JP2003036034A - 表示装置の製造方法および表示装置 - Google Patents
表示装置の製造方法および表示装置Info
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Abstract
く、表示装置における電極部とその駆動回路等との間を
電気的に確実に接続できるようにする。 【解決手段】 表示装置を構成する第1部材4と第2部
材5とを電気的に接続する際に、第1部材4の電極端子
部106と第2部材5の貫通孔状の導通部203とを位
置合わせした状態で、これらを互いに重ね合わせ、その
後第2部材5側から導通部203の部分に導電性膜30
1の成膜処理を施すことで、第1部材4と第2部材5と
を電気的に接続する。
Description
示素子が配されてなる表示装置の製造方法およびその表
示装置に関する。
電界発光素子(有機エレクトロルミネッセンス素子、以
下「有機EL素子」という)を発光素子としたものが注
目を集めている。
表示装置(以下「有機ELディスプレイ」という)は、
通常、以下に述べるように構成されている。すなわち、
透明ガラス等からなるパネル基板上に陽極(アノード)
となる透明電極がストライプ状に形成されているととも
に、その透明電極上に正孔輸送層と発光層とからなる有
機層が当該透明電極と直交する方向に形成されており、
さらにその有機層上には陰極(カソード)が形成されて
いる。このようにすることにより、透明電極と陰極とが
交差する位置には、それぞれ有機EL素子が形成され
る。そして、これらの有機EL素子を縦横に配列するこ
とで発光エリアが形成される。また、その周辺部には、
発光エリアを外部回路または内部駆動回路と接続させる
ための電極部が形成されている。
おいて、陽極である透明電極に対して正の電圧が印加さ
れ、陰極に対して負の電圧が印加されると、透明電極か
ら注入された正孔が正孔輸送層を経て発光層に到達す
る。一方、陰極から注入された電子も発光層に到達す
る。したがって、発光層内では、電子−正孔の再結合が
生じることから、所定の波長を持った光が発生する。そ
して、その光は、透明ガラス等からなるパネル基板から
外部に向けて出射されることになる。これにより、有機
ELディスプレイでは、例えば画像表示を行うことが可
能になるのである。
機ELディスプレイに代表される表示装置は、発光素子
駆動のために、パネル基板上における電極部に対して、
外部回路または内部駆動回路の一部を構成するフレキシ
ブル配線板や駆動用ドライバIC(集積回路)を、電気
的に接続する必要がある。この電気的接続は、通常、異
方性導電膜(以下「ACF」という)を介して行われて
いる。
て電気的に接続を行う場合には、その電気的な接続のた
めに少なくとも百数十度といった高温の熱を加える必要
がある。これに対して、有機EL素子は、熱に弱く、八
十度程度しか熱的に耐えられない。したがって、電気的
接続を確立する際には、有機EL素子が熱的なダメージ
を受けてしまうおそれがある。また、熱的なダメージを
避けるためには、電極部を有機EL素子からかなり離れ
て位置させなければならず、電圧降下に伴う輝度低下を
招いたり、大画面化や省スペース構成への対応が困難に
なってしまうことが考えられる。
ジのみならず、有機EL素子に対する過重によってもそ
の有機EL素子の分子構造が破壊してしまうことが考え
られるため、これを回避する必要がある。
ージを与えることなく、表示装置における電極部とその
駆動回路等との間を電気的に確実に接続することのでき
る、表示装置の製造方法および表示装置を提供すること
を目的としている。
成するために案出された表示装置の製造方法であり、表
示装置を構成する第1部材と第2部材とを電気的に接続
する際に、前記第1部材の一面に設けられた電極端子部
と前記第2部材に設けられた貫通孔状の導通部とを位置
合わせした状態で当該第1部材および当該第2部材を互
いに重ね合わせ、前記第2部材側から前記電極端子部お
