JP2003006181A - 電磁波解析装置および電磁波解析プログラム - Google Patents
電磁波解析装置および電磁波解析プログラムInfo
- Publication number
- JP2003006181A JP2003006181A JP2001193224A JP2001193224A JP2003006181A JP 2003006181 A JP2003006181 A JP 2003006181A JP 2001193224 A JP2001193224 A JP 2001193224A JP 2001193224 A JP2001193224 A JP 2001193224A JP 2003006181 A JP2003006181 A JP 2003006181A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- calculation
- electromagnetic field
- cell
- calculated
- electromagnetic
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
- 238000004364 calculation method Methods 0.000 claims abstract description 242
- 230000005672 electromagnetic field Effects 0.000 claims abstract description 100
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 claims abstract description 93
- 238000000034 method Methods 0.000 claims description 57
- 230000001052 transient effect Effects 0.000 claims description 15
- 230000008569 process Effects 0.000 claims description 5
- 230000005684 electric field Effects 0.000 description 41
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 24
- 238000012545 processing Methods 0.000 description 15
- 230000006399 behavior Effects 0.000 description 14
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 12
- 230000015654 memory Effects 0.000 description 10
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 7
- 238000013500 data storage Methods 0.000 description 7
- 230000008859 change Effects 0.000 description 6
- 238000004891 communication Methods 0.000 description 6
- 230000006870 function Effects 0.000 description 6
- 238000005259 measurement Methods 0.000 description 5
- 238000004088 simulation Methods 0.000 description 5
- 230000001902 propagating effect Effects 0.000 description 4
- 241000699666 Mus <mouse, genus> Species 0.000 description 3
- 239000013256 coordination polymer Substances 0.000 description 3
- 230000035699 permeability Effects 0.000 description 3
- 238000013461 design Methods 0.000 description 2
- 230000006872 improvement Effects 0.000 description 2
- 230000000644 propagated effect Effects 0.000 description 2
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 2
- NNJPGOLRFBJNIW-HNNXBMFYSA-N (-)-demecolcine Chemical compound C1=C(OC)C(=O)C=C2[C@@H](NC)CCC3=CC(OC)=C(OC)C(OC)=C3C2=C1 NNJPGOLRFBJNIW-HNNXBMFYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 241000699670 Mus sp. Species 0.000 description 1
- 238000010521 absorption reaction Methods 0.000 description 1
- 230000032823 cell division Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 230000005520 electrodynamics Effects 0.000 description 1
- 230000005284 excitation Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 230000003287 optical effect Effects 0.000 description 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 description 1
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 1
- 238000012732 spatial analysis Methods 0.000 description 1
- 238000012546 transfer Methods 0.000 description 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F30/00—Computer-aided design [CAD]
- G06F30/20—Design optimisation, verification or simulation
- G06F30/23—Design optimisation, verification or simulation using finite element methods [FEM] or finite difference methods [FDM]
-
- G—PHYSICS
- G06—COMPUTING; CALCULATING OR COUNTING
- G06F—ELECTRIC DIGITAL DATA PROCESSING
- G06F2111/00—Details relating to CAD techniques
- G06F2111/10—Numerical modelling
Landscapes
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Physics & Mathematics (AREA)
- Theoretical Computer Science (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Evolutionary Computation (AREA)
- Geometry (AREA)
