗布条件（Ｗ／ＷかＷ／Ｄ）及び塗布後
の配向条件の組み合わせを適宜選定すること、あるいは
カレンダー処理、バーニッシュ処理などの表面処理条件
を適宜選定する等の手段等が挙げられる。

【００２１】本発明において、（Ｉ_L／Ｉ_s）は、好まし
くは0.5≦Ｉ_L／Ｉ_s≦1.3、更に好ましくは0.8≦Ｉ_L／Ｉ
_s≦1.1の範囲である。本発明は、面記録密度が０．２〜
２Ｇbit/inch² というかつて塗布型の磁気記録媒体では
世の中に知られた製品では達成されたことのない面記録
密度を有する磁気記録媒体を前提とするものであり、上
記（Ｉ_L／Ｉ_s）の達成手段と一部重複するが、以下のよ
うなポイントを有機的に結合した結果である。

【００２２】該ポイントは高Ｈｃ、超平滑化、複合
潤滑剤や高耐久性結合剤、強磁性粉末の改良による耐久
性確保、磁性層の超薄層化と下層との界面の変動減、
粉体（強磁性粉末、非磁性粉末）の高充填化、粉体
（強磁性粉末、非磁性粉末）の超微粒子化、ヘッドタ
ッチの安定化、寸法安定性とサーボ、磁性層、支持
体の熱収縮率改良、高温、低温での潤滑剤の作用、等
が挙げられる。

【００２３】マルチメデイア化が進むパソコンの分野で
はこれまでのフロッピーディスクに代わる大容量の記録
メデイアが注目され始め、米国ＩＯＭＥＧＡ（アイオメ
ガ）社からＺＩＰディスク（面記録密度：９６Ｍbit/in
ch² ）として販売された。これは本件出願人が開発した
ＡＴＯＭＭ（Ａｄｖａｎｃｅｄ Ｓｕｐｅｒ Ｔｈｉｎ
Ｌａｙｅｒ ＆ Ｈｉｇｈ Ｏｕｔｐｕｔ Ｍｅｔａ
ｌ Ｍｅｄｉａ Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ）を用いた下層
と薄層磁性層を有する記録媒体であり、3.7インチで１
００ＭＢ以上の記録容量を持った製品が販売されてい
る。１００〜１２０ＭＢの容量はＭＯ（3.5インチ）と
ほぼ同じ容量であり、１枚で新聞記事なら７〜８月分収
まるものである。データ（情報）の書き込み・読み出し
時間を示す転送レートは、１秒当たり２ＭＢ以上とハー
ドディスク並であり、これまでのＦＤの２０倍、ＭＯの
２倍以上の早さを有し非常に大きな利点を持つ。さらに
下層と薄層磁性層を有するこの記録媒体は現在のＦＤと
同じ塗布型メデイアで大量生産が可能であり、ＭＯやハ
ードディスクに比べて低価格で有るというメリットを有
する。

【００２４】本発明者らは、この様な媒体の知見をもと
に鋭意研究を行った結果、前記ＺＩＰディスクやＭＯ
（3.5インチ）よりも格段に記録容量の大きい面記録密
度が０．２〜２Ｇbit/inch² 更には面記録密度が０．３
５〜２Ｇbit/inch² というかって世の中に知られた製品
では達成されたことのない高密度特性と優れた耐久性を
併せ持ち、高密度記録領域でのエラーレートが格段に改
良された磁気記録媒体、特にディスク状磁気記録媒体が
得られたものであり、これは磁気テープ例えばコンピュ
ーターテープにも適用できる発明である。

【００２５】本発明の磁気記録媒体は超薄層の磁性層に
高出力、高分散性に優れた超微粒子の磁性粉を含み、下
層に球状又は針状などの無機粉末を含み、磁性層を薄く
することで磁性層内の磁力相殺を低減し、高周波領域で
の出力を大幅に高め、更に重ね書き特性も向上させたも
のである。磁気ヘッドの改良により、狭ギャップヘッド
との組合せにより超薄層の磁性層の効果が一層発揮で
き、デジタル記録特性の向上が図れる。

【００２６】磁性層の厚みは高密度記録の磁気記録方式
や磁気ヘッドから要求される性能にマッチするように
０．０５〜０．２５μｍの薄層に選択される。均一でか
つ薄層にしたこのような磁性層は微粒子の磁性粉や非磁
性粉を分散剤の使用と分散性の高い結合剤の組み合わせ
により高度に分散させ、高充填化を図った。使用される
磁性体は大容量ＦＤやコンピューターテープの適性を最
大限に引き出すために、高出力、高分散性、高ランダマ
イズ性に優れた磁性体を使用している。即ち非常に微粒
子な強磁性金属微粉末または強磁性六方晶フェライト微
粉末は、例えば、前者として好ましくは長軸長を０．１
μｍ以下、結晶子サイズを８０〜１８０Åとすることに
より、更にＣｏを多く含み、焼結防止剤としてＡｌやＹ
を含有させることにより高出力、高耐久性が達成でき
る。高転送レートを実現するために超薄層磁性層に適し
た３次元ネットワークバインダーシステムを用い、高速
回転時における走行の安定性、耐久性を確保している。
また広範囲な温湿度条件下での使用や高速回転使用時で
も、その効力を維持できる複合潤滑剤を上下２層に配
し、更に下層には潤滑剤のタンクとしての役割を持た
せ、磁性層に常に適量の潤滑剤を供給できるようにし、
磁性層の耐久性を高め、信頼性を向上させている。また
下層のクッション効果は良好なヘッドタッチと安定した
走行性をもたらすことができる。

【００２７】大容量記録システムでは高転送レートが求
められる。このためには磁気ディスクの回転数を、従来
のＦＤシステムに比べて１桁以上上げる必要がある。磁
気記録の大容量化／高密度化に伴い、記録トラック密度
が向上する。一般には媒体上にサーボ記録エリアを設
け、記録トラックに対する磁気ヘッドのトレーサビリテ
イ確保を図っている。本発明の磁気記録媒体では支持体
として等方的寸度安定性を高めたものを使用し、トレー
サビリテイの一層の安定化をはかったものである。そし
て超平滑な支持体を用いることによって、磁性層の平滑
性を更に向上できる。

【００２８】ディスク形態の磁気記録の高密度化には、
線記録密度とトラック密度の向上が必要である。このう
ちトラック密度の向上には、支持体の特性が重要であ
る。本発明の媒体では支持体の寸度安定性、特に等方性
に配慮している。高トラック密度における記録再生で
は、サーボ記録は不可欠な技術であるが、支持体を出来
るだけ等方化することで媒体サイドからもこの改良が図
れる。

【００２９】本発明は磁性層を単層からＡＴＯＭＭ構成
にするメリットは次のように考えられる。 （１）磁性層の薄層構造化による電磁変換特性の向上 （２）潤滑剤の安定供給による耐久性の向上 （３）磁性層の平滑化による高出力 （４）磁性層の機能分離による要求機能付与が容易 これらの機能は、単に磁性層を重層化するだけでは達成
できない。重層構造を構成するには、層を順次構成する
「逐次重層方式」が一般的である。この方式は先ず、下
層を塗布し、硬化、又は乾燥させた後、磁性層を同様に
塗布し、硬化、表面処理を行う。ＦＤは磁気テープと異
なり、両面に同様な処理を施す。塗布工程後スリット工
程、パンチ工程、シェル組み込み工程、サーテファイ工
程を経て最終製品として完成する。

【００３０】磁性層薄層構造化により以下のような電磁
変換特性の大幅な向上が出来る。 （１）記録減磁時特性の改良による高周波領域での出力
向上、 （２）重ね書き（オーバーライト）特性の改良 （３）ウインドウマージンの確保 耐久性は磁気ディスクにとって重要な要素である。特に
高転送レートを実現するために磁気ディスクの回転数
を、従来のＦＤシステムに比べて１桁以上上げる必要が
あり、磁気ヘッド／カートリッジ内部品と媒体とが高速
摺動する場合の媒体耐久性の確保は重要な課題である。
媒体の耐久性を向上させる手段には、ディスク自身の膜
強度を上げるバインダー処方と、磁気ヘッドとの滑り性
を維持する潤滑剤処方がある。本発明の媒体ではバイン
ダー処方に現行のＦＤシステムで実績のある３次元ネッ
トワークバインダーシステムを採用している。

