JP2003035799A - 放射線写真用燐光パネル - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 画像鮮鋭度の損失を伴わずに向上した写真感
度を提供する放射線写真用燐光パネル。 【解決手段】 放射線写真用燐光パネルは、支持体とし
て用いられる透明高分子多層反射体によって反射される
範囲内の化学線を透過する燐光層を含む。高分子多層反
射体は、少なくとも二種の異なる高分子材料の多数の交
互層を有し、燐光体が感光性を有する波長の範囲内の化
学線の少なくとも５０％を反射する。放射線写真用燐光
パネル中でのこの高分子多層反射体を、放射線写真ハロ
ゲン化銀フィルムなどの感光性記録材料と合わせて用い
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、Ｘ線から画像形成
する際に用いられる新規且つ改善された蛍光増感スクリ
ーン（すなわち、放射線写真用燐光パネル）に関する。
特に、本発明は、向上した写真感度及び画像鮮鋭度を提
供する反射性高分子支持体を有するこうしたスクリーン
に関する。

【０００２】

【従来の技術】放射線写真用燐光パネルは、ハロゲン化
銀より効率的にＸ線を吸収するとともに、受けたＸ線の
像様パターンに対応する像様パターンで、より長い波長
の輻射線を隣接する放射線写真要素に放出する蛍光燐光
層を支持体上に含む。

【０００３】患者のＸ線被爆を最小にしつつ放射線写真
画像形成の診断能力を高める必要性は、放射線写真要素
と増感スクリーンの両方の構成において長年にわたる重
要な課題を提起してきた。放射線写真用燐光パネルの組
み立てに際して、望ましいことは、達成可能な最高レベ
ルの画像精細度（すなわち、鮮鋭度又は先鋭さ）を得つ
つ、（最高画像形成感度として実現される）所定レベル
のＸ線露光について可能であるより長い波長の最大電磁
線放出を達成することである。放射線写真用燐光パネル
構造における最高感度及び最高鮮鋭度は両立可能な機能
ではないので、殆どの商用パネルは、所期の使用目的の
ための達成可能な最善の妥協を表している。

【０００４】放射線写真用燐光パネル用の支持体の選択
は、スクリーンの最適化に当たって考慮される相互に排
他的な選択を例示している。より長い波長の放出電磁線
の吸収レベルが高い支持体が最も鮮明な放射線写真画像
を生じさせることは一般に認められている。最も鮮明な
画像を生じさせる放射線写真用燐光パネルは、一般に、
黒色支持体又は炭素粒子が充填された支持体で構成され
る。多くの場合、透明スクリーン支持体は、黒色裏当て
層に加えて露光用のカセッテ内に取り付けられているパ
ネルと合わせて用いられる。これらの構成において、鮮
鋭度は写真感度を犠牲にして改善される。そうでなけれ
ば利用できる放出されるより長い波長の輻射線の一部が
隣接する放射線写真要素に送られないからである。

【０００５】黒色又は透明の放射線写真用燐光パネル支
持体を、より反射性の支持体によって置き換えると、実
質的な感度増加を実現することができる。従来の最も一
般的なアプローチは、スクリーン支持体にチタニア又は
硫酸バリウムなどの白色顔料を充填するか、あるいは塗
布することである。

【０００６】従って、放射線写真用燐光パネル用の従来
の支持体には、厚紙、酢酸セルロース、ポリスチレン及
びポリ（メチルメタクリレート）などのプラスチックフ
ィルムが挙げられる。ポリ（エチレンテレフタレート）
のフィルムは特に好ましい。プラスチック支持フィルム
は、染料又はカーボンブラックなどの顔料等の光吸収性
材料を含有してよく、あるいは二酸化チタン又は硫酸バ
リウムなどの光反射性材料を含有してよい。

【０００７】しかし、この技術分野で知られている最良
の反射性支持体でさえ、画像形成感度に比べて劣った画
像鮮鋭度を有し、画像精細度（すなわち、鮮鋭度）があ
まり厳しくない状況に支持体の用途を限定する。さら
に、他の目的では好適であることが分かっている多くの
種類の反射性支持体が試みられ、そして蛍光増感スクリ
ーン用には拒絶されてきた。例えば、「白色体顔料（wh
itener）」として広く用いられている蛍光増白剤を支持
体に充填するのは、満足な画像鮮鋭度を達成するのと両
立しないことが判明している。

【０００８】以後「ストレッチキャビテーションミクロ
ボイド化」支持体という反射性支持体の一種が当該技術
分野では存在している。例えば、米国特許第３，１５
４，４６１号（Ｊｏｈｎｓｏｎ）には、サイズ１〜５μ
ｍの炭酸カルシウムの微小ビーズが充填された高分子フ
ィルムが開示されている。支持体を二軸延伸することに
より、ストレッチキャビテーションミクロボイドが導入
されるため、支持体は不透明になる。

【０００９】スクリーン感度を強化するために反射性基
材を使用することは当該技術分野では周知されており、
例えば多くの現行のスクリーン（ＫＯＤＡＫ ＬＡＮＥ
ＸＲｅｇｕｌａｒ）は、感度の利点を提供するために二
酸化チタン又は他の白色基材上に塗布される。一般に、
反射は支持体の体積から得られる。すなわち、反射は、
支持体の表面からのみでなく、支持体中のいくらかの距
離までも拡張される。これらの層は、反射率に比例して
向上した感度を提供するが、得られた感度の各増分に関
して、スクリーンと反射性支持体の両方において反射率
の拡散性に起因する鮮鋭度の損失がある。

【００１０】蒸着金属フィルム（アルミニウム、ニッケ
ルなど）から形成されるものなどの鏡面反射体もパネル
支持体として用いることが可能である。しかし、一般的
な鏡面反射体は、一般的な燐光材料によって放出される
光の波長のところで拡散反射体より低い最大反射率を有
する点で不利である。さらに、蒸着金属層は比較的脆
く、燐光層が反射性金属層上に直接塗布されている場
合、相当な反射率が失われる。金属反射体をコーティン
グ溶媒から保護するために高分子フィルムを金属反射体
に適用することが可能であるが、このフィルムが存在す
ると、反射体が燐光層から分離され、得られる画像に有
害なフレア光を引き起こしうる。

【００１１】米国特許第５，９７５，７０８号（Ｂｏｕ
ｔｅｔ）には、熱現像可能なフィルムの場合に感度を向
上させ鮮鋭度を改善するために二色性ミラーハレーショ
ン防止層の使用が開示されている。連続二色ミラー層が
二酸化珪素と二酸化チタンの多交互層から形成され、基
材層（すなわち支持体）の上に塗布される。

【００１２】可視光を反射するが赤外光を透過する「コ
ールドミラー」、あるいは可視光を透過するが赤外光を
反射する「ホットミラー」などの波長選択性反射体とし
て機能する多層高分子積層体（stack)も開示されてい
る。多様な多層積層体の例は、米国特許第５，８８２，
７７４号（Ｊｏｎｚａ）に含まれている。

【００１３】

【発明が解決しようとする課題】画像鮮鋭度の損失を伴
わずに向上した写真感度を提供する放射線写真用燐光パ
ネルが当該技術分野では必要とされている。高い反射率
及びコーティング溶媒に対する耐性を有する鏡面反射体
を用いて、こうしたパネルを設計することが必要とされ
ている。反射体の鏡面性及び燐光層の直下にある反射体
の位置が鮮鋭度損失を最小にしつつ、感度増加を最大に
するために（患者の吸収線量を少なくする）、こうした
高い反射率を得ることも必要とされている。パネルの感
度及び鮮鋭度の結果的な改善は、改善された診断能力に
向けたパネル対の設計に際して、より広い許容範囲を提
供するであろう。

【００１４】

【課題を解決するための手段】本発明は、高分子多層反
射体を含む放射線写真用燐光パネルを提供する。より詳
しくは、本発明の放射線写真用燐光パネルは、高分子多
層反射体上に配置されている燐光層を含み、フィルム形
成性結合剤に分散した蛍光燐光体粒子を含み、そして保
護上塗をさらに含む。

【００１５】なおさらに、本発明は、高分子多層反射体
を含む少なくとも一つの放射線写真用燐光パネルを含
み、当該少なくとも一つの放射線写真用燐光パネルが、
ハロゲン化銀放射線写真フィルムなどの感光性記録材料
と関連して配列されている放射線写真画像形成集成体を
提供する。

【００１６】さらに、本発明は、結合剤に分散した燐光
体粒子の支持層及び前記層上の保護コーティングを含む
放射線写真用燐光パネルを製造する方法であって、前記
結合剤が一種以上のエラストマー系ポリマーから本質的
に成り、そして前記パネルが、燐光体粒子を本質的に一
種以上のエラストマー系ポリマーからなる結合剤中に分
散させ、分散させた燐光体粒子を、生じる乾燥燐光層を
圧縮することなく燐光層を形成させるように高分子多層
反射体上に塗布し、そして前記燐光層上に保護コーティ
ングを塗布することにより調製される、放射線写真用燐
光パネルを製造する方法を提供する。

【００１７】本発明は多くの利点を提供する。本発明
は、画像鮮鋭度の損失を伴わずに画像形成される感光性
記録材料に向上した写真感度をもたらす放射線写真用燐
光パネル（すなわち、蛍光増感スクリーン）を提供す
る。

【００１８】本発明のこれらの利点及び他の利点は、放
射線写真用燐光パネル中に高分子多層反射体（一般に支
持体として）を使用することにより達成される。こうし
た高分子多層反射体に関するさらに詳細な事項は以下の
本文及び添付図面に記載する。

【００１９】従って、本明細書において記載した高分子
多層反射体の目的は、露光された感光性記録材料に向上
した感度を、化学組成においても構造においても前記記
録材料の変更の必要性を伴わずに提供することである。
逆に言えば、本発明は、所定の感度を維持しつつ感光性
記録材料の量を減らすことが可能である。材料の感度
は、感光性層（複数を含む）に吸収される光の量に直接
関連している。多くの感光性層は入射光の小部分を吸収
するだけなので、感光性層（複数を含む）を通る第２の
経路のために入射光を反射する（ｒｅｔｕｒｎ）支持体
は、吸収された光の量を有効に倍にする。

【００２０】

【発明の実施の形態】本発明の目的において、「感光性
記録材料」とは、放射線写真法（医療目的、獣医療目的
及び工業目的用）において用いられる感光性材料（一般
に放射線写真ハロゲン化フィルム）を意味する。

【００２１】「Ｘ線増感スクリーン」、「蛍光増感スク
リーン」及び「放射線写真用燐光パネル」とは同じ材料
を意味する。

【００２２】好ましい実施形態において、本発明は、支
持体として高分子多層反射体を有するとともにＸ線励起
下で光を放出する一種以上の燐光体を含む燐光層をその
上に直接配置させた放射線写真用燐光パネルに関する。
この放射線写真用燐光パネルは、放射線写真画像形成に
おいて前記材料の感光性を改善する目的で感光性記録材
料と合わせて一般に用いられる。

