JP2003006926A - 光記録媒体用反射膜 - Google Patents
光記録媒体用反射膜Info
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- JP2003006926A JP2003006926A JP2001184251A JP2001184251A JP2003006926A JP 2003006926 A JP2003006926 A JP 2003006926A JP 2001184251 A JP2001184251 A JP 2001184251A JP 2001184251 A JP2001184251 A JP 2001184251A JP 2003006926 A JP2003006926 A JP 2003006926A
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- reflective film
- recording medium
- film
- optical recording
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- Optical Record Carriers And Manufacture Thereof (AREA)
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Abstract
(57)【要約】
【課題】光ディスク、光磁気ディスクなどの光記録媒体
における反射膜およびこの反射膜を形成するためのスパ
ッタリングターゲットを提供する。 【解決手段】Ｃａ：１０〜１０００ｐｐｍを含有し、残
部がＡｇおよび不可避不純物からなる組成のＡｇ合金か
らなる光記録媒体用反射膜およびこの反射膜を形成する
ためのスパッタリングターゲット。
における反射膜およびこの反射膜を形成するためのスパ
ッタリングターゲットを提供する。 【解決手段】Ｃａ：１０〜１０００ｐｐｍを含有し、残
部がＡｇおよび不可避不純物からなる組成のＡｇ合金か
らなる光記録媒体用反射膜およびこの反射膜を形成する
ためのスパッタリングターゲット。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、光ディスク、光
磁気ディスクなどの光記録媒体における反射膜およびこ
の反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットに
関するものである。
磁気ディスクなどの光記録媒体における反射膜およびこ
の反射膜を形成するためのスパッタリングターゲットに
関するものである。
【０００２】
【従来の技術】一般に、光ビームを用いて情報の記録お
よび消去を行う光ディスクや光磁気ディスクなどの光記
録媒体の膜構造は、図１の断面図に示されるように、基
板１の表面に下部誘電体膜２を形成し、この下部誘電体
膜２の上に記録膜３を形成し、この記録膜３の上に上部
誘電体膜４を形成し、この上部誘電体膜４の上に反射膜
５を形成した構造となっており、実用の光記録媒体は前
記反射膜５を保護するために反射膜５の上にさらに保護
膜（図示せず）を形成した構造となっている。
よび消去を行う光ディスクや光磁気ディスクなどの光記
録媒体の膜構造は、図１の断面図に示されるように、基
板１の表面に下部誘電体膜２を形成し、この下部誘電体
膜２の上に記録膜３を形成し、この記録膜３の上に上部
誘電体膜４を形成し、この上部誘電体膜４の上に反射膜
５を形成した構造となっており、実用の光記録媒体は前
記反射膜５を保護するために反射膜５の上にさらに保護
膜（図示せず）を形成した構造となっている。
【０００３】前記基板１の上に形成される下部誘電体膜
２は記録時に記録膜３から基体１に伝わる熱を遮断して
基体１を保護する作用をなし、一方、記録膜３の上に形
成される上部誘電体膜４は記録膜３を保護すると共に、
記録後、記録膜に残った熱を熱伝導により放出する作用
を有する。
２は記録時に記録膜３から基体１に伝わる熱を遮断して
基体１を保護する作用をなし、一方、記録膜３の上に形
成される上部誘電体膜４は記録膜３を保護すると共に、
記録後、記録膜に残った熱を熱伝導により放出する作用
を有する。
【０００４】さらに、上部誘電体膜４の上に形成されて
いる反射膜５は、通常、Ａｌ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｃ
ｒ，Ｔｉ，Ｔａ，ＭｏまたはＰｔなどの単体金属からな
るスパッタ膜で構成されており、その厚さは１〜２００
ｎｍの範囲内にあるが、これら単体金属からなるスパッ
タ膜の内でも純Ａｇからなるスパッタ膜は光記録媒体に
記録するための波長：４５０〜８３０ｎｍの光ビームに
対して最も高い反射率を示し、さらに価格もその他の貴
金属からなる反射膜に比べて安価なところから、光記録
媒体の反射膜として最も好ましいとされている。
いる反射膜５は、通常、Ａｌ，Ａｕ，Ａｇ，Ｃｕ，Ｃ
ｒ，Ｔｉ，Ｔａ，ＭｏまたはＰｔなどの単体金属からな
るスパッタ膜で構成されており、その厚さは１〜２００
ｎｍの範囲内にあるが、これら単体金属からなるスパッ
タ膜の内でも純Ａｇからなるスパッタ膜は光記録媒体に
記録するための波長：４５０〜８３０ｎｍの光ビームに
対して最も高い反射率を示し、さらに価格もその他の貴
金属からなる反射膜に比べて安価なところから、光記録
媒体の反射膜として最も好ましいとされている。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】しかし、純Ａｇからな
るスパッタ膜は、光ビームの繰り返し照射により時間の
経過と共に再結晶化し、それに伴って膜の表面に凹凸が
発生して、乱反射が大きくなって反射率が低下し、光記