【００３１】潤滑剤は、使用される種々の温・湿度環境
下でそれぞれ優れた効果を発揮する潤滑剤を複数組み合
わせて使用し、広範囲な温度（低温、室温、高温）、湿
度（低湿、高湿）環境下でも各潤滑剤がそれぞれ機能を
発揮し、総合的に安定した潤滑効果を維持できるもので
ある。また上下２層の構造を活用し、下層に潤滑剤のタ
ンク効果を持たせることで磁性層に常に適量の潤滑剤が
供給されるようにし、磁性層の耐久性を向上できるよう
にしたものである。超薄層の磁性層に含ませることが出
来る潤滑剤量には限度があり、単純に磁性層をうすくす
ることは潤滑剤の絶対量が減少し、走行耐久性の劣化に
つながる。この場合、両者のバランスを得ることは困難
であった。上下２層に別々の機能を持たせ、互いに補完
することで電磁変換特性の向上と耐久性の向上を両立さ
せた。この機能分化は磁気ヘッドとメデイアを高速摺動
させるシステムでは特に有効であった。

【００３２】下層には潤滑剤の保持機能の他に表面電気
抵抗のコントロール機能を付与できる。一般に電気抵抗
のコントロールには、磁性層中にカーボンブラック等の
固体導電材料を加えることが多い。これらは磁性体の充
填密度を上げることの制約となるほか、磁性層が薄層に
なるに従い、表面粗さにも影響を与える。下層に導電材
料を加えることによってこれらの欠点を除くことができ
る。

【００３３】マルチメデイア社会になり、画像記録への
ニーズは産業界のみならず家庭でも益々強くなってお
り、本発明の大容量磁気記録媒体は単に文字、数字など
のデータ以外に、画像記録用媒体としての機能／コスト
の要請に十分応えられる能力を持つものである。本発明
の大容量媒体は実績のある塗布型磁気記録媒体をベース
としており、長期信頼性に富み、またコストパフォーマ
ンスに優れているものである。

【００３４】本発明は以上のような種々の要因を積み重
ね、相乗的、有機的に作用させ、初めて達成されるもの
である。

【００３５】

【発明の実施の形態】

［磁性層］本発明の磁気記録媒体は下層と磁性層を支持
体の片面だけでも、両面に設けても良い。上下層は下層
を塗布後、下層が湿潤状態の内（Ｗ／Ｗ＝ウェット・オ
ン・ウェット法）でも、乾燥した後（Ｗ／Ｄ＝ウェット
・オン・ドライ法）にでも磁性層を設けることが出来
る。生産得率の点から同時、又は逐次湿潤塗布が好まし
いが、ディスクの場合は乾燥後塗布も十分使用できる。
本発明の重層構成で同時、又は逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）
では上層／下層が同時に形成できるため、カレンダー工
程などの表面処理工程を有効に活用でき、超薄層でも磁
性層の表面粗さを良化できる。磁性層の抗磁力Ｈｃは１
８００Ｏｅ以上であることが必要であり、強磁性金属微
粉末ではＢｍは２０００〜５０００Ｇ（ガウス）、六方
晶フェライト微粉末では１０００〜３０００Ｇで有るこ
とが好ましい。

【００３６】［強磁性金属微粉末］本発明の磁性層に使
用する強磁性金属微粉末としては、α−Ｆｅを主成分と
する強磁性合金粉末が好ましい。これらの強磁性金属微
粉末には所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、Ｃ
ａ、Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａ
ｇ、Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、
Ｈｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃ
ｏ、Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂなどの原子を含んでも
かまわない。特に、Ａｌ、Ｓｉ、Ｃａ、Ｙ、Ｂａ、Ｌ
ａ、Ｎｄ、Ｃｏ、Ｎｉ、Ｂの少なくとも１つをα−Ｆｅ
以外に含むことが好ましく、Ｃｏ、Ｙ、Ａｌの少なくと
も一つを含むことがさらに好ましい。Ｃｏの含有量はＦ
ｅに対して０原子％以上５０原子％以下が好ましく、さ
らに好ましくは１５原子％以上４５％以下、より好まし
くは２０原子％以上４５原子％以下である。Ｙの含有量
は１．５原子％以上１２原子％以下が好ましく、さらに
好ましくは３原子％以上１０原子％以下、より好ましく
は４原子％以上９原子％以下である。Ａｌは１．５原子
％以上１２原子％以下が好ましく、さらに好ましくは３
原子％以上１０原子％以下、より好ましくは４原子％以
上９原子％以下である。これらの強磁性金属微粉末には
あとで述べる分散剤、潤滑剤、界面活性剤、帯電防止剤
などで分散前にあらかじめ処理を行ってもかまわない。
具体的には、特公昭４４−１４０９０号、特公昭４５−
１８３７２号、特公昭４７−２２０６２号、特公昭４７
−２２５１３号、特公昭４６−２８４６６号、特公昭４
６−３８７５５号、特公昭４７−４２８６号、特公昭４
７−１２４２２号、特公昭４７−１７２８４号、特公昭
４７−１８５０９号、特公昭４７−１８５７３号、特公
昭３９−１０３０７号、特公昭４６−３９６３９号、米
国特許第３０２６２１５号、同３０３１３４１号、同３
１００１９４号、同３２４２００５号、同３３８９０１
４号などに記載されている。

【００３７】強磁性金属微粉末には少量の水酸化物、ま
たは酸化物が含まれてもよい。強磁性金属微粉末の公知
の製造方法により得られたものを用いることができ、下
記の方法を挙げることができる。複合有機酸塩（主とし
てシュウ酸塩）と水素などの還元性気体で還元する方
法、酸化鉄を水素などの還元性気体で還元してＦｅある
いはＦｅ−Ｃｏ粒子などを得る方法、金属カルボニル化
合物を熱分解する方法、強磁性金属の水溶液に水素化ホ
ウ素ナトリウム、次亜リン酸塩あるいはヒドラジンなど
の還元剤を添加して還元する方法、金属を低圧の不活性
気体中で蒸発させて微粉末を得る方法などである。この
ようにして得られた強磁性金属微粉末は公知の徐酸化処
理、すなわち有機溶剤に浸漬したのち乾燥させる方法、
有機溶剤に浸漬したのち酸素含有ガスを送り込んで表面
に酸化膜を形成したのち乾燥させる方法、有機溶剤を用
いず酸素ガスと不活性ガスの分圧を調整して表面に酸化
皮膜を形成する方法のいずれを施したものでも用いるこ
とができる。

【００３８】本発明の磁性層の強磁性金属微粉末をＢＥ
Ｔ法による比表面積で表せば、通常、４５〜８０ｍ² ／
ｇであり、好ましくは５０〜７０ｍ²／ｇである。４５
ｍ²／ｇ以下ではノイズが高くなり、８０ｍ²／ｇ以上で
は表面性が得にくく好ましくない。本発明の磁性層の強
磁性金属微粉末の結晶子サイズは通常、８０〜１８０Å
であり、好ましくは１００〜１８０Å、更に好ましくは
１１０〜１７５Åである。強磁性金属微粉末の長軸径は
通常、０．０１μm以上０．２５μm以下であり、好まし
くは０．０３μm以上０．１５μm以下であり、さらに好
ましくは０．０３μm以上０．１２μm以下である。強磁
性金属微粉末の針状比は３以上１５以下が好ましく、さ
らには５以上１２以下が好ましい。強磁性金属微粉末の
σs は通常、１００〜１８０emu/gであり、好ましくは
１１０emu/g 〜１７０emu/g 、更に好ましくは１２５〜
１６０emu/g である。強磁性金属微粉末の抗磁力は通
常、１７００Oe以上３５００Oe以下が好ましく、更に好
ましくは１，８００Oe以上３０００Oe以下である。

【００３９】強磁性金属微粉末の含水率は０．０１〜２
％（以下、単なる「％」は、「重量％」を指す）とする
のが好ましい。結合剤の種類によって強磁性金属微粉末
の含水率は最適化するのが好ましい。強磁性金属微粉末
のｐＨは、用いる結合剤との組合せにより最適化するこ
とが好ましい。その範囲は４〜１２であるが、好ましく
は６〜１０である。強磁性金属微粉末は必要に応じ、表
面処理を行い、Ａｌ、Ｓｉ、Ｐまたはこれらの酸化物な
どが表面に存在していてもかまわない。その量は強磁性
金属微粉末に対し０．１〜１０％であり表面処理を施す
と脂肪酸などの潤滑剤の吸着が１００ｍｇ／ｍ² 以下に
なり好ましい。強磁性金属微粉末には可溶性のＮａ、Ｃ
ａ、Ｆｅ、Ｎｉ、Ｓｒなどの無機イオンを含む場合があ
る。これらは、本質的に無い方が好ましいが、２００pp
m以下であれば特に特性に影響を与えることは少ない。
また、本発明に用いられる強磁性金属微粉末は空孔が少
ないほうが好ましくその値は２０容量％以下、さらに好
ましくは５容量％以下である。また形状については先に
示した粒子サイズについての特性を満足すれば針状、米
粒状、紡錘状のいずれでもかまわない。強磁性金属微粉
末自体のＳＦＤは小さい方が好ましく、０．８以下が好
ましい。強磁性金属微粉末のＨｃの分布を小さくする必
要がある。尚、ＳＦＤが０．８以下であると、電磁変換
特性が良好で、出力が高く、また、磁化反転がシャープ
でピークシフトも少なくなり、高密度デジタル磁気記録
に好適である。Ｈｃの分布を小さくするためには、強磁
性金属微粉末においてはゲ−タイトの粒度分布を良くす
る、焼結を防止するなどの方法がある。

