JP2003055279A - 高純度四塩化炭素の製造方法 - Google Patents
高純度四塩化炭素の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 ブロモクロロメタン類、特にブロモジクロロ
メタンを含有する粗四塩化炭素中のブロモクロロメタン
類を極めて容易に四塩化炭素に変換することができ、単
に蒸留のみでは現実的に達成できない高純度の四塩化炭
素を得ることができる四塩化炭素を製造高純度四塩化炭
素の製造方法を提供する。 【解決手段】 ブロモクロロメタン類を含有する粗四塩
化炭素から高純度四塩化炭素を製造する方法において、
塩素の存在下、該粗四塩化炭素に２００ｎｍ〜５００ｎ
ｍの波長の紫外線または可視光線を照射し、必要に応じ
て、高沸物を蒸留により除去して高純度四塩化炭素を得
る。
メタンを含有する粗四塩化炭素中のブロモクロロメタン
類を極めて容易に四塩化炭素に変換することができ、単
に蒸留のみでは現実的に達成できない高純度の四塩化炭
素を得ることができる四塩化炭素を製造高純度四塩化炭
素の製造方法を提供する。 【解決手段】 ブロモクロロメタン類を含有する粗四塩
化炭素から高純度四塩化炭素を製造する方法において、
塩素の存在下、該粗四塩化炭素に２００ｎｍ〜５００ｎ
ｍの波長の紫外線または可視光線を照射し、必要に応じ
て、高沸物を蒸留により除去して高純度四塩化炭素を得
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高純度四塩化炭素
の製造方法に関する。詳しくは、ブロモクロロメタン類
を含有する粗四塩化炭素から高純度四塩化炭素を製造す
る方法を提供するものである。
の製造方法に関する。詳しくは、ブロモクロロメタン類
を含有する粗四塩化炭素から高純度四塩化炭素を製造す
る方法を提供するものである。
【０００２】
【従来の技術】四塩化炭素は、例えば、メタンの熱塩素
化、メタノールと塩化水素との反応により生成する塩化
メチルの液相触媒塩素化などの方法において生成する。
かかる四塩化炭素は、塩素化後これより低次の塩素化物
を蒸留により順次分離した後の残渣として得られる。
化、メタノールと塩化水素との反応により生成する塩化
メチルの液相触媒塩素化などの方法において生成する。
かかる四塩化炭素は、塩素化後これより低次の塩素化物
を蒸留により順次分離した後の残渣として得られる。
【０００３】また、これら塩素化には、塩化ナトリウム
の電気分解により製造される塩素が工業的に使用される
が、該塩化ナトリウム中には臭素分が２００〜３００ｐ
ｐｍ含まれているため（例えば、海塩の化学３版、日本
海水学会編、昭和４１年６月１日発行、４６３頁）、塩
素化に使用される塩素中には臭素が含まれる。このた
め、上記残渣として得られる四塩化炭素中には、該臭素
による副生物であるブロモクロロメタン類が不純物とし
て数百ｐｐｍ〜５％程度含まれる。
の電気分解により製造される塩素が工業的に使用される
が、該塩化ナトリウム中には臭素分が２００〜３００ｐ
ｐｍ含まれているため（例えば、海塩の化学３版、日本
海水学会編、昭和４１年６月１日発行、４６３頁）、塩
素化に使用される塩素中には臭素が含まれる。このた
め、上記残渣として得られる四塩化炭素中には、該臭素
による副生物であるブロモクロロメタン類が不純物とし
て数百ｐｐｍ〜５％程度含まれる。
【０００４】一方、四塩化炭素の用途としては殺虫剤製
造原料や農薬製造原料の他、代替フロンの製造原料とし
ての用途がある。
造原料や農薬製造原料の他、代替フロンの製造原料とし
ての用途がある。
【０００５】上記原料として使用される四塩化炭素中に
ブロモクロロメタン類、特にブロモジクロロメタンが含
まれると、目的とする製品を製造する際の精製工程を煩
雑にしたり、最終製品中に不純物として混入したりする
原因となるため、四塩化炭素は高純度で上記用途に供給
することが求められている。
ブロモクロロメタン類、特にブロモジクロロメタンが含
まれると、目的とする製品を製造する際の精製工程を煩
雑にしたり、最終製品中に不純物として混入したりする
