JP2003001208A - 洗浄方法およびその装置 - Google Patents
洗浄方法およびその装置Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】洗浄用溶媒中のごみなどの微細粒子を除去する
ことが困難であり、また溶媒の粒径を小さくすることが
難しいため、被洗浄物を傷つけることがあったという課
題を解決する。 【解決手段】溶媒（ＣＯ２）の気体をラインフィルタに
通してごみなどの粒子を除去し、ノズルから噴射して固
体粒子または液滴に変換して被洗浄物に噴射して粒子ま
たは有機物を洗浄するようにした。ノズルと被洗浄物の
間のギャップを調節することにより、溶媒を固体粒子ま
たは液滴状にできるので、汚れの程度に応じて最適の溶
媒の状態を選択することができる。また溶媒中のごみ等
の粒子をフィルタで容易に除くことができるので、高価
な純度の高い溶媒を使用しなくてもよくなり、ランニン
グコストを低減することができる。
ことが困難であり、また溶媒の粒径を小さくすることが
難しいため、被洗浄物を傷つけることがあったという課
題を解決する。 【解決手段】溶媒（ＣＯ２）の気体をラインフィルタに
通してごみなどの粒子を除去し、ノズルから噴射して固
体粒子または液滴に変換して被洗浄物に噴射して粒子ま
たは有機物を洗浄するようにした。ノズルと被洗浄物の
間のギャップを調節することにより、溶媒を固体粒子ま
たは液滴状にできるので、汚れの程度に応じて最適の溶
媒の状態を選択することができる。また溶媒中のごみ等
の粒子をフィルタで容易に除くことができるので、高価
な純度の高い溶媒を使用しなくてもよくなり、ランニン
グコストを低減することができる。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】この発明は、ハードディスク
の媒体やシリコンウエハーの表面上の微細な粒子や有機
物を洗浄して除去する洗浄方法およびその装置に関する
ものである。
の媒体やシリコンウエハーの表面上の微細な粒子や有機
物を洗浄して除去する洗浄方法およびその装置に関する
ものである。
【０００２】
【従来の技術】ハードディスクの媒体やシリコンウエハ
ーあるいは液晶ディスプレイを加工するガラス板など
は、表面の凹凸を最小限にし、また微細加工する関係上
その表面を完全に洗浄して、微細な粒子や有機物が残存
しないようにしなければならない。
ーあるいは液晶ディスプレイを加工するガラス板など
は、表面の凹凸を最小限にし、また微細加工する関係上
その表面を完全に洗浄して、微細な粒子や有機物が残存
しないようにしなければならない。
【０００３】このようなシリコンウエハーなどの表面を
洗浄する洗浄装置の１つとして、ＣＯ ２の粉末（ドライ
アイス）を洗浄物の表面に吹き付ける洗浄装置が用いら
れていた。このような洗浄装置では、高圧の液体ＣＯ２
を細いノズルから噴射させてＣＯ２粉末を生成する。す
なわち、ノズルから噴射したＣＯ２は大半が液滴にな
り、その表面が気化して気化熱を奪う。気化熱を奪われ
た液滴は固化してドライアイスになり、ＣＯ２粉末が生
成される。このＣＯ２粉末を被洗浄物に吹き付けて、そ
の表面を洗浄する。ＣＯ２粉末の粒径の大きさはほぼ液
滴の大きさによって決定される。
洗浄する洗浄装置の１つとして、ＣＯ ２の粉末（ドライ
アイス）を洗浄物の表面に吹き付ける洗浄装置が用いら
れていた。このような洗浄装置では、高圧の液体ＣＯ２
を細いノズルから噴射させてＣＯ２粉末を生成する。す
なわち、ノズルから噴射したＣＯ２は大半が液滴にな
り、その表面が気化して気化熱を奪う。気化熱を奪われ
た液滴は固化してドライアイスになり、ＣＯ２粉末が生
成される。このＣＯ２粉末を被洗浄物に吹き付けて、そ
の表面を洗浄する。ＣＯ２粉末の粒径の大きさはほぼ液
滴の大きさによって決定される。
【０００４】また、常温の液体ＣＯ２の代わりに、液体
ＣＯ２を３重点まで冷却して、固体、液体、気体の混合
物をノズルから噴射させて洗浄するという方法も考案さ
れている。３重点以下の温度では液体は存在できないた
め、液体は直ぐに固化し、また気体の一部は冷えて凝集
して固体化する。この場合も、ＣＯ２粉末の粒径はほぼ
液滴のそれによって決定される。
ＣＯ２を３重点まで冷却して、固体、液体、気体の混合
物をノズルから噴射させて洗浄するという方法も考案さ
れている。３重点以下の温度では液体は存在できないた
め、液体は直ぐに固化し、また気体の一部は冷えて凝集
して固体化する。この場合も、ＣＯ２粉末の粒径はほぼ
液滴のそれによって決定される。
【０００５】さらに、ＣＯ２の代わりに液体アルゴンを
３重点まで冷却して、固体、液体、気体の混合物をノズ
ルから噴射させて洗浄する方法も用いられていた。この
場合、アルゴンの３重点は大気圧以下であるので、減圧
した容器内で洗浄を行わなければならないという制約が
ある。
３重点まで冷却して、固体、液体、気体の混合物をノズ
ルから噴射させて洗浄する方法も用いられていた。この
場合、アルゴンの３重点は大気圧以下であるので、減圧
した容器内で洗浄を行わなければならないという制約が
ある。
【０００６】これらの洗浄装置では、ＣＯ２などの気体
が被洗浄物にあたると冷えて結露する。そのため、被洗
浄物をのせるステージをヒータで暖めなければならな
い。アルゴンを用いた洗浄では、被洗浄物を大気中に戻
したときに結露しないように暖めることは必須である。
また、周囲の雰囲気の湿度を下げるために、洗浄する領
域を密閉して低露点のガスを充満させるようにしてい
た。更に、イオナイザで静電気を除去して帯電防止を図
っていた。
が被洗浄物にあたると冷えて結露する。そのため、被洗
浄物をのせるステージをヒータで暖めなければならな
い。アルゴンを用いた洗浄では、被洗浄物を大気中に戻
したときに結露しないように暖めることは必須である。
また、周囲の雰囲気の湿度を下げるために、洗浄する領
域を密閉して低露点のガスを充満させるようにしてい
た。更に、イオナイザで静電気を除去して帯電防止を図
っていた。
【０００７】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、このよ
うな洗浄装置には次のような課題があった。
うな洗浄装置には次のような課題があった。
【０００８】ＣＯ２粉末を用いる洗浄装置では、液体Ｃ
Ｏ２中にごみなどの粒子が存在するとこの粒子が被洗浄
物を傷つけることがあるが、この粒子を除去するのが困
難であるという課題があった。
