JP2003027213A

JP2003027213A - 有機ｅｌパネルの製造方法。

Info

Publication number: JP2003027213A
Application number: JP2001206351A
Authority: JP
Inventors: Toshiaki Endo; 利明遠藤; Shunsuke Watanabe; 俊介渡辺; Takao Sato; 隆雄佐藤; Nariyasu Kobayashi; 成康小林; Katsumasa Fujii; 克昌藤井; Kazunori Sakai; 一則坂井; Ikuo Kobayashi; 郁夫小林
Original assignee: Nippon Seiki Co Ltd
Current assignee: Nippon Seiki Co Ltd
Priority date: 2001-07-06
Filing date: 2001-07-06
Publication date: 2003-01-29
Anticipated expiration: 2021-07-06
Also published as: JP3811943B2

Abstract

(57)【要約】【課題】多機種を流動させる場合であっても段取り換
えに時間を要せず、生産性を向上させることが可能な有
機ＥＬパネルの製造方法を提供する。【解決手段】蒸着工程内の各蒸着室の生産条件及び生
産数量を少なくとも含む生産管理情報を有機ＥＬパネル
の機種毎に設定するライン端末Ｄと、前記有機ＥＬパネ
ルの前記機種に応じた複数の蒸着マスクを真空雰囲気中
に保管する第１，第２蒸着マスク保管室（第１のストッ
ク部）ａ６，ｂ６とを備え、ライン端末Ｄの前記生産管
理情報に基づいて、蒸着工程内の前記各蒸着室に装着さ
れている蒸着マスクから第１，第２蒸着マスク保管室ａ
６，ｂ６に保管されている前記機種に応じた蒸着マスク
に搬送ロボット（交換装置）ａ８，ｂ７を用いて交換す
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、少なくとも一方が
透光性の一対の電極により挟持され所定の発光をなす有
機ＥＬ素子（有機エレクトロルミネッセンス素子）を備
えた有機ＥＬパネルを得るための製造方法に関するもの
である。

【０００２】

【従来の技術】自発光素子であるためバックライト照明
が不要であること、視野角が広く、大型の表示パネルに
適すること等から有機ＥＬ素子を用いた有機ＥＬパネル
が注目されている。

【０００３】このような有機ＥＬパネルは、ガラス材料
からなる支持基板である透光性基板の所定箇所に、所定
パターンの透明電極を形成し、前記透明電極上に絶縁
層，正孔注入層，正孔輸送層，発光層，電子輸送層を順
次積層して有機層を形成し、前記有機層上に電子注入層
及び背面電極を積層形成して有機ＥＬ素子を得て、前記
有機ＥＬ素子を封止基板によって気密的に覆うことで得
られるものである。

【０００４】かかる有機ＥＬパネルの製造方法は、前記
有機ＥＬ素子を構成する各部（正孔注入層，正孔輸送
層，発光層，電子輸送層，電子注入層，背面電極）に対
応する複数の蒸着室を有する蒸着装置に前記透光性基板
に投入し、前記蒸着装置に備えられる各蒸着室を制御す
るコントロール装置によって設定される蒸着温度及び前
記各層の膜厚等の生産条件に基づいて、前記透光性基板
上に前記有機ＥＬ素子を形成するとともに、前記有機Ｅ
Ｌ素子が形成される前記透光性基板を封止装置内に投入
し、前記有機ＥＬ素子を覆うように前記透光性基板と前
記封止基板とを接合することで有機ＥＬパネルを得るこ
とが一般的である。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】このような有機ＥＬパ
ネルの製造方法では、例えば表示形態で分類される前記
有機ＥＬパネルの機種に応じて、前記蒸着装置の各蒸着
室における蒸着部材の選定（例えば、発光層の発光色に
伴う材料選定）や前記生産条件の設定を前記機種毎に前
記コントロール装置によって設定しなければならず、ま
た各蒸着室における蒸着マスクの交換作業も必要であ
り、段取り換えに時間を要してしまうといった問題点を
有している。

【０００６】また、前記段取り換えにおいて、各蒸着室
に備えられる蒸着マスクを交換させる必要があるが、前
記各蒸着室の前記蒸着マスクを交換する場合は、前記各
蒸着室に備えられる開閉扉を開いて前記蒸着室内を大気
にさらす状態で前記蒸着マスクを交換しなければならな
い。そのため前記各蒸着室の炉内を排気し真空状態にし
て蒸着可能状態にするに時間を要するため、前述した前
記蒸着装置では、車両用や民生機器等の多機種を有する
表示パネルの製造工程に適さないといった問題点を有し
ている。

【０００７】そこで、本発明は、前述した問題点に着目
し、多機種を流動させる場合であっても段取り換えに時
間を要せず、有機ＥＬパネルの生産性を向上させること
が可能な有機ＥＬパネルの製造方法を提供するものであ
る。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明は、前記課題を解
決するため、請求項１に記載の本発明は、複数の蒸着室
を有する蒸着装置に支持基板を投入し、前記支持基板上
に少なくとも発光層を含む有機層を一対の電極により狭
持してなる有機ＥＬ素子を形成する蒸着工程を含む有機
ＥＬパネルの製造方法であって、前記各蒸着室の生産条
件及び生産数量を少なくとも含む生産管理情報を前記有
機ＥＬパネルの機種毎に設定するライン端末と、前記機
種に応じた複数の蒸着マスクを真空雰囲気中に保管する
第１のストック部とを備え、前記生産管理情報に基づい
て、前記蒸着工程内の前記蒸着室に装着されている蒸着
マスクから前記第１のストック部に保管されている前記
機種に応じた蒸着マスクに交換装置を用いて交換するも
のである。

【０００９】また、請求項２に記載の本発明は、前記蒸
着工程は、前記ライン端末によって複数の前記生産管理
情報を記憶してなるものである。

【００１０】また、請求項３に記載の本発明は、前記蒸
着工程は、前記ライン端末によって前記支持基板の投入
口に設けられるカウント手段を介して前記支持基板の投
入数量をカウントするとともに、前記投入数量が、予め
定められた前記生産数量に達した時点もしくは前記生産
数量から所定数量少ない目標数量に達した際に、次なる
機種の搬送ルートに伴う前記蒸着室の加熱を開始させる
ものである。

【００１１】また、請求項４に記載の本発明は、前記蒸
着工程は、前記ライン端末によって前記カウント手段を
介して前記支持基板の投入数量をカウントするととも
に、現生産機種の前記生産数量の終了を確認すると、前
記現生産機種が前記蒸着工程内に存在する場合であって
も、次なる機種の支持基板を前記蒸着工程に投入するも
のである。