よび前記導通部の部分に導電性膜の成膜処理を施すこと
で、または前記導電性膜の成膜処理に代わって前記電極
端子部および前記導通部の部分に前記第2部材側から導
電性材料を塗布し当該導電性材料を硬化させることで、
または前記導電性膜の成膜処理に加えて前記電極端子部
および前記導通部の部分に前記第2部材側から導電性材
料を塗布し当該導電性材料を硬化させることで、前記第
1部材と前記第2部材とを電気的に接続することを特徴
とする。
に案出された表示装置であり、一面に電極端子部が設け
られた第1部材と、貫通孔状の導通部が設けられた第2
部材とを備え、前記電極端子部と前記導通部とが位置合
わせされた状態で前記第1部材と前記第2部材とが互い
に重ね合わせられ、前記第2部材側から前記電極端子部
および前記導通部の部分に施された導電性膜の成膜処理
と導電性材料の塗布硬化処理とのいずれか一方または両
方によって、前記第1部材と前記第2部材とが電気的に
接続されていることを特徴とするものである。
構成の表示装置によれば、貫通孔状の導通部側からの導
電性膜の成膜処理と導電性材料の塗布硬化処理とのいず
れか一方または両方によって、第1部材における電極端
子部と第2部材における導通部との間は、導電性膜また
は導電性材料を介して電気的に接続される。このとき、
第1部材の電極端子部としては例えば表示装置のパネル
基板上における電極部が、第2部材における導通部とし
ては例えばフレキシブル配線板や駆動用ドライバICの
端子パターンが考えられる。また、導電性膜の成膜処理
としては例えばスパッタ法やメッキ法による成膜が、導
電性材料の塗布硬化処理としては例えばペースト状の導
電性材料を塗り、これに対してレーザによる微小ポイン
ト加熱や紫外線硬化等を行うことが考えられる。したが
って、第1部材と第2部材との間では、電気的に確実に
接続されるとともに、その接続の際に過剰な高熱や過重
等が加わることもなくなる。
表示装置の製造方法および表示装置について説明する。
ここでは、有機EL素子を表示素子として用いた有機E
Lディスプレイを例に挙げて説明する。
の外観構成を示す斜視図である。図1に示すように、こ
こで説明する有機ELディスプレイ1は、例えばテレビ
ジョン受像機に用いられるもので、大型の表示面(例え
ば75インチサイズ以上)1aを有しているものであ
る。また、有機ELディスプレイ1は、図2に示すよう
に、表示面1aの背面側に、有機ELユニット2とし
て、例えばA6サイズ程度毎に分割されたそれぞれの駆
動回路領域に対応して細分化された複数枚の駆動回路基
板を備えるとともに、隣同士の駆動回路基板が電気配線
により接続された構造を有している。
を拡大して示した分解斜視図である。有機ELユニット
2は、複数のIC(集積回路)基板3と、1枚の有機E
Lパネル4と、を有している。
するもので、1つまたは複数個のドライバIC31を搭
載している。これらのドライバIC31は、フレキシブ
ル配線板5を介して、それぞれ有機ELパネル4の裏面
側(IC基板3側)の電気接続部分に電気的に接続する
ようになっている。さらに、各IC基板3は、フレキシ
ブル配線板5とは別のフレキシブル基板51を介して、
相互に電気的に接続するようになっている。
パネル4を複数の区分面41に分け、各区分面41に対
応して複数のIC基板3を配設するのは、以下に述べる
理由による。すなわち、有機ELパネル4を各区分面4
1毎に駆動すれば、各IC基板3から対応する位置にあ
る区分面41までの駆動配線の長さが短くなり、表示面
1aを大型化した場合でも配線抵抗による電圧降下をな
くして、安定した有機ELパネル4の表示駆動を行うこ
とができるからである。さらには、区分面41毎に分割
してIC基板3をそれぞれ配置すれば、仮にいずれかの
IC基板3のドライバIC31の動作が不良になった場
合でも、その該当する区分面41のIC基板3のみを取
り外して交換するといったことも可能となり、メンテナ
ンス時のコストダウン等を図ることができるといったメ
リットも得られるからである。
