JP2003025794A - 転写用薄膜複合体及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 濡れ性及び剥離性に優れ、剥離層の形成が簡
単で、画像形成剤（トナー）の形成性にすぐれた転写シ
ートに用いられる転写用薄膜複合体及びその製造方法の
提供。 【解決手段】 表面に凹凸又は微孔を有する基材（Ａ）
の少なくとも最上面に、オリゴマー又は高分子物質
（Ｂ）からなる被覆薄膜を形成してなる転写用薄膜複合
体であって、該基材（Ａ）は、ポリオレフィン系フィル
ムであり、さらに、該オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）
は、沸点が１００℃以上で、かつ表面張力が３０ｄｙｎ
ｅ／ｃｍ未満であることを特徴とする転写用薄膜複合
体、およびその製造方法にて提供。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、転写用薄膜複合体
及びその製造方法に関し、更に詳しくは、布、紙、木、
プラスチック、ガラス、陶磁器等の表面に文字、模様、
絵、写真等を転写するため、あるいは、燃料電池の電解
質膜の表面に白金担持カーボン等の触媒電極を転写する
ために用いられる転写用薄膜複合体及びその製造方法に
関する。

【０００２】

【従来の技術】従来、壁紙用生地、衣料用生地、バッグ
用生地等のプリント、ポスター、看板、ショーウインド
ー等の紙、プラスチックフィルム、ガラス板、金属版等
へのプリント装飾する方法として、スクリーン印刷、グ
ラビア印刷等の印刷で行われていた。しかし、これらの
方法では、多数の高価な印刷原盤・ドラムを用意しなけ
ればならず、その上、これの作製に時間がかかるばかり
でなく、納期に迅速に対応できなく、また写真調な模様
・柄となると版合わせや、色合わせが困難であり、熟練
技術者が必要であり、しかも画質の点でも、被印刷物の
表面が平坦でなければならず、表面に凹凸のある布、キ
ャンバス、不織布、和紙等では原稿の再現性は困難であ
り、印刷インキの溶剤が作業環境内に揮発し、これの排
除に費用がかかり、大量にプリント物を生産しないとコ
スト高となるので、小ロットのプリント物を安く早く生
産する方式としては、適さない方式である。

【０００３】一方、近年の電子複写手段の発展に伴い、
画像形成装置により形成された文字、模様、絵、写真等
のトナー画像、または彩色材料で手描きされた画像等を
転写対象物表面に転写することができる転写シート（転
写紙、転写材、転写基材、転写プロセス材等と呼称され
ることもある。）が実用化され、需要が拡大しつつあ
る。その理由は、転写シートの文字、模様、絵、写真等
のトナー画像、または彩色材料で手描きされた画像等
は、近年発達した（カラー）複写機や、手描きで簡単な
操作、小ロット、短時間に形成することができるからで
ある。例えば、オーダーメードのＴシャツやトレーナ
ー、エプロン、ジャンバー、テーブルクロス、自動車、
オートバイ等の車体、コップ、皿、ステンドグラス、ポ
スター、複写絵画のような個人向けの小ロットの製品の
製造には適しているからである。かかる転写シートは、
転写対象物の物性、使用環境、製造数量等の相違、転写
作業性、転写シートの製造コスト、廃棄材の発生の有無
等を考慮し、各種のタイプのものがあるが、湿式転写タ
イプと乾式転写タイプに大別される。

【０００４】湿式転写タイプとしては、水透過性の台紙
の表面に水溶性樹脂を主体とする剥離層、転写対象物表
面に接着性を有する接着剤層、画像が形成される画像保
持層が順次積層されている。このような転写シートの画
像保持層を、転写対象物表面に転写するには、転写シー
トを水中に浸漬し、水溶性樹脂を主体とする剥離層を溶
解させることで画像保持層／接着剤層を台紙から剥離可
能とし、台紙からスライド剥離させた画像保持層／接着
剤層をガラス、プラスチック等の転写対象物表面に貼り
つけ、乾燥して転写画像を形成させるものである。湿式
転写タイプは、乾式転写タイプにくらべ、加熱、加圧処
理のために特別な装置を必要とせず、ガラス、プラスチ
ック等の加熱、加圧による変形や破壊を起こす基材にも
問題なく転写でき、任意の曲面形状のものにも簡単に転
写できるが、水中に浸漬後、画像保持層／接着剤層膜を
スライド剥離させて、転写対象物表面に仮置きした場
合、接着剤層は常温で接着性を有するために、すぐに部
分的に接着してしまい、位置の修正が困難であったり、
シワが入った場合、シワを取り除くことが困難であると
いう問題点もある。

