JP2003033731A - パネル内面の洗浄方法 - Google Patents

パネル内面の洗浄方法

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JP2003033731A
JP2003033731A JP2001226192A JP2001226192A JP2003033731A JP 2003033731 A JP2003033731 A JP 2003033731A JP 2001226192 A JP2001226192 A JP 2001226192A JP 2001226192 A JP2001226192 A JP 2001226192A JP 2003033731 A JP2003033731 A JP 2003033731A
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Hideo Azuma
日出雄 東
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 陰極線管のパネル内面を薬液で洗浄方法にお
いて、作業の安全性を確保しながら、パネル内面の薬液
処理工程でエッチングムラが生じないようにすること。 【解決手段】 パネルの内面にフッ酸等の薬液を多数の
ノズルから噴射させて接触させることにより洗浄処理す
る方法であって、薬液の噴射接触中にパネルを揺動させ
るようにしたことにより、パネル内面全体に対して多数
のノズルから噴射する薬液が、同じ位置に当たり続けず
に揺動するので、パネル内面全体における噴射接触圧の
強弱部分がぼかされ、パネル内面全体が略均等にエッチ
ングされることになり、エッチングムラを解消させるこ
とができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、陰極線管のフェー
ス面を構成するガラス製のパネル内面を酸洗いして洗浄
する方法に関するものである。
【0002】
【従来の技術】この種のガラス製のパネルにおいては、
その内面にカーボンストライプと蛍光体とを塗布する蛍
光面の形成工程が行われる。特に、パネル内面において
は、微視的に見ると、その表面にステップルと称される
多数の凹凸が形成されており、この凹凸はパネルを製作
する工程で、金型との離型のための粗度として必要なも
のであって、所定の深さをもって形成されており、これ
をなくすことは製造上できないものである。
【0003】このような粗度、即ち、ステップルにおい
ては、その大きさおよび深さが一定であるとは限らない
ので、蛍光面の形成工程前に粗度の調整および付着不純
物の除去を行うため、酸処理工程が行われる。また、蛍
光面を形成した後において、いわゆる陰極線管としてそ
の表示面に黒ムラと称される輝度ムラが生じて商品とし
ての欠陥品となる場合があり、これは、カーボンストラ
イプの形成工程において生ずる場合が多い。このような
場合にも、ガラスパネルを再生して再使用するために、
蛍光面の除去に酸処理工程が行われる。
【0004】従来技術では、この種の酸処理工程におい
て、図7に示したように、ガラス製のパネル1は、その
内側を下向きにして所定のパレット2上に載置し、酸処
理ポジションまたはエリアまで搬送し、該薬液処理領域
において、整列させた複数の配管3に設けた複数のノズ
ル4からフッ酸等の薬液5を噴出させ、パネル1の内面
に接触させることにより、いわゆるエッチングによって
表面を薄く削りとるものである。
【0005】この酸処理に使用されている配管3および
ノズル4は、酸に強いPVC(塩化ビニール)で形成さ
れた組立構造体であるため、振動に対する強度はそれ程
高くないので、作業の安全上、振動または揺動させるこ
とは避けている。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】ところで、ノズル4か
ら噴射された薬液5は、図8に示したように、広がりを
もってパネル1の面に衝突し、その衝突した薬液5aが
更に衝突面から周囲に広がって流動し、パネル1の内面
の全体に渡って接触するようになるが、薬液5の当たり
の強い領域aと当たりの弱い領域bとが生じ、当たりの
強い領域aは同じ位置に薬液が当たり続けることにな
り、その当たりの強さの差によってエッチングの度合い
が異なり、エッチングムラが生じ、惹いては陰極線管と
しての輝度ムラにつながるという問題点を有している。
特に、超高解像度モニター用の画面においては、輝度ム
ラの部分が、画面制作時に画面ムラなどの不良になって
しまうという問題点を有している。
【0007】従って、従来の洗浄方法では、作業の安全
性を確保しながら、パネル内面の薬液処理工程におい
