JP2003037048A - 半導体製造システム及び半導体製造装置の制御方法 - Google Patents

半導体製造システム及び半導体製造装置の制御方法

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JP2003037048A JP2001223290A JP2001223290A JP2003037048A JP 2003037048 A JP2003037048 A JP 2003037048A JP 2001223290 A JP2001223290 A JP 2001223290A JP 2001223290 A JP2001223290 A JP 2001223290A JP 2003037048 A JP2003037048 A JP 2003037048A
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 半導体製造装置を操作制御する端末が複数設
けられてなる場合に、各端末からの操作制御を現在の操
作状態を把握して操作者の操作上の混乱を低減しつつ有
効に実行し、半導体装置の製造を可及的に効率良く短時
間で行うことを可能とする。 【解決手段】 半導体露光装置101は、端末102,
103,104,105のうち、ある端末からの排他要
求に基づき当該装置101に対する当該端末のみの操作
制御を受け付ける専有状態に設定するとともに、当該装
置101が専有状態にあることを他の端末に通知する排
他制御機構111を備えている。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、コンピュータまた
はコンピュータネットワーク等により、半導体製造装置
との情報交換を行い半導体製造装置を操作制御する半導
体製造システムに関する。
【0002】
【従来の技術】半導体露光システムでは、半導体露光装
置毎に一台ずつ設けられている端末である操作パネルか
らのオペレータの操作、もしくは半導体露光装置から離
れた場所にある端末であるホストからの通信による遠隔
操作のいずれかの制御や、装置状態の監視することが可
能である。
【0003】ホストからの遠隔操作を行う場合には、半
導体露光装置に設けられている操作パネルからの操作を
禁止し、同様に、操作パネルから操作を行う場合には、
ホストとの通信を切断することにより、使用する端末以
外の端末による操作を排他していた。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た従来の半導体露光システムでは、以下に示すような問
題がある。
【0005】ホストから半導体露光装置を制御している
最中に、当該装置上にある操作パネルから別の操作を行
いたいことがある。ところが、このとき当該装置は排他
状態にあるため、ほとんどの操作が禁止されている。こ
の場合、操作を強行するには、先ず当該装置とホストと
の通信を切断してから操作を行うことになるが、ホスト
との通信を切断すると、それ以降に再接続するまでホス
トヘの状態通知も行われなくなる。
【0006】通常、ホストは半導体露光装置との通信が
切断されている間には当該装置の状態を認識できないた
め、新たなロットを仕掛けることが不可能となる。した
がって、ホストとの通信を切断して所望の作業を行う場
合、実際には露光操作と並行して処理することが可能な
作業でも停止せざるを得なくなる。よって、全体的に処
理に時間がかかる。
【0007】上記の問題は、半導体露光装置を遠隔操作
するホストが複数設けられている場合に、特に顕著とな
る。ホストを複数設ける場合、更に上記の問題以外に
も、例えば装置操作に影響を及ぼさない、即ち排他を要
しない処理を複数の端末から制御可能とした場合、当該
装置の状態変化が自身の端末から制御したことによるも
のか否かの判断ができない、もしくは自身の操作が終了
したか否かが認識できないという問題が発生する。
【0008】そこで本発明は、当該半導体製造装置を操
作制御する端末が複数設けられてなる場合に、各端末か
らの操作制御を現在の操作状態を把握して操作者の操作
上の混乱を低減しつつ有効に実行し、半導体装置の製造
を可及的に効率良く短時間で行うことを可能とする半導
体製造システム及び半導体製造装置の制御方法を提供す
ることを目的とする。
【0009】
【課題を解決するための手段】本発明の半導体製造シス
テムは、半導体製造装置と、前記半導体製造装置を操作
制御するための複数の端末とを含む半導体製造システム