Ｏ２中にごみなどの粒子が存在するとこの粒子が被洗浄
物を傷つけることがあるが、この粒子を除去するのが困
難であるという課題があった。
【０００９】粒子は液体ＣＯ２が流れる管路中にフィル
タを入れることにより除去することができるが、このフ
ィルタの目を細かくしすぎるとフィルタ通過時の圧損が
大きくなり、フィルタ下流側でドライアイスを生成して
しまうという問題があるために、フィルタの目を細かく
することができなかった。このため、微細な粒子を除去
することができなかった。
タを入れることにより除去することができるが、このフ
ィルタの目を細かくしすぎるとフィルタ通過時の圧損が
大きくなり、フィルタ下流側でドライアイスを生成して
しまうという問題があるために、フィルタの目を細かく
することができなかった。このため、微細な粒子を除去
することができなかった。
【００１０】このため、従来の洗浄装置では高純度の液
体ＣＯ２を用いていたが、高価であるためにランニング
コストが高くなってしまうという課題もあった。
体ＣＯ２を用いていたが、高価であるためにランニング
コストが高くなってしまうという課題もあった。
【００１１】また、ノズルから噴射するドライアイスの
粒径はノズルの径と流速で決定されるが、機械加工の精
度上ノズル径を小さくすることが困難であるためにドラ
イアイスの粒径を小さくすることができず、被洗浄物を
傷つけてしまうという課題もあった。
粒径はノズルの径と流速で決定されるが、機械加工の精
度上ノズル径を小さくすることが困難であるためにドラ
イアイスの粒径を小さくすることができず、被洗浄物を
傷つけてしまうという課題もあった。
【００１２】また、ＣＯ２を使用する場合でもアルゴン
を使用する場合でも、密閉容器や真空容器中に被洗浄物
を保持する必要があるために、装置が大掛かりになり、
コスト高になってしまうという課題もあった。
を使用する場合でも、密閉容器や真空容器中に被洗浄物
を保持する必要があるために、装置が大掛かりになり、
コスト高になってしまうという課題もあった。
【００１３】さらに、固体または液体の洗浄溶媒が被洗
浄物に衝突すると表面との摩擦で静電気が発生し、この
静電気のために除去された粒子が再付着したり、表面に
作成されたＦＥＴなどのデバイスを静電破壊する場合が
あるが、イオナイザでは静電気を完全に除去することが
困難であるという課題もあった。
浄物に衝突すると表面との摩擦で静電気が発生し、この
静電気のために除去された粒子が再付着したり、表面に
作成されたＦＥＴなどのデバイスを静電破壊する場合が
あるが、イオナイザでは静電気を完全に除去することが
困難であるという課題もあった。
【００１４】従って本発明が解決しようとする課題は、
溶媒中のごみなどの粒子を除去することができ、被洗浄
物に付着している有機物や粒子を効率よく除去すること
ができる洗浄方法およびその装置を提供することにあ
る。
溶媒中のごみなどの粒子を除去することができ、被洗浄
物に付着している有機物や粒子を効率よく除去すること
ができる洗浄方法およびその装置を提供することにあ
る。
【００１５】
【課題を解決するための手段】このような課題を解決す
るために、本発明のうち請求項１記載の発明は、ノズル
と被洗浄物との間の距離を所定の値に制御することによ
り、被洗浄物に到達する前記溶媒の状態を調節するよう
にしたものである。粒子を効率的に除去できる微粒子状
態と、有機物の除去能力が高い液滴状態を適宜選択する
ことができる。
るために、本発明のうち請求項１記載の発明は、ノズル
と被洗浄物との間の距離を所定の値に制御することによ
り、被洗浄物に到達する前記溶媒の状態を調節するよう
にしたものである。粒子を効率的に除去できる微粒子状
態と、有機物の除去能力が高い液滴状態を適宜選択する
ことができる。
【００１６】請求項２記載の発明は、溶媒の温度を一定
値に保持する保温機構と、溶媒気体を導出する導管と、
この導管の途中に設置されたフィルタと、導管の他端に
配置されたノズルとを具備し、被洗浄物とノズルとの間
の距離を一定に保ってこのノズルから被洗浄物に溶媒を
噴射させると共に、被洗浄物とノズルとの間の距離を制
御することにより、被洗浄物に到達する溶媒の状態を調
節するようにしたものである。効率よく溶媒中のゴミな
どの微粒子を除去することができ、かつ粒子を効率的に
除去できる微粒子状態と、有機物の除去能力が高い液滴
状態を適宜選択することができる。
値に保持する保温機構と、溶媒気体を導出する導管と、
この導管の途中に設置されたフィルタと、導管の他端に
配置されたノズルとを具備し、被洗浄物とノズルとの間
の距離を一定に保ってこのノズルから被洗浄物に溶媒を
噴射させると共に、被洗浄物とノズルとの間の距離を制
御することにより、被洗浄物に到達する溶媒の状態を調
節するようにしたものである。効率よく溶媒中のゴミな
どの微粒子を除去することができ、かつ粒子を効率的に
除去できる微粒子状態と、有機物の除去能力が高い液滴
状態を適宜選択することができる。
【００１７】請求項３記載の発明は、請求項２記載の発
明において、ノズルと被洗浄物をほぼ垂直に配置し、こ
の被洗浄物と前記ノズルとの間の距離を、
明において、ノズルと被洗浄物をほぼ垂直に配置し、こ
の被洗浄物と前記ノズルとの間の距離を、
【００１８】
【数２】
以下に制御するようにしたものである。粒子を効率的に
除去できる微粒子状態と、有機物の除去能力が高い液滴
状態を適宜選択することができる。
除去できる微粒子状態と、有機物の除去能力が高い液滴
状態を適宜選択することができる。
【００１９】請求項４記載の発明は、請求項２または請
求項３記載の発明において、容器中の溶媒気体の圧力が
一定になるように保温機構を制御するようにしたもので
ある。直接温度を制御するより簡単に制御できる。
求項３記載の発明において、容器中の溶媒気体の圧力が
一定になるように保温機構を制御するようにしたもので
ある。直接温度を制御するより簡単に制御できる。
【００２０】請求項５記載の発明は、請求項２ないし請
求項４記載の発明において、フィルタとノズルとの間に
エアオペレート弁を配置したものである。フィルタが大
気開放されず、常に高圧側に保持される。
求項４記載の発明において、フィルタとノズルとの間に
エアオペレート弁を配置したものである。フィルタが大
気開放されず、常に高圧側に保持される。
【００２１】請求項６記載の発明は、請求項２ないし請
求項５記載の発明において、ノズルを２重管構造とし、
