JPS5992903A - 塩素中の臭素除去方法 - Google Patents
塩素中の臭素除去方法Info
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- JPS5992903A JPS5992903A JP19972782A JP19972782A JPS5992903A JP S5992903 A JPS5992903 A JP S5992903A JP 19972782 A JP19972782 A JP 19972782A JP 19972782 A JP19972782 A JP 19972782A JP S5992903 A JPS5992903 A JP S5992903A
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- Japan
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- chlorine
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は塩素中の臭素除去方法に関するものである。
電解によシ塩素を製造する時、原料に岩塩や海水からの
食塩を用いるが、これらの工業用食塩は種々の不純物を
含んでおシ、通常精製して用いられている。ところが臭
素は塩素と性質が類似しているために、通常の精製では
除くことができず、微量の臭素イオンを含んだままの工
業用食塩が電解に供されているのが実情であり、得られ
る塩素も微量の臭素を含んでいる。この微量の臭素を含
む塩素を用い有機塩素化合物を製造した場合には不純物
の臭素に起因する有機臭素化合物も副生ずる。この有機
臭素化合物は同族の塩素化合物よシも熱や光による分解
性が高いために製品である塩素化合物の劣化や着色、装
置の腐食、触媒の被毒等を引き起す。このために、例え
ばクロロホルムを製造する際には副生ずる臭素化合物を
除去するために吸着剤による処理や、臭素化合物を高沸
点の多塩素化物にする処理が行なわれている、１このよ
うな後処理設備は塩素化合物を製造する設備毎に取付け
ねばならず煩雑である。塩素化の原料である塩素中の臭
素含有率が低下できればこのような問題は解決される。
食塩を用いるが、これらの工業用食塩は種々の不純物を
含んでおシ、通常精製して用いられている。ところが臭
素は塩素と性質が類似しているために、通常の精製では
除くことができず、微量の臭素イオンを含んだままの工
業用食塩が電解に供されているのが実情であり、得られ
る塩素も微量の臭素を含んでいる。この微量の臭素を含
む塩素を用い有機塩素化合物を製造した場合には不純物
の臭素に起因する有機臭素化合物も副生ずる。この有機
臭素化合物は同族の塩素化合物よシも熱や光による分解
性が高いために製品である塩素化合物の劣化や着色、装
置の腐食、触媒の被毒等を引き起す。このために、例え
ばクロロホルムを製造する際には副生ずる臭素化合物を
除去するために吸着剤による処理や、臭素化合物を高沸
点の多塩素化物にする処理が行なわれている、１このよ
うな後処理設備は塩素化合物を製造する設備毎に取付け
ねばならず煩雑である。塩素化の原料である塩素中の臭
素含有率が低下できればこのような問題は解決される。
そのためには電解原料の食塩中の臭素濃度を低下させて
おけば良いのであるが、従来から知られている岩塩や海
水中から臭素を分離するのに有効である硫酸存在下に塩
素ガスを吹き込み粗製臭素を得る方法で臭素濃度を低下
させた食塩水では臭素濃度が減少しているものの、硫酸
イオン、塩素酸イオン、次亜塩素酸イオン、過剰の塩素
等を含むので、直接に電解原料の食塩水として用いられ
ない。
おけば良いのであるが、従来から知られている岩塩や海
水中から臭素を分離するのに有効である硫酸存在下に塩
素ガスを吹き込み粗製臭素を得る方法で臭素濃度を低下
させた食塩水では臭素濃度が減少しているものの、硫酸
イオン、塩素酸イオン、次亜塩素酸イオン、過剰の塩素
等を含むので、直接に電解原料の食塩水として用いられ
ない。
また、臭素を含む塩素から純塩素を得る方法としては加
圧下に蒸１留する方法や昇華による方法が知られている
が、液化・蒸留あるいは同化・昇華の過程が不可欠であ
シ、工業的に十分採算がとれる方法ではない。
圧下に蒸１留する方法や昇華による方法が知られている
が、液化・蒸留あるいは同化・昇華の過程が不可欠であ