【００４０】［六方晶フェライト微粉末］本発明の磁性
層に含まれる六方晶フェライトとしては、バリウムフェ
ライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カ
ルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。
具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライ
ト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面
を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一
部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリ
ウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げ
られ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、
Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈ
ｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、
Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を
含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔ
ｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ
−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−
Ｚｎ等の元素で置換したものを使用することができる。
原料・製法によっては特有の不純物を含有するものもあ
る。粒子サイズは六角板径で通常、１０〜２００nm、好
ましくは１０〜１００nmであり、特に好ましくは１０〜
８０nmである。

【００４１】特にトラック密度を上げるため磁気抵抗ヘ
ッドで再生する場合、低ノイズにする必要があり、板径
は４０nm以下が好ましいが、１０nm以下では熱揺らぎの
ため安定な磁化が望めない。２００nm以上ではノイズが
高く、いずれも高密度磁気記録には向かない。板状比
（板径／板厚）は１〜１５が望ましい。好ましくは１〜
７である。板状比が小さいと磁性層中の充填性は高くな
り好ましいが、十分な配向性が得られない。１５より大
きいと粒子間のスタッキングによりノイズが大きくな
る。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面積は１
０〜２００ｍ²/gを示す。比表面積は概ね粒子板径と板
厚からの算術計算値と符号する。粒子板径・板厚の分布
は通常狭いほど好ましい。数値化は困難であるが粒子Ｔ
ＥＭ写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較で
きる。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して
平均サイズに対する標準偏差で表すとσ／平均サイズ＝
０．１〜２．０である。粒子サイズ分布をシャープにす
るには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共に、
生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われてい
る。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する
方法等も知られている。磁性体で測定される抗磁力Ｈｃ
は５００Oe〜５０００Oe程度まで作成できる。Ｈｃは高
い方が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で
制限される。本発明ではＨｃは１７００Oeから４０００
Oe程度であるが、好ましくは１８００Oe以上、３５００
Oe以下である。ヘッドの飽和磁化が１．４テスラを越え
る場合は、２０００Oe以上にすることが好ましい。Ｈｃ
は粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素の種類と量、元
素の置換サイト、粒子生成反応条件等により制御でき
る。飽和磁化σｓは４０emu/g〜８０emu/gである。σｓ
は高い方が好ましいが微粒子になるほど小さくなる傾向
がある。σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライ
トにスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種
類と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六方
晶フェライトを用いることも可能である。磁性体を分散
する際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物
質で処理することも行われている。表面処理材は無機化
合物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳ
ｉ、Ａｌ、Ｐ、等の化合物、各種シランカップリング
剤、各種チタンカップリング剤が代表例である。量は磁
性体に対して０．１〜１０％である。磁性体のｐＨも分
散に重要である。通常４〜１２程度で分散媒、ポリマー
により最適値があるが、媒体の化学的安定性、保存性か
ら６〜１１程度が選択される。磁性体に含まれる水分も
分散に影響する。分散媒、ポリマーにより最適値がある
が通常０．０１〜２．０％が選ばれる。六方晶フェライ
トの製法としては、酸化バリウム・酸化鉄・鉄を置換
する金属酸化物とガラス形成物質として酸化ホウ素等を
所望のフェライト組成になるように混合した後溶融し、
急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理した後、洗浄
・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得るガラス結
晶化法、バリウムフェライト組成金属塩溶液をアルカ
リで中和し、副生成物を除去した後１００℃以上で液相
加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェライト結
晶粉体を得る水熱反応法、バリウムフェライト組成金
属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去した後乾
燥し１１００℃以下で処理し、粉砕してバリウムフェラ
イト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は製法を
選ばない。

【００４２】［下層］次に下層に関する詳細な内容につ
いて説明する。本発明の下層は実質的に非磁性であれば
その構成は制限されるべきものではないが、通常、少な
くとも樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、無機
粉末あるいは有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げ
られる。該無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末で
あるが、下層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も
使用され得るものである。

【００４３】該非磁性粉末としては、例えば、金属酸化
物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化
物、金属硫化物、等の無機化合物から選択することがで
きる。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα
−アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、
チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化ス
ズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコ
ニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単
独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度
分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更
に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら
非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好まし
いが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組
み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くし
て同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好まし
いのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２
μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である
場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状
金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μm以下が好
ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。タップ密度
は０．０５〜２g/ml、好ましくは０．２〜１．５g/mlで
ある。非磁性粉末の含水率は０．１〜５重量％、好まし
くは０．２〜３重量％、更に好ましくは０．３〜１．５
重量％である。非磁性粉末のｐＨは通常、２〜１１であ
るが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。非磁性
粉末の比表面積は通常、１〜１００m²/g、好ましくは５
〜８０m²/g、更に好ましくは１０〜７０m²/gである。非
磁性粉末の結晶子サイズは０．００４μｍ〜１μｍが好
ましく、０．０４μｍ〜０．１μｍが更に好ましい。Ｄ
ＢＰ（ジブチルフタレート）を用いた吸油量は通常、５
〜１００ml/100g、好ましくは１０〜８０ml/100g、更に
好ましくは２０〜６０ml/100gである。比重は通常、１
〜１２、好ましくは３〜６である。形状は針状、球状、
多面体状、板状のいずれでも良い。モース硬度は４以上
１０以下のものが好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステア
リン酸）吸着量は１〜２０μmol／m² 、好ましくは２〜
１５μmol/m² 、さらに好ましくは３〜８μmol/m² であ
る。ｐＨは３〜６の間にあることが好ましい。これらの
非磁性粉末の表面は表面処理されてＡｌ₂Ｏ₃ 、ＳｉＯ
₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂ 、Ｓｂ₂Ｏ₃ 、Ｚｎ
Ｏ、Ｙ₂Ｏ₃ が存在することが好ましい。特に分散性に
好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、ＴｉＯ₂ 、ＺｒＯ
₂ であるが、更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂ 、
ＺｒＯ₂ である。これらは組み合わせて使用しても良い
し、単独で用いることもできる。また、目的に応じて共
沈させた表面処理層を用いても良いし、先ずアルミナで
処理した後にその表層をシリカで処理する方法、または
その逆の方法を採ることもできる。また、表面処理層は
目的に応じて多孔質層にしても構わないが、均質で密で
ある方が一般には好ましい。

【００４４】本発明の下層に用いられる非磁性粉末の具
体的な例としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製
ＨＩＴ−１００，ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイ
トＤＰＮ−２５０，ＤＰＮ−２５０ＢＸ，ＤＰＮ−２４
５，ＤＰＮ−２７０ＢＸ，ＤＰＮ−５００ＢＸ，ＤＢＮ
−ＳＡ１，ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴ
Ｏ−５１Ｂ，ＴＴＯ−５５Ａ，ＴＴＯ−５５Ｂ，ＴＴＯ
−５５Ｃ，ＴＴＯ−５５Ｓ，ＴＴＯ−５５Ｄ，ＳＮ−１
００、αヘマタイトＥ２７０，Ｅ２７１，Ｅ３００，Ｅ
３０３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ，ＳＴＴ
−３０Ｄ，ＳＴＴ−３０，ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイ
トα−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ，ＭＴ−１００
Ｔ，ＭＴ−１５０Ｗ，ＭＴ−５００Ｂ，ＭＴ−６００
Ｂ，ＭＴ−１００Ｆ，ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩ
ＮＥＸ−２５，ＢＦ−１，ＢＦ−１０，ＢＦ−２０，Ｓ
Ｔ−Ｍ、同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ，ＤＥＦＩＣ−Ｒ、
日本アエロジル製ＡＳ２ＢＭ，ＴｉＯ２Ｐ２５、宇部興
産製１００Ａ，５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙
げられる。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα
−酸化鉄である。

【００４５】下層にカ−ボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビ
ッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボン
ブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらす
ことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用フ
ァ−ネス、ゴム用サ−マル、カラ−用ブラック、アセチ
レンブラック、等を用いることができる。下層のカーボ
ンブラックは所望する効果によって、以下のような特性
を最適化すべきであり、併用することでより効果が得ら
れることがある。