て、エッチングムラが生じないようにすることに解決課
題を有している。
【0008】
【課題を解決するための手段】前記課題を解決する具体
的手段として本発明においては、パネルの内面にフッ酸
等の薬液を多数のノズルから噴射させて接触させること
により洗浄処理する方法であって、薬液の噴射接触中に
パネルを揺動させることを特徴とするパネル内面の洗浄
方法を提供するものである。
【0009】また、この発明においては、揺動のストロ
ークは、略30〜70mm程度の範囲であること;薬液
の噴射接触は、複数回間欠的に行うこと;およびパネル
は、薬液の噴射接触前後に水洗することを付加的要件と
して含むものである。
【0010】本発明は、パネルを揺動させながら薬液を
噴射接触させることによって、パネル内面全体に対する
薬液の噴射接触圧の強弱部分がぼかされるのであり、パ
ネル内面全体に亘って略均等にエッチングされることに
なり、エッチングムラを解消させることができるのであ
る。
【0011】
【発明の実施の形態】次に、本発明を図示の好ましい実
施の形態により更に詳しく説明する。なお、理解を容易
にするため、従来例と同一部分には同一符号を付して説
明する。図1は本発明に係るパネル内面の洗浄方法にお
ける全体のシステムを示す説明図であって、洗浄処理装
置11に対してパネル1が供給されるものであり、洗浄
処理装置11は、基本的にはパネル1の供給領域12
と、水洗領域13と、薬液処理領域14とから構成され
ている。
【0012】供給領域12には、図示していないが、パ
ネル1をパレット2上に供給およびピックアップするた
めのリフトが設けられており、また、水洗領域13との
境界部分には、エアーナイフ手段15が設けられ、適宜
のエアー供給手段16から複数のバルブ17を介してエ
アーが供給され、エアーカーテン式の仕切を構成してい
る。
【0013】水洗領域13には、パネル1に対して上下
から洗浄水(純水)を噴射して洗浄するためのノズルを
備えた洗浄手段18が設けられており、該洗浄手段18
にはバルブ19および流量計20を介して洗浄水供給手
段21が接続されている。そして、水洗領域13と薬液
処理領域14との境界部分にはシャッター手段22が設
けられ、該シャッタ手段22は、シリンダー23および
バルブ24を介して駆動源25に接続されており、適宜
に開閉できる構成になっている。なお、水洗領域13の
底部には、排水のためのドレーン26が接続されてい
る。
【0014】薬液処理領域14には、例えば、フッ酸等
の薬液5を噴射するためのノズルを備えた薬液噴射手段
27が設けられ、該薬液噴射手段27は、複数のバルブ
郡28とポンプ29を介して薬液タンク30に接続さ
れ、配管31の途中に圧力計32が設けられている。ま
た、薬液処理領域14の上部には、排気手段33が設け
られ、薬液処理領域14内の酸ミストを外部に持ち出
し、既設の酸スクライバーへ送気して処理するようにし
ている。
【0015】また、薬液処理領域14の底部には、薬液
排出用のドレーン34が設けられ、該ドレーン34は前
記薬液タンク30に接続されており、薬液処理領域14
で使用した薬液が薬液タンク30に戻されるようになっ
ている。この場合に、薬液タンク30側に設けられたフ
ィルター35によって濾過されて戻されるようになって
いる。また、ドレーン34は途中で分岐されて前記した
ドレーン26に接続され、それぞれ分岐点近傍にバルブ
36、37が設けられており、バルブ36は常時開状態
になっており、バルブ37は常時閉状態になっている。
そして、薬液処理領域14を洗浄するときにのみ、バル
ブ36を閉にしバルブ37を開にし、洗浄した洗浄液と
共に汚れをドレーン26を介して排出するのである。
【0016】薬液タンク30には、液面計38と、薬液
供給手段39と、排気手段40とが設けられており、薬
液の量を常に検出し、薬液が不足したときには速やかに
供給できるようにし、また、薬液タンク内で発生した酸
ミストを系外に持ち出し既設のスクライバーによって処
理するものである。なお、その他にオーバーフロー用の
ドレーン41と、廃液用のドレーン42とが設けられて
おり、これらは前記ドレーン26と共に酸排水処理シス
テムへ繋がっている。
【0017】このようなシステムにおいて、図2に示し
たように、まず、洗浄処理装置11の供給領域12おい
て、パレット2上に載置されたパネル1は、水洗領域1
3において純水を掛けられて濡らされ、次の薬液処理領
域14へパレット2に載置されたまま移送される。この
移送については、タイミングベルト等をエンドレス状に
配設した搬送手段50をモータ等の駆動手段51により
駆動することによって移送が遂行されるものである。
【0018】この移送に際して、図3に示したように、