造例を示す概略構成図である。図例では、一つの区分面
41、すなわち一つのIC基板3が受け持つ例えばA6
サイズ程度の駆動回路領域のみを示している。図4およ
び図5に示すように、有機ELパネル4は、表示部領域
42と、電気的な接続領域43と、を有している。表示
部領域42は、図5中の寸法DおよびD8と寸法D7と
で形成される領域であり、R(赤)、G(緑)、B
(青)の各色成分の画素が均等に配置されている。ま
た、電気的な接続領域43は、上記R、G、Bの各画素
の間に接続ポイントを配した形で図5中の寸法D5と寸
法D6および寸法D7と寸法D8で形成される領域に配
置され、例えば丸形状の接続ポイントPが複数配設され
ている。この接続ポイントPは、後述する全陰極ストラ
イプと全陽極ストライプの一つ一つにそれぞれ少なくと
も一箇所設けられるもので、RGB画素の間に配置され
ている。この接続ポイントPを介してIC基板3との電
気的な接続を確立することで、有機ELパネル4は、デ
ィスプレイとしての機能を実現するようになっている。
なお、有機ELパネル4の端部には、例えば正方形の形
状を有した位置決め用のアライメントマーク44が形成
されている。
ついて、さらに詳しく説明する。図6および図7は、有
機ELパネル、特にその有機ELパネルが備える有機E
L素子部分を示す概略構成図である。
透明ガラス等からなるパネル基板(以下、単に「透明基
板」という)101上に、陽極(アノード)となる透明
電極102をストライプ状に形成し、その透明電極10
2上に、正孔輸送層と発光層とからなる有機EL膜10
3を透明電極102と直交するように形成し、さらにそ
の有機EL膜103上に陰極(カソード)104を形成
することで、透明電極102と陰極104とが交差する
位置にそれぞれ有機EL素子6を備えた構成となってい
る。この構成により、透明基板101上では、有機EL
素子6が縦横に配置された発光エリアである表示部領域
42が形成されるとともに、その発光エリアをIC基板
3と接続させるための電気的な接続領域43が形成され
るのである。
常、透明電極102間に絶縁層が設けられており、これ
によって透明電極102間の短絡と、さらには透明電極
102と陰極104との問の短絡が防止されている。
おいて、表示部領域42では、図7(a)に示すよう
に、透明電極102と有機EL膜103(陰極104)
とが交差しており、その交差位置に有機EL素子6が形
成されるが、その有機EL素子6としては、例えば図7
(b)に示すようなシングルヘテロ型のものである。す
なわち、有機EL素子6は、透明基板101上にITO
(Indium tin oxide)膜等の透明電極102からなる陽
極が設けられ、その上に正孔輸送層103aおよび発光
層103bからなる有機EL膜103と陰極104が設
けられることによって形成されたものである。
では、陽極である透明電極102に正の電圧を印加し、
陰極104に負の電圧を印加すると、透明電極102か
ら注入された正孔が正孔輸送層103aを経て発光層1
03bに到達し、陰極104から注入された電子が発光
層103bに到達するので、発光層103b内で電子−
正孔の再結合が生じる。これにより、発光層103b内
で所定の波長を持った光が発生し、その光が図7(b)
の矢印で示すように透明基板101側から外に出射する
ので、有機ELパネル4では、例えばRGBに各画素表
示(画像表示)を行うことが可能になるのである。
面構造等について、さらに詳しく説明する。図8は、有
機EL素子部分の断面構造を示す概略構成図である。
ば透明ガラス基板または透明プラスラック基板を用いる
ことが考えられる。透明ガラス基板としては、例えばソ
ーダガラス、無アルカリガラス、石英ガラス等が挙げら
れる。また、透明プラスチック基板としては、例えばポ
リカーボネート(PC)、フッ素ポリイミド(PI)、
アクリル樹脂(PMMA)、ポリエチレンテレフタレー
ト(PET)、ポリアリレート(PAR)、ポリエーテ
ルスルフォン(PES)、ポリエーテルニトリル(PE