【００２３】こうしたパネル中で用いられる燐光体は、
良好なＸ線吸収、高いＸ線−光変換効率及び低い残光
「ノイズ」であることが必要とされる。良好なＸ線吸収
を有する燐光体を含む放射線写真用燐光パネルは、Ｘ線
画像の精細度がより高いので、医療用放射線写真の診断
効率を改善することが可能である。高いＸ線−光変換効
率を有する燐光体は、患者へのＸ線被爆を減らして使用
することが可能である。さらに、残光分の量が少ない燐
光体は、不正確濃度（残光ノイズ）により引き起こされ
る診断の誤りを防止することが可能である。

【００２４】燐光体は、電磁スペクトルの青から緑の範
囲内の光を放出することが可能であり、同じ範囲内で感
光性であるオルソフィルムと組み合わせて用いられる。

【００２５】本発明の重要な利点は、標準の燐光放出と
組み合わせて強化された可視光反射を達成することであ
る。さらに、本発明において用いられる高分子多層反射
体は、オルソフィルムの露光量を最大にする追加の可視
光反射を提供しつつ実質的にＸ線吸収がない有機高分子
材料から成る。

【００２６】図１のＡは、交互配置されている高屈折率
ポリマーから成るポリ（エチレンナフタレート（ＰＥ
Ｎ）光学層１２と低屈折率ポリマーから成るポリ（メチ
ルメタクリレート）（ＰＭＭＡ）光学層１４を含む典型
的な高分子多層反射体１０を示している。こうした高分
子多層反射体は、交互している高屈折率と低屈折率の反
復光学層の少なくとも一定数（好ましくは少なくとも３
０、より好ましくは３００〜１０００）を有する。こう
した反射体は、「誘電体ミラー」又は「誘電体積層体」
と呼ばれることが多い。矢印１６で示された可視光は、
屈折率の変化によって各界面で反射される。

【００２７】図１のＢは、両方の光学層が類似の屈折率
を有するが厚さにおいて異なる交互配置されているＰＥ
Ｎ光学層１２とポリ（エチレンナフタレート−コ−テレ
フタレート）（９０：１０カルボキシレートサブ単位）
ｃｏＰＥＮ光学層１４を含む高分子多層反射体２０を示
している。矢印１６によって特定される可視線は、厚み
が変化する各界面で反射される。

【００２８】こうした高分子多層反射体は、二酸化チタ
ン又は硫酸バリウムなどの顔料を含有する公知の高度拡
散反射体と比べて多数の利点を有する。こうした公知の
反射体は多少効率的である一方で、それらは露光Ｘ線の
一部を吸収もする。こうした反射体の欠点は、所望の画
像を得るために、より多くの露光エネルギー又はより長
い露光時間を必要とすることである。不十分な露光が一
部の決定的に重要な情報の紛失の原因になるより低い画
像品質を生じる一方で、長期レベル又はより高レベルの
Ｘ線被爆は、被爆された患者に及ぼす好ましくない作用
の誘因になりうる。本発明において用いられる高分子多
層反射体は、殆どＸ線を吸収しないのでこれらの問題を
もたない。放射線写真用燐光パネルは、こうした効果を
提供する高分子多層反射体を含むことができ、露光輻射
線が可視範囲外であるか、あるいは可視波長の狭い帯域
のみから成る場合に透明支持体として依然として機能す
る。こうした放射線写真用燐光パネルは、好ましくは、
好適な様式でパネル自体に接着する高分子多層反射体を
有する。こうした実施形態は、表面組成が異なる多様な
材料を互いに接触して保持させることを可能にする。

【００２９】本発明のもう一つの好ましい実施形態にお
いて、高分子多層反射体は、露光される感光性記録材料
への最大光反射を可能にするために放射線写真用燐光パ
ネルに隣接して配置される。

【００３０】本発明のもう一つの態様において、高分子
多層反射体は、感光性記録材料の感光性層（複数を含
む）に隣接して配置される。従って、高分子多層反射体
は、放射線写真用燐光パネルの頂上側に配置してよい。
あるいは、高分子多層反射体は、集成体のために所望の
剛性を放射線写真用燐光パネルに提供する透明支持基板
に接着してよい。なおもう一つの代替案において、高分
子多層反射体、それ自体が支持基板として機能してよ
い。こうした場合、高分子多層反射体は、放射線写真用
燐光パネルの一体部分である。この最後の実施形態は、
反射体の接着（例えば、接着剤を用いる）に伴う費用と
問題を避けるので最も好ましい。

【００３１】高分子多層反射体は、それを構成している
高分子材料の屈折率に応じて１２５μｍ以下の厚さをも
つことが可能である。好ましくは、反射体の厚さは２５
〜８０μｍである。反射体内の種々の光学層は、用いら
れる高分子材料及び所望の屈折率に応じて同じか又は異
なる厚さをもつことが可能である。

【００３２】上述したように、高分子多層反射体は、３
〜１００ＭＮの曲げ剛性（ＬＯＲＥＮＴＺＥＮ ＆ Ｗ
ＥＴＴＲＥ ＳＴＩＦＦＮＥＳＳ ＴＥＳＴＥＲ ＭＯ
ＤＥＬ１６Ｄによって測定されたもの。この計器からの
出力は、無負荷位置から１５度の角度で長さ２０ｍｍ×
幅３８．１ｍｍのサンプルの片持ち非締め付け端を曲げ
るために要するミリニュートンでの力である。）を一般
に有する透明支持基板をさらに含んでよい。有用な支持
基板は、コポリマー誘導体を含むポリエステル、ポリオ
レフィン、ポリカーボネート及びポリアミド、並びに配
向フィルム基材から成ることが可能である。反射体を製
造するためのポリマー多層の共押出中に、保護境界層
は、押出装置（ダイなど）の壁付近の剪断作用による層
の乱流を防ぐために反射体の外面上に配置することが可
能である。ポリ（エチレンナフタレート）又はポリ（エ
チレンテレフタレート）の厚い保護境界層は、有利に、
反射体中で用いられる保護境界層及び光学層としての二
重の目的で役立つ場合がある。温度又は湿度による支持
基板のカール又はワープを防ぐために、向かい合う保護
境界層が組成及び厚さにおいてほぼ等しい対称構造を用
いることが好ましい場合がある。あるいは、幾つかの用
途において、向かい合う保護境界層は、等しくない厚さ
をもってよい。半結晶ポリマーを光学層と保護境界層の
両方のために用いる場合、共通の延伸条件が必要な光学
的特性及び物理的特性を各々に付与するように半結晶ポ
リマーを選択しなければならない。最も簡単な場合は、
保護境界層と高屈折率光学層の両方のために例えばＰＥ
Ｔなどの同じポリマーを用いることである。あるいは、
ＰＥＮを両方の層のために用いてもよい。

【００３３】本発明の実施のもう一つの態様において、
放射線写真用燐光パネルは、感光性記録材料の感光性層
（複数を含む）により近くに配置されている適切な角度
で輻射線を反射するために調整された光学層を用いるこ
とにより、材料中でハレーションを引き起こす散乱輻射
線を反射できる方式で設計することが可能である。従っ
て、感光性記録材料中でのハレーション防止層の必要性
を実質的に減少させることが可能であるか、あるいは場
合によって無くすことさえ可能である。最高角度で散乱
する輻射線の長距離横移動を防ぐために、高分子多層反
射体の最も厚い光学層を材料の感光性層（複数を含む）
に最も近く配置することが有利であろう。非常に高い角
度で散乱する輻射線は、材料の感光性層（複数を含む）
内での吸収によって減衰する。

【００３４】ポリマー多層反射体 一般にいかなる高分子多層反射体も本発明の実施におい
て使用できるが、好ましい反射体は、選択された入射角
で、あるいは広い角度範囲にわたって入射する活性化輻
射線を鏡面反射する反射体である。本明細書において用
いられる「高分子多層反射体」には、屈折率が異なる高
分子光学層が交互配置されている多層光学フィルム、及
び多ピッチコレステリック層などのコレステリックフィ
ルム層が挙げられる。両形式の反射体は、フィルムの平
面に直交の厚さ方向で屈折率の周期的変動を有する。

【００３５】本発明の好ましい実施形態において、高分
子多層反射体は無機材料を実質的に含まない。無機材料
をもたない反射体は、より少ない吸収及び光散乱を有
し、より多くの光を感光性記録材料に反射するので、該
材料の効率を改善する。

【００３６】本発明の一つの実施形態において、高分子
多層反射体は、１０ｎｍ（ナノメートル）より大きい帯
域幅波長において４０〜１００％のスペクトル反射率を
有する。別の実施形態において、反射体は、１０ｎｍよ
り大きい帯域幅波長において６０〜１００％のスペクト
ル反射率を有する。好ましい実施形態において、反射体
は、１０ｎｍより大きい帯域幅波長において９０％より
大きいスペクトル反射率を有する。こうした好ましい反
射体は、感光性記録材料のピークスペクトル感光性のた
めに最適な光反射を提供することで有用である。

【００３７】本発明の最も好ましい実施形態において、
高分子多層反射体は、３５０〜７５０ｎｍの帯域幅波長
において９０％より大きいスペクトル反射率を有する。
こうした反射体は、可視波長並びに近紫外領域及び赤外
領域にわたって多少均一な光反射を提供する。これは、
感光性記録材料に対する最大露光量を確実にするのを助
ける。

【００３８】本発明において用いられる高分子多層反射
体は、屈折率が異なる交互配置されているポリマー層
（少なくとも二種のポリマー）を有することが可能であ
り、好ましい実施形態において、二種の異なるポリマー
は隣接位置で交互している。こうした反射体は、加算さ
れた光反射を各界面で提供するので好ましい。本発明の
もう一つの好適な実施形態は、隣接ポリマー層間で少な
くとも０．１単位の屈折率差を有する二種以上の異なる
ポリマー層を含む。好ましくは、これらの交互ポリマー
層は等方性である。

【００３９】本発明の高分子多層反射体は、好ましく
は、高い屈折率を有する第１のポリマーと低い屈折率を
有する第２のポリマーの交互層を有する誘電体光学フィ
ルムでもあり、交互層は、選択された入射角で燐光スク
リーンからの入射光の少なくとも５０％を反射するよう
に相互作用する。第１のポリマー及び第２のポリマーの
平面内屈折率は、少なくとも０．０３（好ましくは少な
くとも０．４）だけ異なるのがよい。赤外のスペクトル
領域内で反射するように設計される好適な等方性高分子
多層反射体は、例えば、米国再発行特許第３４，６０５
号（Ｓｈｒｅｎｋら）、米国特許第５，２３３，４６５
号（Ｗｈｅａｔｌｅｙら）及び第５，３６０，６５９号
（Ａｒｅｎｄｓら）に記載されている。最大可視透過率
を維持するために、可視のスペクトル領域内で反射す
る、より高い次元のオーバートーンを減少させる層設計
技術を用いることが可能である。例えば、米国再発行特
許第３４，６０５号（上述したもの）には、可視のスペ
クトル領域内の二次、三次及び四次の反射を抑制しつつ
赤外光を反射させる共押出技術によって形成されたすべ
ての高分子三成分光学干渉フィルムが記載されている。
米国特許第５，３６０，６５９号（上述したもの）に
は、これも共押出可能であり、可視のスペクトル部分内
で発生する二次、三次及び四次の波長を抑制しつつ赤外
光を反射させるすべての高分子二成分フィルムが記載さ
れている。そのフィルムは、相対光学厚さ７：１：１の
６層交互反復単位を有する第１（Ａ）及び第２（Ｂ）の
異種高分子材料の交互層を含む。少なくとも６個のこれ
らの反復単位が望ましい。

