JP2003016631A - 磁気記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 従来から使用されている生産性に優れ、低価
格で提供できる塗布型磁気記録媒体であって、サーマル
アスペリテイを含めたノイズの低い高密度特性に優れる
ＭＲヘッド再生用磁気記録媒体を提供すること。 【解決手段】 支持体上に実質的に非磁性である下層と
強磁性六方晶フェライト粉末を結合剤中に分散してなる
磁性層をこの順に設けたＭＲヘッド再生用磁気記録媒体
において、前記磁性層の表面粗さを周波数分析した空間
周波数１００／ｍｍの強度が１００００ｎｍ³以下であ
り、空間周波数５００／ｍｍの強度が５０〜５００ｎｍ
³であり、且つ前記強磁性六方晶フェライト粉末の平均
板径が１５〜３５ｎｍであることを特徴とする磁気記録
媒体。

Description

【発明の詳細な説明】 【０００１】 【発明の属する技術分野】本発明は塗布型の高記録密度
の磁気記録媒体に関する。特に磁性層と実質的に非磁性
の下層を有し、最上層に六方晶フェライト微粉末を含む
高密度記録用の磁気記録媒体に関するものである。 【０００２】 【従来の技術】従来、電磁誘導を動作原理とする磁気ヘ
ッド（誘導型磁気ヘッド）が用いられ普及している。だ
が更に高密度記録再生領域で使用するには限界が見え始
めている。すなわち、大きな再生出力を得るためには再
生ヘッドのコイル巻数を多くする必要があるがインダク
タンスが増加し高周波での抵抗が増加し結果として再生
出力が低下する問題があった。近年ＭＲ（磁気抵抗）を
動作原理とする再生ヘッドが提案され、ハードディスク
等で使用され始めている。ＭＲヘッドは誘導型磁気ヘッ
ドに比較して数倍の再生出力が得られ、かつ誘導コイル
を用いないため、インピーダンスノイズ゛等の機器ノイ
ズが大幅に低下し、磁気記録媒体のノイズを下げること
で大きなＳＮ比を得ることが可能になってきた。換言す
れば従来機器ノイズに隠れていた磁気記録媒体ノイズを
小さくすれば良好な記録再生が行え、高密度記録特性が
飛躍的に向上できることになる。またＭＲヘッド特有の
サーマルアスペリテイと呼ばれる現象がある。ＭＲヘッ
ドに記録媒体が強く接触すると、その熱エネルギーがＭ
Ｒヘッドの抵抗変化を誘発し、再生信号が乱れてエラー
となる。特にフレキシブルＤｉｓｋやテープのようなフ
レキシブルな記録媒体はＭＲヘッドにイレギュラーな接
触が発生し易いため十分な配慮が必要である。 【０００３】 【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は、従来
から使用されている生産性に優れ、低価格で提供できる
塗布型磁気記録媒体であって、サーマルアスペリテイが
少なく、ノイズの低い高密度特性に優れるＭＲヘッド再
生用磁気記録媒体を提供するものである。 【０００４】 【課題を解決するための手段】本発明者らは電磁変換特
性が良好でかつＭＲヘッド再生特有のサーマルアスペリ
テイがすくなく、高記録密度特性が格段に改良された磁
気記録媒体を得るために鋭意検討した結果、以下のよう
な媒体とすることで、本発明の目的である優れた高密度
記録特性が得られることを見いだし、本発明に至ったも
のである。即ち、本発明は、支持体上に実質的に非磁性
である下層と強磁性六方晶フェライト粉末を結合剤中に
分散してなる磁性層をこの順に設けたＭＲヘッド再生用
磁気記録媒体において、前記磁性層の表面粗さを周波数
分析した空間周波数１００／ｍｍの強度が１００００ｎ
ｍ³以下であり、空間周波数５００／ｍｍの強度が５０
〜５００ｎｍ³であり、且つ前記強磁性六方晶フェライ
ト粉末の平均板径が１５〜３５ｎｍであることを特徴と
する磁気記録媒体である。本発明の好ましい態様は以下
の通りである。 （１）前記支持体の表面粗さを周波数分析した空間周波
数１００／ｍｍの強度が５００００ｎｍ³以下であり、
空間周波数５００／ｍｍの強度が１００〜５０００ｎｍ
³である前記磁気記録媒体。 （２）前記支持体の表面に高さ０．１〜０．５μｍの突
起が０．５ヶ／ｍｍ²以下である前記磁気記録媒体。 （３）前記磁気記録媒体がディスク状またはテープ状で
あることを特徴とする前記磁気記録媒体。 【０００５】本発明は磁性層の表面粗さを周波数分析し
た空間周波数１００/ｍｍの強度及び空間周波数５００
／ｍｍの強度及び強磁性六方晶フェライト粉末の平均板
径を特定したものである。ここで各空間周波数の強度と
は、表面粗さの内、特定の波長成分の度合いを意味す
る。該空間周波数１００／ｍｍの強度が１００００ｎｍ
³を超えると電磁変換特性が劣化し、空間周波数１００
／ｍｍの強度は好ましくは７０００ｎｍ³以下であり更
に好ましくは５０００ｎｍ³以下である。空間周波数１
００／ｍｍの強度の下限は特になく小さければ小さい程
好ましい。空間周波数５００／ｍｍの強度が５０ｎｍ³
未満ではサーマルアスペリテイが多くなる。５００ｎｍ
³を超えると電磁変換特性が劣化する。空間周波数５０
０／ｍｍの強度は好ましくは１００〜４００ｎｍ³であ
る。空間周波数５００／ｍｍの強度がサーマルアスペリ
テイに影響する理由は定かではないが、ＭＲヘッドと媒
体の微小な突起との強い衝突を緩和するためと考えてい
る。 【０００６】磁性層に使用される六方晶フェライトの平
均板径は６角板径の平均を意味し、１５〜３５ｎｍであ
り、好ましくは２０〜３５ｎｍ、さらに好ましくは２２
〜３０ｎｍである。平均板径が３５ｎｍより大きいと強
磁性粒子そのものでノイズが大きくなる他に、本発明の
表面粗さを周波数分析した強度分布が得にくい。平均板
径が１５より小さいと、現在の分散技術では十分な分散
液が得られない。本発明では六方晶フェライトの平均板
径は１５〜３５ｎｍで効果が大きくなる。 【０００７】上記空間周波数の強度を本発明の範囲とす
るにはいくつかの方法がある。たとえば前記支持体の空
間周波数の強度を制御する、前記非磁性下層と前記磁性
層を形成する塗料の調整を制御する、塗布方法を選択す
る、カレンダー処理条件を選択する、カレンダーの後に
表面研磨する等があげられる。本発明は上記の方法の組
み合わせで達成される。上記方法の中で媒体の空間周波
数の強度を制御するのに比較的影響の大きいものは支持
体の空間周波数の強度を制御することと、前記六方晶フ
ェライトの平均板径を選択することである。支持体表面
の突起は磁気記録媒体表面に現れ、サーマルアスペリテ
イを発生させやすくするため、本発明に使用する支持体
表面の突起は高さ０．１〜０．５μｍの突起が０．５ヶ
／ｍｍ²以下となる様に制御することが好ましい。 【０００８】 【発明の実施の形態】［磁性層］本発明の磁気記録媒体
は磁性層を支持体の片面だけでも、両面に設けても良
い。磁性層を下層上に設ける際、磁性層（上層または上
層磁性層ともいう）は下層を塗布後、下層が湿潤状態の
内（Ｗ／Ｗ）でも、乾燥した後（Ｗ／Ｄ）にでも上層磁
性層を設けることが出来る。生産得率の点から同時、又
は逐次湿潤塗布が好ましいが、デイスクの場合は乾燥後
塗布も十分使用できる。本発明の重層構成で同時、又は
逐次湿潤塗布（Ｗ／Ｗ）では上層／下層が同時に形成で
きるため、カレンダー工程などの表面処理工程を有効に
活用でき、超薄層でも上層磁性層の表面粗さを良化でき
る。 【０００９】［強磁性粉末］本発明の磁性層に使用する
強磁性粉末は六方晶フェライト粉末でありバリウムフェ
ライト、ストロンチウムフェライト、鉛フェライト、カ
ルシウムフェライトの各置換体、Ｃｏ置換体等がある。
具体的にはマグネトプランバイト型のバリウムフェライ
ト及びストロンチウムフェライト、スピネルで粒子表面
を被覆したマグネトプランバイト型フェライト、更に一
部スピネル相を含有したマグネトプランバイト型のバリ
ウムフェライト及びストロンチウムフェライト等が挙げ
られ、その他所定の原子以外にＡｌ、Ｓｉ、Ｓ、Ｓｃ、
Ｔｉ、Ｖ、Ｃｒ、Ｃｕ、Ｙ、Ｍｏ、Ｒｈ、Ｐｄ、Ａｇ、
Ｓｎ、Ｓｂ、Ｔｅ、Ｂａ、Ｔａ、Ｗ、Ｒｅ、Ａｕ、Ｈ
ｇ、Ｐｂ、Ｂｉ、Ｌａ、Ｃｅ、Ｐｒ、Ｎｄ、Ｐ、Ｃｏ、
Ｍｎ、Ｚｎ、Ｎｉ、Ｓｒ、Ｂ、Ｇｅ、Ｎｂなどの原子を
含んでもかまわない。一般にはＣｏ−Ｚｎ、Ｃｏ−Ｔ
ｉ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｒ、Ｃｏ−Ｔｉ−Ｚｎ、Ｎｉ−Ｔｉ
−Ｚｎ、Ｎｂ−Ｚｎ−Ｃｏ、ＳｂーＺｎ−Ｃｏ、Ｎｂ−
Ｚｎ等の元素を添加した物を使用することができる。原
料・製法によっては特有の不純物を含有するものもあ