- General Engineering & Computer Science (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Complex Calculations (AREA)
- Management, Administration, Business Operations System, And Electronic Commerce (AREA)
Abstract
させる。 【解決手段】 セルサイズ判断手段2は、解析領域1に
設定された各計算位置P1,P2に関し、周囲のセルの
サイズの同一性を判断する。第1の計算手段3は、セル
サイズ判断手段2において周囲のセルのサイズが同じで
あると判断された計算位置P1における電磁界を、第1
の計算手法で計算する。第2の計算手段4は、セルサイ
ズ判断手段2において周囲のセルのサイズが異なると判
断された計算位置P2における電磁界を、第1の計算手
法よりも少ない誤差で計算可能な第2の計算手法で計算
する。出力手段5は、第1の計算手段と第2の計算手段
とにより計算された各計算位置における電磁界の値を出
力する。
Description
式を時間と空間について差分法で解く電磁波解析装置お
よび電磁波解析プログラムに関し、特に空間を不均一な
サイズのセルに分割してマックスウェル方程式の解を求
める電磁波解析装置および電磁波解析プログラムに関す
る。
使った数値計算によって解析する方法の一つに時間領域
差分法(Finite-Difference Time-Domain Method、以下
FDTD法という)がある。この手法は、マックスウェ
ル方程式を時間と空間について差分法で解く方法であ
り、適用範囲が広いこと、計算精度や計算効率が良好で
あることなどから、今日幅広く利用されている。FDT
D法については、「K.S.Yee, "Numerical solution of
initial boundary value problems involving Maxwell'
s equations in isotropic media,"IEEE Trans. AP-14,
pp.302-307, 1966.」や「A.Taflove, Computational E
lectrodynamics, MA, Artech House, 1995.」に詳し
い。
つの回転の式を、時間tと空間(x−y−z空間)につ
いて差分法で解く方法である。以下に、マックスウェル
方程式について説明する。なお、以下の式において、E
xは電界のx軸方向の成分、Eyは電界のy軸方向の成
分、Ezは電界のz軸方向の成分、Hxは磁界のx軸方
向の成分、Hyは磁界のy軸方向の成分、Hzは磁界の
z軸方向の成分、μは透磁率、εは誘電率、σは電気伝
導率である。
ックスウェル方程式は、次の式で表される。
波)のマックスウェル方程式は、TM波(Transverse Ma
gnetic wave)については次の式で表される。
波)のマックスウェル方程式は、TE波(Transverse El
ectric wave)については次の式で表される。
で表される。
のセル(差分格子)に分割することにより、空間的な離
散化を行う。このとき、セルの大きさが小さいほど、電
磁波の過渡的な挙動が急激に変わる領域においても、少
ない誤差で計算することができる。
した場合、しばしば多大なセル数を必要とし、計算時間
や計算機メモリの増加を引き起こす。そこで、大きさの
異なるセルを組み合わせて用いるいわゆる不均一なセル
で解析領域を分割することにより、セル数を節約するこ
とがたびたび行われる。
イズが不均一なセルで分割した場合、セルサイズが相異
なる領域の境界(以下、セルサイズ境界という)におい
て、誤差が増加することが知られている。
セルに基づいた差分近似の中心位置とセルサイズ境界の
位置とがずれてしまう。この位置のずれに基づく差分近
似の打ち切り誤差が、電磁波解析における誤差の増加を
招いている。
打ち切り誤差は2次のオーダであるが、セルサイズ境界
における差分近似の打ち切り誤差は1次のオーダであ
る。これは、解析対象よっては、計算制度を著しく低下
させる要因となる。
のであり、不均一セルを用いた電磁波解析の誤差を低減
させた電磁波解析装置を提供することを目的とする。
決するために、図1に示すような電磁波解析装置が提供
される。本発明に係る電磁波解析装置は、解析領域1を
複数のセルに分割し、セル毎の電磁界の過渡的な挙動を
数値計算するものである。
断手段2、第1の計算手段3、第2の計算手段4および
出力手段5を有している。セルサイズ判断手段2は、解
析領域1に設定された各計算位置P1,P2に関し、周
囲のセルのサイズの同一性を判断する。第1の計算手段
3は、セルサイズ判断手段2において周囲のセルのサイ
ズが同じであると判断された計算位置P1における電磁
界を、第1の計算手法で計算する。第2の計算手段4
は、セルサイズ判断手段2において周囲のセルのサイズ
が異なると判断された計算位置P2における電磁界を、
第1の計算手法よりも少ない誤差で計算可能な第2の計
算手法で計算する。出力手段5は、第1の計算手段と第
2の計算手段とにより計算された各計算位置における電
磁界の値を出力する。
ズの同じセルサイズが均一な領域内の計算位置において
は、セルサイズ判断手段2によって、周囲のセルのサイ
ズが同一であると判断される。すると、その計算位置の
電磁界は、第1の計算手段3により、第1の計算手法で
計算される。一方、異なるサイズのセル同士の隣接する
計算位置では、セルサイズ判断手段2によって、周囲の
セルのサイズが異なると判断される。すると、その計算
位置の電磁界は、第2の計算手段4により、第1の計算
手法よりも誤差の少ない第2の計算手法で計算される。
第1の計算手段3および第2の計算手段4で計算された
電磁界の値は、出力手段5によって出力される。
を参照して説明する。図1は、本発明の原理構成図であ
る。本発明に係る電磁波解析装置は、電磁波の挙動を数
値計算する場合に、マックスウェル方程式を時間と空間
について差分法で解くものである。差分法では、解析領
域1を複数のセルに分割し、セル毎の電磁界の過渡的な
挙動を数値計算するものである。
断手段2、第1の計算手段3、第2の計算手段4および
出力手段5を有している。セルサイズ判断手段2は、解
析領域1に設定された各計算位置P1,P2に関し、周
囲のセルのサイズの同一性を判断する。
領域1に設定された座標軸毎に、隣接するセルの各軸方
向の幅の同一性を判断する。すなわち、セルサイズ判断
手段2は、ある軸方向に隣接するセル同士のその軸方向
へのセルの幅が同じであれば、その軸方向への電磁波解
析においては、周囲のセルのサイズが同一であるものと
判断する。一方、セルサイズ判断手段2は、ある軸方向
に隣接するセル同士のその軸方向へのセルの幅が異なれ
ば、その軸方向への電磁波解析においては、周囲のセル
のサイズが異なるものと判断する。
2において周囲のセルのサイズが同じであると判断され
た計算位置P1における電磁界を、第1の計算手法で計
算する。たとえば、第1の計算手段3は、電界または磁
界の偏微分係数を算出する際に、陰的スキーム(陰解法
に基づいた計算手法)を用いず、既に算出されている磁
界の値から算出する。
2において周囲のセルのサイズが異なると判断された計
算位置P2における電磁界を、第1の計算手法よりも少
ない誤差で計算可能な第2の計算手法で計算する。
ルのサイズが異なる計算位置の電磁界の偏微分係数を算
出する際に、高次の陰的スキームを用いて算出する。こ
のとき、第2の計算手段4は、周囲のセルのサイズが異
なる計算位置の周囲の電磁界の微分係数を前記第1の計
算手段3から取得し、第1の計算手段3で計算された電
磁界の微分係数を用いて、陰的スキームの解を求める。
計算手段4とにより計算された各計算位置における電磁
界の値を出力する。このような電磁波解析装置によれ
ば、セルサイズが均一な領域内の計算位置においては、
セルサイズ判断手段2によって、周囲のセルのサイズが
同一であると判断される。すると、その計算位置の電磁
界は、第1の計算手段3により、第1の計算手法で計算
される。一方、異なるサイズのセル同士の隣接する計算
位置では、セルサイズ判断手段2によって、周囲のセル
のサイズが異なると判断される。すると、その計算位置
の電磁界は、第2の計算手段4により、第1の計算手法
よりも誤差の少ない第2の計算手法で計算される。第1
の計算手段3および第2の計算手段4で計算された電磁