【００１２】また、請求項５に記載の本発明は、前記蒸
着工程は、前記ライン端末によって前記機種毎の生産条
件の履歴を記憶してなるものである。

【００１３】また、請求項６に記載の本発明は、前記有
機ＥＬ素子を気密的に覆うための封止基板と前記支持基
板とを紫外線硬化型接着剤を介し接合するための封止装
置を備えた封止工程を含み、前記封止工程は、前記機種
データに応じた複数の紫外線照射マスクを窒素雰囲気中
に保管する第２のストック部を備えてなるものである。

【００１４】また、請求項７に記載の本発明は、前記封
止工程は、前記ライン端末の前記生産管理情報に基づい
て、前記封止装置に装着されている紫外線照射マスクか
ら前記第２のストック部に保管されている前記機種に応
じた紫外線照射マスクに交換装置を用いて交換するもの
である。

【００１５】また、請求項８に記載の本発明は、前記支
持基板を前記蒸着工程に投入する支持基板供給工程を含
み、前記支持基板供給工程は、投入される支持基板が前
記機種に応じた適正なる支持基板であるか否かを判定す
るものである。

【００１６】また、請求項９に記載の本発明は、前記封
止基板を前記封止工程に投入する封止基板供給工程を含
み、前記封止基板供給工程は、投入される封止基板が前
記機種に応じた適正なる封止基板であるか否かを判定す
るものである。

【００１７】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面に基づき説明する。

【００１８】図１及び図２は、本発明の有機ＥＬパネル
の製造方法を達成するための製造装置の一例を示すもの
である。有機ＥＬパネルの製造装置は、蒸着装置Ａと、
封止装置Ｂと、コントロール装置Ｃと、ライン端末Ｄ
と、透光性基板（支持基板）投入装置Ｅと、接着剤塗布
装置Ｆと、封止基板投入装置Ｇと、取り出し装置Ｈとか
ら構成されている。

【００１９】蒸着装置Ａは、第１，第２のブロックａ，
ｂを有しており、各ブロックａ，ｂ内は真空状態が確保
されている。第１のブロックａは、プラズマ処理工程で
ある前処理室a１と、正孔注入層形成工程である第１蒸
着室a２と、正孔輸送層形成工程である第２蒸着室a３
と、第１発光層形成工程である第３蒸着室a４と、第２
発光層形成工程である第４蒸着室a５と、第１ブロック
ａの各蒸着室a２，ａ３，a４，a５における有機ＥＬパ
ネルの表示形態に応じた蒸着マスク（機種毎の蒸着マス
ク）を保管する第１蒸着マスク保管室（第１のストック
部）a６と、透光性基板投入装置Ｅに接続され、支持基
板である透光性基板を蒸着装置Ａ内に投入するための投
入室ａ７とを有している。前述した各部屋間の透光性基
板の搬送は、サーボモータ等の駆動手段によって回転可
能に設けられ、前記各部屋の奥行き方向及び高さ方向に
移動可能な搬送ロボット（交換装置）a８が用いられて
いる。また各蒸着室a２，ａ３，a４，a５、前処理室ａ
１及び第１蒸着マスク保管室ａ６には、メンテナンスを
行うための開閉扉ａ９がそれぞれ設けられている。

【００２０】蒸着装置Ａの第２のブロックｂは、第３発
光層形成工程である第５蒸着室ｂ１と、第４発光層形成
工程である第６蒸着室ｂ２と、電子輸送層形成工程であ
る第８蒸着室ｂ３と、電子注入層形成工程である第７蒸
着室ｂ４と、背面電極形成工程である第９蒸着室ｂ５
と、第２のブロックｂの各蒸着室ｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ
４，ｂ５における有機ＥＬパネルの表示形態に応じた蒸
着マスク（機種毎の蒸着マスク）を保管する第２蒸着マ
スク保管室（第１のストック部）ｂ６とを有している。
前述した各部屋間の透光性基板の搬送は、サーボモータ
等の駆動手段によって回転可能に設けられ、前記各部屋
の奥行き方向及び高さ方向に移動可能な搬送ロボット
（交換装置）ｂ７が用いられいる。また各蒸着室ｂ１，
ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５及び第２蒸着マスク保管室ｂ６
には、メンテナンスを行うための開閉扉ｂ８がそれぞれ
設けられている。

【００２１】また、蒸着装置Ａの第１，第２のブロック
ａ，ｂ間には、各部ブロックａ，ｂを接続する第１受渡
室Ｊが設けられている。第１受渡室Ｊは、第１ブロック
ａ側及び第２ブロックｂ側にそれぞれ設けられるシャッ
ター機構と、各シャッター機構間に設けられ、後述する
透光性基板を第１のブロックａ側から第２のブロックｂ
側へと搬送するスライド機構とが設けられ、各ブロック
ａ，ｂにそれぞれ設けられる搬送ロボットａ８，ｂ７に
よって前記透光性基板の受け渡しがなされる。

【００２２】ここで、図３を用いて、蒸着装置Ａの第
１，第２ブロックａ，ｂに配設されている各蒸着室（ａ
２〜ａ５，ｂ１〜ｂ５）について説明する。蒸着室は、
排気ポート１を介して図示しない真空ポンプで高真空に
排気された真空室２を有している。真空室２の下側に
は、蒸着材料３を収納するルツボ（クヌンセンセル）４
が配設されており、このルツボ４には、加熱コイル５が
捲回されるとともに、加熱コイル５による加熱温度を正
確にルツボ４に伝達するための熱遮蔽板６がルツボ４及
び加熱コイル５の外側を覆うように配設される。またル
ツボ４には、ルツボ４の温度を検出するための熱電対等
からなる温度センサ７が設けられている。温度センサ７
は、後述する生産管理情報に基づいて各蒸着室の蒸着温
度制御を行うためのコントロール装置Ｃへ蒸着温度デー
タを出力するもので、コントロール装置Ｃは、前記生産
管理情報に基づく蒸着温度になるように加熱コイル５に
対してフィードバック制御（電流量調整）を行い、ルツ
ボ４の温度を前記生産管理情報に基づく適正温度になる
ように制御するものである。

【００２３】一方、真空室２の上側には、ガラス材料か
らなり、正孔注入層，正孔輸送層，発光層，電子輸送
層，電子注入層及び背面電極を形成するための透光性基
板８を備えた基板ホルダー９と、透光性基板８に所定の
蒸着パターンを形成するための蒸着マスク１０を備えた
マスクホルダー１１とを、ルツボ４が配設される蒸着源
に対し位置決め保持するための保持機構１２が備えられ
ている。