洗浄処理装置11の両側に配設したレールのガイド部材
52上を滑車等を介して速やかに移送できるものであ
り、駆動手段51の駆動によって移動と停止とが任意に
行えるものであり、駆動手段51は予め設定された制御
用シーケンサーのプログラミングによって駆動されるよ
うになっている。
【0019】従って、供給領域12おいて、パネル1が
パレット2上の設定された位置に正確に載置されたこと
を検出して、駆動手段51が駆動し搬送手段50を動作
させて次の洗浄領域13にパレット2と共にパネル1が
移送される。この洗浄領域13において、パレット2が
設定した位置に停止すると共に、洗浄手段18のノズル
18aから純水を噴出してパネル1の全体を濡らし、純
水の噴出を停止するのである。
【0020】次に、シャッタ22を開き、駆動手段51
が駆動し搬送手段50を動作させて薬液処理領域14に
パレット2と共にパネル1が移送されてシャッタ22が
閉じられる。この状態で薬液噴射手段27のノズル27
aからフッ酸等の薬液5が噴射され、パネル1の内面側
に吹き付けられる。
【0021】薬液噴射手段27は、図4に示したよう
に、多数の配管53が等間隔で隣接状態に配設され、各
配管53にはそれぞれ多数のノズル27aが等間隔をも
って配設されている。そして、多数のノズル27aは隣
接の配管毎にその位置を交互にずらして、できるだけ全
面的に均等に広がるように配設してある。
【0022】なお、図示の形態では、両端部に配設した
配管53aにはノズル27aが設けられていないが、こ
れは洗浄しようとするパネル1の大きさによって、薬液
処理領域14の大きさを変えなくても、ノズルを設けた
配管と適宜に付け替えてその大きさに対応させることが
できるようにしたものであり、同時にパネル1の大小に
対応して薬液使用量も調整できるのである。
【0023】この薬液処理領域14において、図5に示
したように、設定された位置にパレット2およびパネル
1がセッティングされ、薬液5の噴出と同時に、パレッ
ト2と共にパネル1が揺動される。この場合の薬液の噴
出は間欠的に行い、且つ揺動は、図2に示した搬送手段
50と駆動手段51とによって遂行される。
【0024】即ち、薬液5の噴出は、例えば、30秒間
の噴出を10秒間隔で3回行うのであって、その10秒
間の間に付着している薬液によって全体の均しエッチン
グが行われ、連続して90秒間噴射接触させるよりは、
薬液の使用が少なくて且つ均等なエッチングが行えるの
である。
【0025】また、揺動は、駆動手段51が制御用シー
ケンサーのプログラミングによって正転・逆転の駆動が
なされ、それによって搬送手段50が所定の範囲で往復
動して、パレット2およびパネル1が揺動させられるの
である。この揺動の幅(ストローク)は50mm程度で
あって1〜2秒間で1ストローク移動するのである。な
お、薬液5の噴出圧は、例えば、4kg/cm2 程度で
あって、これはパネル1の処理目的によって適宜変更で
きるし、また、薬液5の処理時間、即ち、噴出時間も処
理目的によってそれに対応させて変更できるのである。
【0026】薬液5は、各ノズル27aから噴出されて
パネル1の内面に接触した後に、薬液処理領域14の底
部に落下し、ドレーン34を介して薬液タンク30に濾
過されて流入し、全体を攪拌した後に再度ポンプ29で
汲み上げられて繰り返し使用されるものである。
【0027】このように薬液処理領域14において、パ
ネル1を揺動させて薬液処理することにより、図6に示
したように、パネル1の内面に接触する薬液5の噴射圧
の強弱部分がぼかされることになり、パネル1の内面全
体に亘って噴出する薬液が略均等な強さで接触すること
になり、その接触面cにエッチングムラがほとんど生じ
ないのである。
【0028】薬液処理工程中においては、排気手段33
が駆動されており、噴射した薬液5が飛沫状(酸ミス
ト)になって薬液処理領域14に飛散することになる
が、排気手段33によって系外に持ち出されて処理され
ので、パネル1の外表面に酸ミストが付着することによ
る弊害を防止できるのである。
【0029】酸処理工程が終了した後に、シャッタ手段
22が開けられてパネル1がパレット2と共に水洗領域
13に戻ってくる。薬液処理領域14からパネル1およ
びパレット2が送出された後にシャッタ手段22は閉め
られる。そして、水洗領域13において、洗浄手段18
から純水を噴出させてパネル1の内面および表面側を水
洗いして、付着している薬液を除去する。この間、エア
ーナイフ手段15からエアーを噴出させて薬液を含む洗
浄済みの純水が飛散して供給領域12側にこないように
ガードしている。なお、水洗の時間は略30秒程度であ
る。
【0030】水洗工程が終了したパネル1はパレット2
と共に供給領域12に戻され、目視により一応の検査・