界の値は、出力手段5によって出力される。
相異なる領域が存在する場合、セルの大きさが均一の領
域における電磁界の計算式と、異なる大きさのセルの境
界における電磁界の計算式とが異なる。セルの中心を磁
場の計算位置とし、セル同士の境界を電界の計算位置と
した場合、たとえば、以下の計算式で電磁界を求め出す
ことができる。
考える。また、電気伝導率σは0とする。電磁波解析シ
ミュレーションにおける時刻Δt(時間刻み幅)×n
(nは0以上の整数)までの電磁界の過渡的変化が計算
されているときに、時刻Δt×(n+1)までの電磁界
を求めるときの計算式を以下に示す。
Δt×(n+1)をn+1と表し、時刻Δt×(n+1
/2)をn+1/2と表すものとする。各物理量の右上
に、その物理量の計算時刻(シミュレーション上の時
刻)を示す。
セルの始点位置を示している。i+Δx(x軸方向の空
間刻み幅:セルサイズ)は、i+1番目のセルの始点位
置である。i+1/2は、i番目のセルの中心位置であ
る。各物理量の右下に、その物理量の計算位置を示す。
偏微分係数は、
は、
偏微分係数は、セルサイズが均一な領域においては、
打ち切り誤差は2次のオーダである。打ち切り誤差の詳
細は後述する。また、セルサイズ境界における偏微分係
数は、
の通りである。
3次のオーダである。打ち切り誤差の詳細は後述する。
なお、セルサイズ境界における偏微分係数を求める場
合、始めにセルサイズ境界以外の場所における空間につ
いての偏微分係数を式(16)および式(18)を用い
て差分近似する。次にセルサイズ境界上における空間に
ついての偏微分係数を式(19)を用いて差分近似す
る。
計算は、ある特定の軸方向(ここではx方向)に着目
し、E(電界)がセルの端、H(磁界)がセルの中心に配置
した場合に成立する。E(電界)がセルの中心、H(磁界)
がセルの端に配置してある場合は、式(15)から式
(22)の各式のEとHならびにεとμを入れ替えれば
よい。
さが相異なる領域の境界上における空間についての偏微
分係数は、式(19)を用いて差分近似しているため、
差分近似の打ち切り誤差は2次のオーダとなる。なお、
それ以外の場所における空間についての偏微分係数を差
分近似する場合には、従来と同様の式(16)および式
(18)を用いるが、これは中心差分であることが保証
されるので、差分近似の打ち切り誤差は常に2次のオー
ダとなる。
とができる。すなわち、不均一セルを用いた電磁波解析
全体としての計算精度が向上する。ここで、上記計算式
の導出方法について説明する。
数f(x)について、次のテーラー級数を考える。
について解くと、
ルタである。すなわち、(Δxi−Δxi-1)=0のとき
δ(Δxi−Δxi-1)=0であり、(Δxi−Δxi-1)
≠0のときδ(Δxi−Δxi-1)=1である。O(Δx
m)は、Δxに関してm次のオーダの項を表している。
Δxは、十分小さな値(1未満)であるため、ある項の
次数が高いほど、その項の値は小さな値となる。
ついての差分近似を考察しているが、時間についても同
様である。すなわち、x座標を時間tに置き換え、Δx
を電磁波解析における時間刻み幅Δtに置き換え、計算
位置iを時刻nに置き換えればよい。ここで、時間刻み
幅Δtは常に一定であるものとする。すると、(Δt i
−Δti-1)=0、すなわちδ=0である。
ず、セルサイズが均一な場合の計算式を求める。図2
は、均一セルにおける電磁界計算位置の配置図である。
図2では、電界計算位置21を黒棒で示し、磁界計算位
置22を白棒で示している。図2に示すように、電界計
算位置21と磁界計算位置22とが、X軸上に交互に配
置されている。この例では、隣接する2つの電界計算位
置21に挟まれる領域がセルである。従って、電界計算
位置21の間隔が空間刻み幅(セルサイズ)Δxであ
る。
21は等間隔に配置されている。隣接する電界計算位置
21の中間に、磁界計算位置22が配置されている。な
お、i番目のセルの中央に配置された磁界計算位置22
は、「i+1/2」で表すものとする。
i−Δxi-1)=0となる。すなわち、δ=0である。従
って、均一セルの場合には、式(1)、式(2)に示し
た1次元のマックスウェル方程式に対して、時間と空間
とに関して式(25)に基づく差分法を適用すると、
を均一なサイズのセルで一様に分割した場合、電磁界成
分の時間と空間についての偏微分係数は、式(27)お
よび式(29)に示す中心差分で近似され、打ち切り誤
差は2次のオーダである。
合、セルの大きさが相異なる領域の境界上での偏微分係
数は、空間についての差分近似が中心差分からずれる。
図3は、不均一セルにおける電磁界計算位置の配置図で
ある。図3では、電界計算位置23を黒棒で示し、磁界
計算位置24を白棒で示している。図3に示すように、
電界計算位置23と磁界計算位置24とが、X軸上に交
互に配置されている。この例では、隣接する2つの電界
計算位置23に挟まれる領域がセルである。
であり、不均一なセルが形成されている。図3の例で
は、i−1番目のセルの電界計算位置(i−1)とi番
目のセルの電界計算位置(i)との距離よりも、i番目
のセルの電界計算位置(i)とi+1番目のセルの電界
計算位置(i+1)との距離の方が長い。すなわち、i
−1番目のセルのセルサイズΔxi-1とi番目のセルの
セルサイズΔxiとは異なる大きさである。すなわち、
電界計算位置(i)は、セルサイズ境界である。
における磁界の偏微分係数は、i−1番目のセルの中心
に設定された磁界計算位置(i−1/2)とi+1番目
のセルの中心に設定された磁界計算位置(i+1/2)
とに基づいて計算される。ところが、電界計算位置
(i)は、磁界計算位置(i−1/2)と磁界計算位置
(i+1/2)との中点とずれている。
(i)での磁界の偏微分係数を求める式(29)は、以
下の式(30)に置き換えられる。
均一な場合、打ち切り誤差が1次のオーダになってしま
う。この打ち切り誤差の増加は、解析対象によっては著
しい計算誤差の原因となる。
する方法として、高次の差分近似を用いる方法を部分的
に適用する。高次の差分近似については、「W.J.Goedhe
er and J.H.H.M.Potters,"A compact finite differenc
e scheme on a non-equidistance mesh,"Journal of Co
mputational Physics, Vol. 61, pp.269-279, 1985.」
や「A.Taflove, Advances in Computational Electro-
dynamics, MA, ArtechHouse, pp.71, 1998.」に説明さ
れている。
分近似を、以下のようにして導出した。まず、次のテー
ラー級数を考える。
(34)}から、
×{(Δxi−Δxi-1)/8}から、
(34)}×Δxiから、
{式(38)}×{(−2Δxi 2+5ΔxiΔxi-1−2
Δxi-1 2)/24}から、
+Δxi-1)Δxi-1 Δxi-1}/2で割って整理する
と、
〜式(22)に示した通りである。ここで、均一セルで
あればδ=0となり、電界および磁界のそれぞれに関し
て、
(42)による電磁波解析を行えば、打ち切り誤差は、
式(41)と式(42)とを用いた均一セルでは4次の
オーダとなる。不均一セルでは、セルサイズ境界におい
て式(40)が適用され、部分的に3次のオーダとな
る。すなわち、従来の方法に比べて打ち切り誤差を低減
させることが可能となる。
(42)は陰解法である。すなわち、1つの式の中の複
数の項に、同じ時刻の異なる計算位置の偏微分係数が含
まれている。そのため、任意の偏微分係数を算出するに
は、以下の式(44)で表現される連立一次方程式を解
く必要が生じる。
すべてに関して求めると、計算時間の増加を招いてしま
う。そこで、式(40)を局所的に適用することを考え
る。はじめに、セルサイズ境界以外の偏微分係数を式
(29)により、2次のオーダの打ち切り誤差で算出す
る。式(29)は、すでに求められている磁界の値か
ら、直接算出することができる。
(40)により算出する。このとき、式(40)の左辺
の第1項および第3項は、式(29)によりすでに計算
されているので、式(40)の左辺の第2項を直ちに計
算することができる。
は、打ち切り誤差が2次のオーダで計算されているの
で、式(40)の左辺の第2項の打ち切り誤差も2次の
オーダである。
は、以下のようになる。