であって、前記半導体製造装置は、前記複数の端末のう
ち、ある端末からの排他要求に基づき前記半導体製造装
置に対する当該端末のみの操作制御を受け付ける専有状
態に設定するとともに、前記半導体製造装置が前記専有
状態にあることを他の端末に通知する排他制御機構を有
することを特徴とする。
【0010】本発明の半導体製造システムの一態様で
は、前記複数の端末は、前記半導体製造装置の近傍に設
けられた装置端末と、前記半導体製造装置から離間した
場所に設けられ、前記半導体製造装置を遠隔操作するた
めの少なくとも1つのホスト端末とからなる。
【0011】本発明の半導体製造システムの一態様で
は、前記排他制御機構は、前記半導体製造装置が前記専
有状態に移行した時、前記専有状態が解除された時、も
しくは操作を指示された時に現在半導体製造装置を専有
している前記端末、その操作者、現在行っている操作、
及び装置状態を他の全ての端末に対して通知する。
【0012】本発明の半導体製造システムの一態様で
は、前記排他制御機構は、前記半導体製造装置が前記専
有状態に移行した時、前記専有状態が解除された時、も
しくは操作を指示された時に半導体製造装置を専有して
いる前記端末、その操作者、現在行っている操作、及び
装置状態を他の全ての端末に表示する。
【0013】本発明の半導体製造システムの一態様で
は、前記排他制御機構は、前記半導体製造装置を専有し
ている前記端末からの排他解除要求に基づき、他の全て
の端末からの前記排他要求を受け付ける解放状態に設定
する。
【0014】本発明の半導体製造システムの一態様で
は、前記排他制御機構は、前記半導体製造装置が前記専
有状態にある場合でも、その他の端末からの前記半導体
製造装置の操作制御に無影響な要求のみを受け付ける。
【0015】本発明の半導体製造システムの一態様で
は、前記排他制御機構は、前記半導体製造装置が前記専
有状態にある場合に、その他の端末からの前記半導体製
造装置の専有予約を受け付ける。
【0016】本発明の半導体製造システムの一態様で
は、前記排他制御機構は、前記半導体製造装置が前記専
有状態にある場合でも、事前に設定された特定の操作者
が使用する端末からの要求があれば、前記専有状態を無
視して前記半導体製造装置の操作制御を受け付ける。
【0017】本発明の半導体製造システムの一態様で
は、前記半導体製造装置は、レチクルに描画された所定
パターンを光学的に半導体ウェーハ面に露光して転写す
る投影露光装置である。
【0018】本発明の半導体製造装置の制御方法は、半
導体製造装置を複数の端末から操作制御するに際して、
前記複数の端末のうち、ある端末からの排他要求に基づ
き前記半導体製造装置に対する当該端末のみの操作制御
を受け付ける専有状態に設定するとともに、前記半導体
製造装置が前記専有状態にあることを他の端末に通知す
ることを特徴とする。
【0019】本発明の半導体製造装置の制御方法の一態
様では、前記複数の端末は、前記半導体製造装置の近傍
に設けられた装置端末と、前記半導体製造装置から離間
した場所に設けられ、前記半導体製造装置を遠隔操作す
るための少なくとも1つのホスト端末とからなる。
【0020】本発明の半導体製造装置の制御方法の一態
様では、前記半導体製造装置が前記専有状態に移行した
時、前記専有状態が解除された時、もしくは操作を指示
された時に現在半導体製造装置を専有している前記端
末、その操作者、現在行っている操作、及び装置状態を
他の全ての端末に対して通知する。
【0021】本発明の半導体製造装置の制御方法の一態
様では、前記半導体製造装置が前記専有状態に移行した
時、前記専有状態が解除された時、もしくは操作を指示
された時に半導体製造装置を専有している前記端末、そ
の操作者、現在行っている操作、及び装置状態を他の全
ての端末に表示する。
【0022】本発明の半導体製造装置の制御方法の一態
様では、前記半導体製造装置を専有している前記端末か
らの排他解除要求に基づき、他の全ての端末からの前記
排他要求を受け付ける解放状態に設定する。
【0023】本発明の半導体製造装置の制御方法の一態
様では、前記半導体製造装置が前記専有状態にある場合
でも、その他の端末からの前記半導体製造装置の操作制
御に無影響な要求のみを受け付ける。
【0024】本発明の半導体製造装置の制御方法の一態
様では、前記半導体製造装置が前記専有状態にある場合
に、その他の端末からの前記半導体製造装置の専有予約
を受け付ける。
【0025】本発明の半導体製造装置の制御方法の一態