【００４０】好ましくは、高分子多層反射体の光学層
は、異なる光学層組が異なる波長範囲を反射するように
設計されて、０．２５波長の厚さを有する。各光学層
は、厳密に０．２５波長の厚さである必要はない。決定
的な要件は、隣接する低−高屈折率光学層対が０．５波
長の全光学厚さをもつことである。層厚が５５０ｎｍの
０．２５波長であるように選択されている０．２より大
きい屈折率差を有するＰＥＮ／ｃｏＰＥＮ層（図１のＢ
のようなもの）又はＰＥＮ／ＰＭＭＡ層（図１のＡのよ
うなもの）の５０層積層体の帯域幅は５０ｎｍである。
この５０層積層体は、測定可能な吸収を伴わずにこの波
長範囲内でほぼ９９％の平均反射率を提供する。

【００４１】三種の商用ポリマー多層反射体に関して１
％未満の透過率（９９％の反射率）を示すコンピュータ
モデル曲線を図２〜４に示している。反射体による測定
可能な吸収がないので、その反射率％（又は反射）は、 １００−（透過率％）＝（反射率％） の関係によって近似される。

【００４２】好ましい選択されたポリマー光学層ｃｏＰ
ＥＮ又はＰＭＭＡは屈折率において等方性のままであ
り、そして図１のＢに図解したように横軸と関連してい
るＰＥＮ層の屈折率と実質的に一致する。この方向に偏
光面を有する光が偏光子によって主として透過される一
方で、配向方向の偏光面を有する光は図１のＡに図解し
たように反射される。

【００４３】偏光子に関して、ＲＥＮ／選択された光学
層は、関連した屈折率が好ましくは実質的に等しい少な
くとも一つの軸を有する。一般に横軸であるその軸と関
連した屈折率の一致は、偏光の当該平面における光反射
が実質的にないという結果になる。選択されたポリマー
層は、延伸方向と関連した屈折率の減少を示すこともあ
る。選択されたポリマーの負の復屈折は、横方向に平行
の偏光面に対する光の反射がなお僅かでありつつ、配向
軸と関連した隣接層の屈折率の差を増加させる利点を有
する。延伸後の隣接層の横軸関連屈折率の差は、０．０
５未満であるのがよく、好ましくは０．０２未満である
のがよい。もう一つの可能性は、選択されたポリマーが
延伸により多少正の復屈折を示すことであるが、これは
熱処理においてＰＥＮ光学層の横軸の屈折率を一致させ
るために緩和させることが可能である。この熱処理の温
度は、ＰＥＮ光学層の復屈折を緩和させるほどには高く
ないのがよい。

【００４４】誘電体光学フィルムが等方性交互層又は復
屈折性交互層であってよい一方で、本発明において用い
られる高分子多層反射体は、好ましくは、復屈折高分子
多層フィルムであり、より好ましくは、復屈折性高分子
多層反射体は、「ｐ」偏光の反射効率を角度で制御でき
るように設計される。こうしたフィルムを以下で詳しく
説明する。

【００４５】本発明の好ましい多層高分子支持体は、好
ましくは、感光性記録材料を増感させる波長（活性化波
長）の輻射線を反射するために前記支持体を調整するよ
うに前もって選択される。好ましくは、反射体は、入射
活性化輻射線の少なくとも５０％を反射する。より好ま
しくは、反射体は、活性化輻射線写真の少なくとも７５
％を反射し、なおより好ましくは、少なくとも９０％を
反射する。本発明のために好適な高分子多層反射体のタ
イプ及びコンセプトは、一般に、米国特許第５，８８
２，７７４号（上述したもの）に記載されている。特定
の材料及び構造は、感光性記録材料及び最終用途と調和
するように設計されなければならない。

【００４６】本発明の一つの態様において、感光性記録
層（複数を含む）と多層積層体との間の界面付近ですべ
ての角度ずれ露光を反射するために、多層積層体の最上
付近の広角高分子多層反射体の（最上層から最下層まで
の厚さにおける）層の段階変化中に最も厚い光学層を置
くことにより、ハレーションは実質的に減少する。燐光
層は、高分子多層反射体の最も薄い層に直接隣接してい
る。しかし、散乱角度ずれ光線が反射体を通過する場
合、多少のハレーションが起きるであろう。感光性記録
材料中に追加されたハレーション防止層は、これらの光
線を吸収して画像鮮鋭度をさらに改善するために用いる
ことが可能である。さらに、広角高分子多層反射体の使
用は、光線の大部分が反射されるので、感光性層（複数
を含む）に追加の写真感度を与える。

【００４７】本発明において用いられる好ましい高分子
多層反射体は、入射光の比較的低い吸収並びにすべての
入射角で「ｓ」偏光及び「ｐ」偏光に関して高い反射率
を示す。

【００４８】本発明において用いられる有用な高分子多
層反射体はブルースター角（すなわち、入射の平面に平
行の「ｐ」偏光の反射率が非常に大きいか、あるいはポ
リマー層界面に関して存在しない角度）を示す。結果と
して、広い帯域幅にわたって、そして広い角度範囲にわ
たって「ｓ」偏光と「ｐ」偏光の両方に関して高い反射
率を有する多層積層体を達成することができる。本発明
の幾つかの態様に関して、高い入射角での「ｐ」偏光の
反射率は望ましく、これは、等方性材料積層体で行うこ
とができない。

【００４９】米国特許第５，８８２，７７４号（上述し
たもの）に記載された原理及び設計への配慮は、多様な
状況及び用途のために所望の光学的効果を有する多層積
層体を作るために利用することができる。多層積層体中
の光学層の屈折率は、所望の光学特性をもたらすために
操作し調整することが可能である。光学フィルムに関す
る追加の有用な情報は、記事「Ｇｉａｎｔ Ｂｉｒｅｆ
ｒｉｎｇｅｎｔ Ｏｐｔｉｃｓ ｉｎ Ｍｕｌｔｉｌａ
ｙｅｒ Ｐｏｌｙｍｅｒ Ｍｉｒｒｏｒｓ」，ｂｙ Ｗ
ｅｂｅｒ ｅｔ ａｌ．，Ｓｃｉｅｎｃｅ，ｖｏｌ．２
８７，２０００，ｐｐ．２４５１〜２４５６において公
表されている。

【００５０】多層積層体は、数十、数百又は数千の光学
層を含むことが可能であり、各光学層は、異なる高分子
材料の数のいずれからも製造することができる。特定の
積層体のための高分子材料の選択を決定する特性は、積
層体の所望の性能に応じて決まる。積層体は、積層体中
に存在する層と同程度に多くの高分子材料を含むことが
可能である。製造し易くするために、好ましい光学薄層
フィルム積層体は、異なる数種のポリマー材料しか含ま
ない。

【００５１】好ましい多層積層体は、高分子フィルム層
の低屈折率／高屈折率対から成り、高分子層の各低屈折
率／高屈折率対は、その対が反射するように設計される
０．５波長の総光学厚みを有する。こうした高分子フィ
ルムの積層体は、「１／４波長」積層体と一般に呼ばれ
る。広角反射が必要な場合、光学層は、積層体の一端か
ら他端への厚さの傾斜をもつことが可能である。可視波
長及び近赤外波長のために設計された高分子多層反射体
に関して、「１／４波長」積層体設計は、０．５μｍ以
下の平均厚を有する多層積層体中に光学層の各々をもた
らす。さらに、燐光層に最も近いより厚い光学層をもつ
広角高分子多層反射体を有することが望ましい場合があ
る。

【００５２】光学層の数は、厚さ、可撓性及び経済性の
理由で最小の層数を用いて所望の光学的特性を達成する
ように選択される。入射角のより大きな変動の反射率を
提供するために、より多数の光学層必要とする場合があ
る。さらに、入射角の変動に適応するために、光学層は
様々厚さをもつのがよい。しかし、光学層の数は、好ま
しくは２，０００未満、より好ましくは１，０００未
満、なおより好ましくは５００未満である。

【００５３】本発明の好ましい実施形態において、高分
子多層反射体は、少なくとも６反復の積層体を提供する
ために隣接光学層内にある少なくとも二種の異なるポリ
マーから製造される。６層より多い光学層が、所定のい
かなる波長に関しても少なくとも４０％のスペクトル反
射率を達成するのに必要である。少なくとも５０層を用
いると、全反射率は９０％より高い。より多くの層を追
加すると、波長スペクトルにわたって、遙かにより広い
スペクトル反射を提供する。

【００５４】高分子多層反射体を製造する一つの方法
は、高分子多層積層体を二軸延伸することである。高効
率反射性フィルムのために、活性化スペクトル領域にわ
たる直角入射での各延伸方向に沿った平均透過率は、望
ましくは５０％未満（５０％より高い反射率）、好まし
くは２５％未満（７５％より高い反射率）。より好まし
くは１０％未満（９０％より高い反射率）、なおより好
ましくは５％未満（９５％より高い反射率）である。特
に好ましい実施形態において、活性化スペクトル領域に
わたり感光性層内で広い角度で散乱した光の平均透過率
は、望ましくは５０％未満（５０％より高い反射率）、
好ましくは２５％未満（７５％より高い反射率）。より
好ましくは１０％未満（９０％より高い反射率）、なお
より好ましくは５％未満（９５％より高い反射率）であ
る。

【００５５】上述したように、高分子多層反射体の種々
の屈折率、従って光学的特性の間の所望の関係を達成す
る能力は、高分子多層反射体を製造するために用いられ
る加工条件によって影響される。延伸によって配向され
うる有機ポリマーの場合、フィルムは、一般に、高分子
多層反射体を形成するために個々のポリマーを共押出
し、その後、選択された温度で延伸することによりフィ
ルムを配向させ、続いて任意に選択された温度でヒート
セットすることにより製造される。

【００５６】本発明の高分子多層高分子反射体の反射特
性を決定する一つの要素は、反射体中の層のために選択
された材料である。多くの異なる材料を用いてよく、所
定の用途のための材料の厳密な選択は、特定の軸に沿っ
た種々の光学層間の屈折率における入手可能な所望の一
致及び不一致、並びに得られた製品の所望の物理的特性
に応じて決まる。単純にするため、本明細書において第
１のポリマーと第２のポリマーという二種の材料のみか
ら製造された積層体を用いて、有用なフィルムをさらに
説明する。

【００５７】本発明の高分子多層反射体の第１の光学層
と第２の光学層及び随意選択の非光学層は、一般にはポ
リエステルなどのポリマーから成る。「ポリマー」とい
う用語は、ホモポリマー及びコポリマー、並びに例えば
共押出によって、又は例えば、エステル交換を含む反応
によって混和性ブレンド中に形成することができるポリ
マー又はコポリマーを含むと理解される。「ポリマ
ー」、「コポリマー」及び「コポリエステル」という用
語は、ランダムコポリマーとブロックコポリマーの両方
を含む。