【００４６】下層のカ−ボンブラックの比表面積は通
常、１００〜５００m²／ｇ、好ましくは１５０〜４００
m²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は通常、２０〜４００ml/100g、
好ましくは３０〜４００ml/100gである。カ−ボンブラ
ックの粒子径は通常、５mμ〜８０mμ、好ましく１０〜
５０mμ、さらに好ましくは１０〜４０mμである。カ−
ボンブラックのｐＨは通常、２〜１０、含水率は通常、
０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／mlが好ま
しい。本発明に用いられるカ−ボンブラックの具体的な
例としてはキャボット社製 ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ
２０００，１３００，１０００，９００，８００，８８
０，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業
社製 ＃３０５０Ｂ，＃３１５０Ｂ，＃３２５０Ｂ，＃
３７５０Ｂ，＃３９５０Ｂ，＃９５０，＃６５０Ｂ，＃
９７０Ｂ，＃８５０Ｂ，ＭＡ−６００，ＭＡ−２３０，
＃４０００，＃４０１０、コロンビアンカ−ボン社製
ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８００，８
０００，７０００，５７５０，５２５０，３５００，２
１００，２０００，１８００，１５００，１２５５，１
２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣなどがあ
げられる。カ−ボンブラックを分散剤などで表面処理し
たり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部を
グラファイト化したものを使用してもかまわない。ま
た、カ−ボンブラックを塗料に添加する前にあらかじめ
結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボンブラ
ックは上記無機粉末に対して５０重量％を越えない範
囲、下層総重量の４０％を越えない範囲で使用できる。
これらのカ−ボンブラックは単独、または組合せで使用
することができる。本発明で使用できるカ−ボンブラッ
クは例えば「カ−ボンブラック便覧」（カ−ボンブラッ
ク協会編）を参考にすることができる。

【００４７】また下層には有機粉末を目的に応じて、添
加することもできる。例えば、アクリルスチレン系樹脂
粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹脂粉
末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオレフ
ィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリアミド
系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エチレ
ン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭６２
−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記され
ているようなものが使用できる。

【００４８】下層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加
剤、溶剤、分散方法その他は以下に記載する磁性層のそ
れが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、
分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技
術が適用できる。 ［結合剤］

【００４９】本発明に使用される結合剤としては従来公
知の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれら
の混合物が使用される。熱可塑性樹脂としては、ガラス
転移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１,０
００〜２００,０００、好ましくは１０,０００〜１０
０,０００、重合度が約５０〜１０００程度のものであ
る。

【００５０】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセ
タール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネートを組み合わせたものがあげられる。

【００５１】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ，−ＳＯ₃ Ｍ、−ＯＳＯ₃ Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、
−Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂ 、（以上につきＭは水素原子、
またはアルカリ金属塩基）、−ＯＨ、−ＮＲ₂ 、−Ｎ⁺
Ｒ₃ （Ｒは炭化水素基）、エポキシ基、−ＳＨ、−Ｃ
Ｎ、などから選ばれる少なくともひとつ以上の極性基を
共重合または付加反応で導入したものを用いることが好
ましい。このような極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇ
であり、好ましくは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。

【００５２】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹ
ＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫ
ＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、
ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９、７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、
大日精化社製、ダイフェラミン４０２０、５０２０、５
１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三
菱化成社製、ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０など
が挙げられる。

【００５３】本発明の下層、磁性層に用いられる結合剤
は非磁性粉末または磁性粉末に対し、５〜５０％の範
囲、好ましくは１０〜３０％の範囲で用いられる。塩化
ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０％、ポリウレタン
樹脂を用いる場合は２〜２０％、ポリイソシアネートは
２〜２０％の範囲でこれらを組み合わせて用いることが
好ましいが、例えば、微量の脱塩素によりヘッド腐食が
起こる場合は、ポリウレタンのみまたはポリウレタンと
イソシアネートのみを使用することも可能である。本発
明において、ポリウレタンを用いる場合はガラス転移温
度が−５０〜１５０℃、好ましくは０℃〜１００℃、破
断伸びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１
０Kg/mm² 、降伏点は０．０５〜１０Kg/mm²が好まし
い。

【００５４】本発明の磁気記録媒体は下層及び磁性層の
二層以上からなる。尚、磁性層は厚み、組成等の異なる
複数の層から構成してもよい。この場合、磁性層の総和
は、前記本発明の範囲とする。従って、結合剤量、結合
剤中に占める塩化ビニル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポ
リイソシアネート、あるいはそれ以外の樹脂の量、磁性
層を形成する各樹脂の分子量、極性基量、あるいは先に
述べた樹脂の物理特性などを必要に応じ下層、磁性層あ
るいは各磁性層とで変えることはもちろん可能であり、
むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関する
公知技術を適用できる。例えば、各層でバインダー量を
変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性
層のバインダー量を増量することが有効であり、ヘッド
に対するヘッドタッチを良好にするためには、下層のバ
インダー量を多くして柔軟性を持たせることができる。

【００５５】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ，コロネ
ート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭ
Ｒ，ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ
−１０２，タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２
００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュールＬ，デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ，デスモジュールＨＬ，等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層とも用いることができる。

【００５６】［カーボンブラック、研磨剤］本発明の磁
性層に使用されるカーボンブラックはゴム用ファーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５０
０m²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００mｌ／１００
ｇ、粒子径は５mμ〜３００mμ、ｐＨは２〜１０、含水
率は０．１〜１０％、タップ密度は０．１〜１ｇ／cc、
が好ましい。本発明に用いられるカーボンブラックの具
体的な例としてはキャボット社製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲ
ＬＳ ２０００、１３００、１０００、９００、９０
５、８００，７００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、旭カ
ーボン社製、＃８０、＃６０，＃５５、＃５０、＃３
５、三菱化成工業社製、＃２４００Ｂ、＃２３００、＃
９００，＃１０００＃３０，＃４０、＃１０Ｂ、コロン
ビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡ
ＶＥＮ １５０、５０，４０，１５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ
−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケッチェンブラックＥＣ、などが
あげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面処理
したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の一部
をグラファイト化したものを使用してもかまわない。ま
た、カーボンブラックを磁性塗料に添加する前にあらか
じめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボン
ブラックは単独、または組合せで使用することができ
る。カーボンブラックを使用する場合は磁性体に対する
量の０．１〜３０％で用いることが好ましい。カーボン
ブラックは磁性層の帯電防止、摩擦係数低減、遮光性付
与、膜強度向上などの働きがあり、これらは用いるカー
ボンブラックにより異なる。従って本発明に使用される
これらのカーボンブラックは磁性層、下層でその種類、
量、組合せを変え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨ
などの先に示した諸特性をもとに目的に応じて使い分け
ることはもちろん可能であり、むしろ各層で最適化すべ
きものである。本発明の磁性層で使用できるカーボンブ
ラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カーボンブ
ラック協会編）を参考にすることができる。

【００５７】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素、チタンカ
ーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など
主としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組
合せで使用される。また、これらの研磨剤同士の複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれ
ば効果にかわりはない。

【００５８】これら研磨剤の平均粒子サイズは０．０１
〜２μｍが好ましく、更に好ましくは０．４μｍ以下で
あり、特に電磁変換特性を高めるためには、その粒度分
布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させるには必
要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わせた
り、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効果を
もたせることも可能である。タップ密度は０．３〜２g/
cc、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、比表面積
は１〜３０m²/gが好ましい。本発明に用いられる研磨剤
の形状は針状、球状、サイコロ状、のいずれでも良い
が、形状の一部に角を有するものが研磨性が高く好まし
い。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１２、ＡＫＰ−１
５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫＰ−５０、ＨＩ
Ｔ−２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、ＨＩＴ−６
０、ＨＩＴ−７０、ＨＩＴ−８０、ＨＩＴ−１００、レ
イノルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、ＨＰＳ
−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製、ＷＡ１００００、上村工
業社製、ＵＢ２０、日本化学工業社製、Ｇ−５、クロメ
ックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製、ＴＦ１
００、ＴＦ１４０、イビデン社製、ベータランダムウル
トラファイン、昭和鉱業社製、Ｂ−３などが挙げられ
る。これらの研磨剤は必要に応じ下層に添加することも
できる。下層に添加することで表面形状を制御したり、
研磨剤の突出状態を制御したりすることができる。これ
ら磁性層、下層の添加する研磨剤の粒径、量はむろん最
適値に設定すべきものである。

【００５９】［添加剤］本発明の磁性層と下層に使用さ
れる、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分散効
果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫化モ
リブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化ホウ
素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつシリ
コーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコー
ン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポリ
オレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステルお
よびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよび
そのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニル
ホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェニ
ル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホス
フィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一
つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エ
ステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド
重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素
数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族ア
ミンなどが使用できる。