N)、シクロ・オレフイン系樹脂等が挙げられる。
膜111が形成されている。このガスバリア膜111
は、水分や酸素等のガスの素子内への浸入を防いで、有
機EL素子の劣化を防止するためのものである。なお、
少なくとも表面側(外側に面した側)のガスバリア膜1
11は、透明基板101での光の反射を抑えて、透過率
の高い優れた有機EL素子を実現するためにも、反射防
止特性が付与されていることが望ましい。
電極112が形成されている。この補助電極112は、
抵抗値を下げるためのもので、例えばクロム(Cr)を
櫛状に形成することによって実現される。
が形成されている。この透明電極102は、正の電圧が
印加される陽極として機能するものであり、例えばスト
ライプ状に形成されたITO膜からなるものである。
3が形成されている。さらに、第1絶縁層113の上に
は、有機EL膜103が形成されている。第1絶縁層1
13は、例えば窒化ケイ素(SiN)からなり、電気絶
縁性ばかりでなく、水分や酸素等に対するガスバリア機
能をも有している。このガスバリア機能をもたせること
で、素子内部への水分や酸素等の浸入を防いで、有機E
L膜103の劣化を防ぐようになっている。また、有機
EL膜103は、正孔輸送層と発光層とが積層された多
層構造を有している。
機EL膜103の上には、陰極(カソード電極)104
が形成されている。陰極104は、有機EL膜103の
カソードとなるもので、有機EL膜103よりも大きめ
に形成されている。陰極104は、例えばフッ化リチウ
ム(LiF)からなる。
には、第2絶縁層114が形成されている。この第2絶
縁層114は、素子全体に亘って形成されており、例え
ば窒化ケイ素(SiN)、窒化アルミニウム(AlN)
等にからなる。第2絶縁層114も、第1絶縁層113
と同様に、ガスバリア機能を有しており、これにより有
機EL膜103の劣化を防止することができる。
114には、接続ポイントPとなる位置に、開口部10
5が形成されている。そして、この開口部105の部分
には、それぞれ、導電性を有する金属膜、例えばニッケ
ル(Ni)、Au(金)またはSb(アンチモン)によ
って、電極端子部106が設けられている。この電極端
子部106は、有機EL素子6を構成する透明電極10
2および陰極104に対する通電を行うためのものであ
る。
1、補助電極112、透明電極102、第1絶縁層11
3、有機EL膜103、陰極104、第2絶縁層11
4、および電極端子部106によって、有機ELパネル
4が構成されているのである。なお、本実施形態におい
ては、この有機ELパネル4が本発明における第1部材
に相当し、その有機ELパネル4における電極端子部1
06が本発明における電極端子部に相当しているものと
する。
は、接着剤201を介して、フレキシブル配線板5が貼
り付けられる。接着剤201としては、例えばフレキシ
ブル配線板5に貼り付けられた両面粘着テープが考えら
れる。ただし、接着剤201は、有機ELパネル4の電
極端子部106の部分には存在していない。
ド(PI)やポリエチレンテレフタレート(PET)に
よって形成することが考えられる。ただし、フレキシブ
ル配線板5には、有機ELパネル4における電極端子部
106と対応する位置に、その断面がテーパ状となって
いる貫通孔202が設けられている。さらに、そのテー
パ状の貫通孔202の周囲部分は、導電性を有した導通
部203で覆われている。この導通部203は、フレキ
シブル配線板5における電気的な配線パターンに接続し
ているもので、例えば銅(Cu)、または銅上にニッケ
ル(Ni)若しくはニッケル/金(Au)を積層したも
のによって形成することが考えられる。
通孔202および導通部203を有して構成されてい
る。本実施形態においては、このフレキシブル配線板5
が本発明における第2部材に相当し、そのフレキシブル
配線板5における導通部203が本発明における貫通孔
状の導通部に相当しているものとする。ただし、本発明
における第2部材は、必ずしもフレキシブル配線板5に