シ、工業的に十分採算がとれる方法ではない。
本発明者らは工業的に有利な塩素中の臭素除去方法につ
き鋭意検討した結果、臭素を含む塩素を水で洗浄すると
洗浄前の臭素濃度がある濃度以下であると洗浄後の塩素
中の臭素濃度が小さくなることを見出し、更に研究を続
は遂に本発明を完成するに到った。
き鋭意検討した結果、臭素を含む塩素を水で洗浄すると
洗浄前の臭素濃度がある濃度以下であると洗浄後の塩素
中の臭素濃度が小さくなることを見出し、更に研究を続
は遂に本発明を完成するに到った。
即ち本発明は２５００ ｐｐｍ以下の臭素を含有する塩
素を１重量倍以上の実質的に臭素を含まない水で洗浄す
ることを特徴とする塩素中の臭素除去方法である。
素を１重量倍以上の実質的に臭素を含まない水で洗浄す
ることを特徴とする塩素中の臭素除去方法である。
本発明で対象とする塩素は臭素を塩素に対し２５００
ｐｐｍ以下、好ましくは１０００１）ｐｍ以下、よシ好
ましくは５００ ｐｐｍ以下含有するものであシ、その
他の酸素、窒素、水素等の不純物ガスの濃度は１０重量
％以下であるととが望ましい。臭素が塩素に対し２５０
０ ｐｐｍを越えて含まれていると、水で洗浄しても洗
浄後の塩素中の臭素濃度が逆に大きくなったシ、はとん
ど変わらず塩素を損失するだけである。塩素中の臭素濃
度が２５００ｐｐｍを越えている場合は液化蒸留等の方
法によりその臭素濃度を２５００ ｐｐｍ以下、好まし
くは１０００ ｐｐｍ以下にすることによシ多量に臭素
を含む塩素でも本発明の方法に適用できる。
ｐｐｍ以下、好ましくは１０００１）ｐｍ以下、よシ好
ましくは５００ ｐｐｍ以下含有するものであシ、その
他の酸素、窒素、水素等の不純物ガスの濃度は１０重量
％以下であるととが望ましい。臭素が塩素に対し２５０
０ ｐｐｍを越えて含まれていると、水で洗浄しても洗
浄後の塩素中の臭素濃度が逆に大きくなったシ、はとん
ど変わらず塩素を損失するだけである。塩素中の臭素濃
度が２５００ｐｐｍを越えている場合は液化蒸留等の方
法によりその臭素濃度を２５００ ｐｐｍ以下、好まし
くは１０００ ｐｐｍ以下にすることによシ多量に臭素
を含む塩素でも本発明の方法に適用できる。
塩素中の酸素・窒素・水素等の不糾物ガスの濃度が１０
重量％を越えていても良好に臭素の除去はできるのであ
るが、これらの不純物ガスは水にほとんど溶けないため
、洗浄して得られる塩素の純度が低下する。そのため本
発明の方法を適応するには前もって、これら不純物ガス
を除く操作をしておくことが望−ましい。
重量％を越えていても良好に臭素の除去はできるのであ
るが、これらの不純物ガスは水にほとんど溶けないため
、洗浄して得られる塩素の純度が低下する。そのため本
発明の方法を適応するには前もって、これら不純物ガス
を除く操作をしておくことが望−ましい。
本発明の方法を適用するのに好ましい塩素としては電解
塩素をあげることができる。
塩素をあげることができる。
本発明で洗浄に用いる水としては実質的に臭素を含まな
い水が好゛ましく、含んでいても原料塩素中の臭素濃度
をどれくらいに下げるかにょシ変わるが５ ｐｐｍ以下
であることが望ましい。
い水が好゛ましく、含んでいても原料塩素中の臭素濃度
をどれくらいに下げるかにょシ変わるが５ ｐｐｍ以下
であることが望ましい。
洗浄に使用する。水の量は塩素中の臭素濃度、洗浄水の
温度、臭素の除去率等の条件にょシ異なるが、通常該塩
素の１重量倍以上、好ましくは２〜２００重量倍、よシ
好ましくは３〜１５０重量倍である一水の量が塩素の１
重量倍未満では塩素との接触が不十分となシ、臭素の除
去ができないことが多い。
温度、臭素の除去率等の条件にょシ異なるが、通常該塩
素の１重量倍以上、好ましくは２〜２００重量倍、よシ
好ましくは３〜１５０重量倍である一水の量が塩素の１
重量倍未満では塩素との接触が不十分となシ、臭素の除
去ができないことが多い。
洗浄の方法としては充填塔による向流接触法が望ましい
が、実質的に塩素を洗浄することかできる方法であれば
いずれでもよい。
が、実質的に塩素を洗浄することかできる方法であれば
いずれでもよい。
洗浄の温度は、洗浄が常温である場合には０〜８０℃が
適当であり、１０〜５０℃が好゛ましい。
適当であり、１０〜５０℃が好゛ましい。
洗浄の圧力はゲージ圧で−０、５〜１０ ｋｆ’／’ｃ
ｍ２程度が適当である。
ｍ２程度が適当である。
本発明の方法は単に水洗することによって臭素を除去で