【０００５】乾式転写タイプとしては、紙、プラスチッ
ク等のシート上に、シリコーン系樹脂又はフッ素系樹脂
からなる剥離層を形成し、その上に、メタアクリル酸メ
チル−ｎ−ブチル共重合体、ポリ酢酸ビニルエマルジョ
ン、ポリ塩化ビニル系ラテックス、塩化ビニル−アクリ
レート系ラテックス等から選択された低温溶融性接着剤
層を形成し、更にその上に、画像が形成される画像保持
層が順次積層されている。また、上記転写シートにおい
て、先に画像保持層を形成し、その上に接着剤層を形成
させたタイプもある。このような転写シートの画像保持
層を、転写対象物表面に転写するには、転写シートの剥
離層から画像保持層／接着剤層を引剥がすことにより台
紙から剥離可能とし、台紙からスライド剥離させた画像
保持層／接着剤層をガラス、プラスチック等の転写対象
物表面に貼りつけ、転写画像を形成させるものである。
転写対象物表面に画像を転写する場合も、画像保持層／
接着剤層膜をスライド剥離させて、転写対象物表面に仮
置きした場合、接着剤層は常温で接着性を有するため
に、すぐに部分的に接着してしまい、位置の修正が困難
であったり、シワが入った場合、シワを取り除くことが
困難であるという問題点もある。

【０００６】上記した湿式タイプ及び乾式タイプの転写
シートは、台紙やプラスチックシートの上に剥離層を形
成しなければならず、また画像保持層／接着剤層を形成
しなければならず、製造コストがかかり、転写作業も熟
練を要する。また、画像保持層は、通常、エチレン−酢
酸ビニル共重合体、ポリウレタン、ポリアミド、ポリエ
ステル、ポリオレフィン等の高分子重合体が使用されて
いるが、電子複写手段による画像形成装置からのトナー
との接着性が、十分ではなく、この原因は、画像保持層
のトナーとの濡れ性が不十分なものと推定される。

【０００７】また、本発明の他の目的である、燃料電池
の電解質膜の表面に白金担持カーボン等の触媒電極を形
成する方法については、これまでの従来技術は以下のよ
うな状況である。燃料電池では、アノードでは、水素ガ
スを水素イオン（プロトン）と電子にする反応がおこ
り、カソードでは、酸素ガスと水素イオンおよび電子か
ら水を生成する反応する。アノードで発生した水素イオ
ンは、水和状態となって電解質膜（パーフルオロアルキ
レンを主骨格とし、一部にパーフルオロビニルエーテル
側鎖の末端にスルホン酸基、カルボン酸基等のイオン交
換基を有するフッ素樹脂系膜である。デュポン社のＮａ
ｆｉｏｎ膜、ダウ社のＤｏｗ膜、旭化成（株）のＡｃｉ
ｐｌｅｘ膜、旭硝子（株）のＦｌｅｍｉｏｎ膜等が知ら
れている。）の中をカソードに移動する。電解質膜の表
面にはアノード、カソードと、他に白金担持カーボン等
の触媒電極が形成される。その方法として、触媒粒子と
ＰＴＦＥの分散液を混合しシート状に形成後、電解質と
接着する方法や、触媒と膜溶液の混合液を電解質膜に塗
布する方法や、ＰＴＦＥなどの転写用シートに触媒と膜
溶液の混合液を塗布した後に電解質膜に転写する方法な
ど様々な方法がある。しかし、電極反応面積の効果的な
増加とともに、反応ガス供給、生成水の逸散などの物質
移動が容易な電解質構造、白金利用率向上等を考慮する
と必ずしも十分ではなく、量産化が好ましいと思われる
方法においても良好な転写シートはなかった。

【０００８】

【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、上記
のような従来技術の問題点に鑑み、濡れ性及び剥離性に
優れ、剥離層の形成が簡単で、画像形成剤（トナー）或
いは燃料電池用の電極触媒の形成性にすぐれた転写シー
トに用いられる転写用薄膜複合体及びその製造方法を提
供することにある。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を解決するために鋭意研究を重ねた結果、表面に凹凸又
は微孔を有する基材の少なくとも最上面に、オリゴマー
又は高分子物質からなる被覆薄膜を形成してなる転写用
薄膜複合体において、基材としてポリオレフィン系フィ
ルムを、さらに被覆薄膜を形成するオリゴマー又は高分
子物質として沸点が１００℃以上で、かつ表面張力が３
０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満である特定の材料を選定すると、
所望とする転写用薄膜複合体が得られることを見出し、
本発明を完成するに至ったものである。