原因となるため、四塩化炭素は高純度で上記用途に供給
することが求められている。
【０００６】従来、工業的にはブロモクロロメタン類を
含有する粗四塩化炭素の精製は蒸留により行うのが一般
的である。しかしながら、ブロモクロロメタン類、特に
ブロモジクロロメタンは四塩化炭素の揮発度に非常に接
近した揮発度を有するため、過大な蒸留塔を使用し、し
かも、殆どが四塩化炭素である蒸留塔塔底液を大量に抜
出すような操作法を採用しなければならず、抜出した液
は、燃料を加えて燃焼させて廃棄処分せざるを得ないの
が実情である。また、この方法では、旧来消化剤として
使用されたこともあるほど燃焼し難い四塩化炭素を燃焼
させるために大量の燃料を必要とするため、環境保護や
経済性の面でも満足できる方法ではなかった。
含有する粗四塩化炭素の精製は蒸留により行うのが一般
的である。しかしながら、ブロモクロロメタン類、特に
ブロモジクロロメタンは四塩化炭素の揮発度に非常に接
近した揮発度を有するため、過大な蒸留塔を使用し、し
かも、殆どが四塩化炭素である蒸留塔塔底液を大量に抜
出すような操作法を採用しなければならず、抜出した液
は、燃料を加えて燃焼させて廃棄処分せざるを得ないの
が実情である。また、この方法では、旧来消化剤として
使用されたこともあるほど燃焼し難い四塩化炭素を燃焼
させるために大量の燃料を必要とするため、環境保護や
経済性の面でも満足できる方法ではなかった。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、ブロモクロロメタン類を含有する粗四塩化炭素から
高純度の四塩化炭素を製造する方法において、過大な蒸
留塔を使用する必要がなく、且つ不純物除去のために廃
棄処分する四塩化炭素の量が少なく、生産性良く高純度
の四塩化炭素を製造する方法を提供することにある。
は、ブロモクロロメタン類を含有する粗四塩化炭素から
高純度の四塩化炭素を製造する方法において、過大な蒸
留塔を使用する必要がなく、且つ不純物除去のために廃
棄処分する四塩化炭素の量が少なく、生産性良く高純度
の四塩化炭素を製造する方法を提供することにある。
【０００８】
【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記目的
を達成するために研究を重ねた結果、ブロモクロロメタ
ン類を含有する粗四塩化炭素に塩素の存在下、特定の波
長の紫外線または可視光線を照射することにより、該ブ
ロモクロロメタン類を極めて容易に四塩化炭素に変換す
ることができ、前記蒸留のみでは現実的に達成できない
高純度の四塩化炭素を得ることができること、更には、
ブロモクロロメタン類が残存する場合でも、特に分離の
困難なブロモジクロロメタンを低減することができ、通
常の蒸留により該ブロモクロロメタン類を高度に除去し
て、高純度の四塩化炭素を製造し得ることを見い出し、
本発明を完成するに至った。
を達成するために研究を重ねた結果、ブロモクロロメタ
ン類を含有する粗四塩化炭素に塩素の存在下、特定の波
長の紫外線または可視光線を照射することにより、該ブ
ロモクロロメタン類を極めて容易に四塩化炭素に変換す
ることができ、前記蒸留のみでは現実的に達成できない
高純度の四塩化炭素を得ることができること、更には、
ブロモクロロメタン類が残存する場合でも、特に分離の
困難なブロモジクロロメタンを低減することができ、通
常の蒸留により該ブロモクロロメタン類を高度に除去し
て、高純度の四塩化炭素を製造し得ることを見い出し、
本発明を完成するに至った。
【０００９】即ち、本発明は、ブロモクロロメタン類を
含有する粗四塩化炭素から高純度四塩化炭素を製造する
方法において、塩素の存在下、該粗四塩化炭素に２００
ｎｍ〜５００ｎｍの波長の紫外線または可視光線を照射
（以下、光塩素化とも言う）することを特徴とする高純
度四塩化炭素の製造方法を提供するものである。
含有する粗四塩化炭素から高純度四塩化炭素を製造する
方法において、塩素の存在下、該粗四塩化炭素に２００
ｎｍ〜５００ｎｍの波長の紫外線または可視光線を照射
（以下、光塩素化とも言う）することを特徴とする高純