省くことで、式(19)が得られる。このように、本発
明では、セルサイズ境界に限定して高次元の差分近似法
を適用する。これにより、計算時間の増加を最小限に抑
えながら、打ち切り誤差を低減させることが可能とな
る。
元(x軸方向に伝搬する電磁波)の場合について説明し
たが、この手法は、2次元や3次元にも容易に拡張する
ことができる。
についても適用可能である。ただし、セルサイズが連続
して変化する場合には、式(19)を計算するために連
立一次方程式を解く必要がある。
ータについて具体的に説明する。図4は、本発明の実施
の形態に用いるコンピュータのハードウェア構成例を示
す図である。コンピュータ100は、CPU(Central P
rocessing Unit)101によって装置全体が制御されて
いる。CPU101には、バス107を介してRAM(R
andom Access Memory)102、ハードディスクドライブ
(HDD:Hard Disk Drive)103、グラフィック処理
装置104、入力インタフェース105、および通信イ
ンタフェース106が接続されている。
るOS(Operating System)のプログラムやアプリケーシ
ョンプログラムの少なくとも一部が一時的に格納され
る。また、RAM102には、CPU101による処理
に必要な各種データが格納される。HDD103は、O
Sやアプリケーションプログラムが格納される。
11が接続されている。グラフィック処理装置104
は、CPU101からの命令に従って、画像をモニタ1
1の画面に表示させる。入力インタフェース105に
は、キーボード12とマウス13とが接続されている。
入力インタフェース105は、キーボード12やマウス
13から送られてくる信号を、バス107を介してCP
U101に送信する。
ク10に接続されている。ネットワーク10は、たとえ
ばインターネットのような広域ネットワークである。通
信インタフェース106は、ネットワーク10を介し
て、他のコンピュータとの間でデータの送受信を行う。
本実施の形態の処理機能を実現することができる。たと
えば、電磁波解析プログラムをコンピュータ100に実
行させることにより、コンピュータ100を電磁波解析
装置として機能させることができる。
ンピュータの機能ブロック図である。コンピュータ10
0には、入力装置12aと出力装置11aとが接続され
ている。
ス13などのデータを入力するための機器である。ユー
ザは、入力装置12aを介して、電磁波解析の初期値を
入力することができる。
タ出力機器である。コンピュータ100で計算された電
磁界の過渡的な挙動を示す情報は、出力装置11aを介
して出力される。
1,電磁界データ記憶部112、セルサイズ判定部11
3、および電磁界計算部114で構成される。初期値設
定部111は、入力装置12aから入力された電磁波解
析の初期値を、電磁界データ記憶部112に設定する。
初期値としては、解析領域の定義(セルサイズ、誘電
率、透磁率、電気伝導率など)や、電磁界の初期状態な
どが設定される。
コンピュータ100のRAM102内の記憶領域であ
る。電磁界データ記憶部112は、初期値設定部111
によって設定された初期値や、電磁界計算部114によ
って計算された電磁界の過渡的な挙動を示す情報を保持
する。
記憶部112に設定されたセルサイズの情報を取得し、
セルサイズ境界を判定する。セルサイズ判定部113
は、セルサイズ境界の場所を、電磁界計算部114に通
知する。
部112に設定された電磁界データに基づいて、電磁界
の過渡的な挙動を計算する。電磁界計算部114は、計
算結果を、逐一電磁界データ記憶部112に格納する。
また、所定の時間分の計算が終了すると、電磁界計算部
114は、電磁界の過渡的な挙動を示す情報を、解析結
果として出力装置11aに対して出力する。解析結果
は、時間刻み幅毎の各時刻における所定の計算位置での
磁界や電界の値である。
理のフローチャートである。以下に、図6に示す処理を
ステップ番号に沿って説明する。 [ステップS11]初期値設定部111は、入力装置1
2aからの入力に応じて初期設定を行う。初期設定の内
容は、セル数、セルサイズ、各セルの材料定数(誘電率
ε、透磁率μ、電気伝導率σなど)、境界条件(吸収境
界条件、電気壁境界条件など)、励振条件(波源の位
置、波形など)、解析終了時間、時間刻み幅などの設定
ならびに電磁界計算のための係数の算出である。
ョンの時刻Tを0に設定する。 [ステップS12]セルサイズ判定部113は、初期設
定で設定された各セルに関して、セルサイズを判定す
る。セルサイズの判定により、両側のセルサイズが等し
い電界配置地点(電界の計算位置)と、両側のセルサイ
ズが異なる電界配置地点とが区別される。
は、両側のセルサイズが等しい電界配置地点における磁
界の偏微分係数を、式(18)によって計算する。 [ステップS14]電磁界計算部114は、両側のセル
サイズが異なる電界配置地点における磁界の偏微分係数
を、式(19)によって計算する。
は、ステップS13,S14で計算した磁界の偏微分係
数を用いて、式(17)によって電界の計算を行う。 [ステップS16]電磁界計算部114は、境界条件に
依存した電界を、別途その条件式に基づいて計算を行
う。その後、電磁界計算部114は、時刻TをΔT/2
だけ進める。
は、式(15)および(16)による磁界の計算を行
う。 [ステップS18]電磁界計算部114は、境界条件に
依存した磁界を、別途その条件式に基づいて計算を行
う。その後、電磁界計算部114は、時刻TをΔT/2
だけ進める。
は、時刻Tが、あらかじめ設定した解析終了時刻Tmax
を超えたか否か判断する。時刻Tが解析終了時刻Tmax
を超えた場合には、処理がステップS20に進められ
る。時刻Tが解析終了時刻Tmaxを超えていない場合に
は、処理がステップS13に進められる。
は、計算結果を出力装置11aへ出力する。以上のよう
な処理により、様々な環境での電磁波の挙動を計算する
ことができる。以下に、電磁波解析の計算事例について
説明する。
いての計算事例を説明する。図7は、平面波の伝搬を計
算するモデルを示す図である。図7では、右方向がx軸
の正、上方向がy軸の正、紙面手前方向がz軸の正であ
る。ここでは、2次元TE波を扱うものとする。図7に
おいて格子状に表されたセルの辺上に電界Ex、Eyが
配置され、セルの中心に磁界Hzが配置されている。
31とセルサイズの小さな領域32とで構成される。領
域31のセルサイズはΔxC×Δy、領域32のセルサ
イズはΔxF×Δyである。セルサイズの異なる2つの
領域31,32は、セルサイズ境界33で接している。
し、X方向の終端はセルサイズ境界から十分遠方になる
ようにしてある。これは、X方向の終端からの反射の影
響を除去するためである。
めに解析領域に便宜的に設けられたものであり、解析対
象自身の特性ではない。そのため、解析領域に電磁波を
伝搬させた場合、計算上、セルサイズ境界からの反射波
が検出されないことが理想である。
分に離れた地点において、電界Eyをガウス波で励振
し、パルスを+X方向へ伝搬させ、セルサイズ境界にお
ける反射量を計算した。Δy=Δxc=1.0mm、ΔxF=
0.1 mmの場合(Δxc/ΔxF=10)の反射特性は、以
下の通りである。
を示す図である。図8では、横軸に周波数(GHz)を
示し、縦軸に反射量(dB)を示している。反射量の数
値は、−120dBに近いほどセルサイズ境界からの反
射が少ないことを意味している。従来手法の反射特性は
実線41で表し、本発明の実施の形態に基づく手法の反
射特性は、点線42で表している。
よれば、従来手法に比べ反射量が20〜40dB低減で
きていることがわかる。これは、セルサイズ境界上の電
界Eyを計算する際に、打ち切り誤差が低減され領域の
不連続性が緩和されたからであると考えられる。
ΔxF=0.025mmの場合(Δxc/ΔxF=40)でもほと
んど変わらない。 [パッチアンテナの反射特性]次に、パッチアンテナの
反射特性の解析結果について説明する。
図9の例では、解析領域50内にパッチアンテナ51が
配置されている。解析領域50は、縦横118.0mmの正方
形の領域である。パッチアンテナ51の先端部は、縦横
共に11.8mmの大きさであり、解析領域50の4方の縁か
ら50.0mm離れている。
52で外部に接続される。パッチアンテナ51は、信号
線52との接続部において、信号線52の両側に深さ4.