【００２４】また、真空室２内において、ルツボ４と透
光性基板８との間には、成膜される各層の厚みを制御す
るシャッター１３と、膜の厚みをモニタする膜厚計１４
とが配設される。従ってコントロール装置Ｃは、成膜領
域１５を膜厚計１４によってモニタし、この膜厚計１４
によって得られた成膜データに基づいて所定の演算を行
い、この演算結果から透光性基板８に形成される膜厚を
算出するとともに、シャッター１３を動作（シャッター
１３の開閉動作）させることで膜厚を管理する。

【００２５】封止装置Ｂは、封止基板と透光性基板８と
を紫外線硬化型接着剤（以下、ＵＶ硬化型接着剤とい
う）を介し接合するため、両部材を重ね合わせた状態で
紫外線を照射させる封止室Ｂ１と、有機ＥＬパネルの表
示形態（機種）に応じて紫外線照射マスク（以下、ＵＶ
照射マスクという）を保管するＵＶ照射マスク保管室
（第２のストック部）Ｂ２と、封止基板を封止装置Ｂ内
に投入するための投入部Ｂ３と、封止室Ｂ１を経て得ら
れた有機ＥＬパネルを外部に搬出する取出装置Ｈと接続
される排出部Ｂ４と、接着剤塗布装置Ｆと投入室Ｂ３と
の間に設けられ、封止基板に吸着剤を塗布する吸着剤塗
布室Ｂ５とを有しており、封止装置Ｂ内は窒素によって
満たされている。また前記各部屋間の封止基板の搬送
は、サーボモータ等の駆動手段によって回転可能に設け
られ、前記各部屋の奥行き方向及び高さ方向に移動可能
な搬送ロボット（交換装置）Ｂ６が用いられる。また、
封止室Ｂ１及びＵＶ照射マスク保管室Ｂ２には、メンテ
ナンス用の開閉扉Ｂ７がそれぞれ設けられている。

【００２６】ここで、図４を用いて、封止装置Ｂに備え
られる封止室Ｂ１について説明する。封止室Ｂ１は、排
気ポート２０を介して図示しない真空ポンプで室内が略
真空状態になるように排気され、窒素導入口２１から窒
素が導入されることで、酸素の濃度が１００ｐｐｍ以下
及び露点が−７０℃以下の窒素室２２が設けられてい
る。窒素室２２の略中央には、透光性基板８上に形成さ
れる有機ＥＬ素子を気密的に覆うためのガラス材料から
なる封止基板２３を乗せるための載置台２４をシリンダ
ー等の駆動手段によって上方に移動させる上昇機構２５
が設けられている。また、上昇機構２５の載置台２４上
に、ゴム等の弾性部材２６が配設され、この弾性部材２
６上に封止基板２３が配置される。この弾性部材２６
は、封止基板２３と透光性基板８とを接合させる際に、
上昇機構２５側から透光性基板８側に対し所定の圧力が
付与されることになるが、圧力付与による封止基板２３
の割れを防止するとともに、載置台２４からの加圧分布
を均一なものとし良好な封止を得ることが可能となる。

【００２７】一方、真空室２２の上側には、透光性基板
８と封止基板２３とをＵＶ硬化型接着剤を介して接合さ
せるため、紫外線を照射するための紫外線照射装置（以
下、ＵＶ照射装置という）２６が配設されて、ＵＶ照射
装置２６の下方には、マスクホルダー２７を介して配設
されるＵＶ照射マスク２８と、基板ホルダー９を介して
配設される透光性基板（有機ＥＬ素子が形成された状態
の透光性基板）８とを保持するための保持機構２９が設
けられている。

【００２８】かかる封止室Ｂ１は、上昇機構２５によっ
て封止基板２３を上昇させ、透光性基板８に対し所定の
圧力を付与した状態で封止基板２３を当接させた後、Ｕ
Ｖ照射装置２６からの紫外線をＵＶ照射マスク２８を介
してＵＶ硬化型接着剤の塗布位置に照射させることで、
両部材を気密性良く封止するものである。

【００２９】蒸着装置Ａの第２のブロックｂと封止装置
Ｂとの間には、両装置Ａ，Ｂ間を接続する第２受渡室Ｋ
が設けられている。第２受渡室Ｋは、蒸着装置Ａ側及び
封止装置Ｂ側にそれぞれ設けられるシャッター機構と、
各シャッター機構間に設けられ、透光性基板８を蒸着装
置Ａから封止装置Ｂ側へと搬送するスライド機構とが設
けられ、両装置Ａ，Ｂにそれぞれ設けられる搬送ロボッ
トｂ７，Ｂ６によって透光性基板８の受け渡しがなされ
る。

【００３０】コントロール装置Ｃは、蒸着装置Ａ及び封
止装置Ｂを制御するものである。コントロール装置Ｃ
は、蒸着装置Ａの第１のブロックａの前処理室ａ１のプ
ラズマ処理に伴う制御、第１のブロックａの各蒸着室ａ
２，ａ３，ａ４，ａ５及び第２のブロックｂの各蒸着室
ｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５における蒸着温度調整，
成膜の膜厚調整、生産管理情報に応じて決定される搬送
ルートに伴う各搬送ロボットａ８，ｂ７，Ｂ６の駆動制
御、封止装置Ｂの封止室Ｂ１における封止処理等を行わ
せるものであり、蒸着装置Ａ及び封止装置Ｂにおける駆
動系全般の制御を行う制御手段である。

【００３１】ライン端末Ｄは、生産数量、有機ＥＬ素子
の形成パターンに基づく蒸着マスクの種類及びＵＶ照射
マスクの種類、透光性基板８及び封止基板２３の投入枚
数、蒸着装置Ａの各蒸着室ａ２，ａ３，ａ４，ａ５，ｂ
１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５における蒸着温度（各蒸着
室のルツボの温度），有機ＥＬ素子を構成する各層の膜
厚及び前記有機ＥＬパネルの発光層の種類等の蒸着に関
する生産条件等の生産管理情報を有機ＥＬパネルの機種
毎に設定するとともに、前記機種毎に前記生産管理情報
を記憶するもので、パーソナルコンピュータやシーケン
サ等によって構成されている。前記生産管理情報を設定
及び表示するものとして、例えばタッチパネルが備えら
れている。

【００３２】ライン端末Ｄは、コントロール装置Ｃと透
光性基板投入装置Ｅと封止基板投入装置Ｇと接着剤塗布
装置Ｆとにネットワーク接続され、コントロール装置Ｃ
には、機種及び前記機種に伴う各蒸着室の生産条件に関
するデータを転送し、透光性基板投入装置Ｅ，封止基板
投入装置Ｇ及び接着剤塗布装置Ｆには、機種及び生産数
量に関するデータが転送される。

