JP2003033987A

JP2003033987A - 高透明バリア性フイルム及びその製造方法

Info

Publication number: JP2003033987A
Application number: JP2001222713A
Authority: JP
Inventors: Hiroshi Suzuki; 浩鈴木
Original assignee: Toppan Printing Co Ltd
Current assignee: Toppan Inc
Priority date: 2001-07-24
Filing date: 2001-07-24
Publication date: 2003-02-04
Anticipated expiration: 2021-07-24
Also published as: JP4649794B2

Abstract

(57)【要約】【課題】基材の少なくとも一方の面に形成させた蒸着薄
膜層の金属酸化物の組成変化によるバリア劣化を防止
し、高透明性を維持したまま高バリア性を有するバリア
性フイルム及びその製造方法を提供することである。【解決手段】高分子材料からなる基材１の少なくとも一
方の面に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜層２、ガスバリ
ア性被膜層５を積層した積層体において、該酸化アルミ
ニウムの蒸着薄膜層２が金属蒸気と酸化性ガスとの反応
性蒸着法で形成され、かつ、前記蒸着薄膜層２が形成さ
れた直後に表面がプラズマ処理されていることを特徴と
する。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、食品、医薬品、精
密電子部品等の包装分野に用いられる透明性を有するガ
スバリア材に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】近年、食品、医薬品、精密電子部品等の
包装に用いられる包装材料は、内容物の変質、特に食品
においては蛋白質や油脂等の酸化、変質を抑制し、さら
に味、鮮度を保持するために、また、無菌状態での取扱
いが必要とされる医薬品においては有効成分の変質を抑
制し、効能を維持するために、さらに精密電子部品にお
いては金属部分の腐食、絶縁不良等を防止するために、
包装材料を透過する酸素、水蒸気、その他内容物を変質
させる気体による影響を防止する必要があり、これら気
体（ガス）を遮断するガスバリア性を備えることが求め
られている。

【０００３】そのため、従来から塩化ビニリデン樹脂を
コートしたポリプロピレン（ＫＯＰ）やポリエチレンテ
レフタレート（ＫＰＥＴ）あるいはエチレン・ビニルア
ルコール共重合体（ＥＶＯＨ）など一般にガスバリア性
が比較的高いと言われる高分子樹脂からなる包装フイル
ムやアルミニウム（以下、Ａｌとする）等の金属からな
る金属箔、さらには高分子樹脂フイルムにＡｌなどの金
属又は金属化合物を蒸着した金属蒸着フイルムなどの包
装フイルムが一般的に使用されてきた。

【０００４】ところが、上述のガスバリア性樹脂をコー
トした包装フイルムや高分子樹脂組成物のみを単体で用
いた包装フイルムは、Ａｌなどの金属箔や金属又は金属
化合物を蒸着した金属蒸着フイルムに比べるとガスバリ
ア性に劣るだけでなく、温度・湿度の影響を受けやす
く、その変化によってはさらにガスバリア性が劣化する
ことがある。一方、Ａｌなどの金属箔や金属又は金属化
合物を蒸着した金属蒸着フイルムは、温度・湿度などの
影響を受けることは少なく、ガスバリア性に優れるが、
不透明であるが故に、これらの材料を用いた包装体に内
容物を充填した場合に外から内容物を透視して確認する
ことができない等の欠点を有していた。

【０００５】そこで、これらの欠点を克服した包装材料
として、最近ではセラミック薄膜を透明な高分子材料か
らなる基材上に蒸着法などの形成手段で形成した蒸着フ
イルムが上市されている。

【０００６】セラミック薄膜の材料としては、酸化アル
ミニウム、酸化珪素、酸化マグネシウム、酸化カルシウ
ムなどが安全性、原材料価格の点などで候補となりう
る。しかしながら酸化珪素は材料特有の色があるため、
高透明にはなり得ず、また酸化マグネシウム、酸化カル
シウムは原材料の昇華温度が高く、そのために蒸着工程
における蒸発速度が遅くなる。そのためバリア性を発現
させるのに十分な厚さ２００Å程度の薄膜を付着させよ
うとすると、製膜時間が長時間になり、高コストに繋が
るため商業的採算が合わないなどの欠点があった。