様では、前記半導体製造装置が前記専有状態にある場合
でも、事前に設定された特定の操作者が使用する端末か
らの要求があれば、前記専有状態を無視して前記半導体
製造装置の操作制御を受け付ける。
【0026】本発明の半導体製造装置の制御方法の一態
様では、前記半導体製造装置は、レチクルに描画された
所定パターンを光学的に半導体ウェハ面に露光して転写
する投影露光装置である。
【0027】本発明の記録媒体は、前記半導体製造装置
の制御方法の手順をコンピュータに実行させるためのプ
ログラムを記録したことを特徴とするコンピュータ読み
取り可能なものである。
【0028】本発明のプログラムは、前記半導体製造装
置の制御方法の手順をコンピュータに実行させるための
ものである。
【0029】
【発明の実施の形態】以下、本発明を半導体露光装置を
含む半導体露光システムに適用した好適な実施形態につ
いて、図面を参照しながら詳細に説明する。
【0030】図1は、本発明の一実施形態に係る半導体
露光システムを表す模式図である。この半導体露光シス
テムは、同図に示すように、レチクルに描画された所定
パターンを光学的に半導体ウェーハ面に露光して転写す
るステッパーとして機能する半導体露光装置101と、
当該装置101上に設けられた操作パネルである端末1
02と、当該装置101から離間した場所の設けられ、
当該装置101を遠隔操作するためのホストである端末
103,104,105とを含み構成されている。
【0031】半導体露光装置101は、端末102,1
03,104,105のうち、ある端末からの排他要求
に基づき当該装置101に対する当該端末のみの操作制
御を受け付ける専有状態に設定するとともに、当該装置
101が専有状態にあることを他の端末に通知する排他
制御機構111を備えている。
【0032】この排他制御機構111は、当該装置10
1が専有状態に移行した時、専有状態が解除された時、
もしくは操作を指示された時に現在当該装置101を専
有している端末、その操作者、現在行っている操作、及
び装置状態を他の全ての端末に対して通知し、表示す
る。
【0033】更に、排他制御機構111は、半導体製造
装置101を専有している端末からの排他解除要求に基
づき、他の全ての端末からの排他要求を受け付ける解放
状態に設定する。また、当該装置101が専有状態にあ
る場合でも、その他の端末からの当該装置101の操作
制御に無影響な要求についてはこれを受け付ける構成と
されている。
【0034】更に、排他制御機構111は、当該装置1
01が専有状態にある場合に、その他の端末からの当該
装置101の専有予約を受け付ける。また、当該装置1
01が専有状態にある場合でも、事前に設定された特定
の操作者が使用する端末からの要求があれば、専有状態
を無視して当該装置101の操作制御を受け付ける構成
とされている。
【0035】この半導体露光システムにおいては、半導
体露光装置101と端末103,104,105とは回
線106によって接続され、排他制御機構111の制御
のもとで通信が行われる。また、当該装置101上に設
けられている端末102も他の端末と同様に装置内部の
回線によって排他制御機構111の制御のもとで装置1
01と通信が行われる。
【0036】それぞれの端末は、装置101に対してメ
ッセージという単位で情報を送信し、装置101は前記
情報にしたがって処理を行う。また、装置101も自身
の状態変化等のイベントが起こった場合には、メッセー
ジにより自身に接続されているそれぞれの端末へ情報を
送信する。
【0037】この構成において、実際に装置101とこ
れに接続されている端末102,103,104,10
5との間でやり取りされるメッセージのシーケンスを図
2に示す。ここで、破線が回線内を流れるメッセージを
表している。また、図3,4,5には装置101内での
処理フロー(装置の制御方法)の詳細を示す。これらの
図を参考にして、本実施形態に係る半導体露光システム
の動作を説明する。
【0038】ステップ301において、ある端末からロ
ック要求メッセージ205もしくは209を受信する
と、ステップ302に示すように装置101が別の端末
によって既にロックされているかどうかを調べる。ロッ
クされていなかった場合は、ステップ304において装
置101をロックし、ステップ305でロック状態通知
メッセージ(206,207,208)を、装置101
に接続されている全ての端末へ送信する。既にロックさ
れていた場合は、ステップ303においてロック要求拒
