JP2003015101A - 液晶表示装置製造用インラインシステム及びこれを利用する液晶表示装置の製造方法 - Google Patents
液晶表示装置製造用インラインシステム及びこれを利用する液晶表示装置の製造方法Info
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Abstract
する液晶表示装置の製造工程で、セル単位に基板を分離
する時に表示特性が低下するのを防止して工程の収率を
向上させる。 【解決手段】 液晶表示装置用インラインシステムは、
液晶セル領域を有する第1基板の上に封印材を塗布する
封印材塗布装置、封印材が塗布されている第1基板の上
に液晶を落とす液晶ドロップ(drop)装置、液晶が落と
された第1基板と第1基板の対向基板である第2基板と
を付着させるアセンブリー装置、互いに付着されている
第1基板と第2基板の間の封印材を硬化して第1及び第
2基板を結合させる封印材硬化装置、切断線に沿ってレ
ーザーを照射して第1及び第2基板に摩擦が伝達されな
いようにすると共に、第1基板及び第2基板を切断して
液晶セル領域を単位として第1及び第2基板を分離する
基板切断装置を含む。
Description
ンラインシステム及びこれを利用した液晶表示装置の製
造方法に関するものである。
ス基板上に配線パターン及びスイッチング素子(アクテ
ィブマトリックス形である場合)などを形成するアレイ
基板製造工程と、配向処理、スペーサーの配置及び対向
するガラス基板の間に液晶を封入する液晶セル(cell)
工程と、ドライバーICの付着及びバックライト(back
light)装着などを行うモジュール工程とに分類され
る。
て一枚の母パネル(mother glass)に単位液晶表示装置
になる液晶セル領域を数個同時に形成し、液晶セル工程
で単位液晶セル単位に切断・分離する。
セル工程は、液晶を注入する方法によって真空注入方法
とドロップ注入方法等に区分される。
2枚の基板に液晶の液晶分子を配向させるための配向膜
を塗布して配向処理を実施した後、両基板中の一方の基
板に所定のセルギャップを維持するためのスペーサーを
散布し、液晶注入口を残して封印材を周囲に印刷する。
続いて、2枚の基板を位置合わせした後、熱圧着工程に
より2枚の基板を熱硬化性封印材で接合する。次に、接
合した基板に液晶を注入するためにスクライビング(sc
ribing)工程により溝(割線)を形成し、基板に衝撃を
加えてパネル単位に切断・分離する。接合されている各
パネルを真空槽に入れて排気し、液晶を導入して、封印
材で形成された液晶注入口が液晶に浸るようにしてセル
内部に液晶を注入した後、注入された液晶が流れ出ない
ように液晶注入口を封止する。
2枚の基板に配向膜塗布及び配向処理を実施し、2枚の
基板のうちのいずれか一つにスペーサーを散布する。続
いて、2枚の基板のうちの一つの基板の周囲に閉曲線模
様に封印材を形成した後、基板上部に液晶を落とす。次
に、2枚の基板を位置合わせして接合した後、封印材を
硬化させる。
る液晶セルの製造工程は、基板を液晶セルの単位に分離
する工程で液晶セルの内部に液晶物質が満たされた状態
であるため、スクライビング工程を利用してセル単位に
基板を切断する際、特に基板に加わった衝撃によって液
晶の特性劣化または配向膜の配向力破壊となり、表示特
性が低下するおそれがある。これを最少化するために溝
(割線)を形成するスクライビング工程で基板を完全に
分離することが考えられるが、切断用刃が基板に入る深
さが深く、このために基板に加わる圧力が高くなり、切
断時に基板に伝達される応力が増加して液晶セルが変形
してしまい、表示特性を低下させる可能性がむしろ増加
するようになって工程の収率を減少させる。
術的課題は、インラインシステムまたは自動化工程で進
行する液晶表示装置の製造工程で、セル単位に基板を分
離する時に表示特性が低下するのを防止して工程の収率