【００５８】本発明の高分子多層反射体中で用いるため
のポリエステルは、一般に、カルボキシレート及びグリ
コールのサブ単位を含み、カルボキシレートモノマー分
子をグリコールモノマー分子と反応させることにより生
成する。各カルボキシレートモノマー分子は、二個以上
のカルボン酸官能基又はカルボン酸エステル官能基を有
し、各グリコールは、二個以上のヒドロキシ官能基を有
する。カルボキシレートモノマー分子は、すべて同じで
あってよく、あるいは二種以上の異なる種類の分子が存
在してよい。同じことはグリコールモノマー分子にも当
てはまる。グリコールモノマー分子とカルボン酸のエス
テルとの反応から誘導されるポリカーボネートも、「ポ
リエステル」という用語に含まれる。

【００５９】ポリエステル層のカルボキシレートサブ単
位を形成するに際して用いるために好適なカルボキシレ
ートモノマー分子には、例えば、２，６−ナフタレンジ
カルボン酸及びその異性体、テレフタル酸、イソフタル
酸、フタル酸、アゼライン酸、アジピン酸、セバシン
酸、ノルボルネンジカルボン酸、ビシクロオクタンジカ
ルボン酸、１，６−シクロヘキサンジカルボン酸及びそ
の異性体、ｔ−ブチルイソフタル酸、トリメリット酸、
ナトリウムスルホン化イソフタル酸、２，２’−ビフェ
ニルジカルボン酸及びその異性体、並びにメチルエステ
ル又はエチルエステルなどの、これらの酸のより低級な
アルキルエステルが挙げられる。この文脈内の「低級ア
ルキル」という用語は、炭素原子数１〜１０の直鎖又は
分岐アルキル基を意味する。

【００６０】ポリエステル層のグリコールサブ単位を形
成するに際して用いるために好適なグリコールモノマー
分子には、エチレングリコール、プロピレングリコー
ル、１，４−ブタンジオール及びその異性体、１，６−
ヘキサンジオール、ネオペンチルグリコール、ポリエチ
レングリコール、ジエチレングリコール、トリシクロデ
カンジオール、１，４−シクロヘキサンジメタノール及
びその異性体、ノルボルナンジオール、ビシクロオクタ
ンジオール、トリメチロールプロパン、ペンタエリトリ
トール、１，４−ベンゼンジメタノール及びその異性
体、ビスフェノールＡ、１，８−ジヒドロキシビフェニ
ル及びその異性体、並びに１，３−ビス（２−ヒドロキ
シエトキシ）ベンゼンが挙げられる。

【００６１】本発明の高分子多層反射体中で有用な好ま
しいポリエステルは、ポリ（エチレンテレフタレート）
（ＰＥＴ）、ポリ（エチレン２，６−ナフタレート）
（ＰＥＮ）及び例えばナフタレンジカルボン酸とエチレ
ングリコールの反応によって製造できる各々のコポリマ
ーである。ＰＥＮは、大きな正の応力光係数を有し、延
伸後に復屈折を効果的に保持するとともに可視範囲内で
殆ど又は全く吸収をもたないので第１のポリマーとして
選択されることが多い。ＰＥＮは、等方状態で大きな屈
折率も有する。波長５５０ｎｍの偏光入射光に関するＰ
ＥＮの屈折率は、偏光の平面が延伸方向に平行であると
き、１．６４から１．９程度に増加する。分子配向が高
まるとＰＥＮの復屈折が増加する。分子配向は、より大
きい延伸比に材料を延伸し、固定された他の延伸条件を
保持することにより増加しうる。

【００６２】もう一つの好ましい第１のポリマーは固有
粘度（ＩＶ）０．４８ｄｌ／ｇのｃｏＰＥＮである。屈
折率は約１．６３である。このポリマーは、本明細書に
おいて低溶融ＰＥＮ（９０／１０）という。

【００６３】なおもう一つの好ましい第１のポリマーは
固有粘度（ＩＶ）０．７４ｄｌ／ｇのｃｏＰＥＴであ
り、それはイーストマンケミカル（Ｅａｓｔｍａｎ Ｃ
ｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｍｐａｎｙ）（テネシー州キング
スポート）から入手できる。

【００６４】第１のポリマーとして好適な他の半結晶質
ナフタレンジカルボン酸ポリエステルには、ポリ（ブチ
レン２，６−ナフタレート）（ＰＢＮ）、ポリ（エチレ
ンテレフタレート）（ＰＥＴ）及びそれらのコポリマー
が挙げられるが、それらに限定されない。

【００６５】非ポリエステルポリマーも高分子多層反射
体を作るに際して有用である。例えば、ポリエーテルイ
ミドは、高分子多層反射体を作るために、ＰＥＮ及びｃ
ｏＰＥＮなどのポリエステルとの混合物中で用いること
が可能である。ポリエチレンテレフタレート及びポリエ
チレン（例えば、ミシガン州ミッドランドノダウケミカ
ル（Ｄｏｗ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐ．）から商品
名Ｅｎｇａｇｅ８２００で入手できるもの）などの他の
ポリエステル／非ポリエステルの組み合わせを用いるこ
とが可能である。

【００６６】第２のポリマーは、最終フィルムにおい
て、少なくとも一方向における屈折率が同じ方向におけ
る第１のポリマーの屈折率とは大幅に異なるように選択
されるべきである。高分子材料は一般に分散性（すなわ
ち、屈折率が波長により異なる）であるので、これらの
条件は、特定の対象帯域幅の観点で考慮されなければな
らない。第２のポリマーの選択が対象高分子多層反射体
の意図する用途のみでなく、第１のポリマーに関してな
された選択及び加工条件にも依存することは前述した議
論から言うまでもない。

【００６７】第２の光学層は、第１のポリマーのガラス
転移温度と適合性であるガラス転移温度を有し、高分子
多層反射体の配向後に第１のポリマーの屈折率とは実質
的に異なる平面内屈折率を有する多様な第２のポリマー
から製造することが可能である。好適な第２のポリマー
の例には、ビニルナフタレン、スチレン、無水マレイン
酸、アクリレート及びメタクリレートなどのエチレン系
不飽和重合性モノマーから製造されたビニルポリマー及
びコポリマーが挙げられる。こうしたポリマーの例に
は、ポリアクリレート、ポリ（メチルメタクリレート）
（ＰＭＭＡ）などのポリメタクリレート、及びアイソタ
クチックポリスチレン又はシンジオタクチックポリスチ
レンが挙げられる。他の有用な非ビニルポリマーには、
ポリスルホン、ポリアミド、ポリウレタン、ポリアミン
酸及びポリイミドなどの縮合ポリマーが挙げられる。さ
らに、第２の光学層は、ポリエステル及びポリカーボネ
ートなどのポリマー及びコポリマーから形成することが
可能である。

【００６８】好ましい第２のポリマーには、イネオアク
リリックス（Ｉｎｅｏ Ａｃｒｙｌｉｃｓ，Ｉｎｃ．）
（デラウェア州ウィルミントン）から商品名ＣＰ７１及
びＣＰ８０で入手できるものなどのポリ（メチルメタク
リレート）（ＰＭＭＡ）のホモポリマー、又はＰＭＭＡ
より低いガラス転移温度を有するポリ（エチルメタクリ
レート）（ＰＥＭＡ）が挙げられる。別の好ましい第２
のポリマーには、７５質量％のメチルメタクリレート
（ＭＭＡ）モノマーと２５質量％のエチルアクリレート
（ＥＡ）モノマーから製造されたｃｏＭＭＡなどのＰＭ
ＭＡのコポリマー（ｃｏＰＭＭＡ）（イネオアクリリッ
クス（Ｉｎｅｏ Ａｃｒｙｌｉｃｓ，Ｉｎｃ．）から商
品名Ｐｅｒｓｐｅｘ ＣＰ６３で入手できる）、ＭＭＡ
コモノマー単位とｎ−ブチルメタクリレート（ｎＢＭ
Ａ）コモノマー単位によって形成されたｃｏＰＭＭＡ、
あるいはソルベイポリマーズ（Ｓｏｌｖａｙ Ｐｏｌｙ
ｍｅｒｓ，Ｉｎｃ．）（テキサス州ヒューストン）から
商品名Ｓｏｌｅｆ１００８で入手できるものなどのＰＭ
ＭＡとポリ（弗化ビニリデン）（ＰＶＤＦ）のブレンド
が挙げられる。

【００６９】さらに他の好ましい第２のポリマーには、
ダウデュポンエラストマーズ（Ｄｏｗ Ｄｕｐｏｎｔ
Ｅｌａｓｔｏｍｅｒｓ）から商品名Ｅｎｇａｇｅ８２０
０で入手できるポリ（エチレン−ｃｏ−オクレン）（Ｐ
Ｅ−ＰＯ）などのポリオレフィンコポリマー、フィナオ
イルアンドケミカル（Ｆｉｎａ Ｏｉｌ ａｎｄ Ｃｈ
ｅｍｉｃａｌ Ｃｏ．）（テキサス州ダラス）から商品
名Ｚ９４７０で入手できるポリ（プロピレン−ｃｏ−エ
チレン）（ＰＰＰＥ）及び（ハンツマンケミカル（Ｈｕ
ｎｔｓｍａｎ Ｃｈｅｍｉｃａｌ Ｃｏｒｐ．））（ユ
タ州ソルトレークシティ）から商品名Ｒｅｘｆｌｅｘ
Ｗ１１１で入手できるアタクチックポリプロピレン（ａ
ＰＰ）とアイソタクチックポリプロピレン（ｉＰＰ）の
コポリマーが挙げられる。第２の光学層は、デュポン・
ヌムール（Ｅ．Ｉ．ｄｕＰｏｎｔｄｅ Ｎｅｍｏｕｒｓ
＆ Ｃｏ．Ｉｎｃ．）（デラウェア州ウィルミント
ン）から商品名Ｂｙｎｅｌ４１０５で入手できるものな
どの線状低密度ポリエチレン−ｇ−無水マレイン酸（Ｌ
ＬＤＰＥ−ｇ−ＭＡ）などの官能化ポリオレフィンから
製造することも可能である。

【００７０】狭帯域反射を提供する本発明において有用
な高分子多層反射体の薄層フィルム光学設計は、成分層
の屈折率に特定の要件を課している。垂直入射付近の実
質的に唯一の角度で狭帯域の波長を反射するように設計
された多層積層体に関して、等方性ポリマーの交互積層
体を用いることが可能であり、交互層間の屈折率差は非
常に大きくなる必要はない。広い角度範囲にわたって機
能するこうした反射体に関して、平面内屈折率差（ｎ１
ｘ−ｎ２ｘ及びｎ１ｙ−ｎ２ｙ）の両方が比較的大きい
ことが好ましい。角度範囲が広ければ広いほど、積層体
設計において、より多くの層を必要とする。より大きい
屈折率差は、より少ない層をもつ反射体設計を見込んで
いる。少なくとも０．０３の屈折率差が必要である。
０．１の差が好ましく、０．１５の差は遙かにより好ま
しい。垂直入射角付近で十分に機能する反射体をフィル
ム平面に加工するために等方性材料を使用できるのに対
して、復屈折性高分子多層反射体は大きな入射角のため
に好ましい。材料がｎ１ｘ＞ｎ２ｘ及びｎ１ｙ＞ｎ２ｙ
などの、より高い平面内屈折率を有すると想定して、ｎ
１ｚ≦ｎ２ｚ（すなわち、ｚ屈折率差）が好ましくは平
面内屈折率差と逆符号を有することが好ましい。等方性
多層材料と比べると、高分子多層反射体の反射率は、ｚ
屈折率差が多層における平面内屈折率差よりも負値を含
む小さい差を有するときはいつも傾斜角で改善される。