録媒体の反射膜として使用することはできなくなる欠点
があった。
るスパッタ膜は、光ビームの繰り返し照射により時間の
経過と共に再結晶化し、それに伴って膜の表面に凹凸が
発生して、乱反射が大きくなって反射率が低下し、光記
録媒体の反射膜として使用することはできなくなる欠点
があった。
【０００６】
【課題を解決するための手段】そこで、本発明者らは、
純Ａｇ製反射膜のもつ反射率とほぼ同等であって、しか
も繰り返し光ビームを照射して時間が経過しても再結晶
化による反射率が低下することの少ない光記録媒体用反
射膜を得るべく研究を行った。その結果、純ＡｇにＣ
ａ：１０〜１０００ｐｐｍ添加したＡｇ合金からなる反
射膜は、Ｃａの添加量は微量であるために反射率は純Ａ
ｇとほぼ同じであり、しかも純Ａｇ製反射膜に比べて再
結晶化が抑制され、時間が経過しても反射率の低下が少
なくなる、という研究結果が得られたのである。
純Ａｇ製反射膜のもつ反射率とほぼ同等であって、しか
も繰り返し光ビームを照射して時間が経過しても再結晶
化による反射率が低下することの少ない光記録媒体用反
射膜を得るべく研究を行った。その結果、純ＡｇにＣ
ａ：１０〜１０００ｐｐｍ添加したＡｇ合金からなる反
射膜は、Ｃａの添加量は微量であるために反射率は純Ａ
ｇとほぼ同じであり、しかも純Ａｇ製反射膜に比べて再
結晶化が抑制され、時間が経過しても反射率の低下が少
なくなる、という研究結果が得られたのである。
【０００７】この発明は、かかる研究結果に基づいて成
されたものであって、（１）Ｃａ：１０〜１０００ｐｐ
ｍを含有し、残部がＡｇおよび不可避不純物からなる組
成のＡｇ合金からなる光記録媒体用反射膜、に特徴を有
するものである。
されたものであって、（１）Ｃａ：１０〜１０００ｐｐ
ｍを含有し、残部がＡｇおよび不可避不純物からなる組
成のＡｇ合金からなる光記録媒体用反射膜、に特徴を有
するものである。
【０００８】前記（１）記載のＡｇ合金からなる光記録
媒体用反射膜は、Ｃａ：１０〜１０００ｐｐｍを含有
し、残部がＡｇおよび不可避不純物からなる組成のＡｇ
合金製ターゲットを用いてスパッタリングすることによ
り作製することができる。したがって、この発明は、
（２）Ｃａ：１０〜１０００ｐｐｍを含有し、残部がＡ
ｇおよび不可避不純物からなる組成のＡｇ合金からなる
光記録媒体用反射膜形成用スパッタリングターゲット、
に特徴を有するものである。
媒体用反射膜は、Ｃａ：１０〜１０００ｐｐｍを含有
し、残部がＡｇおよび不可避不純物からなる組成のＡｇ
合金製ターゲットを用いてスパッタリングすることによ
り作製することができる。したがって、この発明は、
（２）Ｃａ：１０〜１０００ｐｐｍを含有し、残部がＡ
ｇおよび不可避不純物からなる組成のＡｇ合金からなる
光記録媒体用反射膜形成用スパッタリングターゲット、
に特徴を有するものである。
【０００９】この発明の光記録媒体用反射膜に含まれる
Ｃａの量を１０〜１０００ｐｐｍに限定した理由は、Ｃ
ａが１０ｐｐｍ未満含有しても再結晶化抑制効果が発現
しないので好ましくなく、一方、Ｃａが１０００ｐｐｍ
を越えて含有すると反射率が低下するので好ましくない
という理由によるものである。Ｃａ含有量の一層好まし
い範囲は２００〜１０００ｐｐｍである。
Ｃａの量を１０〜１０００ｐｐｍに限定した理由は、Ｃ
ａが１０ｐｐｍ未満含有しても再結晶化抑制効果が発現
しないので好ましくなく、一方、Ｃａが１０００ｐｐｍ
を越えて含有すると反射率が低下するので好ましくない
という理由によるものである。Ｃａ含有量の一層好まし
い範囲は２００〜１０００ｐｐｍである。
【００１０】
【発明の実施の形態】通常の真空溶解炉を用いて、表１
の実施例１〜５、比較例１〜２および従来例に示される
成分組成のＣａ含有のＡｇ合金溶湯および純Ａｇ溶湯を
調製し、これらＣａ含有のＡｇ合金溶湯および純Ａｇ溶
湯を鋳型に鋳込むことにより厚さ：３０ｍｍ、幅：１０
０ｍｍ、長さ：１２０ｍｍの寸法を有するインゴットを
作製し、これらインゴットを圧延し面削して直径：１２
７ｍｍ、厚さ：１２ｍｍの寸法を有するターゲットを作
製した。
の実施例１〜５、比較例１〜２および従来例に示される
成分組成のＣａ含有のＡｇ合金溶湯および純Ａｇ溶湯を
調製し、これらＣａ含有のＡｇ合金溶湯および純Ａｇ溶
湯を鋳型に鋳込むことにより厚さ：３０ｍｍ、幅：１０
０ｍｍ、長さ：１２０ｍｍの寸法を有するインゴットを
作製し、これらインゴットを圧延し面削して直径：１２
７ｍｍ、厚さ：１２ｍｍの寸法を有するターゲットを作
製した。
【００１１】これらターゲットを直流スパッタリング装
置に装入し、 出力：５００Ｗ、 雰囲気：１×１０-3ＴｏｒｒのＡｒガス、 の条件でスパッタリングすることにより基板の表面にタ
ーゲットと同一の成分組成を有し、厚さ：１００ｎｍの
Ａｇ合金製反射膜および純Ａｇ製反射膜を形成し、得ら
れた反射膜に、通常の相変化型光記録媒体の書き込みに
用いる出力：１５ｍＷ、波長：６３２．８ｎｍのレーザ
ー光を１００００回照射し、１回目照射時の反射率およ
び１００００回目照射時の反射率を測定し、その結果を
表１に示した。
置に装入し、 出力：５００Ｗ、 雰囲気：１×１０-3ＴｏｒｒのＡｒガス、 の条件でスパッタリングすることにより基板の表面にタ
ーゲットと同一の成分組成を有し、厚さ：１００ｎｍの
Ａｇ合金製反射膜および純Ａｇ製反射膜を形成し、得ら
れた反射膜に、通常の相変化型光記録媒体の書き込みに
用いる出力：１５ｍＷ、波長：６３２．８ｎｍのレーザ
ー光を１００００回照射し、１回目照射時の反射率およ
び１００００回目照射時の反射率を測定し、その結果を
表１に示した。
【００１２】
【表１】
【００１３】
【発明の効果】表１に示される結果から、実施例１〜５
で作製したＣａ：１０〜１０００ｐｐｍ含有のＡｇ合金