否メッセージ210を、ロック要求メッセージを送信し
てきた端末に対し送信する。
【0039】ステップ401において、ある端末から操
作要求メッセージ211もしくは213を受信すると、
ステップ402に示すように装置101が別の端末によ
って既にロックされているかどうかを調べる。ロックさ
れていなかった場合は、ステップ404においてロック
状態通知メッセージ(214,215,216)を、装
置101に接続されている全ての端末へ送信し、ステッ
プ405で要求された処理を実行する。既にロックされ
ていた場合は、ステップ403において操作要求拒否メ
ッセージ212を、操作要求メッセージを送信してきた
端末に対し送信する。
【0040】ステップ501において、ある端末からロ
ック解除要求メッセージ217を受信すると、ステップ
502でロック解除要求メッセージ217を送信した端
末が現在装置101をロックしている端末かどうかを調
べる。ロック解除要求メッセージ217を送信した端末
が現在装置101をロックしている端末だった場合、ス
テップ504のように装置101のロックを解除し、ス
テップ505でロック状態通知メッセージ(218,2
19,220)を装置101に接続されている全ての端
末へ送信する。また、ロック解除要求メッセージ21
7。を送信した端末が現在装置101をロックしている
端末でない場合、ステップ503において、ロック解除
要求拒否メッセージを、ロック解除要求メッセージを送
信してきた端末に対して送信する。
【0041】以上説明したように、本実施形態の半導体
露光システムによれば、半導体露光装置101から離れ
たところにある複数の端末、もしくは装置101上にあ
る端末から複数の操作者が当該装置101を有効に利用
することができる。
【0042】例えば、一つの端末を複数の装置101に
接続し、それぞれの装置101を識別することができれ
ば、装置101の状態監視や、操作が端末を選ぶことな
く可能になり、かつ、メンテナンス機能や装置状態の監
視機能等を持った様々な端末を接続することが可能にな
る。
【0043】また、実際に装置101を操作している端
末以外の端末にいる操作者もしくはホストが混乱するこ
とを避けることができる。また、メンテナンス等で装置
101上の端末から装置を専有している最中にも、ホス
トからロットを仕掛けることが可能とする。
【0044】なお、本実施形態では、半導体露光装置を
含む半導体露光システムについて説明したが、本発明は
これに限定されるものではない。本発明は、半導体露光
システムのみならず、半導体露光装置をその構成要素と
して含む半導体製造装置を操作制御する半導体製造シス
テムに適用される。勿論、半導体製造装置のみならず、
これを構成する個々の構成要素、例えば、マスク作製装
置、エッチング・スパッタ・CVD装置、半導体露光装
置、ウェーハ洗浄装置、チップ作製装置、チップ検査装
置等のうちの少なくとも1つ以上を操作制御する半導体
システムにも適用可能である。
【0045】また、上述した本実施形態による半導体露
光システムを構成する各機能、及び半導体製造装置の制
御方法を構成する各ステップは、コンピュータのRAM
やROMなどに記憶されたプログラムが動作することに
よって実現できる。このプログラム及び当該プログラム
を記録したコンピュータ読み取り可能な記憶媒体は本発
明の実施形態に含まれる。
【0046】具体的に、前記プログラムは、例えばCD
−ROMのような記録媒体に記録し、或いは各種伝送媒
体を介し、コンピュータに提供される。前記プログラム
を記録する記録媒体としては、CD−ROM以外に、フ
レキシブルディスク、ハードディスク、磁気テープ、光
磁気ディスク、不揮発性メモリカード等を用いることが
できる。他方、上記プログラムの伝送媒体としては、プ
ログラム情報を搬送波として伝搬させて供給するための
コンピュータネットワーク(LAN、インターネットの
等のWAN、無線通信ネットワーク等)システムにおけ
る通信媒体(光ファイバ等の有線回線や無線回線等)を
用いることができる。
【0047】また、コンピュータが供給されたプログラ
ムを実行することにより上述の実施形態の機能が実現さ
れるだけでなく、そのプログラムがコンピュータにおい
て稼働しているOS(オペレーティングシステム)ある
いは他のアプリケーションソフト等と共同して上述の実
施形態の機能が実現される場合や、供給されたプログラ
ムの処理の全てあるいは一部がコンピュータの機能拡張
ボードや機能拡張ユニットにより行われて上述の実施形