【００３３】透光性基板投入装置Ｅは、ライン端末Ｄか
ら転送される前記生産管理情報に基づいて、透明電極及
び絶縁層が形成された透光性基板８を蒸着装置Ａに投入
するものであり、洗浄工程を終えた透光性基板８をコン
ベア等の搬送手段を介して徐々に真空雰囲気にするため
の複数のブロック（部屋）を有するとともに、蒸着装置
Ａの第１ブロックａにおける投入部ａ７に接続される。

【００３４】透光性基板投入装置Ｅは、投入される透光
性基板８が機種に伴う適正なる透光性基板であるか否か
を判定する誤投入判定機能を有している。前記誤投入判
定機能は、例えば所定の判定パターンが形成された透光
性基板８を用意し、この判定パターンをＣＣＤカメラを
用いて、２次元判定処理を行うことで、投入される透光
性基板が適正なる機種の透光性基板であるか否かを判定
し、誤投入である場合に透光性基板性入装置Ｅによる基
板投入動作を停止し、誤投入なる警報を発して製造ライ
ンの作業者に知らせるものである。

【００３５】封止基板投入装置Ｇは、ライン端末Ｄから
転送される前記生産管理情報に基づいて、洗浄工程後の
封止基板２３を接着剤塗布装置Ｆに投入するものであ
る。

【００３６】封止基板投入装置Ｇは、投入される封止基
板２３が機種に伴う適正なる封止基板２３であるか否か
を判定する誤投入判定機能を有している。前記誤投入判
定機能は、例えば所定の判定パターンが形成された封止
基板２３を用意し、この判定パターンを透過型のライン
センサを用いて、前記判定パターンのコード信号を判定
することで、投入される封止基板２３が適正なる機種の
封止基板２３であるか否かを判定し、誤投入である場合
に封止基板性入装置Ｇによる基板投入動作を停止し、誤
投入なる警報を発して製造ラインの作業者に知らせるも
のである。

【００３７】接着剤塗布装置Ｆは、ライン端末Ｄから転
送される前記生産管理情報に基づいて、封止基板２３に
ＵＶ硬化型接着剤を塗布する。接着剤塗布装置Ｆは、例
えばＸ−Ｙ−Ｚ方向に移動可能なロボットにディスペン
サが取り付けられてなるものである。接着剤塗布装置Ｆ
は、ライン端末Ｄから転送される機種データに基づい
て、適正なる塗布パターンを選定しこの塗布ターンによ
って前記接着剤を封止基板２３の透光性基板８との接合
面に塗布してなるものである。

【００３８】取出装置Ｈは、封止装置Ｂの排出部Ｂ４に
接続され、コンベア等の搬送手段によって封止工程後の
有機ＥＬパネルを取り出すものである。

【００３９】以上の各部によって有機ＥＬパネルの製造
装置が構成されている。

【００４０】次に、図２から図６を用いて、有機ＥＬパ
ネルの製造方法を説明する。

【００４１】まず、ライン端末Ｄにおいて、製造装置に
よって製造される流動予定である有機ＥＬパネルの生産
管理情報を設定する（ステップＳ１）。

【００４２】生産管理情報は、有機ＥＬパネルの形状や
発光パターン等によって分類される機種毎に設定される
ものである。ライン端末Ｄによって設定される生産管理
情報は、蒸着装置Ａの各蒸着室ａ２，ａ３，ａ４，ａ
５，ｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５における蒸着温度
（各蒸着室のルツボの温度），有機ＥＬ素子を構成する
各層の膜厚，前記有機ＥＬパネルの発光層の種類（材
料）等の蒸着に関する生産条件と、生産数量と、透光性
基板８及び封止基板２３の投入枚数等がある。ここで設
定される生産管理情報は、機種毎にライン端末Ｄが有す
るハードディスクやバックアップＲＡＭ等の記憶装置
（図示しない）に記憶されるとともに、次なる有機ＥＬ
パネルの製造において同機種の場合は、前記記憶装置か
ら前記機種に応じた生産管理情報が読み出されることに
なる。また、生産管理情報のバックアップ手段として
は、例えば書換型光磁気ディスク（ＭＯ）等が用いられ
る。

【００４３】前記生産管理情報の生産条件において、有
機ＥＬ素子を構成する各層の膜厚は、図３で示すように
各蒸着室のシャッター１３の開閉タイミングによって管
理される。また前記生産条件によって発光層の材料が選
定されると、蒸着装置Ａにおける第４，第５，第６蒸着
室ａ５，ｂ１，ｂ２の何れかの蒸着室が選択され、透光
性基板８の搬送ルートが決定される。尚、ここで説明す
る製造装置は、発光層を形成する工程が４工程（第３，
第４，第５，第６蒸着室ａ４，ａ５，ｂ１，ｂ２）用意
され、それぞれの発光層形成工程における発光層の種類
は異なる。また、発光層以外の各層については、蒸着温
度及び膜厚調整は可能であるが、発光層の種類が異なる
場合であっても各層を構成する材料は共通であるものと
する。

【００４４】次に、前記生産管理情報が設定されたライ
ン端末Ｄは、製造装置によって有機ＥＬパネルの製造を
開始させるべくスタート指令（スタートスイッチの入
力）が入力されると、コントロール装置Ｃに対し機種に
応じた段取り換え指令を出力するとともに、透光性基板
（支持基板）投入工程である透光性基板投入装置Ｅ，Ｕ
Ｖ接着剤塗布工程である接着剤塗布装置Ｆ及び封止基板
投入工程である封止基板投入装置Ｇに機種及び投入枚数
（生産数量）の機種切り換え指令を出力する。

【００４５】前記段取り換え指令を受けたコントロール
装置Ｃは、蒸着装置Ａにおける第１，第２のブロック
ａ，ｂの搬送ルートに位置する各蒸着室に配設されてい
る蒸着マスク１０を機種（例えば、０００１なる機種）
に応じた蒸着マスク１０に交換させるべく各搬送ロボッ
トａ８，ｂ７を動作させる（ステップＳ２）。蒸着装置
Ａの第１，第２のブロックａ，ｂの第１，第２蒸着マス
ク保管室ａ６，ｂ６に保管されている蒸着マスク１０
は、マスクホルダー１１に取り付けられた状態で保管さ
れている。よって各搬送ロボットａ８，ｂ７による蒸着
マスクの交換は、マスクホルダー１１を含んだ交換とな
る。

