JPH11145979A - 半導体製造装置の支援装置 - Google Patents

半導体製造装置の支援装置

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JPH11145979A
JPH11145979A JP9310437A JP31043797A JPH11145979A JP H11145979 A JPH11145979 A JP H11145979A JP 9310437 A JP9310437 A JP 9310437A JP 31043797 A JP31043797 A JP 31043797A JP H11145979 A JPH11145979 A JP H11145979A
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JP
Japan
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communication
semiconductor manufacturing
projection exposure
host computer
sub
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Application number
JP9310437A
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English (en)
Inventor
Moichi Sugizaki
茂一 杉崎
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Nikon Corp
Original Assignee
Nikon Corp
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Publication date
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Abstract

(57)【要約】 【課題】投影露光装置と同じ通信プロトコルとデータ構
造のブロックコントローラをホストコンピュータとは別
に設けて、投影露光装置の状況を詳細に監視する。 【解決手段】通信プロトコルおよびデータ構造を含む第
1の通信制御規格で動作するホストコンピュータ11
と、第1の通信制御規格と異なる第2の通信制御規格で
動作する投影露光装置13A〜13Cとの間の通信をイ
ンターフェース装置25A,25Bにより、論理的整合
性を持たせて通信する。インターフェース装置25A,
25Bとホストコンピュータ11が接続されるネットワ
ーク12には、投影露光装置13A〜13Cと共通の通
信制御規格で動作するブロックコントローラ31が接続
される。ブロックコントローラ31と投影露光装置13
A〜1Cとの間ではデータやファイルの授受が簡単に行
える。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ホストコンピュー
タなどの主制御装置で統括して制御される複数の半導体
製造装置を効率よく管理する支援装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来から、半導体製造ラインとして、レ
チクルのパターンをウエハに塗布されたレジスト上に投
影露光する投影露光装置と、ウエハにレジストを塗布
し、露光後のウエハを現像するコータデベロッパーとを
それぞれ複数台設置し、1台のホストコンピュータでそ
れらを統括して制御するものが知られている。投影露光
装置は、レチクルを照明する照明光学系と、レチクルの
パターンの像をウエハ上に結像する投影光学系と、ウエ
ハに所定の露光量を与える露光量制御などを行う制御装
置とを有している。
【0003】通常、ホストコンピュータはユーザが用意
し、投影露光装置はメーカが用意する。ユーザ側で構築
される半導体製造ラインには種々の投影露光装置やコー
タデベロッパーが設置され、ホストコンピュータは複数
の投影露光装置とコータデベロッパーを統括して制御す
るように構成されている。また、投影露光装置やコータ
デベロッパーはそれぞれCPUなどの制御装置を備え、
独自にシーケンス制御を行うように構成されている。
【0004】ホストコンピュータはある通信プロトコル
やデータ構造の第1の通信制御規格で動作し、投影露光
装置やコータデベロッパーの制御装置はその第1の通信
制御規格とは異なる第2,第3の通信制御規格で動作す
るのが一般的である。そこで、たとえば特開平5−20
3332号公報に示すマシンコントローラなるインター
フェース装置を設け、ホストコンピュータと投影露光装
置やコータデベロッパーとの間の論理的整合性を持たせ
て通信を行う必要がある。図3はそのマシンコントロー
ラを用いた従来の支援装置を示すものである。
【0005】図3において、ホストコンピュータ11は
ネットワーク12に接続され、投影露光装置13A〜1
3Cやコータデベロッパー14A〜14Cはマシンコン
トローラ15A,15Bを介してネットワーク12と接
続されている。マシンコントローラ15Aは投影露光装
置13Aとコータデベロッパー14Aに接続され、マシ
ンコントローラ15Bは投影露光装置13B,13Cと
コータデベロッパー14B,14Cに接続されている。
マシンコントローラ15A,15Bは、メーカ側で用意
するインターフェース装置であり、このインターフェー
ス装置15A,15Bは、ホストコンピュータ11が使
用する通信制御規格と、投影露光装置13A〜13Cや
コータデベロッパー14A〜14Cが使用する通信制御
規格との間で翻訳や変換を行いつつ、すなわち論理的整
合性を持たせてつつ情報を授受するものである。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】このような従来装置で
は、ホストコンピュータ11により各投影露光装置13
A〜13Cやコータデベロッパー14A〜14Cの作業
中のエラーを検出したり、稼働していない投影露光装置
13A〜13Cやコータデベロッパー14A〜14Cを
検出したり、あるいはインターフェース装置15A,1
5Bを操作するようにしている。そのため、ホストコン
ピュータ11の負担が増加し、インターフェース装置1
5A,15Bを介してホストコンピュータ11との間で
授受できる情報は最小限に設定されている。また、各投
影露光装置13A〜13Cやコータデベロッパー14
A,14Bの状況を把握するためには、インターフェー
ス装置15A,15Bのモニタで確認せざるを得なかっ
た。そのため、インターフェース装置15A,15Bの
設置場所が離れている場合には、作業者はいちいちその
場所へ出向かなければならず、管理効率が悪いという問
題がある。
【0007】本発明の目的は、投影露光装置やコータデ
ベロッパーなどの半導体製造装置と同じ通信制御規格で
動作する副制御装置を主制御装置とは別に設けて、半導
体製造装置の状況を詳細に監視できるようにした半導体
製造装置の支援装置を提供することにある。
【0008】
【課題を解決するための手段】一実施の形態を示す図面
に対応づけて本発明を説明する。 (1)請求項1の発明は、複数の半導体製造装置13A
〜13Cを統括して制御する装置であって、通信プロト
コルおよびデータ構造を含む第1の通信制御規格で動作
する主制御装置11と、半導体製造装置13A〜13C
のなかの特定の半導体製造装置13A〜13Cであっ
て、第1の通信規格と異なる第2の通信制御規格で動作