度四塩化炭素の製造方法を提供するものである。
【００１０】
【発明の実施の形態】本発明において高純度四塩化炭素
の製造方法の対象となる原料の粗四塩化炭素は、ブロモ
クロロメタン類、具体的にはブロモクロロメタン、ブロ
モジクロロメタン、ブロモトリクロロメタンを含有する
ものである。特に、少なくともブロモジクロロメタンを
含有する粗四塩化炭素は、ブロモジクロロメタンと四塩
化炭素の揮発度が非常に接近しているため、蒸留のみで
分離することが困難であり、本発明が最も有効である。
の製造方法の対象となる原料の粗四塩化炭素は、ブロモ
クロロメタン類、具体的にはブロモクロロメタン、ブロ
モジクロロメタン、ブロモトリクロロメタンを含有する
ものである。特に、少なくともブロモジクロロメタンを
含有する粗四塩化炭素は、ブロモジクロロメタンと四塩
化炭素の揮発度が非常に接近しているため、蒸留のみで
分離することが困難であり、本発明が最も有効である。
【００１１】本発明の対象とする粗四塩化炭素中のブロ
モクロロメタン類の含有量は特に制限されないが、０．
２〜１０％を含有した粗四塩化炭素が好適に除去可能で
ある。
モクロロメタン類の含有量は特に制限されないが、０．
２〜１０％を含有した粗四塩化炭素が好適に除去可能で
ある。
【００１２】また、上記粗四塩化炭素中には、光塩素化
が進行可能な別の化合物を含んでいても良く、本発明の
方法を実施することによって、高次の塩素化物に変換さ
れ、高沸点化されることとなり、必要に応じて実施され
る後記の蒸留において容易に分離することができる。
が進行可能な別の化合物を含んでいても良く、本発明の
方法を実施することによって、高次の塩素化物に変換さ
れ、高沸点化されることとなり、必要に応じて実施され
る後記の蒸留において容易に分離することができる。
【００１３】こうした粗四塩化炭素としては、工業的に
は、メタンの熱塩素化反応物から塩化メチレン、クロロ
ホルムを蒸留分離したあとの蒸留残渣、メタノールと塩
化水素との反応で生成する塩化メチルをラジカル開始
剤、例えば、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ベンゾイ
ルパーオキサイド等の過酸化物、１，１−アゾビス−１
−シクロヘキサンニトリル、アゾビスイソブチロニトリ
ル等のアゾビスニトリル類、の存在下塩素化させて製造
される反応物から塩化メチレン、クロロホルムを蒸留分
離したあとの蒸留残渣を挙げることができる。一般にこ
うした蒸留残渣は、原料塩素中に臭素が含まれるため、
ブロモクロロメタン類を数百ｐｐｍ〜５％含んでいる。
この他、数百ｐｐｍ〜数％のクロロホルム、数百ｐｐｍ
〜数％の高沸成分を含むのが一般的である。
は、メタンの熱塩素化反応物から塩化メチレン、クロロ
ホルムを蒸留分離したあとの蒸留残渣、メタノールと塩
化水素との反応で生成する塩化メチルをラジカル開始
剤、例えば、ジ−ｔ−ブチルパーオキサイド、ベンゾイ
ルパーオキサイド等の過酸化物、１，１−アゾビス−１
−シクロヘキサンニトリル、アゾビスイソブチロニトリ
ル等のアゾビスニトリル類、の存在下塩素化させて製造
される反応物から塩化メチレン、クロロホルムを蒸留分
離したあとの蒸留残渣を挙げることができる。一般にこ
うした蒸留残渣は、原料塩素中に臭素が含まれるため、
ブロモクロロメタン類を数百ｐｐｍ〜５％含んでいる。
この他、数百ｐｐｍ〜数％のクロロホルム、数百ｐｐｍ
〜数％の高沸成分を含むのが一般的である。
【００１４】尚、上記高沸成分は、本発明を実施するに
あたり、予め、蒸留により除去することが望ましい。
あたり、予め、蒸留により除去することが望ましい。
【００１５】本発明は、上記粗四塩化炭素に、塩素の存
在下、２００〜５００ｎｍの波長の紫外線または可視光
線を照射することを最大の特徴とする。塩素が存在しな
かったり、上記特定の波長の光を照射しないと、目的と
する光塩素化が進行しない。
在下、２００〜５００ｎｍの波長の紫外線または可視光
線を照射することを最大の特徴とする。塩素が存在しな
かったり、上記特定の波長の光を照射しないと、目的と
する光塩素化が進行しない。