き、電解工程と組合せても良いので工業的に有利な方法
である。
き、電解工程と組合せても良いので工業的に有利な方法
である。
以下実施例によシ本発明を説明する。
実施例１
オーストラリア産の岩塩（臭素含有量１５５ｐｐｍ ）
を水銀電解して、臭素２５６ ｐｐｍを含む塩素ガスを
１ ｋｆｌ／ｈｒで得た。この塩素ガスを径１ｃｍのへ
ワックスパツキンを充填した直径１０ ｃｍ長さ１ｍの
洗浄塔の下部に導入した。一方、塔の上部よシ水を１５
ｋ輪ｒで噴霧して塩素ガスを洗浄した。このときの塔
内の温度は２５〜３０℃であり、塔頂での圧力はやや減
圧状態であった。塔頂より０．９２にぬｒで臭素濃度７
５ ｐｐｍの塩素ガスを得た。このときの臭素除去率は
７３％である。
を水銀電解して、臭素２５６ ｐｐｍを含む塩素ガスを
１ ｋｆｌ／ｈｒで得た。この塩素ガスを径１ｃｍのへ
ワックスパツキンを充填した直径１０ ｃｍ長さ１ｍの
洗浄塔の下部に導入した。一方、塔の上部よシ水を１５
ｋ輪ｒで噴霧して塩素ガスを洗浄した。このときの塔
内の温度は２５〜３０℃であり、塔頂での圧力はやや減
圧状態であった。塔頂より０．９２にぬｒで臭素濃度７
５ ｐｐｍの塩素ガスを得た。このときの臭素除去率は
７３％である。
この洗浄済みの塩素を用いてメタンを熱塩素化してクロ
ロホルムを製造したところ、該クロロボルム中にはｉ
ｓ ｏ ｐｐｍのブロモクロロメタンが含まれていた。
ロホルムを製造したところ、該クロロボルム中にはｉ
ｓ ｏ ｐｐｍのブロモクロロメタンが含まれていた。
なお、電解直後の塩素を用いたものではクロロホルム中
のブロモクロロメタンの濃度は４８０ ｐｐｍと多かっ
た。
のブロモクロロメタンの濃度は４８０ ｐｐｍと多かっ
た。
実施例２
臭素６０１）ｐｍを含む塩素ガスを径２−５ｃｍのうノ
ヒリングを充填した塔径１ｍ、充填高さ５ｍの洗浄塔に
２ ｔ ／ ｈｒで塔下部より導入し、塔上部より１８
℃の水を６ｔ／ｈｒで噴霧した。このときの塔頂の圧力
（は−０，０１ｋｇ／ｃｍ２Ｇであり、塔中央部での７
□ｎ度は２５℃であった。塔頂より臭素（製度２８ ｐ
ｐｍの塩素ガスを］ 、９７ ｔ／ｊｎ−で４：”（−
ｏ一方、洗浄水中の塩素濃度は０．５％で、臭素濃度は
ｌｌｐｐｍであった。このときの塩素ガス中の臭素除去
率は５４％である。
ヒリングを充填した塔径１ｍ、充填高さ５ｍの洗浄塔に
２ ｔ ／ ｈｒで塔下部より導入し、塔上部より１８
℃の水を６ｔ／ｈｒで噴霧した。このときの塔頂の圧力
（は−０，０１ｋｇ／ｃｍ２Ｇであり、塔中央部での７
□ｎ度は２５℃であった。塔頂より臭素（製度２８ ｐ
ｐｍの塩素ガスを］ 、９７ ｔ／ｊｎ−で４：”（−
ｏ一方、洗浄水中の塩素濃度は０．５％で、臭素濃度は
ｌｌｐｐｍであった。このときの塩素ガス中の臭素除去
率は５４％である。
実施例
臭素２５６ ｐｐｍを含む塩素ガスを径１・２７ ｃｍ
のテラレットバッキングを高さ３１ηに充填した塔径２
０ ｃｍの洗浄塔にｌ ｋ！ｉ′ｌｈｒ ｆ塔下部に導
入し、塔上部より４５℃の水を１２５ ｋｉｉ’／ｈｒ
て噴霧した。
のテラレットバッキングを高さ３１ηに充填した塔径２
０ ｃｍの洗浄塔にｌ ｋ！ｉ′ｌｈｒ ｆ塔下部に導
入し、塔上部より４５℃の水を１２５ ｋｉｉ’／ｈｒ
て噴霧した。
このときの塔頂での圧力は常圧であり、塔中央部の（品
度は５０℃であった。塔頂より臭素をほとんど含オない
１素ガスを０ 、５５ ｋＦ／ｈｒで得た一経時時に測
定した塩素ガス中の臭素ａ度の最大は７ｐｐｍであった
。臭素除去率は９８％以上と良好であるが、塩素の損失
も４５％と太きかった。
度は５０℃であった。塔頂より臭素をほとんど含オない
１素ガスを０ 、５５ ｋＦ／ｈｒで得た一経時時に測
定した塩素ガス中の臭素ａ度の最大は７ｐｐｍであった
。臭素除去率は９８％以上と良好であるが、塩素の損失
も４５％と太きかった。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １、 ２５００ ｐｐｍ以下の臭素を含有する塩素を１
重量倍以上の実質的に臭素を含まない水で洗浄すること
を特徴とする塩素中の臭素除去方法。 ２、洗浄に用いる水の量が被洗浄塩素の３〜１５０重量
倍である特許請求の範囲第１項記載の塩素中の臭素除去