【００６０】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン酸
などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレー
ト、オクチルステアレート、アミルステアレート、イソ
オクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチル
ミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキシ
ジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレー
ト、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシル
ドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコールなどがあげられる。
また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グリシ
ドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド付加
体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステルア
ミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導体、
複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類等のカチ
オン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、燐酸、
硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基を含む
アニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホン酸
類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル類、ア
ルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用でき
る。これらの界面活性剤については、「界面活性剤便
覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。

【００６１】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
下層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への滲み
出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエステル類
を用い表面への滲み出しを制御する、界面活性剤量を調
節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑剤の添加
量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるなど考えら
れ、無論ここに示した例のみに限られるものではない。
一般には潤滑剤の総量として磁性粉末または非磁性粉末
に対し、０．１％〜５０％、好ましくは２％〜２５％の
範囲で選択される。

【００６２】また本発明で用いられる添加剤のすべてま
たはその一部は、磁性および非磁性塗料製造のどの工程
で添加してもかまわない、例えば、混練工程前に磁性体
と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤による混練工程
で添加する場合、分散工程で添加する場合、分散後に添
加する場合、塗布直前に添加する場合などがある。ま
た、目的に応じて磁性層を塗布した後、同時または逐次
塗布で、添加剤の一部または全部を塗布することにより
目的が達成される場合がある。また、目的によってはカ
レンダーした後、またはスリット終了後、磁性層表面に
潤滑剤を塗布することもできる。

【００６３】本発明で用いられる有機溶剤は公知のもの
が使用でき、例えば特開平６−６８４５３に記載の溶剤
を用いることができる。

【００６４】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は支持体が２〜１００μm、好ましくは２〜８０μmで
ある。コンピューターテープの支持体は、３．０〜６．
５μｍ（好ましくは、３．０〜６．０μｍ、更に好まし
くは、４．０〜５．５μｍ）の範囲の厚さのものが使用
される。

【００６５】支持体と下層また磁性層の間に密着性向上
のための下塗り層を設けてもかまわない。本下塗層厚み
は０．０１〜０．５μm、好ましくは０．０２〜０．５
μmである。本発明は通常支持体両面に下層と磁性層を
設けてなる両面磁性層ディスク状媒体であっても、片面
のみに設けてもかまわない。この場合、帯電防止やカー
ル補正などの効果を出すために下層、磁性層側と反対側
にバックコート層を設けてもかまわない。この厚みは通
常、０．１〜４μm、好ましくは０．３〜２．０μmであ
る。これらの下塗層、バックコート層は公知のものが使
用できる。

【００６６】本発明の媒体の磁性層の厚みは用いるヘッ
ドの飽和磁化量やヘッドギャップ長、記録信号の帯域に
より最適化されるものであるが、０．０５μｍ以上０．
２５μｍ以下であり、好ましくは０．０５μｍ以上０．
２０μｍ以下である。磁性層を異なる磁気特性を有する
２層以上に分離してもかまわず、公知の重層磁性層に関
する構成が適用できる。

【００６７】本発明になる媒体の下層の厚みは０．２μ
ｍ以上５．０μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以上３．
０μｍ以下、さらに好ましくは１．０μｍ以上２．５μ
ｍ以下である。なお、本発明媒体の下層は実質的に非磁
性であればその効果を発揮するものであり、たとえば不
純物としてあるいは意図的に少量の磁性体を含んでも、
本発明の効果を示すものであり、本発明と実質的に同一
の構成と見なすことができることは言うまでもない。実
質的に非磁性とは下層の残留磁束密度が１００Ｇ以下ま
たは抗磁力が１００Oe以下であることを示し、好ましく
は残留磁束密度と抗磁力をもたないことを示す。

【００６８】［支持体］本発明に用いられる支持体はポ
リエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレー
ト、等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロー
ストリアセテート、ポリカーボネート、ポリアミド、ポ
リイミド、ポリアミドイミド、ポリスルフォン、ポリア
ラミド、芳香族ポリアミド、ポリベンゾオキサゾールな
どの公知のフィルムが使用できる。ポリエチレンナフタ
レート、ポリアミドなどの高強度支持体を用いることが
好ましい。また必要に応じ、磁性面とベース面の表面粗
さを変えるため特開平３−２２４１２７に示されるよう
な積層タイプの支持体を用いることもできる。これらの
支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処理、
易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなっても良
い。また本発明の支持体としてアルミまたはガラス基板
を適用することも可能である。

【００６９】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てはＷＹＫＯ社製の表面粗さ計ＴＯＰＯ−３Ｄのｍｉｒ
ａｕ法で約２５０μｍ×２５０μｍの面積での測定で中
心面平均表面粗さＲａが好ましくは８．０nm以下、更に
好ましくは４．０nm以下、特に好ましくは２．０nm以下
のものである。これらの支持体は単に中心面平均表面粗
さが小さいだけではなく、０．５μm以上の粗大突起が
ないことが好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じ
て支持体に添加されるフィラーの大きさと量により自由
にコントロールされるものである。これらのフィラーと
しては一例としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭
酸塩の他、アクリル系などの有機微粉末があげられる。
支持体の最大高さＳＲmaxは１μm以下、十点平均粗さＳ
Ｒzは０．５μm以下、中心面山高さはＳＲpは０．５μm
以下、中心面谷深さＳＲvは０．５μm以下、中心面面積
率ＳＳr は１０％以上、９０％以下、平均波長Ｓλaは
５μm以上、３００μm以下が好ましい。所望の電磁変換
特性と耐久性を得るため、これら支持体の表面突起分布
をフィラーにより任意にコントロールできるものであ
り、０．０１μmから１μmの大きさのもの各々を０．１
mm² あたり０個から２０００個の範囲でコントロールす
ることができる。

【００７０】本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好
ましくは５〜５０Kg/mm²、また、支持体の１００℃３０
分での熱収縮率は好ましくは３％以下、さらに好ましく
は１．５％以下、８０℃３０分での熱収縮率は好ましく
は１％以下、さらに好ましくは０．５％以下である。破
断強度は５〜１００Kg/mm²、弾性率は１００〜２０００
Kg/mm² が好ましい。温度膨張係数は１０^-4〜１０^-8/℃
であり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃である。湿度膨
張係数は１０^-4/RH%以下であり、好ましくは１０^-5/RH
％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強度特
性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほぼ等
しいことが好ましい。

【００７１】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗料
を製造する工程は、少なくとも混練工程、分散工程、お
よびこれらの工程の前後に必要に応じて設けた混合工程
からなる。個々の工程はそれぞれ２段階以上にわかれて
いてもかまわない。本発明に使用する磁性粉末、非磁性
粉末、結合剤、カーボンブラック、研磨剤、帯電防止
剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの工程の最初ま
たは途中で添加してもかまわない。また、個々の原料を
２つ以上の工程で分割して添加してもかまわない。例え
ば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、分散後の粘度
調整のための混合工程で分割して投入してもよい。本発
明の目的を達成するためには、従来の公知の製造技術を
一部の工程として用いることができる。混練工程ではオ
ープンニーダ、連続ニーダ、加圧ニーダ、エクストルー
ダなど強い混練力をもつものを使用することが好まし
い。ニーダを用いる場合は磁性粉末または非磁性粉末と
結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合剤の３０
％以上が好ましい）および磁性粉末１００部に対し１５
〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混練処理
の詳細については特開平１−１０６３３８、特開平１−
７９２７４に記載されている。また、磁性層液および下
層液を分散させるにはガラスビーズを用ることができる
が、高比重の分散メディアであるジルコニアビーズ、チ
タニアビーズ、スチールビーズが好適である。これら分
散メディアの粒径と充填率は最適化して用いられる。分
散機は公知のものを使用することができる。

【００７２】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９，特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法があり、第二に特開昭６３−８８０８０、特開
平２−１７９７１，特開平２−２６５６７２に開示され
ているような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの
塗布ヘッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法があ
り、第三に特開平２−１７４９６５に開示されているバ
ックアップロール付きエクストルージョン塗布装置によ
り上下層をほぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性
粒子の凝集による磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下
を防止するため、特開昭６２−９５１７４や特開平１−
２３６９６８に開示されているような方法により塗布ヘ
ッド内部の塗布液にせん断を付与することが望ましい。
さらに、塗布液の粘度については、特開平３−８４７１
に開示されている数値範囲を満足する必要がある。本発
明の構成を実現するには下層を塗布し乾燥させたのち、
その上に磁性層を設ける逐次重層塗布を用いてもむろん
かまわず、本発明の効果が失われるものではない。ただ
し、塗布欠陥を少なくし、ドロップアウトなどの品質を
向上させるためには、前述の同時重層塗布を用いること
が好ましい。

【００７３】デイスクの場合、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属微粉末
の場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、
垂直成分をもたせて３次元ランダムとすることもでき
る。六方晶フェライトの場合は一般的に面内および垂直
方向の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ラン
ダムとすることも可能である。また異極対向磁石など公
知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方
的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録
を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコート
を用い円周配向してもよい。