る。 【００１０】六方晶フェライト粉末の平均板状比（板径
／板厚の算術平均）は１〜１５が望ましい。好ましくは
１〜７である。平均板状比が小さいと磁性層中の充填性
は高くなり好ましいが、十分な配向性が得られない。１
５より大きいと粒子間のスタッキングによりノイズが大
きくなる。この粒子サイズ範囲のＢＥＴ法による比表面
積は１０〜１００ｍ²／ｇを示す。比表面積は概ね粒子
板径と板厚からの算術計算値と符号する。粒子板径・板
厚の分布は通常狭いほど好ましい。数値化は粒子ＴＥＭ
写真より５００粒子を無作為に測定する事で比較でき
る。分布は正規分布ではない場合が多いが、計算して平
均板径に対する標準偏差で表される変動係数（σ／平均
板径または平均板厚）は通常、０．１〜２．０である。
変動係数は、好ましくは、０．１〜１．０であり、更に
０．１〜０．５が好ましい。粒子サイズ分布をシャープ
にするには粒子生成反応系をできるだけ均一にすると共
に生成した粒子に分布改良処理を施すことも行われてい
る。たとえば酸溶液中で超微細粒子を選別的に溶解する
方法等が挙げられる。該六方晶フェライト微粉末の平均
粒子体積は１０００〜１００００ｎｍ³、好ましくは１
５００〜８０００ｎｍ³、さらに好ましくは２０００〜
８０００ｎｍ³である。 【００１１】磁性体で測定される抗磁力Ｈｃは通常、４
０〜４００ｋＡ／ｍ程度まで作成できる。Ｈｃは高い方
が高密度記録に有利であるが、記録ヘッドの能力で制限
される。本発明では磁性体のＨｃは、好ましくは１５９
〜３９７ｋＡ／ｍ程度であるが、更に好ましくは１５９
〜３２０ｋＡ／ｍである。ヘッドの飽和磁化が１．４テ
スラを越える場合は、１７５ｋＡ／ｍ以上にすることが
好ましい。Ｈｃは粒子サイズ（板径・板厚）、含有元素
の種類と量、元素の置換サイト、粒子生成反応条件等に
より制御できる。飽和磁化σｓは４０〜８０Ａ・ｍ²／
ｋｇである。σｓは微粒子になるほど小さくなる傾向が
ある。σｓ改良のためマグネトプランバイトフェライト
にスピネルフェライトを複合すること、含有元素の種類
と添加量の選択等が良く知られている。またＷ型六方晶
フェライトを用いることも可能である。磁性体を分散す
る際に磁性体粒子表面を分散媒、ポリマーに合った物質
で処理することも行われている。表面処理材は無機化合
物、有機化合物が使用される。主な化合物としてはＳ
ｉ、Ａｌ、Ｐ、等の酸化物または水酸化物、各種シラン
カップリング剤、各種チタンカップリング剤が代表例で
ある。量は磁性体に対して０．１〜１０％である。磁性
体のｐＨも分散に重要である。通常４〜１２程度で分散
媒、ポリマーにより最適値があるが、媒体の化学的安定
性、保存性から６〜１１程度が選択される。磁性体に含
まれる水分も分散に影響する。分散媒、ポリマーにより
最適値があるが通常０．０１〜２．０％が選ばれる。六
方晶フェライトの製法としては、酸化バリウム・酸化鉄
・鉄を置換する金属酸化物とガラス形成物質として酸化
ホウ素等を所望のフェライト組成になるように混合した
後溶融し、急冷して非晶質体とし、次いで再加熱処理し
た後、洗浄・粉砕してバリウムフェライト結晶粉体を得
るガラス結晶化法、バリウムフェライト組成金属塩溶液
をアルカリで中和し、副生成物を除去した後１００℃以
上で液相加熱した後洗浄・乾燥・粉砕してバリウムフェ
ライト結晶粉体を得る水熱反応法、バリウムフェライト
組成金属塩溶液をアルカリで中和し、副生成物を除去し
た後乾燥し１１００℃以下で処理し、粉砕してバリウム
フェライト結晶粉体を得る共沈法等があるが、本発明は
製法を選ばない。 【００１２】［非磁性層］次に下層に関する詳細な内容
について説明する。下層は実質的に非磁性であればその
構成は制限されるべきものではないが、通常、少なくと
も樹脂からなり、好ましくは、粉体、例えば、無機粉末
あるいは有機粉末が樹脂中に分散されたものが挙げられ
る。該無機粉末は、通常、好ましくは非磁性粉末である
が、下層が実質的に非磁性である範囲で磁性粉末も使用
され得るものである。 【００１３】該非磁性粉末としては、例えば、金属酸化
物、金属炭酸塩、金属硫酸塩、金属窒化物、金属炭化
物、金属硫化物等の無機化合物から選択することができ
る。無機化合物としては例えばα化率９０％以上のα−
アルミナ、β−アルミナ、γ−アルミナ、θ−アルミ
ナ、炭化ケイ素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化
鉄、ヘマタイト、ゲータイト、コランダム、窒化珪素、
チタンカーバイト、酸化チタン、二酸化珪素、酸化ス
ズ、酸化マグネシウム、酸化タングステン、酸化ジルコ
ニウム、窒化ホウ素、酸化亜鉛、炭酸カルシウム、硫酸
カルシウム、硫酸バリウム、二硫化モリブデンなどが単
独または組合せで使用される。特に好ましいのは、粒度
分布の小ささ、機能付与の手段が多いこと等から、二酸
化チタン、酸化亜鉛、酸化鉄、硫酸バリウムであり、更
に好ましいのは二酸化チタン、α酸化鉄である。これら
非磁性粉末の粒子サイズは０．００５〜２μｍが好まし
いが、必要に応じて粒子サイズの異なる非磁性粉末を組
み合わせたり、単独の非磁性粉末でも粒径分布を広くし
て同様の効果をもたせることもできる。とりわけ好まし
いのは非磁性粉末の粒子サイズは０．０１μｍ〜０．２
μｍである。特に、非磁性粉末が粒状金属酸化物である
場合は、平均粒子径０．０８μｍ以下が好ましく、針状
金属酸化物である場合は、長軸長が０．３μｍ以下が好
ましく、０．２μｍ以下がさらに好ましい。タップ密度
は０．０５〜２ｇ／ｍｌ、好ましくは０．２〜１．５ｇ
／ｍｌである。非磁性粉末の含水率は０．１〜５重量
％、好ましくは０．２〜３重量％、更に好ましくは０．
３〜１．５重量％である。非磁性粉末のｐＨは２〜１１
であるが、ｐＨは５．５〜１０の間が特に好ましい。 【００１４】非磁性粉末の比表面積は１〜１００ｍ²／
ｇ、好ましくは５〜８０ｍ²／ｇ、更に好ましくは１０
〜７０ｍ²／ｇである。非磁性粉末の結晶子サイズは
０．００４μｍ〜１μｍが好ましく、０．０４μｍ〜
０．１μｍが更に好ましい。ＤＢＰ（ジブチルフタレー
ト）を用いた吸油量は５〜１００ｍｌ／１００ｇ、好ま
しくは１０〜８０ｍｌ／１００ｇ、更に好ましくは２０
〜６０ｍｌ／１００ｇである。比重は１〜１２、好まし
くは３〜６である。形状は針状、球状、多面体状、板状
のいずれでも良い。モース硬度は４以上１０以下のもの
が好ましい。非磁性粉末のＳＡ（ステアリン酸）吸着量
は１〜２０μｍｏｌ／ｍ²、好ましくは２〜１５μｍｏ
ｌ／ｍ²、更に好ましくは３〜８μｍｏｌ／ｍ²である。
ｐＨは３〜６の間が好ましい。これらの非磁性粉末の表
面には表面処理を施すことによりＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、
ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂、ＳｎＯ₂、Ｓｂ₂Ｏ₃、ＺｎＯ、Ｙ₂Ｏ
₃を存在させることが好ましい。特に分散性に好ましい
のはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ₂であるが、
更に好ましいのはＡｌ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＺｒＯ₂である。
これらは組み合わせて使用しても良いし、単独で用いる
こともできる。また、目的に応じて共沈させた表面処理
層を用いても良いし、先ずアルミナを存在させた後にそ
の表層をシリカで処理する方法、またはその逆の方法を
採ることもできる。また、表面処理層は目的に応じて多
孔質層にしても構わないが、均質で密である方が一般に
は好ましい。 【００１５】下層に用いられる非磁性粉末の具体的な例
としては、昭和電工製ナノタイト、住友化学製ＨＩＴ−
１００、ＺＡ−Ｇ１、戸田工業社製αヘマタイトＤＰＮ
−２５０、ＤＰＮ−２５０ＢＸ、ＤＰＮ−２４５、ＤＰ
Ｎ−２７０ＢＸ、ＤＰＮ−５００ＢＸ、ＤＢＮ−ＳＡ
１、ＤＢＮ−ＳＡ３、石原産業製酸化チタンＴＴＯ−５
１Ｂ、ＴＴＯ−５５Ａ、ＴＴＯ−５５Ｂ、ＴＴＯ−５５
Ｃ、ＴＴＯ−５５Ｓ、ＴＴＯ−５５Ｄ、ＳＮ−１００、
αヘマタイトＥ２７０、Ｅ２７１、Ｅ３００、Ｅ３０
３、チタン工業製酸化チタンＳＴＴ−４Ｄ、ＳＴＴ−３
０Ｄ、ＳＴＴ−３０、ＳＴＴ−６５Ｃ、αヘマタイトα
−４０、テイカ製ＭＴ−１００Ｓ、ＭＴ−１００Ｔ、Ｍ
Ｔ−１５０Ｗ、ＭＴ−５００Ｂ、ＭＴ−６００Ｂ、ＭＴ
−１００Ｆ、ＭＴ−５００ＨＤ、堺化学製ＦＩＮＥＸ−