【０００７】上記理由から、酸化アルミニウムの蒸着薄
膜層を反応性蒸着法で形成させる方法が原材料の安さと
透明性から、最も注目されている。更に、この蒸着薄膜
層上にポリビニルアルコールなどのコーティングを行う
ことで、水蒸気バリア性が１ｇ／ｍ²．２４ｈ程度のバ
リアフイルムが得られる。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、酸素ガ
スとアルミニウム蒸気の反応性蒸着法で形成する蒸着薄
膜層は、反応時の酸素ガスの比率が多すぎるとバリア性
が劣化し、アルミニウム蒸気の比率が多すぎると透明性
が低下するということで、組成制御が非常に難しい。

【０００９】従来法では、図３に示す如くアルミニウム
蒸気に酸素ガスを混合する際、真空蒸着装置３０の真空
チャンバー１１内の冷却ドラム１５の中央の下端から酸
素ガス供給口１７迄の長さ、つまりｄの間隔が１５０ｍ
ｍを超える位置より酸素ガスをアルミニウム蒸気雰囲気
中に供給し、アルミニウム蒸気と酸素ガスを反応させ
て、酸化アルミニウムの蒸着薄膜層を基材１上に形成さ
せる方法で生産されていた。

【００１０】前記の如き位置から酸素ガスを供給する反
応性蒸着法では、比較的均一な組成の蒸着薄膜が形成さ
れるが、ピンポイントの化学組成制御が必要となり、ア
ルミニウム蒸発量の変化などによる組成変化に十分対応
できず理想的な化学組成から外れ、バリア性低下の原因
となっている。そのため酸化アルミニウムの蒸着薄膜層
を用いたバリアフイルムでは、水蒸気バリア性が０．５
ｇ／ｍ²．２４ｈ以下の高バリア性は発現されていなか
った。

【００１１】本発明の課題は、基材の少なくとも一方の
面に形成させた蒸着薄膜層の金属酸化物の組成変化によ
るバリア劣化を防止し、高透明性を維持したまま高バリ
ア性を有するバリア性フイルム及びその製造方法を提供
することである。

【００１２】

【課題を解決するための手段】本発明の請求項１に係る
発明は、高分子材料からなる基材の少なくとも一方の面
に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜層、ガスバリア性被膜
層を積層した積層体において、該酸化アルミニウムの蒸
着薄膜層が金属蒸気と酸化性ガスとの反応性蒸着法で形
成され、かつ、形成された蒸着薄膜層の表面がプラズマ
処理されたものからなることを特徴とする高透明バリア
性フイルムである。

【００１３】次に、請求項２に係る発明は、上記請求項
１に係る発明において、前記金属蒸気がアルミニウム蒸
気であり、かつ、酸化性ガスが酸素ガスであることを特
徴とする高透明バリア性フイルムである。

【００１４】次に、請求項３に係る発明は、上記請求項
１又は請求項２に係る発明において、前記蒸着薄膜層の
厚さが５０〜３０００Åの範囲内であることを特徴とす
る高透明バリア性フイルムである。

【００１５】次に、請求項４に係る発明は、上記請求項
１乃至請求項３のいずれか１項に係る発明において、前
記ガスバリア性被膜層が、水溶性高分子と、（ａ）１種
以上の金属アルコキシド及びその加水分解物又は、
（ｂ）塩化錫の少なくとも一方を含むものからなること
を特徴とする高透明バリア性フイルムである。

【００１６】次に、請求項５に係る発明は、上記請求項
４に係る発明において、前記水溶性高分子がポリビニル
アルコールであることを特徴とする高透明バリア性フイ
ルムである。

【００１７】次に、請求項６に係る発明は、上記請求項
４又は請求項５に係る発明において、前記金属アルコキ
シドが、テトラエトキシシランまたはトリイソプロポキ
シアルミニウムあるいはそれらの混合物であることを特
徴とする高透明バリア性フイルムである。

【００１８】次に、請求項７に係る発明は、上記請求項
１乃至請求項６のいずれか１項記載の高透明バリア性フ
イルムの蒸着薄膜層を反応性蒸着法で形成する時に、酸
化性ガスを真空蒸着装置内の冷却ドラムの基材巻き出し
側の表面より１０ｍｍ以上１５０ｍｍ以下の位置の供給
口から導入することを特徴とする高透明バリア性フイル
ムの製造方法である。