【００７４】磁気テープの場合はコバルト磁石やソレノ
イドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きる様にすることが好ましく、塗布速度は２０m/分〜１
０００m/分、乾燥風の温度は６０℃以上が好ましい、ま
た磁石ゾーンに入る前に適度の予備乾燥を行なうことも
できる。

【００７５】カレンダ処理ロールとしてエポキシ、ポリ
イミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等の耐熱性のあ
るプラスチックロールまたは金属ロールで処理するが、
特に両面磁性層とする場合は金属ロール同志で処理する
ことが好ましい。処理温度は、好ましくは５０℃以上、
さらに好ましくは１００℃以上である。線圧力は好まし
くは２００Kg/cm以上、さらに好ましくは３００Kg/cm以
上である。

【００７６】［物理特性］本発明になる磁気記録媒体の
磁性層の飽和磁束密度は強磁性金属微粉末を用いた場合
２０００Ｇ以上５０００Ｇ以下、六方晶フェライトをも
ちいた場合は１０００Ｇ以上３０００Ｇ以下が好まし
い。磁性層の抗磁力Ｈｃは１８００以上５０００Ｏｅ以
下、好ましくは２０００Ｏｅ以上３０００Ｏｅ以下であ
り、磁性層のＨｒは１５００以上５０００Ｏｅ以下、好
ましくは１７００Ｏｅ以上３０００Ｏｅ以下である。抗
磁力の分布は狭い方が好ましく、ＳＦＤおよびＳＦＤｒ
は０．６以下が好ましい。角形比は２次元ランダムの場
合は０．５５以上０．６７以下で、好ましくは０．５８
以上、０．６４以下、３次元ランダムの場合は0．４５
以上、０．５５以下が好ましく、垂直配向の場合は垂直
方向に０．６以上好ましくは０．７以上、反磁界補正を
行った場合は０．７以上好ましくは０．８以上である。
２次元ランダム、３次元ランダムとも配向度比は０．８
以上が好ましい。２次元ランダムの場合、垂直方向の角
形比、Ｂｒ、ＨｃおよびＨｒは面内方向の０．１〜０．
５倍以内とすることが好ましい。

【００７７】磁気テープの場合、角型比は０．７以上、
好ましくは０．８以上である。本発明の磁気記録媒体の
ヘッドに対する摩擦係数は温度−１０℃から４０℃、湿
度０％から９５％の範囲において０．５以下、好ましく
は０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは磁性面１０⁴
〜１０¹²オーム/sq、帯電位は−５００Vから＋５００V
以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びでの弾性率は面
内各方向で好ましくは１００〜２０００Kg/mm² 、破断
強度は好ましくは１０〜７０Kg/mm² 、磁気記録媒体の
弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜１５００Kg/
mm² 、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃以
下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以下、
さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましくは
０．１％以下である。磁性層のガラス転移温度(１１０H
zで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大点)は５
０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層のそれは０℃〜
１００℃が好ましい。損失弾性率は１×１０⁶ 〜８×１
０⁹ dyne/cm²の範囲にあることが好ましく、損失正接は
０．２以下であることが好ましい。損失正接が大きすぎ
ると粘着故障が発生しやすい。これらの熱特性や機械特
性は媒体の面内各方向で１０％以内でほぼ等しいことが
好ましい。磁性層中に含まれる残留溶媒は好ましくは１
００mg/ m² 以下、さらに好ましくは１０mg/ m² 以下で
ある。塗布層が有する空隙率は下層、磁性層とも好まし
くは３０容量％以下、さらに好ましくは２０容量％以下
である。空隙率は高出力を果たすためには小さい方が好
ましいが、目的によってはある値を確保した方が良い場
合がある。例えば、繰り返し用途が重視されるディスク
媒体では空隙率が大きい方が走行耐久性は好ましいこと
が多い。

【００７８】磁性層の中心面平均表面粗さＲａはＷＹＣ
Ｏ社製ＴＯＰＯ−３Ｄのｍｉｒａｕ法を用いて約２５０
μｍ×２５０μｍの面積での測定で通常、４．０nm以
下、好ましくは３．８nm以下、さらに好ましくは３．５
nm以下である。磁性層の最大高さＳＲmaxは０．５μm以
下、十点平均粗さＳＲzは０．３μm以下、中心面山高さ
ＳＲpは０．３μm以下、中心面谷深さＳＲvは０．３μm
以下、中心面面積率ＳＳrは２０％以上、８０％以下、
平均波長Ｓλaは５μm以上、３００μm以下が好まし
い。磁性層の表面突起は０．０１μmから１μmの大きさ
のものを０個から２０００個の範囲で任意に設定するこ
とが可能であり、これにより電磁変換特性、摩擦係数を
最適化することが好ましい。これらは支持体のフィラー
による表面性のコントロールや磁性層に添加する粉体の
粒径と量、カレンダ処理のロール表面形状などで容易に
コントロールすることができる。カールは±３mm以内と
することが好ましい。

【００７９】本発明の磁気記録媒体で下層と磁性層を有
する場合、目的に応じ下層と磁性層でこれらの物理特性
を変えることができるのは容易に推定されることであ
る。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性を向上
させると同時に下層の弾性率を磁性層より低くして磁気
記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどである。