２５、ＢＦ−１、ＢＦ−１０、ＢＦ−２０、ＳＴ−Ｍ、
同和鉱業製ＤＥＦＩＣ−Ｙ、ＤＥＦＩＣ−Ｒ、日本アエ
ロジル製ＡＳ２ＢＭ、ＴｉＯ₂ Ｐ２５、宇部興産製１０
０Ａ、５００Ａ、及びそれを焼成したものが挙げられ
る。特に好ましい非磁性粉末は二酸化チタンとα−酸化
鉄である。 【００１６】下層にカーボンブラックを混合させて公知
の効果である表面電気抵抗Ｒｓを下げること、光透過率
を小さくすることができるとともに、所望のマイクロビ
ッカース硬度を得る事ができる。また、下層にカーボン
ブラックを含ませることで潤滑剤貯蔵の効果をもたらす
ことも可能である。カーボンブラックの種類はゴム用フ
ァーネス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチ
レンブラック、等を用いることができる。下層のカーボ
ンブラックは所望する効果によって、以下のような特性
を最適化すべきであり、併用することでより効果が得ら
れることがある。 【００１７】下層のカーボンブラックの比表面積は１０
０〜５００ｍ²／ｇ、好ましくは１５０〜４００ｍ²／
ｇ、ＤＢＰ吸油量は２０〜４００ｍｌ／１００ｇ、好ま
しくは３０〜４００ｍｌ／１００ｇである。カーボンブ
ラックの粒子径は５ｎｍ〜８０ｎｍ、好ましく１０〜５
０ｎｍ、さらに好ましくは１０〜４０ｎｍである。カー
ボンブラックのｐＨは２〜１０、含水率は０．１〜１０
％、タップ密度は０．１〜１ｇ／ｍｌが好ましい。本発
明に用いられるカーボンブラックの具体的な例としては
キャボット社製 ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２００
０、１３００、１０００、９００、８００、８８０、７
００、ＶＵＬＣＡＮ ＸＣ−７２、三菱化成工業社製
＃３０５０Ｂ、＃３１５０Ｂ、＃３２５０Ｂ、＃３
７５０Ｂ、＃３９５０Ｂ、＃９５０、＃６５０Ｂ、＃９
７０Ｂ、＃８５０Ｂ、ＭＡ−６００、ＭＡ−２３０、＃
４０００、＃４０１０、コロンビアンカーボン社製
ＣＯＮＤＵＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ ８８０
０、８０００、７０００、５７５０、５２５０、３５０
０、２１００、２０００、１８００、１５００、１２５
５、１２５０、アクゾー社製ケッチェンブラックＥＣな
どがあげられる。カーボンブラックを分散剤などで表面
処理したり、樹脂でグラフト化して使用しても、表面の
一部をグラファイト化したものを使用してもかまわな
い。また、カーボンブラックを塗料に添加する前にあら
かじめ結合剤で分散してもかまわない。これらのカーボ
ンブラックは上記無機質粉末に対して５０重量％を越え
ない範囲、非磁性層総重量の４０％を越えない範囲で使
用できる。これらのカーボンブラックは単独、または組
合せで使用することができる。本発明で使用できるカー
ボンブラックは例えば「カーボンブラック便覧」（カー
ボンブラック協会編）を参考にすることができる。 【００１８】また、下層には有機質粉末を目的に応じ
て、添加することもできる。例えば、アクリルスチレン
系樹脂粉末、ベンゾグアナミン樹脂粉末、メラミン系樹
脂粉末、フタロシアニン系顔料が挙げられるが、ポリオ
レフィン系樹脂粉末、ポリエステル系樹脂粉末、ポリア
ミド系樹脂粉末、ポリイミド系樹脂粉末、ポリフッ化エ
チレン樹脂も使用することができる。その製法は特開昭
６２−１８５６４号、特開昭６０−２５５８２７号に記
されているようなものが使用できる。 【００１９】下層の結合剤樹脂、潤滑剤、分散剤、添加
剤、溶剤、分散方法その他は以下に記載する磁性層のそ
れが適用できる。特に、結合剤樹脂量、種類、添加剤、
分散剤の添加量、種類に関しては磁性層に関する公知技
術が適用できる。 ［結合剤］本発明に使用される結合剤としては従来公知
の熱可塑性樹脂、熱硬化性樹脂、反応型樹脂やこれらの
混合物が使用される。熱可塑系樹脂としては、ガラス転
移温度が−１００〜１５０℃、数平均分子量が１，００
０〜２００，０００、好ましくは１０，０００〜１０
０，０００、重合度が約５０〜１０００程度のものであ
る。 【００２０】このような例としては、塩化ビニル、酢酸
ビニル、ビニルアルコール、マレイン酸、アクリル酸、
アクリル酸エステル、塩化ビニリデン、アクリロニトリ
ル、メタクリル酸、メタクリル酸エステル、スチレン、
ブタジエン、エチレン、ビニルブチラール、ビニルアセ
タール、ビニルエーテル、等を構成単位として含む重合
体または共重合体、ポリウレタン樹脂、各種ゴム系樹脂
がある。また、熱硬化性樹脂または反応型樹脂としては
フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン硬化型樹
脂、尿素樹脂、メラミン樹脂、アルキド樹脂、アクリル
系反応樹脂、ホルムアルデヒド樹脂、シリコーン樹脂、
エポキシ−ポリアミド樹脂、ポリエステル樹脂とイソシ
アネートプレポリマーの混合物、ポリエステルポリオー
ルとポリイソシアネートの混合物、ポリウレタンとポリ
イソシアネートの混合物等があげられる。これらの樹脂
については朝倉書店発行の「プラスチックハンドブッ
ク」に詳細に記載されている。また、公知の電子線硬化
型樹脂を各層に使用することも可能である。これらの例
とその製造方法については特開昭６２−２５６２１９に
詳細に記載されている。以上の樹脂は単独または組合せ
て使用できるが、好ましいものとして塩化ビニル樹脂、
塩化ビニル酢酸ビニル共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル
ビニルアルコール共重合体、塩化ビニル酢酸ビニル無水
マレイン酸共重合体、から選ばれる少なくとも１種とポ
リウレタン樹脂の組合せ、またはこれらにポリイソシア
ネートを組み合わせたものがあげられる。 【００２１】ポリウレタン樹脂の構造はポリエステルポ
リウレタン、ポリエーテルポリウレタン、ポリエーテル
ポリエステルポリウレタン、ポリカーボネートポリウレ
タン、ポリエステルポリカーボネートポリウレタン、ポ
リカプロラクトンポリウレタンなど公知のものが使用で
きる。ここに示したすべての結合剤について、より優れ
た分散性と耐久性を得るためには必要に応じ、−ＣＯＯ
Ｍ、−ＳＯ₃Ｍ、−ＯＳＯ₃Ｍ、−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、−
Ｏ−Ｐ＝Ｏ（ＯＭ）₂、（以上につきＭは水素原子、ま
たはアルカリ金属塩基）、ＯＨ、ＮＲ₂、Ｎ⁺Ｒ₃（Ｒは
炭化水素基）、エポキシ基、ＳＨ、ＣＮ、などから選ば
れる少なくともひとつ以上の極性基を共重合または付加
反応で導入したものを用いることが好ましい。このよう
な極性基の量は１０^-1〜１０^-8モル／ｇであり、好まし
くは１０^-2〜１０^-6モル／ｇである。 【００２２】本発明に用いられるこれらの結合剤の具体
的な例としてはユニオンカーバイト社製ＶＡＧＨ、ＶＹ
ＨＨ、ＶＭＣＨ、ＶＡＧＦ、ＶＡＧＤ、ＶＲＯＨ、ＶＹ
ＥＳ、ＶＹＮＣ、ＶＭＣＣ、ＸＹＨＬ、ＸＹＳＧ、ＰＫ
ＨＨ、ＰＫＨＪ、ＰＫＨＣ、ＰＫＦＥ、日信化学工業社
製、ＭＰＲ−ＴＡ、ＭＰＲ−ＴＡ５、ＭＰＲ−ＴＡＬ、
ＭＰＲ−ＴＳＮ、ＭＰＲ−ＴＭＦ、ＭＰＲ−ＴＳ、ＭＰ
Ｒ−ＴＭ、ＭＰＲ−ＴＡＯ、電気化学社製１０００Ｗ、
ＤＸ８０、ＤＸ８１、ＤＸ８２、ＤＸ８３、１００Ｆ
Ｄ、日本ゼオン社製ＭＲ−１０４、ＭＲ−１０５、ＭＲ
１１０、ＭＲ１００、ＭＲ５５５、４００Ｘ−１１０
Ａ、日本ポリウレタン社製ニッポランＮ２３０１、Ｎ２
３０２、Ｎ２３０４、大日本インキ社製パンデックスＴ
−５１０５、Ｔ−Ｒ３０８０、Ｔ−５２０１、バーノッ
クＤ−４００、Ｄ−２１０−８０、クリスボン６１０
９、７２０９、東洋紡社製バイロンＵＲ８２００、ＵＲ
８３００、ＵＲ−８７００、ＲＶ５３０、ＲＶ２８０、
大日精化社製、ダイフェラミン４０２０、５０２０、５
１００、５３００、９０２０、９０２２、７０２０、三
菱化成社製、ＭＸ５００４、三洋化成社製サンプレンＳ
Ｐ−１５０、旭化成社製サランＦ３１０、Ｆ２１０など
があげられる。 【００２３】非磁性層、磁性層に用いられる結合剤は非
磁性粉末または強磁性粉末に対し、５〜５０重量％の範
囲、好ましくは１０〜３０重量％の範囲で用いられる。
塩化ビニル系樹脂を用いる場合は５〜３０重量％、ポリ
ウレタン樹脂を用いる場合は２〜２０重量％、ポリイソ
シアネートは２〜２０重量％の範囲でこれらを組み合わ
せて用いることが好ましいが、例えば、微量の脱塩素に
よりヘッド腐食が起こる場合は、ポリウレタンのみまた