限定されるものではない。すなわち、有機ELパネル4
の電極端子部106と電気的に接続するための導通部を
有したものであれば、その有機ELパネル4を駆動する
ための駆動回路の一部または全部を構成するもの、さら
に具体的にはIC基板3自体やこれに搭載されたドライ
バIC31自体等であっても構わない。
ネル4に対してフレキシブル配線板5を電気的に接続す
る際の手順、すなわち有機ELユニット2(有機ELデ
ィスプレイ1)の製造方法について、詳しく説明する。
図9は、電気的接続を確立する際における有機EL素子
部分の断面構造を示す概略構成図である。
線板5を電気的に接続する際には、先ず、有機ELパネ
ル4の電極端子部106とフレキシブル配線板5の貫通
孔202とを位置合わせした状態で、これらを互いに重
ね合わせ、接着剤201で密着固定させる。このときの
位置合わせは、例えば有機ELパネル4上に設けられた
アライメントマーク44を基にして行えばよい。
202およびその周囲部分の導通部203とは、有機E
Lパネル4上の接続ポイントPに対応した箇所に位置す
ることとなる。ただし、これらの接続ポイントPは、有
機EL膜103に重ならないように位置しているものと
する。これは、電極端子部106と導通部203とを電
気的に接続する際に、有機EL膜103への熱の伝導を
極力防ぐためである。
とを密着固定させた後は、そのフレキシブル配線板5上
に、接続ポイントPに対応した箇所が開口しているマス
ク層300を形成する。このマスク層300は、例えば
金属材料からなるメタルマスクとすることが考えられ
る。
シブル配線板5側からマスク層300を介して成膜処理
を施し、導電性膜301を例えば数百nm以上成膜す
る。このときに行う成膜処理としては、例えばスパッタ
リングに代表される真空薄膜成膜処理が挙げられる。た
だし、メッキ法を用いて導電性膜301を成膜しても構
わない。また、導電性膜301は、導電性を有し、か
つ、薄膜成膜が可能なものであればよく、例えばニッケ
ル/金(Ni/Au)、錫/金(Sn/Au)または銅
/金(Cu/Au)によって形成することが考えられ
る。
106の上面と導通部203のテーパ部分とは、導電性
膜301によって覆われ、これによって電気的に接続さ
れることになる。しかも、フレキシブル配線板5上には
マスク層300が形成されているので、接続ポイントP
が複数箇所有っても、導電性膜301によって各接続ポ
イントPが互いに導通してしまうことはない。
ており、フレキシブル配線板5側からみて非垂直である
斜面部を有しているので、成膜処理の際に導電性膜30
1によって確実に覆われることになる。すなわち、導通
部203がテーパ状になっているので、成膜処理によっ
て電極端子部106と導通部203との間を電気的に接
続する場合であっても、その電気的接続を確実に行える
ようになる。なお、テーパ状の導通部203は、必ずし
も貫通孔202の全周にわたって設ける必要はなく、少
なくともその貫通孔202の一部分に設けられていれ
ば、導電性膜301による電気的接続の確実性を向上さ
せることができる。
203との間は、成膜処理によって形成される導電性膜
301によって電気的に接続されることになる。このと
き、スパッタリング等による成膜処理によれば、有機E
L膜103(有機EL素子6)に加わる熱を数十度程度
に保つことが可能である。したがって、電気的接続を成
膜処理によって行えば、有機EL膜103(有機EL素
子6)への熱的影響を全くなくすことができる。しか
も、熱的なダメージのみならず、有機EL膜103(有
機EL素子6)に対して過重が加わることもない。つま
り、電極端子部106と導通部203との間の電気的接
続を成膜処理によって行えば、電圧降下に伴う輝度低下
を招いたり、大画面化や省スペース構成への対応が困難
になってしまうことなく、有機EL膜103(有機EL
素子6)への熱や過重等によるダメージを避けることが
可能となる。
際には、その電気的接続が不要な部分をマスク層300