このノズルの内管から溶媒を噴射させ、このノズルの外
管からパージ用の気体を噴射させるようにしたものであ
る。コンパクトに構成することができる。
求項５記載の発明において、ノズルを２重管構造とし、
このノズルの内管から溶媒を噴射させ、このノズルの外
管からパージ用の気体を噴射させるようにしたものであ
る。コンパクトに構成することができる。
【００２２】請求項７記載の発明は、請求項２ないし請
求項６記載の発明において、被洗浄物周辺にパージ用の
気体を吹き付けて被洗浄物周辺をパージ用気体の雰囲気
にするパージ機構と、被洗浄物を加熱して結露を防止す
る加熱機構を具備したものである。結露を防ぐことがで
きる。
求項６記載の発明において、被洗浄物周辺にパージ用の
気体を吹き付けて被洗浄物周辺をパージ用気体の雰囲気
にするパージ機構と、被洗浄物を加熱して結露を防止す
る加熱機構を具備したものである。結露を防ぐことがで
きる。
【００２３】請求項８記載の発明は、請求項７記載の発
明において、ノズルとパージ機構と加熱機構を一体構成
としたものである。コンパクトに構成することができ
る。
明において、ノズルとパージ機構と加熱機構を一体構成
としたものである。コンパクトに構成することができ
る。
【００２４】請求項９記載の発明は、請求項２ないし請
求項８記載の発明において、被洗浄物を回転させるスピ
ンドルと、このスピンドルへ被洗浄物をロードし、また
アンロードする搬送機構を具備したものである。均一に
洗浄でき、かつ効率化を図ることができる。
求項８記載の発明において、被洗浄物を回転させるスピ
ンドルと、このスピンドルへ被洗浄物をロードし、また
アンロードする搬送機構を具備したものである。均一に
洗浄でき、かつ効率化を図ることができる。
【００２５】請求項１０記載の発明は、軟Ｘ線を発生す
る軟Ｘ線発生部を有し、この軟Ｘ線発生部で発生した軟
Ｘ線を被洗浄物に照射して、この被洗浄物を除電するよ
うにしたものである。完全に除電する事ができる。
る軟Ｘ線発生部を有し、この軟Ｘ線発生部で発生した軟
Ｘ線を被洗浄物に照射して、この被洗浄物を除電するよ
うにしたものである。完全に除電する事ができる。
【００２６】
【発明の実施の形態】以下に、図に基づいて本発明を詳
細に説明する。図１は本発明に係る洗浄装置の一実施例
を示す構成図である。この図において、１１は溶媒であ
るＣＯ２のボンベであり、その内部のＣＯ２は温度Ｔの
液体部分１１１と圧力Ｐ０の気体部分１１２に分かれて
いる。１２はボンベ１１を一定温度に保温するヒータで
ある。
細に説明する。図１は本発明に係る洗浄装置の一実施例
を示す構成図である。この図において、１１は溶媒であ
るＣＯ２のボンベであり、その内部のＣＯ２は温度Ｔの
液体部分１１１と圧力Ｐ０の気体部分１１２に分かれて
いる。１２はボンベ１１を一定温度に保温するヒータで
ある。
【００２７】１３は導管であり、気体ＣＯ２を外部に取
り出す。１４は導管１３の途中に設置された圧力計であ
り、導管１３内の圧力を測定する。この圧力は気体部分
１１２の圧力Ｐ０と同じである。１５はバルブであり、
導管１３に取り付けられている。１６はラインフィル
タ、１７はエアオペレート弁であり、いずれも導管１３
に取り付けられている。また、ボンベ１１、ラインフィ
ルタ１６、エアオペレート弁１７はこの順に取り付けら
れている。
り出す。１４は導管１３の途中に設置された圧力計であ
り、導管１３内の圧力を測定する。この圧力は気体部分
１１２の圧力Ｐ０と同じである。１５はバルブであり、
導管１３に取り付けられている。１６はラインフィル
タ、１７はエアオペレート弁であり、いずれも導管１３
に取り付けられている。また、ボンベ１１、ラインフィ
ルタ１６、エアオペレート弁１７はこの順に取り付けら
れている。
【００２８】１９は被洗浄物であるハードディスク媒体
であり、スピンドル２０によって回転させられる。１８
はノズルであり、被洗浄物１９と所定のギャップｄだけ
離して取り付けられている。ノズル１８は2重管になっ
ており、内側の管には導管１３により導かれた気体ＣＯ
２が、外側の管には窒素ガスＮ２が通される。２１は赤
外線ヒータであり、被洗浄物１９を暖める。２２はパー
ジ管であり、窒素ガスＮ ２を噴射する。
であり、スピンドル２０によって回転させられる。１８
はノズルであり、被洗浄物１９と所定のギャップｄだけ
離して取り付けられている。ノズル１８は2重管になっ
ており、内側の管には導管１３により導かれた気体ＣＯ
２が、外側の管には窒素ガスＮ２が通される。２１は赤
外線ヒータであり、被洗浄物１９を暖める。２２はパー
ジ管であり、窒素ガスＮ ２を噴射する。
【００２９】次に、この実施例の動作を説明する。圧力
計１４により導管１３内の圧力を測定して、この圧力が
一定になるようにヒータ１２を制御する。ボンベ１１内
はＣＯ ２の液体と気体が共存しているので、気体部分１
１２の圧力Ｐ０は液体部分１１１の温度Ｔにおける飽和
蒸気圧になっている。液温と飽和蒸気圧との間には1対
１の関係があるので、ヒータ１２によって液体部分１１
１の温度を制御することにより、飽和蒸気圧すなわち導
管１３の圧力を制御することができる。例えば、液温を
２２℃に制御すると、飽和蒸気圧は６０ＭＰａになる。
計１４により導管１３内の圧力を測定して、この圧力が
一定になるようにヒータ１２を制御する。ボンベ１１内
はＣＯ ２の液体と気体が共存しているので、気体部分１
１２の圧力Ｐ０は液体部分１１１の温度Ｔにおける飽和
蒸気圧になっている。液温と飽和蒸気圧との間には1対
１の関係があるので、ヒータ１２によって液体部分１１
１の温度を制御することにより、飽和蒸気圧すなわち導
管１３の圧力を制御することができる。例えば、液温を
２２℃に制御すると、飽和蒸気圧は６０ＭＰａになる。
【００３０】図２にＣＯ２の温度と密度との関係を示
す。この図で、上側の曲線は液体ＣＯ２の密度の変化
を、下側の曲線は気体ＣＯ２の密度の変化を表したもの
である。ＣＯ２の液体および気体の密度は温度によって
変化し、特に臨界温度付近ではその変化は顕著になる。
飽和蒸気圧およびガスの密度の変化はドライアイスの生
成密度に大きく影響するので、液体ＣＯ２の温度の制御
はこの装置の安定性を確保する上で重要である。
す。この図で、上側の曲線は液体ＣＯ２の密度の変化
を、下側の曲線は気体ＣＯ２の密度の変化を表したもの
である。ＣＯ２の液体および気体の密度は温度によって
変化し、特に臨界温度付近ではその変化は顕著になる。
飽和蒸気圧およびガスの密度の変化はドライアイスの生