を向上させることである。
るために、基板に接触せずに基板に微細な割線を形成し
伝播させることができるようにレーザーを照射する基板
切断装置を含むインラインシステム、または自動化工程
によって液晶表示装置を製造する。
ンシステムは、液晶セル領域を有する液晶表示装置用第
1基板と第2基板のうちの少なくともどちらか一方の基
板の上に、スペーサーを散布するスペーサー散布装置、
第1基板の上に封印材を塗布する封印材塗布装置、封印
材が塗布されている第1基板の上に液晶を落とす液晶注
入装置、液晶が落とされた第1基板と第1基板の対向基
板である第2基板とを付着させるアセンブリー装置、互
いに付着されている第1基板と第2基板の間の封印材を
硬化して第1及び第2基板を結合させる封印材硬化装
置、切断線に沿ってレーザーを照射し、液晶セル領域を
単位として第1及び第2基板を分離するための基板切断
装置を含む。
第1及び第2基板を予熱するレーザー装置、レーザー装
置の位置を固定したり移送するレーザー移送装置、レー
ザー移送装置に装着されており、切断線に沿って予熱さ
れた第1及び第2基板を冷却する冷却剤散布装置を含
み、基板切断装置は、第1及び第2基板を固定したり回
転したりまたは移送する基板移送装置をさらに含むこと
ができる。
装置、液晶注入装置、アセンブリー装置、封印材硬化装
置及び基板切断装置はインライン方式で設計されるのが
好ましい。
1基板と第2基板の間の液晶セル領域に液晶が注入され
ている液晶表示装置を製造する方法においては、まず第
1基板と第2基板のうちの少なくとも一つの基板の上に
スペーサーを散布する。その後、第1基板の上に封印材
を塗布し、第1基板の上に液晶を落とした後、第1基板
と第2基板とを付着させる。次に、付着された第1及び
第2基板の間の封印材を硬化させ、切断線に沿って第1
基板と第2基板にレーザーを利用して液晶セル領域を単
位として第1基板と第2基板を切断する。
ってレーザーを照射し、第1基板と第2基板を切断線に
沿って予熱した後、切断線に沿って冷却剤を散布して、
第1基板と第2基板を切断線に沿って冷却して割線を形
成する。次に切断線に沿って前記割線を伝播させること
により基板を切断する。
本発明の実施例による液晶表示装置用インラインシステ
ム及びこれを利用した液晶表示装置の製造方法につい
て、本発明の属する技術分野にて通常の知識を有する者
が容易に実施できるように詳細に説明する。
実施例によって製造した液晶表示装置用基板の概略的な
構造について説明する。
システムを利用して完成した多数の液晶セルを有する液
晶表示装置用母パネルの構造を示した平面図であり、図
2aは図1のIIa部分を拡大して示した配置図であり、
図2bは図2aのIIb−IIb´線による断面図である。
個の液晶セル領域10a、10b、10c、10dが形
成されており、母パネル10を液晶セル単位に分離する
ための切断線A、Bが点線で表示されている。この時、
一つの母パネルに形成される液晶セル領域の数は母パネ
ルと液晶セルの大きさによって変動する。
リックス状で配置された画素領域26が複数形成されて
おり、複数の画素領域26は画像の表示領域24を成
す。詳細な図示は省略したが、各画素領域26には薄膜
トランジスタ(図示せず)が形成されている。この時、
薄膜トランジスタのゲート電極はゲート線(図示せず)
に連結されており、ドレーン電極はデータ線(図示せ
ず)に連結されている。また、薄膜トランジスタのソー
ス電極は画素領域26内に形成された画素電極(図示せ
ず)に連結されている。複数のデータ線及びゲート線は
アレイ基板12の外周上に形成された端子部14を介し
て駆動回路(図示せず)と連結されている。
2より端子部14の領域だけ小さく形成され、アレイ基
板12に対向して設置されている。カラーフィルター基
板16には共通電極(図示せず)と共に、R(red)、
G(green)、B(blue)のカラーフィルター(図示せ
ず)が形成されている。また、カラーフィルター基板1