【００１６】このようにすることによりブロモクロロメ
タン類は、例えばブロモクロロメタンは、ブロモジクロ
ロメタン、ブロモトリクロロメタン、四塩化炭素へ、ブ
ロモジクロロメタンは、ブロモトリクロロメタン、四塩
化炭素へ、ブロモトリクロロメタンは四塩化炭素へと、
最終的には四塩化炭素に逐次に塩素化される。
タン類は、例えばブロモクロロメタンは、ブロモジクロ
ロメタン、ブロモトリクロロメタン、四塩化炭素へ、ブ
ロモジクロロメタンは、ブロモトリクロロメタン、四塩
化炭素へ、ブロモトリクロロメタンは四塩化炭素へと、
最終的には四塩化炭素に逐次に塩素化される。
【００１７】光塩素化の進行は、塩素化が進行可能な化
合物の量に対する塩素の量を調節することによって、制
御することができる。この塩素の使用量は特に制限され
るものではないが、ブロモクロロメタン類をほぼ完全に
ブロモトリクロロメタンまたは四塩化炭素に変換するの
に必要なモル量以上を供給することが望ましい。一般に
全ての光塩素化が進行し得る化合物の総モル数の０．８
〜２０モル倍、好ましくは０．９〜１０モル倍の範囲で
ある。塩素の使用量の好適値は実験的に確認して決定す
ることができる。上記光塩素化により、ブロモジクロロ
メタンを５ｐｐｍ以下となるまで行うことが、後に蒸留
による精製を行う場合、得られる四塩化炭素の高純度化
が容易となり且つ不純物除去のために廃棄処分する四塩
化炭素の量が少なくなるために好ましい。勿論、光塩素
化により、ブロモクロロメタン類を殆どゼロにすること
もでき、この場合は蒸留による精製は特に必要としな
い。
合物の量に対する塩素の量を調節することによって、制
御することができる。この塩素の使用量は特に制限され
るものではないが、ブロモクロロメタン類をほぼ完全に
ブロモトリクロロメタンまたは四塩化炭素に変換するの
に必要なモル量以上を供給することが望ましい。一般に
全ての光塩素化が進行し得る化合物の総モル数の０．８
〜２０モル倍、好ましくは０．９〜１０モル倍の範囲で
ある。塩素の使用量の好適値は実験的に確認して決定す
ることができる。上記光塩素化により、ブロモジクロロ
メタンを５ｐｐｍ以下となるまで行うことが、後に蒸留
による精製を行う場合、得られる四塩化炭素の高純度化
が容易となり且つ不純物除去のために廃棄処分する四塩
化炭素の量が少なくなるために好ましい。勿論、光塩素
化により、ブロモクロロメタン類を殆どゼロにすること
もでき、この場合は蒸留による精製は特に必要としな
い。
【００１８】本発明において、塩素は、液体でも気体で
も使用可能である。
も使用可能である。
【００１９】塩素を存在させる方法としては、塩素をあ
らかじめ粗四塩化炭素に溶解したのちに紫外線または可
視光線を照射する方法、塩素の供給と紫外線または可視
光線の照射を同一の反応器で行う方法、または両方法を
一緒に行う方法を任意に選択することが可能である。
らかじめ粗四塩化炭素に溶解したのちに紫外線または可
視光線を照射する方法、塩素の供給と紫外線または可視
光線の照射を同一の反応器で行う方法、または両方法を
一緒に行う方法を任意に選択することが可能である。
【００２０】本発明において光塩素化の反応を触媒する
のに必要な光の波長は２００〜５００ｎｍの波長の紫外
線または可視光線である必要がある。２００ｎｍ未満ま
たは５００ｎｍを超える波長の光を照射しても塩素化反
応は殆ど進行しない。
のに必要な光の波長は２００〜５００ｎｍの波長の紫外
線または可視光線である必要がある。２００ｎｍ未満ま
たは５００ｎｍを超える波長の光を照射しても塩素化反
応は殆ど進行しない。
【００２１】このような波長帯域を照射することができ
る光源としては、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ラン
プ、ディープＵＶランプを挙げることができる。特に高
圧水銀ランプを用いるのが好ましい。
る光源としては、キセノンランプ、メタルハライドラン
プ、超高圧水銀ランプ、高圧水銀ランプ、低圧水銀ラン
プ、ディープＵＶランプを挙げることができる。特に高
圧水銀ランプを用いるのが好ましい。