【００４６】更にコントロール装置Ｃは、封止装置Ｂに
おける封止室Ｂ１に配設されているＵＶ照射マスク２８
から前記機種（０００１）に応じたＵＶ照射マスク２８
に交換させるべく搬送ロボットＢ６を動作させる（ステ
ップＳ２）。封止装置ＢのＵＶ照射マスク保管室Ｂ２に
保管されているＵＶ照射マスク２８は、マスクホルダー
２７に取り付けられた状態で保管されている。よって各
搬送ロボットＢ６によるＵＶ照射マスクの交換は、マス
クホルダー２７を含んだ交換となる。

【００４７】尚、封止装置ＢにおけるＵＶ照射マスク２
８の交換にあっては、搬送ロボットＢ６による交換作業
が段取り換えの作業効率を向上させる上で効果的である
が、製造ラインにおける作業者による交換であっても良
い。この場合、封止装置Ｂに段取り換えであることを知
らせるための表示装置やランプ，ブザー等の報知手段を
用意し、前記報知手段を動作させることで作業者に対し
て段取り換えであることを認識可能とするとともに、Ｕ
Ｖ照射マスクを窒素雰囲気中にて保管し、同雰囲気中に
て作業者によるＵＶ照射マスク２８を交換することが可
能なチャンバー（マスク交換室）を封止室Ｂ１に連結可
能な状態とすることで生産効率を低下させることのない
段取り換えを行うことが可能となる。

【００４８】次に、ライン端末により前記機種切り換え
指令を受けた透光性基板投入装置Ｅ，接着剤塗布装置Ｆ
及び封止基板投入装置Ｇは、前記機種（０００１）に応
じた透光性基板８及び封止基板２３の供給を開始する
（ステップＳ３）。尚、透光性基板８には、スパッタリ
ング法によってＩＴＯを形成した後、前記機種に応じた
所定パターンになるようにパターンニング処理すること
で透明電極３０が形成され（図６（ａ））、次にスピン
コート等の手段によって絶縁部材を形成し、この絶縁部
材を前記所定パターンに沿うようにパターニング処理す
ることで絶縁層３１が形成される。透明電極３０及び絶
縁層３１は、本製造装置とは別工程によって予め形成さ
れる（図６（ｂ））。尚、図６で示される透光性基板８
は、複数の有機ＥＬパネルを得るためのマルチ取り基板
である。

【００４９】透光性基板投入装置Ｅ及び封止基板投入装
置Ｇでは、投入される透光性基板８及び封止基板２３が
前記機種（０００１）に伴う適正なる透光性基板８及び
封止基板２３であるか否かを判定する誤投入判定が行わ
れる（ステップＳ４）。前記誤投入判定によって、誤投
入である透光性基板８及び封止基板２３が検出された場
合は、透光性基板投入装置Ｅ及び封止基板投入装置Ｇを
停止し、透光性基板投入装置Ｅ及び封止基板投入装置Ｇ
に備えられるランプやブザー等の報知手段を動作させて
作業者に知らせる。尚、この判定は、各装置Ｅ，Ｇをそ
れぞれ制御するシーケンサやマイクロコンピュータ等の
制御手段によって判定される。

【００５０】次に、透光性基板投入装置Ｅにより投入さ
れる透光性基板８は、蒸着装置Ａの投入室ａ７に供給さ
れる。投入室ａ７は、複数に部屋にシャッター機構によ
って分割されるとともに、透光性基板投入装置Ｅ側は大
気となっているが、蒸着装置Ａ側に向かう各部屋毎に高
真空が確保されることになる。尚、投入室ａの各部屋間
の搬送は、コンベア等の搬送手段が用いられている。

【００５１】次に、透光性基板８は、搬送ロボットａ８
によってプラズマ処理工程である前処理室ａ１に搬送さ
れる（ステップＳ５）。

【００５２】次に、透光性基板８は、前記プラズマ処理
工程終了後に、搬送ロボットａ８によって前処理室ａ１
から正孔注入層形成工程である第１蒸着室ａ２に搬送さ
れ、透光性基板８に形成される透明電極３０上に、前記
機種（０００１）に対応して配設される蒸着マスク１０
の所定のパターンに応じた正孔注入層が形成される（ス
テップＳ６）。

【００５３】次に、透光性基板８は、前記正孔注入層形
成工程終了後に、搬送ロボットａ８によって第１蒸着室
ａ２から正孔輸送層形成工程である第２蒸着室ａ３に搬
送され、前記正孔注入層上に、前記機種（０００１）に
対応して配設される蒸着マスク１０の所定のパターンに
応じた正孔輸送層が形成される（ステップＳ７）。

【００５４】次に、透光性基板８は、前記正孔輸送層形
成工程終了後に、搬送ロボットａ８によって第２蒸着室
ａ３から前記搬送ルートに沿った発光層の蒸着室である
第３，第４，第５，第６蒸着室ａ４，ａ５，ｂ１，ｂ２
の何れかの蒸着室に搬送され、前記正孔注入層上に、前
記機種（０００１）に対応して配設される蒸着マスク１
０の所定のパターンに応じた発光層が形成される（ステ
ップＳ８）。

【００５５】尚、第３，第４蒸着室ａ４，ａ５の発光層
形成工程において、透光性基板８の搬送は、蒸着装置Ａ
の第１のブロックａ内における搬送ロボットａ８によっ
て、前記正孔注入層形成工程である第２蒸着室ａ３から
第４蒸着室ａ４もしくは第５蒸着室ａ５の搬送となる
が、第５，第６蒸着室ｂ１，ｂ２の発光層形成工程にお
いて、透光性基板８は、蒸着装置Ａの第１のブロックａ
内における搬送ロボットａ８によって正孔注入層形成工
程である第２蒸着室ａ３から第１受渡室Ｊへ搬送され、
第１受渡室Ｊによって蒸着装置Ａの第２のブロックｂに
移し替えられ、第２のブロックｂによる搬送ロボットｂ
７によって、第５，第６蒸着室ｂ１，ｂ２の何れかの蒸
着室に搬送されることになる。

【００５６】次に、透光性基板８は、前記発光層形成工
程終了後に、搬送ロボットａ８によって第３，第４蒸着
室ａ４，ａ５の何れかの蒸着室、もしくは搬送ロボット
ｂ７によって第５，第６蒸着室ｂ１，ｂ２の何れかの蒸
着室から電子輸送層形成工程である第７蒸着室ｂ３に搬
送され、前記発光層上に、前記機種（０００１）に対応
して配設される蒸着マスク１０の所定のパターンに応じ
た電子輸送層が形成され、（ステップＳ９）、透明電極
３０上に正孔注入層，正孔輸送層，発光層及び電子輸送
層が順次積層形成された有機層３２が得られることにな
る（図６（ｃ））。