【００８０】

【実施例】 ＜塗料の作製＞ 磁性塗料 ＭＬ−１（針状磁性粉使用） 強磁性金属微粉末 １００部 組成：Ｆｅ７０％、Ｃｏ３０％（原子比） Ｈｃ２５５０Oe、比表面積５５m²/g、σs１４０emu/g 結晶サイズ１２０Å、長軸長０．０４８μm、針状比 ４ 焼結防止剤 Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ 原子比 ８％） Ｙ化合物 （Ｙ／Ｆｅ 原子比 ６％） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） １０部 カーボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） ５部 フェニルホスホン酸 ３部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 磁性塗料 ＭＬ−２（針状磁性粉使用） 強磁性金属微粉末 ： １００部 組成：Ｆｅ７０％、Ｃｏ３０％（原子比） Ｈｃ２３６０Oe、比表面積４９m² /g、σs１４６emu/g 結晶子サイズ１７０Å、長軸長０．１００μm、針状比 ６、ＳＦＤ ０．５１、ｐＨ ９．４ 焼結防止剤Ａｌ化合物（Ａｌ／Ｆｅ原子比 ５％） Ｙ化合物（Ｙ／Ｆｅ 原子比 ５％） 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ４部 αアルミナ ＨＩＴ７０（住友化学社製） １０部 カーボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） １部 フェニルホスホン酸 ３部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 ０．６部 エチレングリコールジオレイル １２部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 磁性塗料 ＭＬ−３（針状磁性粉使用） 強磁性金属微粉末 １００部 組成／Ｆｅ：Ｎｉ＝９６：４ Ｈｃ１６００Ｏｅ、比表面積４５ｍ² /g 結晶子サイズ ２２０Å、σｓ１３５emu/g 平均長軸径 ０．２０μｍ、 針状比 ９ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ−８６００(東洋紡社製) ５部 αアルミナ（粒径０．６５μｍ） ２部 酸化クロム（粒子サイズ：０．３５μｍ） １５部 カーボンブラック（粒子サイズ：０．０３μｍ） ２部 カーボンブラック（粒子サイズ：０．３μｍ） ９部 イソヘキサデシルステアレート ４部 ｎ−ブチルステアレート ４部 ブトキシエチルステアレート ４部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ３００部 磁性塗料 ＭＬ−４（板状磁性粉使用） バリウムフェライト磁性粉 １００部 対Ｂａモル比組成：Ｆｅ９．１０、Ｃｏ０．２０、Ｚｎ０．７７ Ｈｃ２５００Oe、比表面積５０m² ／ｇ、σs ５８emu/g 板径３５nm、板状比４ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ３部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学社製） １０部 カーボンブラック ＃５０（旭カーボン社製） ５部 フェニルホスホン酸 ３部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ３部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン １２５部 シクロヘキサノン １２５部 磁性塗料 ＭＬ−５（板状磁性粉使用） バリウムフェライト磁性粉 １００部 対Ｂａモル比組成：Ｆｅ９．１０、Ｃｏ０．２０、Ｚｎ０．７７ Ｈｃ２５００Oe、比表面積５０m²／ｇ、σs ５８emu/g 板径３５nm、板状比２．５ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １０部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ４部 αアルミナ ＨＩＴ５５（住友化学工業社製） １０部 ＃５０（旭カーボン社製） １部 フェニルホスホン酸 ３部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 ０．６部 エチレングリコールジオレイル １６部 メチルエチルケトン １８０部 シクロヘキサノン １８０部 下層塗料 ＮＵ−１（球状無機粉末使用） 非磁性粉末 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ８０部 平均一次粒子径０．０３５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ４０m² /g ｐＨ ７ ＴｉＯ₂ 含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８g/100g、 表面処理剤Ａｌ₂ Ｏ₃ （Ａｌ／Ｆｅが８原子％）存在 カーボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 下層塗料 ＮＵ−２（球状無機粉使用） 非磁性粉体 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル １００部 平均一次粒子径０．０３５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ４０m² /g ｐＨ ７ ＴｉＯ₂ 含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８g/100g、 表面にＡｌ₂ Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂存在 ケッチェンブラックＥＣ（ＡＫＵＺＯ ＮＯＢＥＬ社製） １３部 平均一次粒子径：３０ｍμ ＤＢＰ吸油量：３５０ｍｌ／１００ｇ ｐＨ：９．５ ＢＥＴ法による比表面積：９５０m²／ｇ 揮発分：１．０％ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １６部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ６部 フェニルホスホン酸 ４部 エチレングリコールジオレイル １６部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 ０．８部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 非磁性塗料 ＮＵ−３（球状無機粉使用） 非磁性粉体 ＴｉＯ₂ 結晶系ルチル ７５部 平均一次粒子径０．０３５μm、比表面積 ４０m² /g ｐＨ ７ ＴｉＯ₂ 含有量９０％以上、 ＤＢＰ吸油量２７〜３８g/100g、 表面にＡｌ₂Ｏ₃ 、ＳｉＯ₂存在 カーボンブラック ケッチェンブラックＥＣ １０部 αアルミナ ＡＫＰ−１５(住友化学工業社製） 平均粒子径：０．６５μｍ １５部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８６００（東洋紡社製） ５部 イソヘキサデシルステアレート ４部 ｎ−ブチルステアレート ４部 ブトキシエチルステアレート ４部 オレイン酸 １部 ステアリン酸 １部 メチルエチルケトン ３００部 非磁性塗料 ＮＵ−４（針状無機粉使用） 非磁性粉体 α−Ｆｅ₂Ｏ₃ ヘマタイト ８０部 長軸長 ０．１５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m²/g ｐＨ ９ 表面にＡｌ₂Ｏ₃ （８原子％）存在 カーボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２０部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１１０（日本ゼオン社製） １２部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ４部 ブチルステアレート １０部 ブトキシエチルステアレート ５部 イソヘキサデシルステアレート ２部 ステアリン酸 ３部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 非磁性塗料 ＮＵ−５（針状無機粉使用） 非磁性粉体 α−Ｆｅ₂Ｏ₃ ヘマタイト １００部 長軸長 ０．１５μm、ＢＥＴ法による比表面積 ５０m² /g ｐＨ ９、表面にＡｌ₂Ｏ₃ （Ａｌ／Ｆｅが８原子％）存在 カーボンブラック ＃３２５０B(三菱化成社製） １８部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １５部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ５５００（東洋紡社製） ７部 フェニルホスホン酸 ４部 エチレングリコールジオレイル １６部 オレイン酸 １．３部 ステアリン酸 ０．８部 メチルエチルケトン／シクロヘキサノン（８／２混合溶剤） ２５０部 製法１ （デイスク：Ｗ／Ｗ） 上記１０の塗料のそれぞれについて、各成分をニーダで
混練したのち、サンドミルを用いて分散させた。得られ
た分散液にポリイソシアネートを下層の塗布液には１０
部、磁性層の塗布液には１０部を加え、さらにそれぞれ
にシクロヘキサノン４０部を加え、１μmの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、下層形成用および磁
性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【００８１】得られた下層塗布液を、乾燥後の厚さが
１．５μmになるようにさらにその直後にその上に磁性
層の厚さが０．１５μmになるように、厚さ６２μmで中
心面平均表面粗さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレー
ト支持体（支持体 Ｂ−１）上に同時重層塗布をおこな
い、両層がまだ湿潤状態にあるうちに周波数５０Hz、磁
場強度２５０ガウスまた周波数５０Hz、１２０ガウスの
２つの磁場強度交流磁場発生装置の中を通過されランダ
ム配向処理（配向 Ｏ−１）をおこない乾燥後、７段の
カレンダで温度９０℃、線圧３００Kg/cmにて処理を行
い、３．７吋に打ち抜き表面研磨処理施した後、ライナ
ーが内側に設置済の３．７吋のカートリッジ（米 Ｉｏ
ｍｅｇａ社製 ｚｉｐ−ｄｉｓｋカートリッジ）に入
れ、所定の機構部品を付加し、３．７吋フロッピーディ
スクを得た。

【００８２】また一部のサンプルについてはランダマイ
ズ配向処理の前に４０００Ｇの同極対抗Ｃｏ磁石による
長手配向を施した（配向 Ｏ−２）。

【００８３】この場合、十分なランダマイズ化が最終的
行われるように交流磁場発生装置の周波数と磁場強度を
高くすることが好ましく、これにより配向度比９８％以
上を得ることができる。なおバリウムフェライト磁性体
を用いる場合は、上記配向方法以外に垂直配向（配向
Ｏ−３）を施すことが可能である。また、必要に応じ、
ディスク形状に打ち抜いたあと高温でのサーモ処理(通
常５０℃〜９０℃)を行ない塗布層の硬化処理を促進さ
せる、研磨テープでバーニッシュ処理をおこない、表面
の突起を削るなどの後処理を行ってもよい。 製法２ （デイスク：Ｗ／Ｄ） 上記１０の塗料のそれぞれについて、各成分をニーダで
混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた
分散液にポリイソシアネートを下層の塗布液には１０
部、磁性層の塗布液には１０部を加え、さらにそれぞれ
にシクロヘキサノン４０部を加え、１μmの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、下層形成用および磁
性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【００８４】得られた下層塗布液を、乾燥後の厚さが
１．５μmになるように厚さ６２μmで中心面平均表面粗
さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレート支持体（支持
体Ｂ−１）上に塗布し一度乾燥させ、カレンダ処理を行
ったのち、さらにその上に磁性層の厚さが０．１５μm
になるようにブレード方式により磁性層を塗布、周波数
５０Hz、磁場強度２５０ガウスまた周波数５０Hz、１２
０ガウスの２つの磁場強度交流磁場発生装置の中を通過
されランダム配向処理（配向 Ｏ−１）をおこない、こ
れ以降については製法１と同様に行った。また下層のカ
レンダー処理を行わない方法をとることもできる。 製法３ （デイスク：スピンコート） 上記１０の塗料のそれぞれについて、各成分をニーダで
混練した後、サンドミルを用いて分散させた。得られた
分散液にポリイソシアネートを下層の塗布液には１０
部、磁性層の塗布液には１０部を加え、さらにそれぞれ
にシクロヘキサノン４０部を加え，１μmの平均孔径を
有するフィルターを用いて濾過し、下層形成用および磁
性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。

【００８５】得られた下層塗布液を、乾燥後の厚さが
１．５μmになるように厚さ６２μｍで中心面平均表面
粗さが３ｎｍのポリエチレンテレフタレート支持体（支
持体Ｂ−１）上にスピンコート塗布し一度乾燥させたの
ち、さらにその上に磁性層の厚さが０．１５μmになる
ようにスピンコートにより磁性層を塗布、６０００Ｇの
同極対抗Ｃｏ磁石により円周方向に配向処理をおこなっ
た（配向 Ｏ−４）。これを製法１と同様な圧力が得ら
れるバッチ方式の圧延処理を行い表面を平滑化した。こ
れ以降については製法１と同様に行った。また、下層を
スピンコ―ト塗布し下層が未乾燥のうちにその上に磁性
層をスピンコートする塗布する方式を用いることもでき
る。スピンコート方式を用いることで、記録方向の残留
磁化量が大きくなるばかりでなく、バリウムフェライト
や短針状比のメタル磁性粉末の垂直磁化成分を低減させ
再生波形の対称性を良好にすることができる。

【００８６】上記製法で使用される支持体、配向法及び
製法２で用いるバック層塗料を以下に示す。 支持体 Ｂ−１ ポリエチレンテレフタレート 厚さ：６２μｍ、Ｆ−５値：ＭＤ １１４ＭＰａ、 ＴＤ １０７ＭＰａ 破断強度：ＭＤ ２７６ＭＰａ、ＴＤ ２８１ＭＰａ 破断伸度：ＭＤ １７４ＭＰａ、ＴＤ １３９ＭＰａ 熱収縮率（８０℃、３０分）：ＭＤ ０．０４％、 ＴＤ ０．０５％ 熱収縮率（１００℃、３０分）：ＭＤ ０．２％、 ＴＤ ０．３％ 温度膨張係数：長軸 １５×１０^-5／℃、 短軸 １８×１０^-5／℃ 中心面平均表面粗さ ３ｎｍ 支持体 Ｂ−２ ポリエチレンナフタレート 厚さ：５５μ、中心面平均表面粗さ １．８ｎｍ 熱収縮率（８０℃、３０分）：ＭＤ ０．００７％、 ＴＤ ０．００７％ 熱収縮率（１００℃、３０分）：ＭＤ ０．０２％、 ＴＤ ０．０２％ 温度膨張係数：長軸 １０×１０^-5／℃、 短軸 １１×１０^-5／℃ 支持体 Ｂ−３ ポリエチレンテレフタレート 厚さ：６２μｍ、中心面平均表面粗さ ９ｎｍ