【００２２】また、反応を触媒するのに必要な光エネル
ギーは、あまりに強いとヘキサクロロエタン等の不必要
な化合物に変換される量が増える。一般に、反応物質が
光塩素化反応器に滞在する時間に逆比例し、ブロモクロ
ロメタン類および塩素の濃度、ブロモクロロメタン類以
外に光塩素化が進行可能な化合物が存在する場合は、全
ての塩素化が進行可能な化合物の合計および塩素の濃度
によるが、１〜１０００ＫＪ／ｈ／Ｌの範囲、好ましく
は１０〜５００ＫＪ／ｈ／Ｌの範囲である。
ギーは、あまりに強いとヘキサクロロエタン等の不必要
な化合物に変換される量が増える。一般に、反応物質が
光塩素化反応器に滞在する時間に逆比例し、ブロモクロ
ロメタン類および塩素の濃度、ブロモクロロメタン類以
外に光塩素化が進行可能な化合物が存在する場合は、全
ての塩素化が進行可能な化合物の合計および塩素の濃度
によるが、１〜１０００ＫＪ／ｈ／Ｌの範囲、好ましく
は１０〜５００ＫＪ／ｈ／Ｌの範囲である。
【００２３】本発明において光塩素化の温度は特に制限
されるものではないが、一般に液相の凝固点〜沸点の範
囲で選択可能であるが、１０〜５０℃の範囲であること
が冷却または加熱のエネルギーを勘案すると経済的であ
り好ましい。
されるものではないが、一般に液相の凝固点〜沸点の範
囲で選択可能であるが、１０〜５０℃の範囲であること
が冷却または加熱のエネルギーを勘案すると経済的であ
り好ましい。
【００２４】また、反応圧も特に制限されないが、揮発
による四塩化炭素の損失を抑えるために、大気圧〜０．
５ＭＰａの範囲であることが好ましい。
による四塩化炭素の損失を抑えるために、大気圧〜０．
５ＭＰａの範囲であることが好ましい。
【００２５】上記光塩素化の反応は回分式、半連続式、
連続式のいずれも実施可能である。こうして、粗四塩化
炭素中のブロモクロロメタン類、即ち、ブロモクロロメ
タン（沸点６８℃）、ブロモジクロロメタン（沸点８７
℃）、ブロモトリクロロメタン（沸点１０５℃）を、ブ
ロモトリクロロメタン（沸点１０５℃）または目的物と
同じ四塩化炭素に変換することができる。
連続式のいずれも実施可能である。こうして、粗四塩化
炭素中のブロモクロロメタン類、即ち、ブロモクロロメ
タン（沸点６８℃）、ブロモジクロロメタン（沸点８７
℃）、ブロモトリクロロメタン（沸点１０５℃）を、ブ
ロモトリクロロメタン（沸点１０５℃）または目的物と
同じ四塩化炭素に変換することができる。
【００２６】このようにして得られた光塩素化処理液
は、上記生成物の沸点に対し、四塩化炭素の沸点が７
６．７℃であるため、蒸留等の公知の方法での分離が容
易となる。即ち、過大な蒸留塔を使用する必要がなく、
且つ不純物除去のために廃棄処分しなければならない四
塩化炭素の量を極めて少なくして、ブロモジクロロメタ
ンの濃度が極めて少ない高純度の四塩化炭素を得ること
が可能となる。
は、上記生成物の沸点に対し、四塩化炭素の沸点が７
６．７℃であるため、蒸留等の公知の方法での分離が容
易となる。即ち、過大な蒸留塔を使用する必要がなく、
且つ不純物除去のために廃棄処分しなければならない四
塩化炭素の量を極めて少なくして、ブロモジクロロメタ
ンの濃度が極めて少ない高純度の四塩化炭素を得ること
が可能となる。
【００２７】以下、粗四塩化炭素を光塩素化し、ブロモ
ジクロロメタンの濃度を５ｐｐｍ以下とした反応液を蒸
留する方法を例示する。
ジクロロメタンの濃度を５ｐｐｍ以下とした反応液を蒸
留する方法を例示する。
【００２８】上記反応液はそのまま蒸留することも可能
であるが、一般に塩素化反応で生成した塩化水素及び反
応に用いた過剰塩素が溶解しているため、まず、これら
低沸物を取り除くことが好ましい。
であるが、一般に塩素化反応で生成した塩化水素及び反
応に用いた過剰塩素が溶解しているため、まず、これら
低沸物を取り除くことが好ましい。
【００２９】低沸物を取り除く方法としては、不活性ガ
ス例えば窒素、ヘリウム等によるエアレーション、フラ
ッシュ蒸留、棚段塔、充填塔による蒸留が挙げられる。
ス例えば窒素、ヘリウム等によるエアレーション、フラ
ッシュ蒸留、棚段塔、充填塔による蒸留が挙げられる。