【００１０】すなわち、本発明の第１の発明によれば、
表面に凹凸又は微孔を有する基材（Ａ）の少なくとも最
上面に、オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）からなる被覆
薄膜を形成してなる転写用薄膜複合体であって、該基材
（Ａ）は、ポリオレフィン系フィルムであり、さらに、
該オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）は、沸点が１００℃
以上で、かつ表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満である
ことを特徴とする転写用薄膜複合体が提供される。

【００１１】また、本発明の第２の発明によれば、第１
の発明において、転写用薄膜複合体は、基材（Ａ）に対
して、重量比で３倍未満、厚さ比で２倍未満であること
を特徴とする転写用薄膜複合体が提供される。

【００１２】また、本発明の第３の発明によれば、第２
の発明において、転写用薄膜複合体は、基材（Ａ）に対
して、重量比で２倍未満、厚さ比で１．５倍未満である
ことを特徴とする転写用薄膜複合体が提供される。

【００１３】また、本発明の第４の発明によれば、第１
の発明において、基材（Ａ）は、ポリエチレン微細孔膜
であることを特徴とする転写用薄膜複合体が提供され
る。

【００１４】また、本発明の第５の発明によれば、第１
の発明において、オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）は、
ポリテトラフルオロエチレン、ポリジメチルシロキサ
ン、ポリフルオロビニリデン、又はこれらの共重合体、
及びこれらのプレポリマー又はオリゴマーからなる群か
ら選ばれる少なくとも１種であることを特徴とする転写
用薄膜複合体が提供される。

【００１５】また、本発明の第６の発明によれば、表面
に凹凸又は微孔を有するポリオレフィン系基材（Ａ）の
少なくとも最上面に、沸点が１００℃以上でかつ表面張
力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であるオリゴマー又は高分
子物質（Ｂ）を溶融状態又は溶液状態で塗布させ、該オ
リゴマー又は高分子物質（Ｂ）からなる被覆薄膜を形成
させることを特徴とする第１〜５の発明のいずれかに係
る転写用薄膜複合体の製造方法が提供される。

【００１６】また、本発明の第７の発明によれば、表面
に凹凸又は微孔を有するポリオレフィン系基材（Ａ）の
少なくとも最上面に、沸点が１００℃以上でかつ表面張
力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であるオリゴマー又は高分
子物質（Ｂ）を溶融状態又は溶液状態で浸漬させ、該オ
リゴマー又は高分子物質（Ｂ）からなる被覆薄膜を形成
させることを特徴とする第１〜５の発明のいずれかに係
る転写用薄膜複合体の製造方法が提供される。

【００１７】本発明は、上記した如く、本発明の転写用
薄膜複合体及びその製造方法に係るものであるが、その
好ましい態様としては、次のものが包含される。 （１）本発明の第１の発明において、表面に凹凸又は微
孔を有する基材（Ａ）がポリオレフィン微多孔膜である
転写用薄膜複合体。 （２）上記（１）において、ポリオレフィン微多孔膜に
用いられるポリオレフィンが、重量平均分子量１×１０
^６〜１５×１０^６であることを特徴とする転写用薄膜複
合体。 （３）上記（１）において、ポリオレフィン微多孔膜に
用いられるポリオレフィン又はポリオレフィン樹脂組成
物の重量平均分子量／数平均分子量（以下、「Ｍｗ／Ｍ
ｎ」という。）が、５〜３００であることを特徴とする
転写用薄膜複合体。 （４）上記（１）において、ポリオレフィン微多孔膜に
用いられるポリオレフィン又はポリオレフィン樹脂組成
物に使用されるポリオレフィンが、ポリプロピレン又は
ポリエチレンであることを特徴とする転写用薄膜複合
体。 （５）上記（２）において、ポリオレフィン微多孔膜に
用いられるポリオレフィンが、重量平均分子量５０万以
上のポリオレフィンを含有するポリオレフィン樹脂組成
物であることを特徴とする転写用薄膜複合体。 （６）上記（５）において、ポリオレフィン微多孔膜に
用いられる重量平均分子量５０万以上のポリオレフィン
を含有するポリオレフィン樹脂組成物が、重量平均分子
量５０万以上の超高分子ポリエチレンと重量平均分子量
１万以上５０万未満の高密度ポリエチレンからなる樹脂
組成物であることを特徴とする転写用薄膜複合体。