【００１９】次に、請求項８に係る発明は、上記請求項
１乃至請求項６のいずれか１項記載の高透明バリア性フ
イルムの製造時に、真空蒸着装置内で蒸着薄膜層を形成
直後に、該蒸着薄膜層の表面をプラズマ処理することを
特徴とする高透明バリア性フイルムの製造方法である。

【００２０】

【作用】本発明によれば、基材の表面に近い側の蒸着薄
膜層の組成が酸素比率が大きく、膜厚の外側に向けて酸
素比率が小さい傾斜構造の酸化物の蒸着薄膜層からなっ
ているので、膜表面のアルミニウム比率が大きくなるた
め反応性の十分な表面が形成され、その蒸着薄膜層の上
に積層する塗布剤のコーティング性が向上する。さら
に、その蒸着薄膜層が薄膜形成後にプラズマ処理される
ことにより、透明性が向上している。さらに、前記プラ
ズマ処理された蒸着薄膜層にガスバリア性被膜層が積層
されているので、より高いガスバリア性を有している。

【００２１】

【発明の実施の形態】本発明の高透明バリア性フイルム
及びその製造方法を、実施の形態に沿って以下に説明す
る。

【００２２】図１は本発明の高透明バリア性フイルム６
の側断面図であり、フイルムの厚み方向に順に、基材
１、蒸着薄膜層２、プラズマ処理面３、ガスバリア性被
膜層５が形成されている。

【００２３】前記基材１は透明性を有する高分子材料で
あり、とくに無色透明であればよく、通常、包装材料と
して用いられるものが好ましい。例えば、ポリエチレン
テレフタレート（ＰＥＴ）、ポリプロピレン（ＰＰ）、
ナイロン（Ｎｙ）などの機械的強度、寸法安定性を有す
るものが好ましく、これらをフイルム状に加工、さらに
は二軸方向に延伸したものが好ましい。さらに表面平滑
性が優れ、かつ添加剤の量が少ないフイルムが好まし
い。また、この基材１の表面に蒸着薄膜層の密着性を良
くするために、前処理としてコロナ処理、低温プラズマ
処理、イオンボンバード処理を施しておいてもよく、さ
らに薬品処理、溶剤処理などを施してもよい。

【００２４】基材１の厚さは特に制限を受けるものでは
ないが、包装材料としての適性、他のフイルムを積層あ
るいは蒸着薄膜層を形成する場合の加工性等を考慮する
と、５〜１００μｍの範囲が好ましい。また、量産性を
考慮すれば、連続的に蒸着薄膜層を形成できるように長
尺状フイルムとすることが望ましい。

【００２５】前記蒸着薄膜層２は、アルミニウム金属を
蒸着原材料にして、酸素ガス、炭酸ガスと不活性ガスな
どとの混合ガスの存在下で薄膜形成を行う、いわゆる反
応性蒸着法で形成されている。

【００２６】さらに、前記蒸着薄膜層２の表面は処理面
３にプラズマ処理されており、プラズマ処理されること
により、他の層を積層する際の密着性が向上すると共
に、透明性を向上させることができる。

【００２７】前記蒸着薄膜層２の厚さは、５０〜３００
０Åの範囲内であることが望ましく、その値は適宜選択
される。ただし、膜厚が５０Å以下であると基材１の全
面に均一な薄膜が形成されないことがあり、ガスバリア
材としての機能を十分に果たすことができない場合があ
る。また、膜厚が３０００Åを超えた場合は蒸着薄膜に
フレキシビリティを保持させることができず、成膜後に
折り曲げ、引っ張りなどの外的要因により、蒸着薄膜に
亀裂を生じる恐れがある為良くない。

【００２８】前記ガスバリア性被膜層５は、高いガスバ
リア性を付与するために前記蒸着薄膜層２の上にさらに
積層されるものであり、その構成成分は水溶性高分子
と、（ａ）１種以上の金属アルコキシド及び加水分解物
または、（ｂ）塩化錫の少なくとも一方を含む水溶液あ
るいは水／アルコール混合溶液を主剤とするコーティン
グ剤を塗布して形成する。水溶性高分子と塩化錫を水系
（水あるいは水／アルコール混合）溶媒で溶解させた溶
液、あるいはこれに金属アルコキシドを直接または予め
加水分解させるなど処理を行ったものを混合した溶液を
金属酸化物の蒸着薄膜層２上にコーティング、加熱乾燥
し形成したものである。