成密度に大きく影響するので、液体ＣＯ２の温度の制御
はこの装置の安定性を確保する上で重要である。
【００３１】温度制御の方法には、液体ＣＯ２の温度を
直接制御する方法、および飽和蒸気圧と液温の間に１対
１の関係があることを利用して、タンク１１の内圧が一
定になるようにヒータ１２を制御する方法がある。図１
の実施例では、後者の方法を用いている。
直接制御する方法、および飽和蒸気圧と液温の間に１対
１の関係があることを利用して、タンク１１の内圧が一
定になるようにヒータ１２を制御する方法がある。図１
の実施例では、後者の方法を用いている。
【００３２】導管１３を流れる気体ＣＯ２に含まれる粒
子はラインフィルタ１６で除去され、ノズル１８から被
洗浄物１９に噴射される。導管１３内を流れるＣＯ２は
気体なので、ラインフィルタ１６に目の細かいフィルタ
を用いても圧損が増えることはない。従って、ＣＯ２内
の細かい粒子をも除去することができる。また、エアオ
ペレート弁１７をラインフィルタ１６に対してタンク１
１と反対側に置くことにより、ラインフィルタ１６が大
気開放されず、常に高圧側に保持されるようにしてい
る。
子はラインフィルタ１６で除去され、ノズル１８から被
洗浄物１９に噴射される。導管１３内を流れるＣＯ２は
気体なので、ラインフィルタ１６に目の細かいフィルタ
を用いても圧損が増えることはない。従って、ＣＯ２内
の細かい粒子をも除去することができる。また、エアオ
ペレート弁１７をラインフィルタ１６に対してタンク１
１と反対側に置くことにより、ラインフィルタ１６が大
気開放されず、常に高圧側に保持されるようにしてい
る。
【００３３】導管１３に流れる気体ＣＯ２はノズル１８
の内管を介して被洗浄物１９に噴射される。ノズル１８
と被洗浄物１９との間のギャップｄは一定に保たれる。
また、被洗浄物１９はスピンドル２０によって回転され
るので、ＣＯ２は均一に被洗浄物１９に噴射される。更
に、ノズル１８の外管およびパージ管２２から低露点の
窒素ガスを噴射させ、また赤外線ヒータ２１で被洗浄物
１９を暖めることにより、結露を防いでいる。
の内管を介して被洗浄物１９に噴射される。ノズル１８
と被洗浄物１９との間のギャップｄは一定に保たれる。
また、被洗浄物１９はスピンドル２０によって回転され
るので、ＣＯ２は均一に被洗浄物１９に噴射される。更
に、ノズル１８の外管およびパージ管２２から低露点の
窒素ガスを噴射させ、また赤外線ヒータ２１で被洗浄物
１９を暖めることにより、結露を防いでいる。
【００３４】ノズル１８の内管から噴射された気体ＣＯ
２は熱膨張により冷却され、最終的に固体（ドライアイ
ス）の微粒子になる。この様子を図３を用いて説明す
る。図３はＣＯ２の温度と圧力の関係を表した図であ
り、横軸は温度（℃）、縦軸は圧力（ＭＰａ）である。
この図のＡ点はノズル１８から噴射されたときの状態で
あり、気体になっている。この気体ＣＯ２は熱膨張によ
って冷却され、過冷却状態を経てＢ点で微小な液滴にな
る。
２は熱膨張により冷却され、最終的に固体（ドライアイ
ス）の微粒子になる。この様子を図３を用いて説明す
る。図３はＣＯ２の温度と圧力の関係を表した図であ
り、横軸は温度（℃）、縦軸は圧力（ＭＰａ）である。
この図のＡ点はノズル１８から噴射されたときの状態で
あり、気体になっている。この気体ＣＯ２は熱膨張によ
って冷却され、過冷却状態を経てＢ点で微小な液滴にな
る。
【００３５】この液滴の温度は低く、かつ周囲のガスの
圧力に比べて蒸気圧は低いので、周囲の圧力が低下して
液滴の蒸気圧と等しくなるまで液滴は成長する。周囲の
圧力が低下して液滴の蒸気圧より低くなると液滴表面か
らの蒸発が活発になり、気化熱によって液滴の温度が低
下して、固体（ドライアイス）の微粒子になる。つま
り、ノズル１８から噴射されたＣＯ２は、気体のみの状
態から気体と液体の混合状態を経て、気体と固体と液体
が同時に存在する気液固混合状態になり、気体と固体粒
子が同時に存在する気固混合状態を経て気体に戻る。
圧力に比べて蒸気圧は低いので、周囲の圧力が低下して
液滴の蒸気圧と等しくなるまで液滴は成長する。周囲の
圧力が低下して液滴の蒸気圧より低くなると液滴表面か
らの蒸発が活発になり、気化熱によって液滴の温度が低
下して、固体（ドライアイス）の微粒子になる。つま
り、ノズル１８から噴射されたＣＯ２は、気体のみの状
態から気体と液体の混合状態を経て、気体と固体と液体
が同時に存在する気液固混合状態になり、気体と固体粒
子が同時に存在する気固混合状態を経て気体に戻る。
【００３６】この過程は、ノズル１８から噴射されたＣ
Ｏ２の膨張によるガス圧力の変化とも密接に関係する。
図３からわかるように、６〜４ＭＰａでは気体のみが存
在し、４〜３ＭＰａでは気体と液体が同時に存在する気
液混合状態になり、２〜１ＭＰａでは気体と液体と固体
が同時に存在する気液固混合状態になる。また、１ＭＰ
ａ以下では気体と固体粒子が同時に存在する気固混合状
態になり、ノズル１８から十分離れて大気圧になると、
気体のみの状態に戻る。ただし、これらの状態は定常的
に存在するのではなく、噴射されてから数秒以内の短い
時間内にのみ存在することができる。
Ｏ２の膨張によるガス圧力の変化とも密接に関係する。
図３からわかるように、６〜４ＭＰａでは気体のみが存
在し、４〜３ＭＰａでは気体と液体が同時に存在する気
液混合状態になり、２〜１ＭＰａでは気体と液体と固体
が同時に存在する気液固混合状態になる。また、１ＭＰ
ａ以下では気体と固体粒子が同時に存在する気固混合状
態になり、ノズル１８から十分離れて大気圧になると、
気体のみの状態に戻る。ただし、これらの状態は定常的
に存在するのではなく、噴射されてから数秒以内の短い
時間内にのみ存在することができる。
【００３７】ノズル１８の先端と被洗浄物１９の間の距
離を調節することにより、被洗浄物１９に到達するＣＯ
２の状態を選択することができる。図４はこのことを説
明するための図である。なお、図１と同じ要素には同一
符号を付し、説明を省略する。ノズル１８の先端から噴
射したＣＯ２は、ノズル先端に近い所で圧力が一番高
く、先端から離れるに従って圧力が低下する。従って、
図４に示すように、ノズル１８に一番近いところは気体
と液体が混在する領域であり、中間領域は気体と液体と
固体が混在する領域、被洗浄物１９に一番近い領域は気
体と固体が混在する領域になる。
離を調節することにより、被洗浄物１９に到達するＣＯ
２の状態を選択することができる。図４はこのことを説