【００１８】（７）上記（５）において、ポリオレフィ
ン微多孔膜に用いられる重量平均分子量５０万以上のポ
リオレフィンを含有するポリオレフィン樹脂組成物が、
重量平均分子量５０万以上の超高分子ポリエチレンと重
量平均分子量１万以上５０万未満の高密度ポリエチレン
とシャットダウン機能を付与するポリオレフィンとから
なり、該シャットダウン機能を付与するポリオレフィン
が、低密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、分
子量１０００〜４０００の低分子量ポリエチレン又はシ
ングルサイト触媒を用いて製造されたエチレン−α−オ
レフィン共重合体の中から少なくとも一つ選ばれたもの
であることを特徴とする転写用薄膜複合体。 （８）透気度≦８００秒／１００ｃｃである前記ポリオ
レフィン微多孔膜に用いた前記転写用薄膜複合体。 （９）引張強度≧１００ＭＰａ（約１１００Ｋｇ／ｃｍ
^２）、突刺強度≧５５００ｍＮ／２５μｍ（今までの６
００ｇ／２５μｍ）である前記ポリオレフィン微多孔膜
に用いた前記転写用薄膜複合体。 （１０）（Ｂ）として使用される高分子がポリテトラフ
ルオロエチレン、ポリジメチルシロキサン、ポリフルオ
ロビニリデンである前記転写用薄膜複合体。

【００１９】

【発明の実施の形態】以下、本発明の転写用薄膜複合体
及びその製造方法について各項目毎に詳細に説明する。

【００２０】１．基材（Ａ） 本発明の転写用薄膜複合体の基材（Ａ）としては、接触
界面の面積が広く、薄く屈曲性があることが必要であ
り、突起やくぼみや孔を有するフィルム、貫通孔を有す
る不織布や微多孔膜などを用いることができる。突起や
くぼみや孔は、フィルム製造工程で微粒子や繊維状物質
を混合する方法、二次的にエンボス加工やニードル加工
を利用して形成させることができる。それらの中では、
下記のポリオレフィン微多孔膜が好適である。

【００２１】１．１ ポリオレフィン微多孔膜 本発明の転写用薄膜複合体の基材（Ａ）として用いられ
るポリオレフィン微多孔膜は、特に限定されるものでは
なく、公知のものならば、いかなる材質の、いかなる製
法によるものであってもよい。ポリオレフィン微多孔膜
に使用されるポリオレフィンとしては、エチレン、プロ
ピレン、１−ブテン、４−メチル−１−ペンテン、１−
ヘキセンなどを重合した結晶性の単独重合体または共重
合体が挙げられる。その際、これらの単独重合体または
共重合体は、単独で使用することができるが、２種以上
のものを配合して用いてもよい。

【００２２】これらの中では、微多孔の形成性および機
械的強度の観点などから、高分子量ポリエチレン、特に
重量平均分子量が５×１０^５〜１５×１０^６となるもの
を含有し、重量平均分子量／数平均分子量（Ｍｗ／Ｍ
ｎ）が５〜３００の高密度の超高分子量ポリエチレンが
好ましい。このようなポリエチレンは、単体または組成
物のいずれであってもかまわない。

【００２３】ここで、２種以上のポリオレフィンを配合
する好ましい態様としては、重量平均分子量５０万以上
の超高分子畳ポリエチレンと重量平均分子量１万以上５
０万未満の高密度ポリエチレンとからなる組成物があ
る。その際、該組成物中に、さらに、シャットダウン機
能を付与することのできる第３のポリオレフィン成分と
して、低密度ポリエチレン、線状低密度ポリエチレン、
分子量１０００〜４０００の低分子量ポリエチレン又は
シングルサイト触媒を用いて製造されたエチレン−α−
オレフィン共重合体の中から選ばれる少なくとも１種の
ポリオレフィンを配合してもよい。