【００７１】例えば、特定の波長で平面内屈折率が二軸
延伸ＰＥＴでは１．７６であり、フィルム平面垂直屈折
率は１．４９に低下しうる。ＰＭＭＡを多層構成におい
て第２のポリマーとして用いるとき、すべての三方向で
の同じ波長におけるその屈折率は、１．４９５でありう
る。もう一つの例はＰＥＴ／Ｅｃｄｅｌ系であり、その
系において、類似の屈折率はＰＥＴについて１．６５と
１．５１であり、Ｅｃｄｅｌの等方性屈折率は１．５２
でありうる。

【００７２】上述した第１の光学層及び第２の光学層に
加えて、本発明の高分子多層反射体は、外面層として、
あるいは光学層のパケット間の内部非光学層として、一
層以上の保護境界層などの一層以上の非光学層を随意選
択的に含む。非光学層は、反射体の物理的一体性を付与
するため、あるいは加工中又は加工後の損傷から反射体
を保護するために用いることが可能である。幾つかの用
途に関して、保護層（複数を含む）と光学層の積層体と
の間の界面粘着力を制御して、保護層を使用前に積層体
から取り去ることができるようにする犠牲保護層（複数
を含む）を含めることが望ましい場合がある。

【００７３】非光学層は、第１の光学層及び第２の光学
層中で用いられるポリマーのいずれをも含めた、ポリエ
ステルなどの種々のポリマーから形成してよい。幾つか
の実施形態において、非光学層のために選択される材料
は、第２の光学層のために選択された材料と似ている
か、あるいは同じである。保護層のためにｃｏＰＥＮ、
ｃｏＰＥＴ又は他のコポリマー材料を使用すると、歪み
誘発結晶性及び配向方向への多数のポリマー分子の配列
に起因するフィルムの崩壊を減少させる。

【００７４】保護層及び他の随意選択の非光学層は、第
１の光学層及び第２の光学層より厚い、薄い、あるいは
同じ厚さであることが可能である。保護層及び他の随意
選択の非光学層の厚さは、個々の第１の光学層及び第２
の光学層の少なくとも一層の厚さの一般には少なくとも
４倍、典型的には少なくとも１０倍であり、そして少な
くとも１００倍であることが可能である。非光学層の厚
さは、特定の厚さを有する高分子多層反射体を製造する
ために変えることが可能である。

【００７５】保護層は、フィードブロック及びダイ壁に
沿った高い剪断作用から積層体を保護するために製造中
に光学層の積層体の一方又は両方の主表面上に共押出し
てよい。多くの場合、所望の化学的特性又は物理的特性
を有する外保護層は、例えばＵＶ安定剤などの添加剤と
保護層を構成するポリマー溶融物とを混合し、特性が変
更された保護層を製造中に積層体の一方側又は両側上に
共押出することにより得ることが可能である。

【００７６】高分子多層フィルムを製造する技術は、米
国特許第３，３０８，５０８号（Ｓｃｈｒｅｎｋ）及び
米国特許第５，９７６，４２４号（Ｗｅｂｅｒら）に詳
細に記載されている。

【００７７】好ましくは、本明細書に記載された高分子
多層反射体は、一層以上の即発放出燐光層を上に配置し
ている（直接又下塗層あるいは下塗層の上）支持材料と
して用いられる。燐光層は、粘着力を改善するために処
理（コロナ放電など）することができる反射体上に直接
塗布することが可能であるか、あるいは中間下塗層又は
他の接着促進層を反射体上に塗布することが可能であ
る。有用な下塗層配合物には、ハロゲン化ビニリデンポ
リマーを含む写真材料用に使用されるものが挙げられ
る。

【００７８】放射線写真用燐光パネル中で有用であるこ
とが知られている別の層を追加することができる。こう
した層の例には、帯電防止層及び保護上塗層が挙げられ
る。別の層は、多層フィルムの製造中に外皮層の外側に
共押出してよい。別の層は、別個のコーティング作業に
おいて高分子多層反射体及び／又は燐光層上に塗布して
よいか、あるいは別個のフィルム、ホイルあるいは硬質
強化基板又は半硬質強化基板として貼合わせてよい。

【００７９】本発明の放射線写真用燐光パネルは、一種
以上のフィルム形成性結合剤に分散した即発放出蛍光燐
光体粒子を含む一層以上の連続又は不連続燐光層を含
む。本発明において有用な燐光体は、電磁スペクトルの
３００〜８００ｎｍの間に燐光放出波長のかなりの部分
を有する。

【００８０】多様な燐光体を本発明の実施において用い
ることができる。燐光体は、励起されると赤外線、可視
光又は紫外線を放出する材料である。固有燐光体は、自
然に（すなわち、固有に）燐光性である材料である。
「活性化」燐光体は、一種以上のドーパント（複数を含
む）が意図的に添加されている、固有燐光体であって
も、又は固有燐光体でなくてもよい基材料から成るもの
である。これらのドーパントは燐光体を「活性化」し、
燐光体に赤外線、可視光又は紫外線を放出させる。例え
ば、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂにおいて、Ｔｂ原子（ドーパント
／活性剤）は、燐光体の光放出を誘発する。

【００８１】本発明の実施において、従来のいかなる燐
光体も、あるいは有用ないかなる燐光体も、単独で、あ
るいは混合物中で使用することが可能である。有用な燐
光体のより特定の詳細を次のように示す。

【００８２】燐光体の有用な種類には、タングステン酸
カルシウム（ＣａＷＯ₄）、ニオブ及び／又は希土類活
性化又は非活性化イットリウム、ルテチウム、又はタン
タル酸ガドリニウム、希土類オキシカルコゲニド及びオ
キシハロゲン化物などの希土類（テルビウム、ランタ
ン、ガドリニウム、セリウム及びルテチウムなど）活性
化又は非活性化中カルコゲン燐光体、並びにテルビウム
活性化又は非活性化ランタン及びルテチウム中カルコゲ
ン燐光体が挙げられるが、それらに限定されない。なお
もう一種の有用な燐光体はハフニウムを含有するもので
ある。

【００８３】好ましい希土類オキシカルコゲニド及びオ
キシハロゲン化物燐光体は、以下の式（１）によって表
される。

【００８４】

【化１】

【００８５】式中、Ｍ’は、金属イットリウム（Ｙ）、
ランタン（Ｌａ）、ガドリニウム（Ｇｄ）又はルテチウ
ム（Ｌｕ）の少なくとも一種であり、Ｍ”は、希土類金
属、好ましくは、ジスプロシウム（Ｄｙ）、エルビウム
（Ｅｒ）、ユーロピウム（Ｅｕ）、ホルミウム（Ｈ
ｏ）、ネオジミウム（Ｎｄ）、プラセオジミウム（Ｐ
ｒ）、サマリウム（Ｓｍ）、タンタル（Ｔａ）、テルビ
ウム（Ｔｂ）、ツリウム（Ｔｍ）又はイッテルビウム
（Ｙｂ）の少なくとも一種であり、Ｘ’は、中カルコゲ
ン（Ｓ、Ｓｅ又はＴｅ）又はハロゲンであり、ｎは０．
０００２〜０．２であり、Ｘ’がハロゲンであるときに
ｗは１であり、Ｘ’が中カルコゲンであるときにｗは２
である。これらには、希土類活性化オキシ臭化ランタ
ン、Ｇｄ₂Ｏ₂Ｓ：Ｔｂなどのテルビウム活性化又はツリ
ウム活性化オキシ硫化ゴドリニウムが挙げられる。

【００８６】好適な他の燐光体は、米国特許第４，８３
５，３９７号（Ａｒａｋａｗａら）及び米国特許第５，
３８１，０１５号（Ｄｏｏｍｓ）に記載されており、そ
れらには、例えば、二価ユーロピウム及び他の希土類活
性化アルカリ土類金属ハロゲン化物燐光体、及び希土類
元素活性化希土類オキシハロゲン化物燐光体が挙げられ
る。燐光体のこれらの種類の中で、最も好ましい燐光体
には、アルカリ土類金属フルオロハロゲン化物貯蔵燐光
体[特に米国特許第５，４６４，５６８号（Ｂｒｉｎｇ
ｌｅｙら）に記載されたようなアルカリ土類金属フルオ
ロブロモヨード貯蔵燐光体などの沃化物を含有するも
の]が挙げられる。

【００８７】燐光体のもう一つの種類には希土類ホスト
が挙げられ、それは、ユーロピウム活性化硫酸バリウム
ストロンチウムなどの希土類活性化混合アルカリ土類金
属硫酸塩である。

【００８８】特に有用な燐光体は、ＹＴａＯ₄、ＹＴａ
Ｏ₄：Ｎｂ、Ｙ（Ｓｒ）ＴａＯ₄及びＹ（Ｓｒ）Ｔａ
Ｏ₄：Ｎｂなどのドープタンタル又は非ドープタンタル
を含有するものである。これらの燐光体は、米国特許第
４，２２６，６５３号（Ｂｒｉｘｎｅｒ）、米国特許第
５，０６４，７２９号（Ｚｅｇａｒｓｋｉ）、米国特許
第５，２５０，３６６号（Ｎａｋａｊｉｍａら）及び米
国特許第５，６２６，９５７号（Ｂｅｎｓｏら）に記載
されている。

【００８９】他の有用な燐光体は、任意の酸化物及び式
（２）によって特徴付けられる化学種の組み合わせを含
む出発材料の焼成生成物であることが可能であるアルカ
リ土類金属燐光体である。

【化２】

【００９０】式中、「Ｍ」は、マグネシウム（Ｍｇ）、
カルシウム（Ｃａ）、ストロンチウム（Ｓｒ）又はバリ
ウム（Ｂａ）であり、「Ｆ」は弗化物であり、「Ｘ」
は、塩化物（Ｃｌ）又は臭化物（Ｂｒ）であり、「Ｉ」
は沃化物であり、Ｍ^aは、ナトリウム（Ｎａ）、カリウ
ム（Ｋ）、ルビジウム（Ｒｂ）又はセシウム（Ｃｓ）で
あり、Ｘ^aは弗化物（Ｆ）、塩化物（Ｃｌ）、臭化物
（Ｂｒ）又は沃化物（Ｉ）であり、「Ａ」はユーロピウ
ム（Ｅｕ）、セリウム（Ｃｅ）、サマリウム（Ｓｍ）又
はテルビウム（Ｔｂ）であり、「Ｑ」は、ＢｅＯ、Ｍｇ
Ｏ、ＣａＯ、ＳｒＯ、ＢａＯ、ＺｎＯ、Ａｌ₂Ｏ₃、Ｌａ
₂Ｏ₃、Ｉｎ₂Ｏ₃、ＳｉＯ₂、ＴｉＯ₂、ＺｒＯ ₂、Ｇｅ
Ｏ₂、ＳｎＯ₂、Ｎｂ₂Ｏ₅、Ｔａ₂Ｏ₅又はＴｈＯ₂であ
り、「Ｄ」は、バナジウム（Ｖ）、クロム（Ｃｒ）、マ
ンガン（Ｍｎ）、鉄（Ｆｅ）、コバルト（Ｃｏ）又はニ
ッケル（Ｎｉ）である。上述した式中の数は次の通りで
ある。「ｚ」は０〜１であり、「ｕ」は０〜１であり、
「ｙ」は１ｘ１０^-4〜０．１であり、「ｅ」は０〜１で
あり、「ｔ」は０〜０．０１である。これらの定義は、
特に明記しないかぎり本出願に見られるときは常に適用
する。「Ｍ」、「Ｘ」、「Ａ」及び「Ｄ」が上で明示し
た群中の多元素を表すことも考慮されている。