明するための図である。なお、図１と同じ要素には同一
符号を付し、説明を省略する。ノズル１８の先端から噴
射したＣＯ２は、ノズル先端に近い所で圧力が一番高
く、先端から離れるに従って圧力が低下する。従って、
図４に示すように、ノズル１８に一番近いところは気体
と液体が混在する領域であり、中間領域は気体と液体と
固体が混在する領域、被洗浄物１９に一番近い領域は気
体と固体が混在する領域になる。
【００３８】一般に高圧ガスをノズルから吹き出す場合
を自由噴流と言う。自由噴流では噴射圧力Ｐ０が噴射側
の圧力の２倍以上になると流速が超音速に達し、マッハ
ディスクと呼ばれる衝撃波が発生する。経験的に、ノズ
ルの先端を原点としたときのマッハディスクが発生する
位置χＭＤ（ｍｍ）は、
を自由噴流と言う。自由噴流では噴射圧力Ｐ０が噴射側
の圧力の２倍以上になると流速が超音速に達し、マッハ
ディスクと呼ばれる衝撃波が発生する。経験的に、ノズ
ルの先端を原点としたときのマッハディスクが発生する
位置χＭＤ（ｍｍ）は、
【００３９】
【数３】
で表すことができる。ノズルと被洗浄物間の距離が狭く
なると、この間の微小領域の圧力Ｐｂが上昇する。これ
はマッハディスクの発生位置を観測することから見積も
ることができ、
なると、この間の微小領域の圧力Ｐｂが上昇する。これ
はマッハディスクの発生位置を観測することから見積も
ることができ、
【００４０】
【数４】
になる。噴射側の圧力Ｐｂを大気圧、ノズルの直径を
０．３ｍｍとして、噴射圧力Ｐ０を６ＭＰａとすると、
マッハディスクは約１．５ｍｍのところに発生する。
０．３ｍｍとして、噴射圧力Ｐ０を６ＭＰａとすると、
マッハディスクは約１．５ｍｍのところに発生する。
【００４１】従って、被洗浄物とノズルの間の距離を
１．５ｍｍ以下にすると、ノズルと被洗浄物との間の微
小領域の圧力が上昇し、この圧力は被洗浄物とノズル間
の距離よって変わる。すなわち、図４で説明したよう
に、この距離を調節することによって、被洗浄物には固
体のＣＯ２だけでなく、液滴のＣＯ２をも照射すること
ができる。
１．５ｍｍ以下にすると、ノズルと被洗浄物との間の微
小領域の圧力が上昇し、この圧力は被洗浄物とノズル間
の距離よって変わる。すなわち、図４で説明したよう
に、この距離を調節することによって、被洗浄物には固
体のＣＯ２だけでなく、液滴のＣＯ２をも照射すること
ができる。
【００４２】液滴のＣＯ２は固体微粒子に比べて被洗浄
物の表面に付着した微粒子の除去能力は若干劣るが、有
機物の溶解力が高いので、有機物の除去能力の向上や被
洗浄物に対する衝撃度が軽減され、傷つけることがなく
なることが期待できる。従って、被洗浄物の物性や汚れ
の程度によって被洗浄物とノズルの距離を調整して、固
体の微粒子、液滴あるいは固体と液滴の混合物を選択し
て被洗浄物に照射することができる。
物の表面に付着した微粒子の除去能力は若干劣るが、有
機物の溶解力が高いので、有機物の除去能力の向上や被
洗浄物に対する衝撃度が軽減され、傷つけることがなく
なることが期待できる。従って、被洗浄物の物性や汚れ
の程度によって被洗浄物とノズルの距離を調整して、固
体の微粒子、液滴あるいは固体と液滴の混合物を選択し
て被洗浄物に照射することができる。
【００４３】図５にノズルと赤外線ヒータの部分の構成
を示す。図５において、３０は被洗浄物であるハードデ
ィスク媒体、３１は被洗浄物を回転させるスピンドルと
被洗浄物３０を固定するクランプ部である。３２はハー
ドディスク媒体３０を暖める赤外線ランプ、３３は赤外
線を反射する反射板、３４は反射板３３を固定する反射
板固定部である。３５はパージ用の窒素ガスをハードデ
ィスク媒体３０に噴射する窒素ガスパージパイプであ
る。この窒素ガスパージパイプ３５は図１のパージ管２
２に相当する。
を示す。図５において、３０は被洗浄物であるハードデ
ィスク媒体、３１は被洗浄物を回転させるスピンドルと
被洗浄物３０を固定するクランプ部である。３２はハー
ドディスク媒体３０を暖める赤外線ランプ、３３は赤外
線を反射する反射板、３４は反射板３３を固定する反射
板固定部である。３５はパージ用の窒素ガスをハードデ
ィスク媒体３０に噴射する窒素ガスパージパイプであ
る。この窒素ガスパージパイプ３５は図１のパージ管２
２に相当する。
【００４４】３６はＣＯ２およびパージ用の窒素ガスを
噴射するノズルブロック、３７はノズルブロック３６を
固定するノズル固定ブロック、３８はノズルブロック３
６を移動させるリニアステージである。ノズルブロック
３６の詳細は後述する。赤外線ランプ３２および窒素ガ
スパージパイプ３５は、ノズルブロック３６を囲み、か
つハードディスク媒体３０の両面に位置するように、各
４本設置されている。
噴射するノズルブロック、３７はノズルブロック３６を
固定するノズル固定ブロック、３８はノズルブロック３
６を移動させるリニアステージである。ノズルブロック
３６の詳細は後述する。赤外線ランプ３２および窒素ガ
スパージパイプ３５は、ノズルブロック３６を囲み、か
つハードディスク媒体３０の両面に位置するように、各
４本設置されている。
【００４５】３９はＣＯ２を導入するパイプである。Ｃ
Ｏ２はこのパイプ３９から導入され、ノズルブロック３
６からハードディスク媒体３０に噴射される。４０は窒
素ガス用のラインフィルタ、４１は反射板固定ブロック
３４とリニアステージ３８を固定するノズル固定用ベー
スプレート、４２はノズル固定用ベースプレート４１を
固定するベースプレートである。
Ｏ２はこのパイプ３９から導入され、ノズルブロック３
６からハードディスク媒体３０に噴射される。４０は窒
素ガス用のラインフィルタ、４１は反射板固定ブロック
３４とリニアステージ３８を固定するノズル固定用ベー
スプレート、４２はノズル固定用ベースプレート４１を
固定するベースプレートである。
【００４６】赤外線ランプ３２と窒素ガスパージパイプ
３５は反射板３３に固定され、反射板固定部３４でノズ
ル固定用ベースプレート４１に固定されて、常にノズル
ブロック３６と一定の位置関係になるようにされる。ノ
ズル固定用ベースプレート４１は２枚に分割され、各々
のノズル固定用ベースプレート４１には２個の赤外線ラ
ンプ３２と２本の窒素ガスパージパイプ３５が取り付け
られている。これら分割されたノズル固定用ベースプレ
ート４１は、各々ハードディスク媒体３０の表裏面を暖
め、またパージする。
３５は反射板３３に固定され、反射板固定部３４でノズ