【００２４】また、ポリオレフィン微多孔膜の製造方法
としては、限定されるものではないが、特開昭６０−２
４２０３５号や特開平３−６４３３４号に記載の方法で
行えばよい。例えば、次のようにして行うことができ
る。まず、ポリオレフィン組成物を溶媒に加熱溶解する
ことにより溶液を調整する。この溶媒としては、ポリオ
レフィン組成物を充分に溶解できるものであれば特に限
定されず、特開昭６０−２４２０３５号などに記載のも
のと同じでよいが、デカリン、キシレンなどの易揮発性
の溶媒も用いることができる。加熱溶解は、ポリオレフ
ィン組成物が溶媒中で完全に溶解する温度で撹拌しなが
ら行う。その温度は、使用する重合体及び溶媒により異
なるが、１４０〜２５０℃の範囲が好ましい。また、ポ
リオレフィン組成物溶液の濃度は、１０〜５０重量％、
好ましくは１０〜４０重量％である。次に、ポリオレフ
ィン組成物の加熱溶液をダイから押し出して成形する。
ダイは、通常長方形の口金形状をしたシートダイが用い
られるが、２重円筒状の中空糸ダイ、インフレーション
ダイなども用いることができる。シートダイを用いた場
合のダイギャップは、通常０．１〜５ｍｍであり、押出
し成形時には１４０〜２５０℃に加熱される。この際の
押出し速度は、通常２０〜３０ｃｍ／分乃至５〜１０ｍ
／分である。

【００２５】このようにしてダイから押し出された溶液
は、冷却することによりゲル状物に成形される。冷却速
度は少なくともゲル化温度以下までは５０℃／分以上の
速度で行うのが好ましい。次に、このゲル状成形物を延
伸する。延伸は、ゲル状成形物を加熱し、通常のテンタ
ー法、ロール法、インフレーション法、圧延法もしくは
これらの方法の組合せによって所定の倍率で行う。２軸
延伸が好ましく、縦横同時延伸又は逐次延伸のいずれも
よいが、特に同時２軸延伸が好ましい。延伸温度は、ポ
リオレフィン組成物の内、ポリエチレンの融点＋１０℃
以下、好ましくは結晶分散温度から結晶融点未満の範囲
である。例えば、９０〜１４０℃、より好ましくは、１
００〜１３０℃の範囲である。さらに、この延伸膜中に
含まれる溶媒を塩化メチレンのような揮発性溶剤で抽出
除去し、次いで乾燥、熱セットする。なお、ポリオレフ
ィン微多孔膜には、必要に応じて、酸化防止剤、紫外線
吸収剤、滑剤、アンチブロッキング剤、顔料、染料、無
機充填剤などの各種添加剤を、本発明の目的を損なわな
い範囲で添加することができる。

【００２６】上記のポリオレフィン微多孔膜は、１０〜
１０００μｍ、好ましくは５０〜５００μｍの膜厚を有
する。厚さが１０μｍ未満では、機械的強度及び取扱の
観点から実用に供することが難しい。一方、１０００μ
ｍを超える場合には、機械的強度は十分すぎるほどあ
り、厚くなるほど材料費がかさむので望ましくない。ま
た、膜の空孔率は、限定的ではないが、３０〜９５％、
より好ましくは５０〜９０％の範囲のものである。空孔
率が３０％未満では、透気度や水蒸気透過度が不十分に
なる場合があり、一方、空孔率が９５％を超えると、膜
の機械的強度が小さくなり実用性に劣る。本発明に用い
るポリオレフィン微多孔膜としては、通常、空孔率が３
０〜９５％、膜厚２５μｍでの透気度が１５００００秒
／１００ｃｃ以下、好ましくは１０００００秒／１００
ｃｃ以下、平均貫通孔径が０．００５〜１μｍ、引張破
断強度が８０ＭＰａ以上、好ましくは１００ＭＰａ以
上、突刺強度が３０００ｍＮ以上、好ましくは５５００
ｍＮ以上の機械物性を有する微多孔膜が望ましい。

【００２７】２．オリゴマー又は高分子物質（Ｂ） 本発明の転写用薄膜複合体に用いるオリゴマー又は高分
子物質（Ｂ）は、沸点が１００℃以上で、かつ表面張力
が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であることが必要であり、か
かる物質としては、ポリテトラフルオロエチレン、ポリ
ジメチルシロキサン、ポリフルオロビニリデン、又はこ
れらの共重合体、及びこれらのプレポリマー又はオリゴ
マーからなる群から選ばれる少なくとも１種のものが好
適である。それらの中では、下記のポリジメチルシロキ
サンが好適である。

【００２８】２．１ ポリジメチルシロキサン 本発明で用いるオルガノポリシロキサンは、１個のケイ
素当たり少なくとも１個以上のケイ素−炭素結合を有
し、ケイ素−酸素結合（−Ｓｉ−Ｏ−）を繰り返し単位
とする高分子化合物である。例えばシリコーンオイル、
シリコーン製ゴムとして市販されている重合度が１０以
上、好ましくは１０〜１００００のものが利用できる。
重合度が１０未満では揮発散逸が無視できなくなり好ま
しくない。一方、重合度が１００を大きく超えると高粘
度となり、ゲル状成形物へ均一に充填することが困難と
なるので、揮発性溶剤で希釈することが好ましい。