製反射膜は、従来例で作製した純Ａｇ製反射膜およびＣ
ａ：１０ｐｐｍ未満の比較例１で作製したＡｇ合金製反
射膜に比べて反射率の減少が少ないところから、光記録
媒体用反射膜として一層長期間使用可能であることが分
かる。またＣａ：１０００ｐｐｍを越えて含有する比較
例２で作製したＡｇ合金製反射膜は光記録媒体用反射膜
として使用不可能であることが分かる。
で作製したＣａ：１０〜１０００ｐｐｍ含有のＡｇ合金
製反射膜は、従来例で作製した純Ａｇ製反射膜およびＣ
ａ：１０ｐｐｍ未満の比較例１で作製したＡｇ合金製反
射膜に比べて反射率の減少が少ないところから、光記録
媒体用反射膜として一層長期間使用可能であることが分
かる。またＣａ：１０００ｐｐｍを越えて含有する比較
例２で作製したＡｇ合金製反射膜は光記録媒体用反射膜
として使用不可能であることが分かる。
【図１】光記録媒体の膜構造断面図である。
１ 基板
２ 下部誘電体膜
３ 記録膜
４ 上部誘電体膜
５ 反射膜
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 高田 佳明
兵庫県三田市テクノパ−ク12−６ 三菱マ
テリアル株式会社三田工場内
Ｆターム(参考） 4K029 BA22 BC07 BD00 BD09 DC04
5D029 MA13
5D075 EE03 FG01
5D121 AA05 EE09 EE14
Claims (2)
- 【請求項１】Ｃａ：１０〜１０００ｐｐｍを含有し、残
部がＡｇおよび不可避不純物からなる組成のＡｇ合金か
らなることを特徴とする光記録媒体用反射膜。 - 【請求項２】Ｃａ：１０〜１０００ｐｐｍを含有し、残
部がＡｇおよび不可避不純物からなる組成のＡｇ合金か
らなることを特徴とする光記録媒体用反射膜形成用スパ
ッタリングターゲット。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001184251A JP2003006926A (ja) | 2001-06-19 | 2001-06-19 | 光記録媒体用反射膜 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2001184251A JP2003006926A (ja) | 2001-06-19 | 2001-06-19 | 光記録媒体用反射膜 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003006926A true JP2003006926A (ja) | 2003-01-10 |
Family
ID=19024044
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2001184251A Pending JP2003006926A (ja) | 2001-06-19 | 2001-06-19 | 光記録媒体用反射膜 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003006926A (ja) |
Cited By (7)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004081929A1 (ja) * | 2003-03-13 | 2004-09-23 | Mitsubishi Materials Corporation | 光記録媒体の反射層形成用銀合金スパッタリングターゲット |
| WO2008059581A1 (en) | 2006-11-17 | 2008-05-22 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Thin film for reflection film or semi-transparent reflection film, sputtering target, and optical recording medium |
| WO2008059582A1 (fr) | 2006-11-17 | 2008-05-22 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Film mince pour film réfléchissant ou semi-réfléchissant, cible de pulvérisation et support d'enregistrement optique |
| WO2008059580A1 (fr) | 2006-11-17 | 2008-05-22 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Film mince utilisé comme film réfléchissant ou film réfléchissant à transmission partielle, cible de pulvérisation et support d'enregistrement optique |
| WO2008059579A1 (en) | 2006-11-17 | 2008-05-22 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Thin film for reflective film or semi-transmitting reflective film, sputtering target, and optical recording medium |