ル固定用ベースプレート４１に固定されて、常にノズル
ブロック３６と一定の位置関係になるようにされる。ノ
ズル固定用ベースプレート４１は２枚に分割され、各々
のノズル固定用ベースプレート４１には２個の赤外線ラ
ンプ３２と２本の窒素ガスパージパイプ３５が取り付け
られている。これら分割されたノズル固定用ベースプレ
ート４１は、各々ハードディスク媒体３０の表裏面を暖
め、またパージする。
【００４７】ノズル固定用ベースプレート４１はベース
プレート４２上にスライドできるように取り付けられて
おり、これによってハードディスク媒体３０との位置関
係を調整できるようになっている。このベースプレート
４２は図示しないリニアステージに固定され、全体がハ
ードディスク媒体３０の半径方向に直線移動できるよう
になっている。このため、ノズル３６１はハードディス
ク媒体３０を挟み込むようにその外周から内周に向かっ
て移動し、その表面にＣＯ２を噴射する。ハードディス
ク媒体は回転しているので、その全表面を洗浄すること
ができる。
プレート４２上にスライドできるように取り付けられて
おり、これによってハードディスク媒体３０との位置関
係を調整できるようになっている。このベースプレート
４２は図示しないリニアステージに固定され、全体がハ
ードディスク媒体３０の半径方向に直線移動できるよう
になっている。このため、ノズル３６１はハードディス
ク媒体３０を挟み込むようにその外周から内周に向かっ
て移動し、その表面にＣＯ２を噴射する。ハードディス
ク媒体は回転しているので、その全表面を洗浄すること
ができる。
【００４８】図６にノズルブロック３６の詳細を示す。
なお、図の寸法は参考である。図６において、（Ａ）は
上面図、（Ｂ）は正面図、（Ｃ）は側面図である。３６
１はＣＯ２を噴射するノズルであり、先端に内径約０．
３ｍｍの噴射ノズルが形成されている。３６２は窒素ガ
スを噴射するノズルである。ハードディスク媒体の洗浄
では両面同時に洗浄するので、これらのノズルはいずれ
も上下に対向して配置される。また、ノズル３６１の噴
射口はノズル３６２の噴射口の中に配置されており、２
重管構造になっている。
なお、図の寸法は参考である。図６において、（Ａ）は
上面図、（Ｂ）は正面図、（Ｃ）は側面図である。３６
１はＣＯ２を噴射するノズルであり、先端に内径約０．
３ｍｍの噴射ノズルが形成されている。３６２は窒素ガ
スを噴射するノズルである。ハードディスク媒体の洗浄
では両面同時に洗浄するので、これらのノズルはいずれ
も上下に対向して配置される。また、ノズル３６１の噴
射口はノズル３６２の噴射口の中に配置されており、２
重管構造になっている。
【００４９】３６３は上下に配置されたノズル３６２お
よび３６１のギャップを調整するスぺーサである。この
スペーサ３６３で各ノズルとハードディスク媒体３０間
の距離を設定する。また、リニアステージ３８を操作し
て、ハードディスク媒体３０が、対向するノズル３６１
の中央に来るように調整する。
よび３６１のギャップを調整するスぺーサである。この
スペーサ３６３で各ノズルとハードディスク媒体３０間
の距離を設定する。また、リニアステージ３８を操作し
て、ハードディスク媒体３０が、対向するノズル３６１
の中央に来るように調整する。
【００５０】３６４はパイプであり、ＣＯ２はこのパイ
プから導入され、ノズル３６１からハードディスク媒体
３０に噴射される。３６５はパイプであり、窒素ガスが
導入されてノズル３６２からハードディスク媒体３０周
辺に噴射される。窒素ガスはラインフィルタ４０で不純
物が除去される。被洗浄物は対向するノズル３６２の間
に配置され、回転される。
プから導入され、ノズル３６１からハードディスク媒体
３０に噴射される。３６５はパイプであり、窒素ガスが
導入されてノズル３６２からハードディスク媒体３０周
辺に噴射される。窒素ガスはラインフィルタ４０で不純
物が除去される。被洗浄物は対向するノズル３６２の間
に配置され、回転される。
【００５１】ノズル３６１は、ＣＯ２噴射時にはＣＯ２
の断熱膨張のために冷却されて結露する。この結露を防
ぐために、２重管の外管であるノズル３６２から窒素ガ
スを吹き出してハードディスク媒体３０全体を含む周辺
大気をパージし、赤外線ランプ３２でハードディスク媒
体３０を暖めることにより、結露を防いでいる。また、
反射板３３によって赤外線ランプ３２から放出する赤外
線によって周囲が加熱されないようにしている。
の断熱膨張のために冷却されて結露する。この結露を防
ぐために、２重管の外管であるノズル３６２から窒素ガ
スを吹き出してハードディスク媒体３０全体を含む周辺
大気をパージし、赤外線ランプ３２でハードディスク媒
体３０を暖めることにより、結露を防いでいる。また、
反射板３３によって赤外線ランプ３２から放出する赤外
線によって周囲が加熱されないようにしている。
【００５２】このような構成により、洗浄溶媒のＣＯ２
噴射用のノズル、結露防止の赤外線ランプ、パージ用の
窒素ガス噴射用のノズルをコンパクトにまとめることが
できる。
噴射用のノズル、結露防止の赤外線ランプ、パージ用の
窒素ガス噴射用のノズルをコンパクトにまとめることが
できる。
【００５３】図７に本発明の他の実施例を示す。なお、
図１と同じ要素には同一符号を付し、説明を省略する。
図７において、５０は軟Ｘ線発生器であり、軟Ｘ線を発
生する。この軟Ｘ線は被洗浄物１９に照射される。この
軟Ｘ線によって被洗浄物１９の表面にできたガスのよど
み層をイオン化して、被洗浄物１９を除電する。
図１と同じ要素には同一符号を付し、説明を省略する。
図７において、５０は軟Ｘ線発生器であり、軟Ｘ線を発
生する。この軟Ｘ線は被洗浄物１９に照射される。この
軟Ｘ線によって被洗浄物１９の表面にできたガスのよど
み層をイオン化して、被洗浄物１９を除電する。
【００５４】この実施例の効果を図８を用いて説明す
る。なお、図１と同じ要素には同一符号を付し、説明を
省略する。図８（Ａ）は従来のイオナイザでイオン化し
た空気４１を回転している被洗浄物（ハードディスク媒
体）１９に吹き付ける場合を図式化したものである。イ
オン化された空気４１は被洗浄物１９表面に形成された
よどみ層（ガスの拡散層）４２に邪魔されて、被洗浄物
１９の表面まで到達しない。また、たとえ表面に到達し
ても除電されるまでに時間がかかるので、回転している
被洗浄物に対しては有効に除電できない。
る。なお、図１と同じ要素には同一符号を付し、説明を
省略する。図８（Ａ）は従来のイオナイザでイオン化し