【００２９】前記ガスバリア性被膜層５に用いられる水
溶性高分子は、ポリビニルアルコール、ポリビニルピロ
リドン、デンプン、メチルセルロース、カルボキシメチ
ルセルロース、アルギン酸ナトリウム等が挙げられる。
特にポリビニルアルコール（以下、ＰＶＡとする）を用
いた場合にガスバリア性が最も優れる。ここでいうＰＶ
Ａは、一般にポリ酢酸ビニルを鹸化して得られるもの
で、酢酸基が数十％残存している、いわゆる部分鹸化Ｐ
ＶＡから酢酸基が数％しか残存していない完全鹸化ＰＶ
Ａまでを含み、特に限定されない。

【００３０】また、前記塩化錫は塩化第一錫（ＳｎＣｌ
₂）、塩化第二錫（ＳｎＣｌ₄）あるいはこれらの混合物
であっても良く、無水物でも水和物でも良い。

【００３１】さらに、前記金属アルコキシドはテトラエ
トキシシラン又はトリイソプロポキシアルミニウムある
いはそれらの混合物が好ましい。

【００３２】前記ガスバリア性被膜層５の塗布方法に
は、通常用いられるディッピング法、ロールコーティン
グ法、スクリーン印刷法、スプレー法などの従来公知の
手段を用いることができる。乾燥後の被膜厚さが０．０
１μｍ以上あればよいが、厚さが５０μｍを超えると膜
にクラックが生じ易くなるため、０．０１〜５０μｍの
範囲が好ましい。

【００３３】図２は本発明の高透明バリア性フイルムの
蒸着薄膜層を反応性蒸着法で形成させる真空蒸着装置１
０の概略図である。基材１を真空蒸着装置１０の巻き出
し部１２に装着し、蒸着金属原材料２２を、るつぼ１９
に装填後、真空ポンプ１８にて真空チャンバー１１内を
真空度１．３×１０^-2〜１３×１０^-2Ｐａの範囲で真
空にした後、基材１を巻き出し部１２からガイドロール
１４を経て巻き取り部１３に搬送しながら、るつぼ１９
中の蒸着金属原材料２２を電子線加熱方式（図示せず）
により加熱蒸発させ、同時に酸素ガス供給口１７から酸
素ガスをアルミニウム蒸気雰囲気中に供給する。酸素ガ
ス供給口１７は、冷却ドラム１５の基材１の巻き出し側
の表面からの長さ、つまりｄの間隔が１０ｍｍ以上１５
０ｍｍ以下であることが好ましい。１０ｍｍ以下では、
溶融金属の輻射熱などによる、酸素供給口の形状変化に
よる冷却ドラム１５への接触が懸念され、１５０ｍｍを
超えると酸素の拡散が大きく、有効な傾斜構造の金属酸
化物薄膜を作製出来ない。

【００３４】本発明の高透明バリア性フイルムは、図２
の真空蒸着装置１０内で基材１の表面に蒸着薄膜層２を
反応性蒸着法で形成させた直後に、膜厚計２０で薄膜の
厚さを測定した後にプラズマ処理装置２１で前記蒸着薄
膜層２の表面をプラズマ処理することにより、透明性を
向上させることができる。前記膜厚計２０よりも後でプ
ラズマ処理を行うことで、膜厚制御性を維持したまま、
透明化を行うことを可能にしている。

【００３５】前記プラズマ処理は、直流プラズマ方式、
高周波プラズマ方式どちらでも良いが、高周波方式の一
種であるホローアノードのような強力な処理方法が好ま
しい。処理ガスは、アルゴンが一般的であるが、酸素な
どの酸化性ガスを併用すると効果が上がる。

【００３６】

【実施例】本発明の高透明バリア性フイルムを具体的な
実施例を挙げて説明する。

【００３７】〈ガスバリア性被膜層の塗布液の調整〉テ
トラエトキシシラン１０．４ｇに０．１Ｎ塩酸を８９．
６ｇ加え、３０分攪拌し加水分解させた固形分３重量％
（ＳｉＯ₂換算）の溶液とポリビニルアルコール３重量
％水／イソプロピルアルコール溶液（水／イソプロピル
アルコ−ルは重量％比で９０／１０）を重量％比で６０
／４０に混合し、塗布液を調整した。