【００５７】次に、透光性基板８は、前記電子輸送層形
成工程終了後に、搬送ロボットｂ７によって第７蒸着室
ｂ３から電子注入層形成工程である第８蒸着室ｂ４に搬
送され、有機層３２上に、前記機種（０００１）に対応
して配設される蒸着マスク１０の所定のパターンに応じ
た電子注入層が形成される（ステップＳ１０）。

【００５８】次に、透光性基板８は、前記電子注入層形
成工程終了後に、搬送ロボットｂ７によって第８蒸着室
ｂ４から背面電極形成工程である第９蒸着室ｂ５に搬送
され、前記電子注入層上に、前記機種（０００１）に対
応して配設される蒸着マスク１０の所定のパターンに応
じた背面電極３３が形成される（ステップＳ１１）。従
って、透明電極３０上に、正孔注入層，正孔輸送層，発
光層及び電子輸送層を順次積層形成して有機層３２を得
た後、電子注入層及び背面電極３３を形成することで有
機ＥＬ素子３４を複数有するマルチ取りに対応する透光
性基板８が得られることになる（図６（ｄ））。

【００５９】次に、透光性基板８は、前記背面電極形成
工程終了後に、搬送ロボットｂ７によって第２受渡室Ｋ
に搬送され、第２受渡室Ｋによって封止装置Ｂに移し替
えられ、封止装置ｂの搬送ロボットＢ６によって、封止
室Ｂ１に搬送されるとともに、封止室Ｂ１の保持機構２
９に配設される。尚、基板ホルダ９を保持機構２９に配
設することで透光性基板８が保持機構２９に固定される
ことになる。

【００６０】一方、ステップＳ４を経て封止基板投入装
置Ｇから供給される前記機種（０００１）に対応した適
正なる封止基板２３は、ＵＶ接着剤塗布工程である接着
剤塗布装置Ｆに供給される。ここで供給される封止基板
２３は、成型，サンドブラスト及びエッチング処理等の
適宜方法によって得られるもので、有機ＥＬ素子３４を
収納するための凹部形状の収納部３５を複数有し、ガラ
ス基板と接合するため各収納部３５の全周を取り巻くよ
うに接合部３６が形成されている（図６（ｅ））。

【００６１】封止基板２３は、ＵＶ接着剤塗布工程であ
る接着剤塗布装置Ｆによって接合部３６にＵＶ硬化型接
着剤３７が塗布されることになる（ステップＳ１２，図
６（ｅ））。

【００６２】封止基板２３は、前記ＵＶ接着剤塗布工程
終了後に、吸着剤塗布工程である吸着剤塗布室Ｂ５にコ
ンベア等の搬送手段によって搬送され、吸着剤塗布室Ｂ
５に配設されるＸ−Ｙ−Ｚ方向に移動可能な塗布装置に
よって封止部材２３の収納部３５の底面に吸着材３８が
塗布される（ステップＳ１３，図６（ｅ））。接着剤塗
布装置Ｆと吸着剤塗布室Ｂ５との間には、封止基板２３
に吸着剤３８を塗布する環境を窒素雰囲気とするため、
真空引きされ、かつ窒素が導入される置換室が設けら
れ、前記吸着剤塗布工程は窒素雰囲気中に設けられるこ
とになる。

【００６３】封止基板２３は、前記吸着剤塗布工程終了
後に、封止装置Ｂの投入室Ｂ３に供給される。投入室Ｂ
３は、シャッター機構によって複数の部屋に分割されて
おり、各部屋は封止装置Ｂ側に向かうに連れて酸素濃度
が１００ｐｐｍ以下及び露点が−７０℃以下の窒素雰囲
気になるように構成されており、封止基板２３は、コン
ベア等の搬送手段によって吸着材塗布室Ｂ５から封止装
置Ｂ内へと搬送される。

【００６４】封止基板２３は、吸着剤塗布工程終了後
に、吸着剤塗布室Ｂ５から搬送ロボットＢ６によって、
封止工程である封止室Ｂ１に搬送され、封止室Ｂ１の上
昇機構２５における載置台２４上に搬送される。

【００６５】封止工程である封止室Ｂ１は、透光性基板
８が保持機構２９に配設され、かつ封止基板２３が載置
台２４に配設されている場合に、封止基板２３が透光性
基板８に対して所定の圧力を付与するように封止基板２
３が配設された載置台２４を上昇機構２５によって上昇
させて両部材を当接させ、その状態にてＵＶ照射装置２
６を動作させて紫外線をＵＶ照射マスク２８を介してＵ
Ｖ接着剤３７が塗布されている接合部３６に所定時間照
射することで、両部材を気密的に接合させる。そして、
上昇機構２５を下降させることで封止工程が終了する
（ステップＳ１４，図６（ｆ））。

【００６６】前記封止工程終了後、透光性基板８と封止
基板２３とを接合することで得られた有機ＥＬパネル３
９を、封止室Ｂ１から排出部Ｂ４に搬送し、排出部Ｂ４
に連結されている取出装置Ｈによって有機ＥＬパネル３
９を取り出すことで、一連の製造工程が終了する（ステ
ップＳ１５）。

【００６７】また、前述の製造装置において、蒸着装置
Ａにおける透光性基板８の投入口である投入室ａ７に透
光性基板８の投入枚数をカウントするための透過型セン
サや反射型センサ等からなるカウント手段が設けられて
いる。ライン端末Ｄは、前記カウント手段を介して透光
性基板８の投入数量をカウントすることで以下の制御を
行う。

【００６８】ライン端末Ｄは、前記カウント手段を介し
て透光性基板８の投入数量をカウントし、前記投入数量
が、予め定められた前記生産数量に達した時点もしくは
前記生産数量から所定数量少ない目標数量に達した際
に、次なる機種（例えば、０００２）の搬送ルートに伴
う発光層形成工程となる第３，第４，第５，第６の蒸着
室ａ３，ａ４，ｂ１，ｂ２の何れかの蒸着室に対し加熱
を開始させるべく、コントロール装置Ｃに指示指令を出
力する。コントロール装置Ｃは、前記指示指令を入力す
ると、次なる機種（０００２）に応じた発光層形成工程
である蒸着室の過熱コイル５の通電を開始し、次なる機
種に適する生産条件が得られるように制御を開始する。

【００６９】また、ライン端末Ｄは、前記カウント手段
を介して透光性基板８の投入数量をカウントし、現生産
機種（０００１）の生産数量の終了を確認すると、前記
現生産機種（０００１）が蒸着装置Ａ内に存在する場合
であっても、次なる機種（０００２）の透光性基板８を
蒸着装置Ａ内に投入するための指令信号をコントロール
装置Ｃに出力する。