態の機能が実現される場合も、かかるプログラムは本発
明の実施形態に含まれる。
【0048】例えば、図6は、一般的なパーソナルユー
ザ端末装置の内部構成を示す模式図である。この図6に
おいて、1200はコンピュータPCである。PC12
00は、CPU1201を備え、ROM1202または
ハードディスク(HD)1211に記憶された、あるい
はフレキシブルディスクドライブ(FD)1212より
供給されるデバイス制御ソフトウェアを実行し、システ
ムバス1204に接続される各デバイスを総括的に制御
する。
【0049】
【発明の効果】本発明によれば、当該半導体製造装置を
操作制御する端末が複数設けられてなる場合に、各端末
からの操作制御を現在の操作状態を把握して操作者の操
作上の混乱を低減しつつ有効に実行し、半導体装置の製
造を可及的に効率良く短時間で行うことが可能となる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態に係る半導体露光システムを
示すブロック図である。
【図2】本発明の実施形態に係る半導体露光システムに
おいて、半導体露光装置とこれを制御する端末とのメッ
セージのやり取りを示す模式図である。
【図3】図1における半導体露光システム内で行われる
処理のフローチャートである。
【図4】図1における半導体露光システム内で行われる
処理のフローチャートである。
【図5】図1における半導体露光システム内で行われる
処理のフローチャートである。
【図6】一般的なパーソナルユーザ端末装置の内部構成
を示す模式図である。
【符号の説明】
101:半導体露光装置 102〜105:端末 106:回線 205〜220:半導体露光装置と端末間でやり取りす
るメッセージ

Claims (20)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 半導体製造装置と、 前記半導体製造装置を操作制御するための複数の端末と
    を含む半導体製造システムであって、 前記半導体製造装置は、前記複数の端末のうち、ある端
    末からの排他要求に基づき前記半導体製造装置に対する
    当該端末のみの操作制御を受け付ける専有状態に設定す
    るとともに、前記半導体製造装置が前記専有状態にある
    ことを他の端末に通知する排他制御機構を有することを
    特徴とする半導体製造システム。
  2. 【請求項2】 前記複数の端末は、前記半導体製造装置
    の近傍に設けられた装置端末と、前記半導体製造装置か
    ら離間した場所に設けられ、前記半導体製造装置を遠隔
    操作するための少なくとも1つのホスト端末とからなる
    ことを特徴とする請求項1に記載の半導体製造システ
    ム。
  3. 【請求項3】 前記排他制御機構は、前記半導体製造装
    置が前記専有状態に移行した時、前記専有状態が解除さ
    れた時、もしくは操作を指示された時に現在半導体製造
    装置を専有している前記端末、その操作者、現在行って
    いる操作、及び装置状態を他の全ての端末に対して通知
    することを特徴とする請求項1又は2に記載の半導体製
    造システム。
  4. 【請求項4】 前記排他制御機構は、前記半導体製造装
    置が前記専有状態に移行した時、前記専有状態が解除さ
    れた時、もしくは操作を指示された時に半導体製造装置
    を専有している前記端末、その操作者、現在行っている
    操作、及び装置状態を他の全ての端末に表示することを
    特徴とする請求項3に記載の半導体製造システム。
  5. 【請求項5】 前記排他制御機構は、前記半導体製造装
    置を専有している前記端末からの排他解除要求に基づ
    き、他の全ての端末からの前記排他要求を受け付ける解
    放状態に設定することを特徴とする請求項1〜4のいず
    れか1項に記載の半導体露光システム。
  6. 【請求項6】 前記排他制御機構は、前記半導体製造装
    置が前記専有状態にある場合でも、その他の端末からの
    前記半導体製造装置の操作制御に無影響な要求のみを受
    け付けることを特徴とする請求項1〜5のいずれか1項
    に記載の半導体露光システム。
  7. 【請求項7】 前記排他制御機構は、前記半導体製造装
    置が前記専有状態にある場合に、その他の端末からの前
    記半導体製造装置の専有予約を受け付けることを特徴と
    する請求項1〜6のいずれか1項に記載の半導体露光シ