0mm、幅1.0mmの溝が形成されている。
る基板の厚さは0.8mm、比誘電率は3.274であるものとす
る。図9に示したパッチアンテナ51は、社団法人電子
情報通信学会マイクロ波シミュレータ研究会において規
範問題とされているマイクロストリップ給電パッチアン
テナである。たとえば、「並木武文, 坂口拓史, 伊藤公
一, “FDTD法を用いたパッチアンテナ解析における計算
精度についての一考察,”信学技法, AP99-12, pp.17-2
2, May 1999.」や「田口光雄, “アンテナ設計から見た
電磁界シミュレータの使い方と評価,” 信学誌, vol.8
3, no.11, pp.878-883, Nov. 2000.」において、パッチ
アンテナ51を用いたシミュレーション例が詳しく説明
されている。
1を計算するために、不均一セルを使って領域分割し、
計算モデルを作成する。図10は、パッチアンテナの計
算モデルの一例を示す図である。図中、右方向がx軸の
正、上方向がy軸の正、紙面手前方向がz軸の正であ
る。
51の端部近傍は、電磁界の特異性を考慮して非常に微
細なセルに分割してある。セルの分割手法に関しては、
「E.M.Daniel and C.J.Railton, "Fast finite differe
nce time domain analysis of microstrip patch anten
nas,"IEEE AP-S Digest, pp.414-417, 1991.」や「大西
輝夫, 柏達也, 内藤行雄, 細矢良雄, “同軸給電パッチ
アンテナのFD-TD解析における効率化の一検討,”信学総
大, B-1-128, 1997.」で説明されている。
51の近傍は非常に微細なセルに分割している。図10
の計算モデルにおける全セル数は76380個である。図1
1は、図10の計算モデルにおける最小ならびに最大セ
ルサイズを示す図である。x軸方向のセルサイズΔXの
最小値(Minimum cell)は、0.200mmである。x軸方向の
セルサイズΔXの最大値(Maximum cell)は、2.000mmで
ある。y軸方向のセルサイズΔYの最小値(Minimum cel
l)は、0.050mmである。y軸方向のセルサイズΔYの最
大値(Maximum cell)は、2.000mmである。z軸方向のセ
ルサイズΔZの最小値(Minimum cell)は、0.069mmであ
る。z軸方向のセルサイズΔZの最大値(Maximum cell)
は、1.200mmである。
収境界条件を設定した。Murの1次の吸収境界条件に関
しては、「G.Mur,"Absorbing Boundary Conditions for
the finite-difference approximation of the time-d
omain electromagnetic fieldequations,"IEEE Trans.E
MC-23, pp.377-382, 1981.」で説明されている通りであ
る。
を用意し、そのサンプルを用いて反射特性を測定すると
共に、本実施の形態における解析手法と従来の解析手法
とにより反射特性を計算した。
特性の計算結果と測定結果とを示す図である。図12で
は、横軸に周波数(GHz)を示し、縦軸に反射量(d
B)を示している。サンプルによる測定結果を破線61
で表し、本発明の実施の形態に基づく手法による計算結
果を点線62で表し、従来手法による計算結果を実線6
3で表している。
の形態に基づく手法で電磁波解析を行えば、従来に比べ
て、測定結果に近い計算結果を得ることができる。な
お、測定値の信頼性については、十分に検討してある。
測定値の信頼性の検討内容は、「並木武文, 坂口拓史,
伊藤公一, “FDTD法を用いたパッチアンテナ解析におけ
る計算精度についての一考察,”信学技法, AP99-12, p
p.17-22, May 1999.」(以下、この文献を「計算精度考
察例」と呼ぶ)に説明されているものと同様である。
周波数を抽出し、測定値に対する計算値の相対誤差を算
出した。図13は、共振周波数と相対誤差を示す図であ
る。測定値に基づく共振周波数(Resonant frequency)
は、7.0100GHzである。従来の手法の計算値に基づく
共振周波数は6.8624GHzであり、相対誤差(Relative
error)は2.10%である。本発明の実施の形態に係る手法
の計算値に基づく共振周波数は6.9756GHzであり、相
対誤差は0.49%である。
0の計算モデルを用いた場合、本手法によって大幅な精
度改善が図れることがわかる。今回の計算で必要とした
CPU時間とメモリサイズを以下に示す。
メモリサイズとを示す図である。従来の手法で使用した
CPU時間は493秒であり、使用したメモリサイズは5.5
MBである。本発明の実施の形態の手法で使用したCP
U時間は666秒であり、使用したメモリサイズは6.4MB
である。
U:UltraSPARC II 360MHz)を使用した。本発明による手
法の場合、通常のFDTD法と比較して、CPU時間は
約1.35倍、メモリは1.16倍増加している。しかし、その
精度改善効果からすれば問題となる程度ではないと考え
られる。
TD法を用いた同様の検討では、不均一セルを使用した
場合は、共振周波数を相対誤差1.0%以下で算出すること
が出来なかった。そして、共振周波数を相対誤差1.0%以
下で算出するためには、莫大な数の微細な均一セルを使
用しなければならなかった。この場合、ほぼ同性能のワ
ークステーションを使用して、CPU時間が600分以
上、メモリが250MB必要であった。これらの結果を鑑
みれば、本発明による手法の有効性は明らかである。
よって実現することができる。その場合、電磁波解析装
置が有すべき機能の処理内容を記述したプログラムが提
供される。そのプログラムをコンピュータで実行するこ
とにより、上記処理機能がコンピュータ上で実現され
る。処理内容を記述したプログラムは、コンピュータで
読み取り可能な記録媒体に記録しておくことができる。
コンピュータで読み取り可能な記録媒体としては、磁気
記録装置、光ディスク、光磁気記録媒体、半導体メモリ
などがある。磁気記録装置には、ハードディスク装置
(HDD)、フレキシブルディスク(FD)、磁気テー
プなどがある。光ディスクには、DVD(Digital Versa
tile Disc)、DVD−RAM(Random Access Memory)、
CD−ROM(Compact Disc Read Only Memory)、CD
−R(Recordable)/RW(ReWritable)などがある。光磁
気記録媒体には、MO(Magneto-Optical disc)などがあ
る。
ば、そのプログラムが記録されたDVD、CD−ROM
などの可搬型記録媒体が販売される。また、プログラム
をサーバコンピュータの記憶装置に格納しておき、ネッ
トワークを介して、サーバコンピュータから他のコンピ
ュータにそのプログラムを転送することもできる。
とえば、可搬型記録媒体に記録されたプログラムもしく
はサーバコンピュータから転送されたプログラムを、自
己の記憶装置に格納する。そして、コンピュータは、自
己の記憶装置からプログラムを読み取り、プログラムに
従った処理を実行する。なお、コンピュータは、可搬型
記録媒体から直接プログラムを読み取り、そのプログラ
ムに従った処理を実行することもできる。また、コンピ
ュータは、サーバコンピュータからプログラムが転送さ
れる毎に、逐次、受け取ったプログラムに従った処理を
実行することもできる。
し、セル毎の電磁界の過渡的な挙動を数値計算する電磁
波解析装置において、前記解析領域に設定された各計算
位置に関し、周囲のセルのサイズの同一性を判断するセ
ルサイズ判断手段と、前記セルサイズ判断手段において
周囲のセルのサイズが同じであると判断された計算位置
における電磁界を、第1の計算手法で計算する第1の計
算手段と、前記セルサイズ判断手段において周囲のセル
のサイズが異なると判断された計算位置における電磁界
を、前記第1の計算手法よりも少ない誤差で計算可能な
第2の計算手法で計算する第2の計算手段と、前記第1
の計算手段と前記第2の計算手段とにより計算された前
記各計算位置における電磁界の値を出力する出力手段
と、を有することを特徴とする電磁波解析装置。
第2の計算手法として、陰的スキームを用いることを特
徴とする付記1記載の電磁波解析装置。 (付記3) 前記第2の計算手段は、前記陰的スキーム
により、周囲のセルのサイズが異なる計算位置の電磁界
の偏微分係数を算出することを特徴とする付記2記載の
電磁波解析装置。
のセルのサイズが同じである計算位置の電磁界の偏微分
係数を計算し、前記第2の計算手段は、周囲のセルのサ
イズが異なる計算位置の周囲の電磁界の微分係数を前記
第1の計算手段から取得し、前記第1の計算手段で計算
された電磁界の微分係数を用いて、前記陰的スキームの
解を求めることを特徴とする付記3記載の電磁波解析装
置。