はポリウレタンとイソシアネートのみを使用することも
可能である。本発明において、ポリウレタンを用いる場
合はガラス転移温度が−５０〜１５０℃、好ましくは０
℃〜１００℃、更に好ましくは３０℃〜９０℃、破断伸
びが１００〜２０００％、破断応力は０．０５〜１０Ｋ
ｇ／ｍｍ ²（０．４９〜９８ＭＰａ）、降伏点は０．０
５〜１０Ｋｇ／ｍｍ²（０．４９〜９８ＭＰａ）が好ま
しい。 【００２４】本発明の磁気記録媒体は二層以上から構成
される。従って、結合剤量、結合剤中に占める塩化ビニ
ル系樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネート、あ
るいはそれ以外の樹脂の量、磁性層を形成する各樹脂の
分子量、極性基量、あるいは先に述べた樹脂の物理特性
などを必要に応じ各層で変えることはもちろん可能であ
り、むしろ各層で最適化すべきであり、多層磁性層に関
する公知技術を適用できる。例えば、各層で結合剤量を
変更する場合、磁性層表面の擦傷を減らすためには磁性
層の結合剤量を増量することが有効であり、ヘッドに対
するヘッドタッチを良好にするためには、非磁性層の結
合剤量を多くして柔軟性を持たせることができる。 【００２５】本発明に用いるポリイソシアネートとして
は、トリレンジイソシアネート、４，４’−ジフェニル
メタンジイソシアネート、ヘキサメチレンジイソシアネ
ート、キシリレンジイソシアネート、ナフチレン−１，
５−ジイソシアネート、ｏ−トルイジンジイソシアネー
ト、イソホロンジイソシアネート、トリフェニルメタン
トリイソシアネート等のイソシアネート類、また、これ
らのイソシアネート類とポリアルコールとの生成物、ま
た、イソシアネート類の縮合によって生成したポリイソ
シアネート等を使用することができる。これらのイソシ
アネート類の市販されている商品名としては、日本ポリ
ウレタン社製、コロネートＬ、コロネートＨＬ、コロネ
ート２０３０、コロネート２０３１、ミリオネートＭ
Ｒ、ミリオネートＭＴＬ、武田薬品社製、タケネートＤ
−１０２、タケネートＤ−１１０Ｎ、タケネートＤ−２
００、タケネートＤ−２０２、住友バイエル社製、デス
モジュールＬ、デスモジュールＩＬ、デスモジュール
Ｎ、デスモジュールＨＬ、等がありこれらを単独または
硬化反応性の差を利用して二つもしくはそれ以上の組合
せで各層とも用いることができる。 【００２６】［カーボンブラック、研磨剤］本発明の磁
性層に使用されるカーボンブラックはゴム用ファーネ
ス、ゴム用サーマル、カラー用ブラック、アセチレンブ
ラック、等を用いることができる。比表面積は５〜５０
０ｍ²／ｇ、ＤＢＰ吸油量は１０〜４００ｍｌ／１００
ｇ、平均粒子径は５〜３００ｎｍ、好ましくは１０〜２
５０ｎｍ、更に好ましくは２０〜２００ｎｍである。ｐ
Ｈは２〜１０、含水率は０．１〜１０％、タップ密度は
０．１〜１ｇ／ｃｃ、が好ましい。本発明に用いられる
カーボンブラックの具体的な例としてはキャボット社
製、ＢＬＡＣＫＰＥＡＲＬＳ ２０００、１３００、１
０００、９００、９０５、８００、７００、ＶＵＬＣＡ
Ｎ ＸＣ−７２、旭カーボン社製、＃８０、＃６０、＃
５５、＃５０、＃３５、三菱化成工業社製、＃２４００
Ｂ、＃２３００、＃９００、＃１０００＃３０、＃４
０、＃１０Ｂ、コロンビアンカーボン社製、ＣＯＮＤＵ
ＣＴＥＸ ＳＣ、ＲＡＶＥＮ １５０、５０、４０、１
５、ＲＡＶＥＮ−ＭＴ−Ｐ、日本ＥＣ社製、ケッチェン
ブラックＥＣ、などがあげられる。カーボンブラックを
分散剤などで表面処理したり、樹脂でグラフト化して使
用しても、表面の一部をグラファイト化したものを使用
してもかまわない。また、カーボンブラックを磁性塗料
に添加する前にあらかじめ結合剤で分散してもかまわな
い。これらのカーボンブラックは単独、または組合せで
使用することができる。カーボンブラックを使用する場
合は磁性体に対する量の０．１〜３０％でもちいること
が好ましい。カーボンブラックは磁性層の帯電防止、摩
擦係数低減、遮光性付与、膜強度向上などの働きがあ
り、これらは用いるカーボンブラックにより異なる。従
って本発明に使用されるこれらのカーボンブラックは上
層磁性層、下層非磁性層でその種類、量、組合せを変
え、粒子サイズ、吸油量、電導度、ｐＨなどの先に示し
た諸特性をもとに目的に応じて使い分けることはもちろ
ん可能であり、むしろ各層で最適化すべきものである。
本発明の磁性層で使用できるカーボンブラックは、例え
ば、「カーボンブラック便覧」（カーボンブラック協会
編）を参考にすることができる。 【００２７】本発明に用いられる研磨剤としてはα化率
９０％以上のα−アルミナ、β−アルミナ、炭化ケイ
素、酸化クロム、酸化セリウム、α−酸化鉄、コランダ
ム、人造ダイアモンド、窒化珪素、炭化珪素チタンカー
バイト、酸化チタン、二酸化珪素、窒化ホウ素、など主
としてモース硬度６以上の公知の材料が単独または組合
せで使用される。また、これらの研磨剤どうしの複合体
（研磨剤を他の研磨剤で表面処理したもの）を使用して
もよい。これらの研磨剤には主成分以外の化合物または
元素が含まれる場合もあるが主成分が９０％以上であれ
ば効果にかわりはない。これら研磨剤の粒子サイズは
０．０１〜２μｍが好ましく、更に好ましくは０．０５
〜１．０μｍ、特に好ましくは０．０５〜０．５μｍの
範囲である。特に電磁変換特性を高めるためには、その
粒度分布が狭い方が好ましい。また耐久性を向上させる
には必要に応じて粒子サイズの異なる研磨剤を組み合わ
せたり、単独の研磨剤でも粒径分布を広くして同様の効
果をもたせることも可能である。タップ密度は０．３〜
２ｇ／ｃｃ、含水率は０．１〜５％、ｐＨは２〜１１、
比表面積は１〜３０ｍ²／ｇ、が好ましい。本発明に用
いられる研磨剤の形状は針状、球状、サイコロ状、のい
ずれでも良いが、形状の一部に角を有するものが研磨性
が高く好ましい。具体的には住友化学社製ＡＫＰ−１
２、ＡＫＰ−１５、ＡＫＰ−２０、ＡＫＰ−３０、ＡＫ
Ｐ−５０、ＨＩＴ２０、ＨＩＴ−３０、ＨＩＴ−５５、
ＨＩＴ６０Ａ、ＨＩＴ７０、ＨＩＴ８０、ＨＩＴ１０
０、レイノルズ社製、ＥＲＣ−ＤＢＭ、ＨＰ−ＤＢＭ、
ＨＰＳ−ＤＢＭ、不二見研磨剤社製、ＷＡ１００００、
上村工業社製、ＵＢ２０、日本化学工業社製、Ｇ−５、
クロメックスＵ２、クロメックスＵ１、戸田工業社製、
ＴＦ１００、ＴＦ１４０、イビデン社製、ベータランダ
ムウルトラファイン、昭和鉱業社製、Ｂ−３などが挙げ
られる。これらの研磨剤は必要に応じ非磁性層に添加す
ることもできる。非磁性層に添加することで表面形状を
制御したり、研磨剤の突出状態を制御したりすることが
できる。これら磁性層、非磁性層の添加する研磨剤の粒
径、量はむろん最適値に設定すべきものである。 【００２８】［添加剤］本発明の磁性層と非磁性層に使
用される、添加剤としては潤滑効果、帯電防止効果、分
散効果、可塑効果、などをもつものが使用される。二硫
化モリブデン、二硫化タングステングラファイト、窒化
ホウ素、フッ化黒鉛、シリコーンオイル、極性基をもつ
シリコーン、脂肪酸変性シリコーン、フッ素含有シリコ
ーン、フッ素含有アルコール、フッ素含有エステル、ポ
リオレフィン、ポリグリコール、アルキル燐酸エステル
およびそのアルカリ金属塩、アルキル硫酸エステルおよ
びそのアルカリ金属塩、ポリフェニルエーテル、フェニ
ルホスホン酸、αナフチル燐酸、フェニル燐酸、ジフェ
ニル燐酸、ｐ−エチルベンゼンホスホン酸、フェニルホ
スフィン酸、アミノキノン類、各種シランカップリング
剤、チタンカップリング剤、フッ素含有アルキル硫酸エ
ステルおよびそのアルカリ金属塩、炭素数１０〜２４の
一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また分岐して
いてもかまわない）、および、これらの金属塩（Ｌｉ、
Ｎａ、Ｋ、Ｃｕなど）または、炭素数１２〜２２の一
価、二価、三価、四価、五価、六価アルコール、（不飽
和結合を含んでも、また分岐していてもかまわない）、
炭素数１２〜２２のアルコキシアルコール、炭素数１０
〜２４の一塩基性脂肪酸（不飽和結合を含んでも、また
分岐していてもかまわない）と炭素数２〜１２の一価、
二価、三価、四価、五価、六価アルコールのいずれか一
つ（不飽和結合を含んでも、また分岐していてもかまわ
ない）とからなるモノ脂肪酸エステルまたはジ脂肪酸エ
ステルまたはトリ脂肪酸エステル、アルキレンオキシド
重合物のモノアルキルエーテルの脂肪酸エステル、炭素