【００７０】即ち、ライン端末Ｄにおける前記処理は、
現生産機種（０００１）から次なる機種（０００２）を
製造装置に流動させる場合において、現生産機種が製造
装置内の蒸着室や封止室に存在する場合であっても、現
生産機種（０００１）が終了している工程の蒸着室が次
なる機種（０００２）に応じた蒸着マスク１０に交換さ
れることであり、次なる機種（０００２）に対する蒸着
室の事前準備処理である。

【００７１】また、ライン端末Ｄは、製造装置における
異常状態を表示することが可能である。即ちライン端末
Ｄは、蒸着装置Ａ，封止装置Ｂ，透光性基板投入装置
Ｅ，接着剤塗布装置Ｆ及び封止基板投入装置Ｇとネット
ワーク接続されているため、透光性基板投入装置Ｅでの
誤投入判定や封止基板投入装置Ｇでの誤投入判定におい
て、誤投入の発生状態を表示手段によって表示させるこ
とができる。

【００７２】また、ライン端末Ｄは、蒸着装置Ａや封止
装置Ｂとコントロール装置Ｃを介して接続されているた
め、各蒸着室の蒸着温度，膜厚及び炉の真空状態等の蒸
着状態や室内の窒素濃度や酸素濃度等の封止状態に関す
る生産条件をコントロール装置Ｃを介して入力し、これ
らの生産条件を記憶することが可能である。よって、機
種毎に投入される透光性基板８単位で生産条件を記憶
し、前記生産条件の履歴を表示手段によって表示可能と
したり、あるいは前記生産条件の履歴を印刷すること
で、有機ＥＬパネル３９のロット管理を可能とする。

【００７３】かかる有機ＥＬパネル３９の製造方法は、
複数の蒸着室ａ２，ａ３，ａ４，ａ５，ｂ１，ｂ２，ｂ
３，ｂ４，ｂ５を有する蒸着装置Ａに透光性基板８を投
入し、透光性基板８上に少なくとも発光層を含む有機層
３２を一対の電極により狭持してなる有機ＥＬ素子３４
を形成する蒸着工程（蒸着装置Ａ）を含む有機ＥＬパネ
ル３９の製造方法に関し、前記各蒸着室の生産条件及び
生産数量を少なくとも含む生産管理情報を有機ＥＬパネ
ル３９の機種毎に設定するライン端末Ｄと、有機ＥＬパ
ネル３９の前記機種に応じた複数の蒸着マスク１０を真
空雰囲気中に保管する第１，第２蒸着マスク保管室ａ
６，ｂ６とを備え、ライン端末Ｄの前記生産管理情報に
基づいて、蒸着工程内の各蒸着室ａ２，ａ３，ａ４，ａ
５，ｂ１，ｂ２，ｂ３，ｂ４，ｂ５に装着されている蒸
着マスク１０から第１，第２蒸着マスク保管室ａ６，ｂ
６に保管されている前記機種に応じた蒸着マスク１０に
搬送ロボットａ８，ｂ７を用いて交換させることから、
従来のように機種切り換え時において各蒸着室を大気に
開放して蒸着マスクを交換するといった人手による作業
がなくなることから、多機種を流動させる場合であって
も段取り換えに時間を要せず、有機ＥＬパネル３９の生
産性を向上させることが可能となる。

【００７４】また、前記蒸着工程には、ライン端末Ｄに
よって複数の前記生産管理情報を記憶することから、製
造装置内への多機種流動を可能とするとともに、日，
週，月等の単位で生産計画を容易に設定することが可能
となる。

【００７５】また、前記蒸着工程は、ライン端末Ｄによ
って透光性基板８の投入口に設けられるカウント手段を
介して透光性基板８の投入数量をカウントするととも
に、前記投入数量が、予め定められた前記生産数量に達
した時点もしくは前記生産数量から所定数量少ない目標
数量に達した際に、次なる機種の搬送ルートに伴う蒸着
室（前述した製造装置においては発光層形成工程である
複数の蒸着室の何れか）の加熱を開始させるものであ
り、蒸着条件に適する加熱温度に達するに時間を要する
蒸着室に対し早めな段取り換え処理（加熱処理）を行う
ことで、有機ＥＬパネル３９の生産性を向上させること
が可能となる。

【００７６】また、前記蒸着工程は、ライン端末Ｄによ
って前記カウント手段を介して透光性基板の投入数量を
カウントし、現生産機種の生産数量の終了を確認する
と、現生産機種における蒸着が終了している蒸着室にお
いて、蒸着マスク１０の交換が搬送ロボットａ８，ｂ７
によってなされ、前記現生産機種が前記蒸着工程内に存
在する場合であっても、次なる機種の透光性基板８を前
記蒸着工程に投入するものであり、前記蒸着工程から現
生産機種を流し切らなくとも次なる機種を前記蒸着工程
に投入できることから、多機種少量生産にも対応するこ
とが可能な製造工程（製造装置）を得ることが可能とな
る。

【００７７】また、前記蒸着工程は、ライン端末Ｄによ
って機種毎の生産条件の履歴を記憶できることから、有
機ＥＬパネル３９のロット管理を可能とし、不具合発生
の際の原因追及に役立つものとなる。

【００７８】また、封止工程は、機種に応じた複数の紫
外線照射マスク２８を窒素雰囲気中に保管するＵＶ照射
マスク保管室Ｂ２を備えていることから、機種切り換え
時において封止室Ｂ１を大気に開放してＵＶ照射マスク
Ｂ２を交換するといった作業がなくなることから、酸素
濃度が所定値以下の窒素雰囲気を確保するといった時間
を要する段取り換えを不要とすることから、有機ＥＬパ
ネル３９の生産性を向上させることが可能となる。

【００７９】また、封止工程は、ライン端末Ｄの生産管
理情報に基づいて、封止室Ｂ１に装着されているＵＶ照
射マスク２８からＵＶ照射マスク保管室Ｂ２に保管され
ている機種に応じたＵＶ照射マスク２８に搬送ロボット
Ｂ６を用いて交換させてることから、人手による交換作
業を廃止できることから、製造工程を簡素化することが
できる。

【００８０】また、透光性基板供給工程（透光性基板投
入装置Ｅ）は、投入される透光性基板８が機種に応じた
適正なる透光性基板８であるか否かを判定することによ
り、透光性基板８における誤投入による誤組を防止する
とともに、誤組による透光性基板８の破損を防止するこ
とができる。