【００２９】オルガノポリシロキサンの具体例として
は、有機基がメチル基であるポリジメチルシロキサンを
基本として、ポリシロキサン鎖の末端又は内部に水素、
ビニル基、ヒドロキシル基、アミノ基、カルボキシル
基、エポキシ基、メタクリロキシ基、メルカプト基、長
鎖アルキル基、フェニル基、塩素又はフッ素などが結合
した変性ポリシロキサン、更に主鎖に非ポリシロキサン
部分を持つもの、例えばアルキレンオキシド変性ポリシ
ロキサン、シリコーン変性共重合体、アルコキシシラン
変性重合体などが挙げられる。ポリメチルビニルシロキ
サン、ポリメチルフェニルビニルシロキサン、ポリメチ
ルフルオロビニルシロキサンあるいは末端が水酸基封鎖
されたポリジメチルシロキサンなどポリシロキサン鎖の
内部又は末端にビニル基あるいは水酸基などを結合した
変性ポリシロキサンも用いることができるが、−（ＣＨ
_２ＣＨ_２Ｏ）_ｎ−Ｒのようなエーテル系基を側鎖に持つ
変性ポリシロキサンあるいは−〔（ＣＨ_２）_ｍＣＯＯ
（ＣＨ_２）_ｎ〕−Ｒのようなエステル系基を持つ変性ポ
リシロキサンは、トナーや接着剤との親和性を増す効果
が期待される。

【００３０】重合度の高いオルガノポリシロキサンを希
釈する際の揮発性溶剤としては、ペンタン、ヘキサン、
ヘプタン、トルエンなどの炭化水素、塩化メチレン、四
塩化炭素などの塩素化炭化水素、三塩化三フッ化エタン
などのフッ化炭化水素、ジエチルエーテル、ジオキサン
などのエーテル類、その他、メタノール、エタノールな
どのアルコール類が挙げられる。なお、上記のオルガノ
ポリシロキサンまたはその希釈溶液には、必要に応じて
オルガノポリシロキサンの架橋剤、例えば有機過酸化
物、３個以上の官能基を有する有機ケイ素化合物、アル
キルオルソシリケート、金属系触媒あるいは合成シリカ
などの補強材、その他の添加剤を少量調合してもよい。

【００３１】３．転写用薄膜複合体の製造方法 本発明において、転写用薄膜複合体の製造方法として
は、公知の積層技術ならば何でも適用することができ、
特に限定されないが、ポリオレフィン系基材の場合に
は、下記の２つの製造方法が好ましい。その際、採用さ
れる製造条件は特に制限がない。これらの方法の中で
も、簡便性等の面から塗布法や浸漬法が特に好ましい。

【００３２】３．１ 塗布法 この方法では、表面に凹凸又は微孔を有するポリオレフ
ィン系基材（Ａ）の少なくとも最上面に、沸点が１００
℃以上でかつ表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満である
オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）を溶融状態又は溶液状
態で塗布させ、該オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）から
なる被覆薄膜を形成させる。

【００３３】３．２ 浸漬法 この方法では、表面に凹凸又は微孔を有するポリオレフ
ィン系基材（Ａ）の少なくとも最上面に、沸点が１００
℃以上でかつ表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満である
オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）を溶融状態又は溶液状
態で浸漬させ、該オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）から
なる被覆薄膜を形成させる。

【００３４】４．転写用薄膜複合体 本発明の転写用薄膜複合体は、表面に凹凸又は微孔を有
する基材（Ａ）の少なくとも最上面に、オリゴマー又は
高分子物質（Ｂ）からなる被覆薄膜を形成してなる転写
用薄膜複合体であって、該基材（Ａ）は、ポリオレフィ
ン系フィルムであり、さらに、該オリゴマー又は高分子
物質（Ｂ）は、沸点が１００℃以上で、かつ表面張力が
３０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満であるものである。また、該転
写用薄膜複合体は、基材（Ａ）に対して、重量比で３倍
未満、厚さ比で２倍未満であるものである。さらに、該
転写用薄膜複合体は、基材（Ａ）に対して、重量比で２
倍未満、厚さ比で１．５倍未満であることが好ましい。