【００９１】有用な燐光体の例には、ＳｒＳ：Ｃｅ，Ｓ
ｍ、ＳｒＳ：Ｅｕ，Ｓｍ、ＴｈＯ₂：Ｅｒ、Ｌａ₂Ｏ
₂Ｓ：Ｅｕ，Ｓｍ、ＺｎＳ：Ｃｕ，Ｐｂ及び米国特許第
５，２２７，２５３号（Ｔａｋａｓｕら）に記載された
他のものが挙げられる。

【００９２】放射線写真用燐光パネルの形成の一つの好
ましい方法は、一種以上の結合剤に分散した燐光体粒子
の支持層及び前記層上の保護コーティングを含んでなる
燐光パネルを製造する方法であって、前記一種以上の結
合剤が一種以上のエラストマー系ポリマー及び／又はゴ
ム系ポリマーから本質的に成り、前記パネルを、前記エ
ラストマー系ポリマーから本質的に成る結合剤媒体に燐
光体粒子を分散させる工程、生じる乾燥燐光層を圧縮せ
ずに高分子多層反射体上に燐光層を形成するように前記
分散燐光体粒子を塗布する工程、そして前記燐光層上に
保護コーティングを塗布する工程によって製造される放
射線写真用燐光パネルを製造する方法である。

【００９３】こうしたゴム系ポリマー及び／又はエラス
トマー系ポリマーは、熱可塑性エラストマー又は熱可塑
性ポリウレタンであることが可能である。これらの材料
は、強靱なポリマーであるとともに燐光パネルに良好な
耐摩耗性をもたらすので好ましい。燐光層及び上塗を製
造する他の詳細は、上で引用された技術で周知されてい
る。

【００９４】蛍光層は、層に構造的結着性を付与するの
に十分な結合剤を含有する。結合剤は、燐光パネル中で
従来から用いられている結合剤のいずれであってもよ
い。

【００９５】上述したように、ハロゲン化銀放射線写真
フィルムなどの一種以上の感光性写真材料と組み合わせ
て本発明の放射線写真用燐光パネルを用いることが特に
考慮されている。感光性記録材料と前面及び／又は背面
放射線写真用燐光パネルは、通常は、画像形成集成体を
形成するために好適なカセッテ中で直接接触して取り付
けられる。像様パターンのＸ線は、前面パネルを通り、
前面パネルに部分的に吸収され、吸収されたＸ線の一部
は、記録材料のハロゲン化銀乳剤単位を露光する可視光
像として再放出される。

【００９６】有用な感光性放射線写真材料は当該技術分
野では周知されており、例えば、多くの特許及び刊行物
に記載されている。それらの材料は、一般に、各側に単
一ハロゲン乳剤単位を有する支持体を含む。こうした乳
剤単位は、一層以上のハロゲン化銀乳剤層及び随意選択
的に一層以上の親水性非感光性層（保護上塗及び中間層
など）を含む。支持体及びハロゲン化銀乳剤単位の一層
の詳細を以下に示す。

【００９７】本発明の実施において使用できる幾つかの
従来の放射線写真材料には、種々のＫＯＤＡＫ Ｔ−Ｍ
ＡＴ放射線写真フィルム、種々のＫＯＤＡＫ ＩＮＳＩ
ＧＨＴ放射線写真フィルム、ＫＯＤＡＫ Ｘ−ＯＭＡＴ
複製用フィルム、種々のＫＯＤＡＫ ＥＫＴＡＳＣＡＮ
放射線写真フィルム、ＫＯＤＡＫ ＣＦＴ、ＣＦＬ、Ｃ
ＦＳ及びＣＦＥ放射線写真フィルム、ＫＯＤＡＫ ＥＫ
ＴＡＳＰＥＥＤ及びＥＫＴＡＳＰＥＥＤ ＰＬＵＳ歯科
用フィルム、ＫＯＤＡＫ ＵＬＴＲＡＳＰＥＥＤＰ歯科
用フィルム、ＫＯＤＡＫ Ｘ−ＯＭＡＴ Ｋフィルム、
ＫＯＤＡＫ Ｘ−ＯＭＡＴ ＵＶフィルム、ＫＯＤＡＫ
Ｍｉｎ−Ｒ２０００マンモグラフィフィルム及びＫＯ
ＤＡＫ Ｍｉｎ−ＲＬマンモグラフィフィルムが挙げら
れるが、それらに限定されない。

【００９８】金属増感スクリーンも本発明の実施におい
て使用することが可能であり、あるいは本発明の画像形
成集成体内に含めることが可能である。金属増感スクリ
ーンは、便利な従来のいかなる形態を取ることも可能で
ある。金属増感スクリーンは多くの異なる種類の材料か
ら形成できるが、取り扱いを容易にするために輻射線透
過性裏引き材料上に取り付けられることが多い薄ホイル
として金属が最も容易に加工されるので、金属の使用は
最も一般的である。スクリーン加工のために便利な金属
は、２２（チタン）から８２（鉛）までの原子番号範囲
内である。銅、鉛、タングステン、鉄及びタンタルなど
の金属は、スクリーン加工のために最も一般的に用いら
れており、鉛及び銅はこの順序で最も一般に用いられて
いる金属である。一般に、原子番号が大きければ大きい
ほど、金属の密度は高く、ＭＶｐＸ線を吸収する能力が
大きい。

【００９９】図５〜８を参照することにより本発明をい
っそう理解することができる。図５において、放射線写
真用燐光パネル１８は、高分子多層反射体３０上に配置
された燐光層２０から成るとして示されている。

【０１００】本発明のもう一つの実施形態を図６に示
し、図６において放射線写真用燐光パネル４０は高分子
多層反射体３０上に配置された燐光層２０から成るとし
て示され、高分子多層反射体３０は透明支持基板５０上
にさらに配置されている。

【０１０１】本発明の画像形成集成体６０は、カセッテ
ホルダー９５内の高分子多層反射体９０上に配置された
燐光層８０を含む放射線写真用燐光パネルと関連して配
置された感光性記録材料７０を有するとして図７に示さ
れている。

【０１０２】本発明のもう一つの実施形態は図８におい
て図解されており、図８において、画像形成集成体１０
０は、カセッテホルダー１５０内の感光性記録材料１４
０と関連して配列された燐光層１３０と高分子多層反射
体１２０とを含む放射線写真用燐光パネルと関連して配
列された金属増感スクリーン１１０を含む。

【０１０３】本発明の実施において有用な幾つかの高分
子多層反射体の製造を今から説明する。

【０１０４】反射性高分子支持体（ＣＭ５９０） 共押出法を介して、３４４層を含む多層積層体を逐次フ
ラットフィルム製造ラインで製造した（以下の表Ｉ参
照）。全体的な最終厚は約５２．３μｍであった。この
多層ポリマーフィルムをＰＥＮとＰＭＭＡの交互層で製
造した。押出物全体に層から層へおよそ直線的に層厚に
傾斜をつけた多層を作製するために、フィードブロック
法（米国特許第３，８０１，４２９号に記載されたよう
な方法）を用いた。固有粘度（ＩＶ）０．４８ｄｌ／ｇ
のポリエチレンナフタレート（ＰＥＮ−６０質量％フェ
ノール／４０質量％ジクロロベンゼン）を３７．９ｋｇ
／時の速度で一つの押出機によってフィードブロックに
送出した。４０．４ｋｇ／時の速度で第２の押出機によ
ってＰＭＭＡをフィードブロックに送った。

【０１０５】等温条件下で、最も厚い層対最も薄い層の
比１．２５：１の直線層厚分布を生じさせるように、反
射体を製造するために用いたフィードブロックを設計し
た。

【０１０６】フィードブロック後に、同じＰＥＮ押出機
は、保護境界層（ＰＢＬ、光学層のメルトストリームの
両側に同じ厚さを有する）としてＰＥＮを２３ｋｇ／時
でメルトストリームに送出した。その後、材料ストリー
ムをマルチプライヤ比１．５０の非対称２Ｘマルチプラ
イヤ[米国特許第５，０９４，７８８号（Ｓｃｈｒｅｎ
ｋら）及び第５，０９４，７９３号（Ｓｃｈｒｅｎｋ
ら）参照]に通した。マルチプライヤ比は、主導管内で
製造された層の平均層厚を副導管内の層の平均層厚で除
したものとして定義する。各々の多層組は、フィードブ
ロックによって作られたおよその層厚分布を有し、全体
的な厚みスケールファクタはマルチプライヤ設計及びフ
ィルム押出速度によって決定される。このマルチプライ
ヤ比が、二つの多層組によって作られた二つの反射帯域
間に若干のスペクトル反射率ギャップを残すけれども、
４７５〜５５０ｎｍの間の一次反射率を提供するために
必要とされる層の組み合わせを作り出すために、この設
定が選択される。マルチプライヤ後に、第３の押出機か
ら供給した厚さ対称保護層を３４．５ｋｇ／時で追加し
た。その後、材料ストリームをフィルムダイに通し、そ
して７℃の入口水温を用いる水冷キャスティングホイー
ル上に通した。ＰＭＭＡ溶融プロセス装置を２５０℃に
維持し、ＰＥＮ溶融プロセス装置を２８５℃に維持し、
フィードブロック、マルチプライヤ及びダイも２８５℃
に維持した。

【０１０７】キャスティングホイールに押出物を固定す
る（ｐｉｎ）するために高電圧ピンニングシステムを用
いた。ピン止めワイヤは厚さ０．１７ｍｍであり、５．
５ｋＶの電圧を印加した。キャストウェブに平滑外観を
得るために、ピン止めワイヤをキャスティングホイール
への接触点でウェブから２〜３ｍｍに手で置いた。従来
の逐次長さオリエンター（ＬＯ）装置及びテンター装置
によって、キャストウェブを連続的に延伸させた。

【０１０８】ウェブを１３０℃で延伸比３．３に長手配
向させた。フィルムをテンター内で２８秒において１３
８℃に予熱し、１４０℃において１５％／秒の速度で横
方向に延伸比５．５に延伸した。その後、フィルムを２
２７℃で２４秒にわたり熱固定した。キャスティングホ
イール速度を最終フィルム厚、従って反射体の最終波長
選択の精密制御のために調節した。