確認して、ピックアップまたはリフト手段によりパネル
1が搬出される。そして、次の処理されるべき別のパネ
ルを前記同様にパレット上に載置して同様の処理を行う
のである。
【0031】いずれにしても本発明のパネル内面の洗浄
方法においては、パネル内面に薬液を噴射接触させて洗
浄する際に、パネル側を揺動させることによって、薬液
の噴射による強く当たって接触する位置が同じ部位に当
たり続けず、全面的に分散することによってエッチング
ムラが解消されるのである。
【0032】また、薬液を噴射させる側、即ち、塩化ビ
ニール等のプラスチックで形成された配管およびノズル
からなる振動に弱い薬液噴射構造体は、振動または揺動
させないので、作業上の安全性が確保されているのであ
る。
【0033】
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るパネ
ル内面の洗浄方法は、パネルの内面にフッ酸等の薬液を
多数のノズルから噴射させて接触させることにより洗浄
処理する方法であって、薬液の噴射接触中にパネルを揺
動させるようにしたことにより、パネル内面全体に対し
て多数のノズルから噴射する薬液が、同じ位置に当たり
続けずに揺動するので、パネル内面全体における噴射接
触圧の強弱部分がぼかされ、パネル内面全体が略均等に
エッチングされることになり、エッチングムラを解消さ
せることができるという優れた効果を奏する。
【0034】また、本発明においては、洗浄処理される
パネルを揺動させるようにしたことにより、薬液を噴射
させるための配管およびノズルからなる振動に弱い薬液
噴射構造体は、振動または揺動させないので、作業上の
安全性が確保されるという優れた効果を奏する。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明のパネル内面の洗浄方法が適用されるシ
ステム全体を略示的に示して説明図である。
【図2】同システムにおけるパネル内面の洗浄方法が遂
行される洗浄処理装置部分を略示的に示した側面図であ
る。
【図3】同洗浄処理装置部分を略示的に示した平面図で
ある。
【図4】同洗浄処理装置における薬液処理領域を拡大し
て示した平面図である。
【図5】同洗浄処理装置における薬液処理領域でパネル
内面を洗浄処理する状況を略示的に示した説明図であ
る。
【図6】同パネル内面の洗浄処理状況を説明するために
要部のみを略示的に示した説明図である。
【図7】従来例におけるパネル内面の洗浄状況を説明す
るために略示的に示した説明図である。
【図8】同従来例におけるパネル内面の洗浄状況を説明
するために要部のみを略示的に示した説明図である。
【符号の説明】
1 パネル、 2 パレット、 5 薬液、 11 洗
浄処理装置、12 供給領域、 13 水洗領域、 1
4 薬液処理領域、15 エアーナイフ手段、 16
エアー供給手段、17、19、24、36、37 バル
ブ、 18 洗浄手段、 20 流量計、21 洗浄水
供給手段、 22 シャッター手段、 23 シリンダ
ー、25 駆動源、 26、34、41、42 ドレー
ン、 27 薬液噴射手段、27a、18a ノズル、
28 バルブ郡、 29 ポンプ、30 薬液タン
ク、 31、53 配管、 32 圧力計、33、40
排気手段、 35 フィルター、 38 液面計、3
9 薬液供給手段、 50 搬送手段、 51 駆動手
段、52 ガイド部材、 a 当たりの強い領域、 b
当たりの弱い領域、c 接触面。

Claims (4)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 パネルの内面にフッ酸等の薬液を多数の
    ノズルから噴射させて接触させることにより洗浄処理す
    る方法であって、 薬液の噴射接触中にパネルを揺動させること を特徴とするパネル内面の洗浄方法。
  2. 【請求項2】 揺動のストロークは、 略30〜70mm程度の範囲であることを特徴とする請
    求項1に記載のパネル内面の洗浄方法。
  3. 【請求項3】 薬液の噴射接触は、 複数回間欠的に行うことを特徴とする請求項1に記載の
    パネル内面の洗浄方法。
  4. 【請求項4】 パネルは、 薬液の噴射接触前後に水洗することを特徴とする請求項
    1に記載のパネル内面の洗浄方法。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN111825346A (zh) * 2019-11-20 2020-10-27 苏州殷绿勒精密机械科技有限公司 一种3d曲面玻璃清洗机
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