    ステム。
  8. 【請求項8】 前記排他制御機構は、前記半導体製造装
    置が前記専有状態にある場合でも、事前に設定された特
    定の操作者が使用する端末からの要求があれば、前記専
    有状態を無視して前記半導体製造装置の操作制御を受け
    付けることを特徴とする請求項1〜7のいずれか1項に
    記載の半導体露光システム。
  9. 【請求項9】 前記半導体製造装置は、レチクルに描画
    された所定パターンを光学的に半導体ウェーハ面に露光
    して転写する投影露光装置であることを特徴とする請求
    項1〜8のいずれか1項に記載の半導体露光システム。
  10. 【請求項10】 半導体製造装置を複数の端末から操作
    制御するに際して、前記複数の端末のうち、ある端末か
    らの排他要求に基づき前記半導体製造装置に対する当該
    端末のみの操作制御を受け付ける専有状態に設定すると
    ともに、前記半導体製造装置が前記専有状態にあること
    を他の端末に通知することを特徴とする半導体製造装置
    の制御方法。
  11. 【請求項11】 前記複数の端末は、前記半導体製造装
    置の近傍に設けられた装置端末と、前記半導体製造装置
    から離間した場所に設けられ、前記半導体製造装置を遠
    隔操作するための少なくとも1つのホスト端末とからな
    ることを特徴とする請求項10に記載の半導体製造装置
    の制御方法。
  12. 【請求項12】 前記半導体製造装置が前記専有状態に
    移行した時、前記専有状態が解除された時、もしくは操
    作を指示された時に現在半導体製造装置を専有している
    前記端末、その操作者、現在行っている操作、及び装置
    状態を他の全ての端末に対して通知することを特徴とす
    る請求項10又は11に記載の半導体製造装置の制御方
    法。
  13. 【請求項13】 前記半導体製造装置が前記専有状態に
    移行した時、前記専有状態が解除された時、もしくは操
    作を指示された時に半導体製造装置を専有している前記
    端末、その操作者、現在行っている操作、及び装置状態
    を他の全ての端末に表示することを特徴とする請求項1
    0〜12のいずれか1項に記載の半導体製造装置の制御
    方法。
  14. 【請求項14】 前記半導体製造装置を専有している前
    記端末からの排他解除要求に基づき、他の全ての端末か
    らの前記排他要求を受け付ける解放状態に設定すること
    を特徴とする請求項10〜13のいずれか1項に記載の
    半導体製造装置の制御方法。
  15. 【請求項15】 前記半導体製造装置が前記専有状態に
    ある場合でも、その他の端末からの前記半導体製造装置
    の操作制御に無影響な要求のみを受け付けることを特徴
    とする請求項10〜14のいずれか1項に記載の半導体
    製造装置の制御方法。
  16. 【請求項16】 前記半導体製造装置が前記専有状態に
    ある場合に、その他の端末からの前記半導体製造装置の
    専有予約を受け付けることを特徴とする請求項10〜1
    5のいずれか1項に記載の半導体製造装置の制御方法。
  17. 【請求項17】 前記半導体製造装置が前記専有状態に
    ある場合でも、事前に設定された特定の操作者が使用す
    る端末からの要求があれば、前記専有状態を無視して前
    記半導体製造装置の操作制御を受け付けることを特徴と
    する請求項10〜16のいずれか1項に記載の半導体製
    造装置の制御方法。
  18. 【請求項18】 前記半導体製造装置は、レチクルに描
    画された所定パターンを光学的に半導体ウェハ面に露光
    して転写する投影露光装置であることを特徴とする請求
    項10〜17のいずれか1項に記載の半導体製造装置の
    制御方法。
  19. 【請求項19】 請求項10〜18のいずれか1項に記
    載の半導体製造装置の制御方法の手順をコンピュータに
    実行させるためのプログラムを記録したことを特徴とす
    るコンピュータ読み取り可能な記録媒体。
  20. 【請求項20】 請求項10〜18のいずれか1項に記
    載の半導体製造装置の制御方法の手順をコンピュータに
    実行させるためのプログラム。
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