解析領域に設定された座標軸毎に、隣接するセルの各軸
方向の幅の同一性を判断することを特徴とする付記1記
載の電磁波解析装置。
し、セル毎の電磁界の過渡的な挙動を数値計算するため
の電磁波解析プログラムにおいて、コンピュータに、前
記解析領域に設定された各計算位置に関し、周囲のセル
のサイズの同一性を判断し、周囲のセルのサイズが同じ
であると判断された計算位置における電磁界を、第1の
計算手法で計算し、周囲のセルのサイズが異なると判断
された計算位置における電磁界を、前記第1の計算手法
よりも少ない誤差で計算可能な第2の計算手法で計算
し、前記第1の計算手段と前記第2の計算手段とにより
計算された前記各計算位置における電磁界の値を出力す
る、処理を実行させることを特徴とする電磁波解析プロ
グラム。
陰的スキームを用いることを特徴とする付記6記載の電
磁波解析プログラム。 (付記8) 第2の計算手法による計算の際には、前記
陰的スキームにより、周囲のセルのサイズが異なる計算
位置の電磁界の偏微分係数を算出することを特徴とする
付記7記載の電磁波解析プログラム。
算の際には、周囲のセルのサイズが同じである計算位置
の電磁界の偏微分係数を計算し、前記第2の計算手段
は、周囲のセルのサイズが異なる計算位置の周囲の電磁
界の微分係数を前記第1の計算手段から取得し、前記第
1の計算手段で計算された電磁界の微分係数を用いて、
前記陰的スキームの解を求めることを特徴とする付記8
記載の電磁波解析プログラム。
は、解析領域に設定された座標軸毎に、隣接するセルの
各軸方向の幅の同一性を判断することを特徴とする付記
6記載の電磁波解析プログラム。
割し、セル毎の電磁界の過渡的な挙動を数値計算するた
めの電磁波解析プログラムを記録したコンピュータ読み
取り可能な記録媒体において、前記コンピュータに、前
記解析領域に設定された各計算位置に関し、周囲のセル
のサイズの同一性を判断し、周囲のセルのサイズが同じ
であると判断された計算位置における電磁界を、第1の
計算手法で計算し、周囲のセルのサイズが異なると判断
された計算位置における電磁界を、前記第1の計算手法
よりも少ない誤差で計算可能な第2の計算手法で計算
し、前記第1の計算手段と前記第2の計算手段とにより
計算された前記各計算位置における電磁界の値を出力す
る、処理を実行させることを特徴とする記録媒体。
割し、セル毎の電磁界の過渡的な挙動を数値計算するた
めの電磁波解析方法において、前記解析領域に設定され
た各計算位置に関し、周囲のセルのサイズの同一性を判
断し、周囲のセルのサイズが同じであると判断された計
算位置における電磁界を、第1の計算手法で計算し、周
囲のセルのサイズが異なると判断された計算位置におけ
る電磁界を、前記第1の計算手法よりも少ない誤差で計
算可能な第2の計算手法で計算し、前記第1の計算手段
と前記第2の計算手段とにより計算された前記各計算位
置における電磁界の値を出力する、ことを特徴とする電
磁波解析方法。
セルのサイズが異なる計算位置における電磁界を、他の
計算位置よりも少ない誤差の計算手法で計算するように
したため、セルのサイズが切り替わるセルサイズ境界に
おける計算誤差を減少させることができ、むやみに計算
量を増大させることなく、誤差の少ない電磁波解析を行
うことができる。
る。
ある
ードウェア構成例を示す図である。
機能ブロック図である。
ャートである。
る。
る。
である。
大セルサイズを示す図である。
果と測定結果とを示す図である。
とを示す図である。
打ち切り誤差は2次のオーダであるが、セルサイズ境界
における差分近似の打ち切り誤差は1次のオーダであ
る。これは、解析対象よっては、計算精度を著しく低下
させる要因となる。
における磁界の偏微分係数は、i−1番目のセルの中心
に設定された磁界計算位置(i−1/2)とi番目のセ
ルの中心に設定された磁界計算位置(i+1/2)とに
基づいて計算される。ところが、電界計算位置(i)
は、磁界計算位置(i−1/2)と磁界計算位置(i+
1/2)との中点とずれている。
る基板の厚さは0.8mm、比誘電率は3.274であるものとす
る。図9に示したパッチアンテナ51は、社団法人電子
情報通信学会マイクロ波シミュレータ研究会において規
範問題とされているマイクロストリップ給電パッチアン
テナである。たとえば、「並木武文, 坂口拓史, 伊藤公
一, “FDTD法を用いたパッチアンテナ解析における計算
精度についての一考察,”信学技報, AP99-12, pp.17-2
2, May 1999.」や「田口光雄, “アンテナ設計から見た
電磁界シミュレータの使い方と評価,” 信学誌, vol.8
3, no.11, pp.878-883, Nov. 2000.」において、パッチ
アンテナ51を用いたシミュレーション例が詳しく説明
されている。
の形態に基づく手法で電磁波解析を行えば、従来に比べ
て、測定結果に近い計算結果を得ることができる。な
お、測定値の信頼性については、十分に検討してある。
測定値の信頼性の検討内容は、「並木武文, 坂口拓史,
伊藤公一, “FDTD法を用いたパッチアンテナ解析におけ
る計算精度についての一考察,”信学技報, AP99-12, p
p.17-22, May 1999.」(以下、この文献を「計算精度考
察例」と呼ぶ)に説明されているものと同様である。
Claims (5)
- 【請求項1】 解析領域を複数のセルに分割し、セル毎
の電磁界の過渡的な挙動を数値計算する電磁波解析装置
において、 前記解析領域に設定された各計算位置に関し、周囲のセ
ルのサイズの同一性を判断するセルサイズ判断手段と、 前記セルサイズ判断手段において周囲のセルのサイズが
同じであると判断された計算位置における電磁界を、第
1の計算手法で計算する第1の計算手段と、 前記セルサイズ判断手段において周囲のセルのサイズが
異なると判断された計算位置における電磁界を、前記第
1の計算手法よりも少ない誤差で計算可能な第2の計算
手法で計算する第2の計算手段と、 前記第1の計算手段と前記第2の計算手段とにより計算
された前記各計算位置における電磁界の値を出力する出
力手段と、 を有することを特徴とする電磁波解析装置。 - 【請求項2】 前記第2の計算手段は、前記第2の計算
手法として、陰的スキームを用いることを特徴とする請
求項1記載の電磁波解析装置。 - 【請求項3】 前記第2の計算手段は、前記陰的スキー
ムにより、周囲のセルのサイズが異なる計算位置の電磁
界の偏微分係数を算出することを特徴とする請求項2記
載の電磁波解析装置。 - 【請求項4】 前記第1の計算手段は、周囲のセルのサ
イズが同じである計算位置の電磁界の偏微分係数を計算
し、 前記第2の計算手段は、周囲のセルのサイズが異なる計
算位置の周囲の電磁界の微分係数を前記第1の計算手段
から取得し、前記第1の計算手段で計算された電磁界の
微分係数を用いて、前記陰的スキームの解を求めること
を特徴とする請求項3記載の電磁波解析装置。 - 【請求項5】 解析領域を複数のセルに分割し、セル毎
の電磁界の過渡的な挙動を数値計算するための電磁波解
析プログラムにおいて、 コンピュータに、 前記解析領域に設定された各計算位置に関し、周囲のセ
ルのサイズの同一性を判断し、 周囲のセルのサイズが同じであると判断された計算位置
における電磁界を、第1の計算手法で計算し、 周囲のセルのサイズが異なると判断された計算位置にお
ける電磁界を、前記第1の計算手法よりも少ない誤差で
計算可能な第2の計算手法で計算し、 前記第1の計算手段と前記第2の計算手段とにより計算
された前記各計算位置における電磁界の値を出力する、 処理を実行させることを特徴とする電磁波解析プログラ
ム。
Priority Applications (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001193224A JP3818874B2 (ja) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | 電磁波解析装置および電磁波解析プログラム |
US10/022,539 US6662125B2 (en) | 2001-06-26 | 2001-12-20 | Electromagnetic wave analyzer and program for same |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2001193224A JP3818874B2 (ja) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | 電磁波解析装置および電磁波解析プログラム |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2003006181A true JP2003006181A (ja) | 2003-01-10 |
JP3818874B2 JP3818874B2 (ja) | 2006-09-06 |
Family