【００８１】また、封止基板供給工程（封止基板供給装
置Ｇ）は、投入される封止基板２３が機種に応じた適正
なる封止基板２３であるか否かを判定することにより、
封止基板２３における誤投入による誤組を防止するとと
もに、誤組による封止基板２３の破損を防止することが
できる。

【００８２】尚、本発明の実施の形態では、蒸着装置Ａ
における各蒸着室に配設される蒸着マスク１０がマスク
ホルダー１１によって配設されるものであるが、マスク
ホルダー１１に配設される蒸着マスク１０に弛みが発生
しないように、蒸着マスク１０が張り状態を調整するこ
とが可能な調整機構をマスクホルダー１１に備えるよう
にすることで、良好な蒸着膜を得ることが可能となる。

【００８３】また、本発明の実施の形態では、透光性基
板８側から表示光を発する有機ＥＬパネルの製造装置を
例に挙げて説明したが、封止基板２３側から表示光を発
するタイプ（トップエミッション型）の有機ＥＬパネル
の製造装置に本発明を適用しても良い。

【００８４】

【発明の効果】本発明は、少なくとも一方が透光性の一
対の電極により挟持され所定の発光をなす有機ＥＬ素子
を備えた有機ＥＬパネルを得るための製造方法に関し、
多機種を流動させる場合であっても段取り換えに時間を
要せず、有機ＥＬパネルの生産性を向上させることが可
能な製造方法を得ることができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の実施の形態における有機ＥＬパネルの
製造装置を示すブロック図。

【図２】同上実施の形態の有機ＥＬパネルの製造装置を
示す図。

【図３】同上実施の形態の蒸着装置における蒸着室を説
明する図。

【図４】同上実施の形態の封止装置における封止室を説
明する図。

【図５】同上実施の形態の有機ＥＬパネルの製造工程を
説明する図。

【図６】同上実施の形態の有機ＥＬパネルを説明する
図。

【符号の説明】

Ａ蒸着装置ａ２〜ａ５，ｂ１〜ｂ５蒸着室ａ６，ｂ６第１，第３蒸着マスク保管室（第１のスト
ック部）ａ８，ｂ７搬送ロボット（交換装置）Ｂ封止装置Ｂ２ＵＶ照射マスク保管室（第２のストック部）Ｂ６搬送ロボット（交換装置）Ｃコントロール装置Ｄライン端末Ｅ透光性基板供給装置Ｆ接着剤塗布装置Ｇ封止基板供給装置８透光性基板（支持基板）２３封止基板３０透明電極３２有機層３３背面電極３４有機ＥＬ素子３７ＵＶ硬化型接着剤３９有機ＥＬパネル

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者小林成康新潟県長岡市東蔵王２丁目２番34号日本精機株式会社内 (72)発明者藤井克昌新潟県長岡市東蔵王２丁目２番34号日本精機株式会社内 (72)発明者坂井一則新潟県長岡市藤橋１丁目190番地１日本精機株式会社アールアンドデイセンター内 (72)発明者小林郁夫新潟県長岡市藤橋１丁目190番地１日本精機株式会社アールアンドデイセンター内Ｆターム(参考） 3K007 AB18 DA01 DB03 EB00 FA01 FA02 4K029 BC07 BD00 CA01 DB14 HA01 5G435 AA17 BB05 KK05 KK10

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】複数の着炉を有する蒸着装置に支持基板
を投入し、前記支持基板上に少なくとも発光層を含む有
機層を一対の電極により狭持してなる有機ＥＬ素子を形
成する蒸着工程を含む有機ＥＬパネルの製造方法であっ
て、前記各蒸着室の生産条件及び生産数量を少なくとも含む
生産管理情報を前記有機ＥＬパネルの機種毎に設定する
ライン端末と、前記機種に応じた複数の蒸着マスクを真
空雰囲気中に保管する第１のストック部とを備え、前記
生産管理情報に基づいて、前記蒸着工程内の前記蒸着室
に装着されている蒸着マスクから前記第１のストック部
に保管されている前記機種に応じた蒸着マスクに交換装
置を用いて交換することを特徴とする有機ＥＬパネルの
製造方法。
【請求項２】前記蒸着工程は、前記ライン端末によっ
て複数の前記生産管理情報を記憶してなることを特徴と
する請求項１に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項３】前記蒸着工程は、前記ライン端末によっ
て前記支持基板の投入口に設けられるカウント手段を介
して前記支持基板の投入数量をカウントするとともに、
前記投入数量が、予め定められた前記生産数量に達した
時点もしくは前記生産数量から所定数量少ない目標数量
に達した際に、次なる機種の搬送ルートに伴う前記蒸着
室の加熱を開始させることを特徴とする請求項１もしく
は請求項２に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項４】前記蒸着工程は、前記ライン端末によっ
て前記カウント手段を介して前記支持基板の投入数量を
カウントするとともに、現生産機種の前記生産数量の終
了を確認すると、前記現生産機種が前記蒸着工程内に存
在する場合であっても、次なる機種の支持基板を前記蒸
着工程に投入することを特徴とする請求項３に記載の有
機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項５】前記蒸着工程は、前記ライン端末によっ
て前記機種毎の生産条件の履歴を記憶してなることを特
徴とする請求項１から請求項４の何れかに記載の有機Ｅ
Ｌ素子の製造方法。
【請求項６】前記有機ＥＬ素子を気密的に覆うための
封止基板と前記支持基板とを紫外線硬化型接着剤を介し
接合するための封止装置を備えた封止工程を含み、前記
封止工程は、前記機種データに応じた複数の紫外線照射
マスクを窒素雰囲気中に保管する第２のストック部を備
えてなることを特徴とする請求項１に記載の有機ＥＬパ
ネルの製造方法。
【請求項７】前記封止工程は、前記ライン端末の前記
生産管理情報に基づいて、前記封止装置に装着されてい
る紫外線照射マスクから前記第２のストック部に保管さ
れている前記機種に応じた紫外線照射マスクに交換装置
を用いて交換することを特徴とする請求項６に記載の有
機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項８】前記支持基板を前記蒸着工程に投入する
支持基板供給工程を含み、前記支持基板供給工程は、投
入される支持基板が前記機種に応じた適正なる支持基板
であるか否かを判定することを特徴とする請求項１から
請求項５の何れかに記載の有機ＥＬパネルの製造方法。
【請求項９】前記封止基板を前記封止工程に投入する
封止基板供給工程を含み、前記封止基板供給工程は、投
入される封止基板が前記機種に応じた適正なる封止基板
であるか否かを判定することを特徴とする請求項６もし
くは請求項７に記載の有機ＥＬパネルの製造方法。