【００３５】４．１ 転写用薄膜複合体の転写シートと
しての用途 本発明の転写用薄膜複合体は、用途の一つとして乾式転
写シートがあるので以下に説明する。一般的な乾式転写
シートとしては、紙、プラスチック等のシート（基材
層）上に、シリコーン系樹脂又はフッ素系樹脂からなる
剥離層を形成し、その上に、メタアクリル酸メチル−ｎ
−ブチル共重合体、ポリ酢酸ビニルエマルジョン、ポリ
塩化ビニル系ラテックス、塩化ビニル−アクリレート系
ラテックス等から選択された低温溶融性接着剤層を形成
し、更にその上に、画像が形成される画像保持層が順次
積層されている。また、上記転写シートにおいて、先に
画像保持層を形成し、その上に接着剤層を形成させたタ
イプもある。接着剤としては、ホットメルト型接着剤が
望ましく（剥離層を設ける必要がない。）、常温粘着型
接着剤をもちいる場合は、接着剤層の上に剥離層を設け
た方がよい。

【００３６】本発明の転写用薄膜複合体を転写シートと
して使用するには、本発明の基材（Ａ）が、一般的な乾
式転写シートの紙、プラスチック等のシート（基材層）
に相当し、本発明のオリゴマー又は高分子物質（Ｂ）か
らなる被覆薄膜が、一般的な乾式転写シートの画像が形
成される画像保持層に相当する。本発明においては、基
材（Ａ）とオリゴマー又は高分子物質（Ｂ）からなる被
覆薄膜との間の界面結合力は、弱いので両者は容易に分
離できるので、一般的な乾式転写シートのシリコーン系
樹脂又はフッ素系樹脂からなる剥離層を設ける必要はな
く、従って、従来の一般的な乾式転写シートの層構成と
はことなる新規な層構成の転写シートといえる。本発明
の転写シートにおいては、本発明のオリゴマー又は高分
子物質（Ｂ）からなる被覆薄膜が、一般的な乾式転写シ
ートの画像が形成される画像保持層に相当するので、該
被覆薄膜上に電子複写装置でトナーを付着させ画像を形
成させる。さらに、この画像の上に、被転写体に接着さ
せるための接着層を形成させる。すなわち、本発明の転
写シートは、転写用薄膜複合体／画像／接着層という簡
単な層構成のものである。

【００３７】本発明の転写シートの接着層は、転写対象
物に貼着させるまでは、容易に他の物質に接着してはな
らないので、ホットメルト型接着剤を使用することが望
ましい。ホットメルト型接着剤とは、常温では非粘着性
であるが加熱によって粘着性を発現する感熱性粘着剤で
ある。

【００３８】

【実施例】以下に、実施例に基づき本発明を具体的に説
明するが、本発明はこれら実施例により何ら限定される
ものではない。なお、実施例、比較例における測定は下
記方法に依った。なお、透気度は、ＪＩＳ Ｐ８１１７
に準拠して測定した。（単位：ｓｅｃ／１００ｃｃ）

【００３９】実施例１〜２（転写用複合体の製造） ポリエチレン微多孔膜（東燃化学（株）社製、膜厚２
３．５μｍ、平均孔径０．０３μｍ、最大孔径０．０５
μｍ、空孔率３８％、透気度８７８ｓｅｃ／１００ｃ
ｃ）の４辺を金枠に固定し、シリコーン（信越化学工業
（株）製、ＫＥ−１０３）２０ｇと、シリコーン（信越
化学工業（株）製、ＣＡＴ−１０３）１ｇをｎ−ヘキサ
ンに希釈混合した溶液に室温で浸漬し、取り出し垂直に
保持することにより余分な液を流下させた後、室温にて
２４時間放置させた。得られた複合膜の基材に対する重
量比、膜厚比と透気度を測定した結果を表１に示す。

【００４０】比較例１（転写用複合体の製造） 実施例と同様な製造方法で、シリコーンの重量比と膜厚
比のことなる複合膜を得、その基材に対する重量比、膜
厚比と透気度を測定した結果を表１に示す。

【００４１】実施例３（膜の濡れ性試験） ぬれ指数標準液Ｎｏ．３１（和光純薬工業（株）製）を
用い、ＪＩＳ Ｋ６７６８に準じて、濡れ性の評価をし
た結果を表１に示す。

【００４２】

【表１】 評価 表１から判るように、本実施例では、基材に対するシリ
コーンの、重量比、膜厚比を限定することにより、シリ
コーンのそれより濡れ性をある程度維持することがで
き、さまざまな液状物の塗布性などが改善することが期
待される。一方、剥離性については、シリコーンの良好
な剥離性が期待される。