数８〜２２の脂肪酸アミド、炭素数８〜２２の脂肪族ア
ミン、などが使用できる。 【００２９】これらの具体例としては脂肪酸では、カプ
リン酸、カプリル酸、ラウリン酸、ミリスチン酸、パル
ミチン酸、ステアリン酸、ベヘン酸、オレイン酸、エラ
イジン酸、リノール酸、リノレン酸、イソステアリン
酸、などが挙げられる。エステル類ではブチルステアレ
ート、オクチルステアレート、アミルステアレート、イ
ソオクチルステアレート、ブチルミリステート、オクチ
ルミリステート、ブトキシエチルステアレート、ブトキ
シジエチルステアレート、２ーエチルヘキシルステアレ
ート、２ーオクチルドデシルパルミテート、２ーヘキシ
ルドデシルパルミテート、イソヘキサデシルステアレー
ト、オレイルオレエート、ドデシルステアレート、トリ
デシルステアレート、エルカ酸オレイル、ネオペンチル
グリコールジデカノエート、エチレングリコールジオレ
イル、アルコール類ではオレイルアルコール、ステアリ
ルアルコール、ラウリルアルコール、などがあげられ
る。また、アルキレンオキサイド系、グリセリン系、グ
リシドール系、アルキルフェノールエチレンオキサイド
付加体、等のノニオン界面活性剤、環状アミン、エステ
ルアミド、第四級アンモニウム塩類、ヒダントイン誘導
体、複素環類、ホスホニウムまたはスルホニウム類、等
のカチオン系界面活性剤、カルボン酸、スルフォン酸、
燐酸、硫酸エステル基、燐酸エステル基、などの酸性基
を含むアニオン界面活性剤、アミノ酸類、アミノスルホ
ン酸類、アミノアルコールの硫酸または燐酸エステル
類、アルキルベダイン型、等の両性界面活性剤等も使用
できる。これらの界面活性剤については、「界面活性剤
便覧」（産業図書株式会社発行）に詳細に記載されてい
る。これらの潤滑剤、帯電防止剤等は必ずしも１００％
純粋ではなく、主成分以外に異性体、未反応物、副反応
物、分解物、酸化物等の不純分が含まれてもかまわな
い。これらの不純分は３０％以下が好ましく、さらに好
ましくは１０％以下である。 【００３０】本発明で使用されるこれらの潤滑剤、界面
活性剤は個々に異なる物理的作用を有するものであり、
その種類、量、および相乗的効果を生み出す潤滑剤の併
用比率は目的に応じ最適に定められるべきものである。
非磁性層、磁性層で融点の異なる脂肪酸を用い表面への
にじみ出しを制御する、沸点、融点や極性の異なるエス
テル類を用い表面へのにじみ出しを制御する、界面活性
剤量を調節することで塗布の安定性を向上させる、潤滑
剤の添加量を中間層で多くして潤滑効果を向上させるな
ど考えられ、無論ここに示した例のみに限られるもので
はない。一般には潤滑剤の総量として磁性体または非磁
性粉末に対し、０．１％〜５０％、好ましくは２％〜２
５％の範囲で選択される。 【００３１】また、本発明で用いられる添加剤のすべて
またはその一部は、磁性塗料更にはおよび非磁性塗料製
造のどの工程で添加してもかまわない、例えば、混練工
程前に磁性体と混合する場合、磁性体と結合剤と溶剤に
よる混練工程で添加する場合、分散工程で添加する場
合、分散後に添加する場合、塗布直前に添加する場合な
どがある。また、目的に応じて磁性層を塗布した後、同
時または逐次塗布で、添加剤の一部または全部を塗布す
ることにより目的が達成される場合がある。また、目的
によってはカレンダーした後、またはスリット終了後、
磁性層表面に潤滑剤を塗布することもできる。本発明で
用いられる有機溶剤は公知のものが使用でき、例えば特
開昭６−６８４５３に号公報記載の溶剤を用いることが
できる。 【００３２】［層構成］本発明の磁気記録媒体の厚み構
成は支持体が２〜１００μｍ、好ましくは２〜８０μｍ
である。コンピューターテープの支持体は、３．０〜
６．５μｍ（好ましくは、３．０〜６．０μｍ、更に好
ましくは、４．０〜５．５μｍ）の範囲の厚さのものが
使用される。磁性層の厚みは０．０３μｍ〜０．２０μ
ｍが好ましく、０．０５〜０．１５μｍが更に好まし
い。０．０３μｍより薄いと再生出力が低すぎ、０．２
０μｍより厚いとオ−バ−ライト特性、分解能の劣化を
もたらす。 【００３３】支持体と非磁性層または磁性層の間に密着
性向上のための下塗層を設けてもかまわない。本下塗層
厚みは０．０１〜０．５μｍ、好ましくは０．０２〜
０．５μｍである。本発明は支持体両面に非磁性層と磁
性層を設けてなるディスク状媒体であっても、片面のみ
に設けたテープ状媒体またはディスク状媒体でもよい。
この場合、帯電防止やカール補正などの効果を出すため
に非磁性層、磁性層側と反対側にバックコ−ト層を設け
てもかまわない。この厚みは０．１〜４μｍ、好ましく
は０．３〜２．０μｍである。これらの下塗層、バック
コート層は公知のものが使用できる。 【００３４】非磁性層の厚みは通常、０．２μｍ以上
５．０μｍ以下、好ましくは０．３μｍ以上３．０μｍ
以下、さらに好ましくは１．０μｍ以上２．５μｍ以下
である。なお、非磁性層は実質的に非磁性であればその
効果を発揮するものであり、たとえば不純物としてある
いは意図的に少量の磁性体を含んでも、本発明の効果を
示すものであり、本発明と実質的に同一の構成と見なす
ことができることは言うまでもない。実質的に非磁性と
は残留磁束密度が０．０１Ｔ以下または抗磁力が７．９
６ｋＡ／ｍ（１００Ｏｅ以下）であることを示し、好ま
しくは残留磁束密度と抗磁力をもたないことを示す。 【００３５】［バックコート層］一般に、コンピュータ
データ記録用の磁気テープは、ビデオテープ、オーディ
オテープに比較して、繰り返し走行性が強く要求され
る。このような高い走行耐久性を維持させるために、バ
ックコート層には、カーボンブラックと無機粉末が含有
されていることが好ましい。 【００３６】カーボンブラックは、平均粒子径の異なる
二種類のものを組み合わせて使用することが好ましい。
この場合、平均粒子径が１０〜２０ｎｍの微粒子状カー
ボンブラックと平均粒子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒
子状カーボンブラックを組み合わせて使用することが好
ましい。一般に、上記のような微粒子状のカーボンブラ
ックの添加により、バックコート層の表面電気抵抗を低
く設定でき、また光透過率も低く設定できる。磁気記録
装置によっては、テープの光透過率を利用し、動作の信
号に使用しているものが多くあるため、このような場合
には特に微粒子状のカーボンブラックの添加は有効にな
る。また微粒子状カーボンブラックは一般に液体潤滑剤
の保持力に優れ、潤滑剤併用時、摩擦係数の低減化に寄
与する。一方、平均粒子径が２３０〜３００ｎｍの粗粒
子状カーボンブラックは、固体潤滑剤としての機能を有
しており、またバック層の表面に微小突起を形成し、接
触面積を低減化して、摩擦係数の低減化に寄与する。し
かし粗粒子状カーボンブラックを単独で用いると、過酷
な走行系では、テープ摺動により、バックコート層から
の脱落が生じ易くなり、エラー比率の増大につながる欠
点を有している。 【００３７】微粒子状カーボンブラックの具体的な商品
としては、以下のものを挙げることができる。カッコ内
に平均粒子径を示す。ＲＡＶＥＮ２０００Ｂ（１８ｎ
ｍ）、ＲＡＶＥＮ１５００Ｂ（１７ｎｍ）（以上、コロ
ンビアカーボン社製）、ＢＰ８００（１７ｎｍ）（キャ
ボット社製）、ＰＲＩＮＮＴＥＸ９０（１４ｎｍ）、Ｐ
ＲＩＮＴＥＸ９５（１５ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ８５
（１６ｎｍ）、ＰＲＩＮＴＥＸ７５（１７ｎｍ）（以
上、デグサ社製）、＃３９５０（１６ｎｍ）（三菱化成
工業（株）製）。 【００３８】また粗粒子カーボンブラックの具体的な商
品の例としては、サーマルブラック（２７０ｎｍ）（カ
ーンカルブ社製）、ＲＡＶＥＮ ＭＴＰ（２７５ｎｍ）
（コロンビアカーボン社製）を挙げることができる。 【００３９】バックコート層において、平均粒子径の異
なる二種類のものを使用する場合、１０〜２０ｎｍの微
粒子状カーボンブラックと２３０〜３００ｎｍの粗粒子
状カーボンブラックの含有比率（重量比）は、前者：後
者＝９８：２〜７５：２５の範囲にあることが好まし
く、更に好ましくは、９５：５〜８５：１５の範囲であ
る。 【００４０】バックコート層中のカーボンブラック（二
種類のものを使用する場合には、その全量）の含有量
は、結合剤１００重量部に対して、通常３０〜８０重量
部の範囲であり、好ましくは、４５〜６５重量部の範囲
である。 【００４１】無機粉末は、硬さの異なる二種類のものを