【００３８】〈実施例１〉基材１として、厚さ１２μｍ
の二軸延伸ポリエステルフイルムを使用し、真空蒸着装
置１０を用いて、蒸着原材料２２として使用したアルミ
ニウム金属を電子線加熱方式で加熱蒸発させたアルミニ
ウム蒸気雰囲気中に、酸素ガス供給口１７から酸素ガス
を導入して反応させ、基材１の表面に近い側の組成が酸
素含有比率が多く、膜厚の外側に向けて酸素含有比率が
小さい傾斜構造の組成の総厚２００Åの酸化アルミニウ
ムの蒸着薄膜層２を形成し、さらに、前記蒸着薄膜層２
の表面を直流プラズマで処理した蒸着フイルム４を作成
した。さらに、前記蒸着フイルム４を別のコーター機に
装着し、蒸着フイルム４の蒸着薄膜層２のプラズマ処理
面３に前記ガスバリア性被膜層の塗布液をグラビアコー
ティング法で塗布、乾燥し、厚さ０．５μｍのガスバリ
ア性被膜層５を形成させ、本発明の高透明バリア性フイ
ルム６を作成した。

【００３９】〈比較例１〉実施例１において、蒸着薄膜
層２の表面をプラズマ処理しなかった蒸着フイルムを使
用した以外は、同様にして比較用のバリア性フイルムを
作成した。

【００４０】〈比較例２〉基材１として、厚さ１２μｍ
の二軸延伸ポリエステルフイルムを使用し、真空蒸着装
置３０を用いて、蒸着原材料２２として使用したアルミ
ニウム金属を電子線加熱方式で加熱蒸発させたアルミニ
ウム蒸気雰囲気中に酸素ガス供給口１７から酸素ガスを
導入して反応させ、基材１の表面に均一な組成の総厚２
００Åの酸化アルミニウムの蒸着薄膜層２を形成した蒸
着フイルムを作成した。次に、前記蒸着フイルムの蒸着
薄膜層の表面を別機のプラズマ処理装置でプラズマ処理
した。さらに、前記プラズマ処理した蒸着フイルムをコ
ーター機に装着し、蒸着フイルムの蒸着薄膜層に前記の
ガスバリア性被膜層の塗布液をグラビアコーティング法
で塗布、乾燥し、厚さ０．５μｍのガスバリア性被膜層
５を形成させ、比較用のバリア性フイルムを作成した。

【００４１】〈比較例３〉比較例２において、蒸着薄膜
層２の表面をプラズマ処理しなかった蒸着フイルムを使
用した以外は、同様にして比較用のバリア性フイルムを
作成した。

【００４２】〈評価〉実施例１及び比較例１〜３の蒸着
フイルム及びバリア性フイルムを使用し、各々のフイル
ムの光線透過率、酸素透過度及び水蒸気透過度を以下の
測定方法により測定し、評価した。その結果を表１に示
す。（１）光線透過率（％）分光光度計（島津製作所社製ＵＶ−３１００）を用
いて、バリア性フイルムの波長３５０ｎｍでの光の透過
率を測定した。（２）酸素素透過度（ｍｌ／ｍ²・２４ｈ・ａｔｍ）モダンコントロール社製（ＭＯＣＯＮＯＸＴＲＡＮ
１０／５０Ａ）を用いて、３０℃、７０％ＲＨの雰囲気
下で蒸着フイルム及びバリア性フイルムの酸素透過度を
測定した。（３）水蒸気透過度（ｇ／ｍ²・２４ｈ）モダンコントロール社製（ＭＯＣＯＮＰＥＲＭＡＴＲ
ＡＮＷ６）を用いて、４０℃、９０％ＲＨの雰囲気下
で蒸着フイルム及びバリア性フイルムの水蒸気透過度を
測定した。