【００３０】次いで、低沸物を除去したフィード液を蒸
留塔に供給して精製する。蒸留設備及び蒸留条件はフィ
ード液の組成にもよるが、四塩化炭素−ブロモジクロロ
メタン、四塩化炭素−ブロモトリクロロメタンの気液平
衡データを採取することにより、蒸留塔の設計をするこ
とも可能であるが、一般に本発明で推奨する光塩素化後
のブロモジクロロメタン濃度が５ｐｐｍ以下であれば、
蒸留理論段は２０段もあれば十分である。
留塔に供給して精製する。蒸留設備及び蒸留条件はフィ
ード液の組成にもよるが、四塩化炭素−ブロモジクロロ
メタン、四塩化炭素−ブロモトリクロロメタンの気液平
衡データを採取することにより、蒸留塔の設計をするこ
とも可能であるが、一般に本発明で推奨する光塩素化後
のブロモジクロロメタン濃度が５ｐｐｍ以下であれば、
蒸留理論段は２０段もあれば十分である。
【００３１】
【発明の効果】以上のように本発明の方法によれば、過
大な蒸留塔を使用する必要がなく、且つ不純物除去のた
めに廃棄処分する四塩化炭素の量を少なくして、高純度
四塩化炭素を得ることが可能である。
大な蒸留塔を使用する必要がなく、且つ不純物除去のた
めに廃棄処分する四塩化炭素の量を少なくして、高純度
四塩化炭素を得ることが可能である。
【００３２】従って、本発明の工業的価値は極めて高い
ものである。
ものである。
【００３３】
【実施例】以下、本発明を更に具体的に説明するため実
施例を示すが、本発明は下記の実施例に限定されるもの
ではない。
施例を示すが、本発明は下記の実施例に限定されるもの
ではない。
【００３４】実施例１〜３
ガス導入管、温度計、ジムロート冷却管、サンプリング
口を供え容器中央口に、内径３８ｍｍ、全長２００ｍｍ
の光源冷却管を取付け、その中に光源として２００ｎｍ
〜５００ｎｍの帯域の放射電力が１５Ｗ、発光アーク長
さが４０ｍｍの高圧水銀ランプ（ウシオ電機（株）ＵＭ
１０２型）を入れた内容積９５０ｍＬの耐熱ガラスの製
円筒フラスコを用い、表１の組成の粗四塩化炭素を５０
０ｍＬ加え、円筒フラスコ全体を遮光した。
口を供え容器中央口に、内径３８ｍｍ、全長２００ｍｍ
の光源冷却管を取付け、その中に光源として２００ｎｍ
〜５００ｎｍの帯域の放射電力が１５Ｗ、発光アーク長
さが４０ｍｍの高圧水銀ランプ（ウシオ電機（株）ＵＭ
１０２型）を入れた内容積９５０ｍＬの耐熱ガラスの製
円筒フラスコを用い、表１の組成の粗四塩化炭素を５０
０ｍＬ加え、円筒フラスコ全体を遮光した。
【００３５】次いで、上記高圧水銀ランプを点灯させ、
光照射が安定になった後、塩素を１８Ｎｍｌ／分で供給
し、常温下でブロモクロロメタン類を塩素化させた。表
１の塩素量を供給後、光照射を停止した。その後、窒素
によるエアレーションにて光塩素化処理液中の溶存塩素
及び塩化水素を除去した。その液組成は表２の通りであ
る。
光照射が安定になった後、塩素を１８Ｎｍｌ／分で供給
し、常温下でブロモクロロメタン類を塩素化させた。表
１の塩素量を供給後、光照射を停止した。その後、窒素
によるエアレーションにて光塩素化処理液中の溶存塩素
及び塩化水素を除去した。その液組成は表２の通りであ
る。
【００３６】次いで、表２の組成を持つ粗四塩化炭素を
理論段数既知の不規則充填物蒸留塔（充填物 ヘリパッ
クＮｏ．２（材質ＳＵＳ３１６ 東京特殊金網(株)製）
にて連続蒸留精製を実施して、高純度四塩化炭素を得
た。蒸留条件(理論段数、還流比、塔底抜出し量／供給
量)および精製結果は表３の通りである。
理論段数既知の不規則充填物蒸留塔（充填物 ヘリパッ
クＮｏ．２（材質ＳＵＳ３１６ 東京特殊金網(株)製）
にて連続蒸留精製を実施して、高純度四塩化炭素を得
た。蒸留条件(理論段数、還流比、塔底抜出し量／供給
量)および精製結果は表３の通りである。
【００３７】実施例４〜８
実施例１と同様に表１の組成の粗四塩化炭素を使用し、
光塩素化処理、エアレーションを実施して高純度四塩化
炭素を得た。その結果は表２の通りである。
光塩素化処理、エアレーションを実施して高純度四塩化
炭素を得た。その結果は表２の通りである。
【００３８】実施例９〜１２