6には遮光機能をするブラックマトリックス20、22
が形成されている。表示部ブラックマトリックス20は
表示領域24内の複数の画素領域26を区画して、画素
領域26境界部から光が漏れるのを防止するために形成
され、また薄膜トランジスタ(図示せず)を遮光して光
による漏れ電流の発生を防止するためにも用いられる。
また、枠部ブラックマトリックス22は表示領域24外
部の不必要な光を遮光するために設置されている。
6は紫外線硬化性封印材18で接合されており、二つの
基板12、16の間の紫外線硬化性封印材18で囲まれ
た領域には液晶28が封印されている。ここで、紫外線
硬化性封印材18は二つの基板12、16の間に満たさ
れている液晶28との非混合性を保障できる封印材を使
用し、未硬化状態の封印材18と液晶28とが接触し
て、混合または相溶により汚染されるのを防止する。
プ(間隔)を維持しており、特定の大きさのスペーサー
(図示せず)を使用してセルギャップを一定でかつ均一
に維持する。しかし、基板上に液晶28の分布密度が一
定でないとセルギャップを一定に維持できなくなり、液
晶表示装置の画面全体にかけて画面が不均一になる不良
が発生する。従って、液晶28の分布密度を均一にしな
ければならない。
c、10dを単位として切断線A、Bに沿って基板1
2、16を切断することで母パネル10を分離しても、
切断時に基板に伝達される応力が最小化して液晶セルの
変形を防止し、液晶物質28の特性が劣化せず、また表
示特性が低下しないようにする必要がある。したがっ
て、窓ガラスにダイヤモンドカッタで割線を形成するよ
うな方法は好ましくない。
装置が備えられたインラインシステム及びこのシステム
を利用して液晶表示装置を製造する方法について、図3
乃至図4を参考として説明する。
を製造するためのインラインシステムを示すブロック図
であり、図4は基板切断装置を利用して基板を切断する
方法を示した図である。
るセルギャップを調節するための液晶表示装置用インラ
インシステムは、母パネル10の二つの基板12、16
のうち一方の基板が分類されて積載されている第1ロー
ド装置100、スペーサー散布装置200、封印材塗布
装置300、液晶注入装置400、第1予備整列装置5
00、第2ロード装置600、第2予備整列装置70
0、アセンブリー装置800、封印材硬化装置900、
熱処理装置1000、基板切断装置1100、基板アン
ロード(unload)装置1200を含む。この時、第1ロ
ード装置100、スペーサー散布装置200、封印材塗
布装置300、液晶注入装置400、第1予備整列装置
500、アセンブリー装置800、封印材硬化装置90
0、熱処理装置1000、基板切断装置1100、基板
アンロード装置1200はインライン工程時間を単位と
して基板12、16を移送できるインライン移送装置
(図示せず)を通じて順次に連結されており、第2ロー
ド装置600、第2予備整列装置700はインライン移
送装置(図示せず)を通じてアセンブリー装置800に
連結されている。ここで、基板切断装置1100で基板
12、16を切断する時間がインライン工程時間と異な
る場合には、製造工程をインライン工程で設計するため
に基板切断装置1100を多数並列設置することもでき
る。
板12、16のうちの一方の基板、たとえば下部基板1
2を分類して積載する。スペーサー散布装置200は移
送された下部基板12に二つの基板12、16の間隔を
維持するためのスペーサーを散布する。封印材塗布装置
300は移送された下部基板12に閉曲線模様で封印材
18を塗布する。液晶注入装置400は、移送された下
部基板12の封印材18によって定義される液晶セル領
域10a、10b、10c、10dに液晶注入器(図示
せず)を通じて液晶28を落とす。この時、液晶注入器
は部分的に液晶28を落とすことができる注射器の形態
を有したり、または全面的に液晶28を落とすことがで