によって覆うことになるので、電気的接続が不要な部分
へのプラズマ等の影響も抑えることができる。
成され、複数の接続ポイントPが広域にわたって配置さ
れている場合であっても、これらの接続ポイントPに対
し一括して導電性膜301を成膜して電気的接続(導
通)を確立することができるので、有機ELユニット2
の量産性が向上することも期待できる。
る透明電極102、有機EL膜103、陰極104等は
真空薄膜成膜技術を利用して形成されるが、電極端子部
106と導通部203との間の電気的接続を成膜処理に
よって行えば、その電気的接続の確立までを連続して真
空状態で行うことが可能となる。すなわち、酸素や湿度
等を嫌う有機EL膜103(有機EL素子6)に対し
て、真空中で電気的接続までの工程を行うことができる
ため、結果として有機ELユニット2の品質の劣化を防
ぐことも期待できる。
3との間の電気的接続は、上述した成膜処理による導電
性膜301の形成以外にも、以下のようにして行うこと
が考えられる。その一例としては、例えば、導電性膜3
01の成膜処理に代わって、電極端子部106の上面と
導通部203のテーパ部分とに導電性材料を塗布して硬
化させることで、これらの間を電気的に接続する。この
場合、導電性材料としてはペースト状のもの(導電性ペ
ーストやクリーム半田等)が挙げられる。また、導電性
材料の塗布は、例えばスクリーン印刷またはディスペン
サーによって行うことが考えられる。さらに、塗布した
導電性材料の硬化は、熱の影響を極力抑えることができ
る微小ポイント加熱や紫外線硬化等によって行えばよ
い。
られている貫通孔202は、テーパ状に限らず、スルー
ホールを形成していてもよい。また、予め貫通孔202
内に導電性材料が埋め込まれていてもよく、このように
すればマスク層300の形成を省略することができる。
さらに、導電性材料に対して微小ポイント加熱を行う場
合、その微小ポイント加熱は、レーザ光の照射によって
行ったり、あるいはマスク層300により不要な箇所に
熱が加わらないようにして赤外線を照射したりすること
で行えばよい。
203との間を電気的に接続した場合であっても、上述
した成膜処理により導電性膜301を形成した場合と同
様に、有機EL膜103(有機EL素子6)に熱や過重
等によるダメージを与えることなく、当該電気的接続を
確実に行うことができるようになる。
電性膜301の成膜処理と、導電性材料の塗布硬化処理
との両方を、それぞれ併用することも考えられる。この
場合には、導電性膜301の成膜処理を行った後に、導
電性材料の塗布硬化処理を行うことになる。このように
すれば、熱や過重等によるダメージを与えることなく電
気的接続を確実に行えるのに加えて、その電気的接続の
機械的強度を十分に高めることができるようになる。す
なわち、導電性膜301による電気的接続を、導電性材
料によって補強する形になるので、十分な機械的強度が
得られ、結果として有機ELユニット2の品質向上に寄
与することが期待できる。
として有機EL素子を用いた有機ELディスプレイを例
に挙げて説明したが、本発明はこれに限定されるもので
はなく、表示素子として液晶を用いた液晶ディスプレイ
や、表示素子として発光ダイオード(LED)を用いた
LEDディスプレイ、プラズマディスプレイについて
も、全く同様に適用することが可能である。
体例として技術的に好ましい種々の限定について述べた
が、本発明の範囲は特に本発明を限定する旨の記載がな
い限り、本実施形態で述べた内容に限られるものではな
いことはいうまでもない。
示装置の製造方法および表示装置よれば、熱や過重等に
よるダメージを与えることなく、表示装置における電極
部とその駆動回路等との間を電気的に確実に接続するこ
とができるので、その表示装置の電圧降下に伴う輝度低
下を招いたり、大画面化や省スペース構成への対応を困
難にしたりすることなく、高品質が維持可能な優れた表
示装置を実現することができる。
的に示す図であり、その表示装置を表示面側からみた場