製造方法が異なる表１の組成の粗四塩化炭素を使用し、
実施例１と同様に光塩素化処理、エアレーション及び蒸
留を実施して、高純度四塩化炭素を得た。その条件及び
結果は表２，３の通りである。
実施例１と同様に光塩素化処理、エアレーション及び蒸
留を実施して、高純度四塩化炭素を得た。その条件及び
結果は表２，３の通りである。
【００３９】比較例１〜３
実施例１と同様の組成を持つ粗四塩化炭素を使用し、蒸
留のみを実施して、四塩化炭素を得た。その結果は表３
の通りである。
留のみを実施して、四塩化炭素を得た。その結果は表３
の通りである。
【００４０】
【表１】
【００４１】
【表２】
【００４２】
【表３】
Claims (2)
- 【請求項１】 ブロモクロロメタン類を含有する粗四塩
化炭素から高純度四塩化炭素を製造する方法において、
塩素の存在下、該粗四塩化炭素に２００ｎｍ〜５００ｎ
ｍの波長の紫外線または可視光線を照射することを特徴
とする高純度四塩化炭素の製造方法。 - 【請求項２】 請求項１の光照射後の反応液を蒸留によ
り精製することを特徴とする請求項１記載の高純度四塩
化炭素の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001244222A JP2003055279A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 高純度四塩化炭素の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001244222A JP2003055279A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 高純度四塩化炭素の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003055279A true JP2003055279A (ja) | 2003-02-26 |
Family
ID=19074192
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001244222A Pending JP2003055279A (ja) | 2001-08-10 | 2001-08-10 | 高純度四塩化炭素の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003055279A (ja) |
Citations (5)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPS5262207A (en) * | 1975-11-13 | 1977-05-23 | Daikin Ind Ltd | Purification process for chloroform |
| JPS57142927A (en) * | 1981-02-27 | 1982-09-03 | Asahi Glass Co Ltd | Preparation of chloromethane |
| JPS5992903A (ja) * | 1982-11-16 | 1984-05-29 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 塩素中の臭素除去方法 |
| JPS61254534A (ja) * | 1985-05-02 | 1986-11-12 | Mitsui Toatsu Chem Inc | メタン塩化物の製造方法 |
| JPH06172226A (ja) * | 1992-12-03 | 1994-06-21 | Mitsui Toatsu Chem Inc | 塩化メチルの製造方法 |
-
2001
- 2001-08-10 JP JP2001244222A patent/JP2003055279A/ja active Pending
Patent Citations (5)
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