する半導体製造装置13A〜13Cと主制御装置11と
の間で論理的整合性を持たせて通信するためのインター
フェース装置25A,25Bと、主制御装置11とイン
ターフェース装置25A,25Bを接続するネットワー
ク12とを備える半導体製造装置13A〜13Cの支援
装置に適用される。そして、第2の通信制御規格で動作
する副制御装置31をネットワーク12に接続すること
により上記目的を達成する。 (2)請求項2の発明は、請求項1の支援装置におい
て、インターフェース装置25A,25Bにより、ネッ
トワーク12上の通信情報に応じて、主制御装置11と
特定の半導体製造装置13A〜13Cとの間での情報通
信と、副制御装置31と特定の半導体製造装置13A〜
13Cとの間での情報通信とのいずれかを選択して情報
を授受することを特徴とするものである。 (3)請求項3の発明は、請求項1の支援装置におい
て、副制御装置31により複数のインターフェース装置
25A,25Bを統括して制御することを特徴とするも
のである。 (4)請求項4の発明は、請求項3の支援装置におい
て、副制御装置31にモニタ画面31aを設け、特定の
半導体製造装置13A〜13Cから入手した情報をその
モニタ画面31aに表示することを特徴とするものであ
る。
【0009】なお、本発明の構成を説明する上記課題を
解決するための手段の項では、本発明を分かり易くする
ために発明の実施の形態の図を用いたが、これにより本
発明が実施の形態に限定されるものではない。
【0010】
【発明の実施の形態】以下図面を参照して本発明の実施
の形態について説明する。図1は本発明の実施の形態に
よる半導体製造装置の支援装置を示す。図3と同一の箇
所には同一の符号を付して相違点を主に説明する。
【0011】図2により投影露光装置13A〜13C
(以下、代表して13で表わすこともある)を説明す
る。投影露光装置13は、レチクルRが保持されるレチ
クルステージ131と、ウエハWを保持するウエハステ
ージ132と、レチクルRを照明する照明光学系133
と、レチクルRのパターンの像をウエハW上に結像する
投影光学系134と、レチクルステージ131やウエハ
ステージ132を制御したり露光量を制御するためのコ
ンピュータ135と、各種情報を表示するモニタ136
と、各種データを入力する入力部137とを備えて構成
される。露光装置13A〜13Cは個別に各種の露光条
件などをホストコンピュータ11とは別に設定できるよ
うになっている。図示は省略するが、コータデペロッパ
14A〜14Cも独自にコンピュータとモニタを備え、
個別に各種の処理条件を設定できるようになっている。
【0012】この実施の形態では、図1に示すように、
投影露光装置13Aとコータデベロッパー14Aとがマ
シンコントローラ25Aに接続され、投影露光装置13
B,13Cとコータデベロッパー14B,14Cとがマ
シンコントローラ25Bに接続され、さらに、マシンコ
ントローラ25A,25Bがネットワーク12を介して
ホストコンピュータ11に接続されている。ネットワー
ク12には後述するブロックコントローラ31が接続さ
れている。
【0013】マシンコントローラ25A,25Bは、上
述したようにホストコンピュータ11が使用する通信プ
ロトコルやデータ構造を含む通信制御規格と、投影露光
装置13A〜13Cやコータデベロッパー14A〜14
Cが使用する通信プロトコルやデータ構造を含む通信制
御規格との間で論理的整合性を持たせる翻訳や変換を行
いつつ情報を授受するものである。また、本実施の形態
では、マシンコントローラ25A,25Bは、ネットワ
ーク12上の通信データを監視して、ホストコンピュー
タ11と投影露光装置13との通信であるか、ブロック
コントローラ31と投影露光装置13との通信であるか
を判別する。ホストコンピュータ11との間の通信であ
るときは、情報を相互の通信プロトコルやデータ構造に
変換して通信を行う。一方、ブロックコントローラ31
と投影露光装置13との通信であるときは、両者は通信
プロトコルやデータ構造は同じであるから、とくに翻訳
や変換をせずにネットワーク上の情報をそのまま通信す
る。
【0014】ブロックコントローラ31はモニタ31a
と入力部31bとを有し、投影露光装置13A〜13C
を集中管理して全ての状態をリアルタイムで表示するこ
とができる。したがって、作業者は、各マシンコントロ
ーラ25A,25Bの設置場所まで出向くことなく、ブ
ロックコントローラ31の設置場所でマシンコントロー
ラ25a,25Bを介してそれぞれの投影露光装置13
A〜13Cの状態を知ることができ、さらには各投影露
光装置13A〜13Cに各種情報を送ることができる。
【0015】ブロックコントローラ31は投影露光装置
13と共通の通信プロトコル、データ構造などを含む通
信制御規格で動作するから、マシンコントローラ25
A,25Bに特別の変換プログラムを搭載することな
く、ブロックコントローラ31と投影露光装置13との
間で各種プログラムやデータの授受も容易であるし、投
影露光装置13A〜13Cの制御装置136内の全ての
情報をブロックコントローラ31から入手することもで
きる。この場合、ホストコンピュータ11と投影露光装
置13との間で全ての情報の授受を可能にすることもで
きるが、マシンコントローラ25に搭載する変換プログ
ラムの容量や種類が非常に大きくなるし、また、ホスト
コンピュータ11の負担も大きくなり好ましくない。こ
の点、特定の投影露光装置13と同じ通信制御規格で動
作するブロックコンピュータ31をホストコンピュータ
11とは別に設ければ、ホストコンピュータ11やイン
ターフェース装置25A,25Bに負担をかけることな
く投影露光装置13A〜13Cとの間で各種情報を授受
できる。
【0016】なお、以上では投影露光装置13A〜13
Cは全て同一の通信制御規格で動作するものとして説明
したが、投影露光装置13Aが異なる通信制御規格で動
作する場合には、ブロクコントローラ31は投影露光装
置13B,13Cとのみ論理的整合性を持たせることな
く通信するようにする。この場合、投影露光装置13
B,13Cが特定の投影露光装置である。また、ブロッ
クコントローラ31をコータデベロッパー14A〜14
Cの通信制御規格と共通としてもよい。
【0017】以上の実施の形態と請求項との対応におい
て、ホストコンピュータ11が主制御装置を、ブロック
コントローラ31が副制御装置を、マシンコントローラ
25がインターフェース装置を、投影露光装置13が半
導体製造装置をそれぞれ構成する。
【0018】
【発明の効果】以上詳細に説明したように本発明によれ
ば、特定の半導体製造装置と共通の通信制御規格で動作
する副制御装置をネットワークに接続したので、インタ
ーフェース装置の容量を増加することなく、主制御装置
に負担を欠けることなく、半導体製造装置の状態をより
詳細に監視することができる。とくに、請求項2,3の
ように、1台の副制御装置で複数台の半導体製造装置を
制御するようにすれば、1箇所で複数の半導体製造装置
の状況をモニタ画面で把握でき、作業者の効率が向上す
る。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施の形態による支援装置の構成を示
すブロック図
【図2】本発明の実施の形態による投影露光装置の詳細
を示す図
【図3】本発明の実施の形態による支援装置の構成を示
すブロック図
【符号の説明】
11 ホストコンピュータ 12 ネットワーク 13,13A〜13C 投影露光装置 14,14A〜14C コータデベロッパー 25A,25B マシンコントローラ 31 ブロックコントローラ