【００４３】

【表１】

【００４４】表１の結果より、実施例１はバリア性フイ
ルムの透明性も良く、蒸着フイルム及びバリア性フイル
ムの酸素透過度及び水蒸気透過度も小さい。比較例１は
蒸着薄膜層の表面をプラズマ処理しなかったので、バリ
ア性フイルムの透明性が劣っている。比較例２及び比較
例３はバリア性フイルムの透明性は良いが、蒸着フイル
ム及びバリア性フイルムの酸素透過度及び水蒸気透過度
が劣っている。

【００４５】

【発明の効果】本発明の高透明バリア性フイルムは、透
明な基材の上に、基材の表面に近い側が酸素元素比率が
多く、膜厚の外側に向けて酸素元素比率が小さくなった
組成の傾斜構造の酸化アルミニウムの蒸着薄膜層を形成
させ、前記蒸着薄膜層を形成させた直後にその表面をプ
ラズマ処理しているので、他の層との密着性もよく、か
つ、透明性が向上している。さらに、前記プラズマ処理
した蒸着フイルムの蒸着薄膜層のプラズマ処理面にガス
バリア性被膜層を積層しているので、従来のバリア性フ
イルムに比べて優れたガスバリアを有しており、食品分
野あるいは非食品分野などの広い範囲で優れたバリア性
包装材料として利用できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の高透明バリア性フイルムの側断面図で
ある。

【図２】本発明の高透明バリア性フイルムの蒸着薄膜層
を形成させる真空蒸着装置の説明図である。

【図３】従来のバリアフイルムの蒸着薄膜層を形成させ
る真空蒸着装置の説明図である。

【符号の説明】

１…基材２…蒸着薄膜層３…プラズマ処理面４…蒸着フイルム５…ガスバリア性被膜層６…高透明バリア性フイルム１０、３０…真空蒸着装置１１…真空チャンバー１２…巻き出し部１３…巻き取り部１４…ガイドロール１５…冷却ドラム１６…酸素供給部１７…酸素ガス供給口１８…真空ポンプ１９…るつぼ２０…膜厚計２１…プラズマ処理装置２２…蒸着原材料ｄ…冷却ドラム表面と酸素ガス供給口の長さ

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】高分子材料からなる基材の少なくとも一方
の面に、酸化アルミニウムの蒸着薄膜層、ガスバリア性
被膜層を積層した積層体において、該酸化アルミニウム
の蒸着薄膜層が金属蒸気と酸化性ガスとの反応性蒸着法
で形成され、かつ、形成された蒸着薄膜層の表面がプラ
ズマ処理されたものからなること特徴とする高透明バリ
ア性フイルム。
【請求項２】前記金属蒸気がアルミニウム蒸気であり、
かつ、酸化性ガスが酸素ガスであることを特徴とする請
求項１記載の高透明バリア性フイルム。
【請求項３】前記蒸着薄膜層の厚さが５０〜３０００Å
の範囲内であることを特徴とする請求項１又は請求項２
記載の高透明バリア性フイルム。
【請求項４】前記ガスバリア性被膜層が、水溶性高分子
と、（ａ）１種以上の金属アルコキシド及びその加水分
解物又は、（ｂ）塩化錫の少なくとも一方を含むものか
らなることを特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれ
か１項記載の高透明バリア性フイルム。
【請求項５】前記水溶性高分子が、ポリビニルアルコー
ルであることを特徴とする請求項４記載の高透明バリア
性フイルム。
【請求項６】前記金属アルコキシドが、テトラエトキシ
シランまたはトリイソプロポキシアルミニウムあるいは
それらの混合物であることを特徴とする請求項４又は請
求項５記載の高透明バリア性フイルム。
【請求項７】前記請求項１乃至請求項６のいずれか１項
記載の高透明バリア性フイルムの蒸着薄膜層を反応性蒸
着法で形成する時に、酸化性ガスを真空蒸着装置内の冷
却ドラムの基材巻き出し側の表面より１０ｍｍ以上１５
０ｍｍ以下の位置の供給口から導入することを特徴とす
る高透明バリア性フイルムの製造方法。
【請求項８】前記請求項１乃至請求項６のいずれか１項
記載の高透明バリア性フイルムの製造時に、真空蒸着装
置内で蒸着薄膜層を形成させた直後に、その蒸着薄膜層
の表面をプラズマ処理することを特徴とする高透明バリ
ア性フイルムの製造方法。