併用することが好ましい。具体的には、モース硬度３〜
４．５の軟質無機粉末とモース硬度５〜９の硬質無機粉
末とを使用することが好ましい。モース硬度が３〜４．
５の軟質無機粉末を添加することで、繰り返し走行によ
る摩擦係数の安定化を図ることができる。しかもこの範
囲の硬さでは、摺動ガイドポールが削られることもな
い。またこの無機粉末の平均粒子径は、３０〜５０ｎｍ
の範囲にあることが好ましい。 【００４２】モース硬度が３〜４．５の軟質無機粉末と
しては、例えば、硫酸カルシウム、炭酸カルシウム、珪
酸カルシウム、硫酸バリウム、炭酸マグネシウム、炭酸
亜鉛、及び酸化亜鉛を挙げることができる。これらは、
単独で、あるいは二種以上を組み合わせて使用すること
ができる。 【００４３】バックコート層内の軟質無機粉末の含有量
は、カーボンブラック１００重量部に対して１０〜１４
０重量部の範囲にあることが好ましく、更に好ましく
は、３５〜１００重量部である。 【００４４】モース硬度が５〜９の硬質無機粉末を添加
することにより、バックコート層の強度が強化され、走
行耐久性が向上する。これらの無機粉末をカーボンブラ
ックや前記軟質無機粉末と共に使用すると、繰り返し摺
動に対しても劣化が少なく、強いバックコート層とな
る。またこの無機粉末の添加により、適度の研磨力が付
与され、テープガイドポール等への削り屑の付着が低減
する。特に軟質無機粉末と併用すると、表面の粗いガイ
ドポールに対しての摺動特性が向上し、バックコート層
の摩擦係数の安定化も図ることができる。 【００４５】硬質無機粉末は、その平均粒子サイズが８
０〜２５０ｎｍ（更に好ましくは、１００〜２１０ｎ
ｍ）の範囲にあることが好ましい。 【００４６】モース硬度が５〜９の硬質無機質粉末とし
ては、例えば、α−酸化鉄、α−アルミナ、及び酸化ク
ロム（Ｃｒ₂Ｏ₃）を挙げることができる。これらの粉末
は、それぞれ単独で用いても良いし、あるいは併用して
も良い。これらの内では、α−酸化鉄又はα−アルミナ
が好ましい。硬質無機粉末の含有量は、カーボンブラッ
ク１００重量部に対して通常３〜３０重量部であり、好
ましくは、３〜２０重量部である。 【００４７】バックコート層に前記軟質無機粉末と硬質
無機粉末とを併用する場合、軟質無機粉末と硬質無機粉
末との硬さの差が、２以上（更に好ましくは、２．５以
上、特に、３以上）であるように軟質無機粉末と硬質無
機粉末とを選択して使用することが好ましい。 【００４８】バックコート層には、前記それぞれ特定の
平均粒子サイズを有するモース硬度の異なる二種類の無
機粉末と、前記平均粒子サイズの異なる二種類のカーボ
ンブラックとが含有されていることが好ましい。 【００４９】バックコート層には、潤滑剤を含有させる
ことができる。潤滑剤は、前述した非磁性層、あるいは
磁性層に使用できる潤滑剤として挙げた潤滑剤の中から
適宜選択して使用できる。バックコート層において、潤
滑剤は、結合剤１００重量部に対して通常１〜５重量部
の範囲で添加される。 【００５０】［支持体］本発明に用いられる支持体は、
特に制限されるべきものではないが、実質的に非磁性で
可撓性のもので、前述のように表面性が制御されたもの
が好ましい。本発明に用いられる可撓性支持体としては
ポリエチレンテレフタレ−ト、ポリエチレンナフタレー
ト、等のポリエステル類、ポリオレフィン類、セルロ−
ストリアセテ−ト、ポリカ−ボネ−ト、芳香族ポリアミ
ド、脂肪族ポリアミド、ポリイミド、ポリアミドイミ
ド、ポリスルフォン、ポリベンゾオキサゾ−ルなどの公
知のフィルムが使用できる。ポリエチレンナフタレ−
ト、ポリアミドなどの高強度支持体を用いることが好ま
しい。また必要に応じ、磁性面とベ−ス面の表面粗さを
変えるため特開平３−２２４１２７号公報に示されるよ
うな積層タイプの支持体を用いることもできる。これら
の支持体にはあらかじめコロナ放電処理、プラズマ処
理、易接着処理、熱処理、除塵処理、などをおこなって
も良い。また本発明の支持体としてアルミまたはガラス
基板を適用することも可能である。 【００５１】本発明の目的を達成するには、支持体とし
てＷＹＫＯ社製ＴＯＰＯ−３Ｄで測定した中心面平均表
面粗さＲａは８．０ｎｍ以下、好ましくは４．０ｎｍ以
下、さらに好ましくは２．０ｎｍ以下のものが好まし
い。これらの支持体は単に中心面平均表面粗さが小さい
だけではなく、０．５μｍ以上の粗大突起がないことが
好ましい。また表面の粗さ形状は必要に応じて支持体に
添加されるフィラ−の大きさと量により自由にコントロ
−ルされるものである。これらのフィラ−としては一例
としてはＣａ，Ｓｉ、Ｔｉなどの酸化物や炭酸塩の他、
アクリル系などの有機微粉末があげられる。支持体の最
大高さＲｍａｘは１μｍ以下、十点平均粗さＲｚは０．
５μｍ以下、中心面山高さはＲｐは０．５μｍ以下、中
心面谷深さＲｖは０．５μｍ以下、中心面面積率Ｓｒは
１０％以上、９０％以下、平均波長λａは５μｍ以上、
３００μｍ以下が好ましい。所望の電磁変換特性と耐久
性を得るため、これら支持体の表面突起分布をフィラー
により任意にコントロールできるものであり、０．０１
μｍから１μｍの大きさのもの各々を０．１ｍｍ²あた
り０個から２０００個の範囲でコントロ−ルすることが
できる。本発明に用いられる支持体のＦ−５値は好まし
くは５〜５０Ｋｇ／ｍｍ²（４９〜４９０ＭＰａ）であ
る。また、支持体の１００℃３０分での熱収縮率は好ま
しくは３％以下、さらに好ましくは１．５％以下、８０
℃３０分での熱収縮率は好ましくは１％以下、さらに好
ましくは０．５％以下である。破断強度は５〜１００Ｋ
ｇ／ｍｍ ²（≒４９〜９８０ＭＰａ）、弾性率は１００
〜２０００Ｋｇ／ｍｍ²（≒０．９８〜１９．６ＧＰ
ａ）が好ましい。温度膨張係数は１０^-4〜１０^-8／℃で
あり、好ましくは１０^-5〜１０^-6／℃である。湿度膨張
係数は１０^-4／ＲＨ％以下であり、好ましくは１０^-5／
ＲＨ％以下である。これらの熱特性、寸法特性、機械強
度特性は支持体の面内各方向に対し１０％以内の差でほ
ぼ等しいことが好ましい。 【００５２】［製法］本発明の磁気記録媒体の磁性塗
料、非磁性塗料を製造する工程は、少なくとも混練工
程、分散工程、およびこれらの工程の前後に必要に応じ
て設けた混合工程からなる。個々の工程はそれぞれ２段
階以上にわかれていてもかまわない。本発明に使用する
磁性体、非磁性粉体、結合剤、カ−ボンブラック、研磨
剤、帯電防止剤、潤滑剤、溶剤などすべての原料はどの
工程の最初または途中で添加してもかまわない。また、
個々の原料を２つ以上の工程で分割して添加してもかま
わない。例えば、ポリウレタンを混練工程、分散工程、
分散後の粘度調整のための混合工程で分割して投入して
もよい。本発明の目的を達成するためには、従来の公知
の製造技術を一部の工程として用いることができる。混
練工程ではオープンニーダ、連続ニ−ダ、加圧ニ−ダ、
エクストルーダなど強い混練力をもつものを使用するこ
とが好ましい。ニ−ダを用いる場合は磁性体または非磁
性粉体と結合剤のすべてまたはその一部（ただし全結合
剤の３０％以上が好ましい）および磁性体１００部に対
し１５〜５００部の範囲で混練処理される。これらの混
練処理の詳細については特開平１−１０６３３８、特開
平１−７９２７４に記載されている。また、磁性層液お
よび非磁性層液を分散させるにはガラスビーズを用いる
ことができるが、高比重の分散メディアであるジルコニ
アビーズ、チタニアビーズ、スチールビーズが好適であ
る。これら分散メディアの粒径と充填率は最適化して用
いられる。分散機は公知のものを使用することができ
る。 【００５３】本発明で重層構成の磁気記録媒体を塗布す
る場合、以下のような方式を用いることが好ましい。第
一に磁性塗料の塗布で一般的に用いられるグラビア塗
布、ロール塗布、ブレード塗布、エクストルージョン塗
布装置等により、まず下層を塗布し、下層がウェット状
態のうちに特公平１−４６１８６や特開昭６０−２３８
１７９、特開平２−２６５６７２に開示されている支持
体加圧型エクストルージョン塗布装置により上層を塗布
する方法。第二に特開昭６３−８８０８０、特開平２−
１７９７１、特開平２−２６５６７２に開示されている
ような塗布液通液スリットを二つ内蔵する一つの塗布ヘ
ッドにより上下層をほぼ同時に塗布する方法。第三に特
開平２−１７４９６５に開示されているバックアップロ
ール付きエクストルージョン塗布装置により上下層をほ
ぼ同時に塗布する方法である。なお、磁性粒子の凝集に