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19972782A JPS5992903A (ja) | 1982-11-16 | 1982-11-16 | 塩素中の臭素除去方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP19972782A JPS5992903A (ja) | 1982-11-16 | 1982-11-16 | 塩素中の臭素除去方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPS5992903A true JPS5992903A (ja) | 1984-05-29 |
Family
ID=16412606
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP19972782A Pending JPS5992903A (ja) | 1982-11-16 | 1982-11-16 | 塩素中の臭素除去方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPS5992903A (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003055279A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Tokuyama Corp | 高純度四塩化炭素の製造方法 |
| JP2006131478A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Tokuyama Corp | 次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法 |
| WO2007043203A1 (ja) | 2005-10-14 | 2007-04-19 | Kaneka Corporation | 塩素ガス、次亜塩素酸ナトリウム水溶液および液体塩素の製造方法 |
| JP2017052656A (ja) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | 東ソー株式会社 | 次亜塩素酸カルシウム組成物の製造方法 |
-
1982
- 1982-11-16 JP JP19972782A patent/JPS5992903A/ja active Pending
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2003055279A (ja) * | 2001-08-10 | 2003-02-26 | Tokuyama Corp | 高純度四塩化炭素の製造方法 |
| JP2006131478A (ja) * | 2004-11-09 | 2006-05-25 | Tokuyama Corp | 次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法 |
| JP4713128B2 (ja) * | 2004-11-09 | 2011-06-29 | 株式会社トクヤマ | 次亜塩素酸ソーダ水溶液の製造方法 |
| WO2007043203A1 (ja) | 2005-10-14 | 2007-04-19 | Kaneka Corporation | 塩素ガス、次亜塩素酸ナトリウム水溶液および液体塩素の製造方法 |
| US8048203B2 (en) | 2005-10-14 | 2011-11-01 | Kaneka Corporation | Method of producing chlorine gas, aqueous sodium hypochlorite solution and liquid chlorine |
| US8685147B2 (en) | 2005-10-14 | 2014-04-01 | Kaneka Corporation | Method of producing chlorine gas, aqueous sodium hypochlorite solution and liquid chlorine |
| JP2017052656A (ja) * | 2015-09-07 | 2017-03-16 | 東ソー株式会社 | 次亜塩素酸カルシウム組成物の製造方法 |
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