ID=19031554
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2001193224A Expired - Lifetime JP3818874B2 (ja) | 2001-06-26 | 2001-06-26 | 電磁波解析装置および電磁波解析プログラム |
Country Status (2)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US6662125B2 (ja) |
JP (1) | JP3818874B2 (ja) |
Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2009294386A (ja) * | 2008-06-04 | 2009-12-17 | Toshiba Corp | リソグラフィシミュレーション方法 |
US7643980B2 (en) | 2005-01-31 | 2010-01-05 | Ricoh Company, Ltd. | Electromagnetic field analysis apparatus, method and computer program |
WO2019171660A1 (ja) * | 2018-03-07 | 2019-09-12 | 住友重機械工業株式会社 | 磁場解析装置、解析方法、及びプログラム |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP4720964B2 (ja) * | 2001-05-31 | 2011-07-13 | 日本電気株式会社 | Fem解析方法、プログラム、およびシステム |
JP2004320885A (ja) * | 2003-04-16 | 2004-11-11 | Hitachi Ltd | 回転機の磁界解析方法及びプログラム |
WO2005057434A1 (ja) * | 2003-12-10 | 2005-06-23 | Murata Manufacturing Co., Ltd. | 電磁界解析装置、電磁界解析プログラムおよびそのプログラムを記録した記録媒体 |
EP1617309B1 (en) * | 2004-07-15 | 2011-01-12 | Fujitsu Limited | Simulation technique with local grid refinement |
JP4520822B2 (ja) * | 2004-10-29 | 2010-08-11 | 富士通株式会社 | 電磁波解析装置、電磁波解析方法および電磁波解析プログラム |
JP4262762B2 (ja) * | 2006-12-11 | 2009-05-13 | シャープ株式会社 | 電磁界解析プログラム |
GB0723222D0 (en) * | 2007-11-27 | 2008-01-09 | Fujitsu Ltd | A very stable multigrid fdtd solver |
GB0723224D0 (en) * | 2007-11-27 | 2008-01-09 | Fujitsu Ltd | A multi-level gris embedding process with uniform and non-uniform grid refinement for multigurid-fdtd electromagnetic solver |
JP5149321B2 (ja) * | 2010-03-24 | 2013-02-20 | 株式会社東芝 | 電磁場シミュレーション方法、電磁場シミュレーション装置、半導体装置の製造方法 |
US9798042B2 (en) | 2013-02-01 | 2017-10-24 | Halliburton Energy Services, Inc. | Simulating an injection treatment of a subterranean zone |
US9416642B2 (en) | 2013-02-01 | 2016-08-16 | Halliburton Energy Services, Inc. | Modeling subterranean rock blocks in an injection treatment simulation |
US9239407B2 (en) | 2013-08-27 | 2016-01-19 | Halliburton Energy Services, Inc. | Injection treatment simulation using condensation |
CN107918696B (zh) * | 2017-10-20 | 2021-05-11 | 西安电子科技大学 | 相控阵天线的多场耦合分析方法及计算机程序 |
JP2021110997A (ja) * | 2020-01-07 | 2021-08-02 | 住友重機械工業株式会社 | シミュレーション方法、シミュレーション装置、及びプログラム |
Family Cites Families (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1994003413A1 (en) * | 1992-08-10 | 1994-02-17 | New Mexico State University Technology Transfer Corporation | A digitally-configurable analog vlsi chip and method for real-time solution of partial differential equations |
US5880838A (en) * | 1996-06-05 | 1999-03-09 | California Institute Of California | System and method for optically measuring a structure |
US6226599B1 (en) | 1997-03-05 | 2001-05-01 | Fujitsu Limted | Electromagnetic wave analyzer apparatus |
JP3633765B2 (ja) | 1997-11-19 | 2005-03-30 | 富士通株式会社 | シミュレーション装置及びシミュレーションプログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
JP3639116B2 (ja) | 1998-06-12 | 2005-04-20 | 富士通株式会社 | 電磁波解析装置及び電磁波解析プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 |
US6665849B2 (en) * | 1999-06-09 | 2003-12-16 | Interuniversitair Microelektronica Centrum Vzw | Method and apparatus for simulating physical fields |
-
2001
- 2001-06-26 JP JP2001193224A patent/JP3818874B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2001-12-20 US US10/022,539 patent/US6662125B2/en not_active Expired - Lifetime
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US7643980B2 (en) | 2005-01-31 | 2010-01-05 | Ricoh Company, Ltd. | Electromagnetic field analysis apparatus, method and computer program |
JP2009294386A (ja) * | 2008-06-04 | 2009-12-17 | Toshiba Corp | リソグラフィシミュレーション方法 |
WO2019171660A1 (ja) * | 2018-03-07 | 2019-09-12 | 住友重機械工業株式会社 | 磁場解析装置、解析方法、及びプログラム |
JPWO2019171660A1 (ja) * | 2018-03-07 | 2021-03-11 | 住友重機械工業株式会社 | 磁場解析装置、解析方法、及びプログラム |
JP7121111B2 (ja) | 2018-03-07 | 2022-08-17 | 住友重機械工業株式会社 | 磁場解析装置、解析方法、及びプログラム |