よる磁気記録媒体の電磁変換特性等の低下を防止するた
め、特開昭６２−９５１７４や特開平１−２３６９６８
に開示されているような方法により塗布ヘッド内部の塗
布液にせん断を付与することが望ましい。さらに、塗布
液の粘度については、特開平３−８４７１に開示されて
いる数値範囲を満足する必要がある。重層構成を実現す
るには下層を塗布し乾燥させたのち、その上に磁性層を
設ける逐次重層塗布をもちいてもむろんかまわず、本発
明の効果が失われるものではない。ただし、塗布欠陥を
少なくし、ドロップアウトなどの品質を向上させるため
には、前述の同時重層塗布を用いることが好ましい。 【００５４】デイスクの場合、配向装置を用いず無配向
でも十分に等方的な配向性が得られることもあるが、コ
バルト磁石を斜めに交互に配置すること、ソレノイドで
交流磁場を印加するなど公知のランダム配向装置を用い
ることが好ましい。等方的な配向とは強磁性金属微粉末
の場合、一般的には面内２次元ランダムが好ましいが、
垂直成分をもたせて３次元ランダムとすることもでき
る。六方晶フェライトの場合は一般的に面内および垂直
方向の３次元ランダムになりやすいが、面内２次元ラン
ダムとすることも可能である。また異極対向磁石など公
知の方法を用い、垂直配向とすることで円周方向に等方
的な磁気特性を付与することもできる。特に高密度記録
を行う場合は垂直配向が好ましい。また、スピンコート
を用い円周配向をしてもよい。 【００５５】磁気テープの場合はコバルト磁石やソレノ
イドを用いて長手方向に配向する。乾燥風の温度、風
量、塗布速度を制御することで塗膜の乾燥位置を制御で
きる様にすることが好ましく、塗布速度は２０ｍ／分〜
１０００ｍ／分、乾燥風の温度は６０℃以上が好まし
い、また磁石ゾ−ンに入る前に適度の予備乾燥を行なう
こともできる。 【００５６】上記塗布、乾燥後、通常、磁気記録媒体に
カレンダー処理を施す。カレンダー処理ロ−ルとしてエ
ポキシ、ポリイミド、ポリアミド、ポリイミドアミド等
の耐熱性のあるプラスチックロ−ルまたは金属ロ−ルで
処理するが、特に両面磁性層とする場合は金属ロ−ル同
志で処理することが好ましい。処理温度は、好ましくは
５０℃以上、さらに好ましくは１００℃以上である。線
圧力は好ましくは２００ｋｇ／ｃｍ（１９６ｋＮ／ｍ）
以上、さらに好ましくは３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ
／ｍ）以上である。 【００５７】［物理特性］本発明になる磁気記録媒体の
磁性層の飽和磁束密度は、好ましくは０．１〜０．３Ｔ
である。磁性層の抗磁力Ｈｃは１５９ｋＡ／ｍ（２００
０Ｏｅ）〜３９８ｋＡ／ｍ（５０００Ｏｅ）が好まし
く、１５９〜２３９ｋＡ／ｍ（２０００〜３０００Ｏ
ｅ）が更に好ましい。抗磁力の分布は狭い方が好まし
く、ＳＦＤは０．６以下が好ましい。磁気ディスクで
は、角形比は２次元ランダムの場合は０．５５以上０．
６７以下で、好ましくは０．５８以上、０．６４以下、
３次元ランダムの場合は０．４５以上、０．５５以下が
好ましく、垂直配向の場合は垂直方向に０．６以上好ま
しくは０．７以上、反磁界補正を行った場合は０．７以
上好ましくは０．８以上である。２次元ランダム、３次
元ランダムとも配向度比は０．８以上が好ましい。２次
元ランダムの場合、垂直方向の角形比、Ｂｒ、Ｈｃは面
内方向の０．１〜０．５倍以内とすることが好ましい。 【００５８】磁気テープの場合、角型比は通常、０．５
５以上、好ましくは０．７以上である。本発明の磁気記
録媒体のヘッドに対する摩擦係数は温度−１０℃から４
０℃、湿度０％から９５％の範囲において０．５以下、
好ましくは０．３以下、表面固有抵抗は好ましくは磁性
面１０⁴ 〜１０¹²オ−ム／ｓｑ、帯電位は−５００Ｖか
ら＋５００Ｖ以内が好ましい。磁性層の０．５％伸びで
の弾性率は面内各方向で好ましくは１００〜２０００Ｋ
ｇ／ｍｍ²（０．９８〜１９．６ＧＰａ）、破断強度は
好ましくは１０〜７０Ｋｇ／ｍｍ²（９８〜６８６ＭＰ
ａ）、磁気記録媒体の弾性率は面内各方向で好ましくは
１００〜１５００Ｋｇ／ｍｍ²（０．９８〜１４．７Ｇ
Ｐａ）、残留のびは好ましくは０．５％以下、１００℃
以下のあらゆる温度での熱収縮率は好ましくは１％以
下、さらに好ましくは０．５％以下、もっとも好ましく
は０．１％以下である。磁性層のガラス転移温度（１１
０Ｈｚで測定した動的粘弾性測定の損失弾性率の極大
点）は５０℃以上１２０℃以下が好ましく、下層非磁性
層のそれは０℃〜１００℃が好ましい。損失弾性率は１
×１０⁹〜８×１０¹⁰μＮ／ｃｍ²の範囲にあることが好
ましく、損失正接は０．２以下であることが好ましい。
損失正接が大きすぎると粘着故障が発生しやすい。これ
らの熱特性や機械特性は媒体の面内各方向で１０％以内
でほぼ等しいことが好ましい。磁性層中に含まれる残留
溶媒は好ましくは１００ｍｇ／ｍ²以下、さらに好まし
くは１０ｍｇ／ｍ²以下である。塗布層が有する空隙率
は非磁性層、磁性層とも好ましくは３０容量％以下、さ
らに好ましくは２０容量％以下である。空隙率は高出力
を果たすためには小さい方が好ましいが、目的によって
はある値を確保した方が良い場合がある。例えば、繰り
返し用途が重視されるディスク媒体では空隙率が大きい
方が走行耐久性は好ましいことが多い。 【００５９】磁性層の中心面平均表面粗さＲａはＷＹＫ
Ｏ社製ＴＯＰＯ−３Ｄを用いて約２５０μｍ×２５０μ
ｍの面積での測定で４．０ｎｍ以下、好ましくは３．８
ｎｍ以下、さらに好ましくは３．５ｎｍ以下である。磁
性層の最大高さＲｍａｘは０．５μｍ以下、十点平均粗
さＲｚは０．３μｍ以下、中心面山高さＲｐは０．３μ
ｍ以下、中心面谷深さＲｖは０．３μｍ以下、中心面面
積率Ｓｒは２０％以上、８０％以下、平均波長λａは５
μｍ以上、３００μｍ以下が好ましい。磁性層の表面突
起は前述の通りに設定することにより電磁変換特性、摩
擦係数を最適化することが好ましい。これらは支持体の
フィラ−による表面性のコントロ−ルや前述したように
磁性層に添加する粉体の粒径と量、カレンダー処理のロ
−ル表面形状などで容易にコントロ−ルすることができ
る。カールは±３ｍｍ以内とすることが好ましい。 【００６０】本発明の磁気記録媒体で非磁性層と磁性層
を有する場合、目的に応じ非磁性層と磁性層でこれらの
物理特性を変えることができるのは容易に推定されるこ
とである。例えば、磁性層の弾性率を高くし走行耐久性
を向上させると同時に非磁性層の弾性率を磁性層より低
くして磁気記録媒体のヘッドへの当りを良くするなどで
ある。 【００６１】 【実施例】 ＜塗料の作成＞ 磁性塗料１ （六方晶系フェライト：ディスク） バリウムフェライト磁性粉 １００部 平均板径：３０ｎｍ、平均板状比：３、Ｈｃ：２３００Ｏｅ（≒１８４ｋ Ａ／ｍ）、σｓ：５４Ａ・ｍ²／ｋｇ 塩化ビニル共重合体 ＭＲ５５５（日本ゼオン社製） １０部 ダイアモンド微粉（平均粒子径：０．２０μｍ） １．５部 カ−ボンブラック ＃５５（旭カーボン社製） ０．５部 イソヘキサデシルステアレート ５部 ステアリン酸 １部 オレイン酸 １部 メチルエチルケトン １２０部 シクロヘキサノン ８０部 【００６２】 磁性塗料２（六方晶系フェライト：テープ） バリウムフェライト磁性粉 １００部 平均板径：２６ｎｍ、平均板状比：３、Ｈｃ：２５００Ｏｅ（≒２００ｋ Ａ／ｍ）、σｓ：５１Ａ・ｍ²／ｋｇ 塩化ビニル系共重合体 ＭＲ５５５（日本ゼオン社製） １０部 α−アルミナ ＨＩＴ６０Ａ（住友化学社製） ８部 カ−ボンブラック（平均粒子径：０．０１５μｍ） ＃５５（旭カーボン社製） ０．５部 ステアリン酸 ０．５部 ブチルステアレート ２部 メチルエチルケトン ２３０部 シクロヘキサノン １５０部 【００６３】 非磁性塗料１（非磁性下層用：ディスク） 非磁性粉末 α酸化鉄 １００部 平均長軸長：０．０９μｍ、ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ²／ｇ ｐＨ：７ ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｇ／１００ｇ、 表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃（８重量％） カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２５部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １３部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ３．５部 イソヘキサデシルステアレート ６部 オレイン酸 １．３部 ステアリン酸 １．３部 メチルエチルケトン ２３０部 シクロヘキサノン １５５部 【００６４】 非磁性塗料２（非磁性下層用：テープ ） 非磁性粉末 α酸化鉄 １００部 平均長軸長：０．０９μｍ、ＢＥＴ法による比表面積：５０ｍ²／ｇ ｐＨ：７ ＤＢＰ吸油量：２７〜３８ｇ／１００ｇ、 表面処理層：Ａｌ₂Ｏ₃（８重量％） カ−ボンブラック コンダクテックスＳＣ−Ｕ（コロンビアンカーボン社製） ２５部 塩化ビニル共重合体 ＭＲ１０４（日本ゼオン社製） １３部 ポリウレタン樹脂 ＵＲ８２００（東洋紡社製） ５部 フェニルホスホン酸 ３．５部 ブチルステアレート １部 ステアリン酸 ２部 メチルエチルケトン ２０５部 シクロヘキサノン １３５部 【００６５】製法１ ディスク（ディスクＮｏ．１〜