た空気４１を回転している被洗浄物（ハードディスク媒
体）１９に吹き付ける場合を図式化したものである。イ
オン化された空気４１は被洗浄物１９表面に形成された
よどみ層（ガスの拡散層）４２に邪魔されて、被洗浄物
１９の表面まで到達しない。また、たとえ表面に到達し
ても除電されるまでに時間がかかるので、回転している
被洗浄物に対しては有効に除電できない。
【００５５】これに対して、図８の（Ｂ）は本実施例の
場合である。本実施例では軟Ｘ線でよどみ層（ガスの拡
散層）４２を直接イオン化するので、回転している被洗
浄物でも効果的に除電できる。
場合である。本実施例では軟Ｘ線でよどみ層（ガスの拡
散層）４２を直接イオン化するので、回転している被洗
浄物でも効果的に除電できる。
【００５６】
【発明の効果】以上説明したことから明らかなように、
本発明によれば、次の効果が期待できる。請求項１記載
の発明によれば、ノズルと被洗浄物との間の距離を所定
の値に制御することにより、被洗浄物に到達する前記溶
媒の状態を調節するようにした。被洗浄物表面の粒子を
効率的に除去できる固体の微粒子状態と、有機物の除去
能力が高い液滴状態を適宜選択することができるという
効果がある。
本発明によれば、次の効果が期待できる。請求項１記載
の発明によれば、ノズルと被洗浄物との間の距離を所定
の値に制御することにより、被洗浄物に到達する前記溶
媒の状態を調節するようにした。被洗浄物表面の粒子を
効率的に除去できる固体の微粒子状態と、有機物の除去
能力が高い液滴状態を適宜選択することができるという
効果がある。
【００５７】また、液滴状態の溶媒は固体微粒子に比べ
て被洗浄物への衝撃度が軽減されるので、被洗浄物が傷
つくことがないという効果もある。
て被洗浄物への衝撃度が軽減されるので、被洗浄物が傷
つくことがないという効果もある。
【００５８】請求項２記載の発明によれば、溶媒の温度
を一定値に保持する保温機構と、溶媒気体を導出する導
管と、この導管の途中に設置されたフィルタと、導管の
他端に配置されたノズルとを具備し、被洗浄物とノズル
との間の距離を一定に保ってこのノズルから被洗浄物に
溶媒を噴射させると共に、被洗浄物とノズルとの間の距
離を制御することにより、前記被洗浄物に到達する前記
溶媒の状態を調節するようにした。粒子を効率的に除去
できる微粒子状態と、有機物の除去能力が高い液滴状態
を適宜選択することができるので、被洗浄物の汚れの程
度に応じて最適な状態を選択することができるという効
果がある。
を一定値に保持する保温機構と、溶媒気体を導出する導
管と、この導管の途中に設置されたフィルタと、導管の
他端に配置されたノズルとを具備し、被洗浄物とノズル
との間の距離を一定に保ってこのノズルから被洗浄物に
溶媒を噴射させると共に、被洗浄物とノズルとの間の距
離を制御することにより、前記被洗浄物に到達する前記
溶媒の状態を調節するようにした。粒子を効率的に除去
できる微粒子状態と、有機物の除去能力が高い液滴状態
を適宜選択することができるので、被洗浄物の汚れの程
度に応じて最適な状態を選択することができるという効
果がある。
【００５９】また、液滴状態の溶媒は固体微粒子に比べ
て被洗浄物への衝撃度が軽減されるので、被洗浄物が傷
つくことがないという効果もある。
て被洗浄物への衝撃度が軽減されるので、被洗浄物が傷
つくことがないという効果もある。
【００６０】また、気体の状態でラインフィルタを通す
ことができるので、目の細かいフィルタを使用しても圧
損が大きくなることはない。そのため、粒径の小さい微
粒子をも除去できるため、被洗浄物を傷つけることがな
くなるという効果がある。さらに、高純度溶媒を使う必
要がないので、ランニングコストを低く押さえることが
できるという効果もある。
ことができるので、目の細かいフィルタを使用しても圧
損が大きくなることはない。そのため、粒径の小さい微
粒子をも除去できるため、被洗浄物を傷つけることがな
くなるという効果がある。さらに、高純度溶媒を使う必
要がないので、ランニングコストを低く押さえることが
できるという効果もある。
【００６１】請求項３記載の発明によれば、請求項２記
載の発明において、ノズルと被洗浄物をほぼ垂直に配置
し、この被洗浄物と前記ノズルとの間の距離を、
載の発明において、ノズルと被洗浄物をほぼ垂直に配置
し、この被洗浄物と前記ノズルとの間の距離を、
【００６２】
【数５】
以下に制御するようにした。粒子を効率的に除去できる
微粒子状態と、有機物の除去能力が高い液滴状態を適宜
選択することができ、被洗浄物の状態に応じて最適な洗
浄ができるという効果がある。
微粒子状態と、有機物の除去能力が高い液滴状態を適宜
選択することができ、被洗浄物の状態に応じて最適な洗
浄ができるという効果がある。
【００６３】請求項４記載の発明によれば、請求項２ま
たは請求項３記載の発明において、容器中の溶媒気体の
圧力が一定になるように保温機構を制御するようにし
た。直接温度を制御するより簡単に制御できるという効
果がある。
たは請求項３記載の発明において、容器中の溶媒気体の
圧力が一定になるように保温機構を制御するようにし
た。直接温度を制御するより簡単に制御できるという効
果がある。
【００６４】請求項５記載の発明によれば、請求項２な
いし請求項４記載の発明において、フィルタとノズルと
の間にエアオペレート弁を配置するようにした。フィル
タが大気開放されず常に高圧側に保持されるので、フィ
ルタに過大な圧力差がかかって破損するというトラブル
を防ぐことができるという効果がある。
いし請求項４記載の発明において、フィルタとノズルと
の間にエアオペレート弁を配置するようにした。フィル
タが大気開放されず常に高圧側に保持されるので、フィ
ルタに過大な圧力差がかかって破損するというトラブル
を防ぐことができるという効果がある。
【００６５】請求項６記載の発明によれば、請求項２な
いし請求項５記載の発明において、ノズルを２重管構造
とし、このノズルの内管から溶媒を噴射させ、前記ノズ
ルの外管からパージ用の気体を噴射させるようにした。
パージと溶媒の噴射を１つのノズルで行うことができる
ので、コンパクトに構成することができるという効果が
ある。
いし請求項５記載の発明において、ノズルを２重管構造
とし、このノズルの内管から溶媒を噴射させ、前記ノズ
ルの外管からパージ用の気体を噴射させるようにした。
パージと溶媒の噴射を１つのノズルで行うことができる
ので、コンパクトに構成することができるという効果が