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】複数の半導体製造装置を統括して制御する
    装置であって、通信プロトコルおよびデータ構造を含む
    第1の通信制御規格で動作する主制御装置と、 前記半導体製造装置のなかの特定の半導体製造装置であ
    って、前記第1の通信規格と異なる第2の通信制御規格
    で動作する半導体製造装置と前記主制御装置との間で論
    理的整合性を持たせて通信するためのインターフェース
    装置と、 前記主制御装置と前記インターフェース装置を接続する
    ネットワークとを備える半導体製造装置の支援装置にお
    いて、 前記第2の通信制御規格で動作する副制御装置を前記ネ
    ットワークに接続したことを特徴とする半導体製造装置
    の支援装置。
  2. 【請求項2】請求項1の支援装置において、 前記インターフェース装置は、前記ネットワーク上の通
    信情報に応じて、前記主制御装置と前記特定の半導体製
    造装置との間での情報通信と、副制御装置と前記特定の
    半導体製造装置との間での情報通信とのいずれかを選択
    して情報を授受することを特徴とする半導体製造装置の
    支援装置。
  3. 【請求項3】請求項1の支援装置において、 前記副制御装置は複数の前記インターフェース装置を統
    括して制御することを特徴とする半導体製造装置の支援
    装置。
  4. 【請求項4】請求項3の支援装置において、 前記副制御装置はモニタ画面を有し、前記特定の半導体
    製造装置から入手した情報をそのモニタ画面に表示する
    ことを特徴とする半導体製造装置の支援装置。
JP9310437A 1997-11-12 1997-11-12 半導体製造装置の支援装置 Pending JPH11145979A (ja)

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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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