【００８７】 配向 Ｏ−１ ランダマイズ配向を行う。 Ｏ−２ Ｃｏ磁石で長手方向に配向した後、ランダマイズ配向を行う。 Ｏ−３ Ｃｏ磁石で垂直配向を行う。 Ｏ−４ Ｃｏ磁石で円周配向を行う。 以上のような各方法を適宜、表１のように組み合わせて
得られたサンプルについて磁気特性、（Ｉ_L／Ｉ_s）等を
測定し、表１に結果を示し、また、面記録密度、エラー
レート、耐久性等を表２に示した。尚、実施例８、比較
例４は、製法１で使用される支持体 Ｂ−１に代えてＢ
−２、Ｂ−３を用いた。また、比較例２は、製法５で使
用される配向 Ｏ−５に代えてＯ−１を用いた。 （１）磁気特性（Ｈｃ）：振動試料型磁束計（東英工業
社製）を用い、Ｈｍ１０ＫＯｅで測定した。 （２）面記録密度は、線記録密度とトラック密度を掛け
合わせたものである。 （３）線記録密度は記録方向１インチ当たりに記録する
信号のビット数である。 （４）トラック密度は、１インチ当たりのトラック数で
ある。 （５）Φｍは磁気記録媒体の単位面積当たりの磁化量で
ある。Ｂｍ（ガウス）と厚みを掛け合わせたものであ
り、これは振動試料型磁束計（東英工業社製）を用い、
Ｈｍ１０ｋＯｅで測定した値で、直接測定できる値であ
る。 （６）ディスクのエラーレートは上記の線記録密度の信
号を(２，７)ＲＬＬ変調方式をディスクに記録し測定し
た。 （７）磁性層厚みは 磁気記録媒体を長手方向に渡って
ダイヤモンドカッターで約０．１μｍの厚味に切り出
し、透過型電子顕微鏡で倍率１００００倍〜１００００
０倍、好ましくは２００００倍〜５０，０００倍で観察
し、その写真撮影を行った。写真のプリントサイズはＡ
４〜Ａ５である。その後、磁性層、下層の強磁性粉末や
非磁性粉末の形状差に注目して界面を目視判断して黒く
渕どり、かつ磁性層表面も同様に黒く渕どった。その
後、Ｚｅｉｓｓ社製画像処理装置ＩＢＡＳ２にて渕どり
した線の長さを測定した。試料写真の長さが２１ｃｍの
場合、測定を８５〜３００回行った。その際の測定値の
平均値をｄとし、その測定値の標準偏差σとした。ｄ
は、特開平５−２９８６５３の記載により、σは、数２
により算出した。ｄi は各測定値であり、ｎは、８５〜
３００である。 （８）磁性層の表面粗さの１０〜２μｍの長波長の空間
周波数強度（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗さの１〜０．
５μｍの短波長の空間周波数強度（Ｉ_s）は、原子間力
顕微鏡（AFM）（米国デジタルインスツルメンツ社製）
を用い、100×100μｍの範囲を512X512画素のデータと
して取り込んだ後、平滑化フィルター処理を行って得られた
表面粗さプロファイルに２次元のフーリエ変換処理を施
して各波長ごとの粗さ成分に分解する。そして、該当す
る波長成分の範囲内の強度を積分し、得られた値をそれ
ぞれ（Ｉ_L），（Ｉ_s）とした。 （９）耐久性：フロッピーディスクドライブ（米 Ｉｏ
ｍｅｇａ社製 ＺＩＰ１００：回転数２９６８ｒｐｍ）
を用い半径３８ｍｍ位置にヘッドを固定し記録密度３４
ｋｂｐｉで記録を行った後その信号を再生し１００％と
した。その後、以下のフローを１サイクルとするサーモ
サイクル環境で５００時間以上の走行がＯＫであるもの
を○、５００時間未満の走行のものを×とした。走行２
４時間おきに出力をモニターしその出力が初期の値の７
０％以下となった時点をＮＧとした。 （サーモサイクルフロー）２５℃、５０％ＲＨ １時間
→（昇温 ２時間）→６０℃、２０％ＲＨ ７時間→
（降温 ２時間）→２５℃、５０％ＲＨ １時間→（降
温 ２時間）→５℃、５０％ＲＨ ７時間→（昇温 ２
時間）→＜これを繰り返す＞

【００８８】

【表１】

【００８９】

【表２】

【００９０】実施例１８〜２０および参考例１では実施
例１３のディスクを用い、線記録密度とトラック密度を
変えて同様にエラーレートを測定した。

【００９１】上記表の結果から（Ｉ_L／Ｉ_s）が１．５未
満の本発明の磁気記録媒体は従来のディスク状媒体、即
ち（Ｉ_L／Ｉ_s）が１．５以上の比較例に比べ、特に高密
度記録領域でのエラーレートが１０^-5以下で格段に良好
であることがわかる。

【００９２】

【発明の効果】本発明は非磁性支持体上に実質的に非磁
性である下層と強磁性金属微粉末または強磁性六方晶フ
ェライト微粉末を結合剤中に分散してなる磁性層をこの
順に設けた磁気記録媒体において、前記磁気記録媒体の
面記録密度が０．２〜２Ｇbit/inch² であり、前記磁性
層の乾燥厚みが０．０５〜０．２５μｍであり、且つΦ
ｍが８．０×１０^-3〜１．０×１０^-3emu/cm² であり、
前記磁性層の抗磁力が１８００Ｏｅ以上であり、かつ前
記磁性層の表面粗さの１０〜２μｍの長波長の空間周波
数強度（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗さの１〜０．５μ
ｍの短波長の空間周波数強度（Ｉ_s）の比（Ｉ_L／Ｉ_s）
が1.5よりも小さいことを特徴とする磁気記録媒体とす
ることで、従来の塗布型の磁気記録媒体の技術では得る
ことができなかった優れた高密度特性と優れた耐久性を
併せ持つ高密度記録領域でのエラーレートが格段に改良
された磁磁気記録媒体を得ることができる。

Claims (6)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体上に実質的に非磁性である下層と
   強磁性金属微粉末または強磁性六方晶フェライト微粉末
   を結合剤中に分散してなる磁性層をこの順に設けた磁気
   記録媒体において、前記磁気記録媒体は面記録密度が
   ０．２〜２Ｇbit/inch²の信号を記録する磁気記録媒体
   であり、前記磁性層の乾燥厚みが０．０５〜０．２５μ
   ｍであり、且つΦｍが８．０×１０^-3〜１．０×１０^-3
   emu/cm² であり、前記磁性層の抗磁力が１８００Ｏｅ以
   上であり、かつ前記磁性層の表面粗さの１０〜２μｍの
   長波長の空間周波数強度（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗
   さの１〜０．５μｍの短波長の空間周波数強度（Ｉ_s）
   の比（Ｉ_L／Ｉ_s）が1.5よりも小さいことを特徴とする
   磁気記録媒体。
2. 【請求項２】 前記磁気記録媒体の前記面記録密度が
   ０．３５〜２Ｇbit/inch ² であり、かつ前記下層にモー
   ス硬度４以上の無機粉末を含むことを特徴とする請求項
   １記載の磁気記録媒体。
3. 【請求項３】 前記磁性層の乾燥厚みが０．０５〜０．
   ２０μｍであり、かつ前記磁性層中に平均粒子サイズが
   ０．４μｍ以下の研磨剤を含むことを特徴とする請求項
   １記載の磁気記録媒体。
4. 【請求項４】 前記磁性層の抗磁力が２０００Ｏｅ以上
   であることを特徴とする請求項１または請求項２記載の
   磁気記録媒体。
5. 【請求項５】 前記磁性層の表面粗さの１０〜２μｍの
   長波長の空間周波数強度（Ｉ_L）と前記磁性層の表面粗
   さの１〜０．５μｍの短波長の空間周波数強度（Ｉ_s）
   の比（Ｉ_L／Ｉ_s）が0.5≦Ｉ_L／Ｉ_s≦1.3であることを特
   徴とする請求項１または請求項２記載の磁気記録媒体。
6. 【請求項６】 前記磁気記録媒体がディスクであること
   を特徴とする請求項１または請求項２記載の磁気記録媒
   体。