合の斜視図である。
す図であり、その表示装置を表示面の反対側からみた場
合の斜視図である。
部分の構成を拡大して示した分解斜視図である。
あり、電気的な接続領域の例を示す図である。
あり、電気的な接続領域および表示領域の例を詳細に示
す図である。
成例を示す概略構成図である。
成図であり、(a)はその平面図、(b)はその要部断
面図である。
EL素子部分の断面構造を示す概略構成図であり、電気
的接続を確立する前の状態を示す図である。
EL素子部分の断面構造を示す概略構成図であり、電気
的接続を確立する際における有機EL素子部分を示す図
である。
…IC基板、4…有機ELパネル、5…フレキシブル配
線板、6…有機EL素子、31…ドライバIC、42…
表示部領域、43…電気的な接続領域、101…透明基
板、102…透明電極、103…有機EL膜、103a
…正孔輸送層、103b…発光層、104…陰極、10
5…開口部、106…電極端子部、201…接着剤、2
02…貫通孔、203…導通部、P…接続ポイント
Claims (7)
- 【請求項1】 表示装置を構成する第1部材と第2部材
とを電気的に接続する際に用いられる表示装置の製造方
法であって、 前記第1部材の一面に設けられた電極端子部と前記第2
部材に設けられた貫通孔状の導通部とを位置合わせした
状態で当該第1部材および当該第2部材を互いに重ね合
わせ、 前記第2部材側から前記電極端子部および前記導通部の
部分に導電性膜の成膜処理を施すことで前記第1部材と
前記第2部材とを電気的に接続することを特徴とする表
示装置の製造方法。 - 【請求項2】 請求項1記載の表示装置の製造方法にお
いて、 前記導電性膜の成膜処理に代わって、前記電極端子部お
よび前記導通部の部分に導電性材料を塗布し当該導電性
材料を硬化させることで、前記第1部材と前記第2部材
とを電気的に接続することを特徴とする表示装置の製造
方法。 - 【請求項3】 請求項1記載の表示装置の製造方法にお
いて、 前記導電性膜の成膜処理に加えて、前記電極端子部およ
び前記導通部の部分に導電性材料を塗布し当該導電性材
料を硬化させることで、前記第1部材と前記第2部材と
を電気的に接続することを特徴とする表示装置の製造方
法。 - 【請求項4】 請求項1記載の表示装置の製造方法にお
いて、 前記導通部には前記第2部材側からみて非垂直である斜
面部を設けておくことを特徴とする表示装置の製造方
法。 - 【請求項5】 請求項1記載の表示装置の製造方法にお
いて、 前記電極端子部は、ニッケル、金またはアンチモンによ
って形成されており、 前記導通部は、銅または銅上にニッケル若しくはニッケ
ル/金が積層されてなるものであることを特徴とする表
示装置の製造方法。 - 【請求項6】 一面に電極端子部が設けられた第1部材
と、 貫通孔状の導通部が設けられた第2部材とを備え、 前記電極端子部と前記導通部とが位置合わせされた状態
で前記第1部材と前記第2部材とが互いに重ね合わせら
れ、前記第2部材側から前記電極端子部および前記導通
部の部分に施された導電性膜の成膜処理と導電性材料の
塗布硬化処理とのいずれか一方または両方によって、前
記第1部材と前記第2部材とが電気的に接続されている
ことを特徴とする表示装置。 - 【請求項7】 前記電極端子部は、前記第1部材が備え
る有機電界発光素子に対する通電を行うためのものであ
り、 前記第2部材は、電気的な配線パターンまたはこれに接
続する電子部品を搭載し、前記有機電界発光素子を駆動
する駆動回路の一部または全部を構成するためのもので
あることを特徴とする請求項6記載の表示装置。
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JP2001223885A JP2003036034A (ja) | 2001-07-25 | 2001-07-25 | 表示装置の製造方法および表示装置 |
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