きるノズルを含む噴霧器の形態を有することができる。
第1予備整列装置500は封印材18及び液晶28が形
成されている下部基板12を上部基板16と接着する前
に予備整列(位置合わせ)させる。第2ロード装置60
0は母パネル10の基板12、16のうちの他方の基
板、つまり上部基板16を分類して積載する。第2予備
整列装置700は上部基板16を下部基板12と接着す
る前に予備整列させる。アセンブリー装置800は予備
整列された下部基板12と上部基板16とを合着する。
図面には表示していなかったが、アセンブリー装置80
0には二つの基板12、16を整列して圧力を加える圧
縮プレートが各々装着されている。封印材硬化装置90
0は二つの基板12、16の間を接着している封印材1
8を硬化させる。熱処理装置1000は二つの基板1
2、16の間に注入されている液晶28の安定した配向
のために基板を熱処理する。基板切断装置1100は切
断機を利用して基板12、16に形成された切断線A、
B(図1参照)に沿ってレーザーを照射し、液晶セル領
域10a、10b、10c、10dの単位で基板12、
16を分離する。アンロード装置1200は液晶セル単
位で分離された基板12、16をアンローディング(un
loading)する。なお、切断線A、Bは仮想線で十分で
あり、実際には線の位置を示す3個の標識でよい。また
基板と切断装置以外は従来技術を使用できる。
する代わりに上部基板16に散布しようとする場合に
は、スペーサー散布装置200を第1ロード装置100
と封印材塗布装置300の間に位置させる代わりに第2
ロード装置600と第2予備整列装置700の間に位置
させて、スペーサー散布作業を行うことができる。
て基板を切断する方法を図4を参照して詳細に説明す
る。
板12、16に切断線A、Bに沿ってレーザーを照射し
て基板12、16を予熱するレーザー装置1101と、
レーザー装置1101の後端に装着されており、冷却剤
を散布して切断線A、Bに沿って基板12、16に微細
な割線を発生させ、割線が伝播されるようにする冷却剤
噴射装置1103と、レーザー装置1101と冷却剤噴
射装置1103の位置を固定したりまたは移送するレー
ザー移送装置1102とを含み、封印材18によって結
合されている二つの基板12、16からなる母パネル1
0の位置を固定したり、移送及び回転させる基板移送装
置をさらに含むことができる。なお、レーザーは連続発
振形が好適であるが、発生伝播された割線が連続と見な
せるのであれば間欠発振形でもよい。
方法の基板切断工程で、レーザー装置1101は基板1
2、16に接触しない状態で切断線A、Bに沿って基板
12、16にレーザービームを照射し、所定の温度で基
板12、16を予熱する。次に、冷却剤噴射装置110
3はレーザー装置1101の後端で切断線A、Bに沿っ
て予熱された基板12、16に冷却剤を散布して、切断
線A、Bに沿って加熱された基板12、16を急速に冷
却させる。この時、加熱と冷却により、切断線A、Bに
沿って基板12、16には熱収縮と熱膨脹が起こって高
い熱応力が発生し、基板12、16には切断線A、Bに
沿って割線が生成し、このような割線は基板切断工程で
レーザー照射及び冷却剤散布が進行されるに伴って切断
線A、Bに沿って伝播されて母パネル10は完全に切断
され、液晶セル領域10a、10b、10c、10dは
互いに分離する。
晶表示装置の製造方法の基板切断工程ではレーザーを照
射して基板12、16に微細な割線を形成し、これを伝
播させる方式で非接触でありながら基板12、16を切
断する。このようにすれば、基板切断時に基板12、1
6に切断装置の力が基板12、16に浸透するのを防止
して基板に剪断応力が発生するのを防止することがで
き、基板12、16に圧力を加えずに基板12、16に
割線を形成し、割線を伝播させて基板12、16を切断
することにより、液晶セルが変形したり液晶物質と配向
膜が劣化するのを防止することができ、液晶表示装置の
