JP2003040649A5 - - Google Patents

Download PDF

Info

Publication number
JP2003040649A5
JP2003040649A5 JP2002110829A JP2002110829A JP2003040649A5 JP 2003040649 A5 JP2003040649 A5 JP 2003040649A5 JP 2002110829 A JP2002110829 A JP 2002110829A JP 2002110829 A JP2002110829 A JP 2002110829A JP 2003040649 A5 JP2003040649 A5 JP 2003040649A5
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
chemical processing
processing liquid
storage tank
glass substrate
liquid
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2002110829A
Other languages
English (en)
Japanese (ja)
Other versions
JP2003040649A (ja
JP3524540B2 (ja
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP2002110829A priority Critical patent/JP3524540B2/ja
Priority claimed from JP2002110829A external-priority patent/JP3524540B2/ja
Publication of JP2003040649A publication Critical patent/JP2003040649A/ja
Application granted granted Critical
Publication of JP3524540B2 publication Critical patent/JP3524540B2/ja
Publication of JP2003040649A5 publication Critical patent/JP2003040649A5/ja
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

JP2002110829A 2001-04-12 2002-04-12 ガラス基板の化学加工方法・化学加工装置及びガラス基板 Expired - Fee Related JP3524540B2 (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002110829A JP3524540B2 (ja) 2001-04-12 2002-04-12 ガラス基板の化学加工方法・化学加工装置及びガラス基板

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2001-114498 2001-04-12
JP2001114498 2001-04-12
JP2002110829A JP3524540B2 (ja) 2001-04-12 2002-04-12 ガラス基板の化学加工方法・化学加工装置及びガラス基板

Related Child Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003322353A Division JP2004099437A (ja) 2001-04-12 2003-09-16 ガラス基板の化学加工方法及び化学加工装置

Publications (3)

Publication Number Publication Date
JP2003040649A JP2003040649A (ja) 2003-02-13
JP3524540B2 JP3524540B2 (ja) 2004-05-10
JP2003040649A5 true JP2003040649A5 (enExample) 2004-07-08

Family

ID=26613523

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002110829A Expired - Fee Related JP3524540B2 (ja) 2001-04-12 2002-04-12 ガラス基板の化学加工方法・化学加工装置及びガラス基板

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP3524540B2 (enExample)

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005008423A (ja) * 2003-04-24 2005-01-13 Nishiyama Stainless Chem Kk ガラスの化学加工方法及びその装置。
US7045072B2 (en) * 2003-07-24 2006-05-16 Tan Samantha S H Cleaning process and apparatus for silicate materials
JP2007284345A (ja) * 2004-03-17 2007-11-01 Nishiyama Stainless Chem Kk フラットパネルディスプレイ用ガラス板の製造方法及びその装置
JP4878032B2 (ja) 2005-09-30 2012-02-15 シャープ株式会社 液晶表示装置およびテレビジョン受信機
US8451201B2 (en) 2005-09-30 2013-05-28 Sharp Kabushiki Kaisha Liquid crystal display device drive method, liquid crystal display device, and television receiver
US8294736B2 (en) 2006-11-20 2012-10-23 Sharp Kabushiki Kaisha Display device driving method, driving circuit, liquid crystal display device, and television receiver
CN101627334B (zh) 2007-04-16 2011-07-20 夏普株式会社 显示装置、显示装置的驱动装置、及电子设备
JP5153383B2 (ja) 2008-02-26 2013-02-27 株式会社ジャパンディスプレイイースト 液晶表示装置の製造方法
JP2013155057A (ja) * 2012-01-26 2013-08-15 Sanwa Frost Industry Co Ltd Ｌｃｄガラス基板のエッチング方法およびその装置
JP2016179913A (ja) * 2015-03-23 2016-10-13 三和フロスト工業株式会社 ガラス基板のエッチング方法およびその装置
CN114868233B (zh) 2019-12-26 2025-02-25 株式会社斯库林集团 基板处理装置

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0730685Y2 (ja) * 1984-08-01 1995-07-12 三洋電機株式会社 エツチング装置
JPH0758078A (ja) * 1993-08-19 1995-03-03 Matsushita Electron Corp ウエットエッチング処理装置
JPH09260344A (ja) * 1996-03-25 1997-10-03 Mitsubishi Electric Corp フィルトレーションシステム
JPH09260345A (ja) * 1996-03-25 1997-10-03 Mitsubishi Electric Corp フィルトレーションシステム
JP3145080B2 (ja) 1998-11-02 2001-03-12 システム テクノロジー インコーポレイティッド 薄膜トランジスタ液晶ディスプレイ用ガラスの自動エッチング装置

Similar Documents

Publication Publication Date Title
KR101115173B1 (ko) 역류
JP2003040649A5 (enExample)
JP2006525429A5 (enExample)
EP2539085B1 (en) Microbubble cleaning system for a large product such as a vehicle
CN1079679A (zh) 超声波清洗工件的方法
KR980001895A (ko) 유리기판 에칭장치
JP4999338B2 (ja) 基板洗浄方法、基板洗浄装置、プログラム、および記録媒体
JPH08243474A (ja) 部品の表面に表面処理溶液を輸送および塗布する方法
WO2014046229A1 (ja) 洗浄方法および洗浄装置
TWI509682B (zh) Substrate processing apparatus and processing method
JP2013058655A5 (enExample)
JPH06254538A (ja) 溶存酸素除去装置
KR20090122894A (ko) 기판 슬림화 장치 및 기판 슬림화 장치 조립체
TW503122B (en) Gas treatment method and apparatus
JP2001269670A (ja) 人工透析由来の廃液の中和処理装置
KR100943756B1 (ko) 기판 슬림화 장치
JP5036795B2 (ja) 半導体ウェーハを処理する方法
JP3825149B2 (ja) 水処理装置
KR200177288Y1 (ko) 반도체 웨이퍼 식각장치
JPWO2008056672A1 (ja) 水酸化テトラアルキルアンモニウム含有現像廃液の中和方法
JP2004002205A5 (enExample)
JPH03231427A (ja) 板状体の洗浄方法
JPH0785775B2 (ja) 固体と液体との化学反応時の脱気方法
JP2009256805A (ja) 洗浄装置及び洗浄方法並びに被洗浄物
TWI321551B (en) Apparatus for uniformly thinning a glass substrate