| US8815149B2 (en) | 2005-12-29 | 2014-08-26 | Mitsubishi Materials Corporation | Semi-reflective film and reflective film for optical recording medium, and Ag alloy sputtering target for forming semi-reflective film or reflective film for optical recording medium |
| WO2021090581A1 (ja) * | 2019-11-08 | 2021-05-14 | 三菱マテリアル株式会社 | Ａｇ合金スパッタリングターゲット、及び、Ａｇ合金膜 |
-
2001
- 2001-06-19 JP JP2001184251A patent/JP2003006926A/ja active Pending
Cited By (9)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2004081929A1 (ja) * | 2003-03-13 | 2004-09-23 | Mitsubishi Materials Corporation | 光記録媒体の反射層形成用銀合金スパッタリングターゲット |
| US8815149B2 (en) | 2005-12-29 | 2014-08-26 | Mitsubishi Materials Corporation | Semi-reflective film and reflective film for optical recording medium, and Ag alloy sputtering target for forming semi-reflective film or reflective film for optical recording medium |
| WO2008059581A1 (en) | 2006-11-17 | 2008-05-22 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Thin film for reflection film or semi-transparent reflection film, sputtering target, and optical recording medium |
| WO2008059582A1 (fr) | 2006-11-17 | 2008-05-22 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Film mince pour film réfléchissant ou semi-réfléchissant, cible de pulvérisation et support d'enregistrement optique |
| WO2008059580A1 (fr) | 2006-11-17 | 2008-05-22 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Film mince utilisé comme film réfléchissant ou film réfléchissant à transmission partielle, cible de pulvérisation et support d'enregistrement optique |
| WO2008059579A1 (en) | 2006-11-17 | 2008-05-22 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Thin film for reflective film or semi-transmitting reflective film, sputtering target, and optical recording medium |
| US7910190B2 (en) | 2006-11-17 | 2011-03-22 | Tanaka Kinkinzoku Kogyo K.K. | Thin film for reflection film or for semi-transparent reflection film, sputtering target and optical recording medium |
| US7951442B2 (en) | 2006-11-17 | 2011-05-31 | Tanaka Kikinzoku Kogyo K.K. | Thin film for reflection film or for semi-transparent reflection film, sputtering target and optical recording medium |
| WO2021090581A1 (ja) * | 2019-11-08 | 2021-05-14 | 三菱マテリアル株式会社 | Ａｇ合金スパッタリングターゲット、及び、Ａｇ合金膜 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20060331 |
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Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20071001 |
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| A02 | Decision of refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A02 Effective date: 20080208 |