８） ディスクＮｏ．１の製造 上記の磁性塗料１及び非磁性塗料１のそれぞれについ
て、各成分をニ−ダで混練したのち、サンドミルをもち
いて分散液を１０回循環して分散させた。得られた分散
液にポリイソシアネ−トを非磁性層の塗布液には６．５
部、さらにメチルエチルケトン７部を加え，１μｍの平
均孔径を有するフィルターを用いて濾過し、ディスク用
非磁性層形成用および磁性層形成用の塗布液をそれぞれ
調製した。得られた非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さが
１．５μｍになるようにさらにその直後にその上に磁性
層の厚さが０．１５μｍになるように、厚さ６２μｍの
ポリエチレンテレフタレート（表１記載）支持体上に同
時重層塗布をおこない、乾燥後７段のカレンダで温度９
０℃、線圧３００ｋｇ／ｃｍ（２９４ｋＮ／ｍ）にて処
理を行った。これらの操作を支持体の両面に施した。
３．５吋に打ち抜き表面研磨処理施してディスクＮｏ．
１を得た。 【００６６】ディスクＮｏ．２〜８の製造 ディスクＮｏ．１の製造において、表面粗さを周波数分
析した空間周波数強度及び表面突起個数が表１記載の支
持体に変更した他は上記製法で磁気ディスクを作成し
た。 表面突起個数：光学顕微鏡で支持体表面１００ｍｍ²面
積中の突起をマーキングし、ＷＹＫＯ社製ＨＤ２０００
を用いて高さを測定し、０．１〜０．５μｍの数をカウ
ントした。 【００６７】 【表１】 ディスクＮｏ．９〜１２の製造 ディスクＮｏ．９〜１２は上記＜塗料の作成＞で使用し
たバリウムフェライトに変えて以下表２のバリウムフェ
ライトを用いた他は実施例１と同様に磁気ディスクを作
成した。 【００６８】 【表２】 【００６９】ディスクＮｏ．１３〜１７の製造 ディスクＮｏ．１３はディスクＮｏ．４の製法でカレン
ダー条件を温度９５℃、線圧４００Ｋｇ／ｃｍで実施
し、同様に作成した。ディスクＮｏ．１４はディスクＮ
ｏ．３の製法で、磁性塗料の分散を１．５倍（１５回循
環）を行って、同様に作成した。ディスクＮｏ．１５は
ディスクＮｏ．２の上層処方のα−アルミナの平均粒子
径を０．３５μｍかつその部数を１２部に変更した他は
同等の方法で磁気ディスクを作成した。ディスクＮｏ．
１６はディスクＮｏ．４の製法で下層液のみ塗布した
後、カレンダー処理を行った後、上層を塗布し、再度カ
レンダー処理を施して作成した。ディスクＮｏ．１７は
ディスクＮｏ．３を番手８０００の研磨テープでバーニ
ッシュ処理を行って作成した。 【００７０】製法２ コンピュ−タ−テープ（テープＮ
ｏ．１〜８） テープＮｏ．１の製造 上記の磁性塗料２及び非磁性塗料２のそれぞれについ
て、各成分をニ−ダで混練したのち、サンドミルをもち
いて１０回循環させて分散させた。得られた分散液にポ
リイソシアネ−トを非磁性層の塗布液には２．５部、さ
らにメチルエチルケトン３部を加え，１μｍの平均孔径
を有するフィルターを用いて濾過し、非磁性層形成用お
よび磁性層形成用の塗布液をそれぞれ調製した。得られ
た非磁性層塗布液を、乾燥後の厚さが１．５μｍになる
ようにさらにその直後にその上に磁性層の厚さが０．１
０μｍになるように、ポリエチレンテレフタレート（表
３記載）支持体上に同時重層塗布をおこない、両層がま
だ湿潤状態にあるうちに６００ｍＴの磁力を持つコバル
ト磁石と６００ｍＴの磁力を持つソレノイドにより配向
させた。乾燥後、金属ロ−ルのみから構成される７段の
カレンダ−で温度９０℃にて分速２００ｍ／ｍｉｎで処
理を行い、その後、厚み０．５μｍのバック層（カ−ボ
ンブラック 平均粒子サイズ：１７ｎｍ １００部、炭
酸カルシウム 平均粒子サイズ：４０ｎｍ ８０部、α
アルミナ 平均粒子サイズ：２００ｎｍ ５部をニトロ
セルロ−ス樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリイソシアネ−
トに分散）を塗布した。３．８ｍｍの幅にスリットし、
スリット品の送り出し、巻き取り装置を持った装置に不
織布とカミソリブレ−ドが磁性面に押し当たるように取
り付け、テ−プクリ−ニング装置で磁性層の表面のクリ
−ニングを行い、テープＮｏ．１の試料を得た。 【００７１】テープＮｏ．２〜８の製造 テープＮｏ．１の製造において、表面粗さを周波数分析
した空間周波数強度及び表面突起個数が表３記載の支持
体に変更した他は上記製法で磁気テープを作成した。 表面突起個数：光学顕微鏡で支持体表面１００ｍｍ²面
積中の突起をマーキングし、ＷＹＫＯ社製ＨＤ２０００
を用いて高さを測定し、０．１〜０．５μｍの数をカウ
ントした。 【００７２】 【表３】 【００７３】テープＮｏ．９〜１２の製造 テープＮｏ．９〜１２は上記＜塗料の作成＞で使用した
バリウムフェライトに変えて以下表４のバリウムフェラ
イトを用いた他はテープＮｏ．１と同様に磁気テープを
作成した。 【００７４】 【表４】 【００７５】テープＮｏ．１３〜１７の製造 テープＮｏ．１３はテープＮｏ．４の製法でカレンダー
条件を温度９５℃、線圧４００Ｋｇ／ｃｍで実施し、同
様に作成した。テープＮｏ．１４はテープＮｏ．３の製
法で、磁性塗料の分散を１．５倍（１５回循環）を行っ
て、同様に作成した。テープＮｏ．１５はテープＮｏ．
２の上層処方のダイアモンド微粉の平均粒子径を０．３
５μｍかつその部数を３部に変更した他は同等の方法で
磁気テープを作成した。テープＮｏ．１６はテープＮ
ｏ．４の製法で下層液のみ塗布した後、カレンダー処理
を行った後、上層を塗布し、再度カレンダー処理を施し
て作成した。テープＮｏ．１７はテープＮｏ．３をカミ
ソリブレード処理を行って作成した。 【００７６】上記得られたディスク及びテープの各試料
を下記により評価し、結果を表５及び６に示した。 （１）空間周波数強度 ＷＹＫＯ社製非接触型表面粗さ計ＴＯＰＯ３Ｄを用いて
２５０μｍ×２５０μｍの面積の表面粗さを測定し、周
波数分析し、空間周波数１００／ｍｍと５００／ｍｍの
強度を測定した。 （２）出力、ノイズ、サーマルアスペリテイ（ディス
ク）：記録ヘッド（ＭＩＧ、ギャップ０．１５μｍ、
１．８Ｔ）と再生用ＭＲヘッドをスピンスタンドに取り
付けて測定した。サーマルアスペリテイは１トラックで
の発生数をカウントした。回転数３６００ｒｐｍ、半径
３０ｍｍ、ノイズはＤＣノイズ。 （３）出力、ノイズ、サーマルアスペリテイ（テー
プ）：記録ヘッド（ＭＩＧ、ギャップ０．１５μｍ、
１．８Ｔ）と再生用ＭＲヘッドをドラムテスターに取り
付けて測定した。サーマルアスペリテイは再生２０ｍｓ
ｅｃで発生する個数をカウントした。ヘッド−メデイア
相対速度１５ｍ／ｓｅｃ、ノイズは変調ノイズを測定。 【００７７】 【表５】 【００７８】 【表６】 【００７９】 【発明の効果】上記実施例に示す様に、本発明による磁
気記録媒体は出力、ノイズ、サーマルアスペリテイ特性
に優れる。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 【請求項１】 支持体上に実質的に非磁性である下層と
   強磁性六方晶フェライト粉末を結合剤中に分散してなる
   磁性層をこの順に設けたＭＲヘッド再生用磁気記録媒体
   において、前記磁性層の表面粗さを周波数分析した空間
   周波数１００／ｍｍの強度が１００００ｎｍ³以下であ
   り、空間周波数５００／ｍｍの強度が５０〜５００ｎｍ
   ³であり、且つ前記強磁性六方晶フェライト粉末の平均
   板径が１５〜３５ｎｍであることを特徴とする磁気記録
   媒体。