【０１０９】３Ｍ社（３Ｍ Ｃｏｒｐｏｒａｔｉｏｎ）
から購入したままのＣＭ５９０フィルムを次の通り光学
的に特性決定した。反射スペクトル（９０℃入射、スペ
クトル領域は２２０〜８５８ｎｍである）をＦｉｌｍｅ
ｔｒｉｃｓ Ｆ−２０ＵＶ反射計によって取得した。Ｗ
ＶＡＳＥ３２ソフトウェア（Ｊ．Ａ．ＷｏｏｌｌａｍＣ
ｏ．）を用いて、これらのスペクトルをモデル化した。
上述したように、図２の二つの曲線は全体的な反射率が
非常に近い。放射線写真用燐光パネルの意図する目的に
関しては、二つのフィルムの性能は同じと考えられる。
高屈折率ポリマーは、ポリ（エチレンテレフタレート）
又はポリ（エチレンナフタレート）のいずれかであり、
低屈折率ポリマーは、ポリ（メチルメタクリレート）で
ある。以下の表Ｉは、若干異なる厚さの２種類の積層体
配列である２種類の屈折性ポリマーのより詳細な構造を
示している。

【０１１０】

【表１】

【０１１１】Ｌ７とＬ６の４２の配列の積層体反復、Ｌ
５とＬ４の１９の配列の積層体反復及びＬ１の上にある
Ｌ３とＬ２の２２０の配列の積層体反復が存在する。

【０１１２】ＣＭ５００フィルムは、所望の層厚を得る
ために同様に製造される。そして、反復パターンは、以
下の表ＩＩに示したようなものである。

【０１１３】

【表２】

【０１１４】高屈折率ポリマーの５．４８μｍ単層に隣
接している１９回反復されているＬ３とＬ２の交互高／
低屈折率積層体の上にある２２回反復されているＬ５と
Ｌ４のもう一つの交互積層体の上にある７５回反復され
ているＬ７とＬ６の交互積層体が存在する。全体厚は約
００２６ｃｍ（１．０４ミル）であり、おおよそ２３３
層を有する。ＧＭ５００のスペクトル反射率は図３に示
す通りである。

【０１１５】３Ｍ社のＶＭ２０００ラジアンスミラーは
約７５μｍの全厚を有する。このフィルムが可視及び近
ＩＲのスペクトル領域にわたる遙かにより広いスペクト
ル反射率を有するので、より多くの層が必要である。以
下の表ＩＩＩは、光学モデル（ＷＶＡＳＥ３２ソフトウ
ェア（Ｊ．Ａ．Ｗｏｏｌｌａｍ Ｃｏ．）を用いる）に
よって作製された。それは、ＶＭ２０００ミラーに非常
に近い。

【０１１６】

【表３】

【０１１７】

【実施例】以下の例は本発明の実施を説明している。例
は本発明の可能なすべての変形を網羅することを意図し
ていない。特に指示しないかぎり、部及び百分率は質量
による。

【０１１８】例１〜３ 放射線写真用燐光パネルの作製に際して用いるために幾
つかの支持基板を作製した。対照支持体である支持体Ａ
は、３〜５％（質量）のカーボンブラックを含有するポ
リ（エチレンテレフタレート）支持体であった。支持体
Ｂ、Ｃ及びＤは、ポリマー多層反射体であった。支持体
Ｂは、ＣＭ５００（３Ｍ社）、支持体ＣはＣＭ５９０
（３Ｍ社）及び支持体ＤはＶＭ２０００（３Ｍ社）であ
った。反射体に直角に入射する光の５４５ｎｍでの支持
体の反射率は、支持体Ａについて５％未満であり、支持
体Ｂ、Ｃ及びＤの各々については９５％より大きかっ
た。支持体Ｂ及びＣの反射率は、入射角が４５度を超え
て減少するにつれて低下した。支持体Ｄの反射率は、す
べての入射角にわたって本質的に一定であった。

【０１１９】テルビウムドープオキシ硫酸ガドリニウム
燐光体（平均粒子径約５μｍ）の分散液を体積比９３：
７のジクロロメタンとメタノール中で１０％（質量）ポ
リウレタン結合剤（ＰＥＲＭＵＴＨＡＮＥ Ｕ−６３６
６）５ｇから調製された溶液中の１００ｇの燐光体から
調製した。１０℃に維持されたアルミニウム塗布板に強
く保持された支持体上にナイフブレードを用いて、得ら
れた分散液を塗布した。各支持体上に約５４０ｇ／ｍ²
（５０ｇ／ｆｔ²）の燐光体被覆量を提供するために、
ナイフブレードを調節した。塗膜が完全に乾燥した後に
質量分析で燐光体被覆量を測定した。

【０１２０】センシトメトリー（感度）評価のために、
光を通さないカセッテ（画像形成集成体を形成する）内
の市販単一乳剤放射線写真フィルム（ＭｉｎＲ２００
０、イーストマンコダック社）と接触させて各パネルを
配置した。その後、１．０２ｍｍアルミニウムビーム濾
過を伴って、７０ＫＶｐ且つ１２７ｃｍ（５０インチ）
の焦点−フィルム距離で運転されるＰｈｉｌｉｐｓ・Ｃ
Ｐ８０高周波Ｘ線発生器を用いて、骨、プラスチック物
体、スチールウール及び微細小部品を有する雑物体を含
む「ボーンアンドビード」試験物体を画像形成するため
に、これらの画像形成集成体を用いた。追加の電子管装
填を提供するために露光中に６ｃｍ（２．３７５イン
チ）のルーサイト（Ｌｕｃｉｔｅ）をコリメータに置い
た。一致した濃度の一連の放射線写真を生じさせるため
に電子管電流（ｍＡ）を調節し、７．６ｃｍ（３イン
チ）のパンケーキ型イオンチャンバ（Ｍｏｄｅｌ２０２
５、ＭＤＨ Ｉｎｄｕｓｔｒｉｅｓ Ｉｎｃ．）を用い
て入射Ｘ線露光量を測定した。その後、対照パネルＡに
よって露光された放射線写真フィルムの感度を１００と
して、相対放射線写真感度を計算した。結果を以下の表
ＩＶに示している。

【０１２１】

【表４】

【０１２２】本発明の放射線写真用燐光パネルが画像形
成された放射線写真フィルムの感度増加を提供したこと
が、これらのデータから明らかである。

【０１２３】例４〜６ 白色顔料含有支持体である支持体Ｅは、５〜７質量％の
チタニアを含有するポリ（エチレンテレフタレート）か
ら成り、商用放射線写真用燐光パネル中で一般に用いら
れる支持体に似た反射支持体を提供する。反射体に垂直
に入射する光の５４５ｎｍでの支持体Ｅの反射率は９０
％までであった。対照支持体Ａ（黒色）及び発明支持体
Ｄ（ＶＭ２０００高分子ミラー）も使用した。

【０１２４】テルビウムドープオキシ硫酸ガドリニウム
燐光体（平均粒径約５μｍ）の分散液を体積比９３：７
のジクロロメタンとメタノール中で１０質量％ポリウレ
タン結合剤（Ｕ−６３６６）５ｇから調製された溶液中
の１００ｇの燐光体から調製した。１０℃に維持された
アルミニウム塗布板に強く保持された支持体上にナイフ
ブレードを用いて、得られた分散液を塗布した。約５４
０ｇ／ｍ²（５０ｇ／ｆｔ²）、３２４ｇ／ｍ²（３０ｇ
／ｆｔ²）及び１１３ｇ／ｍ²（１０．５ｇ／ｆｔ²）の
燐光体被覆量を提供するために、ナイフブレードを調節
した。塗膜が完全に乾燥した後に質量分析で燐光体被覆
量を測定した。センシトメトリー（感度）評価のため
に、光を通さないカセッテ（画像形成集成体を形成す
る）内の市販放射線写真フィルム（ＭｉｎＲ２０００）
と接触させて各パネルを再び配置した。

【０１２５】その後、１．０２ｍｍアルミニウムビーム
濾過を伴って、７０ＫＶｐ且つ１２７ｃｍ（５０イン
チ）の焦点−フィルム距離で運転されるＰｈｉｌｉｐｓ
・ＣＰ８０高周波Ｘ線発生器を用いて、骨、プラスチッ
ク物体、スチールウール及び微細小部品を有する雑物体
を含む「ボーンアンドビード」試験物体を画像形成する
ために、画像形成集成体を用いた。電子管装填を提供す
るために露光中に６ｃｍ（２．３７５インチ）のルシー
ト（Ｌｕｃｉｔｅ）をコリメータに置いた。一致した濃
度の一連の放射線写真を生じさせるために電子管電流
（ｍＡ）を調節し、７．６ｃｍ（３インチ）のパンケー
キ型イオンチャンバ（Ｍｏｄｅｌ２０２５）を用いて入
射Ｘ線露光を測定した。その後、対照パネルＡによって
露光された放射線写真フィルムの感度を１００として、
各燐光体被覆量レベルで相対放射線写真感度を計算し
た。「ボーンアンドビード」試験物体放射線写真を用い
て、各画像形成集成体の鮮鋭度を視覚的に採点した。評
点を被覆量によってグループ分けした。予想されるよう
に、支持体Ａを有する対照パネルは優れた解像度を生じ
たが、反射性支持体のどの上のパネルより著しく感度が
低かった。各被覆量での本発明のパネルの鮮鋭度は、白
色比較パネルの鮮鋭度と等しかった。

【０１２６】これらの例は、感度と鮮鋭度の両方を考慮
に入れて本発明のスクリーンの優秀性を実証した。感度
と鮮鋭度が「相反する」可能性があるパラメータである
ことは当該技術分野では一般によく認められている。感
度と鮮鋭度の両方を考慮に入れて利点を見るとき、その
利点を、全体的に感度の利点として、全体的に鮮鋭度の
利点として、あるいは両方の組み合わせとして実現する
ことが可能である。この場合、鮮鋭度に差がない感度の
利点は、本発明の増感スクリーンの感度と鮮鋭度の関係
の大幅な改善を実証する。この利点は、感度の利点とし
て、又は鮮鋭度の利点として、あるいは感度と鮮鋭度の
両方の観点で明らかな利点として実現することが可能で
ある。結果を表Ｖにおいて以下に示している。

【０１２７】

【表５】

【０１２８】例７ マンモグラフィなどの低エネルギー用途で用いるとき、
パネル支持体のＸ線吸収は、患者に配される全被爆中の
重要な因子でありうる。代表的な白色顔料含有支持体、
例えば上述した支持体Ｅ、及び本発明の実施において用
いられる支持体Ｄ（ＶＭ２０００高分子ミラー）のＸ線
吸収を、Ｓｅｎｏｇｒａｐｈｅ ＤＭＲマンモグラフィ
装置（ＧＥ Ｍｅｄｉｃａｌ）を用いて、２６ｋＶｐで
測定した。従来のマンモグラフィエネルギーで用いるた
めに設計されたイオンチャンバ（Ｍｏｄｅｌ２０Ｘ５−
６Ｍ、Ｒａｄｃａｌ Ｃｏｒｐ．）を用いて、入射及び
透過Ｘ線流束を決定した。吸収測定の結果を以下の表Ｖ
Ｉに示しており、その結果は、本発明のパネル中で用い
られる高分子多層反射体の低下した吸収の利点を明確に
示している。