US11703553B2 (en) | 2018-03-07 | 2023-07-18 | Sumitomo Heavy Industries, Ltd. | Magnetic field analysis device, analysis method, and computer readable medium storing program |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3818874B2 (ja) | 2006-09-06 |
US20030050760A1 (en) | 2003-03-13 |
US6662125B2 (en) | 2003-12-09 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP2003006181A (ja) | 電磁波解析装置および電磁波解析プログラム | |
Hwang et al. | Effective permittivities for second-order accurate FDTD equations at dielectric interfaces | |
Zhao et al. | Thin-stratified medium fast-multipole algorithm for solving microstrip structures | |
US7331023B2 (en) | Modelling current flows in three-dimensional conductive and dielectric bodies | |
JP2009098891A (ja) | シミュレーション装置、シミュレーションプログラム、シミュレーションプログラムが格納された記録媒体およびシミュレーション方法 | |
JP2010204859A (ja) | 電磁界シミュレータ及び電磁界シミュレーション装置 | |
Xiao et al. | A 3-D enlarged cell technique (ECT) for the conformal FDTD method | |
Bao et al. | Integral equation fast solver with truncated and degenerated kernel for computing flaw signals in eddy current non-destructive testing | |
Becker et al. | FDTD modeling of noise in computer packages | |
JP3639116B2 (ja) | 電磁波解析装置及び電磁波解析プログラムを記録したコンピュータ読み取り可能な記録媒体 | |
Gossye et al. | Uncertainty quantification of waveguide dispersion using sparse grid stochastic testing | |
Li et al. | Diversity-guided Lamarckian random drift particle swarm optimization for flexible ligand docking | |
Antonini | Fast multipole method for time domain PEEC analysis | |
JP2007334775A (ja) | 回路解析装置、回路解析方法および回路解析プログラム | |
Hoorfar et al. | Electromagnetic modeling and analysis of wireless communication antennas | |
Yilmaz et al. | A single-boundary implicit and FFT-accelerated time-domain finite element-boundary integral solver | |
Demeester et al. | Construction of the Dirichlet to Neumann boundary operator for triangles and applications in the analysis of polygonal conductors | |
Rusiecki et al. | Internal stirring: an approach to approximate evaluation of shielding effectiveness of small slotted enclosures | |
Gong et al. | Efficient method for the shielding effectiveness of an enclosure with electrically large apertures based on the Cohn model and mirror procedure | |
Li et al. | An accurate effective radius formula based on Taguchi method for calculating resonant frequency of electrically thin and thick circular patch antennas | |
Li et al. | Modeling of doubly lossy and dispersive media with the time‐domain finite‐element dual‐field domain‐decomposition algorithm | |
Celuch et al. | Modeling of cavities and loads with FDTD and FEM methods | |
Chen et al. | A model for the prediction of the shielding effectiveness of cylindrical enclosure | |
Tong et al. | Analysis of propagation characteristics and field images for printed transmission lines on anisotropic substrates using a 2-D-FDTD method | |
JP7401766B2 (ja) | アンテナ設計プログラム、アンテナ設計方法及び情報処理装置 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20050524 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20050715 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20060124 |
|
A521 | Request for written amendment filed |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20060324 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20060613 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20060613 |
|
R150 | Certificate of patent or registration of utility model |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 Ref document number: 3818874 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R150 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20100623 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110623 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120623 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120623 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130623 Year of fee payment: 7 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140623 Year of fee payment: 8 |
|
EXPY | Cancellation because of completion of term |