ある。
【００６６】請求項７記載の発明によれば、請求項２な
いし請求項６記載の発明において、被洗浄物周辺にパー
ジ用の気体を吹き付けて被洗浄物周辺をパージ用気体の
雰囲気にするパージ機構と、前記被洗浄物を加熱して結
露を防止する加熱機構を具備するようにした。結露を完
全に防ぐことができるという効果がある。
いし請求項６記載の発明において、被洗浄物周辺にパー
ジ用の気体を吹き付けて被洗浄物周辺をパージ用気体の
雰囲気にするパージ機構と、前記被洗浄物を加熱して結
露を防止する加熱機構を具備するようにした。結露を完
全に防ぐことができるという効果がある。
【００６７】請求項８記載の発明によれば、請求項７記
載の発明において、ノズルとパージ機構と加熱機構を一
体構成とするようにした。コンパクトに構成することが
できるという効果がある。
載の発明において、ノズルとパージ機構と加熱機構を一
体構成とするようにした。コンパクトに構成することが
できるという効果がある。
【００６８】請求項９記載の発明によれば、請求項２な
いし請求項８記載の発明において、被洗浄物を回転させ
るスピンドルと、このスピンドルへ前記被洗浄物をロー
ドし、またアンロードする搬送機構を具備するようにし
た。均一に洗浄でき、かつ効率化を図ることができると
いう効果がある。
いし請求項８記載の発明において、被洗浄物を回転させ
るスピンドルと、このスピンドルへ前記被洗浄物をロー
ドし、またアンロードする搬送機構を具備するようにし
た。均一に洗浄でき、かつ効率化を図ることができると
いう効果がある。
【００６９】請求項１０記載の発明によれば、軟Ｘ線を
発生する軟Ｘ線発生部を有し、この軟Ｘ線発生部で発生
した軟Ｘ線を被洗浄物に照射して、この被洗浄物を除電
するようにした。回転する被洗浄物でも完全に除電する
事ができるので、ごみが再付着したり、形成した素子が
静電破壊されることがなくなるという効果がある。
発生する軟Ｘ線発生部を有し、この軟Ｘ線発生部で発生
した軟Ｘ線を被洗浄物に照射して、この被洗浄物を除電
するようにした。回転する被洗浄物でも完全に除電する
事ができるので、ごみが再付着したり、形成した素子が
静電破壊されることがなくなるという効果がある。
【図１】本発明の一実施例を示す構成図である。
【図２】ＣＯ２の温度と密度の関係を表した図である。
【図３】ＣＯ２の温度と圧力の関係を表した図である。
【図４】ノズルと被洗浄物の間のギャップ中でのＣＯ２
の状態を説明するための図である。
の状態を説明するための図である。
【図５】本発明の他の実施例を示す構成図である。
【図６】ノズルの構造を示す構成図である。
【図７】本発明の他の実施例を示す構成図である。
【図８】除電の効果を説明するための図である。
１１ ＣＯ２ボンベ
１２ ヒータ
１３ 導管
１４ 圧力計
１６ ラインフィルタ
１７ エアオペレート弁
１８ ノズル
１９ 被洗浄物
２０ スピンドル
２１ 赤外線ヒータ
２２ パージ管
３２ 赤外線ランプ
３６ ノズルブロック
３６１、３６２ ノズル
５０ 軟Ｘ線発生器
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０５Ｆ 3/06 Ｈ０５Ｆ 3/06
(72)発明者 矢野 達郎
神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号
富士電機株式会社内
(72)発明者 幅谷 倉夫
神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号
富士電機株式会社内
(72)発明者 城間 貴浩
神奈川県川崎市川崎区田辺新田１番１号
富士電機株式会社内
Ｆターム(参考） 2H088 FA21 FA30 MA20
3B116 AA02 AA03 AB14 AB33 AB42
BB44 BC00 CD43
5G067 AA41 AA59 DA24
Claims (10)
- 【請求項１】溶媒をノズルから被洗浄物に噴射して洗浄
する洗浄方法において、ノズルと被洗浄物との間の距離
を制御することにより、前記被洗浄物に到達する前記溶
媒の状態を調節するようにしたことを特徴とする洗浄方
法。 - 【請求項２】溶媒が封入された容器と、この溶媒の温度
を一定値に保持する保温機構と、前記容器内の溶媒気体
を導出する導管と、この導管の途中に設置されたフィル
タと、前記導管の他端に配置されたノズルとを有し、被
洗浄物と前記ノズルとの間の距離を一定に保ってこのノ
ズルから前記被洗浄物に前記溶媒を噴射させると共に、
前記被洗浄物と前記ノズルとの間の距離を制御すること
により、前記被洗浄物に到達する前記溶媒の状態を調節
するようにしたことを特徴とする洗浄装置。 - 【請求項３】ノズルと被洗浄物をほぼ垂直に配置し、こ
の被洗浄物と前記ノズルとの間の距離を、 【数１】 以下に制御するようにしたことを特徴とする請求項２記
載の洗浄装置。 - 【請求項４】容器中の溶媒気体の圧力が一定になるよう
に保温機構を制御するようにしたことを特徴とする請求
項２または請求項３記載の洗浄装置。 - 【請求項５】フィルタとノズルとの間にエアオペレート
弁を配置したことを特徴とする請求項２ないし請求項４
記載の洗浄装置。 - 【請求項６】ノズルを２重管構造とし、このノズルの内
管から溶媒を噴射させ、前記ノズルの外管からパージ用
の気体を噴射させるようにしたことを特徴とする請求項
２ないし請求項５記載の洗浄装置。 - 【請求項７】被洗浄物周辺にパージ用の気体を吹き付け
て被洗浄物周辺をパージ用気体の雰囲気にするパージ機
構と、前記被洗浄物を加熱して結露を防止する加熱機構
とを具備したことを特徴とする請求項２ないし請求項６
記載の洗浄装置。 - 【請求項８】ノズルとパージ機構と加熱機構を一体構成
としたことを特徴とする請求項７記載の洗浄装置。 - 【請求項９】被洗浄物を回転させるスピンドルと、この
スピンドルへ前記被洗浄物をロードし、またアンロード
する搬送機構とを具備したことを特徴とする請求項２な
いし請求項８記載の洗浄装置。 - 【請求項１０】被洗浄物に溶媒を噴射してこの被洗浄物
を洗浄する洗浄装置において、軟Ｘ線を発生する軟Ｘ線
発生部を有し、この軟Ｘ線発生部で発生した軟Ｘ線を被
洗浄物に照射して、この被洗浄物を除電するようにした
ことを特徴とする洗浄装置。
Priority Applications (4)
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