【０１２９】

【表６】

【０１３０】本発明の他の好ましい態様を次に記載す
る。 （態様１）高分子多層反射体を含む放射線写真用燐光パ
ネル。 （態様２）前記高分子多層反射体が異なる屈折率を有す
るポリマーの交互層を含んでなる態様１に記載の放射線
写真用燐光パネル。 （態様３）少なくとも二種の異なるポリマーが交互反復
単位を形成し、前記パネルが少なくとも６個の前記単位
の積層体を含む態様１又は２に記載の放射線写真用燐光
パネル。

【０１３１】（態様４）高分子多層反射体を含む少なく
とも一つの放射線写真用燐光パネルを含み、前記少なく
とも一つの放射線写真用力行パネルが感光性記録材料と
関連して配列される放射線写真画像形成集成体。 （態様５）結合剤に分散した燐光体粒子の支持層及び前
記層上の保護コーティングを含む放射線写真用燐光パネ
ルを製造する方法であって、前記結合剤が一種以上のエ
ラストマー系ポリマーから本質的に成り、そして前記パ
ネルが、燐光体粒子を本質的に一種以上のエラストマー
系ポリマーからなる結合剤中に分散させ、分散させた燐
光体粒子を、生じる乾燥燐光層を圧縮することなく燐光
層を形成させるように高分子多層反射体上に塗布し、そ
して前記燐光層上に保護コーティングを塗布することに
より調製される、放射線写真用燐光パネルを製造する方
法。 （態様６）前記高分子多層反射体が１０ｎｍより広い帯
域幅波長範囲において４０〜１００％のスペクトル反射
率を有する態様１に記載の放射線写真用燐光パネル。

【０１３２】（態様７）前記高分子多層反射体が１０ｎ
ｍより広い帯域幅波長範囲において６０〜９９％のスペ
クトル反射率を有する態様２に記載の放射線写真用燐光
パネル。 （態様８）前記高分子多層反射体が３５０〜７５０ｎｍ
の帯域幅波長範囲において９０％より大きい好ましいス
ペクトル反射率を有する態様１に記載の放射線写真用燐
光パネル。 （態様９）前記高分子多層反射体が１０ｎｍより大きい
波長範囲において９０％より大きいスペクトル反射率を
有する態様１に記載の放射線写真用燐光パネル。 （態様１０）前記高分子多層反射体が無機材料を実質的
に含まない態様１に記載の放射線写真用燐光パネル。

【０１３３】（態様１１）前記高分子多層反射体上に配
置された燐光層を含んでなる態様１に記載の放射線写真
用燐光パネル。 （態様１２）前記高分子多層反射体上に直接配置された
燐光層を含んでなる態様７に記載の放射線写真用燐光パ
ネル。 （態様１３）前記高分子多層反射体が接着剤で燐光層に
接着されている態様７に記載の放射線写真用燐光パネ
ル。 （態様１４）前記燐光層が、前記高分子多層反射体の一
体部分である態様１に記載の放射線写真用燐光パネル。

【０１３４】（態様１５）屈折率が異なる少なくとも二
種の異なるポリマーを含む態様１に記載の放射線写真用
燐光パネル。 （態様１６）少なくとも０．１の屈折率の差を有する少
なくとも二種の異なるポリマーを含む態様１２に記載の
放射線写真用燐光パネル。 （態様１７）少なくとも二種の異なるポリマーが隣接位
置で交互している態様１２に記載の放射線写真用燐光パ
ネル。 （態様１８）支持基板をさらに含む態様１に記載の放射
線写真用燐光パネル。 （態様１９）前記交互ポリマー層が等方性である態様１
１に記載の放射線写真用燐光パネル。

【０１３５】（態様２０）前記交互ポリマー層が復屈折
性である態様１１に記載の放射線写真用燐光パネル。 （態様２１）前記高分子多層反射体がコレステリックフ
ィルム層を含む態様１に記載の放射線写真用燐光パネ
ル。 （態様２２）前記コレステリックフィルム層が多ピッチ
コレステリック層を含む態様２０に記載のパネル。 （態様２３）前記高分子多層反射体が、最上層から最下
層まで厚さの傾斜を有する層を含んでなる広角高分子多
層反射体である態様１に記載のパネル。 （態様２４）前記高分子多層反射体の最も薄い層に直接
隣接する燐光層を含む態様２１に記載のパネル。

【０１３６】（態様２５）前記高分子多層反射体が狭帯
域高分子多層反射体である態様１に記載のパネル。 （態様２６）前記高分子多層反射体がポリマーの交互層
を含んでなり、前記交互層の一層がポリ（エチレン２，
６−ナフタレート）（ＰＥＮ）、ポリ（エチレンテレフ
タレート）（ＰＥＴ）及びそれらのコポリマーから成る
群から選択されたポリマーを含む態様１に記載のパネ
ル。

【０１３７】（態様２７）前記高分子多層反射体がポリ
マーの交互層を含んでなり、前記交互層の一層がポリメ
チルメタクリレート（ＰＭＭＡ）、ポリエチルメタクリ
レート（ＰＥＭＡ）、ＰＭＭＡのコポリマー（ｃｏＰＭ
ＭＡ）、ＰＭＭＡ及びポリ（弗化ビニリデン）（ＰＶＤ
Ｆ）のブレンド、ポリ（エチレン−ｃｏ−オクテン）
（ＰＥ−ＰＯ）、ポリ（プロピレン−ｃｏ−エチレン
（ＰＰＰＥ）、アタクチックポリプロピレン（ａＰＰ）
及びアイソタクチックポリプロピレン（ｉＰＰ）のコポ
リマー、官能化ポリオレフィン並びに線状低密度ポリエ
チレン−ｇ−無水マレイン酸（ＬＬＤＰＥ−ｇ−ＭＡ）
から成る群から選択されたポリマーを含む態様１に記載
のパネル。 （態様２８）前記高分子多層反射体上に配置されてお
り、そしてフィルム形成性結合剤に分散した蛍光燐光体
粒子を含む燐光層含んでなり、そして保護上塗をさらに
含む態様１に記載の放射線写真用燐光パネル。 （態様２９）放出された放射線の波長のかなりの部分が
電磁スペクトルの３００〜８００ｎｍ領域内であるよう
に燐光層が選択されることをさらに特徴とする態様１に
記載の放射線写真用燐光パネル。 （態様３０）以下の式の希土類オキシカルコゲニド及び
ハロゲン化物燐光体から選択された燐光体を含む蛍光層
を含む態様１に記載の放射線写真用燐光パネル：

【０１３８】

【化３】

【０１３９】（式中、Ｍ’は、金属イットリウム、ラン
タン、ガドリニウム又はルテチウムの少なくとも一種で
あり、Ｍ”は、希土類金属であるジスプロシウム、エル
ビウム、ユーロピウム、ホルミウム、ネオジミウム、プ
ラセオジミウム、サマリウム、タンタル、テルビウム、
ツリウム又はイッテルビウムの少なくとも一種であり、
Ｘ’は、中カルコゲン又はハロゲンであり、ｎは０．０
００２〜０．２であり、Ｘ’がハロゲンであるときにｗ
は１であり、Ｘ’が中カルコゲンであるときにｗは２で
ある。） （態様３１）前記燐光体がテルビウム活性化オキシ硫酸
ガドリニウム燐光体である態様２８に記載の放射線写真
用燐光パネル。

【０１４０】（態様３２）前記感光性記録材料がハロゲ
ン化銀放射線写真フィルムである態様４に記載の放射線
写真画像形成集成体。 （態様３３）前記ゴム系ポリマー及び／又はエラストマ
ー系ポリマーが、熱可塑性エラストマー及び熱可塑性ポ
リウレタンから成る群から選択される態様５に記載の方
法。

【図面の簡単な説明】

【図１】図１のＡは交互屈折率を有する高分子光学層を
含む本発明の実施において有用な典型的な高分子多層反
射体を示す拡大断面図であり、Ｂは共通屈折率を有する
高分子光学層を含む本発明の実施において有用なもう一
つの典型的な高分子多層反射体を示す拡大断面図であ
る。

【図２】図２は市販ＣＭ５９０ミラー（３Ｍ社）の典型
的なスペクトル反射率（反射対波長）である。

【図３】図３は市販ＣＭ５００ミラー（３Ｍ社）の典型
的なスペクトル反射率（反射対波長）である。

【図４】図４は市販ＶＭ２０００ミラー（３Ｍ社）の典
型的なスペクトル反射率（反射対波長）である。

【図５】図５は基本必須構成部品を含む本発明の放射線
写真用燐光パネルを示す拡大断面図である。

【図６】図６は透明支持基板をさらに含む本発明の放射
線写真用燐光パネルのもう一つの実施形態を示す拡大断
面図である。

【図７】図７は放射線写真用燐光パネル及び感光性記録
材料を含む本発明の画像形成集成体を示す拡大断面図で
ある。

【図８】図８は金属増感スクリーンをさらに含むもう一
つの画像形成集成体実施形態を示す拡大断面図である。

【符号の説明】

１０…高分子多層反射体 １２…光学層 １４…光学層 １８…放射線写真用燐光パネル ２０…燐光層 ３０…高分子多層反射体 ５０…透明支持基板 ６０…画像形成集成体 ７０…感光性記録材料 ８０…燐光層 ９５…カセッテホルダー １００…画像形成集成体 １１０…金属増感スクリーン １２０…高分子多層反射体 １３０…燐光層 １４０…感光性記録材料 １５０…カセッテホルダー

フロントページの続き (72)発明者 ピーター トーマス アイルワード アメリカ合衆国，ニューヨーク 14468, ヒルトン，ハスキンズ レーン ノース 92 (72)発明者 ジェームズ フランク エルマン アメリカ合衆国，ニューヨーク 14450, フェアポート，ヒューバー ロード 2543 Ｆターム(参考） 2G083 AA02 BB01 CC01 CC02 CC05 CC07 DD03 DD13 DD17 EE02 EE03 2H016 AA03

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 高分子多層反射体を含む放射線写真用燐
   光パネル。
2. 【請求項２】 前記高分子多層反射体が異なる屈折率を
   有するポリマーの交互層を含んでなる請求項１に記載の
   放射線写真用燐光パネル。
3. 【請求項３】 少なくとも二種の異なるポリマーが交互
   反復単位を形成し、前記パネルが少なくとも６個の前記
   単位の積層体を含む請求項１又は２に記載の放射線写真
   用燐光パネル。
4. 【請求項４】 高分子多層反射体を含む少なくとも一つ
   の放射線写真用燐光パネルを含み、前記少なくとも一つ
   の放射線写真用力行パネルが感光性記録材料と関連して
   配列される放射線写真画像形成集成体。
5. 【請求項５】 結合剤に分散した燐光体粒子の支持層及
   び前記層上の保護コーティングを含む放射線写真用燐光
   パネルを製造する方法であって、前記結合剤が一種以上
   のエラストマー系ポリマーから本質的に成り、そして前
   記パネルが、燐光体粒子を本質的に一種以上のエラスト
   マー系ポリマーからなる結合剤中に分散させ、分散させ
   た燐光体粒子を、生じる乾燥燐光層を圧縮することなく
   燐光層を形成させるように高分子多層反射体上に塗布
   し、そして前記燐光層上に保護コーティングを塗布する
   ことにより調製される、放射線写真用燐光パネルを製造
   する方法。