【００４３】実施例４（転写用複合体から転写シートの
製造） 実施例１で作った転写用複合体の表面に、ミラー画像コ
ピー機能を有するカラー複写機を使用して風景写真のミ
ラー画像を形成させた。本発明の転写用複合体のシリコ
ーン被覆薄膜では、濡れ性がよいのでミラー画像もきれ
いに形成された。画像の上にホットメルト型接着剤層を
バーコーターを用いて乾燥後の塗工量が１０ｇ／ｍ^２と
なるように塗工し、４０℃で２分３０秒間乾燥させて転
写シートを作った。

【００４４】この転写シートは５０℃までの温度なら
ば、ホットメルト型接着層であるから、表面はサラサラ
しており、保管・保存は容易である。この転写シートか
ら、シリコーン被覆薄膜／ミラー画像／ホットメルト型
接着剤層からなる転写層は、ポリエチレン微多孔膜から
容易に剥離することができ、転写シートを加熱・溶融
し、接着剤層の接着性を発現させ、キャンバスシートの
上に乗せ加熱ローラーで圧着させた。シリコーン被覆薄
膜は、可撓性にすぐれ、表面に凹凸のあるキャンバスシ
ートにもきれいに貼着することができた。

【００４５】

【発明の効果】本発明によれば、濡れ性及び剥離性に優
れ、剥離層の形成が簡単で、画像形成剤（トナー）の形
成性にすぐれている転写用薄膜複合体が得られるため、
従来の転写シートの様に剥離層を設ける手間が省略でき
る。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 3B005 EB01 EB03 FA03 FA04 FA06 FA07 FA12 FB02 FB23 FC10Y FC10Z FC20Y FC20Z FD10Y FD10Z FE04 FG01X 4D075 AB01 AB52 AB55 CA07 CA35 DA04 DB36 DC40 EA07 EA15 EB17 EB18 EB24 EB43 EB47 EC51

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 表面に凹凸又は微孔を有する基材（Ａ）
   の少なくとも最上面に、オリゴマー又は高分子物質
   （Ｂ）からなる被覆薄膜を形成してなる転写用薄膜複合
   体であって、該基材（Ａ）は、ポリオレフィン系フィル
   ムであり、さらに、該オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）
   は、沸点が１００℃以上で、かつ表面張力が３０ｄｙｎ
   ｅ／ｃｍ未満であることを特徴とする転写用薄膜複合
   体。
2. 【請求項２】 転写用薄膜複合体は、基材（Ａ）に対し
   て、重量比で３倍未満、厚さ比で２倍未満であることを
   特徴とする請求項１記載の転写用薄膜複合体。
3. 【請求項３】 転写用薄膜複合体は、基材（Ａ）に対し
   て、重量比で２倍未満、厚さ比で１．５倍未満であるこ
   とを特徴とする請求項２記載の転写用薄膜複合体。
4. 【請求項４】 基材（Ａ）は、ポリエチレン微細孔膜で
   あることを特徴とする請求項１記載の転写用薄膜複合
   体。
5. 【請求項５】 オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）は、ポ
   リテトラフルオロエチレン、ポリジメチルシロキサン、
   ポリフルオロビニリデン、又はこれらの共重合体、及び
   これらのプレポリマー又はオリゴマーからなる群から選
   ばれる少なくとも１種であることを特徴とする請求項１
   記載の転写用薄膜複合体。
6. 【請求項６】 表面に凹凸又は微孔を有するポリオレフ
   ィン系基材（Ａ）の少なくとも最上面に、沸点が１００
   ℃以上でかつ表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満である
   オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）を溶融状態又は溶液状
   態で塗布させ、該オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）から
   なる被覆薄膜を形成させることを特徴とする請求項１〜
   ５のいずれか１項に記載の転写用薄膜複合体の製造方
   法。
7. 【請求項７】 表面に凹凸又は微孔を有するポリオレフ
   ィン系基材（Ａ）の少なくとも最上面に、沸点が１００
   ℃以上でかつ表面張力が３０ｄｙｎｅ／ｃｍ未満である
   オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）を溶融状態又は溶液状
   態で浸漬させ、該オリゴマー又は高分子物質（Ｂ）から
   なる被覆薄膜を形成させることを特徴とする請求項１〜
   ５のいずれか１項に記載の転写用薄膜複合体の製造方
   法。