表示特性が低下するのを防止することができる。また、
スクライビング工程と異なって切断マージンを考慮せず
に液晶セル領域10a、10b、10c、10dを設計
することができるので、液晶セル領域10a、10b、
10c、10dを大きく設計することができる。
または自動化工程からなる液晶表示装置の製造工程で、
基板切断装置にレーザーを利用することによって切断時
に基板に伝達される力を除去し、液晶物質または配向膜
が劣化するのを防止することによって液晶表示装置の表
示特性が低下することを防止することができる。
ンシステムを利用して完成した多数の液晶セル領域を有
する液晶表示装置用母パネルの構造を示した平面図であ
る。
る。
る。
ための液晶表示装置用インラインシステムを示したブロ
ック図である。
示した図である。
Claims (7)
- 【請求項1】液晶セル領域を有する液晶表示装置用第1
基板と第2基板のうちの少なくとも一つの基板の上にス
ペーサーを散布するスペーサー散布装置と、 前記第1基板の上に封印材を塗布する封印材塗布装置
と、 前記封印材が塗布されている前記第1基板の上に液晶を
落とす液晶注入装置と、 前記液晶が落とされた前記第1基板と前記第1基板の対
向基板である第2基板とを付着させるアセンブリー装置
と、 互いに付着している前記第1基板と前記第2基板の間の
封印材を硬化して前記第1及び第2基板を結合させる封
印材硬化装置と、 切断線に沿ってレーザーを照射し、前記第1及び第2基
板の結合体を前記液晶セル領域を単位として分離するた
めの基板切断装置とを含む、液晶表示装置製造用インラ
インシステム。 - 【請求項2】前記基板切断装置は、 前記切断線に沿って前記第1及び第2基板を予熱するレ
ーザー装置、 前記レーザー装置の位置を固定したり移送するレーザー
移送装置、 前記レーザー移送装置に装着されており、前記切断線に
沿って予熱された前記第1及び第2基板を冷却する冷却
剤散布装置を含む、請求項1に記載の液晶表示装置製造
用インラインシステム。 - 【請求項3】前記基板切断装置は、前記第1及び第2基
板を固定したり回転したりまたは移送する基板移送装置
をさらに含む、請求項2に記載の液晶表示装置製造用イ
ンラインシステム。 - 【請求項4】前記スペーサー散布装置、前記封印材塗布
装置、前記液晶注入装置、前記アセンブリー装置、前記
封印材硬化装置及び前記基板切断装置はインライン方式
で設計される、請求項1に記載の液晶表示装置用インラ
インシステム。 - 【請求項5】前記第1及び第2基板を付着させる前に前
記第1及び第2基板を位置合わせするための第1及び第
2予備整列装置及び前記液晶を熱処理するための熱処理
装置をさらに含む、請求項1に記載の液晶表示装置用イ
ンラインシステム。 - 【請求項6】第1基板と第2基板の間の液晶セル領域に
液晶が注入されている液晶表示装置を製造する方法にお
いて、 前記第1基板と第2基板のうちの少なくとも一つの基板
の上にスペーサーを散布する段階と、 前記第1基板の上に封印材を塗布する段階と、 前記第1基板の上に液晶を落とす段階と、 前記第1基板と前記第2基板とを付着させる段階と、 前記付着された前記第1及び第2基板の間の封印材を硬
化させる段階と、 切断線に沿って前記第1基板と前記第2基板にレーザー
を照射し、前記第1基板と前記第2基板の結合体を前記
液晶セル領域を単位として切断する段階とを含む、液晶
表示装置の製造方法。 - 【請求項7】前記基板切断段階は、 前記切断線に沿ってレーザーを照射して、前記第1基板
と第2基板を前記切断線に沿って予熱する段階と、 前記切断線に沿って冷却剤を散布して、前記第1基板と
第2基板を前記切断線に沿って冷却して割線を形成する
段階と、 前記切断線に沿って前記割線を伝播させる段階とを含
む、請求項6に記載の液晶表示装置の製造方法。
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